KR20180125835A - Evaporation source with non-heating zone of deposition equipment - Google Patents
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Abstract
Description
본 발명은 OLED 등을 제조하는 증착 장비에 관한 것으로서, 특히 유기물질을 가열하여 기판에 증발 물질을 공급하는 증발원에 관한 것이다.BACKGROUND OF THE INVENTION 1. Field of the Invention The present invention relates to a deposition apparatus for manufacturing an OLED and the like, and more particularly to an evaporation source for supplying an evaporation material to a substrate by heating an organic material.
일반적으로 OLED(Organic Light Emitting Diodes) 증착 공정은 유기물질을 증발시키고, 이렇게 증발된 유기물질을 기판에 증착시키는 공정이다.In general, an organic light emitting diode (OLED) deposition process is a process of evaporating an organic material and depositing the evaporated organic material on a substrate.
이러한 증착 공정은 글라스 등의 기판을 증착챔버 내에 배치하고, 유기물질이 담긴 증발원을 기판에 대향하도록 배치한 후에, 증발원을 가열하여 그 내부에 저장된 유기물질을 증발시켜 기판에 증착시킴으로써 기판 상에 유기 박막을 형성하게 된다.In this deposition process, a substrate such as a glass substrate is placed in a deposition chamber, an evaporation source containing an organic substance is arranged to face the substrate, and then an evaporation source is heated to evaporate the organic substances stored therein to deposit on the substrate. Thereby forming a thin film.
최근에는 기판이 대면적화 됨에 따라, 기판에 대면적 박막이 균일하게 형성되도록 점 증발원 대신 선형 증발원이 사용되고 있으며, 이러한 선형 증발원은 대면적의 기판에 유기물질이 고르게 분사되도록 도가니의 상부에 다수의 노즐이 구성되고, 도가니와 노즐 사이에는 분배 튜브가 구성되어 도가니에서 증발된 물질을 각각의 노즐에 균일하게 분배하여 제공할 수 있도록 구성된다.In recent years, a linear evaporation source has been used instead of a point evaporation source in order to uniformly form a large-area thin film on a substrate as the substrate is made larger. Such a linear evaporation source has a plurality of nozzles And a distribution tube is formed between the crucible and the nozzle so that the evaporated material in the crucible can be uniformly distributed to each of the nozzles.
이와 같은 도가니 및 분배 튜브의 외부에는 히팅장치가 설치되어 증발물질을 가열하도록 구성된다.A heating device is installed outside the crucible and the distribution tube to heat the evaporation material.
그러나, 종래 증발원을 가열하는 히터 장치는 도가니, 분배 튜브, 다수의 노즐로 이루어진 증발원 외부에 박스형 구조로 설치되어 도가니, 분배 튜브 등을 모두 가열하도록 구성되기 때문에 유기 물질의 특성과 위치에 따라 적절하게 가열하는 것이 쉽지 않고, 이에 따라 증발원의 성능을 향상시키는 데 한계가 발생되는 문제가 있다.However, since the conventional heater device for heating the evaporation source is configured to heat all of the crucible, the distribution tube, and the like in a box-like structure outside the evaporation source including the crucible, the distribution tube, and the plurality of nozzles, There is a problem in that it is not easy to heat the evaporator, thereby limiting the improvement of the performance of the evaporation source.
또한, 증발원을 구성하는 도가니, 분배 튜브, 노즐들을 각각 가열하도록 구성하더라도 각각의 가열 온도가 다른 부분에 영향을 미치도록 구성되어 있기 때문에 각각의 가열 영역에 따른 적절한 온도 제어가 쉽지 않고, 심한 경우 증발 물질이 변성되어 증착 성능이 저하되는 문제점이 있다.In addition, even if the crucible, the distribution tube, and the nozzles constituting the evaporation source are each configured to be heated, the respective heating temperatures affect the other parts, so that it is not easy to control the temperature appropriately for each heating zone, There is a problem that the material is denatured and the deposition performance is lowered.
본 발명은 상기한 문제점을 해결하기 위하여 안출된 것으로서, 도가니와 분배 튜브 연결 부분에 히팅 장치가 설치되지 않은 비히팅 영역을 구성함으로써 유기 물질의 증발 및 유동 특성에 따른 도가니와 분배 튜브의 독립 온도 제어가 가능하여 증발 안정성을 높일 수 있고, 이를 통해 증착 효율을 향상시킬 수 있는 증착 장비의 비히팅 영역을 갖는 증발원을 제공하는 데 목적이 있다.SUMMARY OF THE INVENTION The present invention has been made in order to solve the above-described problems, and it is an object of the present invention to provide a non-heating region in which a crucible and a distribution tube are connected, The present invention provides an evaporation source having a non-heating region of a deposition apparatus capable of enhancing evaporation stability and improving deposition efficiency.
또한, 본 발명은 분배 튜브 둘레에 히터를 설치하여 분배 튜브를 적정한 온도로 집중 가열할 수 있는 동시에, 일정한 온도로 균일하게 가열하여 증착 효율 향상에 기여할 수 있는 증착 장비의 비히팅 영역을 갖는 증발원을 제공하는 데 목적이 있다.In addition, the present invention provides an evaporation source having a non-heating area of a deposition apparatus capable of concentrically heating a distribution tube at a proper temperature by providing a heater around a distribution tube and uniformly heating the dispersion tube at a constant temperature, The purpose is to provide.
상기한 과제를 실현하기 위한 본 발명에 따른 증착 장비의 비히팅 영역을 갖는 증발원은, 증발 물질이 저장된 도가니와, 상기 도가니 둘레에 설치되어 증발 물질을 증발시키도록 도가니를 가열하는 도가니 히팅장치와, 상기 도가니 상부에 연결되어 다수의 노즐로 증발 물질을 분배하여 제공하는 분배 튜브와, 상기 분배 튜브의 둘레에 설치되어 분배 튜브를 가열하는 분배 히팅장치를 포함하되; 상기 도가니와 분배 튜브의 연결 부분에는 도가니 히팅장치 또는 분배 히팅장치가 설치되지 않은 비히팅 영역이 구비된 것을 특징으로 한다.According to another aspect of the present invention, there is provided an evaporation source having a non-heating region of a deposition apparatus, including: a crucible for storing evaporation material; a crucible heating device installed around the crucible to heat the crucible to evaporate the evaporation material; A distribution tube connected to an upper portion of the crucible to distribute and provide vaporized material to a plurality of nozzles; and a distribution heating device installed around the distribution tube to heat the distribution tube; And a non-heating area in which a crucible heating device or a distribution heating device is not installed is provided at a connection part between the crucible and the distribution tube.
상기 도가니는 복수개가 수직 방향으로 길게 세워진 구조로 배치되고, 상기 분배 튜브는 수평 방향으로 길게 이어져 복수개의 도가니 상부를 함께 연결하는 구조로 배치될 수 있다.A plurality of the crucibles may be arranged in a vertically long structure and the distribution tubes may be arranged in a structure in which a plurality of crucible upper portions are connected together by extending in a horizontal direction.
상기 분배 히팅장치는, 상기 분배 튜브에서 일정 간격 이격된 상태에서 분배 튜브의 외측 둘레를 따라 배치된 분배 히터와, 상기 분배 튜브의 외측에 구비되어 상기 분배 히터를 지지하는 히터 지지수단을 포함하여 구성될 수 있다.The distribution heating apparatus includes a distribution heater disposed along the outer circumference of the distribution tube at a predetermined interval in the distribution tube and a heater support means provided outside the distribution tube to support the distribution heater .
이때, 상기 히터 지지수단은, 상기 분배 튜브에서 돌출되는 마운팅 리브와, 상기 마운팅 리브에 고정되어 상기 분배 히터를 지지하는 히터 지지체와, 상기 히터 지지체와 체결 수단으로 조립되어 상기 히터 지지체와의 사이에 히터를 고정하는 히터 고정체를 포함하여 구성되는 것이 바람직하다.At this time, the heater support means includes a mounting rib protruding from the distribution tube, a heater support fixed to the mounting rib to support the distribution heater, and a heater support member assembled with the heater support and the fastening means, And a heater fixture for fixing the heater.
상기 히터 지지수단은 상기 분배 튜브의 길이 방향으로 길게 설치되고, 상기 분배관의 둘레 방향으로 복수개가 설치되되, 상기 비히팅 영역에는 일정 길이만큼 끊어진 구조로 이루어질 수 있다.The heater holding means may be formed to be long in the length direction of the distribution tube, and a plurality of the heater holding means may be provided in the circumferential direction of the distribution tube.
상기한 바와 같은 본 발명의 주요한 과제 해결 수단들은, 아래에서 설명될 '발명의 실시를 위한 구체적인 내용', 또는 첨부된 '도면' 등의 예시를 통해 보다 구체적이고 명확하게 설명될 것이며, 이때 상기한 바와 같은 주요한 과제 해결 수단 외에도, 본 발명에 따른 다양한 과제 해결 수단들이 추가로 제시되어 설명될 것이다.The above and other objects and advantages of the present invention will become more apparent by describing in detail exemplary embodiments thereof with reference to the attached drawings in which: In addition to the principal task solutions as described above, various task solutions according to the present invention will be further illustrated and described.
본 발명에 따른 증착 장비의 비히팅 영역을 갖는 증발원은, 도가니와 분배 튜브 연결 부분에 히팅장치가 설치되지 않은 비히팅 영역이 구성되기 때문에 유기 물질의 증발 및 유동 특성에 따른 도가니와 분배 튜브의 독립 온도 제어가 가능하여 증발 안정성을 높일 수 있고, 이를 통해 증착 효율을 향상시킬 수 있는 효과가 있다.Since the evaporation source having the non-heating region of the evaporation apparatus according to the present invention is constituted by a non-heating region in which the crucible and the distribution tube are connected to each other without a heating device, the evaporation of the organic material and the independent Temperature control is possible, and evaporation stability can be enhanced, thereby improving deposition efficiency.
또한, 본 발명은 분배 튜브 둘레에 히터를 설치하여 분배 튜브를 적정한 온도로 집중 가열할 수 있는 동시에, 일정한 온도로 균일하게 가열하여 증착 효율 향상에 기여할 수 있는 효과가 있다.In addition, the present invention can provide a heater around the distribution tube to intensively heat the distribution tube to an appropriate temperature, and at the same time, it can be uniformly heated at a constant temperature, contributing to the improvement of the deposition efficiency.
도 1은 본 발명의 일 실시예에 따른 비히팅 영역을 갖는 증발원의 전체 사시도이다.
도 2는 본 발명의 일 실시예에 따른 비히팅 영역을 갖는 증발원의 일부 확대 사시도이다.
도 3은 본 발명의 일 실시예에 따른 비히팅 영역을 갖는 증발원의 측면 구성도이다.
도 4는 본 발명의 일 실시예에 따른 비히팅 영역을 갖는 증발원의 온도 제어 상태를 설명하기 위한 개략적인 정면도이다.1 is an overall perspective view of an evaporation source having a non-heating region according to an embodiment of the present invention.
2 is a partially enlarged perspective view of an evaporation source having a non-heating area according to an embodiment of the present invention.
3 is a side view of an evaporation source having a non-heating area according to an embodiment of the present invention.
4 is a schematic front view for explaining a temperature control state of an evaporation source having a non-heating region according to an embodiment of the present invention.
첨부된 도면을 참조하여 본 발명의 바람직한 실시 예를 설명하면 다음과 같다.DETAILED DESCRIPTION OF THE PREFERRED EMBODIMENTS Hereinafter, preferred embodiments of the present invention will be described with reference to the accompanying drawings.
도 1 내지 도 4는 본 발명의 일 실시예에 따른 비히팅 영역을 갖는 증발원이 도시된 도면들로서, 도 1은 전체 사시도, 도 2는 일부 확대 사시도, 도 3은 측면 구성도, 도 4는 개략적인 정면도이다. 1 to 4 are views showing an evaporation source having a non-heating area according to an embodiment of the present invention. FIG. 1 is an entire perspective view, FIG. 2 is a partially enlarged perspective view, FIG. 3 is a side view, Respectively.
이들 도면을 참조하면, 증발원(10)은 증발물질이 저장된 상태에서 가열하는 도가니(20), 좌우로 길게 배치되어 도가니(20)에서 증발된 물질을 다수의 노즐(50)로 균일하게 제공하는 분배 튜브(30), 증발물질이 분사되는 다수의 노즐(50)로 이루어진다.Referring to these figures, the
이러한 증발원(10)은 선형 증발원 구조를 가진 것으로, 수직 방향으로 배치된 2개의 도가니(20)가 좌우에 구성되고, 2개의 도가니(20) 상측에 수평 방향으로 분배 튜브(30)가 연결되며, 분배 튜브(30) 상측에 다수의 노즐(50)들이 일렬로 배열된 구조로 이루어진다.The
증발원(10)의 외측 둘레에는 증발물질을 원활하게 증발 및 유동시켜 분사할 수 있도록 히팅장치들이 설치된다. 즉, 도가니(20)를 가열하는 도가니 히팅장치(25), 분배 튜브(30)를 가열하는 분배 히팅장치(40), 노즐(50)을 가열하는 노즐 히팅장치(55)가 설치된다.A heating device is installed around the outer circumference of the
도가니 히팅장치(25)는 도가니(20)의 둘레에 설치되어 도가니(20)를 가열하여 내부에 저장된 유기 물질을 증발시킬 수 있도록 구성된다. 이러한 도가니 히팅장치(25)는 공지의 도가니를 가열하는 히팅장치를 이용하여 구성할 수 있으므로 구체적인 설명은 생략한다.The
분배 히팅장치(40)는, 분배 튜브(30)가 원통형 구조로 형성될 경우에, 도 3에서와 같이 측면에서 보았을 때 분배 튜브(30)의 외측 둘레를 따라 호형상 구조로 배치되는 히터(42)와, 이 히터(42)를 분배 튜브(30)로부터 일정 간격 이격된 상태로 지지하는 히터 지지수단(45)으로 이루어진다.The distributing
여기서, 히터(42)는 전기 열선을 포함한 구성으로 이루어질 수 있으며, 이 전기 열선이 분배 튜브(30)의 길이 방향으로 지그재그 형상 또는 U자형 구조로 연속적으로 연결되게 구성될 수 있다. 물론, 도면에 예시하지는 않았지만, 전기 열선에 전기를 인가하는 전기 인가장치 및 히터를 제어하는 수단이 구성되고, 이러한 히팅장치의 추가 구성 요소는 공지의 히터와 동일 또는 유사하게 구성할 수 있다.Here, the
히터(42)는 분배 튜브(30)의 둘레에 복수개가 설치되어 구성될 수 있다. 즉, 도 3에 도시된 바와 같이 분배 튜브(30) 좌우로 한 세트씩 설치되게 구성할 수 있는 것이다. 물론, 히터를 좌우로 분할하여 구성하지 않고, 연속된 하나의 구성으로 전기 열선을 연결하여 구성하는 것도 가능하고, 3개 이상의 세트로 분할하여 구성하는 것도 가능하다.A plurality of
다음, 히터 지지수단(45)은, 분배 튜브(30)의 둘레 방향으로 이어지는 히터(42)의 전기 열선을 지지하기 위해 분배 튜브(30)의 길이 방향으로 길게 설치되고, 히터(42)를 안정적으로 지지하기 위해 분배 튜브(30)의 원주 방향으로 복수개가 구성되는 것이 바람직하다. 도 3에서 히터 지지수단(45)은 좌측에 배치되는 히터(42)를 지지하기 위해 3열, 우측에 배치되는 히터(42)를 지지하기 위해 4열 구조로 설치된 구성을 보여준다.Next, the heater support means 45 is installed long in the longitudinal direction of the
이러한 히터 지지수단(45)은, 분배 튜브(30)에서 돌출되는 마운팅 리브(32)와, 이 마운팅 리브(32)에 고정되어 상기 히터(42)를 지지하는 히터 지지체(46)와, 히터 지지체(46)와 체결 수단(49)으로 조립되어 상기 히터 지지체(46)와의 사이에 히터(42)를 고정하는 히터 고정체(48)를 포함하여 구성되는 것이 바람직하다.The heater support means 45 includes a
마운팅 리브(32)는 분배 튜브(30)의 외면에서 반경 방향으로 돌출되는 구조로 형성되고, 분배 튜브(30)의 길이를 따라 길게 형성되는 것이 바람직하다.Preferably, the
이러한 마운팅 리브(32)는 분배 튜브(30)를 내측에서 바깥쪽으로 확장하여 구성하는 것도 가능하고, 별도로 구성하여 분배 튜브(30)의 외면에 설치하여 구성하는 것도 가능하다. The
히터 지지체(46)는 긴 사각 플레이트 구조로 형성되어 뒷면에 상기 마운팅 리브(32)에 끼워져 고정될 수 있도록 리브 삽입홈(46a)을 갖도록 구성할 수 있다. 히터 지지체(46)를 마운팅 리브(32)에 고정하는 방법은 억지 끼움, 나사 고정, 부착 고정 등 다양한 방법을 이용할 수 있다.The
그리고 히터 지지체(46)의 상면에 히터(42)가 지나가는 면은 히터 설치홈(46b)이 형성될 수 있다.A
히터 고정체(48)도 긴 사각 플레이트 구조로 형성되고 히터 지지체(46)와 마주하는 면에 히터(42)가 통과하는 히터 설치홈(48b)이 형성될 수 있다.The
히터 고정체(48)를 히터 지지체(46)에 고정하는 체결 수단(49)은 볼트나 나사 등을 이용하여 구성할 수 있다.The fastening means 49 for fixing the
이러한 히터 지지체(46)와 히터 고정체(48)는 절연성을 가지면서 열전도도가 있는 AlN 등의 세라믹 소재로 이루어지는 것이 바람직하다.The
이와 같은 히터 지지체(46)와 히터 고정체(48)는 긴 사각 플레이트 구조로 이루어져 그 사이에 히터(42)를 고정할 수 있도록 하나의 짝을 이루며, 조립이 용이하도록 길이 방향으로 다수 분할된 구조로 구성할 수 있다. 또한 아래에서 설명할 비히팅 영역(Z)에서는 일정 길이만큼 끊어진 구조로 이루어지는 것이 바람직하다.The
한편, 노즐(50) 주위에 설치되는 노즐 히팅장치(55)는 노즐의 양쪽에 지그재그 방식으로 연결되는 노즐 히터(56)와, 이 노즐 히터(56)를 지지하는 히터 지지체(58)로 구성될 수 있다.The
상기한 바와 같이 도가니 히팅장치(25), 분배 히팅장치(40), 노즐 히팅장치(55)가 구성된 증발원(10)은 도가니(20)와 분배 튜브(30)의 연결 부분에 도가니 히팅장치(25) 또는 분배 히팅장치(40)가 설치되지 않은 비히팅 영역(Z)을 갖도록 구성된다.The
즉, 비히팅 영역(Z)은 도가니(20)가 상하로 긴 원통형 구조로 형성된 조건에서 분배 튜브(30)와 연결되는 상단의 일정 부분은 히터가 설치되지 않고, 또 분배 튜브(30)에서 도가니(20)와 연결되는 일정 영역에도 히터(42)가 설치되지 않은 구조로 이루어지는 것이다.That is, in the non-heating area Z, a certain portion of the upper end connected to the
그리고, 히터 지지수단(45)이 분배 튜브(30)의 길이 방향으로 길게 설치되는 바, 비히팅 영역(Z)에는 히터 지지수단(45)이 일정 길이만큼 끊어진 구조로 설치되는 것이 바람직하고, 이에 따라 비히팅 영역(Z)에는 히터(42)도 설치되지 않는다. 이와는 달리 비히팅 영역(Z)에 히터 지지수단(45)은 설치되지만 히터(42)는 지나가지 않도록 구성하는 것도 가능하다. The heater supporting means 45 is installed long in the longitudinal direction of the
이러한 비히팅 영역(Z)의 구성은 도가니(20)와 분배 튜브(30)의 온도를 각각 개별적으로 제어하기 위한 버퍼 구간을 갖도록 하기 위한 것으로, 버퍼 구간을 통해 도가니(20)와 분배 튜브(30) 사이의 온도 간섭을 최소화하여 증발 물질의 열화, 파괴 등 변성을 방지할 수 있도록 구성한 것이다.The configuration of the nonheating zone Z is to have a buffer section for individually controlling the temperatures of the
여기서, 도가니(20)와 분배 튜브(30)의 개별 온도 제어의 필요성을 설명한다. 일반적으로 유기 물질은 임계 온도 이상이 되면 물질 특성이 변화되는 변성이 발생할 수 있다. 예를 들면 도가니(20)에 저장된 특정 유기 물질은 280℃ 정도에서 안정적인 증발 이루어지지만, 290℃ 이상의 높은 온도로 가열되면 물질 파괴 현상이 발생할 수 있다. 따라서 도가니(20)는 유기 물질이 변성되지 않으면서 증발할 수 있는 적정 온도로 가열되어야 한다. 하지만, 도 4를 참조하면, 통상적으로 증발원(10)은 노즐(50) 부분의 온도(T1)가 가장 높게 제어되고, 그 다음 분배 튜브(30) 부분의 온도(T2), 그 다음 도가니(20) 부분의 온도(T3) 순으로 제어된다. 이와 같이 분배 튜브(30) 부분의 온도(T2)가 높게 제어되므로 상대적으로 낮은 온도로 제어되는 도가니(20) 쪽 온도에 영향을 미치게 되고, 이로 인하여 도가니(20) 내의 유기 물질이 과도하게 가열되면 파괴되는 등 변성이 발생할 수 있는 것이다. Here, the necessity of individual temperature control of the
본 발명에서는 앞서 설명한 바와 같이 도가니(20)와 분배 튜브(30)의 연결 부분에 버퍼 구간인 비히팅 영역(Z)을 구성함으로써 상대적으로 높게 제어되는 분배 튜브(30)의 가열 온도(T2)가 도가니(20) 쪽에 미치는 영향을 최소화할 수 있고, 이에 따라 도가니(20) 내에 저장된 유기 물질이 과도하게 가열되는 것을 방지하여 유기 물질의 변성 등을 방지할 수 있게 된다. In the present invention, the heating temperature T2 of the
따라서, 도가니(20)와 분배 튜브(30) 사이에 비히팅 영역(Z)을 구성함에 따라 도가니(20) 가열 영역과 분배 튜브(30)의 가열 영역 간의 온도 간섭을 최소화하면서 각각의 특성에 맞게 독립적인 온도 제어가 가능하게 된다.Thus, by forming the non-heating region Z between the
상기한 바와 같은, 본 발명의 실시예들에서 설명한 기술적 사상들은 각각 독립적으로 실시될 수 있으며, 서로 조합되어 실시될 수 있다. 또한, 본 발명은 도면 및 발명의 상세한 설명에 기재된 실시예를 통하여 설명되었으나 이는 예시적인 것에 불과하며, 본 발명이 속하는 기술분야에서 통상의 지식을 가진 자라면 이로부터 다양한 변형 및 균등한 타 실시예가 가능하다. 따라서, 본 발명의 기술적 보호범위는 첨부된 특허청구범위에 의해 정해져야 할 것이다.As described above, the technical ideas described in the embodiments of the present invention can be implemented independently of each other, and can be implemented in combination with each other. While the present invention has been particularly shown and described with reference to exemplary embodiments thereof, it is evident that many alternatives, modifications, and variations will be apparent to those skilled in the art. It is possible. Accordingly, the technical scope of the present invention should be determined by the appended claims.
10 : 증발원 20 : 도가니
25 : 도가니 히팅장치 30 : 분배 튜브
32 : 마운팅 리브 40 : 분배 히팅장치
42 : 히터 45 : 히터 지지수단
46 : 히터 지지체 48 : 히터 고정체
50 : 노즐 55 : 노즐 히팅장치
56 : 노즐 히터 58 : 히터 지지체
Z : 비히팅 영역10: evaporation source 20: crucible
25: crucible heating device 30: distribution tube
32: mounting rib 40: distribution heating device
42: heater 45: heater holding means
46: heater support body 48: heater fixing body
50: nozzle 55: nozzle heating device
56: Nozzle heater 58: Heater support
Z: non-heating area
Claims (5)
상기 도가니와 분배 튜브의 연결 부분에는 도가니 히팅장치 또는 분배 히팅장치가 설치되지 않은 비히팅 영역이 구비되는 것을 특징으로 하는 증착 장비의 비히팅 영역을 갖는 증발원.A crucible heating device installed around the crucible to heat the crucible so as to evaporate the evaporation material; a distribution tube connected to the crucible to distribute the evaporation material to the plurality of nozzles, A distribution heating device installed around the distribution tube to heat the distribution tube;
And a non-heating area in which a crucible heating device or a distribution heating device is not provided is provided at a connection part between the crucible and the distribution tube.
상기 도가니는 복수개가 수직 방향으로 길게 세워진 구조로 배치되고,
상기 분배 튜브는 수평 방향으로 길게 이어져 복수개의 도가니 상부를 함께 연결하는 구조로 배치된 것을 특징으로 하는 증착 장비의 비히팅 영역을 갖는 증발원.The method according to claim 1,
A plurality of the crucibles are arranged in a vertically long structure,
Wherein the distribution tubes are arranged in a horizontal direction so as to connect the upper portions of the crucibles together.
상기 분배 히팅장치는, 상기 분배 튜브에서 일정 간격 이격된 상태에서 분배 튜브의 외측 둘레를 따라 배치된 분배 히터와, 상기 분배 튜브의 외측에 구비되어 상기 분배 히터를 지지하는 히터 지지수단을 포함한 것을 특징으로 하는 증착 장비의 비히팅 영역을 갖는 증발원.The method according to claim 1,
The distribution heating apparatus includes a distribution heater disposed along the outer periphery of the distribution tube at a predetermined interval in the distribution tube and a heater supporting means provided outside the distribution tube to support the distribution heater The evaporation source having a non-heating region of the deposition equipment.
상기 히터 지지수단은,
상기 분배 튜브에서 돌출되는 마운팅 리브와,
상기 마운팅 리브에 고정되어 상기 분배 히터를 지지하는 히터 지지체와,
상기 히터 지지체와 체결 수단으로 조립되어 상기 히터 지지체와의 사이에 히터를 고정하는 히터 고정체를 포함한 것을 특징으로 하는 증착 장비의 비히팅 영역을 갖는 증발원.The method of claim 3,
The heater support means
A mounting rib projecting from the distribution tube,
A heater support fixed to the mounting rib to support the distribution heater,
And a heater fixing body assembled with the heater supporting body and the fastening means and fixing the heater between the heater supporting body and the heater supporting body.
상기 히터 지지수단은 상기 분배 튜브의 길이 방향으로 길게 설치되고, 상기 분배관의 둘레 방향으로 복수개가 설치되되, 상기 비히팅 영역에는 일정 길이만큼 끊어진 구조로 이루어진 것을 특징으로 하는 증착 장비의 비히팅 영역을 갖는 증발원.
The method of claim 3,
Wherein the heater supporting means is provided in a lengthwise direction of the distribution tube, and a plurality of the heater supporting means are installed in a circumferential direction of the distribution tube, wherein the non-heating region is cut off by a predetermined length. / RTI >
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