KR20150132194A - Release film for green sheet manufacturing, and method for manufacturing release film for green sheet manufacturing - Google Patents

Abstract

본 발명의 그린 시트 제조용 박리 필름은 제1 면과 제2 면을 갖는 기재; 기재의 제1 면에 형성된 평활화층; 및 평활화층의 기재와 반대면 측에 형성된 박리제층을 구비하고, 평활화층은 활성 에너지선 경화형 화합물을 포함한 평활화층 형성용 조성물에, 활성 에너지선을 조사하여 경화시킴으로써 형성되어 있으며, 상기 박리제층의 외표면의 산술 평균 거칠기 Ra₁가 8nm 이하이고, 아울러 박리제층의 상기 외표면의 최대 돌기 높이 Rp₁가 50nm 이하인 것을 특징으로 한다. 본 발명에 의하면, 그린 시트의 표면에 핀홀 등이 발생하는 것을 방지하고, 신뢰성이 높은 그린 시트를 제조하는 것이 가능한 그린 시트 제조용 박리 필름을 제공할 수 있다.A release film for manufacturing a green sheet of the present invention comprises: a substrate having a first side and a second side; A smoothing layer formed on the first side of the substrate; And a release agent layer formed on the side opposite to the substrate of the smoothing layer, wherein the smoothing layer is formed by irradiating an active energy ray to a composition for forming a smoothing layer containing an active energy ray-curable compound to cure the release agent layer outer and the arithmetic mean roughness Ra of the surface ₁ 8nm or less, as well as to the maximum protrusion height of the external surface of the release agent layer Rp ₁ characterized in that not more than 50nm. INDUSTRIAL APPLICABILITY According to the present invention, it is possible to provide a release film for use in the production of a green sheet, which can prevent the generation of pinholes on the surface of a green sheet and can produce a green sheet with high reliability.

Description

그린 시트 제조용 박리 필름 및 그린 시트 제조용 박리 필름의 제조 방법{RELEASE FILM FOR GREEN SHEET MANUFACTURING, AND METHOD FOR MANUFACTURING RELEASE FILM FOR GREEN SHEET MANUFACTURING}TECHNICAL FIELD [0001] The present invention relates to a release film for manufacturing a green sheet and a method for manufacturing a release film for use in the production of a green sheet. BACKGROUND OF THE INVENTION 1. Field of the Invention [0002]

본 발명은 그린 시트 제조용 박리 필름 및 그린 시트 제조용 박리 필름의 제조 방법에 관한 것이다.The present invention relates to a release film for the production of green sheets and a process for producing release films for the production of green sheets.

세라믹 콘덴서의 제조에 있어서, 그린 시트를 형성하기 위하여 그린 시트 제조용 박리 필름이 이용되고 있다.In the production of ceramic capacitors, a release film for producing green sheets is used to form a green sheet.

그린 시트 제조용 박리 필름은 일반적으로 기재와 박리제층으로 구성된다. 그린 시트는 이와 같은 그린 시트 제조용 박리 필름 위에, 세라믹 입자와 바인더 수지를 유기 용매에 분산, 용해시킨 세라믹 슬러리를 도포하고, 그것을 건조함으로써 제조된다. 또한, 제조된 그린 시트는 그린 시트 제조용 박리 필름에서 박리되어, 세라믹 콘덴서의 제조에 이용된다.The release film for green sheet production generally comprises a substrate and a release agent layer. The green sheet is produced by applying a ceramic slurry in which ceramic particles and a binder resin are dispersed and dissolved in an organic solvent on a release film for producing such a green sheet, and drying it. In addition, the green sheet thus produced is peeled off from the release film for the production of a green sheet, and is used in the production of a ceramic capacitor.

종래의 그린 시트 제조용 박리 필름을 이용한 그린 시트의 제조에 있어서는, 그린 시트 제조용 박리 필름의 표면의 요철이 그린 시트에 전사됨으로써, 그린 시트의 표면에 핀홀이 발생하는 등의 문제가 있었다. 그 결과, 이와 같은 그린 시트를 적층하여 제조된 세라믹 콘덴서에 있어서는, 단락에 의한 문제점이 발생한다는 문제가 발생하였다. 이러한 문제를 해결하기 위하여, 그린 시트 제조용 박리 필름의 표면(캐스트면)에는 매우 높은 평활성이 요구되고 있다.In the conventional production of a green sheet using a release film for green sheet production, unevenness on the surface of the release film for green sheet production is transferred to the green sheet, resulting in pinholes on the surface of the green sheet. As a result, in the ceramic capacitor produced by laminating such a green sheet, there arises a problem that short-circuit problems arise. In order to solve such a problem, a very high smoothness is required on the surface (cast surface) of the release film for green sheet production.

따라서, 표면이 평활한 그린 시트 제조용 박리 필름을 제조하는 방법으로서, 표면에 미세한 요철이 있는 기재 시트의 한쪽의 표면에, 열경화 수지액을 도포하고, 그것을 가열, 경화시킴으로써 형성된 열경화 수지층을 형성하고, 다시 그 열경화 수지층 위에 박리제를 도포하여 박리제층을 형성한 박리 필름이 제안되어 있다(예를 들면, 특허 문헌 1 참조).Accordingly, a method for producing a release film for surface-smoothening a green sheet, comprising the steps of applying a thermosetting resin liquid onto one surface of a base sheet having fine irregularities on its surface and heating and curing it to form a thermosetting resin layer And then a releasing agent is coated on the thermosetting resin layer to form a releasing agent layer (see, for example, Patent Document 1).

또한, 최근의 세라믹 콘덴서의 소형화, 고밀도화에 따라, 그린 시트의 추가적인 박막화가 요구되고 있다. 그러나, 종래의 그린 시트 제조용 박리 필름에서는 얇은 그린 시트를 제조하고자 하면, 그린 시트의 표면에 핀홀 등이 발생하게 되어, 신뢰성이 높은 그린 시트를 얻는 것이 곤란했다.Further, with the recent miniaturization and high density of the ceramic capacitor, further thinning of the green sheet is required. However, in the conventional release film for green sheet production, when a thin green sheet is produced, pinholes or the like are generated on the surface of the green sheet, and it is difficult to obtain a reliable green sheet.

특허문헌 1: 일본 특허공개 2007-069360호 공보Patent Document 1: Japanese Patent Application Laid-Open No. 2007-069360

본 발명의 목적은 그린 시트의 표면에 핀홀이나 부분적인 두께의 편차 등이 발생하는 것을 방지하고, 신뢰성이 높은 그린 시트를 제조하는 것이 가능한 그린 시트 제조용 박리 필름을 제공하는 것에 있다. 또한, 본 발명의 다른 목적은 그린 시트의 표면에 핀홀이나 부분적인 두께의 편차 등이 발생하는 것을 방지할 수 있는 그린 시트 제조용 박리 필름을 제조하는 제조 방법을 제공하는 것에 있다.SUMMARY OF THE INVENTION An object of the present invention is to provide a release film for use in the production of a green sheet, which can prevent a pinhole or partial thickness variation on the surface of a green sheet from occurring, and can produce a highly reliable green sheet. Another object of the present invention is to provide a method for manufacturing a release film for use in the production of a green sheet, which can prevent pinholes and partial thickness variations on the surface of the green sheet.

이와 같은 목적은 하기 (1)~(8)의 본 발명에 의해 달성된다.This object is achieved by the present invention of the following (1) to (8).

(1) 그린 시트 제조용 박리 필름이며,(1) a release film for manufacturing a green sheet,

제1 면과 제2 면을 갖는 기재;A substrate having a first side and a second side;

상기 기재의 상기 제1 면에 형성된 평활화층; 및A smoothing layer formed on the first surface of the substrate; And

상기 평활화층의 상기 기재와 반대면 측에 형성된 박리제층을 구비하고,And a release agent layer formed on the side of the smoothing layer opposite to the substrate,

상기 평활화층은 활성 에너지선 경화형 화합물을 포함한 평활화층 형성용 조성물에, 활성 에너지선을 조사하여 경화시킴으로써 형성되어 있으며,The smoothing layer is formed by irradiating a composition for forming a smoothing layer containing an active energy ray curable compound with an active energy ray to cure the composition,

상기 박리제층의 외표면의 산술 평균 거칠기 Ra₁가 8nm 이하이고, 아울러 상기 박리제층의 상기 외표면의 최대 돌기 높이 Rp₁가 50nm 이하인 것을 특징으로 하는 그린 시트 제조용 박리 필름.And the arithmetic average roughness Ra ₁ of the outer surface of the release agent layer 8nm or less, as well as the green sheet for manufacture of release film is the maximum protrusion height Rp ₁ of the outer surface of the release agent layer, characterized in that not more than 50nm.

(2) 상기 제1 면의 산술 평균 거칠기 Ra₂가 10~200nm이고, 아울러 상기 제1 면의 최대 돌기 높이 Rp₂가 80~1000nm인 상기 (1)에 기재된 그린 시트 제조용 박리 필름.(2) The release film for producing a green sheet according to (1), wherein the arithmetic mean roughness Ra ₂ of the first surface is 10 to 200 nm and the maximum protrusion height Rp ₂ of the first surface is 80 to 1000 nm.

(3) 상기 활성 에너지선 경화형 화합물은 질량 평균 분자량이 950 이하의 화합물인 상기 (1) 또는 (2)에 기재된 그린 시트 제조용 박리 필름.(3) The release film for producing a green sheet according to (1) or (2), wherein the active energy ray curable compound is a compound having a mass average molecular weight of 950 or less.

(4) 상기 활성 에너지선 경화형 화합물은 자외선 경화형 화합물이며, 상기 활성 에너지선은 자외선인 상기 (1) 내지 (3) 중의 어느 하나에 기재된 그린 시트 제조용 박리 필름.(4) The release film for production of a green sheet according to any one of (1) to (3), wherein the active energy ray curable compound is an ultraviolet curable compound and the active energy ray is ultraviolet light.

(5) 상기 평활화층의 평균 두께가, 0.2~10㎛인 상기 (1) 내지 (4) 중의 어느 하나에 기재된 그린 시트 제조용 박리 필름.(5) The release film for producing a green sheet according to any one of (1) to (4), wherein the average thickness of the smoothing layer is 0.2 to 10 탆.

(6) 상기 평활화층은 상기 기재와 반대면을 구비하고, 상기 평활화층의 상기 기재와 반대의 상기 면의 산술 평균 거칠기 Ra₄가 8nm 이하이고, 아울러 상기 평활화층의 상기 기재와 반대의 상기 면의 최대 돌기 높이 Rp₄가 50nm 이하인 상기 (1) 내지 (5) 중의 어느 하나에 기재된 그린 시트 제조용 박리 필름.(6) the smoothing layer has an opposite surface to the substrate, the arithmetic average roughness Ra ₄ of the surface opposite to the substrate of the smoothing layer is 8 nm or less, and the surface of the smoothing layer opposite to the substrate (1) to (5), wherein the maximum projection height Rp ₄ of the green sheet is not more than 50 nm.

(7) 상기 제2 면의 산술 평균 거칠기 Ra₃가 10~200nm이고, 아울러 상기 제2 면의 최대 돌기 높이 Rp₃가 80~1000nm인 상기 (1) 내지 (6) 중의 어느 하나에 기재된 그린 시트 제조용 박리 필름.(7) The green sheet according to any one of (1) to (6), wherein the arithmetic mean roughness Ra ₃ of the second surface is 10 to 200 nm and the maximum protrusion height Rp ₃ of the second surface is 80 to 1000 nm. Release film for manufacture.

(8) 상기 (1) 내지 (7) 중의 어느 하나에 기재된 그린 시트 제조용 박리 필름의 제조 방법이며,(8) A method for producing a release film for manufacturing a green sheet according to any one of (1) to (7)

상기 제1 면과 상기 제2 면을 갖는 상기 기재를 준비하는 기재 준비 공정;A substrate preparation step of preparing the substrate having the first surface and the second surface;

상기 활성 에너지선 경화형 화합물을 포함한 상기 평활화층 형성용 조성물을, 상기 기재의 상기 제1 면 측에 도포함으로써 도포층을 형성하는 도포층 형성 공정;A coating layer forming step of forming the coating layer by applying the composition for forming a smoothing layer containing the active energy ray curable compound to the first surface side of the substrate;

상기 도포층에 상기 활성 에너지선을 조사하여 경화시킴으로써, 상기 평활화층을 형성하는 평활화층 형성 공정; 및A smoothing layer forming step of forming the smoothing layer by irradiating the coating layer with the active energy ray and curing; And

상기 평활화층의 상기 기재와 반대의 상기 면 측에, 상기 박리제층을 형성하는 박리제층 형성 공정을 구비하고,And a releasing agent layer forming step of forming the releasing agent layer on the surface side of the smoothing layer opposite to the substrate,

상기 박리제층의 상기 외표면의 상기 산술 평균 거칠기 Ra₁가 8nm 이하이고, 아울러 상기 박리제층의 상기 외표면의 상기 최대 돌기 높이 Rp₁가 50nm 이하인 것을 특징으로 하는 그린 시트 제조용 박리 필름의 제조 방법.Wherein the outside the arithmetic average roughness Ra ₁ of the surface of the release agent layer is not more than 8nm, as well as green method of producing a sheet for making a release film has the maximum protrusion height Rp ₁ of the outer surface of the release agent layer, characterized in that not more than 50nm.

본 발명에 의하면, 그린 시트의 표면에 핀홀이나 부분적인 두께의 편차 등이 발생하는 것을 방지하고, 신뢰성이 높은 그린 시트를 제조하는 것이 가능한 그린 시트 제조용 박리 필름을 제공할 수 있다. 특히, 그린 시트 제조용 박리 필름을 구성하는 기재로서 표면 거칠기가 비교적 큰 기재를 이용한 경우이더라도, 외표면의 평활성이 우수한 그린 시트 제조용 박리 필름을 제공할 수 있다. 이 그린 시트 제조용 박리 필름을 이용하면, 그린 시트의 표면에 핀홀이나 부분적인 두께의 편차 등이 발생하는 것을 방지할 수 있다. 그 결과, 그린 시트를 적층하여 콘덴서를 제작했을 때에, 단락에 의한 문제점이 발생하는 것을 방지할 수 있다. 또한, 본 발명에 의하면, 표면의 평활성이 우수한 그린 시트를 제조할 수 있는 그린 시트 제조용 박리 필름을, 용이하고 확실하게 제조할 수 있다.According to the present invention, it is possible to provide a release film for use in the production of a green sheet, which can prevent a pinhole or partial thickness variation on the surface of a green sheet from occurring and provide a highly reliable green sheet. Particularly, even when a substrate having a relatively large surface roughness is used as a substrate constituting a release film for green sheet production, it is possible to provide a release film for use in the production of a green sheet excellent in smoothness on the outer surface. By using this release film for green sheet production, it is possible to prevent the occurrence of pinholes and partial thickness variations on the surface of the green sheet. As a result, when a green sheet is laminated to manufacture a capacitor, it is possible to prevent a problem caused by a short circuit. Further, according to the present invention, it is possible to easily and reliably produce a release film for production of a green sheet, which can produce a green sheet excellent in surface smoothness.

도 1은 본 발명의 그린 시트 제조용 박리 필름의 횡단면도이다.1 is a cross-sectional view of a release film for the production of a green sheet of the present invention.

이하, 본 발명을 바람직한 실시형태에 의거하여 상세하게 설명한다.Hereinafter, the present invention will be described in detail based on preferred embodiments.

≪ 그린 시트 제조용 박리 필름 ≫«Release film for green sheet production»

본 발명의 그린 시트 제조용 박리 필름은 그린 시트의 제조에 이용되는 것이다. 그리고, 제조된 그린 시트는 예를 들면, 세라믹 콘덴서 등의 제조에 이용된다.The release film for the production of a green sheet of the present invention is used for producing a green sheet. The green sheet thus produced is used, for example, for the production of ceramic capacitors and the like.

도 1은 본 발명의 그린 시트 제조용 박리 필름의 횡단면도이다. 또한 이하의 설명에서는, 도 1 중의 상측을 “위”, 하측을 “아래”라고 한다.1 is a cross-sectional view of a release film for the production of a green sheet of the present invention. In the following description, the upper side in Fig. 1 is referred to as " upper " and the lower side is referred to as " lower ".

도 1에 나타낸 바와 같이, 그린 시트 제조용 박리 필름(1)은 제1 면(111)과 제2 면(112)을 갖는 기재(11); 기재(11)의 제1 면(111) 위에 형성된 평활화층(12); 및 평활화층(12)의 기재와 반대면(121) 측에 형성된 박리제층(13)을 구비하고 있다. 즉, 그린 시트 제조용 박리 필름(1)은 도 1에 나타낸 바와 같이, 기재(11), 평활화층(12) 및 박리제층(13)이 이 순서로 서로 접합되도록 적층된 3층 구조를 이루는 것이다.As shown in Fig. 1, the release film 1 for manufacturing a green sheet has a substrate 11 having a first side 111 and a second side 112; A smoothing layer (12) formed on the first side (111) of the substrate (11); And a release agent layer 13 formed on the side of the smoothing layer 12 opposite to the substrate 121 side. That is, the release film 1 for green sheet production has a three-layer structure in which the substrate 11, the smoothing layer 12, and the stripping agent layer 13 are laminated in this order, as shown in Fig.

또한 본 명세서에 있어서, 그린 시트 제조용 박리 필름(1)을 이용하여 그린 시트를 제조하는 경우에는 그린 시트는 예를 들면, 박리제층(13)의 외표면(131) 위에 용해된 세라믹 슬러리를 도포함으로써 형성된다.In the present specification, in the case of producing a green sheet using the release film 1 for manufacturing a green sheet, the green sheet can be obtained by, for example, applying the dissolved ceramic slurry on the outer surface 131 of the release agent layer 13 .

본 발명에 있어서, 그린 시트 제조용 박리 필름(1)은 기재(11)와 박리제층(13) 사이에 평활화층(12)을 구비한다. 평활화층(12)은 활성 에너지선 경화형 화합물을 포함한 평활화층 형성용 조성물에, 활성 에너지선을 조사하여 경화시킴으로써 형성되어 있으며, 박리제층(13)의 외표면(131)의 산술 평균 거칠기 Ra₁가 8nm 이하이고, 아울러 박리제층(13)의 외표면(131)의 최대 돌기 높이 Rp₁가 50nm 이하인 점에 특징을 갖고 있다.In the present invention, the release film (1) for green sheet production has a smoothing layer (12) between the substrate (11) and the release agent layer (13). The smoothing layer 12 is formed by irradiating a composition for forming a smoothing layer containing an active energy ray curable compound by irradiating an active energy ray and has an arithmetic mean roughness Ra ₁ of the outer surface 131 of the stripper layer 13 of And the maximum protrusion height Rp ₁ of the outer surface 131 of the release agent layer 13 is 50 nm or less.

이와 같은 특징을 가짐으로써, 박리제층(13)의 외표면(131)의 평활성이 우수하고, 박리성이 우수한 그린 시트 제조용 박리 필름(1)을 얻을 수 있다. 이 그린 시트 제조용 박리 필름(1)을 이용하여 그린 시트를 제조하면, 그린 시트의 표면에 핀홀이나 부분적인 두께의 편차 등이 발생하는 것을 방지하고, 신뢰성이 높은 그린 시트를 제조할 수 있다. 그 결과, 그린 시트를 적층하여 콘덴서를 제작했을 때에, 단락에 의한 문제점이 발생하는 것을 방지할 수 있다.By virtue of this feature, the release film 1 for manufacturing a green sheet having excellent smoothness on the outer surface 131 of the release agent layer 13 and excellent in peelability can be obtained. When the green sheet is produced by using the release film 1 for manufacturing a green sheet, it is possible to prevent pinholes and partial thickness variations on the surface of the green sheet, and a highly reliable green sheet can be produced. As a result, when a green sheet is laminated to manufacture a capacitor, it is possible to prevent a problem caused by a short circuit.

그런데, 기재(11)로서 이용되는 필름은 다양한 표면 거칠기를 갖는다. 저가의 필름일수록 표면 거칠기가 비교적 거친 경향이 있다. 이와 같은 표면 거칠기가 비교적 거친 기재를 이용하여 그린 시트 제조용 박리 필름을 형성하는 경우이더라도, 기재 표면에, 상기와 같은 특징을 갖는 평활화층을 형성함으로써, 기재 표면의 요철을 정확하게 매립할(상쇄할) 수 있다. 그 결과, 평활화층의 기재와 반대면을 평활하게 할 수 있다. 이에 따라, 평활화층 위에 형성된 박리제층의 외표면에, 기재 표면의 요철이 영향을 미치게 되는 것을 방지할 수 있으며 박리제층의 외표면의 평활성이 우수한 그린 시트 제조용 박리 필름을 얻을 수 있다.However, the film used as the substrate 11 has various surface roughnesses. The lower the film, the rougher the surface roughness tends to be. Even when such a surface roughness forms a release film for production of a green sheet using a relatively coarse substrate, the smoothing layer having the above-described characteristics is formed on the surface of the substrate, so that irregularities on the surface of the substrate can be accurately buried (offset) . As a result, the surface opposite to the substrate of the smoothing layer can be smoothed. Thus, it is possible to prevent the unevenness of the surface of the substrate from affecting the outer surface of the release agent layer formed on the smoothing layer, and to obtain a release film for use in the production of a green sheet excellent in smoothness of the outer surface of the release agent layer.

이하, 본 실시형태에 따른 그린 시트 제조용 박리 필름(1)을 구성하는 각 층에 대하여 순차로 설명한다.Hereinafter, each layer constituting the release film 1 for green sheet production according to the present embodiment will be sequentially described.

<기재(11)>&Lt; Substrate (11) >

기재(11)는 그린 시트 제조용 박리 필름(1)(이하, 간단히 “박리 필름(1)”이라 하기도 함)에, 강성, 유연성 등의 물리적 강도를 부여하는 기능을 갖고 있다.The base material 11 has a function of imparting physical strength such as rigidity and flexibility to a release film 1 for green sheet production (hereinafter, simply referred to as &quot; release film 1 &quot;

기재(11)는 도 1에 나타낸 바와 같이, 제1 면(111)과 제2 면(112)을 구비한다.The substrate 11 has a first surface 111 and a second surface 112, as shown in Fig.

기재(11)를 구성하는 재료로서는 특히 한정되지 않고, 예를 들면, 폴리부틸렌 테레프탈레이트 수지, 폴리에틸렌 테레프탈레이트 수지, 폴리에틸렌 나프탈레이트 수지 등의 폴리에스테르 수지, 폴리프로필렌 수지나 폴리메틸펜텐 수지 등의 폴리올레핀 수지, 폴리카보네이트 등의 플라스틱으로 이루어지는 필름 등을 들 수 있다. 기재(11)는 단층 필름이어도 무방하고, 동종 또는 이종의 2층 이상의 다층 필름이어도 무방하다. 이들 중에서도 특히, 폴리에스테르 필름인 것이 바람직하고, 폴리에틸렌 테레프탈레이트 필름인 것이 보다 바람직하고, 2축 연신 폴리에틸렌 테레프탈레이트 필름이 더욱 바람직하다. 특히, 폴리에스테르 필름은 그 가공시나 사용시 등에 있어서, 먼지 등이 발생하기 어렵다. 이 때문에, 예를 들면, 폴리에스테르 수지를 이용하여 제조한 박리 필름(1)을 사용하여 그린 시트를 제조하는 경우에, 먼지 등에 의한 세라믹 슬러리 도포 불량 등을 효과적으로 방지할 수 있다. 그 결과, 핀홀 등이 보다 적은 그린 시트를 제조할 수 있다.The material constituting the base material 11 is not particularly limited and examples thereof include polyester resins such as polybutylene terephthalate resin, polyethylene terephthalate resin and polyethylene naphthalate resin, polyolefin resins such as polypropylene resin and polymethylpentene resin A film made of plastic such as polyolefin resin and polycarbonate, and the like. The base material 11 may be a single layer film, and may be a multilayer film of two or more layers of the same or different types. Among these, a polyester film is preferable, a polyethylene terephthalate film is more preferable, and a biaxially oriented polyethylene terephthalate film is more preferable. Particularly, the polyester film is less susceptible to dust and the like during its processing and use. Therefore, when a green sheet is produced using, for example, a release film (1) produced using a polyester resin, it is possible to effectively prevent defective application of a ceramic slurry due to dust or the like. As a result, a green sheet having fewer pinholes can be produced.

또한, 기재(11)에는 상기와 같은 재료에 더하여, 필러 등을 함유시켜도 무방하다. 필러로서는 실리카, 산화 티탄, 탄산 칼슘, 카올린, 산화 알류미늄 등을 들 수 있으며 이들 중에서 1종 또는 2종 이상을 조합하여 이용할 수 있다. 이와 같은 필러를 포함함으로써, 기재(11)에 기계적 강도를 부여함과 아울러, 기재(11)의 표리면의 미끄러짐성이 향상하여, 블로킹을 억제할 수 있다.The base material 11 may contain a filler or the like in addition to the above-described materials. Examples of the filler include silica, titanium oxide, calcium carbonate, kaolin, and aluminum oxide. One or more of these fillers may be used in combination. By including such a filler, mechanical strength is imparted to the base material 11, slipperiness of the front and back surfaces of the base material 11 is improved, and blocking can be suppressed.

또한, 기재는 제1 면(111)의 산술 평균 거칠기 Ra₂가 10~200nm이고, 아울러 그 최대 돌기 높이 Rp₂가 80~1000nm인 것이 바람직하다.In addition, the base material is preferably a first surface, and the arithmetic average roughness Ra ₂ is 10 ~ 200nm of the 111, as well as the maximum protrusion height Rp ₂ is 80 ~ 1000nm.

특히, 제1 면(111)의 산술 평균 거칠기 Ra₂는 15~100nm인 것이 보다 바람직하고, 제1 면(111)의 산술 평균 거칠기 Ra₂는 20~50nm인 것이 더욱 바람직하다. 또한, 제1 면(111)의 최대 돌기 높이 Rp₂가 90~800nm인 것이 보다 바람직하고, 제1 면(111)의 최대 돌기 높이 Rp₂가 100~600nm인 것이 더욱 바람직하다.In particular, the arithmetic average roughness Ra ₂ of the first surface 111 is more preferably 15 to 100 nm, and the arithmetic mean roughness Ra ₂ of the first surface 111 is more preferably 20 to 50 nm. It is more preferable that the maximum protrusion height Rp ₂ of the first surface 111 is 90 to 800 nm and the maximum protrusion height Rp ₂ of the first surface 111 is 100 to 600 nm.

제1 면(111)의 산술 평균 거칠기 Ra₂ 및 최대 돌기 높이 Rp₂가 상기 범위 내라면, 후술하는 평활화층(12)의 두께가 비교적 얇아도, 기재(11)의 제1 면(111)의 요철을 보다 확실하게 매립할 수 있으며 평활화층(12)의 기재(11)와 반대면(121)을 보다 평활하게 할 수 있다. 그 결과, 평활화층(12) 위에 형성된 박리제층(13)의 외표면(131)에, 기재(11)의 제1 면(111)의 요철이 영향을 미치는 것을 더욱 확실하게 방지할 수 있다.Of the first surface 111, the arithmetic mean roughness Ra ₂ and the maximum protrusion height Rp ₂ is a first side 111 of the range, also the thickness of the smoothing layer 12 to be described later is relatively thin and if the base 11 of The unevenness can be reliably embedded and the smoothing layer 12 can be smoother on the opposite surface 121 of the substrate 11. As a result, it is possible to more reliably prevent the irregularities of the first surface 111 of the base material 11 from being influenced by the outer surface 131 of the release agent layer 13 formed on the smoothing layer 12.

또한, 제1 면(111)의 산술 평균 거칠기 Ra₂, 및, 그 최대 돌기 높이 Rp₂가 상기 범위 내인 기재는 비교적 저가로 입수가 용이하다.The substrate having the arithmetic average roughness Ra ₂ of the first surface 111 and the maximum projection height Rp ₂ within the above range is relatively inexpensive and easy to obtain.

이에 비하여, 제1 면(111)의 산술 평균 거칠기 Ra₂가 상기 상한치를 넘으면, 평활화층 형성용 조성물의 구성 재료 등에 따라서는 제1 면(111)의 요철을 충분히 매립하는 것이 곤란하기 때문에, 박리제층(13)의 두께를 비교적 두껍게 할 필요가 생기는 경우가 있다.On the other hand, when the arithmetic average roughness Ra ₂ of the first surface 111 exceeds the upper limit, it is difficult to sufficiently fill the unevenness of the first surface 111 depending on the constituent materials of the composition for smoothing layer formation, The thickness of the layer 13 may need to be relatively increased.

또한 본 명세서에서는 기재(11)의 제1 면(111)의 산술 평균 거칠기 Ra₂ 및 최대 돌기 높이 Rp₂는 JIS B0601-1994에 준거하여 미츠토요사제 표면 거칠기 측정기 SV3000S4(촉침식)에 의해 측정하여 구할 수 있는 값이다. 그리고, 본 명세서에서는 특히 언급이 없는 한, “산술 평균 거칠기 및 최대 돌기 높이”란, 상기와 같이 하여 측정하여 얻어지는 값을 가리킨다.In addition, the present specification, as determined by the first surface 111, the arithmetic mean roughness Ra ₂ and the maximum protrusion height Rp ₂ is honey Toyo Co., Ltd. The surface roughness meter SV3000S4 (stylus) in accordance with JIS B0601-1994 of the base 11 It is a value that can be obtained. In this specification, unless otherwise specified, the "arithmetic mean roughness and maximum protrusion height" refers to a value obtained by the measurement as described above.

또한, 기재(11)는 제2 면(112)의 산술 평균 거칠기 Ra₃가 10~200nm이고, 아울러 그 최대 돌기 높이 Rp₃가 80~1000nm인 것이 바람직하다. 특히, 제2 면(112)의 산술 평균 거칠기 Ra₃가 15~100nm인 것이 보다 바람직하고, 제2 면(112)의 산술 평균 거칠기 Ra₃가 20~50nm인 것이 더욱 바람직하다. 또한, 제2 면(112)의 최대 돌기 높이 Rp₃가 90~800nm인 것이 보다 바람직하고, 제2 면(112)의 최대 돌기 높이 Rp₃가 100~600nm인 것이 더욱 바람직하다.It is preferable that the substrate 11 has an arithmetic mean roughness Ra ₃ of 10-200 nm and an maximum projection height Rp ₃ of 80-1000 nm on the second surface 112. More preferably, the second surface 112 has an arithmetic mean roughness Ra ₃ of 15 to 100 nm, and the second surface 112 has an arithmetic mean roughness Ra ₃ of 20 to 50 nm. In addition, the second surface is more preferable that the maximum protrusion height Rp of ₃ 112 90 ~ 800nm, and the second surface is more preferred that the 112 maximum protrusion height Rp ₃ is 100 ~ 600nm of.

제2 면(112)의 산술 평균 거칠기 Ra₃, 및, 그 최대 돌기 높이 Rp₃가 상기 범위 내라면, 박리 필름(1)을 롤 형상으로 권취할 때에, 권취 어긋남 등이 발생하는 것을 바람직하게 방지할 수 있다. 또한, 박리 필름(1)을 롤 형상으로 권취하여 보관했을 때에, 블로킹이 발생하는 것을 방지할 수 있다. 구체적으로는 박리 필름(1)은 필요에 따라서, 박리제층(13)이 내측이 되도록, 종이제, 플라스틱제 또는 금속제 등의 코어재에 롤 형상으로 권취하여 보관할 수 있다. 이 때, 제2 면(112)의 산술 평균 거칠기 Ra₃, 및, 그 최대 돌기 높이 Rp₃가 상기 범위 내라면, 박리 필름(1)을 롤 형상으로 권취할 때에, 공기 배출이 양호하게 되어, 권취 어긋남를 효과적으로 억제할 수 있다. 이 때문에, 박리 필름(1)을 권취할 때에, 권취 장력을 높일 필요가 없고, 권취 장력에 기인하는 권심부의 변형을 억제하는 것이 가능해진다. 또한, 롤 형상의 박리 필름(1)에 있어서의 제2 면(112)의 산술 평균 거칠기 Ra₃, 및, 그 최대 돌기 높이 Rp₃가 상기 범위 내라면, 박리제층(13)과 기재(11)의 제2 면(112)이 밀착됨으로써 발생하는 블로킹의 발생을 보다 효과적으로 방지할 수 있다. 이 때문에, 롤 형상의 박리 필름(1)의 공급을, 용이하게 실시할 수 있다.If the arithmetic average roughness Ra ₃ of the second surface 112 and the maximum protrusion height Rp ₃ are within the above ranges, it is preferable to prevent the occurrence of winding deviation or the like when the peeling film 1 is wound in roll form can do. Further, it is possible to prevent the occurrence of blocking when the peeling film 1 is rolled up and stored. Concretely, the release film 1 can be wound into a roll of a core material such as paper, plastic or metal so that the release agent layer 13 is inward, if necessary. At this time, if the arithmetic average roughness Ra ₃ of the second surface 112 and the maximum protrusion height Rp _{3 thereof} fall within the above range, the air discharge is good when the release film 1 is rolled up, The winding displacement can be effectively suppressed. Therefore, when the release film 1 is wound, it is not necessary to increase the winding tension, and deformation of the winding core due to the winding tension can be suppressed. If the arithmetic average roughness Ra ₃ and the maximum protrusion height Rp ₃ of the second surface 112 of the roll-shaped peeling film 1 are within the above ranges, the peeling agent layer 13 and the substrate 11 It is possible to more effectively prevent the occurrence of the blocking caused by the close contact of the second surface 112 of the second substrate 110. [ For this reason, the roll-shaped release film 1 can be easily supplied.

이에 비하여, 제2 면(112)의 산술 평균 거칠기 Ra₃가 상기 하한치 미만이면, 롤 형상으로 권취할 때에, 박리 필름(1)의 표리(기재(11)의 제2 면(112)과 박리제층(13)의 외표면(131))에서 블로킹이 발생하기 쉬워질 우려가 있다. 또한, 기재(11)의 평균 두께는 특히 한정되지 않지만, 10~300㎛인 것이 바람직하고, 15~200㎛인 것이 보다 바람직하다. 이에 따라, 박리 필름(1)의 유연성을 적당한 것으로 하면서, 찢어짐이나 파단 등에 대한 내성을 특별히 우수한 것으로 할 수 있다.On the other hand, when the arithmetic average roughness Ra ₃ of the second surface 112 is less than the lower limit, the surface of the release film 1 (the second surface 112 of the base material 11 and the release agent layer (The outer surface 131 of the outer tube 13). The average thickness of the base material 11 is not particularly limited, but is preferably 10 to 300 占 퐉, more preferably 15 to 200 占 퐉. This makes it possible to make the release film 1 particularly excellent in resistance to tearing, breakage and the like, while making the flexibility of the release film 1 appropriate.

<평활화층(12)><Smoothing layer 12>

평활화층(12)은 박리제층(13)의 외표면(131)에 대한, 기재(11)의 제1 면(111)의 요철의 영향을 저감하는 기능을 갖고 있다.The smoothing layer 12 has a function of reducing the influence of the unevenness of the first surface 111 of the base material 11 with respect to the outer surface 131 of the release agent layer 13. [

도 1에 나타낸 바와 같이, 평활화층(12)은 기재(11)의 제1 면(111) 위에 형성되어 있다.As shown in Fig. 1, the smoothing layer 12 is formed on the first surface 111 of the substrate 11.

평활화층(12)은 기재(11)의 제1 면(111) 위에, 평활화층 형성용 조성물을 도포하고, 얻어진 도포층에 대하여, 활성 에너지선을 조사하여 경화시킴으로써 형성된다.The smoothing layer 12 is formed by applying a composition for forming a smoothing layer on the first side 111 of the substrate 11 and irradiating the obtained coating layer with an active energy ray to cure it.

평활화층 형성용 조성물은 활성 에너지선을 조사함으로써 경화되는 활성 에너지선 경화형 화합물을 포함한다.The composition for forming a smoothing layer includes an active energy ray curable compound which is cured by irradiating with an active energy ray.

또한 활성 에너지선을 조사하기 전의 평활화층 형성용 조성물은 실온에서 미경화 상태, 또는 반경화 상태로 존재하고 있다.Also, the composition for forming a smoothing layer before irradiation with an active energy ray exists in an uncured state or a semi-cured state at room temperature.

또한, 이러한 평활화층 형성용 조성물은 기재(11)의 제1 면(111) 위에 도포할 때에, 적당한 유동성을 가지고 있다. 따라서, 이러한 평활화층 형성용 조성물을 이용하면, 기재(11)의 제1 면(111)의 요철을 용이하게 매립할 수 있으며 그 매립한 상태를 확실하게 유지할 수 있다. 그 결과, 평활화층(12)의 기재(11)와 반대면(121)(이하, “제3 면(121)”이라 하기도 함)측에, 기재(11)의 요철이 영향을 미치는 것을 방지할 수 있으며 평활화층(12)의 제3 면(121)을 평활하게 할 수 있다. 이 때문에, 평활화층(12)의 제3 면(121) 위에 형성되는 박리제층(13)의 외표면(131)을 보다 평활하게 할 수 있다.Further, such a composition for smoothing layer has a suitable fluidity when applied on the first surface 111 of the substrate 11. Therefore, when such a composition for smoothing layer formation is used, it is possible to easily embed irregularities on the first surface 111 of the substrate 11, and it is possible to reliably maintain the embedding state. As a result, it is possible to prevent the unevenness of the base material 11 from being influenced on the side of the smoothing layer 12 opposite to the base material 11 (hereinafter also referred to as &quot; third surface 121 & And the third surface 121 of the smoothing layer 12 can be smoothed. Therefore, the outer surface 131 of the release agent layer 13 formed on the third surface 121 of the smoothing layer 12 can be smoothened.

또한, 활성 에너지선 경화형 화합물로서는 예를 들면, 자외선을 조사함으로써 경화되는 자외선 경화형 화합물, 적외선을 조사함으로써 경화되는 적외선 경화형 화합물, X선을 조사함으로써 경화되는 X선 경화형 화합물, 전자선을 조사함으로써 경화되는 전자선 경화형 화합물, 및, 가시광선을 조사함으로써 경화되는 가시광선 경화형 화합물 등을 들 수 있다. 이들 중에서도 특히, 자외선 경화형 화합물인 것이 바람직하다. 자외선 경화형 화합물은 적당한 유동성을 갖는다. 이 때문에, 평활화층 형성용 조성물을 기재(11)의 제1 면(111) 위에 도포함으로써 평활한 면 상태를 형성하는 것이 가능하다. 따라서, 평활화층(12)을 비교적 얇게 형성했다고 하더라도, 기재(11)의 제1 면(111)의 요철을 확실하게 매립할 수 있다. 그 결과, 평활화층(12)의 제3 면(121)을 보다 용이하고 확실하게 평활하게 할 수 있다.Examples of the active energy ray curable compound include an ultraviolet curable compound which is cured by irradiation with ultraviolet rays, an infrared curable compound which is cured by irradiation with infrared rays, an x-ray curable compound which is cured by irradiation with X rays, An electron beam curable compound, and a visible light curable compound which is cured by irradiation with visible light. Of these, ultraviolet curable compounds are particularly preferred. The ultraviolet curable compound has an appropriate fluidity. Therefore, it is possible to form a smoothed surface state by applying the composition for smoothing layer formation onto the first surface 111 of the substrate 11. Therefore, even if the smoothing layer 12 is formed to be relatively thin, the irregularities on the first surface 111 of the substrate 11 can be reliably filled. As a result, the third surface 121 of the smoothing layer 12 can be smoothed more easily and reliably.

자외선이나 전자선 등의 활성 에너지선을 조사함으로써 경화시킬 수 있는 활성 에너지선 경화형 화합물로서는, 분자 내에 2개 이상의 중합성 불포화기를 갖는 것이 이용된다. 예를 들면, 우레탄 아크릴레이트계 화합물, 다관능 아크릴레이트계 화합물, 폴리에스테르 아크릴레이트계 화합물, 에폭시 아크릴레이트계 화합물, 폴리올 아크릴레이트계 화합물 등을 들 수 있다. 이들 중에서도, 우레탄 아크릴레이트계 화합물이 바람직하다.As the active energy ray curable compound that can be cured by irradiating active energy rays such as ultraviolet rays or electron rays, those having two or more polymerizable unsaturated groups in the molecule are used. Examples thereof include urethane acrylate compounds, polyfunctional acrylate compounds, polyester acrylate compounds, epoxyacrylate compounds and polyol acrylate compounds. Of these, urethane acrylate compounds are preferred.

우레탄 아크릴레이트계 화합물은 예를 들면, 폴리에테르 폴리올이나 폴리에스테르 폴리올과 폴리이소시아네이트의 반응에 의해 얻어지는 폴리우레탄 올리고머를, (메타)아크릴산으로 에스테르화함으로써 얻을 수 있다. 구체적으로는 페닐글리시딜에테르아크릴레이트 헥사메틸렌디이소시아네이트우레탄 프리폴리머, 펜타에리스리톨트리아크릴레이트 헥사메틸렌디이소시아네이트우레탄 프리폴리머, 펜타에리스리톨트리아크릴레이트 톨루엔디이소시아네이트우레탄 프리폴리머, 펜타에리스리톨트리아크릴레이트 이소보론디이소시아네이트우레탄 프리폴리머, 디펜타에리스리톨펜타아크릴레이트 헥사메틸렌디이소시아네이트우레탄 프리폴리머등을 들 수 있다.The urethane acrylate compound can be obtained, for example, by esterifying a polyurethane oligomer obtained by the reaction of a polyether polyol or a polyester polyol with a polyisocyanate with (meth) acrylic acid. Specific examples include phenylglycidyl ether acrylate hexamethylene diisocyanate urethane prepolymer, pentaerythritol triacrylate hexamethylene diisocyanate urethane prepolymer, pentaerythritol triacrylate toluene diisocyanate urethane prepolymer, pentaerythritol triacrylate isoboron diisocyanate urethane Prepolymer, dipentaerythritol pentaacrylate hexamethylene diisocyanate urethane prepolymer, and the like.

다관능 아크릴레이트계 화합물은 예를 들면,1,4-부탄디올디(메타)아크릴레이트, 1,6-헥산디올디(메타)아크릴레이트, 네오펜틸글리콜디(메타)아크릴레이트, 폴리에틸렌글리콜디(메타)아크릴레이트, 네오펜틸글리콜아디페이트디(메타)아크릴레이트, 디시클로펜타닐디(메타)아크릴레이트, 알릴화 시클로헥실디(메타)아크릴레이트, 이소시아누레이트디(메타)아크릴레이트, 트리메티롤프로판트리(메타)아크릴레이트, 디펜타에리스리톨트리(메타)아크릴레이트, 펜타에리트리톨트리(메타)아크릴레이트, 트리스(아크릴록시에틸) 이소시아누레이트, 디펜타에리스리톨헥사(메타)아크릴레이트 등을 들 수 있다.Examples of the polyfunctional acrylate compound include 1,4-butanediol di (meth) acrylate, 1,6-hexanediol di (meth) acrylate, neopentyl glycol di (meth) acrylate, polyethylene glycol di (Meth) acrylate, neopentyl glycol adipate di (meth) acrylate, dicyclopentanyl di (meth) acrylate, allyl cyclohexyl di (meth) acrylate, isocyanurate di (Meth) acrylate, dipentaerythritol tri (meth) acrylate, pentaerythritol tri (meth) acrylate, tris (acryloxyethyl) isocyanurate, dipentaerythritol hexa And the like.

폴리에스테르 아크릴레이트계 화합물은 예를 들면, 다가 카르본산과 다가 알코올의 축합에 의해 얻어지는 양 말단에 수산기를 갖는 폴리에스테르 올리고머의 수산기를 (메타)아크릴산으로 에스테르화함으로써, 혹은 다가 카르본산에 알킬렌 옥시드를 부가하여 얻어지는 올리고머의 말단의 수산기를 (메타)아크릴산으로 에스테르화함으로써 얻을 수 있다.The polyester acrylate compound can be produced, for example, by esterifying a hydroxyl group of a polyester oligomer having a hydroxyl group at both terminals with (meth) acrylic acid obtained by condensation of a polyvalent carboxylic acid and a polyhydric alcohol, And then esterifying the terminal hydroxyl group of the oligomer obtained by adding an oxide with (meth) acrylic acid.

에폭시 아크릴레이트계 화합물은 예를 들면, 비교적 저분자량의 비스페놀형 에폭시 수지나 노볼락형 에폭시 수지의 옥시실란 고리에, (메타)아크릴산을 반응하여 에스테르화함으로써 얻을 수 있다.The epoxy acrylate compound can be obtained, for example, by reacting (meth) acrylic acid with an oxysilane ring of a relatively low molecular weight bisphenol type epoxy resin or novolak type epoxy resin to esterify it.

폴리올 아크릴레이트계 화합물은 예를 들면, 폴리에테르 폴리올의 수산기를(메타)아크릴산으로 에스테르화함으로써 얻을 수 있다.The polyol acrylate-based compound can be obtained, for example, by esterifying a hydroxyl group of a polyether polyol with (meth) acrylic acid.

또한, 활성 에너지선 경화형 화합물은 질량 평균 분자량이 950 이하인 것이 바람직하고, 질량 평균 분자량이 300~700인 것이 보다 바람직하다. 이에 따라, 기재(11)의 제1 면(111)에 도포하여 활성 에너지선을 조사하기 전의 평활화층 형성용 조성물의 점도를 적당히 할 수 있다. 이에 따라, 평활화층 형성용 조성물은 더욱 적당한 유동성을 갖는다. 이와 같은 평활화층 형성용 조성물을 이용하여 기재(11)의 제1 면(111) 측에 평활화층(12)을 형성함으로써, 기재(11)의 제1 면(111)의 요철을 보다 확실하게 매립할 수 있다. 그 결과, 평활화층(12)의 제3 면(121)에 대하여, 기재(11)의 요철이 영향을 미치는 것을 보다 확실하게 방지할 수 있으며 평활화층(12)의 제3 면(121)을 보다 평활하게 할 수 있다. 따라서, 평활화층(12) 위에 형성된 박리제층(13)의 외표면에 대하여, 기재(11)의 요철이 영향을 미치게 되는 것을 특히 방지할 수 있으며 박리제층(13)의 외표면(131)을 보다 평활하게 할 수 있다.The active energy ray curable compound preferably has a mass average molecular weight of 950 or less and more preferably a mass average molecular weight of 300 to 700. [ As a result, the viscosity of the composition for forming a smoothing layer before application of the active energy rays to the first surface 111 of the base material 11 can be moderated. As a result, the composition for forming a smoothing layer has more suitable fluidity. By forming the smoothing layer 12 on the first surface 111 side of the substrate 11 using the composition for smoothing layer formation as described above, the irregularities of the first surface 111 of the substrate 11 can be embedded more reliably can do. As a result, it is possible to more reliably prevent the irregularities of the base material 11 from affecting the third surface 121 of the smoothing layer 12 and to prevent the third surface 121 of the smoothing layer 12 from being damaged It can be smooth. Therefore, it is possible to particularly prevent the unevenness of the base material 11 from affecting the outer surface of the release agent layer 13 formed on the smoothing layer 12, and the outer surface 131 of the release agent layer 13 It can be smooth.

특히, 기재(11)의 제1 면(111)의 표면의 요철이 비교적 큰 것이더라도, 상기와 같은 평활화층 형성용 조성물의 작용, 효과에 의해, 제1 면(111)의 요철을 바람직하게 매립할 수 있기 때문에, 박리제층(13)의 외표면(131)의 평활성이 특히 우수한 박리 필름(1)을 얻을 수 있다.Particularly, even if the irregularities of the surface of the first surface 111 of the substrate 11 are comparatively large, the irregularities of the first surface 111 can be preferably filled up by the action and effect of the composition for forming a smoothing layer, It is possible to obtain the release film (1) having particularly excellent smoothness of the outer surface (131) of the release agent layer (13).

이에 비하여, 활성 에너지선 경화형 화합물의 질량 평균 분자량이 상기 하한치 미만이면, 평활화층 형성용 조성물의 점도가 저하하여, 평활화층(12)을 경화시키는 시간이 비교적 길어지는 경우가 있다. 또한, 활성 에너지선 경화형 화합물의 질량 평균 분자량이 상기 상한치를 넘으면, 활성 에너지선 경화형 화합물의 종류 등에 따라서는 평활화층 형성용 조성물의 점도가 비교적 높아지기 때문에, 점도를 조정하기 위하여, 점도 조정제 등을 첨가할 필요가 생기는 경우가 있다.On the other hand, when the mass-average molecular weight of the active energy ray-curable compound is less than the above lower limit, the viscosity of the composition for forming a smoothing layer is lowered, and the time for curing the smoothing layer 12 is relatively long. When the mass-average molecular weight of the active energy ray-curable compound exceeds the upper limit, the viscosity of the composition for forming a smoothing layer becomes relatively high depending on the kind of the active energy ray curable compound, etc. Therefore, There is a need to do so.

또한, 평활화층 형성용 조성물은 활성 에너지선 경화형 화합물에 더하여, 필요에 따라서, 용매를 포함하는 것이어도 무방하다. 이에 따라, 기재(11)의 제1 면(111)에 도포할 때의 평활화층 형성용 조성물의 점도를 용이하게 조정할 수 있다.The composition for forming a smoothing layer may contain a solvent in addition to the active energy ray curable compound, if necessary. This makes it possible to easily adjust the viscosity of the composition for forming a smoothing layer when it is applied to the first surface 111 of the base material 11.

용매로서는 예를 들면, 톨루엔이나 크실렌 등의 방향족 탄화수소, 초산 에틸이나 초산 부틸 등의 지방산 에스테르, 메틸 에틸 케톤이나 메틸 이소부틸 케톤 등의 케톤, 메탄올, 에탄올 및 이소프로필 알콜 등의 알콜 등의 유기 용매 등을 들 수 있으며 이들 중에서 1종 또는 2종 이상을 조합하여 이용할 수 있다. 이에 따라, 평활화층 형성용 조성물의, 기재(11)의 제1 면(111)에 도포하여 활성 에너지선을 조사하기 전의 점도를 적당히 하는 것이 용이하게 된다.Examples of the solvent include aromatic hydrocarbons such as toluene and xylene, fatty acid esters such as ethyl acetate and butyl acetate, ketones such as methyl ethyl ketone and methyl isobutyl ketone, and organic solvents such as methanol and alcohols such as ethanol and isopropyl alcohol And the like, and one or more of these may be used in combination. This makes it easier to apply the composition for forming a smoothing layer to the first surface 111 of the base material 11 and adjust the viscosity before irradiation of the active energy rays.

또한 평활화층 형성용 조성물은 상술한 바와 같은 성분에 더하여, 그 외의 성분이 포함되어 있어도 무방하다. 그 외의 성분으로서는 가교제, 광중합 개시제, 점도 조정제, 촉매, 염료, 분산제, 대전 방지제, 경화제 등을 들 수 있다. 또한, 상기 그 외의 성분을 포함한 경우에는 평활화층 형성용 조성물 중(고형분 환산)에 있어서의, 상기 그 외의 성분의 함유율은 0.1~10 질량%인 것이 바람직하다.The composition for forming a smoothing layer may contain other components in addition to the above-described components. Other components include a crosslinking agent, a photopolymerization initiator, a viscosity adjusting agent, a catalyst, a dye, a dispersant, an antistatic agent, and a curing agent. When the other components are included, the content of the other components in the smoothing layer-forming composition (in terms of solid content) is preferably 0.1 to 10% by mass.

또한, 용매를 포함한 평활화층 형성용 조성물 중에 있어서의, 활성 에너지선 경화형 화합물의 함유율은 특히 한정되지 않지만, 0.5~60 질량%가 바람직하고, 1~45 질량%가 보다 바람직하다. 이에 따라, 평활화층 형성용 조성물의 점도를 적당히 하는 것이 용이하게 된다.The content of the active energy ray-curable compound in the composition for forming a smoothing layer containing a solvent is not particularly limited, but is preferably 0.5 to 60 mass%, more preferably 1 to 45 mass%. This makes it easy to adjust the viscosity of the composition for forming a smoothing layer.

또한, 평활화층 형성용 조성물 중(고형분 환산)에 있어서의, 활성 에너지선 경화형 화합물의 함유율은 특히 한정되지 않지만, 90 질량% 이상이 바람직하고, 95 질량%이상이 보다 바람직하다. 이에 따라, 평활화층 형성용 조성물의 경화성을 특히 우수한 것으로 할 수 있다.The content of the active energy ray-curable compound in the composition for forming a smoothing layer (in terms of solid content) is not particularly limited, but is preferably 90% by mass or more, and more preferably 95% by mass or more. As a result, the curing property of the composition for forming a smoothing layer can be made particularly excellent.

또한, 평활화층(12)의 제3 면(121)의 산술 평균 거칠기 Ra₄가 8nm 이하이고, 아울러 그 최대 돌기 높이 Rp₄가 50nm 이하인 것이 바람직하다. 특히, 제3 면(121)의 산술 평균 거칠기 Ra₄가 6nm 이하인 것이 보다 바람직하다. 또한, 제3 면(121)의 최대 돌기 높이 Rp₄가, 40nm 이하인 것이 보다 바람직하다.It is also preferable that the arithmetic average roughness Ra ₄ of the third surface 121 of the smoothing layer 12 is 8 nm or less and the maximum projection height Rp ₄ is 50 nm or less. In particular, it is more preferable that the arithmetic average roughness Ra ₄ of the third surface 121 is 6 nm or less. It is more preferable that the maximum protrusion height Rp ₄ of the third surface 121 is 40 nm or less.

제3 면(121)의 산술 평균 거칠기 Ra₄ 및 최대 돌기 높이 Rp₄가 상기 범위 내라면, 박리제층(13)의 외표면(131)에 대한, 기재(11)의 표면의 요철의 영향을 보다 확실하게 방지할 수 있다.If the arithmetic mean roughness Ra ₄ and the maximum protrusion height Rp ₄ of the third surface 121 are within the above range, the influence of the surface irregularities of the surface of the base material 11 with respect to the outer surface 131 of the release agent layer 13 It can be surely prevented.

이에 비하여, 제3 면(121)의 산술 평균 거칠기 Ra₄가 상기 하한치 미만이면, 평활화층(12)의 구성 재료 등에 따라서는 박리제층(13)과의 밀착성이 저하할 가능성이 있다. 한편, 제3 면(121)의 산술 평균 거칠기 Ra₄가 상기 상한치를 넘으면, 박리제층(13)과 평활화층(12) 사이에, 더욱 새로운 평활화층을 형성할 필요가 생기는 경우가 있다.On the other hand, if the arithmetic average roughness Ra ₄ of the third surface 121 is less than the lower limit, there is a possibility that the adhesion with the releasing agent layer 13 may deteriorate depending on the material of the smoothing layer 12 and the like. On the other hand, when the arithmetic average roughness Ra ₄ of the third surface 121 exceeds the upper limit value, it may be necessary to form a new smoothing layer between the release agent layer 13 and the smoothing layer 12.

한편, 제3 면(121)의 최대 돌기 높이 Rp₄가 상기 하한치 미만이면, 박리제층(13)과의 밀착성을 향상시키기 위하여, 평활화층(12)의 제3 면(121) 위에, 밀착성을 향상시키기 위한 처리를 실시할 필요가 생기는 경우가 있다. 한편, 제3 면(121)의 최대 돌기 높이 Rp₄가 상기 상한치를 넘으면, 박리제층(13)과 평활화층(12) 사이에, 더욱 새로운 평활화층을 형성할 필요가 생기는 경우가 있다.On the other hand, when the maximum protrusion height Rp ₄ of the third surface 121 is less than the lower limit value, adhesion is improved on the third surface 121 of the smoothing layer 12 in order to improve the adhesion with the release agent layer 13 There is a case that it is necessary to perform a process for making On the other hand, when the maximum protrusion height Rp ₄ of the third surface 121 exceeds the upper limit value, it may be necessary to form a new smoothing layer between the release agent layer 13 and the smoothing layer 12.

또한, 평활화층(12)의 평균 두께는 특히 한정되지 않지만, 0.2~10㎛인 것이 바람직하고, 0.3~5㎛인 것이 보다 바람직하다. 이에 따라, 기재(11)의 제1 면(111)의 요철을 보다 확실하게 매립할 수 있으며 박리 필름(1)의 외표면의 평활성을 보다 높게 할 수 있다. 특히, 본 실시형태의 평활화층 형성용 조성물이, 상술한 바와 같은 활성 에너지선 경화형 화합물을 포함하여 형성되어 있기 때문에, 두께가 비교적 얇은 평활화층(12)이더라도, 기재(11)의 제1 면(111)의 요철을 더욱 용이하게 그리고 확실하게 매립할 수 있다. 또한, 평활화층(12)의 유연성을 적당한 것으로 할 수 있다.The average thickness of the smoothing layer 12 is not particularly limited, but is preferably 0.2 to 10 탆, more preferably 0.3 to 5 탆. This makes it possible to more reliably fill the irregularities of the first surface 111 of the base material 11 and to further improve the smoothness of the outer surface of the release film 1. [ Particularly, since the composition for forming a smoothing layer according to the present embodiment includes the above-described active energy ray-curable compound, even if the smoothing layer 12 has a relatively small thickness, 111) can be more easily and surely embedded. In addition, the flexibility of the smoothing layer 12 can be made appropriate.

이에 비하여, 평활화층(12)의 평균 두께가 상기 하한치 미만이면, 평활화층 형성용 조성물을 구성하는 성분 등에 따라서는 기재(11)의 제1 면(111)의 요철을 충분히 매립하기 위하여, 제1 면(111)의 표면 거칠기가 비교적 작은 것을 이용할 필요가 생기는 경우가 있다. 또한, 평활화층(12)의 평균 두께가 상기 상한치를 넘으면, 평활화층 형성용 조성물을 구성하는 성분 등에 따라서는 평활화층(12)의 경화 수축에 의해 박리 필름(1)에 컬이 발생하기 쉬워지고, 박리 필름(1)의 취급성이 저하하는 경우가 있다.On the other hand, if the average thickness of the smoothing layer 12 is less than the lower limit described above, in order to sufficiently fill the unevenness of the first surface 111 of the substrate 11 depending on the components constituting the smoothing layer forming composition, It may be necessary to use a surface 111 having a relatively small surface roughness. If the average thickness of the smoothing layer 12 exceeds the upper limit, curling of the peeling film 1 is likely to occur due to the shrinkage of the smoothing layer 12 due to the components constituting the smoothing layer forming composition and the like , The handling properties of the release film 1 may be lowered.

<박리제층(13)>&Lt; Release agent layer (13) >

박리제층(13)은 박리 필름(1)에 박리성을 부여하는 기능을 갖고 있다.The release agent layer 13 has a function of imparting releasability to the release film 1.

박리제층(13)은 도 1에 나타낸 바와 같이, 평활화층(12)의 제3 면(121) 측에 형성되어 있다.The release agent layer 13 is formed on the third surface 121 side of the smoothing layer 12 as shown in Fig.

박리제층(13)은 평활화층(12)의 제3 면(121)에 박리제층 형성용 조성물을 도포하고, 그것을 건조, 경화함으로써써 형성된 층이다.The release agent layer 13 is a layer formed by applying a composition for forming a release agent layer on the third surface 121 of the smoothing layer 12, drying and curing the composition.

이러한 박리제층 형성용 조성물은 박리제를 포함하는 것이다.Such a composition for forming a release agent layer includes a release agent.

박리제로서는 알키드계 화합물, 아크릴계 화합물, 실리콘계 화합물, 장쇄 알킬기 함유 화합물, 불소 화합물 등을 들 수 있으며 이들 중에서 1종 또는 2종 이상을 조합하여 이용할 수 있다. 이들 중에서도, 알키드계 화합물, 아크릴계 화합물, 실리콘계 화합물, 장쇄 알킬기 함유 화합물을 이용하는 것이 바람직하다. 이에 따라, 적당한 경화성을 가지면서, 그린 시트에 대한 박리성이 특히 우수한 박리제층(13)을 얻을 수 있다.Examples of the releasing agent include an alkyd compound, an acrylic compound, a silicone compound, a compound containing a long-chain alkyl group, a fluorine compound, and the like. One or more of these may be used in combination. Among them, it is preferable to use an alkyd compound, an acrylic compound, a silicone compound, or a compound containing a long-chain alkyl group. As a result, the release agent layer 13 having excellent curability and particularly excellent releasability to the green sheet can be obtained.

알키드계 화합물로서는 구체적인 예에는 장쇄 알킬 변성 알키드 화합물, 실리콘 변성 알키드 화합물 등의 변성물 등을 이용할 수 있다. 또한, 알키드계 화합물을 이용하는 경우에는 박리제층 형성용 조성물에는 가교제나 촉매를 더 첨가해도 무방하다. 이와 같은 박리제층 형성용 조성물을 가열 경화시키는 방법에 의해, 가교 구조를 갖는 알키드계 화합물을 갖는 박리제층(13)을 얻을 수 있다. 그 결과, 박리제층(13) 위에 그린 시트를 형성할 때에, 박리성을 갖는 알키드계 화합물이 그린 시트로 이행하는 것을 방지할 수 있으며 박리제층(13)의 박리성의 저하를 방지할 수 있다.Specific examples of the alkyd compound include modified compounds such as long-chain alkyl-modified alkyd compounds and silicone-modified alkyd compounds. When an alkyd compound is used, a crosslinking agent or a catalyst may be further added to the composition for forming a release agent layer. The release agent layer 13 having an alkyd-based compound having a crosslinked structure can be obtained by such a method of heat-curing the composition for forming a release agent layer. As a result, when the green sheet is formed on the release agent layer 13, the migration of the alkyd compound having the release property to the green sheet can be prevented, and deterioration of the releasability of the release agent layer 13 can be prevented.

또한, 아크릴계 화합물로서는 구체적인 예에는 장쇄 알킬 변성 아크릴 화합물, 실리콘 변성 아크릴 화합물 등의 변성물 등을 이용할 수 있다. 또한, 박리제층 형성용 조성물이 아크릴계 화합물을 포함한 경우에는 박리제층 형성용 조성물에는 가교제나 촉매를 더 첨가해도 무방하다. 이와 같은 박리제층 형성용 조성물을 가열 경화시키는 방법에 의해, 가교 구조를 갖는 아크릴계 화합물을 갖는 박리제층(13)을 얻을 수 있다. 그 결과, 박리성을 갖는 아크릴계 화합물이 평활화층(12)로 이행하는 것을 방지할 수 있으며 박리제층(13)의 박리성의 저하를 방지할 수 있다.Specific examples of the acrylic compound include modified compounds such as long-chain alkyl-modified acrylic compounds and silicone-modified acrylic compounds. When the composition for forming a release agent layer contains an acrylic compound, a crosslinking agent or a catalyst may be further added to the composition for forming a release agent layer. The release agent layer 13 having an acrylic compound having a crosslinked structure can be obtained by such a method of heating and curing the composition for forming a release agent layer. As a result, migration of the acrylic compound having releasability to the smoothing layer 12 can be prevented, and deterioration of the peeling property of the release agent layer 13 can be prevented.

또한, 실리콘계 화합물로서는 구체적인 예에는 기본 골격으로서 디메틸 폴리실록산을 갖는 실리콘계 화합물 등을 이용할 수 있다. 실리콘계 화합물로서는 부가 반응형, 축합 반응형, 자외선 경화형, 전자선 경화형 등이 있다. 부가 반응형 실리콘계 화합물은 반응성이 높아 생산성이 우수한다. 축합 반응형 실리콘계 화합물과 비교하면, 부가 반응형 실리콘계 화합물은 그 제조 후의 박리력의 변화가 작고 경화 수축이 없는 등의 메리트가 있기 때문에, 박리제층(13)을 구성하는 박리제로서 사용하는 것이 바람직하다.Specific examples of the silicone compound include a silicone compound having a dimethylpolysiloxane as a basic skeleton. Examples of the silicone compound include an addition reaction type, a condensation reaction type, an ultraviolet ray hardening type, and an electron ray hardening type. The addition reaction type silicone compound has high reactivity and is excellent in productivity. Compared with the condensation reaction type silicone compound, the addition reaction type silicone compound has merits such as a small change in the peeling force after production and no hardening shrinkage, and therefore, it is preferable to use the addition reaction type silicone compound as a releasing agent constituting the releasing agent layer 13 .

상기 부가 반응형 실리콘계 화합물의 구체적인 예로서는, 당해 화합물의 분자의 말단 및/또는 측쇄에, 비닐기, 알릴기, 프로페닐기, 헥세닐기 등의 탄소수 2~10의 알케닐기를 2개 이상 갖는 오르가노폴리실록산을 들 수 있다. 이와 같은 부가 반응형 실리콘계 화합물을 이용할 때 , 가교제 및 촉매를 병용하는 것이 바람직하다.Specific examples of the addition reaction-type silicon compound include organo compounds having two or more alkenyl groups having 2 to 10 carbon atoms such as a vinyl group, an allyl group, a propenyl group, and a hexenyl group in the terminal and / or side chain of the molecule of the compound Polysiloxane. When such an addition reaction type silicone compound is used, it is preferable to use a crosslinking agent and a catalyst in combination.

상기 가교제로서는 예를 들면 1 분자 중에 적어도 2개의 규소 원자에 결합된 수소 원자를 갖는 오르가노폴리실록산, 구체적으로는 디메틸하이드로젼실록시기 말단 봉쇄 디메틸실록산-메틸하이드로젼실록산 공중합체, 트리메틸실록시기 말단 봉쇄 디메틸실록산-메틸하이드로젼실록산 공중합체, 트리메틸실록시기 말단 봉쇄 메틸하이드로젼폴리실록산, 폴리(하이드로젼실세스키옥산) 등을 들 수 있다.Examples of the crosslinking agent include organopolysiloxanes having a hydrogen atom bonded to at least two silicon atoms in one molecule, specifically, a dimethylhydroxysiloxy terminated dimethylsiloxane-methylhydrogosiloxane copolymer, a trimethylsiloxy terminated polysiloxane Dimethylsiloxane-methylhydrogensiloxane copolymer, trimethylsiloxy-terminated methylhydrogenpolysiloxane, poly (hydroxysiloxane), and the like.

또한, 상기 촉매로서는 미립자 형상 백금, 탄소 분말 담체 위에 흡착된 미립자 형상 백금, 염화 백금산, 알콜 변성 염화 백금산, 염화 백금산의 올레핀 착체, 팔라듐, 로듐 등의 백금속계 화합물 등을 들 수 있다. 이와 같은 촉매를 이용함으로써, 박리제층 형성용 조성물의 경화 반응을 보다 효율성 좋게 진행시킬 수 있다.Examples of the catalyst include particulate platinum, particulate platinum adsorbed on a carbon powder carrier, chloroplatinic acid, alcohol-modified chloroplatinic acid, olefin complex of chloroplatinic acid, and white metal compounds such as palladium and rhodium. By using such a catalyst, the curing reaction of the composition for forming a release agent layer can be promoted more efficiently.

또한, 예를 들면, 장쇄 알킬기 함유 화합물로서는 예를 들면, 폴리비닐 알콜계 집합체에 탄소수 8~30의 장쇄 알킬 이소시아네이트를 반응시켜 얻어진 폴리비닐 카바메이트나, 폴리에틸렌이민에 탄소수 8~30의 장쇄 알킬 이소시아네이트를 반응시켜 얻어진 알킬 우레아 유도체 등이 이용된다.Examples of the long chain alkyl group-containing compound include polyvinyl carbamates obtained by reacting a polyvinyl alcohol-based aggregate with a long chain alkyl isocyanate having 8 to 30 carbon atoms, long-chain alkyl isocyanates having 8 to 30 carbon atoms in polyethyleneimine And the like are used.

또한, 불소 화합물로서는 구체적인 예에는 불소 실리콘 화합물, 불소 보론 화합물 등을 이용할 수 있다.Specific examples of the fluorine compound include a fluorine silicone compound, a fluorine boron compound, and the like.

또한, 박리제층 형성용 조성물에는 상술한 박리제 외에, 분산매, 용매가 포함되어 있어도 무방하다. 분산매 및 용매 중 적어도 한쪽을 포함함으로써, 평활화층(12)의 제3 면(121)에 도포하여 건조시키기 전의, 박리제층 형성용 조성물의 점도를 적당히 할 수 있다.The composition for forming a release agent layer may contain, in addition to the above-mentioned release agent, a dispersion medium and a solvent. By including at least one of the dispersion medium and the solvent, the viscosity of the composition for forming a release agent layer can be appropriately adjusted before coating and drying on the third surface 121 of the smoothing layer 12.

분산매 또는 용매로서는 예를 들면, 톨루엔 등의 방향족 탄화수소, 초산 에틸 등의 지방산 에스테르, 메틸 에틸 케톤 등의 케톤, 헥산, 헵탄 등의 지방족 탄화수소 등의 유기 용매를 들 수 있으며 이들 중에서 1종 또는 2종 이상을 조합하여 이용할 수 있다.Examples of the dispersion medium or solvent include organic solvents such as aromatic hydrocarbons such as toluene, fatty acid esters such as ethyl acetate, ketones such as methyl ethyl ketone, and aliphatic hydrocarbons such as hexane and heptane. Of these, These can be used in combination.

또한 박리제층 형성용 조성물에는 상술한 바와 같은 성분에 더하여, 그 외의 성분이 포함되어 있어도 무방하다. 그 외의 성분으로서는 예를 들면, 촉매, 염료, 분산제, 대전 방지제, 경화제 등을 들 수 있다. 또한, 상기 그 외의 성분을 포함한 경우에는 박리제층 형성용 조성물에 있어서의 상기 그 외의 성분의 함유율은 0.1~10 질량%인 것이 바람직하다.The composition for forming a release agent layer may contain other components in addition to the above-mentioned components. Other components include, for example, catalysts, dyes, dispersants, antistatic agents, and curing agents. When the other components are included, the content of the other components in the composition for forming a release agent layer is preferably 0.1 to 10% by mass.

또한, 박리제층 형성용 조성물중에 있어서의, 박리제의 함유율은 특히 한정되지 않지만, 0.3~10 질량%인 것이 바람직하다.The content of the release agent in the composition for forming a release agent layer is not particularly limited, but is preferably 0.3 to 10% by mass.

또한, 상술한 바와 같이, 박리제층(13)의 외표면(131)은 산술 평균 거칠기 Ra₁가 8nm 이하이고, 아울러 그 최대 돌기 높이 Rp₁가 50nm 이하이다. 특히, 박리제층(13)의 외표면(131)의 산술 평균 거칠기 Ra₁가 6nm 이하인 것이 바람직하다. 또한, 박리제층(13)의 외표면(131)의 최대 돌기 높이 Rp₁가 40nm 이하인 것이 바람직하다.In addition, the outer surface 131 of the release agent layer 13 as described above is less than the arithmetic mean roughness Ra ₁ 8nm, as well as that the maximum projection height Rp ₁ is 50nm or less. In particular, it is preferable that the arithmetic average roughness Ra ₁ of the outer surface 131 of the release agent layer 13 is less than or equal to 6nm. In addition, it is preferred that the maximum protrusion height Rp ₁ of the outer surface 131 of the release agent layer 13 is not more than 40nm.

박리제층(13)의 외표면(131)의 산술 평균 거칠기 Ra₁ 및 최대 돌기 높이 Rp₁가 상기 범위 내라면, 그린 시트를 형성할 때에, 외표면(131)의 비교적 높은 평활성을 갖는 면 형상이 그린 시트에 전사됨으로써, 그린 시트의 표면에 핀홀 등이 발생하는 것을 보다 바람직하게 방지할 수 있다. 그 결과, 표면이 보다 높은 평활성을 갖는 그린 시트를 얻을 수 있다.The average roughness Ra ₁ and the maximum protrusion height arithmetic Rp ₁ of the outer surface 131 of the release agent layer (13), is in the above range, when forming a green sheet, a surface shape having a relatively high smoothness of the outer surface 131 It is possible to more preferably prevent pinholes and the like from being generated on the surface of the green sheet by being transferred to the green sheet. As a result, a green sheet having a surface with a higher level of smoothness can be obtained.

또한, 박리제층(13)은 평균 두께가, 0.01~3㎛인 것이 바람직하고, 0.03~1㎛인 것이 보다 바람직하다. 박리제층(13)의 두께가 0.01㎛ 미만이면, 박리제층(13)을 구성하는 재료 등에 따라서는 박리제층으로서의 기능이 충분히 발휘되지 않는 경우가 있다. 한편, 박리제층(13)의 두께가 3㎛를 넘으면, 박리 필름(1)을 롤 형상으로 권취했을 때에, 블로킹이 발생하기 쉽기 때문에, 박리 필름(1)의 권취 불량이 생기거나 박리 필름(1)의 권출 시의 대전성이 높아지는 등의 문제가 일어나는 경우가 있다.The release agent layer 13 preferably has an average thickness of 0.01 to 3 占 퐉, more preferably 0.03 to 1 占 퐉. If the thickness of the release agent layer 13 is less than 0.01 탆, the function as the release agent layer may not be sufficiently exhibited depending on the material constituting the release agent layer 13, etc. On the other hand, if the thickness of the release agent layer 13 is more than 3 占 퐉, blocking tends to occur when the release film 1 is rolled up in a roll form, Or the like may be caused to increase.

≪ 그린 시트 제조용 박리 필름의 제조 방법 ≫&Lt; Production method of release film for green sheet production &

다음으로, 상술한 바와 같은 그린 시트 제조용 박리 필름(1)의 제조 방법의 바람직한 실시형태에 대하여 설명한다.Next, a preferred embodiment of the method for producing the release film 1 for green sheet production as described above will be described.

본 실시형태의 박리 필름(1)의 제조 방법은 기재(11)를 준비하는 기재 준비 공정; 소정의 활성 에너지선 경화형 화합물을 포함한 평활화층 형성용 조성물을 기재(11)의 제1 면(111)에 도포하고, 필요에 따라서 그것을 건조시킴으로써, 도포층을 형성하는 도포층 형성 공정; 도포층에 활성 에너지선을 조사하여 경화시킴으로써 평활화층(12)을 형성하는 평활화층 형성 공정; 및 평활화층(12)의 상기 기재(11)와 반대면(121) 측에, 박리제층(13)을 형성하는 박리제층 형성 공정을 구비하고 있다.The method of producing the release film (1) of the present embodiment includes a substrate preparation step of preparing the substrate (11); A coating layer forming step of forming a coating layer by applying a composition for forming a smoothing layer containing a predetermined active energy ray curable compound to the first surface 111 of the substrate 11 and drying it if necessary; A smoothing layer forming step of forming a smoothing layer 12 by irradiating the coating layer with an active energy ray and curing; And a releasing agent layer forming step of forming a releasing agent layer 13 on the side of the smoothing layer 12 opposite to the base material 11 side.

이하, 각 공정에 대하여 상세하게 설명한다.Hereinafter, each step will be described in detail.

<기재 준비 공정 ><Substrate Preparation Process>

먼저, 기재(11)를 준비한다.First, the substrate 11 is prepared.

기재(11)로서는 상술한 바와 같은 구성의 기재(11)를 이용할 수 있다.As the substrate 11, a substrate 11 having the above-described structure can be used.

또한, 기재(11)의 제1 면(111)에, 산화법 등에 의한 표면 처리, 혹은 프라이머 처리를 실시할 수 있다. 이에 따라, 기재(11)와 기재(11)의 제1 면(111) 측에 형성되는 평활화층(12)과의 밀착성을 특히 우수한 것으로 할 수 있다.Further, the first surface 111 of the substrate 11 can be subjected to a surface treatment or an primer treatment by an oxidation method or the like. As a result, the adhesion between the substrate 11 and the smoothing layer 12 formed on the first surface 111 side of the substrate 11 can be made particularly excellent.

산화법 등에 의한 표면 처리로서는 기재(11)의 종류 등에 따라 적절히 선택해도 무방하다. 예를 들면, 코로나 방전 처리, 플라즈마 방전 처리, 크롬 산화 처리(습식), 화염 처리, 열풍 처리, 오존 처리, 자외선 조사 처리 등을 들 수 있다. 이들 중에서도 특히, 평활화층(12)의 밀착성이 우수하고 처리의 조작이 간편한 점에서, 코로나 방전 처리법을 이용하는 것이 보다 바람직하다.The surface treatment by the oxidation method or the like may be appropriately selected depending on the kind of the substrate 11 and the like. Examples thereof include a corona discharge treatment, a plasma discharge treatment, a chromium oxidation treatment (wet type), a flame treatment, a hot air treatment, an ozone treatment, and an ultraviolet ray irradiation treatment. Among them, it is more preferable to use the corona discharge treatment method because the smoothness of the smoothing layer 12 is excellent and the treatment is easy.

<도포층 형성 공정 ><Coating Layer Forming Step>

본 공정에서는 먼저, 평활화층 형성용 조성물을 준비한다.In this step, first, a composition for forming a smoothing layer is prepared.

평활화층 형성용 조성물은 상술한 바와 같은 활성 에너지선 경화형 화합물을 단독으로 이용해도 무방하다. 이에 더하여, 필요에 따라서 상술한 바와 같은 용매나 그 외의 성분을 혼합한 평활화층 형성용 조성물을 이용하여도 무방하다.As the composition for forming a smoothing layer, the active energy ray curable compound as described above may be used alone. In addition, if necessary, a composition for forming a smoothing layer in which a solvent or other components as described above are mixed may be used.

이어서, 기재(11)의 제1 면(111) 위에, 액상을 이루는 평활화층 형성용 조성물을 도포한다. 이에 따라, 도포층을 얻는다. 상술한 바와 같이, 평활화층 형성용 조성물은 적당한 유동성을 갖는 것이기 때문에, 기재(11)의 제1 면(111) 위에 평활화층 형성용 조성물을 도포함으로써, 기재(11)의 제1 면(111)의 요철을 정확하게 매립할 수 있다. 그 결과, 평활화층(12)의 제3 면(121)에 대하여, 기재(11)의 요철이 영향을 미치는 것을 방지할 수 있으며 평활화층(12)의 제3 면(121)을 평활하게 할 수 있다.Next, a composition for forming a smoothing layer is applied on the first surface 111 of the substrate 11. Thus, a coated layer is obtained. The composition for forming a smoothing layer can be formed on the first surface 111 of the substrate 11 by applying the composition for smoothing layer on the first surface 111 of the substrate 11, It is possible to accurately fill the concavities and convexities of the substrate. As a result, it is possible to prevent the irregularities of the base material 11 from affecting the third surface 121 of the smoothing layer 12 and to smooth the third surface 121 of the smoothing layer 12 have.

또한, 평활화층 형성용 조성물이 용매 등을 포함한 경우에는 평활화층 형성용 조성물을 기재(11)의 제1 면(111) 위에 도포한 후에, 평활화층 형성용 조성물을 건조시킴으로써 도포층을 얻는다. 이에 따라, 평활화층 형성용 조성물을 건조시킴으로써, 용매를 제거할 수 있다.When the composition for smoothing layer formation includes a solvent or the like, a composition for smoothing layer formation is applied on the first surface 111 of the substrate 11, followed by drying the composition for smoothing layer to obtain a coating layer. Thus, the solvent can be removed by drying the composition for smoothing layer formation.

평활화층 형성용 재료를 도포하는 방법으로서는 예를 들면, 그라비아 코트법, 바 코트법, 스프레이 코트법, 스핀 코트법, 에어 나이프 코트법, 롤 코트법, 블레이드 코트법, 게이트 롤 코트법, 다이 코트법 등을 들 수 있다. 이들 중에서도 특히, 그라비아 코트법, 바 코트법인 것이 보다 바람직하고, 바 코트법인 것이 더욱 바람직하다. 이에 따라, 목적으로 하는 두께의 도포층을 용이하게 형성할 수 있다.Examples of the method of applying the smoothing layer forming material include a gravure coating method, a bar coating method, a spray coating method, a spin coating method, an air knife coating method, a roll coating method, a blade coating method, a gate roll coating method, Laws and the like. Of these, the gravure coating method and the bar coating method are more preferable, and the bar coating method is more preferable. Thus, a coated layer having a desired thickness can be easily formed.

또한, 평활화층 형성용 조성물이 용매 등을 포함한 경우에 있어서, 평활화층 형성용 재료를 건조하는 방법으로서는 특히 한정되지 않지만, 예를 들면, 열풍 건조로 등에서 건조하는 방법 등을 들 수 있다.When the composition for forming a smoothing layer contains a solvent or the like, the method for drying the smoothing layer forming material is not particularly limited, and for example, a method of drying in a hot air drying furnace and the like can be given.

또한, 평활화층 형성용 조성물을 건조시키는 경우, 건조 조건으로서는 특히 한정되지 않는다. 건조 온도는 50~100℃인 것이 바람직하고, 건조 시간은 5초간~1분간인 것이 바람직하다. 이에 따라, 평활화층(12)의 소망하지 않는 변질을 방지할 수 있음과 아울러, 평활화층(12)을 특히 효율성 좋게 형성할 수 있다. 그 결과, 최종적으로 얻어지는 박리 필름(1)의 생산성을 향상시킬 수 있다. 또한, 건조 온도가 상기 범위라면, 박리제층 형성용 조성물이 용매 등을 포함하는 것인 경우에, 건조시의 용매 등의 증발을 수반하는, 평활화층(12)의 휨이나 크랙 등의 발생을 특별히 방지할 수 있다.When the composition for forming a smoothing layer is dried, the drying conditions are not particularly limited. The drying temperature is preferably 50 to 100 ° C, and the drying time is preferably 5 seconds to 1 minute. As a result, undesirable alteration of the smoothing layer 12 can be prevented, and the smoothing layer 12 can be formed with high efficiency. As a result, the productivity of the finally obtained release film (1) can be improved. When the drying temperature is in the above range, when the composition for forming a releasing agent layer contains a solvent or the like, the occurrence of warping or cracking of the smoothing layer 12 accompanied by evaporation of a solvent or the like .

<평활화층 형성 공정 ><Smoothing Layer Forming Step>

다음으로, 도포층 형성 공정에 의해 얻어진 도포층에, 활성화 에너지선을 조사하여 경화시킴으로써 평활화층(12)을 형성한다.Next, the smoothing layer 12 is formed by irradiating an activation energy line to the coating layer obtained by the coating layer forming step and curing.

본 공정에 있어서, 상기 도포층 형성 공정에서, 기재(11)의 제1 면(111)의 요철을 정확하게 매립한 도포층을, 그 외표면의 평활성을 유지한 채로 경화한다. 그 결과, 제3 면(121)이 충분히 평활한 평활화층(12)을 얻을 수 있다. 이에 따라, 박리제층(13)의 외표면(131)에 대한, 기재(11)의 제1 면(111)의 요철의 영향을 방지할 수 있다. 따라서, 후술하는 박리제층 형성 공정에 있어서, 박리제층(13)의 외표면(131)의 평활성을 우수한 것으로 할 수 있다.In this step, in the coating layer forming step, the coated layer in which the concavities and convexities of the first surface 111 of the substrate 11 are accurately buried is cured while maintaining the smoothness of the outer surface. As a result, the smoothing layer 12 whose third surface 121 is sufficiently smooth can be obtained. This can prevent the influence of the concavity and convexity of the first surface 111 of the substrate 11 with respect to the outer surface 131 of the release agent layer 13. Therefore, in the step of forming a release agent layer described later, the smoothness of the outer surface 131 of the release agent layer 13 can be made excellent.

경화에 사용되는 활성화 에너지선으로서는, 이용하는 평활화층 형성용 조성물에 포함되는 재료 등에 따라서, 적절히 선택해도 무방하지만, 예를 들면, 가시광선, 자외선, 적외선, X선, α선, β선, γ선 및 전자선 등을 들 수 있다. 이들 중에서도 자외선 또는 가시광선인 것이 바람직하다.The activation energy ray used for the curing may be appropriately selected depending on the material to be included in the composition for forming a smoothing layer to be used. For example, visible rays, ultraviolet rays, infrared rays, X rays, And electron beams. Among these, ultraviolet rays or visible rays are preferable.

활성화 에너지선(자외선 또는 가시광선)의 파장은 특히 한정되지 않지만, 예를 들면, 200~600nm인 것이 바람직하고, 파장 250~450nm인 것이 보다 바람직하다. 활성화 에너지선의 파장이 상기 범위내의 것이라면, 도포층을 경화하는 경화 시간을 충분히 짧게 하면서, 도포층을 균일하게 경화시킬 수 있다.The wavelength of the activation energy ray (ultraviolet ray or visible light) is not particularly limited, but is preferably 200 to 600 nm, for example, and more preferably 250 to 450 nm. If the wavelength of the activation energy ray is within the above range, the coating layer can be uniformly cured while sufficiently shortening the curing time for curing the coating layer.

또한, 활성화 에너지선(자외선 또는 가시광선)을 조사하는 수단으로서는 특히 한정되지 않고, 여러 가지의 일반적 수단을 이용할 수 있다. 예를 들면 광원으로서는 고압 수은 램프, 메탈할라이드 램프, 엑시머 램프 등의 광원 램프를 이용할 수 있다.The means for irradiating the activation energy rays (ultraviolet rays or visible rays) is not particularly limited, and various general means can be used. For example, a light source lamp such as a high-pressure mercury lamp, a metal halide lamp, or an excimer lamp can be used as the light source.

또한, 활성화 에너지선(자외선 또는 가시광선)을 조사하는 경우에는 활성화 에너지선의 조사량은 50~400 mJ/cm²인 것이 바람직하고, 100~300 mJ/cm²인 것이 보다 바람직하다. 활성화 에너지선의 조사량이 상기 범위 내의 값이라면, 도포층을 보다 균일하게 그리고 확실하게 경화시킬 수 있다.In the case of irradiating an activation energy ray (ultraviolet ray or visible ray), the irradiation amount of the activation energy ray is preferably 50 to 400 mJ / cm ² , more preferably 100 to 300 mJ / cm ² . If the irradiation amount of the activation energy ray is within the above range, the coating layer can be more uniformly and reliably cured.

또한, 활성화 에너지선을 조사하는 시간으로서는 특히 한정되지 않지만, 5초간~1분간인 것이 바람직하다. 이에 따라, 평활화층(12)을 특히 효율성 좋게 형성할 수 있다. 그 결과, 최종적으로 얻어지는 박리 필름(1)의 생산성을 향상시킬 수 있다.The time for irradiating the activation energy ray is not particularly limited, but is preferably 5 seconds to 1 minute. As a result, the smoothing layer 12 can be formed with high efficiency. As a result, the productivity of the finally obtained release film (1) can be improved.

<박리제층 형성 공정 ><Step of forming release agent layer>

다음으로, 평활화층(12)의 기재(11)와 반대면(121) 측에, 박리제층(13)을 형성한다.Next, a release agent layer 13 is formed on the side of the smoothing layer 12 opposite to the substrate 11 side.

박리제층(13)을 구성하는 박리제층 형성용 조성물로서 상술한 바와 같은 재료를 혼합한 조성물을 준비한다.As a composition for forming a release agent layer constituting the release agent layer 13, a composition prepared by mixing the above-described materials is prepared.

이어서, 평활화층(12)의 기재(11)와 반대면(121) 위에, 액상을 이루는 박리제층 형성용 조성물을 도포한 후, 그것을 건조, 경화한다. 이에 따라, 박리제층(13)을 얻는다.Subsequently, a composition for forming a liquid releasing agent layer is applied on the surface 121 of the smoothing layer 12 opposite to the base material 11, followed by drying and curing. Thus, the release agent layer 13 is obtained.

건조 방법으로서는 특히 한정되지 않지만, 예를 들면, 열풍 건조로 등을 이용한 건조 방법을 들 수 있다.The drying method is not particularly limited, and for example, a drying method using a hot-air drying furnace and the like can be mentioned.

또한, 건조 조건으로서는 특히 한정되지 않는다. 건조 온도는 80~150℃인 것이 바람직하고, 건조 시간은 5초간~1분간인 것이 바람직하다. 이에 따라, 박리제층(13)의 소망하지 않는 변질을 방지할 수 있음과 아울러, 박리제층(13)을 특히 효율성 좋게 형성할 수 있다. 그 결과, 최종적으로 얻어지는 박리 필름(1)의 생산성을 향상시킬 수 있다.The drying conditions are not particularly limited. The drying temperature is preferably 80 to 150 DEG C, and the drying time is preferably 5 seconds to 1 minute. As a result, undesirable deterioration of the release agent layer 13 can be prevented, and the release agent layer 13 can be formed with high efficiency. As a result, the productivity of the finally obtained release film (1) can be improved.

이상과 같은 공정에 의하면, 평활성이 우수하고, 박리성이 우수한 신뢰성이 높은 박리 필름(1)을, 용이하고 확실하게 제조할 수 있다.According to the process as described above, it is possible to easily and reliably produce the highly reliable peeling film 1 having excellent smoothness and excellent peeling property.

또한, 이와 같은 박리 필름(1)을 이용하여 그린 시트를 제조하면, 그린 시트의 표면에 핀홀 등이 발생하는 것을 방지할 수 있다.Further, when a green sheet is produced using such a release film 1, pinholes or the like can be prevented from being generated on the surface of the green sheet.

또한 박리 필름(1)을 이용하여 세라믹 그린 시트를 제조하는 방법으로서는 예를 들면, 박리 필름의 박리제층의 표면에, 세라믹 분말 분산 슬러리를 도포, 건조하여 그린 시트를 형성한 후, 박리 필름에서 박리된 그린 시트를 적층하여 적층체를 얻고 당해 적층체를 소성하여 얻어진 세라믹 시트에 전극을 형성하는 방법을 들 수 있다. 이에 따라, 세라믹 콘덴서를 얻을 수 있다. 이와 같이, 박리 필름(1)을 이용하여 형성된 그린 시트에 의해 세라믹 콘덴서를 형성하면, 단락에 의한 문제점의 발생이 방지된 신뢰성이 높은 세라믹 콘덴서를 얻을 수 있다.As a method for producing a ceramic green sheet using the release film 1, for example, a ceramic green dispersion slurry is applied and dried on the surface of a release agent layer of a release film to form a green sheet, A green sheet is laminated to obtain a laminate, and the laminate is fired to form an electrode on the obtained ceramic sheet. Thus, a ceramic capacitor can be obtained. As described above, when the ceramic capacitor is formed by the green sheet formed by using the release film 1, it is possible to obtain a highly reliable ceramic capacitor in which a problem caused by a short circuit is prevented.

이상, 본 발명을 바람직한 실시형태에 의거하여 상세하게 설명했지만, 본 발명은 이것에 한정되는 것이 아니다While the present invention has been described in detail based on the preferred embodiments, the present invention is not limited thereto

예를 들면, 상술한 본 실시형태에서는 기재는 단층 구조를 갖는다고 설명했지만, 이것에 한정되지 않고, 기재는 동종 또는 이종의 2층 이상의 다층 구조를 가져도 무방하다. 또한, 평활화층, 박리제층에 대해서도 마찬가지로 단층 구조를 갖는다고 설명했지만, 이것에 한정되지 않고, 평활화층, 박리제층에 대해서도, 각각, 동종 또는 이종의 2층 이상의 다층 구조를 가져도 무방하다.For example, in the above-described embodiment, the substrate has been described as having a single-layer structure, but the substrate is not limited to this, and the substrate may have a multi-layer structure of two or more layers of the same or different types. Although the smoothing layer and the release agent layer have the same single layer structure as described above, the present invention is not limited to this, and the smoothing layer and the release agent layer may each have a multilayer structure of two or more layers of the same or different types.

또한, 예를 들면, 상술한 실시형태에서는 기재의 제1 면에 평활화층을 형성한 그린 시트 제조용 박리 필름에 대하여 설명했다. 그러나, 그린 시트 제조용 박리 필름은 이것에 한정되지 않고, 기재의 제2 면 측에 평활화층이나 박리제층을 형성해도 무방하다.In addition, for example, in the above-described embodiment, the release film for producing a green sheet in which the smoothing layer is formed on the first surface of the substrate has been described. However, the release film for producing a green sheet is not limited to this, and a smoothing layer or a release agent layer may be formed on the second surface side of the substrate.

또한, 예를 들면, 상술한 실시형태에서는 그린 시트 제조용 박리 필름은 기재, 평활화층 및 박리제층이 이 순서로 서로 접합되도록 적층된 3층 구조를 이룬다고 설명했지만, 이것에 한정되지 않고, 평활화층과 박리제층 사이에 중간층을 형성해도 무방하다. 또한, 기재와 평활화층 사이에 중간층을 형성해도 무방하다. 이와 같은 중간층으로서는 평활화층과 박리제층의 밀착성을 향상시켜도 무방하고, 또한, 그린 시트 형성 전의 그린 시트 제조용 박리 필름을 권취할 때의 대전의 발생을 보다 억제시키는 층이어도 무방하다.Further, for example, in the above-described embodiment, it has been described that the release film for manufacturing a green sheet has a three-layer structure in which a substrate, a smoothing layer and a stripping agent layer are laminated in this order to be bonded to each other. However, An intermediate layer may be formed between the release agent layer and the release agent layer. Further, an intermediate layer may be formed between the substrate and the smoothing layer. As such an intermediate layer, the adhesion between the smoothing layer and the peeling agent layer may be improved, and it may be a layer which further suppresses the occurrence of charging when the peeling film for green sheet production before green sheet formation is wound.

또한, 본 발명의 그린 시트 제조용 박리 필름의 제조 방법은 상술한 방법에 한정되지 않고, 필요에 따라서 임의의 공정이 추가되어도 무방하다.The method for producing a release film for green sheet of the present invention is not limited to the above-described method, and an optional step may be added as necessary.

실시예Example

다음으로, 본 발명의 그린 시트 제조용 박리 필름의 구체적 실시예에 대하여 설명하지만, 본 발명은 이들 실시예에만 한정되지 않는다.Next, specific examples of the release film for producing green sheets of the present invention will be described, but the present invention is not limited to these examples.

[1] 그린 시트 제조용 박리 필름의 제작[1] Production of release film for green sheet production

(실시예 1)(Example 1)

먼저, 기재로서의 2축 연신 폴리에틸렌 테레프탈레이트 필름[두께:38㎛, 제1 면의 산술 평균 거칠기 Ra₂: 42nm, 제1 면의 최대 돌기 높이 Rp₂: 619nm, 제2 면의 산술 평균 거칠기 Ra₃: 42nm, 제2 면의 최대 돌기 높이 Rp₃: 619nm]를 준비했다.First, the biaxially oriented polyethylene terephthalate film [thickness as a substrate: 38㎛, the arithmetic mean roughness Ra of the first side ₂ up to the projection height of 42nm, the first surface Rp _2: 619nm, the arithmetic mean roughness Ra of the second surface ₃ : 42 nm, and the maximum protrusion height Rp _{3 on} the second surface: 619 nm).

다음으로, 활성 에너지선 경화형 화합물로서의 우레탄 아크릴레이트 올리고머를 주성분으로 하는 자외선 경화형 화합물[아라카와 화학 공업 가부시키가이샤제, 상품명 “빔 세트 575CB”, 고형분 100 질량%, 질량 평균 분자량 470, 광중합 개시제 함유] 100 질량부와, 톨루엔 및 메틸 에틸 케톤을 혼합하여 고형분 20 질량%의 평활화층 형성용 조성물을 얻었다.Next, an ultraviolet ray curable compound (trade name: Beam Set 575CB, manufactured by Arakawa Chemical Industries, Ltd., solid content: 100% by mass, mass average molecular weight: 470, containing a photopolymerization initiator) having urethane acrylate oligomer as a main component as an active energy ray- And 100 parts by mass of toluene and methyl ethyl ketone were mixed to obtain a composition for forming a smoothing layer having a solid content of 20% by mass.

얻어진 평활화층 형성용 조성물을, 메이어 바 #4로 기재의 제1 면에 도포하고, 80℃에서 1분간 그것을 건조시켜서 도포층을 얻었다.The thus obtained smoothed layer forming composition was applied to the first surface of the substrate with Meyer Bar # 4 and dried at 80 캜 for 1 minute to obtain a coated layer.

다음으로, 도포층에, 자외선 조사 장치로, 자외선을 조사(파장:365nm, 조사량:200 mJ/cm²)함으로써, 평활화층(두께 1.3㎛)을 형성했다.Next, the coating layer was irradiated with ultraviolet rays (wavelength: 365 nm, irradiation amount: 200 mJ / cm ² ) with an ultraviolet irradiation device to form a smoothing layer (thickness 1.3 탆).

또한, 박리제로서의 부가 반응형 실리콘계 화합물과 가교제의 혼합물[신에츠 화학 공업 가부시키가이샤제, 상품명 “실리콘 KS-847H”, 고형분 30 질량%] 100 질량부를 톨루엔으로 희석하여 희석액을 얻었다. 이 희석액에 백금 촉매[신에츠 화학 공업 가부시키가이샤제, 상품명 “PL-50T”] 2 질량부를 첨가하고, 혼합함으로써 고형분 1.5 질량%의 박리제층 형성용 조성물을 얻었다. 박리제층 형성용 조성물의 건조 후의 두께가 0.1㎛가 되도록, 상기 평활화층의 기재와 반대면에 박리제층 형성용 조성물을 균일하게 도포했다. 그 후, 130℃에서 1분간, 박리제층 형성용 조성물을 건조시켜서 박리제층을 형성하고, 그린 시트 제조용 박리 필름을 제작했다.100 parts by mass of a mixture of an addition reaction type silicone compound as a releasing agent and a crosslinking agent (manufactured by Shin-Etsu Chemical Co., Ltd., trade name: "silicone KS-847H", solid content 30% by mass)] was diluted with toluene to obtain a diluted solution. 2 parts by mass of a platinum catalyst [manufactured by Shin-Etsu Chemical Co., Ltd., trade name &quot; PL-50T &quot;] was added to this diluted solution and mixed to obtain a composition for forming a release agent layer having a solid content of 1.5% by mass. The composition for forming a release agent layer was uniformly coated on the surface opposite to the substrate of the smoothing layer so that the thickness after drying of the composition for forming a release agent layer was 0.1 mu m. Thereafter, the composition for releasing the release agent layer was dried at 130 DEG C for 1 minute to form a release agent layer, and a release film for manufacturing a green sheet was produced.

(실시예 2)(Example 2)

실시예 1의 2축 연신 폴리에틸렌 테레프탈레이트 필름을, 2축 연신 폴리에틸렌 테레프탈레이트 필름[두께 31㎛, 제1 면의 산술 평균 거칠기 Ra₂:29nm, 제1 면의 최대 돌기 높이 Rp₂:257nm, 제2 면의 산술 평균 거칠기 Ra₃:29nm, 제2 면의 최대 돌기 높이 Rp₃:257nm]로 변경한 이외는 실시예 1과 마찬가지로 하여 그린 시트 제조용 박리 필름을 제작했다.Example 1 a biaxially stretched polyethylene terephthalate film, a biaxially stretched polyethylene terephthalate film [thickness 31㎛, the arithmetic mean roughness Ra of the first side ₂ up to the projection height of 29nm, the first surface Rp _2: 257nm, the the second surface arithmetic mean roughness Ra _3: 29nm, the maximum protrusion height Rp ₃ the two surfaces: other than a change to 257nm] it is to prepare a green sheet for making a release film in the same manner as in example 1.

(실시예 3)(Example 3)

실시예 1의 2축 연신 폴리에틸렌 테레프탈레이트 필름을, 2축 연신 폴리에틸렌 테레프탈레이트 필름[두께 31㎛, 제1 면의 산술 평균 거칠기 Ra₂:15nm, 제1 면의 최대 돌기 높이 Rp₂:98nm, 제2 면의 산술 평균 거칠기 Ra₃:15nm, 제2 면의 최대 돌기 높이 Rp₃:98nm]로 변경하고, 평활화층의 두께를 0.4㎛로 변경한 이외는 실시예 1과 마찬가지로 하여 그린 시트 제조용 박리 필름을 제작했다.The biaxially stretched polyethylene terephthalate film of Example 1 was stretched by a biaxially stretched polyethylene terephthalate film (having a thickness of 31 탆, an arithmetic mean roughness Ra _{2 of} 15 nm, a maximum protrusion height Rp ₂ of the first surface of 98 nm, the second surface arithmetic mean roughness Ra _3: 15nm, the maximum protrusion height of the second surface Rp _3: non-change to 98nm], and changes the thickness of the smoothing layer is to 0.4㎛ of example 1, similarly to the green sheet for making a release film .

(실시예 4)(Example 4)

실시예 1의 평활화층의 두께를 1.8㎛로 변경한 이외는 실시예 1과 마찬가지로 하여 그린 시트 제조용 박리 필름을 제작했다.A release film for producing green sheets was produced in the same manner as in Example 1 except that the thickness of the smoothing layer of Example 1 was changed to 1.8 탆.

(실시예 5)(Example 5)

실시예 1의 평활화층의 두께를 2.3㎛로 변경한 이외는 실시예 1과 마찬가지로 하여 그린 시트 제조용 박리 필름을 제작했다.A release film for producing a green sheet was produced in the same manner as in Example 1 except that the thickness of the smoothing layer of Example 1 was changed to 2.3 탆.

(비교예 1)(Comparative Example 1)

먼저, 기재로서의 2축 연신 폴리에틸렌 테레프탈레이트 필름[두께:38㎛, 제1 면의 산술 평균 거칠기 Ra₂:42nm, 제1 면의 최대 돌기 높이 Rp₂:619nm, 제2 면의 산술 평균 거칠기 Ra₃:42nm, 제2 면의 최대 돌기 높이 Rp₃:619nm]를 준비했다.First, the biaxially oriented polyethylene terephthalate film [thickness as a substrate: 38㎛, the arithmetic mean roughness Ra of the first side ₂ up to the projection height of 42nm, the first surface Rp _2: 619nm, the arithmetic mean roughness Ra of the second surface ₃ : 42 nm, and the maximum protrusion height Rp _{3 on} the second surface: 619 nm).

다음으로, 박리제로서의 부가 반응형 실리콘계 화합물과 가교제의 혼합물[신에츠 화학 공업 가부시키가이샤제, 상품명 “실리콘 KS-847H”, 고형분 30 질량%] 100 질량부를 톨루엔으로 희석하여 희석액을 얻었다. 이 희석액에 백금 촉매[신에츠 화학 공업 가부시키가이샤제, 상품명 “PL-50T”] 2 질량부를 첨가하고, 혼합함으로써 고형분 1.5 질량%의 박리제층 형성용 조성물을 얻었다. 박리제층 형성용 조성물의 건조 후의 두께가 0.1㎛가 되도록, 상기 기재의 제1 면에 박리제층 형성용 조성물을 균일하게 도포했다. 그 후, 130℃에서 1분간, 박리제층 형성용 조성물을 건조시켜서 박리제층을 형성하고, 그린 시트 제조용 박리 필름을 제작했다.Next, 100 parts by mass of a mixture of an addition reaction type silicone compound as a releasing agent and a crosslinking agent (manufactured by Shin-Etsu Chemical Co., Ltd., trade name "silicone KS-847H", solid content 30% by mass)] was diluted with toluene to obtain a diluted solution. 2 parts by mass of a platinum catalyst [manufactured by Shin-Etsu Chemical Co., Ltd., trade name &quot; PL-50T &quot;] was added to this diluted solution and mixed to obtain a composition for forming a release agent layer having a solid content of 1.5% by mass. The composition for forming a release agent layer was uniformly coated on the first surface of the substrate so that the thickness after drying of the composition for forming a release agent layer was 0.1 mu m. Thereafter, the composition for releasing the release agent layer was dried at 130 DEG C for 1 minute to form a release agent layer, and a release film for manufacturing a green sheet was produced.

(비교예 2)(Comparative Example 2)

먼저, 기재로서의 2축 연신 폴리에틸렌 테레프탈레이트 필름[두께:38㎛, 제1 면의 산술 평균 거칠기 Ra₂:42nm, 제1 면의 최대 돌기 높이 Rp₂:619nm, 제2 면의 산술 평균 거칠기 Ra₃:42nm, 제2 면의 최대 돌기 높이 Rp₃:619nm]를 준비했다.First, the biaxially oriented polyethylene terephthalate film [thickness as a substrate: 38㎛, the arithmetic mean roughness Ra of the first side ₂ up to the projection height of 42nm, the first surface Rp _2: 619nm, the arithmetic mean roughness Ra of the second surface ₃ : 42 nm, and the maximum protrusion height Rp _{3 on} the second surface: 619 nm).

다음으로, 열경화성 화합물로서의 스테아릴 변성 알키드 화합물과 메틸화 멜라민 화합물의 혼합물[히타치 카세이 폴리머 가부시키가이샤제, 상품명 “테스파인 303”, 고형분 20 질량%, 질량 평균 분자량 15000] 100 질량부와, 산촉매인 p-톨루엔 술폰산 3 질량부와, 톨루엔 및 메틸 에틸 케톤을 혼합하여 고형분 20 질량%의 평활화층 형성용 조성물을 얻었다. 얻어진 평활화층 형성용 조성물을, 메이어 바 #4로, 기재의 제1 면에 도포하고, 도포층을 얻었다.Next, 100 parts by mass of a mixture of a stearyl-modified alkyd compound and a methylated melamine compound as a thermosetting compound (manufactured by Hitachi Kasei Polymer Co., Ltd., trade name &quot; TESFIN 303 &quot;, solid content 20% by mass, mass average molecular weight 15,000) 3 parts by mass of p-toluenesulfonic acid and toluene and methyl ethyl ketone were mixed to obtain a composition for forming a smoothing layer having a solid content of 20% by mass. The thus obtained smoothed layer forming composition was applied to the first surface of the base with Meyer Bar # 4 to obtain a coated layer.

다음으로, 도포층을, 140℃에서 1분간 건조시켜 가열함으로써, 평활화층(두께 1.0㎛)을 형성했다.Next, the coated layer was dried at 140 DEG C for 1 minute and heated to form a smoothing layer (thickness 1.0 mu m).

게다가, 박리제로서의 부가 반응형 실리콘계 화합물과 가교제의 혼합물[신에츠 화학 공업 가부시키가이샤제, 상품명 “실리콘 KS-847H”, 고형분 30 질량%]100 질량부를 톨루엔으로 희석하여 희석액을 얻었다. 이 희석액에 백금 촉매[신에츠 화학 공업 가부시키가이샤제, 상품명 “PL-50T”] 2 질량부를 첨가하여, 혼합함으로써 고형분 1.5 질량%의 박리제층 형성용 조성물을 얻었다. 박리제층 형성용 조성물의 건조 후의 두께가 0.1㎛가 되도록, 상기 평활화층의 기재와 반대면에 박리제층 형성용 조성물을 균일하게 도포했다. 그 후, 130℃에서 1분간, 박리제층 형성용 조성물을 건조시켜서 박리제층을 형성하고, 그린 시트 제조용 박리 필름을 제작했다.Further, 100 parts by mass of a mixture of an addition reaction type silicone compound and a crosslinking agent (manufactured by Shin-Etsu Chemical Co., Ltd., trade name: silicone KS-847H, solid content 30% by mass) as a releasing agent was diluted with toluene to obtain a diluted solution. 2 parts by mass of a platinum catalyst [manufactured by Shin-Etsu Chemical Co., Ltd., trade name &quot; PL-50T &quot;] was added to this diluted solution and mixed to obtain a composition for forming a release agent layer having a solid content of 1.5% by mass. The composition for forming a release agent layer was uniformly coated on the surface opposite to the substrate of the smoothing layer so that the thickness after drying of the composition for forming a release agent layer was 0.1 mu m. Thereafter, the composition for releasing the release agent layer was dried at 130 DEG C for 1 minute to form a release agent layer, and a release film for manufacturing a green sheet was produced.

(비교예 3)(Comparative Example 3)

활성 에너지선 경화형 화합물로서의 에폭시 변성 실리콘 화합물을 주성분으로 하는 양이온 중합성 자외선 경화형 화합물[아라카와 화학 공업 가부시키가이샤제 “UV POLY200”, 고형분 농도 100 질량%, 질량 평균 분자량 20000] 40 질량부와, 촉매로서 붕소계 양이온 경화 UV촉매[아라카와 화학 공업 가부시키가이샤제 “UV CAT A211”, 고형분20%] 3 질량부와, 톨루엔 및 메틸 에틸 케톤을 혼합하여 고형분 20 질량%의 평활화층 형성용 조성물을 얻은 이외는 실시예 1과 마찬가지로 하여 그린 시트 제조용 박리 필름을 제작했다.40 parts by mass of a cationic polymerizable ultraviolet curable compound (UV POLY 200, manufactured by Arakawa Chemical Industries, Ltd., solids concentration: 100% by mass, mass average molecular weight: 20000) containing an epoxy-modified silicone compound as an active energy ray- , 3 parts by mass of a boron-based cationically curing UV catalyst ("UV CAT A211" manufactured by Arakawa Chemical Industries, Ltd., solid content 20%) and toluene and methyl ethyl ketone were mixed to obtain a composition for forming a smoothing layer having a solid content of 20% A release film for producing a green sheet was produced in the same manner as in Example 1 except for the above.

(비교예 4)(Comparative Example 4)

먼저, 기재로서의 2축 연신 폴리에틸렌 테레프탈레이트 필름[두께:38㎛, 제1 면의 산술 평균 거칠기 Ra₂:42nm, 제1 면의 최대 돌기 높이 Rp₂:619nm, 제2 면의 산술 평균 거칠기 Ra₃:42nm, 제2 면의 최대 돌기 높이 Rp₃:619nm]를 준비했다.First, the biaxially oriented polyethylene terephthalate film [thickness as a substrate: 38㎛, the arithmetic mean roughness Ra of the first side ₂ up to the projection height of 42nm, the first surface Rp _2: 619nm, the arithmetic mean roughness Ra of the second surface ₃ : 42 nm, and the maximum protrusion height Rp _{3 on} the second surface: 619 nm).

다음으로, 열경화성 화합물로서의 폴리에스테르 화합물[토요 방적 가부시키가이샤제, 상품명 “바이론 20SS”, 고형분 30 질량%, 질량 평균 분자량 3000] 80 질량부와, 가교제로서의 메틸화 멜라민 20 질량부와, 산촉매인 p-톨루엔 술폰산 3 질량부와, 톨루엔 및 메틸 에틸 케톤을 혼합하여 고형분 20 질량%의 평활화층 형성용 조성물을 얻었다.Next, 80 parts by mass of a polyester compound (manufactured by TOYOBASE CO., LTD., Trade name: VIRON 20SS, solid content 30% by mass, mass average molecular weight 3000) as a thermosetting compound, 20 parts by mass of methylated melamine as a crosslinking agent, -Toluenesulfonic acid and 3 parts by mass of toluene and methyl ethyl ketone were mixed to obtain a composition for forming a smoothing layer having a solid content of 20% by mass.

얻어진 평활화층 형성용 조성물을, 메이어 바 #4로, 기재의 제1 면에 도포하고, 도포층을 얻었다.The thus obtained smoothed layer forming composition was applied to the first surface of the base with Meyer Bar # 4 to obtain a coated layer.

다음으로, 도포층을, 130℃에서 1분간 건조시켜 가열함으로써, 평활화층(두께 1.2㎛)을 형성했다.Next, the coated layer was dried at 130 캜 for one minute and heated to form a smoothing layer (thickness 1.2 탆).

게다가, 박리제로서의 부가 반응형 실리콘계 화합물과 가교제의 혼합물[신에츠 화학 공업 가부시키가이샤제, 상품명 “실리콘 KS-847H”, 고형분 30 질량%] 100 질량부를 톨루엔으로 희석하여 희석액을 얻었다. 이 희석액에 백금 촉매[신에츠 화학 공업 가부시키가이샤제, 상품명 “PL-50T”] 2 질량부를 첨가하고, 혼합함으로써 고형분 1.5 질량%의 박리제층 형성용 조성물을 얻었다. 박리제층 형성용 조성물의 건조 후의 두께가 0.1㎛가 되도록, 상기 평활화층의 기재와 반대면에 박리제층 형성용 조성물을 균일하게 도포했다. 그 후, 130℃에서 1분간, 박리제층 형성용 조성물을 건조시켜서 박리제층을 형성하고, 그린 시트 제조용 박리 필름을 제작했다.Further, 100 parts by mass of a mixture of an addition reaction type silicone compound and a crosslinking agent (manufactured by Shin-Etsu Chemical Co., Ltd., trade name: silicone KS-847H, solid content 30% by mass) as a releasing agent was diluted with toluene to obtain a diluted solution. 2 parts by mass of a platinum catalyst [manufactured by Shin-Etsu Chemical Co., Ltd., trade name &quot; PL-50T &quot;] was added to this diluted solution and mixed to obtain a composition for forming a release agent layer having a solid content of 1.5% by mass. The composition for forming a release agent layer was uniformly coated on the surface opposite to the substrate of the smoothing layer so that the thickness after drying of the composition for forming a release agent layer was 0.1 mu m. Thereafter, the composition for releasing the release agent layer was dried at 130 DEG C for 1 minute to form a release agent layer, and a release film for manufacturing a green sheet was produced.

(비교예 5)(Comparative Example 5)

활성 에너지선 경화형 화합물로서의 아크릴레이트 올리고머를 주성분으로 하는 자외선 경화형 화합물[다이세이 파인케미컬 가부시키가이샤제 “8KX-012C”, 고형분 농도 40 질량%, 질량 평균 분자량 25000]을, 톨루엔으로 희석하고, 고형분20%의 평활화층 형성용 조성물을 얻은 이외는 실시예 1과 마찬가지로 하여 그린 시트 제조용 박리 필름을 제작했다.An ultraviolet curing compound ("8KX-012C" manufactured by Daicel Fine Chemical Co., Ltd., solid content concentration: 40 mass%, mass average molecular weight: 25,000) having an acrylate oligomer as a main component as an active energy ray curable compound was diluted with toluene, A release film for the production of a green sheet was produced in the same manner as in Example 1 except that a composition for forming a smoothing layer was obtained in an amount of 20%.

각 실시예 및 각 비교 예의 그린 시트 제조용 박리 필름의 구성 등을 표 1에 정리하여 나타내었다.Table 1 shows the compositions of the release films for the production of green sheets in each of the Examples and Comparative Examples.

또한 표에서, 활성 에너지선 경화형 화합물로서의 우레탄 아크릴레이트 올리고머를 주성분으로 하는 자외선 경화형 화합물[아라카와 화학공업 사제, 상품명 “빔 세트 575CB”, 고형분 100 질량%, 질량 평균 분자량 470]을 “A1”, 열경화성 화합물로서의 스테아릴 변성 알키드 화합물과 메틸화 멜라민 화합물의 혼합물[히타치 카세이 폴리머 가부시키가이샤제, 상품명 “테스파인 303”, 고형분 20 질량%, 질량 평균 분자량 15000]을 “A2”, 활성 에너지선 경화형 화합물로서의 에폭시 변성 실리콘 화합물을 주성분으로 하는 양이온 중합성 자외선 경화형 화합물[아라카와 화학공업 가부시키가이샤제 “UV POLY200”, 고형분 농도 100 질량%, 질량 평균 분자량 20000]을 “A3”, 열경화성 화합물로서의 폴리에스테르 화합물[토요 방적 가부시키가이샤제, 상품명 “바이론 20SS”, 고형분 30 질량%, 질량 평균 분자량 3000]을 “A4”, 활성 에너지선 경화형 화합물로서의 아크릴레이트 올리고머를 주성분으로 하는 자외선 경화형 화합물[다이세이 파인케미컬 가부시키가이샤제 “8KX-012C”, 고형분 농도 40 질량%, 질량 평균 분자량 25000]을 “A5”로 나타내었다.In the table, "A1" as an active energy ray-curable compound, "A1" as an ultraviolet curing type compound (trade name "Beam Set 575CB", trade name, manufactured by Arakawa Chemical Industries, Ltd., solid content 100 mass%, mass average molecular weight 470) having a urethane acrylate oligomer as a main component, "A2" as a compound, a mixture of a stearyl-modified alkyd compound and a methylated melamine compound (manufactured by Hitachi Kasei Polymer Co., Ltd., trade name "TESPIN 303", solid content 20 mass%, mass average molecular weight 15,000) A3 "as a cationic polymerizable ultraviolet curable compound (" UV POLY200 "manufactured by Arakawa Chemical Industries, Ltd., solid content concentration of 100% by mass, mass average molecular weight of 20000) having an epoxy-modified silicone as a main component, Available from Toyo Denshi Kogyo Co., Ltd., Quot ;, &quot; 20SS &quot;, solid content 30% by mass and mass average molecular weight 3000) was changed to &quot; A4 &quot;, an ultraviolet curable compound Concentration: 40 mass%, mass average molecular weight: 25,000) was represented by &quot; A5 &quot;.

또한, 각 실시예 및 각 비교예의 기재, 평활화층 및 박리제층의 두께는 각각, 반사식 두께 측정계 “F20”[필메트릭스 가부시키가이샤제]로 측정했다.The thicknesses of the base material, the smoothing layer and the peeling agent layer in each of the examples and comparative examples were measured with a reflective thickness gauge "F20" (manufactured by Philatel Industries, Ltd.).

또한, 기재의 제1 면의 산술 평균 거칠기 Ra₂ 및 최대 돌기 높이 Rp₂, 기재의 제2 면의 산술 평균 거칠기 Ra₃ 및 최대 돌기 높이 Rp₃, 평활화층의 제3 면의 산술 평균 거칠기 Ra₄ 및 최대 돌기 높이 Rp₄, 박리제층의 외표면의 산술 평균 거칠기 Ra₁ 및 최대 돌기 높이 Rp₁는 각각, 다음과 같이 측정되었다. 먼저, 유리판에 양면 테이프를 붙였다. 다음으로, 각 실시예 및 각 비교예에서 얻어진 그린 시트 제조용 박리 필름을, 양면 테이프 위에, 산술 평균 거칠기 및 최대 돌기를 측정하는 측의 면의 반대면이 유리판 측이 되도록 하여 고정했다. 이렇게 하여, 상기 산술 평균 거칠기 Ra₂, Ra₃, Ra₄, Ra₁, 상기 최대 돌기 높이 Rp₂, Rp₃, Rp₄, Rp₁를, JIS B0601-1994에 준거하여 미츠토요사제 표면 거칠기 측정기 SV3000S4(촉침식)로 측정했다.In addition, the arithmetic average roughness Ra ₂ and the maximum protrusion height of the first side of the substrate Rp _2, the arithmetic mean roughness Ra of ₃ and a maximum protrusion height of the second side of the substrate Rp _3, the arithmetic mean roughness Ra of the third surface of the smoothing layer ₄ And the maximum protrusion height Rp ₄ , the arithmetic mean roughness Ra ₁ and the maximum protrusion height Rp ₁ of the outer surface of the release agent layer were respectively measured as follows. First, a double-sided tape was attached to the glass plate. Next, the release film for green sheet production obtained in each of the Examples and Comparative Examples was fixed on the double-faced tape so that the opposite side of the side on which the arithmetic mean roughness and the maximum projection were measured was the glass plate side. In this way, the arithmetic average roughness _{Ra 2, Ra 3, Ra 4} , Ra 1, wherein the maximum projection height _{Rp 2, Rp 3, Rp 4} , Rp ₁ a, in accordance with JIS B0601-1994 honey Toyo Co., Ltd. The surface roughness meter SV3000S4 (Touching).

[2] 평가[2] Evaluation

이상과 같이 하여 얻어진 그린 시트 제조용 박리 필름에 관하여, 이하와 같은 평가를 실시했다.With respect to the release film for green sheet production as described above, the following evaluations were carried out.

[2.1] 블로킹성 평가[2.1] Evaluation of blocking property

각 실시예 및 각 비교예에서 얻어진 그린 시트 제조용 박리 필름의 폭 400 mm, 길이 5000m를 롤 형상으로 감아올려서, 박리 필름 롤을 얻었다. 이 박리 필름 롤을 40℃, 습도 50% 이하의 환경 하에 30일간 보관했다. 그 후, 박리 필름 롤의 외관을 육안으로 관찰하고, 이하의 판단 기준으로 블로킹성을 평가했다.A 400 mm width and a length of 5000 m of the release film for green sheet production obtained in each of the Examples and Comparative Examples were rolled up to obtain a release film roll. The peeled film roll was stored for 30 days in an environment of 40 ° C and a humidity of 50% or less. Thereafter, the appearance of the release film roll was visually observed, and the blocking property was evaluated based on the following criteria.

A: 그린 시트 제조용 박리 필름을 롤 형상으로 감아올려서 얻어진 보관 전의 박리 필름 롤의 외관과 비교하여, 보관 후의 박리 필름 롤의 외관에 변화가 없었다(블로킹 없음).A: There was no change in appearance of the peeled film roll after storage (no blocking), compared with the appearance of the peeled film roll before storage obtained by winding up the peeled film for green sheet production in roll form.

B: 그린 시트 제조용 박리 필름 롤에 있어서, 부분적으로 색조가 다른 영역이 있었다(블로킹 경향이 있지만 사용 가능).B: In the peel film roll for manufacturing a green sheet, there was a region having a partially different hue (although there is a tendency of blocking, usable).

C: 그린 시트 제조용 박리 필름 롤의 광범위한 영역에 걸쳐서 색조가 달랐다(블로킹 있음).C: Peel film for the production of green sheets The color tone was varied over a wide range of rolls (with blocking).

상기 기준 C와 같이, 그린 시트 제조용 박리 필름의 표리의 밀착에 의한 블로킹이 발생하여, 박리 필름 롤의 광범위한 영역에 걸쳐서 색조가 변화한 경우, 그린 시트 제조용 박리 필름을 정상적으로 권출할 수 없는 경우가 있다.There is a case where the release film for manufacturing a green sheet can not normally be released when blocking occurs due to close contact of the front and back of the release film for green sheet and the color tone changes over a wide area of the release film roll as in the reference C .

[2.2] 오목부의 수 평가[2.2] Evaluation of the number of recesses

폴리비닐부티랄 수지를 톨루엔/에탄올 혼합 용제(질량비 6/4)에서 용해한 도포액을, 각 실시예 및 각 비교예에서 얻어진 그린 시트 제조용 박리 필름의 박리제층 위(외표면)에, 건조 후의 두께가 3㎛가 되도록, 도포하여 도포층을 얻었다. 도포층을 80℃에서 1분간 건조시켜서, 폴리비닐부티랄 수지층을 성형했다. 이어서, 그 폴리비닐부티랄 수지층의 표면에 폴리에스테르 테이프를 붙였다. 이어서, 그린 시트 제조용 박리 필름을 폴리비닐부티랄 수지층에서 박리하여, 폴리비닐부티랄 수지층을 폴리에스테르 테이프에 전사했다. 이어서, 그린 시트 제조용 박리 필름의 박리제층에 접촉해 있던 폴리비닐부티랄 수지층의 면을, 광간섭식 표면 형상 관찰 장치 “WYKO-1100”[가부시키가이샤 Veeco 사제]를 이용하여 관찰했다. 관찰 조건은 PSI 모드, 50배율로 했다. 폴리비닐부티랄 수지층의 면의 91.2×119.8㎛의 범위 내에서, 폴리비닐부티랄 수지층의 면에 확인되는 오목부를 카운트했다. 그 오목부는 박리제층의 형상이 전사된 150nm 이상의 깊이를 가지고 있었다. 오목부의 수를 이하의 판단 기준으로 평가했다. 또한 하기 기준 C로 평가된 폴리비닐부티랄 수지층(그린 시트)을 이용하여 콘덴서를 제작한 경우, 내전압 저하에 의한 쇼트가 발생하기 쉬운 경향이 있었다.The coating liquid obtained by dissolving the polyvinyl butyral resin in a toluene / ethanol mixed solvent (mass ratio 6/4) was applied onto the release agent layer (outer surface) of the release film for green sheet production obtained in each example and each comparative example, Was 3 mu m, to obtain a coated layer. The coated layer was dried at 80 DEG C for 1 minute to form a polyvinyl butyral resin layer. Then, a polyester tape was attached to the surface of the polyvinyl butyral resin layer. Then, the release film for manufacturing a green sheet was peeled from the polyvinyl butyral resin layer, and the polyvinyl butyral resin layer was transferred to a polyester tape. Next, the surface of the polyvinyl butyral resin layer in contact with the release agent layer of the release film for green sheet production was observed with an optical interferometric surface shape observation apparatus "WYKO-1100" (manufactured by Veeco Co., Ltd.). Observation conditions were PSI mode, 50 magnification. The concavities confirmed on the surface of the polyvinyl butyral resin layer were counted within the range of 91.2 x 119.8 mu m on the surface of the polyvinyl butyral resin layer. The concave portion had a depth of 150 nm or more at which the shape of the release agent layer was transferred. The number of concave portions was evaluated based on the following criteria. Further, when a capacitor was produced using a polyvinyl butyral resin layer (green sheet) evaluated by the following criteria C, there was a tendency that a short circuit due to a decrease in withstanding voltage tended to occur.

A: 오목부의 수가 0개이다.A: The number of recesses is zero.

B: 오목부의 수가 1~5개이다.B: The number of recesses is 1 to 5.

C: 오목부의 수가 6개 이상이다.C: The number of concave portions is 6 or more.

이들 결과를 표 2에 나타낸다.These results are shown in Table 2.

블로킹성 평가Evaluation of blocking property 오목부 수 평가Evaluation of concavity 실시예1Example 1 AA AA 실시예2Example 2 AA AA 실시예3Example 3 BB AA 실시예4Example 4 AA AA 실시예5Example 5 AA AA 비교예1Comparative Example 1 AA CC 비교예2Comparative Example 2 AA BB 비교예3Comparative Example 3 AA BB 비교예4Comparative Example 4 AA CC 비교예5Comparative Example 5 AA CC

표 2로부터 확실한 바와 같이, 본 발명의 그린 시트 제조용 박리 필름은 그 외표면의 평활성이 우수하였다. 또한, 본 발명의 그린 시트 제조용 박리 필름을 이용하여 형성한 그린 시트에는 거칠고 큰 오목부 등은 거의 확인되지 않았다. 또한, 본 발명의 그린 시트 제조용 박리 필름을 이용하여 형성한 그린 시트에 의해 제조한 세라믹 콘덴서에는 단락 등의 문제점의 발생이 확인되지 않았다. 이에 비하여, 비교예에서는 만족스러운 결과가 얻어지지 않았다.As is clear from Table 2, the release film for producing green sheets of the present invention had excellent smoothness on the outer surface. In the green sheet formed by using the release film for manufacturing a green sheet of the present invention, rough and large recesses and the like were scarcely confirmed. Further, problems such as short-circuiting were not observed in the ceramic capacitor produced by the green sheet formed by using the release film for manufacturing green sheets of the present invention. On the other hand, in the comparative example, satisfactory results were not obtained.

1: 그린 시트 제조용 박리 필름
11: 기재
111: 기재의 제1 면
112: 기재의 제2 면
12: 평활화층
121: 면(제3 면)
13: 박리제층
131: 박리제층의 외표면1: Release film for green sheet production
11: substrate
111: first side of substrate
112: second side of substrate
12: Smoothing layer
121: The face (the third face)
13: Release material layer
131: outer surface of the release agent layer

Claims (8)

그린 시트 제조용 박리 필름이며,
제1 면과 제2 면을 갖는 기재;
상기 기재의 상기 제1 면에 형성된 평활화층; 및
상기 평활화층의 상기 기재와 반대 면 측에 형성된 박리제층을 구비하고,
상기 평활화층은 활성 에너지선 경화형 화합물을 포함한 평활화층 형성용 조성물에, 활성 에너지선을 조사하여 경화시킴으로써 형성되어 있으며,
상기 박리제층의 외표면의 산술 평균 거칠기 Ra₁가 8nm 이하이고, 아울러 상기 박리제층의 상기 외표면의 최대 돌기 높이 Rp₁가 50nm 이하인 것을 특징으로 하는 그린 시트 제조용 박리 필름.A release film for manufacturing a green sheet,
A substrate having a first side and a second side;
A smoothing layer formed on the first surface of the substrate; And
And a release agent layer formed on the side of the smoothing layer opposite to the substrate,
The smoothing layer is formed by irradiating a composition for forming a smoothing layer containing an active energy ray curable compound with an active energy ray to cure the composition,
And the arithmetic average roughness Ra ₁ of the outer surface of the release agent layer 8nm or less, as well as the green sheet for manufacture of release film is the maximum protrusion height Rp ₁ of the outer surface of the release agent layer, characterized in that not more than 50nm. 제1항에 있어서,
상기 제1 면의 산술 평균 거칠기 Ra₂가 10~200nm이고, 아울러 상기 제1 면의 최대 돌기 높이 Rp₂가 80~1000nm인 것을 특징으로 하는 그린 시트 제조용 박리 필름.The method according to claim 1,
Wherein the arithmetic average roughness Ra ₂ of the first surface is 10 to 200 nm and the maximum protrusion height Rp ₂ of the first surface is 80 to 1000 nm. 제1항 또는 제2항에 있어서,
상기 활성 에너지선 경화형 화합물은 질량 평균 분자량이 950 이하의 화합물인 것을 특징으로 하는 그린 시트 제조용 박리 필름.3. The method according to claim 1 or 2,
Wherein the active energy ray curable compound is a compound having a mass average molecular weight of 950 or less. 제1항 내지 제3항 중의 어느 한 항에 있어서,
상기 활성 에너지선 경화형 화합물은 자외선 경화형 화합물이며, 상기 활성 에너지선은 자외선인 것을 특징으로 하는 그린 시트 제조용 박리 필름.4. The method according to any one of claims 1 to 3,
Wherein the active energy ray curable compound is an ultraviolet ray curable compound and the active energy ray is ultraviolet ray. 제1항 내지 제4항 중의 어느 한 항에 있어서,
상기 평활화층의 평균 두께가 0.2~10㎛인 것을 특징으로 하는 그린 시트 제조용 박리 필름.5. The method according to any one of claims 1 to 4,
Wherein the smoothing layer has an average thickness of 0.2 to 10 占 퐉. 제1항 내지 제5항 중의 어느 한 항에 있어서,
상기 평활화층은 상기 기재와 반대 면을 구비하고,
상기 평활화층의 상기 기재와 반대의 상기 면의 산술 평균 거칠기 Ra₄가 8nm 이하이고, 아울러 상기 평활화층의 상기 기재와 반대의 상기 면의 최대 돌기 높이 Rp₄가 50nm 이하인 것을 특징으로 하는 그린 시트 제조용 박리 필름.6. The method according to any one of claims 1 to 5,
Wherein the smoothing layer has an opposite surface to the substrate,
Wherein the smoothing layer and the substrate and the arithmetic mean roughness Ra ₄ of the surface, opposite of and below 8nm, as well as the green sheet for making the maximum protrusion height Rp ₄ of the surface of the substrate opposite of the smoothing layer, characterized in that not more than 50nm Peeling film. 제1항 내지 제6항 중의 어느 한 항에 있어서,
상기 제2 면의 산술 평균 거칠기 Ra₃가 10~200nm이고, 아울러 상기 제2 면의 최대 돌기 높이 Rp₃가 80~1000nm인 것을 특징으로 하는 그린 시트 제조용 박리 필름.7. The method according to any one of claims 1 to 6,
The first and the arithmetic average roughness Ra ₃ 10 ~ 200nm of the second surface, as well as the green sheet for making a release film, characterized in that the maximum projection height Rp ₃ of the second side of 80 ~ 1000nm. 제1항 내지 제7항 중의 어느 한 항의 그린 시트 제조용 박리 필름의 제조 방법이며,
상기 제1 면과 상기 제2 면을 갖는 상기 기재를 준비하는 기재 준비 공정;
상기 활성 에너지선 경화형 화합물을 포함한 상기 평활화층 형성용 조성물을, 상기 기재의 상기 제1 면 측에 도포함으로써 도포층을 형성하는 도포층 형성 공정;
상기 도포층에 상기 활성 에너지선을 조사하여 경화시킴으로써, 상기 평활화층을 형성하는 평활화층 형성 공정; 및
상기 평활화층의 상기 기재와 반대의 상기 면 측에, 상기 박리제층을 형성하는 박리제층 형성 공정을 구비하고,
상기 박리제층의 상기 외표면의 상기 산술 평균 거칠기 Ra₁가 8nm 이하이고, 아울러 상기 박리제층의 상기 외표면의 상기 최대 돌기 높이 Rp₁가 50nm 이하인 것을 특징으로 하는 그린 시트 제조용 박리 필름의 제조 방법.A process for producing a release film for the production of a green sheet according to any one of claims 1 to 7,
A substrate preparation step of preparing the substrate having the first surface and the second surface;
A coating layer forming step of forming the coating layer by applying the composition for forming a smoothing layer containing the active energy ray curable compound to the first surface side of the substrate;
A smoothing layer forming step of forming the smoothing layer by irradiating the coating layer with the active energy ray and curing; And
And a releasing agent layer forming step of forming the releasing agent layer on the surface side of the smoothing layer opposite to the substrate,
Wherein the outside the arithmetic average roughness Ra ₁ of the surface of the release agent layer is not more than 8nm, as well as green method of producing a sheet for making a release film has the maximum protrusion height Rp ₁ of the outer surface of the release agent layer, characterized in that not more than 50nm.

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