KR20160047857A - Wafer Tray and Assemblying Jig and Methof for the Wafer Tray - Google Patents
Wafer Tray and Assemblying Jig and Methof for the Wafer Tray Download PDFInfo
- Publication number
- KR20160047857A KR20160047857A KR1020140144308A KR20140144308A KR20160047857A KR 20160047857 A KR20160047857 A KR 20160047857A KR 1020140144308 A KR1020140144308 A KR 1020140144308A KR 20140144308 A KR20140144308 A KR 20140144308A KR 20160047857 A KR20160047857 A KR 20160047857A
- Authority
- KR
- South Korea
- Prior art keywords
- tray
- wafer
- lower tray
- jig
- base
- Prior art date
Links
Images
Classifications
-
- H—ELECTRICITY
- H01—ELECTRIC ELEMENTS
- H01L—SEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
- H01L21/00—Processes or apparatus adapted for the manufacture or treatment of semiconductor or solid state devices or of parts thereof
- H01L21/67—Apparatus specially adapted for handling semiconductor or electric solid state devices during manufacture or treatment thereof; Apparatus specially adapted for handling wafers during manufacture or treatment of semiconductor or electric solid state devices or components ; Apparatus not specifically provided for elsewhere
- H01L21/673—Apparatus specially adapted for handling semiconductor or electric solid state devices during manufacture or treatment thereof; Apparatus specially adapted for handling wafers during manufacture or treatment of semiconductor or electric solid state devices or components ; Apparatus not specifically provided for elsewhere using specially adapted carriers or holders; Fixing the workpieces on such carriers or holders
- H01L21/6735—Closed carriers
- H01L21/67373—Closed carriers characterised by locking systems
-
- H—ELECTRICITY
- H01—ELECTRIC ELEMENTS
- H01L—SEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
- H01L21/00—Processes or apparatus adapted for the manufacture or treatment of semiconductor or solid state devices or of parts thereof
- H01L21/67—Apparatus specially adapted for handling semiconductor or electric solid state devices during manufacture or treatment thereof; Apparatus specially adapted for handling wafers during manufacture or treatment of semiconductor or electric solid state devices or components ; Apparatus not specifically provided for elsewhere
- H01L21/673—Apparatus specially adapted for handling semiconductor or electric solid state devices during manufacture or treatment thereof; Apparatus specially adapted for handling wafers during manufacture or treatment of semiconductor or electric solid state devices or components ; Apparatus not specifically provided for elsewhere using specially adapted carriers or holders; Fixing the workpieces on such carriers or holders
- H01L21/67313—Horizontal boat type carrier whereby the substrates are vertically supported, e.g. comprising rod-shaped elements
-
- H—ELECTRICITY
- H01—ELECTRIC ELEMENTS
- H01L—SEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
- H01L21/00—Processes or apparatus adapted for the manufacture or treatment of semiconductor or solid state devices or of parts thereof
- H01L21/67—Apparatus specially adapted for handling semiconductor or electric solid state devices during manufacture or treatment thereof; Apparatus specially adapted for handling wafers during manufacture or treatment of semiconductor or electric solid state devices or components ; Apparatus not specifically provided for elsewhere
- H01L21/673—Apparatus specially adapted for handling semiconductor or electric solid state devices during manufacture or treatment thereof; Apparatus specially adapted for handling wafers during manufacture or treatment of semiconductor or electric solid state devices or components ; Apparatus not specifically provided for elsewhere using specially adapted carriers or holders; Fixing the workpieces on such carriers or holders
- H01L21/6735—Closed carriers
- H01L21/67376—Closed carriers characterised by sealing arrangements
-
- H—ELECTRICITY
- H01—ELECTRIC ELEMENTS
- H01L—SEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
- H01L21/00—Processes or apparatus adapted for the manufacture or treatment of semiconductor or solid state devices or of parts thereof
- H01L21/67—Apparatus specially adapted for handling semiconductor or electric solid state devices during manufacture or treatment thereof; Apparatus specially adapted for handling wafers during manufacture or treatment of semiconductor or electric solid state devices or components ; Apparatus not specifically provided for elsewhere
- H01L21/673—Apparatus specially adapted for handling semiconductor or electric solid state devices during manufacture or treatment thereof; Apparatus specially adapted for handling wafers during manufacture or treatment of semiconductor or electric solid state devices or components ; Apparatus not specifically provided for elsewhere using specially adapted carriers or holders; Fixing the workpieces on such carriers or holders
- H01L21/6735—Closed carriers
- H01L21/67386—Closed carriers characterised by the construction of the closed carrier
-
- H—ELECTRICITY
- H01—ELECTRIC ELEMENTS
- H01L—SEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
- H01L21/00—Processes or apparatus adapted for the manufacture or treatment of semiconductor or solid state devices or of parts thereof
- H01L21/67—Apparatus specially adapted for handling semiconductor or electric solid state devices during manufacture or treatment thereof; Apparatus specially adapted for handling wafers during manufacture or treatment of semiconductor or electric solid state devices or components ; Apparatus not specifically provided for elsewhere
- H01L21/683—Apparatus specially adapted for handling semiconductor or electric solid state devices during manufacture or treatment thereof; Apparatus specially adapted for handling wafers during manufacture or treatment of semiconductor or electric solid state devices or components ; Apparatus not specifically provided for elsewhere for supporting or gripping
- H01L21/687—Apparatus specially adapted for handling semiconductor or electric solid state devices during manufacture or treatment thereof; Apparatus specially adapted for handling wafers during manufacture or treatment of semiconductor or electric solid state devices or components ; Apparatus not specifically provided for elsewhere for supporting or gripping using mechanical means, e.g. chucks, clamps or pinches
- H01L21/68714—Apparatus specially adapted for handling semiconductor or electric solid state devices during manufacture or treatment thereof; Apparatus specially adapted for handling wafers during manufacture or treatment of semiconductor or electric solid state devices or components ; Apparatus not specifically provided for elsewhere for supporting or gripping using mechanical means, e.g. chucks, clamps or pinches the wafers being placed on a susceptor, stage or support
- H01L21/68771—Apparatus specially adapted for handling semiconductor or electric solid state devices during manufacture or treatment thereof; Apparatus specially adapted for handling wafers during manufacture or treatment of semiconductor or electric solid state devices or components ; Apparatus not specifically provided for elsewhere for supporting or gripping using mechanical means, e.g. chucks, clamps or pinches the wafers being placed on a susceptor, stage or support characterised by supporting more than one semiconductor substrate
Landscapes
- Engineering & Computer Science (AREA)
- Physics & Mathematics (AREA)
- Condensed Matter Physics & Semiconductors (AREA)
- General Physics & Mathematics (AREA)
- Manufacturing & Machinery (AREA)
- Computer Hardware Design (AREA)
- Microelectronics & Electronic Packaging (AREA)
- Power Engineering (AREA)
- Container, Conveyance, Adherence, Positioning, Of Wafer (AREA)
Abstract
Description
본 발명은 웨이퍼 트레이, 웨이퍼 트레이 조립 지그 및 조립 방법에 대한 것이다. 더욱 상세하게는, 본 발명은 상부 트레이와 하부 트레이를 포함하여 웨이퍼를 안착시키고 하부 트레이의 저면으로부터 하부 트레이와 상부 트레이가 조립되는 웨이퍼 트레이, 상기 웨이퍼 트레이의 조립을 위한 조립 지그 및 조립 방법에 대한 것이다. The present invention relates to a wafer tray, a wafer tray assembly jig, and a method of assembly. More particularly, the present invention relates to a wafer tray, including a top tray and a bottom tray, on which a wafer is placed and a bottom tray and an upper tray are assembled from the bottom of the bottom tray, an assembly jig for assembling the wafer tray, will be.
반도체 제조에 있어서 기판 상에 박막을 형성하거나 원하는 패턴으로 가공하기 위하여 플라즈마(Plasma)를 이용한다. 플라즈마를 이용한 기판 처리의 대표적인 예로서, 플라즈마 화학기상증착(Plasma Enhanced Chemical Vapor Deposition : PECVD) 공정과 플라즈마 식각(Plasma Etching) 공정을 들 수 있다.In semiconductor manufacturing, a plasma is used to form a thin film on a substrate or to process it into a desired pattern. Plasma Enhanced Chemical Vapor Deposition (PECVD) and Plasma Etching processes are typical examples of the substrate processing using plasma.
플라즈마는 기상의 화학 물질을 반응성이 강한 라디칼(radical)로 만들어 반응성을 증가시킨다. 이러한 원리를 이용한 PECVD 공정은 플라즈마 분위기에서 가스 상태의 공정 가스를 반응시켜 기판 상에 박막을 형성시키는 공정이다. 한편, 플라즈마 내의 이온들이 기판 표면에 충돌하면서 식각하고자 하는 물질을 물리적으로 제거하거나 물질 내의 화학 결합을 절단하여 라디칼에 의한 식각이 빠르게 일어나도록 한다. 이를 이용한 플라즈마 식각 공정은 감광제(Photoresist) 등으로 마스크 처리된 기판 영역은 남겨 두고 나머지 부분은 부식성 가스로 선택적으로 제거함으로써 기판에 반도체 회로 패턴을 형성한다. 또한, 그 외에 웨이퍼 상에 박막을 형성하는 공정으로서 유기금속 화학증착(Metal-Organic Chemical Vapor Depositon), 물리기상증착(Physical Vapor Deposition)과 같은 여러 종류의 웨이퍼 처리 공정이 활용되고 있다.Plasma increases the reactivity by making the chemical in the gas phase a strong reactive radical. The PECVD process using this principle is a process of reacting a gaseous process gas in a plasma atmosphere to form a thin film on a substrate. On the other hand, ions in the plasma impinge on the surface of the substrate to physically remove the material to be etched, or to cut chemical bonds in the material, thereby rapidly etching the radical. In the plasma etching process using the photoresist, a semiconductor circuit pattern is formed on a substrate by selectively removing the masked substrate region with a photoresist and the remaining portion with a corrosive gas. In addition, as a process of forming a thin film on a wafer, various kinds of wafer processing processes such as metal-organic chemical vapor deposition (PVD) and physical vapor deposition (CVD) are utilized.
한편, 1회 공정에서 2 이상 복수의 웨이퍼를 동시에 처리하기 위하여 복수의 웨이퍼를 로딩하는 웨이퍼 트레이(Wafer Tray)가 사용되고 있다. 웨이퍼 트레이에 복수의 웨이퍼를 로딩한 후 웨이퍼가 로딩된 웨이퍼 트레이를 공정 챔버로 이송하여 웨이퍼 처리 공정을 수행한다. On the other hand, a wafer tray for loading a plurality of wafers is used in order to simultaneously process two or more wafers in a single process. After loading a plurality of wafers into a wafer tray, the wafer tray loaded with wafers is transferred to the process chamber to perform the wafer processing process.
일례로서, 일반적인 LED 칩 제조공정의 첫 단계인 PSS(Patterned Sapphire Substrate) 식각 공정에서는 복수의 사파이어 기판을 웨이퍼 트레이에 로딩한 후 공정 챔버에 상기 웨이퍼 트레이를 안착시켜 공정을 수행한다. For example, in a PSS (Patterned Sapphire Substrate) etching process, which is a first step in a general LED chip manufacturing process, a plurality of sapphire substrates are loaded on a wafer tray, and then the wafer tray is placed in a process chamber.
웨이퍼 트레이에 대한 구성으로서, 대한민국 공개특허공보 제10-2009-0102258호(2009.09.30. 공개)는 상부 패널을 2중으로 구성한 '플라즈마 처리장치용 기판 트레이'를 개시한다. As a configuration for a wafer tray, Korean Patent Laid-Open Publication No. 10-2009-0102258 (published on September 30, 2009) discloses a substrate tray for a plasma processing apparatus in which an upper panel is composed of two substrates.
그런데, 종래 웨이퍼 트레이의 경우에는 웨이퍼 트레이의 상판에서 하판 방향으로 볼트를 체결함에 따라 공정 후 파티클(particle)이 볼트 체결 부위에 축적되는 문제점이 존재한다. However, in the case of the conventional wafer tray, there is a problem that particles are accumulated in the bolted portion after the process is performed by fastening the bolts in the direction from the upper plate to the lower plate of the wafer tray.
또한, 종래 웨이퍼 트레이의 경우에는 복수의 볼트를 이용하여 웨이퍼 트레이를 조립하는 공정에 소요되는 작업 시간이 상당하고, 그 조립 작업이 불편하다는 문제점이 존재한다. Further, in the case of the conventional wafer tray, there is a problem that the operation time required for the process of assembling the wafer tray by using a plurality of bolts is considerable, and the assembling work is inconvenient.
또한, 종래 웨이퍼 트레이의 경우에는 웨이퍼 트레이 조립 과정에서 웨이퍼의 표면에 손상이 발생할 수 있는 문제점이 존재한다. In addition, in the case of the conventional wafer tray, there is a problem that the surface of the wafer may be damaged during the process of assembling the wafer tray.
이에 본 발명은 상부 트레이와 하부 트레이를 포함하여 웨이퍼를 안착시키고 하부 트레이의 저면으로부터 하부 트레이와 상부 트레이가 조립되는 웨이퍼 트레이를 제공하는 것을 목적으로 한다. Accordingly, it is an object of the present invention to provide a wafer tray including an upper tray and a lower tray, wherein the lower tray and the upper tray are assembled from the lower surface of the lower tray.
또한, 본 발명은 하부 트레이의 상부면에 웨이퍼를 로딩하고, 하부 트레이의 상부에 상부 트레이를 안착시킨 후 하부 트레이와 상부 트레이를 상호 결합하는 것을 지원하는 웨이퍼 트레이 조립 지그 및 조립 방법을 제공하는 것을 목적으로 한다. It is another object of the present invention to provide a wafer tray assembly jig and method of assembling a lower tray and an upper tray by loading a wafer on an upper surface of the lower tray, The purpose.
본 발명은, 웨이퍼가 안착되는 웨이퍼 로딩부를 포함하는 하부 트레이와, 웨이퍼 노출개구를 통해 상기 웨이퍼가 노출되도록 상기 하부 트레이와 결합하는 상부 트레이를 포함하며, 상기 하부 트레이의 저면으로부터 고정 볼트가 상기 상부 트레이로 결합되는 웨이퍼 트레이의 조립 지그에 있어서, 상하 개방된 베이스 개구를 포함하며 상기 하부 트레이가 안착되는 지그 베이스; 및 상기 하부 트레이의 상기 웨이퍼 로딩부에 웨이퍼를 로딩한 후 상기 상기 상부 트레이를 상기 하부 트레이의 상부에 안착시킨 상태에서, 상기 상부 트레이의 상부를 지지하며 상기 지그 베이스에 결합되는 상부 덮개를 포함하는 웨이퍼 트레이 조립 지그를 제공한다. The present invention includes a lower tray including a wafer loading portion on which a wafer is seated and an upper tray coupled with the lower tray to expose the wafer through a wafer exposure opening, 1. An assembly jig for a wafer tray coupled to a tray, comprising: a jig base including a base opening vertically opened and on which the lower tray is seated; And an upper cover which supports an upper portion of the upper tray and is coupled to the jig base in a state in which the upper tray is loaded on the upper tray after the wafer is loaded on the wafer loading portion of the lower tray, Thereby providing a wafer tray assembly jig.
본 발명에 있어서, 상기 웨이퍼 트레이 조립 지그에 상기 하부 웨이퍼와 상기 상부 웨이퍼를 고정시킨 후, 이를 뒤집어 상기 하부 웨이퍼의 저면이 상방을 향해 노출되도록 한 상태에서 상기 고정 볼트를 이용하여 하부 트레이와 상부 트레이를 조립한다. In the present invention, the lower wafer and the upper wafer are fixed to the wafer tray assembly jig, and then the lower wafer is turned upside down so that the lower surface of the lower wafer is exposed upward, .
일 실시예에 있어서, 상기 베이스 지그에 상기 하부 트레이를 안착시킨 상태에서 상기 하부 트레이의 상부에 위치되며, 상기 웨이퍼 로딩부로의 상기 웨이퍼의 로딩을 가이드하는 웨이퍼 가이드용 개구가 적어도 하나 형성된 가이드패널 본체를 포함하는 웨이퍼 로딩 가이드패널을 추가로 포함될 수 있다. In an exemplary embodiment, a guide panel body is disposed on the lower tray in a state in which the lower tray is seated on the base jig and has at least one opening for a wafer guide for guiding loading of the wafer into the wafer loading section. And a wafer loading guide panel including the wafer loading guide panel.
본 발명의 실시에 있어서, 상기 웨이퍼의 로딩이 완료된 후 상기 웨이퍼 로딩 가이드패널이 제거된 상태에서 상기 상부 트레이가 상기 하부 트레이의 상부에 안착될 수 있다. 또한, 상기 지그 베이스는 상부 표면의 일부가 하부로 우묵하게 형성된 오목부를 적어도 하나 형성하며, 상기 웨이퍼 로딩 가이드 패널은 상기 지그 베이스에 안착시 상기 오목부에 위치하는 손잡이부가 상기 가이드패널 본체에 구비될 수 있다. In the practice of the present invention, the upper tray may be seated on the lower tray with the wafer loading guide panel removed after the loading of the wafer is completed. In addition, the jig base may have at least one recess formed in a lower part of the upper surface thereof, and the wafer loading guide panel may be provided with a handle portion located in the recess when the jig base is seated on the jig base. .
일 실시예에 있어서, 상기 상부 덮개는 상기 지그 베이스에 회동 가능하게 결합되고, 상기 상부 트레이의 상부면을 지지하는 상부 트레이 지지 구조를 포함할 수 있다. 상기 상부 트레이 지지 구조는 상기 상부 덮개의 내측면에 구비되는 적어도 하나의 상부 트레이 지지봉을 포함하여 구성될 수 있다. 또한, 상기 상부 트레이 지지봉의 단부는 지지봉 커버를 구비할 수 있다. In one embodiment, the upper cover may include an upper tray support structure rotatably coupled to the jig base and supporting an upper surface of the upper tray. The upper tray support structure may include at least one upper tray support bar provided on an inner surface of the upper cover. Further, the end of the upper tray support bar may have a support rod cover.
또한, 상기 베이스 지그의 내측면에는 단턱을 형성하여 구비되며 상기 하부 트레이의 저면 일부를 지지하는 하부 트레이 안착부가 구비될 수 있다. In addition, a lower tray seating part may be provided on the inner side surface of the base jig to form a step and support a part of the bottom surface of the lower tray.
또한, 상기 베이스 지그의 내측면에는 세로 방향으로 돌출 형성된 정렬 돌기 또는 세로 방향의 홈으로 형성된 적어도 하나의 정렬 홈이 구비될 수 있다. The inner surface of the base jig may be provided with at least one alignment groove formed as an alignment protrusion or a longitudinal groove protruding in the longitudinal direction.
일 실시예에 있어서, 상기 웨이퍼 트레이 조립 지그는, 상기 지그 베이스가 회동 가능하게 구비되는 메인 프레임을 추가로 포함한다.In one embodiment, the wafer tray assembly jig further includes a main frame having the jig base rotatably mounted thereon.
상기 지그 베이스는 상기 메인 프레임의 제 1 측면 프레임과 제 2 측면 프레임에 대해 각각 제 1 회동축 및 제 2 회동축에 의해 지지되어 회동가능하게 결합될 수 있다. The jig base may be pivotably coupled to the first side frame and the second side frame of the main frame by a first pivot shaft and a second pivot shaft, respectively.
또한, 상기 지그 베이스가 상기 제 1 회동축 및 상기 제 2 회동축을 중심으로 회전되는 것을 방지하는 적어도 하나의 지그 베이스 고정볼트가 상기 제 1 측면 프레임 또는 상기 제 2 측면 프레임을 통해 상기 지그 베이스에 고정될 수 있다. Also, at least one jig base fixing bolt for preventing the jig base from being rotated about the first and second rotation shafts is inserted into the jig base through the first side frame or the second side frame Can be fixed.
또한, 본 발명은, 웨이퍼가 안착되는 웨이퍼 로딩부를 포함하는 하부 트레이와, 웨이퍼 노출개구를 통해 상기 웨이퍼가 노출되도록 상기 하부 트레이와 결합하는 상부 트레이를 포함하며, 상기 하부 트레이의 저면으로부터 고정 볼트가 상기 상부 트레이로 결합되는 웨이퍼 트레이의 조립 방법에 있어서, (a) 상기 하부 트레이를 상하 개방된 베이스 개구를 포함하며 메인 프레임에 대해 회전 가능하게 구비된 지그 베이스의 상부에 안착시키는 단계; (b) 상기 하부 트레이의 상기 웨이퍼 로딩부에 상기 웨이퍼를 로딩하는 단계; (c) 상기 하부 트레이의 상부에 상부 트레이를 안착시키고, 상기 상부 트레이가 상기 하부 트레이로부터 이탈되지 않도록 상부 덮개를 상기 지그 베이스에 고정하는 단계; 및 (d) 상기 지그 베이스를 상기 메인 프레임에 대해 회전시켜 상기 하부 트레이의 저면이 위쪽을 향하도록 고정한 후, 상기 하부 트레이의 저면으로부터 상기 고정 볼트를 체결하는 단계를 포함하는 웨이퍼 트레이 고정 방법을 제공한다. The present invention also relates to a lithographic apparatus comprising a lower tray including a wafer loading portion on which a wafer is placed and an upper tray coupled with the lower tray to expose the wafer through a wafer exposure opening, (A) placing the lower tray on an upper portion of a jig base including a base opening that is opened and closed and is rotatable with respect to the main frame; (b) loading the wafer onto the wafer loading portion of the lower tray; (c) securing an upper tray to an upper portion of the lower tray and fixing the upper cover to the jig base such that the upper tray is not separated from the lower tray; And (d) rotating the jig base with respect to the main frame to fix the bottom surface of the lower tray so as to face upward, and then fastening the fixing bolt from the bottom surface of the lower tray. do.
또한, 상기 (b) 단계는, (b1) 상기 하부 트레이의 상부에 웨이퍼 가이드용 개구를 구비한 웨이퍼 로딩 가이드 패널을 안착시키는 단계; (b2) 상기 웨이퍼 가이드용 개구를 통해 상기 웨이퍼를 상기 하부 트레이의 웨이퍼 로딩부에 로딩하는 단계; 및 (b3) 상기 웨이퍼 로딩 가이드 패널을 상기 하부 트레이로부터 제거하는 단계;를 포함하여 수행될 수 있다. The step (b) may further include: (b1) placing a wafer loading guide panel having a wafer guide opening on an upper portion of the lower tray; (b2) loading the wafer onto the wafer loading portion of the lower tray through the opening for the wafer guide; And (b3) removing the wafer loading guide panel from the lower tray.
또한, 상기 (c) 단계는 상기 상부 덮개에 구비된 상부 트레이 지지 구조를 이용하여 상기 상부 트레이의 상부면을 지지함으로써 이루어질 수 있다. Also, the step (c) may be performed by supporting the upper surface of the upper tray using the upper tray supporting structure provided on the upper lid.
또한, 본 발명은, 웨이퍼가 로딩되는 웨이퍼 로딩부를 상부면에 포함하고 상하 관통 형성된 적어도 하나의 고정볼트 관통공을 포함하는 하부 트레이; 및 상기 하부 트레이의 상부면에 결합되며, 상기 웨이퍼를 노출시키는 웨이퍼 노출개구를 포함하고, 저면에는 적어도 하나의 고정볼트 고정공을 포함하는 상부 트레이를 포함하며, 고정 볼트가 상기 하부 트레이의 저면으로부터 상기 고정볼트 관통공을 통해 상기 상부 트레이의 저면에 형성된 상기 고정볼트 고정공에 결합됨으로써 상기 하부 트레이와 상기 상부 트레이가 고정되는 것을 특징으로 하는 웨이퍼 트레이를 제공한다. The present invention also relates to a lower tray comprising: a lower tray including a wafer loading portion on which a wafer is loaded, the upper tray including at least one fixing bolt through-hole formed vertically; And an upper tray coupled to an upper surface of the lower tray and including a wafer exposure opening exposing the wafer and including at least one fixing bolt securing hole at a lower surface thereof, And the lower tray and the upper tray are fixed by being coupled to the fixing bolt fixing holes formed on the bottom surface of the upper tray through the fixing bolt through holes.
일 실시예에 있어서, 상기 하부 트레이 상부면의 상기 고정볼트 관통공 주위에는 실링부재 삽입홈이 구비되고, 상기 실링부재 삽입홈에는 실링부재가 삽입될 수 있다. In an exemplary embodiment, a sealing member insertion groove may be formed in the upper surface of the lower tray around the fixing bolt through-hole, and a sealing member may be inserted into the sealing member insertion groove.
또한, 상기 하부 트레이의 외주면에는 적어도 하나의 제 1 정렬 홈이 구비되고, 상기 상부 트레이의 외주면에는 적어도 하나의 제 2 정렬 홈이 구비될 수 있다. At least one first alignment groove may be formed on an outer circumferential surface of the lower tray, and at least one second alignment groove may be formed on an outer circumferential surface of the upper tray.
본 발명에 따르면, 웨이퍼 트레이를 조립함에 있어서 하부 트레이의 저면으로부터 고정 볼트를 삽입하여 상부 트레이의 저면에 결합되는 구조를 취함에 따라 공정 진행 중 파티클이 상부에 노출된 고정 볼트의 체결 부위에 축적되는 종래 웨이퍼 트레이의 문제점이 해소된다. According to the present invention, when a wafer tray is assembled, a fixing bolt is inserted from the bottom surface of the lower tray to be coupled to the bottom surface of the upper tray, so that the particles are accumulated in the fastening part of the fixing bolt exposed at the upper part during the process The problem of the conventional wafer tray is solved.
또한, 본 발명에 따르면, 웨이퍼 트레이 조립 지그를 이용함에 따라 웨이퍼 트레이 조립 공정을 용이하게 할 수 있다. 또한, 본 발명의 웨이퍼 트레이 조립 지그는, 웨이퍼 트레이의 하부 트레이의 소정 위치에 웨이퍼를 로딩하는 경우 웨이퍼로딩 가이드패널이 웨이퍼의 로딩을 가이드함으로써 웨이퍼의 정확하고 용이한 로딩을 가능하게 한다. Also, according to the present invention, the wafer tray assembly process can be facilitated by using the wafer tray assembly jig. Further, the wafer tray assembly jig of the present invention enables accurate and easy loading of the wafer by guiding the loading of the wafer when the wafer is loaded at a predetermined position of the lower tray of the wafer tray.
또한, 하부 트레이에 웨이퍼를 로딩한 후, 하부 트레이의 상부에 상부 트레이를 위치시키고, 웨이퍼 트레이의 보호 덮개를 상기 상부 트레이의 상부면에 덮은 후 하부 트레이의 저면이 상부로 위치하도록 한 후 하부 트레이와 상부 트레이를 조립함에 따라 조립 공정에서 발생할 수 있는 웨이퍼 표면의 손상을 방지할 수 있다. After the wafer is loaded on the lower tray, the upper tray is positioned on the lower tray, the protective cover of the wafer tray is covered on the upper surface of the upper tray, the bottom of the lower tray is positioned on the upper side, And the upper tray are assembled, damage of the surface of the wafer, which may occur in the assembling process, can be prevented.
도 1은 본 발명의 바람직한 실시예에 따른 웨이퍼 트레이의 분해 사시도이다.
도 2는 본 발명의 바람직한 실시예에 따른 웨이퍼 트레이의 단면도이다.
도 3은 본 발명의 바람직한 실시예에 따른 웨이퍼 트레이 조립 지그의 사시도이다.
도 4는 본 발명의 바람직한 실시예에 따른 웨이퍼 트레이 조립 지그에 사용되는 웨이퍼 로딩 가이드패널의 사시도이다.
도 5는 본 발명의 바람직한 실시예에 따른 웨이퍼 트레이 조립 지그에 하부 트레이를 안착시킨 상태를 도시한 사시도이다.
도 6은 본 발명의 바람직한 실시예에 따른 웨이퍼 트레이 조립 지그에 안착된 하부 트레이의 상부에 웨이퍼 로딩 가이드패널을 위치시키고 웨이퍼를 로딩하는 상태를 도시한 사시도이다.
도 7은 본 발명의 바람직한 실시예에 따른 웨이퍼 트레이 조립 지그에 안착된 하부 트레이의 상부에 웨이퍼를 로딩한 후 웨이퍼 로딩 가이드패널을 제거한 상태를 도시한 사시도이다.
도 8은 본 발명의 바람직한 실시예에 따른 웨이퍼 트레이 조립 지그에 안착된 하부 트레이의 상부에 상부 트레이를 안착시킨 상태를 도시한 사시도이다.
도 9는 본 발명의 바람직한 실시예에 따른 웨이퍼 트레이 조립 지그의 상부 덮개를 덮은 상태를 도시한 사시도이다.
도 10은 본 발명의 바람직한 실시예에 따른 웨이퍼 트레이 조립 지그의 지그 베이스가 상하 반전되도록 회전시킨 상태를 도시한 사시도이다. 1 is an exploded perspective view of a wafer tray according to a preferred embodiment of the present invention.
2 is a cross-sectional view of a wafer tray according to a preferred embodiment of the present invention.
3 is a perspective view of a wafer tray assembly jig according to a preferred embodiment of the present invention.
4 is a perspective view of a wafer loading guide panel used in a wafer tray assembly jig according to a preferred embodiment of the present invention.
5 is a perspective view showing a state in which a lower tray is seated on a wafer tray assembly jig according to a preferred embodiment of the present invention.
6 is a perspective view illustrating a state in which a wafer loading guide panel is placed on a lower tray mounted on a wafer tray assembly jig and a wafer is loaded in accordance with a preferred embodiment of the present invention.
FIG. 7 is a perspective view illustrating a state in which a wafer loading guide panel is removed after a wafer is loaded on a lower tray mounted on a wafer tray assembly jig according to a preferred embodiment of the present invention. FIG.
8 is a perspective view illustrating a state in which an upper tray is seated on an upper portion of a lower tray placed on a wafer tray assembly jig according to a preferred embodiment of the present invention.
9 is a perspective view illustrating a state in which a top cover of a wafer tray assembly jig according to a preferred embodiment of the present invention is covered.
10 is a perspective view showing a state in which the jig base of the wafer tray assembly jig according to the preferred embodiment of the present invention is rotated to be turned upside down.
이하, 본 발명의 바람직한 실시예를 첨부된 도면들을 참조하여 상세히 설명한다. 우선 각 도면의 구성 요소들에 참조 부호를 부가함에 있어서, 동일한 구성 요소들에 대해서는 비록 다른 도면상에 표시되더라도 가능한 한 동일한 부호를 가지도록 하고 있음에 유의해야 한다. 또한, 이하에서 본 발명의 바람직한 실시예를 설명할 것이나, 본 발명의 기술적 사상은 이에 한정하거나 제한되지 않고 당업자에 의해 변형되어 다양하게 실시될 수 있음은 물론이다.
Hereinafter, preferred embodiments of the present invention will be described in detail with reference to the accompanying drawings. In the drawings, the same reference numerals are used to designate the same or similar components throughout the drawings. In addition, the preferred embodiments of the present invention will be described below, but it is needless to say that the technical idea of the present invention is not limited thereto and can be variously modified by those skilled in the art.
도 1은 본 발명의 바람직한 실시예에 따른 웨이퍼 트레이의 분해 사시도이고, 도 2는 본 발명의 바람직한 실시예에 따른 웨이퍼 트레이의 단면도이다. FIG. 1 is an exploded perspective view of a wafer tray according to a preferred embodiment of the present invention, and FIG. 2 is a sectional view of a wafer tray according to a preferred embodiment of the present invention.
본 발명의 바람직한 실시예에 따른 웨이퍼 트레이(1)는, 하부 트레이(10)와 상부 트레이(20)를 포함하며, 하부 트레이(10)와 상부 트레이(20) 사이에는 적어도 하나의 웨이퍼(W)가 로딩되어 구비된다. The
하부 트레이(10)에는 웨이퍼(W)가 안착될 적어도 하나의 웨이퍼 로딩부(12)가 구비된다. 웨이퍼 로딩부(12)는 웨이퍼(W)의 형상에 대응되는 홈 형태로 구비된 포켓 형태이거나, 웨이퍼(W)의 형상에 대응하여 다른 부분에 비해 돌출된 융기부 형태이거나, 하부 트레이(10)의 상부면의 다른 부분과 동일한 평면을 갖는 편평한 형태일 수 있다. 하부 트레이(10)에는 상하 방향으로 관통 형성된 복수의 고정볼트 관통공(14)이 구비된다. 하부 트레이(10)의 상부면의 고정볼트 관통공(14)의 주위에는 실링부재(16)가 삽입되는 실링부재 삽입공(15)이 도넛 형태의 홈 형상으로 구비될 수 있다. 이는 웨이퍼(W)의 냉각을 위해 웨이퍼(W)의 하부면으로 냉각기체 공급공(미도시)을 통해 헬륨과 같은 불활성 기체가 냉각 기체로 공급되는 경우 냉각 기체가 상기 고정볼트 관통공(14)을 통해 누설되는 것을 방지하기 위함이다. The
하부 트레이(10)의 외측 단부에는 적어도 하나의 제 1 정렬 홈(11a, 11b)이 구비될 수 있다. 상기 제 1 정렬 홈(11a, 11b)은 후술할 웨이퍼 조립 지그(30)의 지그 베이스(40)에 구비되는 정렬 돌기(50a, 50b)에 대응하여 형성되어, 하부 트레이(10)가 지그 베이스(40)에 정렬될 상태로 안착되도록 한다. 또한, 하부 트레이(10)의 상부면에는 돌출된 형태의 상하 정렬돌기(18a, 18b)가 구비될 수 있다. 상하 정렬돌기(18a, 18b)는 상부 트레이(20)와 웨이퍼 로딩 가이드패널(80)이 하부 트레이(10)와 정렬되는 것을 보조한다. At least one first alignment groove (11a, 11b) may be provided on the outer end of the lower tray (10). The
하부 트레이(10)의 웨이퍼 로딩부(12)에 웨이퍼(W)가 로딩된 상태에서 상부 트레이(20)가 하부 트레이(10)의 상부에 결합된다. 상부 트레이(20)와 하부 트레이(10)는 하부 트레이(20)의 하방에서 고정볼트 관통공(14)을 통해 삽입되어 상부 트레이(20)의 저면에 형성된 고정볼트 고정공(24)에 결합되는 고정 볼트(29)에 의해 상호 결합된다. The
상부 트레이(20)에는 웨이퍼(W)가 노출되는 웨이퍼 노출개구(22)가 구비되고, 웨이퍼(W)의 이탈을 방지하기 위한 클램핑부(26)가 구비된다. 클램핑부(26)는 웨이퍼(W)의 상부면 에지의 일부 또는 전체를 가압하도록 구성되어 웨이퍼(W)를 지지한다. The
상부 트레이(20)의 외측 단부에는 후술할 지그 베이스(40)의 정렬 돌기(50a, 50b)에 대응되어 형성된 제 2 정렬 홈(21a, 21b)이 구비된다. 또한, 상부 트레이(20)에는 하부 트레이(10)의 상하 정렬돌기(18a, 18b)에 대응하여 상하 관통되어 형성된 제 1 상하 정렬공(28a, 28b)이 구비된다. 상하 정렬돌기(18a, 18b)가 제 1 상하 정렬공(28a, 28b)에 결합됨으로써 상부 트레이(20)와 하부 트레이(10)가 정렬된 상태로 결합될 수 있다.
The upper end of the
도 3은 본 발명의 바람직한 실시예에 따른 웨이퍼 트레이 조립 지그의 사시도이다. 3 is a perspective view of a wafer tray assembly jig according to a preferred embodiment of the present invention.
본 발명의 바람직한 실시예에 따른 웨이퍼 트레이 조립 지그(30)는, 메인 프레임(32)과, 상기 메인 프레임(32)에 회동 가능하게 구비되는 지그 베이스(40)와, 상기 지그 베이스(40)의 상부면을 덮는 상부 덮개(60)를 포함한다. The wafer
메인 프레임(32)은 바닥면을 형성하는 하부 프레임(34)과, 상기 하부 프레임(34)의 양측에 기립된 형태로 구비되는 제 1 측면 프레임(36a)과 제 2 측면 프레임(36b)을 포함할 수 있다. 제 1 측면 프레임(36a)과 제 2 측면 프레임(36b) 각각에는 지그 베이스(40)를 회동시키기 위한 제 1 회동축(38a)과 제 2 회동축(38b)이 구비된다. The
본 발명의 실시에 있어서, 메인 프레임(32)을 구비하지 않고 지그 베이스(40)를 직접 뒤집는 것도 가능할 수 있으나, 메인 프레임(32)을 구비하는 경우 지그 베이스(40)를 회전시키는 것만으로 지그 베이스(40)의 상하 반전이 가능하다는 이점이 있다. It is possible to directly turn the
한편, 제 1 측면 프레임(36a)과 제 2 측면 프레임(36b)에는 적어도 하나의 지그 베이스 고정볼트(39)가 구비될 수 있다. 지그 베이스 고정볼트(39)는 지그 베이스(40)의 측면에 구비된 베이스 고정구(48)에 결합함으로써 지그 베이스(40)가 상기 제 1 회동축(38a) 및 제 2 회동축(38b)을 중심으로 회전하지 못하도록 할 수 있다.
At least one jig
지그 베이스(40)는 상하 개방된 베이스 개구(42)를 포함한 림(rim) 형상으로 구비될 수 있다. 지그 베이스(40)에는 림의 일부가 하부로 오목하게 형성된 제 1 오목부(41a)와 제 2 오목부(41b)가 형성될 수 있다. 상기 제 1 오목부(41a)와 제 2 오목부(41b)는 제 1 회동축(38a)과 제 2 회동축(38b) 방향에 위치할 수 있다. 또한, 지그 베이스(40)에는 제 1 회동보조판(44a)과 제 2 회동보조판(44b)이 구비될 수 있다. 제 1 회동축(38a)은 제 1 회동보조판(44a)에 연결되고, 제 2 회동축(38b)은 제 2 회동보조판(44b)에 연결될 수 있다. 제 1 회동보조판(44a)과 제 2 회동보조판(44b)은 상기 제 1 오목부(41a)와 제 2 오목부(41b)가 형성됨에 따라 제 1, 2 회동축(38a, 38b)이 지그 베이스(40)의 측부에 결합되는 것이 용이하지 않을 것을 대비하기 위함이다. 그러나 본 발명의 실시에 있어서 제 1, 2 회동보조판(44a, 44b)이 구비되지 않고 제 1, 2 회동축(38a, 38b)이 지그 베이스(40)에 직접 결합되는 것도 가능함은 물론이다. The
한편, 지그 베이스(40)에는 베이스 개구(42)의 내측 방향으로 돌출 형성된 하부 트레이 안착부(43)가 구비된다. 하부 트레이 안착부(43)는 하부 트레이(10)의 외측 하부를 지지하도록 지그 베이스(40)의 내주면에 대해 단턱을 이루며 형성된다. On the other hand, the
지그 베이스(40)의 상측 일단에는 상부 덮개(60)의 고정을 위한 상부덮개 고정부(46)가 구비된다. 또한, 지그 베이스(40)에는 상부 덮개(60)가 회동 가능하게 결합되는 상부덮개 연결부(52)가 구비된다. 또한, 지그 베이스(40)의 내주면에는 세로 방향으로 돌출 형성된 적어도 하나의 정렬 돌기(50a, 50b)가 구비된다. 정렬 돌기(50a, 50b)는 하부 트레이(10)의 제 1 정렬 홈(11a, 11b), 상부 트레이(20)의 제 2 정렬 홈(21a, 21b) 및 후술할 웨이퍼 로딩 가이드패널(80)의 제 3 정렬 홈(86a, 86b)에 대응하는 것으로서, 상기 정렬 돌기(50a, 50b)에 의해 하부 트레이(10)와 상부 트레이(20) 및 웨이퍼 로딩 가이드패널(80)이 지그 베이스(40)에 정렬되어 안착될 수 있다. 한편, 상기 정렬 돌기(50a, 50b)는 세로 방향의 홈으로 대체되어 형성될 수 있다. 정렬 돌기(50a, 50b) 대신 홈 형상으로 구비되는 경우, 제 1 정렬 홈(11a, 11b), 제 2 정렬 홈(21a, 21b), 및 제 3 정렬 홈(86a, 86b)는 돌기 형태로 구비된다. An upper
상부 덮개(60)는 지그 베이스(40)의 상부를 덮는 형태로 구비된다. 일 실시예에 있어서, 상부 덮개(60)는 일측에 형성된 상부덮개 회동부(62)가 상부덮개 고정부(46)에 회동 가능하게 연결된 상태로 구비된다. 웨이퍼 트레이(1)의 상태를 확인할 수 있도록, 상부 덮개(60)는 투명한 재질로 이루어질 수 있다. The
상부 덮개(60)에는 복수의 상부 트레이 지지봉(64)이 구비될 수 있다. 상부 트레이 지지봉(64)은 웨이퍼 트레이(1)의 상부 트레이(20)의 상부면을 지지하는 기능을 수행한다. 상부 트레이 지지봉(64)의 단부는 지지봉 커버(66)로 감싸지도록 구성될 수 있다. 지지봉 커버(66)는 고무나 실리콘 또는 플라스틱 재질로 이루어질 수 있다. 이는 상부 트레이(20)의 손상을 방지하는 한편, 상부 트레이(20)를 효과적으로 지지하기 위함이다. 상부 트레이 지지봉(64)은 상부 트레이(1)를 지지하기 위한 구성이므로, 본 발명의 실시에 있어서는 상부 트레이 지지봉(64)이 아닌 다른 구성을 상부 덮개(60)에 채용하여 상부 트레이(20)의 상부면을 지지하는 것도 가능함은 물론이다. 경우에 따라서는 상부 덮개(60)의 저면이 상부 트레이(20)의 상부면을 직접 지지하도록 구성하는 것도 가능하다. The
상부 덮개(60)에는 상부덮개 고정구(68)가 구비된다. 상부덮개 고정구(68)는 지그 베이스(40)의 상부덮개 고정부(46)에 결합하여 상부 덮개(60)가 지그 베이스(40)에 상부에 결합된 상태가 유지되도록 한다. 일 실시예에 있어서, 상부덮개 고정구(68)의 한쪽 단부에는 고정바(69)가 구비되고, 상부덮개 고정구(68)의 다른쪽 단부에는 상부 덮개(60)의 상부면으로 노출된 고정구 소잡이(70)가 구비된다. 상부덮개 고정부(46)는 한쪽이 긴 타원형 또는 장공 형태로 구비되고 그 내측에는 원형의 고정홈(47)이 구비되는데, 상기 고정바(69)는 상부덮개 고정부(46)로 삽입되어 회전되면 상기 고정홈(47)에 걸리게 된다.
The
도 4는 본 발명의 바람직한 실시예에 따른 웨이퍼 트레이 조립 지그에 사용되는 웨이퍼 로딩 가이드패널의 사시도이다. 4 is a perspective view of a wafer loading guide panel used in a wafer tray assembly jig according to a preferred embodiment of the present invention.
웨이퍼 로딩 가이드패널(80)은 판 형태로 구비될 수 있다. 웨이퍼 로딩 가이드패널(80)은 판 형태의 가이드패널 본체(82)을 포함하며, 상기 가이드패널 본체(82)에는 웨이퍼 형상에 대응하는 웨이퍼 가이드용 개구(84)가 적어도 하나 구비된다. 상기 웨이퍼 가이드용 개구(84)의 깊이 또는 형상은, 하부 트레이(10)에 웨이퍼(W)를 로딩하는 경우 웨이퍼(W)가 하부 트레이(10)에 로딩된 상태에서 웨이퍼(W)의 외측 단부를 지지할 수 있도록 형성되는 것이 바람직하다. The wafer
또한, 웨이퍼로딩 가이드패널(80)은 상기 가이드패널 본체(82)와 연결된 적어도 하나의 손잡이부(88a, 88b)를 포함할 수 있다. 일 실시예에 있어서 상기 손잡이부(88a, 88b)는 상기 가이드패널 본체(82)의 측면으로 돌출된 형태로 구성될 수 있으며, 제 1 손잡이부(88a)와 제 2 손잡이부(88b)의 두 개로 구성될 수 있다. 그러나, 본 발명의 실시에 있어서 상기 손잡이부(88a, 88b)는 측면으로 돌출된 형태가 아니라 위쪽 또는 아래쪽으로 절곡된 형상으로 구성될 수 있다. 상기 손잡이부(88a, 88b)는 가이드패널 본체(82)와 일체로 형성된 것일 수 있으며, 경우에 따라서는 별개의 손잡이부를 가이드패널 본체(82)에 용접 등의 방법으로 결합시켜 구비하는 것도 가능할 수 있다. In addition, the wafer
웨이퍼 로딩 가이드패널(80)을 지그 베이스(40)에 결합하는 경우, 상기 손잡이부(38a, 38b)는 지그 베이스(40)의 제 1, 2 오목부(41a, 41b)에 위치될 수 있다. When the wafer
가이드패널 본체(82)에는 지그 베이스(40)의 내측벽에 돌출 형성된 정렬 돌기(50a, 50b)에 대응하는 적어도 하나의 제 3 정렬 홈(86a, 86b)이 구비된다. 한편, 가이드패널 본체(82)에는 하부 트레이(10)의 상하 정렬돌기(18a, 18b)에 대응하는 제 2 상하 정렬공(89a, 89b)가 구비된다.
The
다음으로, 본 발명의 바람직한 실시예에 따른 웨이퍼 트레이 조립 지그(30)를 이용하여 웨이퍼 트레이(1)를 조립하는 과정을 설명한다. Next, a process of assembling the
도 5는 본 발명의 바람직한 실시예에 따른 웨이퍼 트레이 조립 지그에 하부 트레이를 안착시킨 상태를 도시한 사시도이다. 5 is a perspective view showing a state in which a lower tray is seated on a wafer tray assembly jig according to a preferred embodiment of the present invention.
지그 베이스(40)가 지그 베이스 고정볼트(39)에 의해 고정된 상태에서, 지그 베이스(40) 내에 하부 트레이(10)를 안착시킨다. 일 실시예에 있어서, 하부 트레이(10)의 외측 하부는 지그 베이스(40)의 하부 트레이 안착부(43)에 의해 지지된다. The
도 6은 본 발명의 바람직한 실시예에 따른 웨이퍼 트레이 조립 지그에 안착된 하부 트레이의 상부에 웨이퍼 로딩 가이드패널을 위치시키고 웨이퍼를 로딩하는 상태를 도시한 사시도이다. 6 is a perspective view illustrating a state in which a wafer loading guide panel is placed on a lower tray mounted on a wafer tray assembly jig and a wafer is loaded in accordance with a preferred embodiment of the present invention.
하부 트레이(10)의 상부에 웨이퍼 로딩 가이드패널(80)을 위치시킨다. 웨이퍼 로딩 가이드패널(80)의 웨이퍼 가이드용 개구(84)는 하부 트레이(10)의 웨이퍼 로딩부(12)에 대응된 상태로 위치된다. 웨이퍼 로딩 가이드패널(80)은 하부 트레이(10)의 상하 정렬돌기(18a, 18b) 및/또는 지그 베이스(40)의 정렬 돌기(50a, 50b)에 의해 정렬된 상태로 하부 트레이(10)의 상부에 안착된다. 한편, 일 실시예에 있어서, 웨이퍼 로딩 가이드패널(80)의 손잡이부(88a, 88b)는 지그 베이스(40)의 제 1, 2 오목부(41a, 41b)에 위치한다. The wafer
웨이퍼 가이드용 개구(84)에 웨이퍼(W)를 로딩함으로써 웨이퍼(W)가 하부 트레이(10)의 웨이퍼 로딩부(12)에 로딩된다. The wafers W are loaded into the
도 7은 본 발명의 바람직한 실시예에 따른 웨이퍼 트레이 조립 지그에 안착된 하부 트레이의 상부에 웨이퍼를 로딩한 후 웨이퍼 로딩 가이드패널을 제거한 상태를 도시한 사시도이다. FIG. 7 is a perspective view illustrating a state in which a wafer loading guide panel is removed after a wafer is loaded on a lower tray mounted on a wafer tray assembly jig according to a preferred embodiment of the present invention. FIG.
웨이퍼 로딩 가이드패널(80)을 이용하여 웨이퍼(W)를 로딩한 후, 웨이퍼 로딩 가이드패널(80)을 제거하면 도 7과 같이 하부 트레이(10)의 상부에 웨이퍼(W)가 로딩된 상태로 나타난다. When the wafer
도 8은 본 발명의 바람직한 실시예에 따른 웨이퍼 트레이 조립 지그에 안착된 하부 트레이의 상부에 상부 트레이를 안착시킨 상태를 도시한 사시도이다. 8 is a perspective view illustrating a state in which an upper tray is seated on an upper portion of a lower tray placed on a wafer tray assembly jig according to a preferred embodiment of the present invention.
다음으로, 하부 트레이(10)의 상부에 상부 트레이(20)를 안착시킨다. 상부 트레이(20)는 하부 트레이(10)의 상하 정렬돌기(18a, 18b) 및/또는 지그 베이스(40)의 정렬 돌기(50a, 50b)에 의해 정렬된 상태로 하부 트레이(10)의 상부에 안착된다. Next, the
도 9는 본 발명의 바람직한 실시예에 따른 웨이퍼 트레이 조립 지그의 상부 덮개를 덮은 상태를 도시한 사시도이다. 9 is a perspective view illustrating a state in which a top cover of a wafer tray assembly jig according to a preferred embodiment of the present invention is covered.
이후, 상부 덮개(60)를 덮는다. 상부 트레이(60)는 상부덮개 고정구(68)가 지그 베이스(40)의 상부덮개 고정부(46)에 결합함으로서 지그 베이스(40)에 고정될 수 있다. Then, the
상부 덮개(60)에 형성된 상부 트레이 지지봉(64)은 상부 트레이(20)의 상부면에 접촉된 상태로 상부 트레이(20)를 상부에서 지지한다. The upper
도 10은 본 발명의 바람직한 실시예에 따른 웨이퍼 트레이 조립 지그의 지그 베이스가 상하 반전되도록 회전시킨 상태를 도시한 사시도이다. 10 is a perspective view showing a state in which the jig base of the wafer tray assembly jig according to the preferred embodiment of the present invention is rotated to be turned upside down.
도 9의 상태에서, 지그 베이스 고정볼트(39)를 해제하고 지그 베이스(40)를 제 1, 2 회동축(38a, 38b)을 중심으로 180도 회전시키면 도 10과 같은 상태로 된다. 이 상태에서, 하부 트레이(10)의 고정볼트 관통공(14)에 고정 볼트(29)를 삽입하여 고정 볼트(29)가 상부 트레이(20)의 고정볼트 고정공(24)에 결합하도록 한다. 9, when the jig
도 5 내지 도 10의 과정을 거치면 도 2에 도시된 바와 같은 웨이퍼 트레이(1)의 조립이 완료된다.
5 to 10, the assembly of the
이상의 설명은 본 발명의 기술 사상을 예시적으로 설명한 것에 불과한 것으로서, 본 발명이 속하는 기술 분야에서 통상의 지식을 가진 자라면 본 발명의 본질적인 특성에서 벗어나지 않는 범위 내에서 다양한 수정, 변경 및 치환이 가능할 것이다. 따라서, 본 발명에 개시된 실시예 및 첨부된 도면들은 본 발명의 기술 사상을 한정하기 위한 것이 아니라 설명하기 위한 것이고, 이러한 실시예 및 첨부된 도면에 의하여 본 발명의 기술 사상의 범위가 한정되는 것은 아니다. 본 발명의 보호 범위는 아래의 청구범위에 의하여 해석되어야 하며, 그와 동등한 범위 내에 있는 모든 기술 사상은 본 발명의 권리범위에 포함되는 것으로 해석되어야 할 것이다.It will be apparent to those skilled in the art that various modifications, substitutions and substitutions are possible, without departing from the scope and spirit of the invention as disclosed in the accompanying claims. will be. Therefore, the embodiments disclosed in the present invention and the accompanying drawings are intended to illustrate and not to limit the technical spirit of the present invention, and the scope of the technical idea of the present invention is not limited by these embodiments and the accompanying drawings . The scope of protection of the present invention should be construed according to the following claims, and all technical ideas within the scope of equivalents should be construed as falling within the scope of the present invention.
1 : 웨이퍼 트레이
10 : 하부 트레이
11a, 11b: 제 1 정렬 홈
12 : 웨이퍼 로딩부
14 : 고정볼트 관통공
15 : 실링부재 삽입홈
16 : 실링 부재
18a, 18b : 상하 정렬돌기
20 : 상부 트레이
21a, 21b : 제 2 정렬 홈
22 : 웨이퍼 노출개구
24 : 고정볼트 고정공
26 : 클램핑부
28a, 28b : 제 1 상하 정렬공
29 : 고정 볼트
30 : 웨이퍼 조립 지그
32 : 메인 프레임
34 : 하부 프레임
36a : 제 1 측면 프레임
36b : 제 2 측면 프레임
38a : 제 1 회동축
38b : 제 2 회동축
39 : 지그 베이스 고정볼트
40 : 지그 베이스
41a, 41b : 제 1, 2 오목부
42 : 베이스 개구
43 : 하부 트레이 안착부
44a : 제 1 회동보조판
44b : 제 2 회동보조판
46 : 상부덮개 고정부
47 : 고정홈
48 : 베이스 고정구
50a, 50b : 정렬 돌기
52 : 상부덮개 연결부
60 : 상부 덮개
62 : 상부덮개 회동부
64 : 상부 트레이 지지봉
66 : 지지봉 커버
68 : 상부덮개 고정구
69 : 고정바
70 : 고정구 손잡이
80 : 웨이퍼 로딩 가이드패널
82 : 가이드패널 본체
84 : 웨이퍼 가이드용 개구
86a, 86b : 제 3 정렬 홈
88a, 88b : 제 1, 2 손잡이부
89a, 89b : 제 2 상하 정렬공
W : 웨이퍼1: Wafer tray 10: Lower tray
11a, 11b: first alignment groove 12: wafer loading section
14: Fixing bolt through-hole 15: Sealing member insertion groove
16: sealing
20:
22: Wafer exposure opening 24: Fixing bolt fixing hole
26: clamping
29: Fixing bolt
30: wafer assembly jig 32: main frame
34:
36b:
38b: second coaxial shaft 39: jig base fixing bolt
40:
42: base opening 43: lower tray seating portion
44a: first
46: upper cover fixing portion 47: fixing groove
48:
52: upper cover connection
60: upper cover 62: upper cover rotation part
64: upper tray support bar 66: support bar cover
68: upper cover fixture 69: fixed bar
70: Fixture handle
80: Wafer loading guide panel 82: Guide panel main body
84:
88a, 88b: first and
W: Wafer
Claims (18)
상하 개방된 베이스 개구를 포함하며 상기 하부 트레이가 안착되는 지그 베이스; 및
상기 하부 트레이의 상기 웨이퍼 로딩부에 웨이퍼를 로딩한 후 상기 상기 상부 트레이를 상기 하부 트레이의 상부에 안착시킨 상태에서, 상기 상부 트레이의 상부를 지지하며 상기 지그 베이스에 결합되는 상부 덮개
를 포함하는 웨이퍼 트레이 조립 지그. A lower tray including a wafer loading portion on which a wafer is seated; and an upper tray coupled with the lower tray to expose the wafer through a wafer exposure opening, wherein a fixing bolt is coupled from the bottom of the lower tray to the upper tray In the assembly jig of the wafer tray,
A jig base including a base opening that is opened and closed and on which the lower tray is seated; And
Wherein the upper tray is mounted on the upper loading tray of the lower tray and the upper tray is mounted on an upper portion of the lower tray,
And a jig.
상기 베이스 지그에 상기 하부 트레이를 안착시킨 상태에서 상기 하부 트레이의 상부에 위치되며, 상기 웨이퍼 로딩부로의 상기 웨이퍼의 로딩을 가이드하는 웨이퍼 가이드용 개구가 적어도 하나 형성된 가이드패널 본체를 포함하는 웨이퍼 로딩 가이드패널을 추가로 포함하는 웨이퍼 트레이 조립 지그. The method according to claim 1,
And a guide panel body disposed at an upper portion of the lower tray in a state where the lower tray is seated on the base jig and having at least one opening for a wafer guide for guiding loading of the wafer into the wafer loading portion, Further comprising a panel.
상기 웨이퍼의 로딩이 완료된 후 상기 웨이퍼 로딩 가이드패널이 제거된 상태에서 상기 상부 트레이가 상기 하부 트레이의 상부에 안착되는 것을 특징으로 하는 웨이퍼 트레이 조립 지그. 3. The method of claim 2,
Wherein the upper tray is seated on the lower tray with the wafer loading guide panel removed after the loading of the wafer is completed.
상기 지그 베이스는 상부 표면의 일부가 하부로 우묵하게 형성된 오목부를 적어도 하나 형성하며, 상기 웨이퍼 로딩 가이드 패널은 상기 지그 베이스에 안착시 상기 오목부에 위치하는 손잡이부가 상기 가이드패널 본체에 구비되는 것을 특징으로 하는 웨이퍼 트레이 조립 지그. 3. The method of claim 2,
And the wafer loading guide panel is provided on the guide panel body with a handle portion located in the recess when the jig base is seated on the jig base. To the wafer jig.
상기 상부 덮개는 상기 지그 베이스에 회동 가능하게 결합되고, 상기 상부 트레이의 상부면을 지지하는 상부 트레이 지지 구조를 포함하는 것을 특징으로 하는 웨이퍼 트레이 조립 지그. The method according to claim 1,
Wherein the upper lid includes an upper tray supporting structure rotatably coupled to the jig base and supporting an upper surface of the upper tray.
상기 상부 트레이 지지 구조는 상기 상부 덮개의 내측면에 구비되는 적어도 하나의 상부 트레이 지지봉을 포함하는 것을 특징으로 하는 웨이퍼 트레이 조립 지그. 6. The method of claim 5,
Wherein the upper tray support structure comprises at least one upper tray support bar provided on the inner surface of the upper lid.
상기 상부 트레이 지지봉의 단부는 지지봉 커버를 구비하는 것을 특징으로 하는 웨이퍼 트레이 조립 지그. The method according to claim 6,
And the end of the upper tray support bar has a support bar cover.
상기 베이스 지그의 내측면에는 단턱을 형성하여 구비되며 상기 하부 트레이의 저면 일부를 지지하는 하부 트레이 안착부가 구비되는 것을 특징으로 하는 웨이퍼 트레이 조립 지그. The method according to claim 1,
And a lower tray seating part having a step formed on an inner surface of the base jig and supporting a part of the bottom surface of the lower tray.
상기 베이스 지그의 내측면에는 세로 방향으로 돌출 형성된 정렬 돌기 또는 세로 방향의 홈으로 형성된 적어도 하나의 정렬 홈이 구비되는 것을 특징으로 하는 웨이퍼 트레이 조립 지그. The method according to claim 1,
Wherein at least one alignment groove is formed in the inner surface of the base jig, the aligning protrusion being formed to protrude in the longitudinal direction or the longitudinal groove.
상기 지그 베이스가 회동 가능하게 구비되는 메인 프레임을 추가로 포함하는 것을 특징으로 하는 웨이퍼 트레이 조립 지그. 10. The method according to any one of claims 1 to 9,
Wherein the jig base further comprises a main frame rotatably mounted on the jig base.
상기 지그 베이스는 상기 메인 프레임의 제 1 측면 프레임과 제 2 측면 프레임에 대해 각각 제 1 회동축 및 제 2 회동축에 의해 지지되어 회동가능하게 결합되는 것을 특징으로 하는 웨이퍼 트레이 조립 지그. 11. The method of claim 10,
Wherein the jig base is rotatably coupled to the first side frame and the second side frame of the main frame while being supported by first and second pivot shafts, respectively.
상기 지그 베이스가 상기 제 1 회동축 및 상기 제 2 회동축을 중심으로 회전되는 것을 방지하는 적어도 하나의 지그 베이스 고정볼트가 상기 제 1 측면 프레임 또는 상기 제 2 측면 프레임을 통해 상기 지그 베이스에 고정되는 것을 특징으로 하는 웨이퍼 트레이 조립 지그. 12. The method of claim 11,
At least one jig base fixing bolt for preventing the jig base from being rotated about the first rotation axis and the second rotation axis is fixed to the jig base through the first side frame or the second side frame And the jig is fixed to the wafer tray.
(a) 상기 하부 트레이를 상하 개방된 베이스 개구를 포함하며 메인 프레임에 대해 회전 가능하게 구비된 지그 베이스의 상부에 안착시키는 단계;
(b) 상기 하부 트레이의 상기 웨이퍼 로딩부에 상기 웨이퍼를 로딩하는 단계;
(c) 상기 하부 트레이의 상부에 상부 트레이를 안착시키고, 상기 상부 트레이가 상기 하부 트레이로부터 이탈되지 않도록 상부 덮개를 상기 지그 베이스에 고정하는 단계; 및
(d) 상기 지그 베이스를 상기 메인 프레임에 대해 회전시켜 상기 하부 트레이의 저면이 위쪽을 향하도록 고정한 후, 상기 하부 트레이의 저면으로부터 상기 고정 볼트를 체결하는 단계
를 포함하는 웨이퍼 트레이 고정 방법. A lower tray including a wafer loading portion on which a wafer is seated; and an upper tray coupled with the lower tray to expose the wafer through a wafer exposure opening, wherein a fixing bolt is coupled from the bottom of the lower tray to the upper tray A method of assembling a wafer tray,
(a) placing the lower tray on an upper portion of a jig base including a base opening which is opened and closed and is rotatable with respect to the main frame;
(b) loading the wafer onto the wafer loading portion of the lower tray;
(c) securing an upper tray to an upper portion of the lower tray and fixing the upper cover to the jig base such that the upper tray is not separated from the lower tray; And
(d) fastening the fixing bolt from the bottom surface of the lower tray after rotating the jig base with respect to the main frame so that the bottom surface of the lower tray faces upward,
Wherein the wafer tray is fixed to the wafer tray.
상기 (b) 단계는,
(b1) 상기 하부 트레이의 상부에 웨이퍼 가이드용 개구를 구비한 웨이퍼 로딩 가이드 패널을 안착시키는 단계;
(b2) 상기 웨이퍼 가이드용 개구를 통해 상기 웨이퍼를 상기 하부 트레이의 웨이퍼 로딩부에 로딩하는 단계; 및
(b3) 상기 웨이퍼 로딩 가이드 패널을 상기 하부 트레이로부터 제거하는 단계;
를 포함하는 것을 특징으로 하는 웨이퍼 트레이 고정 방법. 14. The method of claim 13,
The step (b)
(b1) placing a wafer loading guide panel having an opening for a wafer guide on an upper portion of the lower tray;
(b2) loading the wafer onto the wafer loading portion of the lower tray through the opening for the wafer guide; And
(b3) removing the wafer loading guide panel from the lower tray;
And fixing the wafer tray.
상기 (c) 단계는 상기 상부 덮개에 구비된 상부 트레이 지지 구조를 이용하여 상기 상부 트레이의 상부면을 지지함으로써 이루어지는 것을 특징으로 하는 웨이퍼 트레이 고정 방법. The method according to claim 13 or 14,
Wherein the step (c) comprises supporting the upper surface of the upper tray using an upper tray supporting structure provided on the upper lid.
상기 하부 트레이의 상부면에 결합되며, 상기 웨이퍼를 노출시키는 웨이퍼 노출개구를 포함하고, 저면에는 적어도 하나의 고정볼트 고정공을 포함하는 상부 트레이를 포함하며,
고정 볼트가 상기 하부 트레이의 저면으로부터 상기 고정볼트 관통공을 통해 상기 상부 트레이의 저면에 형성된 상기 고정볼트 고정공에 결합됨으로써 상기 하부 트레이와 상기 상부 트레이가 고정되는 것을 특징으로 하는 웨이퍼 트레이. A lower tray including at least one fixing bolt through-hole formed in an upper surface thereof and having a wafer loading portion on which a wafer is loaded; And
An upper tray coupled to an upper surface of the lower tray and including a wafer exposure opening exposing the wafer, the lower tray including at least one fixing bolt securing hole,
Wherein the fixing bolt is engaged with the fixing bolt fixing hole formed on the bottom surface of the upper tray through the fixing bolt through hole from the bottom surface of the lower tray to fix the lower tray and the upper tray.
상기 하부 트레이 상부면의 상기 고정볼트 관통공 주위에는 실링부재 삽입홈이 구비되고, 상기 실링부재 삽입홈에는 실링부재가 삽입되는 것을 특징으로 하는 웨이퍼 트레이. 17. The method of claim 16,
Wherein a sealing member insertion groove is formed in the upper surface of the lower tray at the periphery of the fixing bolt through hole, and a sealing member is inserted into the sealing member insertion groove.
상기 하부 트레이의 외주면에는 적어도 하나의 제 1 정렬 홈이 구비되고, 상기 상부 트레이의 외주면에는 적어도 하나의 제 2 정렬 홈이 구비되는 것을 특징으로 하는 웨이퍼 트레이. 18. The method according to claim 16 or 17,
Wherein at least one first alignment groove is formed on an outer peripheral surface of the lower tray and at least one second alignment groove is formed on an outer peripheral surface of the upper tray.
Priority Applications (3)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
KR1020140144308A KR20160047857A (en) | 2014-10-23 | 2014-10-23 | Wafer Tray and Assemblying Jig and Methof for the Wafer Tray |
TW104128446A TWI686887B (en) | 2014-10-23 | 2015-08-28 | Wafer tray, jig for assembling wafer tray, and method of assembling wafer tray |
CN201510604678.5A CN105552008A (en) | 2014-10-23 | 2015-09-21 | Wafer tray, jig for assembling wafer tray and method for assembling wafer tray |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
KR1020140144308A KR20160047857A (en) | 2014-10-23 | 2014-10-23 | Wafer Tray and Assemblying Jig and Methof for the Wafer Tray |
Publications (1)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
KR20160047857A true KR20160047857A (en) | 2016-05-03 |
Family
ID=55831112
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
KR1020140144308A KR20160047857A (en) | 2014-10-23 | 2014-10-23 | Wafer Tray and Assemblying Jig and Methof for the Wafer Tray |
Country Status (3)
Country | Link |
---|---|
KR (1) | KR20160047857A (en) |
CN (1) | CN105552008A (en) |
TW (1) | TWI686887B (en) |
Cited By (3)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
KR20200072253A (en) * | 2018-12-12 | 2020-06-22 | 주식회사 선익시스템 | Tray for receiving a test substrate and substrate processing apparatus including the same |
CN111725129A (en) * | 2020-06-29 | 2020-09-29 | 北京北方华创微电子装备有限公司 | Wafer bearing device and semiconductor process equipment |
KR102374393B1 (en) * | 2021-07-09 | 2022-03-15 | 주식회사 기가레인 | Wafer tray assembly apparatus and wafer tray assembly method |
Families Citing this family (1)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
CN110911313B (en) * | 2019-11-27 | 2022-11-25 | 北京北方华创微电子装备有限公司 | Tray overturning platform |
Family Cites Families (8)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP2006173560A (en) * | 2004-11-16 | 2006-06-29 | Sumitomo Electric Ind Ltd | Wafer guide, metal organic vapor phase growing device and method for depositing nitride semiconductor |
KR101160253B1 (en) * | 2009-11-27 | 2012-06-26 | 주식회사 맥시스 | tray for substrate |
KR101137545B1 (en) * | 2009-12-30 | 2012-04-20 | 주식회사 탑 엔지니어링 | Integrated Wafer Tray |
TWM383814U (en) * | 2010-02-05 | 2010-07-01 | Marketech Int Corp | Wafer carrier with multiple claw suppression components |
CN102939648B (en) * | 2010-06-01 | 2015-05-27 | 松下电器产业株式会社 | Plasma processing device and plasma processing method |
TWM420830U (en) * | 2011-07-07 | 2012-01-11 | Sino American Silicon Prod Inc | Carrier assembly for wafer |
TWM453957U (en) * | 2012-10-19 | 2013-05-21 | C Sun Mfg Ltd | Wafer carrier assembly |
TWM476363U (en) * | 2013-11-14 | 2014-04-11 | Liang Zhi-Wei | Tray for etching process of patterned sapphire substrate |
-
2014
- 2014-10-23 KR KR1020140144308A patent/KR20160047857A/en not_active Application Discontinuation
-
2015
- 2015-08-28 TW TW104128446A patent/TWI686887B/en not_active IP Right Cessation
- 2015-09-21 CN CN201510604678.5A patent/CN105552008A/en active Pending
Cited By (4)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
KR20200072253A (en) * | 2018-12-12 | 2020-06-22 | 주식회사 선익시스템 | Tray for receiving a test substrate and substrate processing apparatus including the same |
CN111725129A (en) * | 2020-06-29 | 2020-09-29 | 北京北方华创微电子装备有限公司 | Wafer bearing device and semiconductor process equipment |
CN111725129B (en) * | 2020-06-29 | 2023-02-14 | 北京北方华创微电子装备有限公司 | Wafer bearing device and semiconductor process equipment |
KR102374393B1 (en) * | 2021-07-09 | 2022-03-15 | 주식회사 기가레인 | Wafer tray assembly apparatus and wafer tray assembly method |
Also Published As
Publication number | Publication date |
---|---|
TW201628113A (en) | 2016-08-01 |
TWI686887B (en) | 2020-03-01 |
CN105552008A (en) | 2016-05-04 |
Similar Documents
Publication | Publication Date | Title |
---|---|---|
US5280894A (en) | Fixture for backside wafer etching | |
KR20160047857A (en) | Wafer Tray and Assemblying Jig and Methof for the Wafer Tray | |
JP2006080546A (en) | Wafer transport module | |
KR20110077574A (en) | Integrated wafer tray | |
KR102230847B1 (en) | Jig and Method for Assembling Wafer Tray | |
US6474474B2 (en) | Sheet support container | |
WO2000010192A1 (en) | Plasma density and etch rate enhancing semiconductor processing chamber | |
JP4587828B2 (en) | Fixing jig for precision substrates | |
EP1004524B1 (en) | Sheet support container | |
TWI613755B (en) | Apparatus and methods for handling workpieces of different sizes | |
JPH06326174A (en) | Vacuum suction device for wafer | |
US6230895B1 (en) | Container for transporting refurbished semiconductor processing equipment | |
JP2008019490A (en) | Pallet apparatus | |
KR102308346B1 (en) | Wafer centering jig | |
JP2021526312A (en) | Semiconductor processing equipment | |
KR20200129613A (en) | Unit for supporting substrate and Apparatus for treating substrate with the unit | |
KR102619677B1 (en) | A two-piece electrode mounted in the chamber of an etching apparatus for semiconductors | |
US20230102933A1 (en) | Gas distribution plate with uv blocker | |
TW201913874A (en) | Substrate supporting device and substrate processing apparatus | |
CN117059463A (en) | Dry etching assembly and dry etching machine | |
KR20010029087A (en) | A process chamber provided with separable lid | |
JPH11111797A (en) | Substrate processing device and assembling method of substrate-processing device | |
KR20060065189A (en) | Semiconductor etcher device | |
JP2009152230A (en) | Substrate cleaning device using focus plate | |
KR20000011778U (en) | Electrostatic chuck insulation ring of dry etching device |
Legal Events
Date | Code | Title | Description |
---|---|---|---|
E902 | Notification of reason for refusal | ||
E601 | Decision to refuse application |