KR20190004255A - Apparatus for treating substrate - Google Patents
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Abstract
Description
본 발명은 기판을 가스 처리하는 장치에 관한 것이다.The present invention relates to an apparatus for gas treating a substrate.
반도체 소자를 제조하는 공정에 있어서 사진, 식각, 박막 증착, 이온주입, 그리고 세정 등 다양한 공정들이 수행된다. 이러한 공정들 중 식각, 박막 증착, 이온 주입, 그리고 세정 공정에는 공정 가스를 이용한 기판 처리 장치가 사용된다.In the process of manufacturing a semiconductor device, various processes such as photolithography, etching, thin film deposition, ion implantation, and cleaning are performed. Among these processes, a substrate processing apparatus using a process gas is used for etching, thin film deposition, ion implantation, and cleaning processes.
일반적으로 가스 처리 공정은 외부로부터 밀폐된 처리 공간에서 진행된다. 도 1은 일반적인 가스 처리 장치를 보여주는 단면도이다. 도 1을 참조하면, 가스는 챔버(2)의 내부 공간인 처리 공간(4)으로 공급되고, 기판(W)을 처리한 공정 가스 및 이로부터 발생된 공정 부산물은 챔버(2)의 외부로 배기된다. 챔버(2)의 바닥면에는 배기홀(6)이 형성되며, 처리 공간(4)의 분위기는 배기홀(6)을 통해 배기된다.Generally, the gas treatment process is performed in an enclosed treatment space from the outside. 1 is a sectional view showing a general gas processing apparatus. 1, the gas is supplied to the
그러나 처리 공간(4)은 비대칭적인 공간으로 제공된다. 이로 인해 처리 공간(4)의 일부 영역에으로 공정 가스가 쏠리는 현상이 발생된다. 이에 따라 기판(W)은 불균일하게 가스 처리되며, 이는 공정 불량을 야기한다.However, the
본 발명은 기판을 균일하게 가스 처리할 수 있는 장치를 제공하고자 한다.An object of the present invention is to provide an apparatus capable of uniformly gas-treating a substrate.
또한 본 발명은 내부에 비대칭적 공간을 가지는 챔버에 가스를 공급 시 가스가 일부 영역으로 쏠리는 것을 방지할 수 있는 장치를 제공하고자 한다.It is another object of the present invention to provide an apparatus capable of preventing gas from leaking to a partial region when a gas is supplied to a chamber having an asymmetric space therein.
본 발명의 실시예는 기판을 가스 처리하는 장치를 제공한다. 기판 처리 장치는 내부에 처리 공간을 가지며, 일측벽에 개구가 형성되는 챔버, 상기 처리 공간에서 기판을 지지하는 기판 지지 유닛, 상기 처리 공간에 공정 가스를 공급하는 가스 공급 유닛, 상기 처리 공간을 배기하는 배기 유닛, 그리고 상기 챔버의 내측면과 상기 기판 지지 유닛 사이에 위치되며, 상기 처리 공간에서 공정 가스가 영역 별로 균일하게 배기되도록 안내하는 배플 유닛을 포함하되, 상기 배플 유닛은 상기 기판 지지 유닛을 감싸는 링 형상으로 제공되며, 공정 가스가 배기되는 복수의 관통홀들이 형성되는 고정 플레이트 및 상기 고정 플레이트에 적층되게 위치되며, 상기 관통홀들 중 일부에 배기되는 공정 가스의 흐름을 간섭하는 조절 플레이트를 포함하되, 상기 조절 플레이트는 상기 개구와 인접하게 위치된다.An embodiment of the present invention provides an apparatus for gas treating a substrate. The substrate processing apparatus includes a chamber having a processing space therein, a chamber in which an opening is formed in a side wall, a substrate supporting unit for supporting the substrate in the processing space, a gas supply unit for supplying a processing gas to the processing space, And a baffle unit located between the inner side of the chamber and the substrate supporting unit and guiding the process gas to be evenly exhausted in the process space in the process space, And a control plate disposed in a stacked manner on the fixed plate and interfering with a flow of a process gas exhausted to a part of the through holes, Wherein the adjustment plate is positioned adjacent the opening.
상기 장치는 상기 챔버의 외측에서 상기 개구를 개폐하는 도어를 더 포함하되, 상부에서 바라볼 때 상기 조절 플레이트는 상기 기판 지지 유닛의 중심으로부터 상기 개구를 잇는 직선 상에 위치될 수 있다. 상기 조절 플레이트는 상기 기판 지지 유닛의 일부를 감싸는 호 형상으로 제공될 수 있다. 상기 조절 플레이트는 상기 고정 플레이트보다 높게 위치될 수 있다 상기 고정 플레이트는 상기 기판 지지 유닛의 외측면에 결합되는 내측링, 상기 내측링보다 큰 직경을 가지며, 상기 챔버의 내측면에 결합되는 외측링, 그리고 상기 내측링 및 상기 외측링에 고정 결합되며, 상기 관통홀들이 형성되는 중간링을 포함하되, 상기 내측링 및 상기 외측링 각각에는 상기 조절 플레이트가 결합 가능한 나사홀들이 원주 방향을 따라 배열될 수 있다. 상기 고정 플레이트에는 상기 관통홀들이 균등하게 위치되고, 상기 조절 플레이트에는 내측홀 및 이와 상이한 외측홀이 각각 형성될 수 있다. 상기 내측홀 및 상기 외측홀 각각은 서로 상이한 폭을 가질 수 있다. 상기 내측홀은 상기 외측홀에 비해 큰 폭을 가질 수 있다. 상기 내측홀 및 상기 외측홀 각각은 슬릿으로 제공될 수 있다.The apparatus further includes a door that opens and closes the opening outside the chamber, wherein the adjusting plate may be positioned on a straight line connecting the opening from the center of the substrate support unit when viewed from the top. The adjustment plate may be provided in a shape of a circular arc surrounding a part of the substrate supporting unit. Wherein the adjustment plate can be positioned higher than the fixed plate. The fixed plate has an inner ring coupled to an outer surface of the substrate support unit, an outer ring having a larger diameter than the inner ring and coupled to an inner surface of the chamber, And a middle ring fixedly coupled to the inner ring and the outer ring and formed with the through holes, wherein screw holes capable of engaging with the adjustment plate are arranged in the circumferential direction on each of the inner ring and the outer ring have. The through holes may be uniformly positioned in the fixing plate, and the adjusting holes may have an inner hole and a different outer hole. Each of the inner hole and the outer hole may have a different width from each other. The inner hole may have a larger width than the outer hole. Each of the inner hole and the outer hole may be provided with a slit.
본 발명의 실시예에 의하면, 처리 공간에서 가스가 쏠리는 영역에 가스의 흐름을 간섭하는 조절 플레이트가 위치된다. 이로 인해 처리 공간에는 영역 별로 가스가 균일하게 공급될 수 있다.According to an embodiment of the present invention, an adjustment plate is positioned to interfere with the flow of gas in the region where the gas strikes in the processing space. As a result, the gas can be uniformly supplied to each processing space.
또한 본 발명의 실시예에 의하면, 처리 공간에는 영역 별로 가스가 균일하게 공급되므로, 기판의 전체 영역을 균일하게 가스 처리할 수 있다.Further, according to the embodiment of the present invention, since the gas is uniformly supplied to the processing space in each region, the entire region of the substrate can be uniformly gas-processed.
또한 본 발명의 실시예에 의하면, 처리 공간에서 가스의 잔류 시간을 늘릴 수 있다.According to the embodiment of the present invention, the residence time of the gas in the processing space can be increased.
도 1은 일반적인 기판처리장치를 보여주는 단면도이다.
도 2는 본 발명의 실시예에 따른 기판 처리 장치를 보여주는 단면도이다.
도 3은 도 2의 고정 플레이트를 보여주는 평면도이다.
도 4는 도 2의 조절 플레이트를 보여주는 평면도이다.
도 5는 도 2의 고정 플레이트 및 조절 플레이트의 종단면적을 보여주는 단면도이다.
도 6은 도 5의 고정 플레이트 및 조절 플레이트를 종단면적을 보여주는 평면도이다.
도 7은 도 2의 기판 처리 장치의 다른 실시예를 보여주는 단면도이다.
도 8은 도 2의 기판 처리 장치의 또 다른 실시예를 보여주는 단면도이다.1 is a sectional view showing a general substrate processing apparatus.
2 is a sectional view showing a substrate processing apparatus according to an embodiment of the present invention.
FIG. 3 is a plan view showing the fixing plate of FIG. 2; FIG.
Figure 4 is a top view showing the adjustment plate of Figure 2;
5 is a cross-sectional view showing the end surface area of the fixing plate and the adjustment plate of Fig. 2;
Fig. 6 is a plan view showing the longitudinal area of the fixing plate and the adjustment plate of Fig. 5;
FIG. 7 is a cross-sectional view showing another embodiment of the substrate processing apparatus of FIG. 2;
8 is a cross-sectional view showing another embodiment of the substrate processing apparatus of FIG.
본 발명의 실시예는 여러 가지 형태로 변형될 수 있으며, 본 발명의 범위가 아래에서 서술하는 실시예로 인해 한정되어지는 것으로 해석되어서는 안된다. 본 실시예는 당업계에서 평균적인 지식을 가진 자에게 본 발명을 보다 완전하게 설명하기 위해서 제공되는 것이다. 따라서 도면에서의 구성 요소의 형상 등은 보다 명확한 설명을 강조하기 위해서 과장된 것이다.The embodiments of the present invention can be modified into various forms and the scope of the present invention should not be interpreted as being limited by the embodiments described below. The present embodiments are provided to enable those skilled in the art to more fully understand the present invention. Accordingly, the shapes of the components and the like in the drawings are exaggerated in order to emphasize a clearer description.
본 실시예에서는 챔버 내에서 플라즈마를 이용하여 기판을 식각 처리하는 기판 처리 장치를 일 예로 설명한다. 그러나 본 발명은 이에 한정되지 않고, 플라즈마를 이용하여 기판을 처리하는 장치라면 다양한 공정에 적용 가능하다. In this embodiment, a substrate processing apparatus for etching a substrate by using a plasma in a chamber will be described as an example. However, the present invention is not limited to this, and can be applied to various processes as long as it is an apparatus for processing a substrate by using plasma.
이하, 도 2 내지 도 8을 참조하여 본 발명을 설명한다.Hereinafter, the present invention will be described with reference to Figs. 2 to 8. Fig.
도 2는 본 발명의 실시예에 따른 기판처리장치를 보여주는 단면도이다. 도 2를 참조하면, 기판 처리 장치(10)는 챔버(100), 기판 지지 유닛(200), 가스 공급 유닛(300), 플라즈마 소스(400), 배기 유닛(500) 그리고 배플 유닛(600)을 포함한다.2 is a sectional view showing a substrate processing apparatus according to an embodiment of the present invention. 2, the
챔버(100)은 내부에 기판(W)이 처리되는 처리 공간(101)을 제공한다. 챔버(100)는 원형의 통 형상으로 제공된다. 챔버(100)의 일측벽에는 개구가 형성된다. 개구(106)는 기판(W)이 반출입되는 입구로 기능한다. 챔버(100)의 외측면에는 도어(108)가 제공된다. 도어(108)는 개구(106)를 개폐한다. 하우징(100)은 금속 재질로 제공된다. 예컨대, 챔버(100)는 알루미늄 재질로 제공될 수 있다. 챔버(100)의 바닥면에는 배기홀(150)이 형성된다. The
기판 지지 유닛(200)은 처리 공간(101)에서 기판(W)을 지지한다. 기판 지지 유닛(200)은 정전기력을 이용하여 기판(W)을 지지하는 정전척(200)으로 제공될 수 있다. 선택적으로 기판 지지 유닛(200)은 기계적 클램핑과 같은 다양한 방식으로 기판(W)을 지지할 수 있다.The
정전척(200)은 지지판(210), 포커스링(250), 그리고 베이스(230)를 포함한다. 지지판(210)은 유전체 재질을 포함하는 유전판(210)으로 제공된다. 유전판(210)의 상면에는 기판(W)이 직접 놓인다. 유전판(210)은 원판 형상으로 제공된다. 유전판(210)은 기판(W)보다 작은 반경을 가질 수 있다. 유전판(210)의 내부에는 내부 전극(212)이 설치된다. 내부 전극(212)에는 전원(미도시)이 연결되고, 전원(미도시)으로부터 전력을 인가받는다. 내부 전극(212)은 인가된 전력(미도시)으로부터 기판(W)이 유전판(210)에 흡착되도록 정전기력을 제공한다. 유전판(210)의 내부에는 기판(W)을 가열하는 히터(214)가 설치된다. 히터(214)는 내부 전극(212)의 아래에 위치될 수 있다. 히터(214)는 나선 형상의 코일로 제공될 수 있다. 예컨대, 유전판(210)은 세라믹 재질로 제공될 수 있다. The
베이스(230)는 유전판(210)을 지지한다. 베이스(230)는 유전판(210)의 아래에 위치되며, 유전판(210)과 고정결합된다. 베이스(230)의 상면은 그 중앙영역이 가장자리영역에 비해 높도록 단차진 형상을 가진다. 베이스(230)는 그 상면의 중앙영역이 유전판(210)의 저면에 대응하는 면적을 가진다. 베이스(230)의 내부에는 냉각유로(232)가 형성된다. 냉각유로(232)는 냉각유체가 순환하는 통로로 제공된다. 냉각유로(232)는 베이스(230)의 내부에서 나선 형상으로 제공될 수 있다. 베이스에는 외부에 위치된 고주파 전원(234)과 연결된다. 고주파 전원(234)은 베이스(230)에 전력을 인가한다. 베이스(230)에 인가된 전력은 챔버(100) 내에 발생된 플라즈마가 베이스(230)를 향해 이동되도록 안내한다. 베이스(230)는 금속 재질로 제공될 수 있다.The
포커스링(250)은 플라즈마를 기판(W)으로 집중시킨다. 포커스링(250)은 내측링(252) 및 외측링(254)을 포함한다. 내측링(252)은 유전판(210)을 감싸는 환형의 링 형상으로 제공된다. 내측링(252)을 베이스(230)의 가장자리영역에 위치된다. 내측링(252)의 상면은 유전판(210)의 상면과 동일한 높이를 가지도록 제공된다. 내측링(252)의 상면 내측부는 기판(W)의 저면 가장자리영역을 지지한다. 예컨대, 내측링(252)은 도전성 재질로 제공될 수 있다. 외측링(254)은 내측링(252)을 감싸는 환형의 링 형상으로 제공된다. 외측링(254)은 베이스(230)의 가장자리영역에서 내측링(252)과 인접하게 위치된다. 외측링(254)의 상면은 내측링(252)의 상면에 비해 그 높이가 높게 제공된다. 외측링(254)은 절연 물질로 제공될 수 있다.The
가스 공급 유닛(300)은 기판 지지 유닛(200)에 지지된 기판(W) 상으로 공정 가스를 공급한다. 가스 공급 유닛(300)은 가스 저장부(350), 가스 공급 라인(330), 그리고 가스 유입 포트(310)를 포함한다. 가스 공급 라인(330)은 가스 저장부(350) 및 가스 유입 포트(310)를 연결한다. 가스 저장부(350)에 저장된 공정 가스는 가스 공급 라인(330)을 통해 가스 유입 포트(310)으로 공급한다. 가스 유입 포트(310)는 챔버(100)의 상부벽에 설치된다. 가스 유입 포트(310)는 기판 지지 유닛(200)과 대향되게 위치된다. 일 예에 의하면, 가스 유입 포트(310)는 챔버(100) 상부벽의 중심에 설치될 수 있다. 가스 공급 라인(330)에는 밸브가 설치되어 그 내부 통로를 개폐하거나, 그 내부 통로에 흐르는 가스의 유량을 조절할 수 있다. 예컨대, 공정 가스는 식각 가스일 수 있다.The
플라즈마 소스(400)는 챔버(100) 내에 공정가스를 플라즈마 상태로 여기시킨다. 플라즈마 소스(400)로는 유도 결합형 플라즈마(ICP: inductively coupled plasma) 소스가 사용될 수 있다. 플라즈마 소스(400)는 안테나(410) 및 외부전원(430)을 포함한다. 안테나(410)는 챔버(100)의 외측 상부에 배치된다. 안테나(410)는 복수 회 감기는 나선 형상으로 제공되고, 외부전원(430)과 연결된다. 안테나(410)는 외부전원(430)으로부터 전력을 인가받는다. 전력이 인가된 안테나(410)는 챔버(100)의 처리 공간(101)에 방전 공간을 형성한다. 방전 공간 내에 머무르는 공정 가스는 플라즈마 상태로 여기될 수 있다.The
배기 유닛(500)은 처리 공간(101)을 진공 분위기로 형성한다. 배기 유닛(500)은 배기 라인(520) 및 감압 부재(540)를 포함한다. 배기 라인(520)은 배기홀(150)에 연결되고, 감압 부재(540)는 배기 라인(520)에 설치된다. 감압 부재(540)로부터 발생된 감압력은 배기 라인(520)을 통해 처리 공간(101)으로 전달된다. 이에 따라 처리 공간(101)은 감압되어 진공 분위기를 형성할 수 있다. 배기 유닛(500)은 공정 진행 중에 발생되는 부산물 및 챔버(100) 내에 머무르는 플라즈마는 진공압에 의해 챔버(100)의 외부로 배출한다.The
배플 유닛(600)은 처리 공간(101)에서 플라즈마가 영역 별로 균일하게 배기되도록 안내한다. 배플 유닛(600)은 처리 공간(101)에서 챔버(100)의 내측벽과 기판 지지 유닛(200)의 사이에 위치된다. 배플 유닛(600)은 고정 플레이트(610) 및 조절 플레이트(660)를 포함한다. 도 3은 도 2의 고정 플레이트를 보여주는 평면도이고, 도 4는 도 2의 조절 플레이트를 보여주는 평면도이며, 도 5는 도 2의 고정 플레이트 및 조절 플레이트의 종단면적을 보여주는 단면도이다. 도 6은 도 5의 고정 플레이트 및 조절 플레이트를 보여주는 평면도이다. 도 3 내지 도 6을 참조하면, 고정 플레이트(610)에는 관통홀(612)이 균등하게 위치된다. 고정 플레이트(610)는 외측링(620), 내측링(630), 그리고 중간링(640)을 포함한다. 외측링(620), 내측링(630), 그리고 중간링(640) 각각은 환형의 링 형상을 가지도록 제공된다. 외측링(620)은 챔버(100)의 내측면에 고정 결합된다. 외측링(620)은 챔버(100)의 내측면을 감싸도록 제공된다. 외측링(620)은 챔버(100)의 내측면과 대응되는 외경을 가진다. 외측링(620)은 챔버(100)의 내측면에 접촉되게 위치된다. 내측링(630)은 기판 지지 유닛(200)에 고정 결합된다. 내측링(630)은 외측링(620)의 내측에 위치된다. 내측링(630)은 외측링(620)과 동일한 높이에 위치된다. 내측링(630)은 외측링(620)에 비해 작은 직경을 가진다. 내측링(630)은 기판 지지 유닛(200)을 감싸도록 제공된다. 내측링(630)은 베이스에 접촉되게 위치된다. 내측링(630) 및 외측링(620) 각각에는 조절 플레이트(660)가 결합 가능한 나사홀들(미도시)이 형성된다.The
중간링(640)은 환형의 링 형상을 가지는 판으로 제공된다. 중간링(640)은 외측링(620)과 내측링(630) 사이에 위치된다. 중간링(640)에는 상단으로부터 하단까지 연장되는 복수의 관통홀(612)들이 형성된다. 관통홀(612)들은 수직한 상하 방향을 향하도록 제공된다. 관통홀(612)들은 중간링(640)의 전체 영역에 균일하게 배열된다. 각각의 관통홀(612)은 기판 지지 유닛(200)의 반경 방향을 향하는 슬릿으로 제공될 수 있다. 각각의 관통홀(612)은 중간링(640)의 원주 방향을 따라 배열될 수 있다. 일 예에 의하면, 관통홀(612)은 내부홀(614) 및 외부홀(616)을 포함한다. 내부홀(614)은 복수 개로 제공되며, 기판 지지 유닛(200)에 가깝게 위치된다. 내부홀(614)들은 원주 방향을 따라 배열된다. 외부홀(616)은 복수 개로 제공되며, 내부홀(614)에 비해 챔버(100)의 내측면에 가깝게 위치된다. 외부홀(616)들은 원주 방향을 따라 배열된다. 내부홀(614) 및 외부홀(616)은 동일한 폭(D1) 및 깊이를 가질 수 있다.The
조절 플레이트(660)는 고정 플레이트(610)에 적층되게 위치된다. 조절 플레이트(660)는 일부 관통홀(612)로 배기되는 가스의 흐름을 간섭한다. 조절 플레이트(660)는 처리 공간(101)에서 가스의 흐름이 쏠리는 영역에서 가스의 흐름을 간섭한다. 조절 플레이트(660)는 기판 지지 유닛(200)의 일부를 감싸도록 제공된다. 조절 플레이트(660)는 호 형상을 가지도록 제공된다. 조절 플레이트(660)는 고정 플레이트(610) 보다 높게 위치된다. 조절 플레이트(660)는 외측링(620) 및 내측링(630)에 형성된 나사홀(미도시)에 나사 결합될 수 있다. 상부에서 바라볼 때 조절 플레이트(660)는 처리 공간(101)의 비대칭 영역에 인접하게 위치될 수 있다. 일 예에 의하면, 처리 공간(101)의 비대칭 영역은 챔버(100)의 일측벽에 형성되는 개구일 수 있다. 조절 플레이트(660)는 챔버(100)의 개구와 인접하게 위치될 수 있다. 즉 상부에서 바라볼 때 조절 플레이트(660)는 기판 지지 유닛(200)의 중심으로부터 챔버(100)의 개구(106)를 잇는 직선 상에 위치될 수 있다. The
조절 플레이트(660)에는 내측홀(670) 및 외측홀(680)이 각각 형성된다. 내측홀(670)은 조절 플레이트(660)에서 내측 영역에 위치되고, 외측홀(680)은 외측 영역에 위치된다. 내측홀(670) 및 외측홀(680)은 서로 상이한 형상으로 제공된다. 내측홀(670) 및 외측홀(680) 각각은 라운드진 슬릿으로 제공된다. 내측홀(670)은 내측폭(D2)을 가지고, 외측홀(680)은 외측폭(D3)을 가지도록 제공된다. 내측폭(D2) 및 외측폭(D3)은 서로 상이하게 제공된다. 일 예에 의하면, 내측폭(D2)은 외측폭(D3)에 비해 큰 폭을 가질 수 있다. 내측폭(D2)은 관통홀(612)의 폭(D1)과 대응되게 제공될 수 있다. 이와 달리 외측폭(D3)은 관통홀(612)의 폭(D1)보다 짧게 제공될 수 있다. 외측홀(680)은 복수 개로 제공되며, 각각은 기판 지지 유닛(200)의 방향을 따라 배열될 수 있다. 외측홀(680)은 3 개일 수 있다. 선택적으로, 외측홀(680)은 1 개 또는 2 개이거나, 4 개 이상일 수 있다.The adjusting
내측홀(670) 및 외측홀(680) 각각은 경사진 방향을 향하도록 제공된다. 내측홀(670) 및 외측홀(680) 각각은 조절 플레이트(660)의 상단에서 하단으로 갈수록 하향 경사진 방향을 향하도록 제공될 수 있다. 이에 따라 플라즈마는 처리 공간(101)의 외측에서 내측을 향하는 방향으로 배기될 수 있으며, 이는 처리 공간(101)에서 플라즈마의 잔류 시간을 늘릴 수 있다.Each of the
상술한 실시예에는 조절 플레이트(660)가 고정 플레이트(610)보다 높게 위치되는 것으로 설명하였다. 그러나 도 7과 같이, 조절 플레이트(660)는 고정 플레이트(610)보다 낮게 위치될 수 있다. In the above-described embodiment, the
또한 도 8과 같이, 조절 플레이트(660)는 복수 개로 제공되며, 처리 공간(101)의 비대칭 영역들 각각에 인접하게 위치될 수 있다.8, the
또한 외측홀들(680)은 서로 상이한 폭을 가질 수 있다. 조절 플레이트(660)에서 외측에 가깝게 위치되는 외측홀(680)일수록 작은 폭을 가질 수 있다.The
600: 배플 유닛
610: 고정 플레이트
612: 관통홀
620: 외측링
630: 내측링
640: 중간링
660: 조절 플레이트
670: 내측홀
680: 외측홀600: Baffle unit 610: Fixing plate
612: Through hole 620: Outer ring
630: Inner ring 640: Middle ring
660: Adjusting plate 670: Inner hole
680: outer hole
Claims (7)
상기 챔버의 외측에서 상기 개구를 개폐하는 도어와;
상기 처리 공간에서 기판을 지지하는 기판 지지 유닛과;
상기 처리 공간에 공정 가스를 공급하는 가스 공급 유닛과;
상기 처리 공간을 배기하는 배기 유닛과;
상기 챔버의 내측면과 상기 기판 지지 유닛 사이에 위치되며, 상기 처리 공간에서 공정 가스가 영역 별로 균일하게 배기되도록 안내하는 배플 유닛을 포함하되,
상기 배플 유닛은,
상기 기판 지지 유닛을 감싸는 링 형상으로 제공되며, 공정 가스가 배기되는 복수의 관통홀이 형성되는 고정 플레이트와;
상기 고정 플레이트에 적층되게 위치되며, 상기 관통홀들 중 일부에 배기되는 공정 가스의 흐름을 간섭하는 조절 플레이트를 포함하되,
상기 고정 플레이트의 상기 관통홀은 내부홀과 외부홀을 포함하고,
상기 내부홀은 상기 외부홀 보다 상기 기판 지지 유닛에 가깝게 위치되며,
상기 조절 플레이트는 상기 개구와 인접하게 위치되며, 상기 조절 플레이트에는 서로 폭이 상이한 내측홀 및 외측홀이 각각 형성되고,
상기 내측홀은 상기 내부홀과 대응되며, 상기 내부홀과 폭이 일치하도록 제공되며,
상기 외측홀은 복수 개로 제공되고, 상기 외부홀과 대응되며, 각각의 상기 외측홀의 폭이 상기 외부홀보다 짧게 제공되고,
상기 조절 플레이트는,
상부에서 바라볼 때 상기 기판 지지 유닛의 중심으로부터 상기 개구를 잇는 직선 상에 위치되는 기판 처리 장치.A chamber having a processing space therein and having an opening formed in a side wall thereof;
A door that opens and closes the opening outside the chamber;
A substrate supporting unit for supporting the substrate in the processing space;
A gas supply unit for supplying a process gas to the process space;
An exhaust unit for exhausting the processing space;
A baffle unit positioned between the inner side of the chamber and the substrate support unit and guiding the process gas in the process space to be evenly exhausted in each region,
The baffle unit includes:
A fixing plate provided in a ring shape surrounding the substrate supporting unit and having a plurality of through holes through which the process gas is exhausted;
And an adjusting plate positioned to be stacked on the fixed plate and interfering with a flow of the process gas exhausted to a part of the through holes,
Wherein the through hole of the fixing plate includes an inner hole and an outer hole,
Wherein the inner hole is positioned closer to the substrate supporting unit than the outer hole,
Wherein the adjustment plate is positioned adjacent to the opening, wherein the adjustment plate is formed with an inner hole and an outer hole having different widths from each other,
Wherein the inner hole corresponds to the inner hole and is provided so as to have a width equal to the inner hole,
Wherein the plurality of outer holes are provided and correspond to the outer holes, the width of each of the outer holes is provided shorter than the outer holes,
The adjustment plate includes:
And is positioned on a straight line connecting the center of the substrate supporting unit and the opening when viewed from above.
상기 내측홀과 상기 외측홀 각각은 상기 조절 플레이트의 상단에서 하단으로 갈수록 하향 경사진 방향을 향하도록 제공되는 기판 처리 장치.The method according to claim 1,
Wherein each of the inner hole and the outer hole is provided so as to be inclined downwardly from an upper end to a lower end of the adjusting plate.
상기 조절 플레이트는 상기 기판 지지 유닛의 일부를 감싸는 호 형상으로 제공되는 기판 처리 장치.3. The method according to claim 1 or 2,
Wherein the adjustment plate is provided in a shape of an arc surrounding a part of the substrate supporting unit.
상기 조절 플레이트는 상기 고정 플레이트보다 높게 위치되는 기판 처리 장치.The method of claim 3,
Wherein the adjusting plate is positioned higher than the fixing plate.
상기 고정 플레이트는,
상기 기판 지지 유닛의 외측면에 결합되는 내측링과;
상기 내측링보다 큰 직경을 가지며, 상기 챔버의 내측면에 결합되는 외측링과;
상기 내측링 및 상기 외측링에 고정 결합되며, 상기 관통홀들이 형성되는 중간링을 포함하되,
상기 내측링 및 상기 외측링 각각에는 상기 조절 플레이트가 결합 가능한 나사홀들이 원주 방향을 따라 배열되는 기판 처리 장치.5. The method of claim 4,
The fixing plate includes:
An inner ring coupled to an outer surface of the substrate support unit;
An outer ring having a larger diameter than the inner ring and coupled to an inner surface of the chamber;
And an intermediate ring fixedly coupled to the inner ring and the outer ring, wherein the intermediate ring is formed with the through holes,
Wherein the inner ring and the outer ring are respectively provided with threaded holes engageable with the adjustment plate in the circumferential direction.
상기 고정 플레이트에는 상기 관통홀들이 균등하게 위치되는 기판 처리 장치.6. The method of claim 5,
And the through holes are uniformly positioned in the fixing plate.
상기 내측홀 및 상기 외측홀 각각은 슬릿으로 제공되는 기판 처리 장치.
The method according to claim 6,
Wherein each of the inner hole and the outer hole is provided as a slit.
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