KR20180136771A - 반도체 웨이퍼의 위치 정렬 장치 및 그 방법 - Google Patents

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Abstract

본 발명은 반도체 웨이퍼의 위치 정렬 장치 및 그 방법에 관한 것으로, 반도체 웨이퍼가 안착되고, 회전 가능한 웨이퍼 척; 상기 웨이퍼 척에 안착된 반도체 웨이퍼의 가장자리에 XY 방향으로 미는 힘을 가하여 상기 반도체 웨이퍼의 중심점을 상기 웨이퍼 척의 중심점 위치로 이동시키는 센터 정렬부; 상기 웨이퍼 척의 중심점 위치로 중심점이 이동된 반도체 웨이퍼를 촬영하는 카메라; 및 상기 카메라에 연결되고, 상기 카메라에서 촬영된 영상으로부터 상기 반도체 웨이퍼의 플랫존을 검출하며, 상기 검출된 플랫존과 미리 저장된 기준 수평선을 비교하여 상기 반도체 웨이퍼의 회전 오프셋을 확인하고, 확인된 회전 오프셋에 따라 상기 웨이퍼 척이 회전하도록 제어하여 상기 반도체 웨이퍼를 회전시키는 검출부를 포함한다.

Description

반도체 웨이퍼의 위치 정렬 장치 및 그 방법{APPARATUS FOR ALIGNING SEMICONDUCTOR WAFER AND METHOD THEREOF}
본 발명은 반도체 웨이퍼의 위치 정렬 장치 및 그 방법에 관한 것으로, 더욱 자세하게는, 반도체 웨이퍼의 중심점 위치를 정렬하며, 반도체 웨이퍼를 촬영한 영상을 이용하여 반도체 웨이퍼의 회전 오프셋을 확인하고 보정할 수 있도록 한 반도체 웨이퍼의 위치 정렬 장치 및 그 방법에 관한 것이다.
일반적으로 반도체 제조 공정은 전공정과 후공정으로 나뉘는데, 전공정은 반도체가 될 칩을 웨이퍼 상태에서 제작하는 과정이고, 후공정은 제조된 칩으로 반도체를 생산하는 과정을 말한다. 전공정의 마지막 단계에는 검사장비가 자동으로 반도체 웨이퍼 위에 구현된 각 칩에 탐침을 통해 전기 신호를 인가하여 불량 여부를 검사하는 웨이퍼 자동 선별 과정이 있다.
이때, 웨이퍼 상의 칩은 크기가 매우 작기 때문에 웨이퍼의 위치가 정밀하게 정렬되어 있지 않으면, 탐침이 올바른 위치에 전기신호를 인가할 수 없고, 그 결과, 반도체 칩의 양불 판정에 오류를 야기한다. 따라서 불량여부를 검사하는 웨이퍼 자동 선별 과정 직전에 웨이퍼의 위치를 반드시 정렬해 주어야 한다.
여기서, 도 1에 도시된 바와 같이, 반도체 웨이퍼(10)의 플랫존이 정렬 위치로부터 θ만큼 기울어진 상태일 경우, 반도체 공정 설비 내에는 회전 오프셋 θ를 보정하기 위한 별도의 장비가 구비된다. 이때, 회전 오프셋 θ를 정밀하게 보정하기 위해서는 반도체 웨이퍼의 중심점 위치를 정렬시키는 작업이 필요하다. 이를 위해, 종래에는 작업자가 수동으로 직접 반도체 웨이퍼의 중심점 위치 정렬시키거나, 반도체 웨이퍼를 이송하는 아암부를 조절하여 반도체 웨이퍼의 중심점이 정렬된 위치에 놓이도록 하는 방법이 있으나, 이러한 방법들은 반도체 웨이퍼의 중심점 위치를 반복해서 정확하게 정렬시키기에는 한계가 있으므로, 중심점 위치를 정확하게 정렬시키기 위한 시간이 많이 소요될 뿐만 아니라, 그에 따른 제조 설비의 가동률과 생산성이 저하되는 문제점이 있다.
대한민국 공개특허공보 제10-2007-0024907호
본 발명은 상술한 문제를 해결하기 위해 제안된 것으로서, 웨이퍼 척에 안착된 반도체 웨이퍼의 가장자리에 XY 방향으로 미는 힘을 가하여 반도체 웨이퍼의 중심점을 웨이퍼 척의 중심점 위치에 정확하게 정렬시킬 수 있는 반도체 웨이퍼의 위치 정렬 장치 및 그 방법을 제공하는데 그 목적이 있다.
상기 기술적 과제를 달성하기 위해 개시된 본 발명의 실시예에 따른 반도체 웨이퍼의 위치 정렬 장치는, 반도체 웨이퍼가 안착되고, 회전 가능한 웨이퍼 척; 상기 웨이퍼 척에 안착된 반도체 웨이퍼의 가장자리에 XY 방향으로 미는 힘을 가하여 상기 반도체 웨이퍼의 중심점을 상기 웨이퍼 척의 중심점 위치로 이동시키는 센터 정렬부; 상기 웨이퍼 척의 중심점 위치로 중심점이 이동된 반도체 웨이퍼를 촬영하는 카메라; 및 상기 카메라에 연결되고, 상기 카메라에서 촬영된 영상으로부터 상기 반도체 웨이퍼의 플랫존을 검출하며, 상기 검출된 플랫존과 미리 저장된 기준 수평선을 비교하여 상기 반도체 웨이퍼의 회전 오프셋을 확인하고, 확인된 회전 오프셋에 따라 상기 웨이퍼 척이 회전하도록 제어하여 상기 반도체 웨이퍼를 회전시키는 검출부를 포함한다.
여기서, 상기 센터 정렬부는, 중심부가 상기 웨이퍼 척에 연결되는 베이스부; 상기 웨이퍼 척을 사이에 두고 서로 대향하도록 구비되고, 상기 웨이퍼 척을 기준으로 상호 가까워지거나 멀어지는 방향으로 직선 왕복 운동이 가능한 한 쌍의 수평 이동부; 및 상기 반도체 웨이퍼에 대응하는 형상의 구조물로서 상기 한 쌍의 수평 이동부에 각각 일체로 형성되고, 상기 수평 이동부의 직선 왕복 운동에 따라 상기 웨이퍼 척에 안착된 반도체 웨이퍼의 가장자리에 접하여 상기 반도체 웨이퍼의 중심점을 향하여 XY 방향으로 미는 힘을 가하는 가압 부재를 포함할 수 있다.
여기서, 상기 가압 부재는 상기 한 쌍의 수평 이동부 각각의 일면에 미리 정해진 간격을 두고 돌출 형성된 복수의 바로 구비될 수 있다.
이때, 상기 복수의 바는, 6개가 구비되고, 상기 반도체 웨이퍼의 원주 방향을 따라 60°간격으로 6 방향에서 미는 힘을 가하도록 배치될 수 있다.
상기와 같은 목적을 달성하기 위하여 본 발명의 실시예에 따른 반도체 웨이퍼의 위치 정렬 방법은, (a) 반도체 웨이퍼를 웨이퍼 척에 안착시키는 단계; (b) 상기 웨이퍼 척에 안착된 반도체 웨이퍼의 가장자리에 XY 방향으로 미는 힘을 가하여 상기 반도체 웨이퍼의 중심점을 상기 웨이퍼 척의 중심점 위치로 이동시키는 단계; (c) 카메라를 이용하여 상기 반도체 웨이퍼를 촬영하는 단계; (d) 상기 카메라로 촬영된 영상으로부터 상기 반도체 웨이퍼의 플랫존을 검출하는 단계; 및 (e) 상기 검출된 플랫존과 미리 저장된 기준 수평선을 비교하여 상기 반도체 웨이퍼의 회전 오프셋을 확인하고, 확인된 회전 오프셋에 따라 상기 반도체 웨이퍼가 안착된 웨이퍼 척을 회전시키는 단계를 포함한다.
개시된 기술의 실시예는 다음의 장점을 포함하는 효과를 가질 수 있다. 다만, 개시된 기술의 실시예가 이를 전부 포함하여야 한다는 의미는 아니므로, 개시된 기술의 권리범위는 이에 의하여 제한되는 것으로 이해되어서는 아니 될 것이다.
본 발명은 웨이퍼 척에 안착된 반도체 웨이퍼의 가장자리에 XY 방향으로 미는 힘을 가함으로써 반도체 웨이퍼의 중심점을 웨이퍼 척의 중심점 위치에 정확하게 정렬시킬 수 있다.
또한, 본 발명은 반도체 웨이퍼의 중심점 위치가 정렬되면서 회전 오프셋을 보정하기 위한 최적의 위치에 놓여지므로, 반도체 웨이퍼의 정렬 시간을 단축시키고, 반도체 제조 공정의 생산성을 높일 수 있는 효과가 있다.
도 1은 반도체 웨이퍼의 회전 오프셋을 설명하기 위한 예시도이다.
도 2a 및 도 2b는 본 발명의 실시예에 따른 반도체 웨이퍼의 위치 정렬 장치를 나타내는 도면이다.
도 3은 본 발명의 실시예에 따른 반도체 웨이퍼의 위치 정렬 장치에서 반도체 웨이퍼가 안착된 상태를 나타내는 사시도이다.
도 4는 본 발명의 실시예에 따른 반도체 웨이퍼의 위치 정렬 장치에서 복수의 바가 반도체 웨이퍼의 가장자리에 접하는 상태를 나타내는 사시도이다.
도 5는 본 발명의 실시예에 따른 반도체 웨이퍼의 위치 정렬 장치에서 반도체 웨이퍼가 웨이퍼 척으로부터 언로딩되는 상태를 나타내는 사시도이다.
도 6은 본 발명의 실시예에 따른 반도체 웨이퍼의 위치 정렬 방법을 나타내는 순서도이다.
개시된 기술에 관한 설명은 구조적 내지 기능적 설명을 위한 실시예에 불과하므로, 개시된 기술의 권리범위는 본문에 설명된 실시예에 의하여 제한되는 것으로 해석되어서는 아니 된다. 즉, 실시예는 다양한 변경이 가능하고 여러 가지 형태를 가질 수 있으므로 개시된 기술의 권리범위는 기술적 사상을 실현할 수 있는 균등물들을 포함하는 것으로 이해되어야 한다.
한편, 본 출원에서 서술되는 용어의 의미는 다음과 같이 이해되어야 할 것이다.
'제1', '제2' 등의 용어는 하나의 구성요소를 다른 구성요소로부터 구별하기 위한 것으로 이들 용어들에 의해 권리범위가 한정되어서는 아니 된다. 예를 들어, 제1 구성요소는 제2 구성요소로 명명될 수 있고, 유사하게 제2 구성요소도 제1 구성요소로 명명될 수 있다.
어떤 구성요소가 다른 구성요소에 "연결되어" 있다고 언급된 때에는, 그 다른 구성요소에 직접적으로 연결될 수도 있지만, 중간에 다른 구성요소가 존재할 수도 있다고 이해되어야 할 것이다. 반면에, 어떤 구성요소가 다른 구성요소에 "직접 연결되어" 있다고 언급된 때에는, 중간에 다른 구성요소가 존재하지 않는 것으로 이해되어야 할 것이다. 한편, 구성요소들 간의 관계를 설명하는 다른 표현들, 즉 "~사이에"와 "바로 ~사이에" 또는 "~에 이웃하는"과 "~에 직접 이웃하는" 등도 마찬가지로 해석되어야 한다.
단수의 표현은 문맥상 명백하게 다르게 뜻하지 않는 한 복수의 표현을 포함하는 것으로 이해되어야 하고, "포함하다" 또는 "가지다" 등의 용어는 실시된 특징, 숫자, 단계, 동작, 구성요소, 부분품 또는 이들을 조합한 것이 존재함을 지정하려는 것이지, 하나 또는 그 이상의 다른 특징들이나 숫자, 단계, 동작, 구성요소, 부분품 또는 이들을 조합한 것들의 존재 또는 부가 가능성을 미리 배제하지 않는 것으로 이해되어야 한다.
여기서 사용되는 모든 용어들은 다르게 정의되지 않는 한, 개시된 기술이 속하는 분야에서 통상의 지식을 가진 자에 의해 일반적으로 이해되는 것과 동일한 의미를 가진다. 일반적으로 사용되는 사전에 정의되어 용어들은 관련 기술의 문맥상 가지는 의미와 일치하는 것으로 해석되어야 하며, 본 출원에서 명백하게 정의하지 않는 한 이상적이거나 과도하게 형식적인 의미를 지니는 것으로 해석될 수 없다.
도 2a 및 도 2b는 본 발명의 실시예에 따른 반도체 웨이퍼의 위치 정렬 장치를 나타내는 도면이고, 도 3은 본 발명의 실시예에 따른 반도체 웨이퍼의 위치 정렬 장치에서 반도체 웨이퍼가 안착된 상태를 나타내는 사시도이며, 도 4는 본 발명의 실시예에 따른 반도체 웨이퍼의 위치 정렬 장치에서 복수의 바가 반도체 웨이퍼의 가장자리에 접하는 상태를 나타내는 사시도이고, 도 5는 본 발명의 실시예에 따른 반도체 웨이퍼의 위치 정렬 장치에서 반도체 웨이퍼가 웨이퍼 척으로부터 언로딩되는 상태를 나타내는 사시도이다.
도 2a 및 도 2b에 도시된 바와 같이, 본 발명에 따른 반도체 웨이퍼(10)의 위치 정렬 장치는 웨이퍼 척(100), 센터 정렬부(200), 카메라(300) 및 검출부(400)를 포함하여 구성될 수 있다.
웨이퍼 척(100)은 반도체 웨이퍼(10)가 안착되고, 반도체 웨이퍼(10)와 구별될 수 있는 색상으로 구현될 수 있다. 또한, 웨이퍼 척(100)은 반도체 웨이퍼(10)의 회전 오프셋 존재 유무에 따라 회전 수단(110)에 의해 반도체 웨이퍼(10)의 중심점을 지나는 수직선을 회전축으로 하여 xy 평면에 나란하게 회전하도록 구비될 수 있다.
센터 정렬부(200)는 웨이퍼 척(100)에 안착된 반도체 웨이퍼(10)의 가장자리에 XY 방향으로 미는 힘을 가하여 반도체 웨이퍼(10)의 중심점을 웨이퍼 척(100)의 중심점 위치로 이동시키는 것으로, 베이스부(210), 수평 이동부(220) 및 복수의 바(230)를 포함하여 구성될 수 있다.
베이스부(210)는 중심부에 웨이퍼 척(100)이 연결된다. 또한, 베이스부(210)는 웨이퍼 척(100)을 사이에 두고 상호 이격된 복수의 장공(211)이 형성된다. 여기서, 복수의 장공(211)은 각각 베이스부(210)의 길이 방향을 따라 형성될 수 있다.
수평 이동부(220)는 복수의 장공(211) 각각에 삽입되어 웨이퍼 척(100)을 사이에 두고 서로 대향하도록 한 쌍이 구비된다. 여기서, 수평 이동부(220)는 복수의 장공(211)을 따라 웨이퍼 척(100)을 기준으로 상호 가까워지거나 멀어지는 방향으로 직선 왕복 운동이 가능하도록 구비될 수 있다. 비록 도시되지는 않았으나, 구동부(미도시)는 수평 이동부(220)에 연결되며, 직선 왕복 이동의 구동력을 제공할 수 있다. 구동부는 모터, 실린더 등의 다양한 액츄에이터(Actuator)를 직접 연결하여 구현하거나 필요에 따라 캠(Cam) 등의 동력 전달 부재를 이용하여 구현할 수도 있다. 다양한 액츄에이터를 이용하여 원하는 구동 메커니즘을 구현하는 방법은 잘 알려져 있으므로 자세한 설명은 생략하기로 한다. 또한, 구동부는 검출부(400)를 포함하는 제어부에 전기적으로 연결될 수 있으며, 제어부는 구동부로부터 발생되는 구동력을 제어함으로써 수평 이동부(220)의 동작을 제어할 수 있다.
한편, 수평 이동부(220)는 반도체 웨이퍼(10)의 형상에 대응하도록 곡면으로 형성될 수 있다. 여기서, 가압 부재인 복수의 바(230)는 반도체 웨이퍼에 대응하는 형상의 구조물로서 한 쌍의 수평 이동부(220)에 각각 일체로 형성되고, 수평 이동부(220)의 직선 왕복 운동에 따라 웨이퍼 척(100)에 안착된 반도체 웨이퍼(10)의 가장자리에 접하여 반도체 웨이퍼(10)의 중심점을 향하여 XY 방향으로 미는 힘을 가할 수 있다.
이때, 복수의 바(230)는 한 쌍의 수평 이동부(220) 각각의 일면에 미리 정해진 간격을 두고 돌출 형성되어 반도체 웨이퍼(10)의 원주 방향을 따라 서로 이격되게 배열될 수 있다. 예를 들면, 복수의 바(230)는, 4개 이상, 바람직하게는, 도 2b에 도시된 바와 같이 6개 구비되어, 반도체 웨이퍼(10)에 4개 이상의 방향, 바람직하게는 반도체 웨이퍼(10)의 원주를 따라서 약 60°의 간격으로 6개 방향에서 반도체 웨이퍼(10)의 중심점을 관통하는 중심선을 향하여 미는 힘을 가하는 방식으로 반도체 웨이퍼(10)의 중심점을 웨이퍼 척(100)의 중심점 위치로 이동시킬 수 있다.
도 3과 같이, 웨이퍼 척(100)에 반도체 웨이퍼(10)가 안착되면, 도 4와 같이 수평 이동부(220)가 복수의 장공(211)을 따라 상호 가까워지는 방향으로 이동하여 반도체 웨이퍼(10)의 가장자리에 접할 수 있다. 이때, 수평 이동부(220)는 서로 대향하도록 배치되고 반도체 웨이퍼(10)의 형상에 대응하도록 형성되므로, 수평 이동부(220)에 일체로 형성된 복수의 바(230)는 반도체 웨이퍼(10)의 가장자리에 접하는 동시에 복수의 바(230)에 의해 정의되는 경계선 내에 반도체 웨이퍼(10)가 위치하도록 반도체 웨이퍼(10)를 이동시킬 수 있다. 이로 인해, 반도체 웨이퍼(10)의 중심점은 웨이퍼 척(100)의 중심점 위치로 이동될 수 있고, 회전 오프셋을 보정하기 위한 최적의 위치에 놓여질 수 있다.
한편, 카메라(300)는 센터 정렬부(200)에 의해 중심점 위치가 이동된 반도체 웨이퍼(10)를, 특히, 플랫존, 즉, 반도체 웨이퍼(10) 하단의 직선 부분을 포함하여 촬영할 수 있다. 이를 위해 카메라(300)는 반도체 웨이퍼(10)의 중심점 또는 플랫존의 중심의 상부에 위치하도록 설치될 수 있다.
검출부(400)는 카메라(300)에 연결되고, 카메라(300)에 의해 촬영된 영상으로부터 반도체 웨이퍼(10)의 플랫존을 검출하며, 검출된 플랫존의 각도와 메모리에 미리 저장된 기준 수평선을 비교하여 반도체 웨이퍼(10)의 회전 오프셋을 확인한다. 검출부(400)는 반도체 웨이퍼(10)의 플랫존 검출 시 세선화 알고리즘을 사용할 수 있으나, 이에 한정되지 않으며, 다양한 알고리즘을 사용할 수 있다.
검출부(400)의 확인 결과 반도체 웨이퍼(10)의 회전 오프셋이 존재 즉, 회전 오프셋이 0보다 크면, 검출부(400)는 반도체 웨이퍼(10)의 회전 오프셋을 보정하기 위한 제어 신호를 생성하여 제어 신호를 회전 수단(110)에 전달할 수 있다. 예를 들어, 반도체 웨이퍼(10)의 플랫존이 좌측으로 기울어져 회전 오프셋 θ가 존재하는 경우, 검출부(400)는 반도체 웨이퍼(10)가 안착된 웨이퍼 척(100)이 우측으로 θ만큼 회전하도록 회전 수단(110)을 제어할 수 있다. 따라서, 도 5에 도시된 바와 같이, 웨이퍼 척(100)에 안착된 반도체 웨이퍼(10)는 회전 오프셋이 보정된 상태로 아암부(20)에 의해 언로딩될 수 있다.
도 6은 본 발명의 실시예에 따른 반도체 웨이퍼의 위치 정렬 방법을 나타내는 순서도이다.
도 6에 도시한 바와 같이, 먼저, 아암부(20)는 카세트부(미도시)에 적재된 복수의 반도체 웨이퍼(10) 중 어느 하나를 웨이퍼 척(100)에 안착시킨다(S100).
다음에, 센터 정렬부(200)는 웨이퍼 척(100)에 안착된 반도체 웨이퍼(10)의 가장자리에 XY 방향으로 미는 힘을 가하여 반도체 웨이퍼(10)의 중심점을 웨이퍼 척(100)의 중심점 위치로 이동시킨다. 즉, 센터 정렬부(200)의 제어부는 구동부를 제어하여 웨이퍼 척(100)에 안착된 반도체 웨이퍼(10)를 사이에 두고 서로 대향하는 복수의 바(230)를 상호 가까워지는 방향으로 이동시킨다(S210). 이로 인해, 복수의 바(230)는 웨이퍼 척(100)에 안착된 반도체 웨이퍼(10)의 가장자리에 접하면서 반도체 웨이퍼(10)의 중심점을 향하여 XY 방향으로 미는 힘을 가하여 반도체 웨이퍼(10)의 중심점을 웨이퍼 척(100)의 중심점 위치로 이동시킨다(S220). 다시 말하면, 복수의 바(230)는 반도체 웨이퍼(10)의 가장자리에 접하는 동시에 복수의 바(230)에 의해 정의되는 경계선 내에 반도체 웨이퍼(10)가 위치하도록 반도체 웨이퍼(10)를 이동시킬 수 있다. 따라서, 반도체 웨이퍼(10)의 중심점은 웨이퍼 척(100)의 중심점 위치로 이동될 수 있고, 회전 오프셋을 보정하기 위한 최적의 위치에 놓여질 수 있다. 이후에, 센터 정렬부(200)의 제어부는 구동부를 제어하여 복수의 바(230)를 상호 멀어지는 방향으로 이동시킨다(S230).
다음에, 카메라(300)는 센터 정렬부(200)에 의해 중심점 위치가 이동된 반도체 웨이퍼(10)를 촬영하고(S300), 검출부(400)는 카메라(300)로 촬영된 영상으로부터 반도체 웨이퍼(10)의 플랫존을 검출한다(S400).
이후에, 검출부(400)는 검출된 플랫존과 미리 저장된 기준 수평선을 비교하여 반도체 웨이퍼(10)의 회전 오프셋을 확인한다(S510). 여기서, 반도체 웨이퍼(10)의 회전 오프셋이 존재하지 않으면, 검출부(400)는 반도체 웨이퍼(10)에 대한 보정이 완료되었다고 판단하고 회전 오프셋의 보정 과정 없이 바로 반도체 웨이퍼(10)를 웨이퍼 척(100)으로부터 언로딩시킬 수 있다.
반면, 반도체 웨이퍼(10)의 회전 오프셋이 존재하면, 검출부(400)는 반도체 웨이퍼(10)가 안착된 웨이퍼 척(100)을 회전시켜 회전 오프셋을 보정할 수 있다. 즉, 검출부(400)는 반도체 웨이퍼(10)의 회전 오프셋을 보정하기 위한 제어 신호를 생성하고(S520), 생성된 제어 신호를 회전 수단(110)에 전달한다(S530). 검출부(400)로부터 제어 신호가 전달되면, 회전 수단(110)은 제어 신호에 따라 반도체 웨이퍼(10)가 안착된 웨이퍼 척(100)을 회전시켜 반도체 웨이퍼(10)의 회전 오프셋을 보정한다(S540). 이후에, 아암부(20)는 회전 오프셋이 보정된 상태의 반도체 웨이퍼(10)를 웨이퍼 척(100)으로부터 언로딩시킨다(S600).
이와 같이, 본 발명은 웨이퍼 척(100)에 안착된 반도체 웨이퍼(10)의 가장자리에 XY 방향으로 미는 힘을 가함으로써 반도체 웨이퍼(10)의 중심점을 웨이퍼 척(100)의 중심점 위치에 정확하게 정렬시킬 수 있다. 이로 인해, 반도체 웨이퍼(10)의 중심점 위치가 정렬되면서 회전 오프셋을 보정하기 위한 최적의 위치에 놓여지므로, 반도체 웨이퍼(10)의 정렬 시간을 단축시키고, 반도체 제조 공정의 생산성을 높일 수 있다.
한편, 이러한 단계들은 카세트부에 적재된 모든 반도체 웨이퍼(10)가 정렬될 때까지 반복해서 수행될 수 있다.
이상 본 발명을 바람직한 실시예를 통하여 설명하였는데, 상술한 실시예는 본 발명의 기술적 사상을 예시적으로 설명한 것에 불과하며, 본 발명의 기술적 사상을 벗어나지 않는 범위 내에서 다양한 변화가 가능함은 이 분야에서 통상의 지식을 가진 자라면 이해할 수 있을 것이다. 따라서 본 발명의 보호범위는 특정 실시예가 아니라 특허청구범위에 기재된 사항에 의해 해석되어야 하며, 그와 동등한 범위 내에 있는 모든 기술적 사상도 본 발명의 권리범위에 포함되는 것으로 해석되어야 할 것이다.
10: 반도체 웨이퍼 20: 아암부
100: 웨이퍼 척 110: 회전 수단
200: 센터 정렬부 210: 베이스부
211: 복수의 장공 220: 수평 이동부
230: 복수의 바 300: 카메라
400: 검출부

Claims (5)

  1. 반도체 웨이퍼가 안착되고, 회전 가능한 웨이퍼 척;
    상기 웨이퍼 척에 안착된 반도체 웨이퍼의 가장자리에 XY 방향으로 미는 힘을 가하여 상기 반도체 웨이퍼의 중심점을 상기 웨이퍼 척의 중심점 위치로 이동시키는 센터 정렬부;
    상기 웨이퍼 척의 중심점 위치로 중심점이 이동된 반도체 웨이퍼를 촬영하는 카메라; 및
    상기 카메라에 연결되고, 상기 카메라에서 촬영된 영상으로부터 상기 반도체 웨이퍼의 플랫존을 검출하며, 상기 검출된 플랫존과 미리 저장된 기준 수평선을 비교하여 상기 반도체 웨이퍼의 회전 오프셋을 확인하고, 확인된 회전 오프셋에 따라 상기 웨이퍼 척이 회전하도록 제어하여 상기 반도체 웨이퍼를 회전시키는 검출부를 포함하는 반도체 웨이퍼의 위치 정렬 장치.
  2. 청구항 1에 있어서,
    상기 센터 정렬부는,
    중심부가 상기 웨이퍼 척에 연결되는 베이스부;
    상기 웨이퍼 척을 사이에 두고 서로 대향하도록 구비되고, 상기 웨이퍼 척을 기준으로 상호 가까워지거나 멀어지는 방향으로 직선 왕복 운동이 가능한 한 쌍의 수평 이동부; 및
    상기 반도체 웨이퍼에 대응하는 형상의 구조물로서 상기 한 쌍의 수평 이동부에 각각 일체로 형성되고, 상기 수평 이동부의 직선 왕복 운동에 따라 상기 웨이퍼 척에 안착된 반도체 웨이퍼의 가장자리에 접하여 상기 반도체 웨이퍼의 중심점을 향하여 XY 방향으로 미는 힘을 가하는 가압 부재를 포함하는 반도체 웨이퍼의 위치 정렬 장치.
  3. 청구항 2에 있어서,
    상기 가압 부재는 상기 한 쌍의 수평 이동부 각각의 일면에 미리 정해진 간격을 두고 돌출 형성된 복수의 바로 구비되는 반도체 웨이퍼의 위치 정렬 장치.
  4. 청구항 3에 있어서, 상기 복수의 바는, 6개가 구비되고, 상기 반도체 웨이퍼의 원주 방향을 따라 60°간격으로 6 방향에서 미는 힘을 가하도록 배치된 반도체 웨이퍼의 위치 정렬 장치.
  5. (a) 반도체 웨이퍼를 웨이퍼 척에 안착시키는 단계;
    (b) 상기 웨이퍼 척에 안착된 반도체 웨이퍼의 가장자리에 XY 방향으로 미는 힘을 가하여 상기 반도체 웨이퍼의 중심점을 상기 웨이퍼 척의 중심점 위치로 이동시키는 단계;
    (c) 카메라를 이용하여 상기 반도체 웨이퍼를 촬영하는 단계;
    (d) 상기 카메라로 촬영된 영상으로부터 상기 반도체 웨이퍼의 플랫존을 검출하는 단계; 및
    (e) 상기 검출된 플랫존과 미리 저장된 기준 수평선을 비교하여 상기 반도체 웨이퍼의 회전 오프셋을 확인하고, 확인된 회전 오프셋에 따라 상기 반도체 웨이퍼가 안착된 웨이퍼 척을 회전시키는 단계를 포함하는 반도체 웨이퍼의 위치 정렬 방법.
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* Cited by examiner, † Cited by third party
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CN116469827A (zh) * 2023-04-28 2023-07-21 东莞平晶微电子科技有限公司 一种用于toll封装加工用晶圆基片晶体缺陷的检测装置
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