KR20150095543A - Structure of Full Color OLED - Google Patents

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KR20150095543A
KR20150095543A KR1020140115460A KR20140115460A KR20150095543A KR 20150095543 A KR20150095543 A KR 20150095543A KR 1020140115460 A KR1020140115460 A KR 1020140115460A KR 20140115460 A KR20140115460 A KR 20140115460A KR 20150095543 A KR20150095543 A KR 20150095543A
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신 치 린
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에버디스플레이 옵트로닉스 (상하이) 리미티드
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Abstract

The present invention relates to a structure of a full color OLED. The structure of a full color OLED includes a glass substrate, a reflection anode formed on the glass substrate, a micro cavity control layer formed on the reflection anode, a hole transfer layer formed on the micro cavity control layer, a red/green light emitting layer formed on the hole transfer layer, and a light emitting layer which has a blue light emitting layer formed on the hole transfer layer. Part of the blue light emitting layer covers the red/green light emitting layer. According to a structure of a full color OLED, cost can be saved by reducing the number of masks used and full color luminescence with a good effect can be realized.

Description

풀컬러 유기발광다이오드 구조{Structure of Full Color OLED}Full Color OLED Structure {Structure of Full Color OLED}

본 발명은 유기발광다이오드(OLED:Organic Light Emitting Diode) 기술분야에 관한 것이며, 특히 풀컬러 유기발광다이오드 구조에 관한 것이다. BACKGROUND OF THE INVENTION 1. Field of the Invention The present invention relates to an organic light emitting diode (OLED) technology field, and more particularly to a full color organic light emitting diode structure.

유기발광다이오드(OLED)는 자발광, 높은 콘트라스트, 박형화의 용이성, 높은 응답속도 등 많은 이점을 구비하고 있어, 디스플레이분야의 공인하는 주역으로 부각되고 있다. 그리고 풀컬러 표시효과는 OLED디스플레이가 발전하느냐 퇴보하느냐를 결정하는 관건적인 요소이다. 근래, 풀컬러 OLED의 제작방법에는 주로 R(적)/G(녹)/B(청) 3색광을 나란히 독립발광시키는 방법, 백색광에 컬러필터를 사용하는 방법, 색상 변환법등 3가지 방법이 있다. 그 중, R(적)/G(녹)/B(청) 3색광을 나란히 독립발광시키는 방법이 제일 발전 전망이 좋은 방법이며, 또한 실제 제일 많이 사용되는 방법이기도 하다. 그 제조방법은, 기판 위에 적/녹/청 3원색 화소를 그 순서대로 증착하여 형성한다. 적/녹/청 3색 중의 어느 1색의 유기재료를 증착 시, 고정밀도 마스크를 사용하여 기타 2색의 화소를 차폐한다. 때문에, 각 색상 당 고정밀도 마스크를 준비할 필요가 있다. The organic light emitting diode (OLED) has many advantages such as self-emission, high contrast, ease of thinning, high response speed, and so on, and has become a recognized leader in the display field. And the full - color display effect is a key factor in determining whether OLED displays evolve or deteriorate. In recent years, there are three methods of producing a full-color OLED, namely, a method of independently emitting three colors of R (red), G (green), and B (blue) in parallel, a method of using a color filter in white light, . Among them, the method of independently emitting three colors of R (red), G (green), and B (blue) light in a side-by-side manner is the best method for generating electricity. The manufacturing method is formed by depositing red / green / blue primary color pixels in this order on a substrate. When depositing an organic material of any one of red, green, and blue, a high-precision mask is used to shield the pixels of the other two colors. Therefore, it is necessary to prepare a high-precision mask for each color.

도 1에는 종래기술에 따르는 풀컬러 OLED 구조를 보여 준다. 당해 풀컬러 OLED 구조에서는, 적/녹/청 3색광을 나란히 독립발광시키는 기초상에서, 마이크로 캐비티 조절층인 정공주입층을 이용하여 풀컬러 발광을 실현하였다. 도 1에 도시된 바와 같이, 당해 OLED 구조는, 아래에서부터 위의 순서로 유리기판(1'), 반사 양극(2'), 제1 정공주입층(3'), 청색정공주입층(4-1'), 녹색정공주입층(4-2'), 적색정공주입층(4-3'), 정공수송층(5'), 청색발광층(6-1'), 녹색발광층(6-2'), 적색발광층(6-3'), 전자수송층(7'), 전자주입층(8') 및 반투명 음극(9')을 포함한다. 상술한 청색정공주입층(4-1'), 녹색정공주입층(4-2') 및 적색정공주입층(4-3')은 사용하는 재료가 같으나 각각 대응하는 색상의 정공주입층이라고 부르는 것은 청색발광층(6-1'), 녹색발광층(6-2') 및 적색발광층(6-3') 각각에 대응되게 배치되어 OLED의 풀컬러 발광에 기여하는 마이크로 캐비티 조절층으로 작용하기 때문이다.Figure 1 shows a full-color OLED structure according to the prior art. In this full-color OLED structure, full color emission is realized by using a hole injection layer which is a micro-cavity control layer on the basis of independently emitting red / green / blue three-color light side by side. 1, the OLED structure includes a glass substrate 1 ', a reflective anode 2', a first hole injection layer 3 ', a blue hole injection layer (4- The green hole injection layer 4-2 ', the red hole injection layer 4-3', the hole transport layer 5 ', the blue light emitting layer 6-1', the green light emitting layer 6-2 ' , A red light emitting layer 6-3 ', an electron transporting layer 7', an electron injection layer 8 'and a semitransparent cathode 9'. The blue hole injection layer 4-1 ', the green hole injection layer 4-2' and the red hole injection layer 4-3 'have the same materials but are referred to as corresponding hole injection layers Is disposed corresponding to each of the blue light emitting layer 6-1 ', the green light emitting layer 6-2', and the red light emitting layer 6-3 'and functions as a microcavity control layer contributing to the full color light emission of the OLED .

이러한 구조 형성에는 이하와 같은 어려움이 있었다. 청색정공주입층(4-1'), 녹색정공주입층(4-2'), 적색정공주입층(4-3'), 청색발광층(6-1'), 녹색발광층(6-2') 및 적색발광층(6-3')을 형성 시, 각 색상마다 모두 고정밀도 마스크를 사용하여 차폐할 필요가 있으므로, 고정밀도 마스크를 사용하는 차폐가 6차나 필요하게 된다. 또한, 매번 차폐 작업마다, 고정밀도 마스크가 필요할 뿐더러 고정밀도 위치 맞춤 등 작업도 필요하게 되므로 높음 제조 코스트가 발생하게 된다. 또한, 이러한 제조방법 이용 시, 혼색 발생 확률도 높아질 수 있기에 고정밀도 마스크 사용횟수를 줄이는 것은 시급히 해결하여야 할 기술과제이다. Such structure formation has the following difficulties. The blue hole injection layer 4-1 ', the green hole injection layer 4-2', the red hole injection layer 4-3 ', the blue light emitting layer 6-1', the green light emitting layer 6-2 ' And the red light emitting layer 6-3 'are formed, it is necessary to shield them using a high-precision mask for each color, so that shielding using a high-precision mask is required six times. In addition, high-precision masks are required for each shielding operation every time, and high-precision alignment and other operations are also required, resulting in high manufacturing costs. In addition, when such a manufacturing method is used, the probability of occurrence of color mixture can be increased, so reducing the number of times of using a high-precision mask is a technical problem to be solved urgently.

본 발명은, 풀컬러 유기발광다이오드 구조 및 그 제조방법을 제공하는 것을 통하여 고정밀도 마스크 사용횟수를 줄임으로써 코스트를 절감시키고 풀컬러 표시효과가 좋은 발광을 실현하는 것을 목적으로 한다.It is an object of the present invention to provide a full color organic light emitting diode structure and a method of manufacturing the same, thereby reducing the number of times of using a high-precision mask, thereby realizing light emission with reduced cost and excellent full color display effect.

상기 목적을 달성하기 위한 본 발명에 따르는 풀컬러 유기발광다이오드 구조는According to an aspect of the present invention, there is provided a full-color organic light emitting diode

유리기판, Glass substrate,

상기 유리기판위에 형성되는 반사 양극, A reflective anode formed on the glass substrate,

상기 반사 양극위에 형성되는 마이크로 캐비티 조절층, A micro-cavity control layer formed on the reflective anode,

상기 마이크로 캐비티 조절층위에 형성되는 정공수송층, 및 A hole transporting layer formed on the micro-cavity adjusting layer, and

상기 정공수송층위에 형성되는 적녹발광층과 상기 정공수송층위에 형성되는 청색발광층을 구비하는 발광층을 포함하고, A light emitting layer having a red light emitting layer formed on the hole transporting layer and a blue light emitting layer formed on the hole transporting layer,

상기 청색발광층은 그 일부분이 상기 적녹발광층을 덮게끔 형성된다. The blue light emitting layer is formed so that a part thereof covers the red light emitting layer.

상기 풀컬러 유기발광다이오드 구조에 있어서, 상기 적녹발광층은 단층 구조이며 동시에 증착되는 녹색 및 적색발광재료를 포함한다. In the full-color organic light emitting diode structure, the red, green and blue light emitting layers include a green and red light emitting material having a single layer structure and deposited at the same time.

상기 풀컬러 유기발광다이오드 구조에 있어서, 동시에 증착되는 녹색 및 적색발광재료는 메인 발광재료에 1~12%의 적색인광재료 및 3~12%의 녹색인광재료가 도핑되어 이루어 진다. In the full-color organic light emitting diode structure, green and red light-emitting materials deposited at the same time are doped with 1 to 12% of red phosphorescent material and 3 to 12% of green phosphorescent material to the main light-emitting material.

상기 풀컬러 유기발광다이오드 구조에 있어서, 상기 적녹발광층은 2층 구조이며, 증착되는 적색발광재료층과 상기 적색발광재료층 위에 증착되는 녹색발광재료층을 포함한다. In the full color organic light emitting diode structure, the red, green light emitting layer has a two-layer structure, and includes a red light emitting material layer deposited and a green light emitting material layer deposited on the red light emitting material layer.

상기 풀컬러 유기발광다이오드 구조에 있어서, 상기 적색발광재료층의 두께는 상기 녹색발광재료층의 2배이다. In the full-color organic light emitting diode structure, the thickness of the red light emitting material layer is twice the thickness of the green light emitting material layer.

상기 풀컬러 유기발광다이오드 구조에 있어서, 상기 녹색발광재료층의 두께는 2.5~10nm이고, 상기 적색발광재료층의 두께는 5~10nm이다. In the full color organic light emitting diode structure, the thickness of the green light emitting material layer is 2.5 to 10 nm and the thickness of the red light emitting material layer is 5 to 10 nm.

상기 풀컬러 유기발광다이오드 구조에 있어서, 상기 마이크로 캐비티 조절층은 제1 정공주입층, 상기 제1 정공주입층 위에 형성되는 제2 정공주입층을 포함하고, 상기 제2 정공주입층은 상기 제1 정공주입층 위에 형성되는 청색정공주입층, 상기 청색정공주입층 위에 형성되며 서로 소정의 거리만큼 이격되어 있는 적색정공주입층 및 녹색정공주입층을 포함하고, 상기 청색정공주입층의 두께, 적색정공주입층의 두께 및 녹색정공주입층의 두께는 소정의 비례관계를 만족한다. The microcavity control layer may include a first hole injection layer and a second hole injection layer formed on the first hole injection layer, and the second hole injection layer may include a first hole injection layer, A blue hole injection layer formed on the hole injection layer, a red hole injection layer formed on the blue hole injection layer and spaced apart from each other by a predetermined distance, and a green hole injection layer, wherein the thickness of the blue hole injection layer, The thickness of the injection layer and the thickness of the green hole injection layer satisfy a predetermined proportional relationship.

상기 풀컬러 유기발광다이오드 구조에 있어서, 상기 청색정공주입층의 두께, 적색정공주입층의 두께 및 녹색정공주입층의 두께는 3:2:1의 비례관계를 만족한다. In the full-color organic light emitting diode structure, the thickness of the blue hole injection layer, the thickness of the red hole injection layer, and the thickness of the green hole injection layer satisfy a proportional relationship of 3: 2: 1.

상기 풀컬러 유기발광다이오드 구조에 있어서, 상기 청색정공주입층의 두께는 750nm이고, 적색정공주입층의 두께는 500nm이며, 상기 녹색정공주입층의 두께는 250nm이다. In the full-color organic light emitting diode structure, the thickness of the blue hole injection layer is 750 nm, the thickness of the red hole injection layer is 500 nm, and the thickness of the green hole injection layer is 250 nm.

상기 풀컬러 유기발광다이오드 구조에 있어서, 상기 발광층 위에 형성되는 전자수송층, 상기 전자수송층 위에 형성되는 전자주입층, 및 상기 전자주입층 위에 형성되는 반투명 음극층을 더 포함한다. The full color organic light emitting diode structure may further include an electron transport layer formed on the light emitting layer, an electron injection layer formed on the electron transport layer, and a semi-transparent cathode layer formed on the electron injection layer.

상기 목적을 달성하기 위한 본 발명에 따르는 본 발명에 따르는 풀컬러 유기발광다이오드 구조의 제조방법은According to an aspect of the present invention, there is provided a method of manufacturing a full-color organic light emitting diode

유리기판을 준비하는 스텝, A step of preparing a glass substrate,

상기 유리기판위에 반사 양극을 형성하는 스텝, Forming a reflective anode on the glass substrate,

상기 반사 양극위에 마이크로 캐비티 조절층을 형성하는 스텝, Forming a micro-cavity control layer on the reflective anode,

상기 마이크로 캐비티 조절층위에 정공수송층을 형성하는 스텝, 및 Forming a hole transporting layer on the micro-cavity adjusting layer, and

상기 정공수송층위에 발광층을 형성하는 스텝을 포함하고, And forming a light emitting layer on the hole transport layer,

상기 발광층을 형성하는 스텝은The step of forming the light-

고정밀도 마스크를 사용하는 증착프로세스에 의해 상기 정공수송층위에 적녹발광층을 형성하는 스텝, Forming a red light emitting layer on the hole transporting layer by a deposition process using a high-precision mask,

완전 개구된 마스크를 사용하는 증착프로세스에 의해 상기 정공수송층 위 및 상기 적녹발광층위에 청색발광층을 형성하는 스텝을 포함한다. And forming a blue light emitting layer on the hole transport layer and on the red light emitting layer by a vapor deposition process using a completely opened mask.

상기 풀컬러 유기발광다이오드 구조의 제조방법에 있어서, 적녹발광층을 형성하는 스텝에서는, 고정밀도 마스크를 사용하여, 메인 발광재료에 1~12%의 적색인광재료 및 3~12%의 녹색인광재료를 도핑하여 이루어지는 재료를 상기 정공수송층위에 증착한다. In the method of manufacturing the full-color organic light emitting diode structure, in the step of forming the red light emitting layer, a high-precision mask is used to apply a red phosphorescent material of 1 to 12% and a green phosphorescent material of 3 to 12% A doped material is deposited on the hole transport layer.

상기 풀컬러 유기발광다이오드 구조의 제조방법에 있어서, 적녹발광층을 형성하는 스텝에서는, 고정밀도 마스크를 사용하여 상기 정공수송층위에 적색발광재료층을 증착하고, 동일한 고정밀도 마스크를 사용하여 상기 적색발광재료층위에 녹색발광재료층을 증착한다. In the method for manufacturing the full-color organic light emitting diode structure, in the step of forming the red light emitting layer, a red light emitting material layer is deposited on the hole transporting layer using a high-precision mask and the red light emitting material A green light emitting material layer is deposited over the layer.

상기 풀컬러 유기발광다이오드 구조의 제조방법에 있어서, 상기 적색발광재료층의 두께는 상기 녹색발광재료층의 2배이다. In the method of manufacturing the full-color organic light emitting diode structure, the thickness of the red light emitting material layer is twice the thickness of the green light emitting material layer.

상기 풀컬러 유기발광다이오드 구조의 제조방법에 있어서, 상기 녹색발광재료층의 두께는 2.5~10nm이고, 상기 적색발광재료층의 두께는 5~10nm이다. In the method of manufacturing the full-color organic light emitting diode structure, the thickness of the green light emitting material layer is 2.5 to 10 nm and the thickness of the red light emitting material layer is 5 to 10 nm.

상기 풀컬러 유기발광다이오드 구조의 제조방법에 있어서, 마이크로 캐비티 조절층을 형성하는 스텝에서는, 제1 정공주입층을 형성하고, 상기 제1 정공주입층 위에 제2 정공주입층을 형성하며, 제2 정공주입층의 형성 방법에서는, 완전 개구된 마스크를 사용하는 증착프로세스에 의해 청색정공주입층을 형성하고, 고정밀도 마스크를 사용하는 증착프로세스에 의해 상기 청색정공주입층위에 소정의 거리만큼 이격되어 있는 적색정공주입층 및 녹색정공주입층을 형성하며, 상기 청색정공주입층의 두께, 적색정공주입층의 두께 및 녹색정공주입층의 두께가 소정의 비례관계를 만족한다. In the method of manufacturing the full-color organic light emitting diode structure, in the step of forming the micro-cavity control layer, a first hole injection layer is formed, a second hole injection layer is formed on the first hole injection layer, In the method of forming a hole injection layer, a blue hole injection layer is formed by a vapor deposition process using a completely opened mask, and a blue hole injection layer is formed on the blue hole injection layer by a deposition process using a high- A red hole injection layer, and a green hole injection layer, and the thickness of the blue hole injection layer, the thickness of the red hole injection layer, and the thickness of the green hole injection layer satisfy a predetermined proportional relationship.

상기 풀컬러 유기발광다이오드 구조의 제조방법에 있어서, 상기 청색정공주입층의 두께, 적색정공주입층의 두께 및 녹색정공주입층의 두께가 3:2:1의 비례관계를 만족한다. In the method of manufacturing the full-color organic light emitting diode structure, the thickness of the blue hole injection layer, the thickness of the red hole injection layer, and the thickness of the green hole injection layer satisfy a proportional relation of 3: 2: 1.

상기 풀컬러 유기발광다이오드 구조의 제조방법에 있어서, 상기 청색정공주입층의 두께는 750nm이고, 적색정공주입층의 두께는 500nm이고, 상기 녹색정공주입층의 두께는 250nm이다. In the method of manufacturing the full-color organic light emitting diode structure, the thickness of the blue hole injection layer is 750 nm, the thickness of the red hole injection layer is 500 nm, and the thickness of the green hole injection layer is 250 nm.

상기 풀컬러 유기발광다이오드 구조의 제조방법에 있어서, 상기 발광층위에 전자수송층을 형성하는 스텝, 상기 전자수송층위에 전자주입층을 형성하는 스텝, 상기 전자주입층위에 반투명 음극층을 형성하는 스텝을 더 포함한다.The manufacturing method of the full-color organic light emitting diode structure may further include forming an electron transport layer on the light emitting layer, forming an electron injection layer on the electron transport layer, and forming a translucent cathode layer on the electron injection layer do.

본 발명에 따르는 풀컬러 유기발광다이오드 구조 및 그 제조방법에서는, 고정밀도 마스크를 사용한 3차만의 차폐로 풀컬러 발광을 실현할 수 있을뿐더러 혼색 발생확률을 낮출 수 있고, 또한 마스크 사용횟수를 줄여 코스트 절감을 실현할 수 있다.In the full-color organic light emitting diode structure and the method of manufacturing the same according to the present invention, it is possible to realize full-color light emission by shielding only the third-stage by using a high-precision mask, reduce the probability of occurrence of color mixture, reduce the number of times of mask use, Can be realized.

도 1은 종래기술에 따르는 OLED 구조를 보여주는 모식도이다.
도 2는 제1 실시예에 따르는 OLED 구조를 보여주는 모식도이다.
도 3는 제2 실시예에 따르는 OLED 구조를 보여주는 모식도이다.
1 is a schematic diagram showing an OLED structure according to the prior art.
2 is a schematic diagram showing an OLED structure according to the first embodiment.
3 is a schematic diagram showing an OLED structure according to the second embodiment.

이하, 도면을 참조하면서 본 발명의 실시예를 구제적으로 설명하기로 한다. 여기서 설명하는 구체적인 실시예는 본 발명을 해석하기 위한 것으로서 본 발명에 대한 한정이 아님을 이해하여야 할것이다. 또한, 설명의 편의를 도모하기 위하여, 도면에는 그 전체 구조는 도시하지 않고 본 발명과 관련 되는 부분만을 도시하고 있음에 주의하여야 할 것이다.
Hereinafter, embodiments of the present invention will be described with reference to the drawings. It is to be understood that the specific embodiments described herein are for interpretation of the invention and are not intended to be limiting of the invention. It should be noted that, in order to facilitate the description, the entire structure is not shown in the drawings, but only a portion related to the present invention is shown.

[제1 실시예][First Embodiment]

본 실시예에서는, 도 2에서 모식적으로 보여주는 풀컬러 OLED 구조 및 그 제조방법을 제공한다. 당해 풀컬러 OLED 구조는, 유리기판(1), 유리기판(1) 위에 형성되는 반사 양극(2), 반사 양극(2) 위에 형성되는 제1 정공주입층(3), 제1 정공주입층(3) 위에 형성되는 제2 정공주입층을 포함한다. 여기서, 상기 제2 정공주입층은 마이크로 캐비티 조절층에 해당한다. 제2 정공주입층은 청색정공주입층(4-1), 청색정공주입층(4-1) 위에 형성되는 녹색정공주입층(4-2) 및 적색정공주입층(4-3)을 포함한다. 녹색정공주입층(4-2)과 적색정공주입층(4-3)은 스페이서(spacer)층(미도시)에 의하여 서로 이격되게 형성된다. In this embodiment, a full-color OLED structure schematically shown in FIG. 2 and a manufacturing method thereof are provided. The full-color OLED structure includes a glass substrate 1, a reflective anode 2 formed on the glass substrate 1, a first hole injection layer 3 formed on the reflective anode 2, a first hole injection layer And a second hole injection layer formed on the second hole injection layer. Here, the second hole injection layer corresponds to the micro cavity control layer. The second hole injection layer includes a blue hole injection layer 4-1, a green hole injection layer 4-2 and a red hole injection layer 4-3 formed on the blue hole injection layer 4-1 . The green hole injection layer 4-2 and the red hole injection layer 4-3 are spaced apart from each other by a spacer layer (not shown).

청색정공주입층(4-1), 녹색정공주입층(4-2) 및 적색정공주입층(4-3)은 동일한 재료에 의해 형성된다. 예를 들면, P형 도핑된 동프탈로시아닌(CuPc), 2-TNATA등과 같이 많이 쓰이는 P형 유기재료에 의해 형성될 수 있다. 색순도를 조절하기 위해서 각 색상에 대응하는 발광층을 그 두께가 서로 다르게 형성하기에 청색정공주입층, 녹색정공주입층 및 적색정공주입층과 같이 서로 다른 호칭을 하게 되었다. 청색정공주입층(4-1), 녹색정공주입층(4-2) 및 적색정공주입층(4-3)은 그 두께가 3:1:2의 비례관계를 만족하는 것이 바람직 하고, 청색정공주입층(4-1)의 두께가 750nm, 녹색정공주입층(4-2)의 두께가 250nm, 적색정공주입층(4-3)의 두께가 500nm가 되게끔 형성하는 것이 더욱 바람직하다. The blue hole injection layer 4-1, the green hole injection layer 4-2, and the red hole injection layer 4-3 are formed of the same material. For example, a P-type organic material commonly used as P-type doped copper phthalocyanine (CuPc), 2-TNATA, or the like. In order to control the color purity, the emission layers corresponding to the respective colors have different names such as a blue hole injection layer, a green hole injection layer and a red hole injection layer in order to form different thicknesses. The blue hole injection layer 4-1, the green hole injection layer 4-2 and the red hole injection layer 4-3 preferably have a thickness ratio of 3: 1: 2, More preferably, the thickness of the injection layer 4-1 is 750 nm, the thickness of the green hole injection layer 4-2 is 250 nm, and the thickness of the red hole injection layer 4-3 is 500 nm.

청색정공주입층(4-1)은 완전 개구(fully-opening) 된 마스크를 사용하는 증착프로세스에 의해 형성되고, 녹색정공주입층(4-2) 및 적색정공주입층(4-3) 은 각각 고정밀도 마스크를 사용하는 증착프로세스에 의해 형성될 수 있다. The blue hole injection layer 4-1 is formed by a deposition process using a mask that is fully-opened, and the green hole injection layer 4-2 and the red hole injection layer 4-3 are formed by a deposition process using a fully- Can be formed by a deposition process using a high-precision mask.

여기서, 녹색정공주입층(4-2) 및 적색정공주입층(4-3)은 각각 고정밀도 마스크를 사용하는 2차의 차폐에 의해 형성 되지만 청색정공주입층(4-1)은 고정밀도 마스크를 사용하여 형성할 필요가 없기에 고정밀도 마스크 사용횟수를 줄일 수 있다. Here, the green hole injection layer 4-2 and the red hole injection layer 4-3 are formed by secondary shielding using a high-precision mask, respectively, while the blue hole injection layer 4-1 is formed by a high- It is possible to reduce the number of times of use of the high-precision mask.

제2 정공주입층 위에 정공수송층(5)이 형성되고 정공수송층(5) 위에 발광층이 형성된다. 상기 발광층은 청색발광층(6-1)과 적녹발광층(6-2)을 포함하며, 상기 적녹발광층(6-2)은 상기 청색발광층(6-1)에 의해 덮여 있다. 여기서, 발광재료는 모두 많이 쓰이는 발광재료이며, 메인 발광재료 및 도핑발광재료를 포함한다. A hole transport layer 5 is formed on the second hole injection layer and a light emitting layer is formed on the hole transport layer 5. [ The light emitting layer includes a blue light emitting layer 6-1 and a red light emitting layer 6-2 and the red light emitting layer 6-2 is covered with the blue light emitting layer 6-1. Here, the light-emitting material is a light-emitting material widely used, and includes a main light-emitting material and a doped light-emitting material.

적녹발광층(6-2)에서는, 도핑비율 조절을 통하여 적절한 비율을 가지는 적색 및 녹색 발광을 실현할뿐더러 제2 정공주입층 중의 서로 다른 두께를 가지는 청색정공주입층(4-1), 녹색정공주입층(4-2) 및 적색정공주입층(4-3)에 대한 마이크로 캐비티 조절을 통하여 풀컬러 발광을 실현한다. 여기서, 적절한 도핑비율이란 메인 발광재료에 1%~12%의 적색인광유기재료 및 3%~12%의 녹색인광유기재료를 도핑하는 것을 가르킨다. 적색인광유기재료는 예를 들면 Ir(piq)3을 사용할 수 있고, 녹색인광유기재료는 예를 들면 Ir(ppy)3을 사용할 수 있다. In the red / green light emitting layer 6-2, red and green light emission having appropriate ratios can be realized by controlling the doping ratio, and a blue hole injection layer 4-1 having different thicknesses in the second hole injection layer, (4-2) and the red hole injection layer (4-3). Here, a proper doping ratio refers to doping the main luminescent material with 1% to 12% of the red phosphorescent organic material and 3% to 12% of the green phosphorescent organic material. For example, Ir (piq) 3 can be used as the red phosphorescent organic material, and Ir (ppy) 3 can be used as the green phosphorescent organic material.

적색발광층 및 녹색발광층에서는 동일한 층에 대하여 적절한 비율을 가지는 적색인광유기재료 및 녹색인광유기재료를 도핑하기에 적색발광층 및 녹색발광층을 각각 별도로 형성할 필요가 없으므로 고정밀도 마스크 사용횟수를 줄일 수 있다. 그리고, 청색발광층(6-1)인 경우, 고정밀도 마스크를 사용하는 차폐에 의해 별도로 형성하는 것이 아니라 적녹발광층(6-2)을 덮게끔 직접 형성하기에 완전 개구된 마스크를 사용하는 것만으로도 완성할 수 있으므로 고정밀도 마스크 사용횟수를 또 1차 줄일 수 있다. It is not necessary to separately form the red light emitting layer and the green light emitting layer in order to dope the red phosphorescent organic material and the green phosphorescent organic material having the appropriate ratios for the same layer in the red light emitting layer and the green light emitting layer. In the case of the blue luminescent layer 6-1, it is not necessary to separately form the luminescent layer 6-1 by shielding using a high-precision mask, but by merely using a completely opened mask for directly forming the red luminescent layer 6-2 The number of high-precision mask use can be reduced by one.

당해 풀컬러 OLED 구조는 상기 발광층위에 형성되는 전자수송층(7), 상기 전자수송층(7) 위에 형성되는 전자주입층(8), 상기 전자주입층(8) 위에 형성되는 반투명 음극(9)을 더 포함한다. 이것들은 모두 OLED에 많이 쓰이는 구조이기에 상세한 설명은 생략하기로 한다. The full-color OLED structure includes an electron transport layer 7 formed on the light emitting layer, an electron injection layer 8 formed on the electron transport layer 7, and a semi-transparent cathode 9 formed on the electron injection layer 8 . All of these are structures that are widely used in OLED, so a detailed description will be omitted.

이하, 상술한 풀컬러 OLED의 제조방법에 관하여 설명하기로 한다. 먼저 유리기판(1)을 준비하고 유리기판(1) 위에 반사 양극(2)을 형성한 후 반사 양극(2) 위에 제1 정공주입층(3)을 형성하는데, 이것들은 당해 기술분야에서 많이 쓰이는 기술이기에 여기서 그 상세한 설명은 하지 않는다. Hereinafter, a method of manufacturing the full-color OLED will be described. First, a glass substrate 1 is prepared, a reflective anode 2 is formed on a glass substrate 1, and then a first hole injection layer 3 is formed on a reflective anode 2, Since it is a technology, its detailed explanation is not given here.

그리고, 제1 정공주입층(3) 위에 청색정공주입층(4-1)을 형성하고 나서, 청색정공주입층(4-1) 위에 스페이서층(미도시)에 의하여 서로 이격되게끔 녹색정공주입층(4-2) 및 적색정공주입층(4-3)을 형성한다. 그 구체적인 방법을 설명하면, 청색정공주입층(4-1)의 두께가 녹색정공주입층(4-2) 및 적색정공주입층(4-3)의 두께의 합이 되게끔 형성할 수 있다. 예를 들면, 상기 청색정공주입층(4-1)의 두께가 750nm, 녹색정공주입층(4-2)의 두께가 250nm, 적색정공주입층(4-3)의 두께가 500nm가 되게끔 형성할 수 있다. 청색정공주입층(4-1)인 경우, 완전 개구된 마스크를 사용하여 청색, 녹색 및 적색의 전영역을 덮도록 형성할 수 있다. 녹색정공주입층(4-2)인 경우, 고정밀도 마스크를 사용하여 녹색 영역 중의 청색정공주입층(4-1) 위에 형성할 수 있다. 적색정공주입층(4-3)인 경우, 고정밀도 마스크를 사용하여 적색 영역 중의 청색정공주입층(4-1) 위에 형성할 수 있다. 설명의 편의를 도모하기 위하여, 도 2에서는 적색정공주입층(4-3)과 청색정공주입층(4-1)을 서로 분리된 구조로 도시하고 있지만 실제로는 일체 형성되어 있다. 이 점은 녹색정공주입층(4-2)과 청색정공주입층(4-1)의 경우도 마찬가지이다. A blue hole injection layer 4-1 is formed on the first hole injection layer 3 and a green hole injection is performed so that the blue hole injection layer 4-1 is spaced apart from the blue hole injection layer 4-1 by a spacer layer A layer 4-2 and a red hole injection layer 4-3 are formed. To explain the specific method, the thickness of the blue hole injection layer 4-1 may be the sum of the thicknesses of the green hole injection layer 4-2 and the red hole injection layer 4-3. For example, the thickness of the blue hole injection layer 4-1 is 750 nm, the thickness of the green hole injection layer 4-2 is 250 nm, and the thickness of the red hole injection layer 4-3 is 500 nm. can do. In the case of the blue hole injection layer 4-1, it can be formed so as to cover the entire area of blue, green and red using a completely opened mask. In the case of the green hole injection layer 4-2, it can be formed on the blue hole injection layer 4-1 in the green region using a high-precision mask. In the case of the red hole injection layer (4-3), it can be formed on the blue hole injection layer (4-1) in the red region using a high-precision mask. 2, the red hole injection layer 4-3 and the blue hole injection layer 4-1 are shown as being separated from each other, but they are actually formed integrally. This also applies to the case of the green hole injection layer 4-2 and the blue hole injection layer 4-1.

그리고, 스페이서층을 이용하여 녹색정공주입층(4-2)과 적색정공주입층(4-3)을 이격시킨다. 그 후, 청색정공주입층(4-1), 녹색정공주입층(4-2) 및 적색정공주입층(4-3) 위에 정공수송층(5)을 형성하고, 정공수송층(5) 위에 적절한 도핑비율로 도핑된 적녹발광층(6-2)을 형성하지만, 여기서는 고정밀도 마스크를 사용하여 적녹발광층(6-2)을 규정하는 것을 통하여 도 2에 도시된 구조를 형성할 필요가 있다. 그 다음 적녹발광층(6-2) 위에 청색발광층(6-1)을 형성한다. Then, the green hole injection layer 4-2 and the red hole injection layer 4-3 are separated from each other by using a spacer layer. Thereafter, a hole transport layer 5 is formed on the blue hole injection layer 4-1, the green hole injection layer 4-2 and the red hole injection layer 4-3, , But the structure shown in Fig. 2 needs to be formed by defining the red / green light emitting layer 6-2 using a high-precision mask. Then, the blue light emitting layer 6-1 is formed on the red light emitting layer 6-2.

청색발광층(6-1) 위에 전자수송층(7)을 형성하고 전자수송층(7) 위에 전자주입층(8)을 형성하고 나서 전자주입층(8) 위에 반투명 음극(9)을 형성한다. The electron transport layer 7 is formed on the blue light emitting layer 6-1 and the electron injection layer 8 is formed on the electron transport layer 7 and then the translucent cathode 9 is formed on the electron injection layer 8. [

본 실시예에 따르는 풀컬러 OLED 구조 및 그 제조방법에서는, 고정밀도 마스크를 사용하는 2차의 차폐에 의해 두께가 서로 다른 정공주입층을 형성하고 고정밀도 마스크를 사용하는 1차의 차폐에 의해 적녹발광층을 형성하고 나서 마이크로 캐비티 조절을 통하여 풀컬러 발광을 실현할 뿐더러, 고정밀도 마스크를 사용하는 차폐 횟수를 종래기술의 6차에서 3차까지 줄일 수 있기에 코스트를 절감시킬 수 있을 뿐더러 혼색 발생확률 및 제품 불량률을 낮출 수 있고 좋은 효과의 풀컬러 발광을 실현할 수 있다.
In the full-color OLED structure and the manufacturing method thereof according to the present embodiment, a hole injection layer having a different thickness is formed by a secondary shielding using a high-precision mask, and a first-order shielding using a high- The number of times of shielding using a high-precision mask can be reduced from the sixth to the third order of the prior art, so that the cost can be reduced, The defective rate can be lowered and a full-color light emission of a good effect can be realized.

[제2 실시예][Second Embodiment]

본 실시예에서는, 도 3에서 모식적으로 보여주는 풀컬러 OLED 구조 및 그 제조방법을 제공한다. 당해 풀컬러 OLED 구조는, 유리기판(1), 유리기판(1) 위에 형성되는 반사 양극(2), 반사 양극(2) 위에 형성되는 제1 정공주입층(3), 제1 정공주입층(3) 위에 형성되는 제2 정공주입층을 포함한다. 여기서, 상기 제2 정공주입층은 마이크로 캐비티 조절층에 해당한다. 제2 정공주입층은 청색정공주입층(4-1), 청색정공주입층(4-1) 위에 형성되는 녹색정공주입층(4-2) 및 적색정공주입층(4-3)을 포함한다. 녹색정공주입층(4-2)과 적색정공주입층(4-3)은 스페이서층(미도시)에 의하여 서로 이격되게끔 형성된다. In this embodiment, a full-color OLED structure schematically shown in FIG. 3 and a manufacturing method thereof are provided. The full-color OLED structure includes a glass substrate 1, a reflective anode 2 formed on the glass substrate 1, a first hole injection layer 3 formed on the reflective anode 2, a first hole injection layer And a second hole injection layer formed on the second hole injection layer. Here, the second hole injection layer corresponds to the micro cavity control layer. The second hole injection layer includes a blue hole injection layer 4-1, a green hole injection layer 4-2 and a red hole injection layer 4-3 formed on the blue hole injection layer 4-1 . The green hole injection layer 4-2 and the red hole injection layer 4-3 are formed to be spaced apart from each other by a spacer layer (not shown).

청색정공주입층(4-1), 녹색정공주입층(4-2) 및 적색정공주입층(4-3)은 동일한 재료에 의해 형성된다. 예를 들면, P형 도핑된 동프탈로시아닌(CuPc), 2-TNATA등과 같이 많이 쓰이는 P형 유기재료에 형성될 수 있다. 색순도를 조절하기 위하여 각 색상에 대응하는 발광층을 그 두께가 서로 다르게 형성하기에 청색정공주입층, 녹색정공주입층 및 적색정공주입층과 같이 서로 다른 호칭을 하게 되었다. 청색정공주입층(4-1), 녹색정공주입층(4-2) 및 적색정공주입층(4-3)은 그 두께가 3:1:2의 비례관계를 만족하는 것이 바람직하고, 청색정공주입층(4-1)의 두께가 750nm, 녹색정공주입층(4-2)의 두께가 250nm, 적색정공주입층(4-3)의 두께가 500nm가 되게끔 형성하는 것이 더욱 바람직하다. The blue hole injection layer 4-1, the green hole injection layer 4-2, and the red hole injection layer 4-3 are formed of the same material. For example, a P-type organic material commonly used as P-type doped copper phthalocyanine (CuPc), 2-TNATA, and the like. In order to control the color purity, the emission layers corresponding to the respective colors have different names such as the blue hole injection layer, the green hole injection layer and the red hole injection layer in order to form different thicknesses. The blue hole injection layer 4-1, the green hole injection layer 4-2 and the red hole injection layer 4-3 preferably have a thickness ratio of 3: 1: 2, More preferably, the thickness of the injection layer 4-1 is 750 nm, the thickness of the green hole injection layer 4-2 is 250 nm, and the thickness of the red hole injection layer 4-3 is 500 nm.

청색정공주입층(4-1)은 완전 개구(fully-opening) 된 마스크를 사용하는 증착프로세스에 의해 형성되고, 녹색정공주입층(4-2) 및 적색정공주입층(4-3)은 각각 고정밀도 마스크를 사용하는 증착프로세스에 의해 형성될 수 있다. The blue hole injection layer 4-1 is formed by a deposition process using a mask that is fully-opened, and the green hole injection layer 4-2 and the red hole injection layer 4-3 are formed by a deposition process using a fully- Can be formed by a deposition process using a high-precision mask.

여기서, 녹색정공주입층(4-2) 및 적색정공주입층(4-3)은 각각 고정밀도 마스크를 사용하는 2차의 차폐에 의해 형성되지만 청색정공주입층(4-1)은 고정밀도 마스크를 사용하여 형성할 필요가 없기에 고정밀도 마스크 사용횟수를 줄일 수 있다. Here, the green hole injection layer 4-2 and the red hole injection layer 4-3 are formed by secondary shielding using a high-precision mask, respectively, while the blue hole injection layer 4-1 is formed by a high- It is possible to reduce the number of times of use of the high-precision mask.

제2 정공주입층위에 정공수송층(5)이 형성되고 정공수송층(5) 위에 발광층이 형성된다. 상기 발광층은 청색발광층(6-1), 적색발광층(6-2-2) 그리고 적색발광층(6-2-2)위에 형성된 녹색발광층(6-2-1)을 포함한다. 녹색발광층(6-2-1) 및 적색발광층(6-2-2)은 상기 청색발광층(6-1)에 의해 덮여 있다. 여기서, 발광재료는 모두 많이 쓰이는 발광재료이며, 메인 발광재료 및 도핑발광재료를 포함한다. A hole transport layer 5 is formed on the second hole injection layer and a light emitting layer is formed on the hole transport layer 5. [ The light emitting layer includes a blue light emitting layer 6-1, a red light emitting layer 6-2-2, and a green light emitting layer 6-2-1 formed on the red light emitting layer 6-2-2. The green light emitting layer 6-2-1 and the red light emitting layer 6-2-2 are covered with the blue light emitting layer 6-1. Here, the light-emitting material is a light-emitting material widely used, and includes a main light-emitting material and a doped light-emitting material.

상기 구조는 제1 실시예에 대해 이하의 구별점을 구비한다. 적색발광층과 녹색발광층이 서로 혼합되지 않고, 면적이 동일하지만 두께가 다른 적색발광층과 녹색발광층 2층을 형성하고 적색발광층 및 녹색발광층의 두께 조절을 통하여 적절한 적색 및 녹색 발광을 실현할 뿐더러 제2 정공주입층 중의 서로 다른 두께를 가지는 청색정공주입층(4-1), 녹색정공주입층(4-2) 및 적색정공주입층(4-3)에 대한 마이크로 캐비티 조절을 통하여 풀컬러 발광을 실현한다. 여기서, 적색발광층 및 녹색발광층은 그 두께가 2:1의 비례관계를 만족하게끔 형성되는 것이 바람직하고, 녹색발광층의 두께가 2.5~10nm, 상기 적색발광층의 두께가 5~10nm가 되게끔 형성되는 것이 더욱 바람직하다. The above structure has the following distinction with respect to the first embodiment. The red light emitting layer and the green light emitting layer are not mixed with each other and the red light emitting layer and the green light emitting layer having different thicknesses are formed and the thickness of the red light emitting layer and the green light emitting layer is adjusted. Full-color light emission is achieved through micro-cavity control of the blue hole injection layer 4-1, the green hole injection layer 4-2, and the red hole injection layer 4-3 having different thicknesses in the layer. Here, it is preferable that the red light emitting layer and the green light emitting layer are formed so as to satisfy a proportional relationship of 2: 1, and the thickness of the green light emitting layer is set to 2.5 to 10 nm and the thickness of the red light emitting layer is set to 5 to 10 nm More preferable.

적색발광층 및 녹색발광층인 경우, 면적이 동일하지만 두께가 다른 2층이기에 마스크를1차만 사용하여 메인 발광재료에 색상이 다른 인광재료를 도핑하는 것을 통하여 형성할 수 있으므로 마스크 사용횟수를 줄일 수 있다. 또한, 청색발광층(6-1)인 경우, 고정밀도 마스크를 사용하는 차폐에 의해 형성되는 것이 아니고 녹색발광층(6-2-1) 및 적색발광층(6-2-2)을 덮게끔 직접 형성되기에 고정밀도 마스크 사용횟수를 또 1차 줄일 수 있다. In the case of the red light emitting layer and the green light emitting layer, since the two layers having the same area but different thickness can be formed by using only the first mask, the main light emitting material can be formed by doping phosphorescent materials having different hues. In the case of the blue luminescent layer 6-1, it is not formed by shielding using a high-precision mask but directly formed to cover the green luminescent layer 6-2-1 and the red luminescent layer 6-2-2 The number of times of using the high-precision mask can be reduced by one more.

당해 풀컬러 OLED 구조는 상기 발광층위에 형성되는 전자수송층(7), 상기 전자수송층(7) 위에 형성되는 전자주입층(8), 상기 전자주입층(8) 위에 형성되는 반투명 음극(9)을 더 포함한다. 이것들은 모두 OLED에 많이 쓰이는 구조이기에 상세한 설명은 생략한다. The full-color OLED structure includes an electron transport layer 7 formed on the light emitting layer, an electron injection layer 8 formed on the electron transport layer 7, and a semi-transparent cathode 9 formed on the electron injection layer 8 . These are all structures that are widely used in OLED, so detailed description is omitted.

이하, 상술한 풀컬러 OLED의 제조방법에 관하여 설명하기로 한다. 먼저 유리기판(1)을 준비하고 유리기판(1) 위에 반사 양극(2)을 형성한 후 반사 양극(2) 위에 제1 정공주입층을 형성하지는데, 이것들은 당해 기술분야에 많이 쓰이는 기술이기에 여기서 그 상세한 설명은 하지 않는다. Hereinafter, a method of manufacturing the full-color OLED will be described. First, a glass substrate 1 is prepared, a reflective anode 2 is formed on a glass substrate 1, and then a first hole injection layer is formed on the reflective anode 2. These techniques are widely used in the related art The detailed description thereof is omitted here.

그리고, 제1 정공주입층(3) 위에 청색정공주입층(4-1)을 형성하고 나서, 청색정공주입층(4-1) 위에 스페이서층(미도시)에 의하여 서로 이격되게끔 녹색정공주입층(4-2) 및 적색정공주입층(4-3)을 형성한다. 그 구체적인 방법을 설명하면, 청색정공주입층(4-1)의 두께가 녹색정공주입층(4-2) 및 적색정공주입층(4-3)의 두께의 합이 되게끔 형성할 수 있다. 예를 들면, 상기 청색정공주입층(4-1)의 두께가 750nm, 녹색정공주입층(4-2)의 두께가 250nm, 적색정공주입층(4-3)의 두께가 500nm가 되게끔 형성할 수 있다. 청색정공주입층(4-1)인 경우, 완전 개구된 마스크를 사용하여 청색, 녹색 및 적색의 전영역을 덮게끔 형성할 수 있다. 녹색정공주입층(4-2)인 경우, 고정밀도 마스크를 사용하여 녹색 영역 중의 청색정공주입층(4-1) 위에 형성할 수 있다. 적색정공주입층(4-3)인 경우, 고정밀도 마스크를 사용하여 적색 영역 중의 청색정공주입층(4-1) 위에 형성할 수 있다. 이로서 750nm의 두께를 가지는 청색정공주입층(4-1), 250nm의 두께를 가지는 녹색정공주입층(4-2) 및 500nm의 두께를 가지는 적색정공주입층(4-3)을 형성할 수 있다. 설명의 편의를 도모하기 위하여, 도 3에서는 적색정공주입층(4-3)과 청색정공주입층(4-1)을 서로 분리된 구조로 도시하고 있지만 실제로는 일체 형성되어 있다. 이 점은 녹색정공주입층(4-2)과 청색정공주입층(4-1)의 경우도 마찬가지이다. A blue hole injection layer 4-1 is formed on the first hole injection layer 3 and a green hole injection is performed so that the blue hole injection layer 4-1 is spaced apart from the blue hole injection layer 4-1 by a spacer layer A layer 4-2 and a red hole injection layer 4-3 are formed. To explain the specific method, the thickness of the blue hole injection layer 4-1 may be the sum of the thicknesses of the green hole injection layer 4-2 and the red hole injection layer 4-3. For example, the thickness of the blue hole injection layer 4-1 is 750 nm, the thickness of the green hole injection layer 4-2 is 250 nm, and the thickness of the red hole injection layer 4-3 is 500 nm. can do. In the case of the blue hole injection layer 4-1, it can be formed so as to cover the entire area of blue, green, and red using a completely opened mask. In the case of the green hole injection layer 4-2, it can be formed on the blue hole injection layer 4-1 in the green region using a high-precision mask. In the case of the red hole injection layer (4-3), it can be formed on the blue hole injection layer (4-1) in the red region using a high-precision mask. As a result, a blue hole injection layer 4-1 having a thickness of 750 nm, a green hole injection layer 4-2 having a thickness of 250 nm, and a red hole injection layer 4-3 having a thickness of 500 nm can be formed . Although the red hole injection layer 4-3 and the blue hole injection layer 4-1 are shown as separate structures in FIG. 3 for convenience of explanation, they are actually formed integrally. This also applies to the case of the green hole injection layer 4-2 and the blue hole injection layer 4-1.

그리고, 스페이서층을 이용하여 녹색정공주입층(4-2)과 적색정공주입층(4-3)을 이격시킨다. 그 후, 청색정공주입층(4-1), 녹색정공주입층(4-2) 및 적색정공주입층(4-3) 위에 정공수송층(5)을 형성하고, 정공수송층(5) 위에 정공수송층(5) 전부를 덮게끔 적색발광층(6-2-2) 및 녹색발광층(6-2-1)을 형성한 후 고정밀도 마스크를 사용하는 차폐에 의해 도 3에 도시된 구조를 형성하고 나서 녹색발광층(6-2-1) 및 적색발광층(6-2-2)위에 청색발광층(6-1)을 형성한다. Then, the green hole injection layer 4-2 and the red hole injection layer 4-3 are separated from each other by using a spacer layer. Thereafter, a hole transport layer 5 is formed on the blue hole injection layer 4-1, the green hole injection layer 4-2 and the red hole injection layer 4-3, and a hole transport layer 5 is formed on the hole transport layer 5. [ A green light emitting layer 6-2-1 is formed so as to cover the whole of the green light emitting layer 5 and then the structure shown in FIG. 3 is formed by shielding using a high-precision mask, A blue light emitting layer 6-1 is formed on the light emitting layer 6-2-1 and the red light emitting layer 6-2-2.

청색발광층(6-1) 위에 전자수송층(7)을 형성하고 전자수송층(7) 위에 전자주입층(8)을 형성하고 나서 전자주입층(8) 위에 반투명 음극(9)을 형성한다. 이것들은 당해 기술분야에 많이 쓰이는 기술이기에, 여기서 상세한 설명은 하지 않는다. The electron transport layer 7 is formed on the blue light emitting layer 6-1 and the electron injection layer 8 is formed on the electron transport layer 7 and then the translucent cathode 9 is formed on the electron injection layer 8. [ Since these are techniques used in the related art, they are not described in detail here.

본 실시예에 따르는 풀컬러 OLED 구조 및 그 제조방법에서는, 고정밀도 마스크를 사용하는 2차의 차폐에 의해 두께가 서로 다른 정공주입층을 형성하고 고정밀도 마스크를 사용하는 1차의 차폐에 의해 두께가 서로 다른 녹색발광층 및 적색발광층을 형성하고 나서, 두께가 서로 다른 정공주입층 및 두께가 서로 다른 발광층에 대한 마이크로 캐비티 조절을 통하여 풀컬러 발광을 실현할 뿐더러, 고정밀도 마스크를 사용하는 차폐의 횟수를 종래기술의 6차부터 3차까지 줄일 수 있기에 코스트를 절감시킬 수 있을 뿐더러 혼색 발생확률 및 제품 불량률을 낮출 수 있고 좋은 효과의 풀컬러 발광을 실현할 수 있다. In the full-color OLED structure and its manufacturing method according to the present embodiment, a hole injection layer having a different thickness is formed by a secondary shielding using a high-precision mask, and a first-order shielding using a high- Color light emission can be realized by controlling the micro cavities of the hole injection layer and the light emission layer having different thicknesses and the light emission layers having different thicknesses and the number of times of shielding using a high precision mask It is possible to reduce the cost from the sixth to the third of the prior art, thereby reducing the cost, lowering the color mixing probability and the product defect rate, and realizing full-color light emission of good effect.

이상은 본 발명의 구체적인 실시예 및 그 기술적 원리라는 점 주의하여야 할 것이다. 본 발명은 상기의 특정된 실시예에 한정되는 것이 아니고, 본 발명의 보호범위를 이탈하지 않는 이상 여러가지 변경, 조절 및 교체 등이 가능하다는 것은 당업자에게 있어서 당연한 것이다. 때문에, 상기의 실시예를 이용하여 본 발명에 대해 구체적으로 설명하였지만, 본 발명은, 상기의 실시예에 한정되지 않으며, 본 발명의 취지를 이탈하지 않는 범위내에서 상기의 실시예에 균등한 기타 실시예를 더 포함할 수 있기에 본 발명의 범위는 첨부된 특허청구의 범위에 의해 규정되어야 할 것이다.It should be noted that the foregoing is a specific embodiment of the present invention and its technical principles. It will be apparent to those skilled in the art that various changes, modifications, and alterations may be made therein without departing from the scope of the invention as defined by the appended claims. Although the present invention has been described in detail with reference to the above embodiments, it is to be understood that the present invention is not limited to the above-described embodiments, but may be modified and changed without departing from the scope of the present invention. And the scope of the present invention should be defined by the appended claims.

1', 1 유리기판
2', 2 반사 양극
3', 3 제1 정공주입층
4-1', 4-1 청색정공주입층
4-2', 4-2 녹색정공주입층
4-3', 4-3 적색정공주입층
5', 5 정공수송층
6-1', 6-1 청색발광층
6-2 적녹발광층
6-2', 6-2-1 녹색발광층
6-3', 6-2-2 적색발광층
7', 7 전자수송층
8', 8 전자주입층
9', 9 반투명 음극
1 ', 1 glass substrate
2 ', 2 reflection anode
3 ', 3 First hole injection layer
4-1 ', 4-1 blue hole injection layer
4-2 ', 4-2 green hole injection layer
4-3 ', 4-3 red hole injection layer
5 ', 5 hole transport layer
6-1 ', 6-1 blue light emitting layer
6-2 Red light emitting layer
6-2 ', 6-2-1 green luminescent layer
6-3 ', 6-2-2 red light emitting layer
7 ', 7 Electron transport layer
8 ', 8 electron injection layer
9 ', 9 translucent cathode

Claims (7)

유리기판,
상기 유리기판위에 형성되는 반사 양극,
상기 반사 양극위에 형성되는 마이크로 캐비티 조절층,
상기 마이크로 캐비티 조절층위에 형성되는 정공수송층, 및
상기 정공수송층위에 형성되는 적녹발광층과 상기 정공수송층위에 형성되는 청색발광층을 구비하는 발광층을 포함하는 풀컬러 유기발광다이오드 구조에 있어서,
상기 청색발광층은 그 일부분이 상기 적녹발광층을 덮게끔 형성되는 것을 특징으로 하는 풀컬러 유기발광다이오드 구조.
Glass substrate,
A reflective anode formed on the glass substrate,
A micro-cavity control layer formed on the reflective anode,
A hole transporting layer formed on the micro-cavity adjusting layer, and
A light emitting layer including a red light emitting layer formed on the hole transporting layer and a blue light emitting layer formed on the hole transporting layer,
Wherein the blue light emitting layer is formed so that a part of the blue light emitting layer covers the red light emitting layer.
제 1 항에 있어서
상기 적녹발광층은 단층 구조이고, 동시에 증착되는 녹색 및 적색발광재료를 포함하며,
동시에 증착되는 녹색 및 적색발광재료는 메인 발광재료에 1~12%의 적색인광재료 및 3~12%의 녹색인광재료가 도핑되어 이루어지는 것을 특징으로 하는 풀컬러 유기발광다이오드 구조.
The method of claim 1, wherein
The red light emitting layer has a single layer structure and includes green and red light emitting materials which are deposited at the same time,
Wherein the green and red light emitting materials deposited at the same time are formed by doping the main light emitting material with 1 to 12% of red phosphorescent material and 3 to 12% of green phosphorescent material.
제 1 항에 있어서
상기 적녹발광층은 2층 구조이고, 증착되는 적색발광재료층과 상기 적색발광재료층 위에 증착되는 녹색발광재료층을 포함하며,
상기 적색발광재료층의 두께는 상기 녹색발광재료층의 2배 인 것을 특징으로 하는 풀컬러 유기발광다이오드 구조.
The method of claim 1, wherein
Wherein the red light emitting layer has a two-layer structure and includes a red light emitting material layer deposited and a green light emitting material layer deposited on the red light emitting material layer,
Wherein the thickness of the red light emitting material layer is twice the thickness of the green light emitting material layer.
제 3 항에 있어서
상기 녹색발광재료층의 두께는 2.5~10nm이고,
상기 적색발광재료층의 두께는 5~10nm인 것을 특징으로 하는 풀컬러 유기발광다이오드 구조.
The method of claim 3, wherein
The thickness of the green light emitting material layer is 2.5 to 10 nm,
Wherein the thickness of the red light emitting material layer is 5 to 10 nm.
제 1 항 내지 제 4 항 중의 어느 한 항에 있어서
상기 마이크로 캐비티 조절층은
제1 정공주입층,
상기 제1 정공주입층 위에 형성되는 제2 정공주입층을 포함하고,
상기 제2 정공주입층은
상기 제1 정공주입층 위에 형성되는 청색정공주입층,
상기 청색정공주입층 위에 형성되며 서로 소정의 거리만큼 이격되어 있는 적색정공주입층 및 녹색정공주입층을 포함하고,
상기 청색정공주입층의 두께, 적색정공주입층의 두께 및 녹색정공주입층의 두께는 소정의 비례관계를 만족하는 것을 특징으로 하는 풀컬러 유기발광다이오드 구조.
5. A method according to any one of claims 1 to 4
The micro-
A first hole injection layer,
And a second hole injection layer formed on the first hole injection layer,
The second hole injection layer
A blue hole injection layer formed on the first hole injection layer,
A red hole injection layer and a green hole injection layer formed on the blue hole injection layer and spaced apart from each other by a predetermined distance,
Wherein the thickness of the blue hole injection layer, the thickness of the red hole injection layer, and the thickness of the green hole injection layer satisfy a predetermined proportionality relationship.
제 5 항에 있어서
상기 청색정공주입층의 두께, 적색정공주입층의 두께 및 녹색정공주입층의 두께는 3:2:1의 비례관계를 만족하는 것을 특징으로 하는 풀컬러 유기발광다이오드 구조.
The method of claim 5, wherein
Wherein the thickness of the blue hole injection layer, the thickness of the red hole injection layer, and the thickness of the green hole injection layer satisfy a proportional relationship of 3: 2: 1.
제 6 항에 있어서
상기 청색정공주입층의 두께는 750nm이고,
적색정공주입층의 두께는 500nm이고,
상기 녹색정공주입층의 두께는 250nm인 것을 특징으로 하는 풀컬러 유기발광다이오드 구조.
The method of claim 6, wherein
The thickness of the blue hole injection layer was 750 nm,
The thickness of the red hole injection layer was 500 nm,
Wherein the thickness of the green hole injection layer is 250 nm.
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