KR20190086884A - Apparatus for forming patterns - Google Patents

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배남석
최항석
장응진
황지영
이승헌
남윤호
서한민
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주식회사 엘지화학
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Abstract

The present invention relates to a pattern forming apparatus capable of continuously forming patterns. The pattern forming apparatus comprises: a first supply unit for supplying a substrate; a second supply unit for supplying a mask so as to be positioned on the substrate in at least some section on a transport path of the substrate of the first supply unit, wherein the transport path of the mask forms a closed curve; and a light source provided to irradiate light to a substrate side through the mask.

Description

패턴 성형 장치{Apparatus for forming patterns}[0001] Apparatus for forming patterns [

본 발명은 패턴 성형 장치에 관한 것이다.The present invention relates to a pattern forming apparatus.

대향 배치된 2개의 기판의 사이에 액정 화합물, 또는 액정 화합물과 염료의 혼합물 등을 배치시켜서 광의 투과율이나 색상을 조절할 수 있는 있도록 한 광학 디바이스는 공지이다. An optical device is known in which a liquid crystal compound, a mixture of a liquid crystal compound and a dye, or the like is disposed between two substrates disposed opposite to each other to adjust the transmittance and hue of light.

이러한 장치에서는 2개의 기판 사이의 간격을 유지하기 위해서 스페이서(spacer)가 상기 기판들 사이에 위치한다.In such a device, a spacer is placed between the substrates to maintain the spacing between the two substrates.

상기 스페이서를 형성하기 위해 패턴 성형 장치가 사용될 수 있다.A pattern forming apparatus can be used to form the spacers.

도 1은 종래 패턴 성형 장치(10)를 나타내는 개략도이다.1 is a schematic view showing a conventional pattern forming apparatus 10.

도 1을 참조하면, 상기 패턴 성형 장치(10)는 기재(41)를 공급하는 기재 공급부(20), 기재 상에 감광성 수지(42)를 도포하기 위한 코팅부(30), 적층체(40) 상에 패턴을 형성하기 위한 마스크(13), 광원(11), 노광 시 기재(41)를 지지하기 위한 스테이지(15)를 포함한다.1, the pattern forming apparatus 10 includes a substrate supplying portion 20 for supplying a substrate 41, a coating portion 30 for applying a photosensitive resin 42 on the substrate, a laminate 40, A mask 13 for forming a pattern on the substrate 11, a light source 11, and a stage 15 for supporting the substrate 41 during exposure.

패턴 성형 장치(10)를 이용한 패턴 성형 방법을 살펴보면, 기재(41) 상에 감광성 수지(42)가 도포된 적층체(40)를 스테이지(15)에 고정시킨 후, 마스크(13)의 위치를 정렬(상/하 이동)한 후, 광원(11)을 작동시켜 패턴을 성형할 수 있다. 또한, 노광이 완료되면, 패턴이 형성된 적층체(40)를 이송시킨 후, 다시 차기 노광이 이루어져야 할 적층체(40) 영역을 스테이지(15)에 고정시킨 후, 마스크(13)의 위치를 정렬(상/하 이동)한 후, 광원(11)을 작동시켜 패턴을 성형할 수 있다The pattern forming method using the pattern forming apparatus 10 is as follows. After the laminated body 40 on which the photosensitive resin 42 is coated on the base material 41 is fixed to the stage 15, After the alignment (up / down movement), the light source 11 can be operated to form a pattern. After the completion of the exposure, the stacked body 40 on which the pattern has been formed is transferred. After the area of the laminated body 40 to be subjected to the next exposure is fixed to the stage 15, the position of the mask 13 is aligned (Upward / downward movement), the light source 11 can be operated to form a pattern

종래 패턴 성형 장치(10)는 연속적으로 패턴 성형이 어려운 문제를 갖고 있으며, 광폭에서 적층체의 종주름 및 사이드 컬(curl)에 기인한 불균일한 노광 갭(gap)이 형성되는 문제를 갖는다.The conventional pattern forming apparatus 10 has a problem in that it is difficult to form the pattern continuously and has a problem that uneven exposure gap due to the vertical crease and side curl of the laminate is formed at a wide width.

본 발명은 마스크가 적층체 상에 연속적으로 공급되며, 연속적인 패턴 성형이 가능한 패턴 성형 장치를 제공하는 것을 해결하고자 하는 과제로 한다.An object of the present invention is to provide a pattern forming apparatus in which a mask is continuously supplied on a laminate and continuous pattern forming is possible.

또한, 본 발명은 노광 시 마스크 측에서 기재 측으로 광 조사가 이루어지는 패턴 성형 장치를 제공하는 것을 해결하고자 하는 과제로 한다.It is another object of the present invention to provide a pattern forming apparatus in which light irradiation is performed from the mask side to the substrate side during exposure.

또한, 본 발명은 포토리소그라피(Photolithography) 및 임프린트 리소그라피(Imprint Lithography)가 모두 적용 가능한 패턴 성형 장치를 제공하는 것을 해결하고자 하는 과제로 한다.It is another object of the present invention to provide a pattern forming apparatus which can be applied to both photolithography and imprint lithography.

상기한 과제를 해결하기 위하여, 본 발명의 일 측면에 따르면, 기재를 공급하기 위한 제1 공급부; 제1 공급부의 기재의 이송 경로 상 적어도 일부 구간에서 기재 상에 위치되도록 마스크를 공급하며, 마스크의 이송 경로가 폐곡선을 형성하는 제2 공급부; 및 마스크를 통과하여 기재 측으로 광을 조사하도록 마련된 광원을 포함하는 패턴 성형 장치가 제공된다.According to an aspect of the present invention, there is provided a method of manufacturing a semiconductor device, comprising: a first supply part for supplying a substrate; A second supply part supplying a mask so that the mask is positioned on at least a part of a conveyance path of the substrate of the first supply part, the conveyance path of the mask forming a closed curve; And a light source arranged to irradiate light to the substrate side through the mask.

또한, 본 발명의 또 다른 측면에 따르면, 기재를 공급하기 위한 복수 개의 제1 롤을 포함하는 제1 공급부; 제1 공급부의 기재의 이송 경로 상 적어도 일부 구간에서 기재 상에 위치되도록 마스크를 공급하기 위한 복수 개의 제2 롤을 포함하며, 복수 개의 제2 롤은 마스크의 이송 경로가 폐곡선을 형성하도록 배열된 제2 공급부; 및 마스크를 통과하여 기재 측으로 광을 조사하도록 마련되고, 인접하는 2개의 제1 롤 사이의 기재 영역 상에 위치된 광원을 포함하는 패턴 성형 장치가 제공된다.According to still another aspect of the present invention, there is provided a film forming apparatus comprising: a first supply unit including a plurality of first rolls for supplying a substrate; And a plurality of second rolls for feeding the mask so as to be positioned on the substrate in at least a part of the conveyance path of the substrate of the first supply part, 2 supply; And a light source that is provided to irradiate light to the substrate side through the mask and located on the base region between the adjacent two first rolls.

또한, 본 발명의 또 다른 측면에 따르면, 기재를 공급하기 위한 제1 롤을 포함하는 제1 공급부; 제1 롤에 접촉된 기재 상에 위치되도록 마스크를 공급하기 위한 복수 개의 제2 롤을 포함하며, 복수 개의 제2 롤은 마스크의 이송 경로가 폐곡선을 형성하도록 배열된 제2 공급부; 및 마스크를 통과하여, 제1 롤에 접촉된 기재 측으로 광을 조사하도록 마련된 광원을 포함하는 패턴 성형 장치가 제공된다.According to still another aspect of the present invention, there is provided a film forming apparatus comprising: a first supply section including a first roll for supplying a substrate; A plurality of second rolls for feeding a mask to be positioned on a substrate contacted with a first roll, wherein the plurality of second rolls have a second supply part arranged so that the transport path of the mask forms a closed curve; And a light source which is provided to pass through the mask and irradiate light toward the substrate side which is in contact with the first roll.

이상에서 살펴본 바와 같이, 본 발명의 적어도 일 실시예와 관련된 패턴 성형 장치는 다음과 같은 효과를 갖는다.As described above, the pattern forming apparatus according to at least one embodiment of the present invention has the following effects.

마스크의 이송경로가 폐곡선을 그리며, 마스크가 적층체 상에 연속적으로 공급되며, 이에 따라 연속적인 패턴 성형이 가능한다.The transfer path of the mask draws a closed curve, and the mask is continuously supplied on the laminate, thereby enabling continuous pattern formation.

또한, 노광 시 마스크 측에서 기재 측으로 광 조사가 이루어질 수 있다. Further, light irradiation can be performed from the mask side to the substrate side during exposure.

또한, 패턴 성형 장치는 포토리소그라피(Photolithography) 및 임프린트 리소그라피(Imprint Lithography)가 모두 적용 가능하다.In addition, the pattern forming apparatus can be applied to both photolithography and imprint lithography.

도 1은 종래 패턴 성형 장치를 나타내는 개략도이다.
도 2는 본 발명의 제1 실시예와 관련된 패턴 성형 장치를 나타내는 개략도이다.
도 3은 본 발명의 제2 실시예와 관련된 패턴 성형 장치를 나타내는 개략도이다.
도 4 내지 도 6은 본 발명과 관련된 패턴 성형 장치를 이용한 패턴 성형 방법을 설명하기 위한 개략도들이다.1 is a schematic view showing a conventional pattern forming apparatus.
2 is a schematic view showing a pattern forming apparatus according to a first embodiment of the present invention.
3 is a schematic view showing a pattern forming apparatus according to a second embodiment of the present invention.
4 to 6 are schematic views for explaining a pattern forming method using the pattern forming apparatus related to the present invention.

이하, 본 발명의 일 실시예에 따른 패턴 성형 장치를 첨부된 도면을 참고하여 상세히 설명한다.Hereinafter, a pattern forming apparatus according to an embodiment of the present invention will be described in detail with reference to the accompanying drawings.

또한, 도면 부호에 관계없이 동일하거나 대응되는 구성요소는 동일 또는 유사한 참조번호를 부여하고 이에 대한 중복 설명은 생략하기로 하며, 설명의 편의를 위하여 도시된 각 구성 부재의 크기 및 형상은 과장되거나 축소될 수 있다.In addition, the same or corresponding reference numerals are given to the same or corresponding reference numerals regardless of the reference numerals, and redundant description thereof will be omitted. For convenience of explanation, the size and shape of each constituent member shown in the drawings are exaggerated or reduced .

도 2는 본 발명의 제1 실시예와 관련된 패턴 성형 장치(100)를 나타내는 개략도이다.2 is a schematic view showing the pattern forming apparatus 100 related to the first embodiment of the present invention.

도 3를 참조하면, 상기 패턴 성형 장치(100)는 제1 공급부(110), 제2 공급부(120) 및 광원(130)을 포함한다.Referring to FIG. 3, the pattern forming apparatus 100 includes a first supply unit 110, a second supply unit 120, and a light source 130.

또한, 패턴 성형 장치(100)는 기재(113) 상에 자외선 경화성 수지(414, '감광성 수지층'이라고도 함)를 도포하기 위한 코팅부(140)를 추가로 포함한다. 상기 코팅부(140)는 후술할 노광이 이루어지는 구간(제1 롤)의 상류 측에 배치된다.The pattern forming apparatus 100 further includes a coating section 140 for applying an ultraviolet curable resin 414 (also referred to as a " photosensitive resin layer ") on the substrate 113. The coating portion 140 is disposed on the upstream side of the section (first roll) where exposure is to be described later.

구체적으로, 상기 패턴 형성 장치(100)는 기재(113)를 공급하기 위한 제1 공급부(110), 제1 공급부(110)의 기재(113)의 이송 경로 상 적어도 일부 구간에서 기재(113) 상에 위치되도록 마스크(M)를 공급하며, 마스크(M)의 이송 경로가 폐곡선을 형성하는 제2 공급부(120) 및 마스크(M)를 통과하여 기재(141) 측으로 광을 조사하도록 마련된 광원(130)을 포함한다.Specifically, the pattern forming apparatus 100 includes a first supply unit 110 for supplying a substrate 113, a first supply unit 110 for supplying a substrate 113 on at least a part of a conveyance path of the substrate 113 of the first supply unit 110, A second supply part 120 for forming a closed curve of the mask M and a light source 130 for irradiating light to the substrate 141 side through the mask M, ).

제1 공급부(110)는 기재(113)를 공급하기 위한 하나 이상의 제1 롤(111)을 포함한다. 상기 기재(113)는 제1 롤(111)에 의해 이송되는 과정에서 구부러질 수 있는 유연한 수지 재질로서, 예를 들어, 폴리에틸렌테레프탈레이트(PET) 또는 폴라카보네이트(PC) 필름일 수 있으나, 이에 제한되지 않는다.The first feeding part 110 includes at least one first roll 111 for feeding the substrate 113. [ The substrate 113 may be a flexible resin material that can be bent in the process of being transported by the first roll 111 and may be, for example, a polyethylene terephthalate (PET) film or a polycarbonate (PC) film. It does not.

또한, 제2 공급부(120)는 소정 간격으로 떨어져 배치된 복수 개의 제2 롤(121, 122, 123)을 포함한다. 이때, 마스크(M)는 각각의 제2 롤(121, 122, 123)에 적어도 일부 영역이 지지(권취)된다. 또한, 마스크(M)는 구부러질 수 있는 유연한 필름 마스크를 포함한다. 또한, 일예로, 마스크(300, 도 4참조)는 광투과부(O) 및 차광부(B)를 포함할 수 있다. 또한, 광투과부(O) 및 차광부(B)는 마스크(300)의 이송방향을 따라 차례로 마련될 수 있다. 또한, 마스크(300)는 함몰부를 가질 수 있고, 광투과부(O) 또는 차광부(B)가 함몰부로 형성될 수 있다. In addition, the second feeding part 120 includes a plurality of second rolls 121, 122 and 123 spaced apart at a predetermined interval. At this time, the mask M is at least partially supported (wound) on each of the second rolls 121, 122 and 123. Further, the mask M includes a flexible film mask that can be bent. Further, for example, the mask 300 (see FIG. 4) may include a light transmitting portion O and a light shielding portion B. The light transmitting portion O and the light shielding portion B may be sequentially provided along the conveying direction of the mask 300. [ Further, the mask 300 may have a depressed portion, and the light transmitting portion O or the light shielding portion B may be formed as a depressed portion.

또한, 제2 공급부(120)는 제1 롤(111)에 접촉된 기재(113) 상에 마스크(M)가 위치되도록, 마스크(M)를 공급하기 위한 복수 개의 제2 롤(121, 122, 123)을 포함한다. 이때, 복수 개의 제2 롤(121, 122, 123)은 마스크(M)의 이송 경로가 폐곡선을 형성하도록 배열된다.The second supply unit 120 includes a plurality of second rolls 121, 122, and 123 for supplying a mask M such that the mask M is positioned on the substrate 113 that is in contact with the first roll 111. [ 123). At this time, the plurality of second rolls 121, 122, 123 are arranged so that the conveyance path of the mask M forms a closed curve.

따라서, 상기 마스크(M)는 복수 개의 제2 롤(121, 122, 123)에 의해, 폐곡선의 이송경로를 따라 연속적으로 이송되고, 특히, 제1 롤(111)에 접촉된 기재(113) 측으로 연속적으로 공급된다. 이에 따라, 연속적인 노광, 즉 연속적으로 기재(113) 상에 소정 패턴을 형성하며, 패턴이 형성된 기판을 제조할 수 있다.Therefore, the mask M is continuously conveyed along the conveying path of the closed curve by the plurality of second rolls 121, 122 and 123, and particularly to the side of the substrate 113 which is in contact with the first roll 111 And is continuously supplied. Thus, a substrate on which a pattern is formed can be manufactured by successive exposure, that is, by forming a predetermined pattern on the substrate 113 continuously.

상기 패턴 성형 장치(100)는 기재(113)가 제1 롤(111)에 접촉된 구간에서 광원(130)에 의해 노광이 이루어지도록 마련된다. 즉, 상기 제1 롤(111)은 노광 시 백업(back-up) 롤로 기능한다. 또한, 노광이 이루어지는 구간에서, 기재(113) 및 마스크(M)는 각각 소정 곡률로 구부러진 곡면이다.The pattern forming apparatus 100 is provided such that exposure is performed by the light source 130 in a section where the substrate 113 is in contact with the first roll 111. That is, the first roll 111 functions as a back-up roll during exposure. Further, in the section where exposure is performed, the base material 113 and the mask M are curved surfaces each curved at a predetermined curvature.

도 2를 참조하면, 제1 롤(111)에 의해 공급된 기재(113) 상에는 코팅부(140)에 의해 자외선 경화성 수지가 도포된다. 상기 자외선 경화성 수지는 무용제 타입, 용제 타입 및 용제 유사 타입(DFR, TPE 등)을 포함할 수 있다. Referring to FIG. 2, ultraviolet ray hardening resin is coated on the base material 113 supplied by the first roll 111 by the coating portion 140. The ultraviolet ray curable resin may include a solventless type, a solvent type, and a solvent-like type (DFR, TPE, etc.).

또한, 코팅부(140)는 예를 들어, 캡 코팅(gap coating) 방식으로 구성될 수 있으며, 구체적으로, 투입부의 2개의 롤 사이의 갭(gap) 제어 및 닙(nip) 압력 제어를 통해 균일하게 수지를 코팅하도록 마련될 수 있으나, 이에 제한되지 않고, 코팅부(140)는 슬롯 다이 코팅, 바 코팅, 그라비아 코팅 등의 방식으로 구성될 수도 있다.The coating portion 140 may be formed, for example, by a gap coating method. Specifically, the coating portion 140 may be formed by uniformly controlling the gap between the two rolls of the charging portion and the nip pressure, However, the present invention is not limited thereto. The coating portion 140 may be formed by a slot die coating, a bar coating, a gravure coating, or the like.

본 문서에서, 기재(113) 상에 감광성 수지층(141)이 마련된 형태를 적층체라 지칭할 수 있다. 또한, 적층체는 기재(113)와 감광성 수지층(141)과 기재(113) 사이에 마련된 전극층(예를 들어, ITO 전극층)을 추가로 포함할 수 있다.In this document, a form in which the photosensitive resin layer 141 is provided on the base material 113 can be referred to as a laminate. The stacked body may further include an electrode layer (for example, an ITO electrode layer) provided between the substrate 113 and the photosensitive resin layer 141 and the substrate 113.

상기 광원(130)은 마스크(M)를 통과하여, 제1 롤(111)에 접촉된 기재(113) 측으로 광을 조사하도록 마련된다. 상기 광원(130)은 노광 시 사용 가능한 광원으로서, UV 광원으로서, 저온 공정이 가능한 LED 광원이 바람직할 수 있으나, 이에 제한되지 않고, 무전극(electrodeless) 광원, 아크(arc) 광원 등이 사용될 수 있다. 또한, 광원(130)은 복수 개의 제2 롤에 의해 이송되는 마스크의 이송 경로로 형성되는 공간 내에 위치할 수 있다.The light source 130 is provided to pass light through the mask M and to irradiate light toward the substrate 113 which is in contact with the first roll 111. [ The light source 130 may be a light source that can be used in exposure. An LED light source that can perform a low temperature process is preferable as the UV light source, but an electrodeless light source, an arc light source, have. Further, the light source 130 may be located in a space formed by the conveyance path of the mask conveyed by the plurality of second rolls.

또한, 상기 패턴 성형 장치(100)는 제2 공급부(120)에서 이송 중인 마스크(M)를 세정하기 위한 세정부(150)를 추가로 포함할 수 있다. 상기 세정부(150)는 세정 필름(151), 세정 필름(151)을 이송하기 위한 복수 개의 롤(155) 및 세정 필름(151)을 통과하여 마스크(M) 측으로 광을 공급하기 위한 광원(153)(예를 들어, UV 광원)을 포함할 수 있다. 상기 롤(155)을 통해 상기 마스크(M) 상에 세정 필름(151)을 중첩시키고, 광원(153)에서 광을 조사함에 따라, 마스크(M)를 세정할 수 있다.The pattern forming apparatus 100 may further include a cleaning unit 150 for cleaning the mask M being transferred from the second supply unit 120. [ The cleaning section 150 includes a cleaning film 151 and a plurality of rolls 155 for transporting the cleaning film 151 and a light source 153 for supplying light to the mask M side through the cleaning film 151 ) (E.g., a UV light source). The cleaning film 151 may be superimposed on the mask M through the roll 155 and the mask M may be cleaned by irradiating light from the light source 153. [

또한, 상기 패턴 성형 장치(100)는 제2 공급부(120)를 통해 이송되는 마스크(M)에 가해지는 장력을 조절하기 위한 장력 조절부(160)를 추가로 포함할 수 있다. 상기 장력 조절부(160)는 마스크(M)의 이송 경로 상에 배열된 하나 이상의 텐션 롤(161, 162)을 포함할 수 있다. 예를 들어, 상기 텐션 롤(161, 162)을 소정 방향으로 이동시킴에 따라, 장력을 조절할 수 있다. 또한, 복수 개의 텐션 롤(161, 162)은 독립적으로 구동 가능하게 마련될 수 있다.The pattern forming apparatus 100 may further include a tension adjusting unit 160 for adjusting a tension applied to the mask M transferred through the second supplying unit 120. [ The tension adjuster 160 may include one or more tension rolls 161 and 162 arranged on the transfer path of the mask M. [ For example, by moving the tension rolls 161 and 162 in a predetermined direction, the tension can be adjusted. In addition, the plurality of tension rolls 161 and 162 can be independently driven.

도 3은 본 발명의 제2 실시예와 관련된 패턴 성형 장치(200)를 나타내는 개략도이다.3 is a schematic view showing the pattern forming apparatus 200 related to the second embodiment of the present invention.

도 3을 참조하면, 상기 패턴 성형 장치(200)는 제1 공급부(210), 제2 공브부(220) 및 광원(230)을 포함한다.3, the pattern forming apparatus 200 includes a first supply part 210, a second support part 220, and a light source 230.

구체적으로, 제1 공급부(210)는 기재(213)를 공급하기 위한 복수 개의 제1 롤(211)을 포함한다.Specifically, the first supply part 210 includes a plurality of first rolls 211 for feeding the substrate 213. [

제2 공급부(220)는 제1 공급부(210)의 기재(213)의 이송 경로 상 적어도 일부 구간에서 기재(213) 상에 위치되도록 마스크(M)를 공급하기 위한 복수 개의 제2 롤(221)을 포함한다. 이때, 복수 개의 제2 롤(221)은 마스크(M)의 이송 경로가 폐곡선을 형성하도록 배열된다. The second supply unit 220 includes a plurality of second rolls 221 for supplying the mask M so as to be positioned on the substrate 213 in at least a part of the conveyance path of the substrate 213 of the first supply unit 210, . At this time, the plurality of second rolls 221 are arranged so that the conveying path of the mask M forms a closed curve.

또한, 광원(230)은 마스크(M)를 통과하여 기재(213) 측으로 광을 조사하도록 마련된다. 또한, 광원(230)은 인접하는 2개의 제1 롤(211) 사이의 기재(213) 영역과 중첩되는 마스크 영역 상에 위치된다.Further, the light source 230 is provided to pass the mask M and irradiate light toward the substrate 213 side. Further, the light source 230 is positioned on the mask area overlapping the substrate 213 area between two adjacent first rolls 211.

제2 실시예의 패턴 성형 장치(200)는 제1 공급부(210)의 구성에서만 제1 실시예의 패턴 성형 장치(100)와 차이를 갖는다.The pattern forming apparatus 200 of the second embodiment is different from the pattern forming apparatus 100 of the first embodiment only in the constitution of the first supplying section 210. [

즉, 제2 실시예에서, 제1 공급부(210)는 소정 간격으로 떨어져 배열된 복수 개의 제1 롤(211)을 포함하고, 인접하는 제1 롤(211) 사이의 기재 영역 상에 노광을 위한 광원(230)이 위치한다. 이때, 노광이 이루어지는 기재(213) 상의 영역은, 인접하는 제1 롤(211) 사이에 위치한 영역이다. 즉, 노광 시, 기재(213) 및 마스크(M)는 실질적으로 각각 평탄면으로 배열된다.That is, in the second embodiment, the first supply unit 210 includes a plurality of first rolls 211 arranged at a predetermined interval, and a plurality of first rolls 211 arranged on the substrate area between the adjacent first rolls 211, The light source 230 is located. At this time, the area on the base material 213 on which exposure is performed is an area located between adjacent first rolls 211. That is, at the time of exposure, the substrate 213 and the mask M are arranged substantially in a flat plane, respectively.

또한, 패턴 성형 장치(200)는 기재(213) 상에 자외선 경화성 수지(241, '감광성 수지층'이라고도 함)를 도포하기 위한 코팅부(240)를 추가로 포함한다. 또한, 상기 코팅부(240)는 광원(230)에 의해 노광이 이루어지는 구간의 상류 측에 배치된다.The pattern forming apparatus 200 further includes a coating portion 240 for applying an ultraviolet curing resin 241 (also referred to as a photosensitive resin layer) on the base material 213. Further, the coating unit 240 is disposed on the upstream side of the section where exposure is performed by the light source 230.

또한, 제2 공급부(220)는 소정 간격으로 떨어져 배치된 복수 개의 제2 롤(221)을 포함한다. 이때, 마스크(M)는 각각의 제2 롤(121, 122, 123)에 적어도 일부 영역이 지지(권취)된다. 또한, 마스크(M)는 구부러질 수 있는 유연한 필름 마스크를 포함한다. 또한, 일예로, 마스크(300, 도 4참조)는 광투과부(O) 및 차광부(B)를 포함할 수 있고, 광투과부(O) 및 차광부(B)는 마스크(300)의 이송방향을 따라 차례로 교번하여 마련될 수 있다. 또한, 마스크(300)는 광투과부(O) 및/또는 차광부(B)가 함몰부로 형성될 수 있다. The second supply unit 220 includes a plurality of second rolls 221 spaced apart at a predetermined interval. At this time, the mask M is at least partially supported (wound) on each of the second rolls 121, 122 and 123. Further, the mask M includes a flexible film mask that can be bent. 4) may include a light transmitting portion O and a light shielding portion B, and the light transmitting portion O and the light shielding portion B may include a light transmitting portion O and a light shielding portion B, As shown in FIG. In addition, the mask 300 may be formed as a depression in the light transmitting portion O and / or the light shielding portion B.

또한, 제2 공급부(120)는 제1 롤(111)에 접촉된 기재(113) 상에 마스크(M)가 위치되도록, 마스크(M)를 공급하기 위한 복수 개의 제2 롤(121, 122, 123)을 포함한다. 이때, 복수 개의 제2 롤(121, 122, 123)은 마스크(M)의 이송 경로가 폐곡선을 형성하도록 배열된다.The second supply unit 120 includes a plurality of second rolls 121, 122, and 123 for supplying a mask M such that the mask M is positioned on the substrate 113 that is in contact with the first roll 111. [ 123). At this time, the plurality of second rolls 121, 122, 123 are arranged so that the conveyance path of the mask M forms a closed curve.

따라서, 상기 마스크(M)는 복수 개의 제2 롤(221)에 의해, 폐곡선의 이송경로를 따라 연속적으로 이송되고, 특히, 인접하는 2개의 제1 롤(211) 사이에 위치한 기재(213) 측으로 연속적으로 공급된다.Therefore, the mask M is continuously conveyed along the conveying path of the closed curve by the plurality of second rolls 221, and particularly to the side of the substrate 213 located between the adjacent two first rolls 211 And is continuously supplied.

상기 패턴 성형 장치(200)는 기재(213)가 제1 롤(211)에 접촉되지 않은 구간에서 광원(230)에 의해 노광이 이루어지도록 마련된다. 즉, 제2 실시예에서, 상기 제1 롤(211)은 노광 시 백업(back-up) 롤로 기능하지 않는다.The pattern forming apparatus 200 is provided such that exposure is performed by the light source 230 in a section where the substrate 213 is not in contact with the first roll 211. [ That is, in the second embodiment, the first roll 211 does not function as a back-up roll during exposure.

또한, 상기 패턴 성형 장치(200)는 제2 공급부(220)에서 이송 중인 마스크(M)를 세정하기 위한 세정부(250)를 추가로 포함할 수 있다. 상기 세정부(250)는 세정 필름(251), 세정 필름(251)을 이송하기 위한 복수 개의 롤(255) 및 세정 필름(251)을 통과하여 마스크(M) 측으로 광을 공급하기 위한 광원(253)(예를 들어, UV 광원)을 포함할 수 있다. 상기 롤(255)을 통해 상기 마스크(M) 상에 세정 필름(251)을 중첩시키고, 광원(253)에서 광을 조사함에 따라, 마스크(M)를 세정할 수 있다.The pattern forming apparatus 200 may further include a cleaning unit 250 for cleaning the mask M being transferred from the second supply unit 220. [ The cleaning part 250 includes a cleaning film 251 and a plurality of rolls 255 for transporting the cleaning film 251 and a light source 253 for supplying light to the mask M side through the cleaning film 251 ) (E.g., a UV light source). The cleaning film 251 is superimposed on the mask M through the roll 255 and the mask M is cleaned by irradiating the light from the light source 253.

또한, 상기 패턴 성형 장치(200)는 제2 공급부(220)를 통해 이송되는 마스크(M)에 가해지는 장력을 조절하기 위한 장력 조절부(도시되지 않음)를 추가로 포함할 수 있다. 장력 조절부는 도 2를 통해 설명한 제1 실시예에서와 동일하게 구성될 수 있다.The pattern forming apparatus 200 may further include a tension adjusting unit (not shown) for adjusting a tension applied to the mask M transferred through the second supplying unit 220. The tension adjusting unit may be configured in the same manner as in the first embodiment described with reference to FIG.

도 4 내지 도 6은 본 발명과 관련된 패턴 성형 장치를 이용한 패턴 성형 방법을 설명하기 위한 개략도들이다.4 to 6 are schematic views for explaining a pattern forming method using the pattern forming apparatus related to the present invention.

도 4를 참조하면, 적층체는 기재(113), 전극층(115, 예를 들어, ITO 전극층) 및 감광성 수지층(141)을 포함할 수 있다. 4, the laminate may include a substrate 113, an electrode layer 115 (for example, an ITO electrode layer), and a photosensitive resin layer 141.

또한, 마스크(300)는 광투과부(O) 및 차광부(B)를 포함할 수 있고, 광투과부(O) 및 차광부(B)는 마스크(300)의 이송방향을 따라 차례로 교번하여 마련될 수 있다. 또한, 마스크(300)는 광투과부(O)가 함몰부(예를 들어, 반구형)로 형성될 수 있다. 마스크(300)는 광투광성 기재(310), 기재(310) 상에 마련된 차광막(320) 및 이형층(330)을 포함할 수 있다.The mask 300 may include a light transmitting portion O and a light shielding portion B and the light transmitting portion O and the light shielding portion B may be alternately arranged along the conveying direction of the mask 300 . Further, the mask 300 may be formed with a light transmitting portion O with a depression (e.g., hemispherical). The mask 300 may include a light-transmitting substrate 310, a light-shielding film 320 provided on the substrate 310, and a release layer 330.

상기 마스크(300)를 제2 공급부를 통해 이송시키면서, 광원이 위치한 노광 구간에서, 자외선 등을 조사하여 경화시키면, 스페이서(CS)를 형성할 수 있다. When the mask 300 is transported through the second supply unit, the spacers CS can be formed by irradiating ultraviolet light or the like in an exposure section in which the light source is located.

도 5를 참조하면, 적층체는 기재(113), 전극층(115, 예를 들어, ITO 전극층) 및 감광성 수지층(141)을 포함할 수 있다. 5, the laminate may include a substrate 113, an electrode layer 115 (for example, an ITO electrode layer), and a photosensitive resin layer 141.

또한, 마스크(400)는 광투과부(O) 및 차광부(B)를 포함할 수 있고, 광투과부(O) 및 차광부(B)는 마스크(300)의 이송방향을 따라 차례로 교번하여 마련될 수 있다. 마스크(400)는 광투광성 기재(410), 기재(410) 상에 마련된 차광막(420) 및 이형층(430)을 포함할 수 있다.The mask 400 may include a light transmitting portion O and a light shielding portion B and the light transmitting portion O and the light shielding portion B may be alternately arranged along the conveying direction of the mask 300 . The mask 400 may include a light-transmitting substrate 410, a light-shielding film 420 provided on the substrate 410, and a release layer 430.

상기 마스크(400)를 제2 공급부를 통해 이송시키면서, 광원이 위치한 노광 구간에서, 자외선 등을 조사하여 경화시키면, 패턴(P)을 형성할 수 있다. When the mask 400 is transferred through the second supply unit, the pattern P can be formed by irradiating ultraviolet light or the like in an exposure section where the light source is located.

도 6을 참조하면, 적층체는 기재(113), 및 감광성 수지층(141)을 포함할 수 있다. Referring to Fig. 6, the laminate may include a substrate 113, and a photosensitive resin layer 141. Fig.

또한, 마스크(500)는 광투광성 기재(510), 및 기재(510) 상에 마련된 이형층(530)을 포함할 수 있다. 상기 마스크(500)는 광투과부 및 함몰부를 가질 수 있다.The mask 500 may also include a light transmitting substrate 510 and a release layer 530 provided on the substrate 510. [ The mask 500 may have a light transmitting portion and a depression.

상기 마스크(500)를 제2 공급부를 통해 이송시키면서, 광원이 위치한 노광 구간에서, 자외선 등을 조사하여 경화시키면, 임프린트된 수지층(IR)을 형성할 수 있다. The imprinted resin layer IR can be formed by irradiating ultraviolet light or the like in the exposure section in which the mask 500 is transferred through the second supply section and curing the exposed section.

위에서 설명된 본 발명의 바람직한 실시예는 예시의 목적을 위해 개시된 것이고, 본 발명에 대한 통상의 지식을 가지는 당업자라면 본 발명의 사상과 범위 안에서 다양한 수정, 변경, 부가가 가능할 것이며, 이러한 수정, 변경 및 부가는 하기의 특허청구범위에 속하는 것으로 보아야 할 것이다.The foregoing description of the preferred embodiments of the present invention has been presented for purposes of illustration and various modifications, additions and substitutions are possible, without departing from the scope and spirit of the invention, And additions should be considered as falling within the scope of the following claims.

100: 패턴 성형 장치
110: 제1 공급부
120: 제2 공급부
130: 광원
140: 코팅부
150: 세정부
160: 장력 조절부100: Pattern forming device
110:
120:
130: Light source
140: Coating portion
150: Three governments
160:

Claims (18)

기재를 공급하기 위한 제1 공급부;
제1 공급부의 기재의 이송 경로 상 적어도 일부 구간에서 기재 상에 위치되도록 마스크를 공급하며, 마스크의 이송 경로가 폐곡선을 형성하는 제2 공급부; 및
마스크를 통과하여 기재 측으로 광을 조사하도록 마련된 광원을 포함하는 패턴 성형 장치.A first supply for supplying a substrate;
A second supply part supplying a mask so that the mask is positioned on at least a part of a conveyance path of the substrate of the first supply part, the conveyance path of the mask forming a closed curve; And
And a light source arranged to irradiate light to the substrate side through the mask. 제 1 항에 있어서,
제2 공급부는 소정 간격으로 떨어져 배치된 복수 개의 제2 롤을 포함하며,
마스크는 각각의 제2 롤에 적어도 일부 영역이 지지된 패턴 성형 장치.The method according to claim 1,
The second feed portion includes a plurality of second rolls spaced apart at a predetermined interval,
Wherein the mask is supported at least in some areas on each second roll. 제 2 항에 있어서,
광원은 복수 개의 제2 롤에 의해 이송되는 마스크의 이송 경로로 형성되는 공간 내에 위치하는 패턴 성형 장치.3. The method of claim 2,
Wherein the light source is located in a space formed by the conveyance path of the mask conveyed by the plurality of second rolls. 제 1 항에 있어서,
제1 공급부는 기재를 이송하기 위한 하나 이상의 제1 롤을 포함하는 패턴 성형 장치.The method according to claim 1,
Wherein the first feeding portion includes at least one first roll for transporting the substrate. 제 4 항에 있어서,
기재가 제1 롤에 접촉된 구간에서 광원에 의해 노광이 이루어지도록 마련된 패턴 성형 장치.5. The method of claim 4,
Wherein a pattern is formed so that exposure is performed by a light source in a section where the substrate is in contact with the first roll. 제 5 항에 있어서,
노광이 이루어지는 구간에서, 기재 및 마스크는 각각 소정 곡률로 구부러진 곡면인 패턴 성형 장치.6. The method of claim 5,
Wherein the substrate and the mask are curved surfaces each curved at a predetermined curvature in a section where exposure is performed. 제 4 항에 있어서,
제1 공급부는 소정 간격으로 떨어져 배열된 복수 개의 제1 롤을 포함하고,
인접하는 제1 롤 사이의 기재 영역과 중첩되는 마스크 영역 상에 노광을 위한 광원이 위치하는 패턴 성형 장치.5. The method of claim 4,
The first supply part includes a plurality of first rolls arranged at predetermined intervals,
And a light source for exposure is located on a mask area overlapping with a substrate area between adjacent first rolls. 제 1 항에 있어서,
기재 상에 자외선 경화성 수지를 도포하기 위한 코팅부를 추가로 포함하는 패턴 성형 장치.The method according to claim 1,
Further comprising a coating portion for applying an ultraviolet curing resin on the substrate. 제 1 항에 있어서,
마스크는 유연한 필름 마스크를 포함하는 패턴 성형 장치.The method according to claim 1,
Wherein the mask comprises a flexible film mask. 제 9 항에 있어서,
마스크는 광투과부 및 함몰부를 포함하는 패턴 성형 장치.10. The method of claim 9,
Wherein the mask comprises a light transmission portion and a depression. 제 9 항에 있어서,
마스크는 광투과부 및 차광부를 포함하는 패턴 성형 장치.10. The method of claim 9,
Wherein the mask comprises a light transmitting portion and a light shielding portion. 제 11 항에 있어서,
마스크는 함몰부를 갖는 패턴 성형 장치.12. The method of claim 11,
Wherein the mask has depressions. 제 1 항에 있어서,
제2 공급부에서 이송 중인 마스크를 세정하기 위한 세정부를 추가로 포함하는 패턴 성형 장치.The method according to claim 1,
And a cleaning section for cleaning the mask being transferred from the second supply section. 제 1 항에 있어서,
제2 공급부를 통해 이송되는 마스크에 가해지는 장력을 조절하기 위한 장력 조절부를 추가로 포함하는 패턴 성형 장치.The method according to claim 1,
And a tension adjusting unit for adjusting a tension applied to the mask transferred through the second supply unit. 기재를 공급하기 위한 복수 개의 제1 롤을 포함하는 제1 공급부;
제1 공급부의 기재의 이송 경로 상 적어도 일부 구간에서 기재 상에 위치되도록 마스크를 공급하기 위한 복수 개의 제2 롤을 포함하며, 복수 개의 제2 롤은 마스크의 이송 경로가 폐곡선을 형성하도록 배열된 제2 공급부; 및
마스크를 통과하여 기재 측으로 광을 조사하도록 마련되고, 인접하는 2개의 제1 롤 사이의 기재 영역 상에 위치된 광원을 포함하는 패턴 성형 장치.A first supply unit including a plurality of first rolls for supplying a substrate;
And a plurality of second rolls for feeding the mask so as to be positioned on the substrate in at least a part of the conveyance path of the substrate of the first supply part, 2 supply; And
And a light source that is provided to irradiate light to the substrate side through the mask and located on the base region between the two adjacent first rolls. 제 15 항에 있어서,
마스크는 광투과부 및 차광부를 포함하는 패턴 성형 장치.16. The method of claim 15,
Wherein the mask comprises a light transmitting portion and a light shielding portion. 기재를 공급하기 위한 제1 롤을 포함하는 제1 공급부;
제1 롤에 접촉된 기재 상에 위치되도록 마스크를 공급하기 위한 복수 개의 제2 롤을 포함하며, 복수 개의 제2 롤은 마스크의 이송 경로가 폐곡선을 형성하도록 배열된 제2 공급부; 및
마스크를 통과하여, 제1 롤에 접촉된 기재 측으로 광을 조사하도록 마련된 광원을 포함하는 패턴 성형 장치.A first supply comprising a first roll for supplying a substrate;
A plurality of second rolls for feeding a mask to be positioned on a substrate contacted with a first roll, wherein the plurality of second rolls have a second supply part arranged so that the transport path of the mask forms a closed curve; And
And a light source that is provided to pass light through the mask and to irradiate light toward the substrate side that is in contact with the first roll. 제 17 항에 있어서,
마스크는 광투과부 및 차광부를 포함하는 패턴 성형 장치.
18. The method of claim 17,
Wherein the mask comprises a light transmitting portion and a light shielding portion.
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