KR20170122192A

KR20170122192A - 단층상 촬영 장치

Info

Publication number: KR20170122192A
Application number: KR1020177023244A
Authority: KR
Inventors: 나오키 코바야시; 마사하루 미주오키; 토시아키 나카가와
Original assignee: 코와 가부시키가이샤
Priority date: 2015-02-27
Filing date: 2016-02-26
Publication date: 2017-11-03
Also published as: JP6599973B2; EP3263016A4; WO2016136926A1; HK1244658A1; CN107249432A; US10188286B2; US20180008144A1; JP6807442B2; EP3263016A1; JP2019217406A; JPWO2016136926A1; AU2016224402A1

Abstract

본 발명의 단층상 촬영 장치는, 피검안(E)의 안저 상에 측정광을 주사시켜 이 피검안 안저의 단층상을 촬영하는 단층상 촬영수단과, 촬영된 단층상의 화상을 주사 방향으로 압축하여 새로운 단층 화상을 생성하는 화상 처리수단을 구비한다.단층상 촬영수단이, 제1의 스캔 간격(P_H)보다 좁은 제2의 스캔 간격(P_L)으로 주사하여 피검안 안저의 단층상을 촬영하고, 화상 처리수단이, 제2의 스캔 간격(P_L)으로 촬영된 단층상의 화상(B11)을 주사 방향으로 압축하여 새로운 단층 화상(B12)을 생성하고, 새로운 단층 화상(B12)의 주사 방향의 측정폭이, 제1의 스캔 간격(P_H)으로 주사하여 얻어지는 단층 화상 Bn(n=1~10)의 주사 방향의 측정폭에 상당하는 화상의 폭으로 되어 있다.

Description

단층상 촬영 장치

본 발명은 대상 물체에서 반사된 측정광과 참조 물체에서 반사된 참조광을 중첩시켜 생성되는 간섭광에 근거해 대상 물체의 단층 화상을 형성하는 단층상 촬영 장치에 관한 것이다.

안과 진단장치의 하나로서, 안저의 단층상을 촬영하는 OCT(Optical Coherence Tomography)라고 하는 광 간섭을 이용한 단층상 촬영 장치가 실용화되고 있다. 이러한 단층상 촬영 장치에 의해, 안저의 좌우 방향을 x방향, 세로 방향을 y방향, 안쪽 방향을 z방향으로 하여 xz방향의 단층 화상(B스캔 화상)을 얻을 수 있다. 일반적인 OCT의 촬영을 실시하면, 예를 들면, 1초에 40장의 속도로 단층상이 촬영되고, 한 번의 검사(망막 중의 어느 일부분에서의 촬영)로 100장 이상의 망막의 단층 화상군을 취득할 수 있다.

그러나, 이러한 단층 화상은 노이즈 등이 많이 포함되어 있기 때문에, 그대로의 화상 한장 한장은 독영(讀影)에 적절하지 않았다. 그리하여 종래부터, 독영에 적절한 고품질의 화상을 생성하기 위해서 다양한 화상 처리 방법이 제안되고 있고, 예를 들면, 촬영이 끝난 단층 화상군의 화상에 대해 가산 처리를 하여, 독영용 화상을 작성하는 처리가 행해진다. 특허 문헌 1에는, 촬영한 2차원 단층상의 전체를 가산 평균하여 노이즈가 적은 단층 화상을 생성하는 기술이 개시되어 있다.

또, 고시 미동의 영향에 의한 단층 화상의 왜곡을 회피하기 위해서는 최대한 고속으로 측정하는 것이 요구된다. 특허 문헌 2에는, 측정에 필요한 시간을 단축하기 위해, 복수의 측정광을 측정 영역을 약간 빗겨서 조사하여 동일 방향으로 주사하고, 얻어진 복수의 2차원 단층 화상을 가산 평균 처리하는 것에 의해 노이즈가 적은 단층 화상을 생성하는 기술이 개시되어 있다.

특허 문헌 1: 일본특허공개 2008－237238 특허 문헌 2: 일본특허공개 2010－188114

특허 문헌 1 또는 특허 문헌 2에 나타내는 바와 같이, 독영에 적절한 고품질의 화상을 생성하기 위해 복수의 화상을 가산 평균해도, 원래의 복수의 화상보다 세밀한 화상을 얻을 수는 없다.

본 발명은, 이러한 점을 감안하여 이루어진 것으로, 독영에 적절한 고품질이면서 고밀도의 독영용 화상을 얻을 수 있는 단층상 촬영 장치를 제공하는 것을 목적으로 한다.

상기 목적을 달성하기 위해, 본 발명은, 피검안 안저 상에 측정광을 주사시켜 이 피검안 안저의 단층상을 촬영하는 단층상 촬영수단과, 상기 촬영된 단층상의 화상을 주사 방향으로 압축하여 새로운 단층 화상을 생성하는 화상 처리수단을 구비하는 것을 특징으로 하는 단층상 촬영 장치를 제공한다(발명 1).

상기 발명(발명 1)에 있어서는, 상기 단층상 촬영수단이, 제1의 스캔 간격보다 좁은 제2의 스캔 간격으로 주사하여 피검안 안저의 단층상을 촬영하고, 상기 화상 처리수단이, 상기 제2의 스캔 간격으로 촬영된 단층상의 화상을 주사 방향으로 압축하여 새로운 단층 화상을 생성하고, 상기 새로운 단층 화상의 주사 방향의 측정폭이 상기 제1의 스캔 간격으로 주사하여 얻어지는 단층 화상의 주사 방향의 측정폭에 상당하는 화상의 폭인 것이 바람직하다(발명 2).

피검안 안저의 촬영 대상 영역을 소정의 스캔 간격(제1의 스캔 간격)보다 높은 스캔 밀도(좁은 스캔 간격, 제2의 스캔 간격)로 주사하여 얻어지는 단층상의 화상은, 같은 촬영 대상 영역을 소정의 스캔 간격(제1의 스캔 간격)으로 주사하여 얻어지는 단층상의 화상보다 그 화상을 구성하는 A스캔 화상의 수가 많아지고, 고밀도의 단층 화상이 된다. 상기 발명(발명 2)에 의하면, 이 고밀도의 화상을 주사 방향으로 압축하여 새로운 단층 화상을 생성할 때에, 이 새로운 단층 화상의 주사 방향의 측정폭이 소정의 스캔 간격(제1의 스캔 간격)으로 주사하여 얻어지는 단층 화상의 주사 방향의 측정폭에 상당하는 측정폭이 되도록 생성하는 것에 의해, 소정의 스캔 간격(제1의 스캔 간격)으로 주사하여 얻어지는 단층 화상과 같은 측정폭의 단층 화상이나, 소정의 스캔 간격(제1의 스캔 간격)으로 주사하여 얻어지는 단층 화상보다 고밀도의 화상을 얻을 수 있다.

또, 이와 같이 주사 방향으로 압축하여 소정의 스캔 간격으로 주사하여 얻어지는 단층 화상과 같은 측정폭의 단층 화상을 얻는 경우는, 소정의 스캔 간격으로 주사하여 얻어지는 복수매의 단층 화상을 가산 평균하여 한 장의 독영용 화상을 얻는 경우에는 노이즈로 간주하여 소실되어 버리는 스펙클 패턴이, 얻어진 새로운 단층 화상에서는 역으로 강조되어 눈에 띄게 되기 때문에, 스펙클 패턴을 적극적으로 이용해 단층 화상으로부터 보다 상세한 안저 조직 상태에 관한 정보를 얻으려고 할 경우에 지극히 유효한 화상을 얻을 수 있다.

또한, 일반적으로 화상의 압축이란 화상 데이터의 용량을 축소하는 의미로 사용되고 있지만, 본 발명에 있어서의 압축은 그러한 의미에 한정되지 않고, 화상의 특정 방향의 사이즈만이 축소되는 경우나, 복수의 화상을 가산 평균 처리에 의해 하나의 화상으로 하는 경우, 복수의 화상을 필터 처리에 의해 하나의 화상으로 하는 경우, 복수의 화상으로부터 하나의 화상을 선택하는 경우 등도 포함하는 개념이다.

상기 발명(발명 2)에 있어서는, 상기 화상 처리수단이, 상기 제2의 스캔 간격으로 촬영된 단층상의 화상을 구성하는 A스캔 화상을 n개 마다 주사 방향으로 압축하고, 압축된 A스캔 화상의 각각을 주사 방향으로 결합하여 상기 새로운 단층 화상을 생성하는 것이 바람직하다(발명 3).

상기 발명(발명 3)에 있어서는, 상기 압축된 A스캔 화상의 각각이, n개의 A스캔 화상을 주사 방향으로 가산 평균 처리하는 것에 의해 생성되어도 좋고(발명 4), 상기 압축된 A스캔 화상의 각각이 n개의 A스캔 화상을 필터 처리하는 것에 의해 생성되어도 좋다(발명 5).

상기 발명(발명 1~4)에 있어서는, 상기 제2의 스캔 간격이, 상기 제1의 스캔 간격의 1/n인 것이 바람직하다(발명 6).

본 발명의 단층상 촬영 장치에 의하면, 독영에 적절한 고품질이면서 고밀도의 독영용 화상을 얻을 수 있다.

도 1은 본 발명의 일실시 형태에 따른 단층상 촬영 장치의 전체 구성을 나타내는 광학도이다.
도 2는 동실시 형태에서 실시되는 고밀도 스캔 및 화상 압축의 개념을 나타낸 설명도이다.
도 3은 다른 실시 형태에서 실시되는 고밀도 스캔 및 화상 압축의 개념을 나타낸 설명도이다.
도 4는 종래의 가산 평균에 의해 독영용 화상을 얻는 방법과, 본 발명의 고밀도 스캔 및 화상 압축에 의해 독영용 화상을 얻는 방법을 대비한 설명도이다.
도 5는 본 발명의 화상 압축의 다른 실시 형태를 설명하는 개념도이다.
도 6은 본 발명의 화상 압축의 다른 실시 형태를 설명하는 개념도이다.

이하, 본 발명의 실시 형태를 도면에 근거해 상세하게 설명한다. 도 1에 도시한 바와 같이, 본 실시 형태에 따른 단층상 촬영 장치는 피검안(E)의 안저를 촬영 대상 물체로 하고, 해당 안저의 원하는 영역의 단층상을 래스터 주사에 의해 촬영하는 것이다. 부호 10으로 나타내는 부분은 분파/합파 광학계로, 이 광학계에는, 파장이 700nm~1100nm이고, 수㎛~수십㎛ 정도의 시간적 가간섭 길이의 광을 발광하는, 예를 들면 고휘도 다이오드(super lumnescent diode:SLD)로 이루어지는 광대역인 저간섭성 광원(11)이 설치된다.

저간섭성 광원(11)에서 발생한 저가간섭 길이 광은, 광량 조절 기구(12)를 통해 광량이 조절되고 광섬유(13a)에 의해 광 결합기(13)로 입사하고, 계속하여 광섬유(13b), 콜리메이터 렌즈(14)를 통해 분할 광학 소자로서의 빔 분할기(20)로 안내된다. 또한, 광 결합기(13) 대신에 광서큘레이터를 이용하여 분파, 합파하도록 해도 좋다.

빔 분할기(20)에 입사한 광은 참조광과 측정광으로 분할된다. 측정광은 초점 렌즈(31)로 입사하고, 측정광이 피검안(E)의 안저에 초점이 맞춰진다. 안저에 초점이 맞은 측정광은 미러(32)에서 반사되어 렌즈(33)를 통과하고, x축 주사 미러(갈바노 미러)(34), y축 주사 미러(갈바노 미러)(35)에서 임의의 방향으로 주사 된다. x축 주사 미러(34) 및 y축 주사 미러(35)에서 주사된 측정광은 스캔 렌즈(36)를 통과하고, 다이크로익 미러(37)에서 반사된 후, 대물렌즈(38)를 통과하여 안저에 입사하고, 안저가 측정광으로 x, y방향으로 주사된다. 안저에서 반사된 측정광은 상기의 경로를 반대로 올라가 빔 분할기(20)로 돌아온다.

이러한 광학계에서, 빔 분할기(20)로부터 후술하는 초점 렌즈(31), 미러(32), 렌즈(33), x축 주사 미러(34), y축 주사 미러(35), 스캔 렌즈(36), 다이크로익 미러(37) 및 대물렌즈(38)는 단층상 촬영 장치의 측정 광학계(30)를 구성하고 있다. 이 측정 광학계에는, 도시한 광학 부품 이외에도 적당히 미러, 렌즈 등의 광학 부품이 설치되어 있지만, 번잡함을 피하기 위해서 생략되어 있다.

한편, 빔 분할기(20)에서 분할된 참조광은, 미러(41)에서 반사된 후, 대물렌즈용 분산 보상 유리(42), 렌즈(43, 44)를 통과한다. 그 후, 미러(45)에서 반사되어, 대상 물체인 피검안(E)의 굴절률 분산을 보상하는 피검안 분산 보상 유리(50)를 통과한 후, 다이크로익 미러(46)에서 반사되고, 집광렌즈(47), 광량을 조절하는 가변 조리개(48)를 통과하여, 참조 미러(49)에 도달한다. 광로 길이를 맞추기 위해 집광렌즈(47), 가변 조리개(48)와 참조 미러(49)는, 도 1에 있어서 2중 화살표로 도시한 바와 같이, 일체로 광축 방향으로 이동한다. 참조 미러(49)에서 반사된 참조광은 상기의 광로를 반대로 올라가 빔 분할기(20)로 돌아온다.

이러한 광학계에서, 미러(41), 대물렌즈용 분산 보상 유리(42), 렌즈(43, 44), 미러(45), 피검안 분산 보상 유리(50), 다이크로익 미러(46), 집광렌즈(47), 참조 물체로서의 참조 미러(49)는 단층상 촬영 장치의 참조 광학계(40)를 구성하고 있다. 이 참조 광학계에는, 도시한 광학 부품 이외에도 적당히 미러, 렌즈 등의 광학 부품이 설치되어 있지만, 번잡함을 피하기 위해서 생략되고 있다.

빔 분할기(20)로 돌아온 측정광과 참조광은 중첩되어 간섭광으로 되고, 콜리메이터 렌즈(14), 광섬유(13b), 광 결합기(13)를 지나고, 광섬유(13c)를 통해 분광기(16)에 입사한다. 분광기(16)는 회절 격자(16a), 결상 렌즈(16b), 라인 센서 (16c) 등을 가지고 있고, 간섭광은, 회절 격자(16a)에서 저가간섭 길이광의 파장에 따른 스펙트럼으로 분광되어 결상 렌즈(16b)에 의해 라인 센서 (16c)에 결상된다.

라인 센서(16c)로부터의 신호는, 컴퓨터(17)의 CPU 등으로 실현되는 단층 화상 생성 수단(18)에서 푸리에 변환을 포함한 신호 처리가 행해지고, 안저의 깊이 방향(z방향)의 정보를 나타내는 깊이 신호가 생성된다. 안저의 주사의 각 샘플링 시점에서의 간섭광에 의해 그 샘플링 시점에서의 깊이 신호(A스캔 화상)가 얻어지기 때문에, 1 주사가 종료하면, 그 주사 방향에 따른 Z방향 화상(A스캔 화상)으로 이루어지는 이차원의 단층 화상(B스캔 화상)을 생성할 수 있다.

컴퓨터(17)는, 단층 화상 생성 수단(18)에서 2차원 단층 화상을 생성하는 외에 생성한 단층 화상을 주사 방향으로 압축하여 새로운 단층 화상을 생성하는 화상 처리수단(19)으로서의 기능도 가진다.

다음에, 피검안(E)의 안저를 소정의 스캔 간격보다 좁은 스캔 간격으로 주사하여 피검안(E)의 안저의 단층상을 촬영하고, 그 높은 스캔 밀도로 촬영된 단층상으로부터 단층 화상을 생성하고, 생성된 단층 화상을 주사 방향으로 압축하여 새로운 단층 화상을 생성하는 흐름을 설명한다. 도 2는 본 실시 형태에서 실시되는 고밀도 스캔 및 화상 압축의 개념을 나타낸 설명도이며, 상술한 단층상 촬영 장치를 이용하여, 고밀도 스캔에 의해 안저의 단층 화상을 얻어 화상 처리 하는 공정이 모식적으로 도시되어 있다. 또한 도 2, 도 3에 있어서, 안저(100)는 도 1의 피검안(E)의 안저에 대응하고, y축 주사 미러(35)는 고정되어 있어, x축 주사 미러(34)가 안저의 Y방향으로 보아 동일 개소를 X방향(수평 방향)으로 주사하는 것으로 한다.

도 2에 있어서, (a)에 나타낸 안저(100)의 소정 영역(100a)은, 소정의 스캔 속도(S_H)로 X방향(수평 방향)으로 폭(D)에 걸쳐 스캔되고, 그 스캔선이 점선으로 도시되어 있다. 또한, 소정의 스캔 속도(S_H)란, 통상 안저의 단층상을 촬영할 때 X방향으로 주사되는 스캔선의 표준 속도이고, 본 실시 형태에서는, 예를 들면 주사폭(D)이 5 mm일 때, 이 폭(D)을 약 0.01~0.02초에 걸쳐 주사할 때의 스캔선의 속도이다. 이 X방향 스캔 시, 각 샘플링 시점(ti)(i=1, 2, 3,……)에서 단층 화상이 취득된다. 이 단층 화상은 A스캔 화상이라고 불리고, 각 샘플링 시점에서의 스캔선의 위치에 있어서의 안저의 Z방향(깊이 방향)의 화상을 나타내고 있어, 이 각각의 A스캔 화상의 망막 상의 위치의 차(B스캔 방향의 위치의 차의 길이)가 스캔 간격으로 된다. 본 실시 형태에서는, A스캔 화상은 X방향의 폭이 1 화소, Z방향으로 10 화소의 길이를 가지고 있다. A스캔 화상의 폭 및 길이는 예시적인 것으로, 이 예로 한정되는 것은 아니다.

도 2의 (b)에는, 이와 같이 하여 얻은 샘플링 시점(t1, t2,……)에서의 A스캔 화상(A1, A2,……)이 도시되어 있고, 샘플링 시점(t10)에서의 스캔선의 안저 위치(Δ)에 있어서의 A스캔 화상(A10)과, 샘플링 시점(t20)에서의 스캔선의 안저 위치(Ο)에 있어서의 A스캔 화상(A20)이 사선으로 도시되어 있다. 취득된 각 A스캔 화상은 컴퓨터(17) 내의 기억부(도시하지 않음)에 각각 화소를 대응시켜 기억된다.

X방향 스캔은 샘플링 시점(t20)에서 종료하므로, 그 후 최초의 위치로 돌아와 같은 개소가 스캔된다. 도 2(a)에서는 2번째의 스캔선은 최초의 스캔선과 상하 방향으로 어긋나 있지만, 이것은 설명하기 위한 것으로, 실제로는 중복 된 스캔선이 된다.

2번째 스캔선에서는, 샘플링 시점(t1~t20)에서 얻은 것과 같은 개소를 스캔하여 얻어진 A스캔 화상(A21~A40)이 샘플링 시점(t21~40)에서 얻어지고, 각각 컴퓨터(17)의 기억부에 기억된다. A스캔 화상(A1~A20)은 안저의 X방향 폭(D)에 걸쳐 단층 화상을 나타내고 있고, A스캔 화상(A1~A20)으로 이루어지는 화상은 B스캔 화상으로도 불린다. 또, A스캔 화상(A21~A40)에 의해, A스캔 화상(A1~A20)으로 이루어지는 B스캔 화상(B1)과 같은 개소의 B스캔 화상(B2)이 취득되고, 2 프레임의 점선으로 나타낸 단층 화상(B1, B2)이 컴퓨터(17)의 기억부에 기억된다.

본 실시 형태에서는, 소정의 스캔 간격(P_H)의 점선으로 나타낸 스캔선보다 좁은 스캔 간격(P_L)으로 같은 안저 영역(100a)이 주사된다. 도 2에서는 이 스캔선이 실선으로 도시되어 있다. 모든 스캔선이 안저의 동일 개소를 X방향으로 주사하기 때문에, 각 스캔선은 중복된 선으로 도시해야 하지만, 설명을 위해서 상하 방향으로 어긋나게 도시되어 있다.

실선으로 나타낸 스캔선은 점선으로 나타낸 스캔선보다, 예를 들면 1/n(n는 2 이상의 정수)배의 스캔 간격이며, 도 2에서는, n=2로 되어 있다. 따라서, 안저 영역(100a)은 스캔 간격(P_H)보다 1/2좁은 스캔 간격, 즉 스캔 간격(P_H)의 절반의 간격인 스캔 간격(P_L)으로 X방향으로 주사된다.

안저 영역(100a)은 좁은 스캔 간격(P_L)으로 주사되기 때문에, 각 샘플링 시점(ti)에서의 스캔선의 안저 위치는, 수평 방향으로 봤을 때 소정의 스캔 간격(P_H)(도 2에서는 좁은 스캔 간격(P_L)의 2배의 폭)의 스캔선에서의 샘플링 시점(ti)에서의 스캔선의 안저 위치의 1/2의 거리에 있고, 안저는 1/2 가늘고 X방향으로 고밀도로 주사된다. 여기서, 고밀도의 좁은 간격에서의 스캔은, 소정의 스캔 속도(S_H)에 대해서 1/2의 속도로 행해지는 저속(S_L)의 B스캔으로 되고, 소정의 스캔 간격에서의 스캔은 저속 스캔에 대해 2 배속의 고속(S_H)의 B스캔으로 된다. 따라서, 저속(S_L)의 스캔선은, 예를 들면 샘플링 시점(t8)에서는, 배속(S_H)의 스캔선이 샘플링 시점(t4)에서 주사한 안저 위치를 샘플링하고, 그 시점에서의 A스캔 화상(A8)이 취득되고, 샘플링 시점(t9)에서는, 배속(S_H)의 스캔선이 샘플링 시점(t4)과 시점(t5)의 중간 시점에서 주사한 안저 위치를 샘플링하고, 그 시점에서의 A스캔 화상(A9)이 얻어지고, 샘플링 시점(t10)에서는, 배속(S_H)의 스캔선이 샘플링 시점(t5)에서 주사한 안저 위치를 샘플링하고, 그 시점에서의 A스캔 화상(A10)이 얻어진다. 이하 마찬가지로, 배속(S_H)의 스캔선의 각 샘플링 시점과 그 중간의 각 시점에서 주사한 안저 위치를 샘플링하고, 스캔 화상(A11~A20)이 얻어진다. 저속(S_L)의 스캔선은 샘플링 시점(t20)의 시점에서도, 스캔 대상이 되는 폭(D)의 1/2 밖에 주사하고 있지 않기 때문에, 나머지의 1/2를 샘플링 시점(t21~t40)에서 샘플링하고, 도 2의 (c)에 나타내는 바와 같은 A스캔 화상(A1~A40)으로 이루어지는 B스캔 화상(B3)이 얻어진다.

이와 같이, 촬영 대상인 X방향 폭(D)을 소정의 스캔 간격(P_H)보다 1/2의 폭의 스캔 간격인 스캔 간격(P_L)으로 주사하여 얻어진 B스캔 화상을 구성하는 A스캔 화상의 수(40개)는, 동일한 X방향 폭(D)을 소정의 스캔 간격(P_H)으로 주사하여 얻어진 B스캔 화상을 구성하는 A스캔 화상의 수(20개)보다 많아진다. 즉, 동일 개소를 1/2의 스캔 간격으로 촬영하는 것은 1/2 저속의 스캔 속도로 촬영하게 되고, 소정의 간격에서의 스캔 간격, 즉 배속의 스캔선의 각 샘플링 시점과 각 샘플링 시점의 중간 시점에서의 안저 위치를 샘플링하게 되고, 2배의 샘플링수로 안저를 세밀하고 고밀도로 주사하게 되므로, 그 만큼 정밀도 높은 단층 화상을 얻을 수 있게 된다. 다만, 각 단층 화상을 구성하는 A스캔 화상 각각의 측정폭(1 화소)은 변하지 않기 때문에, 이와 같이 하여 얻어지는 B스캔 화상(B3)은 X방향으로 연장한 화상으로 된다. 다시 말해서, 망막 상에서 D에 상당하는 범위에서의 B스캔 화상(B3)의 전체 폭에서의 화소수는, B스캔 화상(B1, B2)의 화소수의 2배가 된다.

이 고밀도의 스캔 간격(P_L)에서 얻어진 B스캔 화상(B3)은, 도 2의 (e)에 도시한 바와 같이, X방향으로 압축되어, 새로운 B스캔 화상(B4)이 생성된다. 소정의 스캔 간격(P_H)보다 1/n의 폭의 스캔 간격(P_L)에서 얻어진 B스캔 화상을 주사 방향(X방향)으로 압축하려면, A스캔 화상을 n개 마다 주사 방향으로 압축하고, 압축된 A스캔 화상의 각각을 주사 방향으로 결합하여 새로운 단층 화상을 생성한다. 본 실시 형태에 있어서는, 스캔 간격이 1/2로 된 것에 의해 B스캔 화상(B3)을 구성하는 A스캔 화상의 수는 2배로 되어 있기 때문에, B스캔 화상(B3)을 구성하는 A스캔 화상(A1~A40)을 2개 마다 X방향으로 압축한다.

구체적으로는, 도 2(d)에 도시한 바와 같이, A스캔 화상(A1과 A2)의 각 화소를 X방향으로 가산 평균하여 새로운 A스캔 화상(A1')을 작성하고, 이하 마찬가지로 A스캔 화상(A3와 A4), A스캔 화상(A5와 A6,……), A스캔 화상(A39와 A40)를 각각 가산 평균하여 새로운 A스캔 화상(A2', A3',……A20')를 작성한다. 그리고, 이와 같이 작성된 A스캔 화상(A1'~A20')을 X방향으로 결합하여 도 2(e)에 도시한 바와 같은 화상이 B스캔 화상(B1, B2)의 각 화상에 상당하는 새로운 B스캔 화상(B4)을 생성한다.

또한, 본 실시 형태에서는 2개의 A스캔 화상을 주사 방향으로 가산 평균하여 새로운 1개의 A스캔 화상을 작성했지만, 예를 들면, 2개의 A스캔 화상을 필터 처리하는 것에 의해 새로운 1개의 A스캔 화상을 작성해도 좋다. 필터 처리로서는 이동 평균 처리나 중앙치 처리 등이 생각된다. 또, 2개의 A스캔 화상에 대해 필터 처리를 실시하고 나서 가산하는 등의 압축 처리를 실시해도 좋다.

이와 같이 수평 방향으로 압축된 B스캔 화상(B4)의 X방향의 화상의 폭은, 소정의 간격폭(P_H)의 스캔으로 얻어진 B스캔 화상(B1, B2)의 화상의 폭과 같게 되어 있다. 한편, B스캔 화상(B4)은, 고밀도의 B스캔 화상(B3)을 수평 방향으로 가산 평균하여 얻어지는 것이고, 각 화소가 안저의 세세한 부분을 기록하고 있다. 따라서, 각 화소의 가산 평균도 마찬가지로 세세한 부분의 가산 평균치로 되어 있기 때문에, B스캔 화상(B4)은 B스캔 화상(B1, B2)보다 세세한 부분의 재현성이 뛰어난 화상(세밀한 화상)으로 되어 있다.

상술한 바와 같이 얻어진 B스캔 화상(B4)은, B스캔 화상(B1, B2)보다 세밀한 화상인 동시에, 스펙클 패턴이 강조되어 눈에 띄게 되기 때문에, 스펙클 패턴을 적극적으로 이용해 단층 화상으로부터 보다 상세한 안저 조직의 상태에 관한 정보를 얻으려고 할 경우에 지극히 유효하다. 스펙클 패턴이란, 측정 대상에 있어서의 산란체로부터의 산란광의 무수한 중첩에 의해 산란광 강도가 높은 부분과 낮은 부분이 생기는 현상에 따른 화상 패턴이다. 스펙클 패턴 자체는 측정 대상인 안저의 구조를 직접 반영하는 것은 아니지만, 안저의 상태에 따라 그 생기는 형태에 변화가 인정되는 것이기 때문에, 스펙클 패턴을 단지 노이즈로 간주하지 않고, 그 통계적 성질을 적극적으로 활용하는 것이 연구되고 있다.

종래와 같이 복수의 B스캔 화상을 가산 평균하여 노이즈가 적은 독영용 화상을 생성하면 스펙클 패턴은 없어지지만, 본 실시 형태와 같이 주사 방향으로 압축하여 독영용 화상을 생성하는 경우, 스펙클 패턴이 강조되어 눈에 띄게 된다. 이것은 다음과 같은 이유에 의한 것이다.

고밀도 스캔에서는 가산 대상의 샘플링끼리의 시간 간격이 매우 짧고, 주사 속도도 늦기 때문에, 샘플링 시간 중의 공간 이동거리도 짧아지고, 샘플링 중에 스펙클 패턴은 거의 변화하지 않고, 고콘트라스트의 스펙클 신호가 관측될 수 있다. 한편, 저밀도 스캔에서는, 주사 속도가 빠르기 때문에 샘플링 시간 중에 이동하는 공간 거리가 길고, 그 사이에 스펙클 패턴은 변화하고, 그 평균치가 샘플링 되게 되기 때문에, 스펙클의 콘트라스트가 낮아진다. 또, 가산 대상의 샘플링끼리의 시간 간격도 길기 때문에, 고시 미동에 의한 위치 어긋남에 의해서도 스펙클 패턴이 크게 변화하게 된다. 때문에, 가산 평균 처리 후의 화상에 있어서 스펙클의 콘트라스트가 더 저하하게 된다.

예를 들면, 도 2에 나타낸 B스캔 화상(B1)과 B스캔 화상(B2)을 가산 평균하여 독영용 화상을 작성하는 경우, 위치 어긋남이 없는 것을 전제로 하면, B스캔 화상(B1의 A1)과 B스캔 화상(B2의 A21), B스캔 화상(B1의 A2)와 B스캔 화상(B2의 A22,……), B스캔 화상(B1의 A20)과 B스캔 화상(B2의 A40)을 각각 가산 평균한다.

여기서, B스캔 화상(B1의 A1)의 샘플링 시점(t1)과 B스캔 화상(B2의 A21)의 샘플링 시점(t21)의 간격은 스캔 1회분이다. 이 스캔 1회분 사이에 고시 미동에 의해 스펙클 패턴이 변화하면, A1과 A21를 가산 평균했을 때에 다른 노이즈와 같이 스펙클 패턴도 소실되어 단층 구조만 남는다. 가산 평균하는 A스캔 화상의 샘플링 시간의 간격(화상을 얻은 시간의 차)이 길어지면 길어질 수록 고시 미동에 의해 스펙클 패턴이 변화할 가능성이 높아진다.

한편, 본 실시 형태에서는 측정폭이 B스캔 화상(B1, B2)의 측정폭의 2배인 B스캔 화상(B3)의 화상의 전체 폭을 B스캔 화상(B1, B2)의 화상의 전체 폭과 거의 같게 되도록 압축하기 위해, 인접하는 2개의 A스캔 화상을 가산 평균하여 새로운 A스캔 화상을 작성하고, 그것들을 결합하여 새로운 B스캔 화상(B4)을 얻는 것이지만, 가산 평균하는 2개의 A스캔 화상(A1)과 A스캔 화상(A2), A스캔 화상(A3)과 A스캔 화상(A4,……)은 각각 연속하여 샘플링된 것이며, 2개의 A스캔 화상의 샘플링 시간 간격(화상을 얻은 시간의 차)은 매우 짧다. 이 경우, 예를 들면 A스캔 화상(A1)과 A스캔 화상(A2)의 사이에서 고시 미동에 의해 스펙클 패턴이 변하지 않고 거의 같은 스펙클 패턴이 발생하고 있을 가능성이 높기 때문에, 가산 평균해도 다른 노이즈와 같이 소실되지 않고, 반대로 스펙클 패턴이 강조되어 눈에 띄게 된다.

다음에, 도 3에 나타내는 소정의 스캔 간격보다 1/10의 좁은 간격으로 고밀도의 스캔으로 안저의 단층 화상을 취득하여 화상 처리하는 공정을 설명한다(n=10의 경우). 또한 단층상 촬영 장치의 구조는 완전히 같고, 순서도 거의 같기 때문에, 중복되는 설명은 생략한다.

본 실시 형태에서는, 도 3(a)에 나타낸 안저(100)의 소정 영역(100a)을, 소정의 스캔 간격(P_H)으로 X방향(수평 방향)으로 폭(D)에 걸쳐 스캔한다. 소정의 스캔 간격(P_H)은 1 주사로 1000회 샘플링하고, 도 3(b)에 도시한 바와 같이, 각각 A스캔 화상(A1,……A1000)의 1000개의 A스캔 화상으로 이루어지는 B스캔 화상(B1), A스캔 화상(A1001,……A2000)으로 이루어지는 B스캔 화상(B2,……), A스캔 화상(A9001,……A10000)으로 이루어지는 B스캔 화상(B10)이 작성된다. 따라서, ti(n=1~10000)의 샘플링 시점이 있고, 생성되는 B스캔 화상(B1~B10)은 각각 같은 개소의 화상으로 되어 있어, 도 3(f)에 나타낸 바와 같이 10 프레임(10장)의 B스캔 화상이 얻어진다.

여기서, 고밀도의 좁은 간격에서의 스캔은, 소정의 스캔에 대해서 외관상 1/10의 속도로 진행되는 저속(S_L)의 스캔이 되고, 소정의 스캔은 저속 스캔에 대해 10 배속의 고속(S_H)의 스캔이 된다. 한편, 저속의 스캔 속도(S_L)는 소정의 스캔 속도(S_H)보다 1/10 저속이므로, 저속의 스캔 속도(S_L)의 스캔선은, 스캔 속도(S_H)의 스캔선의 샘플링 시점(t(i))과 샘플링 시점(t(i＋1))의 시점간의 주사 거리를 10 등분 한 각각의 거리에 위치하는 안저 부분을 샘플링 시점(t(10 i＋1), t(10 i＋2),……t(10i＋9), t(10i＋10))의 10개의 샘플링 시점에서 샘플링한다. 따라서, 1/10 저속의 스캔 속도(S_L)의 스캔에서는, 스캔 속도(S_H)의 스캔선의 각 샘플링 시점간의 10개소의 위치를 세밀하게 고밀도로 샘플링하고 있고, 1/10 저속의 스캔 속도(S_L)의 스캔에 의해 얻어지는 A스캔 화상은, 스캔 속도(S_H)의 스캔에 의해 얻어지는 A스캔 화상보다 10배 많아진다. 따라서, 도 3(a)에 나타낸 바와 같은 저속 스캔에 의한 샘플링 시점(t1,……t10000)에서의 샘플링에 의해, 도 3(c)에 도시한 바와 같이,, 속도(S_H)에서의 A스캔 화상수보다 10배 많은 10000개의 A스캔 화상(A1~A10000)으로 구성되는 B스캔 화상(B11)이 작성된다. B스캔 화상(B11)의 화상 전체의 폭은, B스캔 화상(B1, B2,……B10)의 각 화상의 전체의 폭의 10배로 되어 있다.

이 좁은 스캔 간격(P_L)에서 얻어진 B스캔 화상(11)은, 도 3의 (e)에 도시한 바와 같이, X방향으로 압축되어, 새로운 B스캔 화상(B12)이 생성된다. 본 실시 형태에 있어서는, 스캔 간격이 1/10로 된 것에 의해 B스캔 화상(11)을 구성하는 A스캔 화상의 수는 10배로 되어 있기 때문에, A스캔 화상을 10개 마다 X방향으로 압축한다. 구체적으로는, 인접하는 10개의 A스캔 화상(A1~A10, A11~A20, A21~A30,……A9991~A10000)마다, 도 3(d)에 도시한 바와 같이, A스캔 화상의 각 화소를 X방향으로 가산 평균하여 새로운 A스캔 화상(A1', A2',……A1000')을 1000개 작성하고, 이것들 1000개의 A스캔 화상을 X방향으로 결합하여 화상의 전체 폭이 B스캔 화상(B1~B10)의 각 화상의 전체 폭에 상당하는 새로운 B스캔 화상(12)을 생성한다.

본 실시 형태와 같이, 좁은 스캔 간격(P_L)으로 고밀도 스캔에 의해 얻어진 B스캔 화상(B11)을 주사 방향으로 압축하여 새로운 B스캔 화상(B12)을 생성하여 독영용 화상으로 하는 경우와, 종래와 같이 소정의 스캔 간격(P_H)으로 스캔하여 얻어진 복수(10장)의 B스캔 화상(B1, B2,……B10)을 가산 평균하여 1장의 독영용 화상으로 하는 경우를 비교하면, 일반적으로는 도 4와 같이 된다.

종래와 같이 10장의 B스캔 화상을 가산 평균 처리하는 경우, A스캔(샘플링) 갯수는 1장의 B스캔 화상에 대해 1000개가 되고, 10장으로 합계 10000개이다. 한편, 본 실시 형태와 같이 고밀도 스캔에 의해 얻어진 B스캔 화상을 주사 방향으로 압축하는 경우도 10000개이다. 1장 당의 B스캔 화상을 생성하기 위해서는, 일반적으로는 종래 기술보다 본 실시 형태가 10배의 시간을 필요로 하지만, 종래 기술에서는 10장의 B스캔 화상을 얻기 위해 전체적으로는 변하지 않는다. 또, 독영용 화상을 구성하는 A스캔 화상을 얻기 위해서 가산하는 회수도 모두 10회로 변하지 않는다.

그러나, 종래와 같이 10장의 B스캔 화상을 가산 평균 처리하는 경우는 가산되는 A스캔 화상의 샘플링 시간 간격(화상을 얻은 시간의 차)은 스캔 1회분 비어 있지만, 이것에 대해서 본 실시 형태와 같이 고밀도 스캔에 의해 얻어진 B스캔 화상을 주사 방향으로 압축하는 경우는 연속하여 샘플링된 10개의 A스캔 화상이 가산된다. 화상 간의 샘플링된 시간의 간격이 길면 길수록(화상을 얻은 시간의 차이가 클 수록) 스펙클 패턴의 변화도 커지기 때문에, 종래 기술에서는 가산 평균 처리에 의해 스펙클 패턴이 저감하고, 본 실시 형태에서는 가산 평균 처리에 의해 스펙클 패턴이 강조되게 된다.

한편, 본 실시 형태와 같이 고밀도 스캔을 실시하면, 1회의 스캔 시간이 종래방법에 비해 길어지므로, 그 사이의 피검안의 고시 미동의 문제에 대한 대응방안이 필요해진다. 구체적으로는, 종래 방법에서는 고시 미동의 영향은, 10장의 B스캔 화상을 가산 평균 처리하는 경우에 있어서, 각각의 화상의 위치 어긋남으로 나타나고 있었지만, 본 실시 형태에서는 고시 미동의 영향이 B스캔 화상 중의 왜곡으로 되어 나타난다. 이러한 왜곡이 발생한 화상을 그대로 이용하면 독영에 지장이 있기 때문에, 적당히 그 왜곡을 보정하는 것이 바람직하다. 보정의 방법의 하나로서는, 피검안의 시도(視度) 정보에 의해 추정되는 이상적 단층상 참조 모델을 모방하여 보정하는 방법도 있지만, 이 방법을 채용하는 것에 의해 반대로 그 피검안 특유의 형상의 상황을 오인할 가능성도 부정할 수 없다. 그리하여, 본 실시 형태에 있어서는, 고밀도 스캔을 실시하기 전 및/또는 후에 1회 내지는 소수회, 고밀도 스캔 하는 장소와 같은 장소를 고속 스캔하는 것에 의해 왜곡이 발생할 가능성이 낮은 화상(이하 기준 화상)을 취득해 두고, 고밀도 스캔으로 얻어진 단층 화상의 왜곡을 그 기준 화상을 사용하여 보정하는 방법을 채용한다.

이하, 기준 화상을 취득하는 과정을 위치 맞춤 스캔이라고 부른다. 이 위치 맞춤 스캔의 스캔 간격은 상술하는 제1의 스캔 간격이어도 좋지만, 단시간에 단층 화상을 취득하는 것이 바람직한 상황이므로, 제1의 스캔 간격보다 넓은 스캔 간격으로 단층 화상을 취득하는, 이른바 드래프트 스캔과 같은 스캔 간격이어도 좋다. 또한 고밀도 스캔 시의 스캔 간격은 상술한 대로, 제2의 스캔 간격으로 행해진다.

위치 맞춤용 기준 화상에는 주사 부위의 보다 정확한 구조 특징을 가지고 있는 것이 요구되지만, 상술한 바와 같이, 동일 부위를 주사했다고 해도, 고시 상태에 의해 얻어진 단층 화상의 구조는, 주사마다 다른 형태를 나타내는 경우가 있다. 때문에, 본 실시 형태에서는, 위치 맞춤용 기준 화상이 고밀도 단층 화상과 거의 동일한 촬영이 될(피검안 상의 같은 장소를 주사할) 가능성이 가장 높아지도록 하기 위해 고밀도 스캔 직전에 위치 맞춤 스캔으로 얻어진 단층상으로부터 기준 화상을 작성한다. 이 경우, 1회만 위치 맞춤 스캔을 하여 그 한 장을 기준 화상으로 해도 좋고, 혹은 여러 차례 위치 맞춤 스캔을 실시한 다음 얻어진 단층 화상군 중의 마지막 1장을 기준 화상으로 하는 것도 좋다. 그 외의 기준 화상의 결정 방법으로서는, 복수의 단층 화상군 중에서 상관이 가장 높은 1장을 선택하는 것, 복수의 단층 화상군의 단순 평균 화상으로 하는 것, 복수의 단층 화상군의 위치 맞춤 평균 화상인 것, 복수의 단층 화상군 중에서 상관이 가장 높은 1장을 기준으로 한 위치 맞춤 평균 화상인 것, 등 여러가지 변화가 생각된다.

위치 맞춤 스캔을 실행하여 기준 화상을 취득, 및 고밀도 스캔을 실행하여 고정밀의 단층 화상을 취득하면, 기준 화상과 고세밀의 단층 화상의 위치 맞춤을 실시한다. 이 위치 맞춤 방법으로서도 다양한 방법을 채용할 수 있다. 제1 예로서는, 분할선 중 동일한 1 내지 복수의 경계의 분할선을 바탕으로 실시하는 것이 생각된다. 또 제2 예로서는, 혈관 구조에 의한 단층 화상의 강약 패턴을 기초로 실시하는 것이 생각된다. 이 경우, 주사 방향(횡방향)의 배율 보정, 주사 속도 불균일의 보정이 가능해진다. 더욱이 제３예로서는, 동일한 1 내지 복수의 화상의 상관을 바탕으로 실시하는 것이 생각된다.

이와 같이, 위치 맞춤 스캔으로 얻어진 기준 화상과 고밀도 스캔으로 얻어진 단층 화상과의 사이에서 위치 맞춤을 실시하는 것에 의해, 고밀도 스캔 중에 일어나는 고시 미동의 영향을 최대한 줄일 수 있다.

또한, 재검사 시 등, 사전에 동일 피검안의 동일 개소의 촬영을 실시하였다면, 위치 맞춤 스캔을 생략하는 것도 가능하다. 이 경우, 팔로우 업(follow-up) 기능 등에 의해 동일 부위 촬영 재현성이 담보되고 있을 필요가 있지만, 별도 사전에 촬영한 동일 부위의 단층 화상을 기준 화상으로 할 수 있다. 또, 망막 구조의 형태적 변화나 위치 맞춤에 이용하는 특징 량에 변화가 없다고 인정되는 경우는, 과거 또는 장래 촬영하는 팔로우 업 기능에 의해 촬영되는 동일 부위의 단층 화상의 적용도 가능하다.

이와 같이, 본 실시 형태에 따른 단층상 촬영 장치에 의하면, 지극히 고품질의 세밀한 독영용 화상을 얻을 수 있다. 또, 이와 같이 주사 방향으로 압축하여 소정의 스캔 속도로 주사하여 얻어지는 단층 화상과 같은 측정폭의 단층 화상을 얻는 경우는, 소정의 스캔 속도로 주사하여 얻어지는 복수 장의 단층 화상을 가산 평균하여 한 장의 독영용 화상을 얻는 경우에는 노이즈로 간주되어 소실되어 버리는 스펙클 패턴이, 얻어진 새로운 단층 화상에서는 반대로 강조되어 눈에 띄게 되기 때문에, 스펙클 패턴을 적극적으로 이용하여 단층 화상으로부터 보다 상세한 안저 조직의 상태에 관한 정보를 얻으려고 할 경우에 매우 유효한 화상을 얻을 수 있다. 또 고밀도 스캔에서의 화상 취득 중에 고시 미동의 영향으로 발생하는 단층 화상의 왜곡은 그 사전 혹은 사후에, 보다 고속에서의 스캔(넓은 스캔 간격)으로 얻어지는 단층 화상 등을 이용하는 것에 의해, 왜곡 보정이 가능하다.

이상, 본 발명에 따른 단층상 촬영 장치에 대해 도면에 근거해 설명해 왔지만, 본 발명은 상기 실시 형태에 한정되지 않고, 다양하게 변경하여 실시가 가능하다.

예를 들면, 상술한 실시 형태에서는, 스캔 간격을 1/n로 하여 주사 했을 때, 해당 고밀도의 스캔으로 얻어진 B스캔 화상을 주사 방향으로 1/n로 압축하고 있지만, 스캔 간격의 배수(n)와 압축시의 배수(n)를 다르게 해도 좋다. 예를 들면, 1/10의 간격으로 주사하여 얻어진 B스캔 화상을 인접하는 10개의 A스캔 화상 마다 가산 평균하는 것이 아니라, 8~9개 마다 가산 평균하고, 압축된 새로운 B스캔 화상을 생성하도록 해도 좋다. 또, 압축 시의 n의 값에 따라서는, 압축된 B스캔 화상의 주사 방향 일 화소분에 상당하는 망막 상에서의 폭과, 소정의 간격의 스캔으로 얻어진 B스캔 화상의 측정폭이 다른 경우가 있지만, 두 B스캔 화상의 측정 폭에 상당하는 화상의 폭이 현저하게 다르지 않고, 실용상 상당한 값이 되어 있으면, 스캔 간격의 배수(n)와 압축시의 배수(n)를 다르게 해도 좋다. 더욱이, 이때, 동일한 A스캔 화상을 중복하여 연산에 이용해도 좋다. 이러한 실시 형태의 개념도를 도 5 및 도 6에 나타낸다.

예를 들면, 도 5의 좌측의 예는 지금까지 설명한 스캔 간격의 배수(n)와 압축 시의 배수(n)가 같은 경우이지만, 우측의 예는 소정의 간격으로 스캔했을 때의 샘플링 개수(L)보다 1개 샘플링이 더 많은 경우이다. 이때는 서로 인접하는 2개의 A스캔 화상을 중복하여 가산 평균해 나가는(즉, j=1~L이고, j번째의 A스캔 화상과 j＋1번째의 A스캔 화상, 그 다음 j＋1번째의 A스캔 화상과 j＋2번째의 A스캔 화상, 이라는 방식으로 가산 평균해 나간다) 것에 의해 압축된 새로운 B스캔 화상을 생성한다. 도 6의 예에서는, 소정의 간격으로 스캔한 샘플링 개수(P)로 이루어지는 B스캔 화상을, 인접하는 3개의 A스캔 화상마다 가산 평균해 나가지만, j=1~P이고, j번째의 A스캔 화상과 j＋1번째의 A스캔 화상과 j＋2번째의 A스캔 화상, 그 다음 j＋2번째의 A스캔 화상과 j＋3번째의 A스캔 화상과 j＋4번째의 A스캔 화상, 이라는 방식으로 3개의 A스캔 화상 중 주사 방향의 마지막 A스캔 화상은 중복하여 다음의 3개의 A스캔 화상의 조에도 이용하여 가산 평균해 나간다.

E 피검안
10 분파/합파 광학계
11 저간섭성 광원
12 광량 조절 기구
13 광 결합기
14 콜리메이터 렌즈
16 분광기
17 컴퓨터
18 단층 화상 생성수단
19 화상 처리수단
20 빔 분할기
30 측정 광학계
31 초점 렌즈
34 x축 주사 미러
35 y축 주사 미러
36 스캔 렌즈
37 다이크로익 미러
38 대물렌즈
40 참조 광학계
42 대물렌즈용 분산 보상 유리
46 다이크로익 미러
47 집광렌즈
48 가변 조리개
49 참조 미러
50 피검안 분산 보상 유리

Claims

피검안 안저 상에 측정광을 주사시켜 이 피검안 안저의 단층상을 촬영하는 단층상 촬영수단과,
상기 촬영된 단층상의 화상을 주사 방향으로 압축하여 새로운 단층 화상을 생성하는 화상 처리수단을 구비하는 것을 특징으로 하는, 단층상 촬영 장치.
상기 단층상 촬영수단이, 제1의 스캔 간격보다 좁은 제2의 스캔 간격으로 주사하여 피검안 안저의 단층상을 촬영하고,
상기 화상 처리수단이, 상기 제2의 스캔 간격으로 촬영된 단층상의 화상을 주사 방향으로 압축하여 새로운 단층 화상을 생성하고,
상기 새로운 단층 화상의 주사 방향의 측정폭이, 상기 제1의 스캔 간격으로 주사하여 얻어지는 단층 화상의 주사 방향의 측정폭에 상당하는 화상의 폭인 것을 특징으로 하는, 단층상 촬영 장치.
제 2 항에 있어서,
상기 화상 처리수단이, 상기 제2의 스캔 간격으로 촬영된 단층상의 화상을 구성하는 A스캔 화상을 n개 마다 주사 방향으로 압축하고, 압축된 A스캔 화상의 각각을 주사 방향으로 결합하여 상기 새로운 단층 화상을 생성하는 것을 특징으로 하는, 단층상 촬영 장치.
제 3 항에 있어서,
상기 압축된 A스캔 화상의 각각이, n개의 A스캔 화상을 주사 방향으로 가산 평균 처리하는 것에 의해 생성되는 것을 특징으로 하는, 단층상 촬영 장치.
제 3 항에 있어서,
상기 압축된 A스캔 화상의 각각이, n개의 A스캔 화상을 필터 처리하는 것에 의해 생성되는 것을 특징으로 하는, 단층상 촬영 장치.
제 2 항 내지 제 5 항 중의 어느 한 항에 있어서,
상기 제2의 스캔 간격이, 상기 제1의 스캔 간격의 1/n인 것을 특징으로 하는, 단층상 촬영 장치.