KR20170017551A - Cleaning composition for mold removal and deodorization - Google Patents
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Abstract
Description
본 발명은 욕실의 타일사이, 싱크대 배수구, 변기주변, 욕조 주변 및 창틀 주위의 실리콘 등의 곰팡이 제거가 가능한 겔 제형의 곰팡이 제거 및 탈취용 세정제 조성물에 관한 것으로, Aspergillus niger, Penicillium pinophilum, Chaetomium globosum, Gliocladium virens, Aureobasidium pulluans 등 곰팡이균과 효모균 등에 대한 항곰팡이력이 우수하며, 주요 악취원인 암모니아계, 아민계, 황화수소 및 메캅탄계에 효과적이며, 내용물에 함유된 고분자 물질의 겔 형성능으로 수직면에서도 흐르지 않는 겔 제형의 차아염소산나트륨, 수산화칼륨 등이 함유되며, 빛과 열, 금속성분에 불안정한 차아염소산나트륨의 안정성을 강화한 곰팡이 제거 및 탈취용 세정제 조성물에 관한 것이다.The present invention relates to a detergent composition for removing molds and deodorization of a gel-type mold capable of removing fungi such as silicon around tiles of a bathroom, around sinks, around a toilet, around a bathtub, and around a window frame. Aspergillus niger, Penicillium pinophilum, Chaetomium globosum, Gliocladium virens, and Aureobasidium pulluans. It is effective against ammonia, amine, hydrogen sulfide and capecane, which are major odors, and does not flow on the vertical surface due to the gel forming ability of the polymer substance contained in the contents. The present invention relates to a detergent composition for mold removal and deodorization, which contains sodium hypochlorite, potassium hydroxide, etc., which are in a gel form, and which enhances the stability of sodium hypochlorite unstable to light, heat and metal components.
또한, 본 발명은 겔 제형의 세정제 조성물에 관한 것으로, 더욱 상세하게는 고분자 물질을 사용하고, 계면활성제 및 산도조절제를 사용하여 상 안정성과 차아염소산나트륨의 안정성이 강화되고, 수직면에서의 흐름성이 거의 없어 사용이 편리한 욕실의 타일 사이, 싱크대 배수구, 변기주변, 욕조 주변 및 창틀 주위의 실리콘 등의 곰팡이 제거가 가능한 겔 제형의 곰팡이 제거 및 탈취용 세정제 조성물에 관한 것이다.More particularly, the present invention relates to a detergent composition of a gel formulation, and more particularly, to a detergent composition using a polymeric material, which uses a surfactant and an acidity control agent to enhance phase stability and stability of sodium hypochlorite, To a detergent composition for removing and deodorizing a mold of a gel type which is capable of removing fungi such as silicone between the tiles of a bathroom which is easy to use, a sink drain, the vicinity of a toilet, a bathtub, and a window frame.
종래의 곰팡이 제거 및 탈취용 세정제는 염산과 차아염소산나트륨을 함유한 제품이 대부분이며, 액체 형태의 제품을 걸레나 헝겊에 묻혀 사용하는 방식으로 곰팡이를 제거하였으나, 이 과정에서 인체에 묻거나 의류에 묻을 경우 피부 자극이나 의류의 탈색 등을 유발하는 등 사용상의 불편함이 있었다. 따라서 이러한 단점을 개선하고자 계면활성제를 대폭 증량하여 500~1,000 cps의 점도를 가지는 세정제류가 개발되어 시판되었다. 하지만, 이 제품 또한 시간이 지나면서 수직벽면에서의 흐름 현상을 막을 수는 없었다. 한편, 무기물 소독제로서 대표적인 것은 염소이며, 소독에 사용되는 염소는 염소 기체, 차아염소산(hypochlorous acid, HOCl), 그리고 차아염소산 이온(OCl-)으로 존재하는 차아염소산나트륨(NaOCl)의 세 가지 형태로 존재한다. 일반적으로 HOCl이 존재하는 물의 pH가 낮으면(대개 pH 2 이하) 이는 대부분 염소 기체의 형태로 존재하며, 물의 pH가 높으면(대개 pH 9 이상) OCl- 형태로 존재하고, pH 3~7.5 영역에서는 주로 HOCl 형태로 존재한다. 즉, 상기 세 가지 형태는 모두 한 물질에서 출발하는 성분들이며, pH에 따라 세 가지 성분이 그 비율을 달리하여 서로 공존하게 된다. 가정내에서 이러한 차아염소산나트륨을 사용하기 위해서는 피부에 강한 자극을 주지 않는 알칼리성의 차아염소산나트륨 액을 사용하는 것이 바람직하여, 대부분의 가정용 제품에 알칼리성의 차아염소산나트륨이 사용되고 있다.Conventional cleaning agents for mold removal and deodorization are mostly products containing hydrochloric acid and sodium hypochlorite, and molds are removed by using liquid products in a mop or cloth. In this process, however, There is inconvenience in use such as skin irritation or discoloration of clothes. Accordingly, a cleaning agent having a viscosity of 500 to 1,000 cps was developed and marketed to greatly increase the amount of the surfactant to improve the above disadvantages. However, this product also could not prevent flow over vertical walls over time. On the other hand, a representative example of the inorganic disinfectant is chlorine, and the chlorine used for disinfection includes three types of sodium hypochlorite (NaOCl) which is present as chlorine gas, hypochlorous acid (HOCl) and hypochlorite ion (OCl-) exist. In general, when the pH of the water in which HOCl is present is low (usually below pH 2) it is mostly present in the form of chlorine gas and is present in the form of OCI- when the pH of the water is high (usually pH 9 or higher) It mainly exists in HOCl form. That is, all of the above three types are components starting from one material, and the three components coexist at different ratios depending on the pH. In order to use such sodium hypochlorite in the home, it is preferable to use an alkaline sodium hypochlorite solution which does not give a strong stimulus to the skin, and most of household products use alkaline sodium hypochlorite.
일반적으로 항균 및 탈취제 용도로 사용되는 염소계 소독제인 락스(Rox)는 차아염소산(HClO)에서 발생하는 산소에 의해 항균 및 탈취효과를 발휘하므로 강력한 항균력을 나타낸다. 그러나 이러한 락스류는 사용할 때 발생하는 독성으로 인하여 사용자들의 불쾌감과 인체 안전성에 대한 불안감으로 사용을 꺼리고 사용상의 불편함, 자극, 의류 탈색 등의 피해 등으로 인한 여러가지 단점으로 보다 편하게 사용하기 위한 노력이 지속적으로 있어 왔다.Rox, a chlorine-based disinfectant used for antibacterial and deodorant applications, exhibits strong antibacterial activity because it exhibits antibacterial and deodorizing effect by oxygen generated from hypochlorous acid (HClO). However, due to the toxicity that occurs during use, these rocks are reluctant to use due to the uncomfortable feeling of the user and the safety of the human body. Therefore, efforts to use the rocks more comfortably due to various disadvantages such as inconvenience of use, irritation, I have been there continuously.
이러한 문제점을 해결하기 위해 종래기술로는 대한민국 등록특허 제10-0817688에서 액상 표백제의 과산화물 안정화제로 알킬디페닐옥사이드 디설포네이트를 사용하고 있지만, 항균 및 악취를 제거하는데 효과가 있는 것은 아니다.In order to solve such a problem, Korean Patent No. 10-0817688 discloses an alkyldiphenyl oxide disulfonate as a peroxide stabilizer for liquid bleaching agents, but it is not effective in removing antibacterial and odor.
이에, 악취물질을 제거할 목적으로 이전부터 다음과 같은 다양한 방법들이 사용되어 왔다.Therefore, various methods have been used from the past for the purpose of removing odor materials.
첫째, 화학적 제거방법으로는 중화, 부가, 중합, 산화 환원, 가수분해 등의 화학반응을 이용하여 항균 및 악취성분에 강한 반응성의 물질을 작용시켜 항균 및 악취 물질을 분해 또는 무취성 화합물로 변화시키는 방법으로서 상기 항균 및 냄새물질을 근원적으로 제거하는 방법이다.First, as a chemical removal method, chemical reaction such as neutralization, addition, polymerization, oxidation reduction and hydrolysis is used to act a substance which is highly reactive with the antibacterial and odor component to change the antibacterial and odorous substance into a decomposition or odorless compound Which is a method for removing the antibacterial and odorous substances fundamentally.
둘째, 물리 화학적 제거방법으로는 활성탄이나 실리카, 사이클로 덱스트린 등의 흡착 및 포집능이 강한 화합물로서 항균 및 악취성분을 표면에 흡착 또는 포집시키거나, 고비점의 용제, 계면활성제 등에 의한 흡수, 유동 파라핀, 고급 알코올, 합성수지 등을 이용하여 항균 및 냄새물질을 제거하는 방법이다.Second, the physicochemical removal method is a compound having high adsorption and adsorption ability such as activated carbon, silica, and cyclodextrin, adsorbing or collecting antibacterial and odorous components on the surface, absorption by high boiling point solvent, surfactant, It is a method of removing antibacterial and odorous substances by using high-grade alcohol, synthetic resin, and the like.
셋째, 생물 화학적 제거방법으로서는 양성 계면활성제, 살균제 등에 의한 살균작용으로 세균에 의한 악취 성분의 발생을 차단하거나, 소화 효소, 세균, 효모등을 이용하여 악취 성분이 유기산을 분해하여 냄새를 제거하는 방법이다.Third, the biochemical removal method is to block the generation of odor components caused by bacteria by the bactericidal action by the amphoteric surfactant and the bactericide, or to decompose the odorous components by decomposing the organic acid by using digestive enzymes, bacteria, yeast, etc. to be.
넷째, 감각적 항균 및 탈취방법으로는 주로 암모니아, 아민, 산, 알코올, 알데히드, 케톤, 페놀, 인돌, 방향족, 폴리아로마틱 등의 염기성 화합물 또는 휘산성 화합물과 티올, 메르캅탄, 설파이드와 같은 황화 화합물 등이다.Fourth, as sensory antibacterial and deodorization methods, basic compounds such as ammonia, amines, acids, alcohols, aldehydes, ketones, phenols, indoles, aromatics and polyaromatics or sulfated compounds such as thiol, mercaptans and sulfides to be.
곰팡이 제거 및 탈취용 세정제의 사용시 어느 정도의 시간동안 곰팡이나 기타 오염의 표면에 적용시켜야 하며, 이를 위해서는 수직 벽면에 부착되어 흐르지 않아 오랜 시간 동안 적용이 가능한 기능의 필요성이 대두되었다.The use of detergents for removing and deodorizing molds must be applied to the surface of fungi and other contaminants for a certain amount of time. To do this, a need exists for a function that can be applied for a long time because it does not flow on vertical walls.
본 발명은 상기한 바와 같은 종래 기술의 문제점을 해결하기 위한 것으로서, 통상의 곰팡이 제거 및 탈취용 세정제 조성물에 새로운 성분을 적절한 비율로 함유시킴으로써, 일반적인 곰팡이 제거 및 탈취용 세정제들에서와 다른 충분한 부착력을 지님은 물론, 종래의 곰팡이 제거 및 탈취용 세정제들이 갖지 못하던 강력한 부착력을 가지며, 충분한 적용 시간 부여를 통해 곰팡이 제거 및 탈취 성능을 극대화한 곰팡이 제거 및 탈취용 세정제 조성물을 제공하고자 한다.Disclosure of Invention Technical Problem [8] Accordingly, the present invention has been made keeping in mind the above problems occurring in the prior art, and an object of the present invention is to provide a detergent composition for removing and deodorizing fungus, The present invention also provides a detergent composition for removing and deodorizing fungus which has a strong adhesive force which is not possessed by conventional fungicide removal and deodorization detergents and which maximizes mold removal and deodorization performance by providing sufficient application time.
또한, 본 발명은 곰팡이 제거 및 탈취 효과뿐만 아니라 우수한 부착력과 차아염소산나트륨의 안정성 강화를 통해 제품의 품질을 높일 수 있으며, 살균 및 소취 효과를 나타내고, 욕실의 타일사이, 싱크대 배수구, 변기주변, 욕조 주변 및 창틀 주위의 실리콘 등의 곰팡이 제거가 가능한 겔 제형의 곰팡이 제거 및 탈취용 세정제 조성물을 제공하는 것으로 한다.In addition, the present invention can enhance the quality of the product by enhancing the adhesion of sodium hypochlorite as well as the excellent adhesion force as well as the removal of fungus and deodorizing effect, exhibiting sterilization and deodorizing effect, Which is capable of removing fungi such as silicon and the like around the periphery and window frame.
상기 목적을 달성하기 위한 본 발명의 양상은,According to an aspect of the present invention,
폴리아크릴산; 차아염소산나트륨; 산도조절제; 정제수; 및 하기 화학식 1로 표시되는 알킬디페닐옥사이드 디설포네이트 계면활성제 또는 하기 화학식 2로 표시되는 알킬 벤젠 디설포네이트 계면활성제; 를 포함하는 것을 특징으로 하는 곰팡이 제거 및 탈취용 세정제 조성물을 제공하는 것이다.Polyacrylic acid; Sodium hypochlorite; Acidity modifiers; Purified water; And an alkyldiphenyl oxide disulfonate surfactant represented by the following formula (1) or an alkylbenzene disulfonate surfactant represented by the following formula (2); The present invention also provides a detergent composition for removing and deodorizing a fungus.
화학식 1Formula 1
(여기서, R은 C8~18의 알킬 그룹이고, M은 카운터 이온으로 Na+, K+, NH4+ 이다.)(Wherein R is a C8-18 alkyl group, and M is a counter ion such as Na +, K +, NH4 +).
화학식 2(2)
(여기서, R은 C8~18의 알킬 그룹이고, M은 카운터 이온으로 Na+, K+, NH4+ 이다.)(Wherein R is a C8-18 alkyl group, and M is a counter ion such as Na +, K +, NH4 +).
본 발명에 따르면, 욕실의 타일사이, 싱크대 배수구, 변기주변, 욕조 주변 및 창틀 주위의 실리콘 등의 곰팡이 제거가 가능한 겔 제형의 곰팡이 제거 및 탈취에 우수한 성능을 발휘하며, Aspergillus niger, Penicillium pinophilum, Chaetomium globosum, Gliocladium virens, Aureobasidium pulluans 등 곰팡이균과 효모균 등에 대한 항곰팡이력이 우수하고, 주요 악취원인 암모니아계, 아민계, 황화수소 및 메캅탄계에 효과적이며, 내용물에 함유된 고분자 물질의 겔 형성능으로 수직면에서도 흐르지 않는 겔 제형의 차아염소산나트륨, 수산화칼륨 등이 함유되고, 빛과 열, 금속성분에 불안정한 차아염소산나트륨의 안정성을 강화한 곰팡이 제거 및 탈취용 세정제 조성물을 제공하는 효과를 갖는다.According to the present invention, excellent performance is exhibited in the removal and deodorization of a gel-type mold capable of removing fungi such as silicon, etc. between tiles in a bathroom, a sink drain, the vicinity of a toilet, a bathtub, and a window frame. Aspergillus niger, Penicillium pinophilum, Chaetomium globosum, Gliocladium virens, and Aureobasidium pulluans. It is also effective for ammonia, amine, hydrogen sulfide, and capecane, which are major odors, and has a gel-forming ability of the polymer contained in the contents. The present invention has an effect of providing a detergent composition for removing and deodorizing a fungus in which the stability of sodium hypochlorite, which contains sodium hypochlorite, potassium hydroxide, etc., which does not flow, and which is unstable in light, heat and metal components is enhanced.
이하, 본 발명을 더욱 상세히 설명한다.Hereinafter, the present invention will be described in more detail.
폴리아크릴산; 차아염소산나트륨; 산도조절제; 정제수; 및 하기 화학식 1로 표시되는 알킬디페닐옥사이드 디설포네이트 계면활성제 또는 하기 화학식 2로 표시되는 알킬 벤젠 디설포네이트 계면활성제; 를 포함하는 것을 특징으로 하는 곰팡이 제거 및 탈취용 세정제 조성물에 관한 것이다.Polyacrylic acid; Sodium hypochlorite; Acidity modifiers; Purified water; And an alkyldiphenyl oxide disulfonate surfactant represented by the following formula (1) or an alkylbenzene disulfonate surfactant represented by the following formula (2); The present invention relates to a detergent composition for removing and deodorizing a fungus.
화학식 1Formula 1
(여기서, R은 C8~18의 알킬 그룹이고, M은 카운터 이온으로 Na+, K+, NH4+ 이다.)(Wherein R is a C8-18 alkyl group, and M is a counter ion such as Na +, K +, NH4 +).
화학식 2(2)
(여기서, R은 C8~18의 알킬 그룹이고, M은 카운터 이온으로 Na+, K+, NH4+ 이다.)(Wherein R is a C8-18 alkyl group, and M is a counter ion such as Na +, K +, NH4 +).
본 발명에 따른 곰팡이 제거 및 탈취용 세정제 조성물은 하기 화학식 1 내지 10으로 표시되는 계면활성제로 하기 계면활성제의 예시는 본 발명의 설명을 돕기 위한 예시일 뿐으로 예시만으로 한정되지 않는다.The detergent composition for removing and deodorizing mildew according to the present invention is a surfactant represented by the following general formulas (1) to (10). Examples of the following surfactants are only illustrative and not limitative.
화학식 1 Formula 1
(여기서, R은 C8~18의 알킬 그룹이고, M은 카운터 이온으로 Na+, K+, NH4+ 이다.)(Wherein R is a C8-18 alkyl group, and M is a counter ion such as Na +, K +, NH4 +).
화학식 2(2)
(여기서, R은 C8~18의 알킬 그룹이고, M은 카운터 이온으로 Na+, K+, NH4+ 이다.)(Wherein R is a C8-18 alkyl group, and M is a counter ion such as Na +, K +, NH4 +).
화학식 3(3)
(여기서, R은 C8~18의 알킬 그룹이고, M은 카운터 이온으로 Na+, K+, NH4+ 이며, n은 10~20의 정수이다.)Wherein R is an alkyl group of C8-18, M is a counter ion of Na +, K +, NH4 +, and n is an integer of 10-20.
화학식 4Formula 4
(여기서, R은 C8~18의 알킬 그룹이고, M은 카운터 이온으로 Na+, K+, NH4+ 이다.)(Wherein R is a C8-18 alkyl group, and M is a counter ion such as Na +, K +, NH4 +).
화학식 5Formula 5
(여기서, R은 C8~18의 알킬 그룹이고, M은 카운터 이온으로 Na+, K+, NH4+ 이다.)(Wherein R is a C8-18 alkyl group, and M is a counter ion such as Na +, K +, NH4 +).
화학식 66
(여기서, R은 C8~18의 알킬 그룹이고, M은 카운터 이온으로 Na+, K+, NH4+ 이며, n은 10~20의 정수이고, m은 5~15의 정수이다.)(Wherein, R is an alkyl group of C8 ~ 18, M is a counter-ion Na +, K +, NH 4 +, n is an integer of 10 ~ 20, m is an integer of 5-15.)
화학식 7Formula 7
(여기서, R은 C8~18의 알킬 그룹이고, M은 카운터 이온으로 Na+, K+, NH4+ 이다.)(Wherein R is a C8-18 alkyl group, and M is a counter ion such as Na +, K +, NH4 +).
화학식 88
(여기서, R은 C8~18의 알킬 그룹이고, M은 카운터 이온으로 Na+, K+, NH4+ 이며, n은 10~20의 정수이고, m은 5~15의 정수이다.)(Wherein R is an alkyl group of C8-18, M is a counter ion such as Na +, K +, NH4 +, n is an integer of 10 to 20, and m is an integer of 5 to 15.)
화학식 9Formula 9
(여기서, R은 C8~18의 알킬 그룹이고, M은 카운터 이온으로 Na+, K+, NH4+ 이다.)(Wherein R is a C8-18 alkyl group, and M is a counter ion such as Na +, K +, NH4 +).
화학식 1010
(여기서, R은 C8~18의 알킬 그룹이고, M은 카운터 이온으로 Na+, K+, NH4+ 이며, n은 10~20의 정수이고, m은 5~15의 정수이다.)(Wherein R is an alkyl group of C8-18, M is a counter ion such as Na +, K +, NH4 +, n is an integer of 10 to 20, and m is an integer of 5 to 15.)
상기 화학식 1 내지 10으로 표시되는 계면활성제는 1개의 알킬기 및 2개의 음이온을 포함한 음이온 계면활성제이다.The surfactants represented by the above Chemical Formulas 1 to 10 are anionic surfactants containing one alkyl group and two anions.
상기 화학식 1로 표시되는 알킬디페닐옥사이드 디설포네이트 음이온 계면활성제는 탄소수 8 내지 18의 1개의 알킬기 및 2개의 설포네이트 음이온기를 가진다.The alkyldiphenyl oxide disulfonate anionic surfactant represented by Formula 1 has one alkyl group having 8 to 18 carbon atoms and two sulfonate anion groups.
상기 화학식 1로 표시되는 알킬디페닐옥사이드 디설포네이트 음이온 계면활성제는 총 조성물에 대하여 0.1 내지 5중량%로 포함되며, 바람직하게는 0.1 내지 3중량%이다.The alkyl diphenyl oxide disulfonate anionic surfactant represented by Formula 1 is contained in an amount of 0.1 to 5 wt%, preferably 0.1 to 3 wt%, based on the total composition.
상기 알킬디페닐옥사이드 디설포네이트 음이온 계면활성제의 함량이 0.1중량% 미만이면 원하는 차아염소산나트륨의 안정화 및 세정 효과를 나타내기 어려우며, 5중량%를 초과하면 제품의 점도가 떨어지는 문제점이 있다.If the content of the alkyl diphenyl oxide disulfonate anionic surfactant is less than 0.1% by weight, it may be difficult to stabilize and clean the desired sodium hypochlorite. If the content of the alkyl diphenyl oxide disulfonate anionic surfactant exceeds 5% by weight, viscosity of the product may be decreased.
상기 화학식 2로 표시되는 알킬 벤젠 디설포네이트 음이온 계면활성제는 탄소수 8 내지 18의 1개의 알킬기 및 2개의 설포네이트 음이온기를 가진다.The alkylbenzene disulfonate anionic surfactant represented by Formula 2 has one alkyl group having 8 to 18 carbon atoms and two sulfonate anion groups.
상기 화학식 2로 표시되는 알킬 벤젠 디설포네이트 음이온 계면활성제는 총 조성물에 대하여 0.1 내지 5중량%로 포함되며, 바람직하게는 0.1 내지 3중량%이다.The alkylbenzene disulfonate anionic surfactant represented by Formula 2 is contained in an amount of 0.1 to 5% by weight, preferably 0.1 to 3% by weight based on the total composition.
상기 알킬 벤젠 디설포네이트 음이온 계면활성제의 함량이 0.1중량% 미만이면 차아염소산나트륨의 안정화에 도움이 되지 않으며, 5중량% 초과하면 5중량% 미만 대비 차아염소산나트륨의 안정화에 비례적으로 도움이 되지 않으며, 점도에도 악영향을 미친다.If the content of the alkylbenzene disulfonate anionic surfactant is less than 0.1% by weight, it does not contribute to the stabilization of sodium hypochlorite. If the content of the alkylbenzene disulfonate anion surfactant exceeds 5% by weight, the amount of the alkylbenzene disulfonate anion surfactant is not proportionally to stabilize sodium hypochlorite And adversely affect viscosity.
본 발명에 있어서, 하기 화학식 11로 표시되는 상기 폴리아크릴산은 총 조성물에 대하여 0.1 내지 5중량%로 포함되며, 바람직하게는 0.5 내지 3중량%이다.In the present invention, the polyacrylic acid represented by the following general formula (11) is contained in an amount of 0.1 to 5% by weight, preferably 0.5 to 3% by weight, based on the total composition.
상기 폴리아크릴산의 함량이 0.1중량% 미만이면 점도가 낮아지며, 5중량%를 초과하면 점도가 지나치게 높거나 점도가 양에 비례하여 증가하지 않는다.When the content of the polyacrylic acid is less than 0.1% by weight, the viscosity is low. When the content exceeds 5% by weight, the viscosity is not excessively high or the viscosity does not increase in proportion to the amount.
상기 폴리아크릴산은 중량평균분자량이 200만 내지 1,000만인 것이 바람직하다.The polyacrylic acid preferably has a weight average molecular weight of 2,000,000 to 10,000,000.
상기 폴리아크릴산의 중량평균분자량이 200만 미만이면 점도가 지나치게 낮아 흘러내릴 수 있고, 1,000만 이상이면, 높은 점도로 생산이 어렵고 토출이 어려울 수 있다.If the weight average molecular weight of the polyacrylic acid is less than 2,000,000, the viscosity may be too low to flow down. If the weight average molecular weight is more than 10,000,000, the polyacrylic acid may be difficult to produce and difficult to discharge due to its high viscosity.
상기 폴리아크릴산은 카보머로 백색이며 흡습성이 강한 분말로 본 발명에서 점증제 역할을 한다.The polyacrylic acid is a carbomer-white, hygroscopic powder, which acts as an additive in the present invention.
화학식 11Formula 11
(단, n은 10~20의 정수이다.)(Wherein n is an integer of 10 to 20).
본 발명에 있어서, 하기 화학식 12로 표시되는 상기 차아염소산나트륨은 총 조성물에 대하여 1 내지 5중량%로 포함되며, 바람직하게는 1 내지 4중량%이다.In the present invention, the sodium hypochlorite represented by the following general formula (12) is contained in an amount of 1 to 5% by weight, preferably 1 to 4% by weight, based on the total composition.
상기 차아염소산나트륨이 1중량% 미만이면 곰팡이 제거 및 탈취효과가 떨어지며, 5중량%를 초과하는 경우 인체 자극성을 유발할 수 있다.If the amount of the sodium hypochlorite is less than 1% by weight, the mold removal and deodorizing effect is poor. If the sodium hypochlorite is more than 5% by weight, human irritation may be caused.
화학식 12Formula 12
상기 차아염소산나트륨은 욕실의 타일이나 바닥의 물때나, 피지 등의 오염은 특히, 욕실 사용 후 잔존하는 다량의 수분과 인간의 배설물 등으로 인하여 많은 종류의 세균이 번식하며 생기는 염기성의 암모니아와 트리메틸아민 등의 아민화합물, 산성의 황화수소 및 메틸메르캅탄 등의 황화 화합물 그리고 휘발점이 낮은 아세트알데하이드 등의 냄새 제거에도 효과적이다.The above-mentioned sodium hypochlorite is used as a raw material for the tile or bottom of bathroom tiles, sebum and the like, especially because of the large amount of water remaining after the use of the bathroom and human excrement, , Sulfuric compounds such as acidic hydrogen sulfide and methyl mercaptan, and acetaldehyde with a low volatilization point.
본 발명에 있어서, 상기 산도조절제는 총 조성물에 대하여 0.1 내지 5중량%로 포함된다.In the present invention, the acidity regulator is included in an amount of 0.1 to 5% by weight based on the total composition.
상기 산도조절제가 0.1중량% 미만이면 폴리아크릴산의 수화가 발생되지 않으며, 5중량% 초과이면 다시 점도가 하락하는 현상이 발생한다.If the acid control agent is less than 0.1 wt%, hydration of the polyacrylic acid is not generated. If the acid control agent is more than 5 wt%, the viscosity may decrease again.
상기 산도조절제는 수산화나트륨, 수산화칼륨, 모노에탄올아민, 디에탄올아민 및 트리에탄올아민 중에서 선택된 1종 이상으로 포함될 수 있으나, 이들로 제한되는 것은 아니며, 바람직하게는 하기 화학식 13으로 표시되는 수산화칼륨이다.The acidity adjusting agent may be at least one selected from sodium hydroxide, potassium hydroxide, monoethanolamine, diethanolamine and triethanolamine, but is not limited thereto, and is preferably potassium hydroxide represented by the following formula (13).
화학식 13Formula 13
본 발명에 있어서, 상기 곰팡이 제거 및 탈쥐용 세정제 조성물은 첨가제로 코팅제 및 향료를 추가로 포함할 수 있다.In the present invention, the detergent composition for removing molds and fungi may further include a coating agent and a flavoring agent as additives.
본 발명에 있어서, 고분자 물질 및 계면활성제는 적절한 농도 범위에서 사용될 때, 차아염소산나트륨의 안정화를 유도하고, 수직 벽면에서의 부착력을 증가시키며, 사용자의 피부 또는 인체에 거의 독성을 나타내지 않으면서, 우수한 곰팡이 제거 능력 및 부착능력 강화와 차아염소산나트륨의 안정화를 유도할 수 있다. In the present invention, the polymer substance and the surfactant, when used in an appropriate concentration range, induce stabilization of sodium hypochlorite, increase the adhesion at the vertical wall surface, and exhibit almost no toxicity to the user's skin or human body It is possible to enhance mold removal ability and adhesion ability and to stabilize sodium hypochlorite.
또한, 본 발명은 겔 제형의 세정제 조성물에 관한 것으로, 더욱 상세하게는 고분자 물질을 사용하고, 계면활성제 및 산도조절제를 사용하여 상 안정성과 차아염소산나트륨의 안정성이 강화되고, 수직면에서의 흐름성이 거의 없어 사용이 편리한 욕실의 타일 사이, 싱크대 배수구, 변기주변, 욕조주변 및 창틀 주위의 실리콘 등의 곰팡이 제거가 가능한 겔 제형의 곰팡이 제거 및 탈취용 세정제 조성물이다.More particularly, the present invention relates to a detergent composition of a gel formulation, and more particularly, to a detergent composition using a polymeric material, which uses a surfactant and an acidity control agent to enhance phase stability and stability of sodium hypochlorite, It is a gel-type detergent composition for removing molds and deodorizing which is capable of removing fungi from tiles in a bathroom which is easy to use, around a sink drain, around a toilet, around a bathtub and silicone around a window frame.
이하 본 발명의 바람직한 실시 예를 상세히 설명하기로 한다. 이에 앞서, 본 명세서 및 청구범위에 사용된 용어나 단어는 통상적이거나 사전적인 의미로 한정해서 해석되어서는 아니 되며, 발명자는 그 자신의 발명을 가장 최선의 방법으로 설명하기 위해 용어의 개념을 적절하게 정의할 수 있다는 원칙에 입각하여 본 발명의 기술적 사상에 부합하는 의미와 개념으로 해석되어야만 한다.Hereinafter, preferred embodiments of the present invention will be described in detail. Prior to this, terms and words used in the present specification and claims should not be construed as limited to ordinary or dictionary terms, and the inventor should appropriately interpret the concepts of the terms appropriately It should be construed in accordance with the meaning and concept consistent with the technical idea of the present invention based on the principle that it can be defined.
따라서, 본 명세서에 기재된 도면 및 실시 예에 도시된 구성은 본 발명의 가장 바람직한 일 실시 예에 불과할 뿐이고 본 발명의 기술적 사상을 모두 대변하는 것은 아니므로, 본 출원시점에 있어서 이들을 대체할 수 있는 다양한 균등물과 변형 예들이 있을 수 있음을 이해하여야 한다.Therefore, the configurations shown in the drawings and the embodiments described herein are merely the most preferred embodiments of the present invention, and are not intended to represent all of the technical ideas of the present invention. Therefore, It is to be understood that equivalents and modifications are possible.
<< 비교예Comparative Example 1 내지 11 및 1 to 11 and 실시예Example 1 내지 2의 제조> 1 to 2 >
아래의 성분을 가진 곰팡이 제거 및 탈취용 세정제 조성물을 제조하고, 차아염소산나트륨의 고온 안정성, 투명도, 점도 안정성, 항진균력을 측정하여 나타내었다. 아래 사용된 계면활성제의 예시는 본 기술의 설명을 돕기 위한 예시일 뿐으로 예시만으로 한정되지 않는다 A cleaning composition for the removal and deodorization of fungus having the following components was prepared and the high temperature stability, transparency, viscosity stability and antifungal activity of sodium hypochlorite were measured and shown. Examples of the surfactants used below are illustrative only to assist in the description of the present technology and are not limited to examples
<배합 성분><Ingredients>
표 2 중의 각 성분으로는, 이하의 것을 사용한다. As the respective components in Table 2, the following are used.
a-1; 에톡실산화 알코올 (C12~C15, LAE-7)a-1; Ethoxylated alcohols (C12-C15, LAE-7)
a-2; 폴리옥시에틸렌 알킬 에테르 (Softanol 90)a-2; Polyoxyethylene alkyl ether (Softanol 90)
a-3; 에톡실레이트 알콜 (C12~15, LA-9)a-3; Ethoxylate alcohol (C12-15, LA-9)
a-4; 알칸술폰산염 (SAS : Sodium alanesulfonate)a-4; Sodium alanesulfonate (SAS)
a-5; 알파올레핀설포네이트 (AOS : alpha olefin sulfonate)a-5; Alpha olefin sulfonate (AOS)
a-6; 야자열매지방산 디에탄올아민 (CDE : Cocamide DEA)a-6; Coconut oil fatty acid diethanolamine (CDE: Cocamide DEA)
a-7; 알킬 에테르 유산에스테르 나트륨 (AES-2)a-7; Sodium alkyl ether ester (AES-2)
a-8; 알킬 에테르 유산에스테르 나트륨 (AES-3)a-8; Sodium alkyl ether ester (AES-3)
a-9; 알킬벤젠술폰산염 (Akylbenzene Sulfonate, LAS)a-9; Acylbenzene Sulfonate (LAS)
a-10; 베타인 (Betaine)a-10; Betaine
a-11; 알킬폴리 글루코사이드 (Alkyl polyglucoside, APG)a-11; Alkyl polyglucoside (APG)
a-12; 알킬디페닐옥사이드 디설포네이트 (Alkyldiphenyloxide disulfonate) a-12; Alkyldiphenyloxide disulfonate < RTI ID = 0.0 >
a-13; 알킬 벤젠 디설포네이트 (Alkyl benzene disulfonate) a-13; Alkyl benzene disulfonate < RTI ID = 0.0 >
b; 폴리아크릴산 (Poly acrylic acid, Carbomer)b; Poly acrylic acid (Carbomer)
c; 차아염소산나트륨 (Sodium hypochlorite)c; Sodium hypochlorite
d; 산도조절제 (수산화칼륨)d; Acidity modifier (potassium hydroxide)
e; 정제수e; Purified water
(1) (One) 차아염소산나트륨의Of sodium hypochlorite 안정성 평가 Stability evaluation
시험방법Test Methods
1) 200ml 비이커에 magnetic bar를 넣고, 시료 1g을 넣는다.1) Put a magnetic bar into a 200 ml beaker and add 1 g of sample.
2) 물 20ml를 채운다.2) Fill 20 ml of water.
3) KI(10%) 용액을 20ml 채운다.3) Fill 20 ml of KI (10%) solution.
4) Stirring시키면서 Acetic acid를 10ml 넣는다.4) Add 10 ml of acetic acid while stirring.
5) 이를 0.1N Sodium Thiosulfate (Na2S2O3) 용액으로 적정한다.5) Titrate with 0.1 N sodium thiosulfate (Na2S2O3) solution.
6) 적정하면서 액물이 연황색으로 변하면, 녹말용액(1%, Indicator)을 한두방울 떨어뜨려서 검푸른색으로 만든다.6) If the liquid turns to light yellow while it is titration, drop one or two drops of starch solution (1%, Indicator) into a dark blue color.
7) 이를 다시 0.1N Sodium Thiosulfate (Na2S2O3) 용액으로 적정한다.7) Titrate with 0.1N sodium thiosulfate (Na2S2O3) solution.
(종말점 : 검정 → 무색) (End point: black → colorless)
* 계산식 * formula
(2) 점도 안정성 평가(2) Evaluation of viscosity stability
시험방법Test Methods
점도계 (Model:BROOKFIELD. DV-III UTA SN: RY84240)를 이용하여 본 발명에 따른 곰팡이 제거 및 탈취용 세정제를 제조하고, 제조 직후와 50℃에서 일정 기간 보관 후의 점도를 비교 관찰한다.Using a viscometer (Model: BROOKFIELD. DV-III UTA SN: RY84240), the cleaning agent for mold removal and deodorization according to the present invention is prepared and the viscosity after storage for a certain period of time at 50 ° C is compared and observed.
시험조건Exam conditions
점도계 : Model:BROOKFIELD. DV-III ULTRA. SN:RY84240Viscometer: Model: BROOKFIELD. DV-III ULTRA. SN: RY84240
온도 : 25℃Temperature: 25 ℃
조건 : 12 RPM, 64번 스핀들 사용Condition: 12 RPM, using 64 spindles
점도 규격 : 45,000 ± 5,000 cpsViscosity standard: 45,000 ± 5,000 cps
(3) (3) 항곰팡이력Antifungal ability 평가 evaluation
실시예 1 내지 2 에서 얻어진 곰팡이 제거 및 탈취용 세정제 조성물을 사용하여 항진균력 정도를 알아보기 위해 하기와 같이 실시하였으며, 실험 결과를 표 1 에 나타내었다.Table 1 shows the results of the experiment to determine the antifungal activity using the detergent composition for removing and deodorizing mildew obtained in Examples 1 and 2.
주거환경에서 생성될 수 있는 대표적인 곰팡이와 효모균들을 이용하였으며, 액상원액에 시험균주 혼합포자액을 접종하고 10분간 정치시킨 후 5일간 배양하여 곰팡이와 효모균의 성장 유무를 판단하였다.Representative fungi and yeast strains that can be produced in the residential environment were used. The mixed solution of the test strain was inoculated into the liquid stock solution, allowed to stand for 10 minutes, and cultured for 5 days to determine the growth of fungi and yeast.
시험균Test bacteria 및 평가결과 And evaluation result
실시예 1 내지 2Antifungal test (10 minutes)
Examples 1 to 2
항곰팡이력 99.9%Examples 1 to 2 (results are the same)
Antifungal power 99.9%
팡
이
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three
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synthesis
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minute
차염After 5 days
Secondary salt
* 단위 : 중량%* Unit: Weight%
**점도 규격 : 45,000 ± 5,000 cps** Viscosity Specification: 45,000 ± 5,000 cps
상기 표 2 에서 볼 수 있듯이, 계면활성제가 적어도 1종이 포함된 실시예 1 내지 2 및 비교예 1 내지 11 중 실시예 1 내지 2를 제외하고는 차아염소산나트륨과 수산화칼륨과의 상용성에서 바람직하지 못한 결과를 나타내는 경우가 많으나, 1개의 알킬기 및 2개의 음이온 계면활성제 조성물인 실시예 1 및 2 에서는 차아염소산나트륨의 안정성이 우수하며, 점도 안정성에서도 양호함을 확인할 수 있다.As can be seen from Table 2, except for Examples 1 and 2 among Examples 1 and 2 and Comparative Examples 1 to 11 in which at least one surfactant is contained, it is preferable from the viewpoint of compatibility with sodium hypochlorite and potassium hydroxide However, in Examples 1 and 2, which are one alkyl group and two anionic surfactant compositions, the stability of sodium hypochlorite is excellent and the viscosity stability is also good.
한편, 일부 비교예 에서는 투명도에서 탁한 현상이 발생하여, 상용성에서 바람직하지 못한 결과를 보이기도 하였다.On the other hand, in some comparative examples, a hazy phenomenon occurred in the transparency, resulting in an undesirable result in compatibility.
이러한 투명도, 점도 및 차아염소산나트륨의 안정성은 차아염소산나트륨과 증점제의 상용성뿐만 아니라, 계면활성제와의 상용성과도 연관이 있으며, 특히, 차아염소산나트륨의 안정성은 a-12 및 a-13에서와 같이 특정 계면활성제와의 상용성이 중요하다는 것을 나타내었다. Such transparency, viscosity and stability of sodium hypochlorite are not only related to the compatibility of sodium hypochlorite with thickener but also to the compatibility with surfactants. Particularly, the stability of sodium hypochlorite is higher in a-12 and a-13 Likewise, compatibility with specific surfactants is important.
특히, a-12 및 a-13의 경우 점도와 차아염소산나트륨의 안정성이 우수하게 나타났으며, 이는 해당 계면활성제가 구조상 전하밀도가 높고, 모노 설포네이트 타입 대비 3배의 강한 전기적 힘(Schultz-Hardy Rule)을 가지며, 유연한 에테르 결합으로 설포네이트 사이의 거리가 가변적으로 넓은 용해도 범위를 제공하는 특징으로 인하여, 차아염소산나트륨 조성에서의 용해도와 이온간 결합력 차이로 인하여 NaCl과 NaOH의 Na+ 이온과 비교시 차아염소산나트륨(NaClO)은 비교적 안정하게 유지시켜 차아염소산나트륨의 안정성에 악영향을 주는 금속염의 저농도화를 유도하여 차아염소산트륨의 안정성에 유리한 영향을 끼치는 것으로 나타났다.In particular, a-12 and a-13 exhibited excellent viscosity and sodium hypochlorite stability, indicating that the surfactant had a high structural charge density and three times stronger electrical strength than the monosulphonate type (Schultz- Hardy Rule) and because of the flexible intermolecular distance between sulfonates, which provides a wide range of solubility, the solubility in the sodium hypochlorite composition is different from the Na + ion of NaCl and NaOH It has been shown that the sodium hypochlorite (NaClO) maintains a relatively stable state, which leads to the lowering of the metal salt, which adversely affects the stability of sodium hypochlorite, and thus has a favorable effect on the stability of sodium hypochlorite.
[용해도][Solubility]
NaClO (0℃, H2O) 29.3 g/100mL NaClO (0 DEG C, H2O) 29.3 g / 100 mL
NaCl (0℃, H2O) 35.9 g/100mL NaCl (0 C, H2O) 35.9 g / 100 mL
NaOH (0℃, H2O) 41.8 g/100mL NaOH (0 < 0 > C, H2O) 41.8 g / 100 mL
[이온 간 결합력] [Bond strength between ions]
Na+ / ClO- ＞ Na+ / Cl- ＞ Na+ / OH- Na + / ClO-> Na + / Cl-> Na + / OH-
(4) (4) 탈취력Deodorant power 평가 evaluation
일반적으로 주거공간에서 발생하는 암모니아, 트리메틸아민, 메틸메르캅탄, 황화수소의 4대 악취 일정농도에 대해 상기 평가에서 우수한 효과를 나타낸 실시예 1 내지 2에 대한 탈취력을 24시간 후에 검지관을 이용하여 측정하였으며, 악취원 표준농도는 암모니아 120ppm, 트리메틸아민 60ppm, 메틸메르캅단 20ppm, 황화수소 79ppm이다. 그 결과를 하기 표 3에 나타내었다. In general, the deodorizing power for Examples 1 and 2, which exhibited excellent effects in the above-described evaluation for the constant concentration of the four odors of ammonia, trimethylamine, methyl mercaptan and hydrogen sulfide, generated in the residential space, was measured using a detector tube after 24 hours The standard concentration of the odor source is 120 ppm of ammonia, 60 ppm of trimethylamine, 20 ppm of methyl mercaptan, and 79 ppm of hydrogen sulfide. The results are shown in Table 3 below.
상기 표 3에서 볼 수 있듯이, 차아염소산나트륨과 함께 1개의 알킬기 및 2개의 음이온 계면활성제 형태를 포함한 실시예 1 내지 2는 대조군에 비하여 우수한 탈취효과를 나타내어 상기 계면활성제를 포함한 조성물이 탈취력에도 효과가 우수함을 알 수 있다.As can be seen from the above Table 3, Examples 1 and 2 including one alkyl group and two anionic surfactant forms together with sodium hypochlorite showed excellent deodorizing effect as compared with the control group, and the composition containing the surfactant was effective for deodorizing power It can be seen that it is excellent.
Claims (9)
화학식 1
(여기서, R은 C8~18의 알킬 그룹이고, M은 카운터 이온으로 Na+, K+, NH4+ 이다.)
화학식 2
(여기서, R은 C8~18의 알킬 그룹이고, M은 카운터 이온으로 Na+, K+, NH4+ 이다.)Polyacrylic acid; Sodium hypochlorite; Acidity modifiers; Purified water; And an alkyldiphenyl oxide disulfonate surfactant represented by the following formula (1) or an alkylbenzene disulfonate surfactant represented by the following formula (2); Wherein the detergent composition further comprises a surfactant.
Formula 1
(Wherein R is a C8-18 alkyl group, and M is a counter ion such as Na +, K +, NH4 +).
(2)
(Wherein R is a C8-18 alkyl group, and M is a counter ion such as Na +, K +, NH4 +).
상기 알킬디페닐옥사이드 디설포네이트 계면활성제 또는 알킬 벤젠 디설포네이트 계면활성제는 탄소수 8 내지 18의 1개의 알킬기 및 2개의 설포네이트 음이온기를 가지는 음이온 계면활성제인 것을 특징으로 하는 곰팡이 제거 및 탈취용 세정제 조성물.
The method according to claim 1,
Wherein the alkyl diphenyl oxide disulfonate surfactant or alkyl benzene disulfonate surfactant is an anionic surfactant having one alkyl group having 8 to 18 carbon atoms and two sulfonate anion groups. .
상기 알킬디페닐옥사이드 디설포네이트 또는 알킬 벤젠 디설포네이트 계면활성제는 총 조성물에 대하여, 0.1 내지 5중량%로 포함되는 것을 특징으로 하는 곰팡이 제거 및 탈취용 세정제 조성물.
The method according to claim 1,
Wherein said alkyl diphenyl oxide disulfonate or alkyl benzene disulfonate surfactant is included in an amount of 0.1 to 5 wt% based on the total composition.
상기 폴리아크릴산은 총 조성물에 대하여 0.1 내지 5중량%로 포함되고, 하기 화학식 11로 표시되는 것을 특징으로 하는 곰팡이 제거 및 탈취용 세정제 조성물.
화학식 11
(단, n은 10~20의 정수이다)
The method according to claim 1,
Wherein the polyacrylic acid is contained in an amount of 0.1 to 5% by weight based on the total composition, and is represented by the following formula (11).
Formula 11
(Provided that n is an integer of 10 to 20)
상기 차아염소산나트륨은 총 조성물에 대하여 1 내지 5중량%로 포함되고, 하기 화학식 12로 표시되는 것을 특징으로 하는 곰팡이 제거 및 탈취용 세정제 조성물.
화학식 12
The method according to claim 1,
Wherein the sodium hypochlorite is contained in an amount of 1 to 5% by weight based on the total composition, and is represented by the following formula (12).
Formula 12
상기 산도조절제는 총 조성물에 대하여 0.1 내지 5중량%로 포함되는 것을 특징으로 하는 곰팡이 제거 및 탈취용 세정제 조성물.
The method according to claim 1,
Wherein the acid-controlling agent is contained in an amount of 0.1 to 5% by weight based on the total composition of the detergent composition for mold removal and deodorization.
상기 산도조절제는 수산화나트륨, 수산화칼륨, 모노에탄올아민, 디에탄올아민 및 트리에탄올아민 중에서 선택된 1종 이상인 것을 특징으로 하는 곰팡이 제거 및 탈취용 세정제 조성물.
The method according to claim 1,
Wherein the acidity regulator is at least one selected from the group consisting of sodium hydroxide, potassium hydroxide, monoethanolamine, diethanolamine and triethanolamine.
상기 곰팡이 제거 및 탈취용 세정제 조성물은 첨가제로 코팅제 및 향료를 더 포함하는 것을 특징으로 하는 곰팡이 제거 및 탈취용 세정제 조성물.
The method according to claim 1,
Wherein the detergent composition for removing and deodorizing a fungus further comprises a coating agent and a flavoring agent as an additive.
상기 곰팡이 제거 및 탈취용 세정제 조성물은 겔 제형인 것을 특징으로 하는 곰팡이 제거 및 탈취용 세정제 조성물.The method according to claim 1,
Wherein the detergent composition for removing and deodorizing the fungus is in a gel form.
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2015
- 2015-08-07 KR KR1020150111662A patent/KR20170017551A/en not_active Application Discontinuation
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