KR20190028304A

KR20190028304A - Etching for bonding polymer material to anodized metal

Info

Publication number: KR20190028304A
Application number: KR1020180103679A
Authority: KR
Inventors: 제임스 에이. 커란; 토드 에스. 민츠; 이사벨 양; 시 후아 장; 아비지트 미스라; 에릭 더블유. 하만
Original assignee: 애플 인크.
Priority date: 2017-09-08
Filing date: 2018-08-31
Publication date: 2019-03-18
Also published as: CN109475056B; KR102182992B1; JP6778724B2; JP2019049051A; CN109475056A

Abstract

The present invention relates to a multi-piece enclosure for a portable electronic device. The enclosure includes a metal part including a metal substrate and a metal oxide layer overlaying the metal substrate, the metal oxide layer having an external surface that includes openings that lead into undercut regions. The openings are characterized as having a first width, and the undercut regions are characterized as having a second width that is greater than the first width. The enclosure further includes a non-metallic bulk layer including protruding portions that extend into the undercut regions such that the non-metallic bulk layer is interlocked with the metal part.

Description

양극산화된 금속에 중합체 재료를 접합하기 위한 에칭{ETCHING FOR BONDING POLYMER MATERIAL TO ANODIZED METAL}BACKGROUND OF THE INVENTION 1. Field of the Invention [0001] The present invention relates to an etching method for bonding a polymer material to an anodized metal,

기술된 실시예는 대체로 금속 부품의 표면을 에칭하기 위한 기법에 관한 것이다. 더 상세하게는, 기술된 실시예는 중합체 재료를 금속 부품에 부착하기 위하여 금속 부품의 표면에 인터로킹 구조물(interlocking structure)을 형성하기 위한 시스템 및 방법에 관한 것이다.The described embodiments generally relate to techniques for etching the surface of metal parts. More particularly, the described embodiments relate to a system and method for forming an interlocking structure on the surface of a metal part for attaching a polymeric material to the metal part.

소비자 디바이스를 위한 인클로저는 기능적, 구조적, 및 미적 향상을 제공하기 위하여 전형적으로 금속 및 비금속 재료의 조합으로 구성된다. 그러나, 금속은 이러한 비금속 재료에 부착하는 본연의 능력이 결여되어 있을 수 있다. 비금속 재료에 대한 부착을 용이하게 하기 위하여 금속을 개질하기 위한 기법은 상당한 시간, 비용, 및 노력을 필요로 할 수 있다. 더욱이, 비금속 재료를 금속 재료에 부착할 수 있음에도 불구하고, 이러한 기법은 금속과 비금속 재료 사이에 필요한 크기의 인장 강도(pull strength)를 제공할 수 없다. 추가적으로, 이러한 기법은 아래에 놓인 금속이 수분 및 오염물에 노출됨으로써 금속의 유용 수명을 크게 감소시키는 것을 억제할 수 없다.Enclosures for consumer devices typically comprise a combination of metal and non-metallic materials to provide functional, structural, and aesthetic enhancements. However, metals may lack their inherent ability to attach to such non-metallic materials. Techniques for modifying metals to facilitate attachment to non-metallic materials can require significant time, cost, and effort. Moreover, although non-metallic materials can be attached to metallic materials, this technique can not provide the required pull strength between metal and non-metallic materials. Additionally, this technique can not inhibit the underlying metal from significantly reducing the useful life of the metal by exposure to moisture and contaminants.

본 명세서는 금속 부품의 표면을 에칭하기 위한 기법에 관한 다양한 실시예를 기술한다. 상세하게는, 다양한 실시예는 중합체 재료를 금속 부품에 부착하기 위하여 금속 부품의 표면에 인터로킹 구조물을 형성하기 위한 시스템 및 방법에 관한 것이다.This specification describes various embodiments of techniques for etching surfaces of metal parts. In particular, various embodiments relate to a system and method for forming an interlocking structure on the surface of a metal part for attaching a polymeric material to the metal part.

일부 실시예에 따르면, 휴대용 전자 디바이스를 위한 멀티-피스 인클로저(multi-piece enclosure)가 기술된다. 멀티-피스 인클로저는 금속 기판 및 금속 기판을 오버레이(overlay)하는 금속 산화물 층을 포함하며, 금속 산화물 층은 언더컷(undercut) 영역 내로 이어지는 개구를 포함하는 외부 표면을 가지며, 개구는 제1 폭을 갖는 것으로 특징지어지고, 언더컷 영역은 제1 폭보다 더 큰 제2 폭을 갖는 것으로 특징지어진다. 멀티-피스 인클로저는 비금속 벌크 층을 추가로 포함하며, 비금속 벌크 층은 금속 부품과 인터로킹되도록 언더컷 영역 내로 연장되는 돌출 부분을 포함한다.According to some embodiments, a multi-piece enclosure for a portable electronic device is described. The multi-piece enclosure comprises a metal substrate and a metal oxide layer overlaying the metal substrate, the metal oxide layer having an outer surface comprising an opening leading into an undercut region, the opening having a first width And the undercut region is characterized as having a second width greater than the first width. The multi-piece enclosure further comprises a non-metallic bulk layer, wherein the non-metallic bulk layer comprises a protruding portion extending into the undercut region to interlock with the metallic part.

일부 실시예에 따르면, 휴대용 전자 디바이스를 위한 복합 인클로저가 기술된다. 복합 인클로저는 금속 산화물 층에 의해 오버레이된 금속 기판을 포함하는 부품을 포함하며, 부품은 제1 부품의 외부 표면으로부터 연장되어 금속 기판 부근에서 종단되는 개구를 갖는 리세스된(recessed) 인터로킹 구조물을 포함하며, 리세스된 인터로킹 구조물은 (i) 언더컷 기하학적 형태를 갖는 것으로 특징지어지고, (ii) 금속 산화물 층에 의해 오버레이된다. 복합 인클로저는 리세스된 인터로킹 구조물 내로 연장되어 그와 인터로킹되는 돌출 특징부를 포함하는 벌크 부분을 갖는 비금속 부품을 추가로 포함한다.According to some embodiments, a composite enclosure for a portable electronic device is described. The composite enclosure includes a component comprising a metal substrate overlaid by a metal oxide layer, the component comprising a recessed interlocking structure extending from an outer surface of the first component and having an opening terminating near the metal substrate , And the recessed interlocking structure is characterized as having (i) an undercut geometry and (ii) overlaid with a metal oxide layer. The composite enclosure further includes a non-metallic part having a bulk portion including a projecting feature extending into the recessed interlocking structure and interlocking therewith.

일부 실시예에 따르면, 멀티-피스 인클로저를 형성하기 위한 방법이 기술되는데, 상기 멀티-피스 인클로저는 금속 산화물 층에 의해 오버레이되는 금속 기판을 포함한다. 상기 방법은 금속 기판이 전기화학 에칭 프로세스를 거치게 함으로써 금속 기판 내에 언더컷 영역을 형성하는 단계를 포함한다. 상기 방법은 언더컷 영역을 한정하는 금속 기판의 영역을 오버레이하는 금속 산화물 층을 형성하는 단계를 추가로 포함하며, 금속 산화물 층은 언더컷 영역 내로 이어지는 개구를 갖는 외부 표면을 포함한다. 상기 방법은 언더컷 영역을 비금속 층의 돌출 부분으로 충전함으로써 비금속 층을 금속 산화물 층에 접합하는 단계를 추가로 포함한다.According to some embodiments, a method for forming a multi-piece enclosure is described, wherein the multi-piece enclosure comprises a metal substrate overlaid by a metal oxide layer. The method includes forming an undercut region in the metal substrate by subjecting the metal substrate to an electrochemical etching process. The method further comprises forming a metal oxide layer overlying an area of the metal substrate defining the undercut region, wherein the metal oxide layer comprises an outer surface having an opening leading into the undercut region. The method further comprises bonding the non-metallic layer to the metal oxide layer by filling the undercut region with the protruding portion of the non-metallic layer.

일부 실시예에 따르면, 복합 부품이 기술된다. 복합 부품은, 제1 재료로 형성된 기판을 갖고 외부 표면을 갖는 제1 부품을 포함할 수 있으며, 외부 표면을 가로질러 기판 내로 연장되는 인터로킹 구조물이 랜덤하게 분포되며, 인터로킹 구조물은, 외부 표면에 제1 폭을 갖는 것으로 특징지어지고 제1 폭보다 더 큰 제2 폭을 갖는 것으로 특징지어지는 언더컷 영역 내로 이어지는 개구를 포함한다. 복합 부품은, 제2 재료로 형성되고 외부 표면에 있는 벌크 층 및 (i) 벌크 층으로부터 개구를 통해 연장되는 제1 부분 및 (ii) 제1 부분으로부터 연장되어 언더컷 영역 내에 완전히 충전되고 보유되는 제2 부분을 갖는 미세부분을 포함하는 제2 부품을 추가로 포함할 수 있다.According to some embodiments, a composite part is described. The composite component may include a first component having a substrate formed from a first material and having an outer surface, wherein an interlocking structure extending into the substrate across the outer surface is randomly distributed and the interlocking structure comprises an outer surface And an opening leading into the undercut region characterized by a second width greater than the first width. The composite part comprises a bulk layer formed of a second material and having a bulk layer at the outer surface and a first portion extending from the bulk layer through the opening and (ii) a second portion extending from the first portion and being completely filled and retained within the undercut region And a second part including a fine portion having two portions.

일부 실시예에 따르면, 전자 디바이스를 위한 멀티-피스 인클로저가 기술된다. 멀티-피스 인클로저는 금속 산화물 층에 의해 오버레이되는 금속 기판을 포함하는 제1 피스를 포함할 수 있으며, 금속 산화물 층은 외부 표면을 가지며, 외부 표면 위에 제1 폭을 갖는 개구가 랜덤하게 분포되며, 개구는, 제2 폭을 갖고 외부 표면으로부터 금속 기판 내로 연장되는 리세스된 구조물 내로 이어지며, 리세스된 구조물은 (i) 적어도 최소 분리 거리에 의해 서로 분리되고, (ii) 언더컷 기하학적 형태를 갖는 것으로 특징지어진다. 멀티-피스 인클로저는 돌출 특징부와 함께 벌크 부분을 갖는 비금속 재료로 형성된 제2 피스를 추가로 포함할 수 있으며, 돌출 특징부는 제1 피스와 제2 피스가 함께 로킹되도록 개구를 통해 리세스된 구조물 내로 연장되어 그를 충전한다.According to some embodiments, a multi-piece enclosure for an electronic device is described. The multi-piece enclosure may comprise a first piece comprising a metal substrate overlaid by a metal oxide layer, the metal oxide layer having an outer surface, the opening having a first width over the outer surface being randomly distributed, The opening leads to a recessed structure having a second width and extending from the outer surface into the metal substrate, wherein the recessed structure is separated by (i) at least a minimum separation distance, and (ii) has an undercut geometry &Lt; / RTI > The multi-piece enclosure may further include a second piece formed of a non-metallic material having a bulk portion with the protruding feature, wherein the protruding feature comprises a recessed structure through the opening such that the first and second pieces are locked together Lt; / RTI > and charges it.

일부 실시예에 따르면, 1차 금속 산화물 층에 의해 오버레이된 금속 기판을 포함하는 부품의 외부 표면에 다수의 인터로킹 구조물을 형성하기 위한 방법이 기술된다. 상기 방법은 부품을 금속 에칭 용액에 노출시킴으로써 1차 금속 산화물 층의 외부 표면의 1차 금속 산화물 결함에 상응하는 위치에 제1 인터로킹 구조물을 형성하는 단계를 포함할 수 있으며, 제1 인터로킹 구조물은 외부 표면에 제1 폭을 갖는 개구를 포함하며, 개구는 제1 폭보다 더 큰 제2 폭을 갖는 언더컷 기하학적 형태를 갖는 1차 리세스된 부분으로 이어진다. 상기 방법은, 제1 인터로킹 구조물을 형성한 이후에, 부품을 금속 에칭 용액으로부터 꺼내어서 부품을 자연 대기에 노출시킴으로써 자연 산화물 층이 형성되게 하는 단계를 추가로 포함할 수 있다. 상기 방법은 부품을 금속 에칭 용액에 노출시킴으로써 자연 산화물 층의 자연 산화물 결함에 상응하는 위치에 제2 인터로킹 구조물을 형성하는 단계를 추가로 포함할 수 있다.According to some embodiments, a method for forming a plurality of interlocking structures on an outer surface of a component comprising a metal substrate overlaid by a layer of a primary metal oxide is described. The method may include forming a first interlocking structure at a location corresponding to a first metal oxide defect on an outer surface of the first metal oxide layer by exposing the component to a metal etch solution, Comprises an opening having a first width on the outer surface, the opening leading to a first recessed portion having an undercut geometry having a second width greater than the first width. The method may further include, after forming the first interlocking structure, removing the component from the metal etch solution to expose the component to a natural atmosphere to form a native oxide layer. The method may further include forming a second interlocking structure at a location corresponding to native oxide defects in the native oxide layer by exposing the component to a metal etch solution.

본 발명의 다른 태양들 및 이점들은 기술되는 실시예들의 원리들을 예로서 도시하는 첨부 도면들과 함께 취해지는 하기의 상세한 설명으로부터 명백하게 될 것이다.Other aspects and advantages of the present invention will become apparent from the following detailed description, taken in conjunction with the accompanying drawings, which illustrate, by way of example, the principles of the disclosed embodiments.

본 발명의 내용은 단지 본 명세서에 기술되는 주제의 일부 태양들에 대한 기본적인 이해를 제공하도록 일부 예시적인 실시예들을 요약하기 위한 목적으로 제공될 뿐이다. 따라서, 상기에 기술된 특징들은 단지 예들일 뿐이고 본 명세서에 설명되는 주제의 범주 또는 사상을 어떠한 방식으로든 한정하도록 해석되어서는 안 된다는 것을 이해할 것이다. 본 명세서에 설명되는 주제의 다른 특징들, 태양들 및 이점들은 다음의 상세한 설명, 도면들 및 청구범위로부터 명백해질 것이다.The subject matter of the present invention is provided solely for the purpose of summarizing certain illustrative embodiments in order to provide a basic understanding of some aspects of the subject matter described herein. It is therefore to be understood that the features described above are merely examples and should not be construed as limiting the scope or spirit of the subject matter described in any way in any way. Other features, aspects, and advantages of the subject matter described herein will become apparent from the following detailed description, drawings, and claims.

본 발명은 유사한 도면 부호가 유사한 구조적 요소들을 지시하는 첨부 도면과 관련하여 하기의 상세한 설명에 의해 쉽게 이해될 것이다.
도 1은 일부 실시예에 따른, 본 명세서에 기술된 기법을 사용하여 프로세싱될 수 있는 금속 표면을 갖는 다양한 디바이스의 사시도를 예시한다.
도 2a 내지 도 2g는 일부 실시예에 따른, 금속 부품의 외부 표면에 인터로킹 구조물을 형성하기 위한 프로세스의 단면도를 예시한다.
도 3은 일부 실시예에 따른, 인터로킹 구조물을 갖는 금속 부품의 단면도를 예시한다.
도 4 및 도 5는 일부 실시예에 따른, 다수의 인터로킹 구조물을 갖는 금속 부품의 도면을 예시한다.
도 6a는 일부 실시예에 따른, 인터로킹 구조물을 갖는 금속 부품의 일부분의 단면도를 예시한다.
도 6b는 일부 실시예에 따른, 가교된 인터로킹 구조물을 갖는 금속 부품의 일부분의 단면도를 예시한다.
도 7a 및 도 7b는 일부 실시예에 따른, 본 명세서에 기술된 기법을 사용하여 인터로킹 구조물을 갖는 금속 부품의 도면의 예시적인 이미지를 예시한다.
도 8은 일부 실시예에 따른, 금속 부품을 프로세싱하기 위한 방법을 예시한다.
도 9는 일부 실시예에 따른, 금속 부품을 프로세싱하기 위한 방법을 예시한다.
도 10은 일부 예에 따른, 금속 부품의 언더컷 비와 인장 강도 사이의 관계를 나타낸 그래프를 예시한다.
도 11은 일부 예에 따른, 금속 부품의 에칭 시간과 에칭 깊이 사이의 관계를 나타낸 그래프를 예시한다.
도 12a 내지 도 12e는 일부 실시예에 따른, 양극산화된 금속 부품의 외부 표면에 인터로킹 구조물을 형성하기 위한 프로세스의 단면도를 예시한다.
도 13a 내지 도 13c는 일부 실시예에 따른, 인터로킹 구조물을 갖는 양극산화된 금속 부품의 다양한 단면도를 예시한다.
도 14a 내지 도 14c는 일부 실시예에 따른, 비금속 부품에 접합되는 양극산화된 금속 부품의 다양한 단면도를 예시한다.
도 15a 및 도 15b는 일부 실시예에 따른, 다수의 인터로킹 구조물을 갖는 양극산화된 금속 부품의 도면을 예시한다.
도 16은 일부 실시예에 따른, 금속 부품을 프로세싱하기 위한 방법을 예시한다.
도 17은 일부 실시예에 따른, 금속 부품을 프로세싱하기 위한 방법을 예시한다.
도 18은 일부 예에 따른, 양극산화된 금속 부품의 양극산화 프로세스와 인장 강도 사이의 관계를 나타낸 그래프를 예시한다.
도 19는 일부 예에 따른, 양극산화된 금속 부품의 양극산화 프로세스와 공기 누설 사이의 관계를 나타낸 그래프를 예시한다.
도 20은 일부 예에 따른, 양극산화된 금속 부품의 양극산화 프로세스의 유형과 공기 누설 사이의 관계를 나타낸 그래프를 예시한다.
도 21a 내지 도 21c는 일부 예에 따른, 본 명세서에 기술된 기법을 사용하여 비금속 부품에 접합된 양극산화된 금속 부품의 도면의 예시적인 이미지를 예시한다.The present invention will be readily understood by the following detailed description in conjunction with the accompanying drawings, in which like reference numerals designate like structural elements.
Figure 1 illustrates a perspective view of various devices having metal surfaces that can be processed using the techniques described herein, in accordance with some embodiments.
Figures 2A-2G illustrate cross-sectional views of a process for forming an interlocking structure on the exterior surface of a metal part, in accordance with some embodiments.
Figure 3 illustrates a cross-sectional view of a metal part having an interlocking structure, in accordance with some embodiments.
Figures 4 and 5 illustrate a view of a metal part having a plurality of interlocking structures, in accordance with some embodiments.
6A illustrates a cross-sectional view of a portion of a metal part having an interlocking structure, in accordance with some embodiments.
Figure 6B illustrates a cross-sectional view of a portion of a metal part having a cross-linked interlocking structure, in accordance with some embodiments.
Figures 7A and 7B illustrate an exemplary image of a drawing of a metal part having an interlocking structure using the techniques described herein, in accordance with some embodiments.
Figure 8 illustrates a method for processing a metal part, in accordance with some embodiments.
9 illustrates a method for processing a metal part, in accordance with some embodiments.
10 illustrates a graph showing the relationship between the undercut ratio and the tensile strength of a metal part, according to some examples.
Figure 11 illustrates a graph illustrating the relationship between etch time and etch depth of a metal part, according to some examples.
12A-12E illustrate cross-sectional views of a process for forming an interlocking structure on an exterior surface of an anodized metal part, in accordance with some embodiments.
Figures 13A-13C illustrate various cross-sectional views of anodized metal parts with interlocking structures, in accordance with some embodiments.
Figures 14A-14C illustrate various cross-sectional views of anodized metal parts bonded to non-metallic parts, in accordance with some embodiments.
15A and 15B illustrate views of an anodized metal part having a plurality of interlocking structures, in accordance with some embodiments.
Figure 16 illustrates a method for processing a metal part, in accordance with some embodiments.
Figure 17 illustrates a method for processing a metal part, in accordance with some embodiments.
18 illustrates a graph illustrating the relationship between the anodization process and tensile strength of an anodized metal part, according to some examples.
Figure 19 illustrates a graph illustrating the relationship between air leakage and anodizing processes of anodized metal parts, in accordance with some examples.
Figure 20 illustrates a graph illustrating the relationship between air leakage and the type of anodizing process of an anodized metal part, according to some examples.
Figures 21A-21C illustrate exemplary images of a drawing of an anodized metal part bonded to a non-metallic part using the techniques described herein, according to some examples.

본 출원에 따른 방법들 및 장치들의 대표적인 응용예들이 이 섹션에 기술된다. 이 예들은 단지 맥락을 부가하고 기술된 실시예들의 이해에 도움을 주기 위해 제공되어 있다. 따라서, 기술된 실시예들이 이들의 구체적인 상세한 설명의 일부 또는 전부 없이도 실시될 수 있다는 것이 본 발명이 속한 기술분야에서 통상의 지식을 가진 자에게 명백할 것이다. 다른 경우들에서, 잘 알려진 프로세스 단계들은 기술된 실시예들을 불필요하게 불명료하게 하지 않기 위해 상세히 기술되지 않았다. 다른 응용예들도 가능하며, 따라서 이하의 예들을 제한하는 것으로 간주되어서는 안된다.Representative applications of the methods and apparatuses according to the present application are described in this section. These examples are provided merely to add context and to aid understanding of the described embodiments. Accordingly, it will be apparent to those skilled in the art that the described embodiments may be practiced without some or all of these specific details. In other instances, well-known process steps have not been described in detail in order not to unnecessarily obscure the described embodiments. Other applications are possible, and therefore should not be construed as limiting the following examples.

하기의 상세한 설명에서는, 설명의 일부를 형성하고 기술된 실시예들에 따른 특정 실시예들이 예시로서 도시되어 있는 첨부 도면들이 참조된다. 이러한 실시예들은 통상의 기술자가 기술된 실시예들을 실행할 수 있게 하도록 충분히 상세하게 설명되지만, 이러한 예들은 제한하는 것이 아니어서, 다른 실시예들이 사용될 수 있으며 설명된 실시예들의 기술적 사상 및 범주를 벗어남이 없이 변경이 이루어질 수 있음이 이해된다.In the following detailed description, reference is made to the accompanying drawings, which form a part hereof, and in which is shown by way of illustration specific embodiments in accordance with the described embodiments. These embodiments are described in sufficient detail to enable those skilled in the art to practice the described embodiments, but these examples are not intended to be limiting, and other embodiments may be used and depart from the spirit and scope of the described embodiments. It will be appreciated that changes may be made without departing from the spirit of the invention.

본 명세서에 기술된 실시예는 금속 부품에 대한 비금속 재료 (예를 들어, 중합체 재료 등)의 부착을 촉진시키기 위하여 금속 부품의 표면에 인터로킹 구조물을 형성하기 위한 기법을 설명한다. 구체적으로는, 휴대용 전자 디바이스를 위한 인클로저는 이러한 인클로저에 구조적 및/또는 미적 개선의 조합을 제공하기 위하여 금속 및 비금속 재료의 조합을 이용할 수 있다. 그러나, 금속은 비금속 재료 (예를 들어, 중합체, 유리, 세라믹 등)에 부착하는 자연적인 능력이 결여되어 있을 수 있다. 예를 들어, 소정의 금속, 예컨대 스테인리스 강 및 양극산화된 알루미늄은 금속 기판 및 금속 기판을 오버레이하는 금속 산화물 층을 포함할 수 있다. 구체적으로는, 금속 산화물 층은 액체 및 다른 오염물에 의해 야기되는, 아래에 놓인 금속 기판의 부식을 대체로 방지하며, 이는 그렇지 않으면 금속 부품의 유용 수명을 감소시킬 것이다. 금속 산화물 층은 아래에 놓인 금속 기판의 부식을 억제하는 데 유익할 수 있지만, 금속/산화물은 매끈하고 편평한 외부 표면 마무리를 갖는 것으로 특징지어질 수 있으며, 이는 비금속 재료를 외부 표면에 부착하는 데 있어서의 어려움에 기여할 수 있다.The embodiments described herein describe a technique for forming an interlocking structure on the surface of a metal part to facilitate the attachment of a non-metallic material (e.g., a polymeric material, etc.) to the metal part. Specifically, an enclosure for a portable electronic device may utilize a combination of metallic and non-metallic materials to provide a combination of structural and / or aesthetic improvements to such an enclosure. However, the metal may lack natural ability to attach to non-metallic materials (e.g., polymers, glass, ceramics, etc.). For example, certain metals such as stainless steel and anodized aluminum may include a metal substrate and a metal oxide layer overlying the metal substrate. Specifically, the metal oxide layer generally prevents corrosion of the underlying metal substrate caused by liquids and other contaminants, which otherwise would reduce the useful life of the metal part. While the metal oxide layer may be beneficial in inhibiting corrosion of the underlying metal substrate, the metal / oxide may be characterized as having a smooth and flat outer surface finish, which may be used to adhere the non- Can contribute to the difficulty of

비금속 재료를 금속 부품에 부착하기 위한 한 가지 기법은 금속 부품의 외부 표면 내로 노치(notch)를 기계가공하는 것을 포함할 수 있다. 그러나, 이러한 기계가공 프로세스는 큰 부피의 인클로저를 생성하는 데 이용될 때 결점을 가질 수 있는데, 이는, 이러한 기계가공 프로세스는 상당량의 시간, 비용, 및 노력을 수반할 수 있기 때문이다. 더욱이, 금속 부품의 외부 표면에 형성되는 노치는 대체로 매끄러운 표면을 갖는 것으로 특징지어질 수 있다. 그러나, 이들 매끄러운 표면은 수분 및 다른 오염물이 금속 부품의 아래에 놓인 금속 기판에 도달하는 것을 억제할 수 있는 수밀 밀봉(watertight seal)이 결여되어 있을 수 있다. 구체적으로는, 이들 매끄러운 표면은 금속 부품의 외부 표면으로부터 아래에 놓인 금속 기판으로의 직접 누설 경로를 한정한다. 더욱이, 예를 들어 사출 성형 프로세스를 통해, 이들 노치 내에 중합체 재료로 충전하는 것으로는 일반적으로 이러한 문제를 고치지 못하는데, 이는, 중합체 재료의 형상이 이들 노치의 매끄러운 표면을 단순히 반영하기 때문이다.One technique for attaching a non-metallic material to a metal part may include machining a notch into the outer surface of the metal part. However, such a machining process can have drawbacks when used to create a large volume of enclosure, because such a machining process can involve a significant amount of time, cost, and effort. Moreover, the notch formed on the outer surface of the metal part can be characterized as having a generally smooth surface. However, these smooth surfaces may lack watertight seals that can inhibit moisture and other contaminants from reaching the metal substrate underlying the metal part. Specifically, these smooth surfaces define a direct leakage path from the outer surface of the metal part to the underlying metal substrate. Moreover, filling the polymeric material within these notches through, for example, an injection molding process generally does not address this problem because the shape of the polymeric material simply reflects the smooth surface of these notches.

본 명세서에 기술된 실시예는 금속 부품의 외부 표면에 개별적으로 이산된 인터로킹 구조물들을 형성하기 위한 기법을 설명한다. 구체적으로는, 이들 이산된 인터로킹 구조물 각각은 비금속 재료의 부착 특징부를 수용할 수 있다. 일부 예에서, 이들 개별적인 인터로킹 구조물은 금속 부품이 에칭 프로세스를 거치게 한 결과로서 형성된, 에칭된 인터로킹 구조물로 지칭될 수 있다. 일부 예에서, 이들 인터로킹 구조물 각각은 부착 특징부를 포획하기 위한 언더컷 영역을 포함할 수 있다. 일부 예에서, 이들 인터로킹 구조물 각각은 금속 산화물 층에 의해 오버레이되어, 추가로 인장 강도를 증가시키고 내수분성을 증가시킬 수 있다.The embodiments described herein describe techniques for forming discrete interlocking structures on the outer surface of a metal part. Specifically, each of these discrete interlocking structures can accommodate attachment features of a non-metallic material. In some instances, these individual interlocking structures may be referred to as etched interlocking structures formed as a result of the metal part undergoing the etching process. In some instances, each of these interlocking structures may include an undercut region for capturing attachment features. In some instances, each of these interlocking structures may be overlaid by a metal oxide layer, further increasing the tensile strength and increasing the water resistance.

일부 실시예에 따르면, 인터로킹 구조물은, 비금속 재료가 금속 부품으로부터 강제로 떼어지게 되는 것을 방지하도록, 비금속 재료의 부착 특징부 상에 대해 상당량의 부착 강도를 발휘할 수 있는 것이 바람직할 수 있다. 예를 들어, 휴대용 디바이스의 인클로저가 바닥에 떨어뜨려지거나 물리적 손상을 입게 되는 경우, 비금속 재료는 금속 부품으로부터 분리되려고 할 수 있다. 유익하게도, 이들 인터로킹 구조물의 부착 강도 (예를 들어, 인장 강도)가 더 클수록, 비금속 재료가 금속 부품으로부터 분리될 가능성이 더 적다.According to some embodiments, it may be desirable for the interlocking structure to be able to exert a significant amount of bond strength on the attachment features of the non-metallic material to prevent the non-metallic material from being forcibly detached from the metal part. For example, if the enclosure of a portable device is dropped on the floor or physically damaged, the non-metallic material may attempt to separate from the metal part. Advantageously, the greater the bond strength (e.g., tensile strength) of these interlocking structures, the less likely that the non-metallic material will be separated from the metal part.

본 명세서에 기술된 실시예에서의 기법이 인터로킹 구조물을 갖는 금속 부품의 외부 표면의 오버-에칭(over-etching)을 방지할 수 있음에 유의해야 한다. 구체적으로는, 외부 표면에서의 인터로킹 구조물의 오버-에칭은, 그것이 보통 정도의 에칭량을 갖는 외부 표면에 비하여 금속 부품과 비금속 재료 사이의 부착 강도를 실제로 상당히 감소시킬 수 있다는 점에서 바람직하지 않을 수 있다. 본 명세서에 기술된 바와 같이, 외부 표면의 오버-에칭은 외부 표면의 총 표면적의 약 80% 내지 약 100%를 커버하는 인터로킹 구조물의 형성을 지칭할 수 있다. 대조적으로, 외부 표면의 보통 정도의 에칭량은 외부 표면의 총 표면적의 약 25% 내지 약 70%를 커버하는 인터로킹 구조물의 형성을 지칭할 수 있다. 구체적으로는, 외부 표면의 오버-에칭은, 다수의 공극이 단일 영역에서 서로 중첩되어 그 결과 단일 영역에서 단일 스태거형(staggered) 인터로킹 구조물이 형성되는 것으로 특징지어진다. 스태거형 인터로킹 구조물은 개구 아래에 배치되는 포획 영역보다 더 큰 크기 (예를 들어, 직경)를 갖는 개구를 포함한다는 점에서, 스태거형 인터로킹 구조물은 소정의 인터로킹 구조물과 대조적이다. 일부 예에서, 스태거형 인터로킹 구조물의 개구는 포획 영역보다 더 큰데, 이는, 외부 표면의 오버-에칭이 외부 표면으로부터 멀어지는 쪽보다 오히려 외부 표면을 향하는 쪽으로 더 가까운 금속 부품의 재료의 대부분을 에칭 제거하기 때문이다. 실제로, 오버-에칭된 외부 표면은 거칠고 불균일한 외부 표면을 갖는 것으로 특징지어진다. 더욱이, 외부 표면의 오버-에칭은 다수의 인터로킹 구조물이 부분적으로 서로 상하로 중첩되어 형성될 수 있게 하며, 이는 이들 인터로킹 구조물 각각 사이의 감소된 분리 거리, 단일 영역에서의 공극 형성의 증가된 밀도뿐만 아니라 각각의 인터로킹 구조물의 명확하게 한정된 형상 및 크기의 손상을 초래할 수 있다. 예를 들어, 외부 표면의 오버-에칭의 결과로서 형성되는 스태거형 인터로킹 구조물이 바로 인접하게 또는 서로 중첩하여 배치된다. 결과적으로, 이들 스태거형 인터로킹 구조물이 비금속 재료에 대한 부착을 유지하는 능력에 상당히 영향을 준다. 구체적으로는, 금속 부품의 오버-에칭과 관련된 스태거형 인터로킹 구조물은 금속 부품의 구조적 완전성을 손상시키고 비금속 재료를 금속 부품에 부착하기 위한 불균일한 부착 표면을 형성할 수 있다. 추가적으로, 오버-에칭은 또한 금속 부품의 기하학적 형태 또는 치수를 변경시킬 수 있으며, 이는 결과적으로 금속 부품이 명시된 제조 공차 수준 밖에 있게 한다. 더욱이, 오버-에칭은 금속 부품의 갭 및 구조를 변화시킬 수 있다. 이는 안테나 스플릿(split) 또는 라인을 갖는 인클로저의 금속 부품에서 특히 중요한데, 이는, 안테나 스플릿의 갭 크기 및 구조의 변화가 인클로저의 공동 내에 포함된 무선 안테나의 성능에 부정적인 영향을 줄 수 있기 때문이다. 예를 들어, 스플릿에서 형성되는 에칭된 인터로킹 구조물은 비금속 재료 (예를 들어, 사출 성형 플라스틱)를 수용할 수 있다. 그러나, 인터로킹 구조물이 이들 스플릿에서 오버-에칭된다면, 그것은 금속 부품과 비금속 재료 사이에 감소된 결합 강도를 초래할 수 있다.It should be noted that the techniques in the embodiments described herein can prevent over-etching of the outer surface of the metal part having the interlocking structure. In particular, over-etching of the interlocking structure at the outer surface is undesirable in that it can actually significantly reduce the bond strength between the metal part and the non-metallic material compared to the outer surface with a moderate amount of etching . Over-etching of the outer surface, as described herein, may refer to the formation of an interlocking structure covering from about 80% to about 100% of the total surface area of the outer surface. In contrast, a modest amount of etching of the outer surface can refer to the formation of an interlocking structure that covers about 25% to about 70% of the total surface area of the outer surface. Specifically, the over-etching of the outer surface is characterized in that a plurality of voids overlap each other in a single area, resulting in a single staggered interlocking structure in a single area. The staggered interlocking structure is in contrast to the predetermined interlocking structure in that the staggered interlocking structure includes an opening having a larger size (e.g., diameter) than the trapping area disposed below the opening. In some examples, the opening of the staggered interlocking structure is larger than the trapping area because the over-etching of the outer surface etches most of the material of the metal part closer to the outer surface rather than away from the outer surface It removes it. Indeed, the over-etched outer surface is characterized as having a rough, non-uniform outer surface. Moreover, over-etching of the outer surface allows a plurality of interlocking structures to be partially formed in superimposed relation to each other, which results in a reduced separation distance between each of these interlocking structures, an increased Density as well as a clearly defined shape and size of each interlocking structure. For example, staggered interlocking structures formed as a result of over-etching of the outer surface are disposed immediately adjacent or superimposed on each other. As a result, these staggered interlocking structures significantly affect the ability to maintain adhesion to non-metallic materials. Specifically, the staggered interlocking structure associated with over-etching of the metal part can impair the structural integrity of the metal part and form a non-uniform attachment surface for attaching the non-metallic material to the metal part. Additionally, over-etching can also change the geometry or dimensions of the metal part, which results in the metal part being outside the specified manufacturing tolerance level. Moreover, over-etching can change the gap and structure of metal parts. This is particularly important in metal parts of enclosures with antenna splits or lines because the gap size and structure variation of the antenna splits can negatively affect the performance of the wireless antenna contained within the cavity of the enclosure. For example, the etched interlocking structure formed in the split may receive a non-metallic material (e.g., injection molded plastic). However, if the interlocking structure is over-etched in these splits, it may result in reduced bond strength between the metal part and the non-metallic material.

일부 실시예에 따르면, 인터로킹 구조물은 보통 정도의 에칭량 (예를 들어, 외부 표면의 총 표면적의 약 25% 내지 약 70%)을 갖는 외부 표면과 관련될 수 있다. 서로 중첩하거나 접촉하여 형성되는 스태거형 인터로킹 구조물과 대조적으로, 본 인터로킹 구조물들은 각각의 인터로킹 구조물의 개별 부착 강도의 임의의 손상을 대체로 방지하는 충분한 크기의 분리 거리에 의해 대체로 분리되어 있다. 추가적으로, 보통 정도의 에칭량을 갖는 외부 표면은 과다-에칭된(overly-etched) 외부 표면에 비하여 감소된 피트 밀도(pit density)를 나타낸다. 더욱이, 인터로킹 구조물은 또한 개구 아래에 배치된 언더컷 영역보다 더 작은 크기 (예를 들어, 직경)를 갖는 개구를 갖는 것으로 특징지어진다. 일부 실시예에서, 인터로킹 구조물의 언더컷 영역은 금속 부품의 재료 (예를 들어, 금속 산화물, 금속 기판 등)가 오버행되고 언더컷 영역을 한정하기 때문에 그렇게 지칭될 수 있다. 일부 예에서, 인터로킹 구조물의 개구의 크기는 언더컷 영역의 크기보다 상당히 더 작은데, 이는, 표면에 있는 금속 부품의 재료의 대부분이 온전하게 남아 있기 때문이다. 실제로, 인터로킹 구조물을 갖는 보통 정도로 에칭된 표면은 대체로 매끄러운 표면을 나타내며, 일부 경우에, 개구를 한정하는 금속 부품의 면은 대체로 균일한 두께를 갖는다.According to some embodiments, the interlocking structure may be associated with an outer surface having a moderate amount of etching (e.g., about 25% to about 70% of the total surface area of the outer surface). In contrast to the staggered interlocking structure formed by overlapping or contacting one another, the interlocking structures are generally separated by a separation distance of sufficient size to generally prevent any damage of the individual bond strengths of the respective interlocking structures . Additionally, an outer surface with a moderate amount of etching exhibits a reduced pit density as compared to an overly-etched outer surface. Furthermore, the interlocking structure is also characterized as having an opening with a smaller size (e.g., diameter) than the undercut area disposed below the opening. In some embodiments, the undercut region of the interlocking structure may be so called because the material of the metal part (e.g., metal oxide, metal substrate, etc.) is overhang and defines the undercut region. In some instances, the size of the opening of the interlocking structure is significantly smaller than the size of the undercut region, since most of the material of the metal part on the surface remains intact. Indeed, a moderately etched surface with an interlocking structure generally presents a smooth surface, and in some cases, the surface of the metal part defining the opening has a substantially uniform thickness.

소비자-등급 휴대용 전자 디바이스에 선택된 재료로서 알루미늄이 빈번하게 언급된다. 실제로, 알루미늄은 높은 비강도(specific strength) 및 비강성(specific stiffness)과 같은 바람직한 속성을 가지며, 기계가공이 비교적 용이하다. 더욱이, 알루미늄은 양극산화되어, 일상적인 취급으로 인한 열화에 저항하는 광범위한 내구성 있는 미적 마무리를 가져올 수 있다. 알루미늄은 비금속 재료, 예컨대 유리 및 중합체와 조합하여 사용될 수 있다. 예를 들어, 휴대용 전자 디바이스의 디스플레이가 인클로저를 위한 알루미늄 프레임에 접합될 수 있다. 알루미늄 프레임은 인클로저 내에 보유된 안테나(들)의 전자기적 간섭을 방지하도록 다양한 전기 절연된 부품들로 종종 세분화된다. 예를 들어, 디스플레이가 한 면에 접합되고, 유리가 반대측 면에 결합되도록 인클로저의 에지 주위에 구조용 밴드(structural band)를 형성하는 데 알루미늄이 사용될 수 있다. 더욱이, 전기 절연 스플릿이 인클로저의 주연부 주위에 형성될 수 있다.Aluminum is frequently mentioned as the material of choice for consumer-grade portable electronic devices. Indeed, aluminum has desirable properties such as high specific strength and specific stiffness, and machining is relatively easy. Moreover, aluminum is anodized and can lead to a wide range of durable aesthetic finishes that resist deterioration due to routine handling. Aluminum can be used in combination with non-metallic materials such as glass and polymers. For example, the display of the portable electronic device may be bonded to an aluminum frame for the enclosure. The aluminum frame is often subdivided into various electrically insulated parts to prevent electromagnetic interference of the antenna (s) held within the enclosure. For example, aluminum may be used to form a structural band around the edge of the enclosure such that the display is bonded to one side and the glass is bonded to the opposite side. Furthermore, an electrical insulation split can be formed around the periphery of the enclosure.

구조용 밴드가 인클로저에 그의 수명 내내 충분한 구조 강도, 견고성, 강성 및 내열성 및 내수분성을 부여하기 위하여, 인클로저는 금속 (예를 들어, 알루미늄)과 비금속 재료 (예를 들어, 중합체) 사이에 강한 접착 접합이 형성될 것을 필요로 한다. 실제로, 이들 요건은 (개선된 안테나 성능을 위한) 추가적인 절연 스플릿 및 (중량 및 공간을 최소화하기 위한) 더욱 더 작은 접착 면적에 직면하여, 만족시키는 데 더욱 더 기술적으로 어려움이 있다. 더욱이, 내수성 인클로저에 대한 증가하는 필요성은 이들 접착 접합이 강도를 유지해야 할 뿐만 아니라, 수분 누설을 방지해야 할 것을 요구하며, 이는, 인클로저가 다회의 변형(strain) 사이클을 받은 후에도 그러하다. 더욱이, 항공우주 산업에서는, 금속을 비금속 재료에 체결하기 위한 통상적인 메커니즘, 예컨대 기계적 체결구 (예를 들어, 리벳공(riveter))가 금속 부품들 사이의 전기 절연의 요건으로 인해 휴대용 전자 디바이스에 사용될 수 없음에 유의해야 한다. 예를 들어, 함께 부착되는 상이한 금속 부품들을 전기 절연하기 위하여 비금속 재료 (예를 들어, 중합체)가 사용된다. 더욱이, 크롬산 양극산화 및 붕산-황산 양극산화와 같은 대안은 대체로 불량한 접착 성능을 가져온다. 실제로, 이들 프로세스는 약간 가리비형으로 된(lightly scalloped) 구조물을 생성하는데, 이러한 구조물은 가혹한 환경에서 소비자 사용을 겪기 위하여 휴대용 전자 디바이스에 요구되는 필요한 부착 강도, 내수성, 및 인장 강도를 제공하지 못한다. 실제로, 휴대용 전자 디바이스를 위한 인클로저가 더 소형화되고/되거나 이들 인클로저의 설계가 금속의 단지 주연부 밴드(peripheral band)로 변화됨에 따라, 금속과 비금속 사이의 접합에 허용된 영역은 크게 감소된다. 따라서, 더 견고한 금속 대 비금속 접합에 대한 강조가 증가되고 있다. 본 명세서에 더 상세히 기술된 바와 같이, 금속을 비금속에 부착하기 위하여 본 명세서에 기술된 실시예는 통상적인 메커니즘에 비하여 강도에 있어서 적어도 50%의 개선을 부여한다.In order for the structural band to impart sufficient structural strength, rigidity, stiffness and heat resistance and water resistance to the enclosure throughout its lifetime, the enclosure must have a strong adhesive bond between the metal (e.g. aluminum) and the non- Needs to be formed. In practice, these requirements are even more technically challenging to meet, in the face of additional insulation splits (for improved antenna performance) and even smaller bonding areas (to minimize weight and space). Moreover, the increased need for water-resistant enclosures requires that these adhesive joints not only have to maintain strength but also have to prevent moisture leakage, even after the enclosure has undergone multiple cycles of strain. Moreover, in the aerospace industry, conventional mechanisms for fastening metal to non-metallic materials, such as mechanical fasteners (e.g., riveters), are required for portable electronic devices due to the requirement of electrical insulation between metal parts It can not be used. For example, a non-metallic material (e.g., a polymer) is used to electrically isolate the different metal parts that are attached together. Moreover, alternatives such as chromic acid anodization and boric acid-sulfuric acid anodization generally lead to poor adhesion performance. In practice, these processes produce lightly scalloped structures that do not provide the required adhesion strength, water resistance, and tensile strength required of portable electronic devices to undergo consumer use in harsh environments. Indeed, as enclosures for portable electronic devices become smaller and / or the designs of these enclosures change to just the peripheral band of metal, the area allowed for bonding between metal and non-metal is greatly reduced. Thus, there is an increasing emphasis on more robust metal-to-metal bonding. As described in more detail herein, the embodiments described herein for attaching metals to non-metals give at least a 50% improvement in strength over conventional mechanisms.

본 명세서에 사용되는 바와 같이, 용어 애노드 필름, 양극산화된 필름, 애노드 층, 양극산화된 층, 애노드 산화물 코팅, 애노드 층, 애노드 산화된 층, 금속 산화물 층, 산화물 필름, 산화된 층, 패시베이션 층(passivation layer), 패시베이션 필름, 및 산화물 층은 상호교환 가능하게 사용될 수 있으며, 임의의 적절한 산화물 층을 지칭한다. 산화물 층은 금속 기판의 금속 표면 상에 형성된다. 금속 기판은 여러 적합한 금속 또는 금속 합금 중 임의의 것을 포함할 수 있다. 일부 실시예에서, 금속 기판은 강 합금 (예를 들어, 스테인리스 강)을 포함할 수 있다. 스테인리스 강의 유형은 임의의 번호의 예, 예컨대 타입 316L 스테인리스 강을 포함할 수 있다. 일부 실시예에서, 금속 기판은 알루미늄을 포함할 수 있으며, 알루미늄은 산화될 때 산화알루미늄을 형성할 수 있다. 일부 실시예에서, 금속 기판은 알루미늄 합금을 포함할 수 있다. 일부 실시예에서, 금속 기판은 티타늄 또는 티타늄 합금을 포함할 수 있다. 일부 실시예에서, 비금속 층은, 비금속 층이 비금속 재료로 대체로 구성되도록 금속 재료와 혼합되거나 그와 조합 상태에 있는 대부분의 비금속 재료를 포함할 수 있다. 다른 실시예에서는, 금속으로 구성된 부품이 또한 본 명세서에 기술된 바와 동일한 프로세스 및 기법을 이용하여 금속 부품에 부착될 수 있다. 본 명세서에 사용되는 바와 같이, 용어 부품, 층, 세그먼트, 및 섹션은 또한 적절한 경우에 상호교환 가능하게 사용될 수 있다.As used herein, the term anode film, anodized film, anode layer, anodized layer, anode oxide coating, anode layer, anode oxidized layer, metal oxide layer, oxide film, oxidized layer, passivation layer the passivation layer, the passivation film, and the oxide layer may be used interchangeably and refer to any suitable oxide layer. An oxide layer is formed on the metal surface of the metal substrate. The metal substrate may comprise any of a variety of suitable metals or metal alloys. In some embodiments, the metal substrate may comprise a steel alloy (e. G., Stainless steel). The type of stainless steel may include any number of examples, such as Type 316L stainless steel. In some embodiments, the metal substrate may comprise aluminum, and aluminum may form aluminum oxide when oxidized. In some embodiments, the metal substrate may comprise an aluminum alloy. In some embodiments, the metal substrate may comprise titanium or a titanium alloy. In some embodiments, the non-metallic layer may comprise most of the non-metallic material that is mixed with or in combination with the metallic material such that the non-metallic layer is generally comprised of a non-metallic material. In another embodiment, a component made of metal may also be attached to the metal part using the same processes and techniques as described herein. As used herein, the terms parts, layers, segments, and sections may also be used interchangeably, where appropriate.

이들 및 다른 실시예가 도 1, 도 2a 내지 도 2g, 도 3, 도 4 및 도 5, 도 6a 및 도 6b, 도 7a 및 도 7b, 도 8 내지 도 11, 도 12a 내지 도 12e, 도 13a 내지 도 13c, 도 14a 내지 도 14c, 도 15a 및 도 15b, 및 도 16 내지 도 21을 참조하여 하기에 논의되어 있다. 그러나, 당업자들은 이러한 도면들과 관련하여 본 명세서에서 제공되는 상세한 설명이 설명의 목적을 위한 것일 뿐이며, 제한적인 것으로 해석되지 않아야 한다는 것을 쉽게 알 것이다.These and other embodiments are illustrated in Figures 1, 2A-2G, 3, 4 and 5, 6A and 6B, 7A and 7B, 8-11, 12A-12E, 13A- Fig. 13C, Figs. 14A to 14C, 15A and 15B, and Figs. 16 to 21. However, those skilled in the art will readily appreciate that the detailed description provided herein with respect to these figures is for purposes of illustration only and should not be construed as limiting.

도 1은 본 명세서에 기술된 바와 같은 기법을 사용하여 가공될 수 있는 다양한 휴대용 디바이스를 예시한다. 본 명세서에 기술된 바와 같은 기법은 소비자 사용을 위한 휴대용 디바이스의 인클로저의 금속 표면 (예를 들어, 금속 산화물 층 등)을 가공하는 데 사용될 수 있다. 도 1은 스마트폰(102), 태블릿 컴퓨터(104), 스마트워치(106), 및 휴대용 컴퓨터(108)를 예시한다. 일부 실시예에 따르면, 금속 표면은 금속 산화물 층에 의해 오버레이되는 금속 기판을 지칭할 수 있다. 일부 예에서, 금속 산화물 층은 금속 기판으로부터 형성될 수 있다. 구체적으로는, 금속 산화물 층은, 예를 들어 이들 휴대용 디바이스가 떨어뜨려지거나, 스크래치되거나, 깨지거나, 마모될 때, 금속 기판을 보호하도록 추가적인 보호 코팅으로서 기능할 수 있다.Figure 1 illustrates various portable devices that may be fabricated using techniques such as those described herein. Techniques such as those described herein can be used to fabricate metal surfaces (e.g., metal oxide layers, etc.) of an enclosure of a portable device for consumer use. 1 illustrates a smartphone 102, a tablet computer 104, a smart watch 106, and a portable computer 108. According to some embodiments, the metal surface may refer to a metal substrate overlaid by a metal oxide layer. In some examples, the metal oxide layer may be formed from a metal substrate. Specifically, the metal oxide layer may serve as an additional protective coating to protect the metal substrate, for example when these portable devices are dropped, scratched, cracked, or worn.

일부 예에서, 예를 들어 금속 기판이 알루미늄 또는 알루미늄 합금을 포함하는 경우, 금속 산화물 층은 금속 기판 위에 형성될 수 있으며, 금속 산화물 층을 통해 형성되는 기공 구조물을 포함할 수 있고, 금속 산화물 층의 외부 표면으로부터, 금속 산화물 층을 아래에 놓인 금속 기판과 분리하는 배리어 층(barrier layer)까지 연장될 수 있다. 추가적으로, 일부 실시예에 따르면, 금속 산화물 층의 기공 구조물 각각은 염료 입자를 수용할 수 있으며, 염료 입자는 염료 입자와 관련된 특정 색상으로 금속 산화물 층을 물들일 수 있다. 일부 예에서, 금속 산화물 층은 다수의 상이한 염료 색상을 포함할 수 있다.In some instances, for example, where the metal substrate comprises aluminum or an aluminum alloy, the metal oxide layer may comprise a pore structure formed over the metal substrate and formed through the metal oxide layer, From the outer surface to a barrier layer separating the metal oxide layer from the underlying metal substrate. Additionally, according to some embodiments, each of the pore structures of the metal oxide layer may contain dye particles, and the dye particles may stain the metal oxide layer with a particular color associated with the dye particles. In some instances, the metal oxide layer may comprise a number of different dye colors.

일부 실시예에 따르면, 비금속 재료 (또는 벌크 층)가 금속 표면의 외부 표면에 부착될 수 있다. 구체적으로는, 금속 및 비금속 재료의 조합을 포함하는 이들 휴대용 디바이스의 다층 인클로저는 이들 휴대용 디바이스의 기능성에 대해 개선된 구조적 및 전자기적 간섭 감소 효과를 제공할 수 있다. 한 예에서, 이들 휴대용 디바이스는 다른 전자 디바이스를 사용하여 데이터 신호를 수신 및 송신할 수 있는 무선 안테나/송수신기를 포함할 수 있다. 그러나, 무선 안테나를 직접 커버하는 금속 표면은 이들 데이터 신호를 수신 및/또는 송신하는 휴대용 디바이스의 능력에 영향을 줄 수 있는 바람직하지 않은 전자기적 간섭의 양을 야기할 수 있다. 그러나, 비금속 재료, 예컨대 열가소성 재료는 대체로 전기 비전도성 (즉, 유전성)이며, 이에 따라, 휴대용 디바이스의 인클로저에 충분한 크기의 구조적 강성 및 보호 품질을 여전히 부여하면서, 휴대용 디바이스에 영향을 미치는 전자기적 간섭의 양을 최소화할 수 있다. 일부 예에서, 비금속 재료는 또한, 비금속 재료를 염료 입자와 관련된 특정 색상으로 물들이도록 염료 입자를 포함할 수 있다. 일부 예에서, 비금속 재료는, 비금속 재료를 특정 색상으로 물들일 뿐만 아니라 그것에 향상된 기계적 강도를 부여하기 하기 위하여 무기 안료 및 충전제를 포함할 수 있다.According to some embodiments, a non-metallic material (or bulk layer) may be attached to the outer surface of the metal surface. Specifically, the multi-layer enclosures of these portable devices, including combinations of metal and non-metallic materials, can provide improved structural and electromagnetic interference reduction effects for the functionality of these portable devices. In one example, these handheld devices may include wireless antennas / transceivers capable of receiving and transmitting data signals using other electronic devices. However, metal surfaces that directly cover the wireless antenna may cause undesirable electromagnetic interference, which can affect the ability of the portable device to receive and / or transmit these data signals. However, non-metallic materials, such as thermoplastic materials, are generally electrically non-conductive (i.e., dielectric) and thus provide electromagnetic interference (EMI) that affects portable devices while still providing sufficient size of structural stiffness and protection quality to the enclosure of the portable device Can be minimized. In some instances, the non-metallic material may also include dye particles such that the non-metallic material is colored with a particular color associated with the dye particles. In some instances, the non-metallic material may include inorganic pigments and fillers to not only dye the non-metallic material in a particular color, but also to impart improved mechanical strength thereto.

본 명세서에 더 상세히 기술된 바와 같이, 금속 표면은, 비금속 재료가 금속 부품으로부터 강제로 떼어지고/지거나 분리되는 것을 방지하도록 비금속 재료를 수용 및 보유할 수 있는 인터로킹 구조물을 포함할 수 있다. 예를 들어, 이들 휴대용 디바이스(102, 104, 106, 108)가 떨어뜨려지거나 또는 물리적 손상을 입게 되는 경우, 비금속 재료는 금속 부품으로부터 떼어지는 경향을 나타낼 수 있다. 유익하게도, 이들 인터로킹 구조물은 비금속 재료가 금속 부품으로부터 분리되는 것을 방지할 수 있으며; 이에 따라, 인클로저의 전체 구조적 구성을 보존할 수 있다. 이들 휴대용 디바이스(102, 104, 106, 108) 중 임의의 것의 금속 표면을 형성하기 위한 기법이 도 2a 내지 도 2g, 도 3, 도 4 및 도 5, 도 6a 및 도 6b, 도 7a 및 도 7b, 도 8 내지 도 11, 도 12a 내지 도 12e, 도 13a 내지 도 13c, 도 14a 내지 도 14c, 도 15a 및 도 15b, 및 도 16 내지 도 21을 참조하여 기술된 다양한 실시예를 참조하여 하기에 논의되어 있다.As described in more detail herein, the metal surface may include an interlocking structure that can receive and retain non-metallic material to prevent the non-metallic material from being forcibly detached and / or separated from the metal part. For example, if these portable devices 102, 104, 106, and 108 are dropped or otherwise physically damaged, the non-metallic material may exhibit a tendency to detach from the metal part. Advantageously, these interlocking structures can prevent the non-metallic material from separating from the metal part; Thus, the entire structural configuration of the enclosure can be preserved. Techniques for forming the metal surfaces of any of these portable devices 102, 104, 106 and 108 are shown in Figures 2a to 2g, 3, 4 and 5, 6a and 6b, 7a and 7b With reference to various embodiments described with reference to Figures 8 to 11, 12A to 12E, 13A to 13C, 14A to 14C, 15A and 15B, and 16 to 21, Is discussed.

비금속 재료를 금속 부품에 접합하기 위한 에칭Etching for bonding non-metallic materials to metal parts

도 2a 내지 도 2f는 일부 실시예에 따른, 금속 부품의 외부 표면에 인터로킹 구조물을 형성하기 위한 프로세스를 거치고 있는 금속 부품의 단면도를 예시한다. 도 2a는 금속 부품(200)의 외부 표면(202)에 인터로킹 구조물을 형성하기 위한 프로세스를 거치기 전의 금속 부품(200)을 예시한다. 일부 실시예에서, 금속 부품(200)은 후속 에칭 프로세스에 적합한 임의의 두께를 가질 수 있는데, 이때 에칭 프로세스에 의해 외부 표면이 에칭 용액에 노출된다. 일부 실시예에서, 금속 부품(200)은 최종 부품, 예컨대 휴대용 디바이스(102, 104, 106, 108)의 인클로저의 거의 최종적인 형상(near net shape)을 갖는다. 외부 표면(202)은 비금속 층을 금속 부품에 부착하기 위한 부착 표면 또는 계면에 상응할 수 있다.Figures 2A-2F illustrate cross-sectional views of a metal part undergoing a process for forming an interlocking structure on an outer surface of a metal part, in accordance with some embodiments. 2A illustrates a metal part 200 before it has undergone a process for forming an interlocking structure on the outer surface 202 of the metal part 200. FIG. In some embodiments, the metal part 200 may have any thickness suitable for the subsequent etching process, wherein the outer surface is exposed to the etching solution by an etching process. In some embodiments, the metal part 200 has a near net shape of the final part, such as the enclosure of the portable device 102,104, 106,108. The outer surface 202 may correspond to an attachment surface or interface for attaching the non-metallic layer to the metal part.

일부 실시예에 따르면, 도 2a에 예시된 금속 부품(200)은 표면 처리 프로세스, 예컨대 무전해 패시베이션 프로세스(non-electrolytic passivation process) 이후의 금속 부품(200)을 나타낸다. 구체적으로는, 금속 부품(200)은 무전해 패시베이션 프로세스의 결과로서 금속 기판(204) 위에 배치된 금속 산화물 층(206)을 포함할 수 있다. 일부 예에서, 패시베이션 프로세스를 거치기 전에 금속 기판(204)의 표면이 세정된다. 일부 예에서, 무전해 패시베이션 프로세스 동안, 금속 기판(204)은, 금속 기판(204)을 공기 또는 수분에 노출시킴으로써 자발적 프로세스를 통해 산화되어 자연 금속 산화물 층을 형성할 수 있다. 예를 들어, 금속 기판(204)은 강 합금 (예를 들어, 스테인리스 강)을 포함할 수 있다. 구체적으로는, 스테인리스 강은 약 72%의 철 및 약 16% 내지 18%의 크롬을 포함할 수 있다. 스테인리스 강에 존재하는 크롬 합금화 원소는 산소와 반응하여, 금속 기판(204) 위에 배치되는 금속 산화물 층(206) (예를 들어, 산화크롬)을 형성하도록 금속 기판(204)이 무전해 패시베이션 프로세스를 거치기 쉽게 할 수 있다. 일부 예에서, 금속 산화물 층(206)은 산화크롬 필름을 포함할 수 있으며, 산화크롬 필름은 스테인리스 강을 포함하는 금속 기판(204) 위에 형성되는 패시베이션 층으로도 지칭될 수 있다. 일부 예에서, 산화크롬 필름은 Cr₂O₃ 산화물을 포함할 수 있다. 추가적으로, 패시베이션 층의 외부에 형성되는 다공성 산화물은 Ni/Fe 산화물을 포함할 수 있다.According to some embodiments, the metal part 200 illustrated in Figure 2A represents a metal part 200 after a surface treatment process, e.g., a non-electrolytic passivation process. Specifically, the metal part 200 may include a metal oxide layer 206 disposed over the metal substrate 204 as a result of the electroless passivation process. In some examples, the surface of the metal substrate 204 is cleaned before passing through the passivation process. In some instances, during the electroless passivation process, the metal substrate 204 may be oxidized through a spontaneous process to form a natural metal oxide layer by exposing the metal substrate 204 to air or moisture. For example, the metal substrate 204 may comprise a steel alloy (e.g., stainless steel). Specifically, the stainless steel may include about 72% iron and about 16% to 18% chromium. The chromium alloying element present in the stainless steel reacts with oxygen to cause the metal substrate 204 to undergo an electroless passivation process to form a metal oxide layer 206 (e.g., chromium oxide) It is easy to carry. In some instances, the metal oxide layer 206 may comprise a chromium oxide film, which may also be referred to as a passivation layer formed on a metal substrate 204 comprising stainless steel. In some instances, the chromium oxide film may comprise Cr ₂ O ₃ oxide. Additionally, the porous oxide formed outside the passivation layer may comprise a Ni / Fe oxide.

일부 예에 따르면, 금속 기판(204)은 높이, 폭, 및 깊이를 갖는 3차원 구조이며, 금속 기판(204)은 금속 산화물 층(206)을 형성하기에 그리고 비금속 층을 금속 부품(200)에 부착하기에 적합한 임의의 유형의 기하학적 형태를 가질 수 있다. 일부 예에서, 금속 기판(204)의 기하학적 형태는 직사각형, 다각형, 환형, 베벨형(beveled) 에지, 각진 에지, 타원형 등을 포함할 수 있다. 일부 예에서, 금속 기판의 텍스처는 대체로 편평하거나 불균일한 표면일 수 있다.According to some examples, the metal substrate 204 is a three-dimensional structure having a height, a width, and a depth, and the metal substrate 204 is formed to form a metal oxide layer 206 and a nonmetal layer to the metal part 200 And may have any type of geometric shape suitable for attachment. In some examples, the geometric shape of the metal substrate 204 may include rectangular, polygonal, annular, beveled, angled, oval, and the like. In some instances, the texture of the metal substrate may be a generally flat or non-uniform surface.

다른 예에서, 금속 산화물 층(206)이 알루미늄 또는 알루미늄 합금을 포함하는 경우, 금속 산화물 층(206)은 전해 양극산화 프로세스를 통해 형성될 수 있다. 일부 실시예에서, 금속 기판(204)의 일부분이 금속 산화물 층(206)으로의 전환에 의해 전환 또는 소비된다. 다른 예에서, 금속 산화물 층(206)은 임의의 적합한 양극산화 프로세스를 통해 형성될 수 있다.In another example, if the metal oxide layer 206 comprises aluminum or an aluminum alloy, the metal oxide layer 206 may be formed through an electrolytic anodization process. In some embodiments, a portion of the metal substrate 204 is converted or consumed by conversion to the metal oxide layer 206. In another example, the metal oxide layer 206 may be formed through any suitable anodizing process.

일부 예에 따르면, 금속 산화물 층(206)은 두께가 약 1 나노미터 내지 수백 나노미터일 수 있다. 일부 예에서, 두께는 약 3 나노미터 내지 약 500 나노미터이다. 일부 예에서, 금속 산화물 층(206)의 두께는 약 10 나노미터 내지 약 100 나노미터이다. 금속 산화물 층(206)의 두께는 금속 기판(204)이 패시베이션 프로세스를 거치게 되는 시간을 조정함으로써 제어될 수 있다. 일부 실시예에 따르면, 금속 산화물 층(206)이 알루미늄 또는 알루미늄 합금을 포함하는 경우, 금속 산화물 층(206)은 금속 부품(200)의 외부 표면(202)의 중심 평면과 대체로 직각인 방향으로 세장된 대체로 원기둥인 형상을 갖는 것으로 특징지어지는 기공 벽에 의해 한정되는 기공 구조물을 포함할 수 있다.According to some examples, the metal oxide layer 206 may have a thickness of from about 1 nanometer to a few hundred nanometers. In some instances, the thickness is from about 3 nanometers to about 500 nanometers. In some instances, the thickness of the metal oxide layer 206 is from about 10 nanometers to about 100 nanometers. The thickness of the metal oxide layer 206 can be controlled by adjusting the time that the metal substrate 204 undergoes the passivation process. According to some embodiments, if metal oxide layer 206 comprises aluminum or an aluminum alloy, metal oxide layer 206 may be formed in the shape of a truncated cone in the direction generally perpendicular to the center plane of the outer surface 202 of the metal part 200. [ The pore structure may be characterized by a pore wall that is characterized as having a generally cylindrical shape.

도 2b는 금속 부품(210)의 외부 표면(202)에 제1 인터로킹 구조물(212)을 형성하기 위한 프로세스를 거친 이후의 금속 부품(210)의 단면도를 예시한다. 일부 실시예에 따르면, 제1 인터로킹 구조물(212)을 형성하기 위한 프로세스는 금속 부품(200)을, 예를 들어 금속 부품(200)을 에칭 용액에 노출시킴으로써, 에칭하는 단계를 포함할 수 있다. 일부 예에 따르면, 에칭 용액은 염화제2철 (FeCl₃)을 포함할 수 있다. 일부 예에서, 에칭 용액에 존재하는 FeCl₃의 농도는 약 150 g/L 내지 약 250 g/L이다. 구체적으로는, 금속 부품(210)이 제1 사이클 동안 에칭 용액에 노출될 때, 에칭 용액은 제1 인터로킹 구조물(212)이 금속 부품(210)의 외부 표면(202)에 형성되게 할 수 있다. 일부 경우에, 제1 인터로킹 구조물(212)은 다중-경사(multi-angled) 측부 표면 또는 다중-크랙(multi-crack)을 갖는 에칭된 구조물을 지칭할 수 있다.2B illustrates a cross-sectional view of a metal part 210 after having undergone a process for forming a first interlocking structure 212 on the outer surface 202 of the metal part 210. FIG. According to some embodiments, the process for forming the first interlocking structure 212 may include etching the metal part 200, for example, by exposing the metal part 200 to the etching solution . According to some examples, the etching solution may comprise ferric chloride (FeCl ₃ ). In some instances, the concentration of FeCl ₃ present in the etching solution is from about 150 g / L to about 250 g / L. Specifically, when the metal part 210 is exposed to the etching solution during the first cycle, the etching solution may cause the first interlocking structure 212 to be formed on the outer surface 202 of the metal part 210 . In some cases, the first interlocking structure 212 may refer to an etched structure having multi-angled side surfaces or multi-cracks.

일부 예에서, 제1 인터로킹 구조물(212)은 반응성 부위 - 금속 산화물 층(206)에서 취약하거나 결함이 있는 외부 표면(202)의 제1 영역(211) - 에서 형성된다. 일부 예에서, 에칭 용액은 제1 인터로킹 구조물(212)의 위치에 상응하는 금속 산화물 층(206)의 일부분이 제거되어 제1 인터로킹 구조물(212)을 형성하게 할 수 있다. 일부 예에서, 제1 인터로킹 구조물(212)은 금속 산화물 층(206)의 다수의 취약한 영역에 형성된 다수의 인터로킹 구조물을 지칭할 수 있음에 유의하며, 이는 도 2g를 참조하여 더 상세히 기술된 바와 같다. 예를 들어, FeCl₃에 존재하는 클로라이드는 금속 산화물 층(206)에 존재하는 금속 산화물과 상호작용함으로써 금속 산화물 접합물을 용해시키고 금속 기판(204)을 노출시킬 수 있다.In some instances, the first interlocking structure 212 is formed in the reactive region-metal oxide layer 206 in the first region 211 of the weak or defective outer surface 202. In some instances, the etch solution may cause a portion of the metal oxide layer 206 corresponding to the location of the first interlocking structure 212 to be removed to form the first interlocking structure 212. It should be noted that in some instances, the first interlocking structure 212 may refer to a plurality of interlocking structures formed in a plurality of vulnerable regions of the metal oxide layer 206, Same as. For example, the chloride present in FeCl ₃ may interact with the metal oxide present in the metal oxide layer 206 to dissolve the metal oxide bond and expose the metal substrate 204.

일부 예에 따르면, 에칭 프로세스의 매 에칭 사이클마다의 지속시간은 약 30초 내지 약 300초이다. 다른 예에서, 매 에칭 사이클마다의 지속시간은 약 60 내지 약 150초이다. 구체적으로는, 에칭 사이클의 지속시간을 조정함으로써, 외부 표면(202)에 형성된 인터로킹 구조물 각각의 크기 (예를 들어, 직경, 폭 등)에 직접 영향을 줄 수 있다. 추가적으로, 에칭 용액의 화학적 성질은 또한 인터로킹 구조물 각각의 크기에 직접 영향을 줄 수 있다. 예를 들어, 에칭 용액 (예를 들어, FeCl₃)의 더 큰 농도는 인터로킹 구조물 각각의 크기의 증가에 직접 기여할 수 있다.According to some examples, the duration of each etch cycle of the etch process is from about 30 seconds to about 300 seconds. In another example, the duration for each etch cycle is from about 60 to about 150 seconds. Specifically, by adjusting the duration of the etch cycle, it can directly affect the size (e.g., diameter, width, etc.) of each of the interlocking structures formed on the outer surface 202. Additionally, the chemistry of the etch solution can also directly affect the size of each of the interlocking structures. For example, a greater concentration of an etch solution (e.g., FeCl ₃ ) can directly contribute to an increase in the size of each of the interlocking structures.

도 2c에 예시된 바와 같이, 금속 부품(220)은 제1 인터로킹 구조물(212) 위에 형성된 패시베이션 산화물 층(222)을 형성할 수 있다. 제1 에칭 사이클을 완료한 이후에, 금속 부품(210)은 에칭 용액으로부터 꺼내지고 공기 중 산소에 노출되어, 제1 인터로킹 구조물(212)에 상응하는 노출된 금속 기판(204) 위에의 패시베이션 산화물 층의 형성을 촉진시킬 수 있다. 일부 예에서, 금속 부품(210)은 약 10초의 지속시간 동안 산소에 노출될 수 있다. 다른 예에서, 노출의 지속시간은 약 1분 내지 약 5분이다. 추가적으로, 금속 부품(210)의 외부 표면(202)은, 존재할 수 있는 어떠한 액체 또는 오염물도 제거하도록 세정되어, 제1 인터로킹 구조물(212)의 노출된 금속 기판(204) 위에 패시베이션 산화물 층의 형성을 추가로 촉진시킬 수 있다. 예를 들어, 외부 표면(202)은 FeCl₃의 어떠한 잔류물도 제거하기 위하여 수돗물 또는 탈이온수로 세정되고 헹구어질 수 있다. 추가적으로, FeCl₃의 어떠한 잔류물도 제거하는 데 역삼투수가 또한 사용될 수 있다. 일부 경우에, 외부 표면(202)의 세정은 외부 표면(202)의 다른 영역에서의 추가적인 인터로킹 구조물의 형성 및 성장을 촉진시키도록 제1 인터로킹 구조물(212)의 성장을 억제하거나 정지하기 위하여 바람직할 수 있다. 추가적으로, 외부 표면(202)은 외부 표면(202)의 새로운 영역 (즉, 비에칭된 영역)에서의 성장 및 형성을 촉진시키기 위하여 매 에칭 사이클마다 사이클 후에 (즉, 각각의 인터로킹 구조물의 형성 이후에) 세정될 수 있다.As illustrated in FIG. 2C, the metal part 220 may form a passivation oxide layer 222 formed on the first interlocking structure 212. After completing the first etching cycle, the metal part 210 is taken out of the etching solution and exposed to oxygen in the air to form a passivation oxide (not shown) on the exposed metal substrate 204 corresponding to the first interlocking structure 212 The formation of the layer can be promoted. In some instances, the metal part 210 may be exposed to oxygen for a duration of about 10 seconds. In another example, the duration of exposure is from about 1 minute to about 5 minutes. The outer surface 202 of the metal part 210 may be cleaned to remove any liquid or contaminants that may be present so that the formation of a passivation oxide layer on the exposed metal substrate 204 of the first interlocking structure 212 Can be further promoted. For example, the outer surface 202 may be cleaned and rinsed with tap water or deionized water to remove any residues of FeCl ₃ . Additionally, reverse osmosis water can also be used to remove any residues of FeCl ₃ . In some cases, cleaning of the outer surface 202 may be used to inhibit or stop the growth of the first interlocking structure 212 to promote the formation and growth of additional interlocking structures in other areas of the outer surface 202 Lt; / RTI > In addition, the outer surface 202 may be removed after each cycle of every etching cycle (i.e., after the formation of each interlocking structure) to promote growth and formation in a new region (i.e., a non-etched region) ). &Lt; / RTI >

일부 예에서, 패시베이션 산화물 층(222)은 약 10 나노미터이다. 일부 실시예에 따르면, 패시베이션 산화물 층(222)은 금속 기판(204) 내부를 밀봉하기에 충분한 두께로 성장되고 오염물이 금속 기판(204)에 도달하는 것을 방지한다. 추가적으로, 패시베이션 산화물 층(222)은 금속 기판(204)을 밀봉하기 때문에, 패시베이션 산화물 층(222)은 아래에 놓인 금속 기판(204)의 금속 부식을 방지하도록 배리어로서 작용할 수 있다. 일부 예에서, 패시베이션 산화물 층(222)은 리패시베이션(repassivation) 프로세스를 통해 형성된 리패시베이션 층으로 지칭될 수 있다. 리패시베이션 프로세스 동안, 패시베이션 산화물 층(222)은 결함을 갖는 금속 기판(204)의 제1 영역 위에 성장한다. 유익하게도, 이러한 제1 영역 위에의 리패시베이션 층의 형성은 후속 에칭 사이클 동안 동일한 영역에서의 다른 인터로킹 구조물을 개시 또는 형성하는 것을 더 어렵게 할 수 있다. 유익하게도, 이러한 방식으로, 금속 부품(220)이 후속 에칭 사이클 동안 에칭 용액에 재노출될 때, 제1 영역(211)이 더 이상 가장 화학적으로 에칭되기에 민감한 곳이 아니게 됨에 따라, 에칭 용액은 인터로킹 구조물이 제1 영역(211)과 구별되는 다른 영역에 형성되게 할 수 있다. 그러나, 일부 실시예에서, 에칭 용액에 대한 금속 부품(220)의 재노출은 제1 영역(211)에 보충적인 인터로킹 구조물을 형성할 수 있다. 그러나, 이들 보충적인 인터로킹 구조물은 제1 인터로킹 구조물(212)의 크기보다 상당히 더 작은 크기를 가질 것이며, 대체로 제1 인터로킹 구조물(212)의 구조적 완전성에 영향을 주지 않을 것이다.In some instances, the passivation oxide layer 222 is about 10 nanometers. According to some embodiments, the passivation oxide layer 222 is grown to a thickness sufficient to seal the interior of the metal substrate 204 and prevents contaminants from reaching the metal substrate 204. In addition, since passivation oxide layer 222 seals metal substrate 204, passivation oxide layer 222 may act as a barrier to prevent metal corrosion of underlying metal substrate 204. [ In some instances, the passivation oxide layer 222 may be referred to as a redistribution layer formed through a repassivation process. During the re-passivation process, the passivation oxide layer 222 grows over the first region of the defective metal substrate 204. Advantageously, the formation of a redistribution layer over this first region can make it more difficult to initiate or form another interlocking structure in the same region during a subsequent etch cycle. Advantageously, in this manner, as the metal part 220 is re-exposed to the etching solution during the subsequent etching cycle, the first area 211 is no longer susceptible to the most chemically etched, So that the interlocking structure can be formed in another region different from the first region 211. However, in some embodiments, reexposure of the metal part 220 to the etching solution may form a complementary interlocking structure in the first area 211. However, these complementary interlocking structures will have a size considerably smaller than the size of the first interlocking structure 212 and will generally not affect the structural integrity of the first interlocking structure 212.

제1 인터로킹 구조물(212) 위에 패시베이션 산화물 층(222)을 형성한 이후에, 금속 부품(220)은 후속 에칭 프로세스 (예를 들어, 제2 에칭 사이클)를 거치게 되며, 이는 도 2d를 참조하여 기술된 바와 같다. 도 2d는 금속 부품(230)이 에칭 용액에 다시 노출되는 후속 에칭 프로세스를 거친 이후의 금속 부품(230)의 단면도를 예시한다. 패시베이션 산화물 층(222)이 제1 인터로킹 구조물(212) 위에 형성됨에 따라, 제1 인터로킹 구조물(212)은 제1 영역(211)에 후속 인터로킹 구조물을 성장시키거나 현존하는 제1 인터로킹 구조물(212)의 크기를 증가시키는 데 훨씬 덜 민감하다. 일부 예에서, 감소된 감수성은, 더 내부식성일 수 있는, 제1 인터로킹 구조물(212) 위에 형성되는 패시베이션 산화물 층(222)에 기인될 수 있다. 일부 예에서, 감소된 감수성은 제1 영역에서의 전기화학 포텐셜의 감소에 기인될 수 있으며, 이는 도 2f를 참조하여 더 상세히 기술된 바와 같을 것이다. 대신에, 에칭 용액은 제2 인터로킹 구조물(232)이 외부 표면(202)의 제2 영역(233)에 형성되게 할 수 있다. 일부 예에서, 제2 인터로킹 구조물(232)은 금속 산화물 층(206)의 다수의 취약한 영역에 형성된 다수의 인터로킹 구조물을 지칭할 수 있으며, 이는 도 2g를 참조하여 더 상세히 기술된 바와 같다. 그러나, 일부 예에서, 추가적인 공극(void)을 제1 인터로킹 구조물(212) 상에 추가함으로써 금속 부품(220)을 에칭 용액에 재노출시킬 때, 현존하는 제1 인터로킹 구조물(212)을 추가로 성장시키는 것이 바람직할 수 있다. 일부 예에서, 2차적/보충적인 인터로킹 구조물이 성장하고 제1 인터로킹 구조물(212)로부터 형성될 수 있다. 그러나, 제1 인터로킹 구조물(212)의 구조는 이러한 시나리오에서 대체로 온전하게 유지된다는 것에 유의해야 한다.After forming the passivation oxide layer 222 over the first interlocking structure 212, the metal part 220 undergoes a subsequent etching process (e.g., a second etching cycle) As described. 2D illustrates a cross-sectional view of the metal part 230 after a subsequent etching process in which the metal part 230 is again exposed to the etching solution. As the passivation oxide layer 222 is formed over the first interlocking structure 212, the first interlocking structure 212 may be formed by growing a subsequent interlocking structure in the first region 211, Is much less susceptible to increasing the size of the structure 212. In some instances, the reduced susceptibility can be attributed to the passivation oxide layer 222 formed on the first interlocking structure 212, which may be more corrosion resistant. In some instances, the reduced susceptibility may be due to a reduction in electrochemical potential in the first region, which will be described in more detail with reference to Figure 2f. Instead, the etching solution may cause the second interlocking structure 232 to be formed in the second region 233 of the outer surface 202. In some instances, the second interlocking structure 232 may refer to a plurality of interlocking structures formed in a plurality of vulnerable regions of the metal oxide layer 206, as described in further detail with reference to FIG. 2G. However, in some instances, when an additional void is added on the first interlocking structure 212 to re-expose the metal part 220 to the etching solution, the existing first interlocking structure 212 may be added May be desirable. In some instances, a secondary / complementary interlocking structure may be grown and formed from the first interlocking structure 212. It should be noted, however, that the structure of the first interlocking structure 212 remains substantially intact in such a scenario.

일부 예에서, 에칭 용액은 금속 산화물 층(206)에서 결함 또는 취약함을 갖는 영역에 상응하는 제2 영역(233)을 에칭 제거한다. 예를 들어, 이 영역에서의 결함은 금속 산화물 층(206)에 존재하는 크롬의 양의 결핍을 지칭할 수 있다. 다른 예에서, 이 영역에서의 결함은 입계(grain boundary) 위에 형성되는 고응력 하의(highly stressed) 패시베이션 산화물 층 - 예를 들어, 222 - 을 지칭할 수 있다. 다른 예에서, 이 영역에서의 결함은 고응력 하의 에지를 지칭할 수 있다. 일부 실시예에 따르면, 금속 산화물 층(206)은 인터로킹 구조물을 형성할 수 있는 (예를 들어, 에칭으로 이어져서) 몇몇 반응성 부위를 포함할 수 있다. 도 2g를 참조하여 본 명세서에 기술된 바와 같이, 반응성 부위 - 예를 들어, 제1 영역(211) - 가 에칭으로 이어져서 인터로킹 구조물(212, 232)을 형성할 수 있다. 추가적으로, 반응성 부위 - 예를 들어, 제2 영역(233) - 가 에칭으로 이어져서 인터로킹 구조물(242, 244)을 형성할 수 있다. 더욱이, 반응성 부위 - 예를 들어, 제3 영역(255) - 가 에칭으로 이어져서 인터로킹 구조물(246)을 형성할 수 있다. 제2 에칭 사이클 이후에, 금속 부품(230)은 에칭 용액으로부터 꺼내져서, 금속 부품(230)은 다시 한번 공기에 노출되고 제2 인터로킹 구조물(232)은 무전해 패시베이션 프로세스를 거치게 된다. 무전해 패시베이션 프로세스의 결과로서, 패시베이션 산화물 층(234)이 제2 인터로킹 구조물(232) 위에 형성된다.In some instances, the etching solution etches away a second region 233 corresponding to a region having a defect or fragility in the metal oxide layer 206. For example, defects in this region may refer to a deficiency in the amount of chromium present in the metal oxide layer 206. In another example, a defect in this region may refer to a highly stressed passivation oxide layer, e.g., 222 - formed over a grain boundary. In another example, a defect in this region may refer to an edge under a high stress. According to some embodiments, metal oxide layer 206 may include some reactive sites capable of forming an interlocking structure (e. G., Following etching). As described herein with reference to FIG. 2G, reactive sites-for example, first region 211-may be etched to form interlocking structures 212 and 232. In addition, reactive sites-for example, second regions 233-may be etched to form interlocking structures 242 and 244. Furthermore, reactive sites-for example, third regions 255-may be etched to form the interlocking structure 246. After the second etching cycle, the metal part 230 is removed from the etching solution, so that the metal part 230 is once again exposed to air and the second interlocking structure 232 undergoes an electroless passivation process. As a result of the electroless passivation process, a passivation oxide layer 234 is formed over the second interlocking structure 232.

일부 실시예에 따르면, 인터로킹 구조물들 - 예를 들어, 212, 232 - 의 전체 크기는 그들 각각의 인장 강도 (예를 들어, 금속 부품과 비금속 층 사이의 부착 강도)에 직접 영향을 줄 수 있다. 일부 경우에, 금속 부품이 에칭 사이클 (예를 들어, 제1 에칭 사이클, 제2 에칭 사이클 등)에 노출되는 지속시간은 인터로킹 구조물의 전체 크기에 직접 영향을 줄 수 있다. 예를 들어, 하나의 시나리오에서, 금속 부품(200)이, 지속시간이 약 45초인 제1 에칭 사이클을 거치게 함으로써, 제1 인터로킹 구조물(212)이, 지속시간이 약 30초인 제2 에칭 사이클을 거치게 되는 제2 인터로킹 구조물(232)보다 더 큰 인장 강도를 갖게 할 수 있다.According to some embodiments, the overall size of the interlocking structures (e.g., 212, 232) can directly affect their respective tensile strengths (e.g., adhesion strength between metal parts and nonmetal layers) . In some cases, the duration that the metal part is exposed to an etch cycle (e.g., the first etch cycle, the second etch cycle, etc.) may directly affect the overall size of the interlocking structure. For example, in one scenario, the metal part 200 undergoes a first etching cycle, the duration of which is about 45 seconds, so that the first interlocking structure 212 has a second etching cycle Lt; RTI ID = 0.0 > 232 < / RTI >

일부 실시예에 따르면, 금속 부품 - 예를 들어, 230 - 내로의 침투 깊이의 양은 각각의 개별적인 인터로킹 구조물 - 예를 들어, 212, 232 - 의 전체 크기의 특성으로 간주될 수 있다. 일부 예에서, 인터로킹 구조물(212, 232)은 금속 부품(230) 내로의 침투 깊이가 약 25 마이크로미터 내지 약 200 마이크로미터일 수 있다. 이들 인터로킹 구조물 각각의 전체 침투 깊이는 인터로킹 구조물의 형성을 가져오는 에칭 사이클의 지속시간에 직접 기인될 수 있음에 유의해야 한다.According to some embodiments, the amount of penetration depth into a metal part, e.g., 230 - may be considered a full-size property of each respective interlocking structure, e.g., 212, 232 -. In some examples, the interlocking structures 212, 232 may have a penetration depth into the metal part 230 of about 25 micrometers to about 200 micrometers. It should be noted that the total penetration depth of each of these interlocking structures can be directly attributed to the duration of the etch cycle resulting in the formation of the interlocking structure.

일부 실시예에 따르면, 금속 부품(230)의 제1 인터로킹 구조물(212)은 비금속 재료의 부착 특징부 (또는 미세-부분)를 수용할 수 있으며, 이는 도 2f를 참조하여 더 상세히 기술된 바와 같다. 일부 실시예에 따르면, 금속 부품(230)의 제1 인터로킹 구조물(212)은 언더컷 영역(Wu1) 내로 이어지는 개구(Wo1)를 갖는 것으로 특징지어질 수 있다. 일부 예에서, 제1 인터로킹 구조물(212)은 금속 기판(204) 내로 연장되는 리세스된(recessed) 구조물로서 특징지어질 수 있으며, 언더컷 영역은 언더컷 기하학적 형태를 갖는다. 개구(Wo1)의 크기는 언더컷 영역(Wu1)의 크기보다 더 작은 폭 또는 직경을 갖는 것으로 특징지어질 수 있다. 일부 예에서, 개구(Wo1)의 폭 대 언더컷 영역(Wu1)의 폭의 비는 0.5:1 이상이다. 일부 예에서, 이 비는 적어도 0.5:1 내지 약 1:6이다. 그러나, 개구 및 언더컷 영역의 폭은, 개구의 크기가 언더컷 영역의 크기보다 작은 한, 금속 부품 상에 후속 배치되는 비금속 재료의 일부분을 포획 및 보유하기에 충분한 임의의 크기를 갖는다는 것에 유의해야 한다.According to some embodiments, the first interlocking structure 212 of the metal part 230 may receive an attachment feature (or a micro-part) of a non-metallic material, as described in more detail with reference to Figure 2f same. According to some embodiments, the first interlocking structure 212 of the metal part 230 may be characterized as having an opening Wo1 leading into the undercut region Wu1 . In some examples, the first interlocking structure 212 may be characterized as a recessed structure that extends into the metal substrate 204, and the undercut region has an undercut geometry. The size of the opening Wo1 may be characterized as having a width or diameter smaller than the size of the undercut region Wu1 . In some examples, the ratio of the width of the opening Wo1 to the width of the undercut area Wu1 is 0.5: 1 or more. In some examples, the ratio is at least 0.5: 1 to about 1: 6. It should be noted, however, that the widths of the opening and undercut regions are of any size sufficient to capture and retain a portion of the nonmetallic material subsequently disposed on the metal part, as long as the size of the opening is smaller than the size of the undercut region .

도 2d에 추가로 예시된 바와 같이, 금속 부품(230)의 제2 인터로킹 구조물(232)은 또한 비금속 재료의 부착 특징부를 수용할 수 있다. 일부 예에서, 제1 및 제2 인터로킹 구조물(212, 232)은 동등한 지속시간을 갖는 개별 에칭 사이클들을 거치게 되는 결과로서 유사한 전체 크기 (예를 들어, 침투 깊이, 폭 등)를 가질 수 있다.As further illustrated in Figure 2D, the second interlocking structure 232 of the metal part 230 may also receive the attachment features of the non-metallic material. In some instances, the first and second interlocking structures 212, 232 may have a similar overall size (e.g., penetration depth, width, etc.) as a result of having undergone separate etch cycles with equivalent durations.

후속으로, 금속 부품(230)은 외부 표면(202)의 상이한 영역들에서 추가적인 인터로킹 구조물을 형성하기 위하여 필요에 따라 추가적인 에칭 사이클을 거칠 수 있다. 매회 반복해서 금속 부품을 에칭 용액에 노출할 때마다 노출 이후에, 금속 부품(230)은 에칭 용액으로부터 꺼내지고, 에칭 용액이 헹구어지고, 공기에 노출되어, 최근 형성된 인터로킹 구조물 내에 패시베이션 산화물 층을 형성할 수 있다. 예를 들어, 도 2e에 예시된 바와 같이, 금속 부품(230)은 추가적인 프로세스를 추가로 거쳐서 추가적인 인터로킹 구조물을 형성할 수 있다. 도 2e에 예시된 바와 같이, 금속 부품(240)은 추가적인 인터로킹 구조물 - 예를 들어, 제3 인터로킹 구조물(242), 제4 인터로킹 구조물(244), 및 제5 인터로킹 구조물(246) - 을 포함할 수 있다. 일부 실시예에서, 임의의 단회 에칭 사이클이 결함을 갖는 금속 산화물 층(206)의 영역에 몇몇 또는 다수의 인터로킹 구조물을 생성할 수 있으며, 이는 도 2g를 참조하여 더 상세히 기술된 바와 같을 것이다. 이들 추가적인 인터로킹 구조물이 공기에 노출되고 에칭 용액이 헹구어질 때, 패시베이션 산화물 층이 이들 인터로킹 구조물에 상응하는 금속 기판(204)의 노출된 부분 위에 형성될 수 있다. 노출된 부분 위에 형성되는 패시베이션 산화물 층은 금속 산화물 층(206)과 적어도 유사한 품질을 갖는다는 것에 유의해야 한다. 예를 들어, 각각의 인터로킹 구조물의 패시베이션 산화물 층은 인터로킹 구조물의 그 위치에 상응하는 미리 형성된 금속 산화물 층(206)과 실질적으로 동일한 두께를 가질 수 있다. 일부 경우에, 인터로킹 구조물 위에 형성된 각각의 패시베이션 산화물 층은 아래에 놓인 금속 기판(204)을 오염물에 대한 노출로부터 보호할 수 있다. 추가적으로, 일부 예에서, 각각의 패시베이션 산화물 층은 상응하는 인터로킹 구조물의 형상에 대체로 상응하는 형상 (예를 들어, 경계)을 나타낸다. 하나 이상의 미리 형성된 인터로킹 구조물(212, 232)의 각각의 패시베이션 산화물 층은, 금속 부품 - 예를 들어, 금속 부품(230) - 으로부터 에칭 용액이 제거되고 공기에 노출될 때, 추가로 성장하고/두께가 증가할 수 있음에 또한 유의해야 한다.Subsequently, the metal part 230 may undergo additional etching cycles as needed to form additional interlocking structures in different areas of the outer surface 202. Each time the metal part is repeatedly exposed to the etching solution after each iteration, the metal part 230 is taken out of the etching solution, the etching solution is rinsed and exposed to air to form a passivation oxide layer in the recently formed interlocking structure . For example, as illustrated in FIG. 2E, the metal part 230 may form additional interlocking structures through additional processes. As illustrated in Figure 2E, the metal part 240 may include additional interlocking structures, such as a third interlocking structure 242, a fourth interlocking structure 244, and a fifth interlocking structure 246, - < / RTI > In some embodiments, any single-etch cycle may produce several or multiple interlocking structures in the region of the metal oxide layer 206 having defects, which will be described in more detail with reference to FIG. 2g. When these additional interlocking structures are exposed to air and the etching solution is rinsed, a passivation oxide layer may be formed on the exposed portions of the metal substrate 204 corresponding to these interlocking structures. It should be noted that the passivation oxide layer formed over the exposed portion has a quality at least similar to that of the metal oxide layer 206. For example, the passivation oxide layer of each interlocking structure may have substantially the same thickness as the preformed metal oxide layer 206 corresponding to its location in the interlocking structure. In some cases, each passivation oxide layer formed over the interlocking structure may protect the underlying metal substrate 204 from exposure to contaminants. Additionally, in some examples, each passivation oxide layer exhibits a shape (e.g., a boundary) that generally corresponds to the shape of the corresponding interlocking structure. Each passivation oxide layer of one or more of the preformed interlocking structures 212 and 232 may be further grown and / or removed when the etching solution is removed from the metal part-for example, the metal part 230- It should also be noted that the thickness may increase.

도 2e에 예시된 바와 같이, 인터로킹 구조물 - 예를 들어, 212, 232, 242, 244, 246 - 의 개구들은 최소 분리 거리보다 더 큰 분리 거리에 의해 서로 분리될 수 있다. 일부 예에서, 최소 분리 거리는, 이웃하는 인터로킹 구조물들의 개구들이 서로 중첩되지 않고 이웃하는 인터로킹 구조물들의 각각의 에칭된 벽의 불안정화를 야기하지 않도록 수십 내지 수백 마이크로미터 정도이다. 일부 예에서, 최소 분리 거리는 대체로 온전한 언더컷 영역을 한정하는 에칭된 벽들에 상응한다. 예를 들어, 도 2e를 참조하면, 인터로킹 구조물들(242, 244)의 개구들은 개별적인 인터로킹 구조물들 각각의 언더컷 영역들을 한정하는 벽들이 이웃하는 인터로킹 구조물들의 존재에 의해 불안정화되지 않도록 분리 거리(Sd ₃ )에 의해 분리된다. 이러한 방식으로, 언더컷 영역들의 형상 및 크기는 대체로 유지된다. 일부 예에서, 임의의 수의 인터로킹 구조물 - 예를 들어, 212, 232, 242, 244, 246 - 이 서로 이산적으로 그리고 독립적으로 형성될 수 있다. 추가적으로, 도 2e는 인터로킹 구조물들 - 예를 들어, 212, 232, 242, 244, 246 - 의 개구들 사이의 분리 거리가 대체로 변동될 수 있음을 예시하는데, 이는, 인터로킹 구조물들이 금속 산화물 층(206)에서 결함이 있는 곳에 형성될 수 있기 때문이다. 예를 들어, 인터로킹 구조물들 - 예를 들어, 212, 232, 242, 244, 또는 246 - 중 적어도 하나는 외부 표면(202) 전체에 걸쳐 랜덤하게 분포되고 랜덤하게 형성된다. 본 명세서에서 앞서 기술된 바와 같이, 인터로킹 구조물들 중 어느 하나는 결함 또는 취약함을 갖는 금속 산화물 층(206)의 영역 내에 형성될 수 있다. 그러나, 다른 예에서, 인터로킹 구조물들의 개구들 사이의 분리 거리는 대체로 균일할 수 있다. 또 다른 예에서, 이들 인터로킹 구조물 - 예를 들어, 212, 232, 242, 244, 246 - 의 개구들 사이의 분리 거리는, 예를 들어 외부 표면(202)의 영역을 에칭되는 것으로부터 마스킹 오프(masking off)함으로써, 개별적으로 조정 및 제어될 수 있으며, 이는 도 9를 참조하여 더 상세히 기술된 바와 같을 것이다. 다른 예에서, 인터로킹 구조물 - 예를 들어, 212, 232, 242, 244, 246 - 각각의 개별 크기는 랜덤할 수 있다.As illustrated in FIG. 2E, the openings of the interlocking structures-for example, 212, 232, 242, 244, 246- may be separated from each other by a separation distance that is greater than the minimum separation distance. In some instances, the minimum separation distance is on the order of tens to hundreds of microns, so that the apertures of neighboring interlocking structures do not overlap each other and do not cause destabilization of each etched wall of neighboring interlocking structures. In some examples, the minimum separation distance corresponds to etched walls that define a generally intact undercut region. For example, referring to FIG. 2E, the openings of the interlocking structures 242, 244 may be positioned such that the walls defining the undercut regions of each of the respective interlocking structures are not destabilized by the presence of neighboring interlocking structures. ( Sd ₃ ). In this way, the shape and size of the undercut regions are generally maintained. In some instances, any number of interlocking structures - e.g., 212, 232, 242, 244, 246 - may be formed discrete and independently of each other. Additionally, FIG. 2e illustrates that the separation distance between the apertures of the interlocking structures-for example, 212, 232, 242, 244, 246- can vary substantially, since interlocking structures are formed on the metal oxide layer 206). &Lt; / RTI > For example, at least one of the interlocking structures - e.g., 212, 232, 242, 244, or 246 - is randomly distributed and randomly formed throughout the outer surface 202. As previously described herein, any one of the interlocking structures may be formed in the region of the metal oxide layer 206 having a defect or fragility. However, in another example, the separation distance between the apertures of the interlocking structures can be substantially uniform. In another example, the separation distance between the apertures of these interlocking structures-for example, 212, 232, 242, 244, 246- may range from, for example, masking off masking off, which may be as described in more detail with reference to FIG. 9. In another example, the individual sizes of the interlocking structures - e.g., 212, 232, 242, 244, 246 - may be random.

일부 실시예에서, 도 2e에 예시된 금속 부품(240)은 보통 정도의 에칭의 양을 나타내며, 이에 의해 금속 부품(240)의 외부 표면(202)의 약 25% 내지 약 65%가 인터로킹 구조물에 의해 에칭된다. 다른 예에서, 인터로킹 구조물들은 외부 표면의 약 40% 내지 약 50%를 커버한다. 일부 예에서, 이들 인터로킹 구조물의 개구들은 외부 표면(202)의 약 40% 내지 약 60%를 커버한다. 외부 표면의 보통 정도의 에칭을 실시함으로써, 각각의 인터로킹 구조물에 대한 각각의 인장 강도는 최적일 수 있다. 유익하게도, 보통 정도로 에칭되는 외부 표면을 갖는 것으로 특징지어지는 금속 부품(240)은 도 2f에 예시된 바와 같이 금속 부품(240)과 비금속 층 (예를 들어, 중합체 층 등) 사이에 강한 크기의 접착력을 부여한다.In some embodiments, the metal part 240 illustrated in Figure 2E represents a moderate amount of etching, whereby about 25% to about 65% of the outer surface 202 of the metal part 240 is covered by the interlocking structure < RTI ID = 0.0 > As shown in FIG. In another example, the interlocking structures cover about 40% to about 50% of the outer surface. In some instances, the openings of these interlocking structures cover about 40% to about 60% of the outer surface 202. By applying a moderate degree of etching of the outer surface, the respective tensile strength for each interlocking structure can be optimal. Advantageously, the metal part 240, which is characterized as having an outer surface that is etched to a modest extent, is formed of a metal layer 240 of a strong size (e.g., a metal layer) between the metal part 240 and a non- Thereby giving an adhesive force.

도 2f는 일부 실시예에 따른, 금속 부품(240) 위에 배치된 비금속 층(252)을 갖는 다층 부품(250) (예를 들어, 복합 부품)의 단면도를 예시한다. 일부 실시예에서, 비금속 층(252)은 금속 부품(240)에 접합 또는 부착된다. 일부 예에서, 비금속 층(252)은 돌출된 특징부를 갖는 벌크 층으로서 특징지어질 수 있다. 예를 들어, 비금속 층(252)은 중합체 재료, 예컨대 폴리부틸렌 테레프탈레이트 (PBT), 폴리에틸렌 테레프탈레이트 ("PET"), 폴리아릴에테르케톤 ("PAEK"), 또는 폴리에테르 에테르 케톤 ("PEEK")을 지칭할 수 있으며, 이들은 용융된 상태에 있는 동안에 금속 부품(240)의 인터로킹 구조물 - 예를 들어, 212, 232, 242, 244, 246 - 내로 유입되게 할 수 있다. 일부 예에서, 비금속 층(252)은, 비금속 층(252)이 충분하고 인터로킹 구조물에 의해 수용될 수 있는 한, 다른 재료 (예를 들어, 금속, 비금속 등)에 더하여 비금속 재료를 포함할 수 있다. 일부 예에서, 비금속 층(252)은 금속 부품(240)의 외부 표면(202)에 부착하기에 충분한 임의의 크기의 점도 또는 표면 장력을 가질 수 있다. 중합체 재료가 이들 인터로킹 구조물 내로 유입될 때, 중합체는 이들 인터로킹 구조물의 언더컷 영역(Wu) 내로 침투되고, 언더컷 영역(Wu)뿐만 아니라 이들 언더컷 영역(Wu)을 한정하는 벽의 다중-경사 측부 표면 내에 충전될 수 있다. 이들 언더컷 영역(Wu) 내로 유입된 후에, 중합체 재료는 돌출 부분 또는 부착 특징부(256)로 경화되게 할 수 있다. 따라서, 중합체 재료는 용융된 상태로부터 고체 상태로 변환되게 할 수 있다. 고체 상태로 변한 후에, 중합체 재료는 비금속 층(252)이 금속 부품(240)에 물리적으로 부착 또는 접합하게 하여 다층 부품(250)을 형성할 수 있다. 도 2f에 예시된 바와 같이, 고체 상태의 비금속 층(252)은 그것이 금속 부품(240)의 외부 표면(202)과 비교적 맞닿아 있도록 배치될 수 있다. 결과로서 형성되는 다층 부품(250)은 휴대용 디바이스 - 예를 들어, 102, 104, 106, 108 - 의 외부 표면에 상응할 수 있는 외부 표면(254)을 가질 수 있다.2F illustrates a cross-sectional view of a multi-layer component 250 (e.g., a composite component) having a non-metallic layer 252 disposed on the metallic component 240, according to some embodiments. In some embodiments, the nonmetal layer 252 is bonded or attached to the metal part 240. In some instances, the non-metallic layer 252 may be characterized as a bulk layer with protruding features. For example, the non-metallic layer 252 may be formed of a polymeric material such as polybutylene terephthalate (PBT), polyethylene terephthalate ("PET"), polyaryletherketone ("PAEK"), or polyetheretherketone , Which may be allowed to flow into the interlocking structures of the metal part 240 - e.g., 212, 232, 242, 244, 246 - while in the molten state. In some instances, the non-metallic layer 252 may include a non-metallic material in addition to other materials (e.g., metal, non-metallic, etc.), as long as the non- metallic layer 252 is sufficient and can be received by the interlocking structure. have. In some instances, the non-metallic layer 252 may have a viscosity or surface tension of any magnitude sufficient to attach to the outer surface 202 of the metal part 240. When the polymer material to be introduced into these interlocking structure, the polymers of these internal and penetrating into the undercut region (Wu) of the locking structure, the undercut regions (Wu), as well as multiple walls defining these undercut regions (Wu) - inclined side It can be charged into the surface. After entering these undercut areas Wu , the polymeric material may be allowed to cure into the protruding portions or attachment features 256. Thus, the polymeric material can be converted from a molten state to a solid state. After the solid state, the polymeric material may physically attach or bond the non-metallic layer 252 to the metal part 240 to form the multi-layer component 250. As illustrated in FIG. 2F, the non-metallic layer 252 in the solid state may be disposed such that it is relatively in contact with the outer surface 202 of the metal part 240. The resulting multi-layer component 250 may have an exterior surface 254 that may correspond to the exterior surface of a portable device-for example, 102, 104, 106, 108-.

도 2f에 예시된 바와 같이, 금속 부품(240)의 인터로킹 구조물 - 예를 들어, 212, 232, 242, 244, 246 - 은 비금속 층(252)의 부착 특징부(256)를 수용하고 그에 부착할 때, 금속 부품(240)에 대한 비금속 층(252)의 포획 및 보유 둘 모두를 행할 수 있는 앵커 부분 - 예를 들어, Ap1 내지 Ap5 - 을 한정할 수 있다. 일부 예에서, 언더컷 영역(Wu)을 갖는 인터로킹 구조물을 갖는 다층 부품(250)의 특징은 통상적인 프로세스를 통해 형성된 스태커형 인터로킹 구조물을 갖는 금속 부품에 비하여 비금속 층(252)을 금속 부품(240)으로부터 당기거나 분리하는 것을 상당히 더 어렵게 한다.2F, the interlocking structures-for example, 212, 232, 242, 244, 246-of the metal part 240 are configured to receive and attach the attachment feature 256 of the non-metallic layer 252 For example, Ap1 to Ap5 - that can both capture and retain the nonmetal layer 252 with respect to the metal part 240. In addition, In some examples, the feature of the multi-layer component 250 having the interlocking structure with the undercut region Wu is that the non-metallic layer 252 is made of a metal part (e.g., 240 from the outside.

도 2g에 예시된 바와 같이, 다수의 인터로킹 구조물이 단회 에칭 사이클의 결과로서 금속 산화물 층(206)에 형성될 수 있다. 구체적으로는, 단회 에칭 사이클은 결함을 갖는 금속 산화물 층(206)의 영역에 다수의 인터로킹 구조물을 생성할 수 있다. 예를 들어, 도 2g는 인터로킹 구조물 - 예를 들어, 212, 232 - 이 제1 에칭 사이클 이후에 금속 산화물 층(206)의 제1 영역(211)에 형성될 수 있음을 예시한다. 추가적으로, 도 2g는 인터로킹 구조물 - 예를 들어, 242, 244 - 이 제2 에칭 사이클 이후에 금속 산화물 층(206)의 제2 영역(233)에 형성될 수 있음을 예시한다. 더욱이, 도 2g는 인터로킹 구조물 - 예를 들어, 246 - 이 제3 에칭 사이클 이후에 금속 산화물 층(206)의 제3 영역(255)에 형성될 수 있음을 예시한다. 일부 예에서, 인터로킹 구조물(246)이 제2 영역(233)의 인터로킹 구조물들 - 예를 들어, 242, 244 - 사이에 형성될 수 있다. 임의의 수의 인터로킹 구조물이 에칭 사이클 이후에 결함을 갖는 금속 산화물 층(206)의 영역에 형성될 수 있기는 하지만, 단회 에칭 사이클의 결과로서 형성되는 인터로킹 구조물의 수는 금속 산화물 층(206)의 총 표면적의 대부분 (예를 들어, 65% 초과)을 넘어서 커버하지는 않음에 유의해야 한다. 구체적으로는, 금속 산화물 층(206)의 구조적 강성을 희생시키지 않고서 금속 산화물 층(206)의 외부 표면 (예를 들어, 25% 내지 약 65%)을 커버하기에 충분한 추가적인 인터로킹 구조물을 형성하기 위하여, 후속으로 에칭 사이클이 필요할 수 있다. 구체적으로는, 후속 에칭 사이클은 각각의 인터로킹 구조물이 그의 각각의 이웃하는 인터로킹 구조물 내로 성장되지 않게 하고 이웃하는 인터로킹 구조물들의 벽의 불안정화를 야기하지 않으면서 외부 표면을 커버하기에 가능한 한 많은 추가적인 인터로킹 구조물을 형성할 수 있다.As illustrated in FIG. 2G, a plurality of interlocking structures may be formed in the metal oxide layer 206 as a result of a single etching cycle. Specifically, the single etch cycle can create multiple interlocking structures in the region of the metal oxide layer 206 having defects. For example, FIG. 2G illustrates that an interlocking structure-for example, 212, 232 - may be formed in the first region 211 of the metal oxide layer 206 after a first etching cycle. In addition, FIG. 2G illustrates that an interlocking structure-for example, 242, 244-may be formed in the second region 233 of the metal oxide layer 206 after a second etching cycle. Further, FIG. 2G illustrates that an interlocking structure-for example, 246-may be formed in a third region 255 of the metal oxide layer 206 after a third etching cycle. In some instances, an interlocking structure 246 may be formed between the interlocking structures (e.g., 242, 244) of the second region 233. Although any number of interlocking structures may be formed in the region of the metal oxide layer 206 having defects after the etching cycle, the number of interlocking structures formed as a result of the single-etching cycle is greater than the number of inter- ) (For example, greater than 65%) of the total surface area of the substrate (e.g. Specifically, forming an additional interlocking structure sufficient to cover the outer surface (e.g., 25% to about 65%) of the metal oxide layer 206 without sacrificing the structural stiffness of the metal oxide layer 206 , An etching cycle may subsequently be required. Specifically, the subsequent etch cycle is as much as possible to cover the outer surface without causing each interlocking structure to grow into its respective neighboring interlocking structure and without causing destabilization of the walls of neighboring interlocking structures An interlocking structure can be formed.

일부 실시예에 따르면, 에칭 용액은 하나 이상의 상이한 유형의 화학물질을 포함할 수 있다. 구체적으로는, 에칭하기 위하여, 금속 부품(200)은 금속 부품(200)의 외부 표면(202) 상에 형성된 패시베이션 산화물 층을 취약화하거나 분해하는 단계를 필요로 할 수 있다. 첫 번째로, 에칭 용액은 금속 부품(200)의 외부 표면(202) 상에 형성된 패시베이션 산화물 층을 취약화하기 위하여 클로라이드(Cl^-)를 포함할 수 있다. 에칭 용액 내의 클로라이드는 염화제2철 (FeCl₃) 또는 염산 (HCl), 또는 음이온으로서 Cl을 갖는 임의의 다른 염 및 산에 의해 제공될 수 있다. 일부 예에서, 제2철 이온은 금속 부품(200)을 산화하여 인터로킹 구조물의 형성을 촉진시킬 수 있다. 예를 들어, 스테인리스 강에 존재하는 더 높은 크롬 농도 (예를 들어, 통상 13% 초과)는 패시베이션 산화물 층의 형성으로 이어질 수 있다. 구체적으로는, 패시베이션 산화물 층의 존재는 스테인리스 강의 에칭을 어렵게 할 수 있다. 추가적으로, 스테인리스 강은 높은 전기화학 포텐셜을 갖기 때문에, 금속 부품(200)의 외부 표면(202)에의 에칭된 인터로킹 구조물의 형성을 촉진시키기 위하여 패시베이션 산화물 층을 에칭할 수 있는 화학물질 (즉, 산화제)은 많지 않을 수 있다. 두 번째로, 일단 패시베이션 산화물 층이 고온 (예를 들어, 약 70℃ 내지 약 85℃)에서 클로라이드(Cl^-)에 의해 충분히 취약화되거나 분해되면, 아래에 놓인 금속 기판(204)이 에칭 용액에 노출될 수 있다. 일부 예에서, 스테인리스 강의 참(true)의 전기화학 포텐셜은 (어떠한 패시베이션도 없는 상태에서) 약 -0.46 V이다. 이러한 경우에, 에칭이 일어나게 하기 위하여 애노드로서 사용될 수 있는 스테인리스 강과 함께 전기화학 전지 (또는 배터리)를 형성하기 위하여, 전기화학 포텐셜이 -0.46 V를 초과하는 어떠한 산화제도 캐소드로서 사용될 수 있다.According to some embodiments, the etching solution may comprise one or more different types of chemicals. Specifically, for etching, the metal part 200 may require a step of weakening or disassembling the passivation oxide layer formed on the outer surface 202 of the metal part 200. First, the etching solution is chloride (Cl ^-) to the brittle oxide passivation layer formed on the outer surface 202 of the metal component 200 may include a. The chloride in the etching solution may be provided by ferric chloride (FeCl ₃ ) or hydrochloric acid (HCl), or any other salt and acid having Cl as the anion. In some instances, the ferric ions may oxidize the metal part 200 to promote the formation of the interlocking structure. For example, a higher chromium concentration (e.g., typically greater than 13%) present in stainless steel may lead to the formation of a passivation oxide layer. Specifically, the presence of the passivation oxide layer can make etching of the stainless steel difficult. Additionally, because stainless steel has a high electrochemical potential, chemicals that can etch the passivation oxide layer to promote the formation of etched interlocking structures on the outer surface 202 of the metal part 200 ) May not be many. Secondly, once the passivation oxide layer is a high temperature chloride (Cl ^-) in the (e. G., About 70 ℃ to about 85 ℃) After sufficiently brittle or decomposed by the metal substrate 204 underlying the etching solution Can be exposed. In some instances, the true electrochemical potential of stainless steel is about -0.46 V (without any passivation). In this case, in order to form an electrochemical cell (or battery) together with stainless steel that can be used as an anode to cause etching, any oxidant whose electrochemical potential exceeds -0.46 V can be used as the cathode.

일부 예에서, 패시베이션 산화물 층의 에칭은 전해 프로세스를 통해 일어날 수 있다. 예를 들어, 전해 에칭 용액은 HCl, H₂SO₄, HNO₃, 또는 H₃PO₄ 중 적어도 하나를 포함할 수 있다. 일부 예에서, 패시베이션 산화물 층의 에칭은 무전해 프로세스를 통해 일어날 수 있다. 일부 예에서, 무전해 에칭 용액은 HCl, FeCl₃, H₂O₂, CuCl₂, H₂SO₄, HF, 또는 HNO₃ 중 적어도 하나를 포함할 수 있다. 구체적으로는, 플루오라이드의 사용은 패시베이션 산화물 층을 용해시킬 수 있다. 일부 예에서, 산화제는 전기화학 포텐셜이 약 0 V 내지 약 2.4 V이다. 따라서, 스테인리스 강의 애노드와 함께 전기화학 전지를 형성하기 위하여, 이들 상기 언급된 산화제들 중 어느 하나가 캐소드로서 사용될 수 있다.In some instances, etching of the passivation oxide layer may occur through an electrolytic process. For example, the electrolytic etching solution may comprise at least one of HCl, H ₂ SO ₄ , HNO ₃ , or H ₃ PO ₄ . In some instances, etching of the passivation oxide layer may occur through an electroless process. In some instances, the electroless etch solution may include at least one of HCl, FeCl ₃ , H ₂ O ₂ , CuCl ₂ , H ₂ SO ₄ , HF, or HNO ₃ . In particular, the use of fluoride can dissolve the passivation oxide layer. In some instances, the oxidant has an electrochemical potential of about 0 V to about 2.4 V. Therefore, in order to form an electrochemical cell together with the anode of stainless steel, any of these above-mentioned oxidizing agents can be used as the cathode.

일부 예에 따르면, 에칭 용액은 다수의 인터로킹 구조물 - 예를 들어, 212, 232, 242, 244, 246 - 의 형성을 촉진시키기 위하여 적어도 150 g/L 이상의 농도의 FeCl₃를 포함할 수 있다. 더욱이, 다수의 인터로킹 구조물의 형성을 촉진시키기 위하여, 에칭 용액의 온도는 약 50℃ 내지 약 90℃일 수 있다. 더욱이, 본 명세서에서 앞서 기재된 바와 같이, 다수의 인터로킹 구조물 각각의 전체 크기 (예를 들어, 침투 깊이, 폭 등)는 각각의 개별적인 에칭 사이클의 지속시간에 직접 의존할 수 있다. 따라서, 인터로킹 구조물 각각의 형성 및 성장을 신중하게 제어하기 위하여, 이들 인자는 매 에칭 사이클 동안마다 신중하게 모니터링되어야 하는 것이 바람직함에 유의한다. 예를 들어, 에칭 용액의 농도가 너무 높은 경우 (예를 들어, 300 g/L 초과), 생성되는 인터로킹 구조물은 매끄러운 벽 표면 (즉, 다중-크랙의 부재)을 가질 것이다. 결과적으로, 이들 인터로킹 구조물의 언더컷 영역(Wu)을 한정하는 벽을 따른 표면 거침성의 결여는 비금속 층(252)과 금속 부품 - 예를 들어, 240 - 사이의 접착력의 크기를 상당히 손상시킬 수 있다. 추가적으로, FeCl₃의 농도가 너무 높은 경우, 너무 많은 인터로킹 구조물의 형성을 초래할 수 있어서, 이웃하는 인터로킹 구조물들이 서로끼리 안으로 성장하고 에칭된 벽의 불안정화를 야기하게 될 것임에 유의해야 한다. 추가적으로, 에칭 사이클의 지속시간이 너무 긴 경우 (예를 들어, 150초 초과), 인터로킹 구조물은 비금속 층(252)을 포획 및 보유하기에 더 이상 효과적이거나 유용하지 않은 전체 크기 (예를 들어, 150 마이크로미터 초과)까지 성장할 수 있다. 결과적으로, 인터로킹 구조물(212)을 한정하는 벽들은 더 이상 서로 명확히 분리되지 않으며, 대신에 인터로킹 구조물들은 스태거형 인터로킹 구조물로 특징지어진다.According to some examples, the etching solution may include a concentration of FeCl ₃ of at least 150 g / L or more to facilitate the formation of a plurality of interlocking structures-for example, 212, 232, 242, 244, 246 -. Moreover, in order to facilitate the formation of a plurality of interlocking structures, the temperature of the etching solution may be from about 50 캜 to about 90 캜. Moreover, as described earlier herein, the overall size (e.g., penetration depth, width, etc.) of each of the plurality of interlocking structures may directly depend on the duration of each respective etch cycle. Thus, it is noted that in order to carefully control the formation and growth of each of the interlocking structures, these factors should preferably be carefully monitored for every etch cycle. For example, if the concentration of the etching solution is too high (e.g., greater than 300 g / L), the resulting interlocking structure will have a smooth wall surface (i.e., a multiple-cracked member). As a result, the lack of surface roughness along the walls defining the undercut areas Wu of these interlocking structures can considerably impair the magnitude of the adhesive force between the nonmetal layer 252 and the metal parts-for example, 240 - . In addition, it should be noted that if the concentration of FeCl ₃ is too high, it can lead to the formation of too many interlocking structures, so that neighboring interlocking structures will grow inward one another and cause destabilization of the etched wall. Additionally, if the duration of the etch cycle is too long (e. G., Greater than 150 seconds), the interlocking structure may be of a full size that is no longer effective or useful to trap and retain the non-metallic layer 252 More than 150 micrometers). As a result, the walls defining the interlocking structure 212 are no longer clearly separated from each other, and instead, the interlocking structures are characterized as staggered interlocking structures.

스태거형 인터로킹 구조물은 개구 아래에 배치되는 포획 영역보다 더 큰 크기 (예를 들어, 폭 등)를 갖는 개구를 포함한다는 점에서, 스태거형 인터로킹 구조물은 소정의 인터로킹 구조물과 대조적이다. 일부 예에서, 스태거형 인터로킹 구조물의 개구는 포획 영역보다 더 큰데, 이는, 외부 표면의 오버-에칭이 외부 표면으로부터 멀어지는 쪽보다 오히려 외부 표면을 향하는 쪽으로 더 가까운 금속 부품의 재료의 대부분을 에칭 제거하기 때문이다. 실제로, 스태거형 인터로킹 구조물은 대체로 침투 깊이가 약 150 마이크로미터 초과이고, 예를 들어 150초를 초과하는 에칭 사이클에서 대체로 나타난다. 더욱이, 외부 표면의 오버-에칭은 긴 지속시간 (예를 들어, 150초 초과) 동안의 단회 사이클에 대한 에칭 프로세스를 거치게 되는 금속 부품에서 나타날 수 있다. 결과적으로, 다수의 공극이 외부 표면의 동일한 영역에 서로 상하로 형성되어 스태거형 인터로킹 구조물을 형성한다.The staggered interlocking structure is in contrast to the predetermined interlocking structure in that the staggered interlocking structure includes an opening having a larger size (e.g., width, etc.) than the trapping area disposed below the opening . In some examples, the opening of the staggered interlocking structure is larger than the trapping area because the over-etching of the outer surface etches most of the material of the metal part closer to the outer surface rather than away from the outer surface It removes it. Indeed, the staggered interlocking structure generally exhibits a penetration depth of greater than about 150 micrometers, and generally appears in etch cycles exceeding, for example, 150 seconds. Moreover, over-etching of the outer surface can occur in metal parts subjected to an etching process for a single cycle for a long duration (e.g., greater than 150 seconds). As a result, a plurality of voids are formed vertically on the same area of the outer surface to form a staggered interlocking structure.

추가적으로, 에칭 용액은 제1 인터로킹 구조물(212)이 초기에 형성된 후에 그의 성장을 촉진시킬 수 있는 산, 예컨대 염산 (HCl) 또는 염산 + 황산을 포함할 수 있다. 일부 실시예에서, 제1 인터로킹 구조물(212)은 비금속 층(252)의 일부분을 포획 및 보유하기에 충분한 크기 및 형상을 갖도록 성장할 수 있다. 구체적으로는, 산의 존재는 실제로 벽을 매끈하게 할 수 있으며, 그럼으로써 제1 인터로킹 구조물(212)의 개구 및 언더컷 영역을 한정하는 벽을 따른 다중-크랙 또는 다중-경사 측부 표면의 형성을 감소시킬 수 있다. 일반적으로, 인터로킹 구조물은, 외부 표면(202)에 존재하는 산이 세정 프로세스를 통해 제거될 때, 성장을 중지한다.Additionally, the etching solution may include an acid such as hydrochloric acid (HCl) or hydrochloric acid + sulfuric acid that can promote its growth after the first interlocking structure 212 is initially formed. In some embodiments, the first interlocking structure 212 can grow to be of sufficient size and shape to capture and retain a portion of the non-metallic layer 252. Specifically, the presence of an acid may actually smooth the wall, thereby creating a multi-cracked or multi-sloping side surface along the wall defining the opening and undercut regions of the first interlocking structure 212 . Generally, the interlocking structure ceases to grow when the acid present on the outer surface 202 is removed through the cleaning process.

도 3은 일부 실시예에 따른 다층 부품 - 예를 들어, 다층 부품(250) - 의 확대 단면도(300)를 예시한다. 매 에칭 사이클 동안마다, 에칭 용액은 에칭에 민감한 (예를 들어, 크롬의 결핍, 입계에 걸친 고응력 하의 패시브 필름, 고응력 하의 에지 등을 갖는) 금속 산화물 층(206)의 일부분에만 대체로 영향을 준다는 것에 유의해야 한다. 도 3은 다층 부품(250)이 외부 표면(202)으로부터 금속 기판(204)을 향해 연장되는 인터로킹 구조물(212)을 포함할 수 있음을 예시한다. 인터로킹 구조물(212)은 금속 기판(204)의 일부분 내로 연장될 수 있으며, 이에 따라 에칭 사이클 이후에 금속 기판(204)의 일부분을 공기에 노출시킬 수 있다. 후속으로, 금속 기판(204)의 노출된 부분은 산화되어 패시베이션 산화 층(306)을 형성할 수 있으며, 패시베이션 산화 층은 금속 산화물 층(206)과 품질이 대체로 유사할 수 있다. 일부 예에서, 패시베이션 산화 층(306)은 인터로킹 구조물(212)의 형상에 대체로 상응하는 형상을 나타낼 수 있다.FIG. 3 illustrates an enlarged cross-sectional view 300 of a multi-layer component, for example, a multi-layer component 250, in accordance with some embodiments. For each etch cycle, the etch solution generally affects only a portion of the metal oxide layer 206 that is sensitive to etching (e.g., a deficiency of chromium, a passive film under high stress across the grain boundaries, high stress under stress, etc.) You should be careful. 3 illustrates that the multilayer component 250 may include an interlocking structure 212 extending from the outer surface 202 toward the metal substrate 204. [ The interlocking structure 212 may extend into a portion of the metal substrate 204, thereby exposing a portion of the metal substrate 204 to air after an etching cycle. Subsequently, the exposed portions of the metal substrate 204 may be oxidized to form a passivation oxide layer 306, which may be substantially similar in quality to the metal oxide layer 206. In some instances, the passivation oxide layer 306 may exhibit a shape that generally corresponds to the shape of the interlocking structure 212.

일부 실시예에서, 인터로킹 구조물(212)은 언더컷 영역(Wu) 내로 이어지는 개구(Wo)를 포함할 수 있으며, 이는 비금속 층(252)의 부착 특징부(256)를 포획 및 보유할 수 있다. 언더컷 영역(Wu)은 또한 오버행(304)에 의해 한정될 수 있는데, 오버행은 대체로 만곡된 형상 또는 삼각형 형상을 갖고, 개구(Wo)를 언더컷 영역(Wu)과 분리한다. 일부 실시예에서, 개구(Wo) 및 언더컷 영역(Wu)은 다중-경사 측부 표면(326a, 326b) (또는 다중-크랙)을 갖는 벽에 의해 한정된다. 구체적으로는, 다중-경사 측부 표면(326a, 326b)은, 비금속 층(252)과 금속 부품(240) 사이의 더 큰 크기의 접착 강도를 촉진시키기 위하여, 용융된 상태에 있는 동안에 비금속 층(252)으로 충전될 수 있는 다수의 포켓을 특유하게 한정할 수 있다. 구체적으로는, 비금속 층(252)의 재료는 다중-경사 측부 표면(326a, 326b)에 의해 한정된 포켓 내에 충전되기 때문에, 부착 특징부(256)를 인터로킹 구조물(212)과 분리하는 에어 갭 또는 간격이 없을 수 있다. 따라서, 비금속 층(252)의 재료는 다중-경사 측부 표면(326a, 326b)에 대해 맞닿아 있을 수 있다. 추가적으로, 다중-경사 측부 표면(326a, 326b)은 수분이 금속 기판(204)에 도달하는 것을 억제할 수 있는 누설 억제 경로(328)를 한정할 수 있음에 유의한다. 구체적으로는, 다중-경사 측부 표면(326a, 326b)은 비금속 층(252)으로 충전될 수 있는 다수의 포켓을 한정하기 때문에, 누설 억제 경로(328)는, 비균일 폭을 갖고, 개구(Wo)에 의해 진입하는 수분이 언더컷 영역(Wu)을 우회하여 금속 기판(204)에 도달하는 것을 억제할 수 있는 구불구불하고 급격한 회전, 꼬임, 각도의 큰 변경, 및 급격한 접합부를 갖는 것으로 특징지어진다. 일부 예에서, 누설 억제 경로(328)는 수분이 금속 기판(204)에 도달하는 것을 방지하는 사행 경로인 것으로 특징지어진다.In some embodiments, the interlocking structure 212 can include an opening Wo that leads into the undercut region Wu , which can capture and retain the attachment feature 256 of the non-metallic layer 252. [ The undercut region Wu can also be defined by the overhang 304, which has a generally curved or triangular shape and separates the opening Wo from the undercut region Wu . In some embodiments, the openings Wo and the undercut regions Wu are defined by walls having multi-sloping side surfaces 326a and 326b (or multi-cracks). In particular, the multi-sloping side surfaces 326a, 326b may be formed of a nonmetallic layer 252 while in the molten state to promote a greater magnitude of adhesive strength between the nonmetal layer 252 and the metal part 240. [ ) Can be peculiarly limited. Specifically, since the material of the non-metallic layer 252 is filled in the pocket defined by the multi-sloping side surfaces 326a, 326b, the air gap or the air gap separating the attachment feature 256 from the interlocking structure 212 There may be no gap. Thus, the material of the non-metallic layer 252 may be in contact with the multi-sloped side surfaces 326a, 326b. In addition, note that the multi-sloping side surfaces 326a, 326b may define a leakage suppression path 328 that can inhibit moisture from reaching the metal substrate 204. [ Specifically, the multi-slope side surfaces (326a, 326b), is because limiting the number of pockets which may be filled with the non-metal layer 252, the leakage suppression path 328, has a non-uniform width, the opening (Wo And has abrupt and abrupt turn, twist, large change in angle, and abrupt junction that can inhibit moisture entering by underneath the undercut region Wu from reaching the metal substrate 204, bypassing the undercut region Wu . In some instances, the leakage inhibiting path 328 is characterized as a meandering path that prevents moisture from reaching the metal substrate 204.

일부 실시예에 따르면, 에칭 사이클 이후에, 하나 이상의 2차적 인터로킹 구조물(Ws)이 인터로킹 구조물(212)로부터 형성될 수 있다. 일부 예에서, 2차적 인터로킹 구조물(Ws)은 인터로킹 구조물(212)보다 더 작은 크기를 갖는다. 일부 예에서, 2차적 인터로킹 구조물(Ws)은 또한 수분이 금속 기판(204)에 도달하는 것을 방지하는 사행 경로를 한정하는 다중-경사 측부 표면을 갖는 것으로 특징지어진다. 게다가, 2차적 인터로킹 구조물(Ws)은 언더컷 영역(Wu)의 총 면적을 추가로 확대하기 위하여 인터로킹 구조물(212) 아래에 있거나, 그에 대해 오프셋되어 있거나, 그에 인접한 것 중 적어도 하나인 금속 기판(204)의 아래에 놓인 영역을 노출시킴으로써 형성될 수 있다. 이러한 2차적 인터로킹 구조물을 형성한 이후에, 2차적 패시베이션 산화물 층(308)이 또한 형성되어 금속 기판(204)의 노출된 부분을 밀봉하고 오염물이 금속 기판(204)에 도달하는 것을 방지할 수 있다. 일부 예에서, 이들 2차적 인터로킹 구조물(Ws)은 금속 부품 - 예를 들어, 금속 부품(240) - 을 에칭 용액에 재노출시킴으로써 형성될 수 있다. 예를 들어, 패시베이션 산화 층(306) 내의 결함은 인터로킹 구조물(212)이 추가로 에칭되기에 여전히 민감하게 할 수 있다. 그러나, 상이한 영역 내에 다른 인터로킹 구조물 - 예를 들어, 인터로킹 구조물(232) - 을 형성하는 것에 비하여, 2차적 인터로킹 구조물(Ws)을 이미 형성된 인터로킹 구조물(212) 상에 형성하기란 더 어려울 수 있다. 일부 예에서, 그것은 현존하는 제1 인터로킹 구조물(212) 내로 성장하는 것이 바람직할 수 있다. 그러나, 이러한 시나리오에서, 제1 인터로킹 구조물(212)의 형상은 대체로 온전하게 유지되고, 다중-경사 측부 표면(326a, 326b)은 또한 대체로 온전한 상태임에 유의해야 한다.According to some embodiments, after the etching cycle, one or more secondary interlocking structures Ws may be formed from the interlocking structure 212. In some examples, the secondary interlocking structure Ws has a smaller size than the interlocking structure 212. In some instances, the secondary interlocking structure Ws is also characterized as having a multi-sloped side surface defining a meandering path that prevents moisture from reaching the metal substrate 204. In addition, the secondary interlocking structure Ws may comprise at least one of a metal substrate (not shown) that is under, or is offset relative to, or adjacent to the interlocking structure 212 to further enlarge the total area of the undercut region Wu . By exposing the underlying region of the substrate 204. After forming this secondary interlocking structure, a secondary passivation oxide layer 308 is also formed to seal the exposed portions of the metal substrate 204 and prevent contaminants from reaching the metal substrate 204 have. In some instances, these secondary interlocking structures Ws can be formed by re-exposing a metal part-for example, metal part 240-to the etch solution. For example, defects in the passivation oxide layer 306 may still be susceptible to further etching of the interlocking structure 212. However, it is more advantageous to form the secondary interlocking structure Ws on the already formed interlocking structure 212 than to form another interlocking structure (e.g., interlocking structure 232) in a different area It can be difficult. In some instances, it may be desirable to grow into an existing first interlocking structure 212. It should be noted, however, that in such a scenario, the shape of the first interlocking structure 212 remains substantially intact and the multi-sloping side surfaces 326a, 326b are also generally intact.

도 4 및 도 5는 일부 실시예에 따른, 다수의 인터로킹 구조물이 부품(400)의 외부 표면에 배치된 인클로저의 부품(400)의 상이한 사시도를 예시한다. 도 4는 부품(400)의 외부 표면(404)의 다수의 영역 내로 에칭되는 인터로킹 구조물(410a 내지 410c)을 갖는 부품(400)의 평면도를 예시한다. 일부 예에서, 이들 인터로킹 구조물(410a 내지 410c)은 각각의 인터로킹 구조물(410)이 다른 구조물을 물리적으로 방해하지 않도록 서로 독립적이거나 이산적으로 형성된 것으로 특징지어질 수 있다. 일부 예에서, 이들 인터로킹 구조물(410a 내지 410c)의 개구들 각각은 인접한 인터로킹 구조물(410)들이 서로 중첩되거나 불안정화되는 벽을 갖지 않도록 (예를 들어, 언더컷 영역의 형상 또는 크기에 영향을 주지 않도록) 최소 분리 거리보다 더 큰 분리 거리에 의해 분리될 수 있다. 일부 예에서, 인터로킹 구조물(410a, 410b, 410c)은 중 적어도 하나는 외부 표면(404) 전체에 걸쳐 랜덤하게 분포되고 랜덤하게 형성된다.Figures 4 and 5 illustrate different perspective views of a component 400 of an enclosure in which a plurality of interlocking structures are disposed on an exterior surface of the component 400, in accordance with some embodiments. 4 illustrates a top view of component 400 having interlocking structures 410a-c that are etched into a plurality of regions of the outer surface 404 of component 400. As shown in Fig. In some instances, these interlocking structures 410a-c may be characterized as being independent of each other or discretely formed such that each interlocking structure 410 does not physically interfere with other structures. In some instances, each of the openings in these interlocking structures 410a-c may be configured to have a structure in which adjacent interlocking structures 410 do not have walls that overlap or become destabilized (e.g., do not affect the shape or size of the undercut region The separation distance may be greater than the minimum separation distance. In some instances, at least one of the interlocking structures 410a, 410b, 410c is randomly distributed and randomly formed over the outer surface 404.

일부 경우에, 인터로킹 구조물(410a 내지 410c) 각각은 개별 에칭 사이클의 결과로서 형성된다. 일부 예에서, 에칭 사이클은 지속 시간이 약 30초 내지 약 300초이다. 각각의 인터로킹 구조물의 형성 이후에, 부품(400)이 에칭 용액으로부터 꺼내지고, 세정되고, 에칭 용액에 재노출되어, 다른 한정된 인터로킹 영역이 새로운 영역 (즉, 에칭되지 않은 영역)에 형성되도록 할 수 있다. 결과로서, 다수의 인터로킹 구조물(410a 내지 410c)이 외부 표면(404)의 다수의 영역에 형성된다. 일부 예에서, 부품(400)은 보통 정도로 에칭된(moderately-etched) 표면을 갖는 것으로 특징지어질 수 있는데, 이러한 표면은 외부 표면(404)의 총 표면적의 약 25% 내지 약 65%를 커버하는 인터로킹 구조물(410)을 포함한다. 다른 예에서, 부품(400)은 과다-에칭된 부품의 피트 밀도 값보다 더 낮은 피트 밀도 값을 갖는 것으로 특징지어질 수 있다.In some cases, each of the interlocking structures 410a-c is formed as a result of a separate etch cycle. In some examples, the etch cycle has a duration of from about 30 seconds to about 300 seconds. After each interlocking structure is formed, the part 400 is taken out of the etching solution, cleaned, and re-exposed to the etching solution so that another defined interlocking area is formed in the new area (i.e., the un-etched area) can do. As a result, a plurality of interlocking structures 410a through 410c are formed in the plurality of regions of the outer surface 404. In some instances, component 400 may be characterized as having a moderately-etched surface, which covers about 25% to about 65% of the total surface area of outer surface 404 Interlocking structure < RTI ID = 0.0 > 410 < / RTI > In another example, component 400 may be characterized as having a pit density value that is lower than the pit density value of the over-etched component.

보통 정도로 에칭된 표면을 갖는 부품(400)과 대조적으로, 통상적인 프로세스는 스태거형 인터로킹 구조물을 갖는 것으로 특징지어지는 과다-에칭된 부품을 산출할 수 있다. 과다-에칭된 부품은 외부 표면의 총 표면적의 약 80% 내지 약 100%가 스태거형 인터로킹 구조물을 구성하는 공극으로 커버되는 것으로 특징지어진다. 구체적으로는, 스태거형 인터로킹 구조물은 단회 에칭 사이클의 결과로서 외부 표면 내로 에칭되는 다수의 개별 공극을 포함할 수 있는데, 여기서 이들 다수의 개별 공극은 서로 상하로/서로 중첩되어 성장한다. 다시 말하면, 이들 공극 각각 사이의 분리 거리가 결여되어 있다. 추가적으로, 과다-에칭된 부품의 스태거형 인터로킹 구조물은 침투 깊이가 약 150 내지 약 400 마이크로미터이다.In contrast to component 400 having a surface that is usually etched, conventional processes can yield over-etched parts characterized as having a staggered interlocking structure. The over-etched part is characterized in that between about 80% and about 100% of the total surface area of the outer surface is covered with pores constituting the staggered interlocking structure. Specifically, the staggered interlocking structure may include a plurality of individual voids that are etched into the outer surface as a result of a single etching cycle, wherein the plurality of individual voids grow up to overlap each other / on top of each other. In other words, the separation distance between each of these voids is lacking. Additionally, the staggered interlocking structure of the over-etched part has a penetration depth of about 150 to about 400 micrometers.

도 5는 도 5에서의 기준선(407)으로 표시된 바와 같은 부품(400)의 사시 단면도를 예시한다. 도 5에 예시된 바와 같이, 부품(400)은 명확한 언더컷 영역(Wu)을 갖는 다수의 인터로킹 구조물(410a 내지 410c)을 갖는다. 다시 말하면, 인터로킹 구조물(410)의 명확한 언더컷 영역은 동일한 인터로킹 구조물(410)의 개구(Wo)보다 더 큰 크기(Wu)를 갖는 것으로 특징지어진다. 다시 말하면, 개구(Wo)와 언더컷 영역(Wu) 사이의 크기의 비는 0.5:1 이상이다. 일부 예에서, 이 비는 약 0.5:1 내지 약 1:6이다. 유익하게도, 인터로킹 구조물(410)은 스태거형 인터로킹 구조물에 비하여 상당히 증가된 인장 강도를 갖는다.FIG. 5 illustrates a perspective cross-sectional view of component 400 as indicated by reference line 407 in FIG. As illustrated in Figure 5, the part 400 has a plurality of interlocking structures 410a-c with a distinct undercut area Wu . In other words, the distinct undercut region of the interlocking structure 410 is characterized as having a larger size Wu than the opening Wo of the same interlocking structure 410. In other words, the ratio of the size between the opening Wo and the undercut region Wu is 0.5: 1 or more. In some examples, the ratio is from about 0.5: 1 to about 1: 6. Advantageously, the interlocking structure 410 has a significantly increased tensile strength compared to the staggered interlocking structure.

대조적으로, 과다-에칭된 부품은 포획 영역의 크기와 적어도 동일하거나 그보다 큰 크기 (예를 들어, 폭, 직경)를 갖는 스태거형 인터로킹 구조물을 갖는다. 다시 말하면, 개구와 캡처 영역 사이의 크기의 비는 0.5:1 이상이다. 결과적으로, 스태거형 인터로킹 구조물은 본 인터로킹 구조물 - 예를 들어, 212, 232 - 에 비하여 감소된 인장 강도를 갖는다. 추가적으로, 스태거형 인터로킹 구조물은 매끄러운 측부 표면을 갖는 (즉, 다중-경사가 없는) 벽을 가지며, 이에 따라 개구와 포획 영역 사이의 크기 차이의 일반적인 결여에 기여한다. 추가적으로, 스태거형 인터로킹 구조물을 구성하는 공극의 벽은 불안정화되고/되거나 벽이 결여되어 있음에 유의한다. 결과적으로, 매끄러운 측부 표면은 벌크 층에 완전히 부착 또는 접합할 수 없어서, 벌크 층과 벽 사이의 접합부를 따라 에어 갭이 존재하게 되며, 이는 결과적으로 수분 및 다른 오염물이 금속 기판에 용이하게 도달하게 할 수 있다. 추가적으로, 오버-에칭된 표면의 외부 표면은 서로 중첩되는 다수의 공극으로 인해 대체로 불균일하다 (즉, 대체로 편평한 표면이 결여되어 있다). 결과적으로, 과다-에칭된 부품은 벌크 층과의 긴밀한 밀봉을 형성하는 것이 어렵다.In contrast, the over-etched part has a staggered interlocking structure with a size (e.g., width, diameter) that is at least equal to or greater than the size of the capture area. In other words, the ratio of the size between the aperture and the capture region is 0.5: 1 or more. As a result, the staggered interlocking structure has a reduced tensile strength relative to the present interlocking structure - e.g., 212, 232 -. Additionally, staggered interlocking structures have walls with smooth side surfaces (i.e., no multi-slope), thereby contributing to a general lack of size difference between the aperture and the capture area. In addition, it should be noted that the walls of the pores constituting the staggered interlocking structure are destabilized and / or lack walls. As a result, the smooth side surface can not be fully attached or bonded to the bulk layer, so there is an air gap along the junction between the bulk layer and the wall, which results in moisture and other contaminants readily reaching the metal substrate . Additionally, the outer surface of the over-etched surface is substantially non-uniform (i. E., Lacks a generally flat surface) due to the multiple voids overlapping each other. As a result, the over-etched part is difficult to form a tight seal with the bulk layer.

추가적으로, 도 5는 인터로킹 구조물(410)의 침투 깊이(H ₂ )가 약 25 내지 약 200 마이크로미터임을 예시한다. 각각의 인터로킹 구조물(410)의 감소된 침투 깊이로 인해, 인터로킹 구조물(410) 각각과 그들 각각의 벽(412) 사이에 이산된 분리가 있을 수 있다 (즉, 벽(412)은 온전한 상태이다). 더욱이, 도 6a를 참조하여 더 상세히 기술되는 바와 같이, 인터로킹 구조물(410)은 다중-경사 측부 표면 또는 다중-크랙을 갖는 벽(412)을 가지며, 이에 따라 개구(Wo)와 언더컷 영역(Wu) 사이의 크기에 있어서의 상당한 차이에 기여한다. 본 명세서에 기술되는 바와 같이, 인터로킹 구조물(410)의 언더컷 영역이라는 용어는 개구(Wo)를 언더컷 영역(Wu)과 분리하는 오버행을 형성하는 벽(412)을 갖는 금속 부품 또는 인클로저의 내부 영역을 지칭할 수 있다.Additionally, FIG. 5 illustrates that the depth of penetration ( H ₂ ) of the interlocking structure 410 is from about 25 to about 200 micrometers. Due to the reduced penetration depth of each interlocking structure 410, there may be a discrete separation between each of the interlocking structures 410 and their respective walls 412 (i.e., the wall 412 is in an intact state to be). 6A, the interlocking structure 410 has a wall 412 having a multi-sloped side surface or multi-cracks, so that the opening Wo and the undercut area Wu Lt; RTI ID = 0.0 > size. &Lt; / RTI > The term undercut region of the interlocking structure 410 refers to the area of the metal part or enclosure that has the wall 412 that forms an overhang that separates the opening Wo from the undercut region Wu , . &Lt; / RTI >

도 6a는 일부 실시예에 따른, 인터로킹 구조물(612)을 갖는 금속 부품(610)의 단면도를 예시한다. 일부 예에서, 금속 부품(610)은 보통 정도로 에칭된 외부 표면 (예를 들어, 약 25% 내지 약 65%)을 갖는 것으로 특징지어진다. 인터로킹 구조물(612)은 언더컷 영역(Wu)을 한정하는 벽(616)을 포함하는 오버행(613)을 갖는 것으로 특징지어진다. 인터로킹 구조물(612)은 언더컷 영역(Wu)의 크기보다 더 작은 크기 (예를 들어, 폭, 직경 등)를 갖는 개구(Wo)를 갖는 것으로 특징지어진다. 구체적으로는, 언더컷 영역(Wu)은 벽(616)을 따라 형성되는 다중-경사 측부 표면 및 크랙 및 오버행(613)의 존재로 인해 불균일한 폭을 갖는 것으로 특징지어진다. 언더컷 영역(Wu) 및 이들 다중-크랙은 층(608)으로 충전되어, 수분이 금속 기판(204)에 도달하는 것을 억제하는 누설 억제 경로를 한정할 수 있다.6A illustrates a cross-sectional view of a metal part 610 having an interlocking structure 612, according to some embodiments. In some instances, the metal part 610 is characterized as having an etched outer surface (e.g., from about 25% to about 65%) to a degree. The interlocking structure 612 is characterized as having an overhang 613 that includes a wall 616 that defines an undercut region Wu . The interlocking structure 612 is characterized as having an opening Wo with a size (e.g., width, diameter, etc.) that is smaller than the size of the undercut region Wu . Specifically, the undercut region Wu is characterized as having a non-uniform width due to the presence of multi-sloping side surfaces and cracks and overhangs 613 formed along the wall 616. The undercut region Wu and these multiple cracks can be filled with the layer 608 to define a leakage suppression path that inhibits moisture from reaching the metal substrate 204.

추가적으로, 금속 부품(610)의 외부 표면(603)은 보통 정도로 에칭된 금속 부품(610) 내에 형성되는 공극의 결여로 인해 대체로 편평한 것으로 특징지어진다는 것에 유의한다. 유익하게도, 금속 부품(610)에 부착되는 층(608) 사이에 긴밀한 밀봉이 형성되어 수분이 금속 기판(204)에 도달하는 것을 추가로 억제할 수 있다.In addition, note that the outer surface 603 of the metal part 610 is characterized as generally flat owing to the lack of voids formed in the etched metal part 610 to the extent that it is normally. Advantageously, a tight seal may be formed between the layers 608 attached to the metal part 610 to further prevent moisture from reaching the metal substrate 204.

도 6b는 일부 실시예에 따른, 가교된 인터로킹 구조물(622)을 갖는 금속 부품(620)의 단면도를 예시한다. 가교된 인터로킹 구조물(622)은 가교된 영역(Wb) 내로 이어지는 다수의 개구(Wo1, Wo2)를 포함할 수 있다. 일부 예에서, 가교된 영역(Wb)은 인접하여 형성된 인터로킹 구조물 - 예를 들어, 인터로킹 구조물(212, 232) - 과 함께 연결 또는 가교되어, 가교된 인터로킹 구조물(212, 232)의 총 폭이 그들 각각의 개구 - Wo1, Wo2 - 의 총 크기보다 더 크게 될 수 있다. 개구들(Wo1, Wo2)은 금속 부품(620)의 금속 산화물 층(206) 또는 금속 기판(204)의 일부분에 의해 분리될 수 있다. 일부 예에서, 금속 부품(620)은 보통 정도로 에칭되는 것으로 특징지어질 수 있다. 일부 예에서, 금속 부품(620)은 대체로 편평한 외부 표면(603)을 갖는 것으로 특징지어질 수 있다.6B illustrates a cross-sectional view of a metal part 620 having a cross-linked interlocking structure 622, according to some embodiments. The crosslinked interlocking structure 622 may include a plurality of openings Wo1 , Wo2 leading into the cross-linked region Wb . In some instances, the cross-linked area Wb may be connected or bridged with an adjacent formed interlocking structure-such as interlocking structures 212 and 232-to provide a total of cross-linked interlocking structures 212 and 232 Widths can be made larger than the total size of their respective openings - Wo1, Wo2 -. The openings Wo1 and Wo2 may be separated by a metal oxide layer 206 of the metal part 620 or a part of the metal substrate 204. [ In some instances, the metal part 620 may be characterized as being etched to a moderate degree. In some instances, the metal part 620 may be characterized as having a generally flat outer surface 603.

추가적으로, 가교된 영역(Wb)을 한정하는 수평 벽(626)은 수평 벽(626)을 따라 형성되는 다중-경사 측부 표면 및 크랙을 포함할 수 있다. 이들 다중-크랙은 층(608)으로 충전되어, 수분이 금속 기판(204)에 도달하는 것을 억제하는 누설 억제 경로를 한정할 수 있다. 금속 부품(620)은 본 명세서에 기술된 바와 같은 프로세스들 중 어느 하나를 통해 형성될 수 있음에 유의한다.Additionally, the horizontal wall 626, which defines the cross-linked area Wb , may include multi-sloping side surfaces and cracks formed along the horizontal wall 626. These multi-cracks can be filled with layer 608 to define a leakage inhibiting path that inhibits moisture from reaching the metal substrate 204. It is noted that the metal part 620 may be formed through any of the processes as described herein.

일부 예에서, 가교된 인터로킹 구조물(622)은 이웃하는 인터로킹 구조물들(212, 232)이, 그들 각각의 언더컷 영역(Wu1, Wu2)이 서로 연결될 정도로 서로 가깝게 형성될 때 형성될 수 있다. 도 6b에 예시된 바와 같은 이러한 시나리오는 또한, 도 3을 참조하여 기술된 바와 같은 2차적 인터로킹 구조물(Ws)을 형성하기 위한 기법의 변화를 예시한다. 함께 가교되는 인터로킹 구조물(212, 232) 각각의 대체적인 형상은 유지된다는 것에 유의해야 한다. 그러나, 다중-경사 측부 표면을 한정하는 벽(616)의 일부분들은 노출된다. 또한, 이들 인터로킹 구조물(212, 232) 사이의 최소 분리 거리가 또한 유지된다는 것에 유의해야 한다.In some instances, the cross-linked interlocking structure 622 may be formed when neighboring interlocking structures 212 and 232 are formed close to each other such that their respective undercut areas Wu1 and Wu2 are connected to each other. This scenario, as illustrated in FIG. 6B, also illustrates a variation of the technique for forming a secondary interlocking structure Ws as described with reference to FIG. It should be noted that the alternate shape of each interlocking structure 212, 232 that is to be crosslinked together is retained. However, portions of the wall 616 defining the multi-sloping side surface are exposed. It should also be noted that the minimum separation distance between these interlocking structures 212, 232 is also maintained.

도 7a 및 도 7b는 일부 실시예에 따른, 에칭 프로세스 이후의 금속 부품의 예시적인 전자 현미경 이미지를 예시한다. 도 7a는 금속 부품(700)의 외부 표면(704)의 평면도를 예시하며, 여기서 금속 부품(700)은 보통 정도로 에칭된 외부 표면을 갖는 것으로 특징지어질 수 있다. 도 7a에 나타낸 바와 같이, 다수의 인터로킹 구조물(702a 내지 702c)이 외부 표면(704)의 상이한 영역들에 형성되며, 이들은 이웃하는 인터로킹 구조물들(702a 내지 702c)의 개구들이 서로 대체로 중첩되지 않도록 최소 분리 거리보다 더 큰 분리 거리(Sd)에 의해 분리되는 각각의 개구들을 갖는다. 일부 예에서, 이웃하는 인터로킹 구조물들(702a 내지 702c) 사이의 분리 거리는 약 10 마이크로미터 내지 약 500 마이크로미터이다. 다른 예에서, 인터로킹 구조물들(702a, 702b) 사이의 분리 거리는 약 150 마이크로미터이다.Figures 7A and 7B illustrate an exemplary electron microscope image of a metal part after an etching process, in accordance with some embodiments. 7A illustrates a top view of the outer surface 704 of the metal part 700, wherein the metal part 700 may be characterized as having an outer surface that is usually etched. 7A, a plurality of interlocking structures 702a through 702c are formed in different regions of the outer surface 704, wherein the apertures of neighboring interlocking structures 702a through 702c are substantially superimposed on one another The separation distance Sd is larger than the minimum separation distance. In some examples, the separation distance between neighboring interlocking structures 702a-c is about 10 micrometers to about 500 micrometers. In another example, the separation distance between interlocking structures 702a and 702b is about 150 micrometers.

도 7b는 금속 부품(700)의 외부 표면(704)의 10X 확대된 영역(706)의 평면도를 예시한다. 구체적으로는, 도 7b는 확대 영역(706)의 인터로킹 구조물(702b, 702c)이 언더컷 영역 내로 다중-크랙 또는 다중-경사 측부 표면을 갖는 이들 인터로킹 구조물의 개구를 한정하는 조면화된 측부 표면을 가짐을 예시한다.7B illustrates a top view of the 10X enlarged area 706 of the outer surface 704 of the metal part 700. FIG. Specifically, FIG. 7B illustrates an embodiment in which the interlocking structures 702b and 702c of the enlarged region 706 are roughened side surfaces that define the opening of these interlocking structures with multi-cracked or multi-sloped side surfaces into the undercut regions .

도 8은 일부 실시예에 따른, 금속 부품의 외부 표면에 인터로킹 구조물을 형성하기 위한 방법(800)을 예시한다. 도 8에 예시된 바와 같이, 방법(800)은 선택적으로 단계(802)에서 시작될 수 있으며, 이 단계에서는 부품 - 예를 들어, 금속 기판(204) - 이 선택적으로, 금속 기판(204)의 일부분을 산화함으로써 처리되어 금속 기판(204) 위에 배치된 금속 산화물 층(206)을 형성한다. 일부 예에서, 금속 산화물 층(206)은 무전해 패시베이션 프로세스 또는 전해 양극산화 프로세스 중 적어도 하나에 의해 형성될 수 있다. 다른 예에서, 금속 기판(204)의 외부 표면이 또한 선택적으로, 금속 기판(204)에 세정 프로세스 또는 텍스처화 프로세스를 거침으로써 처리될 수 있다. 구체적으로는, 텍스처화 프로세스는 조면화된 외부 표면을 제공하는 데 유익할 수 있는데, 조면화된 외부 표면은 그러한 조면화된 영역들에서의 금속 산화물 층(206)의 성장을 촉진시킬 수 있다.Figure 8 illustrates a method 800 for forming an interlocking structure on an outer surface of a metal part, in accordance with some embodiments. As illustrated in Figure 8, the method 800 may optionally be initiated at step 802, where a part-for example, a metal substrate 204-is selectively coupled to a portion of the metal substrate 204 To form a metal oxide layer 206 disposed on the metal substrate 204. The metal oxide layer 206 is formed on the metal substrate 204, In some instances, the metal oxide layer 206 may be formed by at least one of an electroless passivation process or an electrolytic anodization process. In another example, the outer surface of the metal substrate 204 may also optionally be treated by subjecting the metal substrate 204 to a cleaning or texturing process. In particular, the texturing process may be beneficial in providing a roughened outer surface, wherein the roughened outer surface can promote growth of the metal oxide layer 206 in such roughened regions.

단계(804)에서는, 금속 부품(200)을 에칭 용액에 노출시킴으로써 금속 부품(200)의 외부 표면(202)의 제1 영역에 인터로킹 구조물 - 예를 들어, 제1 인터로킹 구조물(212) - 이 형성될 수 있다. 구체적으로는, 에칭 용액은 패시베이션 산화물 층을 취약화하거나 분해하기 위한 클로라이드 (Cl^-)와 취약화된 패시베이션 산화물 층을 에칭함으로써 외부 표면(202)에 제1 인터로킹 구조물(212)을 형성하기 위한 산화제 (예를 들어, FeCl₃, HCl 등)의 조합을 포함할 수 있다.At step 804 an interlocking structure-for example, a first interlocking structure 212-is formed in a first region of the outer surface 202 of the metal part 200 by exposing the metal part 200 to the etching solution. Can be formed. Specifically, the etch solution is formed by etching chloride (Cl <">) to weaken or decompose the passivation oxide layer and the weakened passivation oxide layer to form a first interlocking structure 212 on the outer surface 202 oxidizing agent may comprise a combination of (e.g., FeCl _3, HCl, etc.).

후속으로, 단계(806)에서는, 금속 부품(210)이 에칭 용액으로부터 꺼내진다. 일부 예에서, 외부 표면(202) 상에 존재하는 에칭 용액으로부터의 어떠한 잔존하는 산 (예를 들어, HCl)도 제1 인터로킹 구조물(212)의 크기를 증가시키는 데 추가로 기여할 수 있다. 금속 부품(210)이 에칭 용액으로부터 꺼내질 때, 제1 인터로킹 구조물(212)이 형성되는 금속 기판(204)의 노출된 부분이 산화될 수 있다. 구체적으로는, 형성되는 패시베이션 산화물 층(222)은 에칭 용액의 금속 부품(210)을 헹구고 공기에 노출시킴으로써 야기될 수 있는데, 이는 금속 기판(204)의 노출된 부분을 수분 및 오염물로부터 밀봉하도록 작용할 수 있다.Subsequently, at step 806, the metal part 210 is taken out of the etching solution. In some instances, any remaining acid (e.g., HCl) from the etching solution present on the outer surface 202 may further contribute to increasing the size of the first interlocking structure 212. When the metal part 210 is removed from the etching solution, the exposed portion of the metal substrate 204 on which the first interlocking structure 212 is formed may be oxidized. Specifically, the formed passivation oxide layer 222 can be caused by rinsing and exposing the metal part 210 of the etching solution to air, which acts to seal the exposed portion of the metal substrate 204 from moisture and contaminants .

단계(808)에서는, 금속 부품(220)이 선택적으로, 금속 부품(220)의 외부 표면(202)으로부터의 어떠한 에칭 용액도 제거하도록 세정될 수 있다. 예를 들어, 세정 프로세스는 외부 표면(202)을 탈이온수로 헹구는 것을 포함할 수 있다. 실제로, 세정 프로세스는 또한 제1 인터로킹 구조물(212)의 성장을 정지시킬 수 있다.At step 808 the metal part 220 can optionally be cleaned to remove any etching solution from the outer surface 202 of the metal part 220. [ For example, the cleaning process may include rinsing the outer surface 202 with deionized water. Indeed, the cleaning process may also stop the growth of the first interlocking structure 212.

단계(810)에서는, 금속 부품(220)을 에칭 용액에 노출시킴으로써 금속 부품(220)의 외부 표면(202)의 제2 영역에 다른 인터로킹 구조물 - 예를 들어, 제2 인터로킹 구조물(232) - 이 형성될 수 있다.In step 810, another interlocking structure-for example, a second interlocking structure 232, is applied to the second area of the outer surface 202 of the metal part 220 by exposing the metal part 220 to the etching solution. - can be formed.

후속으로, 단계(812)에서는, 프로세스 (예를 들어, 사용자, 컴퓨팅 디바이스 등)가, 금속 부품(230)의 외부 표면(202)에 형성되는 인터로킹 구조물 - 예를 들어, 212, 232 -의 양이 외부 표면(202)의 표면적을 커버하는 인터로킹 구조물의 역치량(threshold amount)을 만족시키는지의 여부를 결정하는 것을 포함할 수 있다. 예를 들어, 역치량은 총 표면적의 약 25% 내지 약 65%이며, 이는 보통 정도로 에칭된 표면에 상응할 수 있다. 역치량은 80% 미만인 것이 바람직하다는 것에 유의해야 하는데, 이는, 이 값이 금속 부품(230)의 상당히 손상된 인장 강도를 초래할 수 있기 때문이다. 일부 예에서, 전자 현미경 또는 임의의 적합한 3-D 이미지 스캐닝 시스템이, 인터로킹 구조물의 양이 역치량을 만족시키는 시점을 결정하는 데 이용될 수 있다.In step 812, a process (e.g., a user, a computing device, etc.) is applied to an interlocking structure - e.g., 212, 232 - of the outer surface 202 of the metal part 230 And determining whether the amount satisfies a threshold amount of interlocking structure that covers the surface area of the outer surface 202. For example, the threshold value may be from about 25% to about 65% of the total surface area, which may correspond to a surface that is usually etched. It should be noted that the threshold value is preferably less than 80%, as this value can lead to a significantly damaged tensile strength of the metal part 230. In some instances, an electron microscope or any suitable 3-D image scanning system may be used to determine when the amount of interlocking structure satisfies the threshold value.

단계(814)에서는, 인터로킹 구조물의 양이 역치량을 만족시키는 것으로 결정됨에 응답하여, 이 방법은 금속 부품(230)에 대해 마무리 프로세스를 수행하도록 진행될 수 있다. 일부 실시예에서, 마무리 프로세스는 비금속 층(252)을 금속 부품(230)에 부착하는 것을 포함할 수 있다. 구체적으로는, 비금속 층(252)은 금속 부품(230)에 접합 또는 부착될 수 있다. 예를 들어, 비금속 층(252)이 고온 하에서 용융된 상태에 있는 동안에, 그것은 금속 부품(230)의 인터로킹 구조물 - 예를 들어, 212, 232 - 내로 유입되게 할 수 있다. 중합체 재료가 이들 인터로킹 구조물 내로 유입될 때, 중합체는 이들 인터로킹 구조물의 언더컷 영역(Wu) 내로 침투되고, 이들 언더컷 영역을 한정하는 벽의 다중-경사 측부 표면 내에 충전될 수 있다. 이들 언더컷 영역(Wu) 내로 유입된 후에, 중합체 재료는 돌출 부분 또는 부착 특징부(256)로 경화되게 할 수 있다. 고체 상태로 변한 후에, 비금속 층(252)은 금속 부품(240)에 물리적으로 부착 또는 접합하여 다층 부품(250)을 형성한다. 다른 예에서, 마무리 프로세스는 금속 부품(230)의 외부 표면(202)에 대해 마무리 프로세스 또는 세정 프로세스를 수행하는 것을 포함할 수 있다.In step 814, in response to determining that the amount of interlocking structure satisfies the threshold value, the method may proceed to perform a finishing process on the metal part 230. [ In some embodiments, the finishing process may include attaching a non-metallic layer 252 to the metal part 230. Specifically, the nonmetal layer 252 may be bonded to or attached to the metal part 230. For example, while the non-metallic layer 252 is in a molten state at high temperature, it may be allowed to flow into the interlocking structure of the metal part 230, e.g., 212, 232 -. When the polymeric material is introduced into these interlocking structures, the polymer may be impregnated into the undercut areas Wu of these interlocking structures and filled in the multi-oblique side surface of the walls defining these undercut areas. After entering these undercut areas Wu , the polymeric material may be allowed to cure into the protruding portions or attachment features 256. After the solid state, the nonmetal layer 252 physically attaches or bonds to the metal part 240 to form the multilayer component 250. In another example, the finishing process may include performing a finishing process or a cleaning process on the outer surface 202 of the metal part 230.

이제 단계(812)로 다시 돌아오면, 인터로킹 구조물의 양이 역치량을 만족시키지 않을 경우, 추가적인 인터로킹 구조물이 금속 부품(230)의 외부 표면(202)에 형성될 수 있다. 추가적인 인터로킹 구조물의 형성 이후에, 3-D 맵핑을 수행하여 충분한 양의 인터로킹 구조물이 외부 표면을 커버하는지의 여부를 결정할 수 있다. 이들 단계는 인터로킹 구조물의 양이 역치량을 만족시킬 때까지 반복될 수 있다.Returning now to step 812, an additional interlocking structure may be formed on the outer surface 202 of the metal part 230 if the amount of interlocking structure does not satisfy the threshold value. After formation of the additional interlocking structure, a 3-D mapping may be performed to determine whether a sufficient amount of the interlocking structure covers the outer surface. These steps can be repeated until the amount of interlocking structure satisfies the threshold value.

도 9는 일부 실시예에 따른, 금속 부품의 외부 표면에 인터로킹 구조물을 형성하기 위한 방법(900)을 예시한다. 도 9에 예시된 바와 같이, 방법(900)은 단계(902)에서 시작될 수 있으며, 이 단계에서는 금속 부품(200)의 외부 표면(202)이 3-D 이미지 스캐닝 시스템, 전자 현미경, 또는 다른 적합한 시스템을 사용하여 스캐닝된다. 단계(904)에서는, 일부 예에서, 금속 부품(200)의 외부 표면(202)을 스캐닝하여 결함 (예를 들어, 크롬 존재량의 결핍, 고응력 하의 패시베이션 산화물 필름 등)을 갖는 금속 산화물 층(206)의 영역을 결정할 수 있으며, 이러한 결함은 이들 영역이 후속 에칭 프로세스 동안 에칭되기에 민감하게 할 수 있다. 다른 예에서, 외부 표면(202)을 스캐닝하여, 비금속 층(252)이 금속 부품(200)의 그러한 특정 영역들에 부착되기를 원하는 영역들을 확인할 수 있으며, 이는, 예를 들어 그러한 영역들이 다층 인클로저 또는 복합 부품을 갖는 외부 표면의 부분들에 상응하는 경우이다. 예를 들어, 외부 표면(202)을 스캐닝하여 비금속 층(252)을 수용하기 위한 영역들을 결정할 수 있다.9 illustrates a method 900 for forming an interlocking structure on an outer surface of a metal part, in accordance with some embodiments. 9, the method 900 may begin at step 902 where the outer surface 202 of the metal part 200 is exposed to a 3-D image scanning system, an electron microscope, or other suitable System. &Lt; / RTI > In step 904, in some instances, the outer surface 202 of the metal part 200 is scanned to form a metal oxide layer (e.g., a passivation oxide film, etc.) having defects 206, and such defects can make these regions susceptible to being etched during subsequent etching processes. In another example, the outer surface 202 may be scanned to identify areas that the non-metallic layer 252 desires to adhere to such specific areas of the metal part 200, such as, for example, Corresponds to portions of the outer surface having a composite part. For example, the outer surface 202 may be scanned to determine areas for receiving the non-metallic layer 252. [

단계(906)에서는, 외부 표면(202)의 영역들 중 하나 이상이 선택적으로 개질될 수 있는데, 이는, 예를 들어, 하나 이상의 특정 영역 상에 텍스처화 프로세스를 수행하여, 금속 산화물 층(206) 내에 에칭되기에 민감한 결함 또는 취약함을 생성함으로써 행해진다. 예를 들어, 금속 기판(204) 위에 배치되는 금속 산화물 층(206)을 의도적으로 텍스처화하여 금속 산화물 층(206)의 영역들에 존재하는 크롬의 양에 영향을 줄 수 있다. 이러한 방식으로, 사용자는 외부 표면(202)의 어느 영역들을 에칭하여 인터로킹 구조물을 형성할지를 제어할 수 있다. 다른 예에서, 에칭 용액은 기계가공 결함, 입계 취약함, 또는 금속 산화물 층(206)에 존재하는 입자의 취약함을 갖는 금속 산화물 층(206)의 영역들을 공격할 수 있다. 다른 예에서, 이들 하나 이상의 영역은 레이저 에칭될 수 있다. 다른 예에서, 다른 영역들보다 더 큰 양의 크롬을 갖도록 하여 이들 다른 영역이 에칭되기에 민감할 수 있게 함으로써 더 두꺼운 금속 산화물 층(206)을 형성하도록 특정 영역들이 의도적으로 유도될 수 있다.At step 906, one or more of the areas of the outer surface 202 may be selectively modified, which may include, for example, performing a texturing process on at least one particular area to form the metal oxide layer 206, Lt; RTI ID = 0.0 > etch < / RTI > For example, the metal oxide layer 206 disposed on the metal substrate 204 may be intentionally textured to affect the amount of chromium present in the areas of the metal oxide layer 206. In this manner, the user can control which areas of the outer surface 202 are etched to form an interlocking structure. In another example, the etching solution can attack areas of the metal oxide layer 206 that have machining defects, grain boundary weaknesses, or fragility of the particles present in the metal oxide layer 206. In another example, these one or more regions may be laser etched. In other examples, certain regions may be deliberately induced to form a thicker metal oxide layer 206 by having larger amounts of chrome than other regions, thereby allowing these other regions to be etched.

추가적으로, 단계(908)에서는, 에칭 프로세스에 민감한 것으로 확인된 영역들 중 하나 이상이, 예를 들어 포토리소그래피 프로세스를 사용함으로써, 선택적으로 마스킹될 수 있다. 이들 하나 이상의 영역을 마스킹함으로써, 이들은 커버되고, 이들 하나 이상의 영역의 화학적 또는 야금학적 특성에 관계 없이 에칭 프로세스를 거치게 되는 것으로부터 대체로 방지된다. 이들 하나 이상의 영역은 에칭 프로세스의 결과로서 에칭된 인터로킹 구조물을 형성하는 데 민감한 것으로 확인되는 영역들을 포함할 수 있음에 유의한다.Additionally, at step 908, one or more of the areas identified as being sensitive to the etching process may be selectively masked, for example, by using a photolithographic process. By masking these one or more regions, they are covered and are largely prevented from undergoing the etching process regardless of the chemical or metallurgical properties of the one or more regions. It is noted that these one or more regions may include regions that are found to be sensitive to forming an etched interlocking structure as a result of the etching process.

단계(910)에서는, 인터로킹 구조물 - 예를 들어, 212, 232 - 이 외부 표면(202)의 하나 이상의 상이한 영역에 초기에 형성될 수 있는데, 이는, 마스킹된 영역들이 에칭되는 것을 방지하면서 마스킹되지 않은 외부 표면(202)의 그러한 영역들이 에칭 프로세스를 거치게 함으로써 행해진다. 단계(912)에서는, 금속 부품(230)을 에칭 용액으로부터 꺼내서 에칭 프로세스를 정지할 수 있다. 일부 예에서, 외부 표면(202) 상에 존재하는 어떠한 잔존하는 에칭 용액도 탈이온수를 사용함으로써 세정하여 인터로킹 구조물이 추가로 성장하는 것을 방지할 수 있다.In step 910, an interlocking structure-for example, 212, 232-may be initially formed in one or more different areas of the outer surface 202, which may be masked while preventing the masked areas from being etched Lt; RTI ID = 0.0 > 202 < / RTI > At step 912, the metal part 230 may be removed from the etching solution to stop the etching process. In some instances, any remaining etching solution present on the outer surface 202 may be cleaned by using deionized water to prevent further growth of the interlocking structure.

단계(914)에서는, 인터로킹 구조물의 양이 역치량을 만족시키는 것으로 결정됨에 응답하여, 이 방법은 금속 부품(230)에 대해 마무리 프로세스를 수행하도록 진행될 수 있다. 일부 실시예에서, 마무리 프로세스는 비금속 층(252)을 금속 부품(230)에 부착하는 것을 포함할 수 있다. 구체적으로는, 비금속 층(252)은 금속 부품(230)에 접합 또는 부착될 수 있다. 다른 예에서, 마무리 프로세스는 금속 부품(230)의 외부 표면(202)에 대해 마무리 프로세스 또는 세정 프로세스를 수행하는 것을 포함할 수 있다.In step 914, in response to determining that the amount of interlocking structure satisfies the threshold value, the method may proceed to perform a finishing process on the metal part 230. In some embodiments, the finishing process may include attaching a non-metallic layer 252 to the metal part 230. Specifically, the nonmetal layer 252 may be bonded to or attached to the metal part 230. In another example, the finishing process may include performing a finishing process or a cleaning process on the outer surface 202 of the metal part 230.

도 10은 일부 예에 따른, 언더커팅 비의 함수로서의 인장 강도의 관계를 나타낸 그래프를 예시한다. 구체적으로는, 이 그래프는 금속 부품의 언더컷 비 (즉, 개구(Wo)에 대한 언더컷 영역(Wu)의 비)와 인장 강도 (MPa)에 대한 영향 사이의 인과 관계를 나타낸다. 일부 예시적인 시험에 따라, 금속 부품을 에칭하여 인터로킹 구조물을 형성하였다. 에칭된 인터로킹 구조물은 약 0.7 내지 약 0.95의 언더컷 비 범위를 나타내었다. 언더컷 비가 약 0.7인 에칭된 인터로킹 구조물을 갖는 금속 부품의 샘플은 약 7 MPa의 인장 강도를 나타내었다. 언더컷 비가 약 0.75 내지 약 0.85인 에칭된 인터로킹 구조물을 갖는 금속 부품의 샘플은 약 12 내지 13 MPa의 인장 강도를 나타내었다. 언더컷 비가 약 0.92인 에칭된 인터로킹 구조물을 갖는 금속 부품의 샘플은 약 20의 인장 강도를 나타내었다. 인장 강도의 증가는, 특히 금속 부품이 물리적 남용 하에 있을 때, 금속 부품과 비금속 재료 사이의 부착을 유지하는 데 유익함에 유의해야 한다.Figure 10 illustrates a graph illustrating the relationship of tensile strength as a function of undercutting ratio, according to some examples. Specifically, this graph shows a causal relationship between the influence on the undercut ratio (that is, the ratio of the undercut area Wu to the opening Wo) and the tensile strength (MPa) of the metal part. According to some exemplary tests, metal parts were etched to form an interlocking structure. The etched interlocking structure exhibited an undercut ratio range of about 0.7 to about 0.95. A sample of the metal part having an etched interlocking structure with an undercut ratio of about 0.7 exhibited a tensile strength of about 7 MPa. Samples of metal parts with etched interlocking structures with an undercut ratio of about 0.75 to about 0.85 exhibited a tensile strength of about 12 to 13 MPa. A sample of the metal part having an etched interlocking structure with an undercut ratio of about 0.92 showed a tensile strength of about 20. It should be noted that the increase in tensile strength is beneficial in maintaining adhesion between the metal part and the non-metallic material, particularly when the metal part is under physical abuse.

도 11은 일부 예에 따른, 에칭 시간의 함수로서의 에칭 깊이의 관계를 나타낸 그래프를 예시한다. 구체적으로는, 이 그래프는 금속 부품의 에칭 시간 (초)과 에칭 깊이 (마이크로미터)에 대한 영향 사이의 인과 관계를 나타낸다. 일부 예시적인 시험에 따르면, 30초 또는 60초의 지속시간 동안 금속 부품을 에칭하였다. 30초의 지속시간 동안 에칭된 금속 부품은 약 29 내지 약 31 마이크로미터의 에칭 침투 깊이를 나타내었다. 60초의 지속시간 동안 에칭된 금속 부품은 약 39 마이크로미터의 에칭 침투 깊이를 나타내었다. 따라서, 이들 예시적인 시험은 이들 인터로킹 구조물 각각의 전체 침투 깊이가 에칭 사이클의 지속시간에 직접 기인될 수 있음을 지지한다.Figure 11 illustrates a graph illustrating the relationship of etch depth as a function of etch time, according to some examples. Specifically, this graph shows a causal relationship between the etching time (seconds) of the metal part and the effect on the etching depth (micrometer). According to some exemplary tests, metal parts were etched for a duration of either 30 seconds or 60 seconds. The etched metal parts for a duration of 30 seconds exhibited an etch penetration depth of about 29 to about 31 micrometers. The etched metal parts for a duration of 60 seconds exhibited an etch penetration depth of about 39 micrometers. Thus, these exemplary tests support that the total penetration depth of each of these interlocking structures can be directly attributed to the duration of the etch cycle.

추가적으로, 본 명세서에 기술된 바와 같이, 에칭된 금속 부품에 대하여 다른 실험적 시험을 수행하였다. 일부 예시적인 시험에서, 에칭된 금속 부품의 경계 영역의 쿠폰 인장 강도 시험을 수행하였다. 에칭된 금속 부품과 비금속 재료 사이의 경계 영역 (또는 접착 영역)은 50 ㎟ 또는 0.5 ㎠였다. 비금속 재료는 폴리아릴에테르케톤 (PAEK)인 플라스틱 수지 AV651을 포함한다. 이러한 예시적인 시험에서, 에칭된 인터로킹 구조물을 갖지 않는 에칭되지 않은 금속 부품은 0의 쿠폰 인장 강도를 나타내었다. 다시 말하면, 0의 쿠폰 인장 강도는 금속 부품과 비금속 재료 사이의 접착 (또는 결합)의 결여를 나타낸다. 대조적으로, 에칭된 인터로킹 구조물을 갖는 에칭된 금속 부품은 37 ㎏f/㎠ 또는 74 ㎏f/㎠의 쿠폰 인장 강도를 나타내었다. 추가적으로, 에칭된 인터로킹 구조물을 갖는 에칭된 금속 부품은 60 내지 100 ㎏f/㎠의 쿠폰 인장 강도 범위를 나타내었다.Additionally, another experimental test was performed on the etched metal parts, as described herein. In some exemplary tests, the coupon tensile strength test of the boundary region of the etched metal parts was performed. The boundary area (or adhesion area) between the etched metal part and the non-metallic material was 50 mm 2 or 0.5 cm 2. The non-metallic material includes plastic resin AV651 which is polyaryl ether ketone (PAEK). In this exemplary test, unetched metal parts without etched interlocking structures exhibited a coupon tensile strength of zero. In other words, a coupon tensile strength of zero represents a lack of adhesion (or bonding) between the metal part and the non-metallic material. In contrast, the etched metal part with the etched interlocking structure exhibited a coupon tensile strength of 37 kgf / cm2 or 74 kgf / cm2. Additionally, the etched metal part with the etched interlocking structure exhibited a coupon tensile strength range of 60 to 100 kgf / cm2.

일부 예시적인 시험에서, 밴드 인장 강도 시험을 수행하였다. 일부 예에서, 본 명세서에 기재된 바와 같이, 에칭된 인터로킹 구조물을 갖는 금속 부품을 포함하는 전자 디바이스 (예를 들어, 스마트폰(102))의 대체로 직사각형인 내부 프레임에 대해 밴드 인장 강도 시험을 수행하였다. 내부 프레임은 4개의 코너를 포함할 수 있으며, 이들은 각각 개별적으로 스플릿으로 지칭될 수 있다. 이들 스플릿은 성형 플라스틱을 수용할 수 있으며, 이에 따라 경계 영역으로 지칭될 수 있다. 내부 프레임의 4개의 코너 각각은 에칭 프로세스 전에 내부 프레임과 일체적으로 형성된 기계가공된 인터로킹 구조물을 포함할 수 있다. 후속으로, 내부 프레임의 코너들 중 일부가 에칭 프로세스를 거치게 하여 에칭된 인터로킹 구조물을 형성하였다. 추가적으로, 성형 플라스틱 (예를 들어, AV651)을 기계가공된 인터로킹 구조물 및 에칭된 인터로킹 구조물 내로 삽입하였다. 예시적인 시험에서, (에칭된 인터로킹 구조물을 갖지 않는) 좌측 상단 코너를 갖는 내부 프레임의 샘플은 약 28 ㎏f의 밴드 인장 강도 (TL)를 나타내었다. 대조적으로, (에칭된 인터로킹 구조물을 갖는) 좌측 상단 코너를 갖는 내부 프레임의 샘플은 약 101 ㎏f의 밴드 인장 강도 (TL)를 나타내었다. 따라서, 이들 예시적인 시험은, 에칭된 인터로킹 구조물의 존재가 기계가공된 인터로킹 구조물에 비하여 비금속 재료에 대한 부착을 유지하는 훨씬 월등한 능력을 나타냄을 지지한다.In some exemplary tests, band tensile strength tests were performed. In some instances, as described herein, a band tensile strength test is performed on a generally rectangular inner frame of an electronic device (e.g., smartphone 102) that includes a metal part having an etched interlocking structure Respectively. The inner frame may include four corners, each of which may be individually referred to as a split. These splits can accommodate molded plastics and can thus be referred to as boundary regions. Each of the four corners of the inner frame may comprise a machined interlocking structure formed integrally with the inner frame prior to the etching process. Subsequently, some of the corners of the inner frame undergo an etching process to form an etched interlocking structure. In addition, molded plastic (e.g., AV651) was inserted into the machined interlocking structure and the etched interlocking structure. In an exemplary test, a sample of the inner frame with the upper left corner (without the etched interlocking structure) exhibited a band tensile strength (TL) of about 28 kgf. In contrast, a sample of the inner frame with the upper left corner (with the etched interlocking structure) exhibited a band tensile strength (TL) of about 101 kgf. Thus, these exemplary tests support that the presence of the etched interlocking structure exhibits a much superior ability to maintain adhesion to the non-metallic material as compared to the machined interlocking structure.

일부 예시적인 시험에서, 전자 디바이스 (예를 들어, 스마트폰(102))의 에칭된 금속 부품에 대해 공기 누설 시험을 수행하였다. 구체적으로는, 본 명세서에 기술된 바와 같이, 에칭된 인터로킹 구조물을 갖는 금속 부품을 포함하는 전자 디바이스의 대체로 직사각형인 내부 프레임의 스플릿에 대해 공기 누설 시험을 수행하였다. 공기 누설 시험을 사용하여 스플릿의 밀봉 능력을 결정할 수 있다. 이것은 특히 주목할 만한데, 이는, 내부 프레임의 스플릿이 일반적으로, 에칭된 인터로킹 구조물을 형성하기 위하여 에칭되는 내부 프레임의 유일한 영역이기 때문이다. 일부 예에서, 내부 프레임의 스플릿은 에칭된 인터로킹 구조물 내로 사출되는 성형 플라스틱 사이에서 밀봉재로서 작용하는 PU 코팅을 포함한다. 이러한 시험에서, 에칭된 인터로킹 구조물과 함께 스플릿을 갖는 내부 프레임의 샘플에 -0.5 bar의 시험 압력을 가하였으며, 샘플은 0.05 sccm (분당 표준 세제곱센티미터) 미만의 누설률을 나타내었다. 다른 샘플에서, 에칭된 인터로킹 구조물과 함께 스플릿을 갖는 내부 프레임은 약 0.05 sccm 내지 0.2 sccm의 누설률을 나타내었다. 대조적으로, 에칭된 인터로킹 구조물 없이 (예를 들어, 기계가공된 인터로킹 구조물) 스플릿을 갖는 내부 프레임의 샘플은 1.0 sccm 초과의 누설률을 나타내었다. 전자 디바이스는 일반적으로 0.2 sccm의 허용가능한 공차 한계를 가짐에 유의해야 한다. 따라서, 에칭된 인터로킹 구조물 없이 스플릿을 갖는 내부 프레임의 샘플은 0.2 sccm의 허용가능한 공차 한계 내의 허용가능한 누설률을 부여하지 못하였다. 결과적으로, 에칭된 인터로킹 구조물이 없는 내부 프레임은 에칭된 인터로킹 구조물을 갖는 내부 프레임에 비하여 열등한 수밀재 품질을 보여준다.In some exemplary tests, an air leak test was performed on the etched metal parts of the electronic device (e.g., smartphone 102). Specifically, as described herein, an air leakage test was performed on a split of a generally rectangular inner frame of an electronic device comprising a metal part having an etched interlocking structure. The air leakage test can be used to determine the sealing ability of the split. This is especially noteworthy because the split of the inner frame is generally the only area of the inner frame that is etched to form the etched interlocking structure. In some instances, the split of the inner frame includes a PU coating that acts as a seal between the molded plastic that is injected into the etched interlocking structure. In this test, a test pressure of -0.5 bar was applied to a sample of the inner frame having the split with the etched interlocking structure, and the sample exhibited a leakage rate of less than 0.05 sccm (standard cubic centimeters per minute). In another sample, the inner frame with the split with the etched interlocking structure exhibited a leak rate of about 0.05 sccm to 0.2 sccm. In contrast, a sample of an inner frame with a split without an etched interlocking structure (e.g., a machined interlocking structure) exhibited a leakage rate of greater than 1.0 sccm. It should be noted that the electronic device generally has an allowable tolerance limit of 0.2 sccm. Thus, the sample of the inner frame with the split without the etched interlocking structure failed to give an acceptable leak rate within the allowable tolerance limits of 0.2 sccm. As a result, the inner frame without the etched interlocking structure exhibits poor water quality compared to the inner frame with the etched interlocking structure.

비금속 재료를 양극산화된 금속 부품에 접합하기 위한 에칭Etching for bonding non-metallic materials to anodized metal parts

도 12a 내지 도 12e는 일부 실시예에 따른, 금속 부품의 외부 표면에 인터로킹 구조물을 형성하기 위한 프로세스를 거치고 있는 금속 부품의 단면도를 예시한다. 도 12a는 인터로킹 구조물을 형성하기 위한 전기화학 에칭 프로세스를 거치기 전의 금속 부품(1200)을 예시한다. 일부 예에서, 금속 부품(1200)은 최종 부품, 예컨대 휴대용 디바이스(102, 104, 106, 108)의 인클로저의 거의 최종적인 형상을 갖는다. 일부 예에서, 금속 부품(1200)은 비금속 부품에 접합되어 최종 부품, 예컨대 휴대용 디바이스(102, 104, 106, 108)의 인클로저를 나타낼 수 있다. 본 명세서에 기술된 기법은 비금속 재료를 양극산화된 금속 부품에 접합하기 위한 에칭으로 제한되지 않으며, 금속 부품, 예컨대 스테인리스 강의 일반적인 에칭에도 이용될 수 있음에 추가로 유의해야 한다.12A-12E illustrate cross-sectional views of a metal part undergoing a process for forming an interlocking structure on the outer surface of the metal part, in accordance with some embodiments. 12A illustrates a metal part 1200 before it undergoes an electrochemical etching process to form an interlocking structure. In some instances, the metal part 1200 has a nearly final shape of the final part, such as the enclosure of the portable device 102,104, 106,108. In some instances, the metal part 1200 may be joined to a non-metallic part to represent the enclosure of the final part, e.g., the portable device 102, 104, 106, 108. It should further be noted that the techniques described herein are not limited to etching for bonding non-metallic materials to anodized metal parts, and may also be used for general etching of metal parts, such as stainless steel.

도 12a에 예시된 바와 같이, 금속 부품(1200)은 금속 기판(1204)을 포함한다. 금속 기판(1204)은 전기화학 에칭 프로세스 이후에 비금속 재료로 형성되는 벌크 부분을 수용할 수 있는 외부 표면(1202)을 포함한다. 일부 예에서, 금속 기판(1204)은 알루미늄으로 구성되거나 알루미늄 합금이다. 추가적으로, 금속 기판(1204)은 합금화 원소, 예컨대 마그네슘, 아연, 규소, 철, 지르코늄, 구리 등을 포함할 수 있다. 일부 실시예에 따르면, 금속 기판(1204)은 금속 산화물 층을 형성하기에 그리고 비금속 층을 금속 부품(1200)에 부착하기에 적합한 기하학적 형태를 갖는 3차원 구조이다. 일부 예에서, 금속 기판(1204)은 직사각형, 다각형, 환형, 베벨형 에지, 비선형인 각진 에지, 타원형 등인 것으로 특징지어지는 기하학적 형태를 갖는다.As illustrated in FIG. 12A, the metal part 1200 includes a metal substrate 1204. The metal substrate 1204 includes an outer surface 1202 capable of receiving a bulk portion formed of a non-metallic material after the electrochemical etching process. In some examples, the metal substrate 1204 is comprised of aluminum or an aluminum alloy. In addition, the metal substrate 1204 may include alloying elements such as magnesium, zinc, silicon, iron, zirconium, copper, and the like. According to some embodiments, the metal substrate 1204 is a three-dimensional structure having a geometry suitable for forming a metal oxide layer and for attaching a non-metallic layer to the metal part 1200. [ In some examples, the metal substrate 1204 has a geometric shape characterized by a rectangular, polygonal, annular, beveled edge, non-linear angled edge, elliptical, and the like.

일부 실시예에 따르면, 도 12b는 표면 처리 프로세스, 예컨대 전기화학 에칭 프로세스 이후의 에칭된 금속 부품(1210)을 나타낸다. 구체적으로는, 도 12b는 전기화학 에칭 프로세스 이후에, 에칭된 금속 부품(1210)의 외부 표면(1202)이 제1 인터로킹 구조물(1214 - 1), 제2 인터로킹 구조물(1214 - 2), 제3 인터로킹 구조물(1214 - 3), 및 제4 인터로킹 구조물(1214 - 4)의 개구를 포함하는 것을 예시한다. 일부 실시예에 따르면, 인터로킹 구조물 - 예를 들어, 1214 - 1, 1214 - 2, 1214 - 3, 1214 - 4 - 각각은 단일 전기화학 에칭 프로세스 또는 다수의 전기화학 에칭 프로세스의 결과로서 형성될 수 있다. 예를 들어, 제1 및 제2 인터로킹 구조물(1214 - 1, 1214 - 2)은 금속 기판(1204)이 제1 전기화학 에칭 프로세스를 거치게 한 결과로서 형성된다. 그 후에, 금속 기판(1204)에 대해 제2 전기화학 에칭 프로세스가 수행되며, 그럼으로써 제3 및 제4 인터로킹 구조물(1214 - 3, 1214 - 4)을 형성한다.According to some embodiments, FIG. 12B shows a surface treatment process, such as an etched metal part 1210 after an electrochemical etching process. 12B shows that after the electrochemical etching process, the outer surface 1202 of the etched metal part 1210 contacts the first interlocking structure 1214-1, the second interlocking structure 1214-2, Third interlocking structure 1214 - 3, and fourth interlocking structure 1214 - 4. In some embodiments, the interlocking structures-for example, 1214-1, 1214-2, 1214-3, 1214-4-may each be formed as a result of a single electrochemical etch process or multiple electrochemical etch processes have. For example, the first and second interlocking structures 1214-1 and 1214-2 are formed as a result of the metal substrate 1204 undergoing the first electrochemical etching process. Thereafter, a second electrochemical etching process is performed on the metal substrate 1204, thereby forming the third and fourth interlocking structures 1214-3 and 1214-4.

일부 실시예에 따르면, 에칭된 금속 부품(1210) 내로의 인터로킹 구조물(1214 - 1, 1214 - 2, 1214 - 3, 1214 - 4)의 침투 깊이의 양은 인터로킹 구조물(1214) 각각의 개별 크기에 기초한다. 일부 예에서, 인터로킹 구조물(1214 - 1, 1214 - 2, 1214 - 3, 1214 - 4)은 외부 표면(202) 내로의 길이 (즉, 침투 깊이)가 5 마이크로미터를 초과한다. 바람직하게는, 인터로킹 구조물(1214 - 1, 1214 - 2, 1214 - 3, 1214 - 4)은 비금속 층에 대한 부착을 촉진시키기 위하여 적어도 50 마이크로미터의 깊이를 갖는다. 이들 인터로킹 구조물(1214 - 1, 1214 - 2, 1214 - 3, 1214 - 4) 각각의 전체 침투 깊이는 전기화학 에칭 프로세스의 파라미터 (예를 들어, 지속시간, 전류 밀도, 용액의 농도 등)에 직접 기인될 수 있음에 유의해야 한다. 일부 실시예에 따르면, 인터로킹 구조물(1214 - 1, 1214 - 2, 1214 - 3, 1214 - 4)은 직경이 약 20 마이크로미터 내지 약 70 마이크로미터 직경이다.According to some embodiments, the amount of penetration depth of the interlocking structures 1214-1, 1214-2, 1214-3, 1214-4 into the etched metal part 1210 is dependent on the individual dimensions of each of the interlocking structures 1214 . In some examples, the interlocking structures 1214-1, 1214-2, 1214-3, 1214-4 have a length (i.e., penetration depth) into the outer surface 202 of more than 5 micrometers. Preferably, the interlocking structures 1214-1, 1214-2, 1214-3, 1214-4 have a depth of at least 50 micrometers to facilitate adhesion to the nonmetal layer. The total penetration depth of each of these interlocking structures 1214 - 1, 1214 - 2, 1214 - 3, 1214 - 4 is determined by the parameters (e.g., duration, It should be noted that it can be directly attributed. According to some embodiments, the interlocking structures 1214 - 1, 1214 - 2, 1214 - 3, 1214 - 4 have diameters of from about 20 micrometers to about 70 micrometers in diameter.

일부 실시예에 따르면, 에칭된 금속 부품(1210)의 인터로킹 구조물(1214 - 1, 1214 - 2, 1214 - 3, 1214 - 4) 각각은 비금속 재료의 부착 특징부 (또는 미세-부분)를 수용할 수 있으며, 이는 도 12d를 참조하여 더 상세히 기술된 바와 같다. 일부 실시예에 따르면, 인터로킹 구조물 - 예를 들어, 제1 인터로킹 구조물(1214 - 1) - 은 언더컷 영역(Wu1) 내로 이어지는 개구(Wo1)를 갖는 것으로 특징지어진다. 일부 예에서, 제1 인터로킹 구조물(1214 - 1)의 개구(Wo1)는 금속 기판(1204)의 언더컷 영역(Wu1) 내로 연장된다. 인터로킹 구조물 - 예를 들어, 1214 - 1, 1214 - 2, 1214 - 3, 1214 - 4 - 은 언더컷 기하학적 형태를 갖는 것으로 특징지어질 수 있다. 언더컷 기하학적 형태는 개구(Wo1)의 폭이 언더컷 영역(Wu1)의 폭보다 더 작다는 것으로 정의된다. 추가적으로, 언더컷 기하학적 형태는 또한 인터로킹 구조물의 깊이(D)가 개구(Wo1)보다 더 크다는 것으로 정의될 수 있다. 일부 예에서, 개구(Wo1)의 폭 대 언더컷 영역(Wu1)의 폭의 비는 약 1:1.1 내지 1:1.3이며, 일부 예에서, 개구(Wo1)의 폭 대 언더컷 영역(Wu1)의 폭의 비는 1:2이다. Wo1: Wu1의 비가 1:1 미만인 한, Wo1 및 Wu1의 폭은 비금속 층의 일부분을 포획 및 보유하기에 임의의 충분한 크기를 가질 수 있음에 유의해야 한다.According to some embodiments, each of the interlocking structures 1214-1, 1214-2, 1214-3, 1214-4 of the etched metal part 1210 may receive the attachment feature (or micro-part) of the non- , Which is described in more detail with reference to Figure 12d. According to some embodiments, the interlocking structure-for example, the first interlocking structure 1214-1- is characterized as having an opening Wo1 leading into the undercut region Wu1 . In some examples, the opening Wo1 of the first interlocking structure 1214-1 is extended into the undercut region Wu1 of the metal substrate 1204. Interlocking structures - for example, 1214 - 1, 1214 - 2, 1214 - 3, 1214 - 4 - can be characterized as having an undercut geometry. The undercut geometry is defined as the width of the opening Wo1 being smaller than the width of the undercut area Wu1 . Additionally, the undercut geometry can also be defined as the depth D of the interlocking structure being greater than the opening Wo1 . In some examples, the ratio of the width of the opening Wo1 to the width of the undercut region Wu1 is about 1: 1.1 to 1: 1.3, and in some examples, the width of the opening Wo1 versus the width of the undercut region Wu1 The ratio is 1: 2. It should be noted that as long as the ratio of Wo1: Wu1 is less than 1: 1, the widths of Wo1 and Wu1 may have any sufficient size to capture and retain a portion of the nonmetal layer.

추가적으로, 개구(Wo) 및 언더컷 영역(Wu)을 한정하는 금속 기판(1204)의 벽은 다중-경사 측부 표면 및 크랙을 포함할 수 있다. 후속으로, 이들 인터로킹 구조물이 비금속 재료로 충전되는 동안에, 이들 다중-경사 측부 표면이 비금속 재료로 충전 및/또는 라이닝되어 외부 수분이 금속 기판(204)에 도달하는 것을 방지하게 된다.Additionally, the walls of metal substrate 1204 defining openings Wo and undercut areas Wu may include multiple-sloping side surfaces and cracks. Subsequently, while these interlocking structures are being filled with a non-metallic material, these multi-sloped side surfaces are filled and / or lined with a non-metallic material to prevent external moisture from reaching the metal substrate 204.

도 12b에 예시된 바와 같이, 인터로킹 구조물들 - 예를 들어, 1214 - 1, 1214 - 2, 1214 - 3, 1214 - 4 - 의 개구(Wo)들은 최소 분리 거리(Sd)에 의해 분리될 수 있다. 일부 예에서, 개구들은 서로 대체로 균일하게 분포되어, 이들 개구 사이의 분리 거리는 대체로 균일하게 된다. 예를 들어, 도 12b는 개구(Wo2)가 개구(Wo1) 및 개구(Wo3)로부터 균일하게 분포됨을 예시한다. 그러나, 다른 예에서, 개구들은 또한 서로 랜덤하게 분포될 수 있다. 실제로, 전기화학 에칭 프로세스 동안, 외부 표면(1202)의 일부분들을 마스킹하여 인터로킹 구조물의 형성을 방지하여 인터로킹 구조물들(1214)의 미리 결정된 패턴이 금속 부품(1210)에 형성될 수 있게 할 수 있음에 유의해야 한다.As illustrated in FIG. 12B, the openings Wo of the interlocking structures - e.g., 1214-1, 1214-2, 1214-3, 1214-4 - may be separated by a minimum separation distance Sd have. In some instances, the apertures are substantially uniformly distributed with respect to each other, so that the separation distance between these openings is substantially uniform. For example, Figure 12b illustrates that the opening (Wo2) is distributed uniformly from the opening (Wo1) and the opening (Wo3). However, in another example, the apertures may also be distributed randomly to each other. In practice, during the electrochemical etching process, portions of the outer surface 1202 are masked to prevent the formation of an interlocking structure to allow a predetermined pattern of interlocking structures 1214 to be formed in the metal part 1210 It should be noted that

일부 예에서, 최소 분리 거리는, 이웃하는 인터로킹 구조물들의 개구들이 서로 중첩되지 않고 이웃하는 인터로킹 구조물들의 각각의 에칭된 벽(1216)의 불안정화를 야기하지 않도록 수십 내지 수백 마이크로미터 정도이다. 일부 예에서, 최소 분리 거리는 대체로 온전한 언더컷 영역(Wu)을 한정하는 에칭된 벽들에 상응한다. 예를 들어, 도 12b를 참조하면, 인터로킹 구조물들(1214 - 3, 1214 - 4)의 개구(Wo)들은 개별적인 인터로킹 구조물(1214 - 3, 1214 - 4)들 각각의 언더컷 영역(Wu)들을 한정하는 벽(1216)들이 이웃하는 인터로킹 구조물들의 존재에 의해 불안정화되지 않도록 분리 거리(Sd ₃ )에 의해 분리된다. 이러한 방식으로, 언더컷 영역(Wu)들의 형상 및 크기는 대체로 유지된다. 일부 예에서, 임의의 수의 인터로킹 구조물 - 예를 들어, 1214 - 1, 1214 - 2, 1214 - 3, 1214 - 4 - 이 서로 이산적으로 그리고 독립적으로 형성될 수 있다. 그러나, 인터로킹 구조물들은 외부 표면(2303)의 약 25% 내지 약 70%를 구성함에 유의해야 한다. 외부 표면(1202)의 보통 정도의 에칭을 실시함으로써, 각각의 인터로킹 구조물에 대한 각각의 인장 강도는 최적일 수 있다. 유익하게도, 보통 정도로 에칭되는 외부 표면을 갖는 것으로 특징지어지는 에칭된 금속 부품(1210)은 도 12c를 참조하여 더 상세히 기술된 바와 같이 에칭된 금속 부품(1210)과 비금속 층 (예를 들어, 중합체 층 등) 사이에 강한 크기의 접착력을 부여한다.In some instances, the minimum separation distance is on the order of tens to hundreds of microns, so that the apertures of neighboring interlocking structures do not overlap each other and do not cause destabilization of each etched wall 1216 of neighboring interlocking structures. In some instances, the minimum separation distance corresponds to etched walls that define a generally intact undercut region Wu . For example, referring to FIG. 12B, openings Wo of interlocking structures 1214-3 and 1214-4 are formed in the undercut regions Wu of respective interlocking structures 1214-3 and 1214-4, wall 1216 are separated by a separation distance (Sd ₃₎ from being destabilized by the presence of interlocking formations adjacent to the limited. In this way, the shape and size of the undercut regions Wu are maintained substantially. In some instances, any number of interlocking structures - e.g., 1214 - 1, 1214 - 2, 1214 - 3, 1214 - 4 - may be formed discrete and independently of each other. It should be noted, however, that the interlocking structures constitute about 25% to about 70% of the outer surface 2303. By subjecting the outer surface 1202 to a moderate degree of etching, the respective tensile strength for each interlocking structure can be optimal. Advantageously, the etched metal part 1210, which is characterized as having an outer surface that is normally etched, may be formed by etching the metal part 1210 and a non-metallic layer (e. G., A polymer Layer or the like).

일부 실시예에 따르면, 전기화학 에칭 프로세스 전에, 금속 기판(1204)의 외부 표면(1202)은 비교적 편평하다. 전기화학 에칭 프로세스 이후에, 외부 표면(1202)은 금속 부품(1200)의 기존의 기하학적 형태 (예를 들어, 형상)를 유지하기 위하여 비교적 편평한 상태로 남아 있을 수 있다.According to some embodiments, prior to the electrochemical etching process, the outer surface 1202 of the metal substrate 1204 is relatively flat. After the electrochemical etching process, the outer surface 1202 may remain in a relatively flat condition to maintain the existing geometric shape (e.g., shape) of the metal part 1200.

일부 실시예에 따르면, 전기화학 에칭 프로세스는 금속 기판(1204)의 외부 표면(1202)으로부터 일정량의 금속 재료를 제거하여 외부 표면(1202)에 상이한 텍스처를 부여하는 것을 지칭한다. 일부 예에서, 전기화학 에칭 프로세스는 금속 기판(1204)을 2 내지 15 g/L 범위의 질산나트륨을 갖는 알칼리성 용액에 노출시키는 것을 포함한다. 질산나트륨은 탈산제이다. 금속 기판(1204)은 9 내지 11 중 어딘가의 pH 수준에서 약 20℃ 내지 약 50℃ 중 어딘가의 온도 범위에서 용액에 노출된다. 추가적으로, 금속 기판(1204)은 1 내지 15분 중 어딘가의 지속시간 동안 1 내지 10 A/dm² 중 어딘가의 애노드 전류 밀도에서 용액에 노출된다. 구체적으로는, 인가된 전류 밀도를 조정함으로써, 크기 (예를 들어, 인터로킹 구조물의 직경 등), 인터로킹 구조물의 밀도, 및 인터로킹 구조물의 수에 직접 영향을 줄 수 있다.According to some embodiments, an electrochemical etching process refers to removing a quantity of metallic material from the outer surface 1202 of the metal substrate 1204 to impart a different texture to the outer surface 1202. [ In some examples, the electrochemical etching process includes exposing the metal substrate 1204 to an alkaline solution having sodium nitrate in the range of 2 to 15 g / L. Sodium nitrate is a deoxidizer. The metal substrate 1204 is exposed to the solution at a pH somewhere between 9 and 11 at a temperature somewhere between about 20 [deg.] C and about 50 [deg.] C. Additionally, the metal substrate 1204 is exposed to the solution at an anode current density somewhere between 1 and 10 A / dm < ² > for a duration of between 1 and 15 minutes. Specifically, by adjusting the applied current density, it can directly affect the size (e.g., diameter of the interlocking structure, etc.), the density of the interlocking structure, and the number of interlocking structures.

더욱이, 전기화학 에칭 프로세스는 바람직하게는 클로라이드-무함유 프로세스를 이용할 수 있음에 유의해야 한다. 실제로, 클로라이드-기반 용액, 예컨대 염산의 사용은 알루미늄 합금으로부터 형성된 금속 기판의 부식에 기여할 수 있다. 더욱이, 통상적인 전기입자화(electrograining) 프로세스 (예를 들어, 포토리소그래피 등)에 사용되는 많은 전통적인 강산 (예를 들어, 염산, 질산 등)은 본 명세서에 기술된 바와 같은 인터로킹 구조물 - 예를 들어, 1214 - 1, 1214 - 2, 1214 - 3, 1214 - 4 - 을 형성하는 데 부적합함에 유의해야 한다. 구체적으로는, 전기입자화 프로세스에 사용되는 이들 전통적인 강산은 교류 전류 프로세싱 장비를 필요로 하며, 이에 따라 양극산화 장비 및 프로세스와 용이하게 양립가능하지 않다. 더욱이, 전기입자화 프로세스를 위한 이들 강산이 이용되더라도, 이들은 본 명세서에 기술된 바와 같은 인터로킹 구조물에 고유하게 특징적인 언더컷 기하학적 형태를 생성하지 못할 것이다. 대신에, 이러한 유형의 강산 (예를 들어, 크롬산-황산, 황산제2철, 황산 등)은 양극산화된 금속 부품의 에칭 프로세스 동안 마이크로미터-규모의 조도로 얕고 약간 가리비형으로 된 컷 또는 반구형 기공을 형성할 것이다. 이들 약간 가리비형으로 된 컷은 필요한 방수 및 인장 강도를 구비한 구조용 밴드를 갖는 휴대용 전자 디바이스를 위한 인클로저를 제공하는 데 요구되는 필요한 금속 및 비금속 접합 강도를 제공하기에 대체로 불충분함에 유의해야 한다. 대조적으로, 인터로킹 구조물은 언더컷 기하학적 형태 또는 타원형 형상을 갖는 것으로 특징지어진다.Furthermore, it should be noted that the electrochemical etching process may preferably utilize a chloride-free process. Indeed, the use of a chloride-based solution, such as hydrochloric acid, may contribute to corrosion of the metal substrate formed from the aluminum alloy. Moreover, many conventional strong acids (e.g., hydrochloric acid, nitric acid, etc.) used in conventional electrograining processes (e.g., photolithography, etc.) can be used as interlocking structures as described herein- For example, it should be noted that it is unsuitable for forming 1214 - 1, 1214 - 2, 1214 - 3, 1214 - 4 -. Specifically, these traditional strong acids used in the electrochemical granulation process require alternating current processing equipment, and thus are not readily compatible with anodizing equipment and processes. Moreover, even if these strong acids for the electrophoresis process are used, they will not produce an undercut geometry that is inherently characteristic of the interlocking structure as described herein. Instead, these types of strong acids (e.g., chromic acid-sulfuric acid, ferric sulfate, sulfuric acid, etc.) may be cut or hemispherical in shallow and slightly scalloped form at micrometer-scale roughness during the etching process of the anodized metal part Will form pores. It should be noted that these slightly scalloped cuts are largely insufficient to provide the necessary metal and non-metallic bond strengths required to provide enclosures for portable electronic devices having structural bands with the required watertightness and tensile strength. In contrast, the interlocking structure is characterized as having an undercut geometry or an elliptical shape.

일부 실시예에 따르면, 도 12c는 양극산화 프로세스 이후의 양극산화된 금속 부품(1220)을 나타낸다. 구체적으로는, 도 12c는 양극산화 프로세스 이후에, 인터로킹 구조물 - 예를 들어, 1214 - 1, 1214 - 2, 1214 - 3, 1214 - 4 - 을 한정하는 금속 기판(1204)의 금속 재료를 포함하여, 금속 기판(1204)의 재료로부터 금속 산화물 층(1224)이 형성됨을 예시한다. 도 12c에 예시된 바와 같이, 금속 산화물 층(1224)은 금속 기판(1204)의 외부 표면(1202)의 비교적 편평한 영역뿐만 아니라 인터로킹 구조물(1214 - 1, 1214 - 2, 1214 - 3, 1214 - 4)을 오버레이한다. 유익하게도, 금속 산화물 층(1224)은 외부 오염물이 아래에 놓인 금속 기판(1204)에 도달하는 것을 방지/최소화하는 배리어로서 작용한다. 실제로, 금속 산화물 층(1224)은 양극산화된 금속 부품(1220)에 내부식성을 부여할 수 있다.According to some embodiments, FIG. 12C shows the anodized metal part 1220 after the anodizing process. Specifically, FIG. 12C shows a cross-sectional view of the metal substrate 1204 after the anodizing process, including the metal material of the metal substrate 1204 defining the interlocking structures-for example, 1214-1, 1214-2, 1214-3, 1214-4 Thereby forming a metal oxide layer 1224 from the material of the metal substrate 1204. [ 1214 - 2, 1214 - 3, 1214 - 2, 1214 - 1, 1214 - 2, 1214 - 3, 1214 - 2, 1214 - 1214 - 1214 - 1214, as illustrated in FIG. 12C, the metal oxide layer 1224 includes a relatively flat area of the outer surface 1202 of the metal substrate 1204, 4). Advantageously, the metal oxide layer 1224 serves as a barrier to prevent / minimize external contaminants from reaching the underlying metal substrate 1204. Indeed, the metal oxide layer 1224 can impart corrosion resistance to the anodized metal part 1220. [

추가적으로, 금속 산화물 층(1224)은 인터로킹 구조물 각각의 개구(Wo) 및 언더컷 영역(Wu)을 한정하는 벽(1216) 위에 형성된다. 금속 산화물 층(1224)은 아래에 놓인 인터로킹 구조물 형상에 상응하는 형상을 가질 수 있다. 따라서, 금속 산화물 층(1224)은 또한 다중-경사 측부 표면 및 크랙을 포함할 수 있다. 후속으로, 이들 인터로킹 구조물이 비금속 재료로 충전되는 동안에, 이들 다중-경사 측부 표면이 비금속 재료로 충전되어 외부 수분이 금속 기판(204)에 도달하는 것을 방지하게 된다.In addition, a metal oxide layer 1224 is formed over the walls 1216 defining the openings Wo and the undercut areas Wu of each of the interlocking structures. The metal oxide layer 1224 may have a shape corresponding to the underlying interlocking structure. Thus, the metal oxide layer 1224 may also include multi-sloping side surfaces and cracks. Subsequently, while these interlocking structures are being filled with a non-metallic material, these multi-slanted side surfaces are filled with a non-metallic material to prevent external moisture from reaching the metal substrate 204.

일부 예에 따르면, 금속 산화물 층(1224)은 두께가 약 500 마이크로미터 내지 약 700 마이크로미터이다. 더욱이, 금속 산화물 층(1224)은 기공 크기가 약 40 나노미터인 기공 구조물 (예시되지 않음)을 포함한다. 산화되는 금속 기판(1204)의 재료로부터의 금속 산화물 층(1224)의 형성이 개구(Wo)의 크기 및/또는 언더컷 영역(Wu)의 크기를 감소시킬 수 있을지라도, 인터로킹 구조물(1214)은 언더컷 기하학적 형태를 여전히 보유할 것임에 유의해야 한다. 유익하게도, 기공 구조물이 인터로킹 구조물(1214)과 조합하여 양극산화 금속 부품(1220)에 대한 비금속 층의 부착을 촉진시킨다.According to some examples, the metal oxide layer 1224 is about 500 microns to about 700 microns in thickness. Moreover, the metal oxide layer 1224 includes pore structures (not shown) having a pore size of about 40 nanometers. Although the formation of the metal oxide layer 1224 from the material of the oxidized metal substrate 1204 may reduce the size of the opening Wo and / or the size of the undercut region Wu , the interlocking structure 1214 It should be noted that it will still retain the undercut geometry. Advantageously, the pore structure in combination with the interlocking structure 1214 promotes the attachment of the non-metallic layer to the anodized metal part 1220.

일부 예에서, 양극산화 프로세스를 거치기 전에, 에칭된 금속 부품(1210)은 에칭 용액 (예를 들어, 질산나트륨 등)을 제거하기 위하여 2-스테이지 향류 헹굼(two-stage counter-flowed rinse)을 거친다. 양극산화 프로세스 동안, 에칭된 금속 부품(1210)은 양극산화 용액, 예컨대 인산에 노출된다. 일부 예에서, 인산은 약 10 중량% 내지 약 12 중량%의 농도로 사용될 수 있다. 추가적으로, 에칭된 금속 부품(1210)에 약 0.5 내지 약 0.8 A/dm²의 전류 밀도가 인가된다. 에칭된 금속 부품(1220)은 약 20분 내지 약 25분의 지속시간 동안 약 20℃ 내지 약 24℃의 온도에 노출된다. 특히, 인산 양극산화는, 두께가 약 500 nm 내지 700 nm 두께이고 다공도가 수십 나노미터 규모인 금속 산화물 층(1224)을 생성한다. 생성되는 금속 산화물 층(1224)은 비금속 재료 (예를 들어, 에폭시)에 의해 용이하게 습윤되어 강한 접착 접합을 형성하게 될 수 있다. 다른 예에서, 에칭된 금속 부품(1210)은 약 20분 내지 약 60분의 기간 동안 약 1 내지 3 A/dm²의 전류 밀도에서 약 20℃의 온도에서 황산 양극산화 용액, 예컨대 200 g/L의 황산에 노출된다. 다른 예에서, 에칭된 금속 부품(1210)은 붕산-황산 양극산화 프로세스를 거치게 된다.In some instances, before undergoing the anodizing process, the etched metal part 1210 undergoes a two-stage counter-flow rinse to remove the etching solution (e.g., sodium nitrate, etc.) . During the anodizing process, the etched metal part 1210 is exposed to an anodizing solution, such as phosphoric acid. In some instances, the phosphoric acid may be used at a concentration of from about 10% to about 12% by weight. In addition, a current density of about 0.5 to about 0.8 A / dm < ² > is applied to the etched metal part 1210. [ The etched metal part 1220 is exposed to a temperature of about 20 캜 to about 24 캜 for a duration of about 20 minutes to about 25 minutes. In particular, phosphoric anodization produces a metal oxide layer 1224 having a thickness of about 500 nm to 700 nm and a porosity of tens of nanometers. The resulting metal oxide layer 1224 can be easily wetted by a non-metallic material (e.g., epoxy) to form a strong adhesive bond. In another example, the etched metal part 1210 is a sulfuric acid anodizing solution, for example, at a current density of about 1 to 3 A / dm < ² > for about 20 minutes to about 60 minutes at a temperature of about 20 & Of sulfuric acid. In another example, the etched metal part 1210 undergoes a boric acid-sulfuric acid anodizing process.

일부 실시예에서, 양극산화 프로세스 동안, 금속 부품(1210)은 금속 산화물 층(1224)에 적용될 수 있는 에칭 프로세스를 거치게 되는데 (예를 들어, 인산에 대한 노출), 이는, 그 결과로서 양극산화 금속 부품(1220)에 대한 비금속 층의 접착력을 향상시키기 위함이다. 양극산화 프로세스 이후에, 양극산화된 금속 부품(1220)은 양극산화 용액이 헹구어지고 건조될 수 있다. 그 후에, 양극산화된 금속 부품(1220)은 도 12d를 참조하여 예시된 바와 같이 비금속 층에 접합될 수 있다.In some embodiments, during the anodizing process, the metal part 1210 undergoes an etching process that may be applied to the metal oxide layer 1224 (e.g., exposure to phosphoric acid) To improve the adhesion of the nonmetal layer to the component 1220. After the anodizing process, the anodized metal component 1220 can be rinsed and dried. Thereafter, the anodized metal part 1220 may be bonded to the nonmetal layer as illustrated with reference to Figure 12D.

도 12d는 일부 실시예에 따른, 양극산화된 금속 부품(1220)에 부착된 비금속 층(1232)을 갖는 다층 부품(1230) (예를 들어, 복합 부품)의 단면도이다. 일부 예에서, 비금속 층(1232)은 돌출된 특징부를 갖는 벌크 층으로서 특징지어질 수 있다. 예를 들어, 비금속 층(1232)은 중합체 재료, 예컨대 폴리에틸렌 테레프탈레이트 ("PET"), 폴리아릴에테르케톤 ("PAEK"), 또는 폴리에테르 에테르 케톤 ("PEEK")을 지칭할 수 있으며, 이들은 용융된 상태 또는 액체 상태에 있는 동안에 양극산화된 금속 부품(1230)의 인터로킹 구조물 - 1214 - 1, 1214 - 2, 1214 - 3, 1214 - 4 - 내로 유입되게 할 수 있다. 일부 예에서, 비금속 층(1232)은, 비금속 층(1232)이 충분하고 인터로킹 구조물에 의해 수용될 수 있는 한, 다른 재료 (예를 들어, 금속, 비금속 등)에 더하여 비금속 재료를 포함할 수 있다. 일부 예에서, 비금속 층(1232)은 양극산화된 금속 부품(1220)의 외부 표면(1222)에 부착하기에 충분한 임의의 크기의 점도 또는 표면 장력을 가질 수 있다. 비금속 재료가 인터로킹 구조물 내로 유입될 때, 중합체는 이들 인터로킹 구조물(1214 - 1, 1214 - 2, 1214 - 3, 1214 - 4)의 언더컷 영역(Wu) 내로 침투되고, 언더컷 영역(Wu)뿐만 아니라 금속 산화물 층(1224)의 기공 구조물 내에 충전될 수 있다. 이들 언더컷 영역(Wu) 및 기공 구조물 내로 유입된 후에, 비금속 재료는 돌출 부분 또는 부착 특징부(1236)로 경화되게 할 수 있다. 구체적으로는, 도 12d는, 제1 돌출 부분(1236 - 1)은 제1 인터로킹 구조물(1214 - 1)에 접합되고, 제2 돌출 부분(1236 - 2)은 제2 인터로킹 구조물(1214 - 2)에 접합되고, 제3 돌출 부분(1236 - 3)은 제3 인터로킹 구조물(1214 - 3)에 접합되고, 제4 돌출 부분(1236 - 4)은 제4 인터로킹 구조물(1214 - 4)에 접합됨을 예시한다. 더욱이, 비금속 층(1234)의 비금속 재료는 금속 산화물 층(1224)의 기공 구조물 (예시되지 않음) 내에 충전되고 그에 의해 보유될 수 있다. 그 후에, 비금속 재료는 액체 상태로부터 고체 상태로 전이될 수 있다. 고체 상태로 변한 후에, 비금속 층(1234)은 양극산화된 금속 부품(1220)에 물리적으로 부착 또는 접합하여 다층 부품(1230)을 형성한다. 도 12d에 예시된 바와 같이, 고체 상태의 비금속 층(1234)은 그것이 양극산화된 금속 부품(1220)의 외부 표면(1222)과 비교적 맞닿아 있을 수 있다. 결과로서 형성되는 다층 부품(1230)은 휴대용 디바이스 - 예를 들어, 102, 104, 106, 108 - 의 인클로저에 상응할 수 있는 외부 표면(1234)을 가질 수 있다. 다층 부품(1230)은 인클로저를 둘러싸는 주연부 밴드를 지칭할 수 있음에 유의해야 하는데, 여기서 비금속 층(1234)은 인클로저의 상이한 금속 섹션들 사이에 전기 절연을 부여할 수 있다.12D is a cross-sectional view of a multi-layer component 1230 (e.g., a composite component) having a non-metallic layer 1232 attached to an anodized metal component 1220, according to some embodiments. In some instances, the non-metallic layer 1232 may be characterized as a bulk layer with protruding features. For example, the nonmetal layer 1232 can refer to a polymeric material such as polyethylene terephthalate ("PET"), polyaryletherketone ("PAEK"), or polyetheretherketone 1214 - 1, 1214 - 2, 1214 - 3, 1214 - 4 - of the anodized metal part 1230 while in the molten or liquid state. In some instances, the non-metallic layer 1232 may include a non-metallic material in addition to other materials (e.g., metal, non-metallic, etc.), as long as the non- metallic layer 1232 is sufficient and can be received by the interlocking structure. have. In some instances, the non-metallic layer 1232 may have any size or surface tension sufficient to adhere to the outer surface 1222 of the anodized metal part 1220. When the non-metal material to be introduced into the interlocking structure, the polymers of these interlocking structure and penetrates into the undercut region (Wu) of (1214-1, 1214-2 and 1214-3, 1214 4), an undercut region (Wu) as But may be filled into the pore structure of the metal oxide layer 1224. After entering these undercut areas Wu and pore structure, the non-metallic material may be cured to protruding portions or attachment features 1236. [ Specifically, FIG. 12D shows that the first protruding portion 1236-1 is bonded to the first interlocking structure 1214-1 and the second protruding portion 1236-2 is bonded to the second interlocking structure 1214-1. 3, the fourth protruding portion 1236-4 is bonded to the fourth interlocking structure 1214-4, and the fourth protruding portion 1236-4 is bonded to the third interlocking structure 1214-3. As shown in Fig. Moreover, the non-metallic material of the non-metallic layer 1234 can be filled and retained in the pore structure (not shown) of the metal oxide layer 1224. [ Thereafter, the non-metallic material can transition from the liquid state to the solid state. After the solid state, the non-metallic layer 1234 is physically attached or bonded to the anodized metal part 1220 to form the multi-layer component 1230. As illustrated in FIG. 12D, the solid-state nonmetal layer 1234 may be relatively in contact with the outer surface 1222 of the anodized metal part 1220. The resulting multi-layer component 1230 may have an exterior surface 1234 that may correspond to an enclosure of a portable device-for example, 102, 104, 106, 108-. It should be noted that the multi-layer component 1230 may refer to a peripheral band surrounding the enclosure where the non-metallic layer 1234 may provide electrical insulation between different metal sections of the enclosure.

도 12e는 일부 실시예에 따른, 가교된 양극산화된 금속 부품(1240)의 단면도를 예시한다. 구체적으로는, 가교된 양극산화된 금속 부품(1240)은 가교된 인터로킹 구조물(1244)을 포함한 것을 제외하고는 양극산화된 금속 부품(1220)과 유사하다. 가교된 인터로킹 구조물(1244)은 서로 가교 또는 연결되는 다수의 인터로킹 구조물(1214)을 포함할 수 있다. 일부 예에서, 가교된 인터로킹 구조물(1244)은 이웃하는 인터로킹 구조물들이, 그들 각각의 언더컷 영역(Wu4, Wu5)이 연결될 정도로 서로 가깝게 형성될 때 형성된다.Figure 12E illustrates a cross-sectional view of a cross-linked anodized metal part 1240, in accordance with some embodiments. Specifically, the cross-linked anodized metal part 1240 is similar to the anodized metal part 1220 except that it includes a cross-linked interlocking structure 1244. The crosslinked interlocking structure 1244 may include a plurality of interlocking structures 1214 that are cross-linked or connected to each other. In some instances, the crosslinked interlocking structure 1244 is formed when neighboring interlocking structures are formed to be close to each other such that their respective undercut areas Wu4, Wu5 are connected.

도 13a 내지 도 13c는 일부 실시예에 따른, 인터로킹 구조물을 갖는 양극산화된 금속 부품의 다양한 단면도를 예시한다. 도 13a는 양극산화된 금속 부품(1220)에 상응할 수 있는 양극산화된 금속 부품(1300)을 예시한다. 도 13a는 양극산화된 금속 부품(1300)이 외부 표면(1302)으로부터 금속 기판(1304)을 향해 연장되는 인터로킹 구조물(1314)을 포함함을 예시한다. 인터로킹 구조물(1314)은 금속 기판(1304)의 일부분 내로 연장될 수 있으며, 이에 따라 금속 기판(1304)의 일부분을 노출시킬 수 있다. 그러나, 금속 산화물 층(1306)은 금속 기판(1304)을 오버레이한다. 금속 산화물 층(1304)은 인터로킹 구조물(1314)의 형상에 대체로 상응하는 형상을 나타낼 수 있다.Figures 13A-13C illustrate various cross-sectional views of anodized metal parts with interlocking structures, in accordance with some embodiments. 13A illustrates an anodized metal part 1300 that may correspond to an anodized metal part 1220. FIG. 13A illustrates that the anodized metal part 1300 includes an interlocking structure 1314 extending from the outer surface 1302 toward the metal substrate 1304. FIG. The interlocking structure 1314 may extend into a portion of the metal substrate 1304 and thereby expose a portion of the metal substrate 1304. [ However, the metal oxide layer 1306 overlays the metal substrate 1304. The metal oxide layer 1304 may exhibit a shape that generally corresponds to the shape of the interlocking structure 1314.

도 13b는 일부 실시예에 따른, 도 13a의 인터로킹 구조물(1314)의 확대 단면도를 예시한다. 인터로킹 구조물(1314)은 본 명세서에 더 상세히 기술된 바와 같이 비금속 층(1232)의 돌출 부분 - 예를 들어, 1236 - 을 포획 및 보유할 수 있는 언더컷 영역(Wu) 내로 이어지는 폭(W1)을 갖는 개구(Wo)를 포함한다. 언더컷 영역(Wu)은 (W1)보다 더 큰 폭(W2)을 갖는다. 언더컷 영역(Wu)은 오버행(1320)에 의해 한정되며, 오버행은 개구(Wo)를 언더컷 영역(Wu)과 분리하는 계단 형상을 갖는다. 일부 실시예에서, 개구(Wo) 및 언더컷 영역(Wu)은 다중-경사 측부 표면(1322)을 갖는 벽(1324)에 의해 한정된다. 일부 예에서, 벽(1324)은 금속 산화물 재료로 형성된다. 벽(1324)은 에칭된 금속 부품(1210)의 에칭된 벽의 형상을 나타낼 수 있음에 유의해야 한다.FIG. 13B illustrates an enlarged cross-sectional view of the interlocking structure 1314 of FIG. 13A, in accordance with some embodiments. The interlocking structure 1314 has a width W1 that extends into the undercut region Wu that can capture and retain the protruding portion of the nonmetal layer 1232, for example, 1236 - as described in greater detail herein And an opening Wo having an opening W0 . The undercut region Wu has a width W2 that is larger than ( W1 ). The undercut region Wu is defined by the overhang 1320 and the overhang has a stepped shape separating the opening Wo from the undercut region Wu . In some embodiments, the opening Wo and the undercut region Wu are defined by a wall 1324 having a multi-sloping side surface 1322. [ In some instances, wall 1324 is formed of a metal oxide material. It should be noted that the wall 1324 may represent the shape of the etched wall of the etched metal part 1210.

추가적으로, 도 13b는 인터로킹 구조물(1314)이 개구(Wo)의 폭(W1)보다 더 큰 깊이(D)를 가짐을 예시한다. 일부 예에서, 폭 : 깊이 비는 약 0.6 내지 약 0.9이다.In addition, Figure 13B illustrates that the interlocking structure 1314 has a depth D that is greater than the width W1 of the opening W0 . In some examples, the width: depth ratio is from about 0.6 to about 0.9.

도 13c는 일부 실시예에 따른, 양극산화된 금속 부품(1300)의 외부 표면(1302)의 확대 단면도를 예시한다. 구체적으로는, 도 13c는 금속 산화물 층(1306)이 외부 표면(1302)으로부터 금속 기판(1304)을 향해 연장되는 기공 구조물(1312)을 포함함을 예시한다. 기공 구조물(1312)은 양극산화된 금속 부품(1300)의 외부 표면(1302)의 중심 평면과 대체로 직각인 방향으로 세장된 대체로 원기둥인 형상이다. 더욱이, 기공 구조물(1312)은 벽(1316)에 의해 한정된다. 추가적으로, 기공 구조물(1312)은 비금속 재료로 충전될 수 있는 하부 표면(1318)을 포함한다. 기공 구조물(1312)은 인터로킹 구조물(1314)과 상이함에 유의해야 하는데, 이는, 적어도, 인터로킹 구조물(1314)은 전기화학 에칭 프로세스의 결과로서 형성된다는 점에서 그러하다.13C illustrates an enlarged cross-sectional view of an outer surface 1302 of an anodized metal part 1300, in accordance with some embodiments. Specifically, FIG. 13C illustrates that the metal oxide layer 1306 includes a pore structure 1312 extending from the outer surface 1302 toward the metal substrate 1304. The pore structure 1312 is a generally cylindrical shape that is elongated in a direction generally perpendicular to the center plane of the outer surface 1302 of the anodized metal part 1300. Moreover, the pore structure 1312 is defined by the wall 1316. Additionally, the pore structure 1312 includes a bottom surface 1318 that can be filled with a non-metallic material. It should be noted that the pore structure 1312 is different from the interlocking structure 1314 in that at least the interlocking structure 1314 is formed as a result of the electrochemical etching process.

도 14a 내지 도 14c는 일부 실시예에 따른, 인터로킹 구조물을 갖는 멀티-피스 부품의 다양한 단면도를 예시한다. 도 14a는 멀티-피스 부품(1230)에 상응할 수 있는 멀티-피스 부품(1400)을 예시한다. 도 14a는 도 13a 내지 도 13c의 양극산화된 금속 부품(1300)이, 양극산화된 금속 부품(1300)의 인터로킹 구조물(1314) 내로 연장되어 그에 의해 보유되는 고정 특징부(1430)를 포함하는 비금속 층(1408)에 접합됨을 예시한다. 도 14a에 예시된 바와 같이, 인터로킹 구조물(1314)을 한정하는 금속 기판(1304)의 재료 (예를 들어, 알루미늄)가 금속 산화물 층(1306)에 의해 오버레이된다.Figures 14A-14C illustrate various cross-sectional views of a multi-piece part having an interlocking structure, in accordance with some embodiments. 14A illustrates a multi-piece component 1400 that may correspond to a multi-piece component 1230. FIG. 14A shows anodized metal part 1300 of FIGS. 13A-13C that includes fixed features 1430 that extend into an interlocking structure 1314 of anodized metal part 1300 and are held thereby Metal layer 1408 is illustrated. The material (e.g., aluminum) of the metal substrate 1304 defining the interlocking structure 1314 is overlaid by the metal oxide layer 1306, as illustrated in FIG. 14A.

도 14b는 일부 실시예에 따른, 도 14a의 인터로킹 구조물(1314)의 확대 단면도를 예시한다. 인터로킹 구조물(1314)은 비금속 층(1408)의 고정 특징부(1430)를 포획 및 보유할 수 있는 언더컷 영역(Wu) 내로 이어지는 폭(W1)을 갖는 개구(Wo)를 포함한다. 개구(Wo)를 언더컷 영역(Wu)과 분리하는 계단 형상은 인터로킹 구조물(1314)과 비금속 층(1408) 사이에 증가된 보유력을 제공하는 데 유익하다. 개구(Wo) 및 언더컷 영역(Wu)은 다중-경사 측부 표면(1322)을 갖는 벽(1324)에 의해 한정된다.Figure 14B illustrates an enlarged cross-sectional view of the interlocking structure 1314 of Figure 14A, in accordance with some embodiments. The interlocking structure 1314 includes an opening Wo having a width W1 that extends into the undercut region Wu that can capture and retain the anchoring features 1430 of the nonmetal layer 1408. [ The stepped shape separating the opening Wo from the undercut region Wu is beneficial to provide increased retention between the interlocking structure 1314 and the nonmetal layer 1408. [ The opening Wo and the undercut region Wu are defined by a wall 1324 having a multi-sloping side surface 1322. [

도 14b는 다중-경사 측부 표면(1322)이 비금속 재료 - 예를 들어, 고정 특징부(1430) - 로 충전 또는 라이닝될 수 있음을 예시한다. 유익하게도, 비금속 재료는 다중-경사 측부 표면(1322)에 의해 형성된 포켓 내에 충전되기 때문에, 돌출 부분과 벽(1324) 사이에 에어 갭 또는 간격이 없을 수 있다. 추가적으로, 다중-경사 측부 표면(1322)은 수분이 금속 기판(1304)에 도달하는 것을 억제할 수 있는 누설 억제 경로를 한정할 수 있음에 유의한다. 구체적으로는, 다중-경사 측부 표면(1322)은 비금속 재료로 충전될 수 있는 다수의 포켓을 한정하기 때문에, 누설 억제 경로는, 비균일 폭을 갖고, 개구(Wo)에 의해 진입하는 수분이 언더컷 영역(Wu)을 우회하여 금속 기판(1304)에 도달하는 것을 억제할 수 있는 구불구불한 사행 경로를 갖는 것으로 특징지어진다.14B illustrates that the multi-sloping side surface 1322 can be filled or lined with a non-metallic material-for example, the stationary feature 1430-. Advantageously, since the non-metallic material is filled in the pockets formed by the multi-sloped side surface 1322, there may be no air gaps or gaps between the projecting portions and the walls 1324. Note that the multi-sloped side surface 1322 may further define a leakage-inhibiting path that can inhibit moisture from reaching the metal substrate 1304. Specifically, the multi-slope side surface 1322 is due to define a plurality of pockets that can be filled with a non-metallic material, the leakage suppression path is non having a uniform width, the water entering by an aperture (Wo), the undercut And has a serpentine meandering path that can bypass the region Wu and prevent it from reaching the metal substrate 1304.

도 14c는 일부 실시예에 따른, 멀티-피스 부품(1400)의 외부 표면(1402)의 확대 단면도를 예시한다. 구체적으로는, 도 14c는 금속 산화물 층(1306)의 기공 구조물(1312)이 비금속 재료로 충전될 수 있음을 예시한다. 예를 들어, 기공 구조물(1312)은 비금속 층(1408)의 고정 특징부(1430)로 충전될 수 있다. 유익하게도, 도 14a 내지 도 14c는 비금속 층(1408)이 인터로킹 구조물 - 예를 들어, 1314 - 및 기공 구조물 - 예를 들어, 1312 - 에 의해 양극산화된 금속 부품(1300)에 부착되고, 그럼으로써 양극산화된 금속 부품(1300)과 비금속 층(1408) 사이의 보유력 및 내인장성(resistance to pull)을 향상시킴을 예시한다. 일부 예에서, 기공 구조물(1312) 내에 충전되고/되거나 그 안에 보유되는 비금속 층(1408)의 비금속 재료는 나노미터 규모의 화학적 접합으로 지칭될 수 있는 반면, 인터로킹 구조물(1314) 내에 충전되고/되거나 그 안에 보유되는 고정 특징부(1430)는 마이크로미터 규모의 기계적 접합으로 지칭될 수 있다.14C illustrates an enlarged cross-sectional view of the outer surface 1402 of the multi-piece component 1400, in accordance with some embodiments. Specifically, Fig. 14C illustrates that the pore structure 1312 of the metal oxide layer 1306 can be filled with a non-metallic material. For example, pore structure 1312 may be filled with fixed features 1430 of non-metallic layer 1408. Advantageously, Figures 14a-14c illustrate how a non-metallic layer 1408 is attached to an anodized metal part 1300 by an interlocking structure-such as 1314- and a pore structure-e.g., 1312- Thereby enhancing retention and resistance to pull between the anodized metal part 1300 and the nonmetal layer 1408. [ In some instances, the non-metallic material of the non-metallic layer 1408 that is filled in and / or retained within the pore structure 1312 may be referred to as a nanometric scale chemical bond, while the non- Or retained therein may be referred to as micrometer-scale mechanical bonding.

도 15a 및 도 15b는 일부 실시예에 따른, 다수의 인터로킹 구조물이 부품(1500)의 외부 표면을 통해 형성된 부품(1500)의 상이한 사시도를 예시한다. 도 15a는 부품(1500)의 외부 표면(1502)의 상이한 영역들 내로 에칭되는 인터로킹 구조물(1514 - 1, 1514 - 2, 1514 - 3)을 갖는 부품(1500)의 평면도를 예시한다. 도 15a는 인터로킹 구조물(1514 - 1, 1514 - 2, 1514 - 3)이 서로 이산적으로 형성됨을 예시하지만, 인터로킹 구조물(1514)은 또한 서로 교차할 수 있음에 유의해야 한다. 일부 예에서, 인터로킹 구조물(1514 - 1, 1514 - 2, 1514 - 3) 각각의 개구는 벽들이 서로 중첩되거나 불안정화되지 않도록 하는 (예를 들어, 언더컷 영역의 형상 또는 크기에 영향을 주지 않도록 하는) 최소 분리 거리에 의해 분리된다.15A and 15B illustrate different perspective views of a component 1500 formed by the plurality of interlocking structures through the outer surface of the component 1500, in accordance with some embodiments. 15A illustrates a top view of component 1500 having interlocking structures 1514-1, 1514-2, 1514-3 that are etched into different regions of the outer surface 1502 of component 1500. FIG. 15A illustrates that interlocking structures 1514-1, 1514-2, and 1514-3 are discrete from one another, but it should be noted that interlocking structures 1514 may also intersect with each other. In some instances, the openings in each of the interlocking structures 1514-1, 1514-2, 1514-3 may be configured so that the walls do not overlap or become unstable (e.g., do not affect the shape or size of the undercut region) ) Separated by a minimum separation distance.

일부 예에 따르면, 인터로킹 구조물(1514)은 외부 표면(1502)의 총 표면적의 약 25% 내지 약 70%를 커버할 수 있다. 외부 표면(1502)의 오버-에칭 (X > 70%)은 인터로킹 구조물(1514) 각각을 분리하는 벽들의 불안정화를 야기할 수 있음에 유의해야 한다. 추가적으로, 외부 표면(1502)의 언더-에칭 (X < 25%)은 비금속 층 - 예를 들어, 비금속 층(1232) - 에 대한 충분한 부착점을 허용하지 않을 수 있다.According to some examples, interlocking structure 1514 may cover from about 25% to about 70% of the total surface area of outer surface 1502. It should be noted that over-etching (X > 70%) of the outer surface 1502 can cause destabilization of the walls separating each of the interlocking structures 1514. Additionally, under-etching (X < 25%) of the outer surface 1502 may not allow sufficient attachment points for the non-metallic layer-for example, the nonmetal layer 1232-.

도 15b는 도 15a에서의 기준선(1510)으로 표시된 바와 같은 부품(1500)의 사시 단면도를 예시한다. 도 15b에 예시된 바와 같이, 부품(1500)은 다수의 인터로킹 구조물(1514 - 1, 1514 - 2, 1514 - 3)을 갖는다. 인터로킹 구조물(1514) 각각은 언더컷 영역(Wu) 내로 연장되는 개구(Wo)를 포함한다. 일부 예에서, 개구(Wo)의 폭 대 언더컷 영역(Wu)의 폭의 비는 약 1:1.1 내지 1:1.3이며, 일부 예에서, 개구(Wo)의 폭 대 언더컷 영역(Wu)의 폭의 비는 1:2이다. 실제로, 일부 예에서, 언더컷 영역(Wu)의 폭에 대한 개구(Wo)의 폭의 차이의 증가는 부품(1500)과 비금속 층 - 예를 들어, 비금속 층(1232) - 사이의 인장 강도를 증가시킬 수 있다.15B illustrates a perspective cross-sectional view of component 1500 as indicated by reference line 1510 in FIG. 15A. As illustrated in Figure 15B, the component 1500 has a plurality of interlocking structures 1514-1, 1514-2, 1514-3. Each of the interlocking structures 1514 includes an opening Wo that extends into the undercut region Wu . In some examples, the ratio of the width of the opening Wo to the width of the undercut region Wu is about 1: 1.1 to 1: 1.3, and in some examples, the width of the opening Wo versus the width of the undercut region Wu The ratio is 1: 2. Indeed, in some examples, an increase in the difference in width of the opening Wo relative to the width of the undercut region Wu increases the tensile strength between the component 1500 and the non-metallic layer-for example, the non-metallic layer 1232- .

추가적으로, 도 15b는 인터로킹 구조물(1514 - 1, 1514 - 2, 1514 - 3)이 금속 산화물 층(1506)에 의해 오버레이됨을 예시한다. 인터로킹 구조물(1514 - 1, 1514 - 2, 1514 - 3)은 직경이 약 20 마이크로미터 내지 약 70 마이크로미터이다. 인터로킹 구조물(1514)은 두께가 적어도 5 마이크로미터이다. 하지만, 인터로킹 구조물(1514)이, 30% 유리 충전제를 갖는 폴리부틸렌 테레프탈레이트 (PBT)와 같은 재료로부터의, 비금속 층(1232)으로부터의 유리 섬유를 수용하기 위하여, 인터로킹 구조물(1514)은 두께가 적어도 50 마이크로미터일 수 있다.Additionally, FIG. 15B illustrates that the interlocking structures 1514-1, 1514-2, and 1514-3 are overlaid by the metal oxide layer 1506. FIG. The interlocking structures 1514 - 1, 1514 - 2, 1514 - 3 are about 20 micrometers to about 70 micrometers in diameter. The interlocking structure 1514 is at least 5 microns in thickness. However, the interlocking structure 1514 may be formed from an interlocking structure 1514 to accommodate glass fibers from a nonmetal layer 1232, such as polybutylene terephthalate (PBT) with 30% glass filler, May be at least 50 micrometers in thickness.

도 16은 일부 실시예에 따른, 중합체 층을 금속 부품에 접합하기 위한 방법(1600)을 예시한다. 도 16에 예시된 바와 같이, 방법(1600)은 선택적으로 단계(1602)에서 시작할 수 있으며, 이 단계에서는 부품 - 예를 들어, 금속 기판(1204) - 이 선택적으로 마무리 프로세스로 처리된다. 일부 예에서, 마무리 프로세스는 금속 기판(1204)의 외부 표면을 버핑(buffing), 폴리싱, 형상화, 또는 텍스처화하는 것 중 적어도 하나를 포함할 수 있다. 일부 예에서, 마무리 프로세스는 금속 기판(1204)의 외부 표면의 화학 세정 (예를 들어, 탈지(de-greasing), 산 에칭 등) 또는 헹굼을 포함할 수 있다.Figure 16 illustrates a method 1600 for bonding a polymer layer to a metal part, in accordance with some embodiments. As illustrated in FIG. 16, the method 1600 may optionally begin at step 1602, where the part - for example, the metal substrate 1204 - is optionally treated with a finishing process. In some examples, the finishing process may include at least one of buffing, polishing, shaping, or texturing the outer surface of the metal substrate 1204. In some instances, the finishing process may include chemical cleaning (e.g., de-greasing, acid etching, etc.) or rinsing of the outer surface of the metal substrate 1204.

단계(1604)에서는, 금속 기판(1204)이 전기화학 에칭 프로세스를 거치게 함으로써 금속 부품(1200)의 외부 표면(1202)의 하나의 영역 또는 상이한 영역들에 로킹 구조물 - 예를 들어, 인터로킹 구조물(1214) - 이 형성될 수 있다. 구체적으로는, 전기화학 에칭 프로세스는 에칭 용액에 금속 부품(1200)을 노출시키는 것을 포함한다. 일부 예에서, 에칭 용액은 약 2 내지 15 g/L 농도의 질산나트륨의 알칼리성 용액을 포함할 수 있다. 그러나, 다른 예에서, 에칭 용액은 약 150 내지 250 g/L 농도의 염화제2철 (FeCl₃)을 포함할 수 있다. 금속 부품(1200)은 약 1 내지 15분의 기간 동안 1 내지 10 A/dm²의 애노드 전류 밀도로 pH 9 내지 11에 노출될 수 있다. 일부 예에서, 외부 표면(1202)의 미리 결정된 영역이 전기화학 에칭 프로세스 동안 왁스, 테이프, 또는 다른 차폐 기법의 조합을 사용하여 마스킹 오프될 수 있다.In step 1604, the metal substrate 1204 undergoes an electrochemical etching process to provide a locking structure-for example, an interlocking structure (e. G., An interlocking structure 1214) - can be formed. Specifically, the electrochemical etching process includes exposing the metal part 1200 to an etching solution. In some instances, the etching solution may comprise an alkaline solution of sodium nitrate at a concentration of about 2 to 15 g / L. However, in another example, the etching solution may include a ferric chloride (FeCl ₃₎ of about 150 to 250 g / L concentration. The metal part 1200 may be exposed to pH 9-11 at an anode current density of 1 to 10 A / dm < ² > for a period of about 1 to 15 minutes. In some instances, a predetermined region of the outer surface 1202 may be masked off using a combination of wax, tape, or other shielding techniques during the electrochemical etching process.

일부 예에서, 금속 부품(1200)은 질산염 용액을 사용하여 에칭될 수 있다. 예를 들어, 금속 부품(1200)은 35℃ 내지 45℃의 온도에서, 약 9 내지 12의 pH 수준, 0.5 내지 2 g/L의 질산나트륨 용액, 및 900초의 노출 시간 동안 전기화학 에칭 프로세스를 거치게 될 수 있다. 다른 예에서는, 금속 부품(1200)에 약 1 내지 10 A/dm²의 전류 밀도를 인가하였다.In some instances, the metal part 1200 may be etched using a nitrate solution. For example, the metal part 1200 may be subjected to an electrochemical etching process at a temperature of 35 DEG C to 45 DEG C, at a pH level of about 9 to 12, a sodium nitrate solution of 0.5 to 2 g / L, and an exposure time of 900 seconds . In another example, a current density of about 1 to 10 A / dm < ² > was applied to the metal part 1200.

후속으로, 단계(1606)에서는, 양극산화 프로세스의 결과로서 금속 기판(1204)으로부터 금속 산화물 층(1224)이 형성되어, 양극산화된 금속 부품(1220)을 형성하게 된다. 금속 산화물 층(1224)은 금속 기판(1204) 및 인터로킹 구조물(1214)을 오버레이한다. 일부 예에서, 양극산화 프로세스는 금속 기판(1204)을 인산 용액, 염화제2철, 또는 질산나트륨에 노출시키는 것을 포함한다.Subsequently, at step 1606, a metal oxide layer 1224 is formed from the metal substrate 1204 as a result of the anodizing process to form the anodized metal part 1220. [ The metal oxide layer 1224 overlays the metal substrate 1204 and the interlocking structure 1214. In some examples, the anodizing process includes exposing the metal substrate 1204 to a phosphoric acid solution, ferric chloride, or sodium nitrate.

단계(1608)에서는, 양극산화 프로세스 이후에 그리고/또는 동안에, 방법(1600)은 선택적으로 금속 기판(1204)이 에칭 프로세스를 거치게 하는 것을 포함한다. 예를 들어, 금속 기판(1204)은 질산나트륨에 노출되며, 이는 금속 산화물 재료를 에칭하고, 인터로킹 구조물(1314)을 한정하는 금속 산화물 층(1224)의 벽(1324) 내에 다중-경사 측부 표면(1322)을 형성할 수 있다. 유익하게도, 다중-경사 측부 표면(1322)은 수분이 금속 기판(1304)에 도달하는 것을 방지하는 사행 경로를 한정할 수 있다. 더욱이, 다중-경사 측부 표면(1322)은 양극산화된 금속 부품(1300)에 대한 비금속 층(1408)의 접착력을 증가시킬 수 있다.In step 1608, after and / or during the anodizing process, the method 1600 optionally includes causing the metal substrate 1204 to undergo an etching process. For example, the metal substrate 1204 is exposed to sodium nitrate, which etches the metal oxide material and forms a multi-oblique side surface (not shown) within the wall 1324 of the metal oxide layer 1224 defining the interlocking structure 1314 (1322) can be formed. Advantageously, the multi-sloping side surface 1322 can define a meandering path that prevents moisture from reaching the metal substrate 1304. In addition, the multi-sloping side surface 1322 can increase the adhesion of the non-metallic layer 1408 to the anodized metal part 1300. [

단계(1610)에서는, 중합체 층 - 예를 들어, 비금속 층(1232) - 이 금속 산화물 층(1224)에 부착된다. 구체적으로는, 비금속 층(1232)은, 액체 상태에 있는 동안에, 양극산화된 금속 부품(1220)의 인터로킹 구조물(1214) 내로 유입되게 할 수 있는 비금속 재료를 지칭할 수 있다. 비금속 재료가 이들 인터로킹 구조물(1214) 내로 유입될 때, 비금속 재료는 이들 인터로킹 구조물(1214)의 언더컷 영역(Wu) 내로 침투되고, 언더컷 영역(Wu)뿐만 아니라 금속 산화물 층(1224)의 기공 구조물 내에 충전될 수 있다. 이들 언더컷 영역(Wu) 및 기공 구조물 내로 유입된 후에, 비금속 재료는 돌출 부분 또는 부착 특징부(1236)로 경화되게 할 수 있다.In step 1610, a polymer layer-for example, a non-metallic layer 1232- is attached to the metal oxide layer 1224. Specifically, the non-metallic layer 1232 can refer to a non-metallic material that can be introduced into the interlocking structure 1214 of the anodized metal part 1220 while in the liquid state. The nonmetallic material is permeated into the undercut regions Wu of these interlocking structures 1214 and the pores of the metal oxide layer 1224 as well as the undercut regions Wu It can be charged into the structure. After entering these undercut areas Wu and pore structure, the non-metallic material may be cured to protruding portions or attachment features 1236. [

도 17은 일부 실시예에 따른, 비금속 층을 금속 부품에 접합하기 위한 방법(1700)을 예시한다. 도 17에 예시된 바와 같이, 방법(1700)은 단계(1702)에서 시작되며, 이 단계에서는 부품 - 예를 들어, 금속 기판(1204) - 의 외부 표면이 3-D 이미지 스캐닝 시스템, 전자 현미경, 또는 다른 적합한 시스템을 사용하여 스캐닝된다.Figure 17 illustrates a method 1700 for bonding a non-metallic layer to a metal part, in accordance with some embodiments. 17, the method 1700 begins at step 1702 where the outer surface of the part-for example, the metal substrate 1204-is scanned by a 3-D image scanning system, an electron microscope, Or other suitable system.

단계(1704)에서는, 외부 표면(1202)을 스캐닝하여, 비금속 층(1232)이 금속 기판(1204)의 그러한 특정 영역들에 부착되기를 원하는 영역들을 확인할 수 있으며, 이는, 예를 들어 그러한 영역들이 다층 인클로저 또는 복합 부품을 갖는 외부 표면의 부분들에 상응하는 경우이다.In step 1704, the outer surface 1202 may be scanned to identify regions that the non-metallic layer 1232 desires to attach to such specific areas of the metal substrate 1204, such as, for example, Which corresponds to portions of the outer surface having an enclosure or composite part.

단계(1706)에서는, 외부 표면(1202)의 영역이, 예를 들어 포토리소그래피 프로세스를 사용함으로써, 마스킹될 수 있다. 이들 하나 이상의 영역을 마스킹함으로써, 이들은 커버되고, 이들 하나 이상의 영역의 화학적 또는 야금학적 특성에 관계 없이 에칭 프로세스를 거치게 되는 것으로부터 대체로 방지된다.In step 1706, the area of the outer surface 1202 may be masked, for example, by using a photolithographic process. By masking these one or more regions, they are covered and are largely prevented from undergoing the etching process regardless of the chemical or metallurgical properties of the one or more regions.

단계(1708)에서는, 로킹 구조물 - 예를 들어, 인터로킹 구조물(1214) - 이 외부 표면(1202)의 하나 이상의 선택된 영역에 형성될 수 있는데, 이는, 마스킹된 영역들이 에칭되는 것을 방지하면서 외부 표면(1202)의 마스킹되지 않은 영역들이 전기화학 에칭 프로세스를 거치게 함으로써 행해진다. 마스킹에 더하여, 테이프, 왁스, 또는 전해질로부터 중합체를 사용한 차폐를 사용하여, 에칭을 필요로 하지 않는 외부 표면(1202)의 다른 영역이 보호될 수 있다. 전기화학 에칭 프로세스 이후에, 외부 표면(1202) 상에 존재하는 어떠한 잔존하는 에칭 용액도 탈이온수를 사용함으로써 세정하여 인터로킹 구조물(1214)이 추가로 성장하는 것을 방지할 수 있다. 단계(1708)와 함께, 외부 표면(1202) 내에 형성되는 인터로킹 구조물(1214)의 집중도 및/또는 수가 모니터링 및 제어될 수 있다. 추가적으로, 인터로킹 구조물(1214)의 직경 및 두께가 모니터링 및 제어될 수 있다.At step 1708, a locking structure-for example, an interlocking structure 1214-may be formed in one or more selected areas of the outer surface 1202, which may prevent the masked areas from being etched, The unmasked regions of the substrate 1202 undergo an electrochemical etching process. In addition to masking, shielding using a polymer from a tape, wax, or electrolyte can be used to protect other areas of the outer surface 1202 that do not require etching. After the electrochemical etch process, any remaining etch solution present on the outer surface 1202 may be cleaned using deionized water to prevent further growth of the interlocking structure 1214. Along with step 1708, the concentration and / or number of interlocking structures 1214 formed in outer surface 1202 can be monitored and controlled. Additionally, the diameter and thickness of the interlocking structure 1214 can be monitored and controlled.

단계(1710)에서는, 양극산화 프로세스의 결과로서 금속 기판(1204)으로부터 금속 산화물 층(1224)이 형성되어, 양극산화된 금속 부품(1220)을 형성하게 된다. 금속 산화물 층(1224)은 금속 기판(1204) 및 인터로킹 구조물(1214)을 오버레이한다. 일부 예에서, 양극산화 프로세스는 금속 기판(1204)을 인산 용액에 노출시키는 것을 포함한다. 일부 예에서, 양극산화 프로세스는 금속 기판(1204)이 에칭 프로세스를 거치게 하는 것을 포함한다.In step 1710, a metal oxide layer 1224 is formed from the metal substrate 1204 as a result of the anodizing process to form the anodized metal part 1220. [ The metal oxide layer 1224 overlays the metal substrate 1204 and the interlocking structure 1214. In some examples, the anodizing process includes exposing the metal substrate 1204 to a phosphoric acid solution. In some examples, the anodizing process includes causing the metal substrate 1204 to undergo an etching process.

단계(1712)에서는, 방법(1700)이 선택적으로, 비금속 층(1232)을 양극산화된 금속 부품(1220)에 부착하여 복합 부품(1230)을 형성하는 것을 포함한다. 구체적으로는, 비금속 층(1232)은 양극산화된 금속 부품(1220)에 접합 또는 부착될 수 있다. 일부 예에서, 마무리 또는 세정 프로세스가 복합 부품(1230)에 대해 수행될 수 있다.In step 1712, the method 1700 optionally includes attaching the non-metallic layer 1232 to the anodized metal part 1220 to form the composite part 1230. Specifically, the nonmetal layer 1232 can be bonded or attached to the anodized metal part 1220. In some instances, a finishing or cleaning process may be performed on the composite component 1230.

도 18은 금속 부품의 프로세싱의 유형의 함수로서의 인장 강도의 관계를 나타낸 그래프를 예시한다. 예시적인 시험에서, 비금속 층에 부착된 상이한 금속 부품들을 인장 강도에 대해 개별적으로 시험하였다. 시험된 상이한 금속 부품들은 (i) 알루미늄 부품, (ii) 양극산화된 알루미늄 부품, 및 (iii) 에칭된 양극산화된 알루미늄 부품을 포함한다. 알루미늄 부품은, 에칭하지 않아서 인터로킹 구조물을 형성하지도 않았고 양극산화하지도 않았다. 예시적인 시험에서, 알루미늄 부품은 약 0 ㎏/F의 인장력을 나타내었다. 양극산화된 알루미늄 부품은, 인산 용액을 사용하여 양극산화하였다. 양극산화된 알루미늄 부품은 약 78 내지 135 ㎏/F의 인장력을 나타내었다. 에칭된 양극산화된 알루미늄 부품은, 질산염 용액을 사용하여 에칭하여 인터로킹 구조물을 형성하고, 후속으로 인산 용액을 사용하여 양극산화하였다. 에칭된 양극산화된 알루미늄 부품은 약 130 내지 210 ㎏/F의 인장력을 나타내었다. 일부 예에서, 에칭된 양극산화된 알루미늄 부품은 더 특히 157 +/- 21 ㎏/F의 인장력을 나타내었다. 양극산화된 알루미늄 부품을 질산염 용액을 사용하여 에칭하여 인터로킹 구조물을 형성하는 프로세스는 에칭된 양극산화된 알루미늄 부품과 비금속 층 사이의 인장 강도를 증가시키는 데 유익함에 유의해야 한다.Figure 18 illustrates a graph illustrating the relationship of tensile strength as a function of the type of processing of the metal part. In an exemplary test, different metal parts attached to a non-metallic layer were individually tested for tensile strength. The different metal parts tested include (i) an aluminum part, (ii) an anodized aluminum part, and (iii) an anodized aluminum part that is etched. The aluminum parts were not etched and thus did not form an interlocking structure and did not anodize. In an exemplary test, the aluminum part exhibited a tensile force of about 0 kg / F. Anodized aluminum parts were anodized using a phosphoric acid solution. The anodized aluminum parts exhibited a tensile force of about 78 to 135 kg / F. The etched anodized aluminum parts were etched using a nitrate solution to form an interlocking structure and subsequently anodized using a phosphoric acid solution. The etched anodized aluminum parts exhibited a tensile force of about 130-210 kg / F. In some instances, the etched anodized aluminum parts exhibited more particularly a tensile force of 157 +/- 21 kg / F. It should be noted that the process of etching the anodized aluminum component using a nitrate solution to form the interlocking structure is beneficial in increasing the tensile strength between the anodized aluminum component and the non-metal layer being etched.

도 19는 금속 부품의 프로세싱의 유형의 함수로서의 공기 누설의 관계를 나타낸 그래프를 예시한다. 예시적인 시험에서, 비금속 층에 부착된 상이한 금속 부품들을 공기 누설에 대해 개별적으로 시험하였다. 시험된 상이한 금속 부품들은 (i) 편평한 표면을 갖는 금속 부품, (ii) 양극산화된 알루미늄 부품, 및 (iii) 에칭된 양극산화된 알루미늄 부품을 포함한다. 편평한 표면을 갖는 금속 부품은, 에칭하지도 양극산화하지도 않았다. 예시적인 시험에서, 편평한 표면을 갖는 모든 금속 부품은 공기 누설 저항성과 관련된 역치를 훨씬 밑도는 공기 누설을 나타내었다. 양극산화된 알루미늄 부품은, 인산 용액을 사용하여 양극산화하였다. 모든 에칭된 양극산화된 알루미늄 부품은 공기 누설 저항성에 대한 역치를 만족시키는 공기 누설 등급을 나타내었다. 따라서, 예시적인 시험은, 금속 부품을 질산염 용액을 사용하여 에칭하여 인터로킹 구조물을 형성함으로써, 에칭된 양극산화된 알루미늄 부품과 비금속 층 사이의 공기 누설을 또한 감소시킨다는 것을 입증한다. 이는, 양극산화된 알루미늄 부품에 비하여, 에칭된 양극산화된 알루미늄 부품이, 에칭된 양극산화된 알루미늄 부품과 비금속 층 사이의 공기 누설 접합부의 수 및/또는 크기를 최소화한다는 것을 입증할 수 있다.Figure 19 illustrates a graph illustrating the relationship of air leakage as a function of the type of processing of metal parts. In an exemplary test, different metal parts attached to a non-metallic layer were individually tested for air leakage. The different metal parts tested include (i) a metal part with a flat surface, (ii) an anodized aluminum part, and (iii) an anodized aluminum part that is etched. The metal parts having a flat surface were neither etched nor anodized. In an exemplary test, all metal parts with a flat surface exhibited air leakage that was well below the threshold associated with air leakage resistance. Anodized aluminum parts were anodized using a phosphoric acid solution. All of the etched anodized aluminum parts exhibited an air leakage rating that met the threshold for air leakage resistance. Thus, an exemplary test demonstrates that metal parts are also etched using a nitrate solution to form an interlocking structure, thereby also reducing air leakage between the etched anodized aluminum component and the nonmetal layer. This can prove that, compared to the anodized aluminum component, the anodized aluminum component that is etched minimizes the number and / or size of air leakage junctions between the etched anodized aluminum component and the nonmetal layer.

도 20은 금속 부품의 프로세싱의 유형의 함수로서의 공기 누설의 관계를 나타낸 그래프를 예시한다. 예시적인 시험에서, 비금속 층에 부착된 상이한 금속 부품들을 공기 누설에 대해 개별적으로 시험하였다. 상이한 금속 부품들은 (i) 양극산화된 알루미늄 부품, 및 (ii) 에칭된 양극산화된 알루미늄 부품을 포함하며, 이들은 둘 모두 인산으로 양극처리되었다. 양극산화된 알루미늄 부품의 90%가 공기 누설과 관련된 역치보다 낮은 공기 누설량을 나타내었다. 대조적으로, 에칭된 양극산화된 알루미늄 부품의 97%가 공기 누설과 관련된 역치를 만족시키거나 초과하는 공기 누설량을 나타내었다. 일부 예에서, 양극산화된 알루미늄 부품의 공기 누설은 0.6 bar에서 X < 0.2 sccm인 것으로 측정되었다.Figure 20 illustrates a graph illustrating the relationship of air leakage as a function of the type of processing of metal parts. In an exemplary test, different metal parts attached to a non-metallic layer were individually tested for air leakage. The different metal parts include (i) anodized aluminum parts, and (ii) etched anodized aluminum parts, both of which are anodized with phosphoric acid. 90% of the anodized aluminum parts showed lower air leakage than the threshold associated with air leakage. In contrast, 97% of the etched anodized aluminum parts exhibited air leaks that met or exceeded thresholds associated with air leakage. In some instances, the air leakage of the anodized aluminum component was measured to be X < 0.2 sccm at 0.6 bar.

도 21a 내지 도 21c는 일부 실시예에 따른, 양극산화된 금속 부품의 예시적인 전자 현미경 이미지를 예시한다. 도 21a는 양극산화된 금속 부품(2102)의 단면도를 예시한다. 도 21a에 도시된 바와 같이, 양극산화된 금속 부품(2102)은 유리-보강된 플라스틱을 포함하는 중합체 층(2110)에 부착된다. 위치(A)에서, 중합체 층(2110)은 편평한 표면(2104)에서 양극산화된 금속 부품(2102)에 부착된다. 위치(B)에서, 중합체 층(22110)은 인터로킹 구조물(2106)을 통해 양극산화된 금속 부품(2102)에 부착된다.Figures 21A-21C illustrate exemplary electron micrographs of anodized metal parts, in accordance with some embodiments. FIG. 21A illustrates a cross-sectional view of an anodized metal part 2102. FIG. As shown in Fig. 21A, the anodized metal part 2102 is attached to a polymer layer 2110 comprising glass-reinforced plastic. In position (A), a polymer layer 2110 is attached to the anodized metal part 2102 on a flat surface 2104. At position (B), a polymer layer 22110 is attached to the anodized metal part 2102 through the interlocking structure 2106.

도 21b는 위치(B)의 확대 단면도를 예시한다. 구체적으로는, 중합체 층(2110)의 유리 섬유(2114) 및 중합체 재료(2112)는 인터로킹 구조물(2106) 내에 충전된다. 일부 예에서, 인터로킹 구조물(2106)은 유리 섬유(2114)를 수용하기 위하여 두께가 적어도 5 마이크로미터이다. 인터로킹 구조물(210)의 오버행(2108)은 달리 중합체 층(2110)을 인터로킹 구조물(2106)로부터 탈착하는 데 필요할 인장 강도의 크기를 증가시킨다.Figure 21B illustrates an enlarged cross-sectional view of position (B). Specifically, the glass fibers 2114 of the polymer layer 2110 and the polymer material 2112 are filled in the interlocking structure 2106. In some instances, the interlocking structure 2106 is at least 5 micrometers in thickness to accommodate the glass fibers 2114. The overhang 2108 of the interlocking structure 210 increases the magnitude of the tensile strength otherwise needed to detach the polymer layer 2110 from the interlocking structure 2106. [

도 21c는 위치(A)의 확대 단면도를 예시한다. 구체적으로는, 양극산화된 금속 부품(2102)의 금속 산화물 층의 기공 구조물은 유리 섬유(2114)를 수용하는 데 충분히 크지 않을 수 있다. 그러나, 기공 구조물은 비금속 재료 (예를 들어, 중합체 재료(2112))를 수용하고 그로 충전될 수 있다.Figure 21C illustrates an enlarged cross-sectional view of position (A). Specifically, the pore structure of the metal oxide layer of the anodized metal part 2102 may not be large enough to accommodate the glass fiber 2114. However, the pore structure may receive and be filled with a non-metallic material (e. G., Polymeric material 2112).

기술된 실시예들의 다양한 태양들, 실시예들, 구현들 또는 특징들은 개별적으로 또는 임의의 조합으로 사용될 수 있다. 기술된 실시예들의 다양한 태양들은 소프트웨어, 하드웨어, 또는 하드웨어와 소프트웨어의 조합에 의해 구현될 수 있다. 기술된 실시예들은 또한 제조 동작들을 제어하는 컴퓨터 판독가능 매체 상의 컴퓨터 판독가능 코드로서 또는 제조 라인을 제어하는 컴퓨터 판독가능 매체 상의 컴퓨터 판독가능 코드로서 구현될 수 있다. 컴퓨터 판독가능 매체는, 나중에 컴퓨터 시스템에 의해 판독될 수 있는 데이터를 저장할 수 있는 임의의 데이터 저장 디바이스이다. 컴퓨터 판독가능 매체의 예들은 판독 전용 메모리, 랜덤 액세스 메모리, CD-ROM들, HDD들, DVD들, 자기 테이프, 및 광학 데이터 저장 디바이스들을 포함한다. 컴퓨터 판독가능 매체는 또한 컴퓨터 판독가능 코드가 분산 방식으로 저장 및 실행되도록 네트워크로 결합된 컴퓨터 시스템들에 걸쳐 분산될 수 있다.The various aspects, embodiments, implementations or features of the described embodiments may be used individually or in any combination. Various aspects of the described embodiments may be implemented by software, hardware, or a combination of hardware and software. The described embodiments may also be embodied as computer readable code on a computer readable medium for controlling manufacturing operations or as computer readable code on a computer readable medium for controlling a manufacturing line. The computer readable medium is any data storage device that is capable of storing data that can later be read by a computer system. Examples of computer-readable media include read-only memory, random access memory, CD-ROMs, HDDs, DVDs, magnetic tape, and optical data storage devices. The computer readable medium may also be distributed across computer systems coupled to the network such that the computer readable code is stored and executed in a distributed manner.

전술한 설명은, 설명의 목적을 위해, 설명된 실시예들의 충분한 이해를 제공하기 위해 특정 명명법을 사용하였다. 그러나, 특정 상세사항들은 설명된 실시예들을 실시하는 데 필수적인 것은 아니라는 것이 통상의 기술자에게 명백할 것이다. 따라서, 특정 실시예들에 대한 전술한 설명은 예시 및 설명의 목적을 위해 제시되어 있다. 이들은 총망라하고자 하거나 기술된 실시예들을 개시된 정확한 형태들로 제한하려고 하는 것은 아니다. 많은 수정들 및 변형들이 상기 교시 내용들에 비추어 가능하다는 것이 통상의 기술자에게 명백할 것이다.The foregoing description, for purposes of explanation, used specific nomenclature to provide a thorough understanding of the described embodiments. However, it will be apparent to those of ordinary skill in the art that certain details are not required to practice the described embodiments. Accordingly, the foregoing description of specific embodiments is provided for purposes of illustration and description. They are not intended to be exhaustive or to limit the described embodiments to the precise forms disclosed. It will be apparent to those of ordinary skill in the art that many modifications and variations are possible in light of the above teachings.

Claims

휴대용 전자 디바이스를 위한 멀티-피스 인클로저(multi-piece enclosure)로서,
금속 기판 및 상기 금속 기판을 오버레이(overlay)하는 금속 산화물 층을 포함하는 금속 부품 - 상기 금속 산화물 층은 언더컷(undercut) 영역 내로 이어지는 개구를 포함하는 외부 표면을 가지며, 상기 개구는 제1 폭을 갖는 것으로 특징지어지고, 상기 언더컷 영역은 상기 제1 폭보다 더 큰 제2 폭을 갖는 것으로 특징지어짐 -; 및
상기 금속 부품과 인터로킹(interlocking)되도록 상기 언더컷 영역 내로 연장되는 돌출 부분을 포함하는 비금속 벌크 층을 포함하는, 멀티-피스 인클로저.A multi-piece enclosure for a portable electronic device,
A metal component comprising a metal substrate and a metal oxide layer overlying the metal substrate, the metal oxide layer having an outer surface comprising an opening leading into an undercut region, the opening having a first width Characterized in that the undercut region has a second width greater than the first width; And
And a non-metallic bulk layer comprising a protruding portion extending into the undercut region to interlock with the metal part.

제1항에 있어서, 상기 언더컷 영역은 상기 제2 폭보다 더 작은 깊이를 갖는 것으로 특징지어지는, 멀티-피스 인클로저.The multi-piece enclosure of claim 1, wherein the undercut region has a depth less than the second width.

제1항에 있어서, 상기 언더컷 영역은 텍스처화된 표면을 갖는 에칭된 벽에 의해 한정되고, 상기 비금속 벌크 층은 상기 언더컷 영역을 실질적으로 충전하는, 멀티-피스 인클로저.2. The multi-piece enclosure of claim 1, wherein the undercut region is defined by an etched wall having a textured surface, the non-metallic bulk layer substantially filling the undercut region.

제1항에 있어서, 상기 개구는 상기 외부 표면을 따라 균일하게 분포되는, 멀티-피스 인클로저.The multi-piece enclosure of claim 1, wherein the opening is evenly distributed along the outer surface.

제1항에 있어서, 상기 금속 산화물 층은 상기 언더컷 영역을 한정하는 상기 금속 기판의 영역을 실질적으로 오버레이하고, 상기 금속 산화물 층은 두께가 0.5 마이크로미터 이상인, 멀티-피스 인클로저.The multi-piece enclosure of claim 1, wherein the metal oxide layer substantially overlaid a region of the metal substrate defining the undercut region, the metal oxide layer having a thickness of at least 0.5 micrometer.

제1항에 있어서, 상기 돌출 부분은 상기 금속 산화물 층의 기공 내로 연장되는, 멀티-피스 인클로저.The multi-piece enclosure of claim 1, wherein the protruding portion extends into the pores of the metal oxide layer.

제1항에 있어서, 상기 개구는 상기 외부 표면의 약 25% 내지 약 75%를 나타내는, 멀티-피스 인클로저.The multi-piece enclosure of claim 1, wherein the opening represents from about 25% to about 75% of the outer surface.

제1항에 있어서, 상기 금속 부품은 알루미늄 합금을 포함하고, 상기 비금속 벌크 층은 중합체를 포함하는, 멀티-피스 인클로저.The multi-piece enclosure of claim 1, wherein the metallic part comprises an aluminum alloy and the non-metallic bulk layer comprises a polymer.

휴대용 전자 디바이스를 위한 복합 인클로저로서,
금속 산화물 층에 의해 오버레이된 금속 기판을 포함하는 부품 - 상기 부품은 상기 부품의 외부 표면으로부터 연장되어 상기 금속 기판 부근에서 종단되는 개구를 갖는 리세스된 인터로킹 구조물(recessed interlocking structure)을 포함하며, 상기 리세스된 인터로킹 구조물은 (i) 언더컷 기하학적 형태를 갖는 것으로 특징지어지고, (ii) 상기 금속 산화물 층에 의해 오버레이됨 -; 및
상기 리세스된 인터로킹 구조물 내로 연장되어 그와 인터로킹되는 돌출 특징부를 포함하는 벌크 부분을 갖는 비금속 부품을 포함하는, 복합 인클로저.As a composite enclosure for a portable electronic device,
A component comprising a metal substrate overlaid by a metal oxide layer, the component comprising a recessed interlocking structure having an opening extending from an outer surface of the component and terminating near the metal substrate, The recessed interlocking structure is characterized as having (i) an undercut geometry, (ii) overlaid by the metal oxide layer; And
And a non-metallic part having a bulk portion including a projecting feature extending into the recessed interlocking structure and interlocking therewith.

제9항에 있어서, 상기 개구는 제1 폭을 갖는 것으로 특징지어지고, 상기 리세스된 인터로킹 구조물은 상기 제1 폭보다 더 큰 제2 폭을 갖는, 복합 인클로저.10. The enclosure of claim 9, wherein the opening is characterized as having a first width, the recessed interlocking structure having a second width greater than the first width.

제9항에 있어서, 상기 개구는 상기 외부 표면의 약 25% 내지 약 75%를 나타내는, 복합 인클로저.10. The enclosure of claim 9, wherein the opening represents from about 25% to about 75% of the outer surface.

제9항에 있어서, 상기 개구 및 상기 리세스된 인터로킹 구조물은 텍스처화된 표면을 갖는 에칭된 벽에 의해 한정되고, 상기 비금속 부품은 상기 리세스된 인터로킹 구조물을 실질적으로 충전하는, 복합 인클로저.10. The composite enclosure of claim 9, wherein the opening and the recessed interlocking structure are defined by an etched wall having a textured surface, the non-metallic component substantially enclosing the recessed interlocking structure, .

제12항에 있어서, 상기 비금속 부품의 비금속 재료가 상기 금속 산화물 층의 기공 내로 연장되어 그와 인터로킹되는, 복합 인클로저.13. The composite enclosure of claim 12, wherein the non-metallic material of the non-metallic part extends into and interlocks with the pores of the metal oxide layer.

제9항에 있어서, 상기 리세스된 인터로킹 구조물은 깊이가 약 10 마이크로미터 내지 약 20 마이크로미터인, 복합 인클로저.10. The composite enclosure of claim 9, wherein the recessed interlocking structure is about 10 micrometers to about 20 micrometers in depth.

멀티-피스 인클로저를 형성하기 위한 방법으로서,
상기 멀티-피스 인클로저는 금속 산화물 층에 의해 오버레이된 금속 기판을 포함하며, 상기 방법은
상기 금속 기판이 전기화학 에칭 프로세스를 거치게 함으로써 상기 금속 기판 내에 언더컷 영역을 형성하는 단계;
상기 언더컷 영역을 한정하는 상기 금속 기판의 영역을 오버레이하는 금속 산화물 층을 형성하는 단계 - 상기 금속 산화물 층은 상기 언더컷 영역 내로 이어지는 개구를 갖는 외부 표면을 포함함 -; 및
상기 언더컷 영역을 비금속 층의 돌출 부분으로 충전함으로써 상기 비금속 층을 상기 금속 산화물 층에 접합하는 단계를 포함하는, 방법.A method for forming a multi-piece enclosure,
The multi-piece enclosure includes a metal substrate overlaid by a metal oxide layer,
Forming an undercut region in the metal substrate by subjecting the metal substrate to an electrochemical etching process;
Forming a metal oxide layer overlying a region of the metal substrate defining the undercut region, the metal oxide layer including an outer surface having an opening leading into the undercut region; And
And joining the non-metallic layer to the metal oxide layer by filling the undercut region with a protruding portion of the non-metallic layer.

제15항에 있어서, 상기 금속 산화물 층은 기공을 포함하며, 상기 비금속 층의 비금속 재료가 상기 금속 산화물 층의 기공 내에 충전되는, 방법.16. The method of claim 15, wherein the metal oxide layer comprises pores and the non-metallic material of the non-metallic layer is filled in the pores of the metal oxide layer.

제15항에 있어서, 상기 언더컷 영역을 형성하는 단계는 상기 언더컷 영역이 형성되는 마스킹되지 않은 영역에 인접한, 상기 외부 표면의 영역을 마스킹 오프(masking off)하는 단계를 포함하는, 방법.16. The method of claim 15, wherein forming the undercut region comprises masking off an area of the outer surface adjacent the unmasked region in which the undercut region is formed.

제15항에 있어서, 상기 전기화학 에칭 프로세스는 인산, 염화제2철, 또는 질산나트륨을 포함하는 에칭 용액을 사용하는, 방법.16. The method of claim 15, wherein the electrochemical etching process uses an etching solution comprising phosphoric acid, ferric chloride, or sodium nitrate.

제18항에 있어서, 상기 언더컷 영역을 형성한 이후에, 상기 방법은
상기 외부 표면으로부터 어떠한 잔류 에칭 용액도 제거하는 단계를 추가로 포함하는, 방법.19. The method of claim 18, wherein after forming the undercut region,
Further comprising removing any residual etch solution from the outer surface.

제15항에 있어서, 상기 언더컷 영역은 상기 개구보다 더 큰 폭을 갖는 것으로 특징지어지는, 방법.16. The method of claim 15, wherein the undercut region has a width greater than the opening.

복합 부품으로서,
제1 재료로 형성된 기판을 포함하고 외부 표면을 갖는 제1 부품 - 상기 외부 표면을 가로질러 상기 기판 내로 연장되는 인터로킹 구조물이 랜덤하게 분포되며, 상기 인터로킹 구조물은, 상기 외부 표면에 제1 폭을 갖는 것으로 특징지어지고 상기 제1 폭보다 더 큰 제2 폭을 갖는 것으로 특징지어지는 언더컷 영역 내로 이어지는 개구를 포함함 -; 및
제2 재료로 형성되고, 상기 외부 표면에 있는 벌크 층, 및 (i) 상기 벌크 층으로부터 상기 개구를 통해 연장되는 제1 부분 및 (ii) 상기 제1 부분으로부터 연장되어 상기 언더컷 영역 내에 완전히 충전되고 보유되는 제2 부분을 갖는 미세부분을 포함하는 제2 부품을 포함하는, 복합 부품.As a composite component,
A first component comprising a substrate formed of a first material and having an exterior surface, wherein an interlocking structure extending into the substrate across the exterior surface is randomly distributed, the interlocking structure having a first width And an opening leading into the undercut area characterized by having a second width greater than the first width; And
(I) a first portion extending through the opening from the bulk layer, and (ii) a second portion extending from the first portion and being completely filled in the undercut region And a second part comprising a fine portion having a second portion held thereon.

제21항에 있어서, 상기 제1 폭과 상기 제2 폭 사이의 비는 0.5:1 이상인, 복합 부품.22. The composite part of claim 21, wherein the ratio between the first width and the second width is greater than or equal to 0.5: 1.

제21항에 있어서, 상기 기판 내로 연장되는 상기 인터로킹 구조물은 침투 깊이가 약 25 마이크로미터 내지 약 200 마이크로미터인 것으로 특징지어지는, 복합 부품.22. The composite part of claim 21, wherein the interlocking structure extending into the substrate has a penetration depth of from about 25 micrometers to about 200 micrometers.

제21항에 있어서, 상기 기판은 패시베이션 층(passivation layer)을 포함하며, 상기 인터로킹 구조물의 위치는 상기 패시베이션 층의 외부 표면 내의 결함에 상응하는, 복합 부품.22. The composite component of claim 21, wherein the substrate comprises a passivation layer, the location of the interlocking structure corresponding to defects in an outer surface of the passivation layer.

제21항에 있어서, 상기 언더컷 영역은 수분이 상기 기판에 도달하는 것을 억제하는 사행 경로를 한정하는 다중-경사(multi-angle) 측부 표면을 갖는 에칭된 벽에 의해 한정되는, 복합 부품.22. The composite component of claim 21, wherein the undercut region is defined by an etched wall having a multi-angle side surface defining a meandering path that inhibits moisture from reaching the substrate.

제25항에 있어서, 상기 다중-경사 측부 표면은 상기 제2 재료로 충전되는 크랙(crack)을 한정하는, 복합 부품.26. The composite part of claim 25, wherein the multi-sloped side surface defines a crack that is filled with the second material.

제21항에 있어서, 상기 제1 재료는 강 합금을 포함하고, 상기 제2 재료는 중합체 재료를 포함하는, 복합 부품.22. The composite part of claim 21, wherein the first material comprises a steel alloy and the second material comprises a polymeric material.

전자 디바이스를 위한 멀티-피스 인클로저로서,
금속 산화물 층에 의해 오버레이된 금속 기판을 포함하는 제1 피스 - 상기 금속 산화물 층은 외부 표면을 가지며, 상기 외부 표면 위에 제1 폭을 갖는 개구가 랜덤하게 분포되며, 상기 개구는, 제2 폭을 갖고 상기 외부 표면으로부터 상기 금속 기판 내로 연장되는 리세스된 구조물 내로 이어지며, 상기 리세스된 구조물은 (i) 적어도 최소 분리 거리에 의해 서로 분리되고, (ii) 언더컷 기하학적 형태를 갖는 것으로 특징지어짐 -; 및
돌출 특징부와 함께 벌크 부분을 갖는 비금속 재료로 형성되는 제2 피스 - 상기 돌출 특징부는 상기 제1 피스와 상기 제2 피스가 함께 로킹되도록 상기 개구를 통해 상기 리세스된 구조물 내로 연장되어 그를 충전함 - 를 포함하는, 멀티-피스 인클로저.A multi-piece enclosure for an electronic device,
A first piece comprising a metal substrate overlaid by a metal oxide layer, the metal oxide layer having an outer surface, wherein openings with a first width are randomly distributed over the outer surface, the openings having a second width (I) is separated from one another by at least a minimum separation distance, and (ii) has an undercut geometry, wherein the recessed structure extends from the outer surface to the recessed structure extending into the metal substrate -; And
A second piece formed of a non-metallic material having a bulk portion with a protruding feature, the protruding feature extending into the recessed structure through the opening to fill the first piece and the second piece together - a multi-piece enclosure.

제28항에 있어서, 상기 리세스된 구조물에서의 상기 제1 피스와 상기 제2 피스 사이의 접합부가 상기 접합부를 통한 액체의 유입을 억제하는 사행 경로를 제공하는, 멀티-피스 인클로저.29. The multi-piece enclosure of claim 28, wherein the abutment between the first piece and the second piece in the recessed structure provides a meandering path that inhibits the ingress of liquid through the abutment.

제29항에 있어서, 상기 리세스된 구조물은 상기 사행 경로를 한정하는 다중-경사 측부 표면을 갖는 에칭된 벽을 포함하는, 멀티-피스 인클로저.30. The multi-piece enclosure of claim 29, wherein the recessed structure comprises an etched wall having a multi-sloping side surface defining the meandering path.

제30항에 있어서, 상기 리세스된 구조물의 에칭된 벽은 구조적으로 온전한, 멀티-피스 인클로저.31. The multi-piece enclosure of claim 30, wherein the etched wall of the recessed structure is structurally intact.

제28항에 있어서, 상기 돌출 특징부는 상기 리세스된 구조물 내로 연장되어 그를 충전하는, 멀티-피스 인클로저.29. The multi-piece enclosure of claim 28, wherein the protruding feature extends into and fills the recessed structure.

제28항에 있어서, 상기 외부 표면의 총 표면적이 상기 개구를 포함하며, 상기 개구는 상기 총 표면적의 약 25% 내지 약 65%를 차지하는, 멀티-피스 인클로저.29. The multi-piece enclosure of claim 28, wherein the total surface area of the outer surface comprises the opening, and the opening occupies from about 25% to about 65% of the total surface area.

1차 금속 산화물 층에 의해 오버레이된 금속 기판을 포함하는 부품의 외부 표면에 다수의 인터로킹 구조물을 형성하기 위한 방법으로서,
상기 부품을 금속 에칭 용액에 노출시킴으로써 상기 1차 금속 산화물 층의 외부 표면의 1차 금속 산화물 결함에 상응하는 위치에 제1 인터로킹 구조물을 형성하는 단계 - 상기 제1 인터로킹 구조물은 상기 외부 표면에 제1 폭을 갖는 개구를 포함하며, 상기 개구는 상기 제1 폭보다 더 큰 제2 폭을 갖는 언더컷 기하학적 형태를 갖는 1차 리세스된 부분으로 이어짐 -;
상기 제1 인터로킹 구조물을 형성한 이후에, 상기 부품을 상기 금속 에칭 용액으로부터 꺼내어서 상기 부품을 자연 대기에 노출시킴으로써 자연 산화물 층이 형성되게 하는 단계; 및
상기 부품을 상기 금속 에칭 용액에 노출시킴으로써 상기 자연 산화물 층의 자연 산화물 결함에 상응하는 위치에 제2 인터로킹 구조물을 형성하는 단계를 포함하는, 방법.A method for forming a plurality of interlocking structures on an outer surface of a component comprising a metal substrate overlaid by a layer of a primary metal oxide,
Forming a first interlocking structure at a location corresponding to a primary metal oxide defect on an outer surface of the primary metal oxide layer by exposing the component to a metal etch solution, The aperture leading to a first recessed portion having an undercut geometry having a second width greater than the first width;
After forming the first interlocking structure, removing the component from the metal etching solution to expose the component to a natural atmosphere to form a native oxide layer; And
Forming a second interlocking structure at a location corresponding to native oxide defects in the native oxide layer by exposing the component to the metal etch solution.

제34항에 있어서,
비금속 기판을 상기 부품의 외부 표면 상에 적용하는 단계 - 상기 제1 및 제2 인터로킹 구조물은 상기 비금속 기판의 돌출 부분을 수용할 수 있음 - 를 추가로 포함하는, 방법.35. The method of claim 34,
Applying a non-metallic substrate onto an outer surface of the component, wherein the first and second interlocking structures are capable of receiving protruding portions of the non-metallic substrate.

제35항에 있어서, 상기 제1 및 제2 인터로킹 구조물을 형성한 이후에, 상기 방법은
상기 제1 및 제2 인터로킹 구조물이 차지하는 상기 외부 표면의 총 표면적이 역치량(threshold amount)을 만족시키는지의 여부를 결정하는 단계; 및
상기 총 표면적이 상기 역치량을 만족시키지 않는 것으로 결정됨에 응답하여,
상기 외부 표면에 추가의 인터로킹 구조물을 형성하는 단계를 추가로 포함하는, 방법.36. The method of claim 35, wherein after forming the first and second interlocking structures,
Determining whether a total surface area of the outer surface occupied by the first and second interlocking structures satisfies a threshold amount; And
In response to determining that the total surface area does not satisfy the threshold value,
Further comprising forming an additional interlocking structure on the exterior surface.

제34항에 있어서, 상기 제2 인터로킹 구조물은 상기 언더컷 기하학적 형태를 갖는 것으로 특징지어지는, 방법.35. The method of claim 34, wherein the second interlocking structure has the undercut geometry.

제34항에 있어서, 상기 제2 인터로킹 구조물 중 일부는 상응하는 1차 리세스된 부분으로부터 형성되는 2차 리세스된 부분을 갖는 것으로 특징지어지는 복합 인터로킹 구조물인, 방법.35. The method of claim 34 wherein some of the second interlocking structures are composite interlocking structures characterized as having a second recessed portion formed from a corresponding firstly recessed portion.

제34항에 있어서, 상기 제1 인터로킹 구조물을 형성하기 전에, 상기 방법은
상기 1차 금속 산화물 결함에 상응하는 위치에 인접한 상기 외부 표면의 영역을, 상기 제1 인터로킹 구조물이 상기 영역에 형성되는 것이 방지되도록 마스킹하는 단계를 추가로 포함하는, 방법.35. The method of claim 34, wherein prior to forming the first interlocking structure,
Further comprising masking an area of the outer surface adjacent the location corresponding to the primary metal oxide defect to prevent the first interlocking structure from being formed in the area.

제34항에 있어서, 상기 부품을 상기 금속 에칭 용액으로부터 꺼낸 이후에, 상기 방법은
상기 제1 인터로킹 구조물의 성장을 억제하도록 상기 외부 표면으로부터 어떠한 잔류 금속 에칭 용액도 제거하는 단계를 추가로 포함하는, 방법.35. The method of claim 34, wherein after removing the part from the metal etching solution,
Further comprising removing any residual metal etch solution from the outer surface to inhibit growth of the first interlocking structure.