KR20200005858A - 광 출력 방법 및 장치 - Google Patents

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Abstract

일 실시 예에 따라, 안전하게 광을 출력할 수 있는 광 출력 방법 및 장치가 개시된다. 구체적으로, 출력 광이 특정 면적에 집중되지 않도록 출력 광을 제어하는 광 출력 방법 및 장치가 개시된다.

Description

광 출력 방법 및 장치{Method and apparatus for outputting light}
본 개시에서는 하나 이상의 실시 예에 따라 안전하게 광을 출력하는 방법 및 장치가 개시된다.
광을 출력하여 객체에 반사시킴으로서 정보를 획득하는 디바이스가 여러 분야에서 이용되고 있다. 예를 들면, 3D 카메라에서부터 거리 측정 기법에 이르기 까지, 광을 출력하여 정보를 획득하는 기술은 여러 방식으로 이용되고 있다.
일 예로, TOF(Time of Flight)는 광이 출력된 시점과 객체에서 반사되어 되돌아온 수신광의 수신시점 사이의 시간차를 측정하여 거리를 측정하는 원리를 나타내는 용어로서, TOF 기술은 구현 방법이 간단하기 때문에 항공, 조선, 토목, 카메라, 측량 등 다양 한 분야에서 이용되고 있다.
그러나 이와 같이 광을 출력하여 정보를 획득하는 기술은 광을 출력하는 것을 전제로 하기 때문에 출력되는 본 기술이 이용되는 경우, 출력되는 광이 예측하지 못한 문제점을 발생시킬 수 있다. 따라서, 출력되는 광을 안전을 등을 위해 경우에 따라 제어하는 구체적인 방안이 요구된다.
본 개시는 하나 이상의 실시 예에 따라 안전하게 광을 출력하는 방법 및 장치를 제공할 수 있다. 구체적으로, 광을 출력함에 있어서, 경우에 따라 출력되는 광을 제어함으로써 사용자의 안전을 도모하는 방법 및 장치가 개시된다.
해결하려는 기술적 과제는 상기된 바와 같은 기술적 과제들로 한정되지 않으며, 통상의 기술자에게 자명한 범위 내에서 다양한 기술적 과제들이 더 포함될 수 있다.
제 1 측면에 따른 광 출력 장치는 객체로 광을 출력하는 광원; 상기 객체로부터 상기 광이 반사되는 수신 광을 수신하는 리시버; 상기 광원과 상기 객체 사이의 거리에 따라 인식되는 상기 객체의 기준 면적에 대한 정보가 저장되는 메모리; 및 상기 리시버에서 인식되는 상기 객체의 인식 면적과 상기 기준 면적을 비교하여 상기 광원의 출력을 제어하는 프로세서;를 포함할 수 있다.
또한, 상기 프로세서는 상기 인식 면적과 상기 기준 면적의 차이 값이 기설정된 값 이상인 경우 상기 광원의 출력을 낮추거나 오프할 수 있다.
또한, 상기 광원의 출력을 낮추거나 오프하는 것은 상기 광원에 입력되는 전압을 낮추거나 차단할 수 있다.
제 2 측면에 따른 광 출력 장치는 객체로 광을 출력하는 광원; 상기 객체로부터 상기 광이 반사되는 수신 광을 수신하는 복수의 픽셀들을 포함하는 리시버; 상기 복수의 픽셀들 중 적어도 하나의 픽셀에 기설정된 세기 보다 높은 세기의 광이 검출되는 경우 상기 광원의 출력을 제어하는 프로세서;를 포함할 수 있다.
또한, 상기 프로세서는 상기 복수의 픽셀들 중 기설정된 세기 보다 높은 세기의 광이 검출되는 픽셀이 있는 경우 상기 광원의 출력을 낮추거나 오프할 수 있다.
제 3 측면에 따른 광 출력 장치는 객체로 광을 출력하는 광원; 상기 객체로부터 상기 광이 반사되는 수신 광을 수신하는 복수의 픽셀들을 포함하는 리시버;및 상기 복수의 픽셀들 중 상기 객체를 인식하는 픽셀들의 광 검출 세기의 합과 기설정된 기준 세기 값을 비교하여 상기 광원의 출력을 제어하는 프로세서를 포함할 수 있다.
또한, 상기 기설정된 기준 세기 값은 상기 객체와 상기 광원 사이의 거리에 따라 상기 객체를 인식하는 상기 픽셀들 각각에 수신되는 광 세기 값의 합일 수 있다.
또한, 상기 프로세서는 상기 픽셀들의 광 검출 세기의 합이 기설정된 세기 값 이상인 경우 상기 광원의 출력을 낮추거나 오프할 수 있다.
또한, 상기 객체의 거리에 따른 기준 면적에 대한 정보는 복수의 거리 각각에 대응되는 면적의 정보를 룩업테입블(LUT:look-up table)의 형태로 상기 메모리에 저장할 수 있다.
제 4 측면에 따른 광 출력 장치의 제어 방법은 객체로 광을 출력하는 단계;
상기 객체로부터 반사되는 수신 광을 수신하는 단계; 상기 광이 상기 객체에서 반사되어 수신되는 거리에 따라 인식되는 상기 객체의 기준 면적에 대한 정보를 저장되는 단계; 및 상기 수신된 광에 의해 인식되는 상기 객체의 인식 면적과 상기 기준 면적을 비교하여 상기 인식 면적이 상기 기준 면적보다 기설정된값 이하인 경우 상기 광의 출력을 낮추거나 차단하는 단계를 포함할 수 있다.
제 5 측면은 제 4 측면의 방법을 컴퓨터에서 실행시키기 위한 프로그램을 기록한 컴퓨터로 읽을 수 있는 기록매체를 제공할 수 있다.
하나 이상의 실시 예에 따라 출력되는 광을 제어하여 안전하게 광을 출력하는 방법 및 장치가 개시된다.
도 1은 일 실시 예에 따른 광 출력 장치의 구성 및 동작을 나타내는 블록도이다.
도 2는 일 실시 예에 따른 광 출력 장치가 사용자를 인식하는 일 예를 나타내는 도면이다.
도 3은 일 실시 예에 따라 광 출력 장치가 사용자의 안면을 인식하여 동작하는 일 예를 나타내는 도면이다.
도 4는 일 실시 예에 따라 광 출력 장치에 포함되는 광원의 일 예를 나타내는 도면이다.
도 5는 일 실시 예에 따라 광 출력 장치의 광원에서 출력 광을 출력하는 일 예를 나타내는 도면이다.
도 6은 일 실시 예에 따라 광 출력 장치가 이물질에 따라 출력 광이 집광 될 경우, 출력 광을 제어하는 일 예를 나타내는 도면이다.
도 7은 일 실시 예에 따라 광 출력 장치가 일부 부품의 손상에 따라 출력 광이 집광 될 경우, 출력 광을 제어하는 일 예를 나타내는 도면이다.
도 8은 일 실시 예에 따라 광 출력 장치가 사용자의 안면을 인식하여 룩업 테이블을 획득하는 일 예를 나타내는 도면이다.
도 9는 일 실시 예에 따라 광 출력 장치가 안면의 면적 인식에 따라 광원의 출력을 제어하는 일 예를 나타내는 흐름도이다.
도 10은 일 실시 예에 따라 광 출력 장치가 픽셀에서 수신되는 광의 에너지 값에 따라서 광원의 출력을 제어하는 일 예를 나타내는 흐름도이다.
실시 예들에서 사용되는 용어는 본 발명에서의 기능을 고려하면서 가능한 현재 널리 사용되는 일반적인 용어들을 선택하였으나, 이는 당 분야에 종사하는 기술자의 의도 또는 판례, 새로운 기술의 출현 등에 따라 달라질 수 있다. 또한, 특정한 경우는 출원인이 임의로 선정한 용어도 있으며, 이 경우 해당되는 발명의 설명 부분에서 상세히 그 의미를 기재할 것이다. 따라서 본 발명에서 사용되는 용어는 단순한 용어의 명칭이 아닌, 그 용어가 가지는 의미와 본 발명의 전반에 걸친 내용을 토대로 정의되어야 한다.
명세서 전체에서 어떤 부분이 어떤 구성요소를 “포함”한다고 할 때, 이는 특별히 반대되는 기재가 없는 한 다른 구성요소를 제외하는 것이 아니라 다른 구성요소를 더 포함할 수 있음을 의미한다. 또한, 명세서에 기재된 “…부”, “…모듈” 등의 용어는 적어도 하나의 기능이나 동작을 처리하는 단위를 의미하며, 이는 하드웨어 또는 소프트웨어로 구현되거나 하드웨어와 소프트웨어의 결합으로 구현될 수 있다.
아래에서는 첨부한 도면을 참고하여 본 발명의 실시 예에 대하여 본 발명이 속하는 기술 분야에서 통상의 지식을 가진 자가 용이하게 실시할 수 있도록 상세히 설명한다. 그러나 본 발명은 여러 가지 상이한 형태로 구현될 수 있으며 여기에서 설명하는 실시 예에 한정되지 않는다.
이하에서는 도면을 참조하여 본 발명의 실시 예들을 상세히 설명한다.
도 1은 일 실시 예에 따른 광 출력 장치(100)의 구성 및 동작을 나타내는 블록도이다.
도 1에 도시된 바와 같이, 광 출력 장치(100)는 광원(110), 프로세서(1000) 및 리시버(120)를 포함할 수 있다.
그러나, 도 1에 도시된 구성요소들 외에 다른 범용적인 구성요소들이 광 출력 장치(100)에 더 포함될 수 있음을 관련 기술 분야에서 통상의 지식을 가진 자라면 이해할 수 있다. 예를 들면, 광 출력 장치(100)는 광원에 서 출력된 광이 투과하는 디퓨저 또는 프로세서(1000)와 연결되는 메모리를 더 포함할 수 있다. 또는 다른 실시 예에 따를 경우, 도 1에 도시된 구성요소들 중 일부 구성요소는 생략될 수 있음을 관련 기술 분야에서 통상의 지식을 가진 자라면 이해할 수 있다.
일 실시 예에 따른 광원(110)은 출력 광을 출력할 수 있다. 출력 광은 광원(110)에서 출력되는 광으로서, 기설정된 범위 내의 파장일 수 있다.
출력 광은 광원(110)에서 출력되는 광을 의미할 수 있으며, 경우에 따라 단순히 ‘광’이라고 기재될 수 있다.
광원(110)은, 예를 들어, 적외선 파장을 갖는 광, 안전을 위해 인간의 눈에는 보이지 않는 약 850nm의 근적외선(NIR) 파장을 갖는 광을 방출시킬 수 있는 발광 다이오드(LED) 또는 레이저 다이오드(LD)일 수 있지만, 파장의 대역과 광원의 종류는 제한을 받지 않는다. 예를 들면, 광원(110)에서 출력하는 출력 광의 파장은 가시광선 영역에 포함될 수도 있으며, 자외선 영역에 포함될 수도 있다.
프로세서(1000)로부터 수신된 제어 신호에 따라 광원(110)은 예를 들어 크기(amplitude) 변조 또는 위상(phase) 변조를 수행하여 출력 광을 출력할 수 있다. 프로세서(1000)의 제어 신호에 따라 광원(110)으로부터 객체(130)로 출력되는 출력 광은 소정의 주기를 갖는 주기적인 연속 함수의 형태를 가질 수 있다. 예를 들어, 출력 광은 사인파, 램프파, 사각파, 펄스파 등과 같이 특수하게 정의된 파형을 가질 수도 있지만, 정의되지 않은 일반적인 형태의 파형을 가질 수도 있다.
리시버(120)는 객체(130)에서 반사된 광을 수신할 수 있다. 리시버(120)가 수신하는 수신 광을 통해 광 출력 장치(100)는 여러 정보를 획득할 수 있다.
일 실시 예에 따른 광 출력 장치(100)는 수신 광을 통해, 객체(130)에 대한 정보를 획득할 수 있다. 예를 들면, 프로세서(1000)는 객체(130)의 형상, 크기, 색상 등 객체에 대한 여러 정보를 획득할 수 있다. 또한, 광 출력 장치(100)는 객체(130)의 형상을 인식함으로서 기설정된 형상과 객체(130)의 형상을 대응시킬 수 있다. 예를 들면, 광 출력 장치(100)는 수신 광을 통해 안면 인식을 수행할 수 있다. 광 출력 장치는 안면 인식을 수행함으로써, 안면에 대한 여러 정보를 획득할 수 있다. 일 예로, 광 출력 장치는 객체(130) 중 안면에 대응되는 부분을 결정하고, 안면에 대응되는 부분의 크기, 밝기, 색상 등의 정보 뿐 아니라, 안면까지의 거리에 대한 정보 등도 획득할 수 있다.
리시버(120)는 리시버(120)로 유입되는 여러 광 중 광원(110)에서 출력된 출력 광이 객체(130)에 반사되어 획득되는 수신 광을 구별할 수 있다. 예를 들면, 광원(110)이 750nm~950nm 범위의 출력 광을 출력하는 경우, 리시버(120)는 필터링을 통해 750nm~950nm 범위의 광을 선별적으로 획득할 수 있다. 또한, 리시버(120)는 출력 광에 대응되는 수신 광을 선별적으로 획득함으로써, 객체(130)에 대한 정확한 정보를 획득할 수 있다.
일 실시 예에 따른 프로세서(1000)는 리시버(120)가 수신하는 수신 광을 통해 획득한 정보에 기초하여 광원(110) 및/또는 리시버(120)를 제어할 수 있다.
프로세서(1000)는 리시버(120)가 수신하는 수신 광을 통해 객체(130)의 특정 면적에 출력 광이 집중되는 정도를 결정할 수 있다. 예를 들면 프로세서(1000)는 사용자의 안면의 면적을 결정하고, 결정된 안면의 면적과 기준 면적을 비교하여, 사용자의 안면에 출력 광이 집중되는지 여부를 결정할 수 있다.
일 실시 예에 따른 프로세서(1000)는 거리에 따른 사용자의 안면의 면적에 대한 기준을 나타내는 LUT(look up table)을 결정하고, 광원(110)으로부터 안면까지의 거리에 따라 결정되는 안면의 기준 면적을 LUT로부터 획득하고, 리시버(120)에서 출력 광에 의해 인식되는 안면의 면적인 인식 면적과 기준 면적의 비교 결과에 따라 광원(110)의 출력을 제어할 수 있다.
객체(130)의 거리에 따른 기준 면적에 대한 정보는 복수의 거리 각각에 대응되는 면적의 정보는 룩업테입블(LUT:look-up table)의 형태로 메모리에 저장될 수 있다.
프로세서(1000)는 리시버(120)가 수신하는 수신 광을 통해 객체(130)의 특정 면적에 출력 광이 집중되는 정도를 결정할 수 있다. 프로세서(1000)는 리시버(120)에 포함된 복수개의 픽셀들로 수신되는 수신 광을 픽셀 별로 획득하여, 객체(130)의 특정 면적(예: 안면 면적)을 결정하고, 객체(130)의 특정 면적으로부터 획득되는 수신 광의 세기를 결정하고, 객체(130)의 특정 면적으로부터 획득되는 수신 광의 세기가 기설정 값 이상인지 여부를 결정할 수 있다. 안면 면적은 전체 면적 중 사용자의 안면을 나타내는 면적을 의미할 수 있다.
일 실시 예에 따른 프로세서(1000)는 리시버(120)에 포함된 복수개의 픽셀들 중 안면 면적에 대응되는 픽셀들을 결정하고 안면 면적에 포함되는 리시버(120)의 픽셀들 중 픽셀당 수신 광의 에너지 값이 기설정 값 이상인 픽셀이 있는 경우, 현재 상태를 이상 상태로 결정할 수 있다. 다른 예로, 프로세서(1000)는 리시버(120)에 포함된 복수개의 픽셀들 중 안면 면적에 대응되는 픽셀들을 결정하고 안면 면적에 포함되는 리시버(120)의 픽셀들 중 픽셀당 수신 광의 에너지 값이 기설정 값 이상인 픽셀이 기설정된 개수 이상(예: 2개)있는 경우, 현재 상태를 이상 상태로 결정할 수 있다.
일 실시 예에 따른 프로세서(1000)는 안면 면적에 포함된 리시버(120)의 픽셀들이 수신하는 수신 광의 에너지 값의 합이 기설정 값 이상인 경우, 현재 상태를 이상 상태로 결정할 수 있다.
현재 상태가 이상 상태로 결정된 경우, 프로세서(1000)는 광원(110)에 제어 신호를 송신하여 광원(110)에서 출력되는 출력 광의 세기를 기설정 값 이하로 제어할 수 있다.
예를 들면, 현재 상태가 이상 상태로 결정된 경우, 프로세서(1000)는 광원(110)에서 출력 광이 출력되지 않도록 광원(110)의 출력을 오프할 수 있다.
다른 예로, 현재 상태가 이상 상태로 결정된 경우, 프로세서(1000)는 광원(110)에서 출력되는 출력 광의 세기가 기설정 값 이하가 되도록 광원(110)의 출력을 제어할 수 있다.
다른 예로, 현재 상태가 이상 상태로 결정된 경우, 프로세서(1000)는 현재 상태에 따라 광원(110)에서 출력되는 출력 광을 제어할 수 있다. 일 예로, 안면 면적에 포함되는 리시버(120)의 픽셀들 중 픽셀당 수신 광의 에너지 값이 제 1 값 이상인 픽셀이 있는 경우, 프로세서(1000)는 광원(110)에서 출력 광이 출력되지 않도록 광원(110)의 출력을 오프하고, 안면 면적에 포함되는 리시버(120)의 픽셀들 중 픽셀당 수신 광의 에너지 값이 제 2 값(제 1 값보다는 작은 값) 이상, 제 1 값 이하인 픽셀이 있는 경우, 프로세서(1000)는 광원(110)에서 출력되는 출력 광의 세기가 기설정 값 이하가 되도록 광원(110)의 출력을 제어할 수 있다.
다른 예로, 현재 상태가 이상 상태로 결정된 경우, 프로세서(1000)는 안면 면적에 포함된 리시버(120)의 픽셀들이 수신하는 수신 광의 에너지 값의 합에 따라 광원(110)에서 출력되는 출력 광을 제어할 수 있다. 일 예로, 안면 면적에 포함된 리시버(120)의 픽셀들이 수신하는 수신 광의 에너지 값의 합이 제 1 값 이상인 경우, 프로세서(1000)는 광원(110)에서 출력 광이 출력되지 않도록 광원(110)의 출력을 오프하고, 안면 면적에 포함된 리시버(120)의 픽셀들이 수신하는 수신 광의 에너지 값의 합이 제 2 값(제 1 값보다는 작은 값) 이상, 제 1 값 이하인 경우, 프로세서(1000)는 광원(110)에서 출력되는 출력 광의 세기가 기설정 값 이하가 되도록 광원(110)의 출력을 제어할 수 있다.
프로세서(1000)는 객체(130)의 특정 면적에 구애됨이 없이 출력 광이 집중되는지 여부를 결정하고, 출력 광의 집중이 센싱되는 경우에는 현재 상태를 이상 상태로 결정할 수 있다. 광원(110)과 객체(130)의 거리에 따라 출력 광이 조사되는 면적이 결정된다. 광원(110)과 객체(130)의 거리가 멀어질수록 출력 광이 조사되는 면적이 넓어지고, 광원(110)과 객체(130)의 거리가 가까울수록 출력 광이 조사되는 면적이 좁아진다. 프로세서(1000)는 현재 광원(110)과 객체(130) 사이의 거리를 결정하고, 현재 광원(110)과 객체(130) 사이의 거리에 따라 출력 광이 조사될 것으로 예상되는 전체 기준 면적을 결정할 수 있다. 프로세서(1000)는 리시버(120)로부터 수신되는 출력 광을 통해 출력 광이 인식되는 전체 인식 면적을 결정하고, 전체 인식 면적과 전체 기준 면적을 비교하여 이상 상태인지 여부를 결정할 수 있다.
전체 인식 면적은 출력 광에 의해 인식되는 전체 면적이기 때문에, 전체 인식 면적이 전체 기준 면적보다 작다는 것은 출력 광이 집광되었음을 의미할 수 있다. 따라서 프로세서(1000)는 전체 인식 면적이 전체 기준 면적보다 작을 경우, 광원(110)에서 출력되는 출력 광을 제어할 수 있다. 예를 들면, 프로세서(1000)는 전체 인식 면적이 전체 기준 면적보다 작을 경우, 광원(110)을 오프하여 출력 광의 출력을 정지할 수 있다. 다른 예로, 프로세서(1000)는 전체 인식 면적이 전체 기준 면적보다 작을 경우, 광원(110)으로부터 출력되는 출력 광의 세기를 기설정 값 이하로 감소시킬 수 있다.
프로세서(1000)가 출력 광에 의해 인식되는 면적인 전체 인식 면적과 전체 기준 면적을 비교하고 비교 결과에 따라 광원(110)의 출력을 제어하는 방식에는 여러가지 방식이 있을 수 있다.
일 실시 예에 따른 프로세서(1000)는 상술한 바와 같이 전체 인식 면적이 전체 기준 면적보다 작을 경우, 광원(110)에서 출력되는 출력 광을 제어할 수 있다.
일 실시 예에 따른 프로세서(1000)는 전체 인식 면적이 전체 기준 면적의 기설정 비율보다 작을 경우(예: 전체 기준 면적의 80% 이하), 광원(110)의 출력을 제어할 수 있다. 예를 들면, 프로세서(1000)는 전체 인식 면적이 전체 기준 면적의 기설정 비율보다 작을 경우, 광원(110)을 오프하여 출력 광의 출력을 정지할 수 있다. 다른 예로, 프로세서(1000)는 전체 인식 면적이 전체 기준 면적의 기설정 비율보다 작을 경우, 광원(110)으로부터 출력되는 출력 광의 세기를 기설정 값 이하로 감소시킬 수 있다.
일 실시 예에 따른 프로세서(1000)는 전체 인식 면적이 전체 기준 면적의 기설정 비율보다 작을 경우(예: 전체 기준 면적의 90% 이하), 전체 인식 면적의 크기에 기초하여 광원(110)의 출력을 제어할 수 있다. 예를 들면, 전체 인식 면적이 전체 기준 면적의 기설정 비율보다 작은 경우, 프로세서(1000)는 전체 인식 면적의 크기에 반비례하도록 출력 광의 세기를 제어할 수 있다. 다른 예로, 전체 인식 면적이 제 1 구간(예: 전체 기준 면적의 90% ~ 50%)으로 결정된 경우 프로세서(1000)는 전체 인식 면적의 크기에 반비례하도록 출력 광의 세기를 제어하고, 전체 인식 면적이 제 2 구간(예: 전체 기준 면적의 50% ~ 0%)로 결정된 경우 프로세서는 출력 광이 출력되지 않도록 광원(110)을 오프한다.
일 실시 예에 따라, 광원(110)은 객체(130)로 광을 출력하고 리시버(120)는 객체로부터 광이 반사되는 수신 광을 수신할 수 있다. 광원(110)과 객체(130) 사이의 거리에 따라 인식되는 객체(130)의 기준 면적에 대한 정보는 메모리(미도시)에 저장될 수 있다.
프로세서(1000)는 리시버(120)에서 인식되는 객체(130)의 인식 면적과 기준 면적을 비교하여 광원(110)의 출력을 제어할 수 있다. 구체적으로 프로세서(1000)는 인식 면적과 기준 면적의 차이 값이 기설정된 값 이상인 경우 광원(110)의 출력을 낮추거나 오프할 수 있다. 여기서, 광원(110)의 출력을 낮추거나 오프하는 것은 광원(110)에 입력되는 전압을 낮추거나 차단하는 것을 의미할 수 있다.
일 실시 예에 따라, 광원(110)은 객체(130)로 광을 출력하고, 리시버(120)는 객체로부터 광이 반사되는 수신 광을 수신할 수 있다. 리시버(120)는 객체(130)로부터 광이 반사되는 수신 광을 수신하는 복수의 픽셀들을 포함할 수 있다. 복수의 픽셀들 중 적어도 하나의 픽셀에 기설정된 세기 보다 높은 세기의 광이 검출되는 경우, 프로세서(1000)는 광원(110)의 출력을 제어할 수 있다. 구체적으로, 프로세서(1000)는 복수의 픽셀들 중 기설정된 세기 보다 높은 세기의 광이 검출되는 픽셀이 있는 경우 광원(110)의 출력을 낮추거나 오프할 수 있다.
일 실시 예에 따라, 광원(110)은 객체(130)로 광을 출력하고, 리시버(120)는 객체(130)로부터 광이 반사되는 수신 광을 수신하는 복수의 픽셀들을 포함할 수 있다.
프로세서(1000)는 복수의 픽셀들 중 객체(130)를 인식하는 픽셀들의 광 검출 세기의 합과 기설정된 기준 세기 값을 비교하여 광원(110)의 출력을 제어할 수 있다. 구체적으로 프로세서(1000)는 광 검출 세기의 합이 기설정된 기준 세기 값보다 클 경우, 광원(110)의 출력을 낮추거나 오프할 수 있다. 또는 프로세서(1000)는 픽셀들의 광 검출 세기의 합이 기설정된 세기 값 이상인 경우 광원(110)의 출력을 낮추거나 오프할 수 있다.
기설정된 기준 세기 값은 객체(130)와 광원(110) 사이의 거리에 따라 객체(110)를 인식하는 픽셀들 각각에 수신되는 광 세기 값의 합일 수 있다.
일 실시 예에 따를 때, 광 출력 장치(100)는 객체(130)로 광을 출력하고, 객체(130)로부터 반사되는 수신 광을 수신하고, 광이 객체(130)에서 반사되어 수신되는 거리에 따라 인식되는 객체(130)의 기준 면적에 대한 정보를 저장하고, 수신된 광에 의해 인식되는 객체(130)의 인식 면적과 기준 면적을 비교하여 인식 면적이 기준 면적보다 기설정된값 이하인 경우 광의 출력을 낮추거나 차단할 수 있다.
도 2는 일 실시 예에 따른 광 출력 장치(100)가 사용자를 인식하는 일 예를 나타내는 도면이다.
일 실시 예에 따른 광 출력 장치(100)는 사용자를 인식할 수 있다. 일 예로, 광 출력 장치(100)는 사용자의 특정 신체 부위(예: 안면)을 인식할 수 있다. 광 출력 장치(100)는 획득되는 이미지의 전체 면적 중 사용자의 안면에 대응되는 면적을 결정할 수 있다.
일 실시 예에 따른 광 출력 장치(100)는 사용자의 특정 신체 부위(예: 안면)의 면적에 대한 기준을 결정할 수 있다.
일 실시 예에 따른 광 출력 장치(100)는 광원(110) 또는 광 출력 장치(100)로부터 안면까지의 거리에 기초하여 결정되는 안면의 기준 면적을 결정할 수 있다. 안면의 기준 면적은 거리에 따른 사용자의 안면의 면적의 기준을 나타낸다. 광 출력 장치(100)는 한 번 이상의 촬영으로 거리에 따른 기준 면적을 결정할 수 있다. 예를 들면, 광 출력 장치(100)는 기준 면적을 결정하기 위한 기준 면적 결정 모드에서, 결정된 사용자의 안면 면적과 사용자의 안면 면적이 결정될 때 광 출력 장치(100)와 안면 간의 거리를 이용해서, 거리에 따른 사용자의 안면 면적의 예측 값인 기준 면적을 결정할 수 있다. 예를 들면, 광원(110)에서 안면까지의 거리가 0.1m일 때 예상되는 사용자의 안면 면적이 a m2인 경우, a m2는 거리 0.1m에 대한 안면의 기준 면적이고, 광원(110)에서 안면까지의 거리가 1m일 때 예상되는 사용자의 안면 면적이 c m2인 경우, c m2는 거리 0.1m에 대한 안면의 기준 면적일 수 있다.
일 실시 예에 따른 광 출력 장치(100)는 사용자의 특정 신체 부위(예: 안면)의 면적을 결정할 수 있다. 광 출력 장치(100)가 출력 광에 의해서 인식한 안면의 면적인 인식 면적은 광 출력 장치(100)와 안면 간의 거리(210)에 따라 달라질 수 있다. 예를 들면, 광 출력 장치(100)와 안면 간의 거리(210)가 멀어질수록 인식 면적은 작아지고, 광 출력 장치(100)와 안면 간의 거리(210)가 가까워질수록 인식 면적은 커질 수 있다.
일 실시 예에 따른 광 출력 장치(100)는 안면의 면적을 결정할 때, 안면의 면적에 대응하는 픽셀의 개수를 이용할 수 있다. 광 출력 장치(100)는 리시버(120)에 포함된 복수개의 픽셀들 중 안면의 면적에 대응하는 픽셀의 개수에 따라 안면의 면적을 결정할 수 있다. 광 출력 장치(100)는 수신 광을 통해 획득한 이미지의 전체 면적 중 안면에 대응되는 면적이 차지하는 비율을 이용하여 안면의 면적을 결정할 수 있다.
일 실시 예에 따른 광 출력 장치(100)는 안면의 면적을 결정할 때, 안면의 가로 길이(220)를 이용할 수 있다. 광 출력 장치(100)는 리시버(120)에 포함된 복수개의 픽셀들 중 안면의 가로 길이(220)에 대응하는 픽셀의 개수에 따라 안면의 면적을 결정할 수 있다. 광 출력 장치(100)는 수신 광을 통해 획득한 이미지의 전체 가로 길이 중 안면의 가로 길이(220)가 차지하는 비율을 이용하여 안면의 면적을 결정할 수 있다.
일 실시 예에 따른 광 출력 장치(100)는 안면의 면적을 결정할 때, 안면의 세로 길이(230)를 이용할 수 있다. 광 출력 장치(100)는 리시버(120)에 포함된 복수개의 픽셀들 중 안면의 세로 길이(230)에 대응하는 픽셀의 개수에 따라 안면의 면적을 결정할 수 있다. 광 출력 장치(100)는 수신 광을 통해 획득한 이미지의 전체 세로 길이 중 안면의 세로 길이(230)가 차지하는 비율을 이용하여 안면의 면적을 결정할 수 있다.
도 3은 일 실시 예에 따라 광 출력 장치(100)가 사용자의 안면을 인식하여 동작하는 일 예를 나타내는 도면이다.
일 실시 예에 따른 인식 면적은 출력 광에 의해서 사용자의 안면이 인식되는 면적일 수 있다. 출력 광이 충분히 넓은 범위로 조사되는 경우, 인식 면적은 전체 안면 면적(320)일 수 있다. 그러나, 출력 광이 집광되는 경우, 인식 면적은 전체 안면 면적(320) 중 일부 면적일 수 있다. 예를 들면, 인식 면적은 전체 안면 면적(320)과 인식 가능 최소 면적(330) 사이일 수도 있고, 경우에 따라, 인식 가능 최소 면적(330) 보다 작을 수도 있다. 그러나, 일반적으로 인식 면적은 전체 안면 면적(320)보다 크지 않을 수 있다.
일 실시 예에 따른 인식 가능 최소 면적(330)은 사용자의 안면을 인식하기 위한 최소 면적을 의미할 수 있다. 광 출력 장치(100)는 인식 가능 최소 면적(330)에 대한 정보가 있는 경우 안면인지 여부를 결정할 수 있다. 또한 한번 안면으로 인식된 면적에 대해서는 지속적으로 안면으로 인식할 수 있다. 또한, 광 출력 장치(100)가 안면인지 여부를 결정할 때에는 광원(110)에서 출력되는 출력 광 뿐 아니라 다른 광(예: 자연 광)을 이용할 수 있다.
일 실시 예에 따른 광 출력 장치(100)는 광원(110) 또는 광 출력 장치(100)로부터 안면까지의 거리에 기초하여 결정되는 안면의 기준 면적을 결정할 수 있다. 예를 들면, 광원(110)에서 안면까지의 거리가 0.1m일 때 예상되는 사용자의 안면 면적이 a m2인 경우, a m2는 거리 0.1m에 대한 안면의 기준 면적이고, 광원(110)에서 안면까지의 거리가 1m일 때 예상되는 사용자의 안면 면적이 c m2인 경우, c m2는 거리 1m에 대한 안면의 기준 면적일 수 있다. 이와 같은 기준 면적은 LUT(Look Up Table)로 표시되거나 저장될 수 있다.
기준 면적은 기준이 되는 면적으로서, 실제 안면 면적의 전체 또는 일부로 미리 결정될 수 있다. 예를 들면, 기준 면적은 전체 안면 면적(320)에 대응하는 면적일 수 있고, 인식 가능 최소 면적(330)에 대응하는 면적일 수 있다. 기준 면적이 전체 안면 면적(320)에 대응하는 경우, 광 출력 장치(100)는 기준 면적을 결정할 때 거리에 따라 인식되는 안면 면적 전체를 기준 면적으로 결정할 수 있다. 기준 면적이 인식 가능 최소 면적(330)에 대응하는 경우, 광 출력 장치(100)는 기준 면적을 결정할 때 거리에 따라 인식되는 인식 가능한 최소한의 면적을 기준 면적으로 결정할 수 있다.
한번 결정된 기준 면적은 메모리에 저장되고, 필요한 경우 프로세서(1000)는 메모리에 저장된 LUT를 이용해서 거리에 따른 기준 면적을 결정할 수 있다.
프로세서(1000)는 출력 광에 의해 인식되는 안면의 면적인 인식 면적과 기준 면적을 비교하고 비교 결과에 따라 광원(110)의 출력을 제어할 수 있다.
인식 면적은 출력 광에 의해 인식되는 안면의 면적이기 때문에, 인식 면적이 기준 면적보다 작다는 것은 출력 광이 안면 면적 내에 집중되었음을 의미할 수 있다. 따라서 프로세서(1000)는 인식 면적이 기준 면적보다 작을 경우, 광원(110)에서 출력되는 출력 광을 제어할 수 있다. 예를 들면, 프로세서(1000)는 인식 면적이 기준 면적보다 작을 경우, 광원(110)을 오프하여 출력 광의 출력을 정지할 수 있다. 다른 예로, 프로세서(1000)는 인식 면적이 기준 면적보다 작을 경우, 광원(110)으로부터 출력되는 출력 광의 세기를 기설정 값 이하로 감소시킬 수 있다.
프로세서(1000)가 출력 광에 의해 인식되는 안면의 면적인 인식 면적과 기준 면적을 비교하고 비교 결과에 따라 광원(110)의 출력을 제어하는 방식에는 여러가지 방식이 있을 수 있다.
일 실시 예에 따른 프로세서(1000)는 상술한 바와 같이 인식 면적이 기준 면적보다 작을 경우, 광원(110)에서 출력되는 출력 광을 제어할 수 있다.
일 실시 예에 따른 프로세서(1000)는 인식 면적이 기준 면적의 기설정 비율보다 작을 경우(예: 기준 면적의 80% 이하), 광원(110)의 출력을 제어할 수 있다. 예를 들면, 프로세서(1000)는 인식 면적이 기준 면적의 기설정 비율보다 작을 경우, 광원(110)을 오프하여 출력 광의 출력을 정지할 수 있다. 다른 예로, 프로세서(1000)는 인식 면적이 기준 면적의 기설정 비율보다 작을 경우, 광원(110)으로부터 출력되는 출력 광의 세기를 기설정 값 이하로 감소시킬 수 있다.
일 실시 예에 따른 프로세서(1000)는 인식 면적이 기준 면적의 기설정 비율보다 작을 경우(예: 기준 면적의 90% 이하), 인식 면적의 크기에 기초하여 광원(110)의 출력을 제어할 수 있다. 예를 들면, 인식 면적이 기준 면적의 기설정 비율보다 작은 경우, 프로세서(1000)는 인식 면적의 크기에 반비례하도록 출력 광의 세기를 제어할 수 있다. 다른 예로, 인식 면적이 제 1 구간(예: 기준 면적의 90% ~ 50%)으로 결정된 경우 프로세서(1000)는 인식 면적의 크기에 반비례하도록 출력 광의 세기를 제어하고, 인식 면적이 제 2 구간(예: 기준 면적의 50% ~ 0%)로 결정된 경우 프로세서(1000)는 출력 광이 출력되지 않도록 광원(110)을 오프할 수 있다.
도 4는 일 실시 예에 따라 광 출력 장치(100)에 포함되는 광원(110)의 일 예를 나타내는 도면이다.
광원(110)은 레이저 광원(420) 및 광학 장비(410)를 포함할 수 있다. 광학 장비(410)는 렌즈, 디퓨저, 글래스 등 광학과 관련된 여러 장비를 포괄적으로 지칭할 수 있다.
일 실시 예에 따라 광원(110)이 레이저 광원(420)을 포함하는 경우, 레이저 광원(420)에서 출력된 레이저(430)는 광학 장비(410)로 인가될 수 있다. 광학 장비(410)는 인가된 레이저(430)를 분산하여 출력 광(440)으로 출력할 수 있다. 최초에 에너지가 집중된 레이저(430)가 광학 장비(410)에 의해 분산되어 출력되기 때문에, 광학 장비(410)에서 레이저(430)를 분산 시키지 못하는 경우에는 출력 광(440)이 분산되지 않고 집중될 수 있다. 또는 광학 장비(410)에서 레이저(430)를 분산 시킴에도 불구하고, 분산된 레이저가 다시 집광되는 경우, 출력 광(440)의 에너지 밀도가 높아질 수 있다.
도 5는 일 실시 예에 따라 광 출력 장치(100)의 광원(110)에서 출력 광(510)을 출력하는 일 예를 나타내는 도면이다.
일 실시 예에 따라 광원(110)은 서브스트레이트(550), 빅셀(VCSEL)(540), 디퓨저(530) 및 커버 글래스(520)를 포함할 수 있다.
서브스트레이트(550) 상에 위치한 빅셀(540)에서 출력되는 레이저가 디퓨저(530)을 통과하면서 분산되어 출력될 수 있다. 또한 출력 광(510)은 커버 글래스(520)를 통과하여 광원(110)의 외부로 출력될 수 있다.
커버 글래스(520)는 광원(110)의 외부에 위치하여 광원(110) 및 디퓨저(530)를 외부와 분리할 수 있다.
최초에 에너지가 집중된 레이저가 디퓨저(530)에 의해 분산되어 출력되기 때문에, 디퓨저(530)에서 레이저를 분산 시키지 못하는 경우에는 출력 광(510)이 분산되지 않고 집중될 수 있다. 또는 디퓨저(530)에서 분산을 시킴에도 불구하고, 분산된 레이저가 다시 집광되는 경우, 출력 광(510)의 에너지 밀도가 높아질 수 있다.
도 6은 일 실시 예에 따라 광 출력 장치(100)가 이물질에 따라 출력 광(610)이 집광 될 경우, 출력 광을 제어하는 일 예를 나타내는 도면이다.
일 실시 예에 따라 광원(110)은 서브스트레이트(650), 빅셀(VCSEL)(640), 디퓨저(630) 및 커버 글래스(620)를 포함할 수 있다.
서브스트레이트(650) 상에 위치한 빅셀(640)에서 출력되는 레이저가 디퓨저(630)을 통과하면서 분산되어 출력될 수 있다. 또한 출력 광(610)은 커버 글래스(620)를 통과하여 광원(110)의 외부로 출력될 수 있다.
커버 글래스(620)는 광원(110)의 외부에 위치하여 광원(110) 및 디퓨저(630)를 외부와 분리할 수 있다.
그러나 이물질(600)이 있는 경우, 출력 광(610)은 일차적으로 디퓨저(630)에 의해 분산된 이후 이물질(600)에 의해 다시 집중될 수 있다.
이와 같이 출력 광(610)의 에너지 밀도가 높아진 경우, 광 출력 장치(100)는 출력되는 광을 제어할 수 있다. 예를 들면, 출력 광(610)의 높은 에너지 밀도가 사용자의 안면에서 탐지되는 경우, 광 출력 장치(100)는 출력 광(610)이 출려되지 않도록 광원(110)을 오프하거나 출력 광(610)의 세기가 기설정 값 이하가 되도록 광원(110)을 제어할 수 있다.
도 7은 일 실시 예에 따라 광 출력 장치(100)가 일부 부품의 손상에 따라 출력 광(710)이 집광 될 경우, 출력 광을 제어하는 일 예를 나타내는 도면이다.
일 실시 예에 따라 광원(110)은 서브스트레이트(750), 빅셀(VCSEL)(740), 디퓨저(730) 및 커버 글래스(720)를 포함할 수 있다.
서브스트레이트(750) 상에 위치한 빅셀(740)에서 출력되는 레이저가 디퓨저(730)를 통과하면서 분산되어 출력될 수 있다. 커버 글래스(720)를 통과하여 광원(110)의 외부로 출력될 수 있다.
커버 글래스(720)는 광원(110)의 외부에 위치하여 광원(110) 및 디퓨저(730)를 외부와 분리할 수 있다.
그러나 디퓨저(730)에 손상이 있는 경우, 출력 광(710)은 디퓨저(730)에 의해 분산되지 않고 출력될 수 있다. 또는 오히려 디퓨저(730)는 출력되는 레이저를 보다 집중시켜 출력할 수 있다.
이와 같이 출력 광(710)의 에너지 밀도가 높아진 경우, 광 출력 장치(100)는 출력되는 광을 제어할 수 있다. 예를 들면, 출력 광(710)의 높은 에너지 밀도가 사용자의 안면에서 탐지되는 경우, 광 출력 장치(100)는 출력 광(710)이 출려되지 않도록 광원(110)을 오프하거나 출력 광(710)의 세기가 기설정 값 이하가 되도록 광원(110)을 제어할 수 있다.
도 6 및 도 7에서 개시하고 있는 경우 외에도, 광 출력 장치(100)가 동작하는 경우는 다양하며 상술된 실시 예에 한정되지 않는다. 예를 들면, 광 출력 장치(100)는 커버 글래스(620)이 깨져서 집광되는 경우, 이물질이 커버 글래스(620) 안쪽에 생성되어 집광되는 경우, 이물질이 디퓨저(530) 안쪽에 생성되어 집광되는 경우 등에 출력되는 출력 광을 제어(예: 오프 또는 감소)할 수 있다.
도 8은 일 실시 예에 따라 광 출력 장치(100)가 사용자의 안면을 인식하여 룩업 테이블을 획득하는 일 예를 나타내는 도면이다.
일 실시 예에 따른 기준 면적(820)은 광원(110) 또는 광 출력 장치(100)로부터 안면까지의 거리에 따라 예상되는 안면의 면적을 나타낼 수 있다. 일 실시 예에 따라 한번 이상의 촬영을 통해 광 출력 장치(100)는 광원(110)으로부터 안면까지의 거리(810)에 따른 기준 면적(820)을 결정할 수 있다. 예를 들면, 광 출력 장치(100)는 광원(110)으로부터 안면까지의 거리(810)가 1m일 때, 안면의 면적을 c m2로 결정한 경우 광원(110)으로부터 안면까지의 거리(810)가 0.1m, 0.5m, 1.5m 3m, 5m 등인 경우에도 그에 대응되는 기준 면적(820)을 기설정된 알고리즘 등을 이용하여 결정할 수 있다.
도 9는 일 실시 예에 따라 광 출력 장치(100)가 안면 면적을 인식함에 따라 광원(110)의 출력을 제어하는 일 예를 나타내는 흐름도이다.
단계 S910에서 일 실시 예에 따른 광 출력 장치(100)는 거리에 따른 사용자의 안면의 면적에 대한 기준을 나타내는 LUT를 결정한다.
일 실시 예에 따른 기준 면적은 광원(110) 또는 광 출력 장치(100)로부터 안면까지의 거리에 따라 예상되는 안면의 면적을 나타낼 수 있다. 일 실시 예에 따라 한번 이상의 촬영을 통해 광 출력 장치(100)는 광원(110)으로부터 안면까지의 거리에 따른 기준 면적을 결정할 수 있다. 예를 들면, 광 출력 장치(100)는 광원(110)으로부터 안면까지의 거리가 0.5m일 때, 안면의 면적을 b m2로 결정한 경우 광원(110)으로부터 안면까지의 거리가 0.1m, 1m, 1.5m 3m, 5m 등인 경우에도 그에 대응되는 기준 면적을 기설정된 알고리즘 등을 이용하여 결정할 수 있다.
또한, 광 출력 장치(100)는 거리에 따른 기준 면적을 LUT 형태로 저장할 수 있다.
일 실시 예에 따른 광 출력 장치(100)는 사용자의 특정 신체 부위(예: 안면)의 면적에 대한 기준을 결정할 수 있다.
일 실시 예에 따른 광 출력 장치(100)는 광원(110) 또는 광 출력 장치(100)로부터 안면까지의 거리에 기초하여 결정되는 안면의 기준 면적을 결정할 수 있다. 안면의 기준 면적은 거리에 따른 사용자의 안면의 면적의 기준을 나타낸다. 광 출력 장치(100)는 한 번 이상의 촬영으로 거리에 따른 기준 면적을 결정할 수 있다. 예를 들면, 광 출력 장치(100)는 기준 면적을 결정하기 위한 기준 면적 결정 모드에서, 결정된 사용자의 안면 면적과 사용자의 안면 면적이 결정될 때 광 출력 장치(100)와 안면 간의 거리를 이용해서, 거리에 따른 사용자의 안면 면적의 예측 값인 기준 면적을 결정할 수 있다. 예를 들면, 광원(110)에서 안면까지의 거리가 0.1m일 때 예상되는 사용자의 안면 면적이 a m2인 경우, a m2는 거리 0.1m에 대한 안면의 기준 면적이고, 광원(110)에서 안면까지의 거리가 1m일 때 예상되는 사용자의 안면 면적이 c m2인 경우, c m2는 거리 0.1m에 대한 안면의 기준 면적일 수 있다.
단계 S920에서 일 실시 예에 따른 광 출력 장치(100)는 출력 광을 출력한다.
광 출력 장치(100)는 예를 들어 크기(amplitude) 변조 또는 위상(phase) 변조를 수행하여 출력 광을 출력할 수 있다. 객체(130)로 출력되는 출력 광은 소정의 주기를 갖는 주기적인 연속 함수의 형태를 가질 수 있다. 예를 들어, 출력 광은 사인파, 램프파, 사각파, 펄스파 등과 같이 특수하게 정의된 파형을 가질 수도 있지만, 정의되지 않은 일반적인 형태의 파형을 가질 수도 있다.
단계 S930에서 일 실시 예에 따른 광 출력 장치(100)는 사용자의 신체의 일부 또는 전부를 포함하는 객체로부터 출력 광이 반사되어 획득되는 수신 광을 수신한다.
광 출력 장치(100)는 객체(130)에서 반사된 광을 수신할 수 있다. 광 출력 장치(100)가 수신하는 수신 광을 통해 광 출력 장치(100)는 여러 정보를 획득할 수 있다.
광 출력 장치(100)는 리시버(120)로 유입되는 여러 광 중 광 출력 장치(100)에서 출력된 출력 광이 객체(130)에 반사되어 획득되는 수신 광을 구별할 수 있다. 예를 들면, 광 출력 장치(100)이 750nm~950nm 범위의 출력 광을 출력하는 경우, 광 출력 장치(100)는 필터링을 통해 750nm~950nm 범위의 광을 선별적으로 획득할 수 있다. 또한, 광 출력 장치(100)는 출력 광에 대응되는 수신 광을 선별적으로 획득함으로써, 객체(130)에 대한 정확한 정보를 획득할 수 있다.
단계 S940에서 일 실시 예에 따른 광 출력 장치(100)는 광 출력 장치(100)로부터 안면까지의 거리를 결정한다.
광 출력 장치(100)는 수신 광을 통해 광 출력 장치(100)로부터 안면까지의 거리를 결정할 수 있다. 예를 들면 TOF 방식을 통해 광 출력 장치(100)는 광 출력 장치(100)로부터 안면까지의 거리를 결정할 수 있다.
단계 S950에서 일 실시 예에 따른 광 출력 장치(100)는 단계 S940에서 광원으로부터 안면까지의 거리에 따라 결정되는 안면의 기준 면적을 LUT로부터 획득한다.
일 실시 예에 따른 광 출력 장치(100)는 단계 S910에서 수신한 LUT에 단계 S940에서 결정된 거리를 대응시켜 현재 광 출력 장치(100)로부터 안면까지의 거리에 대응하는 안면의 기준 면적을 결정할 수 있다.
단계 S960에서 일 실시 예에 따른 광 출력 장치(100)는 리시버에서 인식되는 안면의 면적인 인식 면적과 기준 면적의 비교 결과에 따라 광원의 출력을 제어한다.
일 실시 예에 따른 광 출력 장치(100)는 사용자의 특정 신체 부위(예: 안면)의 면적을 결정할 수 있다. 광 출력 장치(100)가 출력 광에 의해서 인식한 안면의 면적인 인식 면적은 광 출력 장치(100)와 안면 간의 거리에 따라 달라질 수 있다. 예를 들면, 광 출력 장치(100)와 안면 간의 거리가 멀어질수록 인식 면적은 작아지고, 광 출력 장치(100)와 안면 간의 거리가 가까워질수록 인식 면적은 커질 수 있다.
광 출력 장치(100)는 출력 광에 의해 인식되는 안면의 면적인 인식 면적과 기준 면적을 비교하고 비교 결과에 따라 광 출력 장치(100)의 출력을 제어할 수 있다.
인식 면적은 출력 광에 의해 인식되는 안면의 면적이기 때문에, 인식 면적이 기준 면적보다 작다는 것은 출력 광이 안면 면적 내에 집중되었음을 의미할 수 있다. 따라서 광 출력 장치(100)는 인식 면적이 기준 면적보다 작을 경우, 광원(110)에서 출력되는 출력 광을 제어할 수 있다. 예를 들면, 광 출력 장치(100)는 인식 면적이 기준 면적보다 작을 경우, 출력 광의 출력을 정지할 수 있다. 다른 예로, 광 출력 장치(100)는 인식 면적이 기준 면적보다 작을 경우, 출력 광의 세기를 기설정 값 이하로 감소시킬 수 있다.
광 출력 장치(100)가 출력 광에 의해 인식되는 안면의 면적인 인식 면적과 기준 면적을 비교하고 비교 결과에 따라 출력 광의 출력을 제어하는 방식에는 여러가지 방식이 있을 수 있다.
일 실시 예에 따른 광 출력 장치(100)는 상술한 바와 같이 인식 면적이 기준 면적보다 작을 경우, 광 출력 장치(100)에서 출력되는 출력 광을 제어할 수 있다.
일 실시 예에 따른 광 출력 장치(100)는 인식 면적이 기준 면적의 기설정 비율보다 작을 경우(예: 기준 면적의 80% 이하), 출력 광의 출력을 제어할 수 있다. 예를 들면, 광 출력 장치(100)는 인식 면적이 기준 면적의 기설정 비율보다 작을 경우, 출력 광의 출력을 정지할 수 있다. 다른 예로, 광 출력 장치(100)는 인식 면적이 기준 면적의 기설정 비율보다 작을 경우, 출력 광의 세기를 기설정 값 이하로 감소시킬 수 있다.
일 실시 예에 따른 광 출력 장치(100)는 인식 면적이 기준 면적의 기설정 비율보다 작을 경우(예: 기준 면적의 90% 이하), 인식 면적의 크기에 기초하여 출력 광의 출력을 제어할 수 있다. 예를 들면, 인식 면적이 기준 면적의 기설정 비율보다 작은 경우, 광 출력 장치(100)는 인식 면적의 크기에 반비례하도록 출력 광의 세기를 제어할 수 있다. 다른 예로, 인식 면적이 제 1 구간(예: 기준 면적의 90% ~ 50%)으로 결정된 경우 광 출력 장치(100)는 인식 면적의 크기에 반비례하도록 출력 광의 세기를 제어하고, 인식 면적이 제 2 구간(예: 기준 면적의 50% ~ 0%)로 결정된 경우 광 출력 장치(100)는 출력 광이 출력되지 않도록 출력 광의 출력을 오프할 수 있다.
도 10은 일 실시 예에 따라 광 출력 장치(100)가 픽셀에서 수신되는 광의 에너지 값에 따라서 광원(110)의 출력을 제어하는 일 예를 나타내는 흐름도이다.
도 10을 참조하면, 일 실시 예에 따른 광 출력 장치(100)가 출력을 제어하는 방법은 도 9에 도시된 단계들을 일부 포함한다. 이하에서 생략된 내용이라 하더라도 도 9에 도시된 단계에 관하여 이상에서 기술된 내용은 도 10의 광 출력 장치(100)가 출력을 제어하는 방법에도 적용될 수 있다.
단계 S1010 및 단계 S1020은 단계 S920 및 단계 S930에 대응되므로 전체적인 설명을 간단히 하기 위해 상세한 설명을 생략한다.
단계 S1030에서 일 실시 예에 따른 광 출력 장치(100)는 전체 면적 중 사용자의 안면을 나타내는 안면 면적을 수신 광을 이용해서 결정한다.
일 실시 예에 따른 안면 면적은 전체 면적 중 사용자의 안면을 나타내는 면적을 의미할 수 있으며, 안면 면적은 출력 광 뿐 아니라 자연 광 등을 통해서도 결정될 수 있다.
단계 S1040에서 일 실시 예에 따른 광 출력 장치(100)는 안면 면적에 포함된 리시버(120)의 픽셀들 중 픽셀당 수신 광의 에너지 값이 기설정값 이상인 픽셀이 있는지 여부를 결정한다.
광 출력 장치(100)는 리시버(120)에 포함된 복수개의 픽셀들로 수신되는 수신 광을 픽셀 별로 획득하여, 객체(130)의 특정 면적(예: 안면 면적)을 결정하고, 객체(130)의 특정 면적으로부터 획득되는 수신 광의 세기를 결정하고, 객체(130)의 특정 면적으로부터 획득되는 수신 광의 세기가 기설정 값 이상인지 여부를 결정할 수 있다.
일 실시 예에 따른 광 출력 장치(100)는 리시버(120)에 포함된 복수개의 픽셀들 중 안면 면적에 대응되는 픽셀들을 결정하고 안면 면적에 포함되는 리시버(120)의 픽셀들 중 픽셀당 수신 광의 에너지 값이 기설정 값 이상인 픽셀이 있는 경우, 현재 상태를 이상 상태로 결정할 수 있다. 다른 예로, 프로세서(1000)는 리시버(120)에 포함된 복수개의 픽셀들 중 안면 면적에 대응되는 픽셀들을 결정하고 안면 면적에 포함되는 리시버(120)의 픽셀들 중 픽셀당 수신 광의 에너지 값이 기설정 값 이상인 픽셀이 기설정된 개수 이상(예: 2개)있는 경우, 현재 상태를 이상 상태로 결정할 수 있다.
일 실시 예에 따른 프로세서(1000)는 안면 면적에 포함된 리시버(120)의 픽셀들이 수신하는 수신 광의 에너지 값의 합이 기설정 값 이상인 경우, 현재 상태를 이상 상태로 결정할 수 있다.
단계 S1040에서 광 출력 장치(100)는 현재 상태가 이상 상태로 결정된 경우, 단계 S1050으로 진행하고, 현재 상태가 정상 상태로 결정된 경우, 단계 S1010으로 진행할 수 있다.
단계 S1050에서 일 실시 예에 따른 광 출력 장치(100)는 광원의 출력이 기설정값 이하가 되도록 광원의 출력을 제어한다.
현재 상태가 이상 상태로 결정된 경우, 광 출력 장치(100)는 광 출력 장치(100)에서 출력되는 출력 광의 세기를 기설정 값 이하로 제어할 수 있다.
예를 들면, 현재 상태가 이상 상태로 결정된 경우, 광 출력 장치(100)는 출력 광이 출력되지 않도록 출력을 오프할 수 있다.
다른 예로, 현재 상태가 이상 상태로 결정된 경우, 광 출력 장치(100)는 출력되는 출력 광의 세기가 기설정 값 이하가 되도록 출력을 제어할 수 있다.
다른 예로, 현재 상태가 이상 상태로 결정된 경우, 광 출력 장치(100)는 현재 상태에 따라 광원(110)에서 출력되는 출력 광을 제어할 수 있다. 일 예로, 안면 면적에 포함되는 리시버(120)의 픽셀들 중 픽셀당 수신 광의 에너지 값이 제 1 값 이상인 픽셀이 있는 경우, 광 출력 장치(100)는 출력 광이 출력되지 않도록 출력을 오프하고, 안면 면적에 포함되는 리시버(120)의 픽셀들 중 픽셀당 수신 광의 에너지 값이 제 2 값(제 1 값보다는 작은 값) 이상, 제 1 값 이하인 픽셀이 있는 경우, 광 출력 장치(100)는 출력 광의 세기가 기설정 값 이하가 되도록 출력을 제어할 수 있다.
다른 예로, 현재 상태가 이상 상태로 결정된 경우, 광 출력 장치(100)는 안면 면적에 포함된 리시버(120)의 픽셀들이 수신하는 수신 광의 에너지 값의 합에 따라 출력 광을 제어할 수 있다. 일 예로, 안면 면적에 포함된 리시버(120)의 픽셀들이 수신하는 수신 광의 에너지 값의 합이 제 1 값 이상인 경우, 광 출력 장치(100)는 출력 광이 출력되지 않도록 출력을 오프하고, 안면 면적에 포함된 리시버(120)의 픽셀들이 수신하는 수신 광의 에너지 값의 합이 제 2 값(제 1 값보다는 작은 값) 이상, 제 1 값 이하인 경우, 광 출력 장치(100)는 출력 광의 세기가 기설정 값 이하가 되도록 출력을 제어할 수 있다.
한편, 상술한 방법은 컴퓨터에서 실행될 수 있는 프로그램으로 작성 가능하고, 컴퓨터로 읽을 수 있는 기록매체를 이용하여 상기 프로그램을 동작시키는 범용 디지털 컴퓨터에서 구현될 수 있다. 또한, 상술한 방법에서 사용된 데이터의 구조는 컴퓨터로 읽을 수 있는 기록매체에 여러 수단을 통하여 기록될 수 있다. 상기 컴퓨터로 읽을 수 있는 기록매체는 마그네틱 저장매체(예를 들면, 롬, 램, USB, 플로피 디스크, 하드 디스크 등), 광학적 판독 매체(예를 들면, 시디롬, 디브이디 등)와 같은 저장매체를 포함한다.
본 실시 예와 관련된 기술 분야에서 통상의 지식을 가진 자는 상기된 기재의 본질적인 특성에서 벗어나지 않는 범위에서 변형된 형태로 구현될 수 있음을 이해할 수 있을 것이다. 그러므로 개시된 방법들은 한정적인 관점이 아니라 설명적인 관점에서 고려되어야 한다. 본 발명의 범위는 전술한 설명이 아니라 특허청구범위에 나타나 있으며, 그와 동등한 범위 내에 있는 모든 차이점은 본 발명에 포함된 것으로 해석되어야 할 것이다.
100: 광 출력 장치 110: 광원
120: 리시버 130: 객체
220: 안면의 가로 길이 230: 안면의 세로 길이
320: 전체 안면 면적 330: 인식 가능 최소 면적
410: 광학 장비 420: 레이저 광원
430: 레이저 440: 출력 광
510, 610, 710: 출력 광 520, 620, 720: 커버 글래스
530, 630, 730: 디퓨저 540, 640, 740: 빅셀
550, 650, 750: 서브스트레이트 600: 이물질
810: 거리 820: 기준 면적
1000: 프로세서

Claims (10)

  1. 객체로 광을 출력하는 광원;
    상기 객체로부터 상기 광이 반사되는 수신 광을 수신하는 리시버;
    상기 광원과 상기 객체 사이의 거리에 따라 인식되는 상기 객체의 기준 면적에 대한 정보가 저장되는 메모리; 및
    상기 리시버에서 인식되는 상기 객체의 인식 면적과 상기 기준 면적을 비교하여 상기 광원의 출력을 제어하는 프로세서;를 포함하는 광 출력 장치.
  2. 제 1 항에 있어서,
    상기 프로세서는
    상기 인식 면적과 상기 기준 면적의 차이 값이 기설정된 값 이상인 경우 상기 광원의 출력을 낮추거나 오프하는 광 출력 장치.
  3. 제2 항에 있어서,
    상기 광원의 출력을 낮추거나 오프하는 것은 상기 광원에 입력되는 전압을 낮추거나 차단하는 광 출력 장치.
  4. 객체로 광을 출력하는 광원;
    상기 객체로부터 상기 광이 반사되는 수신 광을 수신하는 복수의 픽셀들을 포함하는 리시버; 및
    상기 복수의 픽셀들 중 적어도 하나의 픽셀에 기설정된 세기 보다 높은 세기의 광이 검출되는 경우 상기 광원의 출력을 제어하는 프로세서;를 포함하는 광 출력 장치.
  5. 제 4 항에 있어서,
    상기 프로세서는
    상기 복수의 픽셀들 중 기설정된 세기 보다 높은 세기의 광이 검출되는 픽셀이 있는 경우 상기 광원의 출력을 낮추거나 오프하는 광 출력 장치.
  6. 객체로 광을 출력하는 광원;
    상기 객체로부터 상기 광이 반사되는 수신 광을 수신하는 복수의 픽셀들을 포함하는 리시버;및
    상기 복수의 픽셀들 중 상기 객체를 인식하는 픽셀들의 광 검출 세기의 합과 기설정된 기준 세기 값을 비교하여 상기 광원의 출력을 제어하는 프로세서를 포함하는 광 출력 장치.
  7. 제6 항에 있어서,
    상기 기설정된 기준 세기 값은 상기 객체와 상기 광원 사이의 거리에 따라 상기 객체를 인식하는 상기 픽셀들 각각에 수신되는 광 세기 값의 합인 광 출력 장치.
  8. 제 5 항에 있어서,
    상기 프로세서는
    상기 픽셀들의 광 검출 세기의 합이 기설정된 세기 값 이상인 경우 상기 광원의 출력을 낮추거나 오프하는 광 출력 장치.
  9. 제1 항에 있어서,
    상기 객체의 거리에 따른 기준 면적에 대한 정보는 복수의 거리 각각에 대응되는 면적의 정보를 룩업테입블(LUT:look-up table)의 형태로 상기 메모리에 저장하는 광 출력 장치.
  10. 객체로 광을 출력하는 단계;
    상기 객체로부터 반사되는 수신 광을 수신하는 단계;
    상기 광이 상기 객체에서 반사되어 수신되는 거리에 따라 인식되는 상기 객체의 기준 면적에 대한 정보를 저장되는 단계; 및
    상기 수신된 광에 의해 인식되는 상기 객체의 인식 면적과 상기 기준 면적을 비교하여 상기 인식 면적이 상기 기준 면적보다 기설정된값 이하인 경우 상기 광의 출력을 낮추거나 차단하는 단계를 포함하는 광 출력 장치의 제어 방법.
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