KR20190063083A - Apparatus for diluting and separating exhaust gas - Google Patents

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Abstract

The present invention relates to an apparatus for diluting and separating exhaust gas. According to an embodiment of the present invention, the apparatus for diluting and separating exhaust gas is able to select and dilute only a desired size of particles. Here, the apparatus for diluting and separating exhaust gas comprises: a first dilution unit; a first particle separation unit; and a second dilution unit. The first dilution unit comprises: a first flow path unit through which exhaust gas is moved; and a second flow path unit which guides airflow to allow the first dilution air to be mixed with exhaust gas, and allows a first dilution gas to be formed by mixing the exhaust gas with the first dilution air. The first particle separation unit comprises: a first nozzle unit which sprays the first dilution gas; a first chamber unit which accommodates a first target particle separated from the first dilution gas sprayed by the first nozzle unit; and a first collection unit which collects particles other than the first target particle. The second dilution unit comprises: an ejector unit which discharges the first target particle; and a third flow path unit which guides the movement of a second dilution air to be mixed with the first target particle discharged from the ejector unit, and allows a second dilution gas to be formed by mixing the first target particle with the second dilution air.

Description

배기가스 희석분리장치{APPARATUS FOR DILUTING AND SEPARATING EXHAUST GAS}[0001] APPARATUS FOR DILUTING AND SEPARATING EXHAUST GAS [0002]

본 발명은 배기가스 희석분리장치에 관한 것으로, 더욱 상세하게는 원하는 크기의 입자를 선별하여 희석할 수 있는 배기가스 희석분리장치에 관한 것이다.The present invention relates to an exhaust gas dilution separator, and more particularly, to an exhaust gas dilution separator capable of selectively diluting particles of a desired size.

일반적으로 입자 희석장치는 샘플링한 입자의 농도가 입자계수기의 측정범위를 넘어서는 경우에, 입자계수기의 전단에 설치하여 샘플링한 입자를 일정한 희석비로 희석한 후에 입자계수기로 이송함으로써, 고농도의 샘플링 입자들까지도 측정할 수 있도록 하는 장치이다.In general, when the concentration of sampled particles exceeds the measurement range of the particle counter, the particle diluting device is installed at the front end of the particle counter to dilute the sampled particles at a predetermined dilution ratio, To be measured.

도 1은 종래의 입자 희석장치를 나타낸 예시도이다.1 is an exemplary view showing a conventional particle diluting apparatus.

도 1에서 보는 바와 같이, 샘플링된 고농도의 입자는 입구(10)를 통해 희석장치에 유입된 후, 모세관 노즐(20)에서 일정한 유량비로 나뉘어지게 된다. As shown in FIG. 1, the sampled high-concentration particles flow into the dilution device through the inlet 10, and then are divided into a constant flow rate in the capillary nozzle 20.

그리고 모세관 노즐(20)의 외부로 유동되어 흘러들어간 입자들은 고효율의 헤파필터(30)에서 모두 포집되어 입자가 제거된 청정공기(Clean Air)만이 통과하게 된다. 이 청정공기는 다시 희석기의 후단 출구(60)에서 모세관 노즐(20)를 통해 유입되었던 입자들과 혼합되어 일정한 희석비(Dilution ratio)를 가지게 된다. 그리고 이때의 희석비는 유량조절 밸브(40)와 차압계(50)를 사용하여 모세관 노즐(20)로 유입되는 유량을 제어함으로써 조절되게 된다.The particles flowing into and out of the capillary nozzle 20 are collected in the highly efficient HEPA filter 30 and only the clean air from which the particles are removed passes through. This clean air is mixed with the particles that have flowed through the capillary nozzle 20 at the rear outlet 60 of the diluter to have a constant dilution ratio. The dilution ratio at this time is controlled by controlling the flow rate to the capillary nozzle 20 using the flow rate control valve 40 and the differential pressure gauge 50.

그러나 이러한 종래의 입자 희석장치에서는 모세관 노즐에 달라붙게 되어 손실되는 입자가 많기 때문에 측정 정확도에 문제점이 발생할 수 있다. 그리고, 샘플링 시에 헤파필터(30)에 대부분의 입자가 부착되어 차압이 발생하게 되므로 지속적인 관리가 요구되고, 헤파필터(30)를 교체해주어야 하기 때문에 연속 사용이 어려운 문제점이 있다. However, in such a conventional particle dilution apparatus, there are many particles that are adhered to the capillary nozzle and are lost, which may cause problems in measurement accuracy. Since most of the particles adhere to the HEPA filter 30 at the time of sampling, differential pressure is generated. Therefore, continuous maintenance is required, and the HEPA filter 30 must be replaced.

그리고, 종래의 입자계수기는 측정할 수 있는 입자 농도뿐만 아니라, 측정할 수 있는 입자 크기가 정해져 있다. 그런데 이러한 입자 농도 및 입자 크기를 넘어서는 입자가 입자계수기에 공급되는 경우, 측정 정확도가 낮아지거나 입자계수기의 고장 등이 유도되는 문제점이 있다. 따라서, 해당 입자계수기에 적합한 크기의 입자로 분류하고, 분류된 입자를 희석하기 위한 기술이 요구된다.In addition, in the conventional particle counter, not only the particle concentration which can be measured but also the particle size which can be measured are fixed. However, when the particles exceeding the particle concentration and the particle size are supplied to the particle counter, there is a problem that the measurement accuracy is lowered or a failure of the particle counter is induced. Thus, there is a need for a technique for sorting particles of suitable size into the particle counter and for diluting the sorted particles.

대한민국 공개특허공보 제2016-0116673호(2016.10.10. 공개)Korean Patent Laid-Open Publication No. 2016-0116673 (published October 10, 2016)

상기와 같은 문제점을 해결하기 위하여, 본 발명이 이루고자 하는 기술적 과제는 원하는 크기의 입자를 선별하여 희석할 수 있는 배기가스 희석분리장치를 제공하는 것이다.In order to solve the above problems, an object of the present invention is to provide an exhaust gas dilution separator capable of selectively diluting particles of a desired size.

본 발명이 이루고자 하는 기술적 과제는 이상에서 언급한 기술적 과제로 제한되지 않으며, 언급되지 않은 또 다른 기술적 과제들은 아래의 기재로부터 본 발명이 속하는 기술 분야에서 통상의 지식을 가진 자에게 명확하게 이해될 수 있을 것이다.It is to be understood that both the foregoing general description and the following detailed description are exemplary and explanatory and are not intended to limit the invention to the precise form disclosed. There will be.

상기 기술적 과제를 달성하기 위하여, 본 발명의 일실시예는 배기가스가 이동되는 제1유로부와, 상기 제1유로부와 연결되고 1차 희석공기가 상기 배기가스와 혼합되도록 안내하는 제2유로부를 가지고, 상기 배기가스 및 상기 1차 희석공기가 혼합되어 1차 희석가스가 형성되도록 하는 제1희석유닛; 상기 제1희석유닛에서 배출되는 상기 1차 희석가스가 유입되어 분사되는 제1노즐부와, 상기 제1노즐부에서 분사되는 상기 1차 희석가스에서 분리되는 제1타겟입자가 수용되는 제1챔버부와, 상기 제1타겟입자 이외의 나머지 입자가 수집되는 제1수집부를 가지는 제1입자분리유닛; 그리고 상기 제1챔버부에서 배출되는 상기 제1타겟입자가 유입되어 토출되는 이젝터부와, 상기 이젝터부에서 토출되는 상기 제1타겟입자에 혼합되도록 2차 희석공기의 이동을 안내하는 제3유로부를 가지고, 상기 제1타겟입자 및 상기 2차 희석공기가 혼합되어 2차 희석가스가 형성되도록 하는 제2희석유닛을 포함하는 배기가스 희석분리장치를 제공한다.According to an aspect of the present invention, there is provided an exhaust gas purifying system including a first flow path portion through which exhaust gas is moved, a second flow path portion connected to the first flow path portion and guiding the first dilution air to be mixed with the exhaust gas, A first diluting unit for mixing the exhaust gas and the first dilution air to form a first dilution gas; A first nozzle unit for injecting and injecting the primary dilution gas discharged from the first dilution unit and a second chamber for receiving the first target particles separated from the primary dilution gas injected from the first nozzle unit, A first particle separating unit having a first collecting unit for collecting the remaining particles other than the first target particle; And a third channel unit for guiding the movement of the second dilution air to be mixed with the first target particles discharged from the ejector unit, And a second diluting unit for mixing the first target particles and the second dilution air to form a second dilution gas.

본 발명의 실시예에 있어서, 상기 1차 희석가스가 고온희석 방법으로 형성되도록 상기 1차 희석공기는 150℃ 내지 250℃의 온도로 공급되고, 상기 2차 희석가스가 상온희석 방법으로 형성되도록 상기 2차 희석공기는 10℃ 내지 30℃의 온도로 공급될 수 있다.In an embodiment of the present invention, the primary dilution air is supplied at a temperature of 150 ° C to 250 ° C so that the primary dilution gas is formed by a high-temperature dilution method, The secondary dilution air may be supplied at a temperature of 10 캜 to 30 캜.

본 발명의 실시예에 있어서, 상기 제1노즐부는 제1지름으로 형성되는 하나 이상의 제1가속노즐을 가지고, 상기 제1수집부는 상기 제1가속노즐에 대향되도록 마련되며, 상기 제1지름보다 큰 제2지름으로 형성되는 제1수집노즐을 가질 수 있다.In an embodiment of the present invention, the first nozzle unit has at least one first acceleration nozzle formed with a first diameter, the first collecting unit is provided to face the first acceleration nozzle, And may have a first collection nozzle formed with a second diameter.

본 발명의 실시예에 있어서, 상기 제1입자분리유닛은 상기 제1수집부에 부압을 제공하는 제1펌프를 더 가질 수 있다.In an embodiment of the present invention, the first particle separating unit may further have a first pump for providing a negative pressure to the first collecting unit.

본 발명의 실시예에 있어서, 상기 제1희석유닛 및 상기 제1입자분리유닛을 내측에 수용하고, 상기 제1희석유닛 및 상기 제1입자분리유닛을 가열하는 가열재킷을 더 포함할 수 있다.In an embodiment of the present invention, the apparatus may further include a heating jacket which houses the first dilution unit and the first particle separation unit inside and heats the first dilution unit and the first particle separation unit.

본 발명의 실시예에 있어서, 상기 제1챔버부에서 배출되는 상기 제1타겟입자가 유입되어 분사되는 제2노즐부와, 상기 제2노즐부에서 분사되는 상기 제1타겟입자에서 분리되는 제2타겟입자를 상기 이젝터부로 안내하는 제2챔버부와, 상기 제2타겟입자 이외의 나머지 입자가 수집되는 제2수집부를 가지는 제2입자분리유닛을 더 포함할 수 있다.In an embodiment of the present invention, the first nozzle part may include a second nozzle part through which the first target particle discharged from the first chamber part flows and is injected, and a second nozzle part which is separated from the first target particle injected from the second nozzle part. And a second particle separating unit having a second chamber part for guiding the target particles to the ejector part and a second collecting part for collecting the remaining particles other than the second target particle.

본 발명의 실시예에 있어서, 상기 제2노즐부는 하나 이상의 제2가속노즐을 가지고, 상기 제2수집부는 상기 제2가속노즐에 대향되도록 마련되는 제2수집노즐을 가질 수 있다.In an embodiment of the present invention, the second nozzle portion may have at least one second acceleration nozzle, and the second collecting portion may have a second collection nozzle provided to face the second acceleration nozzle.

본 발명의 실시예에 있어서, 상기 제2입자분리유닛은 상기 제2수집부에 부압을 제공하는 제2펌프를 더 가질 수 있다.In an embodiment of the present invention, the second particle separation unit may further have a second pump for providing a negative pressure to the second collection portion.

한편, 상기 기술적 과제를 달성하기 위하여, 본 발명의 일실시예는 제1유로부를 통해 공급되는 배기가스가 토출되는 이젝터부와, 1차 희석공기가 상기 이젝터부에서 토출되는 배기가스와 혼합되도록 안내하는 제2유로부와, 상기 배기가스 및 상기 1차 희석공기가 혼합되어 형성되는 1차 희석가스가 분사되는 제1노즐부와, 상기 제1노즐부에서 분사되는 상기 1차 희석가스에서 분리되는 제1타겟입자가 수용되는 제1챔버부와, 상기 제1타겟입자 이외의 나머지 입자가 수집되는 제1수집부를 가지는 희석분리유닛; 그리고 상기 희석분리유닛에서 배출되는 상기 제1타겟입자가 이동되는 제3유로부와, 상기 제3유로부와 연결되고 2차 희석공기가 상기 제1타겟입자와 혼합되도록 안내하는 제4유로부를 가지고, 상기 제1타겟입자 및 상기 2차 희석공기가 혼합되어 2차 희석가스가 형성되도록 하는 희석유닛을 포함하는 배기가스 희석분리장치를 제공한다.According to another aspect of the present invention, there is provided an exhaust gas purifying apparatus for an internal combustion engine, comprising: an ejector portion through which exhaust gas supplied through a first flow path is discharged; A first nozzle unit for injecting a primary dilution gas formed by mixing the exhaust gas and the primary dilution air, and a second nozzle unit for separating the primary dilution gas injected from the first nozzle unit A dilution separating unit having a first chamber portion in which the first target particle is accommodated and a first collecting portion in which the remaining particles other than the first target particle are collected; And a fourth flow path part connected to the third flow path part and guiding the second dilution air to be mixed with the first target particles, wherein the third flow path part moves the first target particle discharged from the dilution separation unit And a dilution unit for mixing the first target particles and the second dilution air to form a secondary dilution gas.

본 발명의 실시예에 있어서, 상기 1차 희석가스가 고온희석 방법으로 형성되도록 상기 1차 희석공기는 150℃ 내지 250℃의 온도로 공급되고, 상기 2차 희석가스가 상온희석 방법으로 형성되도록 상기 2차 희석공기는 10℃ 내지 30℃의 온도로 공급될 수 있다.In an embodiment of the present invention, the primary dilution air is supplied at a temperature of 150 ° C to 250 ° C so that the primary dilution gas is formed by a high-temperature dilution method, The secondary dilution air may be supplied at a temperature of 10 캜 to 30 캜.

본 발명의 실시예에 있어서, 상기 제1노즐부는 제1지름으로 형성되는 하나 이상의 가속노즐을 가지고, 상기 제1수집부는 상기 가속노즐에 대향되도록 마련되며, 상기 제1지름보다 큰 제2지름으로 형성되는 수집노즐을 가질 수 있다.In an embodiment of the present invention, the first nozzle portion has at least one acceleration nozzle formed with a first diameter, the first collection portion is provided to face the acceleration nozzle, and the second nozzle has a second diameter larger than the first diameter May have a collection nozzle formed therein.

본 발명의 실시예에 있어서, 상기 희석분리유닛을 내측에 수용하고, 상기 희석분리유닛을 가열하는 가열재킷을 더 포함할 수 있다.In an embodiment of the present invention, the apparatus may further include a heating jacket that houses the diluting / separating unit inside and heats the diluting / separating unit.

본 발명의 실시예에 따르면, 제1유로부에 형성되는 통공에 의해 제1유로부의 중심 방향으로 희석공기가 유입되므로, 제1유로부의 내주면에 달라붙게 되는 배기가스의 입자 수가 감소될 수 있다. 또한, 통공을 통해 1차 희석공기가 제1유로부의 내측으로 유입될 때, 제1유로부의 내주면에 달라붙어 있는 배기가스 입자가 떨어져 나올 수 있다. 이에 따라, 제1유입구로 유입되는 배기가스 중의 입자의 대부분이 1차 희석공기와 혼합될 수 있으며, 배기가스가 1차 희석가스로 되는 과정에서 입자의 손실이 발생하는 것이 효과적으로 개선될 수 있다.According to the embodiment of the present invention, since the dilution air flows into the center of the first flow path portion by the through holes formed in the first flow path portion, the number of particles of the exhaust gas sticking to the inner circumferential face of the first flow path portion can be reduced. Further, when the primary dilution air flows into the first flow path portion through the through holes, the exhaust gas particles adhering to the inner circumferential surface of the first flow path portion may come off. Accordingly, most of the particles in the exhaust gas flowing into the first inlet can be mixed with the primary dilution air, and the loss of particles in the course of the exhaust gas becoming the primary dilution gas can be effectively improved.

또한, 본 발명의 실시예에 따르면, 배기가스가 제1희석유닛에서 1차로 희석이 이루어지고, 제2희석유닛에서 2차로 희석이 이루어짐으로써, 희석율이 높아질 수 있다.Further, according to the embodiment of the present invention, the dilution rate can be increased by exhaust gas being diluted first in the first dilution unit and secondarily diluted in the second dilution unit.

또한, 본 발명의 실시예에 따르면, 배기가스가 고온의 1차 희석공기와 혼합되어 고온희석되고, 이후, 상온의 2차 희석공기와 혼합되어 상온희석되도록 함으로써, 배기가스 내의 수분이 액적화되는 것이 방지될 수 있으며, 이를 통해, 입자의 측정 정확도가 향상될 수 있다.Further, according to the embodiment of the present invention, the exhaust gas is mixed with the high-temperature primary dilution air to be diluted at high temperature, and thereafter mixed with the secondary dilution air at room temperature to be diluted at room temperature, Can be prevented, whereby the measurement accuracy of the particles can be improved.

본 발명의 효과는 상기한 효과로 한정되는 것은 아니며, 본 발명의 상세한 설명 또는 청구범위에 기재된 발명의 구성으로부터 추론 가능한 모든 효과를 포함하는 것으로 이해되어야 한다.It should be understood that the effects of the present invention are not limited to the effects described above, but include all effects that can be deduced from the description of the invention or the composition of the invention set forth in the claims.

도 1은 종래의 입자 희석장치를 나타낸 예시도이다.
도 2는 본 발명의 제1실시예에 따른 배기가스 희석분리장치를 나타낸 예시도이다.
도 3은 본 발명의 제1실시예에 따른 배기가스 희석분리장치의 제1입자분리유닛을 중심으로 나타낸 예시도이다.
도 4는 본 발명의 제1실시예에 따른 배기가스 희석분리장치에서 희석 온도에 따른 효과를 설명하기 위한 그래프이다.
도 5는 본 발명의 제2실시예에 따른 배기가스 희석분리장치를 나타낸 예시도이다.
도 6은 본 발명의 제3실시예에 따른 배기가스 희석분리장치를 나타낸 예시도이다.1 is an exemplary view showing a conventional particle diluting apparatus.
2 is an exemplary view showing an exhaust gas dilution separator according to a first embodiment of the present invention.
3 is an exemplary view showing the first particle separation unit of the exhaust gas dilution separator according to the first embodiment of the present invention.
4 is a graph for explaining the effect of the dilution temperature in the exhaust gas dilution separator according to the first embodiment of the present invention.
5 is an exemplary view showing an exhaust gas dilution separator according to a second embodiment of the present invention.
6 is an exemplary view showing an exhaust gas dilution separator according to a third embodiment of the present invention.

이하에서는 첨부한 도면을 참조하여 본 발명을 설명하기로 한다. 그러나 본 발명은 여러 가지 상이한 형태로 구현될 수 있으며, 따라서 여기에서 설명하는 실시예로 한정되는 것은 아니다. 그리고 도면에서 본 발명을 명확하게 설명하기 위해서 설명과 관계없는 부분은 생략하였으며, 명세서 전체를 통하여 유사한 부분에 대해서는 유사한 도면 부호를 붙였다.DETAILED DESCRIPTION OF THE PREFERRED EMBODIMENTS Hereinafter, the present invention will be described with reference to the accompanying drawings. The present invention may, however, be embodied in many different forms and should not be construed as limited to the embodiments set forth herein. In order to clearly illustrate the present invention, parts not related to the description are omitted, and similar parts are denoted by like reference characters throughout the specification.

명세서 전체에서, 어떤 부분이 다른 부분과 “연결(접속, 접촉, 결합)”되어 있다고 할 때, 이는 “직접적으로 연결”되어 있는 경우뿐 아니라, 그 중간에 다른 부재를 사이에 두고 “간접적으로 연결”되어 있는 경우도 포함한다. 또한 어떤 부분이 어떤 구성요소를 “포함”한다고 할 때, 이는 특별히 반대되는 기재가 없는 한 다른 구성요소를 제외하는 것이 아니라 다른 구성요소를 더 구비할 수 있다는 것을 의미한다.Throughout the specification, when a part is referred to as being "connected" (connected, connected, coupled) with another part, it is not only the case where it is "directly connected" "Is included. Also, when an element is referred to as " comprising ", it means that it can include other elements, not excluding other elements unless specifically stated otherwise.

본 명세서에서 사용한 용어는 단지 특정한 실시예를 설명하기 위해 사용된 것으로, 본 발명을 한정하려는 의도가 아니다. 단수의 표현은 문맥상 명백하게 다르게 뜻하지 않는 한, 복수의 표현을 포함한다. 본 명세서에서, “포함하다” 또는 “가지다” 등의 용어는 명세서상에 기재된 특징, 숫자, 단계, 동작, 구성요소, 부품 또는 이들을 조합한 것이 존재함을 지정하려는 것이지, 하나 또는 그 이상의 다른 특징들이나 숫자, 단계, 동작, 구성요소, 부품 또는 이들을 조합한 것들의 존재 또는 부가 가능성을 미리 배제하지 않는 것으로 이해되어야 한다.The terminology used herein is for the purpose of describing particular embodiments only and is not intended to be limiting of the invention. The singular expressions include plural expressions unless the context clearly dictates otherwise. In this specification, the terms "comprises" or "having" and the like refer to the presence of stated features, integers, steps, operations, elements, components, or combinations thereof, But do not preclude the presence or addition of one or more other features, integers, steps, operations, elements, components, or combinations thereof.

이하 첨부된 도면을 참고하여 본 발명의 실시예를 상세히 설명하기로 한다.Hereinafter, embodiments of the present invention will be described in detail with reference to the accompanying drawings.

도 2는 본 발명의 제1실시예에 따른 배기가스 희석분리장치를 나타낸 예시도이고, 도 3은 본 발명의 제1실시예에 따른 배기가스 희석분리장치의 제1입자분리유닛을 중심으로 나타낸 예시도이고, 도 4는 본 발명의 제1실시예에 따른 배기가스 희석분리장치에서 희석 온도에 따른 효과를 설명하기 위한 그래프이다.FIG. 2 is an exemplary view showing an exhaust dilution separator according to a first embodiment of the present invention, and FIG. 3 is a view showing the exhaust gas dilution separator according to the first embodiment of the present invention, And FIG. 4 is a graph for explaining the effect of the dilution temperature in the exhaust gas dilution separator according to the first embodiment of the present invention.

도 2 내지 도 4에서 보는 바와 같이, 배기가스 희석분리장치는 제1희석유닛(100), 제1입자분리유닛(200) 그리고 제2희석유닛(300)을 포함할 수 있다.As shown in FIGS. 2 to 4, the exhaust gas dilution separator may include a first dilution unit 100, a first particle separation unit 200, and a second dilution unit 300.

제1희석유닛(100)은 제1유로부(110) 및 제2유로부(120)를 가질 수 있다.The first dilution unit 100 may have a first flow path portion 110 and a second flow path portion 120.

제1유로부(110)에는 제1유입구(111)가 구비될 수 있으며, 제1유입구(111)로는 배기가스(1)가 유입될 수 있다. 본 발명에서 배기가스는 측정 대상 유체의 한 예일 수 있으며, 측정 대상 유체가 반드시 배기가스에 한정되는 것은 아니다. The first flow path 110 may be provided with a first inlet 111 and the exhaust gas 1 may flow into the first inlet 111. In the present invention, the exhaust gas may be an example of the fluid to be measured, and the fluid to be measured is not necessarily limited to the exhaust gas.

제1유로부(110)는 제1유입구(111)로 유입되는 배기가스가 이동되도록 안내할 수 있다. 제1유로부(110)는 제1희석유닛(100)의 중심축 방향으로 형성될 수 있다.The first flow path portion 110 may guide the exhaust gas flowing into the first inlet 111 to move. The first flow path portion 110 may be formed in the center axis direction of the first dilution unit 100.

제2유로부(120)에는 제2유입구(121)가 구비될 수 있으며, 제2유입구(121)로는 1차 희석공기(2)가 유입될 수 있다. The second flow path 120 may be provided with a second inlet 121 and the first dilution air 2 may be introduced into the second inlet 121.

제2유로부(120)는 제1유로부(110)를 감싸도록 형성될 수 있다. 또한, 제2유로부(120)는 제1유로부(110)와 연결될 수 있다. 이를 위해, 제1유로부(110) 및 제2유로부(120)의 경계면에는 통공(122)이 형성될 수 있다. 통공(122)은 제1유로부(110)에 형성될 수 있다. 제2유로부(120)를 따라 이동되는 1차 희석공기는 통공(122)을 통해 제1유로부(110)의 내측으로 유입될 수 있으며, 제1유로부(110)에서 배기가스 및 1차 희석공기는 혼합되어 1차 희석가스(3)가 형성될 수 있다. The second flow path portion 120 may be formed to surround the first flow path portion 110. In addition, the second flow path portion 120 may be connected to the first flow path portion 110. For this purpose, a through hole 122 may be formed in the interface between the first flow path portion 110 and the second flow path portion 120. The through hole 122 may be formed in the first flow path portion 110. The primary dilution air flowing along the second flow path 120 can be introduced into the first flow path part 110 through the through hole 122 and the exhaust gas and the primary The dilution air may be mixed to form a primary dilution gas (3).

제1유로부(110)에 형성되는 통공(122)에 의해 제1유로부(110)의 내주면의 면적이 줄어들게 되고, 통공(122)을 통해 제1유로부(110)의 중심방향으로 1차 희석공기가 유입되므로, 제1유로부(110)의 내주면에 달라붙게 되는 배기가스의 입자 수가 감소될 수 있다. The area of the inner circumferential surface of the first flow path portion 110 is reduced by the through holes 122 formed in the first flow path portion 110, The number of particles of the exhaust gas adhering to the inner circumferential surface of the first flow path portion 110 can be reduced.

그리고, 제1유로부(110)에 형성되는 통공(122)을 통해 1차 희석공기가 제1유로부(110)의 내측으로 유입될 때, 제1유로부(110)의 내주면에 달라붙어 있는 배기가스 입자가 떨어져 나올 수 있다. 이에 따라, 제1유로부(110)에서 이동되는 배기가스 중의 입자의 대부분이 1차 희석공기와 혼합될 수 있으며, 배기가스가 1차 희석가스로 되는 과정에서 입자의 손실이 발생하는 것이 효과적으로 감소될 수 있다. When the first dilution air flows into the first flow path portion 110 through the through hole 122 formed in the first flow path portion 110, the first dilution air is adhered to the inner surface of the first flow path portion 110 The exhaust gas particles may come off. Accordingly, most of the particles in the exhaust gas moving in the first flow path portion 110 can be mixed with the primary dilution air, and it is possible to effectively reduce the loss of particles in the course of the exhaust gas becoming the primary dilution gas .

또한, 제1희석유닛(100)에는 배출부(130)가 구비될 수 있고, 배출부(130)는 제1유로부(110)와 연결될 수 있다. 그리고, 제1유로부(110)에서 형성되는 1차 희석가스는 배출부(130)로 배출될 수 있다. The first dilution unit 100 may include a discharge unit 130 and the discharge unit 130 may be connected to the first flow path unit 110. The primary diluent gas formed in the first flow path portion 110 may be discharged to the discharge portion 130.

제1입자분리유닛(200)은 제1노즐부(210), 제1수집부(220) 및 제1챔버부(230)를 가질 수 있다. The first particle separating unit 200 may have a first nozzle unit 210, a first collecting unit 220, and a first chamber unit 230.

그리고, 제1노즐부(210)는 커넥터부(211), 천이부(212) 및 제1가속노즐(213)을 가질 수 있다.The first nozzle unit 210 may have a connector unit 211, a transition unit 212, and a first acceleration nozzle 213.

커넥터부(211)는 제1희석유닛(100)의 배출부(130)와 연결될 수 있으며, 배출부(130)로 배출되는 1차 희석가스는 커넥터부(211)로 유입될 수 있다.The connector portion 211 may be connected to the discharge portion 130 of the first dilution unit 100 and the primary dilution gas discharged to the discharge portion 130 may be introduced into the connector portion 211.

천이부(212)는 커넥터부(211)와 연결될 수 있으며, 1차 희석가스의 이동 방향으로 확대 형성될 수 있다.The transition portion 212 may be connected to the connector portion 211 and may be formed to be enlarged in the moving direction of the primary dilution gas.

제1가속노즐(213)은 천이부(212)의 후단부에 구비될 수 있다. The first acceleration nozzle 213 may be provided at the rear end of the transition portion 212.

본 명세서에서 전단/전단부 및 후단/후단부는 설명의 편의상 배기가스의 흐름 방향을 기준으로 한다. In this specification, the front end / front end portion and the rear end / rear end portion refer to the flow direction of the exhaust gas for convenience of explanation.

제1가속노즐(213)은 하나 이상이 마련될 수 있다. 제1가속노즐(213)은 각각 제1지름(D1)을 가지도록 형성될 수 있다. 제1희석유닛(100)에서 배출되는 1차 희석가스는 천이부(212)를 거쳐 제1가속노즐(213)에서 분사될 수 있다. At least one first acceleration nozzle 213 may be provided. Each of the first acceleration nozzles 213 may have a first diameter D1. The primary dilution gas discharged from the first dilution unit 100 may be injected from the first acceleration nozzle 213 through the transition portion 212.

그리고, 제1수집부(220)는 제1노즐부(210)와 이격되어 구비될 수 있으며, 1차 희석가스의 흐름방향을 기준으로 제1노즐부(210)의 후단에 마련될 수 있다. The first collecting unit 220 may be disposed apart from the first nozzle unit 210 and may be provided at a rear end of the first nozzle unit 210 with respect to a flow direction of the first dilution gas.

제1수집부(220)는 제1가속노즐(213)에 대향되도록 마련되는 제1수집노즐(221)을 가질 수 있다. 제1수집노즐(221)은 제2지름(D2)을 가지도록 형성될 수 있으며, 제2지름(D2)은 제1지름(D1)보다 큰 지름일 수 있다. 또한, 제1수집노즐(221)의 전단부는 제1가속노즐(213)과 이격되도록 마련될 수 있다. The first collecting unit 220 may have a first collecting nozzle 221 facing the first accelerating nozzle 213. The first collection nozzle 221 may be formed to have a second diameter D2 and the second diameter D2 may be larger than the first diameter D1. The front end of the first collection nozzle 221 may be spaced apart from the first acceleration nozzle 213.

그리고, 제1챔버부(230)는 제1노즐부(210)와 제1수집부(220)의 사이에 마련될 수 있다. The first chamber part 230 may be provided between the first nozzle part 210 and the first collecting part 220.

제1가속노즐(213)에서 분사되는 1차 희석가스는 제1챔버부(230)의 내부 공간을 가로질러 제1가속노즐(213)에 대향되도록 마련되는 제1수집노즐(221)로 향하게 된다. The primary dilution gas injected from the first accelerating nozzle 213 is directed to the first collecting nozzle 221 provided to face the first accelerating nozzle 213 across the inner space of the first chamber 230 .

여기서, 제1가속노즐(213)의 제1지름(D1)과 제1수집노즐(221)의 제2지름(D2)의 크기 및 제1가속노즐(213)에서 1차 희석가스의 유속 등을 제어하여 스톡스수(Stokes number)를 조절할 수 있다. 그리고, 스톡스수의 조절을 통해 제1수집노즐(221)로 유입되는 입자와, 제1수집노즐(221)로 유입되지 않고 제1챔버부(230)에 수용되는 입자가 분리되도록 할 수 있다. The first diameter D1 of the first acceleration nozzle 213 and the second diameter D2 of the first collecting nozzle 221 and the first dilution gas flow rate of the first dilution nozzle 213 To control the Stokes number. By controlling the Stokes number, the particles introduced into the first collection nozzle 221 and the particles received in the first chamber 230 without being introduced into the first collection nozzle 221 can be separated.

즉, 본 발명에 따르면, 제1수집노즐(221)로 유입되지 않고 제1챔버부(230)에 수용되는 입자인 제1타겟입자(4)를 분리할 수 있으며, 이에 따라, 추후 제1타겟입자에 대한 입자 농도가 측정되도록 할 수 있다. That is, according to the present invention, it is possible to separate the first target particles 4, which are the particles contained in the first chamber portion 230 without being introduced into the first collection nozzle 221, The particle concentration for the particles can be measured.

PM(Particulate Matter)10은 입자의 크기가 지름 10㎛ 이하인 인 경우로 보통 미세먼지로 칭하고, PM2.5는 입자의 크기가 지름 2.5㎛ 이하인 인 경우로 보통 초미세먼지로 칭하는데, 스톡스수를 조절함으로써 제1타겟입자가 PM10 또는 PM2.5로 제어될 수 있다. PM (Particulate Matter) 10 is a particle with a diameter of 10 μm or less. It is usually called fine dust. PM 2.5 is a particle with a diameter of 2.5 μm or less. It is usually called ultra fine dust. The first target particle can be controlled to PM10 or PM2.5.

스톡스수는 제1노즐부(210)에서 총 1차 희석가스의 유량, 제1가속노즐(213)의 제1지름(D1), 제1가속노즐(213)에서 분사되는 1차 희석가스의 유속, 제1가속노즐(213)의 길이, 제1가속노즐(213)과 제1수집노즐(221) 사이의 거리, 제1수집노즐(221)의 제2지름(D2), 1차 희석가스의 온도를 포함하는 조건에 따라 계산될 수 있다. 그리고, 스톡스수가 특정 범위의 값이 되도록 조절됨으로써, 1차 희석가스 중의 입자가 크기에 따라 분류되도록 할 수 있다. 여기서, 입자의 크기에 따른 분류는 입자의 관성에 기인하여 이루어질 수 있다. 즉, 제1수집부(220)에 수집되는 입자(5) 및 제1챔버부(230)에 수용되는 입자가 분류될 수 있으며, 제1챔버부(230)에 수용되는 입자, 즉, 제1타겟입자의 크기가 조절될 수 있다.The Stokes number is the sum of the flow rate of the total primary dilution gas, the first diameter D1 of the first acceleration nozzle 213, the flow rate of the primary dilution gas injected from the first acceleration nozzle 213, The length of the first accelerating nozzle 213, the distance between the first accelerating nozzle 213 and the first collecting nozzle 221, the second diameter D2 of the first collecting nozzle 221, Can be calculated according to conditions including temperature. Then, by adjusting the Stokes number to a value within a specific range, the particles in the primary dilution gas can be classified according to their sizes. Here, the classification according to the particle size can be made due to the inertia of the particles. That is, the particles 5 collected in the first collecting unit 220 and the particles accommodated in the first chamber 230 can be sorted and the particles contained in the first chamber 230, that is, The size of the target particle can be adjusted.

제1타겟입자가 PM10인 경우, 제1챔버부(230)에는 1차 희석가스에서 분리되는 PM10의 입자가 수용될 수 있으며, 제1수집부(220)에는 제1타겟입자 이외의 나머지 입자가 수집될 수 있다. 또한, 제1타겟입자가 PM2.5인 경우, 제1챔버부(230)에는 1차 희석가스에서 분리되는 PM2.5의 입자가 수용될 수 있으며, 제1수집부(220)에는 제1타겟입자 이외의 나머지 입자가 수집될 수 있다.When the first target particle is PM10, particles of PM10 separated from the first dilution gas may be accommodated in the first chamber portion 230, and other particles other than the first target particle may be contained in the first collecting portion 220 Can be collected. When the first target particle is PM2.5, particles of PM2.5 separated from the first dilution gas may be accommodated in the first chamber portion 230. In the first collecting portion 220, Other particles than the particles can be collected.

제1입자분리유닛(200)은 제1펌프(240)를 더 가질 수 있다. 제1펌프(240)는 제1수집부(220)에 연결될 수 있으며, 제1수집부(220)에 부압을 제공할 수 있다. 제1수집부(220)에 수집되는 입자들은 제1수집부(220)에 제공되는 부압에 의해 배출되거나, 별도의 용기로 보내질 수 있다.The first particle separation unit 200 may further have a first pump 240. The first pump 240 may be connected to the first collecting unit 220 and may provide a negative pressure to the first collecting unit 220. The particles collected in the first collecting unit 220 may be discharged by a negative pressure supplied to the first collecting unit 220 or may be sent to a separate container.

그리고, 제2희석유닛(300)은 이젝터부(310) 및 제3유로부(320)를 가질 수 있다. The second dilution unit 300 may have an ejector 310 and a third flow path 320.

이젝터부(310)는 제1챔버부(230)와 연결될 수 있다. 이젝터부(310)와 제1챔버부(230)의 사이에는 이젝터부(310)와 제1챔버부(230)를 연결하는 제1연결부(330)가 마련될 수 있다. The ejector part 310 may be connected to the first chamber part 230. A first connection part 330 connecting the ejector part 310 and the first chamber part 230 may be provided between the ejector part 310 and the first chamber part 230.

제1챔버부(230)에 수용되는 제1타겟입자는 제1연결부(330)를 통해 이젝터부(310)로 유입된 후, 이젝터부(310)에서 토출될 수 있다. The first target particles received in the first chamber part 230 may be discharged from the ejector part 310 after being introduced into the ejector part 310 through the first connection part 330.

제3유로부(320)는 이젝터부(310)의 전단과 연결되도록 구비될 수 있다. 제3유로부(320)에는 제3유입구(321)가 마련될 수 있으며, 제3유입구(321)로는 2차 희석공기(6)가 유입될 수 있다. 제3유입구(321)로 유입되는 2차 희석공기는 제3유로부(320)로 이동되어 이젝터부(310)의 후단으로 배출될 수 있으며, 이젝터부(310)에서 배출되는 제1타겟입자와 혼합될 수 있다. 그리고, 제1타겟입자 및 2차 희석공기가 혼합되어 2차 희석가스(7)가 형성될 수 있다. 2차 희석가스는 측정하고자 하는 대상 입자로 이루어진 것일 수 있다. The third flow path 320 may be connected to the front end of the ejector 310. The third flow path 320 may include a third inlet 321 and the second inlet 321 may receive secondary dilution air 6. The second dilution air flowing into the third inlet 321 may be moved to the third flow path 320 and may be discharged to the rear end of the ejector 310. The first target particles discharged from the ejector 310 Can be mixed. Then, the first target particle and the secondary dilution air are mixed to form the secondary dilution gas 7. The secondary dilution gas may be composed of the target particles to be measured.

본 실시예에 따르면, 배기가스가 제1희석유닛(100)에서 1차로 희석이 이루어지고, 제2희석유닛(300)에서 2차로 희석이 이루어짐으로써, 희석율이 높아질 수 있다. According to this embodiment, the exhaust gas is diluted first in the first dilution unit 100 and diluted secondarily in the second dilution unit 300, so that the dilution ratio can be increased.

한편, 제1희석유닛(100)에 공급되는 1차 희석공기는 고온의 공기일 수 있다. 본 실시예에서 1차 희석공기는 150℃ 내지 250℃의 온도로 공급될 수 있다. 그리고, 제1희석유닛(100)에서 생성되는 1차 희석가스는 고온희석 방법으로 형성될 수 있다. 그리고, 제2희석유닛(300)에 공급되는 2차 희석공기는 상온의 공기일 수 있다. On the other hand, the primary dilution air supplied to the first dilution unit 100 may be high temperature air. In the present embodiment, the primary dilution air may be supplied at a temperature of 150 ° C to 250 ° C. The primary dilution gas generated in the first dilution unit 100 may be formed by a high-temperature dilution method. Secondary dilution air supplied to the second dilution unit 300 may be air at room temperature.

또한, 본 실시예에서, 2차 희석공기는 10℃ 내지 30℃의 온도로 공급될 수 있다. 그리고, 제2희석유닛(300)에서 형성되는 2차 희석가스는 상온희석 방법으로 형성될 수 있다. Further, in this embodiment, the secondary dilution air can be supplied at a temperature of 10 캜 to 30 캜. The secondary dilution gas formed in the second dilution unit 300 may be formed by a room temperature dilution method.

도 4를 참조하면, 제1희석유닛(100)으로 유입되는 배기가스는 고온의 상태(P0)인데, 고온 상태의 배기가스가 상온의 1차 희석공기와 혼합되는 경우, 즉, 상온희석되는 경우 배기가스 내의 수분이 모두 액적으로 변환될 수 있다. 이에 따라, 제1희석유닛(100)을 거치면서 생성되는 제1상태(P1)의 1차 희석가스는 다량의 액적을 포함할 수 있다. 그리고, 제2희석유닛(300)에서 상온의 2차 희석공기와 혼합되어 제2상태(P2)의 2차 희석가스로 형성되는 경우, 2차 희석가스에는 다량의 액적이 포함되게 된다. 이러한 액적은 입자 측정 시에 입자로 취급될 수 있기 때문에, 측정 정확도가 저하되는 원인이 될 수 있다. Referring to FIG. 4, the exhaust gas flowing into the first dilution unit 100 is in a high temperature state (P0). When the exhaust gas at a high temperature is mixed with the primary dilution air at room temperature, that is, All moisture in the exhaust gas can be converted into droplets. Accordingly, the primary dilution gas in the first state P1 generated through the first dilution unit 100 may contain a large amount of droplets. When the second dilution unit 300 is formed of the second dilution gas in the second state P2 mixed with the second dilution air at room temperature, the second dilution gas contains a large amount of droplets. Since these droplets can be treated as particles in the particle measurement, the measurement accuracy may be degraded.

그러나, 본 발명에 따르면, 고온의 상태(P0)의 배기가스가 고온의 1차 희석공기와 혼합됨으로써, 즉, 고온희석됨으로써 제1희석유닛(100)을 거치면서 생성되는 1차 희석가스는 제3상태(P3)가 될 수 있으며, 이에 따라 배기가스 내의 수분이 액적화되는 것이 방지될 수 있다. 그리고, 제2희석유닛(300)에서 상온의 2차 희석공기와 혼합되어 제2상태(P2)의 2차 희석가스로 형성됨으로 2차 희석가스에는 액적이 포함되지 않거나, 액적의 함유량이 최소화될 수 있다. 그리고 이에 따라, 입자의 측정 정확도가 향상될 수 있다. However, according to the present invention, the primary dilution gas produced by mixing the exhaust gas in the high temperature state P0 with the high-temperature primary dilution air, that is, passing through the first dilution unit 100 by high- 3 state (P3), whereby water in the exhaust gas can be prevented from being dropletized. In the second dilution unit 300, the second dilution gas in the second state P2 is mixed with the second dilution air at room temperature, so that the second dilution gas does not contain droplets or the droplet content is minimized . And thus the measurement accuracy of the particles can be improved.

그리고, 배기가스 희석분리장치는 가열재킷(400)을 더 포함할 수 있다. 가열재킷(400)은 제1희석유닛(100) 및 제1입자분리유닛(200)을 내측에 수용할 수 있다. 그리고, 가열재킷(400)은 제1희석유닛(100) 및 제1입자분리유닛(200)을 미리 정해진 온도 범위로 가열할 수 있다. The exhaust gas dilution separator may further include a heating jacket 400. The heating jacket 400 can house the first dilution unit 100 and the first particle separation unit 200 inside. Then, the heating jacket 400 can heat the first dilution unit 100 and the first particle separation unit 200 to a predetermined temperature range.

가열재킷(400)은 다중 벽을 가질 수 있으며, 다중 벽 사이로 수증기, 고은의 기름, 고온의 공기 등과 같은 가열매체가 마련되도록 형성될 수 있다. The heating jacket 400 may have multiple walls and may be formed to have a heating medium such as water vapor, oil of high silver, hot air or the like between multiple walls.

가열재킷(400)에 의해 제1희석유닛(100) 및 제1입자분리유닛(200)에 열이 제공되도록 함으로써, 배기가스가 고온희석되도록 하는 환경이 더욱 안정적으로 형성될 수 있다.By providing heat to the first dilution unit 100 and the first particle separation unit 200 by the heating jacket 400, an environment in which the exhaust gas is diluted at a high temperature can be formed more stably.

도 5는 본 발명의 제2실시예에 따른 배기가스 희석분리장치를 나타낸 예시도이다. 본 실시예에서는 입자분리유닛이 다단으로 구성될 수 있으며, 다른 구성은 전술한 제1실시예와 동일하므로 설명은 생략한다.5 is an exemplary view showing an exhaust gas dilution separator according to a second embodiment of the present invention. In this embodiment, the particle separating unit can be configured in multiple stages, and the other structures are the same as those in the first embodiment described above, so the description is omitted.

도 5에서 보는 바와 같이, 배기가스 희석분리장치는 제2입자분리유닛(1500)을 더 포함할 수 있다. As shown in FIG. 5, the exhaust gas dilution separator may further include a second particle separation unit 1500.

제2입자분리유닛(1500)은 가열재킷(1400)의 내부에 구비될 수 있으며, 제1입자분리유닛(1200) 및 제2희석유닛(1300)의 사이에 마련될 수 있다. The second particle separation unit 1500 may be provided inside the heating jacket 1400 and may be provided between the first particle separation unit 1200 and the second dilution unit 1300.

그리고, 제2입자분리유닛(1500)은 제2노즐부(1510), 제2챔버부(1520) 및 제2수집부(1530)를 가질 수 있다.The second particle separating unit 1500 may have a second nozzle portion 1510, a second chamber portion 1520, and a second collecting portion 1530.

제2노즐부(1510)는 제1입자분리유닛(1200)의 제1챔버부(1230)와 연결될 수 있다. 제1챔버부(1230)에서 배출되는 제1타겟입자는 제2노즐부(1510)로 유입된 후 분사될 수 있다. 제2노즐부(1510)는 하나 이상의 제2가속노즐(1511)을 가질 수 있다. The second nozzle unit 1510 may be connected to the first chamber unit 1230 of the first particle separation unit 1200. The first target particles discharged from the first chamber part 1230 may be injected into the second nozzle part 1510 and then injected. The second nozzle unit 1510 may have one or more second acceleration nozzles 1511.

제2챔버부(1520)는 제2노즐부(1510)에서 분사되는 제1타겟입자에서 분리되는 제2타겟입자(8)를 수용할 수 있다. The second chamber portion 1520 may receive the second target particles 8 separated from the first target particles that are ejected from the second nozzle portion 1510.

제2챔버부(1520)는 제2희석유닛(1300)의 이젝터부(1310)와 연결될 수 있으며, 제2챔버부(1520) 및 이젝터부(1310)의 사이에는 제2챔버부(1520) 및 이젝터부(1310)를 연결하는 제2연결부(1340)가 마련될 수 있다.The second chamber portion 1520 may be connected to the ejector portion 1310 of the second dilution unit 1300 and the second chamber portion 1520 and the second chamber portion 1520 may be connected between the second chamber portion 1520 and the ejector portion 1310. [ And a second connection portion 1340 connecting the ejector portion 1310 may be provided.

제2챔버부(1520)에 수집되는 제2타겟입자는 이젝터부(1310)로 안내될 수 있으며, 이젝터부(1310)에서 토출될 수 있다. The second target particles collected in the second chamber part 1520 may be guided to the ejector part 1310 and may be ejected from the ejector part 1310.

제2수집부(1530)는 제2타겟입자 이외의 나머지 입자를 수집할 수 있으며, 제2수집부(1530)는 제2가속노즐(1511)에 대향되도록 마련되는 제2수집노즐(1531)을 가질 수 있다.The second collecting unit 1530 may collect remaining particles other than the second target particle and the second collecting unit 1530 may collect the second collecting nozzle 1531 that is opposed to the second accelerating nozzle 1511 Lt; / RTI >

제2입자분리유닛(1500)은 제2펌프(1550)를 더 가질 수 있으며, 제2펌프(1550)는 제2수집부(1530)와 연결되어 제2수집부(1530)에 부압을 제공할 수 있다. 제2수집부(1530)에 수집되는 입자는 제2펌프(1550)에서 제공되는 부압에 의해 배출될 수 있다.The second particle separation unit 1500 may further have a second pump 1550 and the second pump 1550 may be connected to the second collection unit 1530 to provide a negative pressure to the second collection unit 1530 . The particles collected in the second collecting part 1530 can be discharged by the negative pressure provided by the second pump 1550.

본 실시예에서는 제1입자분리유닛(1200) 및 제2입자분리유닛(1500)이 다단 형태로 마련되어 배기가스에서 입자 분리가 복수회로 이루어지도록 할 수 있다. 즉, PM2.5의 입자를 측정하고자 하는 경우, 제1입자분리유닛(1200)에서 PM10의 입자가 분리되도록 하고, 제2입자분리유닛(1500)에서 PM2.5의 입자가 분리되도록 함으로써, 측정대상이 되는 PM2.5의 입자의 샘플링 정확도가 더욱 개선될 수 있다.In this embodiment, the first particle separating unit 1200 and the second particle separating unit 1500 are provided in a multi-stage form so that a plurality of circuits can be separated from the exhaust gas. That is, when the particle of PM2.5 is to be measured, the particles of PM10 are separated in the first particle separating unit 1200 and the particles of PM2.5 are separated in the second particle separating unit 1500, The sampling accuracy of the target PM 2.5 particles can be further improved.

도 6은 본 발명의 제3실시예에 따른 배기가스 희석분리장치를 나타낸 예시도이다. 본 실시예에서는 배기가스의 흐름방향을 기준으로 희석유닛과 분리유닛의 전후 위치가 바뀔 수 있으며, 다른 구성은 전술한 제1실시예와 동일하므로 설명은 생략한다.6 is an exemplary view showing an exhaust gas dilution separator according to a third embodiment of the present invention. In this embodiment, the front and rear positions of the diluting unit and the separating unit can be changed based on the flow direction of the exhaust gas, and the other structure is the same as that of the first embodiment described above, so that description is omitted.

도 6에서 보는 바와 같이, 배기가스 희석분리장치는 희석분리유닛(2100) 및 희석유닛을 포함할 수 있다.As shown in FIG. 6, the exhaust gas dilution separating apparatus may include a dilution separating unit 2100 and a diluting unit.

그리고, 희석분리유닛(2100)은 이젝터부(2110), 제2유로부(2120), 제1노즐부(2130), 제1챔버부(2140) 및 제1수집부(2150)를 가질 수 있다. The dilution and separation unit 2100 may have an ejector portion 2110, a second flow path portion 2120, a first nozzle portion 2130, a first chamber portion 2140 and a first collecting portion 2150 .

이젝터부(2110)는 제1유로부(2160)와 연결될 수 있으며, 제1유로부(2160)를 통해 공급되는 배기가스는 이젝터부(2110)에서 토출될 수 있다. 이젝터부(2110)는 하나 이상이 형성될 수 있다.The ejector 2110 may be connected to the first flow path portion 2160 and the exhaust gas supplied through the first flow path portion 2160 may be discharged from the ejector portion 2110. At least one ejector portion 2110 may be formed.

그리고, 제2유로부(2120)는 1차 희석공기가 이젝터부(2110)에서 토출되는 배기가스와 혼합되도록 안내할 수 있다.The second flow path portion 2120 can guide the primary dilution air to be mixed with the exhaust gas discharged from the ejector portion 2110.

제1노즐부(2130)는 1차 희석공기 및 배기가스가 혼합되어 형성되는 1차 희석가스를 분사할 수 있다. 제1노즐부(2130)는 하나 이상의 가속노즐(2131)을 가질 수 있으며, 가속노즐(2131)은 이젝터부(2110)에 대응되도록 마련될 수 있다. 가속노즐(2131)은 제1지름으로 형성될 수 있다. The first nozzle unit 2130 may inject a primary dilution gas formed by mixing primary dilution air and exhaust gas. The first nozzle unit 2130 may have one or more acceleration nozzles 2131 and the acceleration nozzle 2131 may correspond to the ejector unit 2110. The acceleration nozzle 2131 may be formed with a first diameter.

제1챔버부(2140)는 제1노즐부(2130)에서 분사되는 1차 희석가스에서 분리되는 제1타겟입자를 수용할 수 있다.The first chamber portion 2140 can receive the first target particles separated from the primary dilution gas injected from the first nozzle portion 2130.

그리고, 제1수집부(2150)에는 제1타겟입자 이외의 나머지 입자가 수집될 수 있다. 제1수집부(2150)는 가속노즐(2131)에 대향되도록 마련되며 가속노즐(2131)의 제1지름보다 큰 제2지름으로 형성되는 수집노즐을 가질 수 있다.In addition, the first collecting unit 2150 may collect remaining particles other than the first target particle. The first collecting part 2150 may have a collecting nozzle which is provided to face the accelerating nozzle 2131 and is formed with a second diameter larger than the first diameter of the accelerating nozzle 2131.

희석분리유닛(2100)은 가열재킷(2300)의 내부에 구비될 수 있으며, 1차 희석공기는 150℃ 내지 250℃의 온도로 공급될 수 있다.The dilution separation unit 2100 may be provided inside the heating jacket 2300 and the primary dilution air may be supplied at a temperature of 150 ° C to 250 ° C.

그리고, 희석유닛(2200)은 제3유로부(2210) 및 제4유로부(2220)를 가질 수 있다. The dilution unit 2200 may have a third flow path portion 2210 and a fourth flow path portion 2220.

제3유로부(2210)는 제1챔버부(2140)와 연결될 수 있으며, 제1챔버부(2140)에서 배출되는 제1타겟입자는 제3유로부(2210)로 유입되어 이동될 수 있다. The third channel portion 2210 may be connected to the first chamber portion 2140 and the first target particles discharged from the first chamber portion 2140 may flow into the third flow path portion 2210 to be moved.

그리고, 제4유로부(2220)는 제3유로부(2210)와 통공(2211)에 의해 연결될 수 있다. 제4유로부(2220)로 공급되는 2차 희석공기는 통공(2211)을 통해 제3유로부(2210)로 유입되어 제1타겟입자와 혼합될 수 있으며, 이에 따라, 2차 희석가스가 형성될 수 있다. 2차 희석공기는 10℃ 내지 30℃의 온도로 공급될 수 있다.The fourth flow path portion 2220 may be connected to the third flow path portion 2210 by a through hole 2211. Secondary dilution air supplied to the fourth flow path portion 2220 flows into the third flow path portion 2210 through the through hole 2211 and can be mixed with the first target particles, . The secondary dilution air may be supplied at a temperature of 10 캜 to 30 캜.

본 실시에에 따르면, 희석분리유닛(2100)을 거치면서 측정하고자 하는 타겟입자로 이루어지는 희석가스가 1차로 생성될 수 있으며, 이후, 희석유닛(2200)을 거치면서 2차로 희석가스가 생성되도록 할 수 있다.According to the present embodiment, a dilution gas composed of target particles to be measured can be generated first while passing through the dilution separation unit 2100, and then a dilution gas is generated secondarily through the dilution unit 2200 .

전술한 본 발명의 설명은 예시를 위한 것이며, 본 발명이 속하는 기술분야의 통상의 지식을 가진 자는 본 발명의 기술적 사상이나 필수적인 특징을 변경하지 않고서 다른 구체적인 형태로 쉽게 변형이 가능하다는 것을 이해할 수 있을 것이다. 그러므로 이상에서 기술한 실시예들은 모든 면에서 예시적인 것이며 한정적이 아닌 것으로 이해해야만 한다. 예를 들어, 단일형으로 설명되어 있는 각 구성 요소는 분산되어 실시될 수도 있으며, 마찬가지로 분산된 것으로 설명되어 있는 구성 요소들도 결합된 형태로 실시될 수 있다.It will be understood by those skilled in the art that the foregoing description of the present invention is for illustrative purposes only and that those of ordinary skill in the art can readily understand that various changes and modifications may be made without departing from the spirit or essential characteristics of the present invention. will be. It is therefore to be understood that the above-described embodiments are illustrative in all aspects and not restrictive. For example, each component described as a single entity may be distributed and implemented, and components described as being distributed may also be implemented in a combined form.

본 발명의 범위는 후술하는 청구범위에 의하여 나타내어지며, 청구범위의 의미 및 범위 그리고 그 균등 개념으로부터 도출되는 모든 변경 또는 변형된 형태가 본 발명의 범위에 포함되는 것으로 해석되어야 한다.The scope of the present invention is defined by the appended claims, and all changes or modifications derived from the meaning and scope of the claims and their equivalents should be construed as being included within the scope of the present invention.

100: 제1희석유닛
110: 제1유로부
120: 제2유로부
200, 1200: 제1입자분리유닛
210: 제1노즐부
213: 제1가속노즐
220: 제1수집부
221: 제1수집노즐
230, 1230: 제1챔버부
240: 제1펌프
300, 1300: 제2희석유닛
310, 1310: 이젝터부
400, 1400, 2300: 가열재킷
1500: 제2입자분리유닛
1510: 제2노즐부
1511: 제2가속노즐
1520: 제2챔버부
1530: 제2수집부
1531: 제2수집노즐
2100: 희석분리유닛
2200: 희석유닛100: first diluting unit
110:
120:
200, 1200: first particle separation unit
210: first nozzle portion
213: first acceleration nozzle
220: first collecting unit
221: first collecting nozzle
230, and 1230:
240: first pump
300, 1300: second diluting unit
310, 1310: ejector portion
400, 1400, 2300: Heating jacket
1500: second particle separation unit
1510: second nozzle portion
1511: Second accelerator nozzle
1520: second chamber part
1530:
1531: Second collecting nozzle
2100: Dilution separation unit
2200: Dilution unit

Claims (12)

배기가스가 이동되는 제1유로부와, 상기 제1유로부와 연결되고 1차 희석공기가 상기 배기가스와 혼합되도록 안내하는 제2유로부를 가지고, 상기 배기가스 및 상기 1차 희석공기가 혼합되어 1차 희석가스가 형성되도록 하는 제1희석유닛;
상기 제1희석유닛에서 배출되는 상기 1차 희석가스가 유입되어 분사되는 제1노즐부와, 상기 제1노즐부에서 분사되는 상기 1차 희석가스에서 분리되는 제1타겟입자가 수용되는 제1챔버부와, 상기 제1타겟입자 이외의 나머지 입자가 수집되는 제1수집부를 가지는 제1입자분리유닛; 그리고
상기 제1챔버부에서 배출되는 상기 제1타겟입자가 유입되어 토출되는 이젝터부와, 상기 이젝터부에서 토출되는 상기 제1타겟입자에 혼합되도록 2차 희석공기의 이동을 안내하는 제3유로부를 가지고, 상기 제1타겟입자 및 상기 2차 희석공기가 혼합되어 2차 희석가스가 형성되도록 하는 제2희석유닛을 포함하는 배기가스 희석분리장치.And a second flow path portion connected to the first flow path portion and guiding the first dilution air to be mixed with the exhaust gas, wherein the exhaust gas and the first dilution air are mixed A first diluting unit for forming a primary diluting gas;
A first nozzle unit for injecting and injecting the primary dilution gas discharged from the first dilution unit and a second chamber for receiving the first target particles separated from the primary dilution gas injected from the first nozzle unit, A first particle separating unit having a first collecting unit for collecting the remaining particles other than the first target particle; And
A third channel portion for guiding the movement of the second dilution air to be mixed with the first target particles discharged from the ejector portion, and a third flow path portion for guiding the movement of the second dilution air to be mixed with the first target particles discharged from the ejector portion And a second diluting unit for mixing the first target particles and the second dilution air to form a second dilution gas. 제1항에 있어서,
상기 1차 희석가스가 고온희석 방법으로 형성되도록 상기 1차 희석공기는 150℃ 내지 250℃의 온도로 공급되고, 상기 2차 희석가스가 상온희석 방법으로 형성되도록 상기 2차 희석공기는 10℃ 내지 30℃의 온도로 공급되는 것을 특징으로 하는 배기가스 희석분리장치.The method according to claim 1,
The primary dilution air is supplied at a temperature of 150 ° C to 250 ° C so that the primary dilution gas is formed by a high temperature dilution method, Wherein the exhaust gas is supplied at a temperature of < RTI ID = 0.0 > 30 C. < / RTI > 제1항에 있어서,
상기 제1노즐부는 제1지름으로 형성되는 하나 이상의 제1가속노즐을 가지고,
상기 제1수집부는 상기 제1가속노즐에 대향되도록 마련되며, 상기 제1지름보다 큰 제2지름으로 형성되는 제1수집노즐을 가지는 것을 특징으로 하는 배기가스 희석분리장치.The method according to claim 1,
Wherein the first nozzle portion has at least one first acceleration nozzle formed with a first diameter,
Wherein the first collecting part is provided to face the first accelerating nozzle and has a first collecting nozzle formed with a second diameter larger than the first diameter. 제1항에 있어서,
상기 제1입자분리유닛은 상기 제1수집부에 부압을 제공하는 제1펌프를 더 가지는 것을 특징으로 하는 배기가스 희석분리장치.The method according to claim 1,
Wherein the first particle separating unit further comprises a first pump for providing a negative pressure to the first collecting unit. 제1항에 있어서,
상기 제1희석유닛 및 상기 제1입자분리유닛을 내측에 수용하고, 상기 제1희석유닛 및 상기 제1입자분리유닛을 가열하는 가열재킷을 더 포함하는 것을 특징으로 하는 배기가스 희석분리장치.The method according to claim 1,
Further comprising a heating jacket which houses the first dilution unit and the first particle separation unit inside and heats the first dilution unit and the first particle separation unit. 제1항에 있어서,
상기 제1챔버부에서 배출되는 상기 제1타겟입자가 유입되어 분사되는 제2노즐부와, 상기 제2노즐부에서 분사되는 상기 제1타겟입자에서 분리되는 제2타겟입자를 상기 이젝터부로 안내하는 제2챔버부와, 상기 제2타겟입자 이외의 나머지 입자가 수집되는 제2수집부를 가지는 제2입자분리유닛을 더 포함하는 것을 특징으로 하는 배기가스 희석분리장치.The method according to claim 1,
A second nozzle unit for introducing and discharging the first target particles discharged from the first chamber unit and a second target particle separated from the first target particles jetted from the second nozzle unit to the ejector unit Further comprising a second particle separating unit having a second chamber part and a second collecting part for collecting the remaining particles other than the second target particle. 제6항에 있어서,
상기 제2노즐부는 하나 이상의 제2가속노즐을 가지고,
상기 제2수집부는 상기 제2가속노즐에 대향되도록 마련되는 제2수집노즐을 가지는 것을 특징으로 하는 배기가스 희석분리장치.The method according to claim 6,
Wherein the second nozzle portion has at least one second acceleration nozzle,
Wherein the second collecting unit has a second collecting nozzle provided so as to face the second accelerating nozzle. 제7항에 있어서,
상기 제2입자분리유닛은 상기 제2수집부에 부압을 제공하는 제2펌프를 더 가지는 것을 특징으로 하는 배기가스 희석분리장치.8. The method of claim 7,
Wherein the second particle separating unit further comprises a second pump for providing a negative pressure to the second collecting unit. 제1유로부를 통해 공급되는 배기가스가 토출되는 이젝터부와, 1차 희석공기가 상기 이젝터부에서 토출되는 배기가스와 혼합되도록 안내하는 제2유로부와, 상기 배기가스 및 상기 1차 희석공기가 혼합되어 형성되는 1차 희석가스가 분사되는 제1노즐부와, 상기 제1노즐부에서 분사되는 상기 1차 희석가스에서 분리되는 제1타겟입자가 수용되는 제1챔버부와, 상기 제1타겟입자 이외의 나머지 입자가 수집되는 제1수집부를 가지는 희석분리유닛; 그리고
상기 희석분리유닛에서 배출되는 상기 제1타겟입자가 이동되는 제3유로부와, 상기 제3유로부와 연결되고 2차 희석공기가 상기 제1타겟입자와 혼합되도록 안내하는 제4유로부를 가지고, 상기 제1타겟입자 및 상기 2차 희석공기가 혼합되어 2차 희석가스가 형성되도록 하는 희석유닛을 포함하는 배기가스 희석분리장치.A second flow path portion for guiding the first dilution air to be mixed with the exhaust gas discharged from the ejector portion, and a second flow path portion for introducing the exhaust gas and the first dilution air A first chamber portion in which a first target particle separated from the primary dilution gas injected from the first nozzle portion is accommodated, a second chamber portion in which the first target portion is separated from the first diluent gas injected from the first nozzle portion, A diluting separating unit having a first collecting part for collecting the remaining particles other than the particles; And
A third flow path portion through which the first target particle discharged from the dilution separation unit moves, and a fourth flow path portion connected to the third flow path portion and guiding the second dilution air to be mixed with the first target particles, And a dilution unit for mixing the first target particle and the second dilution air to form a secondary dilution gas. 제9항에 있어서,
상기 1차 희석가스가 고온희석 방법으로 형성되도록 상기 1차 희석공기는 150℃ 내지 250℃의 온도로 공급되고, 상기 2차 희석가스가 상온희석 방법으로 형성되도록 상기 2차 희석공기는 10℃ 내지 30℃의 온도로 공급되는 것을 특징으로 하는 배기가스 희석분리장치.10. The method of claim 9,
The primary dilution air is supplied at a temperature of 150 ° C to 250 ° C so that the primary dilution gas is formed by a high temperature dilution method, Wherein the exhaust gas is supplied at a temperature of < RTI ID = 0.0 > 30 C. < / RTI > 제9항에 있어서,
상기 제1노즐부는 제1지름으로 형성되는 하나 이상의 가속노즐을 가지고,
상기 제1수집부는 상기 가속노즐에 대향되도록 마련되며, 상기 제1지름보다 큰 제2지름으로 형성되는 수집노즐을 가지는 것을 특징으로 하는 배기가스 희석분리장치.10. The method of claim 9,
Wherein the first nozzle portion has one or more acceleration nozzles formed with a first diameter,
Wherein the first collecting part is provided to face the acceleration nozzle and has a collecting nozzle formed with a second diameter larger than the first diameter. 제9항에 있어서,
상기 희석분리유닛을 내측에 수용하고, 상기 희석분리유닛을 가열하는 가열재킷을 더 포함하는 것을 특징으로 하는 배기가스 희석분리장치.10. The method of claim 9,
Further comprising a heating jacket which houses the diluting and separating unit inside and heats the diluting and separating unit.
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