KR20200023015A - Stretchable substrate and electronic device comprising the same - Google Patents

Abstract

The present application relates to a stretchable substrate and an electronic device including the same. The stretchable substrate comprises: a first stretchable film; and a second stretchable film provided in one surface of the first stretchable film, wherein the first stretchable film has a recessed part in an opposite surface of a surface of the first stretchable film that is being in contact with the second stretchable film, and a non-stretchable pattern is provided in the recessed part of the first stretchable film.

Description

신축성 기판 및 이를 포함하는 전자 장치 {STRETCHABLE SUBSTRATE AND ELECTRONIC DEVICE COMPRISING THE SAME}Flexible substrates and electronic devices including the same {STRETCHABLE SUBSTRATE AND ELECTRONIC DEVICE COMPRISING THE SAME}

본 명세서는 신축성 기판 및 이를 포함하는 전자 장치가 기재된다.The present specification describes a flexible substrate and an electronic device including the same.

종래, 디스플레이 장치는 변형이 되지 않는 디스플레이(unbreakable display), 곡면을 가지는 디스플레이(Curved display), 구부러진 디스플레이(bended display), 접을 수 있는 디스플레이(foldable display) 및 감을 수 있는 디스플레이(rollable display) 등이 개발되어 왔다.Conventionally, display devices include an unbreakable display, a curved display, a curved display, a foldable display, a rollable display, and the like. Has been developed.

현재 상용화 단계는 구부러진 디스플레이 형태의 mobile 분야 정도이며, 접을 수 있는 디스플레이를 활용한 mobile 분야가 본격적으로 등장할 것으로 예상된다. 또한 pOLED를 활용한 전장분야의 개발속도 역시 눈부시게 이루어지고 있다.The current commercialization stage is about the mobile field in the form of bent displays, and the mobile field using the collapsible display is expected to emerge in earnest. In addition, the development speed of electric field using pOLED is also outstanding.

특히, 최근에는 디스플레이의 패러다임 변화에 따라 감을 수 있는 디스플레이의 특성을 뛰어 넘는 신축성을 가지는 디스플레이(stretchable display)가 개발되고 있으며, 신축성을 가지는 디스플레이는 방향에 무관하게 쉽게 늘어나고 줄어드는 특성이 필요하며 이를 위해서는 높은 연신률과 복원력을 갖추는 신축성 기재의 개발이 필수적이다.In particular, recently, stretchable displays have been developed that have characteristics beyond the characteristics of the display which can be wound according to the paradigm change of the display, and stretchable displays need to be easily stretched and shrunk regardless of orientation. It is essential to develop a flexible substrate having high elongation and resilience.

유기 발광 소자 등의 전자 소자를 포함하는 신축성 디스플레이 장치의 경우에는, 전자 소자에 유연성이 포함되지 않아 신축성 기재의 연신에 따른 표면적 변화는 전자 소자의 내구성을 크게 저하시킬 수 있는 문제점을 갖는다.In the case of a stretchable display device including an electronic device such as an organic light emitting device, since the flexibility is not included in the electronic device, the surface area change due to the stretching of the stretchable substrate may significantly reduce the durability of the electronic device.

신축성을 가지는 디스플레이의 응용분야로 터치 스크린 판넬(touch screen panel)로 시작하여 fiber를 이용한 형태의 착용성을 가지는 디스플레이(wearable display), 그리고 의료(medical) 목적의 디스플레이로 적용 가능할 것으로 제안되고 있다.It is proposed to be applied to the display of a stretchable display, starting with a touch screen panel, a wearable display using fiber, and a display for medical purposes.

상기와 같은 필요성에 따라, 신축성 기재 상부에 전자 소자를 형성함에 있어, 전자 소자의 내구성을 유지시킬 수 있으며, 신축성이 뛰어난 신축성 기재의 개발이 필요하다.According to the necessity as described above, in forming the electronic device on the stretchable substrate, it is possible to maintain the durability of the electronic device, it is necessary to develop a stretchable substrate excellent in stretchability.

일본 특허 공개 제2006-299283호Japanese Patent Publication No. 2006-299283

본 출원은 신축성 기판 및 이를 포함하는 전자 장치를 제공하고자 한다.The present application is to provide a stretchable substrate and an electronic device including the same.

본 출원의 일 실시상태는 제1 신축성 필름; 및 상기 제1 신축성 필름의 일면에 구비된 제2 신축성 필름을 포함하는 신축성 기판으로, 상기 제1 신축성 필름은 상기 제1 신축성 필름의 상기 제2 신축성 필름이 접하는 면의 반대면에 함몰부를 포함하며, 상기 제1 신축성 필름의 상기 함몰부 내에 비신축성 패턴이 구비된 것인 신축성 기판을 제공한다.An exemplary embodiment of the present application is the first stretchable film; And a second stretchable film provided on one surface of the first stretchable film, wherein the first stretchable film includes a recessed portion on an opposite side of the surface of the first stretchable film to be in contact with the second stretchable film. The elastic substrate is provided with a non-stretch pattern in the recessed portion of the first stretchable film.

또한, 본 출원의 일 실시상태는 본 출원의 일 실시상태에 따른 신축성 기판; 및 상기 신축성 기판의 상기 제1 신축성 필름 상에 구비된 전자 소자를 포함하는 전자 장치로, 상기 전자 소자는 상기 제1 신축성 필름의 상기 비신축성 패턴이 매립되는 위치 상에 형성되는 것인 전자 장치를 제공하고자 한다.In addition, an exemplary embodiment of the present application is a stretchable substrate according to an exemplary embodiment of the present application; And an electronic device provided on the first stretchable film of the stretchable substrate, wherein the electronic device is formed on a position where the non-stretchable pattern of the first stretchable film is embedded. To provide.

본 출원의 일 실시상태에 따른 신축성 기판은 제1 신축성 필름의 내부로 함몰된 구조를 갖는 비신축성 패턴이 구비되어 있어, 추후 신축성 기판 상에 전기 소자를 배치하는 경우, 연신에 따른 표면적 변화가 적어 전기 소자의 내구성이 크게 향상되는 특징을 갖는다.The stretchable substrate according to the exemplary embodiment of the present application is provided with a non-stretch pattern having a structure recessed into the first stretchable film, so that when the electrical element is later disposed on the stretchable substrate, the surface area due to stretching is small. The durability of the electric element is greatly improved.

또한, 본 출원에 따른 신축성 기판은 제1 신축성 필름의 상기 비신축성 패턴이 매립된 면의 반대면에 특정한 제2 신축성 필름을 가져, 상기 제1 신축성 필름의 과도한 변형을 방지할 수 있으며, 이에 따라 비신축성 패턴과 제1 신축성 필름의 계면에서의 이격을 방지할 수 있는 특징을 갖게 된다.In addition, the stretchable substrate according to the present application may have a second stretchable film on the opposite side of the surface on which the non-stretchable pattern of the first stretchable film is embedded, thereby preventing excessive deformation of the first stretchable film, and thus It has a feature that can prevent separation at the interface between the non-elastic pattern and the first stretchable film.

도 1은 본 출원의 일 실시상태에 따른 신축성 기판을 나타낸 측면도이다.
도 2는 본 출원의 일 실시상태에 따른 신축성 기판을 나타낸 상면도이다.1 is a side view showing a stretchable substrate according to an exemplary embodiment of the present application.
2 is a top view of the stretchable substrate according to the exemplary embodiment of the present application.

이하, 본 명세서에 대하여 더욱 상세하게 설명한다.Hereinafter, this specification is demonstrated in detail.

본 발명이 속하는 기술 분야에서 통상의 지식을 가진 자가 용이하게 실시할 수 있도록 본 발명의 실시예에 대하여 첨부한 도면을 참고로 하여 상세히 설명한다. 그러나 본 발명은 여러 가지 상이한 형태로 구현될 수 있으며 여기에서 설명하는 실시예에 한정되지 않는다.Embodiments of the present invention will be described in detail with reference to the accompanying drawings so that those skilled in the art may easily implement the present invention. As those skilled in the art would realize, the described embodiments may be modified in various different ways, all without departing from the spirit or scope of the present invention.

본 출원의 일 실시상태는 제1 신축성 필름; 및 상기 제1 신축성 필름의 일면에 구비된 제2 신축성 필름을 포함하는 신축성 기판으로, 상기 제1 신축성 필름은 상기 제1 신축성 필름의 상기 제2 신축성 필름이 접하는 면의 반대면에 함몰부를 포함하며, 상기 제1 신축성 필름의 상기 함몰부 내에 비신축성 패턴이 구비된 것인 신축성 기판을 제공한다.An exemplary embodiment of the present application is the first stretchable film; And a second stretchable film provided on one surface of the first stretchable film, wherein the first stretchable film includes a recessed portion on an opposite side of the surface of the first stretchable film to be in contact with the second stretchable film. The elastic substrate is provided with a non-stretch pattern in the recessed portion of the first stretchable film.

상기 신축성 기판은 제1 신축성 필름 및 제2 신축성 필름으로 이루어지고, 상기 제1 신축성 필름의 함몰부 내에 비신축성 패턴이 구비된 것으로, 도 1에 기재된 바와 같이, 비신축성 패턴은 제1 신축성 필름의 내부로 매립된 구조를 가지며, 상기 제1 신축성 필름의 비신축성 패턴이 매립된 면의 반대면에 제2 신축성 필름을 갖는 신축성 기판을 확인할 수 있다.The stretchable substrate may include a first stretchable film and a second stretchable film, and a non-elastic pattern may be provided in a depression of the first stretchable film. As shown in FIG. 1, the non-elastic pattern may include a first stretchable film. A stretchable substrate having a structure embedded therein and having a second stretchable film on a surface opposite to a surface on which the non-stretchable pattern of the first stretchable film is embedded may be identified.

본 출원의 일 실시상태에 있어서, 상기 제2 신축성 필름의 상기 제1 신축성 필름이 접하는 면의 반대면에 1 이상의 신축성 필름을 더 포함하는 것인 신축성 기판을 제공한다.In one embodiment of the present application, it provides a stretchable substrate further comprising at least one stretchable film on the opposite side of the surface of the second stretchable film in contact with the first stretchable film.

상기 신축성 기판은 제1 신축성 필름 및 제2 신축성 필름으로 구성될 수 있으며, 상기 제1 신축성 필름이 접하는 면의 반대면에 1 이상 5 이하의 추가의 신축성 필름이 순차적으로 더 적층될 수 있다.The stretchable substrate may be composed of a first stretchable film and a second stretchable film, and one or more additional stretchable films of 1 or more and 5 or less may be sequentially laminated on opposite surfaces of the first stretchable film.

본 출원의 일 실시상태는 상기 제1 신축성 필름의 영률(Young's Modulus)은 G1이고, 상기 제2 신축성 필름의 영률(Young's Modulus)은 G2이며, 상기 비신축성 패턴의 영률(Young's Modulus)은 G3이고, 상기 G1 내지 G3은 하기 식 1 내지 식 4를 만족하는 것인 신축성 기판을 제공한다.In an exemplary embodiment of the present application, the Young's Modulus of the first stretchable film is G1, the Young's Modulus of the second stretchable film is G2, and the Young's Modulus of the non-stretchable pattern is G3. , G1 to G3 provides a stretchable substrate that satisfies the following formula 1 to formula 4.

[식 1][Equation 1]

0.1 MPa ≤ G1 ≤ 1 MPa0.1 MPa ≤ G1 ≤ 1 MPa

[식 2][Equation 2]

1.3 MPa ≤ G2 ≤ 3 MPa1.3 MPa ≤ G2 ≤ 3 MPa

[식 3][Equation 3]

G3 ≥ 1000 MPaG3 ≥ 1000 MPa

[식 4][Equation 4]

G3/G1 ≥ 500 MPaG3 / G1 ≥ 500 MPa

상기 제1 신축성 필름, 상기 제2 신축성 필름 및 상기 비신축성 패턴의 영률은 Zwick/Roell사 Z010 UTM 장비를 이용하여 측정할 수 있으며, 구체적으로 상기 제1 신축성 필름, 상기 제2 신축성 필름 및 필름 형태의 비신축성 재료를 25±2℃, 50±5% RH (상대습도) 하에서, 폭 25mm, 길이는 165mm가 되도록 길이 방향 양끝을 고정시킨 후, 100mm/min의 속도로 길이방향으로 양쪽으로 잡아 늘리며 Stress/Strain 측정을 통하여 영률을 구할 수 있다.The Young's modulus of the first stretchable film, the second stretchable film, and the non-elastic pattern may be measured using Zwick / Roell Z010 UTM equipment, and specifically, the first stretchable film, the second stretchable film, and the film form The non-elastic material was fixed at both ends in the longitudinal direction at 25 ± 2 ° C and 50 ± 5% RH (relative humidity) to be 25 mm wide and 165 mm long, and then stretched in both directions in the longitudinal direction at a speed of 100 mm / min. The Young's modulus can be obtained from the stress / strain measurement.

본 출원의 일 실시상태에 있어서, 상기 식 1은 0.1 MPa ≤ G1 ≤ 1 MPa이며, 바람직하게는 0.2 MPa ≤ G1 ≤ 1 MPa, 더욱 바람직하게는 0.2 MPa ≤ G1 ≤ 0.5 MPa 일 수 있다.In one embodiment of the present application, Equation 1 is 0.1 MPa ≤ G1 ≤ 1 MPa, preferably 0.2 MPa ≤ G1 ≤ 1 MPa, more preferably 0.2 MPa ≤ G1 ≤ 0.5 MPa.

본 출원의 일 실시상태에 있어서, 상기 식 2는 1.3 MPa ≤ G2 ≤ 3 MPa이며, 바람직하게는 1.5 MPa ≤ G2 ≤ 3 MPa, 더욱 바람직하게는 1.5 MPa ≤ G2 ≤ 2.5 MPa 일 수 있다.In an exemplary embodiment of the present application, Equation 2 is 1.3 MPa ≤ G2 ≤ 3 MPa, preferably 1.5 MPa ≤ G2 ≤ 3 MPa, more preferably 1.5 MPa ≤ G2 ≤ 2.5 MPa Can be.

본 출원의 일 실시상태에 있어서, 상기 식 3은 G3 ≥ 1000 MPa이며, 바람직하게는 G3 ≥ 2000 MPa, 더욱 바람직하게는 G3 ≥ 4000 MPa 일 수 있다.In an exemplary embodiment of the present application, Equation 3 is G3 ≥ 1000 MPa, preferably G3 ≥ 2000 MPa, more preferably G3 ≥ 4000 MPa.

또 다른 일 실시상태에 있어서, 상기 식 3은 G3 ≤ 10000 MPa이며, 바람직하게는 G3 ≤ 9000 MPa이며, 더욱 바람직하게는 G3 ≤ 8000 MPa일 수 있다.In another exemplary embodiment, Equation 3 may be G3 ≦ 10000 MPa, preferably G3 ≦ 9000 MPa, and more preferably G3 ≦ 8000 MPa.

또 다른 일 실시상태에 있어서, 상기 식 3은 1000 MPa ≤ G3 ≤ 10000 MPa이며, 바람직하게는 2000 MPa ≤ G3 ≤ 8000 MPa이고, 더욱 바람직하게는 4000 MPa ≤ G3 ≤ 8000 MPa일 수 있다.In another exemplary embodiment, Equation 3 may be 1000 MPa ≦ G3 ≦ 10000 MPa, preferably 2000 MPa ≦ G3 ≦ 8000 MPa, and more preferably 4000 MPa ≦ G3 ≦ 8000 MPa.

상기 신축성 기판이 상기 식 1 및 식 3의 범위를 만족함에 따라, 상기 신축성 기판을 일축으로 신장하였을 때 비신축성 패턴과 제1 신축성 필름의 계면부에 이격이 발생하지 않으며, 이에 따라 추후 전자 소자의 내구성이 우수한 특성을 가질 수 있게 된다.As the stretchable substrate satisfies the ranges of Equations 1 and 3, when the stretchable substrate is uniaxially stretched, spaces do not occur at the interface portion between the non-elastic pattern and the first stretchable film. It is possible to have excellent durability.

본 출원의 일 실시상태에 있어서, 상기 식 4는 G3/G1 ≥ 500 MPa이며, 바람직하게는 G3/G1 ≥ 1000 MPa, 더욱 바람직하게는 G3/G1 ≥ 3000 MPa일 수 있다.In an exemplary embodiment of the present application, Equation 4 may be G3 / G1 ≧ 500 MPa, preferably G3 / G1 ≧ 1000 MPa, more preferably G3 / G1 ≧ 3000 MPa.

또 다른 일 실시상태에 있어서, 상기 식 4는 G3/G1 ≤ 60000 MPa이며, 바람직하게는 G3/G1 ≤ 30000 MPa, 더욱 바람직하게는 G3/G1 ≤ 20000 MPa일 수 있다.In another exemplary embodiment, Equation 4 may be G3 / G1 ≦ 60000 MPa, preferably G3 / G1 ≦ 30000 MPa, more preferably G3 / G1 ≦ 20000 MPa.

본 출원의 일 실시상태에 있어서, 상기 식 4는 500 MPa ≤ G3/G1 ≤ 60000 MPa이며, 바람직하게는 2000 MPa ≤ G3/G1 ≤ 30000 MPa, 더욱 바람직하게는 3000 MPa ≤G3/G1 ≤ 20000 MPa일 수 있다.In an exemplary embodiment of the present application, Equation 4 is 500 MPa ≤ G3 / G1 ≤ 60000 MPa, preferably 2000 MPa ≤ G3 / G1 ≤ 30000 MPa, more preferably 3000 MPa ≤ G3 / G1 ≤ 20000 MPa Can be.

상기 신축성 기판이 상기 식 4와 같이 신축성 필름과 비신축성 패턴 영률의 비율이 상기 범위를 만족함에 따라, 상기 신축성 기판의 신장율이 우수하고 내구성이 우수한 특징을 갖게 된다.As the stretchable substrate satisfies the above range with the ratio of the stretchable film and the non-elastic pattern Young's modulus as shown in Equation 4, the stretchable substrate has excellent elongation and excellent durability.

본 출원의 일 실시상태에 있어서, 상기 비신축성 패턴은 상기 제1 신축성 필름에 의하여 이격된 2 이상의 섬(island) 구조를 가지며, 상기 비신축성 패턴의 선폭은 D1이고, 상기 제1 신축성 필름에 매립된 2개의 인접한 비신축성 패턴간의 거리는 D2이며, 상기 D1 및 D2는 하기 식 5 및 식 6을 만족하는 것인 신축성 기판을 제공한다.In one embodiment of the present application, the non-stretch pattern has two or more island structures spaced apart by the first stretchable film, the line width of the non-stretch pattern is D1, embedded in the first stretchable film The distance between two adjacent non-stretch patterns is D2, wherein D1 and D2 satisfy the following Equations 5 and 6.

[식 5][Equation 5]

30μm ≤ D1 ≤ 1000μm30 μm ≤ D1 ≤ 1000 μm

[식 6][Equation 6]

D1/D2 ≤ 4D1 / D2 ≤ 4

상기 비신축성 패턴이 상기 제1 신축성 필름에 이격된 2 이상의 섬 구조로 매립된 구조를 갖는다는 것은, 상기 비신축성 패턴이 규칙적 간격을 두고 매립된 구조이거나, 상기 비신축성 패턴이 불규칙적 간격을 두고 매립된 구조를 모두 포함할 수 있다.The non-elastic pattern may have a structure in which at least two island structures are spaced apart from the first stretchable film, and the non-elastic pattern is embedded at regular intervals, or the non-elastic pattern is embedded at irregular intervals. It can contain all of these structures.

본 출원에 있어서, "인접한"의 의미는 대상이 되는 구성과 옆에 접하여 있거나, 가장 근접하여 이웃하고 있다는 것을 의미하며, 구체적으로 상기 제1 신축성 필름에 매립된 비신축성 패턴이 인접하였다는 것은 특정한 하나의 비신축성 패턴을 기준으로 하였을 때, 특정 비신축성 패턴의 중심부와 이웃한 비신축성 패턴의 중심부의 거리가 가장 가까운 것을 의미한다. 상기 패턴의 중심부는 패턴의 일면에 있어서의 중심부를 의미한다.In the present application, the term "adjacent" means adjacent to or adjacent to the target configuration, and specifically, that the non-elastic pattern embedded in the first stretchable film is adjacent. Based on one non-elastic pattern, it means that the distance between the center of the specific non-elastic pattern and the center of the neighboring non-elastic pattern is the closest. The center of the pattern means a center of the surface of the pattern.

도 1은 본 출원의 일 실시상태에 따른 신축성 기판의 측면도를 나타낸 것으로, 비신축성 패턴의 매립된 구조를 확인할 수 있다.1 is a side view of a stretchable substrate according to an exemplary embodiment of the present application, and a buried structure of a non-stretchable pattern may be confirmed.

도 2는 본 출원의 일 실시상태에 따른 신축성 기판의 상면도를 나타낸 것으로, 구체적으로 비신축성 패턴의 선폭(100) 및 인접한 비신축성 패턴간의 거리(200)를 확인할 수 있다.2 illustrates a top view of the stretchable substrate according to the exemplary embodiment of the present application, and specifically, the distance 200 between the linewidth 100 of the non-stretchable pattern and the adjacent non-stretchable pattern may be confirmed.

본 출원의 일 실시상태에 있어서, 상기 비신축성 패턴은 상기 비신축성 패턴의 선폭 방향으로의 단면이 다각형일 수 있다.In an exemplary embodiment of the present application, the non-elastic pattern may have a polygonal cross section in the line width direction of the non-elastic pattern.

본 출원의 일 실시상태에 있어서, 상기 비신축성 패턴은 상기 비신축성 패턴의 선폭 방향으로의 단면이 원형, 삼각형, 사각형, 오각형 및 육각형으로 이루어진 군에서 선택되는 어느 하나일 수 있다.In one embodiment of the present application, the non-elastic pattern may be any one selected from the group consisting of circular, triangular, square, pentagonal and hexagonal cross sections in the line width direction of the non-elastic pattern.

또 다른 일 실시상태에 있어서, 상기 비신축성 패턴은 상기 비신축성 패턴의 선폭 방향으로의 단면이 사각형일 수 있다.In another exemplary embodiment, the non-elastic pattern may have a rectangular cross section in the line width direction of the non-elastic pattern.

본 출원의 일 실시상태에 있어서, 상기 식 5는 30μm ≤ D1 ≤ 1000μm 이며, 바람직하게는 30μm ≤ D1 ≤ 500μm일 수 있고, 더욱 바람직하게는 30μm ≤ D1 ≤ 100μm일 수 있다.In an exemplary embodiment of the present application, Equation 5 is 30 μm ≦ D1 ≦ 1000 μm, preferably 30 μm ≦ D1 ≦ 500 μm, and more preferably 30 μm ≦ D1 ≦ 100 μm.

본 출원의 일 실시상태에 있어서, 상기 식 6은 D1/D2 ≤ 4이며, 바람직하게는 D1/D2 ≤ 2, 더욱 바람직하게는 D1/D2 ≤ 1일 수 있다.In an exemplary embodiment of the present application, Equation 6 may be D1 / D2 ≦ 4, preferably D1 / D2 ≦ 2, more preferably D1 / D2 ≦ 1.

또 다른 일 실시상태에 있어서, 상기 식 6은 D1/D2 ≥ 0.1, 바람직하게는 D1/D2 ≥ 0.5, 더욱 바람직하게는 D1/D2 ≥ 0.8일 수 있다.In another embodiment, Equation 6 may be D1 / D2 ≥ 0.1, preferably D1 / D2 ≥ 0.5, more preferably D1 / D2 ≥ 0.8.

본 출원의 일 실시상태에 있어서, 상기 D2는 30μm ≤ D2 ≤ 500μm이며, 바람직하게는 55μm ≤ D2 ≤ 300μm, 더욱 바람직하게는 65μm ≤ D2 ≤ 100μm일 수 있다.In one embodiment of the present application, the D2 is 30μm≤D2≤500μm, preferably 55μm≤D2≤300μm, more preferably 65μm≤D2≤100μm.

본 출원에 따른 신축성 기판이 상기 식 5 및 식 6의 범위를 만족함에 따라, 본 출원의 신축성 기판을 신장 시 비신축성 패턴과 제1 신축성 필름 사이에 이격이 발생하지 아니하며, 신장율 및 경도를 만족하는 신축성 기판을 제작할 수 있는 특징을 갖게 된다.As the stretchable substrate according to the present application satisfies the ranges of Equations 5 and 6 above, when the stretchable substrate of the present application is stretched, no gap is generated between the non-elastic pattern and the first stretchable film, and the stretch rate and the hardness are satisfied. It will have the characteristic to manufacture a flexible substrate.

본 출원의 일 실시상태에 있어서, 상기 비신축성 패턴의 선고는 5μm 이상 100 μm 이하일 수 있다.In an exemplary embodiment of the present application, the non-elastic pattern may be 5 μm or more and 100 μm or less.

상기 비신축성 패턴의 선고는 상기 비신축성 패턴의 선폭 방향에 수직 방향의 높이를 의미하는 것을 의미하며, 구체적으로 도 1에서 비신축성 패턴의 선고(500)를 확인할 수 있다.The height of the non-elastic pattern means a height in a direction perpendicular to the line width direction of the non-elastic pattern, and specifically, the height of the non-elastic pattern 500 can be confirmed.

또 다른 일 실시상태에 있어서, 상기 비신축성 패턴의 선고는 5μm 이상 100 μm 이하, 바람직하게는 10μm 이상 100 μm 이하, 더욱 바람직하게는 10μm 이상 50 μm 이하일 수 있다.In another exemplary embodiment, the non-elastic pattern may be 5 μm or more and 100 μm or less, preferably 10 μm or more and 100 μm or less, more preferably 10 μm or more and 50 μm or less.

상기 비신축성 패턴의 선고가 상기 범위를 만족하는 경우, 추후 전자 소자를 적층함에 있어, 전자 소자의 변형이 이루어지지 않으며 상기 범위를 벗어나는 경우, 비신축성 패턴과 제1 신축성 필름 사이의 이격이 발생하게 되어 전자 소자의 내구성이 좋지 않게 된다.If the non-elastic pattern satisfies the above range, the lamination of the electronic device does not occur in later stacking of the electronic device, and if the electronic device is out of the above range, the gap between the non-elastic pattern and the first stretchable film may occur. As a result, the durability of the electronic device becomes poor.

본 출원의 일 실시상태에 있어서, 상기 제1 신축성 필름 및 상기 제2 신축성 필름은 신축성 고분자 필름일 수 있다.In one embodiment of the present application, the first stretchable film and the second stretchable film may be stretchable polymer films.

본 출원의 일 실시상태에 있어서, 상기 제1 신축성 필름의 연신율이 100 % 이상이고, 상기 제1 신축성 필름은 SHORE A 경도가 25 이하인 폴리디메틸실록산(PDMS)일 수 있다.In one embodiment of the present application, the elongation of the first stretchable film is 100% or more, and the first stretchable film may be polydimethylsiloxane (PDMS) having a SHORE A hardness of 25 or less.

또 다른 일 실시상태에 있어서, 상기 제1 신축성 필름의 연신율이 100 % 이상, 바람직하게는 120 % 이상, 더욱 바람직하게는 150 % 이상일 수 있다.In another exemplary embodiment, the elongation of the first stretchable film may be 100% or more, preferably 120% or more, and more preferably 150% or more.

또 다른 일 실시상태에 있어서, 상기 제1 신축성 필름의 연신율이 1000 % 이하, 바람직하게는 900 % 이하, 더욱 바람직하게는 800 % 이하일 수 있다.In another exemplary embodiment, the elongation of the first stretchable film may be 1000% or less, preferably 900% or less, and more preferably 800% or less.

본 출원의 일 실시상태에 있어서, 상기 제1 신축성 필름의 SHORE A 경도는 25 이하, 바람직하게는 23 이하, 더욱 바람직하게는 21 이하일 수 있다.In one embodiment of the present application, the SHORE A hardness of the first stretchable film may be 25 or less, preferably 23 or less, and more preferably 21 or less.

또 다른 일 실시상태에 있어서, 상기 제1 신축성 필름의 SHORE A 경도는 5 이상, 바람직하게는 10 이상, 더욱 바람직하게는 15 이상일 수 있다.In another exemplary embodiment, the SHORE A hardness of the first stretchable film may be 5 or more, preferably 10 or more, more preferably 15 or more.

본 출원에 따른 제1 신축성 필름이 상기 연신율 및 상기 SHORE A 경도를 만족함에 따라, 이를 포함하는 신축성 기판을 인장 시 비신축성 패턴과 제1 신축성 필름의 경계부의 인가되는 외력을 최소화 할 수 있으며 이에 따라, 비신축성 패턴과 제1 신축성 필름의 계면에서의 이격을 방지하여 내구성이 우수한 신축성 기판을 형성할 수 있는 특징을 갖게 된다.As the first stretchable film according to the present application satisfies the elongation and the SHORE A hardness, the non-elastic pattern and the external force applied to the boundary of the first stretchable film may be minimized when the stretchable substrate including the same is stretched. In addition, the separation of the non-elastic pattern and the interface between the first stretchable film has a feature that can form a flexible substrate with excellent durability.

본 출원의 일 실시상태에 있어서, 상기 제2 신축성 필름의 연신율이 50 % 이상이고, 상기 제2 신축성 필름은 SHORE A 경도가 35 이상인 폴리디메틸실록산(PDMS)일 수 있다.In one embodiment of the present application, the elongation of the second stretchable film is 50% or more, and the second stretchable film may be polydimethylsiloxane (PDMS) having a SHORE A hardness of 35 or more.

또 다른 일 실시상태에 있어서, 상기 제2 신축성 필름의 연신율이 50 % 이상, 바람직하게는 70% 이상, 더욱 바람직하게는 100% 이상일 수 있다.In another exemplary embodiment, the elongation of the second stretchable film may be 50% or more, preferably 70% or more, and more preferably 100% or more.

또 다른 일 실시상태에 있어서, 상기 제2 신축성 필름의 연신율이 300 % 이하, 바람직하게는 250 % 이하, 더욱 바람직하게는 220 % 이하일 수 있다.In another exemplary embodiment, the elongation of the second stretchable film may be 300% or less, preferably 250% or less, and more preferably 220% or less.

본 출원의 일 실시상태에 있어서, 상기 제2 신축성 필름의 SHORE A 경도는 35 이상, 바람직하게는 40 이상, 더욱 바람직하게는 45 이상일 수 있다.In one embodiment of the present application, the SHORE A hardness of the second stretchable film may be 35 or more, preferably 40 or more, more preferably 45 or more.

또 다른 일 실시상태에 있어서, 상기 제2 신축성 필름의 SHORE A 경도는 60 이하, 바람직하게는 55 이하, 더욱 바람직하게는 50 이하일 수 있다.In another exemplary embodiment, the SHORE A hardness of the second stretchable film may be 60 or less, preferably 55 or less, and more preferably 50 or less.

본 출원에 따른 제2 신축성 필름이 상기 연신율 및 상기 SHORE A 경도를 만족함에 따라, 이를 포함하는 신축성 기판을 제작 시 제1 신축성 필름에 과도한 변형을 방지할 수 있어, 신축성 기판의 제조 공정 중 취급 용이성이 향상되는 특징을 갖는다.As the second stretchable film according to the present application satisfies the elongation and the SHORE A hardness, excessive deformation of the first stretchable film may be prevented when fabricating the stretchable substrate including the same, thereby facilitating handling during the manufacturing process of the stretchable substrate. This has the feature of being improved.

즉, 본 출원의 일 실시상태에 따른 신축성 기판의 경우, 상대적 저 경도 및 상대적 고 연신율을 갖는 제1 신축성 필름을 포함하여, 인장시 비신축성 패턴의 경계부에 인가되는 외력을 최소화하여, 비신축성 패턴과 제1 신축성 필름의 이격을 방지할 수 있으며, 상대적 저 경도 및 상대적 고 연신율을 갖는 제1 신축성 필름의 경우, 경도가 낮아 신축성 기판 제조 시 취급이 용이하지 않으므로, 상대적 중 경도 및 상대적 저 연신율을 갖는 제2 신축성 필름을 포함하여 상기 제1 신축성 필름의 지지층으로서의 역할을 함과 동시에 특정 범위의 연신율을 가져 이를 포함하는 신축성 기판의 신장율이 특정 값 이상을 만족할 수 있는 특징을 갖게 된다.That is, in the case of the stretchable substrate according to the exemplary embodiment of the present application, including the first stretchable film having a relatively low hardness and a relatively high elongation, by minimizing the external force applied to the boundary of the non-stretchable pattern during stretching, the non-stretchable pattern The first stretchable film having a relatively low hardness and a relatively high elongation can be prevented and the first stretchable film has a low hardness and is not easy to handle when manufacturing a stretchable substrate. Including a second stretchable film having a role as a support layer of the first stretchable film and having a specific range of elongation, the elongation of the stretchable substrate including the same may satisfy a specific value or more.

본 출원에 따른 신축성 기판의 경우, 상기 제1 신축성 필름 및 상기 제2 신축성 필름의 적층체의 최종물에서 각 층을 분리할 수 있으며, 상기 Shore A 경도 또한, 각 층을 분리하여 측정할 수 있다. 구체적으로, 본 출원에 따른 신축성 기판 적층된 최종물에서 상기 제1 신축성 필름 및 상기 제2 신축성 필름의 Shore A 경도를 측정할 수 있으며, 또한 각각의 층을 분리하여 따로 Shore A 경도를 측정할 수 있다. 상기 Shore A 경도는 일반적인 고무 경도를 측정하는 방법으로 JIS K 6301(스프링 타입 A형) 규격을 따르며 시험 스프링 하중은 539mN 내지 8,379mN 이다.In the case of the stretchable substrate according to the present application, each layer may be separated from the final product of the laminate of the first stretchable film and the second stretchable film, and the Shore A hardness may also be measured by separating each layer. . Specifically, the Shore A hardness of the first stretchable film and the second stretchable film may be measured in the stretched substrate laminated final product according to the present application, and the Shore A hardness may be measured separately by separating each layer. have. The Shore A hardness is a method of measuring the general rubber hardness according to JIS K 6301 (spring type A type) standard and the test spring load is 539mN to 8,379mN.

본 출원의 일 실시상태에 있어서, 상기 비신축성 패턴의 일면과 상기 제1 신축성 필름의 일면은 동일한 평면 상에 위치하여, 상기 비신축성 패턴의 선고와 상기 제1 신축성 필름의 함몰부의 깊이가 동일한 것인 신축성 기판을 제공한다.In one embodiment of the present application, one side of the non-elastic pattern and one side of the first elastic film are located on the same plane, the depth of the depression of the first elastic film and the height of the non-elastic pattern is the same. It provides a stretchable substrate.

상기 비신축성 패턴의 선고와 상기 제1 신축성 필름의 함몰부의 깊이가 동일함은 도 1에서 확인할 수 있다. 즉 도 1에서 확인할 수 있듯, 제1 신축성 필름의 내부로 함몰된 비신축성 패턴은 상기 제1 신축성 필름과 동일한 평면상에 위치하게 됨을 의미한다.It can be seen in FIG. 1 that the height of the non-elastic pattern and the depth of the recessed portion of the first stretchable film are the same. That is, as can be seen in Figure 1, it means that the non-stretch pattern recessed into the interior of the first stretchable film is located on the same plane as the first stretchable film.

상기 비신축성 패턴의 선고와 상기 제1 신축성 필름의 함몰부의 깊이가 동일한 경우, 신축서 기판에 외력을 가하는 경우 특히, 제1 신축성 필름과 비신축성 패턴 사이의 계면의 이격이 발생하지 않는 특징을 갖게 되며, 이에 따라 추후 전자 소자가 안정적으로 배열되어 전자 장치의 내구성이 크게 증가하는 특징을 갖게 된다.When the height of the non-elastic pattern and the depth of the recessed portion of the first stretchable film are the same, when the external force is applied to the stretchable substrate, the separation between the interface between the first stretchable film and the non-elastic pattern does not occur. As a result, the electronic device is stably arranged in the future, thereby increasing the durability of the electronic device.

본 출원의 일 실시상태에 있어서, 상기 비신축성 패턴은 상기 식 3의 영률을 만족하는 것이면 특별히 제한되지 않고 사용가능하며, 광경화성 고분자 재료가 사용될 수 있고, 상기 광경화성 고분자 재료로 구체적으로 전자회로기판 형성용 드라이 필름 레지스트, 컬럼 스페이서용 감광성 수지 조성물 및 유기절연 패턴 형성용 감광성 수지 조성물로 이루어진 군에서 선택될 수 있다.In an exemplary embodiment of the present application, the non-stretchable pattern may be used without particular limitation as long as it satisfies the Young's modulus of Equation 3, and a photocurable polymer material may be used, and specifically an electronic circuit as the photocurable polymer material. It may be selected from the group consisting of a dry film resist for forming a substrate, a photosensitive resin composition for column spacers, and a photosensitive resin composition for forming an organic insulating pattern.

본 출원의 일 실시상태에 있어서, 상기 제1 신축성 필름의 두께는 50μm 이상 300μm 이하일 수 있다.In one embodiment of the present application, the thickness of the first stretchable film may be 50 μm or more and 300 μm or less.

또 다른 일 실시상태에 있어서, 상기 제1 신축성 필름의 두께는 50μm 이상 300μm 이하, 바람직하게는 60μm 이상 250μm 이하, 더욱 바람직하게는 80μm 이상 150μm 이하 일 수 있다.In another exemplary embodiment, the thickness of the first stretchable film may be 50 μm or more and 300 μm or less, preferably 60 μm or more and 250 μm or less, more preferably 80 μm or more and 150 μm or less.

본 출원의 일 실시상태에 있어서, 상기 제2 신축성 필름의 두께는 100μm 이상 600μm 이하인 것인 신축성 기판을 제공한다.In an exemplary embodiment of the present application, the thickness of the second stretchable film provides a stretchable substrate that is 100 μm or more and 600 μm or less.

또 다른 일 실시상태에 있어서, 상기 제2 신축성 필름의 두께는 100μm 이상 600μm 이하, 바람직하게는 200μm 이상 550μm 이하, 더욱 바람직하게는 300μm 이상 500μm 이하 일 수 있다.In another exemplary embodiment, the thickness of the second stretchable film may be 100 μm or more and 600 μm or less, preferably 200 μm or more and 550 μm or less, more preferably 300 μm or more and 500 μm or less.

상기 제1 신축성 필름 및 제2 신축성 필름이 상기 두께 범위를 각각 만족함에 따라, 본원의 신축성 기판의 신장율이 우수하며, 상기 두께 범위를 가짐으로써 높은 신장력에 대하여 상기 신축성 기판의 파단이 일어나지 않고, 제1 신축성 필름과 비신축성 패턴 사이의 이격이 발생하지 않는 특징을 갖게 된다.As the first stretchable film and the second stretchable film satisfy the thickness range, respectively, the stretch rate of the stretchable substrate of the present application is excellent, and the breakage of the stretchable substrate does not occur with respect to the high stretch force by having the thickness range. 1 It has a feature that the separation between the stretchable film and the non-elastic pattern does not occur.

본 출원의 일 실시상태에 있어서, 상기 신축성 기판의 신장율이 50% 이상일 수 있다.In one embodiment of the present application, the stretch rate of the stretchable substrate may be 50% or more.

또 다른 일 실시상태에 있어서, 상기 신축성 기판의 신장율이 50% 이상, 바람직하게는 65% 이상, 더욱 바람직하게는 70% 이상일 수 있으며, 150% 이하, 바람직하게는 130% 이하의 범위를 만족할 수 있다.In another exemplary embodiment, the stretch rate of the stretchable substrate may be 50% or more, preferably 65% or more, more preferably 70% or more, and may satisfy 150% or less, preferably 130% or less. have.

상기 신축성 기판의 신장율이란, 제1 신축성 필름과 비신축성 패턴 사이에 이격이 발생하지 않는 최대의 신장률을 의미하며, 제1 신축성 필름과 비신축성 패턴 사이에 이격이 발생하였다는 것은 들뜸이 발생하였다는 것을 의미한다.The elongation rate of the stretchable substrate means the maximum elongation rate at which no space is generated between the first stretchable film and the non-elastic pattern, and it is lifted that a space is generated between the first stretchable film and the non-elastic pattern. Means that.

즉, 본 출원에 있어 신축성 기판의 신장율은, 상기 제1 신축성 필름의 내부의 일면에 함몰되어 구비되어 있는 비신축성 패턴의 선폭(D1) 및 인접한 비신축성 패턴 간 거리(D2)에 따라 상기 이격이 발생하지 않는 최대 신장율을 의미하는 것으로, 본 출원에 따른 신축성 기판이 상기 식 5 및 6의 조건을 만족할 경우의 상기 이격이 발생하지 않는 최대 신장율을 의미할 수 있다.That is, in the present application, the elongation rate of the stretchable substrate may be spaced apart according to the line width D1 of the non-elastic pattern and the distance D2 between adjacent non-elastic patterns, which are recessed on one surface of the first stretchable film. Meaning the maximum elongation that does not occur, it may mean the maximum elongation that does not occur when the elastic substrate according to the present application satisfies the conditions of Equation 5 and 6.

상기 신축성 기판의 신장율은 1.5cm * 5cm 크기의 신축성 기판을 장축 방향으로 좌우로 신장하며, 비신축성 패턴과 제1 신축성 필름의 경계부에서 이격이 발생하는 시점의 신장율을 측정할 수 있다.The stretch rate of the stretchable substrate extends 1.5cm * 5cm of the stretchable substrate from side to side in the long axis direction, and can measure the stretch rate at the time when the separation occurs at the boundary between the non-elastic pattern and the first stretchable film.

결국 상기 신축성 기판의 경우, 제1 신축성 필름 및 제2 신축성 필름으로 구성되며, 상기 제1 신축성 필름의 내부에 비신축성 패턴이 매립된 형태를 가져, 이에 대한 신축성 기판의 신장율이 상기 범위를 갖는 경우에도 비신축성 패턴과 제1 신축성 필름 사이에 이격이 발생하지 않는 신축성 기판을 제조할 수 있는 특징을 갖게 된다.In the case of the stretchable substrate, the stretchable substrate includes a first stretchable film and a second stretchable film, and has a form in which a non-stretch pattern is embedded in the first stretchable film, so that the stretch rate of the stretchable substrate has the above range. Edo also has a feature that can produce a stretchable substrate that does not occur between the non-stretchable pattern and the first stretchable film.

본 출원의 일 실시상태는 본 출원의 일 실시상태에 따른 신축성 기판; 및 상기 신축성 기판의 상기 제1 신축성 필름 상에 구비된 전자 소자를 포함하는 전자 장치로, 상기 전자 소자는 상기 제1 신축성 필름의 상기 비신축성 패턴이 매립되는 위치 상에 형성되는 것인 전자 장치를 제공하고자 한다.One embodiment of the present application is a stretchable substrate according to one embodiment of the present application; And an electronic device provided on the first stretchable film of the stretchable substrate, wherein the electronic device is formed on a position where the non-stretchable pattern of the first stretchable film is embedded. To provide.

본 출원의 일 실시상태에 있어서, 상기 전자 장치는 디스플레이 장치, 터치패널 또는 반도체 패널일 수 있다.In an exemplary embodiment of the present application, the electronic device may be a display device, a touch panel, or a semiconductor panel.

본 출원의 일 실시상태에 있어서, 상기 전자 소자는, 유기 광전 소자, 유기 트랜지스터, 유기 태양 전지, 마이크로 LED 소자 및 유기 발광 소자로 이루어진 군으로부터 선택되는 것인 전자 장치를 제공한다.In an exemplary embodiment of the present application, the electronic device provides an electronic device selected from the group consisting of an organic photoelectric device, an organic transistor, an organic solar cell, a micro LED device, and an organic light emitting device.

본 출원에 따른 전자 장치가 디스플레이 장치에 사용되는 경우, 신축성을 가지는 디스플레이를 포함할 수 있으며, 전자 소자가 상기 제1 신축성 기판의 비신축성 패턴이 매립되는 위치 상에 형성됨에 따라, 신장 및 원복을 반복하여도 전자 소자 자체에 외력이 가해지는 것을 최소화 할 수 있어, 신장력이 우수하고 내구성이 우수한 디스플레이 장치를 제공할 수 있는 특징을 갖게 된다.When the electronic device according to the present application is used in a display device, the display device may include a display having elasticity, and as the electronic device is formed on a position at which the non-elastic pattern of the first elastic substrate is embedded, stretching and restoring are performed. Even if it is repeated, it is possible to minimize the external force applied to the electronic device itself, it has a feature that can provide a display device having excellent stretch force and excellent durability.

특히, 본 출원에 따른 신축성 기판은 제2 신축성 필름을 포함하여, 제조 공정에 있어 상기 제1 신축성 필름의 지지층 역할을 하며, 이에 따라 공정 중 외력이 작용하여도 제1 신축성 필름의 과도한 변형을 방지할 수 있어 공정 중 취급의 용이성이 향상되는 특징을 갖게 된다.In particular, the stretchable substrate according to the present application includes a second stretchable film, and serves as a support layer of the first stretchable film in a manufacturing process, thereby preventing excessive deformation of the first stretchable film even when an external force acts during the process. It becomes possible to have the characteristic that the ease of handling in a process improves.

본 출원의 일 실시상태에 따른 신축성 기판은, 금속 층을 준비하는 단계; 상기 금속 층의 일면에 비신축성 패턴을 형성하는 단계; 상기 비신축성 패턴이 형성된 상기 금속 층 상에 제1 신축성 필름을 도포하는 단계; 상기 제1 신축성 필름의 상기 비신축성 패턴이 구비된 면의 반대면에 제2 신축성 필름을 도포하는 단계; 및 상기 금속 층을 제거하는 단계에 따라 형성될 수 있다.Stretchable substrate according to an embodiment of the present application, preparing a metal layer; Forming an inelastic pattern on one surface of the metal layer; Applying a first stretchable film on the metal layer having the non-stretchable pattern formed thereon; Applying a second stretchable film to a surface opposite to a surface on which the non-stretchable pattern of the first stretchable film is provided; And removing the metal layer.

상기 금속 층으로는 전도성을 가지는 금속 층이면 이에 한정되지 않으며, Cu 층을 사용할 수 있다.The metal layer is not limited thereto as long as it is a conductive metal layer, and a Cu layer may be used.

본 출원의 일 실시상태에 있어서, 상기 금속 층의 제거는 식각액을 이용하여 제거될 수 있으며, 상기 식각액은 염화철계 구리 식각액을 사용할 수 있다.In one embodiment of the present application, the metal layer may be removed using an etchant, and the etchant may use an iron chloride-based copper etchant.

이하에서, 실시예를 통하여 본 명세서를 더욱 상세하게 설명한다. 그러나, 이하의 실시예는 본 명세서를 예시하기 위한 것일 뿐, 본 명세서를 한정하기 위한 것은 아니다.Hereinafter, the present specification will be described in more detail with reference to Examples. However, the following examples are merely to illustrate the present specification, but not to limit the present specification.

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[[ 실시예Example 1] - 신축성 기판의 제조 1]-Fabrication of flexible substrate

일면에 보호 필름이 합지되어 있는 10μm 두께의 동박을 준비한다. 상기 동박 상부에 광경화형 고분자 재료로서 10 μm 두께의 TPF(Transparent Photosensitive Film, Hitachi Chemical)를 합지한 후 포토 공정을 통하여 비신축성 패턴의 선폭이 82 μm이고 비신축성 패턴간 거리가 85 μm인 정사각형의 비신축성 패턴을 형성하였다.A 10 μm thick copper foil having a protective film laminated on one surface is prepared. A 10 μm thick TPF (Transparent Photosensitive Film, Hitachi Chemical) was laminated as the photocurable polymer material on the copper foil, and the line width of the non-elastic pattern was 82 μm and the distance between the non-elastic patterns was 85 μm through the photo process. An inelastic pattern was formed.

상기 비신축성 패턴이 구비되어 있는 적층체 상부에 제1 신축성 필름 재료로서 폴리디메틸실록산 재료인 KE-441K-T(Shinetsu사)를 200 μm 두께로 도포한 후 상온(25℃)에서 24 시간 경화하였다. 상기 제1 신축성 필름의 상기 비신축성 패턴이 구비된 반대면에 제2 신축성 필름 재료로서 폴리디메틸실록산인 KE-106(Shinetsu사)과 경화 촉매인 CAT-RG(Shinetsu사)가 10:1 비율로 혼합되어 있는 코팅액을 300 μm 두께로 도포한 후 상온(25℃)에서 24 시간 경화 후, 100℃에서 1시간 추가로 열처리하였다.KE-441K-T (Shinetsu), a polydimethylsiloxane material, was applied as a first stretchable film material on the upper part of the laminate provided with the non-elastic pattern to a thickness of 200 μm and then cured at room temperature (25 ° C.) for 24 hours. . 10: 1 ratio of KE-106 (Shinetsu), a polydimethylsiloxane, and CAT-RG (Shinetsu), a curing catalyst, as a second stretchable film material on the opposite side with the non-elastic pattern of the first stretchable film. The mixed coating solution was applied to a thickness of 300 μm, and then cured at room temperature (25 ° C.) for 24 hours, followed by further heat treatment at 100 ° C. for 1 hour.

상기 제1 신축성 필름 및 제2 신축성 필름이 구비되어 있는 적층체에서 보호 필름을 제거한 후 노출된 동박을 염화 제2철계 구리 식각액을 이용하여 제거하여 비신축성 패턴이 매립되어 있는 신축성 기판을 제작하였다. After removing the protective film from the laminate provided with the first stretchable film and the second stretchable film, the exposed copper foil was removed using a ferric chloride copper etchant to prepare a stretchable substrate having a non-stretch pattern embedded therein.

[[ 실시예Example 2] 2]

상기 실시예 1에서 제2 신축성 필름 재료로서 폴리디메틸실록산인 KE-4896(Shinetus사)를 적용한 것을 제외하고, 상기 실시예 1에서 제조한 것과 동일한 방법으로 신축성 기판을 제작하였다.A stretchable substrate was manufactured in the same manner as in Example 1, except that KE-4896 (Shinetus), which is polydimethylsiloxane, was used as the second stretchable film material in Example 1.

[[ 비교예Comparative example 1] One]

상기 실시예 1에서 제2 신축성 필름을 적용하지 않은 것을 제외하고, 상기 실시예 1에서 제조한 것과 동일한 방법으로 신축성 기판을 제작하였다.Except not applying the second stretch film in Example 1, a stretchable substrate was produced in the same manner as prepared in Example 1.

[[ 비교예Comparative example 2] 2]

상기 실시예 1에서 제1 신축성 필름 재료로서 폴리디메틸실록산인 KE-1606(Shinetus사)과 경화 촉매인 CAT-RG(Shinetus사)가 10:1 비율로 혼합되어 있는 코팅액을 사용하고 제2 신축성 필름을 적용하지 않은 것을 제외하고, 상기 실시예 1에서 제조한 것과 동일한 방법으로 신축성 기판을 제작하였다.In Example 1, as the first stretchable film material, a coating solution containing a mixture of polydimethylsiloxane KE-1606 (Shinetus) and a curing catalyst CAT-RG (Shinetus) in a 10: 1 ratio was used and the second stretchable film was used. Except that did not apply, the flexible substrate was produced in the same manner as prepared in Example 1.

본원의 실시예 1, 실시예 2, 비교예 1 및 비교예 2에 사용된 신축성 기판의 물성 및 이에 따른 평과 결과를 하기 표 1에 나타내었다.Properties of the flexible substrates used in Examples 1, 2, Comparative Example 1, and Comparative Example 2 of the present application and the evaluation results thereof are shown in Table 1 below.

실시예 1Example 1 실시예 2Example 2 비교예 1Comparative Example 1 비교예 2Comparative Example 2 제1 신축성 필름의 Modulus(MPa) G1Modulus (MPa) G1 of first stretch film 0.430.43 0.430.43 0.430.43 2.242.24 제1 신축성 필름의 신장율(%)Elongation rate (%) of the first stretchable film 280280 280280 280280 200200 제1 신축성 필름의 Shore A 경도Shore A hardness of the first stretchable film 2020 2020 2020 5050 제1 신축성 필름의 두께(μm)Thickness (μm) of the first stretchable film 200200 200200 200200 200200 제2 신축성 필름의 Modulus(MPa) G2Modulus (MPa) G2 on the second stretchable film 2.522.52 1.311.31 -- -- 제2 신축성 필름의 신장율(%)% Elongation of the second stretchable film 100100 170170 -- -- 제2 신축성 필름의 Shore A 경도Shore A hardness of the second stretchable film 5656 3838 -- -- 제2 신축성 필름의 두께(μm)Thickness of the second stretchable film (μm) 300300 300300 -- -- 비신축성 패턴의 Modulus(MPa), G3Modulus (MPa), G3 with inelastic pattern 48004800 48004800 48004800 48004800 G3/G1G3 / G1 111,627111,627 111,627111,627 111,627111,627 2,1422,142 비신축성 패턴의 선폭(μm), D1Line width of inelastic pattern (μm), D1 8282 8282 8282 8282 비신축성 패턴 간 거리(μm), D2Distance between inelastic patterns (μm), D2 8585 8585 8585 8585 D1/D2D1 / D2 0.960.96 0.960.96 0.960.96 0.960.96 비신축성 패턴 선고(μm)Inelastic pattern sentence (μm) 1010 1010 1010 1010 신장 내구성(%)Elongation Durability (%) 100 이상More than 100 100 이상More than 100 100 이상More than 100 20 미만Less than 20 신축성 기판 변형률(%)Stretch substrate strain (%) 1% 이내Within 1% 1% 이내Within 1% 3% 이상3% or more 1% 이내Within 1%

1) Modulus 측정: 신축성 필름 및 필름 형태의 비신축성 재료를 각각 Zwick/Roell사 Z010 UTM 장비를 이용하여 측정하였으며, 구체적으로 상기 신축성 필름 및 필름 형태의 비신축성 재료를 25±2℃, 50±5% RH (상대습도) 하에서, 폭 25mm, 길이는 165mm가 되도록 길이 방향 양끝을 고정시킨 후, 100mm/min의 속도로 길이방향으로 양쪽으로 잡아 늘리며 Stress/Strain을 측정하였다. 1) Modulus measurement: The stretchable film and the non-elastic material in the form of a film were measured using Zwick / Roell Z010 UTM equipment, respectively. Under% RH (relative humidity), both ends of the longitudinal direction were fixed to 25 mm in width and 165 mm in length, and then stretched in both directions in the longitudinal direction at a speed of 100 mm / min to measure stress / strain.

2) 신축성 필름의 신장율 측정: 신축성 필름의 신장율은 신축성 필름의 초기 길이를 L1, 이를 연신에 의해 파단이 발생하는 길이를 L2라고 하는 경우 (L2-L1)/L1*100(%)를 의미한다. 2) the elongation measurement of the stretch film elongation of the flexible film means the (L2-L1) / L1 * 100 (%) , if that the length of the fracture caused by the initial length of L1, stretched it in the stretch film L2 .

3) 신축성 필름의 Shore A 경도 측정: 일반적인 고무 경도를 측정하는 방법으로 JIS K 6301(스프링 타입 A형) 규격을 따르며 시험 스프링 하중은 539 내지 8,379mN이다. 3) Shore A hardness measurement of the stretchable film: A method for measuring general rubber hardness according to JIS K 6301 (spring type A type) standard, and the test spring load is 539 to 8,379 mN.

4) 신장 내구성 평가: 1.5cm * 5cm 크기의 신축성 기판을 장축 방향으로 좌우로 신장하며, 비신축성 패턴과 신축성 필름의 경계부에서 이격이 발생하는 신장율을 측정하였다. 4) Elongation durability evaluation: The stretchable substrate of 1.5cm * 5cm in the longitudinal direction is stretched to the left and right, and the elongation rate at which the separation occurs at the boundary between the non-elastic pattern and the stretchable film was measured.

5) 신축성 기판 변형 평가: 1.5cm * 5cm 크기의 신축성 기판의 비신축성 패턴이 구비되어 있는 면의 반대면과 유리 기판이 접하도록 위치시킨 후 상기 신축성 기판의 장축 길이(A)를 측정한다. 상기 적층체의 비신축성 패턴이 구비되어 있는 면에 불소계 이형 필름을 상온에서 롤 압력 0.4MPa, 롤 스피드 1.5m/min의 조건으로 합지한 후 상온에서 10분간 방치한다. 상기 적층체에서 상기 이형필름을 제거한 후 상기 신축성 기판의 장축 길이(B)를 측정한다. 신축성 기판의 변형률은 (B-A)/A*100(%)를 의미한다. 5) Stretchable substrate deformation evaluation: The long side length (A) of the stretchable substrate is measured after placing the glass substrate in contact with the surface opposite to the surface on which the stretchable substrate of 1.5cm * 5cm is provided. The fluorine-based release film is laminated on the surface on which the non-elastic pattern of the laminate is provided at a roll pressure of 0.4 MPa and a roll speed of 1.5 m / min at room temperature, and then left at room temperature for 10 minutes. After removing the release film from the laminate, the long axis length B of the stretchable substrate is measured. The strain of the stretchable substrate means (BA) / A * 100 (%).

상기 표 1에서 알 수 있듯, 상기 실시예 1 및 실시예 2에 해당하는 신축성 기판은 제1 신축성 필름 및 제2 신축성 필름으로 구성되며, 상기 제1 신축성 필름의 내부에 비신축성 패턴이 매립된 형태를 가져, 이에 대한 신축성 기판의 신장율이 상기 표 1의 범위를 갖는 경우에도 비신축성 패턴과 제1 신축성 필름 사이에 이격이 발생하지 않는 신축성 기판을 제조할 수 있었다.As can be seen in Table 1, the stretchable substrates corresponding to Examples 1 and 2 are composed of a first stretchable film and a second stretchable film, and a non-elastic pattern is embedded in the first stretchable film. In this case, even when the stretch ratio of the stretchable substrate had a range shown in Table 1, a stretchable substrate was not produced between the non-stretchable pattern and the first stretchable film.

또한, 상기 표 1에서 알 수 있듯, 상기 실시예 1 및 실시예 2에 해당하는 신축성 기판은 제1 신축성 필름 및 제2 신축성 필름으로 구성되며, 상기 제1 신축성 필름의 내부에 비신축성 패턴이 매립된 형태를 가져, 신축성 기판의 변형률이 모두 1% 이내로, 내구성이 특히 우수한 특성을 갖는 것을 확인할 수 있었다.In addition, as can be seen in Table 1, the stretchable substrates corresponding to Examples 1 and 2 are composed of a first stretchable film and a second stretchable film, and a non-stretchable pattern is embedded in the first stretchable film. It has been confirmed that the modified substrate has a strain of the stretchable substrate within 1%, and has particularly excellent durability.

상기 표 1에서 비교예 1은 제1 신축성 필름만을 사용한 경우로, 제1 신축성 필름의 Shore A 경도 값이 낮아 신장 내구성은 본 발명과 동일하게 유지될 수 있으나, 저경도의 제1 신축성 필름만으로 이루어져 신축성 기판의 변형률이 3% 이상으로 내구성이 떨어짐을 확인할 수 있었다.In Table 1, Comparative Example 1 is a case where only the first stretchable film is used, and thus the Shore A hardness value of the first stretchable film is low so that the elongation durability may be maintained as in the present invention, but only the first stretchable film of low hardness is used. It was confirmed that the durability of the stretchable substrate was 3% or more.

상기 표 1에서 비교예 2도 상기 비교예 1과 마찬가지로 제1 신축성 필름만을 사용한 경우로, 상기 비교예 2의 경우 제1 신축성 필름의 Shore A 경도 값이 높아 신축성 기판의 변형률은 본 발명과 동일하게 유지될 수 있으나, 고경도의 제1 신축성 필름만으로 이루어져 신장 내구성이 매우 저하됨을 확인할 수 있었으며, 이는 비교예 2의 신축성 기판을 신장하는 경우 비신축성 패턴과 제1 신축성 필름 사이에 이격이 발생함을 의미하는 것으로, 본 발명의 신축성 기판에 비하여 효과가 좋지 않음을 확인할 수 있었다.In Table 1, Comparative Example 2 also uses only the first stretchable film in the same manner as in Comparative Example 1, and in Comparative Example 2, since the Shore A hardness value of the first stretchable film is high, the strain of the stretchable substrate is the same as that of the present invention. Although it can be maintained, it was confirmed that the extension durability is very low, consisting of only the first elastic film of the high hardness, which is the separation between the non-elastic pattern and the first elastic film when the stretchable substrate of Comparative Example 2 Meaning, it was confirmed that the effect is not good compared to the stretchable substrate of the present invention.

1: 제1 신축성 필름
2: 비신축성 패턴
3: 제2 신축성 필름
100: 비신축성 패턴의 선폭
200: 인접한 비신축성 패턴간의 거리
300: 제1 신축성 필름의 두께
400: 제2 신축성 필름의 두께
500: 비신축성 패턴의 선고1: first stretch film
2: non-elastic pattern
3: second stretch film
100: line width of inelastic pattern
200: distance between adjacent inelastic patterns
300: thickness of the first stretchable film
400: thickness of the second stretchable film
500: sentence of inelastic pattern

Claims (14)

제1 신축성 필름; 및
상기 제1 신축성 필름의 일면에 구비된 제2 신축성 필름을 포함하는 신축성 기판으로서,
상기 제1 신축성 필름은 상기 제1 신축성 필름의 상기 제2 신축성 필름이 접하는 면의 반대면에 함몰부를 포함하며,
상기 제1 신축성 필름의 상기 함몰부 내에 비신축성 패턴이 구비된 것인 신축성 기판.A first stretchable film; And
A stretchable substrate including a second stretchable film provided on one surface of the first stretchable film,
The first stretchable film includes a recessed portion on an opposite side of the surface of the first stretchable film that is in contact with the second stretchable film.
The stretchable substrate provided with a non-stretch pattern in the depression of the first stretchable film. 청구항 1에 있어서,
상기 제2 신축성 필름의 상기 제1 신축성 필름이 접하는 면의 반대면에 1 이상의 신축성 필름을 더 포함하는 것인 신축성 기판.The method according to claim 1,
The stretchable substrate further comprising at least one stretchable film on a side opposite to a surface of the second stretchable film that is in contact with the first stretchable film. 청구항 1에 있어서,
상기 제1 신축성 필름 및 상기 제2 신축성 필름은 신축성 고분자 필름인 것인 신축성 기판.The method according to claim 1,
The first stretchable film and the second stretchable film are stretchable polymer films. 청구항 1에 있어서,
상기 제1 신축성 필름의 영률(Young's Modulus)은 G1이고,
상기 제2 신축성 필름의 영률(Young's Modulus)은 G2이며,
상기 비신축성 패턴의 영률(Young's Modulus)은 G3이고,
상기 G1 내지 G3은 하기 식 1 내지 식 4를 만족하는 것인 신축성 기판:
[식 1]
0.1 MPa ≤ G1 ≤ 1 MPa
[식 2]
1.3 MPa ≤ G2 ≤ 3 MPa
[식 3]
G3 ≥ 1000 MPa
[식 4]
G3/G1 ≥ 500 MPaThe method according to claim 1,
Young's Modulus of the first stretchable film is G1,
The Young's Modulus of the second stretchable film is G2,
Young's Modulus of the non-elastic pattern is G3,
Wherein the G1 to G3 satisfy the following Formulas 1 to 4:
[Equation 1]
0.1 MPa ≤ G1 ≤ 1 MPa
[Equation 2]
1.3 MPa ≤ G2 ≤ 3 MPa
[Equation 3]
G3 ≥ 1000 MPa
[Equation 4]
G3 / G1 ≥ 500 MPa 청구항 1에 있어서,
상기 비신축성 패턴은 상기 제1 신축성 필름에 의하여 이격된 2 이상의 섬(island) 구조를 가지며,
상기 비신축성 패턴의 선폭은 D1이고,
상기 제1 신축성 필름에 매립된 2개의 인접한 비신축성 패턴간의 거리는 D2이며,
상기 D1 및 D2는 하기 식 5 및 식 6을 만족하는 것인 신축성 기판:
[식 5]
30μm ≤ D1 ≤ 1000μm
[식 6]
D1/D2 ≤ 4The method according to claim 1,
The non-stretch pattern has two or more island structures spaced apart by the first stretchable film,
The line width of the non-stretch pattern is D1,
The distance between two adjacent non-stretch patterns embedded in the first stretch film is D2,
Wherein the D1 and D2 satisfy the following Equations 5 and 6:
[Equation 5]
30 μm ≤ D1 ≤ 1000 μm
[Equation 6]
D1 / D2 ≤ 4 청구항 1에 있어서,
상기 비신축성 패턴의 선고는 5μm 이상 100μm 이하인 것인 신축성 기판.The method according to claim 1,
The stretchable substrate of the non-elastic pattern is 5μm or more and 100μm or less. 청구항 1에 있어서,
상기 제1 신축성 필름의 연신율이 100 % 이상이고, 상기 제1 신축성 필름은 SHORE A 경도가 25 이하인 폴리디메틸실록산(PDMS)인 것인 신축성 기판.The method according to claim 1,
The stretchable substrate of the first stretchable film is 100% or more, and the first stretchable film is a polydimethylsiloxane (PDMS) having a SHORE A hardness of 25 or less. 청구항 1에 있어서,
상기 제2 신축성 필름의 연신율이 50 % 이상이고, 상기 제2 신축성 필름은 SHORE A 경도가 35 이상인 폴리디메틸실록산(PDMS)인 것인 신축성 기판.The method according to claim 1,
The stretchable substrate of the second stretchable film is 50% or more, and the second stretchable film is polydimethylsiloxane (PDMS) having a SHORE A hardness of 35 or more. 청구항 1에 있어서,
상기 비신축성 패턴의 일면과 상기 제1 신축성 필름의 일면은 동일한 평면 상에 위치하며,
상기 비신축성 패턴의 선고와 상기 제1 신축성 필름의 함몰부의 깊이가 동일한 것인 신축성 기판.The method according to claim 1,
One side of the non-stretchable pattern and one side of the first stretchable film are positioned on the same plane,
The stretchable substrate of which the depth of the recessed portion of the first stretchable film is the same as the height of the non-stretchable pattern. 청구항 1에 있어서,
상기 제1 신축성 필름의 두께는 50μm 이상 300μm 이하인 것인 신축성 기판.The method according to claim 1,
The stretchable substrate, wherein the first stretchable film has a thickness of 50 μm or more and 300 μm or less. 청구항 1에 있어서,
상기 제2 신축성 필름의 두께는 100μm 이상 600μm 이하인 것인 신축성 기판.The method according to claim 1,
The thickness of the said 2nd stretchable film is 100 micrometers or more and 600 micrometers or less. 청구항 1에 있어서,
상기 신축성 기판의 신장율이 50% 이상인 것인 신축성 기판.The method according to claim 1,
The stretchable substrate, the stretchable substrate is 50% or more. 청구항 1 내지 청구항 12 중 어느 한 항에 따른 신축성 기판; 및
상기 신축성 기판의 상기 제1 신축성 필름 상에 구비된 전자 소자;
를 포함하는 전자 장치로,
상기 전자 소자는 상기 제1 신축성 필름의 상기 비신축성 패턴이 매립되는 위치 상에 형성되는 것인 전자 장치. The flexible substrate according to any one of claims 1 to 12; And
An electronic device provided on the first stretchable film of the stretchable substrate;
As an electronic device that includes,
The electronic device is formed on a position where the non-elastic pattern of the first stretchable film is embedded. 청구항 13에 있어서,
상기 전자 소자는,
유기 광전 소자, 유기 트랜지스터, 유기 태양 전지, 마이크로 LED 소자 및 유기 발광 소자로 이루어진 군으로부터 선택되는 것인 전자 장치.
The method according to claim 13,
The electronic device,
And an organic photoelectric device, an organic transistor, an organic solar cell, a micro LED device, and an organic light emitting device.

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