KR20160088147A - 근적외선 흡수층이 형성된 고체 촬상 장치용 커버글라스 - Google Patents
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Abstract
본 발명은 고체 촬상 장치용 커버글라스에 관한 것으로, 상기 고체 촬상 장치용 커버글라스는 가시광 영역의 투과도를 저해하지 않으면서, 광의 입사각 변화에 따른 투과 스펙트럼의 편이(shift) 현상을 방지하는 효과가 있다.
Description
본 발명은 고체 촬상 장치용 커버글라스에 관한 것이다.
현재, 많은 휴대폰 업체들은 내장형 카메라 모듈을 장착한 휴대폰을 개발하여 생산 중에 있다. 이러한 휴대폰에 장착되는 내장형 카메라 모듈은 그 구성 요소와 패키지 방법 등에 따라서 여러 가지 형태가 개발되고 있다.
이러한 휴대폰에서 사용되어지는 카메라 모듈은 일측에는 이미지 센서부가 위치되고, 타측에는 휴대폰의 메인 보드 등에 전기적으로 연결되기 위한 콘넥터가 구비되며, 상기 이미지 센서부와 콘넥터는 연성기판 상에 실장되는 소위 COB 공법구조로 제작된다.
상기 이미지 센서부는 연성기판에 투광용 관통 구멍이 설치되고, 그 관통구멍의 일측으로는 수광부가 형성되며, 이 수광부가 관통 구멍을 통하여 노출되는 상태로 연성기판의 한쪽 면에 플립칩 방식으로 장착되는 이미지 센서가 배치되고, 그 둘레에 포장수지층이 형성된다.
또한, 상기 이미지 센서의 전방측으로 형성된 관통 구멍을 통하여 수광부에 연통하도록 렌즈 유닛이 상기 연성기판 상에 실장되어 다수의 렌즈들을 카메라 모듈에 장착하게 된다.
상기와 같이 현재 제작되는 카메라 모듈에서 적외선 또는 자외선 및 가시광선 중 필요한 부분을 제외한 파장을 차단할 수 있는 광학 필터는 반드시 구비되어야 할 필수 구성요소이다.
이와 같은 광학 필터는, 이미지 센서부를 이루는 하우징 내에서 연성기판 상에 부착되거나, COB 공법에 적용되어 PCB상의 이미지 센서상에 직접 부착되거나, 또는, 렌즈 고정 기구인 하우징에 접착제 등으로 부착하여 사용하는 것이 보편화되어 있다.
그러나, 상기와 같은 종래의 작업 방식은 광학 필터를 연성기판의 상부면에 장착하거나, 이미지 센서 위에 장착하거나, 또는 하우징의 내부에 장착하는 동안, 그 제작 공정상 이물질 또는 접착제등이 상기 광학 필터에 부착하거나 묻게 되어 이미지 센서에 의한 수광작용을 방해하고, 그에 따라서 카메라 모듈의 광학 성능에서 불량을 초래하는 문제점을 갖는다.
또한, 이와 같은 종래의 카메라 모듈은 렌즈 유닛과는 별도로 광학 필터를 장착하기 때문에, 이를 장착하기 위한 별도의 설치 구조 및 제작 공정이 필요한 것이고, 그에 따라서 제작 원가를 낮출 수 없는 문제점이 있다.
따라서, 이를 해결하기 위한 연구가 다각도로 이루어지고 있다.
그 예로서, 특허문헌 1은 광학 필터를 내장한 카메라 모듈용 렌즈 유닛을 개시하고 있다. 그러나, 상기 특허문헌 1은 광학필터를 렌즈 유닛 내부에 별도로 장착함으로써, 렌즈 유닛의 두께가 증가될 수 있고, 렌즈의 두께 증가는 광학적으로 변형 또는 왜곡의 문제가 발생하게 된다.
따라서, 렌즈의 두께를 증가시키지 않으며, 렌즈를 보호하는 동시에 광학필터의 역할을 수행 가능한 적합한 고체 촬상 장치용 커버글라스의 개발이 절실히 요구되고 있다.
본 발명의 목적은 근적외선 반사 효과를 가지며, 광의 입사각 변화에 따른 투과 스펙트럼의 편이(shift) 현상을 방지하고, 고체 촬상 장치의 두께를 감소시킬 수 있는 커버글라스를 제공하는 것이다.
상기 본 발명의 목적을 해결하기 위하여,
본 발명은 일 실시예에서,
유리 기판;
상기 기판의 일면 또는 양면에 형성되고, 고분자 매트릭스 및 상기 고분자 매트릭스에 분산된 광흡수제를 포함하는 광흡수층;
광흡수층이 형성된 기판의 제1 면에 형성된 반사방지층; 및
기판을 기준으로 반사반지층이 형성된 면의 반대면인 제2 면에 형성된 근적외선 반사층을 포함하는 고체 촬상 장치용 커버글라스를 제공한다.
또한, 본 발명은 일 실시예에서,
상기 고체 촬상 장치용 커버글라스를 포함하는 고체 촬상 장치를 제공한다.
본 발명에 따른 고체 촬상 장치용 커버글라스는, 렌즈를 보호하는 동시에 광학 필터 역할을 함으로써, 근적외선 반사 효과를 가지며, 광의 입사각 변화에 따른 투과 스펙트럼의 편이(shift) 현상을 방지하고, 이에 따라, 카메라 모듈 내에 광학 필터를 별도로 장착할 필요가 없으므로, 고체 촬상 장치의 두께 감소 및 내부 열화를 방지하는 효과를 갖는다.
도 1은 일 실시예에서 제조되는 고체 촬상 장치용 커버글라스의 구조를 도시한 단면도이다.
도 2 내지 4는 일 실시예에서, 본 발명에 따른 고체 촬상 장치용 커버글라스의 광 투과도 스펙트럼을 나타낸 그래프이다.
도 5는 일 실시예에서, 본 발명에 따른 고체 촬상 장치용 커버글라스의 광흡수층의 흡수 극대 파장(λ)과 광흡수층의 두께에 따른 ΔE*를 나타낸 그래프이다.
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본 발명은 다양한 변경을 가할 수 있고 여러 가지 실시예를 가질 수 있는 바, 특정 실시예들을 도면에 예시하고 구체적인 내용에 상세하게 설명하고자 한다.
그러나, 이는 본 발명을 특정한 실시 형태에 대해 한정하려는 것이 아니며, 본 발명의 사상 및 기술 범위에 포함되는 모든 변경, 균등물 내지 대체물을 포함하는 것으로 이해되어야 한다.
본 발명에서, "포함한다", "가지다" 또는 "구성하다" 등의 용어는 명세서상에 기재된 특징, 숫자, 단계, 동작, 구성요소, 부품 또는 이들을 조합한 것이 존재함을 지정하려는 것이지, 하나 또는 그 이상의 다른 특징들이나 숫자, 단계, 동작, 구성요소, 부품 또는 이들을 조합한 것들의 존재 또는 부가 가능성을 미리 배제하지 않는 것으로 이해되어야 한다.
또한, 본 발명에서 첨부된 도면은 설명의 편의를 위하여 확대 또는 축소하여 도시된 것으로 이해되어야 한다.
이하, 본 발명에 대하여 도면을 참고하여 상세하게 설명하고, 도면 부호에 관계없이 동일하거나 대응하는 구성 요소는 동일한 참조 번호를 부여하고 이에 대한 중복되는 설명은 생략하기로 한다.
본 발명에서 “입사각”이란, 광학 필터 또는 고체 촬상 장치용 커버글라스에 입사되는 광이 광학 필터 또는 고체 촬상 장치용 커버글라스에 수직 방향과 이루는 각도를 의미한다. 촬상 장치의 화소수가 증가됨에 따라 요구되는 입사광의 광량도 증가하게 된다. 따라서, 최근의 촬상 장치는 광학 필터에 수직 방향으로 입사되는 광뿐만 아니라 수직 방향과 이루는 각도에 대하여 40° 혹은 그 이상인 광도 수용할 필요성이 있다.
한편, 본 발명에서 “ΔE*”란, 광학 필터 또는 고체 촬상 장치용 커버글라스의 수직 방향에서 입사되어 상기 광학 필터를 투과한 광과, 상기 광학 필터 또는 고체 촬상 장치용 커버글라스의 수직 방향과 40°를 이루는 각도로 입사되어 상기 광학 필터 또는 고체 촬상 장치용 커버글라스를 투과한 광의 색차를 의미한다.
일반적으로 광학 필터를 투과한 광은 입사광과 실질적으로 평행한 성분과 산란된 성분으로 나눌 수 있다. 이 경우 입사광과 실질적으로 평행한 성분에 대한 투과도를 정투과도(Transmittance)라고 하며, 산란된 성분의 투과도를 확산투과도(Diffuse Transmittance)라 한다. 일반적으로 광의 투과도는 정투과도 및 확산투과도를 포함하는 개념이지만 본 발명에서 광의 투과도는 정투과도만을 의미하는 개념으로 사용한다.
구체적으로, 상기 ΔE*는 CIE(국제조명위원회, Commission Internationale de l'Eclairage)에서 규정한 색상 값인 CIE Lab 색 공간에서 사용되는 개념으로서, 이러한 개념을 본 발명에서 원용하였다. 상기 CIE Lab 색 공간은 인간의 시력으로 감지할 수 있는 색의 차이를 표현할 수 있는 색좌표 공간이다. CIE Lab 색 공간에서 서로 다른 두 색의 거리는 인간이 인지하는 색의 차이와 비례하도록 설계되었다.
CIE Lab 색 공간에서의 색차란, CIE Lab 색 공간에서의 두 색간의 거리를 의미한다. 즉, 거리가 멀면 색차가 크게 나는 것이고 거리가 가까울수록 색차가 거의 없다는 것을 의미한다. 이러한 색차를 ΔE*로 표시할 수 있다.
CIE 색 공간에서의 임의의 위치는 L*, a*, b* 3가지 좌표값으로 표현된다. L* 값은 밝기를 나타내는 것으로 L* = 0 이면 검은색(black)이며, L* = 100 이면 흰색(white)을 나타낸다. a*은 해당 색좌표를 갖는 색이 순수한 심홍색(pure magenta)과 순수한 초록색(pure green) 중 어느 쪽으로 치우쳤는지를 나타내며, b*는 해당 색좌표를 갖는 색이 순수한 노랑색(pure yellow)과 순수한 파랑색(pure blue) 중 어느 쪽으로 치우쳤는지를 나타낸다.
a*는 ? 내지 +a의 범위를 가진다. a*의 최대값(a* max)은 순수한 심홍색(pure magenta)을 나타내며, a*의 최소값(a* min)은 순수한 초록색(pure green)을 나타낸다. 예를 들어, a*이 음수이면 순수한 초록색에 치우친 색상이며, 양수이면 순수한 심홍색에 치우친 색상을 의미한다. a*=80와 a*=50를 비교하였을 때, a*=80이 a*=50보다 순수한 심홍색에 가깝게 위치함을 의미한다.
b*는 ? 내지 +b의 범위를 가진다. b*의 최대값(b* max)은 순수한 노랑색(pure yellow)을 나타내며, b*의 최소값(b* min)은 순수한 파랑색(pure blue)을 나타낸다. 예를 들어, b*이 음수이면 순수한 노랑색에 치우친 색상이며, 양수이면 순수한 파랑색에 치우친 색상을 의미한다. b*=50와 b*=20를 비교하였을 때, b*=80이 b*=50보다 순수한 노랑색에 가깝게 위치함을 의미한다.
통상적으로 ΔE*가 1.5이하면 인간의 시력으로 색차를 거의 인지하게 못하며, ΔE*가 0.5 이하면 인간의 시력으로 색차를 인지할 수 없게 된다. 그러나, ΔE*가 1.5를 초과할 경우, 인간의 시력으로 색차를 인지할 가능성이 있으며, ΔE*가 2.0 이상이면 인간의 시력으로 색차를 명확하게 인지할 수 있게 된다. 예를 들어, 공장에서 제품을 생산할 때, ΔE* 값을 0.8 내지 1.2로 유지할 경우, 제품간의 색 편차가 인간의 시력으로 인지할 수 없는 수준으로 관리가 되고 있다는 것을 의미할 수 있다.
색좌표가 (L1*, a1*, b1*)인 임의의 색 E1과 색좌표가 (L2*, a2*, b2*)인 다른 임의의 색 E2간의 색차인 ΔE*는, 하기 수학식 a를 통해 산출할 수 있다.
[수학식 a]
수학식 a에서 ΔL*는 임의의 두 색(E1, E2)의 색좌표 중 L1*과 L2*의 차를 의미한다. 또한, Δa*는 E1과 E2의 색좌표 중 a1*과 a2*의 차를 의미하고, Δb*는 E1과 E2의 색좌표 중 b1*과 b2*의 차를 의미한다.
이하, 본 발명에 의한 고체 촬상 장치용 커버글라스를 상게하게 설명하기로 한다.
하나의 실시예로서, 본 발명에 의한 고체 촬상 장치용 커버글라스는,
유리 기판;
상기 기판의 일면 또는 양면에 형성되고, 고분자 매트릭스 및 상기 고분자 매트릭스에 분산된 광흡수제를 포함하는 광흡수층;
광흡수층이 형성된 기판의 제1 면에 형성된 반사방지층; 및
기판을 기준으로 반사반지층이 형성된 면의 반대면인 제2 면에 형성된 근적외선 반사층을 포함할 수 있다.
본 발명에 의한 고체 촬상 장치용 커버글라스는 렌즈의 외층에 부착되어, 렌즈를 보호하며, 광학필터의 역할을 수행하게 된다. 상기 유리 기판은 렌즈의 깨짐 및 비산방지를 위한 것으로서 열 및 화학적으로 강화된 커버글라스 또는 PET재질, 사파이어 및 쿼츠 등이 사용될 수 있다.
본 발명에 따른 고체 촬상 장치용 커버글라스는, 렌즈와 이미지 센서 사이에 별도의 근적외선 방지층이 형성되지 않기 때문에, 고체 촬상 장치의 두께 내지 부피를 감소시키는 효과가 있다.
또한, 본 발명에 따른 고체 촬상 장치용 커버글라스는, 광학 필터를 별도로 장착하지 않을 경우, 카메라 모듈의 제조 공정을 단순하게 하며, 이에 따라 제조 단가를 낮추는 효과를 갖고, 단순한 제조 공정은 이물질 등이 카메라 모듈 또는 렌즈 유닛의 내부로 혼입될 가능성을 크게 줄여, 광학 성능의 저하 또는 불량품의 발생을 사전에 방지하는 효과가 있다.
다른 실시예로서, 상기 고체 촬상 장치용 커버글라스는 하기 수학식 1을 만족할 수 있다.
[수학식 1]
ΔE*≤ 1.5
상기 수학식 1에서,
ΔE*는 상기 고체 촬상 장치용 커버글라스의 수직 방향에서 입사되어 상기 고체 촬상 장치용 커버글라스를 투과한 광과, 상기 고체 촬상 장치용 커버글라스의 수직 방향과 40°를 이루는 각도로 입사되어 상기 고체 촬상 장치용 커버글라스를 투과한 광의 색차를 의미한다.
상기 고체 촬상 장치용 커버글라스의 광흡수층은 670 내지 720 nm의 파장 범위에서 흡수 극대를 갖는다. 이는, 광흡수층 내에 포함하는 광흡수제의 종류 및 함량을 조절하여 구현할 수 있다. 또한, 상기 고체 촬상 장치용 커버글라스의 근적외선 반사층은 광 투과도가 50%인 파장이 690 내지 720 nm의 파장 범위 내에 존재한다. 이는, 근적외선 반사층을 형성하는 유전체 다층막의 두께 및 적층 구조를 조절하여 구현할 수 있다. 상기 범위 내로 광흡수층의 흡수 극대 파장 및 근적외선 반사층의 광 투과도가 50%가 되는 파장을 제어함으로써, 고체 촬상 장치용 커버글라스로 입사되는 광의 입사각이 변화되더라도 그로 인해 화상이 변색되는 것을 방지하고, 육안으로 관찰하는 화상과 동일한 수준의 색재현이 가능할 수 있다.
이는, 상기 수학식 1을 통해 확인할 수 있다.
구체적으로, 상기 수학식 1에서, ΔE*는, 본 발명에 따른 고체 촬상 장치용 커버글라스에 수직방향으로 입사되어 상기 고체 촬상 장치용 커버글라스를 투과한 광(E1)의 색좌표(L1*, a1*, b1*)와 상기 고체 촬상 장치용 커버글라스의 수직 방향과 40°를 이루는 각도로 입사되어 상기 고체 촬상 장치용 커버글라스를 투과한 광(E2)의 색좌표(L2*, a2*, b2*)를 상기 수학식 a에 대입하여 산출한 색차를 의미한다.
이와 같이 색차(ΔE*)가 1.5 이하가 되도록 고체 촬상 장치용 커버글라스를 구현하게 되면 디스플레이 장치에서 표현되는 화상에 존재하는 색의 왜곡을 인간의 시력으로는 인지할 수 없게 된다.
예를 들어, 상기 ΔE*는, 0.001 내지 1.5, 0.001 내지 1.2, 0.001 내지 1.0 또는 0.001 내지 0.8일 수 있다.
다른 실시예로서, 상기 고체 촬상 장치용 커버글라스는 600 내지 750 nm 파장 범위에서, 수직 방향에서 입사된 광의 투과도가 30%가 되는 파장과 수직 방향에 대해서 40°의 각도로 입사된 광의 투과도가 30%가 되는 파장의 차이의 절대값(ΔT40%)이 15 nm 이하일 수 있다.
이는 600 내지 750 nm 파장 범위의 광에 대한 상기 고체 촬상 장치용 커버글라스의 투과도를 의미할 수 있다. 구체적으로, 고체 촬상 장치용 커버글라스를 기준으로 수직 방향으로 입사되는 광과, 수직 방향에 대해서 40°의 각도로 입사된 광의 투과도가 30%가 되는 파장 차이의 절대값이 15 nm 이하인 것을 의미할 수 있다. 예를 들어, 상기 파장 차이의 절대값은 1 nm 내지 15 nm, 1 nm 내지 8 nm 또는 1 nm 내지 5 nm일 수 있다. 이를 통해, 상기 고체 촬상 장치용 커버글라스는 고체 촬상 장치의 렌즈 등을 통해 입사되는 광의 입사각이 변화 되더라도 그로 인해 화상이 변색되는 것을 방지하고, 육안으로 관찰하는 화상과 동일한 수준의 색재현이 가능할 수 있다. 또한, 상기 파장 차이의 절대값을 상기 범위 내로 제어하여 색차를 최소화함으로써 인간의 시력으로 인지할 수 없는 수준으로 색차를 제어할 수 있다.
다른 실시예로서, 상기 고체 촬상 장치용 커버글라스는 하기 수학식 2를 만족할 수 있다.
[수학식 2]
%TNIR - peak ≤ 10%
상기 수학식 2에서,
%TNIR - peak는 700 내지 750 nm 파장 범위에서의 최대 투과도를 의미한다.
구체적으로, 상기 %TNIR - peak는 상기 근적외선 영역의 파장 범위에서의 최대 투과도를 의미하며, %TNIR - peak 는 10% 이하일 수 있다. 예를 들어, 상기 %TNIR - peak 는 0.1% 내지 8%, 1% 내지 5% 또는 1% 내지 2% 이하로 나타낼 수 있으며, 바람직하게는 0% 일 수 있다. %TNIR - peak 가 0%에 가까울수록 화상의 왜곡을 줄일 수 있다.
다른 실시예로서, 본 발명에 의한 광흡수층에 포함된 광흡수제로는 다양한 종류의 염료, 안료 혹은 금속착체계 화합물 중에서 1 종 이상을 사용할 수 있으며, 특별히 제한되는 것은 아니다. 예를 들어, 상기 광흡수제로는 시아닌계 화합물, 프탈로시아닌계 화합물, 나프탈로시아닌계 화합물, 스쿠아릴륨계 화합물 또는 디티올 금속착체계 화합물 등을 사용할 수 있다.
상기 광흡수제는 1 종을 단독으로 사용할 수 있고, 경우에 따라서는 2 종 이상을 혼합하여 사용할 수 있다.
광흡수제의 함량은, 예를 들어, 바인더 수지 100 중량부를 기준으로, 0.001 내지 10 중량부, 0.01 내지 10 중량부, 혹은 0.1 내지 5 중량부 범위일 수 있다. 광흡수제의 함량을 상기 범위로 조절함으로써 입사각에 따른 투과 스펙트럼의 편이(shift) 현상을 보정하고, 우수한 근적외선 차단 효과를 구현할 수 있다. 또한, 상기 광흡수제를 2 종 이상을 혼합하여 사용할 경우, 광흡수층의 흡수 파장 범위 (반치폭)를 증가시켜, 근적외선 영역의 파장 범위에서 발생할 수 있는 광의 투과를 최소화할 수 있다.
본 발명에 따른 고체 촬상 장치용 커버글라스는 2 종 이상의 광흡수제를 포함하는 광흡수층 및 근적외선 반사층을 포함할 수 있다.
다른 실시예로서, 상기 고체 촬상 장치용 커버글라스는, 제1 및 제2 광흡수제를 포함하며,
하기 수학식 3을 만족할 수 있다.
[수학식 3]
%Tpeak - %Tvalley ≤ 1%
상기 수학식 3에서,
상기 %Tpaek는 제1 광흡수제의 흡수 극대 파장과 제2 광흡수제의 흡수 극대 파장 사이의 파장 범위에서 나타나는 최대 투과도를 의미하고,
상기 %Tvalley는 제1 광흡수제의 흡수 극대 파장에서의 투과도와 제2 광흡수제의 흡수 극대 파장 범위에서의 투과도 중 높은 값을 의미한다.
흡수 극대가 상이한 2 종 이상의 광흡수제를 혼용하여 광흡수층을 형성할 때, 상기 광흡수제의 상이한 흡수 극대로 인하여 각각의 광흡수제에 의한 흡수 극대 사이에 흡수능이 떨어지는 파장 영역이 일부 발생할 수 있다. 즉, 2 종의 광흡수제를 혼용하여 사용할 경우, 광의 흡수 파장 영역을 넓힐 수 있으나, 상기 흡수 극대 파장 사이의 일부 파장 영역에서 광이 투과되는 문제가 발생할 수 있다.
그러나, 본 발명에 따른 고체 촬상 장치용 커버글라스는 상기 %Tpeak - %Tvalley 값을 1% 이하로 제어함으로써, 근적외선 영역의 파장 범위 내에서 광 투과도를 가파른 기울기로 감소시키면서, 근적외선 영역의 파장 범위 내에서 발생할 수 있는 광의 투과를 최소화하여 화상의 왜곡을 줄일 수 있다.
예를 들어, 상기 %Tpeak - %Tvalley 는, 0.001 내지 1%, 0.001 내지 0.8%, 0.001 내지 0.5% 또는 0.001 내지 0.2%, 일 수 있다.
다른 실시예로서, 상기 고체 촬상 장치용 커버글라스는 제1 및 제2 광흡수제를 포함하며,
하기 수학식 4를 만족할 수 있다.
[수학식 4]
|P1-P2| ≤ 60 nm
상기 수학식 4에서,
상기 P1은 제1 광흡수제의 흡수 극대 파장을 의미하고,
상기 P2는 제2 광흡수제의 흡수 극대 파장을 의미한다.
구체적으로, 수학식 4를 보면, 제1 광흡수제가 흡수 극대를 갖는 파장과 제2 광흡수제가 흡수 극대를 갖는 파장 차이의 절대값은 60 nm 이하일 수 있다. 예를 들어, 상기 각 흡수 극대 파장 차이의 절대값은 1 nm 내지 60 nm, 5 nm 내지 60 nm, 5 nm 내지 50 nm 또는 10 nm 내지 35 nm 범위일 수 있다. 상기 범위 내의 차이값을 갖는 2 종의 광흡수제를 사용할 경우, 근적외선 영역 파장 범위 내에서 광 흡수 파장 영역을 넓게 형성하여, 고체 촬상 장치용 커버글라스의 높은 근적외선 차단 효율을 통해 화상의 왜곡을 줄일 수 있다.
상기 광흡수층에 포함된 제1 광흡수제 및 제2 광흡수제의 중량비는 1:0.2 내지 1:1 일 수 있다. 예를 들어, 상기 중량비는 1:0.2 내지 1:0.4, 1:0.3 내지 1:0.5 또는 1:0.3 내지 1:0.4 일 수 있다. 상기 범위 내의 중량비로 제1 광흡수제 및 제2 광흡수제를 포함함으로써, 상기 수학식 1 내지 4 중 하나 이상의 조건을 보다 효과적으로 만족할 수 있다.
상기 광흡수제로는 다양한 종류의 염료, 안료 혹은 금속 착체계 화합물 중에서 2 종 이상을 사용할 수 있으며, 특별히 제한되는 것은 아니다. 예를 들어, 상기 광흡수제로는 시아닌계 화합물, 프탈로시아닌계 화합물, 나프탈로시아닌계 화합물, 스쿠아릴륨계 화합물 또는 디티올 금속 착체계 화합물 등을 사용할 수 있다.
상기 광흡수층은 단일층으로 형성되면서 2 종 이상의 광흡수제를 포함할 수 있다. 이때 제1 광흡수제와 제2 광흡수제를 상기 설명한 중량비가 만족되도록 혼합하여 사용할 수 있다. 한편, 상기 광흡수층은 2개 이상의 층으로 형성되며, 각 층은 1종의 광흡수제를 포함할 수 있다. 예를 들어, 광흡수층을 2개 층으로 형성하면서, 제1 광흡수층은 제1 광흡수제를 포함하고 제2 광흡수층은 제2 광흡수제를 포함하도록 구성할 수도 있다.
상기 광흡수제는 동일 계열 내에서 선택되는 2 종의 광흡수제를 포함할 수 있다. 예를 들어, 시아닌계 화합물, 프탈로시아닌계 화합물, 나프탈로시아닌계 화합물, 스쿠아릴륨계 화합물 또는 디티올 금속 착체계 화합물 중 하나의 계열에서 선택된 2 종의 광흡수제를 사용할 수 있다. 동일 계열에 해당하는 2 종의 광흡수제를 사용할 때, 상기 2 종의 광흡수제는 유사 파장에서 흡수 극대를 나타내어, 원하는 범위의 파장 폭을 갖는 흡수 피크를 구현할 수 있다. 또한, 동일 계열에 해당하는 2 종의 광흡수제를 사용함으로써, 상기 수학식 1 내지 4 중 하나 이상의 조건을 보다 효과적으로 만족할 수 있다. 예를 들어, 광흡수제로서, 유사 흡수 극대를 갖는 시아닌계 화합물로부터 선택되는 2 종의 광흡수제를 사용할 수 있다.
고체 촬상 장치용 커버글라스에 포함되는 광흡수제의 함량은, 예를 들어, 바인더 수지 100 중량부를 기준으로, 0.001 내지 10 중량부, 0.01 내지 10 중량부, 혹은 0.5 내지 5 중량부 범위일 수 있다. 광흡수제의 함량을 상기 범위로 조절함으로써 입사각에 따른 근적외선 반사층의 투과 스펙트럼의 편이(shift) 현상을 보정하고, 우수한 근적외선 차단 효과를 구현할 수 있다. 또한, 상기 광흡수제를 2 종 이상을 혼합하여 사용함으로써 광흡수층의 흡수 파장 범위(반치폭)를 증가시켜, 근적외선 영역의 파장 범위 내에서 광의 투과를 최소화할 수 있다.
다른 실시예로서, 상기 고체 촬상 장치용 커버글라스는 하기 수학식 5를 만족할 수 있다.
[수학식 5]
W2-W1 ≤ 20 nm
상기 수학식 5에서,
상기 W1은 600 내지 800 nm 파장 범위에서, 상기 고체 촬상 장치용 커버글라스에 수직 방향으로 입사되는 광에 대한 상기 근적외선 반사층의 투과도가 50%가 되는 파장을 의미하고,
상기 W2는 상기 광흡수층의 흡수 극대 파장을 의미한다.
구체적으로, 수학식 5를 보면, 600 내지 800 nm 파장 범위에서, 상기 고체 촬상 장치용 커버글라스에 수직 방향으로 입사되는 광에 대한 근적외선 반사층의 투과도가 50%가 되는 파장(W1)과 광흡수층이 흡수 극대를 갖는 파장 즉, 광흡수층이 가장 낮은 투과도를 보이는 파장(W2)의 차이가 20 nm 이하일 수 있다. 예를 들어, 상기 W2-W1은 0 내지 20 nm, 5 내지 15 nm 또는 10 내지 13 nm일 수 있다. 상기 범위 내의 W2-W1 값을 통해, 입사각의 변화에 따른 투과 스펙트럼의 편이(shift) 현상을 방지할 수 있으며, 우수한 근적외선 차단 효과를 기대할 수 있다. 또한, 근적외선 반사층이 광흡수층으로 입사되는 광의 일부를 반사시킴으로써, 광흡수층이 과도한 양의 광을 흡수함으로 인해 발생될 수 있는 고체 촬상 장치용 커버글라스의 효율성 저하 또는 열화 등의 문제점을 방지할 수 있다.
다른 실시예로서, 상기 고체 촬상 장치용 커버글라스는 하기 수학식 6을 만족할 수 있다.
[수학식 6]
W1-(W2-W3/2) ≤ 65 nm
수학식 6에서,
상기 W1은 600 내지 800 nm 파장 범위에서, 상기 광학 필터에 수직 방향으로 입사되는 광에 대한 상기 근적외선 반사층의 투과도가 50%가 되는 파장을 의미하고,
상기 W2는 상기 광흡수층의 흡수 극대 파장을 의미하고,
상기 W3는 600 nm 이상의 파장 범위에서 상기 광흡수층의 투과도가 50%가 되는 두 파장 차이의 절대값을 의미한다.
구체적으로, 수학식 6은, 600 내지 800 nm 파장 범위에서, 상기 고체 촬상 장치용 커버글라스에 수직 방향으로 입사되는 광에 대한 근적외선 반사층의 광 투과도가 50%가 되는 파장(W1), 광흡수층이 흡수 극대를 갖는 파장(W2) 및 광흡수층의 투과도가 50%가 되는 파장에서의 반치폭(Full Width at Half Maximum: FWHM)(W3)의 관계를 나타낼 수 있다. 예를 들어, 상기 W1-(W2-W3/2) 값은, 1 내지 65 nm, 5 내지 40 또는 10 내지 30 nm 범위를 가질 수 있다. 구체적으로, W1-(W2-W3/2) 값을 상기 범위 내로 조절함으로써, 근적외선 영역의 광의 투과도를 최소화할 수 있다. 이때, 상기 W1-(W2-W3/2) 값이 0 nm 미만일 경우에는 입사각의 변화에 따른 고체 촬상 장치용 커버글라스의 투과 스펙트럼의 편이 현상을 방지할 수 없고, 근적외선 영역의 광의 투과도가 증가할 수 있어, 디스플레이 장치에서 표현되는 화상에 존재하는 색의 왜곡을 사용자가 인지할 수 있게 되는 문제가 발생된다.
다른 실시예로서, 본 발명에 의한 고분자 매트릭스는, 가시광선 영역에 해당하는 광의 광투과도에 영향을 미치지 않는 것이라면 특별히 제한되는 것은 아니다. 구체적으로는, 상기 고분자 매트릭스로는 환상 올레핀계 수지, 폴리아릴레이트 수지, 폴리술폰 수지, 폴리에테르술폰 수지, 폴리파라페닐렌 수지, 폴리아릴렌에테르포스핀옥사이드 수지, 폴리이미드 수지, 폴리에테르이미드 수지, 폴리아미드이미드 수지, 아크릴 수지, 폴리카보네이트 수지, 폴리에틸렌 나프탈레이트로 폴리에틸렌프탈레이트 수지, 다양한 유-무기 하이브리드 계열의 수지 등을 단독으로 사용하거나, 2종 이상을 병용하여 사용할 수 있다.
다른 실시예로서, 본 발명에 의한 반사 방지층은, 표면반사를 줄여서 입사되는 광의 밀도를 향상시켜 광투과도를 높이고 반사광으로 인한 간섭이나 산란을 제거하는 역할을 수행한다. 이때, 상기 반사 방지층으로는, 표면반사를 줄이고, 반사광으로 인한 간섭이나 산란을 제거할 수 있으며 상업적으로 입수 가능한 소재라면 특별히 제한되지 않고 사용될 수 있다. 구체적으로 산화티탄, 산화지르코늄, 산화규소, 불화마그네슘, 이산화티타늄 및 이산화규소로 이루어진 군으로부터 선택되는 1종 이상일 수 있으며, 예를 들어, 상기 반사 방지층은, 이산화티타늄(TiO2)을 포함하는 박막과 이산화규소(SiO2)를 포함하는 박막이 교차 적층되며, 20 내지 30층의 다층 구조를 가질 수 있다.
다른 실시예로서, 본 발명에 의한 근적외선 반사층은, 유전체 다층막으로 형성할 수 있다. 근적외선 반사층은 근적외선 영역의 광을 반사하는 역할을 한다. 예를 들어, 근적외선 반사층은, 고굴절률층과 저굴절률층을 교대로 적층한 유전체 다층막 등을 사용할 수 있다. 상기 근적외선 반사층은, 필요에 따라, 알루미늄 증착막; 귀금속 박막; 혹은 산화 인듐 및 산화 주석 중 1종 이상의 미립자가 분산된 수지막을 더 포함할 수 있다.
하나의 예로서, 상기 근적외선 반사층은 제1 굴절률을 가지는 유전체층과 제2 굴절률을 가지는 유전체층이 교대 적층된 구조일 수 있다. 제1 굴절률을 가지는 유전체층과 제2 굴절률을 가지는 유전체층의 굴절률 차이는 0.2 이상, 0.3 이상 또는 0.2 내지 1.0 범위일 수 있다.
예를 들어, 제1 굴절률을 가지는 유전체층은 상대적으로 높은 굴절률을 가지는 층일 수 있고, 제2 굴절률을 가지는 유전체층은 상대적으로 낮은 굴절률을 가지는 층일 수 있다. 이 경우, 제1 굴절률을 가지는 유전체층의 굴절률은 1.6 내지 2.4 범위이고, 제2 굴절률을 가지는 유전체층의 굴절률은 1.3 내지 1.6 범위일 수 있다.
제1 굴절률을 가지는 유전체층은 산화티탄, 알루미나, 산화지르코늄, 오산화 탄탈럼, 오산화니오브, 산화란탄, 산화이트륨, 산화아연, 황화아연 및 산화인듐으로 이루어진 군으로부터 선택되는 1 종 이상으로 형성될 수 있다. 상기 산화인듐은, 필요에 따라 산화 티탄, 산화주석, 산화세륨 등을 소량 더 포함할 수 있다.
제2 굴절률을 가지는 유전체층은 실리카, 불화란탄, 불화마그네슘 및 불화알루미나나트륨으로 이루어진 군으로부터 선택되는 1 종 이상으로 형성될 수 있다.
근적외선 반사층을 형성하는 방법은 특별히 제한되지 않으며, 예를 들어, CVD법, 스퍼터링법, 진공 증착법 등이 적용될 수 있다.
상기 근적외선 반사층은 제1 굴절률을 가지는 유전체층과 제2 굴절률을 가지는 유전체층이 5 내지 61층, 11 내지 51층, 혹은 21 내지 41층으로 교대 적층된 구조일 수 있다. 근적외선 반사층은 원하는 투과도 내지 굴절률의 범위 및 차단하고자 하는 파장의 영역 등을 고려하여 설계 가능하다.
상기 근적외선 반사층은 유전체 다층막에 분산된 광흡수제를 더 포함할 수 있다. 예를 들어, 상기 유전체 다층막에 분산된 광흡수제는, 500 nm 이상의 근적외선 내지 적외선 파장 영역을 흡수할 수 있는 광흡수제라면 특별히 한정하지 않는다. 상기 유전체 다층막에 광흡수제를 분산시킴으로써, 유전체 다층막의 교대 적층 횟수를 줄일 수 있어, 근적외선 반사층의 두께를 줄일 수 있다. 이를 통해, 촬상 장치에 적용하였을 때, 촬상 장치의 소형화를 구현할 수 있다.
일 실시예에서, 유전체 다층막에 광흡수제를 더 포함할 경우, 유전체 다층막의 두께를 더 얇게 제조할 수 있으며, 이를 통해, 장치를 소형화할 수 있다.
본 발명은, 본 발명에 따른 커버글라스를 포함하는 고체 촬상 장치를 포함할 수 있다. 본 발명에 따른 고체 촬상 장치용 커버글라스는 PDP 등의 디스플레이 장치에도 적용 가능하다. 그러나, 최근 고화소가 요구되는 촬상 장치, 예를 들어 800만 화소급 이상의 카메라 등에 보다 바람직하게 적용 가능하다. 예를 들어, 본 발명에 따른 고체 촬상 장치용 커버글라스는 모바일 장치용 카메라에 효과적으로 적용 가능하다.
또한, 본 발명에 따른 고체 촬상 장치는 경우에 따라서, 내부에 광학 필터를 더 포함할 수 있다.
본 발명에 따른 고체 촬상 장치용 커버글라스는, 가시광 영역의 투과도를 저해하지 않으면서, 광의 입사각 변화에 따른 커버글라스의 투과 스펙트럼의 편이(shift) 현상을 방지할 수 있을 뿐만 아니라, 상기 고체 촬상 장치용 커버글라스는, 렌즈를 보호하는 동시에 광학 필터 역할을 하게 된다. 별도로 광학 필터를 장착하지 않을 경우 카메라 모듈의 제조 공정을 간편하게 하는 효과가 있으며, 이에 따라 제조 단가를 낮출 수 있으며, 이러한 단순한 제조 공정은 이물질 등이 카메라 모듈 또는 렌즈 유닛의 내부로 혼입될 가능성을 크게 줄이며, 이에 따라 카메라 모듈에서 발생할 수 있는 이물질에 의한 광학 성능의 저하 또는 불량품의 발생을 사전에 방지하는 효과를 나타낸다.
이하, 본 발명을 실시예 및 실험예에 의해 보다 상세히 설명한다.
단, 하기 실시예 및 실험예는 본 발명을 예시하는 것일 뿐, 본 발명의 내용이 하기 실시예 및 실험예에 한정되는 것은 아니다.
실시예
1
먼저, 상업적으로 입수 가능하며 흡수 극대가 690 nm 인 광흡수제를 수지 및 톨루엔(Sigma aldrich사 제품)에 혼합하고, 24시간 이상 교반하여 근적외선 흡수 용액을 제조하였다. 제조된 근적외선 흡수 용액을 유리 기판의 일면에 스핀 코팅하여 10 μm 두께의 광흡수층을 형성하였다.
그 후, 전자빔 증착기(E-beam evaporator)로 이산화티타늄(TiO2) 및 이산화규소(SiO2)를 교대로 광흡수층 상에 증착하여 4.210 ㎛ 두께를 갖도록 근적외선 반사층을 형성하였다.
그런 다음, 광흡수층이 형성된 유리 기판의 타면에 근적외선 반사층을 형성한 방법과 동일하게 전자빔 증착기(E-beam evaporator)로 이산화티타늄(TiO2) 및 이산화규소(SiO2)가 교대로 증착된 10층 구조의 반사 방지층을 2 μm의 두께가 되도록 형성하여 도 1의 구조를 갖는 고체 촬상 장치용 커버글라스를 제조하였다.
도 1을 참조하면, 유리 기판(101)을 기준으로 위쪽 면에는 광흡수층(102) 및 근적외선 반사층(103)이 형성되어 있고, 아래쪽 면에는 반사방지층(104)이 형성된다.
본 실시예 1에서 제조된 고체 촬상 장치용 커버글라스에 대하여 광의 입사각을 (a) 0° 및 (b) 40°로 달리하여 광 투과도 실험을 수행하였다. 그 결과는 도 2에 나타내었다.
실시예
2
먼저, 상업적으로 입수 가능하며 흡수 극대가 690 nm 제1 광흡수제와 흡수 극대가 730 nm인 제2 광흡수제를 1:0.1 중량비로 혼합한 광흡수제 및 바인더 수지 원료인 수지 그리고 톨루엔(Sigma Aldrich사 제품)을 혼합하고, 1 일 이상 교반하여 근적외선 흡수 용액을 제조하였다. 제조된 근적외선 흡수 용액을 유리 기판의 일면에 스핀코팅하여 10 μm 두께의 광흡수층을 형성하였다.
그 후, 전자빔 증착기(E-beam evaporator)로 이산화티타늄(TiO2) 및 이산화규소(SiO2)를 교대로 광흡수층 상에 증착하여 4.210 ㎛ 두께를 갖도록 근적외선 반사층을 형성하였다.
그런 다음, 광흡수층이 형성된 유리 기판의 타면에 근적외선 반사층을 형성한 방법과 동일하게 전자빔 증착기(E-beam evaporator)로 이산화티타늄(TiO2) 및 이산화규소(SiO2)가 교대로 증착된 25층 구조의 반사 방지층을 3 μm의 두께가 되도록 형성하였다.
본 실시예 2에서 제조된 고체 촬상 장치용 커버글라스에 대하여 광의 입사각을 (a) 0° 및 (b) 40°로 달리하여 광 투과도 실험을 수행하였다. 그 결과는 도 3에 나타내었다.
비교예
1
광흡수층 및 반사반지층을 형성하지 않은 것을 제외하고는 상기 실시예 1과 동일한 방법으로 고체 촬상 장치용 커버글라스를 제조하였다.
비교예
2
광흡수층을 형성하지 않은 것을 제외하고는 상기 실시예 1과 동일한 방법으로 고체 촬상 장치용 커버글라스를 제조하였다.
실험예
1
상기 실시예 1및 2, 비교예 1및 2에서 제조된 고체 촬상 소자용 커버글라스에 대하여 ΔE*를 측정하였다.
구체적으로는, 제조된 고체 촬상 소자용 커버글라스에 대해 수직(입사각 0°)으로 백색광을 조사한 경우와, 수직 방향과 40˚를 이루는 각도에서 조사한 경우에 대해서, 고체 촬상 소자용 커버글라스를 투과한 각각의 광의 색좌표 L*, a* 및 b* 값을 Perkin Elmer사의 분광 광도계 Lambda 35를 사용하여 측정한 다음 ΔE*를 산출하였다.
이때, 근적외선 반사층의 투과도가 50%가 되는 파장(W1)을 690 nm 로 조절하였다. 그 결과는 하기 표 1에 나타내었다.
| No. | ΔE* |
| 실시예 1 | 0.6 |
| 실시예 2 | 0.6 |
| 비교예 1 | 1.9 |
| 비교예 2 | 2.5 |
상기 표 1을 통해, 본 발명에 따른 광학 필터는 근적외선 반사층의 투과도가 50%가 되는 파장(W1)이 690 nm 에서, 고체 촬상 소자용 커버글라스에 수직 방향으로 입사되어 상기 고체 촬상 소자용 커버글라스를 투과한 광과, 고체 촬상 소자용 커버글라스에 입사각 40°로 입사되어 상기 고체 촬상 소자용 커버글라스를 투과한 광의 색차(ΔE*)가 1.5 이하임을 알 수 있다.
실험예
2
상기 실시예 1 및 2 와 비교예 1 및 2에서 제조된 고체 촬상 장치용 커버글라스에 대하여, 600 내지 750 nm 파장 영역에서, 고체 촬상 장치용 커버글라스에 수직 방향으로 입사되는 광에 대한 투과도가 30%가 되는 파장과, 고체 촬상 장치용 커버글라스에 수직 방향과 40°의 각도를 이루는 방향에서 입사되는 광에 대한 투과도가 30%가 되는 파장의 차이의 절대값(ΔT30%)을 측정하였다.
그 결과는 하기 표 2를 통해 확인할 수 있다.
| No. | ?30 % (nm) |
| 실시예 1 | 6.6 |
| 실시예 2 | 3.0 |
| 비교예 1 | 18.7 |
| 비교예 2 | 17.2 |
상기 표 2를 통해, 본 발명에 따른 고체 촬상 장치용 커버글라스는 600 내지 750 nm 파장 범위에서, 고체 촬상 장치용 커버글라스에 수직 방향으로 입사되는 광에 대한 투과도가 30%가 되는 파장과, 고체 촬상 장치용 커버글라스에 수직 방향과 40°의 각도를 이루는 방향에서 입사되는 광에 대한 투과도가 30%가 되는 파장의 차이의 절대값이 15 nm 이하임을 알 수 있다.
실험예
3
상기 실시예 1 및 2 와 비교예 1 및 2의 700 내지 750 nm의 파장 범위에서의 %TNIR - peak를 측정하였다. 그 결과는 하기 표 3을 통해 나타내었다.
| No. | %TNIR - peak (%) |
| 실시예 1 | 3.8 |
| 실시예 2 | 2 |
| 비교예 1 | 5.5 |
| 비교예 2 | 6.0 |
상기 표 3을 통해, 본 발명에 따른 고체 촬상 장치용 커버글라스는 700 내지 750 nm의 파장 범위에서 발생하는 %TNIR - peak를 5% 이하로 제어할 수 있다는 것을 확인할 수 있었다.
실험예
4
상기 실시예 2 에서 제조된 고체 촬상 장치용 커버글라스에 대하여 %Tpeak 및 %Tvalley 값을 측정하여 상기 수학식 3에 기재된 %Tpeak - %Tvalley 값을 산출하였다. 구체적으로는, 제조된 광학 필터에 대해 수직(입사각 0°)으로 백색광을 조사한 경우와, 수직 방향과 40˚를 이루는 각도에서 조사한 경우에 대해서, 측정하였다. 그 결과는 하기 표 4에 나타내었다.
| 실시예 1 | ||
| %Tpeak - %Tvalley | 0° | 0.011 |
| 40° | 0.008 | |
상기 표 4를 통해, 본 발명에 따른 광학 필터는 광학 필터에 대해 수직(입사각 0°)으로 백색광을 조사한 경우와, 수직 방향과 30˚를 이루는 각도에서 조사한 경우 모두에 대해서, %Tpeak - %Tvalley 값이 1% 이하로 제어되는 것을 확인할 수 있었다.
101: 유리 기판
102: 광흡수층
103: 근적외선 반사층
104: 반사 방지층
102: 광흡수층
103: 근적외선 반사층
104: 반사 방지층
Claims (11)
- 유리 기판;
상기 기판의 일면 또는 양면에 형성되고, 고분자 매트릭스 및 상기 고분자 매트릭스에 분산된 광흡수제를 포함하는 광흡수층;
광흡수층이 형성된 기판의 제1 면에 형성된 반사방지층; 및
기판을 기준으로 반사반지층이 형성된 면의 반대면인 제2 면에 형성된 근적외선 반사층을 포함하는 고체 촬상 장치용 커버글라스.
- 제 1 항에 있어서,
하기 수학식 1을 만족하는 고체 촬상 장치용 커버글라스:
[수학식 1]
ΔE*≤ 1.5
상기 수학식 1에서,
ΔE*는 상기 고체 촬상 장치용 커버글라스의 수직 방향에서 입사되어 상기 고체 촬상 장치용 커버글라스를 투과한 광과, 상기 고체 촬상 장치용 커버글라스의 수직 방향과 40°를 이루는 각도로 입사되어 상기 고체 촬상 장치용 커버글라스를 투과한 광의 색차를 의미한다.
- 제 1 항에 있어서,
600 내지 750 nm 파장 범위에서, 수직 방향에서 입사된 광의 투과도가 30%가 되는 파장과 수직 방향에 대해서 40°의 각도로 입사된 광의 투과도가 30%가 되는 파장의 차이의 절대값(ΔT40 %)이 15 nm 이하인 것을 특징으로 하는 고체 촬상 장치용 커버글라스.
- 제 1 항에 있어서,
하기 수학식 2를 만족하는 고체 촬상 장치용 커버글라스:
[수학식 2]
%TNIR - peak ≤ 10%
상기 수학식 2에서,
%TNIR - peak는 700 내지 750 nm 파장 범위에서의 최대 투과도를 의미한다.
- 제 1 항에 있어서,
광흡수층에 포함된 광흡수제는,
시아닌계 화합물, 프탈로시아닌계 화합물, 나프탈로시아닌계 화합물 및 디티올 금속 착화합물로 이루어진 군으로부터 선택되는 1종 이상인 고체 촬상 장치용 커버글라스.
- 제 5 항에 있어서,
광흡수층에 포함된 광흡수제는, 제1 및 제2 광흡수제를 포함하며,
하기 수학식 3을 만족하는 고체 촬상 장치용 커버글라스:
[수학식 3]
%Tpeak - %Tvalley ≤ 1%
상기 수학식 3에서,
상기 %Tpaek는 제1 광흡수제의 흡수 극대 파장과 제2 광흡수제의 흡수 극대 파장 사이의 파장 범위에서 나타나는 최대 투과도를 의미하고,
상기 %Tvalley는 제1 광흡수제의 흡수 극대 파장에서의 투과도와 제2 광흡수제의 흡수 극대 파장 범위에서의 투과도 중 높은 값을 의미한다.
- 제 5 항에 있어서,
광흡수층에 포함된 광흡수제는, 제1 및 제2 광흡수제를 포함하며,
하기 수학식 4를 만족하는 고체 촬상 장치용 커버글라스:
[수학식 4]
|P1-P2| ≤ 60 nm
상기 수학식 4에서,
상기 P1은 제1 광흡수제의 흡수 극대 파장을 의미하고,
상기 P2는 제2 광흡수제의 흡수 극대 파장을 의미한다.
- 제 1 항에 있어서,
고분자 매트릭스는,
환상 올레핀계 수지, 폴리아릴레이트 수지, 폴리술폰 수지, 폴리에테르 술폰 수지, 폴리파라페닐렌 수지, 폴리아릴렌에테르포스핀옥사이드 수지, 폴리이미드 수지, 폴리에테르이미드 수지, 폴리아미드이미드 수지, 아크릴 수지, 폴리카보네이트 수지, 스쿠아릴륨계 수지, 폴리에틸렌 나프탈레이트로 이루어진 군으로부터 선택되는 1종 이상인 고체 촬상 장치용 커버글라스.
- 제 1 항에 있어서,
반사 방지층은,
산화티탄, 산화지르코늄, 산화규소, 불화마그네슘, 이산화티타늄 및 이산화규소로 이루어진 군으로부터 선택되는 1종 이상인 고체 촬상 장치용 커버글라스.
- 제 1 항에 있어서,
근적외선 반사층은, 유전체 다층막으로 형성된 고체 촬상 장치용 커버글라스.
- 제 1 항에 있어서,
근적외선 반사층은, 유전체 다층막으로 형성된 고체 촬상 장치용 커버글라스.
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| Date | Code | Title | Description |
|---|---|---|---|
| WITN | Withdrawal due to no request for examination |