KR20170026026A - A display device - Google Patents

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KR20170026026A
KR20170026026A KR1020150123279A KR20150123279A KR20170026026A KR 20170026026 A KR20170026026 A KR 20170026026A KR 1020150123279 A KR1020150123279 A KR 1020150123279A KR 20150123279 A KR20150123279 A KR 20150123279A KR 20170026026 A KR20170026026 A KR 20170026026A
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metal
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Abstract

A display device including an on-cell touch sensor according to an embodiment of the present invention includes a metal pattern formed along an outer periphery of a conductive layer deposited on an entire upper surface of an upper substrate. The contact resistance value between conductive layers in a metal cover plate connected to a ground wire is reduced and the deviation thereof is reduced by the metal pattern having a small thickness and a low sheet resistance value, so that the conductive layer is stably grounded. By electrically grounding the conductive layer through the metal pattern, the on-cell touch sensor disposed on the upper substrate may be minimally affected by other components of a cell as the on-cell touch sensor is physically close to other components of the cell. The noise that hinders the accurate sensing of the touch signal is minimized, thereby providing a display device capable of performing accurate touch recognition.

Description

표시 장치{A DISPLAY DEVICE}A DISPLAY DEVICE

본 발명은 표시 장치에 관한 것으로서, 보다 자세하게는 온-셀(on-cell) 방식의 터치 센서 및 금속 패턴을 포함하는 표시 장치를에 관한 것이다 BACKGROUND OF THE INVENTION 1. Field of the Invention The present invention relates to a display device, and more particularly, to a display device including a touch sensor and a metal pattern of an on-cell type

사용자의 터치를 인식하는 표시 장치를 구현함에 있어서, 종래에는 별도의 터치 스크린 패널을 제작하여, 표시 패널과 접합하여 왔다. 즉, 별도의 유리 기판, 플라스틱 기판, 필름 또는 시트를 지지 부재로 하여 터치 전극이 형성된 다음에, 터치 전극이 형성된 지지 부재가 접착 시트나 접착액에 의하여 표시 패널에 부착됨으로써, 표시 장치가 터치 기능도 함께 구현할 수 있었다. 그런데 최근에는 표시 장치의 경량, 박형화 추세에 힘입어, 종래의 방식에서 표시 패널 자체에 터치 센서를 형성하는 방식으로 기술 개발이 이루어지고 있다. 즉, 별도의 지지 부재를 사용함이 없이, 표시 패널 자체를 지지 부재로 하여 표시 패널에 터치 전극이 증착됨으로써, 터치 기능이 구현되는 표시 패널에 의해 표시 장치가 구현되고 있다. Conventionally, a separate touch screen panel has been manufactured and bonded to a display panel in realizing a display device recognizing a user's touch. That is, a touch electrode is formed by using a separate glass substrate, a plastic substrate, a film or a sheet as a supporting member, and then the supporting member having the touch electrode is attached to the display panel by the adhesive sheet or the adhesive liquid, Can be implemented together. However, in recent years, due to the trend of a lightweight and thin display device, technology has been developed by a method of forming a touch sensor on a display panel itself in a conventional method. That is, a display device is realized by a display panel in which a touch function is realized by using a display panel itself as a support member and a touch electrode is deposited on the display panel without using a separate support member.

표시 패널 자체에 터치 센서가 형성되는 경우에는 터치 센서가 표시 패널의 다양한 구성 요소들과 물리적으로 매우 가까이 위치하게 됨에 따라, 터치 센서와 다른 구성 요소들이 서로 끼치는 영향이 더욱 부각되기 시작했다. 표시 장치의 터치 센서에 의해 사용자의 터치가 보다 정교하게 인식되기 위해서는, 터치 센서에 의도치 않은 간섭을 미치는 요인을 제거할 필요가 있다.In the case where a touch sensor is formed on the display panel itself, the influence of the touch sensor and other components on each other becomes more and more evident as the touch sensor is physically located very close to the various components of the display panel. In order for the touch sensor of the display device to recognize the touch of the user more precisely, it is necessary to remove a factor that unintentionally interferes with the touch sensor.

종래의 방식에 대비하여, 터치 센서에 의해 사용자의 터치를 감지함에 있어 표시 패널의 다양한 구성 요소들로부터 터치 센서가 받는 직, 간접적인 영향이 커지게 된다. 특히, 터치 센서가 정전용량 방식(projected capacitive type)의 터치 센서일 경우, 터치 센서의 일 터치 전극과 사용자의 정전용량의 값을 측정하거나 사용자의 터치에 의한 터치 전극 사이의 정전용량 값을 측정함으로써 터치 신호가 인식되는데, 이 때, 표시 패널의 다양한 구성 요소들에 의한 간섭으로 인해 측정되는 정전용량 값이 변동될 가능성이 있다.In contrast to the conventional method, when the touch sensor senses the user's touch, the direct or indirect influence of the touch sensor on various components of the display panel is increased. Particularly, when the touch sensor is a projected capacitive type touch sensor, it measures the capacitance value of one touch electrode of the touch sensor and the user, or measures the capacitance value between the touch electrode by the touch of the user The touch signal is recognized. At this time, there is a possibility that the capacitance value measured due to the interference by various components of the display panel may be changed.

본 발명의 실시예에 따른 해결 과제는 온-셀 터치 센서를 내장한 표시 장치에 있어서, 터치 센서 아래에 기판의 전 면을 덮는 전도층 및 전도층의 가장자리를 따라 전도층에 직접 접하는, 박형의 금속 패턴을 포함하는 표시 장치를 제공하는 것이다. A problem to be solved by the present invention is to provide a display device having an on-cell touch sensor, which comprises a conductive layer covering a front surface of a substrate under a touch sensor, and a conductive layer directly contacting the conductive layer along an edge of the conductive layer, And a display device including the metal pattern.

또한, 본 발명의 실시예에 따른 다른 해결 과제는, 터치 센서의 터치 신호 감지에 대한 간섭을 차단하는 전도층 위에 온-셀 터치 센서가 내장되는 표시 장치를 제공하는 것이다. Another object of the present invention is to provide a display device in which an on-cell touch sensor is embedded on a conductive layer that interferes with touch signal sensing of a touch sensor.

또한, 본 발명의 실시예에 따른 다른 해결 과제는 전도성을 가지면서도 광투과성을 가지면서도 외광 반사가 낮은 수준의, 광학적 특성과 전기적 특성을 모두 만족하는 전도층을 포함하는 표시 장치를 제공하는 것이다.Another object of the present invention is to provide a display device including a conductive layer which is conductive and has a light transmittance and a low level of external light reflection and which satisfies both optical characteristics and electrical characteristics.

또한, 본 발명의 실시예에 따른 다른 해결 과제는 금속 패턴을 통하여 광 투과성의 전도층이 접지됨으로써, 금속 패턴이 없이, 전도층이 접지되는 경우에 대비하여, 보다 낮은 접촉 저항을 가지게 됨에 따라, 전도층이 보다 안정적으로 접지될 수 있는 표시 장치를 제공하는 것이다.Another problem to be solved by the present invention is to provide a light emitting device and a method of manufacturing the same, which are capable of reducing a contact resistance between the conductive layer and the light emitting device, because the light transmitting conductive layer is grounded through the metal pattern, And the conductive layer can be grounded more stably.

또한, 본 발명의 실시예에 따른 다른 해결 과제는 금속 패턴에 의해 전도층이 보다 안정적으로 접지됨에 따라, 터치 센서에 의해 감지된 터치 신호에 대한 노이즈가 최소화되는 표시 장치를 제공하는 것이다. According to another aspect of the present invention, there is provided a display device in which noises of a touch signal sensed by a touch sensor are minimized as the conductive layer is more stably grounded by a metal pattern.

또한, 본 발명의 실시예에 따른 다른 해결 과제는, 면저항 값이 낮으면서도, 박형으로 형성이 가능하면서도, 동시에 염분이나 수분에 의한 침식에 강한 금속 패턴을 포함하는 표시 장치를 제공하는 것이다. Another object of the present invention is to provide a display device including a metal pattern which can be formed into a thin shape while having a low sheet resistance value and is resistant to erosion by salt or moisture.

또한, 본 발명의 실시예에 따른 다른 해결 과제는, 전도층과 금속 패턴 사이의 접촉 저항이 낮으면서도, 금속 패턴의 삽입에도 불구하고 내로우 배젤(narrow-bezel)이 구현되는 표시 장치를 제공하는 것이다.Another object of the present invention is to provide a display device in which a narrow-bezel is realized despite the insertion of a metal pattern while the contact resistance between the conductive layer and the metal pattern is low will be.

또한, 본 발명의 실시예에 따른 다른 해결 과제는 금속 패턴 위에 있는 블랙 매트릭스에 의해 금속 패턴이 덮임으로써, 어떠한 시야각에서도 금속 패턴에 의한 외광 반사가 최소화된 표시 장치를 제공하는 것이다. Another object of the present invention is to provide a display device in which reflection of external light by a metal pattern is minimized at any viewing angle by covering a metal pattern with a black matrix on the metal pattern.

또한, 본 발명의 실시예에 따른 다른 해결 과제는 금속 패턴에 의해, 표시 장치에 축적된 정전기가 전도층을 통해 보다 효과적으로 방전되는 표시 장치를 제공하는 것이다.Another object of the present invention is to provide a display device in which static electricity accumulated in a display device is more efficiently discharged through a conductive layer by a metal pattern.

본 발명의 실시예에 따른 해결 과제는 이위에서 언급한 과제로 제한되지 않으며, 언급되지 않은 또 다른 과제들은 하의 기재로부터 본 발명이 속하는 기술분야에서 통상의 지식을 가진 자에 의해 명확하게 이해될 수 있을 것이다.The solutions according to the embodiments of the present invention are not limited to the problems mentioned above, and other problems not mentioned can be clearly understood by those skilled in the art from the description below There will be.

본 발명의 실시예에 따른 표시 장치는, 온-셀(on-cell) 정전용량 방식의 터치 센서, 터치 센서 하(下)에 배치되고, 가시광선 파장 영역에서의 평균 광투과도 95% 이상이면서 전도성을 가짐에 따라, 광투과 경로와 방전 경로를 제공하는 전도층 및 전도층의 평균 면저항 값보다 더 낮은 평균 면저항값을 가지고, 전도층의 가장자리를 따라서 전도층 위에 배치되는 금속 패턴을 포함한다. 전도층은 금속 패턴을 통하여 접지된다. 금속 패턴에 의하여, 전도층이 접지될 때 금속 패턴을 통하지 않고 접지되는 구조 대비하여, 터치 센서에 의해 감지된 터치 신호에 대한 노이즈가 최소화된다. The display device according to the embodiment of the present invention is a touch sensor of an on-cell capacitance type and a touch sensor which is disposed under the touch sensor and has an average light transmittance of 95% or more in a visible light wavelength region, And has a mean sheet resistance value lower than the average sheet resistance value of the conductive layer and the conductive layer which provide the light transmission path and the discharge path and is disposed on the conductive layer along the edge of the conductive layer. The conductive layer is grounded through the metal pattern. The noise due to the touch signal sensed by the touch sensor is minimized with respect to the structure in which the metal pattern is grounded when the conductive layer is grounded without passing through the metal pattern.

본 발명의 실시예에 따른 표시 장치는, 화상이 표시되는 표시 영역 및 표시 영역을 둘러싸는 비표시 영역으로 구획되고, 서로 마주하는 상부 기판 및 하부 기판; 상부 기판 및 하부 기판 위에 배치된, 온-셀(on-cell) 정전용량 방식의 터치 센서; 상부 기판의 상면을 덮는 광투과성의 전도층; 전도층의 가장자리를 따라 배치되고, 전도층의 평균 면저항 값 보다 더 낮은 평균 면저항 값을 가지는 금속 패턴; 및 금속 패턴의 상면을 덮도록 부착된 전도성 테이프; 및 상기 하부 기판의 하면을 덮고, 시스템의 접지 배선과 연결되도록 구현된 금속 커버 플레이트를 포함한다. 본 발명의 실시예에 따른 표시 장치는, 금속 패턴이 없는 구조 대비하여, 터치 센서에 의해 감지된 터치 신호에 대한 노이즈가 최소화되도록, 금속 패턴을 통하여 전도층과 전도성 테이프가 전기적으로 연결되고, 금속 커버 플레이트에서부터 전도층 사이의 접촉 저항 값이 최소화되도록, 전도성 테이프가 금속 커버 플레이트의 일 면에 부착됨으로써 금속 패턴과 상기 금속 커버 플레이트가 전기적으로 연결됨으로써 전도층이 접지된다. A display device according to an embodiment of the present invention includes an upper substrate and a lower substrate which are partitioned into a display region in which an image is displayed and a non-display region surrounding the display region, and which face each other; An on-cell capacitive touch sensor disposed on the upper substrate and the lower substrate; A light-transmissive conductive layer covering an upper surface of the upper substrate; A metal pattern disposed along an edge of the conductive layer and having an average sheet resistance value lower than an average sheet resistance value of the conductive layer; And a conductive tape adhered to cover the upper surface of the metal pattern; And a metal cover plate covering the lower surface of the lower substrate and connected to the ground wiring of the system. The conductive layer and the conductive tape are electrically connected to each other through the metal pattern so that the noise to the touch signal sensed by the touch sensor is minimized in comparison with the structure having no metal pattern, The conductive tape is attached to one surface of the metal cover plate so that the contact resistance value between the cover plate and the conductive layer is minimized so that the conductive layer is grounded by electrically connecting the metal pattern and the metal cover plate.

본 발명의 실시예에 관한 구체적인 사항들은 발명의 상세한 설명 및 도면들에 포함되어 있다.The details of the embodiments of the present invention are included in the detailed description and drawings of the present invention.

본 발명의 실시예에 따른 표시 장치는 온-셀 정전용량 방식의 터치 센서에 의해 사용자의 터치를 감지함에 있어, 표시 패널을 구성하는 다양한 구성 요소들로부터 터치 센서가 받는 직, 간접적인 간섭이 줄어든 표시 장치를 제공할 수 있다.In the display device according to the embodiment of the present invention, when the user touches the on-cell capacitive touch sensor, the touch sensor receives a direct or indirect interference from various components constituting the display panel, A display device can be provided.

본 발명의 실시예에 따른 표시 장치는 상부 기판의 상면을 전체적으로 덮는 전도층 및 전도층의 가장자리를 따라 전도층에 증착된, 박형의 금속 패턴에 의하여, 효과적인 방전 경로가 확보된 표시 장치를 제공할 수 있다.A display device according to an embodiment of the present invention provides a display device in which an effective discharge path is ensured by a thin metal pattern deposited on a conductive layer along an edge of a conductive layer and a conductive layer entirely covering an upper surface of an upper substrate .

또한, 본 발명의 실시예에 따른 표시 장치는 터치 센서의 터치 신호 감지에 대한 간섭을 차단하는 전도층 위에 온-셀 터치 센서가 배치됨으로써, 터치 기능이 향상된 표시 장치를 제공할 수 있다. In addition, the display device according to the embodiment of the present invention can provide a display device with improved touch function by disposing an on-cell touch sensor on a conductive layer that interferes with touch sensor sensing of a touch signal.

또한, 본 발명의 실시예에 따른 표시 장치는 전도층은 저굴절률을 가지는 층과, 고굴절률을 가지는 층이 교번 적층 배치됨으로써, 높은 광투과도 확보가 가능한, 표시 장치를 제공할 수 있다.Further, in the display device according to the embodiment of the present invention, the conductive layer can provide a display device capable of securing high light transmittance by alternately stacking a layer having a low refractive index and a layer having a high refractive index.

또한, 본 발명의 실시예에 따른 표시 장치는 전도성을 가지고 높은 광투과도를 가지면서도 동시에 외광에 대한 광반사도가 낮은, 광학적 특성과 전기적 특성을 모두 만족하는 전도층을 포함하는 표시 장치를 제공할 수 있다.Further, the display device according to the embodiment of the present invention can provide a display device including a conductive layer that has conductivity and has high light transmittance but also has low optical reflectance to external light and satisfies both optical characteristics and electrical characteristics have.

또한, 본 발명의 실시예에 따른 표시 장치는 금속 패턴을 통하여 광투과성의 전도층이 접지됨으로써, 금속 패턴이 없이 전도층이 접지되는 경우에 대비하여, 보다 낮은 접촉 저항을 가지게 됨에 따라 보다 안정적으로 전도층이 접지되는 표시 장치를 제공할 수 있다.Further, since the light-transmitting conductive layer is grounded through the metal pattern, the display device according to the embodiment of the present invention has a lower contact resistance as compared with the case where the conductive layer is grounded without a metal pattern, The display device in which the conductive layer is grounded can be provided.

또한, 본 발명의 실시예에 따른 표시 장치는 금속 패턴을 통하여 전도층과 전도성 테이프가 전기적으로 연결됨으로써, 전도성 테이프가 전도층에 직접적으로 부착되는 경우에 대비하여, 터치 센서에 의해 감지된 터치 신호에 대한 노이즈가 최소화되는 표시 장치를 제공할 수 있다. Further, in the display device according to the embodiment of the present invention, the conductive layer and the conductive tape are electrically connected to each other through the metal pattern, so that, in case that the conductive tape is directly attached to the conductive layer, Can be minimized.

또한, 본 발명의 실시예에 따른 표시 장치는 면저항 값이 낮으면서도, 박형으로의 형성이 가능하면서도, 동시에 염분이나 수분에 의한 침식에 강한 금속 패턴을 포함하는 표시 장치를 제공할 수 있다. Further, the display device according to the embodiment of the present invention can provide a display device including a metal pattern which can be formed into a thin shape while having a low sheet resistance value, and which is resistant to erosion due to salt or moisture.

또한, 본 발명의 실시예에 따른 표시 장치는, 금속 패턴의 삽입에도 불구하고 내로우 배젤(narrow-bezel)이 구현되는 표시 장치를 제공할 수 있다.Further, the display device according to the embodiment of the present invention can provide a display device in which a narrow-bezel is realized despite the insertion of the metal pattern.

또한, 본 발명의 실시예에 따른 표시 장치는 금속 패스가, 커버 윈도우에 형성된 블랙 매트릭스에 의하여 전부 덮임으로써, 사용자가 어떠한 시야각에서 표시 장치를 시청하더라도 금속 패턴에 의한 외광 반사가 최소화된 표시 장치를 제공할 수 있다.Further, in the display device according to the embodiment of the present invention, the metal pass is entirely covered by the black matrix formed on the cover window, so that the display device with minimal reflection of external light by the metal pattern, even if the user views the display device at any viewing angle .

또한, 본 발명의 실시예에 따른 표시 장치는, 금속 패턴에 의해 표시 장치에 축적된 정전기가 전도층을 통해 보다 효과적으로 방전되는 표시 장치를 제공할 수 있다.Further, a display device according to an embodiment of the present invention can provide a display device in which static electricity accumulated in a display device by a metal pattern is more effectively discharged through the conductive layer.

본 발명의 효과는 이위에서 언급한 효과에 제한되지 않으며, 언급되지 않은 또 다른 효과는 하의 기재로부터 본 발명이 속하는 기술분야에서 통상의 지식을 가진 자에 의해 명확하게 이해될 수 있을 것이다.The effects of the present invention are not limited to the effects mentioned above, and other effects not mentioned can be clearly understood by those skilled in the art from the description below.

이위에서 해결하고자 하는 과제, 과제 해결 수단, 효과에 기재한 발명의 내용이 청구항의 필수적인 특징을 특정하는 것은 아니므로, 청구항의 권리범위는 발명의 내용에 의하여 제한되지 않는다.The scope of claims of the claims is not limited by the content of the invention, as the contents of the invention described in the subject, the solution to the problem, and the effect to be solved by the specification do not specify essential features of the claims.

도 1은 본 발명의 실시예에 따른 표시 장치에서, 상부 기판, 하부 기판, 전도층, 금속 패턴 및 전도성 테이프의 위치 관계를 도시한 평면도이다.
도 2는 도 1의 A-A'에 대응하여, 본 발명의 실시예에 따른 표시 장치의 가장자리를 수직으로 절단한 단면의 단면도이다.
도 3은 본 발명의 실시예에 따른 표시 장치에서, 전도층에 대한 보다 상세한 단면도이다.
도 4는 본 발명의 실시예에 따른 표시 장치에서, 도 1의 X 영역에 대한 확대도이다.
도 5a는 본 발명의 실시예에 따른 표시 장치와 비교예에 대한, 접촉 저항 변동을 측정하여 정리한 표이다.
도 5b는 도 5a의 표를 도식화한 그래프이다.
1 is a plan view showing a positional relationship between an upper substrate, a lower substrate, a conductive layer, a metal pattern, and a conductive tape in a display device according to an embodiment of the present invention.
2 is a cross-sectional view of a cross section taken along the line A-A 'of FIG. 1, in which the edges of the display device according to the embodiment of the present invention are vertically cut.
3 is a more detailed cross-sectional view of a conductive layer in a display device according to an embodiment of the present invention.
FIG. 4 is an enlarged view of the display region of the display device according to the embodiment of FIG.
FIG. 5A is a table summarizing the contact resistance fluctuations for the display device and the comparative example according to the embodiment of the present invention. FIG.
FIG. 5B is a graph illustrating the table of FIG. 5A. FIG.

본 발명의 이점 및 특징, 그리고 그것들을 달성하는 방법은 첨부되는 도면과 함께 상세하게 후술되어 있는 실시예들을 참조하면 명확해질 것이다. 그러나 본 발명은 이아래에서 개시되는 실시예들에 한정되는 것이 아니라 서로 다른 다양한 형태로 구현될 것이며, 단지 본 실시예들은 본 발명의 개시가 완전하도록 하며, 본 발명이 속하는 기술분야에서 통상의 지식을 가진 자에게 발명의 범주를 완전하게 알려주기 위해 제공되는 것이며, 본 발명은 청구항의 범주에 의해 정의될 뿐이다. BRIEF DESCRIPTION OF THE DRAWINGS The advantages and features of the present invention, and the manner of achieving them, will be apparent from and elucidated with reference to the embodiments described hereinafter in conjunction with the accompanying drawings. The present invention may, however, be embodied in many different forms and should not be construed as being limited to the embodiments set forth herein. Rather, these embodiments are provided so that this disclosure will be thorough and complete, and will fully convey the scope of the invention to those skilled in the art. To fully disclose the scope of the invention to those skilled in the art, and the invention is only defined by the scope of the claims.

본 발명의 실시예들을 설명하기 위한 도면에 개시된 형상, 크기, 비율, 각도, 개수 등은 예시적인 것이므로, 본 발명이 도시된 사항에 한정되는 것은 아니다. The shapes, sizes, ratios, angles, numbers and the like described in the drawings for describing the embodiments of the present invention are merely exemplary and the present invention is not limited thereto.

본 명세서 전체에 걸쳐 동일 참조 부호는 동일 구성 요소를 지칭한다. Like reference numerals refer to like elements throughout.

본 발명을 설명함에 있어서, 관련된 공지 기술에 대한 구체적인 설명이 본 발명의 요지를 불필요하게 흐릴 수 있다고 판단되는 경우 그 상세한 설명은 생략한다. In the following description of the present invention, detailed description of known related arts will be omitted when it is determined that the gist of the present invention may be unnecessarily obscured by the present invention.

본 명세서 위에서 언급된 '포함한다', '갖는다', '이루어진다' 등이 이용되는 경우 '~만'이 이용되지 않는 이상 다른 부분이 추가될 수 있다. In the case where the word 'includes', 'having', 'done', or the like is used in the present specification, other portions may be added unless '~ only' is used.

본 명세서 위에서 구성 요소를 단수로 표현한 경우에 특별히 명시적인 기재 사항이 없는 한 복수를 포함하는 경우를 포함할 수 있다. In the specification, the singular forms of the components may include the plural unless otherwise expressly stated.

본 명세서 위에서 구성 요소를 해석함에 있어서, 별도의 명시적 기재가 없더라도 오차 범위를 포함하는 것으로 해석한다. In interpreting the constituent elements of the present specification, it is interpreted that the scope of error is included even if there is no separate description.

본 명세서 위에서 위치 관계에 대한 설명의 경우, 예를 들어, '~위에', '~상부에', '~하부에', '~옆에' 등으로 두 부분의 위치 관계가 설명되는 경우, '바로' 또는 ‘직접’ 또는 ‘접하여’가 함께 이용되지 않는 이상 두 부분 사이에 하나 이상의 다른 부분이 위치할 수도 있다. In the case of the description of the positional relationship in the present specification, for example, when the positional relationship between two parts is described as 'above', 'above', 'below', and 'next to' Quot; directly " or " tangent " is not used together, one or more other portions may be located between the two portions.

본 명세서 위에서 제1, 제2 등이 다양한 구성 요소들을 서술하기 위해서 이용되나, 이들 구성 요소들은 이들 용어들에 의해 제한되지 않는다. 이들 용어들은 단지 하나의 구성 요소를 다른 구성 요소와 구별하기 위하여 이용하는 것이다. 따라서, 이아래에서 언급되는 제1 구성 요소는 본 발명의 기술적 범위 내에서 제2 구성 요소일 수도 있다.In the present specification, the first, second, etc. are used to describe various components, but these components are not limited by these terms. These terms are only used to distinguish one component from another. Accordingly, the first component mentioned below may be the second component within the technical scope of the present invention.

본 명세서 위에서 본 발명의 구성 요소를 설명하는 데 있어서, 제1, 제2, A, B, (a), (b) 등의 용어를 이용할 수 있다. 이러한 용어는 그 구성 요소를 다른 구성 요소와 구별하기 위한 것일 뿐, 그 용어에 의해 해당 구성 요소의 본질, 차례, 순서 또는 개수 등이 한정되지 않는다. 어떤 구성 요소가 다른 구성 요소에 "연결", "결합" 또는 "접속"된다고 기재된 경우, 그 구성 요소는 그 다른 구성 요소에 직접적으로 연결되거나 또는 접속될 수 있지만, 각 구성 요소 사이에 다른 구성 요소가 "개재"되거나, 각 구성 요소가 다른 구성 요소를 통해 "연결", "결합" 또는 "접속"될 수도 있다고 이해되어야 할 것이다.In describing the elements of the present invention above, terms such as first, second, A, B, (a), and (b) can be used. These terms are intended to distinguish the components from other components, and the terms do not limit the nature, order, order, or number of the components. When a component is described as being "connected", "coupled", or "connected" to another component, the component may be directly connected or connected to the other component, Quot; intervening "or that each component may be" connected, "" coupled, "or " connected" through other components.

본 발명의 여러 가지 실시예의 각각 특징들이 부분적으로 또는 전체적으로 서로 결합 또는 조합 가능하고, 기술적으로 다양한 연동 및 구동이 가능하며, 각 실시예가 서로에 대하여 독립적으로 실시 가능할 수도 있고 연관 관계로 함께 실시 가능할 수도 있다.It is to be understood that each of the features of the various embodiments of the present invention may be partially or totally combined or combinable with each other, technically various interlocking and driving, and that each embodiment may be possible independently of one another, have.

다음에서 도 1 및 도 2를 참조하여 본 발명의 실시예에 따른 표시 장치를 설명한다. 도 1은 본 발명의 실시예에 따른 표시 장치에서, 상부 기판, 하부 기판, 전도층, 금속 패턴 및 전도성 테이프의 위치 관계를 도시한 평면도이다. Hereinafter, a display device according to an embodiment of the present invention will be described with reference to FIGS. 1 and 2. FIG. 1 is a plan view showing a positional relationship between an upper substrate, a lower substrate, a conductive layer, a metal pattern, and a conductive tape in a display device according to an embodiment of the present invention.

도 1을 참조하면, 본 발명의 실시예에 따른 표시 장치(100)는, 표시 영역(Active Area, A/A)과 표시 영역(A/A)에 이웃하는 비표시 영역(Inactive Area, I/A)으로 구획된다. 표시 영역(A/A)은 표시 장치(100)에서 실제 화상이 표시되는 영역이고, 비표시 영역(I/A)은 표시 장치(100)에서 실제 화상이 표시되는 영역 이외의 영역이다. 비표시 영역(I/A)은 표시 영역(A/A) 주변에 위치하면서, 표시 영역(A/A)을 둘러쌀 수 있다. 그리고 비표시 영역(I/A)은 링(ring)과 같은, 폐쇄된 루프(closed-loop) 형상일 수 있다. 1, a display device 100 according to an embodiment of the present invention includes a display area (Active Area, A / A) and a non-display area (Inactive Area, I / A). The display area A / A is an area where an actual image is displayed on the display device 100, and the non-display area I / A is an area other than the area where an actual image is displayed on the display device 100. The non-display area I / A can surround the display area A / A while being positioned around the display area A / A. And the non-display area I / A may be in a closed-loop shape, such as a ring.

서로 마주하는 상부 기판(110) 및 하부 기판(120)도 표시 영역(A/A) 및 표시 영역(A/A)을 둘러싸는 비표시 영역(I/A)으로 구획된다. 하부 기판(120)의 면적은 상부 기판(110)의 면적보다 더 클 수 있다. The upper substrate 110 and the lower substrate 120 facing each other are also divided into a display area A / A and a non-display area I / A surrounding the display area A / A. The area of the lower substrate 120 may be larger than the area of the upper substrate 110.

하부 기판(120) 및 상부 기판(110)은 표시 장치(100)에 포함되는 구성 요소들이 배치되는 지지부재 역할을 한다. 하부 기판(120) 및 상부 기판(110)의 평면의 형상은, 표시 장치(100)의 평면의 형상을 지시한다. 하부 기판(120) 및 상부 기판(110)은 평평한 상태로 고정되어 있거나, 휘어진 상태로 고정되어 있거나, 휘었다 펴는 것을 반복할 수 있다. 하부 기판(120) 및 상부 기판(110)은 유리 또는 플라스틱 계열의 고분자 물질로 이루어 질 수 있다. 하부 기판(120) 및 상부 기판(110)은 광투과성을 가짐으로써, 투명하거나 반투명일 수 있다.The lower substrate 120 and the upper substrate 110 serve as support members in which the components included in the display device 100 are disposed. The shape of the plane of the lower substrate 120 and the upper substrate 110 indicates the shape of the plane of the display device 100. [ The lower substrate 120 and the upper substrate 110 may be fixed in a flat state, fixed in a bent state, or warped. The lower substrate 120 and the upper substrate 110 may be formed of a polymer material of glass or plastic type. The lower substrate 120 and the upper substrate 110 may be transparent or translucent by having light transmittance.

상부 기판(110)의 일 면에, 표시 영역(A/A) 및 비표시 영역(I/A)에 걸쳐서 전체적으로 증착된 전도층(112)이 배치될 수 있다. 즉, 상부 기판(110)의 상면을 덮도록, 증착 가능한 물질로 이루어진 광투과성의 전도층(112)이 배치될 수 있다. 전도층(112)은 가시광선 파장 영역에서의 평균 광투과도가 95 % 이상이 됨에 따라, 표시 장치(100) 내부에서 발생하여 외부로 출사되는 광투과 경로로서 우수한 광학적 성능을 제공한다. 동시에, 전도층(112)은 가시광선 파장 영역에서의 평균 광반사도가 1 % 미만이 됨에 따라, 외부로부터 표시 장치(100)로 입사되는 외광 반사에 의하여 시인성이 저하되는 문제가 최소화된다. 전도층(112)은 전도성을 가지면서, 평균 면저항 200 Ω/(mm*mm) 미만으로 구현됨으로써, 효과적인 방전 경로가 될 수 있다. 즉, 전도층(112)은 가시광선 파장 영역에서의 평균 광투과도 95% 이상이고, 평균 광반사도 1 % 미만이며, 평균 면저항 200 Ω/(mm*mm) 미만의 전도성을 가질 수 있다.A conductive layer 112 deposited entirely over the display area A / A and the non-display area I / A may be disposed on one surface of the upper substrate 110. That is, a light-transmitting conductive layer 112 made of a vapor-depositable material may be disposed to cover the upper surface of the upper substrate 110. The conductive layer 112 provides excellent optical performance as a light transmission path generated inside the display device 100 and emitted to the outside as the average light transmittance in the visible light wavelength range becomes 95% or more. At the same time, as the average light reflectance of the conductive layer 112 in the visible light wavelength region becomes less than 1%, the problem of visibility deterioration due to external light reflection from the outside to the display device 100 is minimized. The conductive layer 112 has conductivity and is realized with an average sheet resistance of less than 200 OMEGA / (mm * mm), so that it can be an effective discharge path. That is, the conductive layer 112 may have an average light transmittance of 95% or more in a visible light wavelength region, an average light reflectance of less than 1%, and an average sheet resistance of less than 200? / (Mm * mm).

전도층(112)의 일 면에 금속 패턴(130)이 배치될 수 있다. 금속으로 구성되는 금속 패턴(130)은 불투명하다. 따라서, 금속 패턴(120)은 표시 영역(A/A)을 침범하지 않고, 비표시 영역(I/A)에 대응하여 배치될 수 있다. 예를 들어, 전도층(112)의 가장자리를 따라서 전도층(112) 위에 배치되도록, 전도층(112)의 제3 무기층(112_c)에 금속 패턴(130)이 직접 접하여 배치될 수 있다. 금속 패턴(130)이 전도층(112)과 이루는 계면의 면적이 넓을수록, 금속 패턴(130)과 전도층(112) 사이의 접촉 저항 값이 낮아지는 효과가 있다. 따라서, 금속 패턴은, 비표시 영역에 대응하여 배치됨에 있어 금속 패턴(130)과 광투과성의 전도층(112) 사이의 계면의 면적이 최대화 되도록, 금속 패턴(130)은 전도층(112)의 일 면의 가장자리를 따라 바(bar) 형상이나, 루프(loop)형상 등으로 구현될 수 있다. 예를 들어, 상부 기판(110)의 평면의 형상이 사각형일 경우, 금속 패턴(130)은 하나의 사각 링 형상이거나, 상부 기판(110)의 평면의 각 변에 대응하는 네 개의 바(bar) 형상일 수 있다. The metal pattern 130 may be disposed on one side of the conductive layer 112. The metal pattern 130 made of metal is opaque. Therefore, the metal pattern 120 can be arranged corresponding to the non-display area I / A without invading the display area A / A. The metal pattern 130 may be directly disposed on the third inorganic layer 112_c of the conductive layer 112 so as to be disposed on the conductive layer 112 along the edge of the conductive layer 112. [ The larger the area of the interface between the metal pattern 130 and the conductive layer 112 is, the lower the contact resistance value between the metal pattern 130 and the conductive layer 112 is. Therefore, the metal pattern 130 is disposed on the surface of the conductive layer 112 so that the area of the interface between the metal pattern 130 and the light-transmitting conductive layer 112 is maximized, A bar shape, a loop shape, or the like along the edge of one surface. For example, when the top surface of the upper substrate 110 has a rectangular shape, the metal pattern 130 may have a rectangular ring shape or four bars corresponding to the sides of the top surface of the upper substrate 110, Lt; / RTI >

금속 패턴(130)의 상면을 덮도록, 금속 패턴(130)의 상면 전체에 전도성 테이프(140)가 부착될 수 있다. 전도성 테이프(140)는 유연성이 있어 접힐 수 있다. 전도성 테이프(140)는 상부 기판(110)의 엣지(edge) 및 하부 기판(120)의 엣지(edge)에서 접혀서, 표시 장치(100)의 측면을 덮고, 표시 장치(100)의 배면에까지 닿을 수 있는 면적을 가진다. 예를 들어, 전도성 테이프(140)는 인듐-주석 산화물로 구성된 플렉서블 테이프일 수 있다. The conductive tape 140 may be attached to the entire upper surface of the metal pattern 130 so as to cover the upper surface of the metal pattern 130. [ The conductive tape 140 is flexible and can be folded. The conductive tape 140 is folded at the edge of the upper substrate 110 and the edge of the lower substrate 120 to cover the side surface of the display device 100 and reach the back surface of the display device 100 . For example, the conductive tape 140 may be a flexible tape composed of indium-tin oxide.

전도층(112)은, 금속 패턴(130)을 통하여 전도성 테이프(140)와 전기적으로 연결됨으로써 접지될 수 있다. 다음에서 도 2를 참조하여 본 발명의 실시예에 따른 표시 장치(100)에 대하여 보다 자세히 살펴본다.The conductive layer 112 may be grounded by being electrically connected to the conductive tape 140 through the metal pattern 130. Hereinafter, the display device 100 according to the embodiment of the present invention will be described in more detail with reference to FIG.

도 2는 도 1의 A-A'에 대응하여, 본 발명의 실시예에 따른 표시 장치의 가장자리를 수직으로 절단한 단면의 단면도이다.2 is a cross-sectional view of a cross section taken along the line A-A 'of FIG. 1, in which the edges of the display device according to the embodiment of the present invention are vertically cut.

도 2를 참조하면, 상부 기판(110)의 하면에 각 화소에 대응하는 컬러를 필터링하기 위한 컬러필터층(111)이 배치되고, 하부 기판(120)의 상면에 각 화소에 대응하는 화소 구동 회로를 포함하는 TFT층(121)이 배치된다. 컬러필터층(111)과 TFT층(121) 사이에는 광 제어 물질을 포함하는 광 제어층이 배치된다. 광 제어층은 표시 장치(100)의 화소 별로 특정한 밝기의 광이 출사될 수 있도록, 표시 장치(100)에서 발생한 광을 제어하고 필터링하는 층이다. 예를 들어, 광 제어층은 자체적으로 화소마다 밝기가 제어된 광을 발광하는 유기 발광 소자를 포함하는 유기 발광층일 수 있다. 또는, 후방의 백라이트 유닛(180)으로부터 발생한 광을 받아들여, 화소마다 밝기가 제어된 광이 출사되도록, 액정의 배향에 의해 광을 제어하는 액정층일 수 있다. 즉, 광 제어 물질은 액정이며, 액정의 배향이 화소 구동 회로에 의하여 제어됨으로써, 광 제어층을 통과하는 광이 제어될 수 있다. 도 2는 예시적으로 백라이트 유닛(180)을 포함함으로써, 본 발명의 실시예에 따른 표시 장치(100)가 액정 표시 장치인 경우를 도시하고 있으나, 본 발명은 이에 제한되지 않으며, 광을 발생하기 위한, 별도의 백라이트 유닛(180)이 필요하지 않은 유기 발광 표시 장치에 있어서는, 광 제어층이 육 발광 소자를 포함하며, 백라이트 유닛(180)을 포함하지 않는다고 이해되어야 할 것이다.2, a color filter layer 111 for filtering the color corresponding to each pixel is disposed on the lower surface of the upper substrate 110, and a pixel driving circuit corresponding to each pixel is formed on the upper surface of the lower substrate 120 A TFT layer 121 is disposed. A light control layer including a light control material is disposed between the color filter layer 111 and the TFT layer 121. The light control layer is a layer for controlling and filtering light generated in the display device 100 so that light of a specific brightness can be outputted for each pixel of the display device 100. [ For example, the light control layer may be an organic light emitting layer including an organic light emitting element that emits light whose brightness is controlled per pixel by itself. Alternatively, the liquid crystal layer may be a liquid crystal layer that receives light generated from the backlight unit 180 at the rear and controls the light by orientation of the liquid crystal so that light whose brightness is controlled for each pixel is emitted. That is, the light control material is liquid crystal, and the orientation of the liquid crystal is controlled by the pixel drive circuit, so that light passing through the light control layer can be controlled. 2 illustrates a case where the display device 100 according to the embodiment of the present invention is a liquid crystal display device by including the backlight unit 180 as an example. However, the present invention is not limited thereto, It is to be understood that in the organic light emitting display device in which the separate backlight unit 180 is not required, the light control layer includes the light emitting device and does not include the backlight unit 180. [

TFT층(121) 및 컬러필터층(111) 위에 정전용량 방식의 터치 센서(114)가 배치된다. TFT층(121)이 배치된 하부 기판(120)과 컬러필터층(111)이 배치된 상부 기판(110) 사이에 광 제어 물질이 있는 상태의 패널을 셀(cell)이라 하는데, 본 발명의 실시예에 따른 터치 센서(114)는 상부 기판(110) 상면에 직접 증착된다. 셀 위에 형성되는 터치 센서(114)는 온-셀(on-cell) 구조를 가진다고 할 수 있다. 터치 센서(114)는 투영형 정전용량 방식의 터치 센서일 수 있다. 투영형 정전용량 방식의 터치 센서란, 정전기를 가지는 사용자의 손가락이 표시 장치(100)를 터치할 때, 터치 센서(114)와 손가락 사이에 전하가 축적되고 사용자의 몸을 통해 전하가 흐르면서, 접촉하지 않았을 때 축적된 전하량과 비교하여 변화한 전하량의 변화로부터 터치 여부 및 터치 좌표를 인식하는 방식이다. 하부 기판(120) 및 상부 기판(110) 위에 배치되는 온-셀 정전용량 방식의 터치 센서(114)에 대하여 표시 장치(100)의 다른 구성 요소들이 영향을 주지 않도록, 상부 기판(110)과 터치 센서(114) 사이에, 상부 기판(110)의 상면을 덮는 광투과성의 전도층(112)이 배치된다. 즉, 터치 센서(114) 아래에, 광투과성의 전도층(112)이 전 면에 배치된다. 그리고, 전도층(112)의 표시 영역(A/A)에 대응하는 전도층(112)의 상면에는 절연층(113) 및 터치 센서(114)가 순차로 배치되고, 전도층(112)의 비표시 영역(I/A)에 대응하는 전도층(112)의 상면에는 금속 패턴(130) 및 전도성 테이프(140)가 순차로 배치된다. A capacitive touch sensor 114 is disposed on the TFT layer 121 and the color filter layer 111. A panel in which a light control material exists between a lower substrate 120 on which the TFT layer 121 is disposed and an upper substrate 110 on which the color filter layer 111 is disposed is referred to as a cell, The touch sensor 114 is directly deposited on the upper surface of the upper substrate 110. The touch sensor 114 formed on the cell may have an on-cell structure. The touch sensor 114 may be a projection type capacitance touch sensor. A projection type electrostatic capacitance type touch sensor is a type of electrostatic capacitance type touch sensor in which when a finger of a user having static electricity touches the display device 100 an electric charge is accumulated between the touch sensor 114 and the finger, And the touch coordinates and the touch coordinates are recognized based on the change in the amount of charge that is compared with the amount of charge accumulated when the touch is not performed. Cell capacitive touch sensor 114 disposed on the lower substrate 120 and the upper substrate 110 so that other components of the display device 100 do not affect the upper substrate 110, A light-transmissive conductive layer 112 covering the upper surface of the upper substrate 110 is disposed between the sensors 114. That is, under the touch sensor 114, a light-transmissive conductive layer 112 is disposed on the front surface. The insulating layer 113 and the touch sensor 114 are sequentially disposed on the upper surface of the conductive layer 112 corresponding to the display area A / A of the conductive layer 112, On the upper surface of the conductive layer 112 corresponding to the display area I / A, the metal pattern 130 and the conductive tape 140 are sequentially arranged.

터치 센서(114) 위에 상부 편광판(150)이 부착되고, 하부 기판(120) 아래에 하부 편광판(160)이 부착될 수 있다. 그리고, 하부 편광판(160) 아래에, 표시 장치(100)의 측면과 배면을 감싸는 백라이트 유닛(backlight unit)(180)이 배치될 수 있다. 백라이트 유닛(180)은, 광 소스로서의 발광 램프와 광을 집광하거나 확산하기 위한 광학 시트를 포함하는 시트층(181), 표시 장치(100)의 측면을 보완하는 가이드 패널(183) 및 하부 기판(120)의 하면을 덮으면서 시스템의 접지 배선과 연결되어 표시 장치(100)를 접지시키는 금속 커버 플레이트(182)를 포함한다. 금속 패턴(130)의 상면을 덮도록 부착된 전도성 테이프(140),는 접힘으로써 가이드 패널(183)을 덮고 금속 커버 플레이트(182)의 배면에 부착될 수 있다. The upper polarizer 150 may be attached to the touch sensor 114 and the lower polarizer 160 may be attached to the lower substrate 120. A backlight unit 180 may be disposed under the lower polarizer 160 to surround the side and back surface of the display device 100. The backlight unit 180 includes a sheet layer 181 including a light emitting lamp as a light source and an optical sheet for condensing or diffusing light, a guide panel 183 for complementing the side surface of the display device 100, And a metal cover plate 182 connected to the ground wiring of the system to ground the display device 100 while covering the lower surface of the display device 100. The conductive tape 140 attached to cover the upper surface of the metal pattern 130 may be folded to cover the guide panel 183 and be attached to the back surface of the metal cover plate 182. [

상부 편광판(150) 위에, 하부 기판 (120)의 면적 및 상부 기판(110)의 면적보다 큰 면적을 가지는 커버 윈도우(170)가 배치될 수 있다. 커버 윈도우(170)는 접착 레진(172)에 의해, 공기 갭(air-gap) 없이, 상부 편광판(150)에 부착될 수 있다. 이 때, 비표시 영역(I/A)과 표시 영역(A/A)의 단차를 보완하기 위하여, 전도층(112)의 가장자리를 따라, 쿠션 테이프(141)가 전도성 테이프(140) 상면에 배치할 수 있다. 예를 들어, 쿠션 테이프(141)는 심(shim) 테이프이거나, 폼(form) 패드일 수 있다.A cover window 170 having an area larger than an area of the lower substrate 120 and an area of the upper substrate 110 may be disposed on the upper polarizer 150. [ The cover window 170 can be attached to the upper polarizer 150 by an adhesive resin 172 without an air gap. At this time, the cushioning tape 141 is placed on the upper surface of the conductive tape 140 along the edge of the conductive layer 112 to compensate the step difference between the non-display area I / A and the display area A / A can do. For example, the cushioning tape 141 may be a shim tape or a form pad.

전도층(112)에 의한 외광 반사를 최소화하면서, 전도층(112)이 광투과 경로 및 방전 경로로 동시에 기능하기 위하여, 전도층(112)은 고굴절률을 가지는 층과, 저굴절률을 가지는 층이 교번으로 순차 적층된, 다중층 구조일 수 있다. 도 3을 참조하여 전도층(112)의 세부 구조에 대하여 살펴본다. The conductive layer 112 is formed of a layer having a high refractive index and a layer having a low refractive index so that the conductive layer 112 can function simultaneously in the light transmission path and the discharge path while minimizing external light reflection by the conductive layer 112. [ Layer structure in which the layers are sequentially stacked alternately. The detailed structure of the conductive layer 112 will be described with reference to FIG.

도 3은 본 발명의 실시예에 따른 표시 장치에서, 전도층에 대한 보다 상세한 단면도이다. 도 3을 참조하면, 전도층(112)은 순차로 적층된, n1 의 굴절률을 가지는 제1 무기층(112_a), n2 의 굴절률을 가지는 제2 무기층(112_b), n3 의 굴절률을 가지는 제3 무기층(112_c)을 포함할 수 있다. 이 때, 동일 파장 영역의 광에 대하여 n1, n2 및 n3 은 n2<n1, n2<n3 의 관계를 가진다. 또한, 제3 무기층(112_c)은 전도성을 가지는 물질로 구성되는데, 산화 인듐, 산화 주석, 산화 아연, 인듐-주석 산화물, 인듐-아연 산화물, 주석-안티몬 산화물, 그래핀(Graffin), 탄소 나노 튜브(Carbon Nano Tube), 은 나노 파티클(Ag Nano Particle), 은 나노 와이어(Ag Nano Wire), 금속 박막 메시(Thin Metal Mesh) 중 어느 하나를 포함할 수 있다. 전도층(112)이 낮은 면저항 값을 가짐으로써 높은 전도성을 가지도록, 제3 무기층(112_c)의 두께를 적어도 250 Å 이상으로 형성할 수 있다. 제3 무기층(112_c)의 두께가 두꺼워질 수록, 제3 무기층(112_c) 자체의 광투과도가 급격히 저하된다. 제3 무기층(112_c)의 광투과도를 보완하기 위하여, 저굴절률을 가지는 제2 무기층(112_b)과 고굴절률을 가지는 제1 무기층(112_a)을 교번으로 적층할 수 있다. 예를 들어, 제1 무기층(112_a)은 니오븀 산화물(Nb2O5)로 구성되고, 제2 무기층(112_b)은 실리콘 산화물(SiO2)로 구성되고, 제3 무기층(112_c)은 인듐-주석 산화물(ITO)로 구성될 수 있다. 이로써, 광반사도가 1% 미만으로 최소화되면서 광투과도가 95% 이상으로 최대화 되면서 동시에 평균 면저항 200 Ω/(mm*mm) 까지 확보 가능한, 광투과성의 전도층(112)을 얻을 수 있다.3 is a more detailed cross-sectional view of a conductive layer in a display device according to an embodiment of the present invention. 3, the conductive layer 112 includes a first inorganic layer 112_a having a refractive index n1, a second inorganic layer 112_b having a refractive index n2, and a third inorganic layer 112_b having a refractive index n3, And an inorganic layer 112_c. At this time, for light in the same wavelength region, n1, n2 and n3 have the relationship of n2 < n1 and n2 < n3. The third inorganic layer 112_c is made of a conductive material and may be formed of any one of indium oxide, tin oxide, zinc oxide, indium-tin oxide, indium-zinc oxide, tin-antimony oxide, graffin, A carbon nanotube, a carbon nanotube, a silver nanoparticle, a silver nanowire, and a thin metal mesh. The thickness of the third inorganic layer 112_c may be formed to be at least 250 ANGSTROM or more so that the conductive layer 112 has a low sheet resistance value and high conductivity. As the thickness of the third inorganic layer 112_c increases, the light transmittance of the third inorganic layer 112_c itself decreases sharply. In order to compensate the light transmittance of the third inorganic layer 112_c, the second inorganic layer 112_b having a low refractive index and the first inorganic layer 112_a having a high refractive index can be alternately laminated. For example, the first inorganic layer 112_a is made of niobium oxide (Nb2O5), the second inorganic layer 112_b is made of silicon oxide (SiO2), and the third inorganic layer 112_c is made of indium- (ITO). As a result, a light transmitting conductive layer 112 can be obtained that maximizes the light transmittance to 95% or more while at the same time minimizing the light reflectivity to less than 1% and at the same time securing an average sheet resistance of 200? / (Mm * mm).

전도성 테이프(140) 및 금속 패턴(130)은, 접착 레진(172)과 전도층(112) 사이의 수직적 이격 거리를 고려한 두께를 가질 수 있다. 즉, 전도성 테이프(140)의 두께와 금속 패턴(130)의 두께의 합은, 접착 레진(172)과 전도층(112) 사이의 수직적 이격 거리보다 작다. 이를 위하여, 금속 패턴(130)은 두께 450 Å 이상인 550 Å 이하로 매우 얇게 형성된다. 두께 450 Å 이상인 550 Å 이하로 금속 패턴(130)이 얇게 형성되면, 상부 편광판(150)이 상부 기판(110) 위에 부착될 때, 의도하지 않게 상부 편광판(150)이 금속 패턴(130)의 일부를 덮더라도 부작용이 없다. 박형의 금속 패턴(130)의 구현을 위해, 금속 패턴(130)은 스퍼터링(sputtering) 증착과 같은 증착 방식에 의하여 형성될 수 있다. 금속 잉크를 프린팅하는 방식에 의해서 금속 패턴을 형성하는 방법 등에 의할 경우에는 금속 잉크를 프린팅 할 때 제어 가능한 두께에 한계가 있다. 반면, 증착 방식은 금속 잉크를 프린팅하는 방식 대비하여, 보다 미세하게 증착 두께를 제어할 수 있다. 금속 잉크를 프린팅하여 형성된 금속 패턴은, 증착 방식에 의한 금속 패턴(130) 대비하여, 계면에서 상대적으로 낮은 접착 강도를 가짐에 따라 상부 편광판(150) 부착 시 수행되는 세정 단계에서 유실될 확률이 크다. 또한, 금속 패턴(130)은, 전도성 테이프(140)와 전도층(112) 사이에서의 낮은 접촉 저항의 구현을 고려하여, 촘촘한 계면 특성을 가질 필요가 있다. 따라서, 금속 패턴(130)과 전도층(112) 사이의 계면에서 높은 접촉 강도 및 촘촘한 계면 특성이 확보되도록, 금속 패턴(130)은 증착 방식으로 형성될 수 있다. 따라서, 상부 기판(110) 상면에 증착된 전도층(114)과 직접 접하는 금속 패턴(130)은, 증착 가능한 물질로 구성될 수 있다. 예를 들어, 금속 패턴(130)은 스퍼터링 증착이 가능한 물질로 구성될 수 있다. The conductive tape 140 and the metal pattern 130 may have a thickness considering a vertical separation distance between the adhesive resin 172 and the conductive layer 112. That is, the sum of the thickness of the conductive tape 140 and the thickness of the metal pattern 130 is smaller than the vertical separation distance between the adhesive resin 172 and the conductive layer 112. For this, the metal pattern 130 is formed to be very thin, not more than 550 ANGSTROM having a thickness of 450 ANGSTROM or more. When the upper polarizer 150 is adhered on the upper substrate 110, the upper polarizer 150 does not intentionally contact the upper surface of the metal pattern 130 There is no side effect. For the implementation of the thin metal pattern 130, the metal pattern 130 may be formed by a deposition method such as sputtering deposition. A method of forming a metal pattern by a method of printing a metal ink or the like has a limit in a thickness that can be controlled when printing a metal ink. On the other hand, the deposition method can control the deposition thickness more finely than the method of printing the metal ink. The metal pattern formed by printing the metal ink has a relatively low bonding strength at the interface with respect to the metal pattern 130 by the vapor deposition method and thus has a high probability of being lost in the cleaning step performed when the upper polarizer 150 is attached . In addition, the metal pattern 130 needs to have tight interfacial characteristics in consideration of realizing a low contact resistance between the conductive tape 140 and the conductive layer 112. Therefore, the metal pattern 130 may be formed by a deposition method so that a high contact strength and a fine interface property are secured at the interface between the metal pattern 130 and the conductive layer 112. Accordingly, the metal pattern 130 directly contacting the conductive layer 114 deposited on the upper surface of the upper substrate 110 may be made of a vapor-depositable material. For example, the metal pattern 130 may comprise a material capable of sputter deposition.

전도층(112)은 온-셀 방식의 터치 센서(114)가 터치 신호를 감지함에 있어, 다른 구성 요소에 의한 간섭을 방지한다. 이를 위하여, 전도층(112)은 온-셀 방식의 터치 센서(114)와 상부 기판(110) 사이에서, 상부 기판(110)의 상면 전체를 덮도록 배치된다. 또한 전도층(112)은, 금속 패턴(130)을 통해 시스템의 접지 배선과 전기적으로 연결됨으로써 접지된다. 상부 기판(110)의 아래에 백라이트 유닛(180) 및/또는 광 제어층이 배치되는 경우, 백라이트 유닛(180)에서 발생한 광 또는 광 제어층에서 발생한 광이, 상부 기판(110) 및 전도층(112)을 통과하여 표시 장치(100) 외부로 출사된다(radiate). 이 때, 전도층(112)은 표시 장치(100)가 출사하는 광의 진행 경로가 됨으로써, 광이 전도층(112)을 통과하여야 비로소 화상이 표시 장치(100)에 표시된다.The conductive layer 112 prevents the on-cell type touch sensor 114 from interfering with other components in sensing the touch signal. The conductive layer 112 is disposed between the on-cell type touch sensor 114 and the upper substrate 110 so as to cover the entire upper surface of the upper substrate 110. The conductive layer 112 is also grounded by being electrically connected to the ground wiring of the system through the metal pattern 130. [ When the backlight unit 180 and / or the light control layer are disposed below the upper substrate 110, the light generated in the backlight unit 180 or light generated in the light control layer is transmitted through the upper substrate 110 and the conductive layer 112 and radiates to the outside of the display device 100. [ At this time, the conductive layer 112 is a path of light emitted from the display device 100, so that the image is displayed on the display device 100 only when light passes through the conductive layer 112.

따라서, 전도층(112)은 광학적으로 광투과도가 우수하여야 하며 외광에 대한 광반사도가 낮다. 동시에, 전도층(112)은 터치 센서(114)에 의하여 터치 신호가 감지됨에 있어, 다른 구성 요소에 의한 간섭을 효과적으로 방지할 수 있을 정도의 원활한 방전 경로를 제공할 수 있다. 즉, 전도층(112)은 전도성을 가지되, 면저항 값이 충분히 낮다. 따라서, 전도층(112)을 구성하는 물질로, 불투명한 금속보다는 면저항 값이 다소 높더라도, 비교적 양호한 전도성을 가지는 동시에 광학적으로 투명한 물질을 고려할 수 있다. 예를 들어, 전도층(112)은 산화 인듐, 산화 주석, 산화 아연, 인듐-주석 산화물, 인듐-아연 산화물, 주석-안티몬 산화물, 그래핀(Graffin), 탄소 나노 튜브(Carbon Nano Tube), 은 나노 파티클(Ag Nano Particle), 은 나노 와이어(Ag Nano Wire), 금속 박막 메시(Thin Metal Mesh) 중 어느 하나로 구성될 수 있다. 예를 들어, 전도층(112)이 인듐-주석 산화물로 구성될 수 있다. 이 때, 약 200 Å 두께에서 전도층(112)은 550 nm 파장의 광을 약 95% 투과함으로써 우수한 광학적 특성을 가지는 데 반해, 평균 면저항은 500 Ω/(mm*mm) 로 높다. 인듐-주석 산화물로 구성되는 전도층(112)이 평균 100 Ω/(mm*mm) 의 면저항 값을 가지기 위해서는 약 800 Å 두께를 가져야 하는데, 이 때, 전도층(112)의 광투과도는 550 nm 파장의 광을 약 85% 투과하는 데에 그친다. Therefore, the conductive layer 112 should be optically excellent in light transmittance and low in reflectivity to external light. At the same time, the conductive layer 112 can sense a touch signal by the touch sensor 114, thereby providing a smooth discharge path that can effectively prevent interference by other components. That is, the conductive layer 112 has conductivity, and the sheet resistance value is sufficiently low. Therefore, even though the material constituting the conductive layer 112 has a somewhat higher sheet resistance value than an opaque metal, an optically transparent material having a relatively good conductivity can be considered. For example, the conductive layer 112 may be formed of indium oxide, tin oxide, zinc oxide, indium-tin oxide, indium-zinc oxide, tin-antimony oxide, Graffin, Carbon Nano Tube, And may be composed of any one of Ag Nano Particle, Ag Nano Wire, and Thin Metal Mesh. For example, the conductive layer 112 may be comprised of indium-tin oxide. At this time, the conductive layer 112 has an excellent optical characteristic by transmitting about 95% of light having a wavelength of 550 nm at a thickness of about 200 Å, while the average sheet resistance is as high as 500 Ω / (mm * mm). The conductive layer 112 made of indium-tin oxide should have a thickness of about 800 Å in order to have a sheet resistance of 100 Ω / (mm × mm) on average. At this time, the light transmittance of the conductive layer 112 is 550 nm It is used to transmit about 85% of light of wavelength.

전도층(112)이 광학적 특성을 가져야 함에 따라, 전도층(112) 자체의 면저항 값을 낮추기 위하여 전도층(112)의 두께를 두껍게 하는 것은 한계가 있다. 또한, 사용자가 표시 장치(100)를 터치할 때 가해지는 힘 또는 그 밖의 외력에 의하여, 표시 장치(100)에 포함되는 각 구성 요소들의 형위에 물리적인 변형이 발생하게 되는데, 전도층(112)이 금속 패턴(130)을 통하지 않고 시스템의 접지 배선과 접지될 때에는, 사용자가 표시 장치(10)를 터치할 때 가해지는 외력에 따라 접촉 저항이 심하게 변동한다는 문제가 있다. 본 발명의 실시예에 따른 표시 장치(100)는 전도층(112)의 높은 면저항 값에도 불구하고, 전도층(112)과 직접 접하여 배치되는 금속 패턴(130)을 통해, 전도층(112)과 접지 배선 사이의 접촉 저항 값 자체를 낮출 수 있고, 접촉 저항 값의 편차도 줄일 수 있다. 전도층(112)이 보다 안정적으로 접지되고 전도층(112)과 시스템의 접지 배선 사이의 접촉 저항 값의 편차가 줄어듦에 따라, 터치 센서(114)가 보다 정교하게 터치 신호를 감지할 수 있다. As the conductive layer 112 has optical properties, it is limited to increase the thickness of the conductive layer 112 in order to lower the sheet resistance value of the conductive layer 112 itself. In addition, due to a force applied by the user when the display device 100 is touched or other external force, physical deformation occurs on the shape of each of the components included in the display device 100. The conductive layer 112, There is a problem that the contact resistance fluctuates greatly depending on the external force applied when the user touches the display device 10 when the grounding wire is grounded with the system ground wire without passing through the metal pattern 130. [ The display device 100 according to the embodiment of the present invention can be manufactured by using the conductive layer 112 and the conductive layer 112 through the metal pattern 130 disposed in direct contact with the conductive layer 112, The contact resistance value between the ground wirings itself can be lowered, and the variation of the contact resistance value can also be reduced. The touch sensor 114 can sense the touch signal more precisely as the conductive layer 112 is more stably grounded and the variation of the contact resistance value between the conductive layer 112 and the ground wiring of the system is reduced.

다시 말해, 금속 패턴을 통하지 않은 상태에서 전도층이 접지되는 구조와 대비하여, 본 발명의 실시예에 따른 표시 장치(100)는 전도층(112)의 평균 면저항 값보다 더 낮은 평균 면저항 값을 가지는 금속 패턴(130)을 통하여 전도층(112)이 접지된다. 보다 구체적으로, 금속 패턴(130)을 통하여 전도층(114)과 전도성 테이프(140)가 전기적으로 연결되고, 전도성 테이프(140)가 접혀서 표시 장치(100)의 배면의 금속 커버 플레이트(182)에 부착됨으로써, 전도층(112)이 접지된다. 이 때, 금속 패턴(130)은 전도층(112)의 평균 면저항 값보다 더 낮은 평균 면저항 값을 가짐으로써, 금속 패턴(130)이 전도층(112)과 대비하여 더 우수한 전도성을 가진다. 전도성이 우수한 금속 패턴(130)을 통하여 전도층(112)이 접지됨으로써, 전도층(112)에 의한 방전이 보다 효과적으로 이루어진다. 또한, 전도성이 우수한 금속 패턴(130)을 통하여 전도층(112)이 접지가 됨으로써, 전도층이 접지될 때 금속 패턴을 통하지 않고 접지되는 구조와 대비하여, 전도층(112)에서부터 금속 커버 플레이트(182) 사이의 접촉 저항 값이 더 낮다. 즉, 금속 패턴(130)이 없이 전도층(112)과 금속 커버 플레이트(182)가 전기적으로 연결된 경우보다, 금속 패턴(130)이 전도층(112)과 금속 커버 플레이트(182) 사이에서 금속 패턴(130)이 전도층(112)과 금속 커버 플레이트(182)를전기적으로 연결해 주는 경우에, 전도층(112)이 보다 안정적으로 접지될 수 있고, 터치 센서(114)에 의해 감지되는 터치 신호에 대한 노이즈(noise)가 최소화된다. In other words, in contrast to the structure in which the conductive layer is grounded without passing through the metal pattern, the display device 100 according to the embodiment of the present invention has the average sheet resistance value lower than the average sheet resistance value of the conductive layer 112 The conductive layer 112 is grounded through the metal pattern 130. [ More specifically, the conductive layer 114 and the conductive tape 140 are electrically connected to each other through the metal pattern 130, and the conductive tape 140 is folded so as to be electrically connected to the metal cover plate 182 on the rear surface of the display device 100 So that the conductive layer 112 is grounded. At this time, the metal pattern 130 has a lower average sheet resistance value than the average sheet resistance value of the conductive layer 112, so that the metal pattern 130 has better conductivity as compared with the conductive layer 112. The conductive layer 112 is grounded via the metal pattern 130 having excellent conductivity, so that the discharge by the conductive layer 112 is more effectively performed. In addition, since the conductive layer 112 is grounded through the metal pattern 130 having excellent conductivity, the conductive layer 112 is electrically connected from the conductive layer 112 to the metal cover plate 182 are lower. The metal pattern 130 is sandwiched between the conductive layer 112 and the metal cover plate 182 so that the metal pattern 130 is not electrically connected to the conductive layer 112 and the metal cover plate 182 without the metal pattern 130. [ The conductive layer 112 can be grounded more stably when the conductive layer 130 electrically connects the conductive layer 112 and the metal cover plate 182 and the conductive layer 112 is electrically connected to the touch signal detected by the touch sensor 114 Noise is minimized.

전술한 바와 같이, 금속 패턴(130)은, 전도층(112)의 평균 면저항 값보다 더 낮은 평균 면저항 값을 가지기 위하여, 전도성이 우수한 금속 물질 또는 금속 합금 물질을 포함할 수 있다. 예를 들어, 금속 패턴(130)은 몰리브덴(Mo), 니켈(Ni), 크롬(Cr), 바나듐(V), 구리(Cu) 또는 이들의 합금 중 어느 하나를 포함할 수 있다. 본 발명의 실시예에 따른 표시 장치(100)는 사용자에 의한 터치를 인식하는 표시 장치로서, 사용자의 손과 같은 신체와의 접촉에 노출되어 있다. 터치 인식을 위한 신체 접촉에 따라, 사용자의 땀이 표시 장치(100)로 침투될 수 있다. 따라서, 금속 패턴(130)은, 우수한 전도성을 가지는 물질 중에서도, 적어도 몰리브덴(Mo)보다 염분 이나 수분에 의한 침식으로부터 더 강한 금속 또는 금속 합금으로 구성될 수 있다. 예를 들어, 금속 패턴(130)은, 고온 고습 테스트(온도 65℃, 습도 90% 조건)에서 약 300 시간 이상을 견디어 내면서도 가장 우수한 성능을 유지할 수 있는 금속 합금으로 이루어질 수 있다. 예를 들어, 금속 패턴(130)은 니켈-바나듐(NiV) 합금을 포함할 수 있다. 이 때, 금속 패턴(130)을 구성하는 니켈-바나듐 합금은, 니켈의 함량이 바나듐의 함량보다 더 높으며, 나켈의 함량이 약 90 % 이상일 수 있다. 금속 패턴(130)은 니켈-바나듐 합금 타겟(target)을 이용하여, 플라즈마 저온 진공 스퍼터링 방식에 의하여, 두께 450 Å 이상인 550 Å 이하의 박형으로 형성될 수 있다. As described above, the metal pattern 130 may include a metal material or metal alloy material having excellent conductivity, so as to have a lower average sheet resistance value than the average sheet resistance value of the conductive layer 112. For example, the metal pattern 130 may include any one of molybdenum (Mo), nickel (Ni), chromium (Cr), vanadium (V), copper (Cu), and alloys thereof. The display device 100 according to the embodiment of the present invention is a display device for recognizing a touch by a user and is exposed to contact with a body such as a user's hand. According to the physical contact for the touch recognition, the sweat of the user can be infiltrated into the display device 100. [ Accordingly, the metal pattern 130 may be made of a metal or a metal alloy that is stronger than molybdenum (Mo) from corrosion due to salt or moisture, among the materials having excellent conductivity. For example, the metal pattern 130 may be made of a metal alloy that can withstand at least about 300 hours in a high-temperature and high-humidity test (at a temperature of 65 ° C and a humidity of 90%), while maintaining the best performance. For example, the metal pattern 130 may comprise a nickel-vanadium (NiV) alloy. At this time, in the nickel-vanadium alloy constituting the metal pattern 130, the nickel content is higher than the vanadium content, and the nickel content can be about 90% or more. The metal pattern 130 may be formed to a thickness of 550 ANGSTROM or less, which is 450 ANGSTROM or more, by a plasma low-temperature vacuum sputtering method using a nickel-vanadium alloy target.

금속 패턴(130)이 전체적으로 균일한 면저항 값을 가질 때, 즉 금속 패턴(130)의 면저항 값의 편차가 작을 때, 접촉 저항 값의 편차 역시 줄어들게 된다. 금속 패턴(130)이 전체적으로 균일한 면저항 값을 가지기 위해서는, 특히 금속 패턴(130)의 두께가 균일한 것이 바람직하다. 따라서, 두께 450 Å 이상인 550 Å 이하의 박형으로 금속 패턴(130)을 형성함에 있어서, 금속 패턴(130)의 두께의 편차는 50 Å 이하일 수 있다. 두께가 균일한 금속 패턴(130)에 의해, 금속 커버 플레이트(182)에서부터 전도층(112) 사이에 접촉 저항 값이 3 Ω 이하의, 낮은 접촉 저항을 확보하면서 동시에 접촉 저항의 변동을 최소화할 수 있다.When the metal pattern 130 has an overall uniform sheet resistance value, that is, when the variation of the sheet resistance value of the metal pattern 130 is small, the variation of the contact resistance value is also reduced. In order for the metal pattern 130 to have a uniform sheet resistance value as a whole, it is particularly preferable that the thickness of the metal pattern 130 is uniform. Therefore, in forming the metal pattern 130 with a thickness of 550 ANGSTROM or less and a thickness of 450 ANGSTROM or more, the thickness variation of the metal pattern 130 may be 50 ANGSTROM or less. It is possible to minimize the variation of the contact resistance while securing a low contact resistance between the metal cover plate 182 and the conductive layer 112 with a contact resistance value of 3 Ω or less by the metal pattern 130 having a uniform thickness have.

커버 윈도우(170)의 하면에, 커버 윈도우(170)의 가장자리를 따라 비표시 영역(I/A)에 대응하여 블랙 매트릭스(171)가 배치될 수 있다. 블랙 매트릭스(171)는 감광성 안료나, 블랙 카본과 같은 물질을 포함할 수 있다. 블랙 매트릭스(171)는 광을 흡수하는 성질을 가지고, 광을 반사하지 않는 성질을 가질 수 있다. 블랙 매트릭스(171)는 사용자가 표시 장치(100)를 바라볼 때에, 블랙 매트릭스(171) 아래에 배치되는 다양한 구성 요소들이 사용자에게 인식되지 않도록 하는 역할을 한다. 금속 패턴(130) 역시, 블랙 매트릭스(171) 아래에 배치됨으로써 블랙 매트릭스(171)에 의하여 가려진다. 금속 패턴(130)이 금속 또는 금속 합금으로 구성됨에 따라, 금속 패턴(130)은 금속의 고유 성질인 광반사성을 가진다. 표시 장치(100)로 입사되는 외광(L1)이, 금속 패턴(130)에서 반사되어 다시 표시 장치(100)의 밖으로 나갈 수 있다. 이러한 외광 반사는, 표시 장치(100)의 시인성을 저하시키는 주요한 요인이 된다. 이 때, 사용자가 표시 장치(100)를 바라보는 시야각 범위를 고려하여, 금속 패턴(130)과 표시 영역(A/A) 사이의 수평적 이격 거리(w3)는, 블랙 매트릭스(171)와 표시 영역(A/A) 사이의 수평적 이격 거리(d1) 보다 더 길 수 있다. 시야각 측면에서, 사용자는 표시 장치(100)를 정면(시야각 0°)에서부터 최대 시야각 80°의 측면 범위에서 시청을 한다고 볼 수 있다. 이 때, 시야각 80° 의 각도에서 표시 장치(100)로 입사되는 외광(L1)에 대하여도 금속 패턴(130)에 의한 외광 반사가 일어나지 않도록, 금속 패턴(130)이 블랙 매트릭스(171)에 의해 가려진다. 즉, 시야각 80° 의 각도에서 사용자가 표시 장치(100)를 이용할 때에도, 사용자가 금속 패턴(130)에 의한 외광 반사로 인한 시인성 저하를 겪지 않도록, 금속 패턴(130)이 블랙 매트릭스(171)에 의해 가려진다.A black matrix 171 may be disposed on the lower surface of the cover window 170 so as to correspond to the non-display area I / A along the edge of the cover window 170. The black matrix 171 may include a photosensitive pigment or a material such as black carbon. The black matrix 171 has a property of absorbing light and a property of not reflecting light. The black matrix 171 serves to prevent various components disposed under the black matrix 171 from being recognized by the user when the user looks at the display device 100. [ The metal pattern 130 is also covered by the black matrix 171 by being disposed under the black matrix 171. As the metal pattern 130 is made of a metal or a metal alloy, the metal pattern 130 has a light reflectivity, which is an intrinsic property of the metal. The external light L1 incident on the display device 100 may be reflected by the metal pattern 130 and then go out of the display device 100 again. Such external light reflection is a major factor for lowering the visibility of the display apparatus 100. [ At this time, the horizontal distance w3 between the metal pattern 130 and the display area A / A is determined by the distance between the black matrix 171 and the display area A / A in consideration of the viewing angle range in which the user views the display device 100. [ May be longer than the horizontal spacing d1 between the regions A / A. In terms of the viewing angle, the user can view the display device 100 from the front (viewing angle 0 [deg.]) To the side viewing range of the maximum viewing angle 80 [deg.]. At this time, the metal pattern 130 is formed by the black matrix 171 so that the external light L1 incident on the display device 100 at an angle of view of 80 degrees is not reflected by external light by the metal pattern 130 It is obscured. That is, even when the display device 100 is used by the user at an angle of view of 80 degrees, the metal pattern 130 may be formed on the black matrix 171 so that the user does not suffer visibility degradation due to reflection of external light by the metal pattern 130 .

금속 패턴(130)과 표시 영역(A/A) 사이의 수평적 이격 거리(w3)가 후술할 조건을 만족할 때, 시야각 80°의 각도에서 표시 장치(100)로 입사되는 외광(L1)에 대하여도 금속 패턴(130)에 의한 외광 반사가 일어나지 않는다. 금속 패턴(130)과 표시 영역(A/A) 사이의 수평적 이격 거리(w3)에서 블랙 매트릭스(171)와 표시 영역(A/A) 사이의 수평적 이격 거리(d1)를 뺀 값(d2)은, 외광(L1)이 입사되어 굴절되는 각도(θ1), 블랙 매트릭스(171)와 금속 패턴(130) 사이의 수직적 이격 거리(d3) 및 커버 윈도우(170)의 굴절률(n2)과 관련이 있다. 저굴절률 매질(예를 들어, 공기)에서 고굴절률 매질(예를 들어, 커버 윈도우(170))로 입사하는 외광(L1)이 어떠한 각도로 굴절되는지는 스넬의 법칙을 통해 알 수 있다. 예를 들어, 입사각 80° 의 각도로, 유리로 구성된 커버 윈도우(170)에 입사된 외광(L2)은, arcsin(sin80°/1.5) = 약 Ω1°의 각도로 굴절되어 들어온다(커버 윈도우(170)의 굴절률(n2) = 1.5, 공기의 굴절률 1). 즉, 외광(L1)이 입사되어 굴절되는 각도(θ1)가 arcsin(sin80°/1.5) = 약 41° 가 된다. 이 때, 외광(L1)이 입사되어 굴절되는 각도(θ1)와 블랙 매트릭스(171)와 금속 패턴(130) 사이의 수직적 이격 거리(d3)를 삼각 함수 공식에 대입하여, 금속 패턴(130)과 표시 영역(A/A) 사이의 수평적 이격 거리(w3)가 만족하되는 조건을 도출하면 다음과 같다.When the horizontal separation distance w3 between the metal pattern 130 and the display area A / A satisfies the following condition, the external light L1 incident on the display device 100 at an angle of view of 80 degrees The external light reflection by the metallic pattern 130 does not occur. A value d2 obtained by subtracting the horizontal distance d1 between the black matrix 171 and the display area A / A from the horizontal distance w3 between the metal pattern 130 and the display area A / Is related to the angle? 1 at which the external light L1 is incident and refracted, the vertical distance d3 between the black matrix 171 and the metal pattern 130 and the refractive index n2 of the cover window 170 have. It can be seen from Snell's law which angle the external light L1 incident on the high refractive index medium (for example, the cover window 170) is refracted from the low refractive index medium (for example, air). For example, at an angle of incidence of 80 degrees, the external light L2 incident on the cover window 170 made of glass is refracted into an arcsin (sin 80 属 / 1.5) = about Ω 1 ° (N2) = 1.5, refractive index of air 1). That is, the angle? 1 at which the external light L 1 is incident and refracted becomes arcsin (sin 80 ° / 1.5) = about 41 °. At this time, the angle? 1, in which the external light L1 is incident and refracted, and the vertical distance d3 between the black matrix 171 and the metal pattern 130 are substituted into the trigonometrical formula, The condition that the horizontal separation distance (w3) between the display areas A / A is satisfied is derived as follows.

금속 패턴(130)과 표시 영역(A/A) 사이의 수평적 이격 거리(w3) > d1 + tan(arcsin(sin80°/n2)) * d3 A horizontal spacing w3 between the metal pattern 130 and the display area A / A is greater than d1 + tan (arcsin (sin80 / n2)) * d3

예를 들어, 커버 윈도우(170)가 유리로 구성됨으로써, 커버 윈도우(170)의 굴절률(n2)이 공기의 굴절률 값보다 큰 1.5 이고, 블랙 매트릭스(171)와 표시 영역(A/A) 사이의 수평적 이격 거리(d1)가 0.75 mm 이고 블랙 매트릭스(171)와 금속 패턴(130) 사이의 수직적 이격 거리(d3)가 0.65 mm 일 때, 금속 패턴(130)과 표시 영역(A/A) 사이의 수평적 이격 거리(w3)는, 0.75 mm + tan(arcsin(sin80°/1.5)) * 0.65 mm = 1.32 mm 보다 커야 한다. 이 때, 굴절되어 들어오는 외광(L1)이 거치는 구성 요소로서, 커버 윈도우(170)뿐만 아니라, 접착 레진(172)이나 상부 편광판(150)이 해당될 수 있다. 접착 레진(172) 및 상부 편광판(150)은, 표시 장치(100)가 제공하는 이미지의 왜곡을 최소화하기 위하여, 커버 윈도우(170)의 굴절률과 최대한 유사한 굴절률을 가지도록 구현된다. 또한, 다른의 구성 요소들과 대비하여, 커버 윈도우(170)가 현저하게 두께가 두꺼워서, 외광(L1)의 굴절에 가장 큰 영향을 준다. 따라서, 외광(L1)에 대하여 스넬의 법칙을 적용할 때에는 커버 윈도우(170)의 굴절률(n2) 만을 사용하여도 충분할 수 있다. 또한, 다양한 구성 요소 간의 얼라인(align) 오차를 고려하여, 금속 패턴(130)과 표시 영역(A/A) 사이의 수평적 이격 거리(w3)는, 1.50 mm 보다 클 수 있다. 금속 패턴(130)과 표시 영역(A/A) 사이의 수평적 이격 거리(w3)가 전술한 조건을 만족할 때, 시야각 80°의 각도에서 표시 장치(100)로 입사되는 외광(L1)에 대하여도 금속 패턴(130)에 의한 외광 반사가 일어나지 않고, 시인성이 우수한 표시 장치(100)를 얻을 수 있다.For example, when the cover window 170 is made of glass, the refractive index n2 of the cover window 170 is 1.5, which is larger than the refractive index value of the air, and the refractive index n2 of the cover window 170 is 1.5 When the horizontal spacing distance d1 is 0.75 mm and the vertical spacing d3 between the black matrix 171 and the metal pattern 130 is 0.65 mm there is a gap between the metal pattern 130 and the display area A / (W3) should be greater than 0.75 mm + tan (arcsin (sin80 / 1.5)) * 0.65 mm = 1.32 mm. At this time, not only the cover window 170, but also the adhesive resin 172 and the upper polarizer 150 may correspond to constituent elements of the refracted external light L1. The adhesive resin 172 and the upper polarizer 150 are implemented so as to have a refractive index that is as close as possible to the refractive index of the cover window 170 in order to minimize the distortion of the image provided by the display device 100. [ Also, as compared to other components, the cover window 170 is significantly thicker and has the greatest effect on the refraction of the external light L1. Therefore, when Snell's law is applied to the external light L1, only the refractive index n2 of the cover window 170 may be sufficient. In addition, the horizontal separation distance w3 between the metal pattern 130 and the display area A / A may be larger than 1.50 mm in consideration of an alignment error between various components. When the horizontal separation distance w3 between the metal pattern 130 and the display area A / A satisfies the above-described condition, the external light L1 incident on the display device 100 at an angle of view of 80 degrees The display device 100 having excellent visibility can be obtained without causing external light reflection by the metallic pattern 130.

본 발명의 실시예에 따른 표시 장치(100)는 편의상 액정이 충진된 광 제어층 및 백라이트 유닛을 포함하는 액정 표시 장치를 도시하고 있으나, 이는 예시적인 것에 불과할 뿐 본 발명은 이에 한정되지 않는다. 예를 들어, 광 제어층이 유기 발광 소자로 구현되어 있으며 별도의 컬러필터층이 필요하지 않은 유기 발광 표시 장치와 같은, 다른 종류의 표시 장치도 본 발명이 적용될 수 있다. The display device 100 according to the embodiment of the present invention shows a liquid crystal display device including a light control layer and a backlight unit filled with liquid crystal for convenience, but the present invention is not limited thereto. For example, the present invention can be applied to other types of display devices, such as organic light emitting display devices in which the light control layer is implemented as an organic light emitting device and a separate color filter layer is not required.

다음에서 도 4를 참조하여, 비표시 영역(I/A)에서, 금속 패턴(130)과 상부 기판(110) 사이의 얼라인에 대하여 보다 구체적으로 살펴본다.Next, referring to FIG. 4, the alignment between the metal pattern 130 and the upper substrate 110 in the non-display area I / A will be described in more detail.

도 4는 본 발명의 실시예에 따른 표시 장치에서, 도 1의 X 영역에 대한 확대도이다. 금속 패턴(130)은, 화상이 표시되는 표시 영역(A/A)을 침범하지 않도록, 표시 영역을 둘러싸는 비표시 영역(I/A)에 대응하여 배치된다. 이 때, 금속 패턴(130)에 의한 외광(L1) 반사가 최소화되도록, 금속 패턴(130)과 표시 영역(A/A) 사이의 이격 거리(w3)보다, 금속 패턴(130)에서 상부 기판(110)의 엣지(110_e) 사이의 수평적 이격 거리(w1)가 더 짧다. 예를 들어, 금속 패턴(130)과 표시 영역(A/A) 사이의 이격 거리(w3)는 d1 + tan(arcsin(sin80°/1.5)) * d3 보다 크고, 금속 패턴(130)에서 상부 기판(110)의 엣지(110_e) 사이의 수평적 이격 거리(w1)는 0 mm 일 수 있다. 예를 들어, 상부 기판(110)에서의 비표시 영역(I/A)의 폭(w4)이 약 3 mm 인 경우에, 금속 패턴(130)에서 표시 영역(A/A) 사이의 수평적 이격 거리(w3)는 1.77 mm 이상 2.37 mm 이하이고, 금속 패턴(130)의 폭(w2)은 0.70 mm 이상 1.40 mm 일 수 있다. FIG. 4 is an enlarged view of the display region of the display device according to the embodiment of FIG. The metal pattern 130 is disposed corresponding to the non-display area I / A surrounding the display area so as not to invade the display area A / A where the image is displayed. At this time, the distance (w3) between the metal pattern 130 and the display area A / A is larger than the distance w3 between the metal pattern 130 and the upper substrate (not shown) so that the reflection of the external light L1 by the metal pattern 130 is minimized. The horizontal separation distance w1 between the edges 110_e of the two substrates 110 is shorter. For example, the separation distance w3 between the metal pattern 130 and the display area A / A is larger than d1 + tan (arcsin (sin80 / 1.5)) * d3, The horizontal separation distance w1 between the edges 110_e of the first substrate 110 may be 0 mm. For example, when the width w4 of the non-display area I / A on the upper substrate 110 is about 3 mm, the horizontal spacing between the metal pattern 130 and the display area A / The distance w3 may be 1.77 mm or more and 2.37 mm or less and the width w2 of the metal pattern 130 may be 0.70 mm or more and 1.40 mm or less.

금속 패턴(130)이 상부 기판(110)의 상면에 배치됨으로써, 셀 내부, 즉 상부 기판(110)과 하부 기판(120) 사이에 금속 패턴(130)이 배치되는 장소를 별도로 확보하기 위하여 비표시 영역(I/A)의 폭을 추가로 넓게 확보해야 할 필요가 없다. 다시 말해, 셀 외부, 즉, 상부 기판(110) 및 하부 기판(120)의 위에 금속 패턴(130)을 형성함으로써, 금속 패턴(130)이 셀 내부의 다른 구성 요소들을 피하여 형성될 필요가 없고, 비표시 영역(I/A)의 폭이 넓혀질 필요도 없다. 셀 내부의 다른 구성 요소들과 공간 경쟁을 할 필요가 없는 위치에 금속 패턴(130)이 배치됨에 따라, 금속 패턴(130)을 배치하기 위하여 상부 기판(110)에서 비표시 영역(I/A)에 해당하는 영역을 추가로 확대할 필요가 없다. 이로써 표시 장치(100)의 내로우 베젤을 구현할 수 있다. 또한, 전도층(112)을 상부 기판(110)의 하면에 증착 배치하고, 전도층(112)에 금속 패턴(130)를 형성함으로써, 상부 기판(110)의 상면의 비표시 영역(I/A)에 배치되어 있던 다른 구성 요소들의 위치를 변경시켜야 할 필요가 없다. The metal pattern 130 may be disposed on the upper surface of the upper substrate 110 so that the metal pattern 130 may be disposed between the upper substrate 110 and the lower substrate 120, It is not necessary to further secure the width of the area I / A. In other words, by forming the metal pattern 130 on the outside of the cell, that is, on the upper substrate 110 and the lower substrate 120, the metal pattern 130 does not have to be formed to avoid other components in the cell, The width of the non-display area I / A need not be widened. The non-display area I / A is formed on the upper substrate 110 to dispose the metal pattern 130 as the metal pattern 130 is disposed at a position where it is unnecessary to compete with other components in the cell. It is not necessary to further enlarge the area corresponding to the area. Thus, the inner bezel of the display apparatus 100 can be realized. The conductive layer 112 is deposited on the lower surface of the upper substrate 110 and the metal pattern 130 is formed on the conductive layer 112 to form a non-display area I / A Need not change the location of the other components that were placed in the &lt; / RTI &gt;

다음에서, 금속 패턴(130)을 통하여 전도층(112)이 안정적으로 접지됨으로써 터치 센서(114)에 의한 보다 정교한 터치 신호 감지가 가능한 본 발명의 실시예에 따른 표시 장치(100)와, 금속 패턴(130)을 포함하지 않은 비교예의 접촉 저항 값을 비교하여 봄으로써, 금속 패턴(130)에 의한 효과에 대하여 설명한다.A display device 100 according to an embodiment of the present invention capable of more precisely sensing a touch signal by the touch sensor 114 by stably grounding the conductive layer 112 through the metal pattern 130, The effect of the metal pattern 130 will be described by comparing the contact resistance values of the comparative example not including the metal layer 130. [

도 5a는 본 발명의 실시예에 따른 표시 장치와 비교예에 대한, 접촉 저항 변동을 측정하여 정리한 표이고, 도 5b는 도 5a의 표를 도식화한 그래프이다.FIG. 5A is a table summarizing the contact resistance fluctuations of the display device and the comparative example according to the embodiment of the present invention, and FIG. 5B is a graph illustrating the table of FIG. 5A.

도 5a의 표는, 실시예에 해당하는 10개의 시료와, 비교예에 해당하는 10개의 시료에 대하여, 각각 온도 65℃ / 습도 90% 의, 고온 고습 테스트를, T0(고온 고습 테스트를 진행하기 시작한 시점)부터 T336(고온 고습 테스트를 진행한지 336시간 경과 시점)까지 진행하였을 때, 각 시점에서 10개 시료의 각 접촉 저항 값의 평균값(C) 및 그 중 최댓값(B)을 열거하고 있다. 실시예는 금속 패턴에 의하여, 전도층이 표시 장치의 배면의 금속 커버 플레이트에 전기적으로 연결되어 있는 표시 장치이다. 실시예에 적용된 금속 패턴은 니켈 93%, 바나듐 7%의 조성비를 가지는, 스퍼터링 증착으로 형성된 니켈-바나듐(NiV) 합금 패턴이며, 사각형의 상부 기판의 네 개의 엣지에 각각 대응하여 네 개의 바(bar) 형상으로 구현되어 있다. 그리고, 실시예에 적용된 전도층은 니오븀 산화물층과, 실리콘 산화물층과, 인듐-주석 산화물층이 순차로 적층된 복수개의 무기층으로 구현되어 있다. 한편, 금속 패턴이 적용되지 않은 비교예는 전도층 테이프가 전도층에 직접 부착되어, 전도층이 표시 장치의 배면의 금속 커버 플레이트와 금속 패턴을 개재하지 않은 상태에서 전기적으로 연결되어 있는 표시 장치이다. The table of FIG. 5A shows the results of a high-temperature and high-humidity test at a temperature of 65 ° C / humidity of 90%, and T0 (a test at a high temperature and a high humidity, respectively) for ten samples corresponding to the embodiment and ten samples corresponding to the comparative example The average value (C) of each contact resistance value of 10 samples at each time point and the maximum value (B) among them are listed at T336 (336 hours after the high temperature and high humidity test). An embodiment is a display device in which a conductive layer is electrically connected to a metal cover plate on the back surface of a display device by a metal pattern. The metal pattern applied to the embodiment is a nickel-vanadium (NiV) alloy pattern formed by sputtering deposition having a composition ratio of 93% nickel and 7% vanadium, corresponding to four edges of a quadrangular upper substrate, ). The conductive layer used in the embodiment is formed of a plurality of inorganic layers in which a niobium oxide layer, a silicon oxide layer, and an indium-tin oxide layer are sequentially stacked. On the other hand, in the comparative example in which the metal pattern is not applied, the conductive layer tape is directly attached to the conductive layer, and the conductive layer is electrically connected to the metal cover plate on the backside of the display device without interposing the metal pattern .

사용자가 표시 장치를 터치 하게 되면, 상부 기판 및 하부 기판이 사용자의 터치에 따른 외력에 의해, 휘어지고 다시 복원되면서 각 구성 요소들 간의 계면의 접촉 저항이 변동하게 되는데, 접촉 저항 값을 측정하여 그 편차를 살펴보는 것이 접촉 저항 편차(contact resistance variation, CRV) 테스트이다. 각 시료의 각 고온 고습 테스트 과정에서, 일정 시간이 지날 때 마다 접촉 저항 편차 테스트를 수행하였는데, 이 때, 접촉 저항은 다음과 같은 방법으로 측정하였다. 고온 고열 테스트 진행 중에 일정 시점마다, 각 시료의 상부 편광판 중앙부에 홀을 뚫은 후 단자를 2개 연결하고, 백라이트 유닛 배면의 금속 커버 플레이트에 단자를 2개 연결하여 터치를 진행하면서 측정하였다. 실시예의 경우, 모든 시료에 대하여 T0, T72, T144, T240 및 T336 시점마다 접촉 저항 값을 측정하였고, 비교예의 경우, 모든 시료에 대하여 T0 와 T33 시점에만 접촉 저항 값을 측정하였다.When the user touches the display device, the upper substrate and the lower substrate are bent and restored by the external force due to the touch of the user, so that the contact resistance of the interface between the respective components fluctuates. Looking at the deviation is a contact resistance variation (CRV) test. In each high-temperature and high-humidity test of each sample, the contact resistance variation test was carried out after a certain period of time. At this time, the contact resistance was measured by the following method. At the same time during the high temperature and high temperature test, two holes were drilled in the central part of the upper polarizer of each sample, and two terminals were connected to the metal cover plate on the back surface of the backlight unit. In the case of the embodiment, the contact resistance values were measured for all samples at the time points T0, T72, T144, T240, and T336, and in the case of the comparative example, the contact resistance values were measured for all the samples only at time points T0 and T33.

도 5a의 표를 그래프로 나타낸 도 5b를 참조하면, 실시예에 해당하는 시료 10개는 모두, 최솟값과 최댓값(B)을 불문한 모든 접촉 저항 값이 3 Ω 미만의 값을 가짐을 알 수 있다. 반면, 비교예에 해당하는 시료 10개는 모두, 최솟값과 최댓값(B)을 불문한 모든 접촉 저항 값이 10 Ω 을 초과하는 값을 가짐을 알 수 있다. 또한, 비교예는 시료 10개에 대한 접촉 저항 값의 편차(D)가 매우 큼에 반하여, 실시예는 시료 10개에 대한 접촉 저항 값의 편차(D)가 매우 작다는 것을 알 수 있다. 비교예와 대비하여, 접촉 저항 값의 편차(D)가 적은 실시예로부터, 보다 정교하게 터치 신호가 감지될 수 있음을 알 수 있다. 특히, 비교예에 해당하는 시료 10개는 T0 시점과 T336 시점 사이에 평균값(C)은 2.4 Ω, 최댓값(B)은 2.1 Ω 이 각각 증가한 반면에, 실시예에 해당하는 시료 10개는 T0 시점과 T336 시점 사이에 평균값(C)은 0.1 Ω, 최댓값(B)은 0.3 Ω 이 각각 증가하였을 뿐임을 알 수 있다. 접촉 저항 값 자체도 실시예가 비교예와 대비하여 더 낮을 뿐만 아니라, 고온 고습 환경에서 각 시료가 구동되고 나서 성능이 저하되는 정도에 있어서도 실시예가 비교예 대비하여 더 작다는 것을 알 수 있다. 이로부터, 실시예는 보다 오랫동안 고성능이 유지되는 터치 기능이 제공될 수 있음을 알 수 있다다.Referring to FIG. 5B, which is a graph of the table of FIG. 5A, it can be seen that all of the 10 samples corresponding to the embodiment have a value of all contact resistances of less than 3?, Regardless of the minimum value and the maximum value (B) . On the other hand, all of the 10 samples in the comparative example have a value exceeding 10 Ω for all the contact resistances regardless of the minimum value and the maximum value (B). In addition, it can be seen that in the comparative example, the deviation (D) of the contact resistance value with respect to 10 samples is very large, whereas the embodiment shows a very small variation (D) of the contact resistance value with respect to 10 samples. It can be seen that the touch signal can be detected more precisely from the embodiment in which the deviation D of the contact resistance value is small as compared with the comparative example. Particularly, in 10 samples corresponding to the comparative example, the average value (C) was increased to 2.4 Ω and the maximum value (B) was increased to 2.1 Ω between the time T 0 and the time T 336, (C) is 0.1 Ω and the maximum value (B) is 0.3 Ω, respectively. The contact resistance value itself is lower than that of the comparative example, and it is also understood that the embodiment is smaller than the comparative example in the degree of deterioration in performance after each sample is driven in a high temperature and high humidity environment. From this, it can be seen that the embodiment can provide a touch function that maintains high performance for a longer period of time.

이상 첨부된 도면을 참조하여 본 발명의 실시예를 더욱 상세하게 설명하였으나, 본 발명은 반드시 이러한 실시예로 국한되는 것은 아니고, 본 발명의 기술사상을 벗어나지 않는 범위 내에서 다양하게 변형 실시될 수 있다. 따라서 본 발명의 실시예는 본 발명의 기술 사상을 한정하기 위한 것이 아니라 설명하기 위한 것이고, 이러한 실시예에 의하여 본 발명의 기술 사상의 범위가 한정되는 것은 아니다. 이위에서 기술한 실시예는 모든 면에서 예시적인 것이며 한정적이지 않은 것으로 이해해야만 한다. 본 발명의 보호 범위는 청구범위에 의하여 해석되어야 하며, 그와 동등한 범위 내에 있는 모든 기술 사상은 본 발명의 권리범위에 포함되는 것으로 해석되어야 할 것이다.Although the embodiments of the present invention have been described in detail with reference to the accompanying drawings, it is to be understood that the present invention is not limited to those precise embodiments and various changes and modifications may be made without departing from the scope of the present invention. . Therefore, the embodiments of the present invention are not intended to limit the scope of the present invention but to limit the scope of the technical idea of the present invention. It should be understood that the embodiments described herein are illustrative in all aspects and not restrictive. The scope of protection of the present invention should be construed according to the claims, and all technical ideas within the scope of equivalents should be interpreted as being included in the scope of the present invention.

100: 표시 장치 110: 상부 기판
110_e: 상부 기판의 엣지 111: 컬러필터층
112: 전도층 112_a: 제1 무기층
112_b: 제2 무기층 112_c: 제3 무기층
113: 절연층 114: 터치 센서
120: 하부 기판 121: TFT층
130: 금속 패턴 140: 전도성 테이프
150: 상부 편광판 151: 쿠션 테이프
160: 하부 편광판 170: 커버 윈도우
171: 블랙 매트릭스 172: 접착 레진
180: 백라이트 유닛 181: 시트층
182: 금속 커버 플레이트 183: 가이드 패널
A/A: 표시 영역 I/A: 비표시 영역
L1: 외광 θ1: 외광이 입사되어 굴절되는 각도
B: 접촉 저항 값의 최댓값 C: 접촉 저항 값의 평균값
D: 접촉 저항 값의 편차
w1: 금속 패턴에서 상부 기판의 엣지 사이의 수평적 이격 거리
w2: 금속 패턴의 폭
w3: 금속 패턴과 표시 영역 사이의 수평적 이격 거리
w4: 상부 기판에서의 비표시 영역의 폭
d1: 블랙 매트릭스와 표시 영역 사이의 수평적 이격 거리
d2: 금속 패턴과 표시 영역 사이의 수평적 이격 거리에서 블랙 매트릭스와 표시 영역 사이의 수평적 이격 거리를 뺀 값
d3: 블랙 매트릭스와 금속 패턴 사이의 수직적 이격 거리
100: display device 110: upper substrate
110_e: edge of the upper substrate 111: color filter layer
112: conductive layer 112_a: first inorganic layer
112_b: second inorganic layer 112_c: third inorganic layer
113: insulating layer 114: touch sensor
120: lower substrate 121: TFT layer
130: metal pattern 140: conductive tape
150: upper polarizer 151: cushion tape
160: lower polarizer 170: cover window
171: Black Matrix 172: Adhesive resin
180: backlight unit 181: sheet layer
182: metal cover plate 183: guide panel
A / A: Display area I / A: Non-display area
L1: external light? 1: angle at which external light is incident and refracted
B: maximum value of contact resistance C: average value of contact resistance
D: Deviation of contact resistance value
w1: Horizontal separation distance between the edges of the upper substrate in the metal pattern
w2: width of metal pattern
w3: Horizontal separation distance between the metal pattern and the display area
w4: width of the non-display area on the upper substrate
d1: Horizontal separation distance between the black matrix and the display area
d2: the horizontal distance between the metal pattern and the display area minus the horizontal distance between the black matrix and the display area
d3: Vertical separation distance between black matrix and metal pattern

Claims (20)

온-셀(on-cell) 정전용량 방식의 터치 센서;
상기 터치 센서 아래에 배치되고, 가시광선 파장 영역에서의 평균 광투과도 95% 이상이고 전도성을 가지면서, 광투과 경로와 방전 경로를 제공하는 전도층; 및
상기 전도층의 평균 면저항 값보다 더 낮은 평균 면저항값을 가지고, 상기 전도층의 가장자리를 따라서 상기 전도층 위에 배치되는 금속 패턴을 포함하고,
상기 전도층은 상기 금속 패턴을 통하여 접지되고,
상기 금속 패턴에 의하여, 상기 전도층이 접지될 때 상기 금속 패턴을 통하지 않고 접지되는 구조와 대비하여, 상기 터치 센서에 의해 감지된 터치 신호에 대한 노이즈가 최소화되는 것을 특징으로 하는 표시 장치.
An on-cell capacitive touch sensor;
A conductive layer disposed under the touch sensor and providing a light transmission path and a discharge path with an average light transmittance of 95% or more in a visible light wavelength range and having conductivity; And
And a metal pattern disposed on the conductive layer along an edge of the conductive layer, the conductive pattern having a mean sheet resistance value lower than an average sheet resistance value of the conductive layer,
The conductive layer is grounded through the metal pattern,
Wherein the metal pattern minimizes the noise of the touch signal sensed by the touch sensor as compared with a structure in which the conductive layer is grounded without being connected to the metal pattern when the conductive layer is grounded.
제1항에 있어서,
상기 금속 패턴은, 상기 전도층의 일 면과의 사이에서 접촉 강도가 확보되도록, 450Å 이상 550Å 이하의 두께가 되도록, 증착 가능한 물질로 구성된 것을 특징으로 하는 표시 장치.
The method according to claim 1,
Wherein the metal pattern is made of a material capable of being deposited so as to have a thickness of not less than 450 ANGSTROM and not more than 550 ANGSTROM so as to secure the contact strength with one surface of the conductive layer.
제2항에 있어서,
상기 증착 가능한 물질은 스퍼터링 증착이 가능한 물질인 것을 특징으로 하는 표시 장치.
3. The method of claim 2,
Wherein the vaporizable material is a material capable of sputter deposition.
제1항에 있어서,
상기 금속 패턴은, 몰리브덴(Mo)보다 염분 및 수분에 의한 침식으로부터 더 강한 금속 또는 금속 합금으로 이루어진 것을 특징으로 하는 표시 장치.
The method according to claim 1,
Wherein the metal pattern is made of a stronger metal or metal alloy than molybdenum (Mo) due to erosion by salt and moisture.
제4항에 있어서,
상기 금속 패턴은, 니켈(Ni)의 함량이 바나듐(V)의 함량보다 더 높은, 니켈-바나듐 합금(Ni-V)으로 이루어진 것을 특징으로 하는 표시 장치.
5. The method of claim 4,
Wherein the metal pattern is made of a nickel-vanadium alloy (Ni-V), the content of nickel (Ni) being higher than the content of vanadium (V).
제1항에 있어서,
상기 전도층은 가시광선 파장 영역에서의 평균 광반사율이 1.0 % 미만이고, 평균 면저항이 200 Ω/sq 미만인 것을 특징으로 하는 표시 장치.
The method according to claim 1,
Wherein the conductive layer has an average light reflectance of less than 1.0% and an average sheet resistance of less than 200? / Sq in a visible light wavelength region.
제6항에 있어서,
상기 전도층은, 순차적으로 적층된, n1 의 굴절률을 가지는 제1 무기층, n2 의 굴절률을 가지는 제2 무기층, n3 의 굴절률을 가지는 제3 무기층을 포함하고, 가시광선 파장 영역의 광에 대하여 n2<n1, n2<n3 의 관계를 가지는 것을 특징으로 하는 표시 장치.
The method according to claim 6,
Wherein the conductive layer includes a first inorganic layer having a refractive index n1, a second inorganic layer having a refractive index n2, and a third inorganic layer having a refractive index n3, which are sequentially stacked, N2 < n1 &quot; and &lt; n3 &lt; n3.
제7항에 있어서,
상기 제3 무기층은 전도성을 가지며,
상기 금속 패턴은 상기 전도성을 가지는 제3 무기층의 일 면에 직접 접하여 배치되는 것을 특징으로 하는 표시 장치.
8. The method of claim 7,
Wherein the third inorganic layer has conductivity,
Wherein the metal pattern is disposed directly on one surface of the third inorganic layer having conductivity.
제6항에 있어서,
상기 전도층은 니오븀 산화물(Nb2O5)-실리콘 산화물(SiO2)-인듐주석산화물(ITO)의 삼중층인 것을 특징으로 하는 표시 장치.
The method according to claim 6,
Wherein the conductive layer is a triple layer of niobium oxide (Nb2O5) - silicon oxide (SiO2) - indium tin oxide (ITO).
제1항에 있어서,
상기 금속 패턴은, 화상이 표시되는 표시 영역을 침범하지 않도록, 상기 표시 영역을 둘러싸는 비표시 영역에 배치되는 것을 특징으로 하는 표시 장치.
The method according to claim 1,
Wherein the metal pattern is disposed in a non-display area surrounding the display area so as not to infringe the display area in which an image is displayed.
제10항에 있어서,
상기 금속 패턴과 상기 표시 영역 사이의 이격 거리보다, 상기 금속 패턴에서 상기 기판의 끝 사이의 이격 거리가 더 짧은 것을 특징으로 하는 표시 장치.
11. The method of claim 10,
Wherein the distance between the metal pattern and the end of the substrate is shorter than the distance between the metal pattern and the display area.
제10항에 있어서,
상기 금속 패턴에서 상기 표시 영역 사이의 이격 거리는 1.77 mm 이상 2.37 mm 이하인 것을 특징으로 하는 표시 장치.
11. The method of claim 10,
Wherein a distance between the display regions of the metal pattern is 1.77 mm or more and 2.37 mm or less.
제1항에 있어서,
상기 금속 패턴에서, 두께의 편차는 50Å 이하인 것을 특징으로 하는 표시 장치.
The method according to claim 1,
Wherein a deviation of a thickness of the metal pattern is 50 angstroms or less.
화상이 표시되는 표시 영역 및 상기 표시 영역을 둘러싸는 비표시 영역으로 구획되고, 서로 마주하는 상부 기판 및 하부 기판;
상기 상부 기판 및 상기 하부 기판 위에 배치된, 온-셀(on-cell) 정전용량 방식의 터치 센서;
상기 상부 기판의 상면을 덮는 광투과성의 전도층;
상기 전도층의 가장자리를 따라 배치되고, 상기 전도층의 평균 면저항 값 보다 더 낮은 평균 면저항 값을 가지는 금속 패턴; 및
상기 금속 패턴의 상면을 덮도록 부착된 전도성 테이프; 를 포함하고,
상기 금속 패턴이 없는 구조와 대비하여, 상기 터치 센서에 의해 감지된 터치 신호에 대한 노이즈가 최소화되도록, 상기 금속 패턴을 통하여 상기 전도층과 상기 전도성 테이프가 전기적으로 연결됨으로써 상기 전도층이 접지되는 것을 특징으로 하는 표시 장치.
An upper substrate and a lower substrate which are partitioned into a display region in which an image is displayed and a non-display region surrounding the display region;
An on-cell capacitive touch sensor disposed on the upper substrate and the lower substrate;
A light-transmissive conductive layer covering an upper surface of the upper substrate;
A metal pattern disposed along an edge of the conductive layer and having an average sheet resistance value lower than an average sheet resistance value of the conductive layer; And
A conductive tape attached to cover the upper surface of the metal pattern; Lt; / RTI &gt;
The conductive layer and the conductive tape are electrically connected to each other through the metal pattern so that the noise to the touch signal sensed by the touch sensor is minimized in comparison with the structure without the metal pattern, .
제14항에 있어서,
상기 금속 패턴의 폭은 0.70 mm 이상 1.40 mm 이하인 것을 특징으로 하는 표시 장치.
15. The method of claim 14,
Wherein the width of the metal pattern is 0.70 mm or more and 1.40 mm or less.
제14항에 있어서,
상기 비표시 영역에 대응하도록, 상기 상부 기판 위에 상기 상부 기판의 가장자리를 따라 블랙 매트릭스가 배치되고,
상기 상부 기판의 굴절률을 n2,
상기 블랙 매트릭스과 상기 표시 영역 사이의 수평적 이격 거리를 d1,
상기 블랙 매트릭스와 상기 금속 패턴 사이의 수직적 이격 거리를 d3 이라 할 때,
상기 금속 패턴과 상기 표시 영역 사이의 수평적 이격 거리는 d1+(tan(arcsin(sin80°/n2))*d3) 보다 큰 것을 특징으로 하는 표시 장치.
15. The method of claim 14,
A black matrix is disposed on the upper substrate along the edge of the upper substrate to correspond to the non-display area,
The refractive index of the upper substrate is n2,
A horizontal distance between the black matrix and the display region is d1,
And a vertical distance between the black matrix and the metal pattern is d3,
Wherein the horizontal distance between the metal pattern and the display region is greater than d1 + tan (arcsin (sin80 / n2)) * d3.
제16항에 있어서,
상기 금속 패턴과 상기 표시 영역 사이의 수평적 이격 거리는 1.50 mm 이상인 것을 특징으로 하는 표시 장치.
17. The method of claim 16,
Wherein the horizontal distance between the metal pattern and the display region is 1.50 mm or more.
제14항에 있어서,
상기 금속 패턴의 두께는 450 Å 이상 550 Å 이하인 것을 특징으로 하는 표시 장치.
15. The method of claim 14,
Wherein the metal pattern has a thickness of 450 ANGSTROM or more and 550 ANGSTROM or less.
제14항에 있어서,
상기 하부 기판의 하면을 덮고, 시스템의 접지 배선과 연결되도록 구현된 금속 커버 플레이트를 더 포함하고,
상기 금속 커버 플레이트에서부터 상기 전도층 사이의 접촉 저항 값이 최소화되도록, 상기 전도성 테이프가 상기 금속 커버 플레이트의 일 면에 부착됨으로써 상기 금속 패턴과 상기 금속 커버 플레이트가 전기적으로 연결되는 것을 특징으로 하는 표시 장치.
15. The method of claim 14,
Further comprising a metal cover plate covering the lower surface of the lower substrate and being adapted to be connected to the ground wiring of the system,
Wherein the conductive tape is attached to one surface of the metal cover plate so that a contact resistance value between the metal cover plate and the conductive layer is minimized so that the metal pattern and the metal cover plate are electrically connected to each other. .
제19항에 있어서,
상기 금속 커버 플레이트에서부터 상기 전도층 사이의 접촉 저항 값이 3 Ω 이하인 것을 특징으로 하는 표시 장치.
20. The method of claim 19,
Wherein a contact resistance value between the metal cover plate and the conductive layer is 3? Or less.
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