KR20180011371A

KR20180011371A - Optical lens

Info

Publication number: KR20180011371A
Application number: KR1020160092389A
Authority: KR
Inventors: 김정수
Original assignee: 크리스탈광학(주)
Priority date: 2016-07-21
Filing date: 2016-07-21
Publication date: 2018-02-01

Abstract

The present invention relates to an optical lens capable of securing the view of a user without disharmony, and having a viewable pattern from the outer side, thereby being preferable for a spectacle. The optical lens comprises: a lens basic material (11); an anti-reflective layer (15) disposed by covering the side of one circumference surface of the lens basic material (11); and a transparent pattern (19a) being composed of a photo transmittance material provided in a laminated position on the anti-reflective layer (15). In the optical lens (1a), the transparent pattern (19a) is visible from the circumference surface of the lens basic material (11). The anti-reflective layer (15) has a composition in which a low refractive index layer (15a) and a high refractive index layer (15b) are alternatively laminated. The transparent pattern (19a) is provided between the layers of the anti-reflective layer (15), and on either side of an upper part and a lower part of the anti-reflective layer.

Description

광학렌즈{OPTICAL LENS}Optical lens {OPTICAL LENS}

본 발명은 광학렌즈에 관한 것이고, 특히 안경용의 렌즈로서 바람직한 것으로, 예를 들면 안경의 장착자의 시계(視界)를 방해하지 않고 외측으로부터 시인(視認) 가능한 패턴을 구비한 광학렌즈에 관한 것이다.The present invention relates to an optical lens and, more particularly, to an optical lens having a pattern that can be seen from the outside without interfering with the visual field of a wearer of a spectacle.

안경용의 렌즈는 렌즈기재(基材)의 표면을 덮는 여러 가지 막을 구비하고 있다. 예를 들면, 렌즈기재에 대해서 손상이 생기는 것을 방지하기 위한 하드 코트(hard coat)막, 렌즈면에서의 광반사를 방지하기 위한 반사방지막, 또한 렌즈의 워터 스포팅(water spotting)을 방지하기 위한 발수막(撥水膜) 등이다. 그 밖에도, 눈에The lens for spectacles has various films covering the surface of the lens base material. For example, a hard coat film for preventing damage to the lens substrate, an antireflection film for preventing reflection of light on the lens surface, and a water repellent film for preventing water spotting of the lens (Water-repellent film). In addition,

입사(入射)하는 광량을 억제하기 위한 막으로서, 렌즈의 전체 면에 반투과성 박막을 도트(dot) 모양으로 코팅하며, 이 상부를 반사방지막으로 덮는 구성이 제안되어 있다(예를 들면 하기 특허문헌 1 참조).As a film for suppressing the amount of incident light, a configuration has been proposed in which a semipermeable thin film is coated on the entire surface of the lens in the form of a dot and the upper portion is covered with an antireflection film (see, for example, Patent Document 1 Reference).

또 근래에는, 패션성이 높은 안경용의 렌즈로서, 경량이고 염색성이 뛰어난 플라스틱 렌즈가 바람직하게 이용되고 있으며, 또한 의장성을 높이는 목적으로, 잉크젯법을 적용한 착색도료(着色塗料)의 도포에 의해 렌즈에 무늬를 형성하는 구성도 제안되어 있다(예를 들면 하기 특허문헌 2 참조).In recent years, a plastic lens having a high fashionability and being light in weight and excellent in dyeability is preferably used as a lens for spectacles. In addition, for the purpose of enhancing designability, by applying a coloring paint (colored paint) (For example, see Patent Document 2 below).

그렇지만, 예를 들면 의장성을 높이는 목적으로 렌즈에 무늬를 형성하는 경우에 있어서, 상술과 같은 렌즈에 대해서 단지 착색도료를 도포한 구성에서는, 안경의 장착자에게도 착색도료에 의한 무늬가 시인된다. 이 때문에, 이와 같은 구성은, 안경의 장착자에게 번거로움을 느끼게 하는 것뿐만 아니라, 장착자의 시계를 해치는 요인도된다. 그래서 본 발명은 장착자의 시계를 위화감 없이 확보하는 것이 가능하면서도, 외측으로부터 시인 가능한 패턴을 구비한 광학렌즈를 제공하는 것을 목적으로 한다.However, for example, in the case of forming a pattern on a lens for the purpose of enhancing designability, in a structure in which only the coloring paint is applied to the above-mentioned lens, the pattern of the coloring paint is also visually observed to the wearer of the glasses. For this reason, such a configuration not only makes the wearer of the eyeglasses feel troublesome, but also causes a harm to the wearer's watch. SUMMARY OF THE INVENTION It is therefore an object of the present invention to provide an optical lens having a visually recognizable pattern that can secure a wearer's watch without discomfort.

이와 같은 목적을 달성하기 위한 본 발명의 광학렌즈는, 렌즈기재와, 이 렌즈기재의 일주면(一主面) 측을 덮는 반사방지막과, 이 반사방지막에 적층하는 위치에 마련된 광투과성 재료로 이루어지는 투명패턴을 구비하고 있다. 반사방지막은 굴절률이 다른 재료막을 적층시킨 구성을 가지고 있다. 투명패턴은 반사방지막의 층 사이에 마련되어 있어도 되고, 당해 반사방지막의 상부 또는 하부 중 어느 한쪽에 마련되어 있어도 되며, 렌즈기재의 일주면 측으로부터 투명패턴이 시인되는 것을 특징으로 하고 있다.According to an aspect of the present invention, there is provided an optical lens comprising a lens base material, an antireflection film covering a main surface side of the lens base material, and a light transmitting material provided at a position to be laminated on the antireflection film And has a transparent pattern. The antireflection film has a constitution in which a material film having a different refractive index is laminated. The transparent pattern may be provided between the layers of the antireflection film, or may be provided on either the upper or lower part of the antireflection film, and a transparent pattern is visible from the side of the principal surface of the lens substrate.

이와 같은 구성의 광학렌즈는, 다층 구조의 반사방지막에 대해서 투명패턴을 적층시킨 것에 의해, 투명패턴의 배치 부분과 그 이외의 부분에서 반사방지막 측으로부터 렌즈에 입사한 광의 광반사 특성이 다른 것이 된다. 이것에 의해, 반사방지막 측으로부터 렌즈를 보았을 경우에는, 반사방지막에서의 반사방지 기능이 유지되면서도, 상술한 광반사 특성의 차이로서 투명패턴이 시인된다. 한편, 반사방지막과는 반대 측의 지근(至近) 거리로부터는 투명패턴이 용이하게 시인되지 않는다.The optical lens having such a structure is different from the optical reflection characteristic of the light incident on the lens from the antireflection film side in the arrangement portion of the transparent pattern and the other portion by making the transparent pattern laminated to the antireflection film of the multilayer structure . Thus, when the lens is viewed from the antireflection film side, the antireflection function in the antireflection film is maintained, and the transparent pattern is visually recognized as the difference in the light reflection characteristics. On the other hand, the transparent pattern is not readily visible from the nearest distance on the opposite side of the antireflection film.

또 상술의 투명패턴은 렌즈기재와 반사방지막과의 사이에 마련되어 있는 것이 바람직하다. 이것에 의해, 반사방지막에서의 층 구조의 연속성을 해치는 일 없이, 렌즈기재의 일주면 측의 표면을 반사방지막에 의해서 고르게 덮은 통상의 구성으로 할 수 있다.The above-mentioned transparent pattern is preferably provided between the lens substrate and the antireflection film. This makes it possible to obtain a normal structure in which the surface of the lens substrate on the side of the main surface is evenly covered with the antireflection film without damaging the continuity of the layer structure in the antireflection film.

또한 이와 동일한 구성에 있어서, 투명패턴은 당해 투명패턴을 사이에 두고 배치되는 각 층의 굴절률보다도 높은 굴절률을 가지는 것이 바람직하다. 이와 동일한 구성에 의해, 투명패턴이 박막의 단층 구조라도, 반사방지막측에서 보았을 경우의 투명패턴의 시인성의 향상이 도모된다.Further, in the same constitution, it is preferable that the transparent pattern has a refractive index higher than the refractive index of each layer disposed therebetween. By the same structure, the visibility of the transparent pattern can be improved when viewed from the antireflection film side even if the transparent pattern has a single-layer structure of a thin film.

이상 설명한 바와 같이 본 발명에 의하면, 장착자의 시계를 위화감 없이 확보하는 것이 가능하면서도, 외측으로부터 시인 가능한 패턴을 구비한 안경용에 바람직한 광학렌즈를 제공하는 것이 가능하게 된다.As described above, according to the present invention, it is possible to provide an optical lens which is suitable for a spectacle having a pattern that can be visually recognized from the outside, while ensuring that the wearer's watch is comfortable without discomfort.

도 1은 제1 실시형태의 광학렌즈의 구성을 나타내는 평면도 및 단면도이다.
도 2는 제1 실시형태의 광학렌즈의 제조순서를 나타내는 제조공정도(그 1)이다.
도 3은 제1 실시형태의 광학렌즈의 제조순서를 나타내는 제조공정도(그 2)이다.
도 4는 제1 실시형태의 광학렌즈의 제조순서를 나타내는 제조공정도(그 3)이다.
도 5는 제2 실시형태의 광학렌즈의 구성을 나타내는 평면도 및 단면도이다.
도 6은 제3 실시형태의 광학렌즈의 구성을 나타내는 평면도 및 단면도이다.
도 7은 제3 실시형태의 광학렌즈의 제조순서를 나타내는 제조공정도(그 1)이다.
도 8은 제3 실시형태의 광학렌즈의 제조순서를 나타내는 제조공정도(그 2)이다.1 is a plan view and a cross-sectional view showing the configuration of the optical lens of the first embodiment.
Fig. 2 is a manufacturing process (No. 1) showing the manufacturing procedure of the optical lens of the first embodiment. Fig.
3 is a manufacturing process diagram (No. 2) showing the manufacturing procedure of the optical lens of the first embodiment.
4 is a manufacturing process diagram (No. 3) showing a manufacturing procedure of the optical lens of the first embodiment.
5 is a plan view and a cross-sectional view showing the configuration of the optical lens of the second embodiment.
6 is a plan view and a cross-sectional view showing the configuration of the optical lens of the third embodiment.
Fig. 7 is a manufacturing process diagram (1) showing a manufacturing procedure of the optical lens of the third embodiment. Fig.
8 is a manufacturing process diagram (No. 2) showing a manufacturing procedure of the optical lens of the third embodiment.

이하, 본 발명의 실시형태를, 도면에 근거하여 다음에 나타내는 순서로 설명한다.Hereinafter, embodiments of the present invention will be described in the following order based on the drawings.

1. 제1 실시형태(반사방지막과 렌즈기재와의 사이에 섬 모양의 투명패턴을 마련한 예)1. First Embodiment (Example in which an island-shaped transparent pattern is provided between the antireflection film and the lens substrate)

2. 제2 실시형태(반사방지막과 렌즈기재와의 사이에 개구부를 가지는 투명패턴을 마련한 예)2. Second Embodiment (Example of Providing a Transparent Pattern Having Openings Between Antireflection Film and Lens Base)

3. 제3 실시형태(반사방지막의 상부에 섬 모양의 투명패턴을 마련한 예)3. Third Embodiment (Example in which an island-like transparent pattern is provided on the upper part of the antireflection film)

또한, 각 실시형태에 대해 공통의 구성요소에는 동일한 부호를 부여하고, 중복하는 설명은 생략한다.The same reference numerals are given to the common components in the respective embodiments, and redundant explanations are omitted.

≪1. 제1 실시형태≫«1. First Embodiment >

<제1 실시형태의 광학렌즈의 구성>&Lt; Configuration of Optical Lens of First Embodiment >

도 1은 제1 실시형태의 광학렌즈의 구성을 설명하기 위한 평면도(도 1의 (A))와, 당해 평면도에서의 a-a'단면도(도 1의 (B))이다. 이들 도면에 나타내는 제1 실시형태의 광학렌즈(1a)는, 예를 들면 안경용의 광학렌즈에 바람직하게 이용되는 것으로서, 다음과 같이 구성되어 있다. 즉 광학렌즈(1a)는 렌즈기재(11)의 일주면상에 하드 코트막(13), 반사방지막(15) [0021] 및 발수막(17)을 이 순서로 적층시키고 있다. 또 특히 본 제1 실시형태의 광학렌즈(1a)는 렌즈기재(11)상에서의 하드코트막(13)과 반사방지막(15)과의 사이에, 섬 모양의 투명패턴(19a)을 구비하고 있는 것이 특징적이다. 이하, 광학렌즈(1a)를 구성하는 각 부재의 상세한 내용구성을, 렌즈기재(11) 측으로부터 순서대로 설명한다.Fig. 1 is a plan view (Fig. 1 (A)) for explaining the configuration of the optical lens of the first embodiment, and a sectional view taken along the line a-a 'in the plan view (Fig. 1 (B)). The optical lens 1a of the first embodiment shown in these figures is preferably used for an optical lens for a spectacle, for example, and is configured as follows. That is, the optical lens 1a has the hard coat film 13, the antireflection film 15 and the water repellent film 17 laminated in this order on the circumference of the lens substrate 11. [ In particular, the optical lens 1a of the first embodiment is provided with an island-like transparent pattern 19a between the hard coat film 13 on the lens base 11 and the antireflection film 15 . Hereinafter, the detailed structure of each member constituting the optical lens 1a will be described in order from the lens base 11 side.

[렌즈기재(11)][Lens base (11)]

렌즈기재(11)는 광학렌즈용으로 이용되는 일반적인 플라스틱 재료로 이루어지고, 소정의 렌즈 형상으로 성형되어 있다. 플라스틱 재료는, 예를 들면 굴절률(nD) 1.50 ~ 1.74 정도의 것이 이용된다. 이와 같은 플라스틱 재료로서는, 예를 들면 알릴 다이글리콜 카보네이트(allyl diglycol carbonate), 우레탄계 수지, 폴리카보네이트, 티오우레탄(thiourethane)계 수지 및 에피설파이드(episulfide) 수지가 예시된다. 이와 같은 렌즈기재(11)에 있어서, 이 광학렌즈(1a)를 이용하여 구성되는 안경의 외측이 되는 면을 일주면으로 하고, 이 일주면상에 상술한 하드 코트막(13) ~ 발수막(17) 및 투명패턴(19a)의 각 층이 적층되고 있다.The lens substrate 11 is made of a general plastic material used for an optical lens and is molded into a predetermined lens shape. As the plastic material, for example, a material having a refractive index (nD) of about 1.50 to 1.74 is used. Examples of such a plastic material include allyl diglycol carbonate, urethane resin, polycarbonate, thiourethane resin and episulfide resin. In such a lens base 11, the outer surface of the glasses constituted by the optical lens 1a is defined as a one-sided surface, and the hard coat film 13 to the water-repellent film 17 And a transparent pattern 19a are laminated on the transparent substrate 19a.

[하드 코트막(13)][Hard coat film (13)]

하드 코트막(13)은 반사방지막(15)의 하지(下地)로서 이용되는 막이며, 예를 들면 유기규소 화합물을 포함하는 재료를 이용하여 구성되어 있다. 이 하드 코트막(13)은 상술한 플라스틱 재료의 굴절률에 가까운 굴절률이다.The hard coat film 13 is a film used as a base of the antireflection film 15, and is made of, for example, a material containing an organic silicon compound. This hard coat film 13 has a refractive index close to the refractive index of the above-described plastic material.

구체적으로는, 하드 코트막(13)의 굴절률(nD)은 1.49 ~ 1.70 정도이며, 렌즈기재(11)의 소재에 따라 막구성이 선택된다.Specifically, the refractive index (nD) of the hard coat film 13 is about 1.49 to 1.70, and the film structure is selected according to the material of the lens substrate 11.

반사방지막(15)]Anti-reflection film 15]

반사방지막(15)은 굴절률이 다른 재료막을 적층시킨 다층 구조를 가지고, 간섭작용에 의해서 광의 반사를 방지하는 막이다. 이와 같은 반사방지막(15)은, 일례로서 저굴절률막(15a)과 고굴절률막(15b)을 교호(交互)로 적층하여 이루어지는 다층 구조를 들 수 있다. 저굴절률막(15a)은, 예를 들면 굴절률 1.43 ~ 1.47 정도의 이산화규소(SiO2)로 이루어진다. 또 고굴절률막(15b)은 저굴절률막(15a)보다도 높은 굴절률을 가지는 재료로 이루어지고, 예를 들면 산화 니오브(Nb2O5), 산화 탄탈(Ta2O5), 산화 티탄(TiO2), 산화 지르코늄(ZrO2), 산화이트륨(Y2O3), 또 산화 알류미늄(Al2O3) 등의 금속 산화물을 적절한 비율로 이용하여 구성된다.The antireflection film 15 has a multilayer structure in which a material film having a different refractive index is laminated, and is a film that prevents reflection of light due to interference. Such an antireflection film 15 may be a multilayer structure formed by alternately stacking a low refractive index film 15a and a high refractive index film 15b as an example. The low refractive index film 15a is made of, for example, silicon dioxide (SiO2) having a refractive index of about 1.43 to 1.47. The high refractive index film 15b is made of a material having a refractive index higher than that of the low refractive index film 15a and is made of a material such as niobium oxide (Nb2O5), tantalum oxide (Ta2O5), titanium oxide (TiO2), zirconium oxide (ZrO2) , Yttrium oxide (Y 2 O 3), and aluminum oxide (Al 2 O 3).

이상과 같은 저굴절률막(15a)과 고굴절률막(15b)으로 이루어지는 반사방지막(15)은 적층수가 한정되지 않는다. 일례로서, 렌즈기재(11) 측으로부터 순서대로, 저굴절률막(15a-1), 고굴절률막(15b-2), … 저굴절률막(15a-7)의 순서로, 7층을 적층시킨 반사방지막(15)을 들 수 있다. 또, 이들 각 저굴절률막(15a) 및 각 고굴절률막(15b)은 소정의 위상차가 나도록 각 굴절률에 따른 각 막두께를 가지고 있다.The number of layers of the antireflection film 15 made up of the low refractive index film 15a and the high refractive index film 15b as described above is not limited. As one example, the low refractive index film 15a-1, the high refractive index film 15b-2, the low refractive index film 15a-1, And an antireflection film 15 in which seven layers are laminated in this order from the low refractive index film 15a-7. Each of the low refractive index films 15a and the high refractive index films 15b has a film thickness corresponding to each refractive index so as to have a predetermined retardation.

일례로서, 렌즈기재(11) 측으로부터 순서대로, 저굴절률막(15a-1)/고굴절률막(15b-2)/저굴절률막(15a-3)의 3층을 합친 위상차가 [λ/4]가 되고, 고굴절률막(15b-4)/저굴절률막(15a-5)/고굴절률막(15b-6)의 3층을 합친 위상차가 [λ/2]가 되며, 저굴절률막(15a-7)의 1층의 위상차가 [λ/4]가 되도록, 각 저굴절률막(15a) 및 각 고굴절률막(15b)의 막두께가 각 굴절률에 따라 설정되어 있는 막구성을 들 수 있다.As an example, when the phase difference of the three layers of the low refractive index film 15a-1 / the high refractive index film 15b-2 / the low refractive index film 15a-3 combined in the order from the lens base 11 side is [ ] And the phase difference of [? / 2], which is a total of three layers of the high refractive index film 15b-4 / the low refractive index film 15a-5 / the high refractive index film 15b-6, The film thicknesses of the low refractive index films 15a and the high refractive index films 15b are set in accordance with the respective refractive indexes so that the retardation of one layer of the high refractive index films 15a and the high refractive index films 15b is -λ / 4.

[발수막(17)][Water repellent film (17)]

발수막(17)은, 예를 들면 불소 치환 알킬기 함유 유기규소 화합물로 이루어진다. 이 발수막(17)은 반사방지막(15)과 합쳐서 반사방지 기능을 발휘하도록 설정된 막두께를 가지고 있다.The water repellent film 17 is made of, for example, an organic silicon compound containing a fluorine-substituted alkyl group. The water repellent film 17 has a film thickness set to exhibit an antireflection function together with the antireflection film 15.

[투명패턴(19a)][Transparent pattern (19a)]

투명패턴(19a)은, 예를 들면 장식용의 무늬, 로고 마크 또는 문자 등으로 마련된 것으로서, 광투과성을 가지는 재료로 구성된 섬 모양 패턴으로서 구성되어 있다. 본 제1 실시형태에서 이용되는 투명패턴(19a)은, 예를 들면 가시광선에 대해서 광투과성을 가지고 있으면 되지만, 특히 투명패턴(19a)을 사이에 두고 배치되는 각 층의 굴절률보다도 높은 굴절률을 가지는 것이 바람직하다. 또 이 투명패턴(19a)의 막두께는 투명패턴(19a)을 구성하는 재료의 굴절률과 발수막(17) 측에서 보았을 경우의 투명패턴(19a)에 대해서 요구되는 시인성에 의해서, 적절하게 조정된다. 또한, 투명패턴(19a)은 다른 재료층을 적층시킨 것이라도 된다.The transparent pattern 19a is provided as an ornamental pattern, a logo mark, or a character, for example, and is formed as an island pattern composed of a material having light transmittance. The transparent pattern 19a used in the first embodiment is required to have light transmittance for visible light, but it is preferable that the transparent pattern 19a has a refractive index higher than the refractive index of each layer sandwiching the transparent pattern 19a . The film thickness of the transparent pattern 19a is appropriately adjusted by the refractive index of the material constituting the transparent pattern 19a and the visibility required for the transparent pattern 19a when viewed from the water repellent film 17 side . The transparent pattern 19a may be formed by laminating other material layers.

이와 같은 투명패턴(19a)에는 투명패턴(19a)을 사이에 두고 배치된 하드 코트막(13) 및 저굴절률막(15a-1)보다도 높은 굴절률의 재료가 이용되고 있다. 이와 같은 재료에는 반사방지막(15)에 이용되는 고굴절률막(15b)을 구성하는 재료와 동일한 재료가 바람직하게 이용된다. 이들 재료를 이용하여 투명패턴(19a)을 구성하는 경우, 막두께 10㎚ 정도로 투명패턴(19a)을 형성한다. 이것에 의해, 발수막(17) 측에서 보았을 경우의 투명패턴(19a)에 높은 시인성을 얻을 수 있다. 또한, 투명패턴(19a)에 대해서, 굳이 낮은 시인성을 갖게 하는 경우라도, 투명패The transparent pattern 19a is made of a material having a refractive index higher than that of the hard coat film 13 and the low refractive index film 15a-1 with the transparent pattern 19a interposed therebetween. The same material as that of the high refractive index film 15b used for the antireflection film 15 is preferably used for such a material. When these materials are used to form the transparent pattern 19a, a transparent pattern 19a is formed with a thickness of about 10 nm. Thereby, high visibility can be obtained in the transparent pattern 19a when viewed from the water repellent film 17 side. In addition, even if the transparent pattern 19a is made to have low visibility,

턴(19a)의 굴절률과 막두께를 조정하면 된다.The refractive index and the film thickness of the turn 19a may be adjusted.

이상과 같은 구성의 광학렌즈(1a)는 이 광학렌즈(1a)를 이용하여 구성된 안경의 내측, 즉 장착자 측을 향해서 배치되는 면상에도 렌즈기재(11) 측으로부터 순서대로 하드 코트막, 반사방지막 및 발수막이 이 순서로 마련되어도 된다.The optical lens 1a having the above-described structure is arranged in this order from the side of the lens base 11 on the inner side of the glasses constituted by the optical lens 1a, that is, the side arranged toward the wearer side, And a water-repellent film may be provided in this order.

<제1 실시형태의 광학렌즈의 제조방법>&Lt; Method of Manufacturing Optical Lens of First Embodiment >

도 2 ~ 4는 상술한 구성을 가지는 제1 실시형태의 광학렌즈의 제조순서를 나타내는 제조공정도이다. 이하에 이들 도면에 근거하여, 제1 실시형태의 광학렌즈를 안경용에 적용하는 경우의 제조순서를 설명한다.Figs. 2 to 4 are manufacturing process diagrams showing the manufacturing procedure of the optical lens of the first embodiment having the above-described configuration. Hereinafter, a manufacturing procedure when the optical lens of the first embodiment is applied to a spectacle lens will be described based on these drawings.

[도 2의 (A)][Fig. 2 (A)]

먼저, 도 2의 (A)에 나타내는 바와 같이, 렌즈기재(11)를 준비한다. 이 렌즈기재(11)는 광학렌즈를 이용하여 구성하는 안경의 오더(order)(사양)에 따른 광학처방이나 쉐이프(shape) 형상(외형 형상)을 기초로 선택된 렌즈기 재(11)이며, 필요에 따라서 연마가 시행된 것이다. 이와 같은 렌즈기재(11)는, 일례로서 안경용 단초점 렌즈를 들 수 있다.First, as shown in Fig. 2A, a lens substrate 11 is prepared. The lens base 11 is a lens base 11 selected on the basis of an optical prescription or a shape (outer shape) according to an order (specification) of glasses constituted by using an optical lens, The polishing was performed. Such a lens substrate 11 is, for example, a short-focus lens for spectacles.

이 렌즈기재(11)에 대해서, 기하학 중심(G.C) 및 광학 중심(O.C)을 계측에 의해서 확정한다. 그리고, 광학 중심(O.C)을 포함하는 광학좌표를 나타내는 임시의 점마크(M1 ~ M3)를, 렌즈기재(11)의 일주면 측에 마킹(marking)The geometric center G.C and the optical center O.C are determined by measurement for this lens base 11. Temporary point marks M1 to M3 indicating optical coordinates including the optical center O. C are marked on the one main surface side of the lens base 11,

한다. 이 점마크(M1 ~ M3)는, 예를 들면 적색의 잉크를 이용하여 마킹된다. 일례로서, 광학 중심(O.C)을 중앙의 점마크(M2)로 하여, 이 좌우에 등간격으로 점마크(M1, M3)를 배치한다.do. These dot marks (M1 to M3) are marked using, for example, red ink. As an example, the optical center O.C is defined as a center dot mark M2, and dot marks M1 and M3 are arranged at equal intervals on the right and left sides.

[도 2의 (B)][Fig. 2 (B)]

다음으로, 도 2의 (B)에 나타내는 바와 같이, 오더에 따라 작성된 광학렌즈에 관한 삼차원의 외형 형상(F)의 데이터와, 렌즈기재(11)에서 점마크(M1 ~ M3)로 나타내는 광학좌표로부터, 렌즈기재(11)에서 외형 형상(F)의 중심(프레임 중심)(F.C)이 되는 위치를 검출한다.Next, as shown in Fig. 2 (B), the data of the three-dimensional outer shape F relating to the optical lens prepared in accordance with the order and the data of the optical coordinates indicated by the point marks M1 to M3 in the lens base 11 (Center of frame) FC of the outer shape F at the lens base material 11 from the position at which the outer shape F is located.

[도 2의 (C)][Fig. 2 (C)]

그 후, 도 2의 (C)에 나타내는 바와 같이, 광학 중심(O.C)과 프레임 중심(F.C)과의 관계로부터, 렌즈기재(11)에 대해서, 렌즈 영역의 외형 형상(F)을 확정한다. 그리고, 광학좌표를 나타내는 점마크(M1 ~ M3)에 근거하여, 렌즈기재(11)상에 외형 형상(F)의 기준이 되는 기준 마크(m1 ~ m4)를 형성한다. 이들 기준 마크(m1 ~ m4)는 상하좌우를 식별 가능하고, 또한 바람직하게는 안경의 우측 렌즈인지 좌측 렌즈인지를 식별 가능한 디자인으로 구성되는 것으로 한다. 예를 들면, 좌우를 나타내는 기준 마크(m2, m4)를, 안경의 중앙을 향하는 화살표로서 형성한다.2 (C), the outer shape F of the lens region is determined with respect to the lens base 11 from the relationship between the optical center O.C and the frame center F. As shown in Fig. Reference marks m1 to m4 serving as references of the outline shape F are formed on the lens base 11 on the basis of the dot marks M1 to M3 indicating the optical coordinates. These reference marks m1 to m4 can be distinguished in the upper, lower, left, and right directions, and are preferably designed so as to be able to discriminate whether the lens is the right lens or the left lens of the spectacles. For example, reference marks m2 and m4 indicating left and right are formed as arrows directed to the center of the glasses.

또, 이와 같은 기준 마크(m1 ~ m4)는 외형 형상(F)으로 둘러싸인 렌즈 영역의 외측에 마킹한다. 이것에 의해, 외형 형상(F)에 맞추어 렌즈기재(11)를 쉐이프-커팅(shape-cutting)한 후에는, 렌즈상에 기준 마크(m1 ~ m4)가 남지 않는 구성으로 한다. 또한, 여기에서는, 기준 마크(m1 ~ m4)는 광학 중심(O.C)을 기준으로 하여 레이아웃한 경우를 도시했다. 그렇지만, 기준 마크(m1 ~ m4)는 프레임 중심(F.C)을 기준으로 하여 레이아웃해도 된다.These reference marks m1 to m4 are marked on the outside of the lens area surrounded by the outline shape F. [ Thereby, after the lens substrate 11 is subjected to shape-cutting in accordance with the outline shape F, the reference marks m1 to m4 are not left on the lens. Here, the reference marks m1 to m4 are laid out with respect to the optical center O. C as a reference. However, the reference marks m1 to m4 may be laid out based on the frame center FC.

이상과 같은 기준 마크(m1 ~ m4)는, 예를 들면 레이저 마커에 의해서, 렌즈기재(11)의 일주면에 대해서 직접 형성된다. 이 때, 렌즈기재(11)가 열의 영향으로 파괴되지 않는 정도의 파워 설정으로, 렌즈기재(11)에 대해서 레이저 조사를 행한다. 또한, 기준 마크(m1 ~ m4)의 형성은 레이저 마커에 한정되지 않고, 예를 들면 잉크젯법을 적용해도 된다. 이 때, 마커에 이용하는 잉크는 뒤에 설명하는 마스킹층을 제거하는 공정에서, 마스킹층과 동시에 제거되지 않는 재질을 선택하여 이용하는 것이 중요하다.The reference marks m1 to m4 are formed directly on the main surface of the lens base 11 by, for example, a laser marker. At this time, laser irradiation is performed on the lens base 11 with a power setting such that the lens base 11 is not destroyed by heat. The formation of the reference marks m1 to m4 is not limited to the laser markers, and an ink jet method may be applied, for example. At this time, it is important to select and use a material which can not be removed simultaneously with the masking layer in the step of removing the masking layer described later.

이상에서는, 렌즈기재(11)가 단초점 렌즈인 경우에서의 기준 마크(m1 ~ m4)의 형성을 설명했다. 그렇지만, 렌즈기재(11)는 단초점 렌즈인 경우에 한정되지 않고, 다초점 렌즈, 누진 렌즈, 또한 다른 렌즈라도 된다. 다초점 렌즈를 이용하는 경우이면, 세그먼트(segment)로 불리는 부분의 정점을 기준으로 프레임 중심(F.C)을 검출하여 외형 형상(F)을 확정하고, 기준 마크(m1 ~ m4)를 형성하면 된다. 또 누진 렌즈를 이용하는 경우이면, 은폐(hidden) 마크(레이아웃 기준 마크)를 기준으로 프레임 중심(F.C)을 검출하여 외형 형상(F)을 확정하고, 기준마크(m1 ~ m4)를 형성하면 된다. 또 누진 렌즈를 이용하는 경우, 프리즘 레퍼런스 포인트(prism referencepoint)를 중앙의 점마크(M2)로 하고, 그 좌우에 등간격으로 점마크(M1, M3)를 배치하며, 이들 점마크(M1 ~ M3)에 근거하여 기준 마크(m1 ~ m4)를 레이아웃하면 된다. 기준 마크(m1 ~ m4)의 형성 후에는, 점마크([0048] M1 ~ M3)를 닦아내어 제거한다.The formation of the reference marks m1 to m4 in the case where the lens substrate 11 is a short focal lens has been described above. However, the lens substrate 11 is not limited to a monofocal lens, but may be a multifocal lens, a progressive lens, or another lens. In the case of using a multifocal lens, the frame center F.C may be detected based on the vertex of a portion called a segment to determine the outline shape F, and the reference marks m1 to m4 may be formed. In the case of using a progressive lens, the frame center F.C may be detected on the basis of a hidden mark (layout reference mark) to determine the outline shape F, and the reference marks m1 to m4 may be formed. In the case of using a progressive lens, prism reference points are set as a center point mark M2, dot marks M1 and M3 are arranged at equal intervals on the left and right sides of the prism reference point, The reference marks m1 to m4 may be laid out. After the formation of the reference marks m1 to m4, the dot marks M1 to M3 are wiped off and removed.

[도 3의 (A), 도 3의 (B)][Fig. 3 (A) and Fig. 3 (B)] Fig.

이상과 같이 하여 기준 마크(m1 ~ m4)를 형성한 후, 도 3의 (A)의 평면도 및 도 3의 (B)의 단면도(도 3의 (A)의 a-a'단면에 상당)에 나타내는 바와 같이, 렌즈기재(11)상에 하드 코트막(13)을 성막(成膜)한다. 하드 코트막(13)의 성막은, 예를 들면 유기규소 화합물을 용해시킨 용액을 이용한 침지법에 의해서 성막한다.After the reference marks m1 to m4 are formed as described above, a plan view of FIG. 3A and a sectional view of FIG. 3B (corresponding to aa 'of FIG. 3A) The hard coat film 13 is formed on the lens substrate 11 as shown in FIG. The hard coat film 13 is formed by, for example, a dipping method using a solution in which an organic silicon compound is dissolved.

다음으로, 하드 코트막(13) 표면의 개질(改質)처리를 행한다. 이 개질처리로서는, 다음에 행하는 마스킹층의 형성에서 이용하는 잉크에 대해서, 하드 코트막(13) 표면의 습윤성을 확보하기 위한 처리를 행한다. 여기에서는, 하드 코트막(13)의 표면에 데미지를 주지 않는 처리방법으로서, 예를 들면 산소 플라스마를 이용한 플라스마 처리를 행한다. 또한, 습윤성을 확보하기 위한 개질처리로서는, 하드 코트막(13)에 대해서 데미지를 주지 않는 방법이면, 플라스마 처리에 한정되지 않고, 예를 들면 이온조사처리, 코로나(corona) 방전처리, 알칼리 처리 등을 행해도 된다.Next, the surface of the hard coat film 13 is modified. As the reforming treatment, a treatment for securing the wettability of the surface of the hard coat film 13 to the ink used in the next formation of the masking layer is performed. Here, as a treatment method which does not damage the surface of the hard coat film 13, for example, plasma treatment using oxygen plasma is performed. The method for ensuring the wettability is not limited to the plasma treatment as long as it does not damage the hard coat film 13. For example, the ion treatment, the corona discharge treatment, the alkali treatment, .

다음으로, 잉크젯법을 적용하여, 개질처리를 시행한 하드 코트막(13)상에 마스킹층(21)을 형성한다. 여기서 형성하는 마스킹층(21)은 렌즈기재(11)의 일주면 측에 확정한 광학렌즈의 외형 형상(F)을 전체적으로 덮음과 아울러, 광학렌즈에 형성하는 투명패턴에 대응하는 개구패턴(21a)을 구비하고 있다. 또한, 마스킹층(21)은 외형 형상(F)보다도 수 ㎜ 이상 큰 형상으로 형성하는 것이 바람직하고, 이것에 의해서 외형 형상(F)에 맞추어 렌즈기재(11)를 쉐이프-커팅할 때의 오차를 흡수한다.Next, the masking layer 21 is formed on the hard coat film 13 subjected to the reforming treatment by applying the inkjet method. The masking layer 21 formed here covers the outer shape F of the optical lens fixed on the main surface side of the lens base 11 as well as the opening pattern 21a corresponding to the transparent pattern formed on the optical lens. . It is preferable that the masking layer 21 is formed in a shape of several mm or more larger than the outer shape F so that the error when the lens substrate 11 is shaped and cut according to the outer shape F Absorbed.

이 때, 렌즈기재(11)의 커브에 영향을 받지 않고, 먼저 작성한 기준 마크(m1 ~ m4)에 근거하여 미리 설정된 렌즈기재(11)상의 소정 위치에 개구패턴(21a)을 마련하여 마스킹층(21)을 인쇄 형성하는 것이 중요하다. 이 때문에 여기에서는, 잉크젯법을 적용한 마스킹층(21)의 형성을 행한다. 여기서 적용되는 잉크젯법은 형식이나 방식At this time, the aperture pattern 21a is provided at a predetermined position on the lens base 11, which is previously set based on the previously prepared reference marks m1 to m4, without being influenced by the curve of the lens base 11, 21 is printed. For this reason, the masking layer 21 to which the ink-jet method is applied is formed here. The inkjet method applied here is a type or a method

이 한정되지 않고, 연속형이라도 온-디멘드(on-demand)형이라도 되며, 온-디멘드형이면 피에조 방식이라도 서멀방식이라도 된다.But may be continuous or on-demand, and if it is an on-demand type, it may be a piezo system or a thermal system.

여기서의 잉크젯법에 의한 마스킹층(21)의 형성은, 예를 들면 자외선 경화형 잉크(UV 큐어(cure) 잉크)를 이용한다. 그 중에서도, 경화 후에도, 하드 코트막(13)에 대해서 선택적으로 제거 가능한 잉크가 이용된다. 이와 같은 잉크로서는, 예를 들면 경화 후에 에탄올이나 아세톤에 용해하여 제거하는 것이 가능한 고부착성·고접착성의 비흡수성 소재용의 이른바 경질 UV잉크나 연질 UV잉크를 들 수 있다.The formation of the masking layer 21 by the ink-jet method is performed by using, for example, ultraviolet curable ink (UV cure ink). Among them, an ink which can be selectively removed with respect to the hard coat film 13 is used even after curing. Examples of such inks include so-called hard UV inks and soft UV inks for highly adhesive and highly adhesive non-absorbent materials which can be removed by dissolving in ethanol or acetone after curing.

이와 같은 잉크를 이용한 잉크젯법에서는, 인쇄조건을 조정하는 것에 의해, 도포 불균일이 없는 연속막으로서 마스킹층(21)을 형성하는 것이 중요하다. 이와 같은 인쇄조건으로서는, 인쇄헤드에 대한 렌즈기재의 이동속도, 이동방향의 해상도, 이동방향으로 수직인 폭방향의 해상도, 잉크액적(液滴)의 사이즈, 잉크액적의 드롭(drop)주파수, 동일 착탄점(着彈點)에 적하(滴下)하는 잉크액적수 등이다. 이들 인쇄조건은 서로 관련성을 가지고 있기 때문에, 적절히 조정하는 것에 의해서, 인쇄 불균일을 방지한 마스킹층(21)의 성막을 행한다.In the ink-jet method using such an ink, it is important to form the masking layer 21 as a continuous film having no coating unevenness by adjusting printing conditions. Examples of such printing conditions include a moving speed of the lens base material with respect to the printhead, a resolution in the moving direction, a resolution in the width direction perpendicular to the moving direction, a size of an ink droplet (droplet), a drop frequency of an ink droplet And the number of ink droplets to be dropped on the landing point. Since these printing conditions are related to each other, by appropriately adjusting them, the masking layer 21 is formed to prevent uneven printing.

이상과 같은 잉크젯법에 의한 마스킹층(21)의 성막 후에는, 마스킹층(21)에 대해서 자외선(UV) 조사를 행하는 것에 의해, 마스킹층(21)을 구성하는 잉크를 경화시킨다.After forming the masking layer 21 by the inkjet method as described above, the masking layer 21 is irradiated with ultraviolet light (UV) to cure the ink constituting the masking layer 21.

[도 4의 (A)][Fig. 4 (A)]

다음으로 도 4의 (A)에 나타내는 바와 같이, 마스킹층(21)의 위쪽으로부터 투명재료막(19)의 성막을 행한다. 여기에서는, 증착법에 의해서, 예를 들면 산화 탄탈(Ta2O5)로 이루어지는 굴절률 2.05 ~ 2.15의 투명재료막(19)을, 미리 설정된 막두께(예를 들면 10㎚)로 성막한다. 이 성막에서는, 이온 어시스트 증착(ionNext, as shown in Fig. 4 (A), the transparent material film 19 is formed from above the masking layer 21. Next, as shown in Fig. Here, a transparent material film 19 made of, for example, tantalum oxide (Ta2O5) having a refractive index of 2.05 to 2.15 is formed by a deposition method to a predetermined film thickness (for example, 10 nm). In this film, ion assist deposition (ion

assisted deposition)을 행하는 것에 의해, 막질 및 밀착성이 양호하게 투명재료막(19)을 성막하는 것이 바람직하다.it is preferable to form the transparent material film 19 with good film quality and good adhesion.

[도 4의 (B)][Fig. 4 (B)]

다음으로 도 4의 (B)에 나타내는 바와 같이, 하드 코트막(13)상으로부터 마스킹층(21)을 제거하는 처리를 행하고, 마스킹층(21)과 함께 이 상부의 투명재료막(19)을 선택적으로 제거한다. 여기에서는, 예를 들면 마스킹층(21)을 용해하는 용제(溶劑)(에탄올이나 아세톤)를 이용한 웨트(wet) 처리에 의해, 마스킹층(21)의 제거를 행한다. 이것에 의해, 마스킹층(21)의 개구패턴(21a) 내에 성막된 투명재료막(19) 부분만을, 하드 코트막(13)을 통하여 렌즈기재(11)상에 남기고, 남겨진 투명재료막(19) 부분을 투명패턴(19a)으로서 렌즈기재(11)상에 형성한다. 이와 같이 하여 형성된 투명패턴(19a)은 마스킹층(21)에 형성한 개구패턴(21a)과 동일한 위치에 형성된 동일 형상인 것이 된다.4 (B), the masking layer 21 is removed from the hard coat film 13, and the upper transparent material film 19 is removed with the masking layer 21 Selectively remove. Here, the masking layer 21 is removed by, for example, a wet process using a solvent (ethanol or acetone) that dissolves the masking layer 21, for example. As a result, only the portion of the transparent material film 19 formed in the opening pattern 21a of the masking layer 21 is left on the lens substrate 11 through the hard coat film 13 and the remaining transparent material film 19 Is formed on the lens substrate 11 as a transparent pattern 19a. The transparent pattern 19a thus formed has the same shape as the opening pattern 21a formed in the masking layer 21 at the same position.

[도 4의 (C)][Fig. 4 (C)]

다음으로 도 4의 (C)에 나타내는 바와 같이, 투명패턴(19a)이 형성된 하드 코트막(13)상에 저굴절률막(15a)과 고굴절률막(15b)을 교호로 적층 성막한 다층 구조의 반사방지막(15)을 성막하고, 또한 반사방지막(15)상에 발수막(17)을 성막한다. 반사방지막(15)의 성막은 이온 어시스트 증착을 적용하여 행하는 것에 의해, 하층 측의 저굴절률막(15a-1)으로부터 순서대로, 저굴절률막(15a-7)까지의 각 층을, 각 조성 및 각 막두께로 성막한다.Next, as shown in Fig. 4 (C), a multilayer structure in which a low refractive index film 15a and a high refractive index film 15b are alternately laminated on the hard coat film 13 on which the transparent pattern 19a is formed The antireflection film 15 is formed and the water repellent film 17 is formed on the antireflection film 15. [ Each of the layers from the low refractive index film 15a-1 on the lower layer side to the low refractive index film 15a-7 in order is formed by applying ion assist deposition to the antireflection film 15, And the film is formed at each film thickness.

[도 1의 (A), 도 1의 (B)]1 (A) and 1 (B) of Fig. 1)

이후에는, 앞의 도 1의 (A) 및 도 1의 (B)에 나타낸 바와 같이, 발수막(17)까지가 성막된 렌즈기재(11)를, 렌즈기재(11)에 대해서 확정된 외형 형상(F)으로 쉐이프-커팅한다. 이 때, 도 3의 (A)를 참조하여, 렌즈기재(11)에서의 외형 형상(F)의 외측에 형성한 기준 마크(m1 ~ m4)에 근거하여 위치맞춤된 소정 위치에 가공용 치구(治具, jig)를 흡착시켜, 렌즈기재(11)를 가공용 치구에 고정한다. 이 상태에서, 쉐이프-커팅 가공기를 이용하고, 기준마크(m1 ~ m4)에 근거하여 위치맞춤된 외형 형상(F)으로, 렌즈기재(11)를 쉐이프-커팅하며, 그 후 가공용 치구를 떼어내어 광학렌즈(1a)를 완성시킨다. 그 후는, 외관검사를 거쳐 광학렌즈(1a)를 출하한다.Thereafter, as shown in FIGS. 1A and 1B, the lens substrate 11 on which the water-repellent film 17 has been formed is adhered to the outer surface of the lens substrate 11, (F). 3 (A), at a predetermined position that is positioned based on the reference marks m1 to m4 formed on the outside of the outer shape F of the lens base 11, Jig) of the lens base material 11 is adhered to fix the lens base material 11 to the working jig. In this state, the shape of the lens base 11 is shaped-cut with the outer shape F aligned with the reference marks m1 to m4 using a shape-cutting machine, and then the working jig is removed Thereby completing the optical lens 1a. Thereafter, the optical lens 1a is shipped through the appearance inspection.

<제1 실시형태의 효과>&Lt; Effects of First Embodiment >

이상 설명한 제1 실시형태의 구성을 가지는 광학렌즈(1a)는, 다층 구조의 반사방지막(15)에 대해서 투명패턴(19a)을 적층시킨 것에 의해, 투명패턴(19a)의 배치 부분과 그 이외의 부분에서, 반사방지막(15) 측으로부터 광학렌즈(1a)에 입사한 광의 광반사 특성이 다른 것이 된다. 이것에 의해, 발수막(17)을 통하여 반사방지막(15)The optical lens 1a having the structure of the first embodiment described above is obtained by laminating the transparent pattern 19a on the multilayer anti-reflective film 15, The light reflection characteristic of the light incident on the optical lens 1a from the antireflection film 15 side is different. Thus, the antireflection film 15 is formed through the water-repellent film 17,

측으로부터 광학렌즈(1a)를 보았을 경우에는, 반사방지막(15)에서의 반사방지 기능이 유지되며, 또한, 상술한 광반사 특성의 차이로서 투명패턴(19a)을 용이하게 시인할 수 있다. 한편, 이 광학렌즈(1a)를 안경용으로 하고, 안경의 장착자 측이 되는 반사방지막(15) 및 발수막(17)과는 반대 측의 지근 거리로부터 광학렌즈(1a)를 보았을 경우, 투명패턴(19a)이 용이하게 시인되지 않는다.Reflection function of the anti-reflection film 15 is maintained, and the transparent pattern 19a can easily be visually recognized as the difference in the light reflection characteristic described above. On the other hand, when the optical lens 1a is used for a spectacle and the optical lens 1a is viewed from the closest distance on the side opposite to the antireflection film 15 and the water repellent film 17, (19a) is not easily recognized.

이 결과, 이 광학렌즈(1a)를 이용하는 것에 의해, 장착자의 시계를 위화감 없이 확보하는 것이 가능하면서도, 외측으로부터 시인 가능한 투명패턴(19a)을, 예를 들면 장식용의 무늬, 로고 마크, 또는 문자 등으로서 구비함으로써 디자인성이 뛰어난 안경을 구성하는 것이 가능하게 된다.As a result, by using the optical lens 1a, it is possible to secure the wearer's watch without discomfort, and the transparent pattern 19a that can be seen from the outside can be used as a decorative pattern, a logo mark, It is possible to constitute glasses having excellent design properties.

또 본 제1 실시형태에서는, 투명패턴(19a)을, 렌즈기재(11)와 반사방지막(15)과의 사이, 보다 상세하게는 하드코트막(13)과 반사방지막(15)을 구성하는 저굴절률막(15a-1)과의 사이에 배치했다. 이것에 의해, 반사방지막(15)에 대한 층 구조의 연속성을 해치지 않고, 렌즈기재(11)의 일주면 측의 표면을, 반사방지막(15)으로 고르게 덮은 통상의 렌즈 구성으로 할 수 있다. 따라서, 반사방지막(15)의 표면을, 내마찰성이 뛰어난 이산화규소(SiO2)와 같은 저굴절률막(15a-7)으로 고르게 덮을 수 있어, 손상을 받기 어려운 렌즈 구성으로 할 수 있다. 또, 다층 구조의 반사방지막(15)을 성막할 때의 프로세스의 연속성이 저해되지도 않는다.In the first embodiment, the transparent pattern 19a is formed between the lens substrate 11 and the antireflection film 15, more specifically, between the hard coat film 13 and the antireflection film 15 And the refractive index film 15a-1. This makes it possible to obtain a normal lens configuration in which the surface of the lens substrate 11 on the one main surface side is evenly covered with the antireflection film 15 without harming the continuity of the layer structure with respect to the antireflection film 15. [ Therefore, the surface of the antireflection film 15 can be evenly covered with the low refractive index film 15a-7 such as silicon dioxide (SiO2) excellent in resistance to friction, so that the lens structure can be made hard to be damaged. Also, the continuity of the process for forming the antireflection film 15 having a multilayer structure is not hindered.

또한 이와 동일한 구성에 있어서, 투명패턴(19a)이, 이것을 사이에 두고 배치되는 하드 코트막(13) 및 저굴절률막(15a-1) 각 층의 굴절률보다도 높은 굴절률을 가지는 경우이면, 투명패턴(19a)이 박막의 단층 구조라도, 반사방지막(15) 측으로부터 광학렌즈(1a)를 보았을 경우의 투명패턴(19a)의 시인성의 향상을 도모할 수 있다. 예를들면 10㎚의 막두께의 산화 탄탈(Ta2O5) 단층으로 구성된 투명패턴(19a)을 배치했을 경우, 반사방지막(15) 측에서 본 편면시감(片面視感) 반사율은 투명패턴(19a)의 배치부에서 1.624％, 투명패턴(19a)의 미배치부에서 0.545If the transparent pattern 19a has the refractive index higher than the refractive index of each layer of the hard coat film 13 and the low refractive index film 15a-1 sandwiching the transparent pattern 19a, The visibility of the transparent pattern 19a when the optical lens 1a is seen from the antireflection film 15 side can be improved. When the transparent pattern 19a composed of a tantalum oxide (Ta2O5) monolayer having a thickness of 10 nm is disposed, the reflectivity of the one side of the transparent pattern 19a seen from the side of the anti- 1.624% in the arrangement portion, 0.545% in the non-arrangement portion of the transparent pattern 19a

％으로, 충분히 높은 투명패턴(19a)의 시인성이 얻어지고 있는 것이 확인되었다.%, It was confirmed that the visibility of the sufficiently high transparent pattern 19a was obtained.

≪2. 제2 실시형태≫«2. Second Embodiment >

<제2 실시형태의 광학렌즈의 구성>&Lt; Configuration of Optical Lens of Second Embodiment >

도 5는 제2 실시형태의 광학렌즈의 구성을 설명하기 위한 평면도(도 5의 (A))와, 당해 평면도에서의 a-a'단면도(도 5의 (B))이다. 이들 도면에 나타내는 제2 실시형태의 광학렌즈(1b)가, 제1 실시형태의 광학렌즈(1a)와 다른 것은, 예를 들면 장식용의 무늬, 로고 마크 또는 문자 등으로서 마련된 투명패턴(19b)이 개구부(h)를 가지는 펀치(punch) 패턴으로서 구성되어 있는 것에 있으며, 다른 구성은 제1 실시형태와 동일하다.Fig. 5 is a plan view (Fig. 5 (A)) for explaining the configuration of the optical lens of the second embodiment, and a sectional view taken along the line a-a '(Fig. 5 (B)). The optical lens 1b according to the second embodiment shown in these figures is different from the optical lens 1a according to the first embodiment in that a transparent pattern 19b provided as a decorative pattern, And is formed as a punch pattern having an opening h, and the other structures are the same as those of the first embodiment.

이와 같은 개구부(h)를 가지는 투명패턴(19b)은, 평면 형상 이외는 제1 실시형태에서 설명한 섬 모양의 투명패턴(19a)과 동일한 구성이라도 된다. 즉, 투명패턴(19b)은, 예를 들면 가시광선에 대해서 광투과성을 가지고 있으면 되지만, 특히 투명패턴(19b)을 사이에 두고 배치되는 각 층의 굴절률보다도 높은 굴절률을 가지는 것이 바람직하다. 또 이 투명패턴(19b)은 투명패턴(19b)을 구성하는 재료의 굴절률과, 발수막(17) 측에서 보았을 경우의 투명패턴(19b)에 대해서 요구되는 시인성에 의해서, 적절하게 조정된 막두께를 가지며, 또 다른 재료층을 적층시킨 것이라도 된다.The transparent pattern 19b having the opening h may have the same structure as the island-shaped transparent pattern 19a described in the first embodiment except for the plane shape. That is, the transparent pattern 19b may have transparency to visible light, for example, but it is preferable that the transparent pattern 19b has a refractive index higher than the refractive index of each layer disposed between the transparent patterns 19b. The transparent pattern 19b is formed by appropriately adjusting the refractive index of the material constituting the transparent pattern 19b and the visibility required for the transparent pattern 19b when viewed from the water repellent film 17 side And another material layer may be laminated.

<제2 실시형태의 광학렌즈의 제조방법>&Lt; Manufacturing Method of Optical Lens of Second Embodiment >

이상과 같은 구성의 제2 실시형태의 광학렌즈(1b)의 제조방법은 제1 실시형태와 동일하다. 단, 도 3을 이용하여 설명한 마스킹층(21)의 형성에서는, 패턴을 반전(反轉)시킨 마스킹층을 잉크젯법의 적용에 의해서 형성하면 된다.The manufacturing method of the optical lens 1b of the second embodiment having the above-described structure is the same as that of the first embodiment. However, in the formation of the masking layer 21 described with reference to FIG. 3, the masking layer in which the pattern is reversed may be formed by applying the inkjet method.

<제2 실시형태의 효과>&Lt; Effects of Second Embodiment >

이와 같은 제2 실시형태의 광학렌즈(1b)라도, 제1 실시형태의 광학렌즈의 구성과 동일한 구성으로, 하드 코트막(13)과 반사방지막(15)의 저굴절률막(15a-1)과의 사이에, 투명패턴(19b)을 적층시키고 있다. 이것에 의해, 제1 실시형태와 마찬가지로, 이 광학렌즈(1b)를 이용하는 것에 의해, 장착자의 시계를 위화감 없이 확보하는 것이 가능하면서도, 외측으로부터 시인 가능한 투명패턴(19b)을 예를 들면 장식용의 무늬, 로고 마크, 또는 문자 등으로서 구비함으로써 디자인성이 뛰어난 안경을 구성하는 것이 가능하게 됨과 아울러, 투명패턴(19b)을 마련한 것에 의해서 다층 구조의 반사방지막(15)을 성막할 때의 프로세스의 연속성이 저해되지도 않는다. 또한 투명패턴(19b)이, 이것을 사이에 두고 배치되어 있는 하드 코트막(13)과 반사방지막(15)의 저굴절률막(15a-1)보다도 높은 굴절률을 가지는 경우이면, 제1 실시형태에서 설명한 것과 마찬가지로, 투명패턴(19b)이 박막의 단층 구조라도, 반사방지막(15) 측으로부터 광학렌즈(1b)를 보았을 경우의 투명패턴(19b)의 시인성의 향상을 도모할 수 있다.The optical lens 1b of the second embodiment also has the same structure as that of the optical lens of the first embodiment except that the low refractive index film 15a-1 of the hard coat film 13 and the antireflection film 15 The transparent pattern 19b is laminated. Thus, by using the optical lens 1b as in the first embodiment, it is possible to secure the wearer's watch without discomfort, and the transparent pattern 19b that can be seen from the outside can be made, for example, , A logo mark, or a character or the like, it is possible to constitute spectacles having excellent design properties and the continuity of the process when the antireflection film 15 having a multilayer structure is formed by providing the transparent pattern 19b It does not get hindered. If the transparent pattern 19b has a higher refractive index than the low refractive index film 15a-1 of the hard coat film 13 and the antireflection film 15 disposed therebetween, It is possible to improve the visibility of the transparent pattern 19b when the optical lens 1b is viewed from the anti-reflection film 15 side, even if the transparent pattern 19b has a single-layer structure of a thin film.

≪3. 제3 실시형태≫«3. Third Embodiment >

<제3 실시형태의 광학렌즈의 구성>&Lt; Configuration of Optical Lens of Third Embodiment >

도 6은 제3 실시형태의 광학렌즈의 구성을 설명하기 위한 평면도(도 6의 (A))와, 당해 평면도에서의 a-a'단면도(도 6의 (B))이다. 이들 도면에 나타내는 제3 실시형태의 광학렌즈(1c)가, 다른 실시형태의 광학렌즈(1a, 1b)와 다른 것은, 예를 들면 장식용의 무늬, 로고 마크, 또는 문자 등을 구성하는 섬 모양의 투명패턴(29c)(처리패턴)이 반사방지막(15)의 상부에 적층해서 마련되어 있는 것에 있으며, 다른 구성은 제1 실시형태와 동일하다.Fig. 6 is a plan view (Fig. 6 (A)) for explaining the configuration of the optical lens of the third embodiment, and a sectional view taken along the line a-a 'in the plan view (Fig. 6 (B)). The optical lens 1c according to the third embodiment shown in these figures is different from the optical lenses 1a and 1b according to the other embodiments in that the optical lens 1c is an island- And the transparent pattern 29c (processing pattern) is laminated on the upper surface of the antireflection film 15, and the other structures are the same as those in the first embodiment.

이와 같은 투명패턴(29c)은 제1 실시형태 및 제2 실시형태의 광학렌즈에 배치한 투명패턴과 비교하여, 보다 광학렌즈(1c)의 표면 근처에 배치되게 된다. 이 때문에, 투명패턴(29c)은 내마찰성이 뛰어난 이산화규소(SiO2)와 같은 저굴절률 재료를 이용하여 구성하는 것이 바람직하다. 또 이 투명패턴(29c)은 투명패턴(29c)을 구성하는 재료의 굴절률과, 발수막(17) 측에서 보았을 경우의 투명패턴(29c)에 대해서 요구되는 시인성에 의해서, 적절하게 조정된 막두께를 가지는 것, 또 다른 재료층을 적층시킨 것이라도 된다는 것은, 다른 실시형태와 동일하다.Such a transparent pattern 29c is disposed closer to the surface of the optical lens 1c than the transparent pattern disposed on the optical lens of the first embodiment and the second embodiment. Therefore, it is preferable that the transparent pattern 29c is made of a material having a low refractive index such as silicon dioxide (SiO2) having excellent abrasion resistance. The transparent pattern 29c is formed by adjusting the refractive index of the material constituting the transparent pattern 29c and the film thickness appropriately adjusted by the visibility required for the transparent pattern 29c when viewed from the water repellent film 17 side And another material layer may be stacked on the other material layer.

또한, 투명패턴(29c)을 적층 구조로 하는 경우, 투명패턴(29c)을 구성하는 최상층 부분이 내마찰성이 뛰어난 이산화규소(SiO2)와 같은 저굴절률 재료를 이용하여 구성하는 것이 바람직하다.When the transparent pattern 29c has a laminated structure, it is preferable that the uppermost portion constituting the transparent pattern 29c is constituted by using a low refractive index material such as silicon dioxide (SiO2) having excellent frictional resistance.

<제3 실시형태의 광학렌즈의 제조방법>&Lt; Manufacturing Method of Optical Lens of Third Embodiment >

도 7 및 도 8은 상술한 구성을 가지는 제3 실시형태의 광학렌즈의 제조순서를 나타내는 제조공정도이다. 이하에 이들 도면에 근거하여, 제3 실시형태의 광학렌즈를 안경용으로 적용하는 경우의 제조순서의 특징부를 설명한다.Figs. 7 and 8 are manufacturing process diagrams showing the manufacturing procedure of the optical lens of the third embodiment having the above-described configuration. Hereinafter, the features of the manufacturing procedure when the optical lens of the third embodiment is applied to a spectacle lens will be described based on these drawings.

[도 7의 (A)][Fig. 7 (A)]

먼저 미리, 제1 실시형태에서 도 2의 (A) ~ 도 2의 (C)를 이용하여 설명한 순서와 동일하게 하여, 렌즈기재(11)의 일주면 측에, 여기서의 도시를 생략한 기준 마크(m1 ~ m4)를 형성해 둔다. 그 후, 먼저 이 렌즈기재(11)의 일주면상에 하드 코트막(13)을 성막하고, 다음으로 하드 코트막(13) 표면의 습윤성을 확보하기 위한 개질처리를 행한 후, 다층 구조의 반사방지막(15)을 성막한다.First, in the same manner as described above with reference to Figs. 2 (A) to 2 (C) in the first embodiment, on the one main surface side of the lens base 11, (m1 to m4) are formed. Subsequently, first, a hard coat film 13 is formed on the circumference of the lens substrate 11, and then a modification treatment for securing the wettability of the surface of the hard coat film 13 is performed. Thereafter, (15) is formed.

이상의 성막 및 처리는, 제1 실시형태에서 설명한 순서와 동일하고, 하드 코트막(13)의 성막은, 예를 들면 유기규소 화합물을 용해시킨 용액을 이용한 침지법에 의해서 성막한다. 하드 코트막(13) 표면의 개질처리는, 예를들면 산소 플라스마를 이용한 플라스마 처리를 행한다. 또한 반사방지막(15)의 성막은 이온 어시스트 증착을 적용하여 행하는 것에 의해, 하층 측의 저굴절률막(15a-1)으로부터 순서대로 저굴절률막(15a-7)까지의 각 층을 각조성 및 각 막두께로 성막한다. 단, 최상층의 저굴절률막(15a-7)은 투명패턴을 적층하는 것을 고려하여, 별도로 막두께를 조정해도 된다.The film formation and treatment are the same as those described in the first embodiment, and the hard coat film 13 is formed by a dipping method using, for example, a solution in which an organic silicon compound is dissolved. The modifying treatment of the surface of the hard coat film 13 is carried out, for example, by plasma treatment using oxygen plasma. The deposition of the antireflection film 15 is performed by applying ion assist deposition so that each layer from the low refractive index film 15a-1 on the lower layer side to the low refractive index film 15a-7 in order, The film is formed in a film thickness. However, the film thickness of the low refractive index film 15a-7 in the uppermost layer may be separately adjusted in consideration of the lamination of the transparent patterns.

[도 7의 (B)][Fig. 7 (B)]

다음으로 도 7의 (B)에 나타내는 바와 같이, 반사방지막(15)에서의 저굴절률막(15a-7)의 상부에 제1 실시형태와 동일한 잉크젯법을 적용하여 마스킹층(21)을 형성한다. 여기서 형성하는 마스킹층(21)은, 제1 실시형태와 동일Next, as shown in Fig. 7B, the same inkjet method as that of the first embodiment is applied to the upper portion of the low refractive index film 15a-7 in the antireflection film 15 to form the masking layer 21 . The masking layer 21 formed here is the same as the first embodiment

하고, 렌즈기재(11)의 일주면 측에 확정한 렌즈의 외형 형상을 전체적으로 덮음과 아울러, 광학렌즈에 형성하는 투명패턴에 대응하는 개구패턴(21a)을 구비하고 있다. 또 이 잉크젯법에서 이용하는 잉크는, 제1 실시형태와 동일한 것으로, 예를 들면 경화 후에 에탄올이나 아세톤에 용해하여 제거하는 것이 가능한 UV 큐어(cure) 잉크를 이용한다.And an opening pattern 21a covering the entire outer shape of the lens fixed on the one main surface side of the lens base 11 and corresponding to the transparent pattern formed on the optical lens. The ink used in this ink-jet method is the same as that of the first embodiment. For example, UV cure ink which can be dissolved and removed in ethanol or acetone after curing is used.

또 잉크젯법에 의한 마스킹층(21)의 성막 후에는 마스킹층(21)에 대해서 자외선(UV) 조사를 행하는 것에 의해, 마스킹층(21)을 구성하는 UV 큐어 잉크를 경화시키는 것도 제1 실시형태와 동일하다.The UV curing ink constituting the masking layer 21 is cured by irradiating the masking layer 21 with ultraviolet light (UV) after the formation of the masking layer 21 by the inkjet method. .

[도 8의 (A)][Fig. 8 (A)]

다음으로 도 8의 (A)에 나타내는 바와 같이, 마스킹층(21)의 위쪽으로부터 투명재료막(29)의 성막을 행한다. 여기에서는, 증착법에 의해서, 이산화규소(SiO2)로 이루어지는 굴절률 1.43 ~ 1.47의 투명재료막(29)을, 미리 설정된 막두께(예를 들면 10㎚)로 성막한다. 이 성막에서는, 필요에 따라서 이온 어시스트 증착을 행하는 것에 의해, 막질 및 밀착성이 양호하게 투명재료막(29)의 성막을 행한다.Next, as shown in Fig. 8 (A), the transparent material film 29 is formed from above the masking layer 21. Next, as shown in Fig. Here, a transparent material film 29 made of silicon dioxide (SiO 2) having a refractive index of 1.43 to 1.47 is formed with a predetermined film thickness (for example, 10 nm) by a vapor deposition method. In this film formation, the film of the transparent material film 29 is formed with satisfactory film quality and adhesion by carrying out ion assist deposition as necessary.

[도 8의 (B)][Fig. 8 (B)]

그 후, 도 8의 (B)에 나타내는 바와 같이, 반사방지막(15)상으로부터 마스킹층(21)을 제거하는 처리를 행하고, 마스킹층(21)과 함께 이 상부의 투명재료막(29)을 선택적으로 제거한다. 여기에서는, 예를 들면 마스킹층(21)을 구성하는 잉크를 용해하는 용제(에탄올이나 아세톤)를 이용한 웨트 처리에 의해, 마스킹층(21)을 제거하고, 마스킹층(21)과 함께 상부의 투명재료막(29)의 선택적인 제거를 행한다. 이것에 의해, 마스킹층(21)의 개구패턴(21a) 내에 성막된 투명재료막(29) 부분만을, 하드 코트막(13) 및 반사방지막(15)을 통하여 렌즈기재(11)상에 남기고, 남겨진 투명재료막(29) 부분을 투명패턴(29c)으로서 렌즈기재(11)상에 형성한다. 이와 같이 하여 형성된 투명패턴(29c)은 마스킹층(21)에 형성한 개구패턴(21a)과 동일한 위치에 동일 형상으로 형성된 것이 된다.8B, a process of removing the masking layer 21 from the antireflection film 15 is carried out to form the upper transparent material film 29 together with the masking layer 21 Selectively remove. Here, the masking layer 21 is removed by wet processing using, for example, a solvent (ethanol or acetone) which dissolves the ink constituting the masking layer 21, and the upper part of the masking layer 21 The material film 29 is selectively removed. Thus, only the portion of the transparent material film 29 formed in the opening pattern 21a of the masking layer 21 is left on the lens substrate 11 through the hard coat film 13 and the anti-reflection film 15, And the remaining portion of the transparent material film 29 is formed on the lens substrate 11 as the transparent pattern 29c. The transparent pattern 29c thus formed is formed in the same shape as the opening pattern 21a formed in the masking layer 21.

[도 6의 (A), 도 6의 (B)][Fig. 6 (A) and Fig. 6 (B)] Fig.

이후에는, 앞의 도 6에 나타낸 바와 같이, 투명패턴(29c)을 덮는 상태로, 반사방지막(15)상에 발수막(17)을 성막한다. 다음으로, 발수막(17)까지가 성막된 렌즈기재(11)를, 렌즈기재(11)에 대해서 확정된 외형 형상(F)으로 쉐이프-커팅한다. 이 때, 제1 실시형태에서 설명한 순서와 동일하게, 렌즈기재(11)에서의 외형 형상(F)의 외측에 형성한 기준 마크(m1 ~ m4)에 근거하여 위치맞춤된 외형 형상(F)에 렌즈기재(11)를 쉐이프-커팅한다.Thereafter, the water repellent film 17 is formed on the antireflection film 15 in a state of covering the transparent pattern 29c, as shown in FIG. Next, the lens base material 11 on which the water-repellent film 17 has been formed is subjected to shape-cutting to the outer shape F determined with respect to the lens base 11. At this time, as in the procedure described in the first embodiment, the outline shape F positioned on the basis of the reference marks m1 to m4 formed outside the outer shape F on the lens base 11 The lens substrate 11 is subjected to shape-cutting.

<제3 실시형태의 효과>&Lt; Effect of Third Embodiment >

이와 같은 제3 실시형태의 광학렌즈(1c)라도, 다른 실시형태의 광학렌즈의 구성과 마찬가지로, 다층 구조의 반사방지막(15)에 대해서 투명패턴(29c)을 적층시키고 있다. 이것에 의해, 다른 실시형태와 마찬가지로, 이 광학렌즈(1c)를 이용하는 것에 의해, 장착자의 시계를 위화감 없이 확보하는 것이 가능하면서도, 외측으로부터 시인 가능한 투명패턴(29c)을 장식용의 무늬, 로고 마크, 또는 문자 등으로서 구비함으로써 디자인성이 뛰어난 안경을 구성하는 것이 가능하게 된다.Even in such an optical lens 1c of the third embodiment, the transparent pattern 29c is laminated on the antireflection film 15 having a multilayer structure in the same manner as the optical lens of the other embodiments. This makes it possible to secure the wearer's watch without discomfort by using the optical lens 1c as in the other embodiments, and it is also possible to provide the transparent pattern 29c visible from the outside as the decorative pattern, Or characters or the like, it is possible to constitute glasses having excellent design properties.

또한, 본 제3 실시형태에서는, 반사방지막(15)상에 섬 모양의 투명패턴(29c)을 적층시킨 구성을 설명했다. 그렇지만, 제2 실시형태와 같이 반사방지막(15)상에 적층하는 투명패턴으로서 개구부를 가지는 투명패턴을 이용해도 되고, 이 경우에도 본 제3 실시형태와 동일한 효과를 얻을 수 있다.In the third embodiment, a structure in which an island-like transparent pattern 29c is laminated on the antireflection film 15 has been described. However, as in the second embodiment, a transparent pattern having openings may be used as the transparent pattern to be laminated on the antireflection film 15, and the same effect as that of the third embodiment can be obtained in this case as well.

또한, 상술한 제1 실시형태 ~ 제3 실시형태에서는, 반사방지막(15)의 상부 또는 하부에 투명패턴을 적층하는 구성을 설명했다. 그렇지만, 투명패턴은 다층 구조의 반사방지막(15)의 층 사이에 배치되어도 된다. 이 경우, 투명패턴은 이것을 구성하는 재료의 굴절률과 발수막(17) 측에서 보았을 경우의 투명패턴에 대해서 요구되는 시인성에 의해서, 적절하게 조정된 막두께를 가지는 것, 또 다른 재료층을 적층시킨 것이라도 된다는 것은, 상술한 각 실시형태와 동일하다.In addition, in the first to third embodiments described above, the structure in which the transparent pattern is laminated on the upper or lower part of the antireflection film 15 has been described. However, the transparent pattern may be disposed between the layers of the antireflection film 15 of the multilayer structure. In this case, depending on the refractive index of the material constituting the transparent pattern and the visibility required for the transparent pattern when viewed from the water repellent film 17 side, it is preferable that the transparent pattern has a film thickness appropriately adjusted, May be the same as the above-described embodiments.

또 이상 설명한 제1 ~ 제3 실시형태에서는, 광학렌즈의 제조에서의 마스킹층(21)의 형성을 잉크젯법에 의해서 행하는 경우를 설명했다. 그렇지만, 마스킹층(21)의 형성은 잉크젯법의 적용에 한정되지 않으며, 인쇄법이나 테이프의 접합에 의해서 마스킹층(21)을 형성해도 된다. 이 경우에도, 마스킹층(21)을 위치 및 형상 정밀도 양호하게 형성하는 것에 의해, 재료를 한정하지 않고 정밀도 양호하게 렌즈면에 투명재료막으로 이루어지는 투명패턴이나 염색패턴을 형성하는 것이 가능하게 된다.In the first to third embodiments described above, the case where the formation of the masking layer 21 in the production of the optical lens is performed by the ink-jet method has been described. However, the formation of the masking layer 21 is not limited to the application of the ink-jet method, and the masking layer 21 may be formed by a printing method or tape bonding. Also in this case, by forming the masking layer 21 with good position and shape precision, it becomes possible to form a transparent pattern or a dyeing pattern made of a transparent material film on the lens surface with high precision without limiting the material.

1a, 1b, 1c … 광학렌즈, 11 … 렌즈기재,
13 … 하드 코트막, 15 … 반사방지막,
15a-1, 15a-3, 15a-5, 15a-7 … 저굴절률막,
15b-2, 15b-4, 15b-6 … 고굴절률막,
19a, 19b, 29c … 투명패1a, 1b, 1c ... Optical lens, 11 ... Lens substrate,
13 ... Hard coat membrane, 15 ... Antireflection film,
15a-1, 15a-3, 15a-5, 15a-7 ... Low refractive index film,
15b-2, 15b-4, 15b-6 ... High refractive index film,
19a, 19b, 29c ... Transparent

Claims

렌즈기재(基材)와,
굴절률이 다른 재료막을 적층시킨 구성을 가지고 상기 렌즈기재의 일주면(一主面) 측을 덮어 배치된 반사방지막과, 상기 반사방지막의 층 사이, 당해 반사방지막의 상부 또는 하부 중 어느 한쪽에 마련된 광투과성 재료로 이루어 지는 투명패턴을 구비하고, 상기 렌즈기재의 일주면 측으로부터 상기 투명패턴이 시인(視認)되는 광학렌즈.A lens substrate,
An antireflection film having a structure in which a material film having a different refractive index is laminated and covering the side of one main surface of the lens base material; and an antireflection film disposed between the antireflection film and the antireflection film, And a transparent pattern made of a transparent material, and the transparent pattern is viewed from the one main surface side of the lens base material.

청구항 1에 있어서,
상기 투명패턴은 당해 투명패턴을 사이에 두고 배치되는 각 층의 굴절률보다도 높은 굴절률을 가지는 광학렌즈.The method according to claim 1,
Wherein the transparent pattern has a refractive index higher than a refractive index of each layer disposed between the transparent patterns.