KR20180128881A - Film touch sensor and touch screen panel including the same - Google Patents
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Abstract
Description
본 발명은 필름 터치 센서 및 이를 포함하는 터치 스크린 패널에 관한 것이다.The present invention relates to a film touch sensor and a touch screen panel including the same.
터치스크린 패널은 영상표시장치 등의 화면에 나타난 지시 내용을 사람의 손 또는 물체로 선택하여 사용자의 명령을 입력할 수 있도록 한 입력장치이다. 터치스크린 패널은 영상표시장치의 전면(front face)에 구비되어 사람의 손 또는 물체에 직접 접촉된 접촉위치를 전기적 신호로 변환한다. 이에 따라, 접촉위치에서 선택된 지시 내용이 입력신호로 받아들여진다.The touch screen panel is an input device that allows a user to input a command by selecting an instruction displayed on a screen of a video display device or the like as a human hand or an object. The touch screen panel is provided on the front face of the image display device and converts a contact position in direct contact with a human hand or object into an electrical signal. Thus, the instruction content selected at the contact position is accepted as the input signal.
이와 같은 터치스크린 패널은 키보드 및 마우스와 같이 영상표시장치에 연결되어 동작하는 별도의 입력장치를 대체할 수 있기 때문에 그 이용범위가 점차 확장되고 있는 추세이다.Such a touch screen panel can be replaced with a separate input device connected to the image display device such as a keyboard and a mouse, and thus the use range thereof is gradually expanding.
터치스크린 패널을 구현하는 방식으로는 저항막 방식, 광감지 방식 및 정전용량 방식 등이 알려져 있으며, 이중 정전용량 방식의 터치스크린 패널은, 사람의 손 또는 물체가 접촉될 때 도전성 센싱패턴이 주변의 다른 센싱패턴 또는 접지전극 등과 형성하는 정전용량의 변화를 감지함으로써, 접촉위치를 전기적 신호로 변환한다.The touch screen panel is known as a resistive film type, a light sensing type, and a capacitive type. Among the capacitive touch screen panels, a conductive sensing pattern is formed when a human hand or an object is contacted, The contact position is converted into an electrical signal by detecting a change in capacitance formed with another sensing pattern or a ground electrode or the like.
이와 같은 터치스크린 패널은 일반적으로 액정표시장치, 유기전계 발광 표시장치와 같은 평판표시장치의 외면에 부착되어 제품화되는 경우가 많다. 따라서, 상기 터치스크린 패널은 높은 투명도 및 얇은 두께의 특성이 요구된다.Such a touch screen panel is generally attached to the outer surface of a flat panel display device such as a liquid crystal display device or an organic light emitting display device and is often commercialized. Therefore, the touch screen panel requires high transparency and thin thickness characteristics.
또한, 최근 들어 플렉서블한 평판표시장치가 개발되고 있는 추세이며, 이 경우 상기 플렉서블 평판표시장치 상에 부착되는 터치스크린 패널 역시 플렉서블한 특성이 요구된다.In addition, in recent years, a flexible flat panel display has been developed, and in this case, the touch screen panel attached on the flexible flat panel display also needs a flexible characteristic.
이러한 플렉서블 터치 스크린 패널을 제조할 경우 캐리어 기판으로부터 박리시에 지속적으로 휘거나 구부리는 등의 굴곡이 가해지는바, 이에 전극 손상 및 크랙이 발생되지 않는 특성을 지닐 필요가 있다.When such a flexible touch screen panel is manufactured, it is necessary to bend such as bending or bending continuously at the time of peeling from the carrier substrate, so that it is necessary to have characteristics such that electrode damage and crack are not generated.
그러나, 이와 같은 충분한 피로 파괴 내성을 갖는 기재에 대해서는 아직 확립되지 않은 실정이다.However, such a substrate having sufficient fatigue fracture resistance has not yet been established.
한국등록특허 제647701호에는 플렉서블 기판, 플렉서블 박막 트랜지스터 기판 및 이를 구비한 평판 디스플레이 장치가 개시되어 있다.Korean Patent No. 647701 discloses a flexible substrate, a flexible thin film transistor substrate, and a flat panel display device having the same.
본 발명은 분리층과 보호층간의 화학적 결합을 캐리어 기판으로부터의 박리시에 전극 손상 및 크랙 발생을 억제할 수 있는 필름 터치 센서를 제공하는 것을 목적으로 한다.An object of the present invention is to provide a film touch sensor capable of suppressing electrode damage and cracking at the time of peeling the chemical bond between the separation layer and the protective layer from the carrier substrate.
또한, 본 발명은 층간 밀착력이 뛰어나 우수한 유연성 및 내구성을 구현할 수 있는 필름 터치 센서를 제공하는 것을 목적으로한다.Another object of the present invention is to provide a film touch sensor which is excellent in interlayer adhesion and can realize excellent flexibility and durability.
또한, 본 발명은 우수한 투과율을 구현할 수 있는 필름 터치 센서를 제공하는 것을 목적으로 한다.It is another object of the present invention to provide a film touch sensor capable of realizing excellent transmittance.
또한, 본 발명은 상기 필름 터치 센서를 구비하는 터치 스크린 패널을 제공하는 것은 목적으로 한다.It is another object of the present invention to provide a touch screen panel having the film touch sensor.
또한, 본 발명은 상기 터치 스크린 패널을 구비하는 화상표시장치를 제공하는 것을 목적으로 한다.It is another object of the present invention to provide an image display apparatus having the touch screen panel.
1. 분리층;1. separation layer;
상기 분리층 상에 배치된 제1 보호층; 및A first protective layer disposed on the isolation layer; And
상기 제1 보호층 상에 배치된 전극 패턴층;을 포함하며,And an electrode pattern layer disposed on the first passivation layer,
상기 분리층과 상기 제1 보호층 사이에는 분리층에서 유래한 탄소수 1 내지 5의 알콕시기와 제1 보호층에서 유래한 수산기, 카르복실기 및 아마이드기 중 적어도 하나의 치환기가 서로 반응하여 화학적 결합이 형성된 것인, 필름 터치 센서.And at least one substituent of a hydroxyl group, a carboxyl group and an amide group derived from the first protective layer is reacted with each other to form a chemical bond between the separating layer and the first protective layer, the alkoxy group having 1 to 5 carbon atoms derived from the separating layer In, film touch sensor.
2. 위 1에 있어서, 상기 분리층은 바인더 수지 및 탄소수 1 내지 5의 알콕시기를 갖는 멜라민계 경화제를 포함하는 분리층 형성용 조성물로 형성된 것인, 필름 터치 센서.2. The film touch sensor according to 1 above, wherein the separation layer is formed of a composition for forming a separation layer comprising a binder resin and a melamine-based curing agent having an alkoxy group having 1 to 5 carbon atoms.
3. 위 1에 있어서, 상기 멜라민계 경화제는 하기 화학식 1 내지 6으로 표시되 는 화합물 중 적어도 하나를 포함하는, 필름 터치 센서:3. The film touch sensor according to item 1 above, wherein the melamine-based curing agent comprises at least one of compounds represented by the following formulas (1) to (6):
[화학식 1][Chemical Formula 1]
[화학식 2](2)
[화학식 3](3)
[화학식 4][Chemical Formula 4]
[화학식 5][Chemical Formula 5]
[화학식 6][Chemical Formula 6]
(식 중에서, n은 5 내지 20인 정수).(Wherein n is an integer of 5 to 20).
4. 위 1에 있어서, 상기 분리층의 바인더 수지는 화학식 7 또는 화학식 8로 표시되는 반복단위를 포함하는 고분자 중 적어도 하나를 더 포함하는, 필름 터치 센서:4. The film touch sensor according to item 1 above, wherein the binder resin of the separation layer further comprises at least one of a polymer containing a repeating unit represented by formula (7) or formula (8)
[화학식 7](7)
[화학식 8][Chemical Formula 8]
(식 중에서, M은 호모폴리머 또는 코폴리머의 주쇄를 형성하는 모노머 단위이고,(Wherein M is a monomer unit forming the main chain of the homopolymer or copolymer,
SPCR은 스페이서 단위이고,SPCR is a spacer unit,
고리A는 비치환 혹은 치환 지환식 탄화수소 또는 비치환 혹은 치환 방향족 고리이고,Ring A is an unsubstituted or substituted alicyclic hydrocarbon or an unsubstituted or substituted aromatic ring,
고리B는 비치환 혹은 치환 방향족 고리이고,Ring B is an unsubstituted or substituted aromatic ring,
Z는 알킬기, 알콕시기, 시아노기, 니트로기, 할로겐 원자, , (단, Z1은 알킬기, 알콕시기, 알콕시 카르보닐기, 알콕시 술포닐기, 시아노기, 니트로기 및 할로겐 원자임), 및 (단, Z2는 알킬기임)이고,Z represents an alkyl group, an alkoxy group, a cyano group, a nitro group, a halogen atom, , (Wherein Z 1 represents an alkyl group, an alkoxy group, an alkoxycarbonyl group, an alkoxysulfonyl group, a cyano group, a nitro group and a halogen atom) And (Provided that Z 2 is an alkyl group)
n은 0 또는 1이고,n is 0 or 1,
R1은 수소 원자 또는 메틸기이고,R 1 is a hydrogen atom or a methyl group,
R2는 알킬기 또는 알콕시기, 시아노기 및 할로겐 원자로부터 선택되는 기로 치환된 페닐기이고,R 2 is an alkyl group or a phenyl group substituted with a group selected from an alkoxy group, a cyano group and a halogen atom,
고리 C또는 고리D는 각각 독립적으로, , , , 및 이고,Ring C or ring D is, independently of each other, , , , And ego,
X1 내지 X38은 각각 독립적으로, 수소 원자, 알킬기, 알콕시기, 할로겐 원자 및 시아노기이고,X 1 to X 38 each independently represent a hydrogen atom, an alkyl group, an alkoxy group, a halogen atom and a cyano group,
T는 (트랜스체) 또는 이고,T is (Trans) or ego,
p 또는 q는 각각 독립적으로 1 내지 12이고,p and q are each independently 1 to 12,
m 또는 l은, 0.65≤m≤0.95, 0.05≤l≤0.35, m+l=1의 관계를 만족하는 공중합체에 차지하는 각 모노머의 몰분율이고,m or 1 is the mole fraction of each monomer in the copolymer satisfying the relationship of 0.65? m? 0.95, 0.05? l? 0.35, and m +
상기 알킬은 각각 독립적으로 탄소수 1 내지 12의 알킬이고,Each of said alkyls is independently alkyl having 1 to 12 carbon atoms,
상기 알콕시는 각각 독립적으로 탄소수 1 내지 12의 알콕시임).Each of said alkoxy is independently alkoxy of 1 to 12 carbon atoms).
5. 위 2에 있어서, 멜라민계 경화제는 상기 화학식 7 내지 8로 표시되는 고분자의 반응 당량 대비 120 내지 250%로 포함되는, 필름 터치 센서.5. The film touch sensor according to 2 above, wherein the melamine-based curing agent is contained in an amount of 120 to 250% of the reaction equivalents of the polymers represented by the above formulas (7) to (8).
6. 위 1에 있어서, 상기 제1 보호층은 수산기, 카르복실기 및 아마이드기 중 적어도 하나를 포함하는 고분자를 포함하는 분리층 형성용 조성물로 형성된 것인, 필름 터치 센서.6. The film touch sensor of 1 above, wherein the first protective layer is formed of a composition for forming a separation layer comprising a polymer containing at least one of a hydroxyl group, a carboxyl group and an amide group.
7. 위 6에 있어서, 상기 제1 보호층의 고분자는 하기 화학식 9 또는 10으로 표시되는 반복단위 중 적어도 하나를 포함하는 고분자를 포함하는, 필름 터치 센서:7. The film touch sensor of claim 6, wherein the polymer of the first protective layer comprises a polymer comprising at least one of repeating units represented by the following formula (9) or (10):
[화학식 9][Chemical Formula 9]
[화학식 10][Chemical formula 10]
(식 중, R3 내지 R6 중 적어도 하나는 -Hn-Y1이고, n은 0 또는 1이고, H는 탄소수 1 내지 6의 알킬렌기 또는 카보닐기이고, Y1은 프로톤성 극성기이고, (Wherein at least one of R 3 to R 6 is -H n -Y 1 , n is 0 or 1, H is an alkylene group or a carbonyl group having 1 to 6 carbon atoms, Y 1 is a protonic polar group,
R3 내지 R6 중 나머지는 수소 또는 -Hn-Y2이고, Y2는 탄소수 1 내지 6의 알킬기, 탄소수 6 내지 12의 아릴기 또는 프로톤성 극성기이고, Y2는 탄소수 1 내지 4의 알킬기, 탄소수 6 내지 12의 아릴기로 치환될 수 있고,R 3 to R 6 is hydrogen or the other of -Hn-Y 2, Y 2 is an aryl group or a protic polar group having 1 to 6 carbon atoms, an alkyl group, having 6 to 12, Y 2 is an alkyl group of 1 to 4 carbon atoms; An aryl group having 6 to 12 carbon atoms,
R7 및 R8은 서로 연결되어 탄소수 1 내지 4의 알킬기, 탄소수 6 내지 12의 아릴기로 치환될 수 있는 3원 또는 5원의 헤테로환을 형성하고, R 7 and R 8 are connected to each other to form a 3-membered or 5-membered heterocycle which may be substituted with an alkyl group having 1 to 4 carbon atoms or an aryl group having 6 to 12 carbon atoms,
k은 0 내지 2의 정수이고,k is an integer from 0 to 2,
h는 0 내지 2의 정수이며,h is an integer of 0 to 2,
상기 프로톤성 극성기는 각각 독립적으로 수산기, 카르복실기 또는 아마이드기임).Wherein each of the protonic polar groups is independently a hydroxyl group, a carboxyl group or an amide group.
8. 위 6에 있어서, 상기 제1 보호층에 포함되는 고분자의 중량평균 분자량은 1,000 내지 1,000,000인, 필름 터치 센서.8. The film touch sensor of claim 6, wherein a weight average molecular weight of the polymer contained in the first protective layer is 1,000 to 1,000,000.
9. 위 1 내지 8 중 어느 한 항의 필름 터치 센서를 구비하는, 터치 스크린 패널.9. A touch screen panel comprising the film touch sensor of any one of claims 1 to 8.
10. 위 9의 터치 스크린 패널을 구비하는, 화상표시장치.10. An image display apparatus comprising the touch screen panel as set forth in claim 9.
본 발명의 필름 터치 센서는 분리층과 제1 보호층간의 화학적 결합을 형성함으로써 캐리어 기판으로부터의 박리시에 전극 손상 및 크랙 발생을 억제할 수 있다.The film touch sensor of the present invention can prevent chemical damage and cracks during peeling from the carrier substrate by forming a chemical bond between the separation layer and the first protective layer.
또한, 본 발명의 필름 터치 센서는 층간 밀착력이 뛰어나 우수한 유연성 및 내구성을 구현할 수 있다.In addition, the film touch sensor of the present invention is excellent in interlaminar adhesion and can realize excellent flexibility and durability.
또한, 본 발명의 필름 터치 센서는 우수한 투과율을 구현할 수 있다.In addition, the film touch sensor of the present invention can realize an excellent transmittance.
본 발명은 필름 터치 센 및 이를 포함하는 터치 스크린 패널에 관한 것으로서, 보다 상세하게는, 분리층; 상기 분리층 상에 배치된 제1 보호층; 및 상기 제1 보호층 상에 배치된 전극 패턴층;을 포함하며, 상기 분리층과 상기 제1 보호층 사이에는 분리층에서 유래한 탄소수 1 내지 5의 알콕시기와 제1 보호층에서 유래한 수산기, 카르복실기 및 아마이드기 중 적어도 하나의 치환기가 서로 반응하여 화학적 결합이 형성됨으로써, 캐리어 기판으로부터의 박리시에 전극 손상 및 크랙 발생을 억제할 수 있고, 층간 밀착력이 뛰어나 우수한 유연성 및 내구성을 구현할 수 있다.The present invention relates to a film touch sensor and a touch screen panel including the touch sensor panel, and more particularly, A first protective layer disposed on the isolation layer; And an electrode pattern layer disposed on the first protective layer, wherein between the separation layer and the first protective layer, an alkoxy group having 1 to 5 carbon atoms derived from the separation layer, a hydroxyl group derived from the first protective layer, At least one substituent of the carboxyl group and the amide group reacts with each other to form a chemical bond, thereby preventing electrode damage and cracking at the time of peeling from the carrier substrate, and excellent interlayer adhesion strength and excellent flexibility and durability can be realized.
<필름 터치 센서><Film touch sensor>
본 발명에 따른 필름 터치 센서는 분리층; 상기 분리층 상에 배치된 제1 보호층 및 상기 제1 보호층 상에 배치된 전극 패턴층을 포함한다.A film touch sensor according to the present invention includes a separation layer; A first protective layer disposed on the isolation layer, and an electrode pattern layer disposed on the first protective layer.
본 발명의 터치 센서는 캐리어 기판 상에서 제조 공정이 진행되고, 제조된 적층체를 캐리어 기판으로부터 분리하여 제조되는 것으로서, 분리층은 캐리어 기판과의 분리를 위해 형성되는 층이다.The touch sensor of the present invention is produced by separating the manufactured laminate from the carrier substrate, and the separation layer is a layer formed for separation from the carrier substrate.
분리층Separation layer
분리층은 캐리어 기판과의 분리 이후에 제거되지 않고 전극 패턴층을 피복하여 전극 패턴층을 보호하는 층이 된다.The separation layer is a layer that protects the electrode pattern layer by covering the electrode pattern layer without being removed after separation from the carrier substrate.
본 발명에 따른 분리층은 바인더 수지 및 탄소수 1 내지 5의 알콕시기를 갖는 멜라민계 경화제를 포함하는 분리층 형성용 조성물로 형성될 수 있다.The separation layer according to the present invention can be formed of a composition for forming a separation layer comprising a binder resin and a melamine-based curing agent having an alkoxy group having 1 to 5 carbon atoms.
본 발명은 분리층에 전술한 멜라민계 경화제를 사용함으로써, 후술하는 제1 보호층과의 화학적 결합을 형성을 도모하여 캐리어 기판으로부터의 박리시에 전극 손상 및 크랙 발생을 억제할 수 있다.In the present invention, by using the melamine-based curing agent as described above in the separation layer, it is possible to inhibit electrode damage and cracks from occurring at the time of peeling from the carrier substrate by forming a chemical bond with the first protective layer which will be described later.
본 발명에 따른 멜라민계 경화제는 탄소수 1 내지 5의 알콕시기를 갖는 것이라면 특별히 제한되지 않으며, 바람직하게는 하기 화학식 1 내지 6으로 표시되는 화합물 중 적어도 하나를 포함할 수 있다.The melamine-based curing agent according to the present invention is not particularly limited as long as it has an alkoxy group having 1 to 5 carbon atoms, and may preferably include at least one of the compounds represented by the following formulas (1) to (6).
[화학식 1][Chemical Formula 1]
[화학식 2](2)
[화학식 3](3)
[화학식 4][Chemical Formula 4]
[화학식 5][Chemical Formula 5]
[화학식 6][Chemical Formula 6]
(식 중에서, n= 5 내지 20인 정수).(Wherein n is an integer of 5 to 20).
또한, 본 발명에 따른 분리층 형성용 조성물은 화학식 7 또는 화학식 8로 표시되는 반복단위를 포함하는 고분자 중 적어도 하나를 더 포함할 수 있다.In addition, the composition for forming a separation layer according to the present invention may further include at least one polymer containing a repeating unit represented by formula (7) or (8).
[화학식 7](7)
[화학식 8][Chemical Formula 8]
(식 중에서, M은 호모폴리머 또는 코폴리머의 주쇄를 형성하는 모노머 단위이고,(Wherein M is a monomer unit forming the main chain of the homopolymer or copolymer,
SPCR은 스페이서 단위이고,SPCR is a spacer unit,
고리A는 비치환 혹은 치환 지환식 탄화수소 또는 비치환 혹은 치환 방향족 고리이고,Ring A is an unsubstituted or substituted alicyclic hydrocarbon or an unsubstituted or substituted aromatic ring,
고리B는 비치환 혹은 치환 방향족 고리이고,Ring B is an unsubstituted or substituted aromatic ring,
Z는 알킬기, 알콕시기, 시아노기, 니트로기, 할로겐 원자, , (단, Z1은 알킬기, 알콕시기, 알콕시 카르보닐기, 알콕시 술포닐기, 시아노기, 니트로기 및 할로겐 원자임), 및 (단, Z2는 알킬기임)이고,Z represents an alkyl group, an alkoxy group, a cyano group, a nitro group, a halogen atom, , (Wherein Z 1 represents an alkyl group, an alkoxy group, an alkoxycarbonyl group, an alkoxysulfonyl group, a cyano group, a nitro group and a halogen atom) And (Provided that Z 2 is an alkyl group)
n은 0 또는 1이고,n is 0 or 1,
R1은 수소 원자 또는 메틸기이고,R 1 is a hydrogen atom or a methyl group,
R2는 알킬기 또는 알콕시기, 시아노기 및 할로겐 원자로부터 선택되는 기로 치환된 페닐기이고,R 2 is an alkyl group or a phenyl group substituted with a group selected from an alkoxy group, a cyano group and a halogen atom,
고리 C또는 고리D는 각각 독립적으로, , , , 및 이고,Ring C or ring D is, independently of each other, , , , And ego,
X1 내지 X38은 각각 독립적으로, 수소 원자, 알킬기, 알콕시기, 할로겐 원자 및 시아노기이고,X 1 to X 38 each independently represent a hydrogen atom, an alkyl group, an alkoxy group, a halogen atom and a cyano group,
T는 (트랜스체) 또는 이고,T is (Trans) or ego,
p 또는 q는 각각 독립적으로 1 내지 12이고,p and q are each independently 1 to 12,
m 또는 l은, 0.65≤m≤0.95, 0.05≤l≤0.35, m+l=1의 관계를 만족하는 공중합체에 차지하는 각 모노머의 몰분율이고,m or 1 is the mole fraction of each monomer in the copolymer satisfying the relationship of 0.65? m? 0.95, 0.05? l? 0.35, and m +
상기 알킬은 각각 독립적으로 탄소수 1 내지 12의 알킬이고,Each of said alkyls is independently alkyl having 1 to 12 carbon atoms,
상기 알콕시는 각각 독립적으로 탄소수 1 내지 12의 알콕시임).Each of said alkoxy is independently alkoxy of 1 to 12 carbon atoms).
상기 화학식 7의 식 중에서, M은 호모폴리머 또는 코폴리머의 주쇄를 형성하는 모노머 단위이며, 일반적으로 이 분야에서 사용되는 모노머 단위이면, 모두 적합하게 사용할 수 있다. 상기 모노머 단위로는, 예를 들면 아크릴레이트, 메타크릴레이트, 2-클로로아크릴레이트, 2-페닐아크릴레이트, 아크릴아미드, 메타크릴아미드, 2-클로로아크릴아미드, 2-페닐아크릴아미드, 비닐에테르, 스티렌 유도체(예를 들면, α-메틸스티렌, p-스티렌 술포네이트), 말레산 유도체(예를 들면, 말레산 에스테르, 페닐말레이미드, 사이클로헥실 말레이미드), 푸마르산 유도체(예를 들면, 푸마르산에스테르), 실록산, 에폭사이드로 구성되는 군으로부터 선택되는 1또는 2 종 이상의 모노머 단위를 들 수 있다. M이 1종의 모노머 단위로 구성된 경우, 화학식 7의 모노머로 형성되는 폴리머는 호모폴리머이며, M이 2 종 이상의 모노머 단위로 구성된 경우 화학식 7의 모노머로 형성되는 폴리머는 코폴리머이다. 상기 화학식 7로 표시되는 폴리머가 코폴리머인 경우, 이러한 코폴리머는 교호형, 랜덤형, 그라프트형 등의 어느 것도 포함하는 것이다. 이들 모노머 단위 중, 아크릴레이트, 메타크릴레이트가 바람직하다.In the formula (7), M is a monomer unit forming a main chain of a homopolymer or a copolymer, and any monomer units generally used in this field can be suitably used. Examples of the monomer unit include acrylate, methacrylate, 2-chloroacrylate, 2-phenyl acrylate, acrylamide, methacrylamide, 2-chloroacrylamide, 2-phenylacrylamide, Styrene derivatives (e.g.,? -Methylstyrene, p-styrenesulfonate), maleic acid derivatives (e.g., maleic acid ester, phenylmaleimide, cyclohexylmaleimide), fumaric acid derivatives (for example, fumaric acid ester ), A siloxane, and an epoxide. When M is composed of one monomer unit, the polymer formed by the monomer of formula (7) is a homopolymer, and when M is composed of two or more monomer units, the polymer formed by the monomer of formula (7) is a copolymer. When the polymer represented by Formula 7 is a copolymer, such a copolymer includes any of an alternating type, a random type, a graft type, and the like. Among these monomer units, acrylate and methacrylate are preferable.
SPCR는 스페이서 단위이며, 일반적으로 이 분야에서 사용되는 것이면, 모두 적합하게 사용할 수 있다. 이러한 스페이서 단위로는, 예를 들면, -(CH2)u-(단, u는 1 내지 12 중 어느 하나의 정수이다.), 1,2-프로필렌, 1,3-부틸렌, 사이클로펜탄-1,2-디일, 사이클로펜탄-1,3-디일, 사이클로헥산-1,3-디일, 사이클로헥산-1,4-디일, 피페리딘-1,4-디일, 피페라진-1,4-디일, 1,2-페닐렌, 1,3-페닐렌, 또는 1,4-페닐렌 등을 들 수 있다. 이들 스페이서 단위 중, -(CH2)w-(단, w는 1 내지 12 중 어느 하나의 정수이다.)가 바람직하다. w로는 3 내지 9중 어느 하나의 정수가 바람직하고, 이 중 5 내지 7중 어느 하나의 정수가 보다 바람직하고, 6이 가장 바람직하다.The SPCR is a spacer unit and can be suitably used as long as it is generally used in this field. Examples of such a spacer unit include - (CH 2 ) u- (where u is an integer of 1 to 12), 1,2-propylene, 1,3-butylene, cyclopentane- 1,2-diyl, cyclopentane-1,3-diyl, cyclohexane-1,3-diyl, cyclohexane-1,4-diyl, piperidine- Diyl, 1,2-phenylene, 1,3-phenylene, or 1,4-phenylene. Among these spacer units, - (CH2) w- (w is any one of 1 to 12) is preferable. w is preferably an integer of 3 to 9, more preferably any integer of 5 to 7, and most preferably 6.
고리A는 비치환 혹은 치환 지환식 탄화수소 또는 비치환 혹은 치환 방향족 고리이며, 이 중, 비치환 혹은 치환 방향족 고리가 바람직하고, 비치환 방향족 고리가 보다 바람직하다.Ring A is an unsubstituted or substituted alicyclic hydrocarbon or an unsubstituted or substituted aromatic ring, of which an unsubstituted or substituted aromatic ring is preferable, and an unsubstituted aromatic ring is more preferable.
예를 들면, , , , , 및 일 수 있다.For example, , , , , And Lt; / RTI >
고리B는 비치환 혹은 치환 방향족 고리이며, 이 중, 비치환 방향족 고리가 바람직하다. Ring B is an unsubstituted or substituted aromatic ring, of which unsubstituted aromatic rings are preferred.
예를 들면, , , , , 및 일 수 있다.For example, , , , , And Lt; / RTI >
고리A 및 고리B는 모두, 화학식 7로 표시된 대로 2가기이지만, 고리A 또는 고리B가 「비치환」이란, 이들 2가기를 형성하는 결합수 이외의 결합수에 있어서 「비치환」인 것을 의미한다. 또한, 고리A 및 고리B를 구조식에 의해서 예시한 경우, 2가기를 형성하는 이들 결합수에 대해서는, 주쇄측의 결합수가 좌측으로, 측쇄 말단측의 결합수가 우측으로 오도록 기재하는 것으로 한다. 고리A의 치환기(X1A~X42A) 및 고리B의 치환기(X1B~X40B)는 각각 독립적으로, 알킬기, 알콕시기, 시아노기, 니트로기 및 할로겐 원자로부터 선택되는 기이며, 이 중, 알콕시기가 바람직하고, X는 질소 원자, 산소 원자 및 유황 원자이다. 고리A 또는 고리B 전체적으로는 각각, 1또는 2이상의 치환기를 가진다. 고리A 또는 고리B의 바람직한 치환기의 수는 1이다.Ring A and ring B are both a divalent group as indicated by the general formula (7), but the ring A or ring B is "unsubstituted" means that the number of bonds other than the bonding number forming these divalent groups is "unsubstituted" do. When the ring A and the ring B are exemplified by the structural formula, the number of bonds in the main chain side to the left side and the number of bonds in the side chain side to the right side will be described for these bonds forming divalent bonds. The substituents (X 1A to X 42A ) in ring A and the substituents (X 1B to X 40B ) in ring B are each independently selected from an alkyl group, an alkoxy group, a cyano group, a nitro group and a halogen atom, An alkoxy group is preferable, and X is a nitrogen atom, an oxygen atom and a sulfur atom. The ring A or ring B as a whole has one or two or more substituents. The number of the preferable substituents of the ring A or the ring B is 1.
화학식 7 및 화학식 8에서, 알킬기는 각각 독립적으로 탄소수 1 내지 12의 알킬기를 들 수 있으며, 바람직하게는 탄소수 1 내지 6의 알킬기를 들 수 있고, 더 바람직하게는 메틸기를 들 수 있다. 또한, 알콕시기는 각각 독립적으로 탄소수 1 내지 12의 알콕시기를 들 수 있으며, 바람직하게는 탄소수 1 내지 6의 알콕시기를 들 수 있고, 더 바람직하게는 메톡시기를 들 수 있다. 할로겐 원자로는 불소 원자, 염소 원자, 브롬 원자 및 요오드 원자를 들 수 있으며, 바람직하게는 불소 원자일 수 있다.In the formulas (7) and (8), the alkyl group is independently an alkyl group having 1 to 12 carbon atoms, preferably an alkyl group having 1 to 6 carbon atoms, more preferably a methyl group. The alkoxy group may be independently an alkoxy group having 1 to 12 carbon atoms, preferably an alkoxy group having 1 to 6 carbon atoms, more preferably a methoxy group. Examples of the halogen atom include a fluorine atom, a chlorine atom, a bromine atom and an iodine atom, and preferably a fluorine atom.
상기 분리층에 포함되는 바인더 수지의 중량 평균 분자량은 5,000 내지 200,000일 수 있고, 바람직하게는 10,000 내지 100,000일 수 있다.The weight average molecular weight of the binder resin contained in the separation layer may be 5,000 to 200,000, and preferably 10,000 to 100,000.
본 발명에 따른 분리층의 멜라민계 경화제는 바인더 수지와 이론적 반응 당량만큼 첨가하더라도 미반응하는 멜라민 경화제가 있을 수 있기 때문에 제1 보호층과 화학적 결합을 형성할 수 있다.The melamine-based curing agent of the separating layer according to the present invention may form a chemical bond with the first protective layer because there may be an unreacted melamine curing agent even if added in an amount equivalent to the theoretical reaction equivalent to the binder resin.
본 발명의 다른 구현예로서, 바람직하게는, 멜라민계 경화제는 제1 보호층과의 화학적 결합을 충분하게 형성한다는 측면에서 화학식 7 내지 8로 표시되는 바인더 수지의 반응 당량보다는 과량으로 첨가될 수 있다. 이에 따라, 바인더 수지와 반응하지 못한 멜라민계 경화제가 보다 용이하게 제1 보호층과 화학적 결합을 형성할 수 있다.As another embodiment of the present invention, preferably, the melamine-based curing agent may be added in an excess amount over the reaction equivalent of the binder resin represented by the general formulas (7) to (8) in view of sufficiently forming a chemical bond with the first protective layer . Accordingly, the melamine-based curing agent that has not reacted with the binder resin can more easily form a chemical bond with the first protective layer.
예를 들면, 멜라민계 경화제는 바인더 수지와의 반응 당량 대비 120% 이상으로 과량 포함될 수 있다. 상기 범위에서 본 발명에서 목적하는 효과를 가장 우수하게 나타낼 수 있다. 멜라민계 경화제는 과량으로 포함되기만 하면 본 발명에서 목적하는 효과를 나타낼 수 있으므로 그 함량의 상한은 특별히 한정하지 않는다. 다만, 경제성, 제1 보호층이 고분자 함량의 제한 등을 고려할 때 그 상한은 바인더 수지와의 반응 당량 대비 250%일 수 있다.For example, the melamine-based curing agent may be contained in excess of 120% or more of the reaction equivalent to the binder resin. In the above range, the desired effect of the present invention can be best exhibited. When the melamine-based curing agent is contained in an excess amount, the intended effect can be exhibited in the present invention, and therefore the upper limit of the content thereof is not particularly limited. However, considering the economical efficiency, the limitation of the polymer content of the first protective layer, etc., the upper limit may be 250% of the reaction equivalent to the binder resin.
상기 멜라민 경화제가 바인더 수지의 당량 대비 250%를 초과하여 포함될 경우, 도포성이 불량하거나 투과율이 저하될 수 있다.When the melamine curing agent is contained in an amount exceeding 250% of the equivalent of the binder resin, the coating property may be poor or the transmittance may be lowered.
분리층의 두께는 10 내지 1000nm가 바람직하고, 50 내지 500nm인 것이 보다 바람직하다. 분리층의 두께가 10nm 미만이면 분리층 도포시의 균일성이 떨어져 전극 패턴 형성이 불균일하거나, 국부적으로 박리력이 상승하여 찢겨짐이 발생하거나, 캐리어 기판과 분리 후, 필름 터치 센서의 컬(curl)이 제어되지 않는 문제점이 있다. 그리고 두께가 1000nm를 초과하면 상기 박리력이 더 이상 낮아지지 않는 문제점이 있으며, 필름의 유연성이 저하되는 문제점이 있다.The thickness of the separation layer is preferably 10 to 1000 nm, more preferably 50 to 500 nm. If the thickness of the separating layer is less than 10 nm, the uniformity of the separating layer may deteriorate and the electrode pattern may not be uniformly formed, or may be locally peeled to cause tearing. ) Is not controlled. If the thickness exceeds 1000 nm, the peeling force is not lowered further, and the flexibility of the film is deteriorated.
제1 보호층The first protective layer
제1 보호층은 분리층 상에 위치하여, 분리층과 마찬가지로 전극 패턴층을 피복하여 전극 패턴층의 오염 및 캐리어 기판으로부터 분리시의 전극 패턴층의 파단을 방지하는 역할을 한다.The first protective layer is located on the separation layer and covers the electrode pattern layer like the separation layer to prevent contamination of the electrode pattern layer and breakage of the electrode pattern layer upon separation from the carrier substrate.
본 발명에 따른 제1 보호층은 수산기, 카르복실기 및 아마이드기 중 적어도 하나를 포함하는 고분자를 포함하는 제1 보호층 형성용 조성물로 형성될 수 있다.The first protective layer according to the present invention may be formed of a composition for forming the first protective layer including a polymer containing at least one of a hydroxyl group, a carboxyl group and an amide group.
본 발명은 제1 보호층에 전술한 고분자를 사용함으로써, 분리층의 멜라민계 경화제에 포함되어 있는 알콕시기와의 화학적 결합을 형성하여 층간 밀착력이 뛰어나 우수한 유연성 및 내구성을 구현할 수 있다.By using the above-mentioned polymer in the first protective layer, the chemical bonding with the alkoxy group contained in the melamine-based curing agent of the separation layer is formed, so that the interlaminar adhesion strength is excellent and excellent flexibility and durability can be realized.
더 구체적으로는 멜라민계 경화제에 포함되어 있는 알콕시기의 수소와 제1 보호층의 고분자에 포함되어 있는 수산기, 카르복실기 및 아마이드기의 수산기가 가수 조건에서 탈수 반응함으로써 물이 제거되는 동시에 멜라민계 경화제와 제1 보호층의 고분자가 화학적 결합을 하여 분리층과 제1 보호층간에 밀착력이 뛰어나 캐리어 기판상에 박리시에 전극 손상 및 크랙발생을 억제할 수 있다.More specifically, the hydrogen of the alkoxy group contained in the melamine-based curing agent and the hydroxyl groups of the hydroxyl, carboxyl and amide groups contained in the polymer of the first protective layer are dehydrated under the hydrolysis condition to remove water, The polymer of the first protective layer chemically bonds with the separation layer and the first protective layer, so that electrode damage and cracking can be suppressed during peeling on the carrier substrate.
본 발명에 따른 제1 보호층의 고분자는 하기 화학식 9 또는 10으로 표시되는 반복단위 중 적어도 하나를 포함하는 고분자를 포함할 수 있다:The polymer of the first protective layer according to the present invention may comprise a polymer comprising at least one of the repeating units represented by the following general formula (9) or (10)
[화학식 9][Chemical Formula 9]
[화학식 10][Chemical formula 10]
(식 중, R3 내지 R6 중 적어도 하나는 -Hn-Y1이고, n은 0 또는 1이고, H는 탄소수 1 내지 6의 알킬렌기 또는 카보닐기이고, Y1은 프로톤성 극성기이고, (Wherein at least one of R 3 to R 6 is -H n -Y 1 , n is 0 or 1, H is an alkylene group or a carbonyl group having 1 to 6 carbon atoms, Y 1 is a protonic polar group,
R3 내지 R6 중 나머지는 수소 또는 -Hn-Y2이고, Y2는 탄소수 1 내지 6의 알킬기, 탄소수 6 내지 12의 아릴기 또는 프로톤성 극성기이고, Y2는 탄소수 1 내지 4의 알킬기, 탄소수 6 내지 12의 아릴기로 치환될 수 있고,R 3 to R 6 is hydrogen or the other of -Hn-Y 2, Y 2 is an aryl group or a protic polar group having 1 to 6 carbon atoms, an alkyl group, having 6 to 12, Y 2 is an alkyl group of 1 to 4 carbon atoms; An aryl group having 6 to 12 carbon atoms,
R7 및 R8은 서로 연결되어 탄소수 1 내지 4의 알킬기, 탄소수 6 내지 12의 아릴기로 치환될 수 있는 3원 또는 5원의 헤테로환을 형성하고, R 7 and R 8 are connected to each other to form a 3-membered or 5-membered heterocycle which may be substituted with an alkyl group having 1 to 4 carbon atoms or an aryl group having 6 to 12 carbon atoms,
k은 0 내지 2의 정수이고,k is an integer from 0 to 2,
h는 0 내지 2의 정수이며,h is an integer of 0 to 2,
상기 프로톤성 극성기는 각각 독립적으로 수산기, 카르복실기 또는 아마이드기임).Wherein each of the protonic polar groups is independently a hydroxyl group, a carboxyl group or an amide group.
상기 헤테로환은 고리형 구조로서 고리 중에 헤테로 원자(N, O, P, S 등)를 1개 이상 갖는 고리를 의미한다.The heterocyclic ring is a cyclic structure and means a ring having one or more heteroatoms (N, O, P, S, etc.) in the ring.
상기 화학식 10에서, R7와 R8이 형성할 수 있는 3원 헤테로환 구조로서는 예컨대 에폭시 구조 등을 들 수 있다. 또한, R7와 R8이 5원 헤테로환 구조로서는, 예컨대 다이카복실산 무수물 구조〔-C(O)-O-C(O)-〕, 다이카복시이미드 구조〔-C(O)-N-C(O)-〕 등을 들 수 있다.In the above formula (10), examples of the 3-membered heterocyclic structure that R 7 and R 8 can form include an epoxy structure and the like. Examples of the 5-membered heterocyclic structure of R 7 and R 8 include a dicarboxylic acid anhydride structure [-C (O) -OC (O) -], a dicarboxyimide structure [-C (O) And the like.
본 발명에 따른 화학식 9 또는 10으로 표시되는 반복 단위를 갖는 중합체는 유리전이온도가 높다. 예를 들면 100℃ 이상일 수 있고, 바람직하게는 150℃ 이상, 보다 바람직하게는 200℃ 이상, 가장 바람직하게는 250℃ 이상일 수 있다. 상기와 같이 높은 유리전이온도를 가짐으로써, 이를 포함한 제1 보호층이 높은 내열성을 가져, ITO 등의 센싱 전극 형성시의 고온 증착 및 어닐링 공정 시 발생할 수 있는 주름, 크랙, 색상 변화 등의 열 손상을 억제할 수 있다.The polymer having the repeating unit represented by the formula (9) or (10) according to the present invention has a high glass transition temperature. For example, 100 占 폚 or higher, preferably 150 占 폚 or higher, more preferably 200 占 폚 or higher, and most preferably 250 占 폚 or higher. By having such a high glass transition temperature as described above, the first protective layer including the first protective layer has high heat resistance, and can be used for thermal damage such as wrinkles, cracks, color change, and the like which may occur in high temperature deposition and annealing processes during formation of sensing electrodes such as ITO Can be suppressed.
본 발명에 따른 제1 보호층은 상기 화학식 9 또는 10으로 표시되는 반복 단위를 갖는 중합체의 경화층으로서, 탄성이 우수하여 캐리어 기판으로부터의 박리시에 발생할 수 있는 크랙을 줄일 수 있다.The first protective layer according to the present invention is a cured layer of a polymer having a repeating unit represented by the above general formula (9) or (10), and has excellent elasticity, so that cracks that may occur during peeling from the carrier substrate can be reduced.
제1 보호층의 탄성은 예를 들면 탄성률이 2.8 내지 4.5GPa일 수 있다. 탄성률이 2.8GPa 미만이면 전극 형성시에 절연층에 주름이 발생할 수 있고, 4.5GPa 초과이면 캐리어 기판으로부터 박리시에 크랙이 발생할 수 있다. 상기 범위의 탄성률은 예를 들면 포스트베이크 온도를 180℃ 이상으로 함으로써 얻어질 수 있다. 우수한 수준의 주름 억제 효과와 박리 억제 효과를 동시에 만족시킨다는 측면에서 바람직하게는 3 내지 4.2GPa일 수 있다.The elasticity of the first protective layer may be, for example, 2.8 to 4.5 GPa. If the modulus of elasticity is less than 2.8 GPa, wrinkles may occur in the insulating layer at the time of electrode formation, and if it is more than 4.5 GPa, cracks may occur at the time of peeling from the carrier substrate. The modulus of elasticity in this range can be obtained, for example, by setting the post bake temperature to 180 deg. It may preferably be 3 to 4.2 GPa from the standpoint of satisfying the excellent level of the wrinkle suppression effect and the peel suppression effect at the same time.
또한, 본 발명에 따른 제1 보호층은 투과율이 매우 높다. 예를 들면 투과율이 90% 이상일 수 있고, 바람직하게는 95% 이상, 보다 바람직하게는 97% 이상일 수 있다. 상기 범위의 투과율은 예를 들면 포스트베이크를 180℃ 내지 250℃로 실시함으로써 얻을 수 있다.In addition, the first protective layer according to the present invention has a very high transmittance. For example, the transmittance may be 90% or more, preferably 95% or more, and more preferably 97% or more. The transmittance in the above range can be obtained, for example, by carrying out post baking at 180 ° C to 250 ° C.
본 발명에 따른 상기 화학식 9 또는 10으로 표시되는 반복단위 중 적어도 하나를 포함하는 고분자는 프로톤성 극성기 함유 환상 올레핀계 중합체이다.The polymer comprising at least one of the repeating units represented by the above formula (9) or (10) according to the present invention is a cyclic olefin polymer containing a protonic polar group.
상기 프로톤성 극성기란, 탄소원자 이외의 원자에 수소원자가 직접 결합된 원자단으로서, 프로톤성 극성기의 구체예로서는, 수산기, 카르복실기 또는 아마이드기이며, 보다 바람직하게는 카르복실기이다.The protonic polar group is an atomic group in which a hydrogen atom is directly bonded to an atom other than a carbon atom, and specific examples of the protonic polar group are a hydroxyl group, a carboxyl group or an amide group, and more preferably a carboxyl group.
본 발명에 따른 제1 보호층의 고분자의 중량평균분자량(Mw)은 통상 1,000 내지 1,000,000, 바람직하게는 5,000 내지 150,000, 보다 바람직하게는 2,000 내지 10,000의 범위이다.The weight average molecular weight (Mw) of the polymer of the first protective layer according to the present invention is usually in the range of 1,000 to 1,000,000, preferably 5,000 to 150,000, more preferably 2,000 to 10,000.
또한, 본 발명에 따른 보호층 조성물에는 본 발명의 원하는 효과의 발현이 저해되지 않는 범위이면, 소망에 따라 환상 올레핀계 중합체 이외의 수지 성분이나, 용매, 가교제, 기타 배합제 등의 기타 성분을 포함할 수도 있다.The protective layer composition according to the present invention may contain, if desired, other components such as a resin component other than the cyclic olefin polymer, a solvent, a crosslinking agent, and other compounding agents as long as the protective layer composition according to the present invention does not impair the manifestation of the desired effect of the present invention You may.
환상 올레핀계 중합체 이외의 수지 성분으로서는, 예컨대 스타이렌계 수지, 염화비닐계 수지, 아크릴계 수지, 폴리페닐렌에터 수지, 폴리아릴렌설파이드 수지, 폴리카보네이트 수지, 폴리에스터 수지, 폴리아마이드 수지, 폴리에터설폰 수지, 폴리설폰 수지, 폴리이미드 수지, 고무, 엘라스토머 등을 들 수 있다.Examples of resin components other than the cyclic olefinic polymer include styrene-based resins, vinyl chloride-based resins, acrylic resins, polyphenylene ether resins, polyarylene sulfide resins, polycarbonate resins, polyester resins, polyamide resins, Polysulfone resin, polyimide resin, rubber, elastomer, and the like.
용매로는 에틸렌글리콜모노알킬에테르류; 디에틸렌글리콜디알킬에테르류; 에틸렌글리콜알킬에테르아세테이트류; 알킬렌글리콜알킬에테르아세테이트류; 프로필렌글리콜모노알킬에테르류; 프로필렌글리콜디알킬에테르류; 프로필렌글리콜알킬에테르프로피오네이트류; 부틸디올모노알킬에테르류; 부탄디올모노알킬에테르아세테이트류; 부탄디올모노알킬에테르프로피오네이트류; 디프로필렌글리콜디알킬에테르류; 방향족 탄화수소류; 케톤류; 알코올류; 에스테르류; 고리형 에스테르류 등을 들 수 있다. 여기서 예시한 용매는, 각각 단독으로 또는 2종 이상을 혼합하여 사용할 수 있다.Examples of the solvent include ethylene glycol monoalkyl ethers; Diethylene glycol dialkyl ethers; Ethylene glycol alkyl ether acetates; Alkylene glycol alkyl ether acetates; Propylene glycol monoalkyl ethers; Propylene glycol dialkyl ethers; Propylene glycol alkyl ether propionates; Butyldiol monoalkyl ethers; Butanediol monoalkyl ether acetates; Butanediol monoalkyl ether propionates; Dipropylene glycol dialkyl ethers; Aromatic hydrocarbons; Ketones; Alcohols; Esters; Cyclic esters and the like. The solvents exemplified herein may be used alone or in combination of two or more.
가교제로서는 환상 올레핀계 중합체와 반응할 수 있는 작용기를 분자내에 2개 이상, 바람직하게는 3개 이상 갖는 것이 사용된다. 가교제가 갖는 작용기는 환상 올레핀계 중합체 중의 작용기나 불포화 결합 등과 반응할 수 있는 것이면, 특별히 한정되지 않는다. 환상 올레핀계 중합체가 프로톤성 극성기를 갖는 경우, 이 극성기와 반응할 수 있는 바람직한 작용기로서는, 예컨대 아미노기, 카복실기, 하이드록실기, 에폭시기, 아이소사이아네이트기 등을 들 수 있고, 보다 바람직하게는 아미노기, 에폭시기 및 아이소사이아네이트기이며, 더욱 바람직하게는 에폭시기이다.As the crosslinking agent, those having two or more, preferably three or more functional groups capable of reacting with the cyclic olefin-based polymer in the molecule are used. The functional group of the crosslinking agent is not particularly limited as long as it can react with a functional group or an unsaturated bond in the cyclic olefin-based polymer. In the case where the cyclic olefinic polymer has a protonic polar group, examples of a preferable functional group capable of reacting with the polar group include an amino group, a carboxyl group, a hydroxyl group, an epoxy group and an isocyanate group, An amino group, an epoxy group and an isocyanate group, and more preferably an epoxy group.
기타 배합제로서는, 예컨대 증감제, 계면활성제, 잠재적 산 발생제, 대전방지제, 산화방지제, 접착 조제, 소포제, 안료, 염료 등을 들 수 있다.Examples of other compounding agents include a sensitizer, a surfactant, a potential acid generator, an antistatic agent, an antioxidant, an adhesion promoter, a defoaming agent, a pigment, and a dye.
전극 패턴층The electrode pattern layer
전극 패턴층은 터치 감지를 위한 센싱 전극 및 패드 전극을 포함한다.The electrode pattern layer includes a sensing electrode and a pad electrode for touch sensing.
센싱 전극은 분리층 상의 센싱 영역에, 패드 전극은 분리층 상의 패드 영역에 위치할 수 있다. 다만, 센싱 전극과 패드 전극은 전기적으로 연결되어야 하므로, 센싱 전극의 적어도 일부가 패드 영역에 위치할 수도 있고, 패드 전극의 적어도 일부가 센싱 영역에 위치할 수도 있다.The sensing electrode may be located in the sensing region on the isolation layer and the pad electrode may be located in the pad region on the isolation layer. However, since the sensing electrode and the pad electrode are electrically connected, at least a part of the sensing electrode may be located in the pad region, and at least a portion of the pad electrode may be located in the sensing region.
센싱 영역은 필름 터치 센서에서 터치가 수행되는 표시부에 대응되는 영역을 의미하고, 패드 영역은 패드부에 대응되는 영역을 의미한다. 즉, 분리층 상의 센싱 영역은 분리층 상에서 표시부에 대응되는 영역을 의미하고, 패드 영역은 분리층 상에서 패드부에 대응되는 영역을 의미한다.The sensing region means an area corresponding to a display portion to be touched by the film touch sensor, and the pad region means an area corresponding to the pad portion. That is, the sensing region on the isolation layer means the region corresponding to the display portion on the isolation layer, and the pad region means the region corresponding to the pad portion on the isolation layer.
전극 패턴층의 센싱 전극 및 패드 전극으로는 전도성 물질이라면 제한되지 않고 사용될 수 있으며, 예를 들면 인듐틴옥사이드(ITO), 인듐징크옥사이드(IZO), 인듐징크틴옥사이드(IZTO), 알루미늄징크옥사이드(AZO), 인듐징크틴옥사이드-은-인듐징크틴옥사이드(IZTO-Ag-IZTO) 및 알루미늄징크옥사이드-은-알루미늄징크옥사이드(AZO-Ag-AZO)로 이루어진 군에서 선택된 금속산화물류; 금(Au), 은(Ag), 구리(Cu), 몰리브덴(Mo) 및 APC로 이루어진 군에서 선택된 금속류; 금, 은, 구리 및 납으로 이루어진 군에서 선택된 금속의 나노와이어; 탄소나노튜브(CNT) 및 그래핀 (graphene)으로 이루어진 군에서 선택된 탄소계 물질류; 및 폴리(3,4-에틸렌디옥시티오펜)(PEDOT) 및 폴리아닐린(PANI)으로 이루어진 군에서 선택된 전도성 고분자 물질류에서 선택된 재료로 형성될 수 있으며, 이들은 단독 또는 2종 이상 혼합하여 사용할 수 있고, 바람직하게는 인듐틴옥사이드가 사용될 수 있다. 인듐틴옥사이드는 결정성 또는 비결정성 모두 사용이 가능하다.As the sensing electrode and the pad electrode of the electrode pattern layer, any conductive material can be used without limitation, and examples thereof include indium tin oxide (ITO), indium zinc oxide (IZO), indium zinc tin oxide (IZTO), aluminum zinc oxide AZO), indium zinc tin oxide-silver-indium zinc-tin oxide (IZTO-Ag-IZTO) and aluminum zinc oxide-silver-aluminum zinc oxide (AZO-Ag-AZO); Metals selected from the group consisting of gold (Au), silver (Ag), copper (Cu), molybdenum (Mo) and APC; Nanowires of metals selected from the group consisting of gold, silver, copper and lead; Carbon-based materials selected from the group consisting of carbon nanotubes (CNT) and graphene; And conductive polymer materials selected from the group consisting of poly (3,4-ethylenedioxythiophene) (PEDOT) and polyaniline (PANI). These materials may be used singly or in combination of two or more. Preferably, indium tin oxide may be used. Indium tin oxide can be used both crystalline and amorphous.
센싱 전극의 단위 패턴들은 서로 독립적으로 예컨대 3각형, 4각형, 5각형, 6각형 또는 7각형 이상의 다각형 패턴일 수 있다.The unit patterns of the sensing electrodes may be polygonal patterns independent of each other, for example, triangular, tetragonal, pentagonal, hexagonal, or hexagonal.
또한, 센싱 전극은 규칙 패턴을 포함할 수 있다. 규칙 패턴이란, 패턴의 형태가 규칙성을 갖는 것을 의미한다. 예컨대, 단위 패턴들은 서로 독립적으로 직사각형 또는 정사각형과 같은 메쉬 형태나, 육각형과 같은 형태의 패턴을 포함할 수 있다.In addition, the sensing electrode may include a regular pattern. A rule pattern means that the pattern form has regularity. For example, the unit patterns may include, independently of each other, a mesh shape such as a rectangle or a square, or a pattern such as a hexagon.
또한, 센싱 전극은 불규칙 패턴을 포함할 수 있다. 불규칙 패턴이란 패턴의 형태가 규칙성을 갖지 아니한 것을 의미한다.In addition, the sensing electrode may include an irregular pattern. The irregular pattern means that the shape of the pattern does not have regularity.
센싱 전극이 금속 나노와이어, 탄소계 물질류, 고분자 물질류 등의 재료로 형성된 경우, 센싱 전극은 망상 구조를 가질 수 있다.When the sensing electrode is formed of a material such as a metal nanowire, a carbon-based material, or a polymer material, the sensing electrode may have a network structure.
망상 구조를 갖는 경우, 서로 접촉하여 인접하는 패턴들에 순차적으로 신호가 전달되므로, 높은 감도를 갖는 패턴을 실현할 수 있다.In the case of having a network structure, since signals are sequentially transmitted to adjacent patterns in contact with each other, a pattern having high sensitivity can be realized.
센싱 전극의 두께는 특별히 한정하지 않으나, 필름 터치 센서의 유연성을 고려할 때 가급적 박막인 것이 바람직하다. 예를 들면, 두께는 100 내지 500Å일 수 있는데, 이와 같이 박막인 경우 저항 증가가 문제될 수 있으나, 전술한 바와 같은 캡핑층을 구비함으로써 저항 증가를 방지하여 우수한 감도를 유지할 수 있다.The thickness of the sensing electrode is not particularly limited, but it is preferable that the thickness is as thin as possible in consideration of the flexibility of the film touch sensor. For example, the thickness may be in the range of 100 to 500 ANGSTROM. In the case of such a thin film, the increase in resistance may be a problem. However, by providing the capping layer as described above, resistance can be prevented from increasing and excellent sensitivity can be maintained.
전극 패턴층의 센싱 전극은 터치 위치를 센싱하기 위해 서로 다른 방향인 2방향으로 형성되는데, 각 방향의 전극은 서로 절연되어야 한다. 이를 위해 전극 패턴층은 절연층을 구비하고, 이에 의해 어느 한 방향의 전극은 브릿지 전극을 통해 다른 방향의 전극과 절연을 유지하며 전기적으로 연결될 수 있다.The sensing electrodes of the electrode pattern layer are formed in two directions that are different from each other in order to sense the touch position, and the electrodes in each direction must be insulated from each other. To this end, the electrode pattern layer has an insulating layer, whereby the electrodes in either direction can be electrically connected while maintaining insulation with the electrodes in the other direction through the bridge electrode.
절연층Insulating layer
절연층은 전극 패턴층의 단위 패턴들 사이의 절연 효과를 상승시키고, 전극 패턴층을 더욱 보호하는 역할을 한다.The insulating layer enhances the insulating effect between the unit patterns of the electrode pattern layer and further protects the electrode pattern layer.
상기 제1 보호층과 상기 절연층의 25℃에서의 탄성율 차는 300MPa 이하인 것이 바람직하고, 100Mpa 이하인 것이 보다 바람직하다. 이는 각층의 스트레스 해소능력 차이에 의한 크랙 발생을 억제하기 위한 것으로, 상기 제1 보호층과 상기 절연층의 탄성율차를 25℃에서 300MPa 이하가 되도록 하는 이유는 탄성율 차이가 300MPa을 초과하면, 두 층간의 변형에너지 및 스트레스 해소능력에 불균형이 발생하여 크랙이 발생할 수 있기 때문이다.The difference in modulus of elasticity between the first protective layer and the insulating layer at 25 DEG C is preferably 300 MPa or less, more preferably 100 MPa or less. This is because the difference in the modulus of elasticity between the first protective layer and the insulating layer is made to be 300 MPa or less at 25 DEG C because when the difference in modulus of elasticity exceeds 300 MPa, The strain energy and the stress-relieving ability of the resin can be unbalanced and cracks can be generated.
또한, 25℃에서의 탄성율 차이를 측정하는 이유는 사용자가 사용하는 환경에서 크랙이 발생하지 않아야 하기 때문이다.The reason for measuring the difference in elastic modulus at 25 占 폚 is that cracks should not occur in the environment used by the user.
절연층은 제1 보호층과의 탄성율 차이가 300Mpa 이하가 되는 것을 만족하는 유기절연물질이면 특별히 제한되지 않으나, 절연층은 열경화성 또는 UV경화성 유기고분자인 것이 바람직하다. 절연층은 에폭시 화합물, 아크릴 화합물, 멜라닌 화합물 등 물질에서 선택된 하나 이상의 물질로 형성될 수 있다.The insulating layer is not particularly limited as long as it is an organic insulating material satisfying that the difference in modulus of elasticity from the first protective layer is 300 MPa or less. However, the insulating layer is preferably a thermosetting or UV curable organic polymer. The insulating layer may be formed of at least one material selected from the group consisting of an epoxy compound, an acrylic compound, and a melamine compound.
절연층은 그 자체로 점착층 또는 접착층일 수 있다. 그러한 경우, 별도의 점착제, 접착제 없이, 절연층상에 바로 기재 필름을 부착할 수 있다.The insulating layer may itself be an adhesive layer or an adhesive layer. In such a case, the base film can be directly adhered onto the insulating layer without a separate adhesive or adhesive.
제2 보호층The second protective layer
필요에 따라, 본 발명의 필름 터치 센서는 상기 전극 패턴층이 형성된 제1 보호층 상에 위치한 제2 보호층을 더 포함할 수 있다.If necessary, the film touch sensor of the present invention may further include a second protective layer disposed on the first protective layer on which the electrode pattern layer is formed.
본 발명에 따른 제2 보호층은 그 자체로서 기재의 역할, 그리고 패시베이션층의 역할을 할 수 있다. 뿐만 아니라, 전극 패턴층의 부식을 막고, 표면을 평탄화하여 기재 필름과의 접착시 미세기포의 발생을 억제할 수 있다. 또한, 접착층의 역할을 할 수 있다.The second passivation layer according to the present invention can act as a substrate itself and as a passivation layer. In addition, corrosion of the electrode pattern layer can be prevented, and the surface can be planarized to suppress generation of minute bubbles when adhered to the base film. It can also serve as an adhesive layer.
제2 보호층을 더 포함하는 경우, 기재 필름를 상하에서 동시에 보호하여, 크랙 억제 효과를 더욱 개선할 수 있다.When the second protective layer is further included, the base film can be simultaneously protected at the upper and lower sides to further improve the crack suppressing effect.
제2 보호층이 기재 또는 패시베이션층의 역할을 하는 경우, 폴리디메틸실록산(PDMS), 폴리오르가노실록산(POS) 등의 실리콘계 고분자; 폴리이미드계 고분자; 폴리우레탄계 고분자 등으로 제조된 것일 수 있으나, 이에 제한되는 것은 아니다. 이들은 단독 또는 2종 이상 혼합하여 사용할 수 있다.When the second protective layer serves as a substrate or a passivation layer, a silicone-based polymer such as polydimethylsiloxane (PDMS) or polyorganosiloxane (POS); Polyimide-based polymers; Polyurethane-based polymers, and the like, but the present invention is not limited thereto. These may be used alone or in combination of two or more.
제2 보호층이 접착층의 역할을 하는 경우, 당 분야에 공지된 열경화 또는 광경화성 점착제 또는 접착제를 제한없이 사용할 수 있다. 예를 들어, 폴리에스테르계, 폴리에테르계, 우레탄계, 에폭시계, 실리콘계, 아크릴계 등의 열경화 또는 광경화성 점착제 또는 접착제를 사용할 수 있다.When the second protective layer serves as an adhesive layer, a thermosetting or photo-curable pressure-sensitive adhesive or adhesive known in the art can be used without limitation. For example, thermosetting or photo-curable pressure-sensitive adhesives or adhesives such as polyester-based, polyether-based, urethane-based, epoxy-based, silicone-based or acrylic-
또한, 제2 보호층으로는 상기 제1 보호층 형성용 조성물과 동일 조성으로도 사용 가능하다.The second protective layer may be the same composition as the composition for forming the first protective layer.
기재필름Base film
본 발명의 필름 터치 센서는 상기 전극 패턴층 상측에 부착된 기재 필름을 더 포함할 수 있다.The film touch sensor of the present invention may further include a base film adhered on the electrode pattern layer.
기재 필름으로는 당 분야에 널리 사용되는 소재로 제조된 투명 필름이 제한되지 않고 사용될 수 있으며, 예를 들면, 셀룰로오스 에스테르(예: 셀룰로오스 트리아세테이트, 셀룰로오스 프로피오네이트, 셀룰로오스 부티레이트, 폴리에테르 케톤, 폴리비닐알코올 및 폴리염화비닐로 이루어진 군으로부터 선택된 단독 또는 이들의 혼합물로 제조된 필름일 수 있다.As the base film, a transparent film made of materials widely used in the art can be used without limitation, and examples thereof include cellulose esters (e.g., cellulose triacetate, cellulose propionate, cellulose butyrate, polyether ketone, poly Vinyl alcohol, and polyvinyl chloride, or a mixture thereof.
또한, 투명 필름은 등방성 필름 또는 위상차 필름일 수 있다.Further, the transparent film may be an isotropic film or a retardation film.
등방성 필름일 경우 면내 위상차(Ro, Ro=[(nx-ny)ⅹd], nx, ny는 필름 평면 내의 주굴절률, nz는 필름 두께 방향의 굴절률, d는 필름 두께이다) 가 40nm 이하이고, 15nm 이하가 바람직하며, 두께방향 위상차(Rth, Rth=[(nx+ny)/2-nz]ⅹd) 가 -90nm 내지 +75nm이며, 바람직하게는 -80nm 내지 +60nm, 특히 -70nm 내지 +45nm가 바람직하다.Nx and ny are the main indices of refraction in the film plane, nz is the refractive index in the film thickness direction, d is the film thickness) is 40 nm or less, and 15 nm And the retardation in the thickness direction (Rth, Rth = [(nx + ny) / 2-nz] xd) is from -90 nm to +75 nm, preferably -80 nm to +60 nm, desirable.
위상차 필름은 고분자필름의 일축 연신, 이축 연신, 고분자코팅, 액정코팅의 방법으로 제조된 필름이며, 일반적으로 디스플레이의 시야각보상, 색감개선, 빛샘개선, 색미조절 등의 광학특성 향상 및 조절을 위하여 사용된다.The retardation film is a film produced by the uniaxial stretching, biaxial stretching, polymer coating and liquid crystal coating method of a polymer film, and is generally used for improving the viewing angle of the display, improving the color feeling, improving the light leakage, do.
또한, 기재 필름으로 편광판을 사용할 수도 있다.In addition, a polarizing plate may be used as the base film.
편광판은 폴리비닐알콜계 편광자의 일면 또는 양면에 편광자 보호필름이 부착된 것일 수 있다.The polarizing plate may be one having a polarizer protective film attached on one side or both sides of a polyvinyl alcohol polarizer.
또한, 기재 필름으로 보호필름을 사용할 수도 있다.Further, a protective film may be used as the base film.
보호필름은 고분자 수지로 이루어진 필름의 적어도 일면에 점착층을 포함하는 필름이거나 폴리프로필렌 등의 자가점착성을 가진 필름일 수 있으며, 터치 센서 표면의 보호, 공정정 개선을 위하여 사용될 수 있다.The protective film may be a film including an adhesive layer on at least one side of a film made of a polymer resin, or a self-adhesive film such as polypropylene, and may be used for protecting the surface of the touch sensor and improving the process precision.
기재 필름의 광투과율은 바람직하게는 85% 이상이며, 보다 바람직하게는 90% 이상일 수 있다. 또한, 상기 기재 필름은 JIS K7136에 따라 측정되는 전체 헤이즈값이 10% 이하인 것이 바람직하고, 7% 이하인 것이 보다 바람직하다.The light transmittance of the base film is preferably 85% or more, and more preferably 90% or more. The haze value of the base film measured according to JIS K7136 is preferably 10% or less, and more preferably 7% or less.
상기 기재 필름의 두께는 제한되지 않지만 바람직하게는 30 내지 150㎛이며, 보다 바람직하게는 70 내지 120 ㎛이다.The thickness of the base film is not limited, but is preferably 30 to 150 占 퐉, and more preferably 70 to 120 占 퐉.
기재필름은 점접착층을 통해 부착될 수 있다.The base film can be attached through the adhesive layer.
점접착층은 점착층 또는 접착층을 의미한다.The pressure-sensitive adhesive layer means an adhesive layer or an adhesive layer.
점착제 또는 접착제로는 당 분야에 공지된 열경화 또는 광경화성 점착제 또는 접착제를 제한없이 사용할 수 있다. 예를 들어, 폴리에스테르계, 폴리에테르계, 우레탄계, 에폭시계, 실리콘계, 아크릴계 등의 열경화 또는 광경화성 점착제 또는 접착제를 사용할 수 있다.As the pressure-sensitive adhesive or adhesive, thermosetting or photocurable pressure-sensitive adhesives or adhesives well known in the art can be used without limitation. For example, thermosetting or photo-curable pressure-sensitive adhesives or adhesives such as polyester-based, polyether-based, urethane-based, epoxy-based, silicone-based or acrylic-
본 발명의 필름 터치 센서는 전극 패턴층과 기재 필름 사이에 패시베이션층을 더 포함할 수 있다.The film touch sensor of the present invention may further include a passivation layer between the electrode pattern layer and the base film.
패시베이션층은 전극 패턴층이 외부환경(수분, 공기 등)에 의해 오염되는 것을 방지하기 위한다.The passivation layer prevents the electrode pattern layer from being contaminated by the external environment (moisture, air, etc.).
패시베이션층은 실리콘 산화물과 같은 금속 산화물, 아크릴계 수지를 포함하는 투명한 절연층 조성물, 열경화성 수지 조성물 등을 사용하여 필요한 패턴으로 형성될 수 있다.The passivation layer may be formed in a necessary pattern using a metal oxide such as silicon oxide, a transparent insulating layer composition containing an acrylic resin, a thermosetting resin composition, or the like.
패시베이션층은 적절한 두께를 가질 수 있으며, 예를 들면 2,000nm 이하일 수 있다. 따라서, 예를 들면 0 내지 2,000nm일 수 있다.The passivation layer may have a suitable thickness, for example, 2,000 nm or less. Thus, for example, it can be from 0 to 2,000 nm.
<터치스크린 패널 및 화상 표시 장치><Touch Screen Panel and Image Display Device>
본 발명은 상기 필름 터치 센서를 구비하는 터치 스크린 패널에 관한 것으로서, 유연성 및 내구성이 뛰어나 플렉서블 디스플레이에 적용이 용이하다.The present invention relates to a touch screen panel having the above-mentioned film touch sensor, which is excellent in flexibility and durability, and is thus easily applicable to a flexible display.
또한, 본 발명은 상기 필름 터치 센서를 포함하는 화상 표시 장치를 제공하는 것을 목적으로 한다.Another object of the present invention is to provide an image display apparatus including the film touch sensor.
본 발명의 필름 터치 센서는 통상의 액정 표시 장치뿐만 아니라, 전계 발광 표시 장치, 플라스마 표시 장치, 전계 방출 표시 장치 등 각종 화상 표시 장치에 적용이 가능하다.The film touch sensor of the present invention is applicable not only to a general liquid crystal display but also to various image display devices such as an electroluminescence display, a plasma display, and a field emission display.
또한, 본 발명의 필름 터치 센서는 굴곡 특성이 우수한 바, 상기 화상 표시 장치는 플렉서블 화상 표시 장치일 수 있다.Further, the film touch sensor of the present invention is excellent in bending property, and the image display device can be a flexible image display device.
이하, 본 발명의 이해를 돕기 위하여 바람직한 실시예를 제시하나, 이들 실시예는 본 발명을 예시하는 것일 뿐 첨부된 특허청구범위를 제한하는 것이 아니며, 본 발명의 범주 및 기술사상 범위 내에서 실시예에 대한 다양한 변경 및 수정이 가능함은 당업자에게 있어서 명백한 것이며, 이러한 변형 및 수정이 첨부된 특허청구범위에 속하는 것도 당연한 것이다.It is to be understood that both the foregoing general description and the following detailed description of the present invention are exemplary and explanatory and are intended to be illustrative of the invention and are not intended to limit the scope of the claims. It will be apparent to those skilled in the art that such variations and modifications are within the scope of the appended claims.
합성예 1. 화학식 7로 표시되는 바인더 수지의 합성Synthesis Example 1. Synthesis of the binder resin represented by the formula (7)
(1) 4-(6-하이드록시헥실 옥시) 안식향산의 합성(1) Synthesis of 4- (6-hydroxyhexyloxy) benzoic acid
4-하이드록시 안식향산 100.0g(0.7 몰), 수산화 칼륨 105.1g(1.6몰)를 물 400.0 g에 용해했다. 이 용액에 6-클로로헥사놀 108.8g(0.8 몰)를 1시간 걸쳐 적하했다. 그 다음에, 100℃으로 가열 환류를 수행했다. 20시간 후 반응액을 냉각해, 격렬하게 교반하면서, 35% 염산 344.6g(1.7 몰)를 실온에서 적하했다. 석출한 고체를 려취해, 테트라하이드로퓨란(THF) 400 g로 재결정하고, 표기 화합물 120.0g(0.5 몰)를 백색 결정으로서 얻었다.100.0 g (0.7 mol) of 4-hydroxybenzoic acid and 105.1 g (1.6 mol) of potassium hydroxide were dissolved in 400.0 g of water. 108.8 g (0.8 mol) of 6-chlorohexanol was added dropwise to this solution over 1 hour. Then, reflux was carried out at 100 캜 under heating. After 20 hours, the reaction solution was cooled and 344.6 g (1.7 mol) of 35% hydrochloric acid was added dropwise at room temperature while vigorously stirring. The precipitated solid was taken and recrystallized from 400 g of tetrahydrofuran (THF) to obtain 120.0 g (0.5 mol) of the title compound as white crystals.
(2) 4-[6-(2-메틸 아크릴로일 옥시) 헥실옥시]안식향산의 합성(2) Synthesis of 4- [6- (2-methylacryloyloxy) hexyloxy] benzoic acid
상기 (1)에서 얻은 화합물 120.0g(0.5 몰), 트리에틸아민 81.5g(0.8몰)를 THF 480.0 g에 용해했다. 이 용액에, 메타크릴산 클로라이드 84.2g(0.8 몰)를 1시간 걸쳐 적하했다. 그 다음에, 40℃으로 가열했다. 4시간 후 반응액을 냉각해,물 240.0 g를 더했다. 분리한 유기층에, 10% 염산 367.2g(1 몰)를 더해 교반했다. 분리한 유기층을 농축해, 찌꺼기를 톨루엔 400.0 g로 재결정하고, 표기 화합물120.0 g (0.5 mol) of the compound obtained in the above (1) and 81.5 g (0.8 mol) of triethylamine were dissolved in 480.0 g of THF. To this solution, 84.2 g (0.8 mol) of methacrylic chloride was added dropwise over one hour. Then, it was heated to 40 占 폚. After 4 hours, the reaction solution was cooled, and 240.0 g of water was added. 367.2 g (1 mole) of 10% hydrochloric acid was added to the separated organic layer, followed by stirring. The separated organic layer was concentrated, and the residue was recrystallized from toluene (400.0 g) to obtain the title compound
96.0g(0.3 몰)를, 백색 결정으로서 얻었다.(0.3 mol) of the title compound as white crystals.
(3) 4-[6-(2-메틸 아크릴로일 옥시) 헥실옥시]티오 안식향산 S-4-(메톡시) 페닐 에스테르의 합성(3) Synthesis of 4- [6- (2-methylacryloyloxy) hexyloxy] thiobenzoic acid S-4- (methoxy) phenyl ester
상기 (2)에서 얻은 화합물 96.0g(0.3 몰), 4-메톡시 티오페놀42.1g(0.3 몰) 및 N,N-디메틸아미노 피리딘 7.7g(0.1 몰)를 디클로로 메탄 960 g에 용해했다. 이 용액에, 디시클로헥실카르보 디이미드(DCC) 71.1g(0.3 몰)를 더했다.실온에서 2시 간 반응 후, 물 288 g를 더했다. 분리한 유기층을 농축해, 찌꺼기를 톨루엔 100 g로부터 재결정하고, 표기 화합물 110g(0.3 몰)를 백색 결정으로서 얻었다.96.0 g (0.3 mol) of the compound obtained in the above (2), 42.1 g (0.3 mol) of 4-methoxythiophenol and 7.7 g (0.1 mol) of N, N-dimethylaminopyridine were dissolved in 960 g of dichloromethane. 71.1 g (0.3 mol) of dicyclohexylcarbodiimide (DCC) was added to this solution. After 2 hours of reaction at room temperature, 288 g of water was added. The separated organic layer was concentrated, and the residue was recrystallized from 100 g of toluene to obtain 110 g (0.3 mol) of the title compound as white crystals.
(4) 폴리[1-[6-[4-[4-(메톡시) 페닐티오카르보닐]페녹시]헥실옥시카르보닐]-1-메틸에틸렌]의 합성(4) Synthesis of poly [1- [6- [4- [4- (methoxy) phenylthiocarbonyl] phenoxy] hexyloxycarbonyl] -1-methylethylene]
상기 (3)에서 얻은 화합물 110g(0.2 몰), AIBN0.8g(5 mM)을 사이클로헥사논 412 g에 용해했다. 이 용액에, 질소를 1시간 통기했다. 그 다음에, 80℃으로 가열했다. 10시간 후 반응액을 냉각하고, 격렬하게 교반하면서, 노말 헥산346g에, 실온에서 적하했다. 분리한 중합체를 여과하여 감압하의 50℃의 온도에서 건조하여 표기 폴리머 93.5 g를 얻었다.110 g (0.2 mol) of the compound obtained in the above (3) and 0.8 g (5 mM) of AIBN were dissolved in 412 g of cyclohexanone. The solution was ventilated with nitrogen for 1 hour. Then, it was heated to 80 캜. After 10 hours, the reaction solution was cooled and added dropwise to 346 g of n-hexane at room temperature with vigorous stirring. The separated polymer was filtered and dried at a temperature of 50 캜 under reduced pressure to obtain 93.5 g of a labeled polymer.
상기 폴리머의 중량 평균 분자량(MW)을, 겔 여과 크로마토그래피 (GPC)를 이용해 측정했다. 얻어진 중량 평균 분자량(MW)은 21,000이었다.The weight average molecular weight (MW) of the polymer was measured by gel filtration chromatography (GPC). The obtained weight average molecular weight (MW) was 21,000.
합성예 2: 화학식 8로 표시되는 바인더 수지의 합성 Synthesis Example 2: Synthesis of the binder resin represented by the formula (8)
(1)폴리[1-[6-[4-[4-[(E)-2-메톡시카르보닐비닐]페녹시카르보닐]페녹시]헥실옥시카르보닐]-1-메틸에틸렌-CO-1-[6-[4-카르복시페녹시]헥실옥시카르보닐]-1-메틸에틸렌](M1: M2=90:10)(1) Poly [1- [6- [4- [4 - [(E) -2-methoxycarbonylvinyl] phenoxycarbonyl] phenoxy] hexyloxycarbonyl] -1-methylethylene-CO -1-methylethyl] (M1: M2 = 90: 10) was obtained in the same manner as in [
4-6-(2-메틸아크릴로일옥시)헥실옥시]안식향산4-[(E)-2-메톡시카르보닐비닐]페닐에스테르 5g(11 mM), 4-[6-(2-메틸아크릴로일옥시)헥실옥시]안식향산 29.6g(96 mM) 및 2,2'-아조비스이소부티로니트릴 0.35g(2.1 mM)을 시클로헥사논 196g에 용해했다. 이 용액에 질소를 1시간 통기하였다. 이어서, 80℃에서 가열하였다. 10시간 후 반응액을 냉각하여, 격렬하게 교반하면서, 노말 헥산 346g에 실온에서 적하하였다. 분리한 중합체를 여과하여, 감압하, 50℃에서의 건조에 의해 중합체 1을 26g 얻었다.5 g (11 mM) of 4- [6- (2-methylethyl acryloyloxy) hexyloxy] benzoic acid 4 - [(E) -2- methoxycarbonylvinyl] Acryloyloxy) hexyloxy] benzoic acid and 0.35 g (2.1 mM) of 2,2'-azobisisobutyronitrile were dissolved in 196 g of cyclohexanone. This solution was ventilated with nitrogen for 1 hour. Then, it was heated at 80 占 폚. After 10 hours, the reaction solution was cooled and added dropwise to 346 g of n-hexane at room temperature with vigorous stirring. The separated polymer was filtered and dried at 50 DEG C under reduced pressure to obtain 26 g of Polymer 1.
상기에서 얻어진 폴리머의 중량 평균 분자량(MW)을 폴리스티렌을 표준물질로 사용하고 겔 여과 크로마토그래피(GPC)를 이용하여 측정하였다. 상기에서 얻어진 폴리머는 중량 평균 분자량(MW)이 30,700이었고 산가가 156mgKOH/g이었다.The weight average molecular weight (MW) of the polymer obtained above was measured by gel filtration chromatography (GPC) using polystyrene as a standard material. The polymer thus obtained had a weight average molecular weight (MW) of 30,700 and an acid value of 156 mgKOH / g.
(2)폴리[1-[6-[4-[4-[(E)-2-메톡시카르보닐비닐]페녹시카르보닐]페녹시]헥실옥시카르보닐]-1-메틸에틸렌-CO-1-[6-[4-카르복시페녹시]헥실옥시카르보닐]-1-메틸에틸렌](M1: M2=80:20)(2) Poly [1- [6- [4- [4 - [(E) -2-methoxycarbonylvinyl] phenoxycarbonyl] phenoxy] hexyloxycarbonyl] -1-methylethylene-CO -1-methylethylene] (M1: M2 = 80: 20) was used in place of 1- [6- [4-carboxyphenoxy] hexyloxycarbonyl]
4-[6-(2-메틸아크릴로일옥시)헥실 옥시]안식향산 4-[(E)-2-메톡시카르보닐비닐]페닐에스테르의 사용량을 8g(17 mM), 4-[6-(2-메틸아크릴로일옥시)헥실옥시]안식향산의 사용량을 21g(69 mM), 2,2'-아조비스이소부티로니트릴의사용량을 0.28g(1.7 mM), 시클로헥사논의 사용량을 116g으로 하는 것 이외는, 실시예 2와 동일하게 처리하여, 화학식 3으로 표시되는 폴리머 24g을 얻었다. 상기에서 얻어진 폴리머는 중량 평균분자량(MW)이 31,700이고 산가가 130mgKOH/g이었다.The amount of 4 - [(E) -2-methoxycarbonylvinyl] phenyl ester used was changed to 8 g (17 mM) of 4- [6- (2-methylacryloyloxy) (69 mM) of 2,2'-azobisisobutyronitrile, 0.28 g (1.7 mM) of 2,2'-azobisisobutyronitrile, and 116 g of cyclohexanone in an amount of 2.1 g , The procedure of Example 2 was repeated to obtain 24 g of a polymer represented by the general formula (3). The polymer thus obtained had a weight average molecular weight (MW) of 31,700 and an acid value of 130 mgKOH / g.
(3)폴리[1-[6-[4-[4-[(E)-2-메톡시카르보닐비닐]페녹시카르보닐]페녹시]헥실옥시카르보닐]-1-메틸에틸렌-(3) Poly [1- [6- [4- [4 - [(E) -2-methoxycarbonylvinyl] phenoxycarbonyl] phenoxy] hexyloxycarbonyl]
CO-1-[6-[4-카르보키시페녹시]헥실옥시카르보닐]-1-메틸에틸렌](MCO-1- [6- [4-Carbocyciphenoxy] hexyloxycarbonyl] -1-methylethylene] (M
1: M2=70:30)1: M2 = 70: 30)
4-[6-(2-메틸아크릴로일옥시)헥실옥시]안식향산 4-[(E)-2-메톡시 카르보닐비닐]페닐에스테르의 사용량을 10g(21 mM),4-[6-(2-메틸아크릴로일옥시)헥실옥시]안식향산의 사용량을 15.3g(50 mM), 2,2'-아조비스이소부티로니트릴의 사용량을 0.23g(1.4 mM), 시클로헥사논의 사용량을(21 mM) of 4- [6- (2-methylacryloyloxy) hexyloxy] benzoic acid 4 - [(E) -2- methoxycarbonylvinyl] (50 mM) of 2,2'-azobisisobutyronitrile, 0.23 g (1.4 mM) of 2,2'-azobisisobutyronitrile, the amount of cyclohexanone used
101.2g 및 노말 헥산의 사용량을 253g으로 하는 것 이외는, 실시예 2와 동일하게 처리하여 화학식 5로 표시되는 폴리머 24g을 얻었다.상기에서 얻어진 폴리머는 중량 평균 분자량(MW)이 33,300이었고 산가가 110 mgKOH/g이었다.And the amount of n-hexane used was 253 g to obtain 24 g of a polymer represented by Chemical Formula 5. The polymer thus obtained had a weight average molecular weight (MW) of 33,300 and an acid value of 110 mgKOH / g.
(4) 폴리[1-[6-[4-[4-[(E)-2-메톡시카르보닐비닐]페녹시카르(4) Poly [1- [6- [4- [4 - [(E) -2-methoxycarbonylvinyl] phenoxycar
보닐]페녹시]헥실옥시카르보닐]-1-메틸에틸렌-CO-1-[6-[3-플루오르-4-카르복시페녹시]헥실옥시카르보닐]-1-메틸에틸렌](M1:M2=81:19)-1-methylethylene] (M1: < / RTI > < RTI ID = 0.0 & M2 = 81: 19)
4-[6-(2-메틸아크릴로일옥시)헥실옥시]안식향산 4-[(E)-2-메톡시카르보닐비닐]페닐에스테르 2g(4 mM), 2-플루오르-4-[6-(2-메틸아크릴로일옥시)헥실옥시]안식향산 5.6g(17 mM), 2,2'-아조비스이소부티로니트릴 0.11g(0.6 mM),시클로헥사논 116g 및 노말헥산 76g을 이용하여, 실시예 2와 동일하게 처리하여,화학식 6로 표시되는 폴리머 5g을 얻었다.2 g of 4 - [(E) -2-methoxycarbonylvinyl] phenyl ester, 4 g of 4 - [6- (2-methylacryloyloxy) hexyloxy] - (2-methylacryloyloxy) hexyloxy] benzoic acid, 0.11 g (0.6 mM) of 2,2'-azobisisobutyronitrile, 116 g of cyclohexanone and 76 g of n-hexane Thus, 5 g of the polymer represented by the general formula (6) was obtained in the same manner as in Example 2.
상기에서 얻어진 폴리머는 중량 평균 분자량(MW)이 48,200이었고 산가가 132mgKOH/g이었다.The polymer thus obtained had a weight average molecular weight (MW) of 48,200 and an acid value of 132 mgKOH / g.
(5)폴리[1-[6-[4-[(E)-2-[4-시아노페녹시]카르보닐비닐]페녹시]헥실옥시카르보닐]-1-메틸에틸렌-CO-1-[6-[4-카르복시페녹시] 헥실옥시카르보닐]-1-메틸에틸렌] (M1 : M2=80:20)(5) Synthesis of poly [1- [6- [4 - [(E) -2- [4-cyanophenoxy] carbonylvinyl] phenoxy] hexyloxycarbonyl] - [6- [4-carboxyphenoxy] hexyloxycarbonyl] -1-methylethylene] (M1: M2 = 80:20)
4-[6-(2-메틸아크릴로일옥시) 헥실옥시]-(E)-계피산 4-시아노페닐에스테르(23 mM), 4-[6-(2-메틸아크릴로일옥시)헥실옥시]안식향산 28g(92 mM)를 이용하고, 2,2'-아조비스이소부티로니트릴의 사용량을 0.38g(2.3 mM), 시클로헥사논의 사용량을 153g으로 하는 것 이외는, 실시예 2와 동일하게 처리하여 화학식 7 로 표시되는 폴리머 22g을 얻었다.4-cyanophenyl ester (23 mM), 4- [6- (2-methylacryloyloxy) hexyloxy] - (E) (2.3 mM) of 2,2'-azobisisobutyronitrile and the used amount of cyclohexanone was changed to 153 g, the procedure of Example 2 was repeated except that 28 g (92 mM) of benzoic acid was used and the amount of 2,2'-azobisisobutyronitrile was changed to 0.38 g The same treatment was carried out to obtain 22 g of a polymer represented by the general formula (7).
상기에서 얻어진 폴리머는 중량 평균 분자량(MW)이 24,800이었고 산가가 135mgKOH/g이었다.The polymer thus obtained had a weight average molecular weight (MW) of 24,800 and an acid value of 135 mgKOH / g.
합성예 3: 제1 보호층의 고분자(카르복시기 포함) 합성Synthesis Example 3: Synthesis of polymer (including carboxyl group) of the first protective layer
8-하이드록시카보닐테트라사이클로도데센 60부, N-페닐-(5-노보넨-2,3-다이카복시이미드) 40부, 1-헥센 1.3부, (1,3-다이메틸이미다졸리딘-2-일리덴)(트라이사이클로헥실포스핀)벤질리덴루테늄 다이클로라이드 0.05부 및 테트라하이드로퓨란 400부를 질소 치환한 유리제 내압 반응기에 투입하고, 교반하면서 70℃에서 2시간 반응시켜수지 용액(a)(고형분 농도: 약 20%)을 수득했다. 이 수지 용액(a)을 교반기 부착 오토클레이브내로 옮기고, 수소압력 4MPa, 온도 150℃에서 5시간 반응시켜 수소 첨가된 수지(수소 첨가율 99%)를 포함하는 수지 용액(b)(고형분 농도: 약 20%)을 수득했다. 다음으로, 수지 용액(b) 100부 및 활성탄 분말 1부를 내열제의 오토클레이브내로 넣고, 수소압력 4MPa하에 온도 150℃에서 3시간 반응시켰다. 반응 종료후, 반응액을 구멍직경 0.2μm의 불소 수지제 필터로 여과하여 활성탄을 분리함으로써 수지 용액(c-1)을 수득했다. 이 때, 용액은 순조롭게 여과되었다. 이어서, 수지 용액(c-1)을 에틸알콜 중에 가했다. 생성된 조각을 건조시켜 수지(1)를 수득했다. 수지(1)의 폴리아이소프렌 환산의 Mw는 5,500, Mn은 3,200이었다. 또한, 산가가 50mgKOH/g 이었다.60 parts of 8-hydroxycarbonyltetracyclododecene, 40 parts of N-phenyl- (5-norbornene-2,3-dicarboxyimide), 1.3 parts of 1-hexene, 2-ylidene) (tricyclohexylphosphine) benzylidene ruthenium dichloride and 400 parts of tetrahydrofuran were placed in a nitrogen pressure-substituted pressure-resistant reactor and reacted at 70 ° C for 2 hours with stirring to obtain a resin solution (a ) (Solid concentration: about 20%). The resin solution (a) was transferred into an autoclave equipped with a stirrer and reacted at a hydrogen pressure of 4 MPa and a temperature of 150 캜 for 5 hours to obtain a resin solution (b) having a hydrogenated resin (hydrogenation rate: 99% %). Next, 100 parts of the resin solution (b) and 1 part of the activated carbon powder were placed in an autoclave of a heat-resistant agent, and the reaction was carried out at 150 DEG C under a hydrogen pressure of 4 MPa for 3 hours. After completion of the reaction, the reaction solution was filtered through a fluororesin filter having a pore diameter of 0.2 m to separate the activated carbon, thereby obtaining a resin solution (c-1). At this time, the solution was filtered smoothly. Subsequently, the resin solution (c-1) was added to ethyl alcohol. The resulting pieces were dried to obtain resin (1). Mw of the resin (1) in terms of polyisoprene was 5,500 and Mn was 3,200. The acid value was 50 mgKOH / g.
수지용액(c-1)에 첨가제 F-554, DIC사 0.5부, 경화제로 EPHE-3150CE, Dicel사 2.5부를 첨가하고 고형분 20%가 되도록 보호층 수지 조성물을 제조하여 제1 보호층을 형성하였다 (B-1).Additive F-554, 0.5 part of DIC resin, 2.5 parts of EPHE-3150CE and Dicel as a curing agent were added to the resin solution (c-1) to prepare a protective layer resin composition having a solid content of 20% to form a first protective layer B-1).
합성예 4. 제1 보호층의 고분자(수산기 포함) 합성Synthesis Example 4. Synthesis of polymer (including hydroxyl group) of the first protective layer
교반기, 온도계 환류 냉각관, 적하 로트 및 질소 도입관을 구비한 플라스크를 준비하고, 프로필렌글리콜모노메틸에테르아세테이트(PGMEA) 80 중량부를 투입 후 교반하면서 75℃까지 가열하였다. 플라스크에 히드록시에틸 (메타)아크릴레이트(HEMA) 20 중량부 비닐톨루엔(VT) 50 중량부 메타아크릴산 (MAA) 30중량부를 PGMEA 170 중량부에 녹인 용액을 적하 로트를 이용하여 5시간 동안 적하시켰다. A flask equipped with a stirrer, a thermometer reflux condenser, a dropping funnel and a nitrogen inlet tube was prepared, and 80 parts by weight of propylene glycol monomethyl ether acetate (PGMEA) was added and heated to 75 DEG C with stirring. 20 parts by weight of hydroxyethyl (meth) acrylate (HEMA) 50 parts by weight of vinyltoluene (VT) and 30 parts by weight of methacrylic acid (MAA) were dissolved in 170 parts by weight of PGMEA in a dropping funnel for 5 hours .
한편, 중합개시제 아조비스이소부티로니트릴 20 중량부를 PGMEA 80 중량부에 용해시킨 용액을 별도의 적하 로트를 이용하여 5시간에 걸쳐서 적하시켰다. 중합개시제의 적하가 완료된 후에, 약 4시간 동안 온도를 유지하면서 그 후 실온까지 냉각하면서 고형분 33.6 중량%, 중량평균분자량 19,740인 수지를 얻었다. 수지용액(c-2)에 첨가제 F-554, DIC사 0.5부, 경화제로 EPHE-3150CE, Dicel사 2.5부를 첨가하고 고형분 20%가 되도록 보호층 수지 조성물을 제조하여 제1 보호층을 형성하였다(B-2).On the other hand, a solution prepared by dissolving 20 parts by weight of azobisisobutyronitrile as a polymerization initiator in 80 parts by weight of PGMEA was added dropwise over 5 hours using a separate dropping funnel. After the dropping of the polymerization initiator was completed, the temperature was maintained for about 4 hours while cooling to room temperature to obtain a resin having a solid content of 33.6% by weight and a weight average molecular weight of 19,740. Additive F-554, 0.5 part of DIC resin, 2.5 parts of EPHE-3150CE and Dicel as a curing agent were added to the resin solution (c-2) to prepare a protective layer resin composition having a solid content of 20% to form a first protective layer B-2).
합성예 5. 제1 보호층의 고분자(아마이드기 포함) 합성 Synthesis Example 5. Synthesis of polymer (including amide group) of the first protective layer
히드록시에틸 (메타)아크릴레이트(HEMA) 20부 대신에 아크릴산 아마이드를 사용한 것을 제외하고는 합성예4와 동일한 방법으로 고형분 28.9 중량%, 중량평균분자량 25,300인 수지(c-3)를 얻었다. 수지용액(c-3)에 첨가제 F-554, DIC사 0.5부, 경화제로 EPHE-3150CE, Dicel사 2.5부를 첨가하고 고형분 20%가 되도록 보호층 수지 조성물을 제조하여 제1 보호층을 형성하였다(B-3).A resin (c-3) having a solid content of 28.9% by weight and a weight average molecular weight of 25,300 was obtained in the same manner as in Synthesis Example 4, except that acrylic acid amide was used instead of 20 parts of hydroxyethyl (meth) acrylate (HEMA). Additive F-554, 0.5 part of DIC resin, 2.5 parts of EPHE-3150CE as a curing agent and 2.5 parts of Dicel were added to the resin solution (c-3) to prepare a protective layer resin composition having a solid content of 20% to form a first protective layer B-3).
실시예 및 비교예Examples and Comparative Examples
(1) 분리층 형성용 조성물(1) Composition for forming separation layer
하기 표 1에 기재된 조성 및 함량을 갖는 분리층 형성용 조성물을 제조하였다.A composition for forming a separation layer having the composition and the content shown in Table 1 below was prepared.
1. 경화제1. Curing agent
M1: 화학식 1로 표시되는 멜라민계 경화제M1: a melamine-based curing agent represented by the formula (1)
M2: 화학식 2로 표시되는 멜라민계 경화제M2: a melamine-based curing agent represented by the general formula (2)
M3: 화학식 3으로 표시되는 멜라민계 경화제M3: a melamine-based curing agent represented by the general formula (3)
M4: 화학식 4로 표시되는 멜라민계 경화제M4: a melamine-based curing agent represented by the general formula (4)
M5: 화학식 5로 표시되는 멜라민계 경화제M5: a melamine-based curing agent represented by the general formula (5)
M6: 화학식 6으로 표시되는 멜라민계 경화제(n=15)M6: a melamine-based curing agent represented by the formula (6) (n = 15)
M7: 라디컬계 경화제 (V-65 (와코사))M7: Radical curing agent (V-65 (Wako))
M8: 카티온계 경화제 (Irgacure 250 (BASF사))M8: Cationic curing agent (Irgacure 250 (BASF))
M9: 트리아진계 경화제 (MP-트리아진(산와케미컬사))M9: Triazine-based curing agent (MP-triazine (Sanwa Chemical))
2. 바인더 수지2. Binder Resin
B1: 합성예 1로 제조된 바인더 수지B1: The binder resin prepared in Synthesis Example 1
B2: 합성예 2로 제조된 바인더 수지B2: The binder resin prepared in Synthesis Example 2
3 용매3 Solvent
D1: 디아세톤알코올D1: diacetone alcohol
D2: 프로필렌 글리콜 메틸 에테르D2: Propylene glycol methyl ether
4. 첨가제4. Additives
SH-8400 (신에츠화학)SH-8400 (Shin-Etsu Chemical)
(( 2)필름2) Film 터치 센서 Touch sensor
두께 700㎛의 소다 라임 글래스(Soda lime Glass)를 캐리어 기판으로 사용하고, 상기 캐리어 기판 상에 실시예 및 비교예의 분리층 조성물을 두께 300nm로 도포하고, 150℃에서 30분간 건조 처리하여 분리층을 형성하였다.Using a soda lime glass having a thickness of 700 mu m as a carrier substrate, the separation layer composition of Examples and Comparative Examples was coated on the carrier substrate to a thickness of 300 nm and dried at 150 DEG C for 30 minutes to form a separation layer .
이후에, 합성예 3 내지 5 중 어느 하나의 고분자 17중량부, 용매로 Diethylene Glycol Methyl Ethyl Ether 79.5 중량부 및 첨가제로 F-554(DIC社) 0.5 중량부, EPHE-3150CE(Dicel社) 2.5 중량부로 혼합한 후, 전체 고형분이 23중량%가 되도록 용매로 희석하고 교반하여 제1 보호층 조성물을 제조하였다. 제조된 조성물을 상기 분리층 상에 스핀코터로 두께 2㎛로 도포하고, 컨벡션 오븐으로 110℃로 2분간 프리베이크하였다. 이후, 230℃로 30분간 포스트 베이크를 진행하여 제1 보호층을 형성하였다.Thereafter, 17 parts by weight of the polymer of any one of Synthesis Examples 3 to 5, 79.5 parts by weight of Diethylene Glycol Methyl Ethyl Ether as a solvent, 0.5 parts by weight of F-554 (DIC), 2.5 parts by weight of EPHE-3150CE Followed by dilution with a solvent such that the total solid content was 23 wt%, followed by stirring to prepare a first protective layer composition. The prepared composition was applied on the separating layer to a thickness of 2 mu m with a spin coater and prebaked at 110 DEG C for 2 minutes in a convection oven. Thereafter, post-baking was performed at 230 캜 for 30 minutes to form a first protective layer.
이후에, 상기 제1 보호층 상에 ITO층을 두께 0.05㎛로 형성하고, 상기 ITO층 상에 감광성 레지스트를 도포하여 전극 패턴층을 형성하였다.Thereafter, an ITO layer having a thickness of 0.05 mu m was formed on the first protective layer, and a photosensitive resist was coated on the ITO layer to form an electrode pattern layer.
이후에, 전극 패턴층이 형성된 제1 보호층 상에 제2 보호층을 형성하고, 제2 보호층 상에 아크릴계 점착층을 형성한 다음, 두께 50㎛의 폴리카보네이트 기재를 부착하여, 필름 터치 센서를 제조하였다.Thereafter, a second protective layer was formed on the first protective layer on which the electrode pattern layer was formed, an acrylic adhesive layer was formed on the second protective layer, and then a polycarbonate base material with a thickness of 50 탆 was attached, .
실험예Experimental Example
1. 밀착력 평가1. Adhesion evaluation
두께 700㎛의 소다 라임 글래스(Soda lime Glass) 상에 실시예 및 비교에와 동일한 방법으로 분리층 및 제1 보호층을 형성하였다. 얻어진 기판을 ASTM D3359법을 이용하여 1cm X 1cm 칸 안에 100칸의 칸을 그어 접착력 평가 Tape(3M, 610)를 이용하여 3번 뜯는 평가를 진행하였으며, 그 결과를 표 2 내지 7에 기재하였다.A separation layer and a first protective layer were formed on soda lime glass having a thickness of 700 mu m in the same manner as in Examples and Comparative Examples. The obtained substrate was subjected to evaluation by tearing three times using an adhesive strength evaluation tape (3M, 610) by punching a chamber of 100 cells in a 1 cm x 1 cm cell using the ASTM D3359 method, and the results are shown in Tables 2 to 7.
5B: 잘린 모서리부분의 코팅막 떨어짐이 없고, 격자내의 코팅막 박리가 없음5B: No peeling off of the coating at the cut edge and no peeling of the coating in the lattice
4B: 모서리 부분의 떨어짐이 약하게 관찰되고 전체의 5% 이내에서박리가 일어남4B: The drop of the corner part is observed weakly and the peeling occurs within 5% of the whole
3B: 모서리 부위의 박리와 부스러짐이 관찰되고 15% 이내에서 박리됨3B: Peeling and brittleness of the edge was observed and peeled off within 15%
2B: 격자 내에서도 박리와 부스러짐이 보이며 15% 초과 35% 이내에서 박리됨2B: Peeling and brittleness are seen even in the lattice, and peeled within 15% and within 35%
1B: 큰 리본형태의 박리가 나타나며 35% 초과 65% 이내에서 박리됨1B: Large ribbon-like exfoliation appears, peeled within 35% and within 65%
0B: 65% 초과의 면적에서 박리됨. 밀착불량0B: Peeled off in an area exceeding 65%. Poor adhesion
2. 투과율 측정2. Transmittance measurement
두께 700㎛의 소다 라임 글래스(Soda lime Glass) 상에 실시예 및 비교예와 동일한 방법으로 분리층 및 제1 보호층을 형성하였다. 상기 절연층의 파장 550 nm에서의 광의 투과율을 분광 광도계(히따찌 세이사꾸쇼 제조, U3210)를 이용하여 측정하였으며, 그 결과를 표 2 내지 7에 기재하였다.A separation layer and a first protective layer were formed on a soda lime glass having a thickness of 700 탆 in the same manner as in Examples and Comparative Examples. The light transmittance of the insulating layer at a wavelength of 550 nm was measured using a spectrophotometer (U3210, manufactured by Hitachi, Ltd.), and the results are shown in Tables 2 to 7.
3. 내ITO성3. My ITO Castle
상기 필름 터치 센서와는 별개로, 두께 700㎛의 소다 라임 글래스(Soda lime Glass)를 캐리어 기판 상에 실시예 및 비교예와 동일한 방법으로 분리층 및 제1 보호층을 형성하였다. 이후, 절연층 상에 ITO 스퍼터를 1,000Å 두께로 실시하여 막의 주름 상태 변화를 측정하였으며, 그 결과를 표 2 내지 7에 기재하였다.Separating layers and a first protective layer were formed on a carrier substrate of soda lime glass having a thickness of 700 mu m apart from the above-mentioned film touch sensor in the same manner as in Examples and Comparative Examples. Thereafter, ITO sputtering was performed on the insulating layer to a thickness of 1,000 Å to measure changes in film wrinkle state. The results are shown in Tables 2 to 7.
○:막주름이 없는 상태 ?: No wrinkles
X: 막주름이 발생한 상태X: state of film wrinkle
4. 내에칭성4. Etching property
상기 필름 터치 센서와는 별개로, 두께 700㎛의 소다 라임 글래스(Soda lime Glass)를 캐리어 기판 상에 실시예 및 비교예와 동일한 방법으로 분리층 및 제1 보호층을 형성하였다. 이후, ITO 에칭액(MA-SO2, 동우화인켐)에 60℃에서 10분간 침지후, 침지전후의 막두께 변화를 측정하여 백분율로 표시하였으며, 그 결과를 표 2 내지 7에 기재하였다.Separating layers and a first protective layer were formed on a carrier substrate of soda lime glass having a thickness of 700 mu m apart from the above-mentioned film touch sensor in the same manner as in Examples and Comparative Examples. Subsequently, after immersing in an ITO etching solution (MA-SO2, Dongwafin Chem) at 60 DEG C for 10 minutes, the change in film thickness before and after immersion was measured and expressed as a percentage, and the results are shown in Tables 2-7.
내에칭성 평가기준Etchability Evaluation Criteria
○:98% 이상○: 98% or more
△: 95%~98%?: 95% to 98%
X: 95% 이하X: 95% or less
5. 내용제성 평가5. Evaluation of solvent resistance
상기 필름 터치 센서와는 별개로, 두께 700㎛의 소다 라임 글래스(Soda lime Glass)를 캐리어 기판 상에 실시예 및 비교예와 동일한 방법으로 분리층 및 제1 보호층을 형성하였다. 이후, 프로필렌글리콜모노메틸에테르아세테이트에 침지하고 100℃에서 30분간 가열후 막전후의 두께변화를 측정하였으며, 그 결과를 표 2 내지 7에 기재하였다.Separating layers and a first protective layer were formed on a carrier substrate of soda lime glass having a thickness of 700 mu m apart from the above-mentioned film touch sensor in the same manner as in Examples and Comparative Examples. Thereafter, the film was immersed in propylene glycol monomethyl ether acetate and heated at 100 DEG C for 30 minutes, and the change in thickness before and after the film was measured. The results are shown in Tables 2-7.
○: 98% 이상 ○: 98% or more
△: 95%~98%?: 95% to 98%
X: 95% 이하X: 95% or less
6. 열안정성 평가6. Evaluation of thermal stability
상기 필름 터치 센서와는 별개로, 두께 700㎛의 소다 라임 글래스(Soda lime Glass)를 캐리어 기판 상에 실시예 및 비교예와 동일한 방법으로 분리층 및 제1 보호층을 형성하였다. 이후, 230℃, 20분 추가 가열을 실시하여 투과율 변화를 측정하였으며, 그 결과를 표 2 내지 7에 기재하였다.Separating layers and a first protective layer were formed on a carrier substrate of soda lime glass having a thickness of 700 mu m apart from the above-mentioned film touch sensor in the same manner as in Examples and Comparative Examples. Thereafter, the substrate was further heated at 230 DEG C for 20 minutes to measure a change in transmittance. The results are shown in Tables 2-7.
○: 3ΔT% 이하 ?: 3? T% or less
△: 4~8ΔT% 이하?: 4 to 8? T% or less
×: 9ΔT% 이상×: 9ΔT% or more
7. 크랙 평가7. Crack evaluation
실시예 및 비교예의 필름 터치 센서를 100mm x 10mm로 커팅하고 굽힘 테스터기(JIRBT-210, Juniltech)에 장착하여 1만회의 굽힘을 거친 후, 유연 기판의 크랙 발생 여부를 육안으로 평가하였으며, 그 결과를 표 2 내지 7에 기재하였다.The film touch sensors of Examples and Comparative Examples were cut into 100 mm x 10 mm and mounted on a bending tester (JIRBT-210, Juniltech) to bend 10,000 times. Then, whether or not a crack occurred in the flexible substrate was visually evaluated. Are shown in Tables 2 to 7.
<평가 기준><Evaluation Criteria>
○: 크랙 미발생○: No crack occurred
△: 미세 크랙 발생DELTA: Micro crack occurred
X: 필름 터치 센서 파단X: Film touch sensor break
(ΔT% )Thermal stability
(? T%)
(ΔT% )Thermal stability
(? T%)
(ΔT% )Thermal stability
(? T%)
(ΔT% )Thermal stability
(? T%)
(ΔT% )Thermal stability
(? T%)
(ΔT% )Thermal stability
(? T%)
상기 표 2 내지 7를 참조하면, 실시예의 필름 터치 센서는 열안전성이 우수하고, 내용제성, Delami Crack, ITO 주름이 없는 우수한 유기박막을 이용하여 전사 공정이 가능한 박막의 터치필름을 얻을 수 있었으나, 비교예의 필름 터치 센서는 1개 이상의 효과가 저하된 것을 확인할 수 있다.Referring to Tables 2 to 7, the film touch sensor of the embodiment can obtain a thin film touch film which is excellent in thermal stability and can be transferred using an organic thin film excellent in solvent resistance, Delami Crack and ITO wrinkle, It can be confirmed that at least one effect of the film touch sensor of the comparative example is deteriorated.
Claims (1)
상기 분리층 상에 배치된 제1 보호층; 및
상기 제1 보호층 상에 배치된 전극 패턴층;을 포함하며,
상기 분리층과 상기 제1 보호층 사이에는 분리층에서 유래한 탄소수 1 내지 5의 알콕시기와 제1 보호층에서 유래한 수산기, 카르복실기 및 아마이드기 중 적어도 하나의 치환기가 서로 반응하여 화학적 결합이 형성된 것인, 필름 터치 센서.A separation layer;
A first protective layer disposed on the isolation layer; And
And an electrode pattern layer disposed on the first passivation layer,
And at least one substituent of a hydroxyl group, a carboxyl group and an amide group derived from the first protective layer is reacted with each other to form a chemical bond between the separating layer and the first protective layer, the alkoxy group having 1 to 5 carbon atoms derived from the separating layer In, film touch sensor.
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KR1020180147654A KR20180128881A (en) | 2018-11-26 | 2018-11-26 | Film touch sensor and touch screen panel including the same |
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