KR20190069071A - Water purification system - Google Patents

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KR20190069071A
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유원대
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유원대
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    • B01—PHYSICAL OR CHEMICAL PROCESSES OR APPARATUS IN GENERAL
    • B01D—SEPARATION
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    • B01D35/02—Filters adapted for location in special places, e.g. pipe-lines, pumps, stop-cocks
    • F—MECHANICAL ENGINEERING; LIGHTING; HEATING; WEAPONS; BLASTING
    • F16—ENGINEERING ELEMENTS AND UNITS; GENERAL MEASURES FOR PRODUCING AND MAINTAINING EFFECTIVE FUNCTIONING OF MACHINES OR INSTALLATIONS; THERMAL INSULATION IN GENERAL
    • F16L—PIPES; JOINTS OR FITTINGS FOR PIPES; SUPPORTS FOR PIPES, CABLES OR PROTECTIVE TUBING; MEANS FOR THERMAL INSULATION IN GENERAL
    • F16L55/00—Devices or appurtenances for use in, or in connection with, pipes or pipe systems
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Abstract

The present invention relates to a water treatment system installed in a water pipe system, which comprises: a circulation pump providing pressure for flowing water supplied from a portable water pipe; a supply pipe guiding the water from a discharge end of the circulation pump to a user space; and a recovery pipe for guiding the water from the user space to an inlet end of the circulation pump. The water treatment system according to one embodiment comprises: a first bypass pipe branched from the supply pipe; a water treatment device receiving the water from the first bypass pipe and filtering the water at a pressure of the circulation pump; and a second bypass for transporting the water filtered from the water treatment device to the recovery pipe.

Description

수처리 시스템{WATER PURIFICATION SYSTEM}[0001] WATER PURIFICATION SYSTEM [0002]

아래의 설명은 수처리 시스템에 관한 것이다.The following description relates to a water treatment system.

수처리 시스템은, 수배관 시스템에서 유동하는 물의 살균, 이물질 제거, 화학적 처리 등을 통해 물을 정화하여 배관의 부식 및 열 교환기의 열 교환 효율의 감소를 방지할 수 있다.The water treatment system can purify water through sterilization of water flowing in the water piping system, removal of foreign matter, chemical treatment, etc. to prevent corrosion of piping and decrease of heat exchange efficiency of heat exchanger.

이물질을 제거하기 위해 여과식 수처리기가 사용되는데, 여과식 수처리기를 동작시키기 위해서 유입되는 물에 압력을 수처리기에 인가시켜야 하기 때문에, 별도의 순환 펌프를 구비하는 것이 일반적이었다.In order to remove foreign matter, a filtration water treatment device is used. In order to operate the filtration water treatment device, it is common to provide a separate circulation pump because pressure must be applied to the water treatment device.

하지만, 별도로 수처리기를 위한 순환 펌프를 구비하는 것은 비용 및 전력 사용 측면에서 부담이 되어 왔다.However, the provision of a circulation pump separately for the water processor has become a burden in terms of cost and power use.

한편, 크기가 큰 이물질의 경우, 일반적으로 스트레이너를 통해서 제거가 가능하지만, 크기가 매우 작은 미세 이물질의 경우, 스트레이너나 일반적인 수처리기만으로 제거되지 않는다.On the other hand, in the case of large foreign matters, it is generally possible to remove them through the strainer, but in the case of microscopic foreign matter having a very small size, it can not be removed only by a strainer or a general water processor.

특히, 미세 이물질이 수배관 시스템 내에 설치되는 열 교환기 내부에 침전되어 열 교환 효율이 저하될 수 있고, 주기적으로 열 교환기를 세척해야 하는 문제점을 야기하였으며, 또한 미세 이물질은 미세 조절이 필요한 밸브류나 센서류의 오작동을 유발할 수 있다.Particularly, the fine foreign substances are precipitated in the heat exchanger installed in the water piping system, and the heat exchange efficiency may be lowered, and the heat exchanger needs to be cleaned periodically. Further, May cause malfunction of the battery.

따라서, 미세 이물질을 제거할 수 있는 수처리기를 구비하되 비용 및 전력 사용 측면에서 부담이 없는 수처리기의 개발이 필요한 실정이다.Accordingly, there is a need to develop a water treatment apparatus which is provided with a water treatment device capable of removing fine foreign substances, but which is not burdensome in terms of cost and power use.

전술한 배경기술은 발명자가 본 발명의 도출과정에서 보유하거나 습득한 것으로서, 반드시 본 발명의 출원 전에 일반 공중에 공개된 공지기술이라고 할 수는 없다.The background art described above is possessed or acquired by the inventor in the derivation process of the present invention, and can not be said to be a known art disclosed in general public before application of the present invention.

일 실시 예의 목적은 수처리 시스템을 제공하는 것이다.An object of one embodiment is to provide a water treatment system.

시수관으로부터 공급받은 물을 유동시키기 위한 압력을 제공하는 순환 펌프, 상기 순환 펌프의 토출단으로부터 사용자 공간으로 물을 안내하는 공급 배관, 및 상기 사용자 공간으로부터 상기 순환 펌프의 유입단으로 물을 안내하는 회수 배관을 포함하는 수배관 시스템에 설치되는 수처리 시스템에 있어서, 일 실시 예에 따른 수처리 시스템은 상기 공급 배관에서 분지되는 제 1 바이패스 배관; 상기 제 1 바이패스 배관으로부터 물을 유입 받고, 상기 순환 펌프의 압력으로 물을 여과하는 수처리기; 및 상기 수처리기로부터 여과된 물을 상기 회수 배관으로 수송하는 제 2 바이패스 배관을 포함할 수 있다.A circulation pump for providing a pressure for flowing the water supplied from the water pipe, a supply pipe for guiding water from the discharge end of the circulation pump to the user space, and a water pipe for guiding water from the user space to the inlet end of the circulation pump In a water treatment system installed in a water piping system including a recovery pipe, a water treatment system according to an embodiment includes a first bypass pipe branched from the supply pipe; A water processor that receives water from the first bypass pipe and filters water by pressure of the circulation pump; And a second bypass pipe for transporting the filtered water from the water treatment device to the recovery pipe.

일 실시 예에 따른 수처리 시스템은 압력 펌프를 구비하지 않을 수 있다.The water treatment system according to one embodiment may not have a pressure pump.

상기 제 1 바이패스 배관의 직경은 상기 공급 배관의 직경의 1/20 내지 1/5이고, 상기 제 2 바이패스 배관의 직경은 상기 회수 배관의 직경의 1/20 내지 1/5일 수 있다.The diameter of the first bypass pipe may be 1/20 to 1/5 of the diameter of the supply pipe, and the diameter of the second bypass pipe may be 1/20 to 1/5 of the diameter of the return pipe.

상기 수처리기는 유입된 물의 이물질을 여과하는 여과 필터; 상기 여과 필터의 상측에 배치되고, 상기 제 1 바이패스 배관에 연결되는 정세 유입단; 및 상기 여과 필터의 하측에 배치되고, 상기 제 2 바이패스 배관에 연결되는 정세 토출단을 포함할 수 있다.The water processor includes a filtration filter for filtering foreign substances of the introduced water; A flow inlet disposed at an upper side of the filtration filter and connected to the first bypass pipe; And a state discharge outlet connected to the second bypass pipe, the discharge pipe being disposed below the filtration filter.

상기 수처리기는, 상기 여과 필터의 하측에 배치되고 상기 시수관에 연결되는 역세 유입단; 및 상기 여과 필터의 상측에 배치되고 외부로 물을 토출하는 배수관에 연결되는 역세 토출단을 더 포함할 수 있고, 상기 시수관의 시수 압력으로 상기 역세 유입단에 유입되는 물을 통해 상기 여과 필터의 상부에 쌓인 이물질이 상기 역세 토출단을 통해 배출될 수 있다.Wherein the water processor comprises: a backwash inflow end disposed below the filtration filter and connected to the water pipe; And a backwash discharge end disposed on the upper side of the filtration filter and connected to a drain pipe discharging water to the outside of the filtration filter, The foreign matter accumulated on the upper part can be discharged through the backwash discharge end.

상기 수처리 시스템을 제어하고, 상기 수처리기를 정세 모드 또는 역세 모드로 동작시킬 수 있는 제어부를 더 포함할 수 있고, 상기 수처리기는, 상기 정세 유입단에 설치되고, 상기 제 1 바이패스 배관을 차단할 수 있는 제 1 밸브; 상기 정세 토출단에 설치되고, 상기 제 2 바이패스 배관을 차단할 수 있는 제 2 밸브; 상기 역세 유입단에 설치되고, 상기 시수관으로부터 상기 역세 유입단으로 유입되는 물을 차단할 수 있는 제 3 밸브; 및 상기 역세 토출단에 설치되고, 상기 배수관을 차단할 수 있는 제 4 밸브를 포함할 수 있고, 상기 수처리기가 상기 정세 모드로 동작하는 경우, 상기 제어부는 상기 제 1 밸브 및 제 2 밸브를 개방하고, 상기 제 3 밸브 및 제 4 밸브를 차단하고,상기 수처리기가 상기 역세 모드로 동작하는 경우, 상기 제어부는 상기 제 3 밸브 및 제 4 밸브를 개방하고, 상기 제 1 밸브 및 제 2 밸브를 차단할 수 있다.The water treatment system may further include a control unit for controlling the water treatment system and operating the water processor in a correction mode or a backwash mode, A first valve that can be opened; A second valve installed at the work discharge end and capable of shutting off the second bypass pipe; A third valve installed at the backwash inlet and capable of blocking water flowing into the backwash inlet from the water pipe; And a fourth valve disposed at the backwash discharge end and capable of shutting off the water discharge pipe, and when the water processor operates in the correction mode, the control unit opens the first valve and the second valve , The third valve and the fourth valve are closed, and when the water processor operates in the backwash mode, the control unit opens the third valve and the fourth valve, blocks the first valve and the second valve .

상기 제어부는, 상기 수처리기를 정세 모드로 구동하되, 설정 시간 주기마다 설정 시간 간격만큼 상기 수처리기를 역세 모드로 동작시킬 수 있다.The control unit may operate the water processor in the correction mode, and may operate the water processor in the backwash mode by the set time interval every set time period.

상기 수처리기는, 상기 정세 유입단의 압력을 측정하는 제 1 압력 센서; 및 상기 정세 토출단의 압력을 측정하는 제 2 압력 센서를 더 포함할 수있고, 상기 제어부는, 상기 제 1 압력 센서에서 측정된 압력 값과 상기 제 2 압력 센서에서 측정된 압력 값이 설정 차이 값보다 클 경우, 상기 수처리기를 역세 모드로 동작시킬 수 있다.The water processor includes: a first pressure sensor for measuring a pressure of the atmosphere inlet; And a second pressure sensor for measuring a pressure of the stage at the specific discharge end, wherein the control unit determines that the pressure value measured by the first pressure sensor and the pressure value measured by the second pressure sensor are different from each other, , The water processor can be operated in the backwash mode.

상기 수처리기는, 상기 여과 필터를 수용하고, 지면과 수직한 방향의 축을 갖는 원통형 내부 공간; 및 상기 정세 유입단으로부터 상기 여과 필터를 향해 물을 분사하는 분사 배관을 더 포함할 수 있고, 상기 분사 배관은, 상기 정세 유입단으로부터 상기 여과 필터의 상측의 중심을 향해 연장되는 메인 배관; 및 상기 메인 배관으로부터 상기 내부 공간의 내주면을 향한 방향으로 방사상 동일한 간격을 가지며 연장되고, 물이 토출되는 단부는 상기 내부 공간의 원주 방향 및 하측을 향해 비스듬히 절곡되는 복수개의 분사 노즐을 포함할 수 있다.Wherein said water treatment apparatus further comprises: a cylindrical internal space for receiving said filtration filter and having an axis perpendicular to the ground; And an injection pipe for injecting water toward the filtration filter from the action inlet, wherein the injection pipe includes: a main pipe extending from the action inlet to the center of the upper side of the filter; And a plurality of spray nozzles extending at equal intervals in the radial direction from the main pipe toward the inner circumferential surface of the inner space, and the end portion to which the water is discharged is diagonally bent toward the circumferential direction and the downward direction of the inner space .

상기 여과 필터는, 샌드 필터일 수 있고, 상기 복수개의 분사 노즐에서 상기 샌드 필터로 물이 토출되는 각도는 지면에 대해서 10° 내지 60°사이에서 형성될 수 있다.The filtering filter may be a sand filter, and an angle at which water is discharged from the plurality of jetting nozzles to the sand filter may be formed between 10 [deg.] And 60 [deg.] With respect to the paper surface.

일 실시 예에 따른 수처리 시스템에 의하면, 수처리 시스템이 설치되는 수배관 시스템의 순환 펌프의 압력으로 동작하기 때문에, 별도의 순환 펌프를 구비하지 않고 동작할 수 있다.According to the water treatment system according to the embodiment, since it operates by the pressure of the circulation pump of the water piping system in which the water treatment system is installed, it can operate without a separate circulation pump.

일 실시 예에 따른 수처리 시스템에 의하면, 일정 주기마다 역세를 수행할 수 있어서, 여과 필터에 쌓인 이물질을 청소할 수 있다.According to the water treatment system according to one embodiment, backwash can be performed at regular intervals, so that the foreign substances accumulated in the filter can be cleaned.

일 실시 예에 따른 수처리기에 의하면, 수처리기 내부에서 여과 필터를 향해 물을 분사하는 분사 노즐은 수처리기 내부에서 소용돌이 흐름을 발생시키면서도, 여과 필터의 손상을 방지할 수 있으므로, 여과 효율 및 여과 정밀도가 향상될 수 있다.According to the water treatment apparatus of the embodiment, since the spray nozzle for spraying water toward the filtration filter in the water treatment apparatus can prevent the damage of the filtration filter while generating the swirling flow in the water treatment apparatus, the filtration efficiency and the filtration accuracy Can be improved.

도 1은 일 실시 예에 따른 수처리 시스템을 나타내는 구성도이다.
도 2는 일 실시 예에 따른 수처리 시스템을 나타내는 블록도이다
도 3은 일 실시 예에 다른 수처리 시스템이 정세 모드로 동작 시, 물의 흐름을 나타내는 도면이다.
도 4는 일 실시 예에 다른 수처리 시스템이 역세 모드로 동작 시, 물의 흐름을 나타내는 도면이다.
도 5는 일 실시 예에 따른 수처리기의 내부 구조를 나타내는 부분 절개 사시도이다.1 is a configuration diagram illustrating a water treatment system according to an embodiment.
2 is a block diagram illustrating a water treatment system according to one embodiment
FIG. 3 is a view showing the flow of water when the water treatment system according to an embodiment operates in the mission mode.
FIG. 4 is a view showing the flow of water when the water treatment system according to an embodiment operates in the backwash mode.
5 is a partially cutaway perspective view showing an internal structure of a water processor according to an embodiment.

이하, 실시 예들을 예시적인 도면을 통해 상세하게 설명한다. 각 도면의 구성요소들에 참조부호를 부가함에 있어서, 동일한 구성요소들에 대해서는 비록 다른 도면상에 표시되더라도 가능한 한 동일한 부호를 가지도록 하고 있음에 유의해야 한다. 또한, 실시 예를 설명함에 있어, 관련된 공지 구성 또는 기능에 대한 구체적인 설명이 실시 예에 대한 이해를 방해한다고 판단되는 경우에는 그 상세한 설명은 생략한다.Hereinafter, embodiments will be described in detail with reference to exemplary drawings. It should be noted that, in adding reference numerals to the constituent elements of the drawings, the same constituent elements are denoted by the same reference symbols as possible even if they are shown in different drawings. In the following description of the embodiments, detailed description of known functions and configurations incorporated herein will be omitted when it may make the best of an understanding clear.

또한, 실시 예의 구성 요소를 설명하는 데 있어서, 제 1, 제 2, A, B, (a), (b) 등의 용어를 사용할 수 있다. 이러한 용어는 그 구성 요소를 다른 구성 요소와 구별하기 위한 것일 뿐, 그 용어에 의해 해당 구성 요소의 본질이나 차례 또는 순서 등이 한정되지 않는다. 어떤 구성 요소가 다른 구성요소에 "연결", "결합" 또는 "접속"된다고 기재된 경우, 그 구성 요소는 그 다른 구성요소에 직접적으로 연결되거나 접속될 수 있지만, 각 구성 요소 사이에 또 다른 구성 요소가 "연결", "결합" 또는 "접속"될 수도 있다고 이해되어야 할 것이다.In describing the components of the embodiment, terms such as first, second, A, B, (a), and (b) may be used. These terms are intended to distinguish the constituent elements from other constituent elements, and the terms do not limit the nature, order or order of the constituent elements. When a component is described as being "connected", "coupled", or "connected" to another component, the component may be directly connected or connected to the other component, Quot; may be "connected," "coupled," or "connected. &Quot;

어느 하나의 실시 예에 포함된 구성요소와, 공통적인 기능을 포함하는 구성요소는, 다른 실시 예에서 동일한 명칭을 사용하여 설명하기로 한다. 반대되는 기재가 없는 이상, 어느 하나의 실시 예에 기재한 설명은 다른 실시 예에도 적용될 수 있으며, 중복되는 범위에서 구체적인 설명은 생략하기로 한다.The components included in any one embodiment and the components including common functions will be described using the same names in other embodiments. Unless otherwise stated, the description of any one embodiment may be applied to other embodiments, and a detailed description thereof will be omitted in the overlapping scope.

도 1은 일 실시 예에 따른 수처리 시스템을 나타내는 구성도이고, 도 2는 일 실시 예에 따른 수처리 시스템을 나타내는 블록도이다1 is a block diagram showing a water treatment system according to an embodiment, and FIG. 2 is a block diagram showing a water treatment system according to an embodiment

도 1 및 도 2를 참조하면, 일 실시 예에 따른 수처리 시스템(1)은, 수배관 시스템(2)에 설치되어, 수배관 시스템(2)을 유동하는 물 속의 이물질을 제거할 수 있다. 1 and 2, the water treatment system 1 according to an embodiment is installed in the water piping system 2 to remove foreign matter in water flowing through the water piping system 2. [

예를 들어, 수배관 시스템(2)은, 중앙 기계실에서 여러 개의 부분으로 구획된 집합 건물에 냉난방 및 온수를 공급하기 위한 수배관 시스템일 수 있다. 수배관 시스템(2)은, 예를 들어, 주택, 빌딩 등의 집합 건물 또는 공장 등에 설치될 수 있으며, 본 발명의 적용 대상은 이상의 예시들에 제한되지 않음을 밝혀둔다. 예를 들어, 수배관 시스템(2)은, 시수관(31)을 통하여 물을 공급받아 사용자 공간(22)으로 제공할 수 있다. 수배관 시스템(2)은 순환 펌프(21), 열 교환기(23), 공급 배관(24), 사용자 공간(22) 및 회수 배관(25)을 포함할 수 있다.For example, the water piping system 2 may be a water piping system for supplying cooling and heating and hot water to a plurality of divided building sections in a central machine room. It is noted that the water piping system 2 can be installed in, for example, a collective building or a factory such as a house, a building, etc., and the object of the present invention is not limited to the above examples. For example, the water pipe system 2 can supply water to the user space 22 through the water pipe 31. The water piping system 2 may include a circulation pump 21, a heat exchanger 23, a supply piping 24, a user space 22 and a return piping 25.

순환 펌프(21)는, 상수도관에 연결된 시수관(31)으로부터 공급받은 물을 사용자 공간(22)으로 유동시키기 위한 압력을 제공할 수 있다. 예를 들어, 순환 펌프(21)는 토출단을 통해 물을 공급 배관(24)으로 토출 시킬 수 있고, 유입단을 통해 회수 배관(25)으로부터 물을 유입받을 수 있다.The circulation pump 21 may provide a pressure to flow the water supplied from the water pipe 31 connected to the water supply pipe to the user space 22. For example, the circulation pump 21 can discharge water to the supply pipe 24 through the discharge end, and can receive the water from the recovery pipe 25 through the inlet end.

공급 배관(24)은, 순환 펌프(21)의 토출단으로부터 물을 안내하는 배관일 수 있다. 공급 배관(24)은 순환 펌프(21)의 압력에 의해 유동하는 물을 사용자 공간(22)으로 안내할 수 있다.The supply pipe 24 may be a pipe for guiding water from the discharge end of the circulation pump 21. The supply pipe 24 can guide the water flowing by the pressure of the circulation pump 21 into the user space 22.

열 교환기(23)는, 공급 배관(24)에 설치될 수 있다. 열 교환기(23)는, 물을 가열 또는 냉각시킬 수 있다.The heat exchanger 23 may be installed in the supply pipe 24. The heat exchanger 23 can heat or cool the water.

사용자 공간(22)은, 공급 배관(24)을 통해서 냉난방 및 온수를 공급하는 지점일 수 있다. 예를 들어, 사용자 공간(22)은 아파트 또는 빌라 등의 집합 건물의 열 교환기를 지칭하는 것으로 이해될 수도 있다.The user space 22 may be a point for supplying cooling / heating and hot water through the supply pipe 24. For example, the user space 22 may be understood to refer to a heat exchanger of a collective building such as an apartment or a villa.

회수 배관(25)은, 사용자 공간(22)에서 열 교환을 수행하고 순환 펌프(21)로 회수되는 물을 안내하는 배관일 수 있다.The recovery pipe 25 may be a pipe that performs heat exchange in the user space 22 and guides the water that is recovered by the circulation pump 21.

수처리 시스템(1)은, 물을 유입 받는 입구와 토출하는 출구가 순환 펌프(21)의 전후로 병렬식으로 설치되어, 순환 펌프(21)의 압력만으로 동작하여 물을 정화할 수 있다. 다시 말하면, 수처리 시스템(1)에는 별도의 압력 펌프가 구비되지 않으며, 수배관 시스템(2) 상에 필수적으로 설치되는 순환 펌프(21)의 압력을 이용하여 물을 정화시킬 수 있다. 수처리 시스템(1)은 제 1 바이패스 배관(141), 제 2 바이패스 배관(142), 시수 공급관(143), 배수관(144), 수처리기(12), 제어부(18) 및 입력부(19)를 포함할 수 있다.The water treatment system 1 is provided with an inlet through which water is introduced and an outlet through which water is discharged in parallel to the front and back of the circulation pump 21 so that the water can be purified by operating only with the pressure of the circulation pump 21. In other words, the water treatment system 1 is not provided with a separate pressure pump, and the water can be purified using the pressure of the circulation pump 21, which is essentially installed on the water piping system 2. The water treatment system 1 includes a first bypass pipe 141, a second bypass pipe 142, a water supply pipe 143, a water pipe 144, a water processor 12, a control unit 18 and an input unit 19, . ≪ / RTI >

제 1 바이패스 배관(141)은, 순환 펌프(21)의 토출단, 즉, 공급 배관(24)으로부터 분지되어 수처리기(12)로 물을 안내할 수 있다. 예를 들어, 제 1 바이패스 배관(141)의 직경은 공급 배관(24)의 직경의 1/20 내지 1/5 사이의 크기를 가질 수 있다. 위의 구조에 의하면, 공급 배관(24)에서 제 1 바이패스 배관(141)으로 분지되어 유동하는 물은 관의 직경이 작아짐에 따라서, 수배관 시스템(2) 상에서 물을 공급하기 위한 압력의 손실을 방지하면서도, 높은 속도로 수처리 시스템(1)을 유동하도록 할 수 있다. The first bypass piping 141 can branch water from the discharge end of the circulation pump 21, that is, from the supply piping 24, and guide the water to the water processor 12. For example, the diameter of the first bypass pipe 141 may be between 1/20 and 1/5 of the diameter of the supply pipe 24. According to the above structure, the water flowing from the supply pipe 24 to the first bypass pipe 141 flows, as the diameter of the pipe becomes smaller, the loss of pressure for supplying water on the water pipe system 2 It is possible to flow the water treatment system 1 at a high speed.

제 2 바이패스 배관(142)은, 순환 펌프(21)의 유입단, 즉, 회수 배관(25)에 연결될 수 있다. 제 2 바이패스 배관(142)에 의하면, 수처리기(12)에서 여과된 물을 회수 배관(25)을 통해 안내할 수 있다. 예를 들어, 제 2 바이패스 배관(142)의 직경은, 공급 배관(24)의 직경의 1/20 내지 1/5 사이의 크기를 가질 수 있다. 위의 구조에 의하면, 공급 배관(24)으로부터 제 2 바이패스 배관(142)으로 물이 역류하는 문제를 별도의 제어 장치 없이 구조적으로 감소시킬 수 있다. The second bypass pipe 142 can be connected to the inlet end of the circulation pump 21, that is, to the recovery pipe 25. According to the second bypass pipe 142, the water filtered in the water processor 12 can be guided through the recovery pipe 25. For example, the diameter of the second bypass pipe 142 may be between 1/20 and 1/5 of the diameter of the supply pipe 24. According to the above structure, it is possible to structurally reduce the problem of the back flow of water from the supply pipe 24 to the second bypass pipe 142 without a separate control device.

제 1 바이패스 배관(141) 및 제 2 바이패스 배관(142)에 의하면, 별도의 펌프를 구비하지 않은 수처리 시스템(1)이 수배관 시스템(2)의 순환 펌프(21)의 압력으로 유동하는 물의 일부를 취출하여 여과식 수처리를 수행할 수 있는 충분한 속력 및 압력을 형성시킬 수 있다. 수배관 시스템(2)에 있어서, 순환 펌프(21)의 토출단에서 가장 높은 압력이 형성되고, 유입단에서 가장 낮은 압력이 형성된다. 따라서, 이와 같이 압력차가 가장 높은 2개의 지점에 각각 제 1 바이패스 배관(141) 및 제 2 바이패스 배관(142)을 설치함으로써, 별도의 펌프 없이도, 수배관 시스템(2)을 순환하는 물의 일부가 일정한 방향으로 수처리 시스템(1)을 순환하고, 다시 수배관 시스템(2)으로 유입되도록 할 수 있다. According to the first bypass pipe 141 and the second bypass pipe 142, the water treatment system 1 having no separate pump flows to the pressure of the circulation pump 21 of the water pipe system 2 It is possible to take out a part of the water and form a sufficient speed and pressure to perform filtration water treatment. In the water piping system 2, the highest pressure is formed at the discharge end of the circulation pump 21, and the lowest pressure is formed at the inlet end. Therefore, by providing the first bypass piping 141 and the second bypass piping 142 at the two points having the highest pressure difference, a part of the water circulating in the water piping system 2 The water treatment system 1 can be circulated in a predetermined direction and then introduced into the water piping system 2 again.

시수 공급관(143)은, 수처리기(12)의 역세를 위해, 시수관(31)에 연결되어, 수처리기(12)에 물을 공급하는 배관일 수 있다. 시수 공급관(143)에 유입되는 물은 시수관(31)의 별도의 펌프 없이도, 시수 압력에 의해 수처리기(12) 및 배수관(144)을 통과하여 드레인(32)으로 토출될 수 있다. The water supply pipe 143 may be a pipe connected to the water pipe 31 for supplying water to the water processor 12 for backwashing the water processor 12. The water flowing into the water supply pipe 143 can be discharged to the drain 32 through the water processor 12 and the drain pipe 144 by the water pressure without the separate pump of the water pipe 31.

배수관(144)은, 수처리기(12)의 역세에 사용된 물을 외부 또는 드레인(32)으로 배출하는 배관일 수 있다. 예를 들어, 드레인(32)은, 사용된 물이 외부로 배출되거나 폐기되는 지점으로 이해될 수 있다.The drain pipe 144 may be a pipe for discharging the water used for backwashing of the water processor 12 to the outside or the drain 32. For example, the drain 32 can be understood as a point where the used water is discharged to the outside or discarded.

수처리기(12)는, 수배관 시스템(2)에서 유동하는 물을 여과식으로 정화하는 장치일 수 있다. 예를 들어, 수처리기(12)는 공급 배관(24)으로부터 제 1 바이패스 배관(141)으로부터 분지되는 물을 별도의 펌프의 구성없이, 여과시킬 수 있고, 여과된 물을 제 2 바이패스 배관(142)을 통해서 회수 배관(25)으로 보낼 수 있다. 수처리기(12)는 여과 필터(123), 정세 유입단(111), 정세 토출단(112), 역세 유입단(113), 역세 토출단(114), 복수의 밸브(131, 132, 133, 134), 제 1 압력 센서(15) 및 제 2 압력 센서(16)를 포함할 수 있다.The water processor 12 may be an apparatus for purifying the water flowing in the water piping system 2 in a filtration manner. For example, the water processor 12 can filter the water branched from the first bypass pipe 141 from the supply pipe 24 without the configuration of a separate pump, To the recovery pipe (25) through the outlet pipe (142). The water processor 12 includes a filtration filter 123, a gas inflow end 111, a gas discharge end 112, a backwash inlet 113, a backwash discharge end 114, a plurality of valves 131, 132, 133, 134, a first pressure sensor 15, and a second pressure sensor 16.

여과 필터(123)는, 도 5에 도시한 바와 같이, 수처리기(12)의 내부 공간(122)에 배치될 수 있고, 물이 통과함으로써, 물 속의 이물질을 걸러낼 수 있다. 예를 들어, 여과 필터(123)는, 샌드 필터, 카트리지 필터 및 중공사막식 필터 중 어느 하나 이상을 포함할 수 있다.The filtration filter 123 can be disposed in the internal space 122 of the water processor 12 as shown in FIG. 5, and water can be passed through to filter off foreign matter in the water. For example, the filtration filter 123 may include at least one of a sand filter, a cartridge filter, and a hollow fiber membrane filter.

정세 유입단(111)은, 제 1 바이패스 배관(141)에 연결되어 물을 유입받을 수 있다. 예를 들어, 정세 유입단(111)은, 여과 필터(123)의 상측에 위치할 수 있다.The atmosphere inlet 111 is connected to the first bypass pipe 141 and can receive water. For example, the situation inlet 111 may be located above the filtration filter 123.

정세 토출단(112)은, 제 2 바이패스 배관(142)에 연결되어 여과 필터(123)에 의해 여과됨 물을 토출할 수 있다. 예를 들어, 정세 토출단(112)은, 여과 필터(123)의 하측에 위치할 수 있다.The situation discharge end 112 is connected to the second bypass pipe 142 and can discharge the filtered water by the filtration filter 123. For example, the situation discharge end 112 may be located below the filtration filter 123.

역세 유입단(113)은, 시수 공급관(143)에 연결되어, 시수관(31)에서 공급되는 물을 전달받을 수 있다. 예를 들어, 역세 유입단(113)은, 여과 필터(123)의 하측에 위치할 수 있다.The backwash inlet 113 is connected to the water supply pipe 143 and can receive the water supplied from the water pipe 31. For example, the backwash inlet 113 may be located below the filtration filter 123.

역세 토출단(114)은, 배수관(144)에 연결되어, 여과 필터(123)의 역세를 수행한 물을 외부 또는 드레인(32)으로 토출할 수 있다.The backwash discharge end 114 is connected to the drain pipe 144 so that the backwashing water of the filtration filter 123 can be discharged to the outside or the drain 32.

복수의 밸브(131, 132, 133, 134)는, 정세 유입단(111), 정세 토출단(112), 역세 유입단(113) 및 역세 토출단(114)에 설치되어 물의 흐름을 차단할 수 있다. 예를 들어, 복수의 밸브(131, 132, 133, 134)는, 외부 동력 및 전자기 신호로 유로를 차단할 수 있는 게이트 밸브 또는 전자 팽창 밸브 등일 수 있다. The plurality of valves 131, 132, 133 and 134 can be installed in the situation inflow end 111, the situation discharge end 112, the backwash inflow end 113 and the backwash discharge end 114 to block the flow of water . For example, the plurality of valves 131, 132, 133, and 134 may be a gate valve or an electronic expansion valve that can block the flow path by external power and electromagnetic signals.

예를 들어, 복수의 밸브(131, 132, 133, 134)는, 정세 유입단(111)에 설치되고 제 1 바이패스 배관(141)을 차단할 수 있는 제 1 밸브(131), 정세 토출단(112)에 설치되고 제 2 바이패스 배관(142)을 차단할 수 있는 제 2 밸브(132), 역세 유입단(113)에 설치되고 시수관(31)으로부터 역세 유입단(113)으로 유입되는 물을 차단할 수 있는 제 3 밸브(133) 및 역세 토출단(114)에 설치되고, 배수관(144)을 차단할 수 있는 제 4 밸브(134)를 포함할 수 있다.For example, the plurality of valves 131, 132, 133, and 134 may include a first valve 131 installed at the situation inlet 111 and capable of shutting off the first bypass piping 141, A second valve 132 installed in the backwash inlet 113 and capable of shutting off the second bypass piping 142 and a second valve 132 installed in the backwash inlet 113 and connected to the backwash inlet 113 through the water supply pipe 31, And a fourth valve 134 installed in the backwash discharge end 114 and capable of shutting off the water discharge pipe 144. [

한편, 도시한 복수의 밸브 이외에도 수처리 시스템(1)의 유로 상에는 일 방향으로 물을 유동시킬 수 있는 체크 밸브가 배치될 수 있다. 예를 들어, 상기 체크 밸브는 제 1 바이패스 배관(141) 상에 설치될 수 있으며, 이와 같은 배치에 의하면, 순환 펌프(21)가 정지되거나, 고장나는 때에도, 수처리기(12) 내부에 적층된 이물질이 열 교환기(24)로 역류함으로써 열교환기(24)를 손상시키는 문제 등을 방지할 수 있다. On the other hand, in addition to the plurality of valves shown in the drawings, a check valve capable of flowing water in one direction can be disposed on the flow path of the water treatment system 1. For example, the check valve can be installed on the first bypass piping 141. With this arrangement, even when the circulation pump 21 is stopped or broken, It is possible to prevent the foreign matter from flowing back to the heat exchanger 24 and damaging the heat exchanger 24.

제 1 압력 센서(15)는, 정세 유입단(111)에 설치되어 정세 유입단(111)에서 수처리기(12)로 유입되는 물의 압력을 측정할 수 있다.The first pressure sensor 15 can measure the pressure of water introduced into the water inflow end 111 from the water inflow end 111 to the water inflow end 111.

제 2 압력 센서(16)는, 정세 토출단(112)에 설치되어 정세 토출단(112)에서 제 2 바이패스 배관(142)으로 유동하는 물의 압력을 측정할 수 있다.The second pressure sensor 16 can measure the pressure of the water that is installed in the situation discharge end 112 and flows from the situation discharge end 112 to the second bypass pipe 142.

제어부(18)는, 수처리 시스템(1)의 동작을 제어할 수 있다. 예를 들어, 제어부(18)는, 수처리 시스템(1)을 일반적인 여과를 수행하는 정세 모드 또는 여과 필터(123)를 청소하기 위한 역세 모드로 동작시킬 수 있다.The control unit 18 can control the operation of the water treatment system 1. [ For example, the control unit 18 can operate the water treatment system 1 in a correction mode for performing general filtration or a backwash mode for cleaning the filtration filter 123.

여기서 역세 모드는, 여과 필터(123)에 이물질이 과도하게 축적되어, 정세 유입단(111)에 유입된 물이 여과 필터(123)를 원활하게 통과하지 못하는 것을 해결하기 위해, 물을 여과 필터(123)의 하측에서 상측으로, 즉, 정세 모드의 역방향으로 물을 유동시키는 과정일 수 있다.Here, the backwash mode is a mode in which the foreign matter is excessively accumulated in the filtration filter 123 to prevent the water that has flowed into the flow inlet end 111 from passing smoothly through the filtration filter 123, 123 to the upper side, that is, in the reverse direction of the correction mode.

예를 들어, 제어부(18)는 복수의 밸브(131, 132, 133, 134)들을 선택적으로 차단시킬 수 있다. 예를 들어, 제어부(18)는 수처리기(12)를 정세 모드로 동작시킬 경우, 제 3 밸브(133) 및 제 4 밸브(134)를 차단할 수 있고, 수처리기(12)를 역세 모드로 동작시킬 경우, 제 1 밸브(131) 및 제 2 밸브(132)를 차단할 수 있다.For example, the control unit 18 may selectively block the plurality of valves 131, 132, 133, and 134. For example, when the water processor 12 is operated in the correction mode, the control unit 18 may block the third valve 133 and the fourth valve 134, and may operate the water processor 12 in the backwash mode The first valve 131 and the second valve 132 can be shut off.

예를 들어, 제어부(18)는 제 1 압력 센서(15) 및 제 2 압력 센서(16)에서 측정된 압력을 전달 받을 수 있다. 예를 들어, 제어부(18)는, 제 1 압력 센서(15)에서 측정된 압력 값과 제 2 압력 센서(16)에서 측정된 압력 값의 차이가 클 경우, 여과 필터(123)에 이물질이 과도하게 축적되어 있다는 것으로 판단하여, 수처리기(12)를 역세 모드로 동작시킬 수 있다.For example, the control unit 18 may receive the measured pressure from the first pressure sensor 15 and the second pressure sensor 16. For example, when the difference between the pressure value measured by the first pressure sensor 15 and the pressure value measured by the second pressure sensor 16 is large, the control unit 18 determines that the foreign matter It is possible to operate the water processor 12 in the backwash mode.

예를 들어, 제어부(18)는, 제 1 압력 센서(15)에서 측정된 압력 값과 제 2 압력 센서(16)에서 측정된 압력 값의 차이가 "설정 차이 값"보다 클 경우, 수처리기(12)를 역세 모드로 동작시킬 수 있다.For example, when the difference between the pressure value measured by the first pressure sensor 15 and the pressure value measured by the second pressure sensor 16 is larger than the "set difference value" 12) in the backwash mode.

여기서 설정 차이 값은, 여과 필터(123)에 축적된 이물질에 의해서, 수처리기(12)에 유입되어 빠져나가는 물의 흐름이 원활하지 않을 경우, 정세 유입단(111)과 정세 토출단(112) 사이에서 물의 압력 차이일 수 있다. 예를 들어, 설정 차이 값은, 수배관 시스템(2) 및 수처리 시스템(1)의 사양에 따라 사용자에 의해 적절하게 선택될 수 있다.Here, the set difference value is set to a value between the situation inflow end 111 and the situation outgoing end 112 when the flow of the water flowing into the water processor 12 is not smooth due to the foreign matter accumulated in the filter filter 123 Lt; / RTI > For example, the setting difference value can be appropriately selected by the user according to the specifications of the water piping system 2 and the water treatment system 1. [

다른 예로, 제어부(18)는, 평시에는 수처리기(12)를 정세 모드로 구동하되, "설정 시간 주기"마다 "설정 시간 간격"만큼 수처리기(12)를 역세 모드로 동작시킬 수 있다.As another example, the control unit 18 may operate the water handler 12 in the backwash mode by driving the water handler 12 in the normal mode at normal times, and by the "set time interval" every "set time period ".

여기서 설정 시간 주기는, 수처리기(12)가 정세 모드로 동작하는 과정에서, 역세 모드가 수행되는 시간 주기일 수 있고, 설정 시간 간격은, 역세 모드가 수행되는 시간일 수 있다. 설정 시간 주기 및 설정 시간 간격은, 수배관 시스템(2) 및 수처리 시스템(1)의 사양에 따라서 사용자에 의해 적절히 선택될 수 있다.Here, the set time period may be a time period during which the backwash mode is performed in the process of operating the water processor 12 in the current mode, and the set time interval may be the time during which the backwash mode is performed. The setting time period and the setting time interval can be appropriately selected by the user in accordance with the specifications of the water piping system 2 and the water treatment system 1. [

입력부(19)는, 사용자로부터 수처리 시스템(1)의 동작 명령을 입력 받을 수 있는 인터페이스일 수 있다. 예를 들어, 사용자는 입력부(19)를 통하여, 설정 시간 주기 및/또는 설정 시간 간격을 입력할 수 있다. 또한, 예를 들어, 사용자는 입력부(19)를 통해, 수처리 시스템(1)을 정세 모드 또는 역세 모드로 동작 시킬 지의 여부를 수동으로 입력 받아, 해당 입력 신호를 제어부(18)에 전달할 수도 있다. The input unit 19 may be an interface capable of receiving an operation command of the water treatment system 1 from a user. For example, the user can input a set time period and / or a set time interval through the input unit 19. [ For example, the user may manually input whether the water treatment system 1 is to be operated in the correction mode or the backwash mode through the input unit 19, and may transmit the input signal to the control unit 18.

도 3은 일 실시 예에 다른 수처리 시스템이 정세 모드로 동작하는 경우 물의 흐름을 나타내는 도면이고, 도 4는 일 실시 예에 다른 수처리 시스템이 역세 모드로 동작하는 경우 물의 흐름을 나타내는 도면이다.FIG. 3 is a view showing the flow of water when the water treatment system operates in the current mode in another embodiment, and FIG. 4 is a diagram showing the flow of water when the water treatment system operates in the backwash mode according to an embodiment.

도 3을 참조하면, 일 실시 예에 따른 수처리 시스템(1)이 정세 모드로 동작하는 경우, 그에 따른 물의 흐름을 확인할 수 있다.Referring to FIG. 3, when the water treatment system 1 according to an embodiment operates in the correction mode, the flow of water can be confirmed.

예를 들어, 제어부(18)가 수처리 시스템(1)을 정세 모드로 동작시키는 경우, 제어부(18)는, 제 3 밸브(133) 및 제 4 밸브(134)를 차단하고, 제 1 밸브(131) 및 제 2 밸브(132)를 개방할 수 있다.For example, when the control unit 18 operates the water treatment system 1 in the correction mode, the control unit 18 cuts off the third valve 133 and the fourth valve 134, And the second valve 132 can be opened.

위의 구조에 의하면, 제 1 바이패스 배관(141)으로 유입되는 물이 정세 유입단(111)을 통해 수처리기(12)로 유입된 후, 여과 필터(123)를 상측에서 하측으로 통과함에 따라서, 이물질이 여과될 수 있고, 여과된 물은 여과 필터(123) 하측에 위치한 정세 토출단(112)을 통해 제 2 바이패스 배관(142)으로 토출되고, 회수 배관(25)으로 안내될 수 있다.According to the above structure, as the water flowing into the first bypass pipe 141 flows into the water processor 12 through the flow inlet end 111 and then passes through the filter filter 123 from the upper side to the lower side The foreign matter can be filtered and the filtered water can be discharged to the second bypass pipe 142 through the situation discharge end 112 located below the filtration filter 123 and can be guided to the recovery pipe 25 .

이 경우, 제 3 밸브(133) 및 제 4 밸브(134)는 차단되어, 시수 공급관(143)으로부터 유입되는 물의 흐름이 차단될 수 있고, 배수관(144)을 통해 물이 토출 되는 것을 방지할 수 있다.In this case, the third valve 133 and the fourth valve 134 are shut off, the flow of the water flowing from the water supply pipe 143 can be cut off, and water can be prevented from being discharged through the water pipe 144 have.

도 4를 참조하면, 일 실시 예에 따른 수처리 시스템(1)이 역세 모드로 동작하는 경우, 그에 따른 물의 흐름을 확인할 수 있다.Referring to FIG. 4, when the water treatment system 1 according to an embodiment operates in the backwash mode, the flow of water can be confirmed.

예를 들어, 제어부(18)가 수처리 시스템(1)을 정세 모드로 동작시키는 경우, 제어부(18)는, 제 1 밸브(131) 및 제 2 밸브(132)를 차단하고, 제 3 밸브(133) 및 제 4 밸브(134)를 개방할 수 있다.For example, when the control unit 18 operates the water treatment system 1 in the occupation mode, the control unit 18 cuts off the first valve 131 and the second valve 132, and the third valve 133 And the fourth valve 134 can be opened.

위의 구조에 의하면, 시수 공급관(143)으로 유입되는 물이 역세 유입단(113)을 통해 수처리기(12)로 유입된 후, 여과 필터(123)의 하측에서 상측으로 통과함에 따라, 여과 필터(123)에 축적된 이물질이 여과 필터(123)에서 분리되어 물속에 부유할 수 있고, 여과 필터(123)를 세척한 물은, 여과 필터(123)의 상측에 위치한 역세 토출단(114)을 통해 배수관(144)을 통해 토출 되어, 외부 또는 드레인(32)으로 배출될 수 있다.According to the above structure, as the water flowing into the water supply pipe 143 flows into the water processor 12 through the backwash inlet 113 and then flows upward from the lower side of the filter filter 123, The foreign matter accumulated in the filter 123 can be separated from the filter 123 and floated in the water and the water cleaned by the filter 123 can be discharged through the backwash discharge end 114 located on the upper side of the filtration filter 123 Through the drain pipe 144, and discharged to the outside or the drain 32 through the drain pipe 144.

이 경우, 제 1 밸브(131) 및 제 2 밸브(132)는 차단되어, 제 1 바이패스 배관(141)으로부터 유입되는 물의 흐름이 차단될 수 있고, 정세 토출단(112)을 통해 내부 공간(122)의 물이 제 2 바이패스 배관(142)으로 토출 되는 것을 방지할 수 있다.In this case, the first valve 131 and the second valve 132 are shut off, the flow of the water flowing from the first bypass pipe 141 can be shut off, and the flow of water from the internal space 122 can be prevented from being discharged to the second bypass pipe 142.

도 5는 일 실시 예에 따른 수처리기의 내부 구조를 나타내는 부분 절개 사시도이다.5 is a partially cutaway perspective view showing an internal structure of a water processor according to an embodiment.

도 5를 참조하면, 일 실시 예에 따른 수처리기(12)는, 내부 공간(122), 여과 필터(123) 및 분사 배관(17)을 포함할 수 있다.5, the water processor 12 according to an embodiment may include an internal space 122, a filtration filter 123, and an injection line 17. [

내부 공간(122)은, 유입되는 물이 통과하는 공간으로서, 여과 필터(123)를 수용할 수 있다. 예를 들어, 내부 공간(122)은, 상하측으로 연장된 원통형 형상을 가질 수 있다.The inner space 122 can accommodate the filter 123 as a space through which the incoming water passes. For example, the inner space 122 may have a cylindrical shape extending upward and downward.

여과 필터(123)는, 내부 공간(122)에 설치되어, 물을 여과시킬 수 있다. 예를 들어, 여과 필터(123)는, 내부 공간(122)의 하측으로부터 적층되어 형성된 샌드 필터일 수 있다.The filtration filter 123 can be installed in the inner space 122 to filter water. For example, the filtering filter 123 may be a sand filter formed by stacking from the lower side of the inner space 122.

분사 배관(17)은 정세 유입단(111)으로부터 유입받은 물을 내부 공간(122)으로 분사하는 배관일 수 있다.The injection pipe 17 may be a pipe for injecting the water, which has flowed in from the atmosphere inflow end 111, into the internal space 122.

예를 들어, 분사 배관(17)은, 메인 배관(171) 및 분사 노즐(172)을 포함할 수 있다.For example, the injection pipe 17 may include a main pipe 171 and an injection nozzle 172.

메인 배관(171)은 정세 유입단(111)으로부터 연결되어, 여과 필터의 상측의 중심, 다시 말하면, 원통형 내부 공간(122)의 중심을 향해 연장될 수 있다.The main pipe 171 is connected from the gas inlet end 111 and can extend toward the center of the upper side of the filter, that is, toward the center of the cylindrical inner space 122.

복수개의 분사 노즐(172)은, 메인 배관(171)으로부터 내부 공간(122)의 내주면을 향한 방향으로 방사상 동일한 간격을 가지며 연장되고, 물이 토출되는 단부는 내부 공간(122)의 원주 방향 및 하측을 향해 비스듬히 절곡될 수 있다.The plurality of injection nozzles 172 extend from the main pipe 171 with equal radial distances in the direction toward the inner circumferential surface of the inner space 122 and the end to which the water is discharged extends in the circumferential direction and the lower side As shown in FIG.

위의 구조에 의하면, 원통형상의 내부 공간(122)의 중심에서 바깥 방향으로 이격된 위치에서, 원주 방향 및 하측을 향해 비스듬히 분사됨에 따라서, 내부 공간(122) 에서 나선형 또는 회오리 형상의 물의 유동이 형성될 수 있다. 이에 따라, 물이 여과 필터(123)와 접촉하는 여과 표면이 증가할 수 있어서, 결과적으로, 여과 효율이 증가하고, 더욱 미세한 이물질까지 여과할 수 있는 여과 정밀도 또한 향상될 수 있다.According to the above structure, as the water is injected obliquely toward the circumferential direction and downward at a position spaced outward from the center of the cylindrical internal space 122, a flow of spiral or whirl water is formed in the internal space 122 . As a result, the filtration surface where water contacts the filtration filter 123 can be increased, and consequently, the filtration efficiency can be increased, and the filtration precision capable of filtering even finer foreign substances can be improved.

예를 들어, 분사 노즐(172)의 절곡된 단부에서 물이 토출되는 각도는 지면에 대해서, 10° 내지 60°사이에서 형성될 수 있다.For example, an angle at which the water is discharged from the bent end of the injection nozzle 172 may be formed between 10 and 60 degrees with respect to the paper surface.

위의 구조에 의하며, 물을 하측으로 밀어내는 압력을 충분히 형성함과 동시에, 물의 나선형 또는 소용돌이 흐름을 형성할 수 있기 때문에, 여과 필터(123)의 여과 성능을 향상시킬 수 있다.By virtue of the above structure, the filtration performance of the filtration filter 123 can be improved since it is possible to sufficiently form a pressure to push the water downward and to form a spiral or swirling flow of water.

예를 들어, 물이 토출되는 각도가 지면에 대해 60°를 초과하게 되면, 토출되는 물은 하측 방향, 즉, 여과 필터(123)를 향한 방향으로의 압력이 과도하게 커질 수 있고, 결과적으로 토출되는 물이 직접 여과 필터(123)의 상면에 영향을 주어, 여과 필터(123)가 패이거나 손상될 수 있다. 또한, 물의 나선형 또는 소용돌이 유동이 비교적 약하게 형성될 수 있기 때문에, 여과 표면 증가의 효과가 미미할 수 있다.For example, when the angle at which the water is discharged exceeds 60 DEG with respect to the ground, the discharged water may excessively increase the pressure in the downward direction, that is, toward the filtration filter 123, Water directly affects the upper surface of the filtration filter 123, so that the filtration filter 123 may be punctured or damaged. In addition, since the spiral or vortex flow of water can be relatively weakly formed, the effect of filtration surface increase may be negligible.

반면에, 물이 토출되는 각도가 10°미만으로 형성되는 경우, 물이 토출되는 부분에서 물의 소용돌이 현상이 활발하게 발생할 수 있지만, 하측 방향으로의 압력이 부족하여, 물의 소용돌이 또는 나선형 유동은, 여과 필터(123)에 도달할 때까지 유지되지 못할 수 있다. 이 경우, 결과적으로 여과 필터(123)의 상면에 적층되는 이물질을 부유시키지 못하게 되므로, 물이 여과 필터(123)를 통과하지 못하는 문제를 발생시킨다. 다시 말하면, 물의 정화 기능을 수행하지 못하는 역세 시간을 증가시킬 수 있으므로, 수처리 시스템(1)의 효율을 저하시킬 수 있다. On the other hand, if the angle at which the water is discharged is less than 10 degrees, the swirling of water may occur actively at the part where the water is discharged, but the pressure in the downward direction is insufficient, It may not be held until it reaches the filter 123. In this case, as a result, the foreign substances stacked on the upper surface of the filter 123 can not be floated, thus causing the problem that the water can not pass through the filter 123. In other words, it is possible to increase the backwash time that does not perform the purifying function of the water, and thus the efficiency of the water treatment system 1 can be lowered.

일 실시 예에 따른 수처리 시스템에 의하면, 수처리 시스템이 설치되는 수배관 시스템의 순환 펌프의 압력으로 동작하기 때문에, 별도의 순환 펌프를 구비하지 않고 동작할 수 있다. 일 실시 예에 따른 수처리 시스템에 의하면, 일정 주기마다 역세를 수행할 수 있어서, 여과 필터에 쌓인 이물질을 청소할 수 있다. 일 실시 예에 따른 수처리기에 의하면, 수처리기 내부에서 여과 필터를 향해 물을 분사하는 분사 노즐은 수처리기 내부에서 소용돌이 흐름을 발생시키면서도, 여과 필터의 손상을 방지할 수 있으므로, 여과 효율 및 여과 정밀도가 향상될 수 있다.According to the water treatment system according to the embodiment, since it operates by the pressure of the circulation pump of the water piping system in which the water treatment system is installed, it can operate without a separate circulation pump. According to the water treatment system according to one embodiment, backwash can be performed at regular intervals, so that the foreign substances accumulated in the filter can be cleaned. According to the water treatment apparatus of the embodiment, since the spray nozzle for spraying water toward the filtration filter in the water treatment apparatus can prevent the damage of the filtration filter while generating the swirling flow in the water treatment apparatus, the filtration efficiency and the filtration accuracy Can be improved.

이상과 같이 비록 한정된 도면에 의해 실시 예들이 설명되었으나, 해당 기술분야에서 통상의 지식을 가진 자라면 상기의 기재로부터 다양한 수정 및 변형이 가능하다. 예를 들어, 설명된 기술들이 설명된 방법과 다른 순서로 수행되거나, 및/또는 설명된 구조, 장치 등의 구성요소들이 설명된 방법과 다른 형태로 결합 또는 조합되거나, 다른 구성요소 또는 균등물에 의하여 대치되거나 치환되더라도 적절한 결과가 달성될 수 있다.Although the preferred embodiments of the present invention have been disclosed for illustrative purposes, those skilled in the art will appreciate that various modifications, additions and substitutions are possible, without departing from the scope and spirit of the invention as disclosed in the accompanying claims. For example, it is contemplated that the techniques described may be performed in a different order than the described methods, and / or that components of the described structures, devices, and the like may be combined or combined in other ways than the described methods, Appropriate results can be achieved even if they are replaced or replaced.

그러므로, 다른 구현들, 다른 실시 예들 및 특허청구범위와 균등한 것들도 후술하는 특허청구범위의 범위에 속한다.Therefore, other implementations, other embodiments and equivalents to the claims are within the scope of the following claims.

Claims (10)

시수관으로부터 공급받은 물을 유동시키기 위한 압력을 제공하는 순환 펌프, 상기 순환 펌프의 토출단으로부터 사용자 공간으로 물을 안내하는 공급 배관, 및 상기 사용자 공간으로부터 상기 순환 펌프의 유입단으로 물을 안내하는 회수 배관을 포함하는 수배관 시스템에 설치되는 수처리 시스템에 있어서,
상기 공급 배관에서 분지되는 제 1 바이패스 배관;
상기 제 1 바이패스 배관으로부터 물을 유입 받고, 상기 순환 펌프의 압력으로 물을 여과하는 수처리기; 및
상기 수처리기로부터 여과된 물을 상기 회수 배관으로 수송하는 제 2 바이패스 배관을 포함하는 수처리 시스템.
A circulation pump for providing a pressure for flowing the water supplied from the water pipe, a supply pipe for guiding water from the discharge end of the circulation pump to the user space, and a water pipe for guiding water from the user space to the inlet end of the circulation pump A water treatment system installed in a water piping system including a recovery pipe,
A first bypass pipe branched from the supply pipe;
A water processor that receives water from the first bypass pipe and filters water by pressure of the circulation pump; And
And a second bypass pipe for transporting the water filtered from the water treatment device to the recovery pipe.
제 1 항에 있어서,
상기 수처리 시스템은 압력 펌프를 구비하지 않는 것을 특징으로 하는 수처리 시스템.
The method according to claim 1,
Wherein the water treatment system does not include a pressure pump.
제 2 항에 있어서
상기 제 1 바이패스 배관의 직경은 상기 공급 배관의 직경의 1/20 내지 1/5이고,
상기 제 2 바이패스 배관의 직경은 상기 회수 배관의 직경의 1/20 내지 1/5인 것을 특징으로 하는 수처리 시스템.
The method according to claim 2, wherein
Wherein the diameter of the first bypass pipe is 1/20 to 1/5 of the diameter of the supply pipe,
And the diameter of the second bypass pipe is 1/20 to 1/5 of the diameter of the return pipe.
제 1 항에 있어서,
상기 수처리기는
유입된 물의 이물질을 여과하는 여과 필터;
상기 여과 필터의 상측에 배치되고, 상기 제 1 바이패스 배관에 연결되는 정세 유입단; 및
상기 여과 필터의 하측에 배치되고, 상기 제 2 바이패스 배관에 연결되는 정세 토출단을 포함하는 수처리 시스템.
The method according to claim 1,
The water processor
A filtration filter for filtering the foreign matter of the inflow water;
A flow inlet disposed at an upper side of the filtration filter and connected to the first bypass pipe; And
And a situation discharge outlet which is disposed below the filtration filter and connected to the second bypass pipe.
제 4 항에 있어서,
상기 수처리기는,
상기 여과 필터의 하측에 배치되고 상기 시수관에 연결되는 역세 유입단; 및
상기 여과 필터의 상측에 배치되고 외부로 물을 토출하는 배수관에 연결되는 역세 토출단을 더 포함하고,
상기 시수관의 시수 압력으로 상기 역세 유입단에 유입되는 물을 통해 상기 여과 필터의 상부에 쌓인 이물질이 상기 역세 토출단을 통해 배출될 수 있는 것을 특징으로 하는 수처리 시스템.
5. The method of claim 4,
The water processor includes:
A backwash inflow end disposed below the filtration filter and connected to the water pipe; And
Further comprising a backwash discharge end disposed above the filtration filter and connected to a drain pipe for discharging water to the outside,
And the foreign matter accumulated on the upper portion of the filtration filter can be discharged through the backwash discharge end through the water flowing into the backwash inlet at the time pressure of the water pipe.
제 5 항에 있어서,
상기 수처리 시스템을 제어하고, 상기 수처리기를 정세 모드 또는 역세 모드로 동작시킬 수 있는 제어부를 더 포함하고,
상기 수처리기는,
상기 정세 유입단에 설치되고, 상기 제 1 바이패스 배관을 차단할 수 있는 제 1 밸브;
상기 정세 토출단에 설치되고, 상기 제 2 바이패스 배관을 차단할 수 있는 제 2 밸브;
상기 역세 유입단에 설치되고, 상기 시수관으로부터 상기 역세 유입단으로 유입되는 물을 차단할 수 있는 제 3 밸브; 및
상기 역세 토출단에 설치되고, 상기 배수관을 차단할 수 있는 제 4 밸브를 포함하고,
상기 수처리기가 상기 정세 모드로 동작하는 경우, 상기 제어부는 상기 제 1 밸브 및 제 2 밸브를 개방하고, 상기 제 3 밸브 및 제 4 밸브를 차단하고,
상기 수처리기가 상기 역세 모드로 동작하는 경우, 상기 제어부는 상기 제 3 밸브 및 제 4 밸브를 개방하고, 상기 제 1 밸브 및 제 2 밸브를 차단하는 수처리 시스템.
6. The method of claim 5,
Further comprising a controller capable of controlling the water treatment system and operating the water processor in a correction mode or a reverse mode,
The water processor includes:
A first valve installed at the flow inlet and capable of shutting off the first bypass pipe;
A second valve installed at the work discharge end and capable of shutting off the second bypass pipe;
A third valve installed at the backwash inlet and capable of blocking water flowing into the backwash inlet from the water pipe; And
And a fourth valve installed at the backwash discharge end and capable of shutting off the drain pipe,
When the water processor operates in the correction mode, the control unit opens the first valve and the second valve, blocks the third valve and the fourth valve,
And the control unit opens the third valve and the fourth valve, and blocks the first valve and the second valve when the water processor operates in the backwash mode.
제 6 항에 있어서,
상기 제어부는, 상기 수처리기를 정세 모드로 구동하되, 설정 시간 주기마다 설정 시간 간격만큼 상기 수처리기를 역세 모드로 동작시키는 수처리 시스템.
The method according to claim 6,
Wherein the control unit drives the water processor in the correction mode and operates the water processor in the backwash mode by the set time interval every set time period.
제 6 항에 있어서,
상기 수처리기는,
상기 정세 유입단의 압력을 측정하는 제 1 압력 센서; 및
상기 정세 토출단의 압력을 측정하는 제 2 압력 센서를 더 포함하고,
상기 제어부는,
상기 제 1 압력 센서에서 측정된 압력 값과 상기 제 2 압력 센서에서 측정된 압력 값이 설정 차이 값보다 클 경우, 상기 수처리기를 역세 모드로 동작시키는 수처리 시스템.
The method according to claim 6,
The water processor includes:
A first pressure sensor for measuring a pressure of the atmosphere inlet; And
Further comprising a second pressure sensor for measuring a pressure of the work discharge end,
Wherein,
Wherein the water processor is operated in a backwash mode when a pressure value measured by the first pressure sensor and a pressure value measured by the second pressure sensor are greater than a set difference value.
제 4 항에 있어서,
상기 수처리기는,
상기 여과 필터를 수용하고, 지면과 수직한 방향의 축을 갖는 원통형 내부 공간; 및
상기 정세 유입단으로부터 상기 여과 필터를 향해 물을 분사하는 분사 배관을 더 포함하고,
상기 분사 배관은,
상기 정세 유입단으로부터 상기 여과 필터의 상측의 중심을 향해 연장되는 메인 배관; 및
상기 메인 배관으로부터 상기 내부 공간의 내주면을 향한 방향으로 방사상 동일한 간격을 가지며 연장되고, 물이 토출되는 단부는 상기 내부 공간의 원주 방향 및 하측을 향해 비스듬히 절곡되는 복수개의 분사 노즐을 포함하는 수처리 시스템.
5. The method of claim 4,
The water processor includes:
A cylindrical inner space for receiving said filter and having an axis in a direction perpendicular to the ground; And
Further comprising an injection pipe for injecting water from the atmosphere inflow end toward the filtration filter,
Wherein the injection pipe
A main pipe extending from the atmosphere inflow end toward an upper center of the filtration filter; And
And a plurality of spray nozzles extending at equal intervals in the radial direction from the main pipe toward the inner circumferential surface of the inner space, and the end portions to which water is discharged are diagonally bent toward the circumferential direction and the downward direction of the inner space.
제 9 항에 있어서,
상기 여과 필터는, 샌드 필터이고,
상기 복수개의 분사 노즐에서 상기 샌드 필터로 물이 토출되는 각도는 지면에 대해서 10° 내지 60°사이에서 형성되는 수처리 시스템.
10. The method of claim 9,
Wherein the filter is a sand filter,
Wherein an angle at which water is discharged from the plurality of injection nozzles to the sand filter is formed between 10 and 60 degrees with respect to the ground surface.
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