KR20190011384A

KR20190011384A - 저방사 유리

Info

Publication number: KR20190011384A
Application number: KR1020170093847A
Authority: KR
Inventors: 박준영; 강현민; 김진용; 오영훈; 윤성군; 유보나; 이현주; 이제향; 김민주
Original assignee: 주식회사 케이씨씨
Priority date: 2017-07-25
Filing date: 2017-07-25
Publication date: 2019-02-07
Also published as: EP3659984A2; EP3659984A4; WO2019022383A3; US20200189972A1; KR102082424B1; JP2020522454A; WO2019022383A2; CN110719898A

Abstract

본 발명은 저방사 유리에 관한 것으로, 유리 기판, 상기 유리 기판 상에 형성된 제1 유전체층, 상기 제1 유전체층 상에 형성된 금속층, 상기 금속층 상에 형성된 흡수층, 상기 흡수층 상에 형성된 제2 유전체층, 및 상기 제2 유전체층 상에 형성된, Zr을 포함하는 코팅층을 포함하여 취급성 및 장기보관성이 좋고, 우수한 저방사 유리를 제공한다.

Description

저방사 유리{LOW-EMISSIVITY GLASS}

본 발명은 내구성, 취급성 및 장기 보관성이 우수한 저방사 유리에 관한 것이다.

저방사 유리는 유리표면에 특수 코팅하여 여름에는 태양 복사열을 반사시키고 겨울에는 실내 난방기에서 발생하는 적외선을 실내에 보존시켜 줌으로써 건축물의 에너지를 절감하는 효과를 증가시킨다.

이러한 저방사 유리는 크게 두 가지 방식으로 제조되고 있다. 하나는 유리 제조 과정상에서 뜨거운 유리 리본 위에 반도체 전구체를 균일하게 도포하여 유리 열에 의해 전구체가 분해 코팅되는 방식이 있으며, 다른 하나는 진공 챔버에서 금속 타겟의 스퍼터링을 통해 코팅되는 방식이 있다.

전자의 경우에는 주로 SnO₂:F물질을 코팅하여 제조되고 있으며 높은 온도에서 증착 및 상대적으로 안정한 산화물을 사용함으로 인해 코팅막이 매우 강한 특성을 보이지만 낮은 저방사 특성을 지니고 있다. 후자의 경우 금속을 코팅하여 막 형태로 제조됨으로 가격, 색상, 저방사 특성을 고려하여 주로 은이 사용되고 있고, 내구성이 낮은 은의 특성으로 인해 유리 기판/유전체/은/유전체/보호층의 형태로 제조되고 있으나, 물리적 증착 및 상대적으로 불안정한 은을 사용하므로 코팅층이 약해 내구성이 부족하다는 특성을 지니고 있다.

이에 따라 저방사 유리의 코팅층을 개선할 목적으로 다양한 방법들이 제안되어 왔는데, 그 예로 유럽 등록특허 제1,080,245호의 경우 유전체로 Zn 산화물에 Sn을 첨가하여 사용하였고, 은 보호층으로 Ti층을 사용하였으며, 추가의 최상부 보호층을 사용하였다. 미국 등록특허 제5,834,103호에서는 유전체로 Zn 산화물, 은 보호층으로 Ti, 최상부 보호층으로 Si 질화물을 사용하였다. 미국 등록특허 제6,010,602호에서는 유전체로 Zn-Sn 산화물을 사용하였으며, 은 보호층으로 Ti를 최상부 보호층으로 TiO₂를 사용하였다. 이와 같이 금속 기반의 저방사 유리에 대한 내구성 향상을 위해 다양한 재료 및 다양한 구조의 발명이 이루어지고 있으나, 고온다습의 우기가 있는 지역에서는 내구성, 특히 내습성이 좋지 않아, 고온 다습 지역에서 장시간 보관 시 코팅막 변질 등에 의해서 반짝거리는 결함 및 색 변화 등이 발생하는 문제점을 해결하기 위한 연구가 필요한 실정이다.

본 발명의 목적은 내구성을 비롯하여, 내한성, 내산성과 같은 취급성과 장기 보관성이 우수한 저방사 유리를 제공하는 것이다.

상기의 목적을 달성하기 위하여, 본 발명은 유리 기판, 상기 유리 기판 상에 형성된 제1 유전체층, 상기 제1 유전체층 상에 형성된 금속층, 상기 금속층 상에 형성된 흡수층, 상기 흡수층 상에 형성된 제2 유전체층, 및 상기 제2 유전체층 상에 형성된, Zr을 포함하는 코팅층을 포함하는 저방사 유리를 제공한다.

본 발명의 저방사 유리는 취급성, 장기 보관성 및 기계적 내구성이 우수하고, TiO_xN_y를 이용하던 종래에 비해 증착률이 우수하며 안정적인 스퍼터링이 가능한 장점이 있다.

도 1은 본 발명의 단일 저방사 유리의 적층 구조를 나타낸 도면이다.
도 2의 (a) 내지 (c)는 도 1의 단일 저방사 유리의 적층 구조에 대한 구체예를 나타낸 도면이다.
도 3은 본 발명의 다중 저방사 유리의 적층 구조를 나타낸 도면이다.
도 4의 (a) 내지 (c)는 도 3의 다중 저방사 유리의 적층 구조에 대한 구체예를 나타낸 도면이다.

이하, 첨부한 도면을 참고하여 본 발명의 바람직한 실시예들을 상세히 설명한다. 그러나, 본 발명은 본 명세서에서 설명되는 실시예들에 한정되지 아니한다. 각 도면의 경우, 층 및 영역들의 두께는 명확성을 기하기 위하여 과장된 것일 수 있고, 명세서 전체에 걸쳐서 동일한 도면 부호들은 동일한 구성을 나타낸다. 또한, 하기에서 본 발명을 설명함에 있어 관련된 공지 기능 또는 구성에 대한 구체적인 설명이 본 발명의 요지를 불필요하게 흐릴 수 있다고 판단되는 경우에는 그 상세한 설명은 생략할 것이다.

도 1은 본 발명의 단일 저방사 유리의 적층 구조를 나타낸 도면이다.

도 1을 참고하면, 본 발명의 저방사 유리는 유리 기판(10)과 상기 유리 기판(10) 상에 형성된 제1 유전체층(20), 상기 제1 유전체층(20) 상에 형성된 금속층(30), 상기 금속층(30) 상에 형성된 흡수층(40), 상기 흡수층(40) 상에 형성된 제2 유전체층(21), 및 상기 제2 유전체층(21) 상에 형성된 Zr을 포함하는 코팅층(50)을 포함한다.

상기 유리 기판(10)은 저방사 유리의 베이스 기재 역할을 한다. 이러한 유리 기판(10)으로는, 예컨대, 건축용 혹은 자동차용으로 사용되고 있는 소다라임 유리, 저철분 유리, 그린(green) 원판 유리 또는 블루(blue) 원판 유리와 같은 통상의 유리가 사용될 수 있다. 또한 사용 목적에 따라 2mm 내지 12mm의 두께를 가지는 유리를 자유롭게 사용할 수 있으며, 예를 들어, 5mm 혹은 6mm 두께의 투명 소다라임 유리를 사용할 수 있다.

상기 제1 유전체층(20)은 상기 유리 기판(10) 상에 형성되어 강화, 굽힘 등의 열처리 시에 상기 금속층(30)으로 전달되는 산소 또는 이온을 차단하는 역할을 하는 것으로서, 메인 유전체층(20a)을 포함하고, 선택적으로 상기 메인 유전체층(20a)의 상부 또는 하부에 서브 유전체층(20b)이 형성될 수 있다. 본 발명의 일 구현예에 따르면, 상기 서브 유전체층(20b)은 도 2의 (a) 및 (b)와 같이 상기 메인 유전체층(20a)의 상부, 즉 상기 메인 유전체층(20a)과 금속층(30)의 사이에 형성될 수 있다.

상기 메인 유전체층(20a)은 Al, B, Ti, Nb, Sn 및 Mo으로부터 선택된 하나 이상의 원소가 함유된 Si계 질화물 또는 질산화물로 이루어질 수 있고, 상기 서브 유전체층(20b)은 Sn, Nb, Al, Sb, Mo, Cr, Ti 및 Ni로 이루어진 군에서 선택된 1종 이상의 원소가 함유된 Zn계 산화물로 이루어질 수 있다. 본 발명의 일 구현예에 따르면, 상기 메인 유전체층(20a)은 SiAlN_x일 수 있고, 여기서 x는 1.3<x<1.5이며, x가 상기 수치 범위를 벗어나면 질소(N₂)과잉으로 인한 증착률 저하가 발생할 수 있다. 상기 서브 유전체층(20b)은 ZnAlO_x일 수 있고, 여기서 x는 0.5<x<3이며, x가 상기 수치 범위를 벗어나면 산소(O₂)과잉으로 인한 증착률 저하가 발생할 수 있다.

상기 메인 유전체층(20a) 및 서브 유전체층(20b)의 두께는, 각각 독립적으로, 5 내지 50 ㎚일 수 있다. 구체적으로, 상기 메인 유전체층(20a)의 두께는 30 내지 50 nm 일 수 있으며, 서브 유전체층(20b) 의 두께는 5 내지 20 nm 일 수 있다. 만약 상기 메인 유전체층(20a)의 두께 30 nm 또는 상기 서브 유전체층(20b)의 두께 5 nm 미만이면 내구성이 떨어지는 문제가 발생할 수 있고, 상기 메인 유전체층(20a)의 두께 50nm 또는 상기 서브 유전체층(20b)의 두께 20nm를 초과하면 투과율이 감소될 수 있다.

이때, 도 2의 (b) 및 (c)에 도시된 바와 같이 상기 제1 유전체층(20)과 상기 금속층(30) 사이에 흡수층(40a)이 더 포함될 수 있다.

상기 금속층(30)은 태양 복사선을 선택적으로 반사시켜 높은 차폐성능을 제공함과 동시에 저방사를 구현하는 역할을 한다. 상기 금속층(30)으로는 전도성이 우수한 금속이 사용될 수 있으며, Ag, Cu, Au, Al 및 Pt로 이루어진 군에서 선택된 1종 이상이 사용될 수 있다. 본 발명의 일 구체예에 따르면, 상기 금속층(30)으로 사용되는 금속은 은(Ag)이 사용될 수 있다.

상기 금속층(30)의 두께는 5 내지 25㎚일 수 있다. 상기 금속층(30)의 두께가 5㎚ 미만이면 금속층(30)의 형성이 정상적으로 이루어지지 않아 저방사 성능이 충분히 못하게 될 수 있고, 25㎚를 초과하면 투과율이 저하되고 반사율이 높아져서 개방감을 저하시킬 수 있다.

도 1 및 도 2를 참고하면, 상기 흡수층(40, 40a, 40b)은 금속층(30)에 접한 층으로서, 금속층(30)과 유전체층 사이의 접착력을 향상시키는 기능을 하고, 강화, 굽힘 등의 열처리시 유리에서 확산되는 Na⁺및 공기 중의 O₂의 이동을 방해하는 역할 및 금속층(30)이 높은 열처리 온도에서도 안정적인 거동이 가능하도록 금속의 융착을 돕는 역할을 하며, 최종적으로 금속층(30)으로 침투하는 O₂를 흡수하여 저방사 성능을 유지하도록 돕는 역할을 한다.

상기 흡수층(40, 40a, 40b)으로는 Ni, Cr 및 Ni-Cr 합금으로부터 선택된 것이 사용될 수 있으며, Ni-Cr 합금이 사용되는 경우, 그 합금 조성은, 예컨대, Ni이 75 내지 85wt%, Cr이 15 내지 25wt%일 수 있다. 본 발명의 일 구현예에 따른 흡수층(40, 40a, 40b)으로 Ni-Cr 합금이 사용될 수 있다.

상기 흡수층(40, 40a, 40b)의 두께는 0.1 내지 10㎚일 수 있다. 상기 흡수층(40, 40a, 40b)의 두께가 0.1㎚ 미만이면 내구성이 저하되거나 열처리 및 굽힘 공정 후에 코팅막의 흐림이 증가하는 문제가 있을 수 있으며, 10㎚를 초과하면 투과율이 낮아지거나 열처리 및 굽힘 공정 후에 코팅막의 흐림이 증가하는 문제가 있을 수가 있다.

도 1 및 도 2를 참고하면, 상기 제2 유전체층(21)은 강화, 굽힘 등의 열처리 시에 금속층(30)으로 전달되는 산소 또는 이온을 차단하는 역할을 하는 것으로서, 제1 유전체층(20)과 같이 메인 유전체층(21a)을 포함하고, 선택적으로 상기 메인 유전체층(21a)의 상부 또는 하부에 서브 유전체층(21b)이 형성될 수 있다. 본 발명의 일 구현예에 따르면, 상기 서브 유전체층(21b)은 도 2의 (b)와 같이 상기 메인 유전체층(21a)의 하부, 즉 상기 메인 유전체층(21a)과 흡수층(40b)의 사이에 형성될 수 있다.

상기 메인 유전체층(21a)은 Al, B, Ti, Nb, Sn 및 Mo으로부터 선택된 하나 이상의 원소가 함유된 Si계 질화물 또는 질산화물로 이루어질 수 있고, 상기 서브 유전체층(21b)은 Sn, Nb, Al, Sb, Mo, Cr, Ti 및 Ni로 이루어진 군에서 선택된 1종 이상의 원소가 함유된 Zn계 산화물로 이루어질 수 있다. 본 발명의 일 구현예에 따르면, 상기 메인 유전체층(21a)은 SiAlN_x일 수 있고, 여기서 x는 1.3<x<1.5이며, x가 상기 수치 범위를 벗어나면 질소(N₂)과잉으로 인한 증착률 저하가 발생할 수 있다. 상기 서브 유전체층(21b)은 ZnAlO_x일 수 있고, 여기서 x는 0.5<x<3이며, x가 상기 수치 범위를 벗어나면 산소(O₂)과잉으로 인한 증착률 저하가 발생할 수 있다.

상기 메인 유전체층(21a) 및 서브 유전체층(21b)의 두께는, 각각 독립적으로, 5 내지 70㎚일 수 있다. 구체적으로, 상기 메인 유전체층(21a)의 두께는 35 내지 70nm 일 수 있으며, 서브 유전체층(21b) 의 두께는 5 내지 20nm 일 수 있다. 만약 상기 메인 유전체층(21a)의 두께 35nm 또는 상기 서브 유전체층(21b)의 두께 5nm 미만이면 내구성이 떨어지는 문제가 발생할 수 있고, 상기 메인 유전체층(21a)의 두께 70nm 또는 상기 서브 유전체층(21b)의 두께 20nm를 초과하면 투과율이 감소될 수 있다.

상기 Zr을 포함하는 코팅층(50)은 본 발명에 따른 저방사 유리의 표면을 보호하는 역할을 하며, 기계적 강도가 높고 표면 거칠기가 적으며 투과율이 높은 재료가 사용될 수 있다.

상기 Zr을 포함하는 코팅층(50)은 Zr, 또는 Zr과 Si, Ti, Al, Cu, Fe, Ni, Pb 및 Nb로 이루어진 군에서 선택되는 적어도 하나의 복합 금속을 포함할 수 있으며, 상기 코팅층(50)은 Zr 또는 Zr 복합금속의 질화물, 산화물 또는 질산화물을 포함할 수 있다. 구체적으로, 상기 코팅층은 ZrN_x(예컨대, 0.5<x<2), SiZrN_x(예컨대, 0.5<x<2), SiZrTiO_x(예컨대, 0.5<x<3), SiZrAlN_x(예컨대, 0.5<x<2)및 ZrTiO_xN_y(예컨대, 0.5<x<3, 0.5<y<2)으로 구성된 군에서 선택되는 적어도 하나를 포함할 수 있다. 여기서, x 또는 y가 상기 수치 범위를 벗어나면 증착률 및 밀도가 저하될 수 있다.

상기 코팅층(50)의 두께는 바람직하게 1 내지 20 ㎚일 수 있다. 만약 코팅층(50)의 두께가 1 nm 미만이면 내구성이 저하될 우려가 있고, 20 nm를 초과하면 투과율이 저하되거나 흐림을 발생시키는 원인이 될 수 있다.

도 3은 본 발명의 다중(예컨대, 이중 또는 삼중) 저방사 유리의 적층 구조를 나타낸 도면이다.

도 3을 참고하면, 본 발명의 저방사 유리는 상기 도 1의 적층 구조에서 흡수층(40)과 제2 유전체층(21) 사이에, 유전체층(22), 금속층(30) 및 흡수층(40)이 순차적으로 포함된 다층 구조를 적어도 하나 포함할 수 있고, 도 1과 같은 단일 적층 구조에서 상기와 같은 다층 구조가 1개 더 포함된 경우를 이중 저방사 유리, 2개 더 포함된 경우를 삼중 저방사 유리라고 한다.

상기 유전체층(22)은 상기 제1 유전체층(20) 및 제2 유전체층(21)과 같이 강화, 굽힘 등의 열처리 시에 금속층(30)으로 전달되는 산소 또는 이온을 차단하는 역할을 하는 것으로서, 도 4의 (a)를 참고하면, 제1 유전체층(20) 및 제2 유전체층(21)과 같이 메인 유전체층(22a)을 포함하고, 선택적으로 상기 메인 유전체층(22a)의 상부 또는 하부에 서브 유전체층(22b)이 형성될 수 있다.

상기 다층 구조 중 적어도 하나는 도 4의 (b) 및 (c)와 같이 상기 유전체층(22)과 상기 금속층(30) 사이에 적어도 하나의 흡수층(40a)을 더 포함할 수 있다.

이하, 본 발명을 실시예에 의하여 상세히 설명한다.

단, 하기 실시예는 본 발명을 구체적으로 예시하는 것이며, 본 발명의 내용이 하기 실시예에 의해 한정되지 아니한다.

[ 실시예 ]

실시예 1

마그네트론(Magnetron) 스퍼터 코팅기를 사용하여, 6mm 투명유리 기판상에 하기 표 1에 나타낸 조성 및 두께를 갖는 다층 코팅막이 형성된 저방사 유리를 제조하였다.

제1 유전체층(SiAlN_x,x=1.3~1.5)을 질소/아르곤(질소 비율: 40 부피%) 분위기 하에서 코팅하였고, 흡수층(NiCr 합금)을 아르곤 100% 분위기 하에서 코팅하였으며, 금속층(Ag)을 아르곤 100% 분위기하에서 코팅하였다. 이후, 상기 금속층(Ag) 상에 흡수층(NiCr 합금)을 아르곤 100% 분위기 하에서 코팅하고, 제2 유전체층(SiAlN_x,x=1.3~1.5)을 질소/아르곤(질소 비율: 40 부피%) 분위기 하에서 코팅하였으며, 코팅층으로서 ZrN층을 금속 타겟을 사용하여 질소/아르곤(질소비율:40 부피%) 분위기에서 코팅하여 저방사 유리를 제조하였다.

실시예 2

코팅층으로서 ZrN층을 금속 타겟을 사용하여 질소 100% 분위기에서 코팅한 것을 제외하고는 실시예 1과 동일한 조건으로 저방사 유리를 제조하였다.

실시예	막 종류(막 두께:nm)
1	Glass/SiAlN_x(30nm)/NiCr(0.3nm)/Ag(10nm)/NiCr(0.2nm)/SiAlN_x(30nm)/ZrN(N₂40%, 5nm)
2	Glass/SiAlN_x(30nm)/NiCr(0.3nm)/Ag(10nm)/NiCr(0.2nm)/SiAlN_x(30nm)/ZrN(N₂100%,5nm)

[ 비교예 ]

비교예 1

코팅층으로서 TiO_xN_y(x:y=3:1)층을 세라믹 타겟을 사용하여 질소/아르곤(질소 비율: 40 부피%) 분위기 하에서 코팅한 것을 제외하고는 실시예 1과 동일한 조건으로 저방사 유리를 제조하였다.

비교예 2

코팅층으로서 ZrO층을 세라믹 타겟을 사용하여 산소/아르곤(산소 비율: 50 부피%) 분위기 하에서 코팅한 것을 제외하고는 실시예 1과 동일한 조건으로 저방사 유리를 제조하였다.

비교예	막 종류(막 두께:nm)
1	Glass/SiAlN_x(30nm)/NiCr(0.3nm)/Ag(10nm)/NiCr(0.2nm)/SiAlN_x(30nm)/TiO_xN_y(5nm)
2	Glass/SiAlN_x(30nm)/NiCr(0.3nm)/Ag(10nm)/NiCr(0.2nm)/SiAlN_x(30nm)/ZrO(5nm)

[ 실험예 ]

실시예 및 비교예에서 얻어진 저방사 유리의 물성을 아래와 같은 방법에 따라 측정하였으며, 그 결과를 하기 표 3에 나타내었다.

내습성

100 × 100mm로 실시예 및 비교예에서 제조된 저방사 유리가 코팅된 1개의 시편을 준비하고, 항온항습룸(상대습도 80±10%, 온도 30±2℃)에 투입한다. 24시간 경화 후부터 1일(24시간) 단위로 시편을 꺼내어 천으로 물기 제거 후 핀홀(Φ)의 크기, 개수 및 하기 1) 내지 3)을 만족하는지를 확인한다.

1) 4.0mm≤Φ 1개 이상 불허

2) 2.0mm≤Φ 3개 이상 불허

3) 전면 소형 핀홀 불허

내스크래치

1)일반

300 × 100mm로 실시예 및 비교예에서 제조된 저방사 유리가 코팅된 1개의 시편을 준비하고, 상기 시편의 코팅 면이 위로 향하여 브러쉬(Brush)에 접촉하도록 Elcometer1720에 위치시킨다. 상기 시편의 코팅 면에 증류수를 가한 뒤, 기기를 작동시킨다(Brush 왕복 횟수 200회). 종료 후, 상기 시편의 물기를 제거한 뒤 육안으로 확인하여 Level(등급)을 기록한다. 이때, Level(등급) 평가 기준은 다음과 같다.

- 1 등급: 스크라치 없음

- 2 등급: 폭 0.1mm 미만 가는 스크라치 5개 이하

- 3 등급: 폭 0.1mm 미만 가는 스크라치 6개 이상

- 4 등급: 폭 0.1mm 이상 굵은 스크라치 2개 이하

- 5 등급: 폭 0.1mm 이상 굵은 스크라치 3~5개

- 6 등급: 폭 0.1mm 이상 굵은 스크라치 6개 이상 및 폭 1.0mm 미만 코팅 막 박리 발생

- 7 등급: 폭1.0mm 이상 코팅 막 박리 발생

2)석영(가혹)

400 × 100mm로 실시예 및 비교예에서 제조된 저방사 유리가 코팅된 1개의 시편을 준비하고, 상기 시편의 코팅 면이 위로 향하여 브러쉬(Brush)에 접촉하도록 Erichsen Brush Tester에 위치시킨다. 상기 시편의 코팅 면에 석영가루 용액을 도포한 뒤, 기기를 작동시킨다(Brush 왕복 횟수 50회). 종료 후, 상기 시편의 물기를 제거한 뒤 육안으로 확인하여 Level(등급)을 기록한다. 이때, Level(등급) 평가 기준은 상기 1)일반 평가 기준과 동일하다.

내한성

100 × 300mm로 실시예 및 비교예에서 제조된 저방사 유리가 코팅된 1개의 시편을 준비하고, 스포이드를 이용하여 상기 시편의 코팅면에 준비된 인공 땀 시약(NaCl, L-히스티딘염산염ㆍ1수화물, 인산이수소나트륨ㆍ12수화물 및 DI water 포함)을 떨어뜨린 후, 상기 시편을 항온항습룸(상대습도 80±10%, 온도 30±2℃)에 투입한다. 투입 후 1시간 간격으로 시편으로부터 50cm 떨어진 거리에서 코팅막 상태를 확인한다.

내산성

50 × 100mm로 실시예 및 비교예에서 제조된 저방사 유리가 코팅된 1개의 시편을 준비하고, 스포이드를 이용하여 실험용 플라스틱 통에 1/3 지점까지 HCl 1N 용액을 채운 뒤 상기 시편을 투입한다. 상온에서 1시간 간격으로 상기 시편의 코팅 면을 증류수로 헹군 뒤 천으로 물기를 제거한다. 상기 시편의 코팅 면 상태를 50cm 떨어진 거리에서 육안으로 확인한다.

클리블랜드

400 × 600mm로 실시예 및 비교예에서 제조된 저방사 유리가 코팅된 1개의 시편을 준비하고, 상기 시편에 저방사 유리가 코팅된 면이 수분응축 시험기(수조의 온도가 60±1℃로 유지 가능한 것) 내부로 향하도록 거치하고 클램프를 이용하여 고정한다. 4시간 경과 후, 1시간 단위로 코팅면의 핀홀 및 손상 여부를 확인한다.

구분 (싱글)	내스크래치성		내한성	내습성	내산성	클리블랜드 (12일 후ΔE)
구분 (싱글)	일반	석영	내한성	내습성	내산성	클리블랜드 (12일 후ΔE)
실시예 1	1	2	3일	20일	1일	4.1
실시예 2	1	2	3일	20일	1일	4.8
비교예 1	2	3	4시간	20일	4시간	-
비교예 2	1	3	4시간	20일	1일	19.9

10: 유리 기판 20: 제1 유전체층
21: 제2 유전체층 22: 유전체층
20a, 21a, 22a: 메인 유전체층 20b, 21b, 22b: 서브 유전체층
30: 금속층 40, 40a, 40b: 흡수층
50: 코팅층

Claims

유리 기판,
상기 유리 기판 상에 형성된 제1 유전체층,
상기 제1 유전체층 상에 형성된 금속층,
상기 금속층 상에 형성된 흡수층,
상기 흡수층 상에 형성된 제2 유전체층, 및
상기 제2 유전체층 상에 형성된, Zr을 포함하는 코팅층을 포함하는 저방사 유리.
청구항 1에 있어서,
상기 코팅층은 Zr, 또는 Zr과 Si, Ti, Al, Cu, Fe, Ni, Pb 및 Nb로 이루어진 군에서 선택되는 적어도 하나의 복합금속을 더 포함하는 저방사 유리.
청구항 1 또는 2에 있어서,
상기 코팅층은 Zr, 또는 Zr 복합금속의 질화물, 산화물 및 질산화물을 포함하는 것인 저방사 유리.
청구항 1에 있어서,
상기 코팅층은 ZrN_x(0.5<x<2), SiZrN_x(0.5<x<2), SiZrTiO_x(0.5<x<3), SiZrAlN_x(0.5<x<2)및 ZrTiO_xN_y(0.5<x<3, 0.5<y<2)으로 구성된 군에서 선택되는 적어도 하나인 저방사 유리.
청구항 1에 있어서,
상기 코팅층은 두께가 1 내지 20 ㎚인 저방사 유리.
청구항 1에 있어서,
상기 제1 유전체층 및 상기 제2 유전체층 중 적어도 하나는, 메인 유전체층과, 선택적으로 상기 메인 유전체층의 상부 또는 하부에 형성된 적어도 하나의 서브 유전체층을 더 포함하는 저방사 유리.
청구항 6에 있어서,
상기 제1 유전체층과 상기 금속층 사이에, 흡수층을 더 포함하는 저방사 유리.
청구항 1 내지 6 중 어느 한 항에 있어서,
상기 흡수층과 상기 제2 유전체층 사이에, 유전체층, 금속층 및 흡수층이 순차적으로 포함된 다층 구조를 적어도 하나 포함하는 저방사 유리.
청구항 8에 있어서,
상기 유전체층은 메인 유전체층과, 선택적으로 상기 메인 유전체층의 상부 또는 하부에 형성된 적어도 하나의 서브 유전체층을 더 포함하는 저방사 유리.
청구항 9에 있어서,
상기 다층 구조 중 적어도 하나는 상기 유전체층과 상기 금속층 사이에 적어도 하나의 흡수층을 더 포함하는 저방사 유리.
청구항 6 또는 청구항 9에 있어서,
상기 서브 유전체층은 Sn, Nb, Al, Sb, Mo, Cr, Ti 및 Ni로 이루어진 군에서 선택된 1종 이상의 원소가 함유된 Zn계 산화물로 이루어진 것이고, 상기 메인 유전체층은 Al, B, Ti, Nb, Sn 및 Mo으로부터 선택된 하나 이상의 원소가 함유된 Si계 질화물 또는 질산화물로 이루어진 것인 저방사 유리.
청구항 1에 있어서,
상기 금속층은 Ag, Cu, Au, Al 및 Pt로 이루어진 군에서 선택된 1종 이상인 것인 저방사 유리.
청구항 1에 있어서,
상기 흡수층은 상기 금속층에 접한 층으로서 Ni, Cr 또는 Ni-Cr 합금을 포함하는 저방사 유리.