KR20160079597A - Light reflector for edge light type backlight, backlight for liquid crystal display, and method of producing light reflector for edge light type backlight - Google Patents

Light reflector for edge light type backlight, backlight for liquid crystal display, and method of producing light reflector for edge light type backlight Download PDF

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KR20160079597A
KR20160079597A KR1020147025518A KR20147025518A KR20160079597A KR 20160079597 A KR20160079597 A KR 20160079597A KR 1020147025518 A KR1020147025518 A KR 1020147025518A KR 20147025518 A KR20147025518 A KR 20147025518A KR 20160079597 A KR20160079597 A KR 20160079597A
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유키히로 이쿠라
히로유키 야마자키
고지로 이나모리
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후루카와 덴키 고교 가부시키가이샤
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Abstract

하기(i)~(ⅳ)를 만족하는 엣지 라이트형 백 라이트용 광 반사판：
(i) 23℃, 상대습도 60%의 조건에서, 0.1 N에서의 굽힘 휨량이 5.0㎜ 이하인 것,
(ⅱ) 적어도 한쪽 표면에 요철이 형성되어 있고, 상기 요철 표면의 최대 높이 거칠기(Rz)가 5㎛ 이상 80㎛ 이하인 것,
(ⅲ) 상기 요철 표면의 정지마찰계수가 0.1 이상 0.4 이하인 것 및
(ⅳ) 상기 요철 표면에서의 표면 고유 저항치가 1.0×1015Ω／□ 미만인 것.A light reflector for an edge light type backlight which satisfies (i) to (iv) below:
(i) the bending warpage at 0.1 N is 5.0 mm or less under the conditions of 23 deg. C and a relative humidity of 60%
(Ii) an irregularity is formed on at least one surface, a maximum height roughness (Rz) of the irregular surface is not less than 5 탆 and not more than 80 탆,
(Iii) the coefficient of static friction of the surface of the irregularities is not less than 0.1 and not more than 0.4; and
(Iv) the surface resistivity at the surface of the irregularities is less than 1.0 × 10 15 Ω / □.

Description

엣지 라이트형 백 라이트용 광 반사판, 액정 디스플레이용 백 라이트 및 엣지 라이트형 백 라이트용 광 반사판의 제조방법{LIGHT REFLECTOR FOR EDGE LIGHT TYPE BACKLIGHT, BACKLIGHT FOR LIQUID CRYSTAL DISPLAY, AND METHOD OF PRODUCING LIGHT REFLECTOR FOR EDGE LIGHT TYPE BACKLIGHT}BACKGROUND OF THE INVENTION 1. Field of the Invention The present invention relates to a light reflector for an edge light type backlight, a backlight for a liquid crystal display, and a light reflector for an edge light type backlight. BACKGROUND OF THE INVENTION 1. Field of the Invention TYPE BACKLIGHT}

본 발명은, 엣지 라이트형 백 라이트용으로 적합한 광 반사판, 보다 구체적으로는 엣지 라이트 방식의 액정 디스플레이에 이용되는 백 라이트용으로 적합한 광 반사판에 관한 것이다.BACKGROUND OF THE INVENTION 1. Field of the Invention The present invention relates to a light reflector suitable for an edge light type backlight, more specifically a light reflector suitable for a back light used in an edge light type liquid crystal display.

또한, 본 발명은, 상기 광 반사판을 구비하는 액정 디스플레이용 백 라이트에 관한 것이다.The present invention also relates to a backlight for a liquid crystal display having the above-described light reflection plate.

또한, 본 발명은, 상기 광 반사판의 제조방법에 관한 것이다.Further, the present invention relates to a method of manufacturing the above-described light reflection plate.

액정 디스플레이는, 액정층의 배면측으로부터 빛을 비추기 위한 백 라이트를 구비하고 있다. 근래, 이 백 라이트로서, 광원의 수를 줄일 수 있어, 에너지 절약화에 유리한 엣지 라이트형 백 라이트의 채용이 증가하고 있다. 엣지 라이트형 백 라이트에서는, 도광판(導光板)에 인접하여 광 반사판이 설치된다. 이 광 반사판은, 광원으로부터 도광판 내로 유도된 빛 중 광 반사판측으로 샌 빛을 액정층측으로 되돌리고, 액정 디스플레이의 휘도를 높이는 역할을 담당한다. 액정 디스플레이에는 표시면(화면) 전체에 걸쳐 균일한 휘도가 요구되기 때문에, 엣지 라이트형 백 라이트에는 이것을 실현하는 성능이 요구된다.The liquid crystal display has a backlight for illuminating light from the rear side of the liquid crystal layer. In recent years, as the backlight, the number of light sources can be reduced, and the adoption of an edge light type backlight which is advantageous for energy saving is increasing. In the edge light type backlight, a light reflecting plate is provided adjacent to the light guide plate (light guide plate). This light reflector plays the role of returning the light from the light source to the side of the light reflecting plate among the light guided into the light guide plate toward the liquid crystal layer side and increasing the brightness of the liquid crystal display. Since the liquid crystal display requires a uniform luminance over the entire display surface (screen), the edge light type backlight needs to have a capability of realizing this.

엣지 라이트형 백 라이트에 있어서, 광 반사판과 도광판의 사이에는, 통상, 요철 형상에 의한 빈틈이 형성된다. 이것은, 광 반사판과 도광판을 밀착시키면, 부분적으로 면 형상의 명암의 차이가 생기고, 표시면의 휘도에 불균일이 생길 우려가 있기 때문이다. 예를 들면, 도광판이 열 등으로 부분적으로 변형되고, 변형 부위가 다른 부위보다 광 반사판에 강하게 눌려지면, 상기 변형 부위와 그 이외 부위와의 휘도가 균일하게 되지 않아, 화이트 스폿 등의 휘도 불균일이 생기는 원인이 된다.In the edge light type backlight, a gap is generally formed between the light reflection plate and the light guide plate by a concavo-convex shape. This is because, when the light reflecting plate and the light guide plate are brought into close contact with each other, there is a possibility that a difference in light and shade of the surface shape occurs partially, and the brightness of the display surface may be uneven. For example, when the light guide plate is partially deformed by heat or the like and the deformed portion is pressed against the light reflecting plate more strongly than other portions, the brightness of the deformed portion and the other portions are not uniform, It causes it.

또한, 도광판과 광 반사판 사이의 마찰에 의해 도광판에 상처가 생기는 경우가 있는데, 이 도광판의 상처도 역시 휘도 불균일의 원인이 된다.In addition, there is a case where a scratch occurs on the light guide plate due to the friction between the light guide plate and the light reflector, and the scratch on the light guide plate also causes unevenness in brightness.

도광판과 광 반사판과의 불균일한 밀착을 방지하고, 또, 도광판과 광 반사판과의 접촉에 의한 상처의 발생을 억제함으로써, 휘도 불균일의 발생을 억제할 수 있다. 예를 들면, 특허 문헌 1에는, 강성도(剛性度)가 특정 범위 내에 있고, 또, 적어도 한쪽편 면에, 방향족 폴리에스테르를 함유하는 특정 형상의 볼록부가 형성된 엣지 라이트형 백 라이트용 백색 반사 필름이 기재되며, 백색 반사 필름과 도광판과의 마찰에 의한 도광판 상처의 발생을 억제하여 휘도 불균일을 억제한 것이 기재되어 있다.It is possible to prevent uneven adhesion between the light guide plate and the light reflection plate and suppress occurrence of scars due to contact between the light guide plate and the light reflection plate. For example, Patent Document 1 discloses a white reflective film for an edge light type backlight in which a stiffness (rigidity) is within a specific range and a convex portion of a specific shape containing an aromatic polyester is formed on at least one side Discloses that the occurrence of light guide plate scratches caused by friction between a white reflective film and a light guide plate is suppressed to suppress luminance unevenness.

그 밖에도, 예를 들면 특허 문헌 2 및 3에는, 휘도 불균일을 개선하기 위해서 광 반사 시트 내지 광 반사 필름의 광 반사면에 요철을 형성한 것이 기재되어 있고, 특허 문헌 4에는, 표면에 비즈층을 가지는 형태의 반사 필름에 의해, 반사 필름과 도광판과의 부착을 억제한 것이 기재되어 있다.In addition, Patent Documents 2 and 3 disclose, for example, that irregularities are formed on the light reflecting surfaces of light reflecting sheets or light reflecting films in order to improve brightness unevenness. Patent Document 4 discloses that a bead layer It is described that the reflection film in the form of a branch suppresses adhesion between the reflection film and the light guide plate.

또, 특허 문헌 5에는, 열가소성 수지 발포체의 표면에 미세한 요철을 형성함으로써, 자외선 열화가 적은 광 반사판으로서 사용할 수 있는 것도 기재되어 있다.Patent Document 5 also discloses that it can be used as a light reflector with little ultraviolet deterioration by forming fine irregularities on the surface of a thermoplastic resin foam.

일본 특허 제5218931호 공보Japanese Patent No. 5218931 일본 공개특허공보 2003-270415호Japanese Patent Application Laid-Open No. 2003-270415 일본 공개특허공보 2001-266629호Japanese Patent Application Laid-Open No. 2001-266629 일본 공개특허공보 2012-159610호Japanese Laid-Open Patent Publication No. 2012-159610 국제공개 제2007/142260호 팜플렛International Publication No. 2007/142260 pamphlet

액정 디스플레이의 표시면 전체의 휘도를 보다 균일하게 유지하는 요구는 해마다 높아지고 있고, 예를 들면, 수송 중 등의 진동에 의한 도광판의 미소한 상처 발생도 억제되며, 보다 균일성이 높은 휘도를 안정적으로 유지하는 것이 요구되고 있다.The demand for more uniformly maintaining the luminance of the entire display surface of the liquid crystal display is increasing every year. For example, it is possible to suppress the occurrence of minute scars of the light guide plate due to vibrations during transportation and the like, Is required.

또, 액정 디스플레이의 대형화에 수반하여, 백 라이트의 도광판 소재에는, 아크릴 수지나, 메틸메타크릴레이트와 스티렌과의 공중합체인 MS수지 등이 이용되게 되어 있다. 특히 최근에는, 비용 관점에서 3~5㎜ 두께의 MS수지제의 판이 이용되는 경우가 많아져, 이것에 원이나 점(dot)을 인쇄한 볼록부를 가지는 도광판이나, 레이저 가공이나 UV전사법에 의해 오목부를 형성한 도광판, 또한, 수지 펠릿을 사출 성형하여 얻은 표면에 볼록부를 가지는 도광판이 다용되고 있다. MS수지는 염가이지만, 부드러워 손상되기 쉽다. 그 때문에, 보다 균일성이 높은 휘도를 안정적으로 유지하기 위해서는, MS수지 등이 부드러운 수지 재료로 이루어지는 도광판과 접촉해도 상기 도광판을 손상시키기 어려운 광 반사판이 필요하다. 또한, 광 반사판의 손상에 의해 생긴 절삭된 가루에 의해서도 도광판이 손상되는 경우가 있기 때문에, 광 반사판 자체도 손상되기 어려운 것이 필요하다.As the liquid crystal display becomes larger, an acrylic resin or an MS resin, which is a copolymer of methyl methacrylate and styrene, is used for the light guide plate material of the backlight. In recent years, plates made of MS resin having a thickness of 3 to 5 mm have often been used from the viewpoint of cost, and a light guide plate having a convex portion printed with a circle or a dot thereon or a light guide plate having a convex portion printed thereon by laser processing or UV transfer A light guide plate having a concave portion and a light guide plate having a convex portion on the surface obtained by injection molding the resin pellet are also used. The MS resin is inexpensive, but is soft and prone to damage. Therefore, in order to stably maintain the brightness with higher uniformity, a light reflector which is difficult to damage the light guide plate even if it comes into contact with the light guide plate made of soft resin material such as MS resin is needed. Further, since the light guide plate may be damaged by the cut powder produced by the damage of the light reflection plate, it is necessary that the light reflection plate itself is not easily damaged.

그러나, 상기 각 특허 문헌에 기재된 광 반사판은, 아직 상기 요구를 충분히 만족시킨다고는 할 수 없다.However, the light reflectors described in the above patent documents can not always sufficiently satisfy the above requirements.

본 발명은, 엣지 라이트형 백 라이트용 광 반사판으로서, 도광판과 접촉해도 도광판을 손상시키기 어렵고 또한 광 반사판 자체도 손상되기 어려워, 도광판과 광 반사판의 접촉면에서 보다 미소한 상처 발생도 억제할 수 있으며, 휘도 불균일의 발생을 보다 높은 레벨로 억제할 수 있는 광 반사판, 상기 광 반사판을 구비한 액정 디스플레이용 백 라이트 및 상기 광 반사판의 제조방법을 제공하는 것을 과제로 한다.The present invention is a light reflector for an edge light type backlight which is difficult to damage the light guide plate even when it comes into contact with the light guide plate and also the light reflector itself is less likely to be damaged and the occurrence of microscopic scratches on the contact surface between the light guide plate and the light reflector can be suppressed, A backlight for a liquid crystal display having the above-described light reflection plate, and a method for manufacturing the above-mentioned light reflection plate.

본 발명자들은 상기 과제를 해결할 수 있도록 예의 검토를 거듭했다. 그 결과, 표면에 특정의 요철 형상을 가지고, 또, 굽힘 휨량, 정지마찰계수 및 표면 고유 저항치의 모든 것이 특정 레벨에 있는 광 반사판이, 도광판과 접촉하여 서로 문질러져도 손상되기 어렵고, 또, 도광판의 상처 발생도 억제되는 것을 발견했다. 그리고, 상기 광 반사판을 액정 디스플레이의 엣지 라이트형 백 라이트에 이용하면, 표시면의 휘도 불균일의 발생을 보다 효과적으로 억제할 수 있는 것을 발견했다. 본 발명은 이들 지견에 기초하여 완성되기에 이른 것이다.The inventors of the present invention have conducted diligent studies to solve the above problems. As a result, a light reflecting plate having a specific concavo-convex shape on its surface and having a bending amount of bending, a coefficient of static friction, and a surface resistivity of all at a specific level is hardly damaged even if it comes into contact with the light guide plate and rubbed against each other. It was found that the incidence of the wound was also suppressed. Further, it has been found that when the light reflector is used for an edge-light type backlight of a liquid crystal display, occurrence of unevenness in brightness of the display surface can be suppressed more effectively. The present invention has been completed on the basis of these findings.

즉, 본 발명의 요지는 이하와 같다.That is, the gist of the present invention is as follows.

〔1〕하기 (i)~(ⅳ)를 만족하는 엣지 라이트형 백 라이트용 광 반사판：[1] A light reflector for an edge light type backlight which satisfies (i) to (iv) below:

(i) 23℃, 상대습도 60%의 조건에서, 0.1 N에서의 굽힘 휨량이 0.5㎜ 이상 5.0㎜ 이하인 것,(i) the bending warpage at 0.1 N is not less than 0.5 mm and not more than 5.0 mm under the conditions of 23 캜 and 60% relative humidity,

(ⅱ) 적어도 한쪽 표면에 요철이 형성되어 있고, 상기 요철 표면의 최대 높이 거칠기(Rz)가 5㎛ 이상 80㎛ 이하인 것,(Ii) an irregularity is formed on at least one surface, a maximum height roughness (Rz) of the irregular surface is not less than 5 탆 and not more than 80 탆,

(ⅲ) 상기 요철 표면의 정지마찰계수가 0.1 이상 0.4 이하인 것 및(Iii) the coefficient of static friction of the surface of the irregularities is not less than 0.1 and not more than 0.4; and

(ⅳ) 상기 요철 표면에서의 표면 고유 저항치가 1.0×1015Ω／□ 미만인 것.(Iv) the surface resistivity at the surface of the irregularities is less than 1.0 × 10 15 Ω / □.

〔2〕상기 광 반사판이 수지로 이루어지고, 상기 요철 표면을 구성하는 수지의 로크웰(rockwell) R 스케일 경도가 70 미만인, 〔1〕에 기재된 엣지 라이트형 백 라이트용 광 반사판.[2] The light reflector for an edge light type backlight according to [1], wherein the light reflector is made of resin and the Rockwell R scale hardness of the resin constituting the uneven surface is less than 70. [

〔3〕상기 광 반사판이 수지제 발포 시트로 이루어지는, 〔1〕 또는 〔2〕에 기재된 엣지 라이트형 백 라이트용 광 반사판.[3] The light reflector for an edge light type backlight according to [1] or [2], wherein the light reflector is made of a resin foam sheet.

〔4〕상기 요철 표면측에서, 상기 표면으로부터 광 반사판의 두께 방향을 향하여 적어도 5㎛의 깊이까지 기포가 존재하지 않는, 〔3〕에 기재된 엣지 라이트형 백 라이트용 광 반사판.[4] The reflector for edge light type backlight according to [3], wherein no bubbles are present at a depth of at least 5 탆 from the surface toward the thickness direction of the light reflecting plate on the concavo-convex surface side.

〔5〕상기 요철을 형성하는 수지가, 열가소성 방향족 폴리에스테르를 포함하는 수지인,〔1〕~〔4〕중 어느 한 항에 기재된 엣지 라이트형 백 라이트용 광 반사판.[5] The light reflector for an edge light type backlight according to any one of [1] to [4], wherein the resin forming the unevenness is a resin containing a thermoplastic aromatic polyester.

〔6〕상기 광 반사판의 부피 비중이 0.7 이하이고, 또, 상기 광 반사판의 두께가 0.1㎜ 이상 1.0㎜ 이하인, 〔1〕~〔5〕중 어느 한 항에 기재된 엣지 라이트형 백 라이트용 광 반사판.[6] The light reflector for edge light type backlight according to any one of [1] to [5], wherein the light reflector has a volume specific gravity of 0.7 or less and a thickness of the light reflector is 0.1 mm or more and 1.0 mm or less. .

〔7〕상기 광 반사판의 부피 비중이 0.45 미만인, 〔1〕~〔6〕중 어느 한 항에 기재된 엣지 라이트형 백 라이트용 광 반사판.[7] The light reflector for an edge light type backlight according to any one of [1] to [6], wherein the light reflector has a volume specific gravity of less than 0.45.

〔8〕상기 광 반사판이 수지로 이루어지고, 상기 요철 표면을 구성하는 수지의 로크웰(rockwell) R 스케일 경도가, 상기 엣지 라이트형 백 라이트가 구비되는 도광판을 구성하는 수지의 로크웰(rockwell) R 스케일 경도보다 작은, 〔1〕~〔7〕중 어느 한 항에 기재된 엣지 라이트형 백 라이트용 광 반사판.[8] The light guide plate according to any one of [1] to [5], wherein the light reflector is made of a resin, and a rockwell R scale hardness of the resin constituting the uneven surface is smaller than a rockwell R scale of resin constituting the light guide plate provided with the edge light type backlight The light reflector for an edge light type backlight according to any one of [1] to [7], wherein the light reflectance is smaller than the hardness.

〔9〕광원과, 도광판과 〔1〕~〔8〕중 어느 한 항에 기재된 광 반사판을 가지는 액정 디스플레이용 백 라이트로서,[9] A backlight for a liquid crystal display having a light source, a light guide plate, and a light reflector according to any one of [1] to [8]

상기 광 반사판이 상기 요철 표면을 도광판측을 향하도록 배치되고, The light reflection plate is disposed so that the surface of the concavo-convex surface faces the light guide plate side,

상기 도광판을 구성하는 수지의 로크웰(rockwell) R 스케일 경도가 70 이상인, 액정 디스플레이용 백 라이트.Wherein the resin constituting the light guide plate has a rockwell R scale hardness of 70 or more.

〔10〕상기 도광판이 메틸메타크릴레이트와 스티렌과의 공중합체를 포함하는 수지로 이루어지는, 〔9〕에 기재된 액정 디스플레이용 백 라이트.[10] The backlight for liquid crystal display according to [9], wherein the light guide plate is made of a resin containing a copolymer of methyl methacrylate and styrene.

〔11〕〔1〕~〔8〕중 어느 한 항에 기재된 엣지 라이트형 백 라이트용 광 반사판의 제조방법으로서, 하기 공정 (a)~(c)를 포함하는 제조방법：[11] A manufacturing method of a light reflector for an edge light type backlight according to any one of [1] to [8], which comprises the following steps (a) to (c)

(a) 압출 성형에 의해 시트 형상으로 배출된 기재(基材) 수지 시트를, 요철을 가지는 엠보스 롤과 접촉시켜, 적어도 한쪽 면에 요철을 가지는 기재 수지 시트를 얻는 공정,(a) a step of bringing a substrate resin sheet discharged in a sheet form by extrusion molding into contact with an embossing roll having concavo-convexes to obtain a base resin sheet having concavo-convex on at least one side,

(b) 요철 표면을 가지는 기재 수지 시트에 불활성 가스를 함침시키는 공정 및(b) a step of impregnating a base resin sheet having an uneven surface with an inert gas and

(c) 불활성 가스를 함침시킨 요철 표면을 가지는 기재 수지 시트를 가열하여, 발포시키는 공정.(c) A step of heating and firing a base resin sheet having an uneven surface impregnated with an inert gas.

본 명세서에 있어서, 표면의 「요철」이란, 표면에 오목부가 형성된 형태, 표면에 볼록부가 형성된 형태 및 표면에 오목부와 볼록부가 형성된 형태 모두 포함하는 의미로 이용된다.In the present specification, the term " concavity and convexity " of the surface is used to mean both of a form in which a concave portion is formed on a surface, a form in which a convex portion is formed on a surface, and a form in which concave portions and convex portions are formed on a surface.

본 발명의 엣지 라이트형 백 라이트용 광 반사판은, 도광판과 접촉해도 손상되기 어렵고, 또, 도광판의 상처 발생도 억제할 수 있다. 즉, 본 발명의 엣지 라이트형 백 라이트용 광 반사판을 이용함으로써, 도광판과 광 반사판과의 접촉면에서 보다 미소한 상처 발생도 억제할 수 있어, 액정 디스플레이의 표시면의 휘도 불균일을 보다 높은 레벨로 억제할 수 있다.The light reflector for an edge light type backlight of the present invention is hardly damaged even when it comes into contact with the light guide plate, and the occurrence of scratches on the light guide plate can be suppressed. That is, by using the light reflector for the backlight of the edge light type of the present invention, it is possible to suppress the occurrence of microscopic scratches on the contact surface between the light guide plate and the light reflector, thereby suppressing the luminance unevenness of the display surface of the liquid crystal display to a higher level can do.

본 발명의 액정 디스플레이용 백 라이트는, 액정 디스플레이의 표시면 휘도 불균일을 보다 높은 레벨로 억제할 수 있다.The backlight for a liquid crystal display of the present invention can suppress the brightness variation of the display surface of the liquid crystal display to a higher level.

본 발명의 엣지 라이트형 백 라이트용 광 반사판의 제조방법에 의하면, 상기 본 발명의 광 반사판을 효율적으로 제조할 수 있어 생산 효율이 우수하다.INDUSTRIAL APPLICABILITY According to the method for producing a light reflector for an edge light type backlight of the present invention, the light reflector of the present invention can be efficiently produced, and the production efficiency is excellent.

본 발명의 상기 및 다른 특징 및 이점은, 적당히 첨부의 도면을 참조하여, 하기의 기재로부터 분명해질 것이다.These and other features and advantages of the present invention will become apparent from the following description, with reference to the accompanying drawings where appropriate.

도 1은, 본 발명의 액정 디스플레이용 백 라이트의 단면을 나타내는 모식도이다.
도 2는, 본 발명의 액정 디스플레이용 백 라이트에 있어서, 도광판과 광 반사판의 경계 및 그 근방의 상태를 나타내는 모식도이다.1 is a schematic view showing a cross section of a backlight for a liquid crystal display of the present invention.
2 is a schematic view showing a boundary between a light guide plate and a light reflector and a vicinity thereof in the backlight for a liquid crystal display of the present invention.

본 발명에 따른 광 반사판의 실시형태를 이하에서 상세하게 설명한다.Embodiments of a light reflector according to the present invention will be described in detail below.

［광 반사판］[Reflector]

본 발명의 광 반사판은, 액정 디스플레이 등에 이용되는 엣지 라이트형 백 라이트에 조립되어 사용된다. 본 발명의 광 반사판은 바람직하게는 백색 반사판이다. 본 발명의 광 반사판이 조립된 엣지 라이트형 백 라이트의 바람직한 일 실시 형태를 도 1에 나타낸다.The light reflector of the present invention is used by being assembled in an edge light type backlight used for a liquid crystal display or the like. The light reflector of the present invention is preferably a white reflector. Fig. 1 shows a preferred embodiment of an edge light type backlight incorporating a light reflector of the present invention.

도 1에 나타내는 바와 같이, 엣지 라이트형 백 라이트(1)에는, 도광판(3)에 인접하여 광 반사판(4)이 설치된다. 광 반사판은, 적어도 한쪽 표면에 후술하는 요철이 형성되어 있고, 이 요철 표면이 도광판 측을 향하여 배치되어, 광원(8)으로부터 도광판 내로 유도된 빛 중 광 반사판 측으로 샌 빛을 액정층 측으로 되돌리는 역할을 담당한다.As shown in Fig. 1, the edge light type backlight 1 is provided with a light reflecting plate 4 adjacent to the light guide plate 3. The concavo-convex surface is disposed toward the light guide plate side so as to return the light from the light source 8 to the light reflection plate side toward the light reflection plate side toward the liquid crystal layer side at least on one surface of the light reflection plate .

본 발명의 광 반사판의 특성 내지 구조에 대하여 이하에서 설명한다.The characteristics and structure of the light reflection plate of the present invention will be described below.

(굽힘 휨량)(Bending amount of bending)

본 발명의 광 반사판은, 23℃에서 0.1 N의 하중을 인가했을 때의 굽힘 휨량(이하, 단순히 「굽힘 휨량」이라고 한다.)이 0.5㎜ 이상 5.0㎜ 이하이다.The light reflector of the present invention has a bending amount of warp when the load of 0.1 N is applied at 23 DEG C (hereinafter simply referred to as "bending amount of warp") of 0.5 mm or more and 5.0 mm or less.

상기 굽힘 휨량은, 광 반사판을 23℃, 60% RH의 조건하에서 24시간 보관한 후, 23℃, 60% RH의 조건하에서 3점 굽힘 시험을 행함으로써 측정된다. 보다 구체적으로는, 후술하는 실시예에 기재된 방법으로 측정할 수 있다.The bending warpage was measured by carrying out a three-point bending test under the conditions of 23 占 폚 and 60% RH after the optical reflector was stored for 24 hours under the conditions of 23 占 폚 and 60% RH. More specifically, it can be measured by the method described in the following examples.

굽힘 휨량을 5.0㎜ 이하로 함으로써, 엣지 라이트형 백 라이트에 조립되어졌을 때에 광 반사판 자체의 무게 등에 의한 휨이 생기기 어렵고, 백 라이트가 조립되는 액정 디스플레이의 표시면에서의 휘도 불균일을 효과적으로 방지할 수 있다. 또, 굽힘 휨량이 0.5㎜ 미만으로 되면, 화이트 스폿 내성이 악화되는 경우가 있으며, 또, 광 반사판의 유연성이 손상되어 반송시나, 백 라이트에 장착되는 사이즈로 잘라내는 가공시에 균열이 생기는 경우가 있어, 생산성이 뒤떨어지는 경우가 있다.By setting the amount of bending deflection to 5.0 mm or less, warping due to the weight or the like of the light reflecting plate itself is less likely to occur when assembled in the edge light type backlight, and brightness unevenness on the display surface of the liquid crystal display in which the backlight is assembled can be effectively prevented have. If the bending warpage is less than 0.5 mm, the white spot resistance may deteriorate. In addition, when the flexibility of the light reflecting plate is impaired and cracks are generated during transportation or during processing for cutting into a size mounted on the backlight There are cases where the productivity is poor.

본 발명의 광 반사판의 굽힘 휨량은 4.8㎜ 이하인 것이 바람직하고, 보다 바람직하게는 4.6㎜ 이하이다. 또, 휘도 불균일을 보다 억제하는 관점에서, 굽힘 휨량은 1.0㎜ 이상인 것이 바람직하고, 1.5㎜ 이상으로 하는 것이 보다 바람직하다.The bending deflection of the light reflection plate of the present invention is preferably 4.8 mm or less, more preferably 4.6 mm or less. From the viewpoint of further suppressing the luminance unevenness, the bending deflection amount is preferably 1.0 mm or more, more preferably 1.5 mm or more.

광 반사판의 굽힘 휨량은, 예를 들면, 광 반사판에 이용되는 재료, 광 반사판의 두께나 비중 등을 적당히 조절함으로써 제어할 수 있다. 또한, 광 반사판이 수지제 발포 시트라면, 기포의 분포, 크기, 밀도 등, 기포의 존재 형태를 적당히 조절하는 것으로도 굽힘 휨량을 제어할 수 있다.The amount of bending deflection of the light reflecting plate can be controlled, for example, by appropriately adjusting the material used for the light reflecting plate, the thickness and specific gravity of the light reflecting plate, and the like. If the light reflector is made of a resin foam sheet, the amount of bending deflection can also be controlled by appropriately adjusting the shape of the bubbles, such as distribution, size and density of the bubbles.

(표면 요철 형상)(Surface relief shape)

본 발명의 광 반사판은, 적어도 한쪽 표면에 요철이 형성되어 있고, 이 요철 표면의 최대 높이 거칠기(Rz)가 5㎛ 이상 80㎛ 이하이다. 요철 표면의 Rz를 5㎛ 이상 80㎛ 이하로 함으로써, 엣지 라이트형 백 라이트에 조립되었을 때에 도광판과의 사이에 적당한 빈틈을 형성할 수 있어, 휘도 불균일을 효과적으로 방지할 수 있다. 상기 요철 표면의 Rz는 7㎛ 이상인 것이 바람직하고, 8㎛ 이상인 것이 보다 바람직하며, 10㎛ 이상인 것이 더 바람직하고, 15㎛ 이상이라도 좋으며, 20㎛ 이상이라도 좋고, 25㎛ 이상이라도 좋다. 또한 상기 요철 표면의 Rz는 70㎛ 이하인 것이 바람직하고, 60㎛ 이하인 것이 보다 바람직하며, 50㎛ 이하인 것이 더 바람직하고, 40㎛ 이하인 것이 더욱 더 바람직하며, 35㎛ 이하인 것이 가장 바람직하다.The light reflector of the present invention has irregularities formed on at least one surface thereof, and the maximum height roughness (Rz) of the irregular surface is 5 占 퐉 or more and 80 占 퐉 or less. By setting the Rz of the concavo-convex surface to 5 mu m or more and 80 mu m or less, it is possible to form a suitable gap with the light guide plate when assembled to the edge light type backlight, thereby effectively preventing the luminance unevenness. The Rz of the uneven surface is preferably 7 mu m or more, more preferably 8 mu m or more, more preferably 10 mu m or more, 15 mu m or more, 20 mu m or more, or 25 mu m or more. Further, the Rz of the surface of the irregularities is preferably 70 m or less, more preferably 60 m or less, more preferably 50 m or less, even more preferably 40 m or less, most preferably 35 m or less.

Rz는, JIS　B0601(2001)에 기초하여 측정되는 값이다.Rz is a value measured based on JIS B0601 (2001).

한편, 본 발명의 광 반사판은, 양면에 요철이 형성되고, 그 한쪽 면의 Rz가 5㎛ 이상 80㎛ 이하이며, 다른 쪽 면의 Rz가 5㎛ 미만 또는 80㎛ 초과인 형태라도 좋다. 엣지 라이트형 백 라이트에 조립되었을 때에는, Rz가 5㎛ 이상 80㎛ 이하인 면을 도광판측으로 향하여 배치한다.On the other hand, the light reflecting plate of the present invention may be in the form of having unevenness on both sides, Rz of 5 mu m or more and 80 mu m or less on one side, and Rz of less than 5 mu m or 80 mu m or more on the other side. When assembled in an edge light type backlight, a surface having an Rz of 5 mu m or more and 80 mu m or less is disposed toward the light pipe side.

이하, 광 반사판의 「요철 표면」이라고 하는 경우에는, 특히 언급하지 않는 한, 엣지 라이트형 백 라이트에 조립될 때에 도광판측으로 향하는 면을 의미한다.Hereinafter, in the case of the "concavo-convex surface" of the light reflecting plate, it means a surface facing the light guide plate side when assembled in an edge light type backlight, unless otherwise specified.

본 발명의 광 반사판에서, 요철 표면을 형성하는 방법에 특히 제한은 없고, 여러 가지의 방법을 채용할 수 있다. 예를 들면, 광 반사판의 표면에 필러를 이겨 넣거나(kneading), 광 반사판의 표면에 필러를 부착시키거나, 압출 성형시, 혹은 가열 후에 엠보스 롤에 접촉시키거나, 자외선 경화성 수지를 표면에 코팅하여 특정 요철 패턴이 되도록 자외선 조사(照射)하거나 함으로써 원하는 요철 형상을 형성할 수 있다. 또, 상기의 방법을 조합하여 요철 형상을 형성할 수도 있다.In the light reflector of the present invention, the method of forming the uneven surface is not particularly limited, and various methods can be employed. For example, the filler may be kneaded on the surface of the light reflecting plate, the filler may be attached to the surface of the light reflecting plate, the mold may be brought into contact with the emboss roll at the time of extrusion molding or after heating, or an ultraviolet- And irradiated with ultraviolet rays so as to become a specific concavo-convex pattern, whereby a desired concave-convex shape can be formed. It is also possible to form the concavo-convex shape by combining the above methods.

상기 필러의 종류에 대해서는 특히 제한은 없다. 예를 들면, 필러의 형상으로서는 구 형상 혹은 판 형상의 것을 이용할 수 있다. 보다 구체적으로는, 예를 들면, 탈크 입자, 운모(mica) 입자, 탄산칼슘 입자, 실리카 입자, 실리콘 입자, 가교 PBMA(폴리부틸메타크릴레이트) 입자, 나일론 입자, 가교 아크릴 입자, 또는 이들 입자로부터 선택되는 2종 이상을 혼합한 것을 이용할 수 있다. 그 중에서도, 광 반사판의 백색도나 광 반사 성능, 굽힘 휨량을 적절히 제어하는 관점에서, 실리콘 입자 및 탈크 입자로부터 선택되는 1종 또는 2종 이상의 입자를 이용하는 것이 바람직하다.The type of the filler is not particularly limited. For example, as the shape of the filler, a spherical or plate-like shape can be used. More specifically, for example, there may be mentioned talc particles, mica particles, calcium carbonate particles, silica particles, silicone particles, crosslinked PBMA (polybutylmethacrylate) particles, nylon particles, crosslinked acrylic particles, And a mixture of two or more selected. Among them, it is preferable to use one or more kinds of particles selected from silicon particles and talc particles from the viewpoint of appropriately controlling the whiteness, light reflection performance, and bending warpage of the light reflecting plate.

상기 필러의 입자 지름에 대해서는 특히 제한되지 않지만, 평균 입자 지름이 3㎛ 이상 30㎛ 이하인 것이 바람직하고, 8㎛ 이상 20㎛ 이하인 것이 보다 바람직하다. 이렇게 함으로써 요철 표면의 Rz를 원하는 범위로 조절하기 쉽고, 또, 엣지 라이트형 백 라이트에 조립되어졌을 때에는 도광판이 손상되기 어렵다. 평균 입자 지름은 동적 광산란법이나 레이저 회석법 등으로 구할 수 있다.The particle diameter of the filler is not particularly limited, but the average particle diameter is preferably 3 탆 or more and 30 탆 or less, more preferably 8 탆 or more and 20 탆 or less. By doing so, it is easy to adjust the Rz of the concavo-convex surface to a desired range, and when it is assembled in an edge light type backlight, the light guide plate is hardly damaged. The average particle diameter can be determined by a dynamic light scattering method or a laser coagulation method.

요철 형상은, 광 반사판의 적어도 어느 한쪽의 표면 전체에 걸쳐서 존재하는 것이 바람직하다. 또한, 요철 형상은 광 반사판의 표면에 정렬시키지 않고, 불규칙하게 분산하여 존재하는 것이 바람직하다. 이렇게 함으로써, 광 반사판을 엣지 라이트형 백 라이트에 조립하였을 때에 빛의 간섭 등에 수반하는 줄무늬가 생기기 어려워져, 표시면의 휘도를 보다 균일하게 할 수 있다.The concavo-convex shape preferably exists over the entire surface of at least one of the light reflection plates. It is also preferable that the irregular shape is irregularly dispersed and not aligned on the surface of the light reflecting plate. By doing so, when the light reflector is assembled to the edge light type backlight, stripes accompanying interference with light become less likely to occur, and the brightness of the display surface can be made more uniform.

(정지마찰계수)(Coefficient of static friction)

본 발명의 광 반사판은, 요철 표면에서의 정지마찰계수가 0.1 이상 0.4 이하이다. 상기 정지마찰계수는, 메틸메타크릴레이트와 스티렌과의 공중합체를 포함하는 수지(MS수지)로 이루어지는 판에 대한 정지마찰계수이며, 구체적으로는 후술하는 실시예에 기재된 방법으로 측정되는 값이다.The light reflection plate of the present invention has a coefficient of static friction at the surface of the irregularities of 0.1 or more and 0.4 or less. The coefficient of static friction is a coefficient of static friction for a plate made of a resin (MS resin) containing a copolymer of methyl methacrylate and styrene, specifically, a value measured by the method described in Examples described later.

광 반사판의 정지마찰계수를 0.4 이하로 함으로써, 엣지 라이트형 백 라이트에 조립된 상태에서, 도광판과의 사이의 마찰에 의해 도광판이 손상되는 것을 효과적으로 방지할 수 있다. 또, 광 반사판의 정지마찰계수를 0.1 이상으로 함으로써, 광 반사판을 적재했을 때의 적하물 붕괴가 생기기 어려워져, 광 반사판의 보관, 운반 내지 작업 효율의 악화를 방지할 수 있다. 본 발명의 광 반사판의 요철 표면에서의 정지마찰계수는, 보다 바람직하게는 0.1 이상 0.35 이하이며, 더 바람직하게는 0.2 이상 0.3 이하이다.By setting the static friction coefficient of the light reflecting plate to 0.4 or less, it is possible to effectively prevent the light guide plate from being damaged by friction between the light reflecting plate and the light guide plate in a state of being assembled in the edge light type backlight. By setting the coefficient of static friction of the light reflector to 0.1 or more, it is possible to prevent collapse of the dropping material when the light reflector is mounted, and it is possible to prevent the light reflector from being stored, transported, or deteriorated in operation efficiency. The static friction coefficient of the light reflection plate of the present invention on the uneven surface is more preferably 0.1 or more and 0.35 or less, and more preferably 0.2 or more and 0.3 or less.

광 반사판의 정지마찰계수는, 예를 들면, 광 반사판의 표면을 구성하는 수지의 경도나, 시트 표면 요철의 높이를 조절하거나, 도광판과 반사판의 접촉 면적을 조정하거나 함으로써 조절할 수 있다.The coefficient of static friction of the light reflecting plate can be adjusted, for example, by adjusting the hardness of the resin constituting the surface of the light reflecting plate, the height of the surface irregularities of the sheet, or adjusting the contact area between the light conducting plate and the reflecting plate.

(표면 고유 저항치)(Surface resistivity value)

본 발명의 광 반사판은, 요철 표면에서의 표면 고유 저항치가 1.0×1015Ω／□ 미만이다. 요철 표면에서의 표면 고유 저항치가 1.0×1015Ω／□ 미만으로 함으로써, 요철 표면에 미세한 먼지나 이물이 부착되기 어려워지며, 엣지 라이트형 백 라이트에 조립되었을 때에 도광판의 상처 발생을 보다 억제할 수 있다.The light reflector of the present invention has a surface resistivity of less than 1.0 x 10 < 15 > When the surface resistivity at the surface of the irregularities is less than 1.0 x 10 < 15 > OMEGA / & squ &, minute dust or foreign matter is hardly adhered to the surface of the irregularities and the occurrence of scratches in the light guide plate have.

본 발명의 광 반사판의 요철 표면에서의 표면 고유 저항치는 5.0×1014Ω／□ 미만으로 하는 것이 바람직하고, 1.0×1014Ω／□ 미만으로 하는 것이 보다 바람직하다. 또, 상기 표면 고유 저항치의 하한치에 특히 제한은 없지만, 대전 방지제의 사용량이나 광 반사판의 강성을 고려하면 1.0×1010Ω／□ 이상으로 하는 것이 실제적이며, 통상은 1.0×1011Ω／□ 이상이다.The surface resistivity of the light reflection plate of the present invention on the uneven surface is preferably less than 5.0 × 10 14 Ω / □, more preferably less than 1.0 × 10 14 Ω / □. The lower limit of the surface resistivity is not particularly limited, but it is practically 1.0 × 10 10 Ω / □ or more in consideration of the use amount of the antistatic agent and the rigidity of the optical reflector, and is usually 1.0 × 10 11 Ω / □ or more to be.

표면 고유 저항치는, 예를 들면 요철 표면에 대전 방지제를 존재시킴으로써 조절할 수 있다. 대전 방지제는, 요철 표면을 구성하는 소재중에 함유시켜도 좋고, 요철 표면에 코팅해도 좋다.The surface resistivity can be adjusted, for example, by the presence of an antistatic agent on the surface of the irregularities. The antistatic agent may be contained in the material constituting the uneven surface or may be coated on the uneven surface.

상기 표면 고유 저항치로 하기 때문에 첨가될 수 있는 대전 방지제는 특히 제한되는 것은 아니지만, 알칼리 금속염, 음이온, 양이온 등의 대전 방지제를 사용하는 것이 바람직하다. 카본 블랙이나 탄소 섬유로 대표되는 무기 대전 방지제를 이용한 경우에는, 시트의 표면 고유 저항치는 원하는 범위를 얻을 수 있지만, 광 반사판이 검게 착색되어, 반사율이나 화면 휘도를 손상시키기 때문에 바람직하지 않다. 한편, 상기 알칼리 금속염 등의 대전 방지제라면, 광 반사판의 색조를 해치지 않고 원하는 표면 고유 저항치를 얻을 수 있기 때문에 바람직하다. 알칼리 금속염에 대해서는 특히 제한되는 것은 아니다.The antistatic agent that can be added to the surface resistivity is not particularly limited, but it is preferable to use an antistatic agent such as an alkali metal salt, an anion, and a cation. When an inorganic antistatic agent represented by carbon black or carbon fiber is used, the surface resistivity of the sheet can be obtained in a desired range, but it is not preferable because the reflector is colored black and the reflectance and the screen brightness are impaired. On the other hand, an antistatic agent such as an alkali metal salt is preferable because a desired surface resistivity can be obtained without harming the color tone of the light reflecting plate. The alkali metal salt is not particularly limited.

본 발명에서는, 대전 방지제로서 계면활성제가 바람직하다. 상기 계면활성제로서는, 예를 들면 비이온계, 음이온계, 양이온계의 계면활성제를 들 수 있고, 그 중에서도 음이온계 계면활성제가 바람직하다. 계면활성제는, 폴리머(예를 들면, 폴리에테르에스테르아미드폴리머, 에틸렌옥시드-에피크롤히드린 공중합체, 폴리에테르폴리에스테르폴리머, 폴리스티렌설폰산염, 4급 암모늄기를 가지는 (메타)아크릴레이트의 폴리머)라도 상관없다. 또한, 폴리머가 아닌 계면활성제로서는, 예를 들면, 알킬설폰산의 알칼리 금속염 및 알킬벤젠설폰산의 알칼리 금속염으로부터 선택되는 1종 또는 2종 이상을 적합하게 이용할 수 있다. 그 중에서도 알킬설폰산나트륨 및 알킬벤젠설폰산나트륨으로부터 선택되는 1종 또는 2종 이상을 이용하는 것이 바람직하다. 상기 알킬기의 탄소수는 6~20인 것이 바람직하고, 8~15인 것이 보다 바람직하며, 10~14인 것이 더 바람직하다.In the present invention, a surfactant is preferable as an antistatic agent. Examples of the surfactant include nonionic, anionic and cationic surfactants. Of these, anionic surfactants are preferred. The surfactant may be a polymer (for example, a polyether ester amide polymer, an ethylene oxide-epichlorohydrin copolymer, a polyether polyester polymer, a polystyrene sulfonate, a polymer of a (meth) acrylate having a quaternary ammonium group) Lt; / RTI > As the non-polymeric surfactant, for example, one kind or two or more kinds selected from an alkali metal salt of an alkyl sulfonic acid and an alkali metal salt of an alkylbenzenesulfonic acid can be suitably used. Among them, it is preferable to use one or more kinds selected from sodium alkylsulfonate and sodium alkylbenzenesulfonate. The number of carbon atoms of the alkyl group is preferably 6 to 20, more preferably 8 to 15, and even more preferably 10 to 14.

대전 방지제는, 요철 표면을 구성하는 수지 중에 함유시키는 것이 바람직하다. 따라서, 본 발명의 광 반사재가 수지제 발포 시트인 경우에는, 대전 방지제는, 요철 표면을 포함하는 요철 표면측의 비발포 영역에 함유시키는 것이 바람직하다. 이 경우, 요철 표면을 포함하는 요철 표면측의 비발포 영역의 수지 100질량부에 대하여, 0.1질량부 이상 10질량부 이하 함유시키는 것이 바람직하고,　0.3질량부 이상 5질량부 이하 함유시키는 것이 보다 바람직하다.The antistatic agent is preferably contained in the resin constituting the uneven surface. Therefore, when the light reflector of the present invention is a resin foam sheet, it is preferable that the antistatic agent is contained in the non-foamed region on the uneven surface side including the uneven surface. In this case, the amount is preferably not less than 0.1 parts by mass and not more than 10 parts by mass, more preferably not less than 0.3 parts by mass and not more than 5 parts by mass, relative to 100 parts by mass of the resin in the non- Do.

(로크웰 경도(Rockwell Hardness))(Rockwell Hardness)

본 발명의 광 반사판은 수지로 이루어지는 것이 바람직하다. 본 발명의 광 반사판이 수지로 이루어지는 경우에 있어서, 엣지 라이트형 백 라이트에 조립되었을 때에 도광판의 상처 발생을 보다 억제하는 관점에서, 요철 표면을 구성하는 수지의 로크웰 R 스케일 경도는, 본 발명의 광 반사판이 조립되는 엣지 라이트형 백 라이트가 구비하는 도광판을 구성하는 수지의 로크웰 R 스케일 경도보다 작은(즉 부드러운 것) 것이 바람직하다.The light reflector of the present invention is preferably made of a resin. In the case where the light reflection plate of the present invention is made of a resin, the Rockwell R scale hardness of the resin constituting the uneven surface is higher than that of the light of the present invention in view of further suppressing the occurrence of scratches on the light guide plate when assembled in an edge- It is preferable that the reflector is smaller (i.e., soft) than the Rockwell R scale hardness of the resin constituting the light guide plate included in the edge light type backlight in which the reflector is assembled.

상술한 바와 같이, 도광판의 소재로서 아크릴 수지나 MS수지 등의 부드러운 수지가 다용되도록 되어 있다. 그리고, 아크릴 수지의 로크웰 R 스케일 경도는 통상은 120 정도이고, MS수지의 로크웰 R 스케일 경도는 통상은 105 정도이다. 본 발명의 광 반사판의 요철 표면을 구성하는 수지는, 그 로크웰 R 스케일 경도가 70 미만인 것이 바람직하고, 65 미만인 것이 보다 바람직하며, 60 미만인 것이 더 바람직하다.As described above, soft resin such as acryl resin or MS resin is used as the material of the light guide plate. The Rockwell R scale hardness of the acrylic resin is usually about 120, and the Rockwell R scale hardness of the MS resin is usually about 105. [ The resin constituting the uneven surface of the light reflection plate of the present invention preferably has a Rockwell R scale hardness of less than 70, more preferably less than 65, and more preferably less than 60. [

또한, 본 발명의 광 반사판에 있어서, 요철 표면을 구성하는 수지의 로크웰 R 스케일 경도의 하한치에 특히 제한은 없지만, 광 반사판이나 도광판의 열 변형 등에 의해 면압이 걸린 경우라도, 광 반사판과 도광판의 사이의 빈틈을 유지하여 휘도 불균일의 발생을 효과적으로 억제하거나, 광 반사판 측이 손상되어, 분쇄된 가루가 발생하여 그 가루에 의하여 도광판측이 손상되는 것을 억제하거나 하기 위해서, 40 이상인 것이 바람직하고, 43 이상인 것이 보다 바람직하며, 45 이상인 것이 더 바람직하다.In the optical reflector of the present invention, the lower limit of the Rockwell R scale hardness of the resin constituting the uneven surface is not particularly limited, but even when surface pressure is applied due to thermal deformation of the light reflecting plate or the light guide plate, Is preferably 40 or more, more preferably 43 or more, in order to suppress the occurrence of luminance unevenness by effectively maintaining the gaps of the light reflecting plate, or to prevent the side of the light reflecting plate from being damaged due to the generation of pulverized powder, More preferably 45 or more.

(비중)(importance)

본 발명의 광 반사판의 부피 비중(이하, 단순히 「비중」이라고 한다.)은, 광 반사판의 질량을 억제하는 관점에서 0.7 이하인 것이 바람직하다. 광 반사판의 질량을 억제함으로써, 도광판과 접촉했을 때의 상처 발생을 보다 억제할 수도 있다. 또, 광 반사판이 수지제 발포 시트인 경우, 비중을 0.7 이하로 함으로써, 미세 기포가 양호하게 분포한 형태로 할 수 있어 광 반사율을 보다 향상시킬 수 있다.The volume specific gravity (hereinafter, simply referred to as " specific gravity ") of the light reflection plate of the present invention is preferably 0.7 or less from the viewpoint of suppressing the mass of the light reflection plate. By suppressing the mass of the light reflecting plate, it is possible to further suppress the occurrence of scratches when the light reflecting plate is brought into contact with the light guide plate. When the light reflector is a resin foam sheet, by setting the specific gravity to 0.7 or less, the minute bubbles can be formed in a well-distributed form, and the light reflectance can be further improved.

또한, 광 반사판의 강성을 고려하면, 본 발명의 광 반사판의 비중은 0.2 이상으로 하는 것이 바람직하다. 보다 바람직하게는, 본 발명의 광 반사판의 비중은 0.25 이상 0.6 미만이고, 더 바람직하게는 0.275 이상 0.5 미만이며, 더욱 더 바람직하게는 0.275 이상 0.45 미만이다.In consideration of the rigidity of the light reflector, the specific gravity of the light reflector of the present invention is preferably 0.2 or more. More preferably, the specific gravity of the light reflector of the present invention is 0.25 or more and less than 0.6, more preferably 0.275 or more and less than 0.5, still more preferably 0.275 or more and less than 0.45.

(광 반사율)(Light reflectance)

본 발명의 광 반사판의 광 반사율은, 550㎚의 파장의 빛에 대하여, 산화알루미늄비로 95%보다 높은 것이 바람직하고, 특히 98% 이상인 것이 바람직하다. 여기서 서술하는 광 반사율이란, 정반사와 확산 반사의 합계에 기초하여 산출되는 것이다. 상기 광 반사율은, 550㎚의 파장에서 산화알루미늄 백판(그레이드：210-0740, 주식회사 히타치 하이테크필딩제)의 광 반사율을 100%로 했을 때의 상대치이고, 예를 들면, 분광 광도계(장치명：U-4100, 주식회사 히타치 하이테크 필딩제)를 이용하여 측정할 수 있다.The light reflectance of the light reflection plate of the present invention is preferably higher than 95%, particularly preferably 98% or higher, in terms of aluminum oxide relative to light having a wavelength of 550 nm. The light reflectance described here is calculated based on the sum of the specular reflection and the diffuse reflection. The optical reflectance is a relative value when the optical reflectance of an aluminum oxide white plate (grade: 210-0740, manufactured by Hitachi High-Tech Fielding Co., Ltd.) is taken as 100% at a wavelength of 550 nm. For example, a spectrophotometer 4100, manufactured by Hitachi High-Tech Fielding Co., Ltd.).

(광 반사판의 구조)(Structure of light reflector)

본 발명의 광 반사판은 수지제 발포 시트(이하, 단순히 「발포 시트」라고 한다.) 라도 좋고, 수지에 백색 안료 등의 무기 필러를 함유시켜 광 반사 성능을 가지게 한 것이라도 좋으며, 수지 등의 표층을 알루미늄 등의 금속으로 구성하여 반사 성능을 가지게 한 것이라도 좋지만, 광 반사판의 비중을 작게 하여 경량화할 수 있고, 또, 재단해도 필러의 탈락 등이 생기기 어려워 작업 환경이 쉽게 오염되지 않는 관점에서, 발포 시트인 것이 바람직하다.The light reflecting plate of the present invention may be a resin foam sheet (hereinafter, simply referred to as a "foam sheet"), or may be a resin containing an inorganic filler such as a white pigment to have a light reflecting property, From the viewpoint that the working environment is not easily contaminated due to the fact that the weight of the light reflecting plate can be reduced and the weight can be reduced and the peeling of the filler does not easily occur even if the light reflecting plate is cut, It is preferably a foam sheet.

본 발명의 광 반사판이 발포 시트인 경우, 요철 표면측에서, 표면으로부터 광 반사판의 두께 방향을 향하여 적어도 5㎛의 깊이까지의 사이에는 기포가 존재하지 않는 것이 바람직하다. 이렇게 함으로써, 충분한 경도와 강성을 부여할 수 있다.When the light reflection plate of the present invention is a foam sheet, it is preferable that no air bubble is present between the surface and the depth of at least 5 mu m from the surface toward the thickness direction of the light reflection plate. By doing so, sufficient hardness and rigidity can be imparted.

또한, 광 반사판의 요철 표면측에서, 표면으로부터 광 반사판의 두께 방향을 향하여 30㎛의 깊이보다 깊은 위치에는 기포가 존재하는 것이 바람직하다. 이렇게 함으로써, 비중을 작게 할 수 있고, 또, 높은 광 반사율을 나타내는 광 반사판으로 할 수 있다.It is preferable that bubbles are present at a depth deeper than the depth of 30 mu m from the surface toward the thickness direction of the light reflection plate on the concavo-convex surface side of the light reflection plate. By doing so, the specific gravity can be reduced and a light reflector exhibiting a high light reflectance can be obtained.

즉, 본 발명의 광 반사판이 발포 시트인 경우, 광 반사판의 요철 표면측에서, 표면으로부터 광 반사판의 두께 방향을 향하여, 기포가 존재하지 않는 부분을 하나의 층(비발포층)으로 볼 수 있는데, 상기 층 두께는 5㎛ 이상 30㎛ 이하인 것이 바람직하고, 8㎛ 이상 25㎛ 이하인 것이 보다 바람직하며, 8㎛ 이상 20㎛ 이하인 것이 더 바람직하다.That is, when the light reflection plate of the present invention is a foam sheet, a portion where no air bubbles exist can be regarded as one layer (non-foam layer) in the thickness direction of the light reflection plate from the surface side of the concave- , And the layer thickness is preferably from 5 탆 to 30 탆, more preferably from 8 탆 to 25 탆, and further preferably from 8 탆 to 20 탆.

또, 요철 표면측에서 기포가 존재하지 않는 층의 두께(㎛)와, 요철 표면의 Rz(㎛)의 관계에서는, 기포가 존재하지 않는 층의 두께와 요철 표면의 Rz의 크기는 달라도 좋고, 같아도 좋다. 또한, 기포가 존재하지 않는 층의 두께와 요철 표면의 Rz의 크기가 다른 경우는, 기포가 존재하지 않는 층의 두께 쪽이 커도 좋고, 요철 표면의 Rz 쪽이 커도 좋다. 휘도 불균일을 보다 효과적으로 억제하면서, 비중을 작게 하여 광 반사판의 질량을 경감하고, 또, 충분한 광 반사율을 실현하는 관점에서, 요철 표면측에서 기포가 존재하지 않는 층의 두께보다 요철 표면의 Rz를 크게 하는 것이 바람직하다. 이 경우에 있어서, ［요철 표면측에서의 기포가 존재하지 않는 층의 두께(㎛)］/［요철 표면의 Rz(㎛)］는 0.2~0.9인 것이 바람직하고, 0.3~0.8인 것이 보다 바람직하며, 0.3~0.6인 것이 더 바람직하다.In the relation between the thickness (占 퐉) of the layer without bubbles and the Rz (占 퐉) of the uneven surface, the thickness of the layer without bubbles and the Rz of the uneven surface may be different from each other good. In the case where the thickness of the layer in which bubbles do not exist and the size of Rz of the irregular surface differ from each other, the thickness of the layer without bubbles may be larger or Rz of the irregular surface may be larger. From the viewpoint of reducing the specific gravity and reducing the mass of the light reflecting plate and realizing a sufficient light reflectance while suppressing the brightness irregularity more effectively, the Rz of the unevenness surface is made larger than the thickness of the layer in which bubbles are absent . In this case, the thickness (mu m) of the layer on which the bubbles are not present on the surface side of unevenness / Rz (mu m) of the uneven surface is preferably 0.2 to 0.9, more preferably 0.3 to 0.8, To 0.6.

본 발명의 광 반사판이 발포 시트인 경우에 있어서, 광 반사판에 포함되는 기포의 평균 기포지름은 20㎛ 이하인 것이 바람직하다. 이렇게 함으로써, 입사광이 광 반사판의 내부까지 침입하는 것을 효과적으로 방지할 수 있다. 즉, 기포계면에서의 난반사의 회수가 증가함으로써, 광투과율을 억제하여 높은 광 반사율을 나타내는 광 반사판으로 할 수 있다.In the case where the light reflection plate of the present invention is a foam sheet, it is preferable that the average bubble diameter of the bubbles contained in the light reflection plate is 20 m or less. By doing so, it is possible to effectively prevent the incident light from intruding into the inside of the light reflecting plate. That is, by increasing the number of diffuse reflection at the air bubble interface, it is possible to make a light reflector that suppresses light transmittance and exhibits a high light reflectance.

평균 기포지름의 하한으로 특히 제한은 없지만, 보다 높은 광 반사율을 얻는 관점에서 0.2㎛ 이상인 것이 바람직하고, 0.5㎛ 이상인 것이 보다 바람직하며, 1.0㎛ 이상인 것이 더 바람직하고, 1.5㎛ 이상인 것이 더욱 더 바람직하다.The lower limit of the average cell diameter is not particularly limited. However, from the viewpoint of obtaining a higher light reflectance, it is preferably 0.2 탆 or more, more preferably 0.5 탆 or more, more preferably 1.0 탆 or more, .

광 반사율, 비중, 기포 수 밀도를 고려하면, 평균 기포지름은 0.2㎛ 이상 10㎛ 이하인 것이 보다 바람직하고, 0.5㎛ 이상 5.0㎛ 이하인 것이 더 바람직하며, 0.5㎛ 이상 3.0㎛ 이하인 것이 더 바람직하고, 1.0㎛ 이상 3.0㎛ 이하인 것이 더 바람직하며, 1.5㎛ 이상 3.0㎛ 이하인 것이 더 바람직하다.In consideration of the light reflectance, the specific gravity, and the density of the bubble water, the average bubble diameter is more preferably 0.2 탆 or more and 10 탆 or less, still more preferably 0.5 탆 or more and 5.0 탆 or less, still more preferably 0.5 탆 or more and 3.0 탆 or less, And more preferably not less than 1.5 mu m and not more than 3.0 mu m.

광 반사판의 평균 기포지름은, ASTM　D3576-77에 의해 구해지는 값을 말한다. 구체적으로는, 후술하는 실시예에 기재된 방법으로 측정할 수 있다.The mean bubble diameter of the light reflector refers to the value obtained by ASTM D3576-77. Specifically, it can be measured by the method described in the following Examples.

본 명세서에 있어서, 「기포」란, 광 반사판 중에 존재하는 불활성 가스 등을 포함한 공간이고, 그 단면에서 단변(短邊)의 길이가 0.1㎛를 초과하는 부분을 가지는 것을 말한다. 본 명세서에서 「기포」의 형상에 특히 제한은 없다. 또, 기포를 함유하지 않는 층의 두께, 평균 기포지름, 기포수 밀도의 측정에 있어서는, 광 반사판의 단면을 관찰했을 때에, 상기 단면에서 단변의 길이가 0.1㎛를 초과하는 것을 기포로 했다.In the present specification, the term "bubble" refers to a space containing an inert gas or the like existing in a light reflecting plate, and has a portion whose short side has a length of more than 0.1 μm. The shape of the " bubble " in the present specification is not particularly limited. In the measurement of the thickness of the layer not containing bubbles, the average bubble diameter, and the density of the bubble water, when the cross section of the light reflecting plate was observed, bubbles having a length of the short side exceeding 0.1 탆 were observed.

본 발명의 광 반사판이 발포 시트인 경우에 있어서, 기포가 존재하는 부분(발포층)에서의 기포수 밀도는 5.0×1010~1.0×1014인 것이 바람직하고, 1.0×1011~1.0×1013인 것이 보다 바람직하다. 발포층의 기포수 밀도를 상기 바람직한 범위 내로 함으로써, 가시광선의 파장 전체 범위에서 높은 레벨의 광 반사율을 유지할 수 있다.In the case where the light reflection plate of the present invention is a foam sheet, the density of bubble in the portion where the bubble exists (foam layer) is preferably 5.0 x 10 10 to 1.0 x 10 14 , more preferably 1.0 x 10 11 to 1.0 x 10 13 < / RTI > By setting the density of the bubble water in the foam layer within the above preferable range, it is possible to maintain a high level of light reflectance in the entire wavelength range of visible light.

광 반사판의 기포수 밀도의 측정에서는, 광 반사판의 종단면(두께 방향으로 파단한 단면)에 대하여 SEM 사진을 촬영하고, 상기 SEM 사진상에서 발포층 중(기포가 존재하는 영역 중) 임의의 100㎛×100㎛의 영역을 무작위로 선택하여, 그 중에 존재하는 기포수(n)를 계수(상기 단면 관찰에서 단변이 0.1㎛를 초과하는 것을 기포로 하여 계수)하고, 1㎟ 당에 존재하는 기포수를 산출한다. 얻어진 수치를 3/2승 함으로써 1㎣ 당의 기포수로 환산하여 기포 수 밀도가 측정된다.In the measurement of the density of the bubble water in the light reflecting plate, an SEM photograph was taken of the longitudinal section of the light reflecting plate (section cut in the thickness direction). On the SEM photograph, (The number of bubbles existing in the area of 1 mm < 2 > is calculated by dividing the number of bubbles present in the area by 100) . By multiplying the obtained numerical value by 3/2, the density of bubble water is measured in terms of the number of bubbles per bubble.

본 발명의 광 반사판은, 1 종류의 재료로 이루어지는 단층 구조라도 좋고, 각 층의 재료가 다른 복층 구조라도 좋다. 예를 들면 발포 시트이면, 요철 표면을 형성하는 층을 발포하기 어려운 수지로 형성함으로써, 요철 표면측의 표면으로부터 원하는 깊이까지를 비발포층으로 할 수 있다. 요철의 형성성이나 광 반사성의 관점에서, 예를 들면, 발포하기 쉬운 수지층을 사이에 넣고 발포하기 어려운 수지층을 적층하여 3층 구조로 하는 것도 바람직하다.The light reflector of the present invention may be a single layer structure made of one kind of material or a multi-layer structure in which the material of each layer is different. For example, in the case of a foam sheet, the layer forming the uneven surface can be made of a resin hard to foam, so that the non-foam layer can be formed from the surface of the uneven surface to the desired depth. From the viewpoint of the formability of irregularities and the light reflectivity, it is also preferable to form a three-layer structure by laminating resin layers which are difficult to foam by interposing a resin layer which is easily foamed.

본 발명의 광 반사판이 수지로 이루어지는 경우, 적어도 요철 표면을 구성하는 수지는 열가소성 폴리에스테르를 포함하는 것이 바람직하고, 열가소성 방향족 폴리에스테르를 포함하는 것이 보다 바람직하다. 더 바람직하게는, 요철 표면을 구성하는 수지는 열가소성 방향족 폴리에스테르 수지로 이루어진다. 열가소성 방향족 폴리에스테르로서는, 예를 들면, 폴리에틸렌테레프탈레이트, 폴리트리메틸렌테레프탈레이트, 폴리부틸렌테레프탈레이트, 폴리에틸렌나프탈레이트, 폴리부틸렌나프탈 레이트, 폴리시클로헥산디메틸렌테레프탈레이트 또는 이들의 블랜드(blend) 수지를 들 수 있다. 그 중에서도, 폴리에틸렌테레프탈레이트, 또는, 폴리에틸렌테레프탈레이트와 폴리부틸렌테레프탈레이트의 블랜드 수지를 적합하게 이용할 수 있다.When the light reflection plate of the present invention is made of a resin, it is preferable that the resin constituting at least the uneven surface includes a thermoplastic polyester, and more preferably a thermoplastic aromatic polyester. More preferably, the resin constituting the uneven surface is made of a thermoplastic aromatic polyester resin. Examples of the thermoplastic aromatic polyester include polyethylene terephthalate, polytrimethylene terephthalate, polybutylene terephthalate, polyethylene naphthalate, polybutylene naphthalate, polycyclohexanedimethylene terephthalate, or blends thereof ) Resin. Among them, polyethylene terephthalate or a blend resin of polyethylene terephthalate and polybutylene terephthalate can be suitably used.

본 발명의 광 반사판은, 그 전체가 열가소성 폴리에스테르 수지로 이루어지는 것이 바람직하고, 열가소성 방향족 폴리에스테르 수지로 이루어지는 것이 보다 바람직하다. 열가소성 방향족 폴리에스테르 수지의 바람직한 예는 상기와 같다.The light reflector of the present invention is preferably composed entirely of a thermoplastic polyester resin, more preferably a thermoplastic aromatic polyester resin. Preferable examples of the thermoplastic aromatic polyester resin are as described above.

본 발명의 광 반사판은, 결정화 핵제, 결정화 촉진제, 산화 방지제, 자외선 방지제, 광안정제, 형광증백제, 안료, 염료, 상용화제, 활재, 강화제, 난연제, 가교제, 가교조제, 가소제, 증점제, 감점제 등의 각종 첨가제를 함유해도 좋다.The light reflector of the present invention can be suitably used as a light reflector in the present invention which can be used in various fields such as a crystallization nucleating agent, a crystallization accelerator, an antioxidant, an ultraviolet ray inhibitor, a light stabilizer, a fluorescent whitening agent, a pigment, a dye, a compatibilizing agent, And the like.

(두께)(thickness)

본 발명의 광 반사판의 두께는 0.1㎜ 이상인 것이 바람직하다. 이렇게 함으로써, 충분한 강성을 구비한 광 반사판으로 할 수 있고, 물결 주름의 발생을 효과적으로 억제할 수 있다. 또, 생산성을 고려하면, 상기 두께는 1㎜ 이하인 것이 바람직하다. 보다 바람직하게는, 본 발명의 광 반사판의 두께는 0.2㎜ 이상 1.0㎜ 이하이고, 더 바람직하게는 0.3㎜ 이상 1.0㎜ 이하이며, 더욱 더 바람직하게는 0.3㎜ 이상 0.8㎜ 이하이고, 가장 바람직하게는 0.3㎜ 이상 0.7㎜ 이하이다.The thickness of the light reflecting plate of the present invention is preferably 0.1 mm or more. By doing so, a light reflector having sufficient rigidity can be obtained, and the generation of wrinkles can be effectively suppressed. In consideration of productivity, the thickness is preferably 1 mm or less. More preferably, the thickness of the light reflection plate of the present invention is 0.2 mm or more and 1.0 mm or less, more preferably 0.3 mm or more and 1.0 mm or less, still more preferably 0.3 mm or more and 0.8 mm or less, 0.3 mm or more and 0.7 mm or less.

광 반사판의 두께는, 예를 들면, 광 반사판이 수지로 이루어지는 경우에는 플랫 롤이나 크라운이 붙은 롤을 이용하여 냉간 프레스 함으로써 조절할 수 있다. 냉간 프레스에 의하여, 강성을 손상시키지 않고 두께를 조절할 수 있다. 또, 광 반사판을 구성하는 수지의 유리 전이 온도 이상의 온도로 열처리함으로써 치수 안정성을 개선할 수도 있다.The thickness of the light reflection plate can be adjusted by, for example, cold pressing using a roll having a flat roll or a crown when the light reflection plate is made of resin. By cold pressing, the thickness can be adjusted without impairing the rigidity. In addition, the dimensional stability can be improved by heat-treating the resin constituting the optical reflector at a temperature not lower than the glass transition temperature.

(광 반사판의 제조)(Production of light reflector)

본 발명의 광 반사판의 제조방법으로 특히 제한은 없고, 여러 가지의 제법을 채용할 수 있다. 예를 들면, 본 발명의 광 반사판이 발포 시트이면, 압력 용기 내에서, 수지 시트에 불활성 가스를 함침시킨 후에 가열하여 발포시키는 배치(batch) 발포법, 압출기의 다이로부터 수지 시트를 압출함과 함께 발포시키는 압출 발포법, 필러가 든 수지 시트를 압출하고 나서 연신하여 필러와 수지의 계면에 공동(空洞)을 만드는 연신법 등을 채용할 수 있다. 또, 발포 시트가 아닌 경우에는, 예를 들면, 수지에 백색 안료(무기 필러)를 고(高) 함유시키는 필러 충전법을 채용할 수 있다. 또, 요철의 형성에 대해서는 상술한 방법을 채용할 수 있다. 또한, 수지 시트의 표면을 금속 박막으로 덮고, 이 금속 박막 위에 필러를 살포함으로써 원하는 요철 표면을 가지는 본 발명의 광 반사판을 제조할 수도 있다.There is no particular limitation on the method for producing the light reflector of the present invention, and various production methods can be employed. For example, when the light reflection plate of the present invention is a foamed sheet, a batch foaming method in which a resin sheet is impregnated with an inert gas and then heated and foamed in a pressure vessel is extruded from a die of an extruder A stretching method in which a resin sheet having a filler is extruded and then stretched to form a cavity at the interface between the filler and the resin can be employed. When the foam sheet is not used, for example, a filler filling method may be employed in which a white pigment (inorganic filler) is contained in a resin to a high level. In addition, the above-mentioned method can be adopted for the formation of the unevenness. Further, the surface of the resin sheet is covered with a metal thin film, and a filler is sprayed on the thin metal film to produce a light reflector of the present invention having a desired concave-convex surface.

그 중에서도 배치(batch) 발포법은, 기포를 미세화하기 쉽고 높은 광 반사율을 실현할 수 있으며, 또한, 광 반사판의 비중을 보다 억제하여 경량화할 수 있는 점에서, 본 발명의 광 반사판의 제조방법으로서 적합하다. 배치(batch) 발포법에 의해 본 발명의 광 반사판을 제조하는 방법이 바람직한 형태(이하, 「본 발명의 제조방법」이라고 한다.)에 대하여 이하에서 더 상세하게 설명하지만, 본 발명의 광 반사판의 제조방법은 이것으로 한정되는 것은 아니다.Particularly, the batch foaming method is suitable as a method for producing a light reflector of the present invention because it is easy to miniaturize bubbles and can realize a high light reflectance, Do. A method of producing a light reflector of the present invention by a batch foaming method will be described in more detail below with respect to a preferred embodiment (hereinafter referred to as " the production method of the present invention "), The manufacturing method is not limited to this.

본 발명의 제조방법은 하기 (a)~(c)의 공정을 포함한다.The production method of the present invention includes the following steps (a) to (c).

(a) 압출 성형에 의해 시트 형상으로 배출된 기재 수지 시트를, 요철을 가지는 엠보스 롤과 접촉시켜, 적어도 한쪽 면에 요철을 가지는 기재 수지 시트를 얻는 공정,(a) a step of bringing a base resin sheet discharged in a sheet form by extrusion molding into contact with an embossing roll having projections and depressions to obtain a base resin sheet having projections and depressions on at least one side,

(b) 요철 표면을 가지는 기재 수지 시트에 불활성 가스를 함침시키는 공정 및(b) a step of impregnating a base resin sheet having an uneven surface with an inert gas and

(c) 불활성 가스를 함침시킨 요철 표면을 가지는 기재 수지 시트를 가열하여, 발포시키는 공정.(c) A step of heating and firing a base resin sheet having an uneven surface impregnated with an inert gas.

-공정 (a)-- Process (a) -

상기 공정 (a)에서의 기재 수지 시트는 열가소성 수지이면 특히 제한은 없지만, 열가소성 폴리에스테르를 포함하는 것이 바람직하고, 보다 바람직하게는 열가소성 폴리에스테르 수지로 이루어진다. 열가소성 폴리에스테르 수지의 바람직한 형태는 상술한 것과 동일하다. 기재 수지 시트의 구성에 특히 제한은 없으며, 단층이라도 복층이라도 좋다. 그 중에서도, 불활성 가스를 함침시켜 가열했을 때에 발포하기 쉬운 수지층(I)을 사이에 넣도록, 불활성 가스를 함침시켜 가열해도 발포하기 어려운 수지층(II)을 적층한 3층 구조로 하는 것이 바람직하다. 기재 수지 시트는, 원하는 수지를 압출 성형에 의해 T다이로부터 단층 구조 혹은 복층 구조로 배출시킴으로써 얻을 수 있다.The base resin sheet in the step (a) is not particularly limited as long as it is a thermoplastic resin, but it preferably comprises a thermoplastic polyester, more preferably a thermoplastic polyester resin. Preferred forms of the thermoplastic polyester resin are the same as those described above. The constitution of the base resin sheet is not particularly limited, and a single layer or a multilayer may be used. Among these, a three-layer structure is preferred in which a resin layer (I), which is easily foamed when impregnated with an inert gas, is interposed in between, and a resin layer (II) Do. The base resin sheet can be obtained by discharging a desired resin from a T die into a single-layer structure or a multi-layer structure by extrusion molding.

수지층(I)은, 예를 들면 폴리에틸렌테레프탈레이트를 60 질량% 이상 함유하는 구성으로 할 수 있다. 또한, 수지층(I)은 폴리에틸렌테레프탈레이트를 70 질량% 이상, 보다 바람직하게는 80 질량% 이상, 더 바람직하게는 90 질량% 이상 함유하는 것이 바람직하다. 또, 수지층(I)은 폴리에틸렌테레프탈레이트 수지로 이루어지는 층인 것도 바람직하다. 또한, 후술하는 기포핵제를 함유시킨 수지를 이용하는 것도 바람직하다.The resin layer (I) may contain, for example, polyethylene terephthalate in an amount of 60 mass% or more. The resin layer (I) preferably contains polyethylene terephthalate in an amount of 70 mass% or more, more preferably 80 mass% or more, and further preferably 90 mass% or more. It is also preferable that the resin layer (I) is a layer made of a polyethylene terephthalate resin. It is also preferable to use a resin containing a bubble nucleating agent, which will be described later.

또, 수지층(II)은, 예를 들면 폴리부틸렌테레프탈레이트를 50 질량% 이상 함유하는 구성으로 할 수 있다. 또한 수지층(II)은 폴리부틸렌테레프탈레이트를 55 질량% 이상 함유하는 층으로 하는 것이 바람직하다. 수지층(II)은 폴리부틸렌테레프탈레이트 수지와 폴리에틸렌테레프탈레이트 수지와의 블랜드 수지로 이루어지는 것이 바람직하다.The resin layer (II) may contain, for example, 50 wt% or more of polybutylene terephthalate. The resin layer (II) is preferably a layer containing 55 wt% or more of polybutylene terephthalate. The resin layer (II) is preferably composed of a blend resin of a polybutylene terephthalate resin and a polyethylene terephthalate resin.

기재 수지 시트는 기포핵제를 함유하고 있어도 좋다. 기포핵제란, 열가소성 수지가 기포를 형성할 때에 기포핵의 형성을 재촉하는 것이고, 기포의 미세화와 균일성에 효과를 나타낸다. 기포핵제로서는, 예를 들면 탈크 등의 무기 화합물, 아조디카르본아미드 등의 유기 화합물, 질소 등의 불활성 가스, 용융형 결정화핵제 또는 열가소성 엘라스토머 등을 들 수 있고, 그 중에서도 특히 열가소성 엘라스토머가 바람직하다.The base resin sheet may contain a bubble nucleating agent. The bubble nucleating agent promotes the formation of bubble nuclei when the thermoplastic resin forms bubbles, and exhibits the effect of fineness and uniformity of the bubbles. Examples of the foam nucleating agent include inorganic compounds such as talc, organic compounds such as azodicarbonamide, inert gases such as nitrogen, melt-type crystallization nucleating agents, and thermoplastic elastomers. Of these, thermoplastic elastomers are particularly preferable.

상기 열가소성 엘라스토머로서는, 한정되는 것은 아니지만, 광 반사율 및 휘도 향상의 점에서, 분자 중에 파라페닐렌 골격 및 에스테르 결합을 가지는 블록 공중합체, 하드 세그먼트가 방향족 폴리에스테르로 소프트 세그먼트가 폴리에테르로 이루어지는 폴리에스테르ㆍ폴리에테르 블록 공중합체, 하드 세그먼트가 방향족 폴리에스테르로 소프트 세그먼트가 지방족 폴리에스테르로 이루어지는 폴리에스테르ㆍ폴리에스테르 블록 공중합체 등을 적당히 선택할 수 있다. 이들은 일종을 단독으로 이용해도, 2종 이상을 혼합하여 이용해도 좋다.The thermoplastic elastomer is not particularly limited but is preferably a block copolymer having a paraphenylene skeleton and an ester bond in a molecule from the viewpoint of light reflectance and luminance enhancement, a polyester having a hard segment of an aromatic polyester and a soft segment of a polyether Polyether block copolymers, polyester-polyester block copolymers in which the hard segment is an aromatic polyester and the soft segment is an aliphatic polyester, and the like can be appropriately selected. These may be used alone or in combination of two or more.

상기 폴리에스테르ㆍ폴리에테르 블록 공중합체는, 방향족 폴리에스테르와 폴리에테르를 공지의 방법에 의해 공축합 시킴으로써 얻을 수 있다. 상기 폴리에스테르ㆍ폴리에스테르 블록 공중합체는, 방향족 폴리에스테르와 지방족 폴리에스테르를 공지의 방법에 의해 공축합 시킴으로써 얻을 수 있다.The polyester / polyether block copolymer can be obtained by co-condensation of an aromatic polyester and a polyether by a known method. The polyester / polyester block copolymer can be obtained by co-condensation of an aromatic polyester and an aliphatic polyester by a known method.

상기 폴리에스테르ㆍ폴리에테르 블록 공중합체 및 폴리에스테르ㆍ폴리에스테르 블록 공중합체를 구성하는 방향족 폴리에스테르 세그먼트는, 방향족 디카르본으로부터 유도되는 단위와, 디올 화합물로부터 유도되는 단위로 이루어질 수 있다. 방향족 디카르본산으로서, 구체적으로는, 테레프탈산, 이소프탈산, 나프탈렌디카르본산, 디페닐디카르본산 등을 들 수 있다. 이들은, 2종 이상의 조합이라도 좋다. 또, 디올 화합물로서 구체적으로는, 에틸렌글리콜, 트리메틸렌글리콜, 1,2-프로필렌글리콜, 테트라메틸렌글리콜, 펜타메틸렌글리콜, 네오펜틸글리콜, 2,2-디메틸트리메틸렌글리콜, 헥사메틸렌글리콜, 도데카메틸렌글리콜 등의 지방족 디올 화합물； p-크실렌글리콜 등의 방향족 디올 화합물； 시클로헥산디메탄올 등의 지환족 디올 화합물을 들 수 있다. 이들은, 2종 이상의 조합이라도 좋다.The aromatic polyester segment constituting the polyester / polyether block copolymer and the polyester / polyester block copolymer may be composed of a unit derived from an aromatic dicarbon and a unit derived from a diol compound. Specific examples of the aromatic dicarboxylic acid include terephthalic acid, isophthalic acid, naphthalenedicarboxylic acid, and diphenyldicarboxylic acid. These may be used in combination of two or more. Specific examples of the diol compound include ethylene glycol, trimethylene glycol, 1,2-propylene glycol, tetramethylene glycol, pentamethylene glycol, neopentyl glycol, 2,2-dimethyltrimethylene glycol, hexamethylene glycol, Aliphatic diol compounds such as methylene glycol; aromatic diol compounds such as p-xylene glycol; and alicyclic diol compounds such as cyclohexane dimethanol. These may be used in combination of two or more.

방향족 폴리에스테르 세그먼트는, 방향족 디카르본산 성분 및 디올 화합물 성분 1종씩으로 이루어지는 폴리에스테르라도 좋고, 어느 한쪽이 2종 이상으로 이루어지든지, 혹은 양성분이 각각 2종 이상으로 이루어지는 폴리에스테르라도 좋다.The aromatic polyester segment may be a polyester composed of an aromatic dicarboxylic acid component and one diol compound component, either of which is composed of two or more kinds, or a polyester having two or more kinds of positive components.

또한, 폴리에스테르ㆍ폴리에테르 블록 공중합체의 소프트 세그먼트인 폴리에테르로서는, 구체적으로 폴리부탄디올, 폴리에틸렌글리콜 등을 들 수 있다.Specific examples of the polyether which is a soft segment of the polyester / polyether block copolymer include polybutanediol, polyethylene glycol and the like.

폴리에스테르ㆍ폴리에스테르 블록 공중합체의 소프트 세그먼트인 지방족 폴리에스테르는, 지방족 디카르본산으로부터 유도되는 단위와, 디올 화합물로부터 유도되는 단위로 이루어질 수 있다. 지방족 디카르본산으로서는, 구체적으로 아디핀산, 세바신산, 아젤라인산, 데칸디카르본산 및 이들의 유도체 등을 들 수 있고, 이들의 조합이라도 좋다. 디올 화합물은, 상기 방향족 폴리에스테르 세그먼트로 설명한 것과 같은 것을 들 수 있다.The aliphatic polyester which is a soft segment of the polyester / polyester block copolymer may be composed of a unit derived from an aliphatic dicarboxylic acid and a unit derived from a diol compound. Specific examples of the aliphatic dicarboxylic acid include adipic acid, sebacic acid, azelaic acid, decanedicarboxylic acid, and derivatives thereof, and combinations thereof. Examples of the diol compound include those described above for the aromatic polyester segment.

기재 수지 시트는 용융형 결정화 핵제를 함유하고 있어도 좋다. 용융형 결정화 핵제란, 열가소성 수지 중에 첨가함으로써, 용융 혼련시에 수지 중에 용융 분산되고, 강온 응고 과정에서 응집고화(凝集固化)한 기포핵제를 말한다.The base resin sheet may contain a melt type crystallization nucleating agent. The melt type crystallization nucleating agent refers to a bubble nucleating agent which is added to a thermoplastic resin to be melt-dispersed in a resin during melt-kneading, and coagulated and solidified (coagulated and solidified) during the temperature coagulating step.

용융형 결정화 핵제로서는, 한정되는 것은 아니지만, N,N＇-디시클로헥실-2,6-나프탈렌디카르복사미드(시판품으로서는, 예를 들면 신니혼리카(新日本理化)제의 에누제스타 NU-100), 리카크리아 PC-1(상품명, 신니혼리카제), T1465N(상품명, ADEKA제)등을 적당히 선택할 수 있다. 이들은 1종을 단독으로 이용해도, 2종 이상을 혼합하여 이용해도 좋다. 광 반사판의 비중이나 광 반사 성능의 관점에서, N,N＇-디시클로헥실-2,6-나프탈렌디카르복사미드를 적합하게 이용할 수 있다.The melting type crystallization nucleating agent includes, but is not limited to, N, N'-dicyclohexyl-2,6-naphthalenedicarboxamide (commercially available products include, for example, Enjesuta NU -100), Riccia PC-1 (trade name, manufactured by Shin-Nihon Rika) and T1465N (trade name, manufactured by ADEKA) can be appropriately selected. These may be used alone or in combination of two or more. N, N'-dicyclohexyl-2,6-naphthalenedicarboxamide can be suitably used in view of the specific gravity of the light reflector and the light reflection performance.

상기 공정 (a)에서는, 기재 수지 시트의 적어도 한쪽 면을 원하는 요철 형상을 가지는 엠보스 롤과 접촉시킴으로써 표면에 원하는 요철을 가지는 기재 수지 시트를 얻는다. 기재 수지 시트와 엠보스 롤과의 접촉은, T다이로부터 배출된 직후에 행하는 것이 바람직하지만, 차가워져 굳어진 상태의 기재 수지 시트를 가열하고 나서 접촉시킬 수도 있다.In the step (a), at least one side of the base resin sheet is brought into contact with an embossing roll having a desired concave-convex shape to obtain a base resin sheet having desired concavity and convexity on the surface. The base resin sheet and the emboss roll are preferably brought into contact with each other immediately after they are discharged from the T-die, but the base resin sheet may be contacted after being heated and hardened.

또한, 기재 수지 시트의 요철을 형성하는 표면에는, 상술한 바와 같이 실리콘 입자나 탈크 입자 등의 무기 필러를 함유시켜 두는 것도 바람직하다. 무기 필러를 함유시켜둠으로써, 생산성을 잃지 않고 요철 표면의 Rz를 원하는 범위로 제어하기 쉬워진다. 무기 필러는, 요철 표면을 구성하는 수지 100질량부에 대하여, 0.5~5질량부 함유시키는 것이 바람직하다.It is also preferable that inorganic fillers such as silicon particles and talc particles are contained in the surface of the base resin sheet on which the concavities and convexities are formed as described above. By containing an inorganic filler, it becomes easy to control the Rz of the uneven surface to a desired range without losing productivity. The inorganic filler is preferably contained in an amount of 0.5 to 5 parts by mass based on 100 parts by mass of the resin constituting the uneven surface.

기재 수지 시트는 무연신(無延伸)인 것이 바람직하다. 무연신이면 불활성 가스의 침투성이 높고, 보다 우수한 광 반사 성능의 광 반사판을 제조할 수 있다.The base resin sheet is preferably a non-oriented (non-oriented) sheet. If it is non-drawn, it is possible to produce a light reflecting plate having a higher permeability of inert gas and a better light reflection performance.

-공정 (b)-- Process (b) -

상기 공정 (b)에서는, 상기 공정 (a)에서 얻어진 요철 표면을 가지는 기재 수지 시트에 불활성 가스를 함침시킨다. 상기 공정 (a)에서 얻어진 기재 수지 시트와 세퍼레이트를 겹쳐 감음으로써 롤을 형성하고, 이 롤을 가압 불활성 가스 분위기중에서 유지하여 수지 시트에 불활성 가스를 함침시키는 것이 바람직하다. 상기 세퍼레이터는, 불활성 가스나 필요에 따라서 이용되는 유기용제가 자유롭게 출입하는 공극을 가지고, 또 그 자신으로의 불활성 가스의 침투를 무시할 수 있는 것이라면 어떠한 것이라도 좋다. 세퍼레이터의 적합한 예를 나타내면, 수지성 부직포나 금속제 망을 들 수 있다.In the step (b), the base resin sheet having the uneven surface obtained in the step (a) is impregnated with an inert gas. It is preferable that a roll is formed by winding the base resin sheet obtained in the step (a) and the separator overlapping each other, and this roll is kept in a pressurized inert gas atmosphere to impregnate the resin sheet with an inert gas. The separator may be any gas as long as it has voids in which an inert gas and an organic solvent to be used as needed freely go in and out and can neglect penetration of an inert gas into itself. A suitable example of the separator is a resinous nonwoven fabric or a metal net.

롤을 형성한 수지 시트에 불활성 가스를 함침시키기 전에, 수지 시트에 유기용제를 함유하게 해도 좋다. 수지 시트에 유기용제를 함유시키면, 열가소성 수지 시트의 결정화도를 향상시킬 수 있고, 시트의 강성이 향상되어 시트 표면에 세퍼레이터의 흔적이 잔존하기 어려워진다. 또, 불활성 가스의 침투 시간을 단축시키는 효과도 기대할 수 있다.The resin sheet may contain an organic solvent before impregnating the roll-formed resin sheet with an inert gas. When the organic resin is contained in the resin sheet, the degree of crystallization of the thermoplastic resin sheet can be improved, and the rigidity of the sheet is improved, so that traces of the separator on the sheet surface are less likely to remain. In addition, the effect of shortening the penetration time of the inert gas can be expected.

상기 유기용제로서는, 예를 들면, 벤젠, 톨루엔, 메틸에틸케톤, 포름산에틸, 아세톤, 초산, 디옥산, m-크레졸, 아닐린, 아크릴로니트릴, 프탈산디메틸, 니트로에탄, 니트로메탄, 벤질알코올을 들 수 있다. 그 중에서도 아세톤이 적합하게 이용된다.Examples of the organic solvent include organic solvents such as benzene, toluene, methyl ethyl ketone, ethyl formate, acetone, acetic acid, dioxane, m-cresol, aniline, acrylonitrile, dimethyl phthalate, nitroethane, . Of these, acetone is suitably used.

상기 불활성 가스로서는, 헬륨, 질소, 이산화탄소, 아르곤 등을 들 수 있다. 그 중에서도 이산화탄소는, 열가소성 수지 중에 다량으로 함유시킬 수 있는 점에서 바람직하다. 불활성 가스의 침투압력은 바람직하게는 30~70 ㎏/㎠, 보다 바람직하게는 50~70 ㎏/㎠이다. 또, 불활성 가스의 침투 시간은 통상으로는 1시간 이상이고, 포화 상태가 될 때까지 불활성 가스를 침투시키는 것이 바람직하다. 통상은 침투 시간을 24시간 이상으로 하면, 불활성 가스의 침투를 포화 상태로 할 수 있다.Examples of the inert gas include helium, nitrogen, carbon dioxide, and argon. Among them, carbon dioxide is preferable because it can be contained in a large amount in the thermoplastic resin. The penetration pressure of the inert gas is preferably 30 to 70 kg / cm 2, more preferably 50 to 70 kg / cm 2. The penetration time of the inert gas is usually one hour or more, and it is preferable to infiltrate the inert gas until it reaches the saturated state. Normally, if the infiltration time is set to 24 hours or more, infiltration of the inert gas can be set to a saturated state.

-공정 (c)-- Process (c) -

상기 공정 (c)에서는, 상기 공정 (b)에서 얻어진, 불활성 가스를 함침시킨 요철 표면을 가지는 수지 시트를 발포시킨다. 이 발포 공정은, 롤로부터 세퍼레이터를 없애고, 수지 시트를, 상압(常壓)하에서, 발포층을 형성하기 위한 열가소성 수지의 연화점 이상의 온도로 가열하여 행한다. 이 가열은, 발포층의 융점보다 낮은 온도에서 행하는 것이 바람직하다. 발포층이 폴리에틸렌테레프탈레이트이면, 발포를 위한 가열 온도는 150~240℃, 바람직하게는 180~230℃이다.In the step (c), a resin sheet obtained by the step (b) and having an uneven surface impregnated with an inert gas is foamed. This foaming step is carried out by removing the separator from the roll and heating the resin sheet at a temperature equal to or higher than the softening point of the thermoplastic resin for forming the foam layer under atmospheric pressure. This heating is preferably performed at a temperature lower than the melting point of the foam layer. If the foamed layer is polyethylene terephthalate, the heating temperature for foaming is 150 to 240 캜, preferably 180 to 230 캜.

기재 수지 시트의 요철 표면을 비발포성 수지로 구성하거나, 결정화 핵제나 결정화 촉진제를 함유시키거나 하여 발포하기 어려운 상태로 해 두면, 요철 표면을 비발포층으로 할 수 있다. 또, 불활성 가스를 함침 후, 시간 경과와 함께 수지로부터 불활성 가스가 빠져나가기 때문에, 공정 (b) 후, 불활성 가스를 빼기 위한 시간을 일정시간 취함으로써, 요철 표면의 발포를 억제할 수 있다.If the uneven surface of the base resin sheet is made of a non-foamable resin, or if the surface of the base resin sheet is made difficult to foam by containing a crystallization nucleus agent or a crystallization promoter, the uneven surface can be a non-foam layer. In addition, since the inert gas escapes from the resin with the lapse of time after the impregnation with the inert gas, the time for removing the inert gas after the step (b) is kept constant for a certain period of time,

［액정 디스플레이용 백 라이트］[Backlight for liquid crystal display]

본 발명의 액정 디스플레이용 백 라이트는, 도 1에 나타내는 바와 같이, 광원(8)과, 도광판(3)과, 본 발명의 광 반사판(4)을 가진다. 본 발명의 광 반사판(4)은, 그 요철 표면이 도광판(3)측을 향한 상태로 배치된다. 또, 도광판(3)의 로크웰 R 스케일 경도는 70 이상인 것이 바람직하다. 한편, 도 1은, 본 발명의 액정 디스플레이용 백 라이트의 구조를 모식적으로 나타낸 것이며, 각 부재의 사이즈 내지 상대적인 대소 관계 등은 설명의 편의상 대소를 바꾸고 있는 경우가 있고, 실제 관계를 그대로 나타내는 것은 아니다. 또한, 본 발명에서 규정하는 사항 이외는 이들 도면에 나타낸 외형, 형상으로 한정되는 것도 아니다.As shown in Fig. 1, the backlight for a liquid crystal display of the present invention has a light source 8, a light guide plate 3, and a light reflector 4 of the present invention. The light reflection plate (4) of the present invention is arranged such that the surface of the light reflection plate faces the light guide plate (3) side. It is preferable that the light guide plate 3 has a Rockwell R scale hardness of 70 or more. On the other hand, Fig. 1 schematically shows the structure of a backlight for a liquid crystal display of the present invention. The sizes and relative sizes of the respective members are sometimes changed in size for convenience of explanation. no. In addition, the present invention is not limited to the shapes and shapes shown in these drawings except for the matters specified in the present invention.

도광판(3)의 재질은, 로크웰 R 스케일 경도가 70 이상의 수지인 것이 바람직하고, 메틸메타크릴레이트와 스티렌과의 공중합체인 MS수지를 함유하는 것이 보다 바람직하며, MS수지로 이루어지는 것이 더 바람직하다. 또한, 아크릴 수지제의 도광판도 적합하게 이용할 수 있다.The material of the light guide plate 3 is preferably a resin having a Rockwell R scale hardness of 70 or more, more preferably an MS resin as a copolymer of methyl methacrylate and styrene, and more preferably made of an MS resin. Also, a light guide plate made of an acrylic resin can be suitably used.

그 중에서도, MS수지판(3~5㎜두께)에 점 인쇄를 실시하여 표면에 요철을 형성한 도광판, UV 전사법에 의해 표면에 요철을 형성한 도광판 및 레이저 가공에 의해 표면에 요철을 형성한 도광판이, 생산 능력의 점에서 바람직하다. 특히, 점 인쇄를 실시하여 요철을 형성한 도광판과 본 발명의 광 반사판을, 서로 요철 표면을 향하여 맞대어 배치한 형태로 함으로써, 도광판의 손상을 보다 효과적으로 억제할 수 있다. 또, 서로 볼록부가 스페이서의 역할을 다하여, 사이에 공기층이 형성되기 때문에, 백색 반사판과 도광판과의 밀착을 효과적으로 방지하여 휘도 불균일을 억제함과 함께, 엣지 라이트로부터 도광판으로 입사한 빛을 효과적으로 백 라이트 전면으로 되돌려줄 수 있다.Among them, a light guide plate in which unevenness is formed on the surface by performing point printing on an MS resin plate (3 to 5 mm in thickness), a light guide plate in which unevenness is formed on the surface by a UV transfer method, A light guide plate is preferable in terms of production capacity. Particularly, when the light guide plate having the unevenness formed by the point printing and the light reflection plate of the present invention are arranged so as to face each other to the concavo-convex surface, the damage of the light guide plate can be suppressed more effectively. In addition, since the convex portions serve as spacers to form an air layer therebetween, it is possible to effectively prevent adhesion between the white reflector and the light guide plate, thereby suppressing unevenness of brightness, and effectively suppressing the light incident from the edge light to the light guide plate, It can be returned to the front.

본 발명의 액정 디스플레이용 백 라이트는, 도광판의 요철 표면의 Rz와 비교하여, 이것과 마주보는 광 반사판의 요철 표면의 Rz쪽이 큰 것이 바람직하다. 이렇게 함으로써, 도광판과 광 반사판의 접촉 면적이 제어되기 쉬워지기 때문에, 도광판과 광 반사판의 밀착에 의한 휘도 불균일을 보다 효과적으로 억제할 수 있다.In the backlight for a liquid crystal display of the present invention, it is preferable that the Rz of the concavo-convex surface of the light reflecting plate facing the light guide plate is larger than the Rz of the concavo-convex surface of the light guide plate. By doing so, the contact area between the light guide plate and the light reflector is easily controlled, so that the brightness unevenness due to the close contact between the light guide plate and the light reflector can be suppressed more effectively.

본 발명의 백 라이트를 이용하는 액정 디스플레이는, 예를 들면, 액정 TV, 액정 모니터나, 엣지 라이트형의 간판, 조명기구 등에 이용된다.The liquid crystal display using the backlight of the present invention is used, for example, in a liquid crystal TV, a liquid crystal monitor, a signboard of an edge light type, a lighting apparatus and the like.

이하, 실시예에 기초하여 본 발명을 보다 상세하게 설명하지만, 본 발명은 이들로 한정되는 것은 아니다.Hereinafter, the present invention will be described in more detail based on examples, but the present invention is not limited thereto.

실시예Example

［측정ㆍ평가방법］[Measurement and Evaluation Method]

(1)　0.1 N에서의 굽힘 휨량(1) Bending deflection at 0.1 N

광 반사판을 25㎜ 폭×80㎜ 길이로 잘라내고, 인스트론 5567(인스트론 재팬 컨퍼니 리미티드제)을 이용하여 3점 굽힘 시험을 행하였다. 지점간 거리를 64㎜, 휨 속도를 10㎜/min로 하고, 0.1 N의 하중을 걸었을 때의 굽힘 휨량을 차트로부터 판독했다. 굽힘 휨량의 측정은, 온도 23℃, 측정 습도 60% RH의 조건에서 광 반사판 시료를 24시간 보관한 후, 상기 보관 온습도와 같은 조건으로 실시했다.The light reflector was cut into a length of 25 mm wide × 80 mm and subjected to a three-point bending test using Instron 5567 (manufactured by Instron Japan Connexi Limited). The bending deflection when a load of 0.1 N was applied with a point-to-point distance of 64 mm and a bending rate of 10 mm / min was read from the chart. The amount of bending deflection was measured under the same conditions as the above-mentioned storage temperature and humidity after the sample of the reflector was stored for 24 hours at a temperature of 23 캜 and a humidity of 60% RH.

(2) 최대 높이 거칠기(Rz)(2) Maximum height roughness (Rz)

광 반사판을 100×100㎟로 펀칭하고, 그 요철 표면으로부터 무작위로 선택한 3개소(12㎜의 길이)에 대하여 Rz를 측정하여, 그 평균치를 광 반사판의 Rz로 했다. Rz는, SurfTest　SJ-210(주식회사 미츠토요(Mitutoyo)제)을 이용하고, JIS　B0601(2001)에 기초하여 측정했다.The optical reflector was punched into 100 x 100 mm < 2 > and Rz was measured at three positions (12 mm length) randomly selected from the concavo-convex surface, and the average value was defined as Rz of the light reflector. Rz was measured based on JIS B0601 (2001) using SurfTest SJ-210 (manufactured by Mitutoyo Co., Ltd.).

(3) 정지마찰계수(3) Coefficient of static friction

광 반사판을 150×250㎜로 잘라내고, 자동정지마찰 계수 측정기(가부시키가이샤 야스다세이키(株式會社安田精機)제)의 측정면에 요철 표면이 위가 되도록 붙였다. 금속제 추(錘)에 도광판의 재료인 MS수지(덴카 TX-100S　덴키카가쿠고교 가부시키가이샤(電氣化學工業株式會社)제)제의 판(5×60×80㎣)을 붙이고, 이 MS수지를 측정면에 붙인 광 반사판의 요철면에 얹어, 경사져 추가 미끄러지기 시작하는 각도(θ)를 기록했다. 정지마찰계수(μstatic)는, 하기 식(1)을 이용하여 산출했다. 한편, 상기 MS수지제판은, 100㎜×100㎜×5㎜의 프레스 성형한 MS수지제판으로부터 상술의 규정 사이즈로 잘라내고, 그 표면을 연마재(상품명：피칼 금속마, 니혼마료가부시키가이샤(日本磨料工業株式會社)제)를 이용하여 연마하여, 평활하게 한 면을 광 반사판 측을 향하여 사용했다.The optical reflector was cut out to a size of 150 mm x 250 mm and attached to the measurement surface of an automatic static friction coefficient meter (manufactured by YASUDA SEIKI KASEI Co., Ltd.) so that the irregular surface was located on the top. A plate (5 x 60 x 80 cm) made of MS resin (DENKA TX-100S, manufactured by Denki Kagaku Kogyo Kogyo Co., Ltd.) as a material of a light guide plate was attached to a metal weight, Was placed on the uneven surface of the light reflecting plate attached to the measurement surface, and an angle (?) At which the inclination starts to further slip was recorded. The static friction coefficient ( static ) was calculated using the following equation (1). On the other hand, the MS resin plate was cut from a 100 mm x 100 mm x 5 mm press-molded MS resin plate to the above-mentioned prescribed size, and the surface of the MS resin plate was covered with an abrasive (trade name: Manufactured by Nippon Mfg. Co., Ltd.), and a flattened surface was used toward the light reflecting plate side.

한편, MS수지제판의 광 반사판과 접촉시키는 표면 상태는 Rz로 2㎛ 이하로 했다. 또, 상기 MS수지제판의 로크웰 R 스케일 경도는 105였다.On the other hand, the surface condition of the MS resin plate to be in contact with the light reflecting plate was set to Rz of 2 탆 or less. The Rockwell R scale hardness of the MS resin plate was 105.

μstatic=tanθ　 　(1)μ static = tan θ (1)

광 반사판 1개에 대해 5회 측정을 반복하고, 그 평균치를 광 반사판의 정지마찰계수로 했다.The measurement was repeated five times for one light reflector, and the average value was used as the coefficient of static friction of the light reflector.

(4) 로크웰 R 스케일 경도(4) Rockwell R scale hardness

JIS　K7202-2에 기초하여, 광 반사판의 표층을 구성하는 수지의 로크웰 R 스케일 경도를 측정했다.Based on JIS K7202-2, the Rockwell R scale hardness of the resin constituting the surface layer of the light reflector was measured.

(5) 표면 고유 저항치(5) Surface resistivity value

광 반사판의 요철 표면의 표면 고유 저항을, JIS　K　6911：2006에 기초하여 측정했다. 보다 상세하게는, 측정 시료를 온도 23℃, 습도 60% RH의 조건에서 24시간 보관한 후, 상기 보관 온습도와 같은 조건으로, 인가 전압을 100V로 하고, 1분 후의 표면 고유 저항치(Ω／□)를 측정했다.The surface resistivity of the uneven surface of the light reflector was measured based on JIS K 6911: 2006. More specifically, after a sample to be measured was stored for 24 hours under the conditions of a temperature of 23 占 폚 and a humidity of 60% RH, the applied voltage was set to 100 V under the same conditions as the storage temperature and humidity, ) Were measured.

(6) 비중(부피 비중)(6) Specific gravity (bulk specific gravity)

JIS　K7112의 A법(수중 치환법)에 의해 측정했다.Was measured by the method A (underwater substitution method) of JIS K7112.

(7) 광 반사판의 두께(7) Thickness of the light reflector

광 반사판으로부터 100×100㎟ 모서리의 샘플을 오려내어, 샘플의 4각, 4변 및 중심에서의 두께를 마이크로미터에 의해 측정하고, 합계 9점의 평균치를 광 반사판의 두께로 했다.Samples of 100x100 mm square corners were cut out from the light reflector, and the thicknesses at the quadrangle, the four sides and the center of the sample were measured by a micrometer, and the average value of 9 points in total was defined as the thickness of the light reflector.

(8) 기포를 함유하지 않은 층의 두께(8) Thickness of the layer not containing bubbles

광 반사판을, 동결 파단에 의해 두께 방향으로 파단하여 단면을 내고, 이것을 스테이지 상에 설치한 후, 주사형 전자현미경(장치명：JSM-6390 LV, 니혼덴시가부시키가이샤(日本電子株式會社)제)을 이용하여 1000배에서 단면의 관찰을 행하였다. 요철 표면측에서, 표면으로부터 시트의 두께 방향을 향하여 수선(垂線)을 내리고, 기포에 도달할 때까지의 길이를 측정했다. 1 시료에 대해 무작위로 5점을 추출하여 측정을 행하고, 그 평균치를 기포를 함유하지 않은 층의 두께로 했다. 한편, 상기 측정에서는, 상기 단면 관찰에서 단변의 길이가 0.1㎛를 초과하는 것을 기포로 했다.The optical reflector was cut in the thickness direction by freezing breaking to give a cross-section, which was then placed on the stage, and then a scanning electron microscope (apparatus: JSM-6390 LV, manufactured by Nippon Denshoku Chemical Co., ) At a magnification of 1000 times. The perpendicular line was lowered from the surface toward the thickness direction of the sheet at the side of the concavo-convex surface, and the length until reaching the bubble was measured. Five samples were randomly extracted from one sample and the measurement was carried out. The average value was determined as the thickness of the layer not containing bubbles. On the other hand, in the above measurement, bubbles having a short side length exceeding 0.1 mu m were observed in the cross section observation.

여기서, 무작위로 추출한 5점에서의 평균치를 기포를 함유하지 않은 층의 두께로 한 경우와, 무작위로 추출한 10점에서의 평균치를 기포를 함유하지 않은 층의 두께로 한 경우에 대하여, 각 3회의 측정을 실시한 바(즉, 무작위 추출한 5점에서의 평균치의 산출을 3회 및 무작위 추출한 10점에서의 평균치의 산출을 3회 실시한 바), 얻어진 기포를 함유하지 않은 층의 두께는 모두, 상기 각 3회(합계 6회)의 측정치의 평균치 ±0.2㎛의 범위 내에 들어가 있다. 즉, 무작위 추출한 5점의 측정의 평균치로서 산출되는 기포를 함유하지 않은 층의 두께가, 광 반사판 전체에서의 기포를 함유하지 않은 층의 두께를 반영한 것이라고 할 수 있다.Here, in the case where the average value at five randomly extracted points is the thickness of the layer not containing bubbles and the average value at the randomly extracted 10 points is the thickness of the layer not containing bubbles, (That is, the calculation of the average value at five randomly selected points and the calculation of the average value at ten points obtained by randomly sampling three times) were performed, and the thicknesses of the layers without bubbles obtained were all And the average value of the measured values of three times (six times in total) is within the range of 占 0.2 占 퐉. That is, the thickness of the layer containing no bubbles, which is calculated as an average value of five randomly selected measurements, reflects the thickness of the layer that does not contain bubbles in the entire optical reflector.

(9) 광 반사율(9) Light reflectance

광 반사판을 100×100㎟로 잘라내고, 분광 광도계(주식회사 히타치 하이테크 필딩제 U-4100)를 이용하여, 분광 슬릿 4㎚의 조건에서 광선 파장 550㎚로의 분광 전반사율의 측정을 행하였다. 레퍼런스는 산화 알류미늄 백판(그레이드：210-0740, 주식회사 히타치 하이테크 필딩제)을 사용하고, 측정치는 레퍼런스의 광 반사율을 100%로 했을 때의 상대치로 했다.The light reflection plate was cut out to 100 x 100 mm < 2 > and the spectral reflectance at 550 nm of light wavelength was measured under the condition of a spectroscopic slit of 4 nm using a spectrophotometer (Hitachi High-Tech Fielding Co., Ltd., U-4100). An aluminum oxide white plate (grade: 210-0740, Hitachi High-Tech Fielding Co., Ltd.) was used as a reference, and the measured value was a relative value when the light reflectance of the reference was 100%.

(10) 평균 기포지름(10) Average bubble diameter

평균 기포지름은, ASTM　D3576-77에 의해 구했다. 자세한 것은 하기와 같다.The average cell diameter was obtained according to ASTM D3576-77. The details are as follows.

광 반사판의 두께 방향으로 평행한 단면에서, 표면으로부터 두께의 4분의 1의 깊이와 그 부근의 기포 구조를, 주사형 전자현미경(장치명：JSM-6390 LV, 니혼덴시가부시키가이샤)을 이용하여 1000배 내지는 5000배로 촬영했다. 얻어진 사진상에 수평 방향과 수직 방향으로 직선을 긋고, 직선이 횡단하는 개개의 기포의 현의 길이를 구하여, 그 평균치(t)를 얻었다. 사진의 배율을 M으로 하고, 하기식에 대입하여 평균 기포지름(d)을 구했다. 한편, 상기 촬영 영역은, 그 주위에도 기포가 존재하는 영역이다. 상기 사진 관찰에서는, 단변의 길이가 0.1㎛를 초과하는 기포를 측정 대상으로 하여 평균 기포지름을 산출했다.Using a scanning electron microscope (apparatus: JSM-6390 LV, Nihon Denshikushi Co., Ltd.), the depth of a quarter of the thickness from the surface and the bubble structure in the vicinity thereof were measured at a cross section parallel to the thickness direction of the light reflecting plate And then taken 1000 to 5000 times. On the obtained photograph, a straight line was drawn in the horizontal direction and the vertical direction, and the length of the strings of the individual bubbles crossing the straight line was obtained, and the average value (t) thereof was obtained. The magnification of the photograph was taken as M, and the average cell diameter (d) was obtained by substituting it into the following formula. On the other hand, the photographing region is a region in which bubbles also exist around the photographing region. In the photographic observation, the average bubble diameter was calculated using bubbles having a short side length of more than 0.1 mu m as an object to be measured.

d=t/(0.616×M)d = t / (0.616 x M)

(11) 화이트 스폿 내성(11) White spot resistance

시판의 42 인치의 엣지 라이트형 액정 TV의 백 라이트 패널(도광판의 재료：MS수지, 로크웰 R 스케일 경도：105, 광 반사판과 마주보는 면의 Rz：16.5㎛)에, 평가를 행하는 광 반사판을 표면의 요철이 도광판측을 향하도록 하여 광 반사판으로서 조립해 넣고, 그 후, 액정을 제외하고 백 라이트 패널을 원래대로 다시 조립했다. 계속하여, 백 라이트 패널의 도광판 위로부터 40N의 하중으로 압축했다. 하중은, 15㎝ 사방 모서리부의 4개소에 균등한 질량의 추를 얹음으로써 행하였다. 그 다음에, 육안으로, 비정상적으로 밝은 부분이 발생하는지 아닌지를 관찰함으로써 화이트 스폿의 유무를 조사했다. 비정상적으로 밝은 부분이 없으면, 화이트 스폿이 발생하지 않은 것으로 하여 합격(평가 A)으로 판정하고, 비정상적으로 밝은 부분이 있으면 화이트 스폿이 발생한다고 하여, 불합격(평가 C)으로 판정했다. 「비정상적으로 밝다」란, 비정상적으로 밝은 부분이 그 주변 부분보다, 육안으로 확실히 인식할 수 있는 휘도 차이가 생기는 상태를 말한다.A light reflector for evaluating was placed on a back light panel (material of light guide plate: MS resin, Rockwell R scale hardness: 105, Rz on the surface facing the light reflecting plate: 16.5 占 퐉) of a commercially available 42- Was assembled as a light reflecting plate so that the unevenness of the backlight panel was directed toward the light guide plate side. Subsequently, the light guide plate was compressed at a load of 40 N from the light guide plate of the backlight panel. The load was carried out by placing an even weight of weight on four places of a 15-cm square. Then, the presence or absence of a white spot was examined by observing whether or not an abnormally bright portion occurred with the naked eye. If there is no abnormally bright portion, it is judged that the white spot is not generated, and it is judged as passing (evaluation A). When there is the abnormally bright portion, it is judged that the white spot occurs. The term " abnormally bright " refers to a state in which an abnormally bright portion has a luminance difference that can be clearly recognized by the naked eye, rather than the surrounding portion.

(12) 손상 방지성(12) Damage prevention property

금속봉을 설치한 매분 250회, 진폭 6㎜로 좌우로 진동하는 진동 시험기 상에, 평가 대상의 광 반사판을 요철 표면을 위로하여 얹고, 그 위에서 반경 약 1㎜의 점 패턴이 인쇄된 MS수지제의 도광판(12.5㎠, 4.5g)을 점 패턴이 광 반사판의 요철 표면을 향하도록 얹어, 5분간 진동시켰다. 진동시킨 후의 도광판의 표면 및 반사판의 표면에 빛을 입사하여, 도광판 표면과 광 반사판 표면의 상처의 유무를, 마이크로스코프를 이용하여 조사했다. 동일한 광 반사판으로부터 무작위로 잘라낸 3 샘플에 대하여 손상을 평가하고, 3 샘플 전체 시험에서, 도광판과 광 반사판 중 어느 하나의 표면(검사 면적은 4㎠)에도 상처 발생이 없으면 합격(평가 A), 3 샘플 중 적어도 1 샘플의 시험에서, 도광판 혹은 광 반사판 중 어느 한쪽에 상처가 생긴 경우를 평가 B로 하고, 3 샘플 중 적어도 1 샘플의 시험에서, 도광판과 반사판의 양자에 상처가 발생하면 불합격(평가 C)이라고 판단했다.A light reflector to be evaluated was placed on the vibration test machine vibrating left and right 250 times a minute with the metal rod installed at a rate of 250 times per minute so that the concavo-convex surface was faced up, and a dot pattern of about 1 mm in radius was printed thereon The light guide plate (12.5 cm 2, 4.5 g) was placed so that the dot pattern faced the surface of the concave and the convex of the light reflection plate, and was vibrated for 5 minutes. Light was incident on the surface of the light guide plate and the surface of the reflection plate after the vibration, and the presence or absence of scratches on the surface of the light guide plate and the surface of the light reflection plate was examined using a microscope. 3 samples randomly cut out from the same optical reflector were evaluated for damage. In all 3 samples, the surface (inspection area 4 cm 2) of either the light guide plate or the light reflector was passed (evaluation A) In the test of at least one sample of the sample, when a defect occurs in either the light guide plate or the light reflector is evaluated as B, and when a scratch occurs in both the light guide plate and the reflector in the test of at least one sample out of three samples, C).

［실시예 1］[Example 1]

폴리에틸렌테레프탈레이트(그레이드：RT553C, 니혼유니페트제) 40질량부에 대하여, 폴리부틸렌테레프탈레이트(그레이드：노바듀란 5026, 미츠비시 엔지니어링 플라스틱제) 60질량부, 실리콘 파우더(그레이드：토스펄 3120, 모멘티브ㆍ포퍼먼스ㆍ머티리얼즈ㆍ재팬제, 평균입자지름 11㎛) 2질량부, 대전 방지제(그레이드：EMB-7 A2019, 스미카(住化) 컬러제) 1질량부를 함유하는 수지 조성물을 2축 압출기로 혼련하여, 최표층에 배치하고, 폴리에틸렌테레프탈레이트 98질량부(그레이드：RT553C, 니혼유니페트제)에 대하여, 기포핵제(그레이드：프리말로이 B1942N, 미츠비시카가쿠가부시키가이샤(三菱化學株式會社)제) 2질량부를 함유하는 수지 조성물을 2축 압출기로 혼련하여, 중심층에 배치한 2종 3층의 시트를 T다이로부터 배출했다. 또한 용융 상태의 시트를 T다이 직후에 배치한 배 껍질 모양의 엠보스 롤에 접촉시키고 배 껍질 무늬를 전사시켜, 0.3㎜ 두께×525㎜ 폭×330m 길이의 기재 수지 시트를 제작했다.60 parts by weight of polybutylene terephthalate (grade: NOVADURAN 5026, manufactured by Mitsubishi Engineering-Plastics), 40 parts by weight of silicone terephthalate (grade: RT553C, manufactured by Nippon Unipet) , 2 parts by mass of an antistatic agent (trade name: manufactured by Japan Specialty Chemicals Co., Ltd., average particle diameter: 11 μm) and 1 part by mass of an antistatic agent (grade: EMB-7 A2019, Sumika Color) (Grade: Primaroy B1942N, manufactured by Mitsubishi Kagaku Kogyo Co., Ltd.) was added to 98 parts by mass of polyethylene terephthalate (grade: RT553C, manufactured by Nippon Unipet) Ltd.) was kneaded by a twin-screw extruder, and the two-kind three-layer sheet having the core layer disposed thereon was discharged from the T-die. Further, the molten sheet was brought into contact with a embossing roll of a shell shape disposed immediately after the T die, and the embossing pattern was transferred to produce a base resin sheet having a thickness of 0.3 mm thickness x 525 mm width x 330 m.

이 기재 수지 시트에 올레핀계 부직포의 세퍼레이트(그레이드：FT300, 일본바이린제)를 겹쳐 감아, 롤 형상으로 했다. 그 후, 상기 롤을 압력 용기에 넣고, 탄산 가스로 5.3MPa로 가압하고, 수지 시트에 탄산 가스를 침투시켰다. 침투 시간은 72시간으로 했다. 침투 완료 후, 압력 용기로부터 롤을 꺼내어, 세퍼레이터를 없애면서 기재 수지 시트만을 220℃로 설정한 열풍로로 공급하여 발포시키고, 표면에 요철을 가지는 백색 광 반사판을 얻었다.Separate (grade: FT300, made by Nippon Vinyl Co., Ltd.) of an olefin-based nonwoven fabric was wound on the base resin sheet to form a rolled sheet. Thereafter, the roll was put in a pressure vessel and pressurized with carbon dioxide gas at 5.3 MPa to infiltrate carbon dioxide gas into the resin sheet. The penetration time was 72 hours. After completion of the infiltration, the roll was taken out from the pressure vessel, and only the base resin sheet was supplied to the hot air furnace set at 220 占 폚 while removing the separator, and foaming was carried out to obtain a white light reflecting plate having unevenness on the surface.

［실시예 2］[Example 2]

실시예 1에서, 기재 수지 시트의 두께를 2종 3층의 층 구성은 변경하지 않고 전체적으로 두껍게 하여 0.36㎜로 한 것 이외는 실시예 1과 같은 방법으로 광 반사판을 제작했다.In Example 1, a light reflector was produced in the same manner as in Example 1, except that the thickness of the base resin sheet was made thick as a whole without changing the layer structure of the two or three layers to 0.36 mm.

［실시예 3］[Example 3]

실시예 1에서, 실리콘 파우더를 첨가하지 않은 것 이외는 실시예 1과 같은 방법으로 광 반사판을 제작했다.A light reflector was produced in the same manner as in Example 1 except that silicone powder was not added.

［실시예 4］[Example 4]

실시예 1에서, 엠보스 롤을 플랫 롤로 변경한 이외는 실시예 1과 같은 방법으로 광 반사판을 제작했다.In Example 1, a light reflector was produced in the same manner as in Example 1 except that the emboss roll was changed to a flat roll.

［실시예 5］[Example 5]

실시예 4에서, 기재 수지 시트 두께를 2종 3층의 층 구성은 변경하지 않고 전체적으로 두껍게 하여 0.48㎜로 하고, 또한 열풍로의 설정 온도를 240℃로 한 것 이외는 실시예 4와 같은 방법으로 광 반사판을 제작했다.In Example 4, the same procedure as in Example 4 was carried out except that the thickness of the base resin sheet was changed to 0.48 mm as a whole without changing the layer structure of the two or three layers and the set temperature of the hot air passage was changed to 240 캜 A light reflector was produced.

실시예 1~5의 광 반사판은, 기포 수 밀도가 1.25×1011~1.42×1012의 범위 내에 있었다.The optical reflector of Examples 1 to 5 had a density of bubble water of 1.25 × 10 11 to 1.42 × 10 12 .

［비교예 1］[Comparative Example 1]

폴리에틸렌테레프탈레이트(그레이드：RT553C, 일본유니페트제) 69질량부에 대하여, 폴리부틸렌테레프탈레이트(그레이드：노바듀란 5026, 미츠비시 엔지니어링 플라스틱제) 30질량부, 대전 방지제(그레이드：EMB-7 A2019, 스미카 컬러제) 1질량부를 함유하는 수지 조성물을 2축 압출기로 혼련하여, 최표층에 배치하고, 폴리에틸렌테레프탈레이트 98질량부(그레이드：RT553C, 일본유니페트제)에 대하여, 기포핵제(그레이드：프리말로이 B1942N, 미츠비시카가쿠가부시키가이샤제) 2질량부를 함유하는 수지 조성물을 2축 압출기로 혼련하여, 중심층에 배치한 2종 3층의 시트를 T다이로부터 배출한다. 또한, 용융 상태의 시트를 T다이 직후에 배치한 플랫 롤에 접촉시켜, 0.36㎜ 두께×525㎜ 폭×330m 길이의 기재 수지 시트를 제작했다. 그 기재 수지 시트를, 실시예 1과 마찬가지로 하여 탄산 가스를 함침시키고, 발포로에 제공함으로써 백색 광 반사판을 제작했다.30 parts by weight of polybutylene terephthalate (grade: NOVADURAN 5026, manufactured by Mitsubishi Engineering-Plastics), 70 parts by weight of an antistatic agent (grade: EMB-7 A2019, (Manufactured by Sumitomo Rubber Industries, Ltd., Sumika Color Co., Ltd.) was kneaded with a twin-screw extruder and placed in the outermost layer, and a solution of bubble nucleating agent (grade: Manufactured by Mitsubishi Kagaku K. K.) is kneaded with a twin-screw extruder, and the two-kind three-layer sheet is placed on the center layer and discharged from the T die. Further, the molten sheet was brought into contact with a flat roll disposed immediately after the T-die to produce a base resin sheet having a thickness of 0.36 mm x 525 mm x width x 330 m. The base resin sheet was impregnated with carbon dioxide gas in the same manner as in Example 1 and provided to a foaming furnace to produce a white light reflector.

［비교예 2］[Comparative Example 2]

비교예 1의 광 반사판의 한 면에 가교 PBMA 비즈(그레이드：GB-50, 아이카 공업주식회사제)와 아크릴 바인더(ZR-FDR01　스미토모 오사카 시멘트 주식회사제)를 혼합한 것을 도포하고, 가열 건조시켜 표면에 요철이 있는 광 반사판을 제작했다.A mixture of crosslinked PBMA beads (grade: GB-50, manufactured by Aika Kogyo Co., Ltd.) and an acrylic binder (ZR-FDR01 manufactured by Sumitomo Osaka Cement Co., Ltd.) was coated on one surface of the light reflector of Comparative Example 1, A light reflector with irregularities was produced.

［비교예 3］[Comparative Example 3]

토오레 사제의 「르미라」(등록상표) E6WA를 이용했다.(Registered trademark) E6WA manufactured by Toorra Co., Ltd. was used.

［비교예 4］[Comparative Example 4]

테이진 듀퐁 필름 사제의「테토론」(등록상표) UXK1을 이용했다.&Quot; Tetoron " (registered trademark) UXK1 manufactured by Teijin DuPont Films was used.

［비교예 5］[Comparative Example 5]

후루카와덴키고교사제의「MCPOLYCA」(등록상표)을 이용했다.&Quot; MCPOLYCA " (registered trademark) manufactured by Furukawa Denki Kogyo Co., Ltd. was used.

［비교예 6］[Comparative Example 6]

토오레 사제의「르미라」(등록상표) E60L을 이용했다.(Registered trademark) E60L manufactured by Toorra Co., Ltd. was used.

［비교예 7］[Comparative Example 7]

실시예 1에서, 대전 방지제를 첨가하지 않았던 것 이외는 실시예 1과 같은 방법으로 기재 수지 시트를 제작하고, 실시예 1과 같은 방법으로 광 반사판을 제작했다.A base resin sheet was prepared in the same manner as in Example 1 except that no antistatic agent was added in Example 1, and a light reflector was produced in the same manner as in Example 1.

상기 각 실시예, 비교예의 광 반사판의 특성, 구조 및 평가 결과를 하기 표 1에 나타낸다.The properties, structure, and evaluation results of the optical reflector of each of the examples and comparative examples are shown in Table 1 below.

Figure pct00001
Figure pct00001

표 1의 결과에서, 요철 표면의 표면 고유 저항치가 본 발명에서 규정하는 것보다도 큰 비교예 2~7의 광 반사판에서는, 모두 도광판과의 접촉면에서, 도광판 혹은 광 반사판 중 어느 하나 또는 쌍방에 상처가 생겼다.In the light reflectors of Comparative Examples 2 to 7, in which the surface resistivity of the uneven surface was larger than that specified in the present invention, the scratches on either or both of the light guide plate and the light reflector, I have.

또, Rz가 본 발명에서 규정하는 것보다도 작으면, 정지마찰계수가 커지는 경향이 있고, Rz와 정지마찰계수가 본 발명의 규정 외이면, 손상 방지성과 화이트 스폿 내성 모두 뒤떨어지는 결과가 되었다(비교예 1, 6).If Rz is smaller than that specified in the present invention, the coefficient of static friction tends to increase. If Rz and the coefficient of static friction are outside the specification of the present invention, both the damage prevention property and the white spot resistance are inferior to each other Examples 1 and 6).

또, 굽힘 휨량이 너무 작으면 화이트 스폿 내성이 악화되는 것도 알았다(비교예 4와 5의 비교).It was also found that when the amount of bending deflection was too small, the white spot resistance deteriorated (comparison of Comparative Examples 4 and 5).

이것에 대해, 본 발명에서 규정하는 요건을 만족하는 실시예 1~5의 광 반사판은, 도광판과의 접촉면에서 도광판이나 광 반사판 자체의 상처가 생기기 어렵고, 화이트 스폿의 발생도 보다 억제되었다.On the other hand, in the light reflecting plates of Examples 1 to 5 which satisfied the requirements specified in the present invention, the light guide plate or the light reflecting plate itself was hardly scratched at the contact surface with the light conducting plate, and the occurrence of white spots was suppressed more.

1 : 엣지 라이트형 백 라이트 2 : 리플렉터
3 : 도광판 4 : 광 반사판
5 : 볼록부 6 : 기포(미세 기포)
7 : 기포를 함유하지 않은 층 8 : 광원1: Edge light type backlight 2: Reflector
3: light guide plate 4: light reflector
5: convex portion 6: bubble (fine bubble)
7: layer not containing bubbles 8: light source

Claims (11)

하기 (i)~(ⅳ)를 만족하는 엣지 라이트형 백 라이트용 광 반사판：
(i) 23℃, 상대습도 60%의 조건에서, 0.1 N에서의 굽힘 휨량이 0.5㎜ 이상 5.0㎜ 이하인 것,
(ⅱ) 적어도 한쪽 표면에 요철이 형성되어 있고, 상기 요철 표면의 최대 높이 거칠기(Rz)가 5㎛ 이상 80㎛ 이하인 것,
(ⅲ) 상기 요철 표면의 정지마찰계수가 0.1 이상 0.4 이하인 것, 및
(ⅳ) 상기 요철 표면에서의 표면 고유 저항치가 1.0×1015Ω／□ 미만인 것.A light reflector for an edge light type backlight which satisfies (i) to (iv) below:
(i) the bending warpage at 0.1 N is not less than 0.5 mm and not more than 5.0 mm under the conditions of 23 캜 and 60% relative humidity,
(Ii) an irregularity is formed on at least one surface, a maximum height roughness (Rz) of the irregular surface is not less than 5 탆 and not more than 80 탆,
(Iii) the coefficient of static friction of the surface of the irregularities is 0.1 or more and 0.4 or less, and
(Iv) the surface resistivity at the surface of the irregularities is less than 1.0 × 10 15 Ω / □. 제 1 항에 있어서,
상기 광 반사판이 수지로 이루어지고, 상기 요철 표면을 구성하는 수지의 로크웰(rockwell) R 스케일 경도가 70 미만인, 엣지 라이트형 백 라이트용 광 반사판.The method according to claim 1,
Wherein the light reflector is made of a resin and the Rockwell R scale hardness of the resin constituting the uneven surface is less than 70. A light reflector for an edge light type backlight, 제 1 항 또는 제 2 항에 있어서,
상기 광 반사판이 수지제 발포 시트로 이루어지는, 엣지 라이트형 백 라이트용 광 반사판.3. The method according to claim 1 or 2,
Wherein the light reflector is made of a resin foam sheet. 제 3 항에 있어서,
상기 요철 표면측에서, 상기 표면으로부터 광 반사판의 두께 방향을 향하여 적어도 5㎛의 깊이까지 기포가 존재하지 않는, 엣지 라이트형 백 라이트용 광 반사판.The method of claim 3,
Wherein no air bubbles are present at a depth of at least 5 mu m from the surface toward the thickness direction of the light reflection plate on the concavo-convex surface side. 제 1 항 내지 제 4 항 중 어느 한 항에 있어서,
상기 요철을 형성하는 수지가, 열가소성 방향족 폴리에스테르를 포함하는 수지인, 엣지 라이트형 백 라이트용 광 반사판.5. The method according to any one of claims 1 to 4,
Wherein the resin forming the unevenness is a resin containing a thermoplastic aromatic polyester. 제 1 항 내지 제 5 항 중 어느 한 항에 있어서,
상기 광 반사판의 부피 비중이 0.7 이하이고, 또한, 상기 광 반사판의 두께가 0.1㎜ 이상 1.0㎜ 이하인, 엣지 라이트형 백 라이트용 광 반사판.6. The method according to any one of claims 1 to 5,
Wherein the light reflector has a volume specific gravity of 0.7 or less and a thickness of the light reflecting plate is 0.1 mm or more and 1.0 mm or less. 제 1 항 내지 제 6 항 중 어느 한 항에 있어서,
상기 광 반사판의 부피 비중이 0.45 미만인, 엣지 라이트형 백 라이트용 광 반사판.7. The method according to any one of claims 1 to 6,
Wherein the light reflector has a volume specific gravity of less than 0.45. 제 1 항 내지 제 7 항 중 어느 한 항에 있어서,
상기 광 반사판이 수지로 이루어지고, 상기 요철 표면을 구성하는 수지의 로크웰(rockwell) R 스케일 경도가, 상기 엣지 라이트형 백 라이트가 구비되는 도광판을 구성하는 수지의 로크웰(rockwell) R 스케일 경도보다 작은, 엣지 라이트형 백 라이트용 광 반사판.8. The method according to any one of claims 1 to 7,
Wherein the light reflector is made of a resin and the rockwell R scale hardness of the resin constituting the uneven surface is smaller than the rockwell R scale hardness of the resin constituting the light guide plate provided with the edge light type backlight , A light reflector for an edge light type backlight. 광원과, 수지로 이루어지는 도광판과, 제 1 항 내지 제 8 항 중 어느 한 항에 기재된 광 반사판을 가지는 액정 디스플레이용 백 라이트로서,
상기 광 반사판이 상기 요철 표면을 도광판측을 향하여 배치되고,
상기 도광판을 구성하는 수지의 로크웰(rockwell) R 스케일 경도가 70 이상인, 액정 디스플레이용 백 라이트.A backlight for a liquid crystal display having a light source, a light guide plate made of resin, and a light reflector according to any one of claims 1 to 8,
Wherein the light reflection plate is disposed with the uneven surface facing the light guide plate side,
Wherein the resin constituting the light guide plate has a rockwell R scale hardness of 70 or more. 제 9 항에 있어서,
상기 도광판이 메틸메타크릴레이트와 스티렌과의 공중합체를 포함하는 수지로 이루어지는, 액정 디스플레이용 백 라이트.10. The method of claim 9,
Wherein the light guide plate is made of a resin containing a copolymer of methyl methacrylate and styrene. 제 1 항 내지 제 8 항 중 어느 한 항에 기재된 엣지 라이트형 백 라이트용 광 반사판의 제조방법으로서, 하기 공정 (a)~(c)를 포함하는 제조방법：
(a) 압출 성형에 의해 시트 형상으로 배출된 기재(基材) 수지 시트를, 요철을 가지는 엠보스 롤과 접촉시켜, 적어도 한쪽 면에 요철을 가지는 기재 수지 시트를 얻는 공정,
(b) 요철 표면을 가지는 기재 수지 시트에 불활성 가스를 함침시키는 공정, 및
(c) 불활성 가스를 함침시킨 요철 표면을 가지는 기재 수지 시트를 가열하여, 발포시키는 공정.A manufacturing method of a light reflector for an edge light type backlight according to any one of claims 1 to 8, which comprises the following steps (a) to (c):
(a) a step of bringing a substrate resin sheet discharged in a sheet form by extrusion molding into contact with an embossing roll having concavo-convexes to obtain a base resin sheet having concavo-convex on at least one side,
(b) a step of impregnating a base resin sheet having a roughened surface with an inert gas, and
(c) A step of heating and firing a base resin sheet having an uneven surface impregnated with an inert gas.
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