KR20150062528A - Touch panel and method for manufacturing the same - Google Patents

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Abstract

The present invention relates to a touch panel suitable for a large-sized display device and a method for producing the same, wherein resistance of a touch panel sensor electrode is reduced. The touch panel comprises: a first sensor electrode pattern unit made of a transparent conductive layer in a first direction in an active region of a substrate, and sensing a change in capacitance in the first direction; a second electrode pattern unit made of a transparent conductive layer in a second direction to cross the first sensor electrode pattern unit in an active region of the substrate, and sensing a change in capacitance in the second direction; a pad unit formed on an outer edge region of the substrate; first and second routing lines formed in an outer edge region of the substrate, and connecting the first and second sensor electrode pattern units with the pad unit; and a fine metal line formed in an upper or lower edge of the first sensor electrode pattern unit and electrically connected with the first routing line.

Description

터치 패널 및 그의 제조 방법{Touch panel and method for manufacturing the same}[0001] The present invention relates to a touch panel and a manufacturing method thereof,

본 발명은 터치 패널에 관한 것으로 특히, 터치 패널 센서 전극의 저항을 감소시켜 대형 사이즈의 표시 장치에 적합한 터치 패널 및 그의 제조 방법에 관한 것이다.The present invention relates to a touch panel, and more particularly, to a touch panel suitable for a large-sized display device by reducing the resistance of the touch panel sensor electrode and a method of manufacturing the touch panel.

최근, 본격적인 정보화 시대로 접어듦에 따라 전기적 정보신호를 시각적으로 표현하는 디스플레이(display) 분야가 급속도로 발전해 왔고, 이에 부응하여 박형화, 경량화, 저소비전력화의 우수한 성능을 지닌 여러 가지 다양한 평판 표시장치(Flat Display Device)가 개발되어 기존의 브라운관(Cathode Ray Tube : CRT)을 빠르게 대체하고 있다.In recent years, as the information age has come to a full-fledged information age, a display field for visually representing electrical information signals has been rapidly developed. In response to this, various flat panel display devices having excellent performance of thinning, lightweighting, Flat Display Device) has been developed to replace CRT (Cathode Ray Tube).

이 같은 평판 표시장치의 구체적인 예로는 액정표시장치(Liquid Crystal Display device: LCD), 플라즈마 표시장치(Plasma Display Panel device: PDP), 전계방출 표시장치(Field Emission Display device: FED), 전기발광 표시장치(Electro luminescence Display Device: ELD) 등을 들 수 있는데, 이들은 공통적으로 화상을 구현하는 평판 표시패널을 필수적인 구성요소로 하는 바, 평판 표시패널은 고유의 발광 또는 편광물질층을 사이에 두고 한 쌍의 투명 절연기판을 대면 합착시킨 구성을 갖는다.Specific examples of such flat panel display devices include a liquid crystal display device (LCD), a plasma display panel (PDP), a field emission display (FED) (Electro Luminescence Display Device: ELD). In general, a flat panel display panel that realizes an image is an essential component. The flat panel display panel has a pair of light emitting or polarizing material layers interposed therebetween And a transparent insulating substrate facing each other.

여기서, 액정 표시 장치는 전계를 이용하여 액정의 광 투과율을 조절함으로써 화상을 표시하게 된다. 이를 위하여, 액정 표시 장치는 액정 셀을 가지는 액정 패널과, 액정 패널에 광을 조사하는 백라이트 유닛과, 백라이트 유닛과 액정 셀을 구동하기 위한 구동 회로부를 포함한다. Here, the liquid crystal display device displays an image by adjusting the light transmittance of the liquid crystal using an electric field. To this end, the liquid crystal display device includes a liquid crystal panel having a liquid crystal cell, a backlight unit for emitting light to the liquid crystal panel, and a driving circuit for driving the backlight unit and the liquid crystal cell.

이러한, 액정 패널 상에 포인터(사용자의 손가락)를 통해 표면을 가압하면 그 위치에 대응하는 정보를 입력시키는 터치 패널을 탑재하여 입력 장치로 이용하는 표시 장치에 대한 수요가 급증하고 있다. When a surface of a liquid crystal panel is pressed by a pointer (user's finger), a demand for a display device using a touch panel for inputting information corresponding to the position is increasing.

터치 패널은 터치 감지 방식에 따라 저항 방식, 정전 용량 방식, 적외선 감지 방식 등으로 나누며, 제조 방법의 편이성 및 센싱력 등을 감안하여 최근 정전 용량 방식이 주목을 받고 있다. The touch panel is divided into a resistance method, a capacitance method, and an infrared sensing method according to a touch sensing method. Recently, a capacitance method is attracting attention in consideration of convenience of manufacturing method and sensing power.

이러한, 터치 패널은 정전 용량 방식으로 감지하는 전극이 형성된 센서 글래스와, 센서 글래스와 마주보도록 형성된 커버 글래스를 포함한다. 여기서, 센서 글래스에는 X축 방향의 정전용량을 감지하는 제1 센서 전극들과, Y축 방향의 정전용량을 감지하는 제2 센서 전극들과, 제1 센서 전극들로 신호를 공급하는 제1 라우팅 라인과 제2 센서 전극들로 신호를 공급하는 제2 라우팅 라인을 포함하는 라우팅부와, 제1 및 제2 라우팅 라인으로 신호를 공급하는 패드부를 포함한다. The touch panel includes a sensor glass formed with electrodes for sensing in a capacitive manner, and a cover glass formed to face the sensor glass. Here, the sensor glass includes first sensor electrodes for sensing capacitance in the X-axis direction, second sensor electrodes for sensing capacitance in the Y-axis direction, first routing electrodes for supplying signals to the first sensor electrodes, And a second routing line for supplying a signal to the first sensor electrode and the second sensor electrode, and a pad portion for supplying a signal to the first and second routing lines.

상기 제1 및 제2 센서 전극들은 액정 표시 장치의 표시 영역에 형성되므로, ITO(Indium Tin Oxide) 등 투명 도전층으로 형성된다.Since the first and second sensor electrodes are formed in the display region of the liquid crystal display device, they are formed of a transparent conductive layer such as ITO (Indium Tin Oxide).

종래의 터치 패널을 첨부된 도면을 참조하여 설명하면 다음과 같다.A conventional touch panel will now be described with reference to the accompanying drawings.

도 1은 종래의 터치 패널의 평면도이고, 도 2는 도 1에 도시된 종래의 터치 패널의 단면도이다. FIG. 1 is a plan view of a conventional touch panel, and FIG. 2 is a cross-sectional view of a conventional touch panel shown in FIG.

종래의 터치 패널은 위치 감지 전극으로서 기능을 하는 제1 및 제2 센서 전극 패턴부(156,166)가 형성된 센서 기판(101)과, 센서 기판(101)과 대향하도록 형성된 커버 기판(도면에는 도시되지 않음)을 포함한다.The conventional touch panel includes a sensor substrate 101 on which first and second sensor electrode pattern units 156 and 166 functioning as position sensing electrodes are formed and a cover substrate formed to face the sensor substrate 101 ).

상기 센서 기판(101)은 크게 터치 구동 및 감지가 이루어지는 액티브 영역과 상기 액티브 영역 주위의 외곽 영역으로 구분된다. 도 1 및 도 2에 도시한 바와 같이, 상기 센서 기판(101)은 상기 액티브 영역에 제1 센서 전극 패턴부(166) 및 제2 센서 전극 패턴부(156)를 구비하고, 상기 외곽 영역에 라우팅부(158) 및 패드부(172)를 구비한다. The sensor substrate 101 is largely divided into an active area where touch operation and sensing are performed and an outer area around the active area. 1 and 2, the sensor substrate 101 includes a first sensor electrode pattern portion 166 and a second sensor electrode pattern portion 156 in the active region, A portion 158 and a pad portion 172 are provided.

상기 제1 센서 전극 패턴부(166)는 제1 방향으로 나란하게 복수개가 형성되어 제1 방향의 정전용량의 변화를 감지한다. 여기서, 제1 방향은 예로 들어 Y축 방향일 수 있으며, 송신 전극(Tx)일 수 있다. 제1 센서 전극 패턴부(166)는 마름모 형태 또는 다이아몬드 형태의 제1 센서 전극들(160,164)과, 상기 제1 센서 전극들(160,164)과 동일층에 동일 재질로 제1 방향으로 형성되어 서로 인접한 제1 센서 전극들(160,164)을 연결해주는 연결부(162)를 포함한다. A plurality of the first sensor electrode pattern units 166 are formed in parallel in the first direction to sense a change in capacitance in the first direction. Here, the first direction may be a Y-axis direction, for example, and may be a transmission electrode Tx. The first sensor electrode pattern portion 166 is formed in a rhomboid or diamond-shaped first sensor electrodes 160 and 164 and in the same layer as the first sensor electrodes 160 and 164 in the first direction, And a connection unit 162 for connecting the first sensor electrodes 160 and 164.

상기 제1 센서 전극들(160,164)은 제1 라우팅 라인(168)과 전기적으로 접속되어 신호를 공급받는다. 이에 따라, 제1 패드 전극들(169)을 통해 공급된 신호는 제1 라우팅 라인(168)과 접속된 제1 센서 전극들(160,164)로 공급되며, 인접한 제1 센서 전극들(160,164)은 연결부(162)를 통해 신호가 공급된다. The first sensor electrodes 160 and 164 are electrically connected to the first routing line 168 to receive signals. Accordingly, the signal supplied through the first pad electrodes 169 is supplied to the first sensor electrodes 160 and 164 connected to the first routing line 168, and the adjacent first sensor electrodes 160 and 164 are connected to the first sensor electrodes 160 and 164, A signal is supplied through the signal line 162.

이러한, 연결부(162)와 제1 센서 전극들(160,164)은 기판(101) 상에 투명 전극으로 형성되며, 투명 전극 재질로는 ITO(Indium Tin Oxide), IZO(Indium Zinc Oxide), ITZO(Indium Tin Zinc Oxide), ATO(Antimony Tin Oxide) 등의 물질로 형성할 수 있다.The connection part 162 and the first sensor electrodes 160 and 164 are formed as a transparent electrode on the substrate 101. Examples of the transparent electrode material include indium tin oxide (ITO), indium zinc oxide (IZO), indium zinc oxide Tin Zinc Oxide), and ATO (Antimony Tin Oxide).

상기 제2 센서 전극 패턴부(156)는 제1 센서 전극 패턴부(166)와 교차하도록 제2 방향으로 나란하게 복수개가 형성되어 제2 방향의 정전용량의 변화를 감지한다. 여기서, 제2 방향은 예로 들어 X축 방향일 수 있으며, 수신 전극(x)일 수 있다. 상기 제2 센서 전극 패턴부(156)는 마름모 형태 또는 다이아몬드 형태의 제2 센서 전극들(150,154)과, 인접한 제2 센서 전극들(150,154)을 연결시키는 브릿지들(152)을 포함한다. 상기 브릿지들(152)은 컨택홀(150a,154a)을 통해 노출된 인접한 제2 센서 전극들(150,154)을 연결시킨다. 상기 제2 센서 전극들(150,154)은 제2 라우팅 라인(158)과 전기적으로 접속되어 신호를 출력한다. 이에 따라, 제2 센서 전극들(150,154)에 의해 수신된 신호는 제2 라우팅 라인(158)을 통해 제2 패드 전극들(159)로 출력된다.A plurality of second sensor electrode pattern units 156 are formed in parallel in the second direction so as to intersect with the first sensor electrode pattern units 166 to sense a change in capacitance in the second direction. Here, the second direction may be, for example, the X-axis direction, and may be the receiving electrode (x). The second sensor electrode pattern part 156 includes diamond-shaped second sensor electrodes 150 and 154 and bridges 152 connecting adjacent second sensor electrodes 150 and 154. The bridges 152 connect the adjacent second sensor electrodes 150 and 154 exposed through the contact holes 150a and 154a. The second sensor electrodes 150 and 154 are electrically connected to the second routing line 158 to output a signal. Accordingly, the signal received by the second sensor electrodes 150 and 154 is output to the second pad electrodes 159 through the second routing line 158.

이러한, 제2 센서 전극들(150,154)은 기판(101) 상에 투명 전극으로 형성되며, 브릿지들(152)은 제1 절연층(180) 상에 투명 전극으로 형성되며, 투명 전극 재질로는 ITO(Indium Tin Oxide), IZO(Indium Zinc Oxide), ITZO(Indium Tin Zinc Oxide), ATO(Antimony Tin Oxide) 등의 물질로 형성할 수 있다. 이와 같이, 브릿지(152)는 투명 전극으로 형성되어 사용자 눈에 보이지 않아 시인성에 장점이 있다. The second sensor electrodes 150 and 154 are formed as transparent electrodes on the substrate 101. The bridges 152 are formed as transparent electrodes on the first insulating layer 180 and the transparent electrodes are made of ITO (Indium Tin Oxide), IZO (Indium Tin Oxide), ITZO (Indium Tin Zinc Oxide), and ATO (Antimony Tin Oxide). As described above, the bridge 152 is formed as a transparent electrode and is not visible to the user, which is advantageous in viewability.

상기 라우팅부는 제1 센서 전극들(160)과 전기적으로 접속되어 신호를 공급하는 제1 라우팅 라인(168)과, 상기 제2 센서 전극들(150)과 전기적으로 접속되어 신호를 공급받는 제2 라우팅 라인(158)을 포함한다. 도 2에 도시된 바와 같이, 제1 라우팅 라인(168)과 제2 라우팅 라인(158) 상에 제1 절연층(180)이 형성되며, 제1 및 제2 라우팅 라인(158,168)은 저항 값이 낮은 금속 재질로 형성된다. 상기 금속 재질로는 알루미늄(Al), 구리(Cu), 은(Ag), 크롬(Cr), 몰리브덴(Mo), 알루미늄 네오듐(AlNd), 몰리브덴티탄(MoTi) 중 적어도 어느 하나의 금속 또는 적어도 어느 하나의 금속을 포함하여 이루어진 적층체일 수 있다. 제1 및 제2 라우팅 라인(158,168) 상에 제1 절연층(180)이 형성되어 있으므로 제1 및 제2 라우팅 라인(158,168)이 외부와 접촉하지 않아 산화되지 않을 수 있다. The routing unit includes a first routing line 168 electrically connected to the first sensor electrodes 160 to supply a signal to the first sensor electrodes 160 and a second routing line 168 electrically connected to the second sensor electrodes 150, Line 158. < / RTI > 2, a first insulation layer 180 is formed on the first routing line 168 and the second routing line 158 and the first and second routing lines 158 and 168 have a resistance value It is formed of a low-metal material. The metal material may be at least one of aluminum (Al), copper (Cu), silver (Ag), chromium (Cr), molybdenum (Mo), aluminum neodymium (AlNd), and molybdenum titanium Or may be a laminate comprising any one of the metals. Since the first insulating layer 180 is formed on the first and second routing lines 158 and 168, the first and second routing lines 158 and 168 may not be contacted with the outside and may not be oxidized.

상기 패드부(172)는 제1 라우팅 라인(168)과 접속된 제1 패드 전극들(169)과 제2 라우팅 라인(158)과 접속된 제2 패드 전극들(159)을 구비하며, 제1 및 제2 패드 전극들(159,169)은 FPC(Flexable Printed Circuit; 이하, FPC)와 접속된다. 이에 따라, 상기 제1 패드 전극들(169)은 FPC로 입력되는 터치 제어 신호를 제1 라우팅 라인(168)에 공급하고, 제2 패드 전극들(159)은 제2 라우팅 라인(158)을 통해 FPC로 터치 신호를 출력한다. The pad unit 172 includes first pad electrodes 169 connected to the first routing line 168 and second pad electrodes 159 connected to the second routing line 158, And the second pad electrodes 159 and 169 are connected to an FPC (Flexible Printed Circuit). Accordingly, the first pad electrodes 169 supply a touch control signal input to the FPC to the first routing line 168, and the second pad electrodes 159 supply the touch control signal to the FPC via the second routing line 158 And outputs a touch signal to the FPC.

그러나, 이와 같은 종래의 터치 패널에 있어서는 다음과 같은 문제점이 있었다.However, such a conventional touch panel has the following problems.

터치 패널이 적용되는 표시 장치의 사이즈가 대형화됨에 따라 터치 패널의 크기도 표시 장치에 상응하도록 대형화되어야 한다. 그러나, 제1 및 제2 센서 전극 패턴들이 ITO(Indium Tin Oxide), IZO(Indium Zinc Oxide), ITZO(Indium Tin Zinc Oxide), ATO(Antimony Tin Oxide) 등의 투명 도전성 물질로 형성되고, 상기 투명 도전성 물질은 금속층에 비해 상대적으로 높은 저항을 갖기 때문에, 충방전이 늦어지고 이로 인해 터치 인식을 방해하게 되어 대형 사이즈의 표시 장치에서 실효성이 매우 떨어진다.As the size of the display device to which the touch panel is applied is increased, the size of the touch panel must also be increased to correspond to the display device. However, the first and second sensor electrode patterns are formed of a transparent conductive material such as ITO (Indium Tin Oxide), IZO (Indium Tin Oxide), ITZO (Indium Tin Zinc Oxide), ATO (Antimony Tin Oxide) Since the conductive material has a relatively high resistance as compared with the metal layer, charging and discharging are delayed, which interferes with the recognition of the touch, which is very ineffective in a large-sized display device.

즉, ITO 전극 자체가 갖는 저항이 350Ω/1mm2 정도이므로, 11.6인치 모델에 적용했을 경우 약 9kΩ 정도이지만, 20인치 모델에 적용했을 경우는 약 2배의 저항을 갖게된다.That is, since the resistance of the ITO electrode itself is about 350? / 1 mm 2 , it is about 9 k? When applied to the 11.6-inch model, but about twice that when applied to the 20-inch model.

이와 같은 문제점을 해결하기 위해 금속 라인을 그물모양으로 형성하는 금속 메시(Metal mesh) 방법을 이용할 수 있으나, 모아(moire) 불량 등이 발생된다.In order to solve such a problem, a metal mesh method of forming a metal line in a net shape can be used, but a moire defect occurs.

본 발명은 이와 같은 문제점을 해결하기 위해 안출한 것으로, 센서 전극에 미세 금속 라인을 형성하여 센서 전극의 저항을 낮추어 대형 표시 장치에서도 터치 기능을 향상시킬 수 있는 터치 패널 및 그의 제조 방법을 제공하는데 그 목적이 있다.SUMMARY OF THE INVENTION The present invention has been made in order to solve such problems, and it is an object of the present invention to provide a touch panel capable of improving a touch function in a large display device by forming a fine metal line on a sensor electrode, There is a purpose.

상기와 같은 목적을 달성하기 위한 본 발명에 따른 터치 패널은, 기판의 액티브 영역에 제1 방향으로 투명 도전층으로 형성되어 제1 방향의 정전용량의 변화를 감지하는 제1 센서 전극 패턴부와, 상기 기판의 액티브 영역에 상기 제1 센서 전극 패턴부와 교차하도록 제2 방향으로 투명 도전층으로 형성되어 제2 방향의 정전용량의 변화를 감지하는 제2 센서 전극 패턴부와, 상기 기판의 외곽 영역에 형성되는 패드부와, 상기 기판의 외곽 영역에 형성되어 상기 제1 및 제2 센서 전극 패턴부와 상기 패드부 간을 연결하는 제1 및 제2 라우팅 라인들과, 상기 제1 센서 전극 패턴부의 상부 또는 하부의 가장자리에 형성되고 상기 제1 라우팅 라인과 전기적으로 연결되는 미세 금속 라인을 포함하여 구성됨에 그 특징이 있다.According to an aspect of the present invention, there is provided a touch panel including a first sensor electrode pattern portion formed as a transparent conductive layer in a first direction on an active region of a substrate and sensing a change in capacitance in a first direction, A second sensor electrode pattern part formed as a transparent conductive layer in a second direction so as to intersect with the first sensor electrode pattern part in an active area of the substrate and sensing a change in capacitance in a second direction, First and second routing lines formed on an outer area of the substrate to connect the first and second sensor electrode pattern units and the pad unit, And a fine metal line formed at an edge of the upper or lower portion and electrically connected to the first routing line.

또한, 상기와 같은 목적을 달성하기 위한 본 발명에 따른 터치 패널의 제조 방법은, 액티브 영역과 외곽 영역을 갖는 기판의 상기 액티브 영역상에 제1 방향으로 미세 금속 라인을 형성함과 동시에 상기 외곽 영역에 패드부와 제1 및 제2 라우팅 라인들을 형성하는 단계; 상기 미세 금속 라인이 형성된 기판의 액티브 영역상에 제1 및 제2 센서 전극들과, 서로 인접한 제1 센서 전극들을 연결시키는 연결부를 포함하는 센서 전극 패턴을 형성하는 단계; 센서 전극 패턴이 형성된 기판 전면에 절연층을 형성하고, 상기 제2 센서 전극들의 소정 부분을 노출시키는 컨택홀들을 형성하는 단계; 그리고 상기 컨택홀들을 통해 인접한 제2 센서 전극들이 전기적으로 연결되도록 상기 절연층상에 복수개의 브릿지를 형성하는 단계를 포함하여 이루어짐에 그 특징이 있다.According to another aspect of the present invention, there is provided a method of manufacturing a touch panel, the method including forming a fine metal line in a first direction on the active area of a substrate having an active area and an outer area, Forming a pad portion and first and second routing lines in the pad; Forming a sensor electrode pattern including first and second sensor electrodes on the active region of the substrate on which the fine metal lines are formed and connecting portions connecting the first sensor electrodes adjacent to each other; Forming an insulating layer on the entire surface of the substrate on which the sensor electrode pattern is formed and forming contact holes exposing a predetermined portion of the second sensor electrodes; And forming a plurality of bridges on the insulating layer such that adjacent second sensor electrodes are electrically connected through the contact holes.

또한, 상기와 같은 목적을 달성하기 위한 본 발명에 따른 터치 패널의 제조 방법은, 액티브 영역과 외곽 영역을 갖는 기판의 상기 액티브 영역상에 제1 및 제2 센서 전극들과, 서로 인접한 제1 센서 전극들을 연결시키는 연결부를 포함하는 센서 전극 패턴을 형성하는 단계; 상기 제1 센서 전극 및 연결부의 자장자리에 미세 금속 라인을 형성함과 동시에 상기 외곽 영역에 패드부와 제1 및 제2 라우팅 라인들을 형성하는 단계; 상기 미세 금속 라인, 패드부 그리고 제1 및 제2 라우팅 라인들이 형성된 기판 전면에 절연층을 형성하고, 상기 제2 센서 전극들의 소정 부분을 노출시키는 컨택홀들을 형성하는 단계; 그리고 상기 컨택홀들을 통해 인접한 제2 센서 전극들이 전기적으로 연결되도록 상기 절연층상에 복수개의 브릿지를 형성하는 단계를 포함하여 이루어짐에 또 다른 특징이 있다.According to another aspect of the present invention, there is provided a method of manufacturing a touch panel, including the steps of: forming first and second sensor electrodes on an active region of a substrate having an active region and an outer region; Forming a sensor electrode pattern including a connection portion for connecting the electrodes; Forming a fine metal line at a magnetic field site of the first sensor electrode and the connection portion, and forming pad portions and first and second routing lines in the outer region; Forming an insulating layer on the entire surface of the substrate on which the fine metal lines, the pad portions, and the first and second routing lines are formed, and forming contact holes exposing predetermined portions of the second sensor electrodes; And forming a plurality of bridges on the insulating layer so that adjacent second sensor electrodes are electrically connected through the contact holes.

여기서, 상기 미세 금속 라인은 상기 제1 라우팅 라인과 동일 물질로 상기 제1 라우팅 라인과 일체로 형성됨을 특징으로 한다.Here, the fine metal line may be formed of the same material as the first routing line and may be integrally formed with the first routing line.

상기 미세 금속 라인은 2μm 내지 10μm의 선폭을 갖음을 특징으로 한다.And the fine metal line has a line width of 2 μm to 10 μm.

상기 미세 금속 라인 및 제1 센서 전극 패턴부의 제1 방향은 표시 장치의 장축 방향임을 특징으로 한다.And the first direction of the fine metal line and the first sensor electrode pattern portion is the long axis direction of the display device.

상기와 같은 특징을 갖는 본 발명에 따른 터치 패널 및 그의 제조 방법에 있어서는 다음과 같은 효과가 있다.The touch panel according to the present invention having the above-described characteristics and the manufacturing method thereof have the following effects.

즉, 투명 도전층으로 형성된 센서 전극 패턴부에 미세 금속 라인을 형성하므로 상기 센서 전극 패턴부의 저항을 획기적으로 감소시킬 수 있으며, 더불어 20인치 이상의 대형 표시 장치에 터치 센서를 적용할 수 있다.That is, since the fine metal line is formed in the sensor electrode pattern portion formed of the transparent conductive layer, the resistance of the sensor electrode pattern portion can be drastically reduced, and the touch sensor can be applied to a large display device of 20 inches or more.

도 1은 종래의 터치 패널의 평면도
도 2는 도 1에 도시된 종래의 터치 패널의 단면도
도 3은 본 발명에 따른 터치 패널의 평면도
도 4는 도 3에 도시된 본 발명에 따른 터치 패널의 단면도
도 5a 및 도 5b는 본 발명의 제 1 실시 예에 따른 터치 패널의 제조 방법 중 제1 마스크 공정을 설명하기 위한 평면도 및 단면도
도 6a 및 도 6b는 본 발명의 제 1 실시 예에 따른 터치 패널의 제조 방법 중 제2 마스크 공정을 설명하기 위한 평면도 및 단면도
도 7a 및 도 7b는 본 발명의 제 1 실시 예에 따른 터치 패널의 제조 방법 중 제3 마스크 공정을 설명하기 위한 평면도 및 단면도
도 8a 및 도 8b는 본 발명의 제 1 실시 예에 따른 터치 패널의 제조 방법 중 제4 마스크 공정을 설명하기 위한 평면도 및 단면도1 is a plan view of a conventional touch panel
Fig. 2 is a cross-sectional view of the conventional touch panel shown in Fig. 1
3 is a plan view of a touch panel according to the present invention.
Fig. 4 is a cross-sectional view of the touch panel according to the present invention shown in Fig. 3
5A and 5B are a plan view and a cross-sectional view for explaining the first mask process in the manufacturing method of the touch panel according to the first embodiment of the present invention
6A and 6B are a plan view and a cross-sectional view for explaining the second mask process in the manufacturing method of the touch panel according to the first embodiment of the present invention
7A and 7B are a plan view and a cross-sectional view for explaining the third mask process in the manufacturing method of the touch panel according to the first embodiment of the present invention
8A and 8B are a plan view and a cross-sectional view for explaining the fourth mask process in the manufacturing method of the touch panel according to the first embodiment of the present invention

상기와 같은 특징을 갖는 본 발명에 따른 터치 패널 및 그의 제조 방법을 첨부된 도면을 참조하여 보다 상세하게 설명하면 다음과 같다.Hereinafter, a touch panel and a method of manufacturing the same according to the present invention will be described in detail with reference to the accompanying drawings.

도 3은 본 발명에 따른 터치 패널의 평면도이고, 도 4는 도 3에 도시된 본 발명에 따른 터치 패널의 단면도이다. FIG. 3 is a plan view of the touch panel according to the present invention, and FIG. 4 is a cross-sectional view of the touch panel according to the present invention shown in FIG.

본 발명에 따른 터치 패널은 위치 감지 전극으로서 기능을 하는 제1 및 제2 센서 전극 패턴부(156,166)가 형성된 센서 기판(101)과, 센서 기판(101)과 대향하도록 형성된 커버 기판(도면에는 도시되지 않음)을 포함한다.The touch panel according to the present invention includes a sensor substrate 101 on which first and second sensor electrode pattern units 156 and 166 functioning as position sensing electrodes are formed and a cover substrate (Not shown).

상기 센서 기판(101)은 크게 터치 구동 및 감지가 이루어지는 액티브 영역과 상기 액티브 영역 주위의 외곽 영역으로 구분된다. 도 3 및 도 4에 도시한 바와 같이, 상기 센서 기판(101)은 상기 액티브 영역에 제1 센서 전극 패턴부(166) 및 제2 센서 전극 패턴부(156)를 구비하고, 상기 외곽 영역에 라우팅부(158, 168) 및 패드부(172)를 구비한다. The sensor substrate 101 is largely divided into an active area where touch operation and sensing are performed and an outer area around the active area. 3 and 4, the sensor substrate 101 includes a first sensor electrode pattern portion 166 and a second sensor electrode pattern portion 156 in the active region, Portions 158 and 168, and a pad portion 172, respectively.

상기 제1 센서 전극 패턴부(166)는 제1 방향으로 나란하게 복수개가 형성되어 제1 방향의 정전용량의 변화를 감지한다. 여기서, 제1 방향은 예로 들어 Y축 방향일 수 있으며, 송신 전극(Tx)일 수 있다. 제1 센서 전극 패턴부(166)는 마름모 형태 또는 다이아몬드 형태의 제1 센서 전극들(160,164)과, 상기 제1 센서 전극들(160,164)과 동일층에 동일 재질로 제1 방향으로 형성되어 서로 인접한 제1 센서 전극들(160,164)을 연결해주는 연결부(162)와, 상기 제1 센서 전극들(160,164)과 연결부(162)의 가장자리를 따라 상기 제1 센서 전극들(160,164)과 연결부(162)의 상부면 또는 하부면에 형성되는 미세 금속 라인(161)을 포함한다. 상기 미세 금속 라인(161)의 선폭은 약 2μm 내지 10μm로 형성된다.A plurality of the first sensor electrode pattern units 166 are formed in parallel in the first direction to sense a change in capacitance in the first direction. Here, the first direction may be a Y-axis direction, for example, and may be a transmission electrode Tx. The first sensor electrode pattern portion 166 is formed in a rhomboid or diamond-shaped first sensor electrodes 160 and 164 and in the same layer as the first sensor electrodes 160 and 164 in the first direction, A connection part 162 for connecting the first sensor electrodes 160 and 164 and a connection part 162 for connecting the first sensor electrodes 160 and 164 and the connection part 162 along the edges of the first sensor electrodes 160 and 164 and the connection part 162, And a fine metal line 161 formed on the upper surface or the lower surface. The fine metal line 161 has a line width of about 2 탆 to about 10 탆.

상기 제1 센서 전극들(160,164)은 제1 라우팅 라인(168)과 전기적으로 접속되어 신호를 공급받는다. 즉, 상기 미세 금속 라인(161)은 상기 제1 라우팅 라인(168)과 동일 물질로 상기 제1 라우팅 라인(168)과 일체로 형성된다. 이에 따라, 제1 패드 전극들(169)을 통해 공급된 신호는 제1 라우팅 라인(168)과 접속된 제1 센서 전극들(160,164)로 공급되며, 인접한 제1 센서 전극들(160,164)은 연결부(162)를 통해 신호가 공급된다. The first sensor electrodes 160 and 164 are electrically connected to the first routing line 168 to receive signals. That is, the fine metal line 161 is formed integrally with the first routing line 168 with the same material as the first routing line 168. Accordingly, the signal supplied through the first pad electrodes 169 is supplied to the first sensor electrodes 160 and 164 connected to the first routing line 168, and the adjacent first sensor electrodes 160 and 164 are connected to the first sensor electrodes 160 and 164, A signal is supplied through the signal line 162.

이러한, 연결부(162)와 제1 센서 전극들(160,164)은 기판(101) 상에 투명 전극으로 형성되며, 투명 전극 재질로는 ITO(Indium Tin Oxide), IZO(Indium Zinc Oxide), ITZO(Indium Tin Zinc Oxide), ATO(Antimony Tin Oxide) 등의 물질로 형성할 수 있다.The connection part 162 and the first sensor electrodes 160 and 164 are formed as a transparent electrode on the substrate 101. Examples of the transparent electrode material include indium tin oxide (ITO), indium zinc oxide (IZO), indium zinc oxide Tin Zinc Oxide), and ATO (Antimony Tin Oxide).

상기 제2 센서 전극 패턴부(156)는 제1 센서 전극 패턴부(166)와 교차하도록 제2 방향으로 나란하게 복수개가 형성되어 제2 방향의 정전용량의 변화를 감지한다. 여기서, 제2 방향은 예로 들어 X축 방향일 수 있으며, 수신 전극(x)일 수 있다. 상기 제2 센서 전극 패턴부(156)는 마름모 형태 또는 다이아몬드 형태의 제2 센서 전극들(150,154)과, 인접한 제2 센서 전극들(150,154)을 연결시키는 브릿지들(152)을 포함한다. 상기 브릿지들(152)은 컨택홀(150a,154a)을 통해 노출된 인접한 제2 센서 전극들(150,154)을 연결시킨다. 상기 제2 센서 전극들(150,154)은 제2 라우팅 라인(158)과 전기적으로 접속되어 신호를 출력한다. 이에 따라, 제2 센서 전극들(150,154)에 의해 수신된 신호는 제2 라우팅 라인(158)을 통해 제2 패드 전극들(159)로 출력된다.A plurality of second sensor electrode pattern units 156 are formed in parallel in the second direction so as to intersect with the first sensor electrode pattern units 166 to sense a change in capacitance in the second direction. Here, the second direction may be, for example, the X-axis direction, and may be the receiving electrode (x). The second sensor electrode pattern part 156 includes diamond-shaped second sensor electrodes 150 and 154 and bridges 152 connecting adjacent second sensor electrodes 150 and 154. The bridges 152 connect the adjacent second sensor electrodes 150 and 154 exposed through the contact holes 150a and 154a. The second sensor electrodes 150 and 154 are electrically connected to the second routing line 158 to output a signal. Accordingly, the signal received by the second sensor electrodes 150 and 154 is output to the second pad electrodes 159 through the second routing line 158.

이러한, 제2 센서 전극들(150,154)은 기판(101) 상에 투명 전극으로 형성되며, 브릿지들(152)은 제1 절연층(180) 상에 투명 전극으로 형성되며, 투명 전극 재질로는 ITO(Indium Tin Oxide), IZO(Indium Zinc Oxide), ITZO(Indium Tin Zinc Oxide), ATO(Antimony Tin Oxide) 등의 물질로 형성할 수 있다. The second sensor electrodes 150 and 154 are formed as transparent electrodes on the substrate 101. The bridges 152 are formed as transparent electrodes on the first insulating layer 180 and the transparent electrodes are made of ITO (Indium Tin Oxide), IZO (Indium Tin Oxide), ITZO (Indium Tin Zinc Oxide), and ATO (Antimony Tin Oxide).

상기 라우팅부는 제1 센서 전극들(160) 및 미세 금속 라인(161)과 전기적으로 접속되어 신호를 공급하는 제1 라우팅 라인(168)과, 상기 제2 센서 전극들(150)과 전기적으로 접속되어 신호를 공급받는 제2 라우팅 라인(158)을 포함한다. 도 4에 도시된 바와 같이, 제1 라우팅 라인(168)과 제2 라우팅 라인(158) 상에 제1 절연층(180)이 형성되며, 제1 및 제2 라우팅 라인(168, 158)은 저항 값이 낮은 금속 재질로 형성된다. 상기 금속 재질로는 알루미늄(Al), 구리(Cu), 은(Ag), 크롬(Cr), 몰리브덴(Mo), 알루미늄 네오듐(AlNd), 몰리브덴티탄(MoTi) 중 적어도 어느 하나의 금속 또는 적어도 어느 하나의 금속을 포함하여 이루어진 적층체일 수 있다. 제1 및 제2 라우팅 라인(168, 158) 상에 제1 절연층(180)이 형성되어 있으므로 제1 및 제2 라우팅 라인(168, 158)이 외부와 접촉하지 않아 산화되지 않을 수 있다. The routing unit includes a first routing line 168 that is electrically connected to the first sensor electrodes 160 and the fine metal line 161 to supply a signal and a second routing line 168 that is electrically connected to the second sensor electrodes 150 And a second routing line 158 to which a signal is supplied. A first insulation layer 180 is formed on the first routing line 168 and the second routing line 158 and the first and second routing lines 168 and 158 are formed as a resistive layer, Is formed of a metal material having a low value. The metal material may be at least one of aluminum (Al), copper (Cu), silver (Ag), chromium (Cr), molybdenum (Mo), aluminum neodymium (AlNd), and molybdenum titanium Or may be a laminate comprising any one of the metals. Since the first insulating layer 180 is formed on the first and second routing lines 168 and 158, the first and second routing lines 168 and 158 may not be in contact with the outside and may not be oxidized.

상기 제1 및 제2 라우팅 라인(168, 158)의 선폭은 상기 미세 금속 라인(161)의 선폭보다 더 넓게 형성됨이 바람직하다.The line width of the first and second routing lines 168 and 158 is preferably wider than the line width of the fine metal line 161.

상기 패드부(172)는 제1 라우팅 라인(168)과 접속된 제1 패드 전극들(169)과 제2 라우팅 라인(158)과 접속된 제2 패드 전극들(159)을 구비하며, 제1 및 제2 패드 전극들(169, 159)은 FPC(Flexable Printed Circuit; 이하, FPC)와 접속된다. 이에 따라, 상기 제1 패드 전극들(169)은 FPC로 입력되는 터치 제어 신호를 제1 라우팅 라인(168)에 공급하고, 제2 패드 전극들(159)은 제2 라우팅 라인(158)을 통해 FPC로 터치 신호를 출력한다. The pad unit 172 includes first pad electrodes 169 connected to the first routing line 168 and second pad electrodes 159 connected to the second routing line 158, And the second pad electrodes 169 and 159 are connected to a flexible printed circuit (FPC). Accordingly, the first pad electrodes 169 supply a touch control signal input to the FPC to the first routing line 168, and the second pad electrodes 159 supply the touch control signal to the FPC via the second routing line 158 And outputs a touch signal to the FPC.

상기 도 3에서, 상기 제1 센서 전극 패턴부(166)가 Y축 방향으로 도시되었고, 상기 제2 센서 전극 패턴부(156)가 X축 방향으로 도시되어 있으나, 이에 한정되지 않고, 상기 제1 센서 전극 패턴부(166)가 표시 장치의 장축 방향으로 형성되고, 제2 센서 전극 패턴부(156)가 표시 장치의 단축 방향으로 형성됨이 바람직하다.3, the first sensor electrode pattern part 166 is shown in the Y axis direction and the second sensor electrode pattern part 156 is shown in the X axis direction. However, the present invention is not limited to this, It is preferable that the sensor electrode pattern portion 166 is formed in the major axis direction of the display device and the second sensor electrode pattern portion 156 is formed in the minor axis direction of the display device.

그 이유는 미세 금속 라인이 형성된 제1 센서 전극 패턴부(166)가 상대적으로 낮은 저항값을 갖기 때문이다.This is because the first sensor electrode pattern portion 166 on which the fine metal lines are formed has a relatively low resistance value.

이와 같은 본 발명의 실시 예에 따른 터치 패널의 제조 방법을 설명하면 다음과 같다.A method of manufacturing a touch panel according to an embodiment of the present invention will now be described.

도 5a 및 도 5b는 본 발명의 제 1 실시 예에 따른 터치 패널의 제조 방법 중 제1 마스크 공정을 설명하기 위한 평면도 및 단면도이고, 도 6a 및 도 6b는 본 발명의 제 1 실시 예에 따른 터치 패널의 제조 방법 중 제2 마스크 공정을 설명하기 위한 평면도 및 단면도이며, 도 7a 및 도 7b는 본 발명의 제 1 실시 예에 따른 터치 패널의 제조 방법 중 제3 마스크 공정을 설명하기 위한 평면도 및 단면도이고, 도 8a 및 도 8b는 본 발명의 제 1 실시 예에 따른 터치 패널의 제조 방법 중 제4 마스크 공정을 설명하기 위한 평면도 및 단면도이다.FIGS. 5A and 5B are a plan view and a cross-sectional view for explaining the first mask process in the manufacturing method of the touch panel according to the first embodiment of the present invention. FIGS. 6A and 6B are cross- 7A and 7B are a plan view and a cross-sectional view for explaining the third mask process in the manufacturing method of the touch panel according to the first embodiment of the present invention. Figs. 7A and 7B are a plan view and a cross- And FIGS. 8A and 8B are a plan view and a cross-sectional view for explaining the fourth mask process in the manufacturing method of the touch panel according to the first embodiment of the present invention.

본 발명의 제 1 실시 예에 따른 터치 패널의 제조 방법은, 도 5a 및 도 5b에 도시한 바와 같이, 센서 기판(101) 상에 스퍼터링 방법 등으로 알루미늄(Al), 구리(Cu), 은(Ag), 크롬(Cr), 몰리브덴(Mo), 알루미늄 네오듐(AlNd), 몰리브덴티탄(MoTi) 중 적어도 어느 하나의 금속 또는 적어도 어느 하나의 금속을 포함하여 이루어진 금속층을 형성한다.5A and 5B, a method of manufacturing a touch panel according to a first embodiment of the present invention is a method of manufacturing a touch panel using aluminum (Al), copper (Cu), silver A metal layer comprising at least one metal selected from the group consisting of Ag, Cr, Mo, AlNd, and MoTi is formed.

그리고, 제1 마스크를 이용한 포토리소그래피 공정 및 식각 공정으로 상기 금속층을 선택적으로 제거하여 제1 및 제2 라우팅 라인(168,158)과, 이와 연결된 제1 및 제2 패드 전극(169,159) 및 미세 금속 라인(161)을 형성한다. 이때, 상기 제1 라우팅 라인(168)과 상기 미세 금속 라인(161)은 일체로 형성되고, 상기 미세 금속 라인(161)의 선폭은 약 2μm 내지 10μm로 형성되고, 상기 제1 및 제2 라우팅 라인(168, 158)의 선폭은 상기 미세 금속 라인(161)의 선폭보다 더 넓게 형성됨이 바람직하다.Then, the metal layer is selectively removed by a photolithography process and an etching process using the first mask so that the first and second routing lines 168 and 158 and the first and second pad electrodes 169 and 159 and the fine metal line 161 are formed. In this case, the first routing line 168 and the fine metal line 161 are integrally formed, the fine metal line 161 has a line width of about 2 μm to 10 μm, the first and second routing lines 168, The line width of the fine metal lines 161 and 158 may be larger than the line width of the fine metal line 161.

상기 미세 금속 라인(161)은 센서 기판(101)의 액티브 영역에 형성되고, 상기 제1 및 제2 라우팅 라인(168,158) 그리고 제1 및 제2 패드 전극(169,159)은 센서 기판(101)의 외곽 영역에 형성된다.The first and second routing lines 168 and 158 and the first and second pad electrodes 169 and 159 are formed on the outer periphery of the sensor substrate 101. The fine metal line 161 is formed in the active area of the sensor substrate 101, Region.

도 6a 및 도 6b에 도시한 바와 같이, 상기 미세 금속 라인(161)이 형성된 센서 기판(101) 상에 제1 및 제2 센서 전극들(160,164, 150,154)과, 서로 인접한 제1 센서 전극들(160,164)을 연결시키는 연결부(162)를 포함하는 센서 전극 패턴을 형성한다. 6A and 6B, the first and second sensor electrodes 160, 164, 150 and 154 and the first sensor electrodes (not shown) adjacent to each other are formed on the sensor substrate 101 on which the fine metal line 161 is formed 160, and 164 are connected to each other.

구체적으로, 상기 미세 금속 라인(161)이 형성된 센서 기판(101) 상에 틴 옥사이드(Tin Oxide : TO), 인듐 틴 옥사이드(Indium Tin Oxide : ITO), 인듐 징크 옥사이드(Indium Zinc Oxide : IZO), 인듐 틴 징크 옥사이드(Indium Tin Zind Oxide : ITZO) 등의 투명 도전층을 형성한다. 이어서, 제2 마스크를 이용한 포토리소그래피 공정 및 식각 공정으로 상기 투명 도전층을 선택적으로 제거하여 제1 방향으로 형성된 제1 센서 전극들(160,164)과, 제2 방향으로 형성된 제2 센서 전극들(150,154)과, 인접한 제1 센서 전극들(160,164)을 연결시키는 연결부(162)를 포함하는 센서 전극 패턴을 형성한다. 이때, 도 6a 및 도 6b에 도시된 바와 같이, 제1 센서 전극들(160, 164) 및 연결부(162)는 상기 미세 금속 라인(161)상에 형성되고, 제2 센서 전극들(150, 154)은 제2 라우팅 라인(158)과 접속된다.In detail, the sensor substrate 101 on which the fine metal lines 161 are formed is formed with a tin oxide (ITO), indium tin oxide (ITO), indium zinc oxide (IZO) A transparent conductive layer such as Indium Tin Zinc Oxide (ITZO) is formed. Then, the transparent conductive layer is selectively removed by a photolithography process and an etching process using a second mask to form first sensor electrodes 160 and 164 formed in a first direction and second sensor electrodes 150 and 154 formed in a second direction And a connecting portion 162 connecting the adjacent first sensor electrodes 160 and 164 to each other. 6A and 6B, the first sensor electrodes 160 and 164 and the connection portion 162 are formed on the fine metal line 161 and the second sensor electrodes 150 and 154 Is connected to the second routing line 158.

도 7a 및 도 7b에 도시한 바와 같이, 센서 전극 패턴이 형성된 센서 기판(101) 전면에 SiO2 등의 무기 절연 물질을 도포하여 제1 절연층(180)을 형성한다. 그리고 제3 마스크를 이용한 포토리소그래피 공정 및 습식 식각 공정으로 상기 제1 절연층(180)을 선택적으로 제거하여 상기 제2 센서 전극들(150,154)을 노출시키는 컨택홀들(150a,154a)과 제1 및 제2 패드 전극들(169,159)을 노출시킨다.7A and 7B, the first insulating layer 180 is formed by coating an inorganic insulating material such as SiO 2 on the entire surface of the sensor substrate 101 on which the sensor electrode pattern is formed. The first insulating layer 180 is selectively removed by a photolithography process and a wet etching process using a third mask to form contact holes 150a and 154a for exposing the second sensor electrodes 150 and 154, And the second pad electrodes 169 and 159 are exposed.

이 형성된 패드부 영역이 오픈된 형태로 제1 절연층(180)이 제거된다. The first insulating layer 180 is removed in a state where the pad region formed therein is opened.

도 8a 및 도 8b에 도시한 바와 같이, 상기 컨택홀(150a,154a)을 포함한 제1 절연층(180) 상에 틴 옥사이드(Tin Oxide : TO), 인듐 틴 옥사이드(Indium Tin Oxide : ITO), 인듐 징크 옥사이드(Indium Zinc Oxide : IZO), 인듐 틴 징크 옥사이드(Indium Tin Zind Oxide : ITZO) 등의 투명 도전층과 제2 절연층(252)을 차례로 형성한다. 그리고, 제4 마스크를 이용한 포토리소그래피 공정 및 식각 공정으로 상기 투명 도전층 및 제2 절연층(252)을 선택적으로 제거하여 브릿지(152)를 형성한다. As shown in FIGS. 8A and 8B, a tin oxide (ITO), indium tin oxide (ITO), or the like is formed on the first insulating layer 180 including the contact holes 150a and 154a. A transparent conductive layer such as indium zinc oxide (IZO) or indium tin zinc oxide (ITZO) and the second insulating layer 252 are formed in this order. Then, the transparent conductive layer and the second insulating layer 252 are selectively removed by a photolithography process and an etching process using a fourth mask to form a bridge 152.

이상에서 설명한 바와 같은 본 발명의 제 1 실시예에 따른 터치 패널의 제조 방법은, 도 5a 및 도 6a에서 설명한 바와 같이, 제1 및 제2 라우팅 라인(168,158), 제1 및 제2 패드 전극(169,159) 및 미세 금속 라인(161)을 먼저 형성한 후, 제1 및 제2 센서 전극들(160,164, 150,154)과, 서로 인접한 제1 센서 전극들(160,164)을 연결시키는 연결부(162)를 포함하는 센서 전극 패턴을 형성하였으나, 이에 한정되지 않는다. 5A and 6A, the manufacturing method of the touch panel according to the first embodiment of the present invention includes the first and second routing lines 168 and 158, the first and second pad electrodes And a connecting portion 162 connecting the first and second sensor electrodes 160,164, 150,154 and the first sensor electrodes 160,164 adjacent to each other after the first and second sensor electrodes 169,159 and the fine metal line 161 are formed first, The sensor electrode pattern is formed, but the present invention is not limited thereto.

본 발명의 제 2 실시 예로, 도 6a 및 도 6b에서 설명한 바와 같이, 센서 기판(101) 상에 제1 및 제2 센서 전극들(160,164, 150,154)과, 서로 인접한 제1 센서 전극들(160,164)을 연결시키는 연결부(162)를 포함하는 센서 전극 패턴을 먼저 형성하고, 도 5a 및 5b에 도시한 바와 같이, 상기 센서 전극 패턴이 형성된 센서 기판(101)상에 제1 및 제2 라우팅 라인(168,158), 제1 및 제2 패드 전극(169,159) 및 미세 금속 라인(161)을 형성할 수 있다.6A and 6B, the first and second sensor electrodes 160, 164, 150 and 154 and the first sensor electrodes 160 and 164 adjacent to each other are formed on the sensor substrate 101, 5A and 5B, a sensor electrode pattern is formed on the sensor substrate 101 on which the sensor electrode pattern is formed. The first and second routing lines 168 and 158 The first and second pad electrodes 169 and 159 and the fine metal line 161 can be formed.

이때, 상기 미세 금속 라인(161)은 상기 제1 센서 전극(160, 164) 및 연결부(162)상의 가장자리 부근에 형성된다.At this time, the fine metal line 161 is formed near the edges of the first sensor electrodes 160 and 164 and the connection part 162.

그 이후의 공정은 본 발명의 제 1 실시 예와 동일하다.The subsequent steps are the same as the first embodiment of the present invention.

이상에서 설명한 바와 같이, 제1 센서 전극상에 미세 금속 라인이 형성되므로 투명 도전층으로 형성된 센서 전극의 저항을 획기적으로 감소시킬 수 있으므로, 20인치 이상의 대형 표시 장치에 터치 센서를 적용할 수 있다.As described above, since the fine metal line is formed on the first sensor electrode, the resistance of the sensor electrode formed of the transparent conductive layer can be drastically reduced, so that the touch sensor can be applied to a large display device of 20 inches or more.

이상의 설명은 본 발명을 예시적으로 설명한 것에 불과하며, 본 발명이 속하는 기술 분야에서 통상의 지식을 가진 자에 의해 본 발명의 기술적 사상에서 벗어나지 않는 범위에서 다양한 변형이 가능할 것이다. 따라서 본 발명의 명세서에 개시된 실시 예들은 본 발명을 한정하는 것이 아니다. 본 발명의 범위는 아래의 특허청구범위에 의해 해석되어야 하며, 그와 균등한 범위 내에 있는 모든 기술도 본 발명의 범위에 포함되는 것으로 해석해야 할 것이다. The foregoing description is merely illustrative of the present invention, and various modifications may be made by those skilled in the art without departing from the spirit of the present invention. Accordingly, the embodiments disclosed in the specification of the present invention are not intended to limit the present invention. The scope of the present invention should be construed according to the following claims, and all the techniques within the scope of equivalents should be construed as being included in the scope of the present invention.

101 : 센서 기판 150, 154 : 제2 센서 전극들
152 : 브리지 156 : 제2 센서 전극 패턴부
158 : 제2 라우팅 라인 160, 164 : 제1 센서 전극들
161 : 미세 금속 라인 162 : 연결부
166 : 제1 센서 전극 패턴부 168 : 제1 라우팅 라인101: sensor substrate 150, 154: second sensor electrode
152: bridge 156: second sensor electrode pattern portion
158: second routing line 160, 164: first sensor electrode
161: fine metal line 162: connection
166: first sensor electrode pattern part 168: first routing line

Claims (14)

기판의 액티브 영역에 제1 방향으로 투명 도전층으로 형성되어 제1 방향의 정전용량의 변화를 감지하는 제1 센서 전극 패턴부와,
상기 기판의 액티브 영역에 상기 제1 센서 전극 패턴부와 교차하도록 제2 방향으로 투명 도전층으로 형성되어 제2 방향의 정전용량의 변화를 감지하는 제2 센서 전극 패턴부와,
상기 기판의 외곽 영역에 형성되는 패드부와,
상기 기판의 외곽 영역에 형성되어 상기 제1 및 제2 센서 전극 패턴부와 상기 패드부 간을 연결하는 제1 및 제2 라우팅 라인들과,
상기 제1 센서 전극 패턴부의 상부 또는 하부의 가장자리에 형성되고 상기 제1 라우팅 라인과 전기적으로 연결되는 미세 금속 라인을 포함하여 구성됨을 특징으로 하는 터치 패널.A first sensor electrode pattern portion formed in the active region of the substrate as a transparent conductive layer in the first direction to sense a change in capacitance in the first direction,
A second sensor electrode pattern portion formed as a transparent conductive layer in a second direction so as to intersect with the first sensor electrode pattern portion in the active region of the substrate to sense a change in capacitance in the second direction,
A pad portion formed in an outer region of the substrate,
First and second routing lines formed on an outer area of the substrate and connecting the first and second sensor electrode pattern units and the pad unit,
And a fine metal line formed at the upper or lower edge of the first sensor electrode pattern portion and electrically connected to the first routing line. 제 1 항에 있어서,
상기 미세 금속 라인은 상기 제1 라우팅 라인과 동일 물질로 상기 제1 라우팅 라인과 일체로 형성됨을 특징으로 하는 터치 패널.The method according to claim 1,
Wherein the fine metal line is formed of the same material as the first routing line and is formed integrally with the first routing line. 제 1 항에 있어서,
상기 미세 금속 라인은 2μm 내지 10μm의 선폭을 갖음을 특징으로 하는 터치 패널.The method according to claim 1,
Wherein the fine metal line has a line width of 2 占 퐉 to 10 占 퐉. 제 1 항에 있어서,
상기 제1 센서 전극 패턴부의 제1 방향은 표시 장치의 장축 방향임을 특징으로 하는 터치 패널.The method according to claim 1,
Wherein a first direction of the first sensor electrode pattern portion is a major axis direction of the display device. 액티브 영역과 외곽 영역을 갖는 기판의 상기 액티브 영역상에 제1 방향으로 미세 금속 라인을 형성함과 동시에 상기 외곽 영역에 패드부와 제1 및 제2 라우팅 라인들을 형성하는 단계;
상기 미세 금속 라인이 형성된 기판의 액티브 영역상에 제1 및 제2 센서 전극들과, 서로 인접한 제1 센서 전극들을 연결시키는 연결부를 포함하는 센서 전극 패턴을 형성하는 단계;
센서 전극 패턴이 형성된 기판 전면에 절연층을 형성하고, 상기 제2 센서 전극들의 소정 부분을 노출시키는 컨택홀들을 형성하는 단계; 그리고
상기 컨택홀들을 통해 인접한 제2 센서 전극들이 전기적으로 연결되도록 상기 절연층상에 복수개의 브릿지를 형성하는 단계를 포함하여 이루어짐을 특징으로 하는 터치 패널의 제조 방법. Forming a fine metal line in a first direction on the active region of the substrate having an active region and an outer region and forming pad portions and first and second routing lines in the outer region;
Forming a sensor electrode pattern including first and second sensor electrodes on the active region of the substrate on which the fine metal lines are formed and connecting portions connecting the first sensor electrodes adjacent to each other;
Forming an insulating layer on the entire surface of the substrate on which the sensor electrode pattern is formed and forming contact holes exposing a predetermined portion of the second sensor electrodes; And
And forming a plurality of bridges on the insulating layer such that neighboring second sensor electrodes are electrically connected through the contact holes. 제 5 항에 있어서,
상기 미세 금속 라인은 상기 제1 센서 전극들 및 연결부의 가장자리 하부에 형성됨을 특징으로 하는 터치 패널의 제조 방법.6. The method of claim 5,
Wherein the fine metal line is formed under the edges of the first sensor electrodes and the connection portion. 제 5 항에 있어서,
상기 미세 금속 라인은 상기 제1 라우팅 라인과 동일 물질로 상기 제1 라우팅 라인과 일체로 형성됨을 특징으로 하는 터치 패널의 제조 방법.6. The method of claim 5,
Wherein the fine metal line is formed of the same material as the first routing line and is formed integrally with the first routing line. 제 5 항에 있어서,
상기 미세 금속 라인은 2μm 내지 10μm의 선폭을 갖음을 특징으로 하는 터치 패널의 제조 방법.6. The method of claim 5,
Wherein the fine metal line has a line width of 2 占 퐉 to 10 占 퐉. 제 5 항에 있어서,
상기 미세 금속 라인의 제1 방향은 표시 장치의 장축 방향임을 특징으로 하는 터치 패널의 제조 방법.6. The method of claim 5,
Wherein the first direction of the fine metal lines is a major axis direction of the display device. 액티브 영역과 외곽 영역을 갖는 기판의 상기 액티브 영역상에 제1 및 제2 센서 전극들과, 서로 인접한 제1 센서 전극들을 연결시키는 연결부를 포함하는 센서 전극 패턴을 형성하는 단계;
상기 제1 센서 전극 및 연결부의 자장자리에 미세 금속 라인을 형성함과 동시에 상기 외곽 영역에 패드부와 제1 및 제2 라우팅 라인들을 형성하는 단계;
상기 미세 금속 라인, 패드부 그리고 제1 및 제2 라우팅 라인들이 형성된 기판 전면에 절연층을 형성하고, 상기 제2 센서 전극들의 소정 부분을 노출시키는 컨택홀들을 형성하는 단계; 그리고
상기 컨택홀들을 통해 인접한 제2 센서 전극들이 전기적으로 연결되도록 상기 절연층상에 복수개의 브릿지를 형성하는 단계를 포함하여 이루어짐을 특징으로 하는 터치 패널의 제조 방법. Forming a sensor electrode pattern including first and second sensor electrodes on the active region of a substrate having an active region and an outer region, and a connection portion connecting the first sensor electrodes adjacent to each other;
Forming a fine metal line at a magnetic field site of the first sensor electrode and the connection portion, and forming pad portions and first and second routing lines in the outer region;
Forming an insulating layer on the entire surface of the substrate on which the fine metal lines, the pad portions, and the first and second routing lines are formed, and forming contact holes exposing predetermined portions of the second sensor electrodes; And
And forming a plurality of bridges on the insulating layer such that neighboring second sensor electrodes are electrically connected through the contact holes. 제 10 항에 있어서,
상기 미세 금속 라인은 상기 제1 센서 전극들 및 연결부의 가장자리 하부에 형성됨을 특징으로 하는 터치 패널의 제조 방법.11. The method of claim 10,
Wherein the fine metal line is formed under the edges of the first sensor electrodes and the connection portion. 제 10 항에 있어서,
상기 미세 금속 라인은 상기 제1 라우팅 라인과 동일 물질로 상기 제1 라우팅 라인과 일체로 형성됨을 특징으로 하는 터치 패널의 제조 방법.11. The method of claim 10,
Wherein the fine metal line is formed of the same material as the first routing line and is formed integrally with the first routing line. 제 10 항에 있어서,
상기 미세 금속 라인은 2μm 내지 10μm의 선폭을 갖음을 특징으로 하는 터치 패널의 제조 방법.11. The method of claim 10,
Wherein the fine metal line has a line width of 2 占 퐉 to 10 占 퐉. 제 10 항에 있어서,
상기 미세 금속 라인의 제1 방향은 표시 장치의 장축 방향임을 특징으로 하는 터치 패널의 제조 방법.11. The method of claim 10,
Wherein the first direction of the fine metal lines is a major axis direction of the display device.
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