KR20160135792A - 조합된 음파 및 이온영동 스킨 케어 디바이스 - Google Patents

조합된 음파 및 이온영동 스킨 케어 디바이스 Download PDF

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KR20160135792A
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skin
subject
electrode
formulation
source
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KR1020167029194A
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제인 바우먼 앨런 밀러
케네스 에이 필처
제임스 크리스토퍼 맥키니스
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로레알
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Abstract

본 개시물은 활성 성분의 유효량을 전달하기 위해 긴 제공 지속기간들의 주요 문제를 해결하려고 시도한다. 디바이스들은 기계적 모션을 전기적으로 유도된 유동 (예를 들어, 이온영동) 과 조합시킨다. 단일 디바이스에서의 기법들의 조합은 유효량의 활성 성분을 전달하는데 요구되는 처리 시간을 감소시키거나, 또는 동일한 지속기간의 제공 동안 보다 많은 양을 전달할 수 있다. 본 개시물은 진피 제제 전달 디바이스를 제공하고, 이 진피 제제 전달 디바이스는: (a) 음파 주파수에서 진동 또는 왕복하는 기계적 모션의 소스를 포함하는 디바이스 헤드; 및 (b) 전기 시스템을 포함하고, 이 전기 시스템은: (i) 디바이스 헤드 상에 배치되고 대상자의 스킨과 전기 통신하도록 구성된 제 1 전극; (ii) 대상자의 스킨과 전기 통신하도록 구성된 제 2 전극; 및 (iii) 제 1 전극 및 제 2 전극과 전기 통신하는 파워 소스를 포함하고; 여기서 제 1 전극 및 제 2 전극이 동작 동안 대상자의 스킨의 별개의 위치들과 동시에 전기 통신하게 구성되도록 전기 시스템이 구성된다.

Description

조합된 음파 및 이온영동 스킨 케어 디바이스{COMBINED SONIC AND IONTOPHORETIC SKIN CARE DEVICE}
저분자량과 고분자량 양쪽의 치료제들의 비침입성 경피 전달은 오랫동안 전세계적으로 연구자들의 목표였다. 고통스럽고 스킨 (skin) 이 감염에 노출될 수 있는, 피하 주사와 같은, 침입성 전달 기법들을 없애려는 욕구를 무시하더라도, 스킨 자체에서 컨디션이 처리되는 많은 경우들이 존재한다. 컨디션이 병리학적인지 또는 미용적인지 간에, 대부분의 경우들에서 표준 케어 방법은, 스킨의 각질층을 통해 직접 흡수되고 처리가 발생하는 표피 또는 진피 층들로 침투하도록 의도된 국소제의 제공이다. 그러나, 스킨의 정상 기능은 이러한 종류의 처리에 대해 정확히 상반된다. 각질층에서의 다수의 지질 이중층들 및 각화된 세포들은 감염체들 또는 유해체들뿐만 아니라, 대단히 많은 화장용 처리물들 및 외용 약제 조제물들에 대해서도 상당한 장벽을 야기한다. 그 결과는, 대부분의 국소 조제물들에 대해, 각질층에 걸친 활성제의 유동 (flux) 이 조금이나마 생기는 경우, 그 유동은 매우 느린 레이트로 생겨서, 보다 긴 처리 시간들 및 보다 높은 투여량들을 요구한다는 것이다.
이 장벽을 비침입성 방식으로 극복하기 위해, 몇몇 기법들이 경피 유동을 증가시키도록 개발되었다. 일반적으로, 이들은 2 개의 카테고리들로 나뉜다. 제 1 카테고리는 스킨의 투과성을 증가시키는 것에 의해 유동을 증가시키려고 시도한다. 이 그룹은 스킨이 보다 많은 침투를 허용하게 하는 화학물들을 국소 제제 (topical formulation) 에 부가하는 것, 지질 이중층들을 보다 쉽게 통과하는 친유성 분자들 내에 활성제를 캡슐화하는 것, 및 지질 이중층들에서 일시적인 가역 미세기공 (micropore) 들을 야기하는 초음파영동 (sonophoresis) 및 전기천공법 (electroporation) 과 같은 기법들을 포함한다. 제 2 카테고리는 에너지 그래디언트 (energy gradient) 를 생성하여 일부 종류의 방사압을 통해 활성 성분 (active ingredient) 이 각질층에 걸쳐 그 그래디언트 아래로 (그리고 원한다면, 보다 깊게) 이동하게 하는 것에 의해 경피 유동을 증가시키려고 시도한다. 이 그룹은 전기장 및 자기장을 각각 이용하는 이온영동 (iontophoresis) 및 자기영동 (magnetophoresis) 을 포함한다. 이들 기법들은 아래에 더 상세히 설명된다.
Figure pct00001
이온영동 - 이온영동은 스킨을 통해 물질을 전달하기 위해 소전하를 이용하는 기법이다. 스킨에 접촉하는 2 개의 전극들 사이에 전기장을 생성하는 것에 의해, 스킨을 통한 이온 (하전된 분자) 의 능동 수송이 달성될 수 있다. 적절한 제제에서의 이온은 이온과 동일한 전하를 포함하는 소스 전극에 의해 반발되어, 그 이온을 각질층을 통해 그리고 리턴 전극을 향해 드라이빙 (driving) 한다. 스킨 케어에서 많은 활성 성분들은 이온 형태들을 가져서, 이온영동은 이들 성분들의 표피로의 침투를 개선시킬 수 있다.
Figure pct00002
전기천공법 - 전기천공법은 각질층에 그리고 개개의 스킨 세포막들에 존재하는 것들과 같은 지질 이중층들의 투과성을 일시적으로 증가시키기 위한 기법이다. 비교적 높은 전압 전기장들의 짧은 버스트 (burst) 들을 생성하는 것에 의해, 지질 이중층들에 가역 미세기공들이 형성되어, 투과성을 간단히 증가시킬 수 있다. 스킨에서, 이러한 효과는 활성 성분들의 전달을 위한 세포내 및 세포간 경로들 양쪽의 형성을 유발한다.
Figure pct00003
자기영동 - 자기영동은 그래디언트 자기장을 이용하여 그 자기장의 소스 (자석) 로부터 반자성 (강자성이 아님) 분자들을 드라이빙하는 기법이다. 반자성 재료들은 제공된 자기장의 존재시 역 자기장을 생성하는데, 이는 반자성 재료가 제공된 자기장에 의해 리펄싱될 (repulsed) 것이라는 것을 의미한다. 자기영동은 반자성을 나타내는 소정의 약물들의 경피 유동을 향상시키기 위해 이용되었다.
Figure pct00004
초음파영동 - 초음파영동은 크림 또는 겔을 통해 스킨에 커플링되는, 저주파 초음파의 제공으로 활성 성분들의 경피 유동을 증가시키기 위한 기법이다. 운동 에너지의 증가는 각질층에서의 세포내 지질 이중층들의 가역 분열들을 유발하여, 보다 큰, 보다 많은 복합성 또는 친수성 분자들이 스킨을 효과적으로 침투하게 한다.
유동의 증가를 위한 몇몇 접근법들은 위에 열거된 기법들 중 2 개 이상을 조합한 것이다. (본 명세서에 참조로 그 전체가 포함되는) 미국 특허 제7,427,273호는, 예를 들어, 초음파영동과 이온영동 양쪽을 포함하는 시스템을 설명한다.
활성 치료제들의 비침입성, 경피 및 피내 전달을 위한 현재 방법들은 두 가지 결점들: 심도 제어의 결여 및 유효량을 전달하는데 요구되는 긴 지속기간의 제공 (낮은 유동) 을 갖는다. 긴 제공 시간들은 대부분의 대상자 (subject) 들에 의해 경험되는 낮은 지각 (perception) 및 안락 임계치들에 의해 더욱 악화된다. 보다 높은 레벨들의 전류가 안전한 것으로 고려되지만, 주관적인 불편은 보다 낮은 한도가 부과되게 할 수 있다.
이 개요는 상세한 설명에서 추가로 후술되는 단순한 형태의 개념들의 선택을 도입하기 위해 제공된다. 이 개요는 청구된 요지의 핵심적인 피처들을 식별하도록 의도된 것도 아니고, 청구된 요지의 범위를 결정함에 있어서의 보조로서 사용되도록 의도된 것도 아니다.
하나의 양태에서, 진피 제제 전달 디바이스가 제공된다. 하나의 실시형태에서, 이 디바이스는:
(a) 음파 주파수에서 진동 또는 왕복하는 기계적 모션의 소스를 포함하는 디바이스 헤드; 및
(b) 전기 시스템을 포함하고,
이 전기 시스템은:
(i) 디바이스 헤드 상에 배치되고 대상자의 스킨과 전기 통신하도록 구성된 제 1 전극;
(ii) 대상자의 스킨과 전기 통신하도록 구성된 제 2 전극; 및
(iii) 제 1 전극 및 제 2 전극과 전기 통신하는 파워 소스 (power source) 를 포함하고;
여기서 제 1 전극 및 제 2 전극이 동작 동안 대상자의 스킨의 별개의 위치들과 동시에 전기 통신하게 구성되도록 전기 시스템이 구성된다.
다른 양태에서, 대상자의 스킨 상의 위치에 제제에서의 하전된 활성 분자를 전달하는 방법이 제공된다. 하나의 실시형태에서, 이 방법은:
(a) 제제를 위치에 국소적으로 제공하는 단계;
(b) 진동 또는 왕복하는 기계적 모션의 소스를 위치에 지향 (direct) 시키는 단계; 한편 동시에
(c) 하전된 활성 분자를 대상자의 스킨으로 이동시키도록 구성되는 인가 전류를 위치에 인가하는 단계를 포함한다.
다른 양태에서, 대상자의 전류 지각 임계치를 증가시키는 것에 의해 대상자의 스킨 상의 위치에서 제제에서의 하전된 활성 분자의 전달 레이트를 증가시키는 방법이 제공된다. 하나의 실시형태에서, 이 방법은:
(a) 제제를 위치에 국소적으로 제공하는 단계;
(b) 진동 또는 왕복하는 기계적 모션의 소스를 위치에 지향시키는 단계; 한편 동시에
(c) 하전된 활성 분자를 대상자의 스킨으로 이동시키도록 구성되는 인가 전류를 위치에 인가하는 단계를 포함하고, 여기서 인가 전류는 대상자의 비자극된 지각 임계 전류를 초과한다.
본 발명의 전술한 양태들 및 수반되는 많은 이점들은, 첨부 도면들과 함께 다루어질 때, 다음의 상세한 설명을 참조하여 더 잘 이해되므로 더 쉽게 인식될 것이다.
도 1a 내지 도 1c 는 개시된 실시형태들에 따른 대표적인 디바이스들을 개략적으로 예시한다.
도 2a 는 개시된 실시형태들에 따른 대표적인 디바이스의 투시도이다.
도 2b 는 개시된 실시형태들에 따른 예시적인 디바이스의 투시 사진이다.
도 3a 는 개시된 실시형태들에 따른 대표적인 브러시 디바이스의 투시도이다.
도 3b 및 도 3c 는 개시된 실시형태들에 따른 예시적인 디바이스들의 투시 사진들이다.
도 4 는 개시된 실시형태들에 따른 3 개의 예시적인 디바이스 헤드들의 사진이다.
도 5 는 공지된 기법들과 개시된 실시형태들의 기법들을 이용하여 스킨으로의 형광성 화합물의 흡수를 비교하는 그래픽 예시이다.
본 개시물은 활성 성분 (active ingredient) (또한 본 명세서에서 "활성제" 또는 "활성 분자" 라고도 지칭됨) 의 유효량을 스킨 (skin) 으로 전달하기 위해 긴 제공 지속기간들의 주요 문제를 해결하려고 시도한다. 이 경우, 아래에 설명된 실시형태들은 경피 유동 (flux) 을 개선시키기 위한 기법들의 리스트에 새로운 방법들 (및 관련 디바이스들) 을 부가하고, 이는 다른 유동 향상 방법, 이 경우에는 이온영동과 조합될 때, 동일한 지속기간의 제공을 통해 유효량을 전달하거나 또는 보다 많은 양을 전달하는데 요구되는 처리 시간을 감소시킬 수 있다.
개시된 실시형태들은 스킨을 자극하고 표피로의 화장용 또는 치료용 분자들의 침투 레이트 또는 유동률을 증가시키는 휴대용 개인 기기를 포함한다. 개시된 실시형태들은 스킨 시스템에 분열성 에너지를 전달하는 부가적인 방법을 부가하는 것에 의해 흡수를 위한 긴 제공 시간들의 문제를 해결하려고 시도한다. 이 경우, 제공되는 제 1 차 에너지 양상은 기계적인 것인데, 이는 개선된 트랜스어펜더지얼 경로 (transappendageal pathway) 들을 통해 투과성을 증가시키기 위해 스킨에 작은 스트레인 (strain) 을 유도한다. 제공되는 제 2 차 에너지 양상은 전기적인 것인데, 이는 각질층에 걸쳐 하전된 능동 수송의 전기삼투 유동을 유도한다. 이것은 다수의 스킨케어 액션들을 가능하게 하는 전자기계 디바이스를 발생시킨다. 하나는 표피 안으로의 활성 성분들의 전달 및 침투를 증가시키는 것이다. 다른 하나는 주어진 제공 시간에 대해 동일한 결과들을 달성하는데 요구되는 제제 (formulation) 에서의 활성 성분의 농도를 감소시키는 것이다. 소정의 실시형태들 및 테라피 프로파일들에서, 세 번째는 수동 세정을 통한 클렌징이 개선된다.
개시된 실시형태들은 또한 대상자 (subject) 의 지각 (perception) 임계치 (즉, 대상자가 전류를 지각하여, 그에 의해 불편을 야기하는 전류량) 를 증가시키는 것에 의해 증가된 유동을 가능하게 한다. 소스 전극에의 기계적 진동 또는 왕복 모션의 부가는 일반적으로, 대상자가 전류에 대한 신경 반응을 능동적으로 지각할 수 있기 전에 전달되는 전류량을 증가시킨다, 보통 암페어수가 두 배로 된다. 이에 대한 원인은 두 가지이다. 첫 번째로, 진동 전극으로부터의 요동하는 느낌들은 다소 강렬하여 전류로부터의 따끔거리는 느낌을 마스킹하거나 또는 그 느낌에 우선할 수 있다. 두 번째로 대부분의 대상자들이 전류를 느낄 때, 지각된 것으로부터 불편한 것으로 빨리 이행된다. 이것은 특히 저저항 전기 경로가 단일 스폿에서의 것이기 때문에 생기는 것으로 여겨지고, 이 포인트에서 모든 전류는 보다 작은 영역에 집중된다. 진동을 통해 전극을 끊임없이 이동시키는 것에 의해, 그 경로는 형성되는데 보다 오래 걸리거나, 또는 더 가능하게는, 전혀 형성되지 않는다.
본 개시물의 많은 양태들이 스킨 케어에 관련된 예들로 제시되지만, 개시된 예들은 사실상 예시적인 것이고, 그에 따라, 스킨 케어 적용들로 제한되는 것으로 해석되어서는 안된다는 것이 인식될 것이다. 그에 따라, 본 개시물의 이들 다양한 양태들은 임의의 진피 전달에 대해 넓은 적용을 갖는다는 것이 명백한 것이어야 한다.
하나의 양태에서, 진피 제제 전달 디바이스가 제공된다. 하나의 실시형태에서, 이 디바이스는:
(a) 음파 주파수에서 진동 또는 왕복하는 기계적 모션의 소스를 포함하는 디바이스 헤드; 및
(b) 전기 시스템을 포함하고,
이 전기 시스템은:
(i) 디바이스 헤드 상에 배치되고 대상자의 스킨과 전기 통신하도록 구성된 제 1 전극;
(ii) 대상자의 스킨과 전기 통신하도록 구성된 제 2 전극; 및
(iii) 제 1 전극 및 제 2 전극과 전기 통신하는 파워 소스 (power source) 를 포함하고;
여기서 제 1 전극 및 제 2 전극이 동작 동안 대상자의 스킨의 별개의 위치들과 동시에 전기 통신하게 구성되도록 전기 시스템이 구성된다.
진피 제제 전달 디바이스가 이제 상세히 설명될 것이다.
다음 설명에서는, 본 개시물의 하나 이상의 실시형태들의 완전한 이해를 제공하기 위해 수많은 특정 상세들이 제시된다. 그러나, 본 개시물의 많은 실시형태들이 특정 상세들의 일부 또는 전부 없이도 실시될 수도 있다는 것이 당업자에게 명백할 것이다. 일부 경우들에서, 널리 알려진 프로세스 단계들이 본 개시물의 다양한 양태들을 불필요하게 모호하게 하지 않기 위해 상세히 설명되지 않았다. 추가로, 본 개시물의 실시형태들이 본 명세서에서 설명되는 피처들의 임의의 조합을 채용할 수도 있다는 것이 인식될 것이다.
이제 도 1a 로 돌아가면, 본 개시물의 양태들에 따라 형성되는, 일반적으로 100 으로 지정된 진피 제제 전달 디바이스의 단면도로 예시된 하나의 예가 도시된다. 디바이스 (100) 는 일 위치에서 대상자의 스킨을 향해 지향 (direct) 되는 음파 소스 (105) (왕복 또는 진동 모션) 를 포함한다. 디바이스 (100) 에 의해 제공된 음파 모션은 개선된 트랜스어펜더지얼 경로들을 통해 투과성을 증가시키기 위해 작은 스트레인을 스킨에 유도하는 것에 의해 스킨으로의 제제 (10) (예를 들어, 스킨 케어 제제) 의 경피 전달을 돕는다.
음파 소스 (105) 는 디바이스 헤드 (115) 에 동작가능하게 연결된 샤프트 (110) 를 통해 스킨 상의 위치에 음파 모션을 제공한다. 예시된 바와 같이, 디바이스 헤드 (115) 는, 스킨이, 제제 (10) 를 그 사이에 포함하기에 적합한 포켓과 부드럽게 접촉하도록 구성된 오목형 연성 접촉 부재 (concave soft contact member; 135) 에서 종단된다.
하나의 실시형태에서, 연성 접촉 부재 (135) 는 스킨에 대한 불편 또는 부상을 회피하게 하기에 충분히 연성이지만 그의 형상을 유지하고 충분한 음파 에너지를 부여하기에 충분히 경성인, 실리콘 고무와 같은 탄성중합체 재료와 같은 재료들로부터 형성된다. 천연 고무, 부틸 고무, 및 폴리우레탄과 같은 다른 예시적인 재료들이 또한 이용될 수 있다.
그러나, 다른 실시형태들에서, 예컨대 도 2a 및 도 2b 에 예시된 실시형태들에서, 어떠한 접촉 부재 (135) 도 존재하지 않는다.
예시적인 동작 모드에서, 음파 소스 (105) 는 0.010 인치 내지 0.1 인치의 진폭으로 디바이스 헤드 (115) 를 왕복시킨다.
도 1a 의 대표적인 디바이스에서, 하우징 (140) 은 디바이스 (100) 의 사용자를 위한 그립/핸들을 제공한다. 하나의 실시형태에서, 하우징 (140) ("보디 (body)") 은 손에서 홀딩되도록 사이징되고 구성된다. 하우징 (140) 은 음파 소스 (105) 를 포함하고, 하우징 (140) 의 내측 챔버를 밀봉하는 동안 샤프트 (110) 의 진동 모션을 허용하도록 구성된 개스킷 (142) 과 맞춰진 애퍼처를 통해 디바이스 헤드 (115) 를 향해, 하우징 (140) 으로부터 통과하는 샤프트 (110) 를 부분적으로 둘러싼다.
하우징 (140) 은 음파 소스 (105) 및 전극들 (125 및 130) 을 동작가능하게 제어하도록 구성된 제어 회로 (145) (예를 들어, 인쇄 회로 기판, 필드-프로그래밍가능 게이트 어레이, ASIC 등) 를 더 포함한다. 아래에 더 상세히 설명되는 바와 같이, 음파 및 전기 신호들은 타이밍, 세기, 및/또는 지속기간에 관련하여 조화될 수 있다. 이들은 제어 회로 (145) 에 의해 제어된다. 파워 소스 (150) 는 하우징 (140) 내에 포함되고, 제어 회로 (145), 음파 소스 (105), 및 전극들 (125 및 130) 에 전력공급한다.
디바이스 헤드 상의 제 1 전극 (130) 을 통해 대상자의 스킨에 전류가 인가되고 제 2 전극 (125) 을 통해 대상자의 스킨 상의 별개의 위치에 전류가 인가된다. 스킨 상에 이격하여 2 개의 전극들 (125 및 130) 을 배치시키는 것에 의해, (예를 들어, 이온영동을 통해) 하전된 활성제들을 스킨으로 드라이빙할 (drive) 수 있는 전기장 그래디언트가 생성된다. 스킨 투과성을 증가시키는 디바이스 헤드 (115) 의 기계적 힘에 의해 영향받고 있는 위치에서의 스킨에 활성제를 드라이빙하기 위해 이온영동을 이용하는 것에 의해 상승 효과들이 달성될 수 있다.
이온영동 외에도, 디바이스는 또한 경피성 전기 신경 자극 (transcutaneous electrical nerve stimulation; TENS) 을 위해 구성될 수 있다. 예를 들어, 진통 관리를 위한 것 또는 전기 근육 자극 (electrical muscle stimulation; EMS) 의 부분으로서 근육 수축들을 유도하기 위한 것이다.
제 1 전극 (130) 은 디바이스 헤드 (115) 의 헤드 하우징 (120) 내에 포함된다. 하나의 실시형태에서, 제 1 전극 (130) 은 디바이스 헤드와 대상자의 스킨 사이에 제제를 보유하도록 구성된 오목부에서 종단된다. 하나의 실시형태에서, 제 1 전극 (130) 의 헤드는 평탄부에서 종단된다. 하나의 실시형태에서, 제 1 전극 (130) 은 스테인리스 스틸, 크롬 및 니켈로 이루어지는 그룹으로부터 선택된다. 하나의 실시형태에서, 제 1 전극 (130) 은 은 (Ag), 염화 은 (AgCl), 및 이들의 조합물로 이루어지는 그룹으로부터 선택된 재료를 포함한다.
하나의 실시형태에서, 제 1 전극 (130) 은 소모성 Ag-AgCl 전도층으로 대체가능하다. 이러한 전극은 동일한 전극 표면 상에 순수 Ag 및 AgCl 염 양쪽을 갖는다. 이것은 제제에서의 활성 성분이 포지티브로 또는 네거티브로 하전되는지 여부에 상관없이 동일한 소스 전극이 이용되게 한다. 전극은 전극과 물 사이의 계면 화학 때문에 "소모성" 이다. 크롬, 스틸 또는 탄소 전극과 같은 것으로 갈바닉 전류를 생성하기 위해, 반대 이온의 소스는 가수분해이다. 이것은 용액에서 pH 변화를 발생시키는데, 이는 pH 가 타깃 분자의 pKa 를 초과하여, 기본적으로 이온영동을 중단시킨다는 것을 포함하는 문제들을 초래할 수 있다. Ag-AgCl 전극 쌍으로, 전극 그 자체는 반대 이온들 (Cl-) 의 소스가 된다. 그러나, 일단 Ag 원자들 모두가 Cl 이온들에 결합되었거나 또는 AgCl 매트릭스가 Cl 이온들을 고갈시켰다면, 전극은 소모되어서 대체될 필요가 있다.
제 2 전극 (125) 은 제 1 전극 (130) 의 재료와 동일한 또는 상이한 재료로 이루어질 수 있다. 도 1a 에 예시된 실시형태에서, 제 2 전극은 하우징 (140) 의 벽을 통과하는 와이어 또는 코드 (cord) 를 통해 제어 회로 (145) 에 연결된다. 예시된 실시형태는 단지 예시적인 것이며, 중간 전기 디바이스들 또는 커넥션들을 통하는 것을 포함하여, 제 2 전극 (125) 을 제어 회로 (145) 에 전자적으로 연결하기 위한 임의의 방식이 고려된다는 것이 인식될 것이다.
제 2 전극 (125) 의 대안적인 구성이 도 1c 에 예시된 디바이스 (100') 에서 구현되고, 여기서 제 2 전극 (125) 은 하우징 (140) 상에 장착되거나, 또는 하우징 (140) 내에 내장된다. 이 구성은 제 2 전극 (125) 을 하우징 (140) 에 연결하는 어떠한 부가적인 와이어도 요구되지 않는다는 점에서 다소 단순화된 것이다. 그러나, 이 디바이스 (100') 는 제 2 전극이 제 1 전극의 위치로부터 이격되어 대상자의 스킨에 접촉한다는 요건으로 인해, 대상자에 의해 동작되어야 한다. 그에 따라, 디바이스 (100') 를 이용할 때, 전극들 (125 및 130) 사이의 회로는, 디바이스가 접촉하는 대상자의 스킨 상의 (예를 들어, 팔 또는 얼굴 상의) 위치로부터, 디바이스 (100') 를 잡고 제 2 전극 (125) 에 접촉하는 대상자의 손까지의 대상자의 보디를 통해 완성된다. 이에 따라, 하나의 실시형태에서 제 2 전극 (125) 은 하우징 (140) (즉, 보디) 에 부착되고, 하우징 (140) 을 홀딩하는 대상자의 손을 통해 대상자의 스킨과 전기 통신하도록 구성된다.
도 1a 의 디바이스 (100) 는 대상자가 아닌 기술자에 의해 동작될 수 있는데, 이는 양쪽 전극들 (125 및 130) 이 대상자가 손으로 디바이스 (100) 를 홀딩하는 일 없이 대상자의 스킨에 접촉하도록 구성될 수 있기 때문이다.
디바이스에 대한 파워 요건들은 디바이스의 궁극적인 기능에 의존할 것이다. 적절한 회로부를 이용하여 배터리 팩은 요구된 로드를 통상적으로 핸들링할 수 있고, 또는 월 파워 (wall power) 가 이용될 수 있다.
이제 도 1b 를 참조하면, 디바이스 (100) 가 동작할 때, 음파 모션은 스킨 상의 위치에 작용하여 기계적 힘을 제공한다. 동시에, 전도성 경로를 갖는 전극들 (125 및 130) 에 걸쳐 전압이 제공되어, (1) (네거티브 전극으로서 예시된) 제 1 전극 (130) 에서 시작하고; (2) (이 실시형태에서) 네거티브로 하전된 활성제들 (11) 을 포함하는 제제 (10) 를 통해 이동하고; (3) 대상자의 스킨으로 이동하며; 회로는 (포지티브 전극으로서 예시된) 제 2 전극 (125) 에서 완료된다. 도 1b 의 예시된 실시형태에서, 디바이스 (100) 는 하전된 활성제들 (11) 상에 이온영동 힘을 생성하여, 이 이온영동 힘은 활성제들이 포지티브 전극을 향해 이동하려고 함에 따라 이들을 스킨으로 드라이빙한다.
음파 모션의 기계적 힘은 활성제들 (11) 에 대한 스킨의 저항을 감소시키고, (인가 전류가 동일하다고 가정하여) 어떠한 음파 기계적 힘도 이용되지 않는 경우보다 더 깊게 활성제들을 스킨/조직으로 침투하게 한다.
도 1b 는 네거티브로 하전된 활성제들 (11) 이 제제 (10) 가 제공된 위치로부터 떨어져 있는 포지티브 제 2 전극 (125) 을 향해 드라이빙되는 것을 예시하지만, 네거티브로 하전된 제 2 전극 (125) 을 향해 드라이빙되는 포지티브로 하전된 활성제와 같은 다른 구성들이 고려된다는 것이 인식될 것이다. 활성제가 포지티브로 또는 네거티브로 하전되든지 간에, 디바이스는 특정 활성제를 스킨으로 드라이빙하기 위해 올바른 극성 및 전류를 인가하도록 구성될 수 있다.
개시된 디바이스들의 다양한 실시형태들의 특정 양태들이 이제 논의될 것이다.
기계적 모션
디바이스 헤드는 음파 주파수에서 진동 또는 왕복하는 기계적 모션의 소스를 포함한다. 본 명세서에서 사용되는 바와 같이, 용어 "진동" 은 스킨 표면에 대체로 평행한 평면에서 중립 위치 주위로 양방향으로 규칙적인 주기적 모션인 모션을 지칭한다. 본 명세서에서 사용되는 바와 같이, 용어 "왕복" 은 스킨 표면에 대체로 수직인 평면에서 중립 위치 주위로 양방향으로 규칙적인 주기적 모션인 모션을 지칭한다. 이들 2 개의 용어들은 상호간에 배타적인 것이 아니며 양쪽 모션들이 조합되어 더 복합적인 모션들을 생성할 수 있다.
이용된 모션의 타입에 상관없이, 모션은 스킨의 탄성 범위 내의 변위들로 한정된다. 즉, 스트레인을 유발하는 변위들은 스킨 매트릭스에서 엘라스틴이 우세한 로드 베어링 단백질인 범위 내에 있다. 스킨의 탄성 범위를 넘으면, 스킨은 가소적으로 그리고 영구적으로 변형되거나 또는 단순히 상처를 낼 것이다.
왕복 모션. 하나의 실시형태에서, 기계적 모션의 소스는 왕복 모션의 소스이다. 왕복 모션의 소스는 음파 주파수들에서 모션을 생성한다. 하나의 실시형태에서, 제 1 소스는 1 kHz 미만의 왕복 레이트를 갖는다. 하나의 실시형태에서, 제 1 소스는 200 Hz 미만의 왕복 레이트를 갖는다. 하나의 실시형태에서, 제 1 소스는 10 Hz 초과의 왕복 레이트를 갖는다. 하나의 실시형태에서, 왕복 모션의 소스는 20 내지 200 Hz 의 왕복 레이트를 갖는다. 하나의 실시형태에서, 왕복 모션의 소스는 110 내지 135 Hz 의 왕복 레이트를 갖는다.
하나의 실시형태에서, 왕복 모션의 소스는 모터, 공압 디바이스 (pneumatic device), 및 압전 디바이스로 이루어지는 그룹으로부터 선택된다. 음파 주파수들에서의 이러한 왕복 모션의 소스들은 당업자들에게 알려져 있고, 이에 따라 개시된 디바이스에서 구현될 수 있다.
왕복 음파 이동을 제공하기 위한 예시적인 디바이스는 도 2a 에서 상업 디바이스로부터 변경된 형태로 예시된 오팔 (Opal) (클라리소닉 (Clarisonic), 워싱턴주 레드먼드) 이다. 이 디바이스 (200) 에서, 디바이스 헤드 (230) 는 애플리케이터와 접촉하는 스킨 영역에 바로 인접한 스킨 상에 스트레인을 형성한다. 본 명세서에 참조로 그 전체가 포함되는 미국 특허 출원 공개 제2009/0306577호는, 디바이스 헤드 (230) 를 통해 음파 모션을 제공할 수 있는 예시적인 왕복 디바이스 (예컨대, 오팔) 를 설명한다. 이 액션은 피부융기선들, 파라셀룰러 공간 (paracellular space) 들 또는 트랜스어펜더지얼 경로들, 예컨대, 모낭들 및 땀샘들을 일시적으로 구부려서 확장시키는 것에 의해 스킨 투과성을 증가시키고, 이는 차례로 진피 전달을 증가시킨다. 스킨과 실질적으로 수직인 디바이스 헤드 (230) 의 액션은 또한, 제제를 표피로 드라이빙하도록 작용한다. 이 드라이빙 힘은 제제 조성에 상관없이 발생한다.
도 2a 의 디바이스 (200) 는 디바이스 헤드 (230) 의 표면을 형성하는 제 1 전극, 및 디바이스 (200) 를 동작시키는 대상자의 스킨에 접촉하도록 디바이스 보디 (240) 상에 장착되는 제 2 전극 (225) 을 갖는다. 이와 관련하여, 디바이스 (200) 는 도 1c 의 디바이스 (100') 와 유사하다.
도 2b 는 왕복, 횡방향 전단 (transverse shear) 프로토타입이 예시된 프로토타입의 예를 도시한다. 이 실시형태는 교환가능 소스 전극들을 수용하고 외부의 이온영동 전류 소스를 요구한다.
진동 모션. 하나의 실시형태에서, 기계적 모션의 소스는 진동 모션의 소스이다. 진동 모션의 소스는 음파 주파수들에서 모션을 생성한다. 하나의 실시형태에서, 제 1 소스는 1 kHz 미만의 진동 레이트를 갖는다. 하나의 실시형태에서, 제 1 소스는 200 Hz 미만의 진동 레이트를 갖는다. 하나의 실시형태에서, 제 1 소스는 10 Hz 초과의 진동 레이트를 갖는다. 하나의 실시형태에서, 진동 모션의 소스는 20 내지 1000 Hz 의 진동 레이트를 갖는다. 하나의 실시형태에서, 진동 모션의 소스는 20 내지 80 Hz 의 진동 레이트를 갖는다.
왕복 음파 이동을 제공하기 위한 예시적인 디바이스는 도 3a 에서 상업 디바이스로부터 변경된 형태로 예시된 클라리소닉 브러시 (Clarisonic Brush) (클라리소닉, 워싱턴주 레드먼드) 이다. 이 디바이스 (300) 에서, 브러시 헤드 (315) 로 바뀌는 모터 또는 진동 모션의 다른 소스를 포함하는 보디 (340) 에 브러시 헤드 (315) 가 장착된다. 제 1 전극 (330) 과 접촉하고 있는 스킨 영역에서 또는 그 스킨 영역에 바로 인접하게 스킨 스트레인이 발생하도록 하는 방법으로, 브러시 헤드 (315) 는 제 1 전극 (330) 과 통합된 강모 필드 (bristle field; 335) 를 포함한다. 또는 제 1 전극 (330) 은 강모들 없이 평활화될 수 있다. 제 2 전극 (325) 은 보디 (340) 에 통합되어 디바이스 (300) 를 홀딩하는 대상자의 스킨을 통해 회로를 완성한다.
(본 명세서에 참조로 그 전체가 포함되는) 미국 특허 제7,320,691호는 최적의 주파수 및 스트레인을 설명한다. 이 액션은 트랜스어펜더지얼 경로들, 예컨대, 모낭들 및 땀샘들을 일시적으로 구부려서 확장시키는 것에 의해 스킨 투과성을 증가시키고, 이는 차례로 경피 유동을 증가시킨다.
도 3b 는 통합된 이온영동 전류 생성기가 없는 제 1 세대 진동, 전단 스트레인 핸들의 예를 도시한다. 이 실시형태는 상이한 형상들 및 재료들의 교환가능 소스 전극들로 동작하고 크롬 도금된 ABS 의 리턴 전극들을 갖는다.
도 3c 는 디바이스 배터리들로부터 전력을 수신하는 외부의 이온영동 전류 생성 회로를 갖는 제 2 세대 진동, 전단 스트레인 실시형태를 도시한다. 이 실시형태는 또한 교환가능 소스 전극들을 수용한다.
하나의 실시형태에서, 디바이스 헤드는, 대상자의 스킨에 접촉하도록 구성된 비전도성 엘리먼트를 더 포함한다.
하나의 실시형태에서, 비전도성 엘리먼트는, 제 1 전극과 동시에 대상자의 스킨에 접촉하도록 구성된 강모 다발들을 갖는 브러시를 포함한다.
하나의 실시형태에서, 강모들은 제 1 전극 주위에 배열된다.
하나의 실시형태에서, 강모들은 제 1 전극과 제 2 전극 사이에 생성된 전기장 내에서 대상자의 스킨에 접촉하도록 구성된다.
전극들
소스 전극들. "소스" 전극들은 디바이스 헤드에 부착된 전극들 (예를 들어, 제 1 전극들 (130, 230, 및 330)) 이다. 다수의 소스 전극들은 진동, 전단 스트레인 실시형태와 왕복 횡방향 스트레인 실시형태 양쪽에 대해 전개되었다. 일부 예들이 도면들에 도시된다. 도 4 는 여러 텍스처들을 갖는 상이한 전도성 재료들로 이루어진 전단 스트레인 전극들을 도시한다.
소스 전극들에 대한 설계 고려사항들은 표면적 및 전도성, 마찰 특성들, 질량 및 관성 특성들, 및 재료 호환성 및 안전성을 최대화하는 것을 포함한다.
리턴 전극들. "리턴" 또는 제 2 전극 (예를 들어, 125, 225, 또는 325) 은 디바이스 헤드의 부분으로서 제 1 전극이 접촉하는 대상자의 스킨 상의 위치로부터 분리된다. 위에 개시된 바와 같이, 제 2 전극은 디바이스의 보디로부터 와이어를 통해 대상자의 스킨에 부착될 수도 있거나 또는 디바이스가 대상자에 의해 홀딩될 때 접촉되게 하도록 디바이스의 보디에 통합될 수도 있다.
리턴 전극들에 대한 설계 고려사항들은 표면적 및 전도성뿐만 아니라 재료 호환성 및 안전성을 최대화하는 것을 포함한다.
이온영동
전극
이온영동을 위한 전극 설계는 최대 유동을 위해 가능한 최대 접촉 영역을 달성하는 것에 포커싱된다. 선정된 재료들은 스킨 표면에서 pH 의 최소 변화들을 일으켜야 하고 긴 수명 동안 부식을 억제할 뿐만 아니라 가수분해를 회피하게 해야 한다. 디바이스의 궁극적인 기능에 의존하여, 소스 및 리턴 전극들의 형상 및 배치는 달라질 수 있다. 이온영동을 위해, 처리 사이트로부터 이격된 어딘가 다른 곳에서 스킨에 접촉하는 리턴 전극을 갖는 강모 필드에 단일 소스 전극이 내장된다. (본 명세서에서 참조로 그 전체가 포함되는) 미국 특허 제7,069,073호는 리턴 전극이 핸들에 위치될 수 있다는 것을 교시한다. 멤브레인 밀폐된 제제 리저버가 채용되는 경우, 그것은 (코 주위와 같은) 스킨에서의 급격한 윤곽들에 따르기 위해 유연한 것으로 설계될 수 있다.
전기 특성들
이전의 연구는 인간들에게 이용되는 최대 이온영동 전류가 0.5 mA/cm2 를 초과해서는 안된다는 것을 제시하였다. 스킨에서 감소된 저항을 발생시키도록 10 V 내지 30 V 사이의 전압들이 제시되었다.
개시된 디바이스들에 대한 전기 특성들은 하나의 실시형태에서 일정한 DC 전류를 포함한다. 다른 실시형태에서, AC 신호가 이용될 수 있다 (예를 들어, 60% 듀티 사이클을 갖는 1 kHz 의 펄싱된 파형).
하나의 실시형태에서, 전기 시스템은 대상자에 대해 이용되었을 때 일정한 전류 밀도를 유지하도록 구성되고, 여기서 일정한 전류 밀도는 인가된 전압에 대한 주기적 조정으로 유지된다. 하나의 실시형태에서, 전기 시스템은 최대 0.5 mA/cm2 까지의 전류 밀도를 제공하도록 구성된다.
아래의 예들에 개시된 바와 같이, 기계적 모션과 이온영동 조합의 예상외의 효과는, 기계적 모션이 이온영동을 위해 이용되는 인가 전류를 "마스킹" 하도록 기능한다는 점이다. 이 마스킹 때문에, 대상자가 전류를 지각하기 전에 (지각 임계 전류에 도달하여, 그에 따라 불편을 일으킴) 공급될 수 있는 전류의 양이 증가된다. 이러한 전류의 증가는 이온영동을 더욱 드라이빙하도록 기능하고, 활성제의 보다 양호한 진피 전달이 달성될 수 있다. 아래에 제시된 실험 결과들에서, 비자극된 지각 임계치를 기계적으로 자극된 지각 임계 전류와 비교할 때 대상자 지각 임계 전류의 평균 증가는 100% 보다 더 컸다. 이에 따라, 하나의 실시형태에서 대상자에 대해 이용된 전류는 대상자의 비자극된 지각 임계 전류에 비해 100% 이상으로 증가된다.
제제
디바이스의 효과적인 기능에 대해 필수적인 것은 원하는 활성 성분들의 이온 형태를 포함하는 적절히 조제된 국소 용액이다. 도 1a 내지 도 1c 를 참조하면, 제제 (10) 는 대상자의 스킨과 제 1 전극 (130) 사이에 배치된다.
제제는 표피로의 활성제의 유동을 최대화하기 위한 pH 및 이온 농도 (활성 및 경쟁 양쪽) 를 갖는다.
하나의 실시형태에서, 제제는 대상자의 스킨에 접촉하기에 앞서 디바이스 헤드에 제공된다. 하나의 실시형태에서, 제제는 음파 모션을 지향시키는 단계 및 초음파 모션을 지향시키는 단계에 앞서 대상자의 스킨 상의 위치에 제공된다. 하나의 실시형태에서, 제제는 진동 모션의 제 1 소스와 위치 사이의 액션을 개선시킨다. 하나의 실시형태에서, 제제는 진동 모션의 제 2 소스와 위치 사이의 액션을 개선시킨다. 하나의 실시형태에서, 디바이스는 대상자의 스킨과 제 1 전극 사이에 제제를 전달하도록 구성된 제제 리저버를 포함한다.
하나의 실시형태에서, 제제는 스킨 케어, 스킨 클렌징, 스킨 정화, 스킨 박리 (exfoliation), 스킨 낙설 (desquamation), 마사지, 셀룰라이트, 시닝 (thinning), 메이크업, 및 탈색으로 이루어지는 그룹으로부터 선택된 용도를 위해 구성된 제제이다.
하나의 실시형태에서, 제제는 진통제들, 마취제들, 소염제들, 항응고제들, 치료용 펩티드들, 올리고뉴클레오티드들, 및 화장용 활성제들로 이루어지는 그룹으로부터 선택된 활성 성분의 하전된 종들을 포함한다.
하나의 실시형태에서, 제제는 아스피린, 아트로핀, 카페인, 에피네프린, 히알루론산, 인슐린, L-아스코르빈산 및 이들의 유도체들, 리도카인, hbFGF, 리보뉴클레아제 및 RNAse T1 로 이루어지는 그룹으로부터 선택된 활성 성분을 포함한다.
하나의 실시형태에서, 제제는 습윤제들 및 보습 성분들, 및 노화 방지 활성제들로부터 선택된 활성 성분을 포함한다.
습윤제들 및 보습 성분들은 특히 글리세롤 및 그 유도체들, 우레아 및 그 유도체들, 특히 National Starch 에 의해 마케팅되는 Hydrovance, 락트산, 히알루론산, AHA, BHA, 소듐 피돌레이트, 자일리톨, 세린, 소듐 락테이트, 엑토인 및 그 유도체들, 키토산 및 그 유도체들, 콜라겐, 플랑크톤, Sederma 에 의해 Moist 24 라는 이름으로 판매되는 임페라타 실린드라 (Imperata cylindra) 의 추출물, NOF 사의 Lipidure-HM 으로서의 아크릴산의 호모폴리머들, 베타-글루칸 및 특히 나트륨 카르복시메틸 베타-글루칸 Mibelle-AG-Biochemistry, NutraLipids 라는 이름으로 네슬레에 의해 판매되는 오일들 시계초, 살구, 옥수수, 및 쌀겨의 혼합물, WO 02/051828 에 설명된 것들과 같은 C-글리코시드 유도체 및 특히 "Mexoryl SBB" 라는 상품명으로 회사 Chimex 에 의해 제조되는 제품으로서 물/프로필렌 글리콜 혼합물 (60/40 중량%) 에서의 활성 물질의 30 중량% 의 용액의 형태의 C- 13-D-자일로피라노사이드-2-하이드록시프로판, 네슬레에 의해 마케팅되는 로즈힙 오일, Marine Filling Spheres 라는 이름으로 회사 Engelhard Lyon 에 의해 판매되는 해양 유래의 콘드로이틴 황산 (Atelocollagen (아텔로콜라겐)) 및 콜라겐의 Vincience Algualane Zinc spheres 에 의한 이름으로 마케팅되는, 아연이 강화된 미세 조류 추출물 프로피리듐 크루엔튬, Engelhard Lyon 에 의해 마케팅되는 것들과 같은 히알루론산 구들, 및 아르기닌일 수도 있다.
하나의 실시형태에서, 제제는 탈색제를 포함한다.
탈색제들은 비타민 C 및 그 유도체들 및 특히 비타민 CG, CP 및 3-O 에틸 비타민 C, 알파 및 베타 알부틴, 페룰산, 루시놀 및 그 유도체들, 코지산, 레조르시놀 및 그 유도체들, 트라넥삼산 및 그 유도체들, 겐티신산, 호모겐티식, 메틸 겐티세이트 또는 호모겐티세이트, 디오산, D 판테테인 칼슘 설포네이트, 리포산, 엘라그산, 비타민 B3, 리놀렌산 및 그 유도체들, 카모마일, 월귤나무, 알로에 군 (베라, 페록스, 바르덴시스), 뽕나무, 황금과 같은 식물들로부터 유도된, 세라마이드들 및 이들의 대응체들, Gattefosse 에 의해 마케팅되는 워터 키위 (water kiwi fruit) (Actinidia chinensis), Liquid Botanpi Be 라는 이름으로 Ichimaru Pharcos 에 의해 판매되는 것과 같은 모란 뿌리의 추출물, Liquid Molasses 라는 이름으로 Taiyo Kagaku 에 의해 마케팅되는 당밀 추출물과 같은 갈색 설탕의 추출물 (Saccharum officinarum) 을 포함하고, 이 리스트가 총망라한 것은 아니다.
선호되는 탈색제들은 비타민 C 및 그 유도체들 및 특히 비타민 CG, CP 및 3-O 에틸 비타민 C, 알파 및 베타 알부틴, 페룰산, 코지산, 레조르시놀 및 유도체들, D 판테테인 칼슘 설포네이트, 리포산, 엘라그산, 비타민 B3, Gattefosse 에 의해 마케팅되는 워터 키위 열매 (Actinidia chinensis), Botanpi Liquid B 라는 이름으로 회사 Ichimaru Pharcos 에 의해 판매되는 것과 같은 모란 뿌리의 추출물을 포함한다.
하나의 실시형태에서, 제제는 주름 방지 활성제를 포함한다.
본 명세서에서 사용되는 바와 같이, 용어 "주름 방지 활성제" 는, 주름진 스킨 영역과 접촉하게 될 때, 소정의 효소들의 증가된 합성 및/또는 활성과 같은 생물학적 효과를 일으키는 천연 또는 합성 화합물을 지칭하고, 이것은 주름들 및/또는 잔주름들의 발생을 감소시키는 효과를 갖는다.
예시적인 주름 방지 활성제들은 낙설제들, 당화 방지제들, 일산화질소 합성효소 (NO-synthase) 의 억제제들, 진피 또는 표피 거대 분자들의 합성의 자극제들 및/또는 이들의 열화의 방지제들, 섬유아세포들 및/또는 케라틴세포들의 증식의 자극제들, 또는 케라틴세포 분화 환원제들의 자극제들; 근육 이완제들 및/또는 피부-확장제들, 항 자유 라디칼 물질들, 및 이들의 혼합물들로부터 선정될 수도 있다.
이러한 화합물들의 예들은, 아데노신 및 그 유도체들 및 레티놀 및 그 유도체들 예컨대 레티닐 팔미테이트, 아스코르브산 및 그 유도체들 예컨대 마그네슘 아스코르빌 포스페이트 및 아스코르빌 글루코시드; 토코페롤 및 그 유도체들 예컨대 토코페릴 아세테이트, 니코틴산 및 그 전구체들 예컨대 니코틴아미드; 유비퀴논; 글루타티온 및 그 전구체들 예컨대 L-2-옥소티아졸리딘-4-카르복실산, EP-1345919 에 특히 설명된 화합물들 C-글리코시드들 및 그 유도체들, 특히 EP-1345919 에 특히 설명된 C-베타-D-자일로피라노시드-2-하이드록시-프로판, 씨 페넬 (sea fennel) 을 포함하는 식물 추출물들 및 올리브 잎들의 추출물들뿐만 아니라, 식물 및 그 가수분해물들 예컨대 쌀 단백질 가수분해물들 또는 대두 단백질들; 조류 추출물들 및 특히 라미나리아, 박테리아 추출물들, 사포게닌들 예컨대 디오스게닌 및 마속 식물들의 추출물들, 특히 야생 얌: a-하이드록시산들, f3-하이드록시산들, 예컨대 살리실산 및 n-옥타노일-5-살리실 올리고펩티드들 및 슈도디펩티드들 및 그 아실 유도체들, 특히 산 {2-[아세틸-(3-트리플루오로메틸-페닐)-아미노]-3-메틸-} 아세트산 및 SEDERMA Matrixyl 500 및 Matrixyl 3000 이라는 상품명들로 회사에 의해 마케팅되는 리포펩타이드들을 포함함; 리코펜, 망간 염들 및 마그네슘 염들, 특히 글루코네이트들 및 이들의 혼합물들이다.
아데노신 유도체들로서는 특히 아데노신의 비-포스페이트 유도체들, 예컨대 특히 2'-데옥시아데노신, 2',3'-아데노신 이소프로포일리딘; 토요카마이신, 1-메틸아데노신, N-6-메틸아데노신; 아데노신 N-옥사이드, 6-메틸메르캅토푸린 리보사이드, 및 6-클로로퓨린 리보사이드를 포함한다.
다른 유도체들은 아데노신 아데노신 페닐이소프로필 ("PIA"), 1-메틸아이소구아노신, N6-시클로헥실아데노신 (CHA), N6-시클로펜틸아데노신 (CPA), 2 -클로로-N6-시클로펜틸아데노신, 2-클로로아데노신, N6-페닐아데노신, 2-페닐아미노아데노신, MECA, N 6-페네틸아데노신, 2-p-(2-카르복시-에틸)_페네틸-아미노-5'- -N-에틸카르복사미도 아데노신 (CGS-21680), N-에틸카르복사미도-아데노신 (NECA), 5 '(N-시클로프로필)-카르복사미도아데노신, DPMA (PD 129.944) 및 메트리푸딜을 포함하는 아데노신 수용체 효능제들을 포함한다.
다른 아데노신 유도체들은 아데노신, 예컨대 에리트로-9-(2-하이드록시-3-노닐) 아데닌 ("EHNA") 및 이오도투베르시딘의 세포내 농도를 증가시키는 화합물들을 포함한다.
다른 아데노신 유도체들은 염들 및 알킬 에스테르들을 포함한다.
C-글리코시드 유도체로는, 특히 식 (I): R-SIX (A) 의 EP-1345919 에 설명된 화합물들을 의미하고, 여기서 S 는 L 및/또는 D 의 피라노오스 및/또는 푸라노오 형태로 20 유닛 당까지 단당류 또는 다당류를 나타내고, 상기 단당류 또는 다당류는 반드시 유리된 적어도 하나의 하이드록실 작용기 및/또는 옵션적으로 하나 이상의 옵션적으로 보호된 아민 작용기들을 갖고, 결합 S-CH 2-X 는 C-아노머 성질의 결합을 나타내고, X 는 -CO-,-CH (OH)-,-CH (NR1 R2) -,-CHR'-,-C (= CHR ') - 로부터 선택된 그룹을 나타내고, R 은 선형 또는 분지형 알킬, 퍼플루오로알킬 체인, 하이드로플루오로알킬, 포화 또는 불포화 사이클로알킬 고리, 1 내지 18 개의 탄소 원자들을 포함하는 시클로퍼플루오로알킬 시클로하이드로플루오로알킬, 페닐 또는 벤질을 나타내고, 상기 채널, 상기 고리 또는 상기 라디칼은 산소, 황 및 질소로부터 선택된 하나 이상의 헤테로 원자들에 의해 옵션적으로 차단될 수 있고, -Or'l,-SR 's,-NR "R'2 '1 ,-COOR "2,-CONHR" '2,-CN, 할로겐, 퍼플루오로알킬, 하이드로플루오로알킬로부터 선정된 적어도 하나의 라디칼 및/또는 적어도 하나의 시클로알킬 라디칼, 아릴, 옵션적으로 치환된 헤테로사이클릭으로 옵션적으로 치환될 수 있고, 동일한 또는 상이한 R', R1, R2 는 R 에 대해 주어진 것과 동일한 의미를 가지며, 또한 수소 및 하이드록실 라디칼일 수 있고, 동일한 또는 상이한 R'1, R'2, R "1, R" 2, R "'1, R"' 2 는 수소 원자, 수소, 1 내지 30 개의 탄소 원자들을 포함하는, 선형 또는 분지형, 포화 또는 불포화의, 알킬, 하이드록시, 퍼플루오로알킬 및/또는 하이드로플루오로알킬로부터 선택된 라디칼을 나타낸다.
피부 미소순환 (microcirculation) 에 작용하는 스킨 미소순환 성질들을 촉진시키는 활성제는 안색의 어두움을 회피하게 하거나 및/또는 눈 윤곽의 외관을 개선시키기 위해, 특히 다크 서클들을 감소시키기 위해 이용될 수 있다.
이것은 예를 들어 Biolandes 로부터의 Pycnogenol (R) 로서의 해안 소나무 수피의 추출물, 클루콘산 망간 (GIVOBIO GMn Seppic), Indena 의 바스나딘 (Visnadine) 으로서의 암미 비스나가 (Ammi Visnaga) 의 추출물, 루핀 추출물 (Eclaline Silab), Epaline 100 Carilene Laboratories 로서의 팔미트산과 커플링한 단백질 가수분해된 밀/팔미트산, 비터 오렌지 블러섬 (Remoduline Silab) 비타민 P 의 추출물 및 그 유도체들 예컨대 Permethol Sephytal 이라는 이름으로 판매되는 메틸-4 모노에타노에이트 에스클레톨 나트륨, 루스쿠스, 갈색 기니, 아이비, 스위트 클로버 및 인삼의 추출물들, 카페인 니코티네이트 및 그 유도체들, 라이신 및 그 유도체들 예컨대 Asparlyne Solabia, Kombuchka Sederma 로서의 홍차 추출물; 루틴 염들: Codif 에 의해 마케팅되는 것과 같은 조류 산호말 오피시날리스의 추출물, 및 이들의 혼합물들로부터 선택될 수도 있다.
피부 미소순환을 촉진하기 위한 선호되는 물질들은, 카페인, 비터 오렌지 블러섬의 추출물, 홍차 추출물, 루틴 염들, 조류 산호말 오피시날리스의 추출물을 포함한다.
하나의 실시형태에서, 제제는 지성 스킨을 다루는 활성 성분을 포함한다. 이들 활성제들은 피지선들의 활동을 규제하는 것이 가능한 지루-규제제 또는 항지루제들일 수 있다. 이들은 레티노산, 과산화 벤조일, 황, 비타민 B6 (피리독신 또는) 클로라이드, 셀레늄, 샘파이어 - 계피 추출물 블렌드들, 차 및 옥탄오일클리신 예컨대 - Seppic 으로부터의 15 Sepicontrol A5 TEA - Sepicontrol A5 라는 상품명으로 Seppic 에 의해 특히 마케팅되는 계피, 사르코신 및 옥탄오일글리신의 혼합물 - 아연 염들 예컨대 글루콘산 아연, 피롤리돈카르복시산 아연 (또는 아연 피돌레이트), 락트산 아연, 아스파르트산 아연, 카르복시산 아연, 살리실산 아연 20, 아연 시스테에이트; - 유도체들 특히 Cuivridone Solabia 로서의 구리 피돌레이트 및 구리 - 아르니카 몬타나 (Arnica montana), 키나 나무 (Cinchona succirubra), 정향 나무 (Eugenia caryophyllata), 호프 루풀루스 (Humulus lupulus), 서양고추나물 (Hypericum perforatum), 박하 피펜타 25 로스마리누스 오피시날리스, 샐비어 오피시날리스 및 입사향초 (Thymus vulgaris) 의 식물들로부터의 추출물들, 이들 모두는 예를 들어 Maruzen 에 의해 마케팅됨 - Silab 에 의해 Sebonormine 라는 이름으로 판매되는 것과 같은 메도스위트 (Spiraea ulmaria) 의 추출물들 - Biotechmarine 에 의해 30 Phlorogine 이라는 이름으로 판매되는 것과 같은 조류 라미나리아 사카리나의 추출물들 - Solabia 에 의해 Sebustop 이라는 이름으로 판매되는 것과 같은, 오이풀속 혼합물들 (Sanguisorba officinalis / Poterium officinale), 생강의 뿌리줄기 (Zingiber officinalis) 및 계피 수피 (Cinnamomum cassia) 의 뿌리 추출물들 - Lucas Meyer 에 의해 Linumine 이라는 이름으로 판매되는 것과 같은 아마씨의 추출물들 - Maruzen 에 의해 황벽 추출물 BG (Phellodendron extract BG) 또는 Ichimaru Pharcos 에 의해 Oubaku 액체 B (Oubaku liquid B) 라는 이름으로 판매되는 것들과 같은 황벽 추출물들 - Pentapharm 에 의해 Regu SEB 라는 이름으로 판매되는 것과 같은 참깨들 및 세레노아 벗나무 (톱 야자) 추출물의 아르간 오일 혼합물 추출물 - Seborilys Green Tech 라는 이름으로 판매되는 것과 같은, 바늘꽃, 가자, 한련 그리고 생물학적 이용가능 아연 (미세조류) 의 추출물들의 혼합물들; - Euromed 에 의해 Pygeum afrianum 스테롤 지질 추출물이라는 이름으로 판매되는 것과 같은 Pygeum afrianum 의 추출물들 - Actives International 에 의해 Viapure Sabal 이라는 이름으로 판매되는 것들, 및 회사 Euromed 에 의해 판매되는 것들과 같은 Serenoa serrulata 의 추출물들 - Seboclear Rahn 이라는 이름으로 판매되는 것과 같은 플랜틴 블렌드들, 버버리스 아퀴폴리움 (Berberis aquifolium) 및 살리실산 나트륨 20 의 추출물들 - Maruzen 에 의해 정향 추출물 분말이라는 이름으로 판매되는 것으로서 정향의 추출물 -
Figure pct00005
라는 이름으로 판매되는 것과 같은 아르간 오일; Sederma 에 의해 Normaseb 라는 이름으로 판매되는 것과 같은 25 - 젖산 단백질 여과액들 - Biotechmarine 에 의해 Laminarghane 이라는 이름으로 판매되는 것과 같은 해조 라미나리아 추출물들 - 회사 Codif 에 의해 Phycosaccharide 30 AC 라는 이름으로 판매되는 것과 같은 올리고당 해조 라미나리아 디지타타 - 회사 Sabinsa 에 의해 Policosanol 이라는 이름으로 판매되는 것과 같은 사탕수수의 추출물들, Ichthyol 에 의해 Ichtyol Pale 라는 이름으로 판매되는 것과 같은 술폰화 셰일 오일 -
Figure pct00006
에 의해 Cytobiol Ulmaire 라는 이름으로 판매되는 것과 같은 메도스위트 (Spiraea ulmaria) 의 추출물들 - Sederma 에 의해 Sebosoft 라는 이름으로 폴리아크릴산 나트륨 겔의 형태로 특히 판매되는 세바스산 - Arch Chemical 에 의해 Biopol Beta 라는 이름으로 판매되는 것과 같은 알킬술폰산 체인들로 변성되고 곤약 괴경으로부터 추출된 글루코만난들 - Bioland 에 의해 Sophora 분말 또는 Sophora 추출물이라는 이름으로 판매되는 것들과 같은 느삼대의 추출물들 - Alban Muller 에 의해 Red Bark HS 라는 이름으로 판매되는 것과 같은 기나피 수시루브라의 추출물들 - Alban Muller 에 의해 15 파나마 나무 (15 Panama wood) 라는 이름으로 판매되는 것과 같은 퀼라야피 비누풀의 추출물들 - SEPPIC 에 의해 Lipacide UG OR 이라는 이름으로 판매되는 것과 같은, 운데실레닉 체인 상으로 그래프트된 글리신 - Sederma 에 의해 AC.Net 라는 이름으로 겔의 형태 하에서 판매되는 것과 같은, 올레아놀산 및 노르디하이드로구아이아레트산의 혼합물; 20 - 프탈이미도퍼옥시헥산산 - Sasol 에 의해 COSMACOL (R) ECI 라는 이름으로 판매되는 구연산 트리 (C12-C13); Sasol 에 의해 COSMACOL (R) ECL 이라는 이름으로 판매되는 트리알킬 구연산 (C14-C15) - Vincience 에 의해 Acnacidol BG 라는 이름으로 판매되는 것과 같은 혼합물들 애시드-하이드록시데카노익 옥토버 25, 세바스산 및 1,10-데칸디올을 포함하여, 10-하이드록시데칸산 및 - 이들의 혼합물들을 포함한다.
항지루 활성 성분들은, 벤조일 퍼옥사이드, 비타민 B6 (또는 피리독신), 30 - 아연 염들 예컨대 글루콘산 아연, 피롤리돈카르복시산 아연 (또는 아연 피돌레이트), 락트산 아연, 아스파르트산 아연, 카르복시산 아연, 살리실산 아연, 아연 시스테에이트 - 회사 Silab 에 의해 Sebonormine (R) 이라는 이름으로 판매되는 것과 같은 메도스위트 (Spiraea ulmaria) 의 추출물들 - Biotechmarine 에 의해 Phlorogine 이라는 이름으로 판매되는 것과 같은 조류 라미나리아 사카리나의 추출물들 - Solabia 에 의해 Sebustop 이라는 이름으로 판매되는 것과 같은, 샐러드 오이풀속 뿌리 (Sanguisorba officinalis / Poterium officinale), 생강의 뿌리줄기 (Zingiber officinalis) 및 계피 수피 (Cinnamomum cassia) 의 추출물들의 혼합물들 - Maruzen 에 의해 정향 추출물 분말이라는 이름으로 판매되는 것과 같은 추출물 정향 - Sederma 에 의해 Normaseb 단백질이라는 이름으로 판매되는 것과 같은 여과액 젖산 - Libiol 에 의해 Cytobiol Ulmaire 라는 이름으로 판매되는 것과 같은 메도스위트 (Spiraea ulmaria) 의 추출물들; - Sederma 에 의해 Sebosoft 라는 이름으로 폴리아크릴산 나트륨 겔의 형태로 특히 판매되는 세바스산 - Seppic 에 의해 Lipacide UG OR 이라는 이름으로 판매되는 것과 같은, 운데실레닉 체인 상으로 그래프트된 글리신 - Sasol 에 의해 COSMACOL ECI 라는 이름으로 판매되는 디트리알킬 구연산 (C12-C13); Sasol 에 의해 COSMACOL ECL 이라는 이름으로 판매되는 트리알킬 구연산 (C14-C15) - 10-하이드록시데칸산, 그리고 특히 Vincience 에 의해 Acnacidol BG 라는 이름으로 판매되는 것과 같은, 10-하이드록시데칸산, 세바스산 및 1,10-데칸디올의 혼합물들 - 그리고 이들의 혼합물들을 포함한다.
바람직하게는, 항지루 활성제는, 아연 염들 예컨대 글루콘산 아연, 피롤리돈카르복시산 아연 (또는 아연 피돌레이트), 락트산 아연, 아스파르트산 아연, 카르복시산 아연, 살리실산 아연, 아연 시스테에이트, 그리고 바람직하게는 피롤리돈카르복시산 아연 (또는 피돌레이트 아연) 또는 살리실산 아연 - Maruzen 에 의해 정향 추출물 분말이라는 이름으로 판매되는 것과 같은 정향 추출물 - SEPPIC 에 의해 Lipacide UG OR 이라는 이름으로 판매되는 것과 같은, 운데실레닉 체인 상으로 그래프트된 글리신 - Sasol 에 의해 COSMACOL ECI 라는 이름으로 판매되는 트리알킬 구연산 (C12-C13), Sasol 에 의해 COSMACOL 5 ECL 이라는 이름으로 판매되는 트리알킬 구연산 (C14-C15) - 그리고 이들의 혼합물들로부터 선정된다.
항지루 활성제는, 예를 들어, 제제의 총 중량에 대해, 0.1 내지 10 중량%, 바람직하게는 0.1 내지 5 중량%, 그리고 바람직하게는 0.5 내지 3 중량% 의 범위에 있는 양으로 존재한다.
활성 분자 전달 방법들
다른 양태에서, 대상자의 스킨 상의 위치에 제제에서의 하전된 활성 분자를 전달하는 방법이 제공된다. 이전에 논의된 바와 같이, 개시된 실시형태들은 개별적으로 기법들 중 어느 것보다도 더 많은 양들로 하전된 활성 분자를 스킨으로 전달하는 상승 효과를 일으키기 위해 대상자의 스킨 상의 위치에 조화된 기계적 모션 및 전류를 전달하는데 이용될 수 있다.
하나의 실시형태에서, 이 방법은:
(a) 제제를 위치에 국소적으로 제공하는 단계;
(b) 진동 또는 왕복하는 기계적 모션의 소스를 위치에 지향시키는 단계; 한편 동시에
(c) 하전된 활성 분자를 대상자의 스킨으로 이동시키도록 구성되는 인가 전류를 위치에 인가하는 단계를 포함한다.
하나의 실시형태에서, 인가 전류는 제 1 전극에 의해 인가되고, 여기서 제제는 대상자의 스킨과 제 1 전극 사이에 잔존한다.
하나의 실시형태에서, 제제는 제제가 대상자의 스킨에 접촉하기에 앞서 제 1 전극 또는 그 전극 상의 리저버에 제공된다.
하나의 실시형태에서, 제제는 제제가 제 1 전극에 접촉하기에 앞서 대상자의 스킨에 제공된다.
하나의 실시형태에서, 인가 전류는 대상자의 비자극된 지각 임계 전류를 초과한다.
하나의 실시형태에서, 인가 전류는 대상자의 기계적으로 자극된 지각 임계 전류 미만이다.
하나의 실시형태에서, 전류 및 진동 또는 왕복하는 기계적 모션의 소스는 진피 제제 전달 디바이스에 의해 제공되고, 이 진피 제제 전달 디바이스는:
(a) 음파 주파수에서 진동 또는 왕복하는 기계적 모션의 소스를 포함하는 디바이스 헤드; 및
(b) 전기 시스템을 포함하고,
이 전기 시스템은:
(i) 디바이스 헤드 상에 배치되고 대상자의 스킨과 전기 통신하도록 구성된 제 1 전극;
(ii) 대상자의 스킨과 전기 통신하도록 구성된 제 2 전극; 및
(iii) 제 1 전극 및 제 2 전극과 전기 통신하는 파워 소스를 포함하고;
여기서 제 1 전극 및 제 2 전극이 동작 동안 대상자의 스킨의 별개의 위치들과 동시에 전기 통신하게 구성되도록 전기 시스템이 구성된다.
이러한 디바이스의 타입은 본 출원 전반에 걸쳐 상세히 설명되었다.
다른 양태에서, 대상자의 전류 지각 임계치를 증가시키는 것에 의해 대상자의 스킨 상의 위치에서 제제에서의 하전된 활성 분자의 전달 레이트를 증가시키는 방법이 제공된다. 하나의 실시형태에서, 이 방법은:
(a) 제제를 위치에 국소적으로 제공하는 단계;
(b) 진동 또는 왕복하는 기계적 모션의 소스를 위치에 지향시키는 단계; 한편 동시에
(c) 하전된 활성 분자를 대상자의 스킨으로 이동시키도록 구성되는 인가 전류를 위치에 인가하는 단계를 포함하고, 여기서 인가 전류는 대상자의 비자극된 지각 임계 전류를 초과한다.
하나의 실시형태에서, 인가 전류는 대상자의 기계적으로 자극된 지각 임계 전류 미만이다.
이전에 설명된 바와 같이, 기계적 모션은 인가 전류를 마스킹할 수 있고 보다 높은 지각 임계 전류를 가능하게 하여, 그에 의해 더 많은 전류가 이용되게 하고 이에 따라 이온영동이 개선되게 한다.
다음 예들은 설명된 실시형태들을 제한하는 것이 아니라 예시할 목적으로 포함된다.
예들
실험 플랫폼들
실험 플랫폼들은 진동, 전단 스트레인 실시형태 및 왕복, 횡방향 스트레인 실시형태 양쪽에 대해 구성되었고, 외부의 함수 발생기들 및 증폭기들에 연결되어, 테스팅 동안 가변 주파수 및 진폭을 가능하게 하도록 또한 구성되었다. 도 2a 및 도 2b 는 예시적인 전단 스트레인 디바이스들을 도시하고 도 3a 내지 도 3c 는 예시적인 횡방향 전단 디바이스들을 도시한다.
증가된 유동
초기 실험이 행해져서, 스킨으로의 활성 성분의 침투를 개선시키기 위해 스킨의 진동하는 기계적 전단 스트레인을 이온영동과 조합하는 유효성을 찾아내고 정량화하였다.
하이드로에틸셀룰로오스 시크너 (thickener), 물 및 플루오레세인의 용액이 적절히 준비된 피그 스킨 샘플들에 제공된 후에, 5 개의 방법들 중 하나를 이용하여 120 초 동안 처리되었다:
1. 비처리 (즉, 수동 확산).
2. 35V 에서 평활화된 크롬-도금된 ABS 소스 전극을 이용한 이온영동.
3. 8 도의 진폭 및 150 Hz 에서 작동하는 강모들이 내장된 크롬-도금된 ABS 전극을 이용한 기계적으로만.
4. 8 도의 진폭 및 150 Hz 에서 진동하는, 35V 에서의 평활화된 전극을 이용한 기계적 스트레인과 조합된 이온영동.
5. 8 도의 진폭 및 150 Hz 에서 진동하는, 35V 에서의 강모가 있는 전극을 이용한 기계적 스트레인과 조합된 이온영동.
각각의 처리 방법에 대해, n=3 이다. 3 개의 스킨 샘플들이 준비되었고 각각의 처리 방법의 하나의 테스트가 각각의 샘플에 대해 수행되었다. 처리 후에, 초과 용액이 물로 제거되었고 테스트 사이트가 거즈 패드로 건조되었다. CuDerm D-Squame 테이프 스트립 샘플링 디스크들을 이용하여, 7 개의 연속 샘플들이 각각의 사이트에서 수집되었다. 표준 관행에 따라, 각각의 테스트 사이트에서 처음 2 개의 스트립들이 폐기되었다. 나머지 5 개의 디스크들 및 블랭크는 6-웰 (6-well) 폴리카보네이트 플레이트의 하부에 부착되었고 플레이트 판독기를 이용하여 상대적 형광에 대해 분석되었다. 집계된 결과들이 도 5 에 디스플레이된다.
도 5 에 도시된 바와 같이, 이들 예비 결과들은 스킨에 제공된 기계적 액션과 제제에 제공된 전위 사이에서의 침투에 대한 상승 효과를 나타낸다. 스킨에서의 증가된 가용도 (availability) 가 각각의 레벨로 존재하고, 보다 큰 심도의 침투를 또한 나타낸다.
증가된 지각 임계치
초기 실험이 행해져서, 대상자에 의해 지각되도록 전달된 최소 전류를 증가시키기 위해 스킨의 진동하는 기계적 전단 스트레인을 이온영동과 조합하는 유효성을 찾아내고 정량화하였다.
여러 연령 및 성별의 6 명 (n=6) 의 대상자들은 첫 번째로 정적 전극으로 그리고 그 후에 170 Hz 에서 진동하는 전극으로 팔뚝에 수용성 겔을 통해 전류를 전달하기 위해 평활화된 크롬 도금된 전극과 커플링된 도 3a 내지 도 3c 의 것과 유사한 디바이스를 이용하였다. 전류는 30 V 의 최대 출력 전압을 갖는 전류 제한된 DC 파워 서플라이를 이용하여 제어되었다. 전달된 전류가 대상자의 전기 저항 및 인가된 전압의 함수이기 때문에, 소정의 대상자들에 있어서 지각 임계치를 통과하도록 충분히 높은 전류가 생성되는 것이 가능하지 않았다. 대상자의 지각 임계치를 통과하기 전에 최대 출력 전압에 도달된 경우, mA 단위의 최종 전류가 기록되었다. 현재 출력이 0.5 mA/cm2 추천 한도보다 높아진 경우, 실험이 종료되었다.
표 1 - 지각 임계치 결과들
대상자 지각 임계치 (mA) 퍼센트 증가 비고
비자극됨;
진동: 오프		 자극됨;
진동: 온
1 1.6 3.6 125% 최대 전압에 도달됨
2 0.2 0.58 190% 　
3 1.2 2.5 108% 　
4 0.6 1.5 150% 　
5 1.6 5 213% 실험이 중단됨
6 3 3.5 17% 최대 전압에 도달됨
표 1 은 지각 임계치 실험의 결과들을 도시한다. 결정적 임계치가 달성될 수 없는 결과들을 무시하면, 대상자의 지각 임계치를 통과하기 전에 전달된 전류의 평균 150% 증가가 여전히 존재하였다.
예시적인 실시형태들이 예시되고 설명되었지만, 본 발명의 사상 및 범위로부터 벗어남이 없이 다양한 변경들이 이루어질 수 있다는 것이 인식될 것이다.
배타적인 속성 또는 특권이 주장되는 본 발명의 실시형태들은 다음과 같이 정의된다:

Claims (27)

  1. 진피 제제 전달 디바이스로서,
    (a) 음파 주파수에서 진동 또는 왕복하는 기계적 모션의 소스를 포함하는 디바이스 헤드; 및
    (b) 전기 시스템을 포함하고,
    상기 전기 시스템은,
    (i) 상기 디바이스 헤드 상에 배치되고 대상자 (subject) 의 스킨 (skin) 과 전기 통신하도록 구성된 제 1 전극;
    (ii) 상기 대상자의 스킨과 전기 통신하도록 구성된 제 2 전극; 및
    (iii) 상기 제 1 전극 및 상기 제 2 전극과 전기 통신하는 파워 소스 (power source) 를 포함하고;
    상기 제 1 전극 및 상기 제 2 전극이 동작 동안 상기 대상자의 스킨의 별개의 위치들과 동시에 전기 통신하게 구성되도록 상기 전기 시스템이 구성되는, 진피 제제 전달 디바이스.
  2. 제 1 항에 있어서,
    상기 디바이스 헤드가 장착되는 보디 (body) 를 더 포함하는, 진피 제제 전달 디바이스.
  3. 제 2 항에 있어서,
    상기 보디는 손에 홀딩되도록 사이징되고 구성되는, 진피 제제 전달 디바이스.
  4. 제 3 항에 있어서,
    상기 제 2 전극은 상기 보디에 부착되고, 상기 보디를 홀딩하는 상기 대상자의 손을 통해 상기 대상자의 스킨과 전기 통신하도록 구성되는, 진피 제제 전달 디바이스.
  5. 제 1 항에 있어서,
    20 내지 1000 Hz 의 진동 레이트를 갖는 진동 모션의 소스를 포함하는, 진피 제제 전달 디바이스.
  6. 제 1 항에 있어서,
    20 내지 200 Hz 의 왕복 레이트를 갖는 왕복 모션의 소스를 포함하는, 진피 제제 전달 디바이스.
  7. 제 1 항에 있어서,
    상기 전기 시스템은 최대 0.5 mA/cm2 까지의 전류 밀도를 제공하도록 구성되는, 진피 제제 전달 디바이스.
  8. 제 1 항에 있어서,
    상기 전기 시스템은 상기 대상자에 대해 이용되었을 때 일정한 전류 밀도를 유지하도록 구성되고,
    상기 일정한 전류 밀도는 인가된 전압에 대한 주기적 조정으로 유지되는, 진피 제제 전달 디바이스.
  9. 제 1 항에 있어서,
    상기 디바이스 헤드는, 상기 대상자의 스킨에 접촉하도록 구성된 비전도성 엘리먼트를 더 포함하는, 진피 제제 전달 디바이스.
  10. 제 9 항에 있어서,
    상기 비전도성 엘리먼트는, 상기 제 1 전극과 동시에 상기 대상자의 스킨에 접촉하도록 구성된 강모 다발들을 갖는 브러시를 포함하는, 진피 제제 전달 디바이스.
  11. 제 10 항에 있어서,
    강모들이 상기 제 1 전극 주위에 배열되는, 진피 제제 전달 디바이스.
  12. 제 11 항에 있어서,
    상기 강모들은 상기 제 1 전극과 상기 제 2 전극 사이에 생성된 전기장 내에서 상기 대상자의 스킨에 접촉하도록 구성되는, 진피 제제 전달 디바이스.
  13. 제 1 항에 있어서,
    상기 제 1 전극은 상기 디바이스 헤드와 상기 대상자의 스킨 사이에 제제를 보유하도록 구성된 오목부에서 종단되는, 진피 제제 전달 디바이스.
  14. 제 1 항에 있어서,
    상기 제 1 전극의 헤드는 평탄부에서 종단되는, 진피 제제 전달 디바이스.
  15. 제 1 항에 있어서,
    상기 제 1 전극은 스테인리스 스틸, 크롬 및 니켈로 이루어지는 그룹으로부터 선택되는, 진피 제제 전달 디바이스.
  16. 제 1 항에 있어서,
    상기 제 1 전극은 은 (Ag), 염화 은 (AgCl), 및 이들의 조합물로 이루어지는 그룹으로부터 선택된 재료를 포함하는, 진피 제제 전달 디바이스.
  17. 제 1 항에 있어서,
    상기 제 1 전극은 소모성 Ag-AgCl 전도층으로 대체가능한, 진피 제제 전달 디바이스.
  18. 대상자의 스킨 상의 위치에 제제에서의 하전된 활성 분자를 전달하는 방법으로서,
    (a) 상기 제제를 상기 위치에 국소적으로 제공하는 단계;
    (b) 진동 또는 왕복하는 기계적 모션의 소스를 상기 위치에 지향 (direct) 시키는 단계; 한편 동시에
    (c) 상기 하전된 활성 분자를 상기 대상자의 스킨으로 이동시키도록 구성되는 인가 전류를 상기 위치에 인가하는 단계를 포함하는, 대상자의 스킨 상의 위치에 제제에서의 하전된 활성 분자를 전달하는 방법.
  19. 제 18 항에 있어서,
    상기 인가 전류는 제 1 전극에 의해 인가되고,
    상기 제제는 상기 대상자의 스킨과 상기 제 1 전극 사이에 잔존하는, 대상자의 스킨 상의 위치에 제제에서의 하전된 활성 분자를 전달하는 방법.
  20. 제 19 항에 있어서,
    상기 제제는 상기 제제가 상기 대상자의 스킨에 접촉하기에 앞서 상기 제 1 전극 또는 전극 상의 리저버에 제공되는, 대상자의 스킨 상의 위치에 제제에서의 하전된 활성 분자를 전달하는 방법.
  21. 제 19 항에 있어서,
    상기 제제는 상기 제제가 상기 제 1 전극에 접촉하기에 앞서 상기 대상자의 스킨에 제공되는, 대상자의 스킨 상의 위치에 제제에서의 하전된 활성 분자를 전달하는 방법.
  22. 제 18 항에 있어서,
    상기 인가 전류는 상기 대상자의 비자극된 지각 (perception) 임계 전류를 초과하는, 대상자의 스킨 상의 위치에 제제에서의 하전된 활성 분자를 전달하는 방법.
  23. 제 22 항에 있어서,
    상기 인가 전류는 상기 대상자의 기계적으로 자극된 지각 임계 전류 미만인, 대상자의 스킨 상의 위치에 제제에서의 하전된 활성 분자를 전달하는 방법.
  24. 제 18 항에 있어서,
    상기 제제는 스킨 케어, 스킨 클렌징, 스킨 정화, 스킨 박리 (exfoliation), 스킨 낙설 (desquamation), 마사지, 셀룰라이트, 시닝 (thinning), 메이크업, 및 탈색으로 이루어지는 그룹으로부터 선택된 용도를 위해 구성된 제제인, 대상자의 스킨 상의 위치에 제제에서의 하전된 활성 분자를 전달하는 방법.
  25. 제 18 항에 있어서,
    상기 전류 및 상기 진동 또는 왕복하는 기계적 모션의 소스는 진피 제제 전달 디바이스에 의해 제공되고,
    상기 진피 제제 전달 디바이스는,
    (a) 음파 주파수에서 상기 진동 또는 왕복하는 기계적 모션의 소스를 포함하는 디바이스 헤드; 및
    (b) 전기 시스템을 포함하고,
    상기 전기 시스템은,
    (i) 상기 디바이스 헤드 상에 배치되고 대상자의 스킨과 전기 통신하도록 구성된 제 1 전극;
    (ii) 상기 대상자의 스킨과 전기 통신하도록 구성된 제 2 전극; 및
    (iii) 상기 제 1 전극 및 상기 제 2 전극과 전기 통신하는 파워 소스를 포함하고;
    상기 제 1 전극 및 상기 제 2 전극이 동작 동안 상기 대상자의 스킨의 별개의 위치들과 동시에 전기 통신하게 구성되도록 상기 전기 시스템이 구성되는, 대상자의 스킨 상의 위치에 제제에서의 하전된 활성 분자를 전달하는 방법.
  26. 대상자의 전류 지각 임계치를 증가시키는 것에 의해 상기 대상자의 스킨 상의 위치에서 제제에서의 하전된 활성 분자의 전달 레이트를 증가시키는 방법으로서,
    (a) 상기 제제를 상기 위치에 국소적으로 제공하는 단계;
    (b) 진동 또는 왕복하는 기계적 모션의 소스를 상기 위치에 지향시키는 단계; 한편 동시에
    (c) 상기 하전된 활성 분자를 상기 대상자의 스킨으로 이동시키도록 구성되는 인가 전류를 상기 위치에 인가하는 단계를 포함하고,
    상기 인가 전류는 상기 대상자의 비자극된 지각 임계 전류를 초과하는, 대상자의 스킨 상의 위치에서 제제에서의 하전된 활성 분자의 전달 레이트를 증가시키는 방법.
  27. 제 26 항에 있어서,
    상기 인가 전류는 상기 대상자의 기계적으로 자극된 지각 임계 전류 미만인, 대상자의 스킨 상의 위치에서 제제에서의 하전된 활성 분자의 전달 레이트를 증가시키는 방법.
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