KR20180050650A - 광학 필름 및 그 제조 방법 - Google Patents

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Abstract

경화성 조성물의 경화물층을 갖는 광학 필름으로서, 경화성 조성물이, 파장 365 ㎚ 에 있어서의 몰 흡광 계수가 10000 (ℓ/㏖·㎝) 이상인 발광 재료를 함유한다. 광학 필름으로는, 경화성 조성물의 경화물층으로 이루어지는 접착제층을 개재하여, 편광자의 적어도 일방의 면에 투명 보호 필름이 적층된 편광 필름인 것이 바람직하다. 또, 발광 재료는 쿠마린 유도체인 것이 바람직하다.

Description

광학 필름 및 그 제조 방법
본 발명은, 경화성 조성물의 경화물층을 갖는 광학 필름 및 그 제조 방법에 관한 것이다.
시계, 휴대 전화, PDA, 노트북 PC, PC 용 모니터, DVD 플레이어, TV 등에서는 액정 표시 장치가 급격하게 시장 전개하고 있다. 액정 표시 장치는, 액정의 스위칭에 의한 편광 상태를 가시화시킨 것으로서, 그 표시 원리에서, 편광자가 사용된다. 특히, TV 등의 용도에서는, 점점 고휘도, 고콘트라스트, 넓은 시야각이 요구되고, 편광 필름에 있어서도 점점 고투과율, 고편광도, 높은 색재현성 등이 요구되고 있다.
상기 편광 필름으로 대표되는 광학 필름에는, 예를 들어 복수의 광학 필름을 접착시킴으로써 적층시킨 것이나, 광학 필름의 표면을 처리한 것이 있으며, 이와 같은 접착 처리나 표면 처리에는, 경화성 조성물 등을 도공하면서, 이것을 경화시킴으로써, 접착제층이나 표면 처리층 등을 형성하는 경우가 많다. 이들 경우에 있어서, 접착제층이나 표면 처리층 등의 두께를 관리하는 것은, 광학 필름의 물성이나 외관성 등을 고려한 경우, 매우 중요하다.
하기 특허문헌 1 에서는, 편광 필름의 접착성을 평가하기 위해, 커터 나이프를 사용하여 편광 필름을 구성하는 투명 보호 필름에만 칼집을 내고, 그 잘라진 지점으로부터 투명 보호 필름을 박리할 수 있는지의 여부를 평가함으로써, 간접적으로 접착제층이 충분한 두께를 갖는지의 여부를 확인하고 있다. 그러나, 이러한 평가는 소위 파괴 검사이며, 간편하게 실시할 수 있는 것이 아니고, 더욱 정확하게 목적으로 하는 경화물층의 두께를 측정할 수 있는 것은 아니다.
일본 공개특허공보 2008-80984호
본 발명은, 경화성 조성물의 경화물층을 갖는 광학 필름으로서, 경화성 조성물의 경화물층의 두께를 비파괴 검사에 의해 간편하고 또한 정확하게 측정 가능한 광학 필름 및 제조 방법을 제공하는 것에 있다.
상기 과제는, 하기 구성에 의해 해결 가능하다. 즉 본 발명은, 경화성 조성물의 경화물층을 갖는 광학 필름으로서, 상기 경화성 조성물이, 파장 365 ㎚ 에 있어서의 몰 흡광 계수가 10000 (ℓ/㏖·㎝) 이상인 발광 재료를 함유하는 것을 특징으로 하는 광학 필름에 관한 것이다.
상기 광학 필름에 있어서, 상기 경화성 조성물이, 활성 에너지선 경화성 성분을 함유하는 것이 바람직하다.
상기 광학 필름에 있어서, 상기 경화성 조성물의 전체량을 100 질량부로 하였을 때, 상기 발광 재료의 함유량이 0.01 ∼ 10 질량부인 것이 바람직하다.
상기 광학 필름에 있어서, 상기 발광 재료가 쿠마린 및 그 유도체인 것이 바람직하고, 상기 쿠마린 유도체가 디에틸아미노기를 갖는 것이 보다 바람직하다.
상기 광학 필름에 있어서, 상기 광학 필름이, 경화성 조성물의 경화물층으로 이루어지는 접착제층을 개재하여, 편광자의 적어도 일방의 면에 투명 보호 필름이 적층된 편광 필름인 것이 바람직하고, 상기 접착제층의 두께가 3 ㎛ 이하인 것이 보다 바람직하다.
또, 본 발명은, 경화성 조성물의 경화물층을 갖는 광학 필름의 제조 방법으로서, 광학 필름의 적어도 일방의 면에 상기 경화성 조성물을 도공하는 도공 공정과, 상기 경화성 조성물을 경화시킴으로써 경화물층으로 하는 경화물층 형성 공정을 포함하고, 상기 경화물층 형성 공정 후, 상기 경화물층의 두께를 측정하는 공정을 추가로 포함하는 것을 특징으로 하는 광학 필름의 제조 방법에 관한 것으로서, 상기 도공 공정 후, 상기 경화성 조성물의 도공 두께를 측정하는 공정을 추가로 포함하는 것이 바람직하다.
또한, 본 발명에 관련된 광학 필름의 제조 방법은, 상기 광학 필름이, 경화성 조성물의 경화물층으로 이루어지는 접착제층을 개재하여, 편광자의 적어도 일방의 면에 투명 보호 필름이 적층된 편광 필름인 광학 필름의 제조 방법으로서, 상기 편광자 및 상기 투명 보호 필름의 적어도 일방의 면에 상기 경화성 조성물을 도공하는 도공 공정과, 상기 편광자 및 상기 투명 보호 필름을 첩합하는 첩합 공정과, 상기 경화성 조성물을 경화시킴으로써 얻어진 상기 접착제층을 개재하여, 상기 편광자 및 상기 투명 보호 필름을 접착시키는 접착 공정을 포함하고, 상기 접착 공정 후, 상기 접착제층의 두께를 측정하는 공정을 추가로 포함하는 것이 바람직하고, 상기 도공 공정 후 또는 상기 첩합 공정 후, 경화 전의 상기 경화성 조성물의 두께를 측정하는 공정을 추가로 포함하는 것이 보다 바람직하다.
광학 필름은, 다양한 기능을 발현시키는 것을 목적으로 적층되는 경우가 많으며, 경화성 조성물을 도공·경화시킴으로써 형성된 경화물층을 개재하여 층간 접착, 혹은 최외층에 표면 처리가 실시되는 경우가 있다. 따라서, 형성된 경화물층의 두께는 각 층의 접착성이나 외관성에 영향을 주는 중요한 인자가 되기 때문에, 그 두께 관리는 중요하다. 경화물층의 두께 확인 방법으로서, 광학 필름 단면을 주사형 전자 현미경 (Scanning Electron Microscope ; SEM) 이나 투과형 전자 현미경 (Transmission Electron Microscope ; TEM) 등으로 관찰하는 방법을 들 수 있지만, 이것들은 파괴 검사에 해당하며, 또한 두께 측정까지 시간을 필요로 하는 결점이 있다. 또, 다이얼 게이지 등으로 측정을 시도해도, 특히 두께가 수 ㎛ 정도인 것을 측정하는 경우, 그 정밀도에 문제가 있다. 한편, 비접촉 광학계를 사용하여, 제조 공정 중, 인라인으로 광학 필름이 갖는 경화물층의 두께를 측정하는 방법도 생각할 수 있지만, 광학 필름과 경화물층의 굴절률이 가까운 경우, 두께를 정확하게 측정할 수 없다.
한편, 본 발명에 관련된 광학 필름에서는, 파장 365 ㎚ 에 있어서의 몰 흡광 계수가 10000 (ℓ/㏖·㎝) 이상인 발광 재료를 함유하는 경화물층에 의해, 경화물층이 형성되어 있다. 이 때문에, 특정한 파장을 갖는 광을 조사한 경우, 광학 필름과 경화물층 사이에서 발광량이 크게 상이하다. 또한, 예를 들어 광학 필름에 대하여 수직으로 광을 조사한 경우, 경화물층의 발광량은, 경화물층 중에 함유되는 발광 재료 함유량, 요컨대 경화물층의 두께에 비례한다. 따라서, 미리 임의의 두께를 갖는 경화물층의 발광량을 측정한 후, 예를 들어 SEM, TEM 등에 의해 정확하게 두께를 측정하여, 경화물층의 두께와 발광량의 관계를 나타내는 검량선을 작성함으로써, 제조 현장에서는 인라인으로 경화물층의 발광량만을 측정함으로써, 그 두께를 정확하게 측정할 수 있다.
본 발명에 관련된 광학 필름의 제조 방법에서는, 상기와 같이 경화물층의 두께를 인라인으로 측정 가능하기 때문에, 경화물층의 두께를 정확하게 관리한 상태에서 광학 필름을 제조할 수 있다. 특히 경화성 조성물을 광학 필름에 도공한 후, 그 도공 두께를 측정함으로써, 형성되는 경화물층의 두께를 더욱 정확하게 관리한 상태에서 광학 필름을 제조할 수 있다.
본 발명에 관련된 광학 필름은, 경화성 조성물의 경화물층을 갖는 광학 필름으로서, 상기 경화성 조성물이, 파장 365 ㎚ 에 있어서의 몰 흡광 계수가 10000 (ℓ/㏖·㎝) 이상인 발광 재료를 함유한다.
＜발광 재료＞
본 발명에 있어서 사용하는 경화성 조성물은, 파장 365 ㎚ 에 있어서의 몰 흡광 계수가 10000 (ℓ/㏖·㎝) 이상인 발광 재료를 함유한다. 본 발명에 있어서「발광 재료」란, 365 ㎚ 의 광을 조사하였을 때에 420 ㎚ ∼ 480 ㎚ 의 광을 발광하는 물질을 의미하는 것으로 하고, 또한 본 발명에 있어서는, 몰 흡광 계수가 상기 범위 내인 발광 재료를 사용한다. 또한, 사용하는 발광 재료의 몰 흡광 계수의 상한값은 특별히 한정되는 것은 아니지만, 예를 들어 100000 (ℓ/㏖·㎝) 이하, 나아가서는 50000 (ℓ/㏖·㎝) 이하 정도를 들 수 있다.
본 발명에서 사용하는 발광 재료로는, 예를 들어 트리아졸계, 프탈이미드계, 피라졸론계, 스틸벤계, 옥사졸계, 나프탈이미드계 화합물, 로다민계 화합물, 벤즈이미다졸계 화합물, 티오펜계 화합물, 쿠마린계 등을 들 수 있다. 이것들은 단독으로 사용해도 되고, 2 종 이상을 혼합하여 사용해도 된다. 이것들 중에서도, 경화성 조성물 중에서의 용해성 향상의 관점에서 쿠마린 및 그 유도체가 바람직하다. 혹은, 수용액으로서 그대로 경화성 조성물 중에 첨가 가능해져, 취급성이 우수한 점에서, 스틸벤계 화합물도 바람직하다.
쿠마린 유도체는, 화학식 (C9H6O2) 으로 나타내는 유기 화합물의 유도체로서, 방향 고리 및/또는 복소 고리 상의 임의의 위치에 유기기를 가져도 된다. 유기기로는 예를 들어, 치환기를 가져도 되는, 지방족 탄화수소기, 아릴기, 또는 헤테로 고리기를 들 수 있고, 지방족 탄화수소기로는 예를 들어, 탄소수 1 ∼ 20 의 치환기 또는 헤테로 원자를 가져도 되는 직사슬 또는 분기의 알킬기, 탄소수 3 ∼ 20 의 치환기 또는 헤테로 원자를 가져도 되는 고리형 알킬기, 탄소수 2 ∼ 20 의 알케닐기를 들 수 있고, 아릴기로는, 탄소수 6 ∼ 20 의 치환기 또는 헤테로 원자를 가져도 되는 페닐기, 탄소수 10 ∼ 20 의 치환기 또는 헤테로 원자를 가져도 되는 나프틸기 등을 들 수 있고, 헤테로 고리기로는 예를 들어, 적어도 하나의 헤테로 원자를 함유하는, 치환기를 가져도 되는 5 원자 고리 또는 6 원자 고리의 기를 들 수 있다. 이것들은 서로 연결되어 고리를 형성해도 된다. 상기 유기기로서 디에틸아미노기를 갖는 쿠마린 유도체는, 몰 흡광 계수가 높고, 소량으로도 발광 특성이 우수하기 때문에 바람직하다.
쿠마린 유도체로는, 예를 들어, 7{[4-클로로-6-(디에틸아미노)-s-트리아진-2-일]아미노}-7-트리아지닐아미노-3-페닐-쿠마린, 8-아미노-4-메틸쿠마린, 7-디에틸디아미노-4-메틸쿠마린, 3-시아노-7-하이드로쿠마린, 7-하이드록시쿠마린-3-카르복실산, 6,8-디플루오로-7-하이드록시-4-메틸쿠마린, 7-아미노-4-메틸쿠마린 등을 들 수 있다.
스틸벤계 화합물로는, 예를 들어, 4,4'-비스(디페닐트리아지닐)스틸벤, 4,4'-비스(벤조옥사졸-2-일)스틸벤 등을 들 수 있다. 나프탈이미드계 화합물로는, 예를 들어, N-메틸-5-메톡시나프탈이미드 등을 들 수 있다. 로다민계 화합물로는, 예를 들어, 로다민 B, 로다민 6G 등을 들 수 있다. 티오펜계 화합물로는, 예를 들어, 2,5-비스(5'-t-부틸벤조옥사졸릴-2')티오펜, 2,5-비스(6,6'-비스(tert-부틸)-벤조옥사졸-2-일)티오펜 등을 들 수 있다.
또한, 경화성 조성물을 경화시키기 위해 사용되는 중합 개시제에 따라서는, 활성 에너지선을 조사한 경우에 형광을 방사하는 것이 있다. 그러나, 중합 개시제로부터 방사되는 형광의 강도 (발광량) 는 꽤 낮고, 설령 경화성 조성물 중에 중합 개시제를 배합해도, 광을 조사한 경우의 발광량은 경화물층의 두께에 거의 비례하지 않는다. 또한, 중합 개시제로부터 방사되는 형광 강도는, 그 화학적 상태에 따라 변화하는 바, 라디칼 발생과 함께 중합 개시제는 분해·소비되기 때문에, 시간 경과적으로 발광량이 저하된다. 이 때문에, 본 발명에 있어서는 발광 재료로서 안정적인 (소비되지 않는) 발광 재료를 사용하는 것이 바람직하고, 특히 안정적인 쿠마린 및 그 유도체가 바람직하다. 또한, 본 발명에 있어서, 경화성 조성물이 중합 개시제를 함유하는 것은 특별히 문제가 없으며, 경화성 조성물이 중합 개시제에 추가하여, 바람직하게 예시된 상기 발광 재료를 함유하는 것이 바람직하다.
경화성 조성물 중의 상기 발광 재료의 함유량은, 상기 경화성 조성물의 전체량을 100 질량부로 하였을 때, 0.01 ∼ 10 질량부인 것이 바람직하고, 0.1 ∼ 5 질량부인 것이 보다 바람직하다. 경화성 조성물 중, 발광 재료의 함유량이 지나치게 적으면, 경화물층의 두께 검지를 위해 필요한 발광량을 얻을 수 없는 경우가 있고, 함유량이 지나치게 많은 경우에는, 경화성 조성물 중에서 발광 재료의 불용분이 발생하는 경우나, 광학 특성이나 접착 특성 등에 악영향을 미치는 경우가 있다.
다음으로, 본 발명에 있어서 사용하는 경화성 조성물에 대해 이하에 설명한다.
＜경화성 조성물＞
본 발명에서는, 경화성 조성물을 사용하여 경화물층을 형성한다. 광학 필름이 갖는 경화물층으로는, 예를 들어 접착제층, 점착제층 및 표면 처리층 등을 들 수 있다. 이하에 경화성 조성물의 예로서, 접착제층을 형성하기 위한 접착제 조성물, 점착제층을 형성하기 위한 점착제 조성물에 대해 설명한다. 이것들은 광학적으로 투명하면, 특별히 제한되지 않고 수계, 용제계, 핫 멜트계, 라디칼 경화형의 각종 형태의 것이 사용된다. 광학 필름으로서, 투명 도전성 적층체 또는 편광 필름을 제조하는 경우에는, 투명 경화형 접착 조성물이 바람직하다.
＜접착제 조성물＞
접착제 조성물로서, 예를 들어 라디칼 경화형 접착제 조성물이 바람직하게 사용된다. 라디칼 경화형 접착제 조성물로는, 활성 에너지선 경화성 성분을 함유하는, 전자선 경화형, 자외선 경화형, 가시광 경화형 등의 활성 에너지선 경화형의 접착제 조성물을 예시할 수 있다. 특히 단시간에 경화 가능한 활성 에너지선 경화형 접착제 조성물이 바람직하고, 나아가서는 저에너지로 경화 가능한 자외선 경화형 또는 가시광 경화형의 접착제 조성물이 바람직하다.
자외선 경화형 접착제 조성물로는, 크게 라디칼 중합 경화형 접착제와 카티온 중합형 접착제로 구분할 수 있다. 그 밖에, 라디칼 중합 경화형 접착제 조성물은 열 경화형 접착제로서 사용할 수 있다.
라디칼 중합 경화형 접착제 조성물의 경화성 성분으로는, 활성 에너지선 경화성 성분이 대표적이고, (메트)아크릴로일기를 갖는 화합물, 비닐기를 갖는 화합물을 들 수 있다. 이들 경화성 성분은, 단관능 또는 2 관능 이상 모두 사용할 수 있다. 또 이들 경화성 성분은, 1 종을 단독으로, 또는 2 종 이상을 조합하여 사용할 수 있다. 이들 경화성 성분으로는, 예를 들어, (메트)아크릴로일기를 갖는 화합물이 바람직하다.
(메트)아크릴로일기를 갖는 화합물로는, 구체적으로는 예를 들어, 메틸(메트)아크릴레이트, 에틸(메트)아크릴레이트, n-프로필(메트)아크릴레이트, 이소프로필(메트)아크릴레이트, 2-메틸-2-니트로프로필(메트)아크릴레이트, n-부틸(메트)아크릴레이트, 이소부틸(메트)아크릴레이트, s-부틸(메트)아크릴레이트, t-부틸(메트)아크릴레이트, n-펜틸(메트)아크릴레이트, t-펜틸(메트)아크릴레이트, 3-펜틸(메트)아크릴레이트, 2,2-디메틸부틸(메트)아크릴레이트, n-헥실(메트)아크릴레이트, 세틸(메트)아크릴레이트, n-옥틸(메트)아크릴레이트, 2-에틸헥실(메트)아크릴레이트, 4-메틸-2-프로필펜틸(메트)아크릴레이트, n-옥타데실(메트)아크릴레이트 등의 (메트)아크릴산 (탄소수 1 - 20) 알킬에스테르류를 들 수 있다.
또, (메트)아크릴로일기를 갖는 화합물로는, 예를 들어, 시클로알킬(메트)아크릴레이트 (예를 들어, 시클로헥실(메트)아크릴레이트, 시클로펜틸(메트)아크릴레이트 등), 아르알킬(메트)아크릴레이트 (예를 들어, 벤질(메트)아크릴레이트 등), 다고리형 (메트)아크릴레이트 (예를 들어, 2-이소보르닐(메트)아크릴레이트, 2-노르보르닐메틸(메트)아크릴레이트, 5-노르보르넨-2-일-메틸(메트)아크릴레이트, 3-메틸-2-노르보르닐메틸(메트)아크릴레이트 등), 하이드록실기 함유 (메트)아크릴산에스테르류 (예를 들어, 하이드록시에틸(메트)아크릴레이트, 2-하이드록시프로필(메트)아크릴레이트, 2,3-디하이드록시프로필메틸-부틸(메트)메타크릴레이트 등), 알콕시기 또는 페녹시기 함유 (메트)아크릴산에스테르류 (2-메톡시에틸(메트)아크릴레이트, 2-에톡시에틸(메트)아크릴레이트, 2-메톡시메톡시에틸(메트)아크릴레이트, 3-메톡시부틸(메트)아크릴레이트, 에틸카르비톨(메트)아크릴레이트, 페녹시에틸(메트)아크릴레이트 등), 에폭시기 함유 (메트)아크릴산에스테르류 (예를 들어, 글리시딜(메트)아크릴레이트 등), 할로겐 함유 (메트)아크릴산에스테르류 (예를 들어, 2,2,2-트리플루오로에틸(메트)아크릴레이트, 2,2,2-트리플루오로에틸에틸(메트)아크릴레이트, 테트라플루오로프로필(메트)아크릴레이트, 헥사플루오로프로필(메트)아크릴레이트, 옥타플루오로펜틸(메트)아크릴레이트, 헵타데카플루오로데실(메트)아크릴레이트 등), 알킬아미노알킬(메트)아크릴레이트 (예를 들어, 디메틸아미노에틸(메트)아크릴레이트 등) 등을 들 수 있다.
또, 상기 이외의 (메트)아크릴로일기를 갖는 화합물로는, 하이드록시에틸아크릴아미드, N-메틸올아크릴아미드, N-메톡시메틸아크릴아미드, N-에톡시메틸아크릴아미드, (메트)아크릴아미드 등의 아미드기 함유 모노머 등을 들 수 있다. 또, 아크릴로일모르폴린 등의 질소 함유 모노머 등을 들 수 있다.
또, 상기 라디칼 중합 경화형 접착제 조성물의 경화성 성분으로는, (메트)아크릴로일기, 비닐기 등의 중합성 이중 결합을 복수 개 갖는 화합물을 예시할 수 있고, 당해 화합물은, 가교 성분으로서 접착제 성분에 혼합할 수도 있다. 이러한 가교 성분이 되는 경화성 성분으로는, 예를 들어, 트리프로필렌글리콜디아크릴레이트, 1,9-노난디올디아크릴레이트, 트리시클로데칸디메탄올디아크릴레이트, 고리형 트리메틸올프로판포르말아크릴레이트, 디옥산글리콜디아크릴레이트, EO 변성 디글리세린테트라아크릴레이트, 아로닉스 M-220 (토아 합성사 제조), 라이트 아크릴레이트 1,9ND-A (쿄에이샤 화학사 제조), 라이트 아크릴레이트 DGE-4A (쿄에이샤 화학사 제조), 라이트 아크릴레이트 DCP-A (쿄에이샤 화학사 제조), SR-531 (Sartomer 사 제조), CD-536 (Sartomer 사 제조) 등을 들 수 있다. 또 필요에 따라, 각종 에폭시(메트)아크릴레이트, 우레탄(메트)아크릴레이트, 폴리에스테르(메트)아크릴레이트나, 각종 (메트)아크릴레이트계 모노머 등을 들 수 있다.
라디칼 중합 경화형 접착제 조성물은, 상기 경화성 성분을 함유하지만, 상기 성분에 추가하여, 경화 타입에 따라, 라디칼 중합 개시제를 첨가한다. 상기 접착제 조성물을 전자선 경화형으로 사용하는 경우에는, 상기 접착제 조성물에는 라디칼 중합 개시제를 함유시키는 것은 특별히 필요하지는 않지만, 자외선 경화형, 열 경화형으로 사용하는 경우에는, 라디칼 중합 개시제가 사용된다. 라디칼 중합 개시제의 사용량은 경화성 성분 100 질량부당, 통상적으로 0.1 ∼ 10 질량부 정도, 바람직하게는 0.5 ∼ 3 질량부이다. 또, 라디칼 중합 경화형 접착제에는, 필요에 따라, 카르보닐 화합물 등으로 대표되는 전자선에 의한 경화 속도나 감도를 높이는 광 증감제를 첨가할 수도 있다. 광 증감제의 사용량은 경화성 성분 100 질량부당, 통상적으로 0.001 ∼ 10 질량부 정도, 바람직하게는 0.01 ∼ 3 질량부이다.
카티온 중합 경화형 접착제 조성물의 경화성 성분으로는, 에폭시기나 옥세타닐기를 갖는 화합물을 들 수 있다. 에폭시기를 갖는 화합물은, 분자 내에 적어도 2 개의 에폭시기를 갖는 것이면 특별히 한정되지 않으며, 일반적으로 알려져 있는 각종 경화성 에폭시 화합물을 사용할 수 있다. 바람직한 에폭시 화합물로서, 분자 내에 적어도 2 개의 에폭시기와 적어도 1 개의 방향 고리를 갖는 화합물이나, 분자 내에 적어도 2 개의 에폭시기를 갖고, 그 중 적어도 1 개는 지환식 고리를 구성하는 이웃하는 2 개의 탄소 원자와의 사이에서 형성되어 있는 화합물 등을 예로서 들 수 있다.
상기 접착제 조성물은, 필요하면 적절히 첨가제를 함유하는 것이어도 된다. 첨가제의 예로는, 실란 커플링제, 티탄 커플링제 등의 커플링제, 에틸렌옥사이드로 대표되는 접착 촉진제, 투명 필름과의 젖음성을 향상시키는 첨가제, 아크릴옥시기 화합물이나 탄화수소계 (천연, 합성 수지) 등으로 대표되고, 기계적 강도나 가공성 등을 향상시키는 첨가제, 자외선 흡수제, 노화 방지제, 염료, 가공 보조제, 이온 트랩제, 산화 방지제, 점착 부여제, 충전제 (금속 화합물 필러 이외), 가소제, 레벨링제, 발포 억제제, 대전 방지제, 내열 안정제, 내가수분해 안정제 등의 안정제 등을 들 수 있다.
라디칼 중합 경화형 접착제 조성물은, 전자선 경화형, 자외선 경화형의 양태로 사용할 수 있다.
전자선 경화형에 있어서, 전자선의 조사 조건은, 상기 라디칼 중합 경화형 접착제 조성물을 경화시킬 수 있는 조건이면, 임의의 적절한 조건을 채용할 수 있다. 예를 들어, 전자선 조사는, 가속 전압이 바람직하게는 5 ㎸ ∼ 300 ㎸ 이고, 더욱 바람직하게는 10 ㎸ ∼ 250 ㎸ 이다. 가속 전압이 5 ㎸ 미만인 경우, 전자선이 접착제까지 도달하지 않아 경화 부족이 될 우려가 있으며, 가속 전압이 300 ㎸ 를 초과하면, 시료를 통과하는 침투력이 지나치게 강하여, 투명 보호 필름이나 편광자에 데미지를 줄 우려가 있다. 조사선량으로는, 5 ∼ 100 kGy, 더욱 바람직하게는 10 ∼ 75 kGy 이다. 조사선량이 5 kGy 미만인 경우에는, 접착제가 경화 부족이 되며, 100 kGy 를 초과하면, 투명 보호 필름이나 편광자에 데미지를 주어, 기계적 강도의 저하나 황변을 발생시켜, 소정의 광학 특성을 얻을 수 없다.
전자선 조사는, 통상적으로 불활성 가스 중에서 조사를 실시하지만, 필요하면 대기 중이나 산소를 조금 도입한 조건에서 실시해도 된다. 투명 보호 필름의 재료에 따라 다르기도 하지만, 산소를 적절히 도입함으로써, 처음에 전자선이 맞는 투명 보호 필름면에 억지로 산소 저해를 발생시켜, 투명 보호 필름에 대한 데미지를 방지할 수 있고, 접착제에만 효율적으로 전자선을 조사시킬 수 있다.
한편, 자외선 경화형에 있어서, 자외선 흡수능을 부여한 투명 보호 필름을 사용하는 경우, 대략 380 ㎚ 보다 단파장의 광을 흡수하므로, 380 ㎚ 보다 단파장의 광은 활성 에너지선 경화형 접착제 조성물에 도달하지 않기 때문에, 그 중합 반응에 기여하지 않는다. 또한, 투명 보호 필름에 의해 흡수된 380 ㎚ 보다 단파장의 광은 열로 변환되어, 투명 보호 필름 자체가 발열하고, 편광 필름의 컬·주름 등 불량의 원인이 된다. 그 때문에, 본 발명에 있어서 자외선 경화형을 채용하는 경우, 자외선 발생 장치로서 380 ㎚ 보다 단파장의 광을 발광하지 않는 장치를 사용하는 것이 바람직하고, 보다 구체적으로는, 파장 범위 380 ∼ 440 ㎚ 의 적산 조도와 파장 범위 250 ∼ 370 ㎚ 의 적산 조도의 비가 100 : 0 ∼ 100 : 50 인 것이 바람직하고, 100 : 0 ∼ 100 : 40 인 것이 보다 바람직하다. 이와 같은 적산 조도의 관계를 만족하는 자외선으로는, 갈륨 봉입 메탈 할라이드 램프, 파장 범위 380 ∼ 440 ㎚ 를 발광하는 LED 광원이 바람직하다. 혹은, 저압 수은등, 중압 수은등, 고압 수은등, 초고압 수은등, 백열 전구, 크세논 램프, 할로겐 램프, 카본 아크등, 메탈 할라이드 램프, 형광등, 텅스텐 램프, 갈륨 램프, 엑시머 레이저 또는 태양광을 광원으로 하고, 밴드 패스 필터를 사용하여 380 ㎚ 보다 단파장의 광을 차단하여 사용할 수도 있다.
또, 접착제층을 형성하기 위한 경화성 조성물로서, 수계의 접착제 조성물도 사용 가능하다. 수계 접착제 조성물로는 예를 들어, 비닐 폴리머계, 젤라틴계, 비닐계, 라텍스계, 폴리우레탄계, 이소시아네이트계, 폴리에스테르계, 에폭시계 등을 예시할 수 있다. 이와 같은 수계 접착제 조성물로 이루어지는 접착제층은, 수용액의 도포 건조층 등으로서 형성할 수 있는데, 그 수용액의 조제시에는, 필요에 따라, 가교제나 다른 첨가제, 산 등의 촉매도 배합할 수 있다.
상기 수계 접착제 조성물로는, 비닐 폴리머를 함유하는 접착제 등을 사용하는 것이 바람직하고, 비닐 폴리머로는, 폴리비닐알코올계 수지가 바람직하다. 또 폴리비닐알코올계 수지로는, 아세트아세틸기를 갖는 폴리비닐알코올계 수지를 함유하는 접착제가 내구성을 향상시키는 점에서 보다 바람직하다. 또, 폴리비닐알코올계 수지에 배합할 수 있는 가교제로는, 폴리비닐알코올계 수지와 반응성을 갖는 관능기를 적어도 2 개 갖는 화합물을 바람직하게 사용할 수 있다. 예를 들어, 붕산이나 붕사, 카르복실산 화합물, 알킬디아민류 ; 이소시아네이트류 ; 에폭시류 ; 모노알데히드류 ; 디알데히드류 ; 아미노-포름알데히드 수지 ; 또한 2 가 금속, 또는 3 가 금속의 염 및 그 산화물을 들 수 있다.
또, 경화성 조성물을 사용하여 접착제층을 형성하는 경우, 그 두께는 5 ㎛ 이하인 것이 바람직하다. 보다 바람직하게는 3 ㎛ 이하, 더욱 바람직하게는 1 ㎛ 이하이다. 상기 접착제층의 두께의 하한으로는, 예를 들어 0.01 ㎛ 이상, 나아가서는 0.1 ㎛ 이상이 예시 가능하다.
＜점착제 조성물＞
점착제 조성물로는 각종 점착제를 사용할 수 있으며, 예를 들어, 고무계 점착제, 아크릴계 점착제, 실리콘계 점착제, 우레탄계 점착제, 비닐알킬에테르계 점착제, 폴리비닐피롤리돈계 점착제, 폴리아크릴아미드계 점착제, 셀룰로오스계 점착제 등을 들 수 있다. 상기 점착제 조성물의 종류에 따라 점착성의 베이스 폴리머가 선택된다. 상기 점착제 조성물 중에서도, 광학적 투명성이 우수하고, 적절한 젖음성과 응집성과 접착성의 점착 특성을 나타내고, 내후성이나 내열성 등이 우수한 점에서, 아크릴계 점착제 조성물이 바람직하게 사용된다.
본 발명의 광학 필름은, 이하의 제조 방법 ;
경화성 조성물의 경화물층을 갖는 광학 필름의 제조 방법으로서,
광학 필름의 적어도 일방의 면에 경화성 조성물을 도공하는 도공 공정과,
경화성 조성물을 경화시킴으로써 경화물층으로 하는 경화물층 형성 공정을 포함하고,
경화물층 형성 공정 후, 경화물층의 두께를 측정하는 공정을 추가로 포함하는 광학 필름의 제조 방법에 의해 제조 가능하다. 특히, 상기 도공 공정 후, 상기 경화성 조성물의 도공 두께를 측정하는 공정을 추가로 포함하는 경우, 형성되는 경화물층의 두께를 더욱 정확하게 관리한 상태에서 광학 필름을 제조할 수 있다.
경화성 조성물을 도공하는 방법으로는, 경화성 조성물의 점도나 목적으로 하는 두께에 따라 적절히 선택되며, 예를 들어, 리버스 코터, 그라비아 코터 (다이렉트, 리버스나 오프셋), 바 리버스 코터, 롤 코터, 다이 코터, 바 코터, 로드 코터 등을 들 수 있다. 본 발명에 있어서 사용하는 경화성 조성물의 점도는 3 ∼ 100 m㎩·s 인 것이 바람직하고, 보다 바람직하게는 5 ∼ 50 m㎩·s 이고, 가장 바람직하게는 10 ∼ 30 m㎩·s 이다. 경화성 조성물의 점도가 높은 경우, 도공 후의 표면 평활성이 부족하여 외관 불량이 발생하기 때문에 바람직하지 않다. 본 발명에 있어서 사용하는 경화성 조성물은, 그 조성물을 가열 또는 냉각시켜 바람직한 범위의 점도로 조정하여 도포할 수 있다.
상기와 같이 도공한 경화성 조성물을 개재하여, 편광자와 투명 보호 필름을 첩합한다. 편광자와 투명 보호 필름의 첩합은, 롤 라미네이터 등에 의해 실시할 수 있다.
본 발명에 있어서, 광학 필름의 종류는 특별히 한정은 없지만, 광학 필름으로서 바람직하게는, 경화성 조성물의 경화물층으로 이루어지는 접착제층을 개재하여, 편광자의 적어도 일방의 면에 투명 보호 필름이 적층된 편광 필름을 들 수 있다. 이하에 광학 필름으로서 편광 필름을 예로 들어 설명한다.
본 발명에 있어서 편광 필름은, 이하의 제조 방법 ;
편광자 및 투명 보호 필름의 적어도 일방의 면에 경화성 조성물을 도공하는 도공 공정과,
편광자 및 투명 보호 필름을 첩합하는 첩합 공정과,
경화성 조성물을 경화시킴으로써 얻어진 접착제층을 개재하여, 편광자 및 투명 보호 필름을 접착시키는 접착 공정을 포함하고,
접착 공정 후, 접착제층의 두께를 측정하는 공정을 추가로 포함하는 광학 필름의 제조 방법에 의해 제조 가능하다. 특히, 상기 도공 공정 후 또는 상기 첩합 공정 후, 경화 전의 상기 경화성 조성물의 두께를 측정하는 공정을 추가로 포함하는 경우, 형성되는 경화물층의 두께를 더욱 정확하게 관리한 상태에서 광학 필름을 제조할 수 있다.
경화성 조성물로서 활성 에너지선 경화성 수지 조성물을 사용하는 경우, 상기 접착 공정에 있어서, 편광자와 투명 보호 필름을 첩합한 후, 활성 에너지선 (전자선, 자외선, 가시광선 등) 을 조사하여, 활성 에너지선 경화성 수지 조성물을 경화시켜 접착제층을 형성한다. 활성 에너지선 (전자선, 자외선, 가시광선 등) 의 조사 방향은, 임의의 적절한 방향으로부터 조사할 수 있다. 바람직하게는, 투명 보호 필름측으로부터 조사한다. 편광자측으로부터 조사하면, 편광자가 활성 에너지선 (전자선, 자외선, 가시광선 등) 에 의해 열화될 우려가 있다.
편광 필름의 제조 공정에 있어서, 접착제층의 발광량만을 측정함으로써, 그 두께를 인라인으로 측정하는 방법으로는, 예를 들어 편광 필름의 제조 라인에 있어서, 소정의 파장을 갖는 광, 예를 들어 365 ㎚ 의 파장을 갖는 광을 필름면에 대하여 수직 방향으로 조사하고, 그 때에 발광되는 420 ㎚ ∼ 480 ㎚ 의 광의 발광량 (형광량) 을 형광 측정 장치를 사용하여 계측하는 방법을 들 수 있다. 이와 같은 형광 측정 장치로는, 예를 들어 일본 공개특허공보 2011-145191호에 기재된, 센테크사 제조의 형광 측정 장치를 들 수 있다.
편광자 및/또는 투명 보호 필름은, 상기 활성 에너지선 경화형 접착제 조성물을 도포하기 전에 표면 개질 처리를 실시해도 된다. 구체적인 처리로는, 코로나 처리, 플라즈마 처리, 비누화 처리에 의한 처리 등을 들 수 있다.
또한 편광 필름에 있어서는, 편광자와 투명 보호 필름이, 바람직하게는 상기 라디칼 중합 경화형 접착제 조성물의 경화물층에 의해 형성된 접착제층을 개재하여 첩합되는데, 편광자와 투명 보호 필름 사이에는, 접착 용이층을 형성할 수 있다. 접착 용이층은, 예를 들어, 폴리에스테르 골격, 폴리에테르 골격, 폴리카보네이트 골격, 폴리우레탄 골격, 실리콘계, 폴리아미드 골격, 폴리이미드 골격, 폴리비닐알코올 골격 등을 갖는 각종 수지에 의해 형성할 수 있다. 이들 폴리머 수지는 1 종을 단독으로, 또는 2 종 이상을 조합하여 사용할 수 있다. 또 접착 용이층의 형성에는 다른 첨가제를 첨가해도 된다. 구체적으로는 나아가서는 점착 부여제, 자외선 흡수제, 산화 방지제, 내열 안정제 등의 안정제 등을 사용해도 된다.
접착 용이층의 형성은, 접착 용이층의 형성재를 필름 상에 공지된 기술에 의해 도포, 건조시킴으로써 실시된다. 접착 용이층의 형성재는, 건조 후의 두께, 도포의 원활성 등을 고려하여 적당한 농도로 희석시킨 용액으로서 통상적으로 조정된다. 접착 용이층은 건조 후의 두께는, 바람직하게는 0.01 ∼ 5 ㎛, 더욱 바람직하게는 0.02 ∼ 2 ㎛, 더욱 바람직하게는 0.05 ∼ 1 ㎛ 이다. 또한, 접착 용이층은 복수 층 형성할 수 있는데, 이 경우에도, 접착 용이층의 총 두께는 상기 범위가 되도록 하는 것이 바람직하다.
편광자는, 특별히 제한되지 않으며, 각종의 것을 사용할 수 있다. 편광자로는, 예를 들어, 폴리비닐알코올계 필름, 부분 포르말화 폴리비닐알코올계 필름, 에틸렌·아세트산비닐 공중합체계 부분 비누화 필름 등의 친수성 고분자 필름에, 요오드나 이색성 염료 등의 이색성 재료를 흡착시켜 1 축 연신한 것, 폴리비닐알코올의 탈수 처리물이나 폴리염화비닐의 탈염산 처리물 등 폴리엔계 배향 필름 등을 들 수 있다. 이것들 중에서도 폴리비닐알코올계 필름과 요오드 등의 이색성 물질로 이루어지는 편광자가 바람직하다. 이들 편광자의 두께는 특별히 제한되지 않지만, 일반적으로 80 ㎛ 정도 이하이다.
폴리비닐알코올계 필름을 요오드로 염색하고 1 축 연신한 편광자는, 예를 들어, 폴리비닐알코올을 요오드의 수용액에 침지시킴으로써 염색하고, 원래 길이의 3 ∼ 7 배로 연신함으로써 제조할 수 있다. 필요에 따라 붕산이나 요오드화칼륨 등의 수용액에 침지시킬 수도 있다. 또한 필요에 따라 염색 전에 폴리비닐알코올계 필름을 물에 침지시켜 수세해도 된다. 폴리비닐알코올계 필름을 수세함으로써 폴리비닐알코올계 필름 표면의 오염물이나 블로킹 방지제를 세정할 수 있는 것 외에, 폴리비닐알코올계 필름을 팽윤시킴으로써 염색의 불균일 등의 불균일을 방지하는 효과도 있다. 연신은 요오드로 염색한 후에 실시해도 되고, 염색하면서 연신해도 되고, 또 연신하고 나서 요오드로 염색해도 된다. 붕산이나 요오드화칼륨 등의 수용액 중이나 수욕 중에서도 연신할 수 있다.
또 편광자로는 두께가 10 ㎛ 이하인 박형의 편광자를 사용할 수 있다. 박형화의 관점에서 말하면 당해 두께는 1 ∼ 7 ㎛ 인 것이 바람직하다. 이와 같은 박형의 편광자는, 두께 불균일이 적고, 시인성이 우수하며, 또 치수 변화가 적기 때문에 내구성이 우수하고, 나아가서는 편광 필름으로서의 두께도 박형화를 도모할 수 있는 점이 바람직하다.
박형의 편광자로는, 대표적으로는, 일본 공개특허공보 소51-069644호나 일본 공개특허공보 2000-338329호나, WO2010/100917호 팜플렛, PCT/JP2010/001460호의 명세서, 또는 일본 특허출원 2010-269002호 명세서나 일본 특허출원 2010-263692호 명세서에 기재되어 있는 박형 편광자를 들 수 있다. 이들 박형 편광자는, 폴리비닐알코올계 수지 (이하, PVA 계 수지라고도 한다) 층과 연신용 수지 기재를 적층체의 상태에서 연신하는 공정과 염색하는 공정을 포함하는 제법에 의해 얻을 수 있다. 이 제법이면, PVA 계 수지층이 얇아도, 연신용 수지 기재에 지지되어 있음으로써 연신에 의한 파단 등의 문제없이 연신하는 것이 가능해진다.
상기 박형 편광자로는, 적층체의 상태에서 연신하는 공정과 염색하는 공정을 포함하는 제법 중에서도, 고배율로 연신할 수 있어 편광 성능을 향상시킬 수 있는 점에서, WO2010/100917호 팜플렛, PCT/JP2010/001460호의 명세서, 또는 일본 특허출원 2010-269002호 명세서나 일본 특허출원 2010-263692호 명세서에 기재가 있는 바와 같은 붕산 수용액 중에서 연신하는 공정을 포함하는 제법으로 얻어지는 것이 바람직하고, 특히 일본 특허출원 2010-269002호 명세서나 일본 특허출원 2010-263692호 명세서에 기재가 있는 붕산 수용액 중에서 연신하기 전에 보조적으로 공중 연신하는 공정을 포함하는 제법에 의해 얻어지는 것이 바람직하다.
상기 PCT/JP2010/001460호의 명세서에 기재된 박형 고기능 편광자는, 수지 기재에 일체로 제막되는, 이색성 물질을 배향시킨 PVA 계 수지로 이루어지는 두께가 7 ㎛ 이하인 박형 고기능 편광자로서, 단체 투과율이 42.0 ％ 이상 및 편광도가 99.95 ％ 이상인 광학 특성을 갖는다.
상기 박형 고기능 편광자는, 적어도 20 ㎛ 의 두께를 갖는 수지 기재에 PVA 계 수지의 도포 및 건조에 의해 PVA 계 수지층을 생성하고, 생성된 PVA 계 수지층을 이색성 물질의 염색액에 침지시켜, PVA 계 수지층에 이색성 물질을 흡착시키고, 이색성 물질을 흡착시킨 PVA 계 수지층을, 붕산 수용액 중에 있어서, 수지 기재와 일체로 총 연신 배율을 원래 길이의 5 배 이상이 되도록 연신함으로써 제조할 수 있다.
또, 이색성 물질을 배향시킨 박형 고기능 편광자를 포함하는 적층체 필름을 제조하는 방법으로서, 적어도 20 ㎛ 의 두께를 갖는 수지 기재와, 수지 기재의 편면에 PVA 계 수지를 함유하는 수용액을 도포 및 건조시킴으로써 형성된 PVA 계 수지층을 포함하는 적층체 필름을 생성하는 공정과, 수지 기재와 수지 기재의 편면에 형성된 PVA 계 수지층을 포함하는 상기 적층체 필름을, 이색성 물질을 함유하는 염색액 중에 침지시킴으로써, 적층체 필름에 포함되는 PVA 계 수지층에 이색성 물질을 흡착시키는 공정과, 이색성 물질을 흡착시킨 PVA 계 수지층을 포함하는 상기 적층체 필름을, 붕산 수용액 중에 있어서, 총 연신 배율이 원래 길이의 5 배 이상이 되도록 연신하는 공정과, 이색성 물질을 흡착시킨 PVA 계 수지층이 수지 기재와 일체로 연신됨으로써, 수지 기재의 편면에, 이색성 물질을 배향시킨 PVA 계 수지층으로 이루어지는 두께가 7 ㎛ 이하, 단체 투과율이 42.0 ％ 이상 또한 편광도가 99.95 ％ 이상인 광학 특성을 갖는 박형 고기능 편광자를 제막시킨 적층체 필름을 제조하는 공정을 포함함으로써, 상기 박형 고기능 편광자를 제조할 수 있다.
상기 일본 특허출원 2010-269002호 명세서나 일본 특허출원 2010-263692호 명세서에 기재되어 있는 박형 편광자는, 이색성 물질을 배향시킨 PVA 계 수지로 이루어지는 연속 웨브의 편광자로서, 비정성 에스테르계 열가소성 수지 기재에 제막된 PVA 계 수지층을 포함하는 적층체가 공중 보조 연신과 붕산수 중 연신으로 이루어지는 2 단 연신 공정으로 연신됨으로써, 10 ㎛ 이하의 두께로 된 것이다. 이러한 박형 편광자는, 단체 투과율을 T, 편광도를 P 로 하였을 때, P ＞ －(100.929T － 42.4 － 1) × 100 (단, T ＜ 42.3) 및 P ≥ 99.9 (단, T ≥ 42.3) 의 조건을 만족하는 광학 특성을 갖도록 된 것인 것이 바람직하다.
구체적으로는, 상기 박형 편광자는, 연속 웨브의 비정성 에스테르계 열가소성 수지 기재에 제막된 PVA 계 수지층에 대한 공중 고온 연신에 의해, 배향된 PVA 계 수지층으로 이루어지는 연신 중간 생성물을 생성하는 공정과, 연신 중간 생성물에 대한 이색성 물질의 흡착에 의해, 이색성 물질 (요오드 또는 요오드와 유기 염료의 혼합물이 바람직하다) 을 배향시킨 PVA 계 수지층으로 이루어지는 착색 중간 생성물을 생성하는 공정과, 착색 중간 생성물에 대한 붕산수 중 연신에 의해, 이색성 물질을 배향시킨 PVA 계 수지층으로 이루어지는 두께가 10 ㎛ 이하인 편광자를 생성하는 공정을 포함하는 박형 편광자의 제조 방법에 의해 제조할 수 있다.
이 제조 방법에 있어서, 공중 고온 연신과 붕산수 중 연신에 의한 비정성 에스테르계 열가소성 수지 기재에 제막된 PVA 계 수지층의 총 연신 배율이 5 배 이상이 되도록 하는 것이 바람직하다. 붕산수 중 연신을 위한 붕산 수용액의 액온은, 60 ℃ 이상으로 할 수 있다. 붕산 수용액 중에서 착색 중간 생성물을 연신하기 전에 착색 중간 생성물에 대하여 불용화 처리를 실시하는 것이 바람직하고, 그 경우, 액온이 40 ℃ 를 초과하지 않는 붕산 수용액에 상기 착색 중간 생성물을 침지시킴으로써 실시하는 것이 바람직하다. 상기 비정성 에스테르계 열가소성 수지 기재는, 이소프탈산을 공중합시킨 공중합 폴리에틸렌테레프탈레이트, 시클로헥산디메탄올을 공중합시킨 공중합 폴리에틸렌테레프탈레이트 또는 다른 공중합 폴리에틸렌테레프탈레이트를 포함하는 비정성 폴리에틸렌테레프탈레이트로 할 수 있으며, 투명 수지로 이루어지는 것인 것이 바람직하고, 그 두께는, 제막되는 PVA 계 수지층의 두께의 7 배 이상으로 할 수 있다. 또, 공중 고온 연신의 연신 배율은 3.5 배 이하가 바람직하고, 공중 고온 연신의 연신 온도는 PVA 계 수지의 유리 전이 온도 이상, 구체적으로는 95 ℃ ∼ 150 ℃ 의 범위인 것이 바람직하다. 공중 고온 연신을 자유단 1 축 연신으로 실시하는 경우, 비정성 에스테르계 열가소성 수지 기재에 제막된 PVA 계 수지층의 총 연신 배율이 5 배 이상 7.5 배 이하인 것이 바람직하다. 또, 공중 고온 연신을 고정단 1 축 연신으로 실시하는 경우, 비정성 에스테르계 열가소성 수지 기재에 제막된 PVA 계 수지층의 총 연신 배율이 5 배 이상 8.5 배 이하인 것이 바람직하다.
더욱 구체적으로는, 다음과 같은 방법에 의해, 박형 편광자를 제조할 수 있다.
이소프탈산을 6 ㏖％ 공중합시킨 이소프탈산 공중합 폴리에틸렌테레프탈레이트 (비정성 PET) 의 연속 웨브의 기재를 제조한다. 비정성 PET 의 유리 전이 온도는 75 ℃ 이다. 연속 웨브의 비정성 PET 기재와 폴리비닐알코올 (PVA) 층으로 이루어지는 적층체를 이하와 같이 제조한다. 덧붙여서 PVA 의 유리 전이 온도는 80 ℃ 이다.
200 ㎛ 두께의 비정성 PET 기재와, 중합도 1000 이상, 비누화도 99 ％ 이상의 PVA 분말을 물에 용해시킨 4 ∼ 5 ％ 농도의 PVA 수용액을 준비한다. 다음으로, 200 ㎛ 두께의 비정성 PET 기재에 PVA 수용액을 도포하고, 50 ∼ 60 ℃ 의 온도에서 건조시켜, 비정성 PET 기재에 7 ㎛ 두께의 PVA 층이 제막된 적층체를 얻는다.
7 ㎛ 두께의 PVA 층을 포함하는 적층체를, 공중 보조 연신 및 붕산수 중 연신의 2 단 연신 공정을 포함하는 이하의 공정을 거쳐, 3 ㎛ 두께의 박형 고기능 편광자를 제조한다. 제 1 단의 공중 보조 연신 공정에 의해, 7 ㎛ 두께의 PVA 층을 포함하는 적층체를 비정성 PET 기재와 일체로 연신하여, 5 ㎛ 두께의 PVA 층을 포함하는 연신 적층체를 생성한다. 구체적으로는, 이 연신 적층체는, 7 ㎛ 두께의 PVA 층을 포함하는 적층체를 130 ℃ 의 연신 온도 환경으로 설정된 오븐에 배비된 연신 장치에 넣고, 연신 배율이 1.8 배가 되도록 자유단 1 축으로 연신한 것이다. 이 연신 처리에 의해, 연신 적층체에 포함되는 PVA 층을 PVA 분자가 배향된 5 ㎛ 두께의 PVA 층으로 변화시킨다.
다음으로, 염색 공정에 의해, PVA 분자가 배향된 5 ㎛ 두께의 PVA 층에 요오드를 흡착시킨 착색 적층체를 생성한다. 구체적으로는, 이 착색 적층체는, 연신 적층체를 액온 30 ℃ 의 요오드 및 요오드화칼륨을 함유하는 염색액에, 최종적으로 생성되는 고기능 편광자를 구성하는 PVA 층의 단체 투과율이 40 ∼ 44 ％ 가 되도록 임의의 시간 침지시킴으로써, 연신 적층체에 포함되는 PVA 층에 요오드를 흡착시킨 것이다. 본 공정에 있어서, 염색액은, 물을 용매로 하여, 요오드 농도를 0.12 ∼ 0.30 중량％ 의 범위 내로 하고, 요오드화칼륨 농도를 0.7 ∼ 2.1 중량％ 의 범위 내로 한다. 요오드와 요오드화칼륨의 농도의 비는 1 대 7 이다. 덧붙여서, 요오드를 물에 용해시키려면 요오드화칼륨을 필요로 한다. 보다 상세하게는, 요오드 농도 0.30 중량％, 요오드화칼륨 농도 2.1 중량％ 의 염색액에 연신 적층체를 60 초간 침지시킴으로써, PVA 분자가 배향된 5 ㎛ 두께의 PVA 층에 요오드를 흡착시킨 착색 적층체를 생성한다.
또한, 제 2 단의 붕산수 중 연신 공정에 의해, 착색 적층체를 비정성 PET 기재와 일체로 추가로 연신하여, 3 ㎛ 두께의 고기능 편광자를 구성하는 PVA 층을 포함하는 광학 필름 적층체를 생성한다. 구체적으로는, 이 광학 필름 적층체는, 착색 적층체를 붕산과 요오드화칼륨을 함유하는 액온 범위 60 ∼ 85 ℃ 의 붕산 수용액으로 설정된 처리 장치에 배비된 연신 장치에 넣고, 연신 배율이 3.3 배가 되도록 자유단 1 축으로 연신한 것이다. 보다 상세하게는, 붕산 수용액의 액온은 65 ℃ 이다. 그것은 또, 붕산 함유량을 물 100 질량부에 대하여 4 질량부로 하고, 요오드화칼륨 함유량을 물 100 질량부에 대하여 5 질량부로 한다. 본 공정에 있어서는, 요오드 흡착량을 조정한 착색 적층체를 먼저 5 ∼ 10 초간 붕산 수용액에 침지시킨다. 그러한 후, 그 착색 적층체를 그대로 처리 장치에 배비된 연신 장치인 주속이 상이한 복수 세트의 롤 사이에 통과시켜, 30 ∼ 90 초에 걸쳐 연신 배율이 3.3 배가 되도록 자유단 1 축으로 연신한다. 이 연신 처리에 의해, 착색 적층체에 포함되는 PVA 층을, 흡착된 요오드가 폴리요오드 이온 착물로서 일 방향으로 고차로 배향된 3 ㎛ 두께의 PVA 층으로 변화시킨다. 이 PVA 층이 광학 필름 적층체의 고기능 편광자를 구성한다.
광학 필름 적층체의 제조에 필수의 공정은 아니지만, 세정 공정에 의해, 광학 필름 적층체를 붕산 수용액으로부터 꺼내어, 비정성 PET 기재에 제막된 3 ㎛ 두께의 PVA 층의 표면에 부착된 붕산을 요오드화칼륨 수용액으로 세정하는 것이 바람직하다. 그러한 후, 세정된 광학 필름 적층체를 60 ℃ 의 온풍에 의한 건조 공정에 의해 건조시킨다. 또한 세정 공정은, 붕산 석출 등의 외관 결점을 해소하기 위한 공정이다.
동일하게 광학 필름 적층체의 제조에 필수의 공정이라고 하는 것은 아니지만, 첩합 및/또는 전사 공정에 의해, 비정성 PET 기재에 제막된 3 ㎛ 두께의 PVA 층의 표면에 접착제를 도포하면서, 80 ㎛ 두께의 트리아세틸셀룰로오스 필름을 첩합한 후, 비정성 PET 기재를 박리하고, 3 ㎛ 두께의 PVA 층을 80 ㎛ 두께의 트리아세틸셀룰로오스 필름에 전사할 수도 있다.
[그 밖의 공정]
상기 박형 편광자의 제조 방법은, 상기 공정 이외에, 그 밖의 공정을 포함할 수 있다. 그 밖의 공정으로는, 예를 들어, 불용화 공정, 가교 공정, 건조 (수분율의 조절) 공정 등을 들 수 있다. 그 밖의 공정은, 임의의 적절한 타이밍에서 실시할 수 있다. 상기 불용화 공정은, 대표적으로는, 붕산 수용액에 PVA 계 수지층을 침지시킴으로써 실시한다. 불용화 처리를 실시함으로써, PVA 계 수지층에 내수성을 부여할 수 있다. 당해 붕산 수용액의 농도는, 물 100 질량부에 대하여, 바람직하게는 1 질량부 ∼ 4 질량부이다. 불용화욕 (붕산 수용액) 의 액온은, 바람직하게는 20 ℃ ∼ 50 ℃ 이다. 바람직하게는, 불용화 공정은, 적층체 제조 후, 염색 공정이나 수중 연신 공정 전에 실시한다. 상기 가교 공정은, 대표적으로는, 붕산 수용액에 PVA 계 수지층을 침지시킴으로써 실시한다. 가교 처리를 실시함으로써, PVA 계 수지층에 내수성을 부여할 수 있다. 당해 붕산 수용액의 농도는, 물 100 질량부에 대하여, 바람직하게는 1 질량부 ∼ 4 질량부이다. 또, 상기 염색 공정 후에 가교 공정을 실시하는 경우, 추가로, 요오드화물을 배합하는 것이 바람직하다. 요오드화물을 배합함으로써, PVA 계 수지층에 흡착시킨 요오드의 용출을 억제할 수 있다. 요오드화물의 배합량은, 물 100 질량부에 대하여, 바람직하게는 1 질량부 ∼ 5 질량부이다. 요오드화물의 구체예는, 상기 서술한 바와 같다. 가교욕 (붕산 수용액) 의 액온은, 바람직하게는 20 ℃ ∼ 50 ℃ 이다. 바람직하게는, 가교 공정은 상기 제 2 붕산수 중 연신 공정의 전에 실시한다. 바람직한 실시형태에 있어서는, 염색 공정, 가교 공정 및 제 2 붕산수 중 연신 공정을 이 순서로 실시한다.
상기 편광자의 편면 또는 양면에 형성되는 투명 보호 필름을 형성하는 재료로는, 투명성, 기계적 강도, 열안정성, 수분 차단성, 등방성 등이 우수한 것이 바람직하다. 예를 들어, 폴리에틸렌테레프탈레이트나 폴리에틸렌나프탈레이트 등의 폴리에스테르계 폴리머, 디아세틸셀룰로오스나 트리아세틸셀룰로오스 등의 셀룰로오스계 폴리머, 폴리메틸메타크릴레이트 등의 아크릴계 폴리머, 폴리스티렌이나 아크릴로니트릴·스티렌 공중합체 (AS 수지) 등의 스티렌계 폴리머, 폴리카보네이트계 폴리머 등을 들 수 있다. 또, 폴리에틸렌, 폴리프로필렌, 시클로계 내지는 노르보르넨 구조를 갖는 폴리올레핀, 에틸렌·프로필렌 공중합체와 같은 폴리올레핀계 폴리머, 염화비닐계 폴리머, 나일론이나 방향족 폴리아미드 등의 아미드계 폴리머, 이미드계 폴리머, 술폰계 폴리머, 폴리에테르술폰계 폴리머, 폴리에테르에테르케톤계 폴리머, 폴리페닐렌술파이드계 폴리머, 비닐알코올계 폴리머, 염화비닐리덴계 폴리머, 비닐부티랄계 폴리머, 아릴레이트계 폴리머, 폴리옥시메틸렌계 폴리머, 에폭시계 폴리머, 또는 상기 폴리머의 블렌드물 등도 상기 투명 보호 필름을 형성하는 폴리머의 예로서 들 수 있다. 투명 보호 필름 중에는 임의의 적절한 첨가제가 1 종류 이상 함유되어 있어도 된다. 첨가제로는, 예를 들어, 자외선 흡수제, 산화 방지제, 활제, 가소제, 이형제, 착색 방지제, 난연제, 핵제, 대전 방지제, 안료, 착색제 등을 들 수 있다. 투명 보호 필름 중의 상기 열가소성 수지의 함유량은, 바람직하게는 50 ∼ 100 중량％, 보다 바람직하게는 50 ∼ 99 중량％, 더욱 바람직하게는 60 ∼ 98 중량％, 특히 바람직하게는 70 ∼ 97 중량％ 이다. 투명 보호 필름 중의 상기 열가소성 수지의 함유량이 50 중량％ 이하인 경우, 열가소성 수지가 본래 갖는 고투명성 등을 충분히 발현할 수 없을 우려가 있다.
또, 투명 보호 필름으로는, 일본 공개특허공보 2001-343529호 (WO01/37007) 에 기재된 폴리머 필름, 예를 들어, (A) 측사슬에 치환 및/또는 비치환 이미드기를 갖는 열가소성 수지와, (B) 측사슬에 치환 및/또는 비치환 페닐 그리고 니트릴기를 갖는 열가소성 수지를 함유하는 수지 조성물을 들 수 있다. 구체예로는 이소부틸렌과 N-메틸말레이미드로 이루어지는 교호 공중합체와 아크릴로니트릴·스티렌 공중합체를 함유하는 수지 조성물의 필름을 들 수 있다. 필름은 수지 조성물의 혼합 압출품 등으로 이루어지는 필름을 사용할 수 있다. 이들 필름은 위상차가 작고, 광 탄성 계수가 작기 때문에 편광 필름의 변형에 의한 불균일 등의 문제를 해소할 수 있고, 또 투습도가 작기 때문에, 가습 내구성이 우수하다.
투명 보호 필름의 두께는, 적절히 결정할 수 있는데, 일반적으로는 강도나 취급성 등의 작업성, 박층성 등의 면에서 1 ∼ 500 ㎛ 정도이다. 특히 20 ∼ 80 ㎛ 가 바람직하고, 30 ∼ 60 ㎛ 가 보다 바람직하다.
또한, 편광자의 양면에 투명 보호 필름을 형성하는 경우, 그 표리에서 동일한 폴리머 재료로 이루어지는 투명 보호 필름을 사용해도 되고, 상이한 폴리머 재료 등으로 이루어지는 투명 보호 필름을 사용해도 된다.
상기 투명 보호 필름의 편광자를 접착시키지 않는 면에는, 경화성 조성물의 경화물층으로 이루어지는 하드 코트층, 반사 방지층, 스티킹 방지층, 확산층 내지 안티글레어층 등의 표면 처리층을 형성할 수 있다.
본 발명의 편광 필름은, 실용시에 다른 광학층과 적층된 광학 필름으로서 사용할 수 있다. 그 광학층에 대해서는 특별히 한정은 없지만, 예를 들어 반사판이나 반투과판, 위상차판 (1/2 이나 1/4 등의 파장판을 포함한다), 시각 보상 필름 등의 액정 표시 장치 등의 형성에 사용되는 경우가 있는 광학층을 1 층 또는 2 층 이상 사용할 수 있다. 특히, 본 발명의 편광 필름에 추가로 반사판 또는 반투과 반사판이 적층되어 이루어지는 반사형 편광 필름 또는 반투과형 편광 필름, 편광 필름에 추가로 위상차판이 적층되어 이루어지는 타원 편광 필름 또는 원 편광 필름, 편광 필름에 추가로 시각 보상 필름이 적층되어 이루어지는 광시야각 편광 필름, 혹은 편광 필름에 추가로 휘도 향상 필름이 적층되어 이루어지는 편광 필름이 바람직하다.
편광 필름에 상기 광학층을 적층시킨 광학 필름은, 액정 표시 장치 등의 제조 과정에서 순차적으로 별개로 적층시키는 방식으로도 형성할 수 있지만, 미리 적층시켜 광학 필름으로 한 것은, 품질의 안정성이나 조립 작업 등이 우수하여 액정 표시 장치 등의 제조 공정을 향상시킬 수 있는 이점이 있다. 적층에는 점착제층 등의 적절한 접착 수단을 사용할 수 있다. 상기 편광 필름이나 그 밖의 광학 필름의 접착시에, 그것들의 광학축은 목적으로 하는 위상차 특성 등에 따라 적절한 배치 각도로 할 수 있다.
전술한 편광 필름이나, 편광 필름이 적어도 1 층 적층되어 있는 광학 필름에는, 액정 셀 등의 타 부재와 접착시키기 위한 점착제층을 형성할 수 있다. 점착제층을 형성하는 점착제 조성물로는, 전술한 것이 사용 가능하다.
점착제층은, 상이한 조성 또는 종류 등의 것의 중첩층으로 하여 편광 필름이나 광학 필름의 편면 또는 양면에 형성할 수도 있다. 또 양면에 형성하는 경우, 편광 필름이나 광학 필름의 표리에 있어서 상이한 조성이나 종류나 두께 등의 점착제층으로 할 수도 있다. 점착제층의 두께는, 사용 목적이나 접착력 등에 따라 적절히 결정할 수 있으며, 일반적으로는 1 ∼ 500 ㎛ 이고, 1 ∼ 200 ㎛ 가 바람직하고, 특히 1 ∼ 100 ㎛ 가 바람직하다.
점착제층의 노출면에 대해서는, 실용에 제공할 때까지의 동안에 그 오염 방지 등을 목적으로 세퍼레이터가 가착되어 커버된다. 이로써, 통례의 취급 상태에서 점착제층에 접촉하는 것을 방지할 수 있다. 세퍼레이터로는, 상기 두께 조건을 제외하고, 예를 들어 플라스틱 필름, 고무 시트, 종이, 천, 부직포, 네트, 발포 시트나 금속박, 그것들의 라미네이트체 등의 적절한 박엽체를, 필요에 따라 실리콘계나 장사슬 알킬계, 불소계나 황화몰리브덴 등의 적절한 박리제로 코트 처리한 것 등의, 종래에 준한 적절한 것을 사용할 수 있다.
본 발명의 편광 필름 또는 광학 필름은 액정 표시 장치 등의 각종 장치의 형성 등에 바람직하게 사용할 수 있다. 액정 표시 장치의 형성은, 종래에 준하여 실시할 수 있다. 즉 액정 표시 장치는 일반적으로, 액정 셀과 편광 필름 또는 광학 필름, 및 필요에 따른 조명 시스템 등의 구성 부품을 적절히 조립하여 구동 회로를 장착하거나 함으로써 형성되는데, 본 발명에 있어서는 본 발명에 의한 편광 필름 또는 광학 필름을 사용하는 점을 제외하고 특별히 한정은 없으며, 종래에 준할 수 있다. 액정 셀에 대해서도, 예를 들어 TN 형이나 STN 형, π 형 등의 임의의 타입의 것을 사용할 수 있다.
액정 셀의 편측 또는 양측에 편광 필름 또는 광학 필름을 배치한 액정 표시 장치나, 조명 시스템에 백라이트 혹은 반사판을 사용한 것 등의 적절한 액정 표시 장치를 형성할 수 있다. 그 경우, 본 발명에 의한 편광 필름 또는 광학 필름은 액정 셀의 편측 또는 양측에 설치할 수 있다. 양측에 편광 필름 또는 광학 필름을 형성하는 경우, 그것들은 동일한 것이어도 되고, 상이한 것이어도 된다. 또한, 액정 표시 장치의 형성시에는, 예를 들어 확산판, 안티글레어층, 반사 방지막, 보호판, 프리즘 어레이, 렌즈 어레이 시트, 광 확산판, 백라이트 등의 적절한 부품을 적절한 위치에 1 층 또는 2 층 이상 배치할 수 있다.
실시예
이하에 본 발명의 실시예를 기재하는데, 본 발명의 실시형태는 이것들에 한정되지 않는다.
＜몰 흡광 계수＞
몰 흡광 계수의 측정 방법은, 발광 재료를 용매 (특히, 메탄올이 바람직하다) 에 용해시키고, Agilent Technologies 사 제조의 UV-Vis-NIR 스펙트럼미터 (Cary5000) 를 사용하여 파장 365 ㎚ 에 있어서의 흡광도를 측정하고, 하기 식 ;
A ＝ εLc
(A 는 흡광도, ε 는 몰 흡광 계수 (㏖-1·L·㎝-1), c 는 측정물의 용액 중의 농도 (㏖/ℓ), L 은 광로 길이 (㎝) 를 나타낸다) 으로부터 구해진다.
실시예 1
광학 필름인 삼아세트산셀룰로오스 필름 (후지 필름사 제조) 에 대하여, 발광 재료인 7{[4-클로로-6-(디에틸아미노)-s-트리아진-2-일]아미노}-7-트리아지닐아미노-3-페닐-쿠마린 (「Hakkol PY1800」; 쇼와 화학 공업사 제조) 을 0.2 wt％ 첨가한 폴리아세트산비닐 (고세닐) (닛폰 합성 주식회사) 의 50 wt％ 아세트산에틸 용액을 어플리케이터로 도공하고, 60 ℃ 에서 20 분간 건조시켰다. 그 후, 365 ㎚ 의 파장을 갖는 광을 필름면에 대하여 수직 방향으로 조사하고, 그 때에 발광되는 420 ㎚ ∼ 480 ㎚ 의 광의 발광량 (형광량) 을, 일본 공개특허공보 2011-145191호에 기재된 센테크사 제조의 형광 측정 장치를 사용하여 계측하였다. 이 때, 도공 두께는 어플리케이터의 게이지를 변경함으로써 건조 후의 두께를 1 ㎛, 2 ㎛, 3 ㎛ 로 변화시켜, 발광량의 증감을 확인하였다. 막두께는 다이얼 게이지에 의해 실두께를 측정 실시하였다.
실시예 2, 비교예 1 ∼ 7
발광 재료를 표에 기재된 것으로 변경하는 것 이외에는 동일한 방법으로 실시하였다.
Figure pct00001
표 1 및 표 2 중,
Hakkol P 는 8-아미노-4-메틸쿠마린 ; 쇼와 화학 공업사 제조,
IRGACURE 369 는 2-벤질-2-디메틸아미노-1-(4-모르폴리노페닐)-부타논-1 ; BASF 사 제조,
IRGACURE 1173 은 2-하이드록시-2-메틸-1-페닐-프로판-1-온 ; BASF 사 제조,
IRGACURE 651 은 2,2-디메톡시-1,2-디페닐에탄-1-온 ; BASF 사 제조,
IRGACURE 784 는 비스(η5-2,4-시클로펜타디엔-1-일)-비스(2,6-디플루오로-3-(1H-피롤-1-일)-페닐)티타늄 ; BASF 사 제조,
IRGACURE 379 는 2-(디메틸아미노)-2-[(4-메틸페닐)메틸]-1-[4-(4-모르폴리닐)페닐]-1-부타논 ; BASF 사 제조,
IRGACURE OXE01 은 1,2-옥탄디온, 1-[4-(페닐티오)-2-(o-벤조일옥심)] ; BASF 사 제조,
IRGACURE OXE02 는 에타논, 1-[9-에틸-6-(2-메틸벤조일)-9H-카르바졸-3-일]-, 1-(o-아세틸옥심) ; BASF 사 제조를 나타낸다.
＜표 1 및 표 2 에 있어서의 두께 검량선의 작성에 관한 ○, × 의 평가 방법＞
○ : 경화물층의 두께를 1 ㎛ 에서 3 ㎛ 로 변화시킨 경우에 발광량이 10 이상 변화한 것
→ 두께 검량선의 작성이 가능하다고 판단하여 ○ 로 하였다.
× : 경화물층의 두께를 1 ㎛ 에서 3 ㎛ 로 변화시킨 경우에 발광량이 10 이상 변화하지 않은 것
→ 두께 검량선의 작성이 불가능하다고 판단하여 × 로 하였다.
실시예 1 및 2 에서는, 경화물층의 발광량이 충분하고, 그 두께에 비례하여 발광량이 변화하는 점에서, 발광량을 측정함으로써 두께를 계산할 수 있음을 알 수 있다. 한편, 비교예 1 ∼ 7 에서는, 중합 개시제를 함유하는 경화성 조성물의 경화물층이기 때문에, 두께가 변화해도 발광량이 거의 변화하지 않는다. 이 때문에, 발광량에 기초하여, 경화물층의 두께를 계산할 수 없음을 알 수 있다.
실시예 3
＜편광자의 제조＞
평균 중합도 2400, 비누화도 99.9 몰％ 의 두께 75 ㎛ 의 폴리비닐알코올 필름을 30 ℃ 의 온수 중에 60 초간 침지시켜 팽윤시켰다. 이어서, 요오드/요오드화칼륨 (중량비 ＝ 0.5/8) 의 농도 0.3 ％ 의 수용액에 침지시키고, 3.5 배까지 연신시키면서 필름을 염색하였다. 그 후, 65 ℃ 의 붕산에스테르 수용액 중에서, 토탈의 연신 배율이 6 배가 되도록 연신을 실시하였다. 연신 후, 40 ℃ 의 오븐에서 3 분간 건조를 실시하여, PVA 계 편광자 (두께 23 ㎛) 를 얻었다.
＜투명 보호 필름＞
투명 보호 필름 1 : 두께 60 ㎛ 의 트리아세틸셀룰로오스 필름을 비누화·코로나 처리 등을 실시하지 않고 사용하였다.
투명 보호 필름 2 : 두께 40 ㎛ 의 락톤 고리 구조를 갖는 (메트)아크릴 수지에 코로나 처리를 실시하여 사용하였다.
＜활성 에너지선＞
활성 에너지선으로서, 가시광선 (갈륨 봉입 메탈 할라이드 램프) 조사 장치 : Fusion UV Systems, Inc 사 제조의 Light HAMMER10 벌브 : V 벌브, 피크 조도 : 1600 ㎽/㎠, 적산 조사량 1000/mJ/㎠ (파장 380 ∼ 440 ㎚) 를 사용하였다. 또한, 가시광선의 조도는, Solatell 사 제조의 Sola-Check 시스템을 사용하여 측정하였다.
활성 에너지선 경화형 접착제 조성물의 제조
3',4'-에폭시시클로헥실메틸 3,4-에폭시시클로헥산카르복실레이트 (「셀록사이드 2021P」; 다이셀사 제조) 5 g, 3-에틸-3{[(3-에틸옥세탄-3-일)메톡시]메틸}옥세탄 (「아론 옥세탄 OXT221」; 토아 합성사 제조) 5 g 과 광 카티온 중합 개시제 (트리아릴술포늄염 타입의 광산 발생제인「CPI-100P」; 산아프로사 제조) 1 g, 추가로 발광 재료인 Hakkol PY-1800 0.04 g 을 갈색 스크루관 (No.5) 중에서 혼합하여, 활성 에너지선 경화형 접착제 조성물을 조제하였다.
＜편광 필름의 제조＞
상기 투명 보호 필름 1 및 2 상에 MCD 코터 (후지 기계 공업 주식회사 제조) 를 사용하여, 상기 활성 에너지선 경화형 접착제를 두께 1 ㎛, 2 ㎛, 3 ㎛ 가 되도록 도공하고, 상기 편광자의 양면에 롤기로 첩합하였다. 그 후, 투명 보호 필름 1 측으로부터 편면씩, 활성 에너지선 조사 장치에 의해 상기 가시광선을 조사하여 활성 에너지선 경화형 접착제를 경화시킨 후, 70 ℃ 에서 3 분간 열풍 건조시켜, 편광자의 양측에 투명 보호 필름을 갖는 편광 필름을 얻었다. 첩합의 라인 속도는 15 m/min 으로 실시하였다. 두께는 단면 SEM 관찰에 의해 측정 실시하였다.
실시예 4, 비교예 8 ∼ 14
발광 재료를 표에 기재된 것으로 변경하는 것 이외에는 동일한 방법으로 실시하였다.
Figure pct00002
실시예 3 및 4 에서는, 경화물층의 발광량이 충분하고, 그 두께에 비례하여 발광량이 변화하는 점에서, 발광량을 측정함으로써 두께를 계산할 수 있음을 알 수 있다. 한편, 비교예 8 ∼ 14 에서는, 중합 개시제를 함유하는 경화성 조성물의 경화물층이기 때문에, 두께가 변화해도 발광량이 거의 변화하지 않는다. 이 때문에, 발광량에 기초하여, 경화물층의 두께를 계산할 수 없음을 알 수 있다.

Claims (11)

  1. 경화성 조성물의 경화물층을 갖는 광학 필름으로서,
    상기 경화성 조성물이, 파장 365 ㎚ 에 있어서의 몰 흡광 계수가 10000 (ℓ/㏖·㎝) 이상인 발광 재료를 함유하는 것을 특징으로 하는 광학 필름.
  2. 제 1 항에 있어서,
    상기 경화성 조성물이, 활성 에너지선 경화성 성분을 함유하는 광학 필름.
  3. 제 1 항 또는 제 2 항에 있어서,
    상기 경화성 조성물의 전체량을 100 질량부로 하였을 때, 상기 발광 재료의 함유량이 0.01 ∼ 10 질량부인 광학 필름.
  4. 제 1 항 내지 제 3 항 중 어느 한 항에 있어서,
    상기 발광 재료가 쿠마린 및 그 유도체인 광학 필름.
  5. 제 4 항에 있어서,
    상기 쿠마린 유도체가 디에틸아미노기를 갖는 광학 필름.
  6. 제 1 항 내지 제 5 항 중 어느 한 항에 있어서,
    상기 광학 필름이, 경화성 조성물의 경화물층으로 이루어지는 접착제층을 개재하여, 편광자의 적어도 일방의 면에 투명 보호 필름이 적층된 편광 필름인 광학 필름.
  7. 제 6 항에 있어서,
    상기 접착제층의 두께가 3 ㎛ 이하인 광학 필름.
  8. 경화성 조성물의 경화물층을 갖는 광학 필름의 제조 방법으로서,
    광학 필름의 적어도 일방의 면에 상기 경화성 조성물을 도공하는 도공 공정과,
    상기 경화성 조성물을 경화시킴으로써 경화물층으로 하는 경화물층 형성 공정을 포함하고,
    상기 경화물층 형성 공정 후, 상기 경화물층의 두께를 측정하는 공정을 추가로 포함하는 것을 특징으로 하는 광학 필름의 제조 방법.
  9. 제 8 항에 있어서,
    상기 도공 공정 후, 상기 경화성 조성물의 도공 두께를 측정하는 공정을 추가로 포함하는 광학 필름의 제조 방법.
  10. 제 8 항 또는 제 9 항에 있어서,
    상기 광학 필름이, 경화성 조성물의 경화물층으로 이루어지는 접착제층을 개재하여, 편광자의 적어도 일방의 면에 투명 보호 필름이 적층된 편광 필름인 광학 필름의 제조 방법으로서,
    상기 편광자 및 상기 투명 보호 필름의 적어도 일방의 면에 상기 경화성 조성물을 도공하는 도공 공정과,
    상기 편광자 및 상기 투명 보호 필름을 첩합하는 첩합 공정과,
    상기 경화성 조성물을 경화시킴으로써 얻어진 상기 접착제층을 개재하여, 상기 편광자 및 상기 투명 보호 필름을 접착시키는 접착 공정을 포함하고,
    상기 접착 공정 후, 상기 접착제층의 두께를 측정하는 공정을 추가로 포함하는 광학 필름의 제조 방법.
  11. 제 10 항에 있어서,
    상기 도공 공정 후 또는 상기 첩합 공정 후, 경화 전의 상기 경화성 조성물의 두께를 측정하는 공정을 추가로 포함하는 광학 필름의 제조 방법.
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