KR20180017249A - 마사지 크림용 제올라이트 화장료 조성물 및 이의 제조 방법 - Google Patents

마사지 크림용 제올라이트 화장료 조성물 및 이의 제조 방법 Download PDF

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Abstract

마사지 크림용 제올라이트 화장료 조성물 및 이의 제조 방법에 관한 것으로, 더욱 상세하게는 Si/Ge 비가 5.0 내지 6.0인 게르마늄실리케이트 제올라이트, 장석, 및 석영으로 이루어진 세라믹 분말을 감마선 처리하여 사용함으로서, 내부 세공의 미생물을 제거하고 pH를 낮춰 피부자극성이 거의 없으며 피부노폐물 흡착 성능이 뛰어난, 마사지 크림용 게르마늄실리케이트 제올라이트 화장료 조성물 및 이의 제조 방법이 제공된다.

Description

마사지 크림용 제올라이트 화장료 조성물 및 이의 제조 방법 {COSMETIC COMPOSITION FOR MASSAGE CREAM AND ITS PREPARING METHOD}
본 발명은 마사지 크림용 제올라이트 화장료 조성물 및 이의 제조 방법에 관한 것으로, 더욱 상세하게는 특정 Si/Ge비를 갖는 게르마늄실리케이트 제올라이트, 장석, 및 석영으로 이루어진 세라믹 분말을 감마선 처리하여 사용함으로써, 세공 용적을 높여 흡착 표면적을 높이고, 내부 세공의 미생물을 제거하고 pH를 낮춰 피부자극성이 거의 없으며 수분공급 성능이 뛰어난, 마사지 크림용 게르마늄실리케이트 제올라이트 화장료 조성물 및 이의 제조 방법에 관한 것이다.
피부 마사지는 손으로 피부를 문지르거나 쓰다듬어 피부의 신진대사와 혈액순환을 활달하게 하는 것이며, 마사지시에는 피부온도가 높아지면서 모공이 열리게 되므로 모공속의 오래된 미세머지, 피지 노폐물, 또는 노화된 각질세포를 제거하여 청결한 피부로 만들어 주고 피부를 유연하게 하여 피부 거칠어짐을 방지하여 준다.
제올라이트 등의 세공성 토양구성광물을 흡착제로 사용하여 모공속의 미세먼지, 피지, 노폐물 등을 제거하기 위한 화장료 조성물이 종래 개발된 바 있다. 특히, 대한민국 공개특허 제10-2016-0030615호에는 초미세먼지 차단용 기능성 크림이 개시되어 있다. 상기 공개특허는 맥반석, 제올라이트, 일라이트, 버미큘라이트 중 어느 1종 이상으로 선택되는 팽창성 광물입자를 포함하는 기능성 크림을 개시하고 있는데, 맥반석, 제올라이트, 일라이트, 버미큘라이트 등의 토양구성광물은 세공을 가져 흡착제로 이용가치가 있지만, 그 세공에는 수분함량이 높고 미생물이 존재할 가능성이 높아 화장료 조성물의 재료로 사용하기에는 부적합하다. 또한 이들 토양구성광물은 약한 알칼리성을 띄고 있어 피부에 오래 적용해 있을 때 오히려 피부자극을 유발할 가능성이 있다.
대한민국 공개특허 제10-2016-0030615호
따라서 이러한 문제점을 해결하기 위한 본 발명의 첫 번째 목적은 특정 Si/Ge비를 갖는 게르마늄실리케이트 제올라이트, 장석, 및 석영으로 이루어진 세라믹 분말을 감마선 처리하여 사용함으로써, 세공 용적을 높여 흡착 표면적을 높이고, 내부 세공의 미생물을 제거하고 pH를 낮춰 피부자극성이 없이 피부노폐물 흡착 성능을 향상시킬 수 있는, 마사지 크림용 게르마늄실리케이트 제올라이트 화장료 조성물을 제공하는 것이다.
또한 두 번째 목적은 상기 마사지 크림용 게르마늄실리케이트 제올라이트 화장료 조성물의 제조 방법을 제공하는 것이다.
그러나, 본 발명이 해결하고자 하는 과제는 이상에서 언급한 과제로 제한되지 않으며, 언급되지 않은 또 다른 과제들은 아래의 기재로부터 당업자에게 명확하게 이해될 수 있을 것이다.
상기 첫 번째 목적을 달성하기 위하여 본 발명은 부피 가중평균직경이 0.1 내지 10 인 세라믹 분말 3 내지 10 중량부 및 화장품 원료 90 내지 97 중량부를 포함하며, 상기 세라믹 분말은 Si/Ge 비가 5.0 내지 6.0인 게르마늄실리케이트 제올라이트, 장석, 및 석영으로 이루어진 것으로서, 감마선을 조사하여 처리된 것인 마사지 크림용 화장료 조성물을 제공한다.
상기 세라믹 분말은 미생물 함량이 약 0 CFU/g 내지 약 50 CFU/g인 것일 수 있다.
상기 세라믹 분말은 pH가 약 7 내지 약 7.2인 것일 수 있다.
상기 세라믹 분말은 수분함량이 약 5 % 내지 약 15 %인 것일 수 있다.
상기 두 번째 목적을 달성하기 위하여 본 발명은, 세라믹 파쇄물에 감마선을 조사하는 제 1 단계, 감마선이 조사된 세라믹 파쇄물을 부피 가중평균직경이 약 0.1 내지 약 10 가 되게 분쇄하여 세라믹 분말을 제조하는 제 2 단계, 및 상기 세라믹 분말 약 3 중량부 내지 약 10 중량부를 화장품 원료 약 90 중량부 내지 약 97 중량부와 혼합하는 제 3 단계를 포함하며, 상기 세라믹 분말은 Si/Ge 비가 5.0 내지 6.0인 게르마늄실리케이트 제올라이트, 장석, 및 석영으로 이루어진 것인, 마사지 크림용 게르마늄실리케이트 제올라이트 화장료 조성물의 제조 방법을 제공한다.
상기 제 1 단계는 세라믹 파쇄물에 흡수선량 기준으로 약 1 k 내지 약 50 k의 감마선을 조사하는 것을 포함하는 것일 수 있다.
본 발명의 마사지 크림용 게르마늄실리케이트 제올라이트 화장료 조성물은, 세공성이 우수한 게르마늄실리케이트 제올라이트를 함유함에 따라 피지, 미세먼지 등의 피부 노폐물의 제거가 용이할 뿐만 아니라, 항균 및 보습 기능이 우수하다.
아래에서는 첨부한 도면을 참조하여 본 발명이 속하는 기술분야에서 통상의 지식을 가진 자가 용이하게 실시할 수 있도록 본 발명의 실시예를 상세히 설명한다. 그러나 본 발명은 여러 가지 상이한 형태로 구현될 수 있으며 여기에서 설명하는 실시예에 한정되지 않는다. 그리고 도면에서 본 발명을 명확하게 설명하기 위해서 설명과 관계없는 부분은 생략하였으며, 명세서 전체를 통하여 유사한 부분에 대해서는 유사한 도면 부호를 붙였다.
본 발명의 명세서 및 청구범위에 사용된 용어 또는 단어는 통상적이거나 사전적인 의미로 한정 해석되지 아니하며, 발명자는 그 자신의 발명을 가장 최선의 방법으로 설명하기 위해 용어의 개념을 적절하게 정의할 수 있다는 원칙에 입각하여 본 발명의 기술적 사상에 부합하는 의미와 개념으로 해석되어야만 한다.
본 발명의 명세서 전체에 있어서, 어떤 부분이 어떤 구성 요소를 "포함" 한다고 할 때, 이는 특별히 반대되는 기재가 없는 한 다른 구성 요소를 제외하는 것이 아니라 다른 구성 요소를 더 포함할 수 있는 것을 의미한다.
본 발명의 명세서 전체에 있어서, "A 및/또는 B"는, A 또는 B, 또는 A 및 B를 의미한다.
이하, 첨부된 도면을 참조하여 본 발명을 구체적으로 설명하였으나, 본 발명이 이에 제한되는 것은 아니다.
본 발명은 부피 가중평균직경이 약 0.1 내지 약 10 인 세라믹 분말 약 3 중량부 내지 약 10 중량부 및 화장품 원료 약 90 중량부 내지 약 97 중량부를 포함하는, 마사지 크림용 게르마늄실리케이트 제올라이트 화장료 조성물을 제공한다.
본 발명의 일 구현예에 있어서, 상기 세라믹 분말은 감마선을 조사하여 처리된 것일 수 있다. 상기 감마선은 특별히 제한되지 않으나, 60Co 또는 137Cs에서 방출되는 감마선일 수 있으나, 이에 제한되지 않을 수 있다. 상기 세라믹 분말은 60Co 또는 137Cs에서 방출되는 감마선을 흡수선량 기준으로 약 1 k 내지 약 50 k로 조사하여 처리된 것일 수 있다. 세라믹 분말의 감마선 흡수선량은, 예를 들어, 약 1 k 내지 약 50 k, 약 1 k 내지 약 40 k, 약 1 k 내지 약 30 k, 약 1 k 내지 약 20 k, 약 1 k 내지 약 10 k, 약 10 k 내지 약 50 k, 약 20 k 내지 약 50 k, 약 30 k 내지 약 50 k, 약 40 k 내지 약 50 k, 또는 약 10 k 내지 약 30 k일 수 있다. 감마선 처리 시간은, 예를 들어, 약 10 분 내지 약 120 분일 수 있으나, 이에 제한되지 않을 수 있다.
상기 세라믹 분말은 규소와 게르마늄의 비율인 Si/Ge 비가 5.0 내지 6.0, 바람직하게는 5.3 내지 5.5인 게르마늄실리케이트 제올라이트, 장석, 및 석영으로 이루어진 것일 수 있다. 상기 게르마늄실리케이트 제올라이트의 Si/Ge 비가 5.0 미만이면 세공의 크기가 너무 작은 미세세공의 비율이 높아져 먼지, 피지, 또는 각질 등이 세공 입구를 통과하지 못할 가능성이 커지고, 6.0 초과이면 중형세공의 비율이 너무 높아져 전체 표면적이 감소함으로써 흡착 면적이 감소로 인해 마사지 크림용 화장료 조성물의 피부 노폐물 제거 성능이 떨어질 수 있다.
상기 세라믹 분말은 미생물 함량이 약 0 CFU/g 내지 약 50 CFU/g인 것일 수 있다. 화장료 조성물에 사용하기 위한 세라믹 분말은 100 CFU/g 이하로 미생물을 포함하는 것이 적합하다. 세라믹 분말에 포함된 장석, 석영 등은 미생물 함량이 높아 화장료 조성물의 재료로 부적합할 수 있으며, 이러한 미생물로 인해 게르마늄실리케이트 제올라이트의 세공이 막혀 흡착력과 직결되는 게르마늄실리케이트 제올라이트의 표면적이 감소할 수 있다. 본 발명을 위해서는 세라믹 분말은 감마선 처리하여 미생물 함량을 저하시킨 것을 사용하는 것이 바람직하다. 전술한 조건의 감마선 처리에 의해 세라믹 분말의 미생물 저하 효과를 구현할 수 있게 된다.
상기 세라믹 분말은 pH가 약 7 내지 약 7.2인 것일 수 있다. 상기 세라믹 분말은 감마선 처리에 의해서 pH가 저하된 것일 수 있다.
상기 세라믹 분말은 총 중량 기준으로, 게르마늄실리케이트 제올라이트 약 40 중량% 내지 약 75 중량%, 장석 약 10 중량% 내지 약 30 중량%, 및 석영 약 15 중량% 내지 약 30 중량%로 이루어진 것일 수 있다.
상기 세라믹 분말은, 상기 장석 외에 장석이 변질되어 생성된 점토광물인 스멕타이트 (smectite)를 포함할 수도 있다.
상기 세라믹 분말은, 상기 석영 외에 오팔을 포함할 수도 있다.
상기 세라믹 분말은 화장품 원료와 혼합되기 전의 수분함량이 약 5 % 내지 약 15 %인 것이 바람직하다. 상기 세라믹 분말은 세공을 가져 물을 흡수하는 성질을 가지는데, 화장품 원료와 혼합되면 물을 흡수하여 세공에 물을 머금은 상태가 될 수 있다. 화장품 원료와 혼합되어 세공에 물을 머금은 상태의 세라믹 분말은 피부에 적용하여 롤링하게 되면 세공에서 피부로 물을 내놓고, 피부에 존재하는 미세먼지, 피지, 또는 각질을 세공이 흡착하게 된다.
상기 화장품 원료는 정제수, 유지성분, 보습제, 에몰리엔트제, 계면활성제, 킬레이팅제, 안료, 자외선흡수제, 방부제, 살균제, 산화방지제, pH 조절제, 알코올, 및 향료루 이루어진 군으로부터 선택된 하나 이상을 포함할 수 있으나, 이에 제한되지 않을 수 있다.
아울러, 본 발명은, 세라믹 파쇄물에 감마선을 조사하는 제 1 단계, 감마선이 조사된 세라믹 파쇄물을 부피 가중평균직경이 약 0.1 내지 약 10 가 되게 분쇄하여 세라믹 분말을 제조하는 제 2 단계, 및 상기 세라믹 분말 약 3 중량부 내지 약 10 중량부를 화장품 원료 약 90 중량부 내지 약 97 중량부와 혼합하는 제 3 단계를 포함하는, 마사지 크림용 게르마늄실리케이트 제올라이트 화장료 조성물의 제조 방법을 제공한다.
상기 제 1 단계는 세라믹 파쇄물에 흡수선량 기준으로 약 1 k 내지 약 50 k의 감마선을 조사하는 것을 포함하는 것일 수 있다.
제 1 단계는 60Co 또는 137Cs에서 방출되는 감마선을 조사하여 수행될 수 있으나, 이에 제한되지 않을 수 있다. 상기 세라믹 분말의 감마선 흡수선량은, 예를 들어, 약 1 k 내지 약 50 k, 약 1 k 내지 약 40 k, 약 1 k 내지 약 30 k, 약 1 k 내지 약 20 k, 약 1 k 내지 약 10 k, 약 10 k 내지 약 50 k, 약 20 k 내지 약 50 k, 약 30 k 내지 약 50 k, 약 40 k 내지 약 50 k, 또는 약 10 k 내지 약 30 k일 수 있다. 감마선 처리 시간은, 예를 들어, 약 10 분 내지 약 120 분일 수 있으나, 이에 제한되지 않을 수 있다.
상기 세라믹 분말은 Si/Ge 비가 5.0 내지 6.0인 게르마늄실리케이트 제올라이트, 장석, 및 석영으로 이루어진 것일 수 있다.
이하, 본원에 대하여 실시예를 이용하여 좀더 구체적으로 설명하지만, 하기 실시예는 본원의 이해를 돕기 위하여 예시하는 것일 뿐, 본원의 내용이 하기 실시예에 한정되는 것은 아니다.
< 실시예 및 비교예의 제조 >
실시예 및 비교예: 마사지 크림용 화장료 조성물 제조
Si/Ge 비를 달리하는(각각 5.3, 4.5, 6.4) 게르마늄실리케이트 제올라이트 60 중량%, 장석 20 중량%, 및 석영 20 중량%로 이루어진 세라믹 파쇄물에 60Co를 이용하여 시간당 30 k의 감마선을 30분 동안 조사하여 감마선 처리된 세라믹 파쇄물을 제조하였다.
감마선 처리된 세라믹 파쇄물은 해머밀을 사용하여 분쇄하여 7.7 의 부피 가중평균직경을 갖는 세라믹 분말을 제조하고, 하기 표 1에 나타낸 조성에 따라 실시예 1 내지 3 및 비교예 1 내지 2의, 7.7 의 부피 가중평균직경을 갖는 세라믹 분말을 포함하는 마사지 크림용 게르마늄실리케이트 제올라이트 화장료 조성물을 제조하였다.
성분 실시예 1 실시예 2 실시예 3 비교예 1 비교예 2
정제수 64.05 68.55 61.55 64.05 64.05
글리세린 6.0 6.0 6.0 6.0 6.0
부틸렌글리콜 3.9 3.9 3.9 3.9 3.9
세라믹 분말 7.5 3 10 7.5 7.5
게르마늄실리케이트 제올라이트의 Si/Ge 비 5.3 5.3 5.3 4.5 6.4
호호바씨 오일 2.4 2.4 2.4 2.4 2.4
세틸에틸헥사노에이트 2.5 2.5 2.5 2.5 2.5
소르비탄 스테아레이트 2.3 2.3 2.3 2.3 2.3
pH조절제 0.1 0.1 0.1 0.1 0.1
페녹시에탄올 1.0 1.0 1.0 1.0 1.0
스테아릭에씨드 0.9 0.9 0.9 0.9 0.9
컨디셔닝제 1.0 1.0 1.0 1.0 1.0
사이클로펜타실록산 1.0 1.0 1.0 1.0 1.0
폴리소르베?域? 60 0.9 0.9 0.9 0.9 0.9
에틸헥실글리세린 1.0 1.0 1.0 1.0 1.0
방부제 0.05 0.05 0.05 0.05 0.05
향료 0.1 0.1 0.1 0.1 0.1
합 100 100 100 100 100
<배합과정>
온도조절, 교반, 호모 공정이 가능한 진공 유화 교반조에 정제수를 투입하여 70 내지 90로 가온한 후, 여기에 글리세린, 부틸렌글리콜, 세틸에틸헥사노에이트를 첨가하고 세라믹 분말을 투입하여 균일화하여 세라믹 분말상을 제조하였다. 여기에 소르비탄 스테아레이트를 투입하면서 동시에 10 rpm 내지 40 rpm의 패들 믹서 및 호모 믹서를 이용하여 2,500 rpm 내지 3,500 rpm의 회전속도로 교반을 유지한 상태에서, 별도로 정제수에 용해시켜둔 pH조절제 (포타슘하이드록사이드)를 투입하여 pH가 9 내지 10이 되게 반응시켰다. pH가 안정화되면 35까지 냉각시키고, 호호바오일, 스테아릭에씨드, 컨디셔닝제, 폴리소르베이트60, 방부제를 순차적으로 각각 투입하여 균일화하였다. 여기에, 향료를 투입하여 마사지 크림용 게르마늄실리케이트 제올라이트 화장료 조성물을 제조하였다.
실험예 1: pH 측정
실시예 1에 사용된 세라믹 분말의 pH를, KS I ISO 10390:2005에 의거하여 측정하였으며, 그 결과는 하기 표 2에 나타내었다. pH는 감마선 처리 전후의 세라믹 분말에 대해 각각 측정되었다.
pH
감마선 처리 전 7.87
감마선 처리 후 7.12
표 2를 참조하면, 감마선 처리 후 세라믹 분말의 pH가 약 10% 정도 감소하였음을 알 수 있다. 감마선 처리에 의해 세라믹 분말의 pH 가 감소함에 따라, 물의 pH에 가까운 중성상태를 갖게 된 것으로 확인이 되며, 이에 따라, 피부자극성이 저감되어, 3 중량% (즉, 3 만 ppm) 이상 많은 양의 세라믹 분말을 사용하여도 피부자극이 거의 없다.
실험예 2: 미생물 함량 측정
실시예 1에 사용된 세라믹 분말의 세공 내부에 존재하는 미생물의 함량을 측정하기 위하여 미생물 집락수 측정 시험을 실시였으며, 그 결과는 하기 표 3에 나타내었다. 미생물 집락수 측정 시험에 앞서 감마선 처리 전후의 세라믹 분말 10 g을 25℃에서 채취하여 검체로 사용하였다. 각각의 검체 10 g을 증류수 100 ml로 희석하여 검체 희석액을 제조한 후, 제조된 검체 희석액 0.1 ml 를 TSA (trypticase soy agar) 고체배지를 포함하는 패트리디쉬에 접종하고 32.52.5의 배양온도에서 5일 동안 배양하였다 (도말평판법). 표 3에서 TNTC 는 too numerous to count의 약자로 집락이 너무 많아 셀 수 없는 정도를 의미한다. 화장료 조성물에 적용하기 위한 적합/부적합 판정의 기준은 100 CFU/g으로, g당 집락형성단위가 100 CFU/g 이하일 경우를 적합으로 판정하고, g당 집락형성단위가 100 CFU/g을 초과할 경우를 부적합으로 판정하였다.
검체 구분 결과 (CFU/g) 판정
세균 진균
검체 1 감마선 처리 전 세라믹 분말 TNTC TNTC 부적합
검체 2 감마선 처리 전 세라믹 분말 TNTC TNTC 부적합
검체 3 감마선 처리 전 세라믹 분말 TNTC TNTC 부적합
검체 4 감마선 처리 후 세라믹 분말 40 10 적합
검체 5 감마선 처리 후 세라믹 분말 40 0 적합
검체 6 감마선 처리 후 세라믹 분말 10 0 적합
검체 7 감마선 처리 후 세라믹 분말 0 30 적합
검체 8 감마선 처리 후 세라믹 분말 0 0 적합
검체 9 감마선 처리 후 세라믹 분말 0 0 적합
표 3을 참조하면, 실시예에 사용된 세라믹 분말의 세공 내부에 존재하는 미생물의 함량은 감마선 처리 전후에 큰 차이를 보였다. 감마선 처리 후 세라믹 분말의 g당 집락형성단위는 현저히 감소하였으며, 감마선 처리에 의해 대략적으로 g당 집락형성단위가 50 CFU/g 이하로 확인되었고, 감마선 처리에 의해 세라믹 분말의 세공 내부가 깨끗이 정리되었음을 알 수 있다.
실험예 3: 은나노분말 흡착 성능 측정
실시예 1, 비교예 1 및 비교예 2에 사용된 세라믹 분말의 피부 각질, 먼지 등의 흡착 성능을 측정하기 위하여, 은나노분말을 5g을 정제수에 분산시키고 원자흡수분광법에 의해 농도(A)를 측정한 후에, 여기에 정제수 중량대비 10%의 세라믹 분말을 첨가하고 20분간 교반한 후에 다시 농도(B)를 측정하여, 그 결과를 하기 표 4에 나타내었다.
실시예 1 비교예 1 비교예 2
흡착도((B)/(A)) 0.48 0.82 0.73
표 4를 참조하면, 실시예 1에 사용된 세라믹 분말의 경우 흡착도가 0.48로서 세라믹 분말에 의한 흡착 전후에 농도가 큰 차이를 보이고 있는데 비하여, 비교예 1 및 비교예 2의 경우 각각 0.82, 0.73으로서 실시예 1에 비하여 흡착 전후의 농도 변화가 현저히 작은 것을 알 수 있다.
전술한 바와 같이, 본 발명의 설명은 예시를 위한 것이며, 본 발명이 속하는 기술분야의 통상의 기술을 가진 자는 본 발명의 기술적 사상이나 필수적인 특징을 변경하지 않고서 다른 구체적인 형태로 쉽게 변형이 가능하다는 것을 이해할 수 있을 것이다. 그러므로, 이상에서 기술한 실시예들은 모든 면에서 예시적인 것이며, 한정적이 아닌 것으로 이해해야만 한다. 예를 들어, 단일형으로 설명되어 있는 각 구성 요소는 분산되어 실시될 수도 있으며, 마찬가지로 분산된 것으로 설명되어 있는 구성 요소들도 결합된 형태로 실시될 수 있다.
본 발명의 범위는 상기 상세한 설명보다는 후술하는 특허청구범위에 의하여 나타내어지며, 특허청구범위의 의미 및 범위 그리고 그 균등 개념으로부터 도출되는 모든 변경 또는 변형된 형태가 본 발명의 범위에 포함되는 것으로 해석되어야 한다.

Claims (6)

  1. 부피 가중평균직경이 0.1 내지 10 인 세라믹 분말 3 내지 10 중량부 및 화장품 원료 90 내지 97 중량부를 포함하는, 마사지 크림용 게르마늄실리케이트 제올라이트 화장료 조성물에 있어서,
    상기 세라믹 분말은 Si/Ge 비가 5.0 내지 6.0인 게르마늄실리케이트 제올라이트, 장석, 및 석영으로 이루어진 것으로서, 감마선을 조사하여 처리된 것임을 특징으로 하는 마사지 크림용 게르마늄실리케이트 제올라이트 화장료 조성물.
  2. 제 1 항에 있어서,
    상기 세라믹 분말은 미생물 함량이 0 내지 50 CFU/g인 것임을 특징으로 하는 마사지 크림용 게르마늄실리케이트 제올라이트 화장료 조성물.
  3. 제 1 항에 있어서,
    상기 세라믹 분말은 pH가 7 내지 7.2인 것임을 특징으로 하는 마사지 크림용 게르마늄실리케이트 제올라이트 화장료 조성물.
  4. 제 1 항에 있어서,
    상기 세라믹 분말은 수분함량이 5 내지 15 %인 것임을 특징으로 하는 마사지 크림용 게르마늄실리케이트 제올라이트 화장료 조성물.
  5. 세라믹 파쇄물에 감마선을 조사하는 제 1 단계;
    감마선이 조사된 세라믹 파쇄물을 부피 가중평균직경이 0.1 내지 10 가 되게 분쇄하여 세라믹 분말을 제조하는 제 2 단계; 및
    상기 세라믹 분말 3 내지 10 중량부를 화장품 원료 90 내지 97 중량부와 혼합하는 네 3 단계
    를 포함하며,
    상기 세라믹 분말은 Si/Ge 비가 5.0 내지 6.0인 게르마늄실리케이트 제올라이트, 장석, 및 석영으로 이루어진 것인, 마사지 크림용 게르마늄실리케이트 제올라이트 화장료 조성물의 제조 방법.
  6. 제 5 항에 있어서,
    상기 제 1 단계는 세라믹 파쇄물에 흡수선량 기준으로 1 내지 50 k의 감마선을 조사하는 것을 포함하는 것인, 마사지 크림용 게르마늄실리케이트 제올라이트 화장료 조성물의 제조 방법.
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KR102611063B1 (ko) 2023-09-15 2023-12-07 김유진 마사지용 크림 조성물 및 이의 제조방법.

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