KR20150058001A - 카르본산 변성 니트릴계 공중합체 라텍스 조성물, 이의 제조방법 및 이를 포함하는 딥 성형용 라텍스 조성물 - Google Patents
카르본산 변성 니트릴계 공중합체 라텍스 조성물, 이의 제조방법 및 이를 포함하는 딥 성형용 라텍스 조성물 Download PDFInfo
- Publication number
- KR20150058001A KR20150058001A KR1020140157391A KR20140157391A KR20150058001A KR 20150058001 A KR20150058001 A KR 20150058001A KR 1020140157391 A KR1020140157391 A KR 1020140157391A KR 20140157391 A KR20140157391 A KR 20140157391A KR 20150058001 A KR20150058001 A KR 20150058001A
- Authority
- KR
- South Korea
- Prior art keywords
- weight
- monomer
- meth
- acid
- latex composition
- Prior art date
Links
- 239000004816 latex Substances 0.000 title claims abstract description 102
- 229920000126 latex Polymers 0.000 title claims abstract description 102
- 239000000203 mixture Substances 0.000 title claims abstract description 92
- 229920001577 copolymer Polymers 0.000 title claims abstract description 66
- 150000001732 carboxylic acid derivatives Chemical class 0.000 title abstract description 11
- 238000002360 preparation method Methods 0.000 title abstract description 4
- 239000000178 monomer Substances 0.000 claims abstract description 88
- 150000002825 nitriles Chemical class 0.000 claims abstract description 74
- 239000003995 emulsifying agent Substances 0.000 claims abstract description 71
- 239000002253 acid Substances 0.000 claims abstract description 18
- 150000001993 dienes Chemical class 0.000 claims abstract description 14
- 238000000034 method Methods 0.000 claims description 27
- 238000006116 polymerization reaction Methods 0.000 claims description 27
- NIXOWILDQLNWCW-UHFFFAOYSA-M Acrylate Chemical compound [O-]C(=O)C=C NIXOWILDQLNWCW-UHFFFAOYSA-M 0.000 claims description 24
- -1 3-sulfopropyltetradecyl Chemical group 0.000 claims description 23
- 238000000465 moulding Methods 0.000 claims description 17
- DGAQECJNVWCQMB-PUAWFVPOSA-M Ilexoside XXIX Chemical group C[C@@H]1CC[C@@]2(CC[C@@]3(C(=CC[C@H]4[C@]3(CC[C@@H]5[C@@]4(CC[C@@H](C5(C)C)OS(=O)(=O)[O-])C)C)[C@@H]2[C@]1(C)O)C)C(=O)O[C@H]6[C@@H]([C@H]([C@@H]([C@H](O6)CO)O)O)O.[Na+] DGAQECJNVWCQMB-PUAWFVPOSA-M 0.000 claims description 15
- 239000011734 sodium Substances 0.000 claims description 15
- 229910052708 sodium Inorganic materials 0.000 claims description 15
- 238000006243 chemical reaction Methods 0.000 claims description 10
- HRPVXLWXLXDGHG-UHFFFAOYSA-N Acrylamide Chemical compound NC(=O)C=C HRPVXLWXLXDGHG-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 8
- KAKZBPTYRLMSJV-UHFFFAOYSA-N Butadiene Chemical group C=CC=C KAKZBPTYRLMSJV-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 8
- CERQOIWHTDAKMF-UHFFFAOYSA-N Methacrylic acid Chemical compound CC(=C)C(O)=O CERQOIWHTDAKMF-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 7
- ULUAUXLGCMPNKK-UHFFFAOYSA-N Sulfobutanedioic acid Chemical compound OC(=O)CC(C(O)=O)S(O)(=O)=O ULUAUXLGCMPNKK-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 7
- VZCYOOQTPOCHFL-OWOJBTEDSA-N Fumaric acid Chemical compound OC(=O)\C=C\C(O)=O VZCYOOQTPOCHFL-OWOJBTEDSA-N 0.000 claims description 6
- RRHGJUQNOFWUDK-UHFFFAOYSA-N Isoprene Chemical compound CC(=C)C=C RRHGJUQNOFWUDK-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 6
- 239000003945 anionic surfactant Substances 0.000 claims description 6
- GVGUFUZHNYFZLC-UHFFFAOYSA-N dodecyl benzenesulfonate;sodium Chemical compound [Na].CCCCCCCCCCCCOS(=O)(=O)C1=CC=CC=C1 GVGUFUZHNYFZLC-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 6
- 229940080264 sodium dodecylbenzenesulfonate Drugs 0.000 claims description 6
- VZCYOOQTPOCHFL-UHFFFAOYSA-N trans-butenedioic acid Natural products OC(=O)C=CC(O)=O VZCYOOQTPOCHFL-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 6
- NLHHRLWOUZZQLW-UHFFFAOYSA-N Acrylonitrile Chemical group C=CC#N NLHHRLWOUZZQLW-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 5
- NIXOWILDQLNWCW-UHFFFAOYSA-N acrylic acid group Chemical group C(C=C)(=O)O NIXOWILDQLNWCW-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 5
- 238000006757 chemical reactions by type Methods 0.000 claims description 5
- SDJHPPZKZZWAKF-UHFFFAOYSA-N 2,3-dimethylbuta-1,3-diene Chemical compound CC(=C)C(C)=C SDJHPPZKZZWAKF-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 4
- PPBRXRYQALVLMV-UHFFFAOYSA-N Styrene Chemical compound C=CC1=CC=CC=C1 PPBRXRYQALVLMV-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 4
- 125000004184 methoxymethyl group Chemical group [H]C([H])([H])OC([H])([H])* 0.000 claims description 4
- 239000003607 modifier Substances 0.000 claims description 4
- 239000003505 polymerization initiator Substances 0.000 claims description 4
- QAOWNCQODCNURD-UHFFFAOYSA-N sulfuric acid Substances OS(O)(=O)=O QAOWNCQODCNURD-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 4
- JAHNSTQSQJOJLO-UHFFFAOYSA-N 2-(3-fluorophenyl)-1h-imidazole Chemical compound FC1=CC=CC(C=2NC=CN=2)=C1 JAHNSTQSQJOJLO-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 3
- OFOBLEOULBTSOW-UHFFFAOYSA-N Propanedioic acid Natural products OC(=O)CC(O)=O OFOBLEOULBTSOW-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 3
- 125000000484 butyl group Chemical group [H]C([*])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])[H] 0.000 claims description 3
- 239000001530 fumaric acid Substances 0.000 claims description 3
- 230000000977 initiatory effect Effects 0.000 claims description 3
- 229940049920 malate Drugs 0.000 claims description 3
- VZCYOOQTPOCHFL-UPHRSURJSA-N maleic acid Chemical compound OC(=O)\C=C/C(O)=O VZCYOOQTPOCHFL-UPHRSURJSA-N 0.000 claims description 3
- 239000011976 maleic acid Substances 0.000 claims description 3
- BJEPYKJPYRNKOW-UHFFFAOYSA-N malic acid Chemical compound OC(=O)C(O)CC(O)=O BJEPYKJPYRNKOW-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 3
- LVHBHZANLOWSRM-UHFFFAOYSA-N methylenebutanedioic acid Natural products OC(=O)CC(=C)C(O)=O LVHBHZANLOWSRM-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 3
- PMJHHCWVYXUKFD-SNAWJCMRSA-N (E)-1,3-pentadiene Chemical compound C\C=C\C=C PMJHHCWVYXUKFD-SNAWJCMRSA-N 0.000 claims description 2
- UTOVMEACOLCUCK-SNAWJCMRSA-N (e)-4-butoxy-4-oxobut-2-enoic acid Chemical compound CCCCOC(=O)\C=C\C(O)=O UTOVMEACOLCUCK-SNAWJCMRSA-N 0.000 claims description 2
- KYPOHTVBFVELTG-OWOJBTEDSA-N (e)-but-2-enedinitrile Chemical compound N#C\C=C\C#N KYPOHTVBFVELTG-OWOJBTEDSA-N 0.000 claims description 2
- MJYFYGVCLHNRKB-UHFFFAOYSA-N 1,1,2-trifluoroethyl 2-methylprop-2-enoate Chemical compound CC(=C)C(=O)OC(F)(F)CF MJYFYGVCLHNRKB-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 2
- FPFVPEGEWVRCGK-UHFFFAOYSA-N 1-ethenoxy-2-fluoroethane Chemical compound FCCOC=C FPFVPEGEWVRCGK-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 2
- IGGDKDTUCAWDAN-UHFFFAOYSA-N 1-vinylnaphthalene Chemical compound C1=CC=C2C(C=C)=CC=CC2=C1 IGGDKDTUCAWDAN-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 2
- HECLRDQVFMWTQS-RGOKHQFPSA-N 1755-01-7 Chemical compound C1[C@H]2[C@@H]3CC=C[C@@H]3[C@@H]1C=C2 HECLRDQVFMWTQS-RGOKHQFPSA-N 0.000 claims description 2
- AGBXYHCHUYARJY-UHFFFAOYSA-N 2-phenylethenesulfonic acid Chemical compound OS(=O)(=O)C=CC1=CC=CC=C1 AGBXYHCHUYARJY-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 2
- KGIGUEBEKRSTEW-UHFFFAOYSA-N 2-vinylpyridine Chemical compound C=CC1=CC=CC=N1 KGIGUEBEKRSTEW-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 2
- AYKYXWQEBUNJCN-UHFFFAOYSA-N 3-methylfuran-2,5-dione Chemical compound CC1=CC(=O)OC1=O AYKYXWQEBUNJCN-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 2
- IGLWCQMNTGCUBB-UHFFFAOYSA-N 3-methylidenepent-1-ene Chemical compound CCC(=C)C=C IGLWCQMNTGCUBB-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 2
- VIMURDQMAUVTQX-UHFFFAOYSA-N 4-cyano-2-methylbut-2-enoic acid Chemical compound OC(=O)C(C)=CCC#N VIMURDQMAUVTQX-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 2
- INYHZQLKOKTDAI-UHFFFAOYSA-N 5-ethenylbicyclo[2.2.1]hept-2-ene Chemical compound C1C2C(C=C)CC1C=C2 INYHZQLKOKTDAI-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 2
- GAWIXWVDTYZWAW-UHFFFAOYSA-N C[CH]O Chemical group C[CH]O GAWIXWVDTYZWAW-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 2
- GYCMBHHDWRMZGG-UHFFFAOYSA-N Methylacrylonitrile Chemical compound CC(=C)C#N GYCMBHHDWRMZGG-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 2
- 125000004018 acid anhydride group Chemical group 0.000 claims description 2
- 150000001252 acrylic acid derivatives Chemical class 0.000 claims description 2
- 150000001298 alcohols Chemical class 0.000 claims description 2
- UTOVMEACOLCUCK-PLNGDYQASA-N butyl maleate Chemical compound CCCCOC(=O)\C=C/C(O)=O UTOVMEACOLCUCK-PLNGDYQASA-N 0.000 claims description 2
- 125000003178 carboxy group Chemical group [H]OC(*)=O 0.000 claims description 2
- 150000001875 compounds Chemical class 0.000 claims description 2
- 125000005448 ethoxyethyl group Chemical group [H]C([H])([H])C([H])([H])OC([H])([H])C([H])([H])* 0.000 claims description 2
- 125000003055 glycidyl group Chemical group C(C1CO1)* 0.000 claims description 2
- FPYJFEHAWHCUMM-UHFFFAOYSA-N maleic anhydride Chemical compound O=C1OC(=O)C=C1 FPYJFEHAWHCUMM-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 2
- PMJHHCWVYXUKFD-UHFFFAOYSA-N piperylene Natural products CC=CC=C PMJHHCWVYXUKFD-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 2
- 125000000542 sulfonic acid group Chemical group 0.000 claims description 2
- 150000003839 salts Chemical class 0.000 claims 1
- 230000032683 aging Effects 0.000 abstract description 3
- 239000013530 defoamer Substances 0.000 abstract description 2
- VGGSQFUCUMXWEO-UHFFFAOYSA-N Ethene Chemical compound C=C VGGSQFUCUMXWEO-UHFFFAOYSA-N 0.000 abstract 2
- 239000005977 Ethylene Substances 0.000 abstract 2
- 230000015556 catabolic process Effects 0.000 abstract 1
- 238000006731 degradation reaction Methods 0.000 abstract 1
- 230000000052 comparative effect Effects 0.000 description 27
- 238000004519 manufacturing process Methods 0.000 description 13
- 238000005187 foaming Methods 0.000 description 11
- XLYOFNOQVPJJNP-UHFFFAOYSA-N water Substances O XLYOFNOQVPJJNP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 9
- 239000006260 foam Substances 0.000 description 8
- 239000000701 coagulant Substances 0.000 description 7
- 239000007787 solid Substances 0.000 description 7
- 239000002518 antifoaming agent Substances 0.000 description 6
- 229920000642 polymer Polymers 0.000 description 6
- VTYYLEPIZMXCLO-UHFFFAOYSA-L Calcium carbonate Chemical compound [Ca+2].[O-]C([O-])=O VTYYLEPIZMXCLO-UHFFFAOYSA-L 0.000 description 4
- XLOMVQKBTHCTTD-UHFFFAOYSA-N Zinc monoxide Chemical compound [Zn]=O XLOMVQKBTHCTTD-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- ZCCIPPOKBCJFDN-UHFFFAOYSA-N calcium nitrate Chemical compound [Ca+2].[O-][N+]([O-])=O.[O-][N+]([O-])=O ZCCIPPOKBCJFDN-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- 239000003795 chemical substances by application Substances 0.000 description 4
- 238000007720 emulsion polymerization reaction Methods 0.000 description 4
- 238000002386 leaching Methods 0.000 description 4
- 239000002245 particle Substances 0.000 description 4
- 230000035882 stress Effects 0.000 description 4
- YMWUJEATGCHHMB-UHFFFAOYSA-N Dichloromethane Chemical compound ClCCl YMWUJEATGCHHMB-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- MHAJPDPJQMAIIY-UHFFFAOYSA-N Hydrogen peroxide Chemical compound OO MHAJPDPJQMAIIY-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- NINIDFKCEFEMDL-UHFFFAOYSA-N Sulfur Chemical compound [S] NINIDFKCEFEMDL-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- 230000003247 decreasing effect Effects 0.000 description 3
- 230000007547 defect Effects 0.000 description 3
- 239000002270 dispersing agent Substances 0.000 description 3
- 239000012153 distilled water Substances 0.000 description 3
- 238000002156 mixing Methods 0.000 description 3
- 229910052717 sulfur Inorganic materials 0.000 description 3
- 239000011593 sulfur Substances 0.000 description 3
- YAJYJWXEWKRTPO-UHFFFAOYSA-N 2,3,3,4,4,5-hexamethylhexane-2-thiol Chemical compound CC(C)C(C)(C)C(C)(C)C(C)(C)S YAJYJWXEWKRTPO-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- OZAIFHULBGXAKX-UHFFFAOYSA-N 2-(2-cyanopropan-2-yldiazenyl)-2-methylpropanenitrile Chemical compound N#CC(C)(C)N=NC(C)(C)C#N OZAIFHULBGXAKX-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- VHUUQVKOLVNVRT-UHFFFAOYSA-N Ammonium hydroxide Chemical compound [NH4+].[OH-] VHUUQVKOLVNVRT-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- BWGNESOTFCXPMA-UHFFFAOYSA-N Dihydrogen disulfide Chemical compound SS BWGNESOTFCXPMA-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 244000043261 Hevea brasiliensis Species 0.000 description 2
- KWYUFKZDYYNOTN-UHFFFAOYSA-M Potassium hydroxide Chemical compound [OH-].[K+] KWYUFKZDYYNOTN-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 2
- GWEVSGVZZGPLCZ-UHFFFAOYSA-N Titan oxide Chemical compound O=[Ti]=O GWEVSGVZZGPLCZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 239000000654 additive Substances 0.000 description 2
- 235000011114 ammonium hydroxide Nutrition 0.000 description 2
- 229910000019 calcium carbonate Inorganic materials 0.000 description 2
- 239000000919 ceramic Substances 0.000 description 2
- 238000003795 desorption Methods 0.000 description 2
- LSXWFXONGKSEMY-UHFFFAOYSA-N di-tert-butyl peroxide Chemical compound CC(C)(C)OOC(C)(C)C LSXWFXONGKSEMY-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- ZQMIGQNCOMNODD-UHFFFAOYSA-N diacetyl peroxide Chemical compound CC(=O)OOC(C)=O ZQMIGQNCOMNODD-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 239000003999 initiator Substances 0.000 description 2
- 239000000463 material Substances 0.000 description 2
- 229920003052 natural elastomer Polymers 0.000 description 2
- 229920001194 natural rubber Polymers 0.000 description 2
- 239000011591 potassium Substances 0.000 description 2
- 229910052700 potassium Inorganic materials 0.000 description 2
- USHAGKDGDHPEEY-UHFFFAOYSA-L potassium persulfate Chemical compound [K+].[K+].[O-]S(=O)(=O)OOS([O-])(=O)=O USHAGKDGDHPEEY-UHFFFAOYSA-L 0.000 description 2
- VZGDMQKNWNREIO-UHFFFAOYSA-N tetrachloromethane Chemical compound ClC(Cl)(Cl)Cl VZGDMQKNWNREIO-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- OGIDPMRJRNCKJF-UHFFFAOYSA-N titanium oxide Inorganic materials [Ti]=O OGIDPMRJRNCKJF-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 239000000080 wetting agent Substances 0.000 description 2
- BOXSVZNGTQTENJ-UHFFFAOYSA-L zinc dibutyldithiocarbamate Chemical compound [Zn+2].CCCCN(C([S-])=S)CCCC.CCCCN(C([S-])=S)CCCC BOXSVZNGTQTENJ-UHFFFAOYSA-L 0.000 description 2
- 239000011787 zinc oxide Substances 0.000 description 2
- AYMDJPGTQFHDSA-UHFFFAOYSA-N 1-(2-ethenoxyethoxy)-2-ethoxyethane Chemical compound CCOCCOCCOC=C AYMDJPGTQFHDSA-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- LDXJRKWFNNFDSA-UHFFFAOYSA-N 2-(2,4,6,7-tetrahydrotriazolo[4,5-c]pyridin-5-yl)-1-[4-[2-[[3-(trifluoromethoxy)phenyl]methylamino]pyrimidin-5-yl]piperazin-1-yl]ethanone Chemical compound C1CN(CC2=NNN=C21)CC(=O)N3CCN(CC3)C4=CN=C(N=C4)NCC5=CC(=CC=C5)OC(F)(F)F LDXJRKWFNNFDSA-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- LCPVQAHEFVXVKT-UHFFFAOYSA-N 2-(2,4-difluorophenoxy)pyridin-3-amine Chemical compound NC1=CC=CN=C1OC1=CC=C(F)C=C1F LCPVQAHEFVXVKT-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- VBZBISQOWJYWCC-UHFFFAOYSA-N 2-(2-carboxypropan-2-yldiazenyl)-2-methylpropanoic acid Chemical compound OC(=O)C(C)(C)N=NC(C)(C)C(O)=O VBZBISQOWJYWCC-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- SMZOUWXMTYCWNB-UHFFFAOYSA-N 2-(2-methoxy-5-methylphenyl)ethanamine Chemical compound COC1=CC=C(C)C=C1CCN SMZOUWXMTYCWNB-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- TVWBTVJBDFTVOW-UHFFFAOYSA-N 2-methyl-1-(2-methylpropylperoxy)propane Chemical compound CC(C)COOCC(C)C TVWBTVJBDFTVOW-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- BIISIZOQPWZPPS-UHFFFAOYSA-N 2-tert-butylperoxypropan-2-ylbenzene Chemical compound CC(C)(C)OOC(C)(C)C1=CC=CC=C1 BIISIZOQPWZPPS-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- FRIBMENBGGCKPD-UHFFFAOYSA-N 3-(2,3-dimethoxyphenyl)prop-2-enal Chemical compound COC1=CC=CC(C=CC=O)=C1OC FRIBMENBGGCKPD-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- DEXFNLNNUZKHNO-UHFFFAOYSA-N 6-[3-[4-[2-(2,3-dihydro-1H-inden-2-ylamino)pyrimidin-5-yl]piperidin-1-yl]-3-oxopropyl]-3H-1,3-benzoxazol-2-one Chemical compound C1C(CC2=CC=CC=C12)NC1=NC=C(C=N1)C1CCN(CC1)C(CCC1=CC2=C(NC(O2)=O)C=C1)=O DEXFNLNNUZKHNO-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229920002126 Acrylic acid copolymer Polymers 0.000 description 1
- QGZKDVFQNNGYKY-UHFFFAOYSA-O Ammonium Chemical group [NH4+] QGZKDVFQNNGYKY-UHFFFAOYSA-O 0.000 description 1
- OYPRJOBELJOOCE-UHFFFAOYSA-N Calcium Chemical compound [Ca] OYPRJOBELJOOCE-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- RWSOTUBLDIXVET-UHFFFAOYSA-N Dihydrogen sulfide Chemical class S RWSOTUBLDIXVET-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 206010020751 Hypersensitivity Diseases 0.000 description 1
- 229940123973 Oxygen scavenger Drugs 0.000 description 1
- ZLMJMSJWJFRBEC-UHFFFAOYSA-N Potassium Chemical group [K] ZLMJMSJWJFRBEC-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- KYIKRXIYLAGAKQ-UHFFFAOYSA-N abcn Chemical compound C1CCCCC1(C#N)N=NC1(C#N)CCCCC1 KYIKRXIYLAGAKQ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 238000010521 absorption reaction Methods 0.000 description 1
- ATMLPEJAVWINOF-UHFFFAOYSA-N acrylic acid acrylic acid Chemical compound OC(=O)C=C.OC(=O)C=C ATMLPEJAVWINOF-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 230000000274 adsorptive effect Effects 0.000 description 1
- 230000002411 adverse Effects 0.000 description 1
- 125000001931 aliphatic group Chemical group 0.000 description 1
- 230000007815 allergy Effects 0.000 description 1
- 239000000908 ammonium hydroxide Substances 0.000 description 1
- ROOXNKNUYICQNP-UHFFFAOYSA-N ammonium peroxydisulfate Substances [NH4+].[NH4+].[O-]S(=O)(=O)OOS([O-])(=O)=O ROOXNKNUYICQNP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- VAZSKTXWXKYQJF-UHFFFAOYSA-N ammonium persulfate Chemical compound [NH4+].[NH4+].[O-]S(=O)OOS([O-])=O VAZSKTXWXKYQJF-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229910001870 ammonium persulfate Inorganic materials 0.000 description 1
- 230000003712 anti-aging effect Effects 0.000 description 1
- 239000003963 antioxidant agent Substances 0.000 description 1
- 230000003078 antioxidant effect Effects 0.000 description 1
- 235000019400 benzoyl peroxide Nutrition 0.000 description 1
- 230000015572 biosynthetic process Effects 0.000 description 1
- 230000000903 blocking effect Effects 0.000 description 1
- 239000011575 calcium Substances 0.000 description 1
- 229910052791 calcium Inorganic materials 0.000 description 1
- BVKZGUZCCUSVTD-UHFFFAOYSA-N carbonic acid Chemical compound OC(O)=O BVKZGUZCCUSVTD-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000002738 chelating agent Substances 0.000 description 1
- 238000010835 comparative analysis Methods 0.000 description 1
- 230000002950 deficient Effects 0.000 description 1
- 238000004332 deodorization Methods 0.000 description 1
- 230000006866 deterioration Effects 0.000 description 1
- FJBFPHVGVWTDIP-UHFFFAOYSA-N dibromomethane Chemical compound BrCBr FJBFPHVGVWTDIP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 238000007598 dipping method Methods 0.000 description 1
- 238000009826 distribution Methods 0.000 description 1
- WNAHIZMDSQCWRP-UHFFFAOYSA-N dodecane-1-thiol Chemical compound CCCCCCCCCCCCS WNAHIZMDSQCWRP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 238000001035 drying Methods 0.000 description 1
- 230000000694 effects Effects 0.000 description 1
- 229920001971 elastomer Polymers 0.000 description 1
- 238000010828 elution Methods 0.000 description 1
- 239000000839 emulsion Substances 0.000 description 1
- 230000003203 everyday effect Effects 0.000 description 1
- 150000008282 halocarbons Chemical class 0.000 description 1
- 230000035800 maturation Effects 0.000 description 1
- 238000005259 measurement Methods 0.000 description 1
- 229940041616 menthol Drugs 0.000 description 1
- 125000002496 methyl group Chemical group [H]C([H])([H])* 0.000 description 1
- 229910017464 nitrogen compound Inorganic materials 0.000 description 1
- 150000002830 nitrogen compounds Chemical class 0.000 description 1
- 239000012875 nonionic emulsifier Substances 0.000 description 1
- ZWWQICJTBOCQLA-UHFFFAOYSA-N o-propan-2-yl (propan-2-yloxycarbothioyldisulfanyl)methanethioate Chemical compound CC(C)OC(=S)SSC(=S)OC(C)C ZWWQICJTBOCQLA-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- KZCOBXFFBQJQHH-UHFFFAOYSA-N octane-1-thiol Chemical compound CCCCCCCCS KZCOBXFFBQJQHH-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- SRSFOMHQIATOFV-UHFFFAOYSA-N octanoyl octaneperoxoate Chemical compound CCCCCCCC(=O)OOC(=O)CCCCCCC SRSFOMHQIATOFV-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000003002 pH adjusting agent Substances 0.000 description 1
- 150000002978 peroxides Chemical class 0.000 description 1
- 230000000704 physical effect Effects 0.000 description 1
- 102000004169 proteins and genes Human genes 0.000 description 1
- 108090000623 proteins and genes Proteins 0.000 description 1
- 239000011541 reaction mixture Substances 0.000 description 1
- 230000009257 reactivity Effects 0.000 description 1
- 239000011347 resin Substances 0.000 description 1
- 229920005989 resin Polymers 0.000 description 1
- 239000011369 resultant mixture Substances 0.000 description 1
- CHQMHPLRPQMAMX-UHFFFAOYSA-L sodium persulfate Substances [Na+].[Na+].[O-]S(=O)(=O)OOS([O-])(=O)=O CHQMHPLRPQMAMX-UHFFFAOYSA-L 0.000 description 1
- 239000000126 substance Substances 0.000 description 1
- BDHFUVZGWQCTTF-UHFFFAOYSA-M sulfonate Chemical compound [O-]S(=O)=O BDHFUVZGWQCTTF-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 1
- 239000004711 α-olefin Substances 0.000 description 1
Classifications
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C08—ORGANIC MACROMOLECULAR COMPOUNDS; THEIR PREPARATION OR CHEMICAL WORKING-UP; COMPOSITIONS BASED THEREON
- C08F—MACROMOLECULAR COMPOUNDS OBTAINED BY REACTIONS ONLY INVOLVING CARBON-TO-CARBON UNSATURATED BONDS
- C08F2/00—Processes of polymerisation
- C08F2/12—Polymerisation in non-solvents
- C08F2/16—Aqueous medium
- C08F2/22—Emulsion polymerisation
- C08F2/24—Emulsion polymerisation with the aid of emulsifying agents
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C08—ORGANIC MACROMOLECULAR COMPOUNDS; THEIR PREPARATION OR CHEMICAL WORKING-UP; COMPOSITIONS BASED THEREON
- C08L—COMPOSITIONS OF MACROMOLECULAR COMPOUNDS
- C08L9/00—Compositions of homopolymers or copolymers of conjugated diene hydrocarbons
- C08L9/02—Copolymers with acrylonitrile
- C08L9/04—Latex
-
- A—HUMAN NECESSITIES
- A41—WEARING APPAREL
- A41D—OUTERWEAR; PROTECTIVE GARMENTS; ACCESSORIES
- A41D19/00—Gloves
- A41D19/0055—Plastic or rubber gloves
- A41D19/0082—Details
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C08—ORGANIC MACROMOLECULAR COMPOUNDS; THEIR PREPARATION OR CHEMICAL WORKING-UP; COMPOSITIONS BASED THEREON
- C08F—MACROMOLECULAR COMPOUNDS OBTAINED BY REACTIONS ONLY INVOLVING CARBON-TO-CARBON UNSATURATED BONDS
- C08F2/00—Processes of polymerisation
- C08F2/12—Polymerisation in non-solvents
- C08F2/16—Aqueous medium
- C08F2/22—Emulsion polymerisation
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C08—ORGANIC MACROMOLECULAR COMPOUNDS; THEIR PREPARATION OR CHEMICAL WORKING-UP; COMPOSITIONS BASED THEREON
- C08F—MACROMOLECULAR COMPOUNDS OBTAINED BY REACTIONS ONLY INVOLVING CARBON-TO-CARBON UNSATURATED BONDS
- C08F2/00—Processes of polymerisation
- C08F2/12—Polymerisation in non-solvents
- C08F2/16—Aqueous medium
- C08F2/22—Emulsion polymerisation
- C08F2/24—Emulsion polymerisation with the aid of emulsifying agents
- C08F2/26—Emulsion polymerisation with the aid of emulsifying agents anionic
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C08—ORGANIC MACROMOLECULAR COMPOUNDS; THEIR PREPARATION OR CHEMICAL WORKING-UP; COMPOSITIONS BASED THEREON
- C08F—MACROMOLECULAR COMPOUNDS OBTAINED BY REACTIONS ONLY INVOLVING CARBON-TO-CARBON UNSATURATED BONDS
- C08F220/00—Copolymers of compounds having one or more unsaturated aliphatic radicals, each having only one carbon-to-carbon double bond, and only one being terminated by only one carboxyl radical or a salt, anhydride ester, amide, imide or nitrile thereof
- C08F220/02—Monocarboxylic acids having less than ten carbon atoms; Derivatives thereof
- C08F220/04—Acids; Metal salts or ammonium salts thereof
- C08F220/06—Acrylic acid; Methacrylic acid; Metal salts or ammonium salts thereof
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C08—ORGANIC MACROMOLECULAR COMPOUNDS; THEIR PREPARATION OR CHEMICAL WORKING-UP; COMPOSITIONS BASED THEREON
- C08F—MACROMOLECULAR COMPOUNDS OBTAINED BY REACTIONS ONLY INVOLVING CARBON-TO-CARBON UNSATURATED BONDS
- C08F220/00—Copolymers of compounds having one or more unsaturated aliphatic radicals, each having only one carbon-to-carbon double bond, and only one being terminated by only one carboxyl radical or a salt, anhydride ester, amide, imide or nitrile thereof
- C08F220/02—Monocarboxylic acids having less than ten carbon atoms; Derivatives thereof
- C08F220/10—Esters
- C08F220/12—Esters of monohydric alcohols or phenols
- C08F220/16—Esters of monohydric alcohols or phenols of phenols or of alcohols containing two or more carbon atoms
- C08F220/18—Esters of monohydric alcohols or phenols of phenols or of alcohols containing two or more carbon atoms with acrylic or methacrylic acids
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C08—ORGANIC MACROMOLECULAR COMPOUNDS; THEIR PREPARATION OR CHEMICAL WORKING-UP; COMPOSITIONS BASED THEREON
- C08F—MACROMOLECULAR COMPOUNDS OBTAINED BY REACTIONS ONLY INVOLVING CARBON-TO-CARBON UNSATURATED BONDS
- C08F220/00—Copolymers of compounds having one or more unsaturated aliphatic radicals, each having only one carbon-to-carbon double bond, and only one being terminated by only one carboxyl radical or a salt, anhydride ester, amide, imide or nitrile thereof
- C08F220/02—Monocarboxylic acids having less than ten carbon atoms; Derivatives thereof
- C08F220/42—Nitriles
- C08F220/44—Acrylonitrile
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C08—ORGANIC MACROMOLECULAR COMPOUNDS; THEIR PREPARATION OR CHEMICAL WORKING-UP; COMPOSITIONS BASED THEREON
- C08F—MACROMOLECULAR COMPOUNDS OBTAINED BY REACTIONS ONLY INVOLVING CARBON-TO-CARBON UNSATURATED BONDS
- C08F236/00—Copolymers of compounds having one or more unsaturated aliphatic radicals, at least one having two or more carbon-to-carbon double bonds
- C08F236/02—Copolymers of compounds having one or more unsaturated aliphatic radicals, at least one having two or more carbon-to-carbon double bonds the radical having only two carbon-to-carbon double bonds
- C08F236/04—Copolymers of compounds having one or more unsaturated aliphatic radicals, at least one having two or more carbon-to-carbon double bonds the radical having only two carbon-to-carbon double bonds conjugated
- C08F236/12—Copolymers of compounds having one or more unsaturated aliphatic radicals, at least one having two or more carbon-to-carbon double bonds the radical having only two carbon-to-carbon double bonds conjugated with nitriles
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C08—ORGANIC MACROMOLECULAR COMPOUNDS; THEIR PREPARATION OR CHEMICAL WORKING-UP; COMPOSITIONS BASED THEREON
- C08F—MACROMOLECULAR COMPOUNDS OBTAINED BY REACTIONS ONLY INVOLVING CARBON-TO-CARBON UNSATURATED BONDS
- C08F265/00—Macromolecular compounds obtained by polymerising monomers on to polymers of unsaturated monocarboxylic acids or derivatives thereof as defined in group C08F20/00
- C08F265/08—Macromolecular compounds obtained by polymerising monomers on to polymers of unsaturated monocarboxylic acids or derivatives thereof as defined in group C08F20/00 on to polymers of nitriles
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C08—ORGANIC MACROMOLECULAR COMPOUNDS; THEIR PREPARATION OR CHEMICAL WORKING-UP; COMPOSITIONS BASED THEREON
- C08L—COMPOSITIONS OF MACROMOLECULAR COMPOUNDS
- C08L13/00—Compositions of rubbers containing carboxyl groups
- C08L13/02—Latex
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C08—ORGANIC MACROMOLECULAR COMPOUNDS; THEIR PREPARATION OR CHEMICAL WORKING-UP; COMPOSITIONS BASED THEREON
- C08L—COMPOSITIONS OF MACROMOLECULAR COMPOUNDS
- C08L47/00—Compositions of homopolymers or copolymers of compounds having one or more unsaturated aliphatic radicals, at least one having two or more carbon-to-carbon double bonds; Compositions of derivatives of such polymers
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C08—ORGANIC MACROMOLECULAR COMPOUNDS; THEIR PREPARATION OR CHEMICAL WORKING-UP; COMPOSITIONS BASED THEREON
- C08L—COMPOSITIONS OF MACROMOLECULAR COMPOUNDS
- C08L2201/00—Properties
- C08L2201/52—Aqueous emulsion or latex, e.g. containing polymers of a glass transition temperature (Tg) below 20°C
Landscapes
- Chemical & Material Sciences (AREA)
- Health & Medical Sciences (AREA)
- Chemical Kinetics & Catalysis (AREA)
- Medicinal Chemistry (AREA)
- Polymers & Plastics (AREA)
- Organic Chemistry (AREA)
- Engineering & Computer Science (AREA)
- Textile Engineering (AREA)
- Addition Polymer Or Copolymer, Post-Treatments, Or Chemical Modifications (AREA)
- Polymerisation Methods In General (AREA)
- Manufacture Of Porous Articles, And Recovery And Treatment Of Waste Products (AREA)
- Materials For Medical Uses (AREA)
- Dispersion Chemistry (AREA)
- Manufacturing & Machinery (AREA)
- Materials Engineering (AREA)
- Compositions Of Macromolecular Compounds (AREA)
Abstract
본 발명은 단량체 혼합물 100 중량부에 대하여 반응형 유화제 0.1 중량부 내지 10 중량부를 포함하고, 상기 단량체 혼합물이 공역 디엔계 단량체 40 중량% 내지 88 중량%; 에틸렌성 불포화 니트릴 단량체 10 중량% 내지 50 중량%; 및 에틸렌성 불포화 산 단량체 0.1 중량% 내지 10 중량%를 포함하는 것을 특징으로 하는 카르본산 변성 니트릴계 공중합체 라텍스 조성물, 이의 제조방법 및 이를 포함하는 딥 성형용 라텍스 조성물에 관한 것이다. 이에 따른, 반응형 유화제를 포함하는 카르본산 변성 니트릴계 공중합체 라텍스 조성물은 종래의 흡·탈착형의 유화제와는 다른 반응형 유화제를 포함함으로써 거품의 발생을 감소시켜, 거품으로 인한 라텍스 품질 저하를 방지할 수 있을 뿐 아니라, 거품 제거를 위한 소포제의 투입이나 숙성과정을 생략할 수 있다.
Description
본 발명은 반응형 유화제를 포함하는 안정화된 카르본산 변성 니트릴계 공중합체 라텍스 조성물, 이의 제조방법 및 이를 포함하는 딥 성형용 라텍스 조성물에 관한 것이다.
가사, 식품 산업, 전자 산업, 의료 분야 등 일상생활에서 다양하게 사용되는 일회용 고무장갑은 천연고무 또는 카르본산 변성 니트릴계 공중합체 라텍스의 딥 성형으로 만들어진다. 최근에는 천연고무의 천연 단백질로 인한 알러지 문제와 불안정한 수급 문제로 일회용 장갑 시장에서 카르본산 변성 니트릴계 장갑이 각광을 받고 있다.
상기 카르본산 변성 니트릴계 장갑은 유화중합으로 만든 라텍스에 응고물로 도포된 몰드를 디핑하여 만든다. 유화중합에는 많은 양의 유화제가 사용되는데, 이러한 유화제는 장갑 제조 과정에서 거품을 발생하여 핀홀을 유발하는 원인 물질이 된다.
장갑 제조과정에서 핀홀은 장갑에 구멍을 내어 불량을 유발하므로 거품제거를 위해 소포제를 투입하거나 숙성과정(maturation)을 거치게 된다. 소포제 투입은 소포제 그 자체가 이물로 작용하여 여러 장갑 불량의 원인으로 작용할 수 있으며, 또한 숙성과정도 제조 공정 시간을 증가시키는 문제가 있다.
또한, 제조 공정 중 리칭(leaching) 과정에서 유화제가 충분히 제거되지 않을 경우 장갑에 잔존하여 후에 사용자가 장갑을 착용하고 수분에 접촉하였을 경우 거품이 발생하거나 미끄러지는 현상이 발생한다. 장갑에 남아있는 유화제는 칼슘, 이형제 등과 함께 장갑에 가장 많이 남아있는 잔류 화학물질 중의 하나로 장갑의 품질에 나쁜 영향을 끼치는 것으로 알려져 있다.
따라서, 중합 시 다량의 거품을 발생시킴으로써 딥 성형품의 불량을 유발하거나 딥 성형품의 표면에 용출되어 착용감을 저하시키지 않는 유화제를 포함하는 안정한 라텍스가 필요한 실정이며, 이에 이를 개선하기 위한 많은 연구가 진행되고 있다.
이에, 본 발명자들은 라텍스 중합 시 다량의 거품을 발생시키거나 딥 성형품의 표면에 용출되어 착용감을 저하시키지 않는 안정한 라텍스를 연구하던 중, 종래의 흡·탈착형의 유화제와는 다른 반응형 유화제를 첨가하여 라텍스를 제조함으로써 다량의 거품을 발생시키지 않으면서 적은 양의 사용에도 안정한 라텍스를 수득할 수 있음을 확인함으로써 본 발명을 완성하였다.
본 발명의 목적은 라텍스 중합 시 발생되는 거품을 감소시킴으로써, 거품 제거를 위한 소포제의 투입이나, 숙성과정 없이 품질이 우수하며 안정한 라텍스를 제조할 수 있는, 반응형 유화제를 포함하는 카르본산 변성 니트릴계 공중합체 라텍스 조성물을 제공하는 것이다.
본 발명의 다른 목적은 상기의 라텍스 조성물의 제조방법을 제공하는 것이다.
본 발명의 또 다른 목적은 상기 라텍스 조성물을 포함하는 딥 성형용 라텍스 조성물을 제공하는 것이다.
상기의 과제를 해결하기 위하여, 본 발명은 단량체 혼합물 100 중량부에 대하여 반응형 유화제 0.1 중량부 내지 10 중량부를 포함하고, 상기 단량체 혼합물이 공역 디엔계 단량체 40 중량% 내지 88 중량%; 에틸렌성 불포화 니트릴 단량체 10 중량% 내지 50 중량%; 및 에틸렌성 불포화 산 단량체 0.1 중량% 내지 10 중량%를 포함하는 것을 특징으로 하는 카르본산 변성 니트릴계 공중합체 라텍스 조성물을 제공한다.
또한, 본 발명은 공역 디엔계 단량체, 에틸렌성 불포화 니트릴 단량체 및 에틸렌성 불포화 산 단량체를 포함하는, 상기의 카르본산 변성 니트릴계 공중합체 라텍스 조성물의 제조방법에 있어서, 중합 개시 전에 반응형 유화제를 상기 단량체와 함께 동시에 첨가하여 반응시키거나, 또는 중합 진행 후 전환율 5% 내지 80% 시점에서 반응형 유화제를 첨가하여 반응시키는 단계를 포함하는 카르본산 변성 니트릴계 공중합체 라텍스 조성물의 제조방법을 제공한다.
아울러, 본 발명은 상기의 카르본산 변성 니트릴계 공중합체 라텍스 조성물을 포함하는 딥 성형용 라텍스 조성물을 제공한다.
본 발명에 따른 반응형 유화제를 포함하는 카르본산 변성 니트릴계 공중합체 라텍스 조성물은, 종래의 흡·탈착형의 유화제와는 다른, 반응형 유화제를 포함함으로써 중합 시 거품의 발생을 감소시켜 라텍스의 품질을 향상시킬 뿐 아니라, 거품 제거를 위한 소포제의 투입이나, 숙성과정을 필요로 하지 않아 상기 소포제로 인한불량을 방지할 수 있으며 제조과정이 단순화되는 효과가 있다.
또한, 본 발명의 딥 성형용 라텍스 조성물은 상기의 안정한 카르본산 변성 니트릴계 공중합체 라텍스 조성물을 포함함으로써, 딥 성형품의 제조시에도 유화제가 표면으로 용출되지 않아 착용감이 우수한 효과가 있다.
이하, 본 발명에 대한 이해를 돕기 위하여 본 발명을 더욱 상세하게 설명한다.
본 명세서 및 청구범위에 사용된 용어나 단어는 통상적이거나 사전적인 의미로 한정해서 해석되어서는 아니 되며, 발명자는 그 자신의 발명을 가장 최선의 방법으로 설명하기 위해 용어의 개념을 적절하게 정의할 수 있다는 원칙에 입각하여 본 발명의 기술적 사상에 부합하는 의미와 개념으로 해석되어야만 한다.
본 발명은 공역 디엔계 단량체, 에틸렌성 불포화 니트릴 단량체, 에틸렌성 불포화 산 단량체 및 반응형 유화제를 포함하는 카르본산 변성 니트릴계 공중합체 라텍스 조성물을 제공한다.
본 발명의 일 실시예에 따른 라텍스 조성물은, 단량체 혼합물 100 중량부에 대하여 반응형 유화제 0.1 중량부 내지 10 중량부를 포함하고, 상기 단량체 혼합물은 공역 디엔계 단량체 40 중량% 내지 88 중량%; 에틸렌성 불포화 니트릴 단량체 10 중량% 내지 50 중량%; 및 에틸렌성 불포화 산 단량체 0.1 중량% 내지 10 중량%를 포함하는 것을 특징으로 한다.
본 발명의 일 실시예에 따른 단량체 혼합물은 공역 디엔계 단량체를 40 중량% 내지 88 중량%로 포함할 수 있으며, 바람직하게는 45 중량% 내지 80 중량%일 수 있다. 만약, 상기 공역 디엔계 단량체를 40 중량% 미만으로 포함하는 경우, 이를 이용한 딥 성형품이 딱딱해지고 착용감이 저하될 수 있으며, 88 중량%를 초과하여 포함하는 경우에는 딥 성형품의 내유성이 저하되고 인장강도가 감소될 수 있다.
상기 공역 디엔계 단량체는 1,3-부타디엔, 2,3-디메틸-1,3-부타디엔, 2-에틸-1,3-부타디엔, 1,3-펜타디엔, 이소프렌 또는 이들 조합일 수 있으며, 바람직하게는 1,3-부타디엔 또는 이소프렌일 수 있고, 더욱 바람직하게는 1,3-부타디엔일 수 있다.
본 발명의 일 실시예에 따른 단량체 혼합물은 에틸렌성 불포화 니트릴 단량체를 10 중량% 내지 50 중량%로 포함할 수 있으나, 15 중량% 내지 45 중량%로 포함하는 것이 바람직할 수 있다. 만약, 상기 에틸렌성 블포화 니트릴 단량체를 10 중량% 미만으로 포함할 경우에는 이를 이용한 딥 성형품의 내유성이 저하되고, 인장강도가 감소될 수 있으며, 50 중량%를 초과하여 포함할 경우에는 딥 성형품이 딱딱해지고 착용감이 저하될 수 있다.
상기 에틸렌성 불포화 니트릴 단량체는 아크릴로니트릴, 메타크릴로니트릴, 후마로니트릴, α-클로로니트릴, α-시아노 에틸 아크릴로니트릴 또는 이들 조합일 수 있으며, 바람직하게는 아크릴로니트릴 또는 메타크릴로니트릴일 수 있으며, 더욱 바람직하게는 아크릴로니트릴일 수 있다.
또한, 본 발명의 일 실시예에 따른 단량체 혼합물은 에틸렌성 불포화 산 단량체를 0.1 중량% 내지 10 중량%로 포함할 수 있으며, 0.5 중량% 내지 9 중량%로 포함하는 것이 바람직할 수 있으며, 더욱 바람직하게는 1 중량% 내지 8 중량%일 수 있다. 만약, 에틸렌성 불포화 산 단량체를 0.1 중량% 미만으로 포함할 경우에는 딥 성형품의 인장강도가 저하될 수 있으며, 10 중량%를 초과하여 포함할 경우에는 딥 성형품이 딱딱해지고 착용감이 저하될 수 있다.
상기 에틸렌성 불포화 산 단량체는 카르복실기, 술폰산기 또는 산무수물기를 갖는 에틸렌성 불포화 단량체인 것이 바람직하다. 더 자세하게는, 상기 에틸렌성 불포화 산 단량체는 아크릴산, 메타크릴산, 이타콘산, 말레인산, 푸마르산, 무수말레산, 무수 시트라콘산, 스티렌 술폰산, 푸마르산 모노부틸, 말레인산 모노부틸, 말레인산 모토-2-히드록시 프로필 또는 이들 조합일 수 있으나, 바람직하게는 아크릴산, 메타크릴산, 이타콘산, 말레인산 또는 푸마르산일 수 있고, 더욱 바람직하게는 메타크릴산일 수 있다.
한편, 본 발명의 일 실시예에 따른 카르본산 변성 니트릴계 공중합체 라텍스 조성물은 반응형 유화제를 상기 단량체 혼합물 100 중량부에 대하여 0.1 중량부 내지 10 중량부로 포함할 수 있으며, 바람직하게는 0.1 중량부 내지 5 중량부일 수 있다.
일반적으로, 유화제는 유화 중합에서 중합 속도, 입자 크기 및 분포도, 분자량, 입자의 형태 등에 중요한 영향을 미치는 것으로, 통상적으로 이용되는 이온성, 저분자량의 흡·탈착형 유화제는 형성되는 공중합체 라텍스와 화학적으로 결합하지 않아 상기 공중합체 라텍스를 이용한 딥 성형품 제조시 응집되고 상기 공중합체 라텍스로부터 쉽게 상분리될 수 있으며, 상분리된 유화제는 물에 젖을 경우 탈착되어 유화제가 존재하던 부분의 표면에 흠집을 발생시킨다. 이에, 상기 딥 성형품의 물성에 악영향을 끼칠 수 있다.
그러나, 본 발명의 일 실시예에 따른 상기 반응형 유화제는 형성되는 공중합체 라텍스와 화학적인 결합을 할 수 있어 상기 공중합체 라텍스의 중합 시 중합 속도를 증가시키고, 거품 발생을 감소시킬 수 있다. 따라서, 이를 이용한 딥 성형품 제조 시 상기 반응형 유화제가 라텍스로부터 상분리되는 현상을 억제하여 열적 안정성을 증가시킬 수 있으며, 딥 성형품의 표면으로 용출되는 것을 방지할 수 있다. 이에, 최종 딥 성형품의 품질 저하를 방지할 수 있다.
상기 반응형 유화제는 소듐 도데실 아릴 설포석시네이트, 소듐 3-설포프로필테트라데실 말레이트 또는 이들 조합일 수 있으며, 바람직하게는 소듐 도데실 아릴 설포석시네이트일 수 있다. 또한, 상기 반응형 유화제는 소듐이 포타슘, 암모늄으로 치환된 것을 사용할 수도 있다.
또한, 상기 카르본산 변성 니트릴계 공중합체 라텍스 조성물은 음이온성 계면활성제를 추가로 첨가하여 사용할 수 있으며, 상기 음이온성 계면활성제의 예로는 소듐 도데실벤젠 설포네이트, 알킬벤젠술폰산염, 지방족술폰산염, 고급 알코올의 황산 에스테르염, α-올레핀 술폰산엽, 알킬 에테르 황산 에스테르염을 들 수 있다. 음이온성 계면활성제를 추가로 첨가할 경우, 상기 음이온성 계면활성제는 총 단량체 혼합물 100 중량에 대하여 0.1 중량부 내지 10 중량부로 사용할 수 있으며, 바람직하게는 0.1 중량부 내지 3 중량부일 수 있다.
또한, 본 발명의 상기 단량체 혼합물은 단량체 혼합물 100 중량부에 대하여 20 중량부 이내의 에틸렌성 불포화 단량체를 추가로 포함하는 것이 바람직할 수 있으며, 특히 바람직하게는 20 중량부 이하일 수 있다.
만약, 에틸렌성 불포화 단량체가 20 중량부를 초과하여 포함될 경우에는 착용감과 인장강도 사이의 균형이 맞지 않아 딥 성형품의 품질을 저하시킬 수 있다.
상기 에틸렌성 불포화 단량체는 스티렌, 알킬 스티렌, 비닐 나프탈렌, 플로로 에틸 비닐 에테르, (메타)아크릴아미드, N-메틸올(메타)아크릴아미드, N,N-디메틸올(메타)아크릴아미드, N-메톡시 메틸(메타)아크릴아미드, N-프로폭시 메틸(메타)아크릴아미드, 비닐 피리딘, 비닐 놀보넨, 디시클로 펜타디엔, 1,4-헥사디엔, (메타)아크릴산 메틸, (메타)아크릴산 에틸, (메타)아크릴산 부틸, (메타)아크릴산-2-에틸 헥실, (메타)아크릴산 트리 플루오르 에틸, (메타)아크릴산 테트라 플루오르 프로필, 말레인산 디부틸, 푸마르산 디부틸, 말레인산 디에틸, (메타)아크릴산 메톡시 메틸, (메타)아크릴산 에톡시 에틸,(메타)아크릴산 메톡시 에톡시 에틸, (메타)아크릴산 시아노 메틸, (메타)아크릴산 2-시아노 에틸, (메타)아크릴산 1-시아노 프로필, (메타)아크릴산 2-에틸-6-시아노 헥실, (메타)아크릴산 3-시아노 프로필, (메타)아크릴산 히드록시 에틸, (메타)아크릴산 히드록시 에틸, (메타)아크릴산 히드록시 프로필, 글리시딜 (메타)아크릴레이트, 디메틸아미노 에틸 (메타)아크릴레이트 또는 이들 혼합인 것일 수 있으나, 이에 제한되는 것은 아니다.
또한, 본 발명의 상기 카르본산 변성 니트릴계 라텍스 조성물은 상기 단량체 혼합물 100 중량부에 대하여 중합개시제 0.01 중량부 내지 2 중량부 및 분자량 조절제 0.1 중량부 내지 0.9 중량부를 포함할 수 있으며, 바람직하게는 중합개시제 0.02 중량부 내지 1.5 중량부 및 분자량 조절제 0.2 중량부 내지 0.7 중량부로 포함할 수 있다.
본 발명의 상기 중합개시제는 특별히 한정되는 것은 아니나, 예컨대 과황산나트륨, 과황산칼륨, 과황산암모늄, 과인산칼륨, 과산화수소 등의 무기과산화물; t-부틸 퍼옥사이드, 큐멘 하이드로 퍼옥사이드, p-멘탄하이드로 퍼옥사이드, 디-t-부틸 퍼옥사이드, t-부틸쿠밀 퍼옥사이드, 아세틸 퍼옥사이드, 이소부틸 퍼옥사이드, 옥타노일 퍼옥사이드, 디벤조일 퍼옥사이드, 3,5,5-트리메틸헥산올 퍼옥사이드, t-부틸 퍼옥시 이소부틸레이트 등의 유기과산화물; 아조비스 이소부티로니트릴, 아조비스-2,4- 디메틸발레로니트릴, 아조비스시클로헥산카르보니트릴, 아조비스 이소낙산(부틸산)메틸 등의 질소화합물 등일 수 있다.
본 발명의 상기 분자량 조절제는 특별히 한정되는 것은 아니나, 예컨대 α-메틸스티렌다이머, t-도데실 머캅탄, n-도데실 머캅탄, 옥틸 머캅탄 등의 머캅탄류; 사염화탄소, 염화메틸렌, 브롬화 메틸렌 등의 할로겐화 탄화 수소; 테트라 에틸 디우람 디설파이드, 디펜타메틸렌 디우람 디설파이드, 디이소프로필키산토겐 디설파이드 등의 함유황 화합물 등일 수 있다.
또한, 본 발명은 공역 디엔계 단량체, 에틸렌성 불포화 니트릴 단량체, 에틸렌성 불포화 산 단량체 및 반응성 유화제를 포함하는 상기의 카르본산 변성 니트릴계 공중합체 라텍스 조성물의 제조방법을 제공한다.
상기 각 단량체와 반응형 유화제 및 추가로 첨가될 수 있는 중합개시제, 분자량 조절제 등의 첨가제는 앞서 언급한 바와 같다.
본 발명의 카르본산 변성 니트릴계 공중합체 라텍스 조성물의 제조방법은 반응형 유화제를 중합반응 시작 전에 상기 카르본산 변성 니트릴계 공중합체 라텍스 조성물에 포함되는 각 단량체와 동시에 첨가하여 중합을 개시하거나, 또는 상기 단량체들의 중합 반응이 시작된 후 전환율 5% 내지 80% 시점에서 상기 단량체와 분리하여 첨가하여 중합을 진행하는 것을 특징으로 한다.
바람직하게는, 상기 반응형 유화제는 중합 개시 후 전환율 40% 내지 70% 시점에서 첨가하는 것일 수 있다. 이 경우, 단량체 혼합물 입자 외곽으로 반응형 유화제를 분포시킴으로써 라텍스 조성물의 안정성을 더욱 향상시킬 수 있는 이점이 있다.
이때, 상기 전환율은 당업계에 통상적으로 공지된 방법에 의하여 측정할 수 있다.
구체적으로, 일성 시간 간격으로 반응 조성물 예컨대, 단량체 혼합물 및 반응형 유화제를 포함하는 카르본산 변성 니트릴계 공중합체 라텍스 조성물을 제조하기 위한 반응 혼합물로부터 일정 양의 시료를 채취하고, 고형분 함량을 측정한 후, 하기의 식으로 중합 전환율을 계산하였다.
상기 식에서, Ms는 건조된 공중합체 라텍스의 무게, Mo는 반응형 유화제와 개시제의 무게, 그리고 Mp는 100% 중합된 고분자의 무게를 의미한다.
이하, 본 발명의 상기 카르본산 변성 니트릴계 공중합체 라텍스 조성물의 제조방법을 상세히 설명한다.
본 발명의 카르본산 변성 니트릴계 공중합체 라텍스 조성물은 당업계에서 통상적으로 사용되는 유화중합을 통하여 제조할 수 있으며, 각 라텍스 조성물 구성성분의 혼합은 특별히 한정하지 않고 각 구성성분, 예컨대 공액 디엔계 단량체, 에틸렌성 불포화 니트릴 단량체, 에틸렌성 불포화 산 단량체 및 반응형 유화제를 동시에 중합 반응기에 첨가하는 방법, 각 구성성분을 중합 반응기에 연속적으로 첨가하는 방법 또는 라텍스 조성물을 구성하는 상기 각 단량체를 중합 반응기에 1차 첨가하고 중합 개시 후 상기 반응형 유화제를 중합 반응기에 첨가하는 방법을 통하여 수행할 수 있다.
또한, 중합을 용이하게 이루어지게 하기 위하여, 필요에 따라 킬레이트제, 분산제, pH 조절제, 탈산소제, 입경조정제, 노화방지제, 산소포착제(oxygen scavenger)와 같은 첨가제를 추가로 사용할 수 있으며, 중합은 통상적으로 10℃ 내지 90℃의 온도범위에서 수행될 수 있으나, 바람직하게는 25℃ 내지 75℃의 온도범위일 수 있다.
아울러, 본 발명은 상기의 카르본산 변성 니트릴계 공중합체 라텍스 조성물을 포함하는 딥 성형용 라텍스 조성물을 제공한다.
본 발명의 딥 성형용 라텍스 조성물은 반응형 유화제를 사용하여 제조된 상기 카르본산 변성 니트릴계 공중합체 라텍스 조성물을 80 중량% 내지 99 중량%로 포함할 수 있으며, 바람직하게는 85 중량% 내지 98 중량%로 포함할 수 있고, 더욱 바람직하게는 88 중량% 내지 97 중량%일 수 있다.
상기 딥 성형용 라텍스 조성물은 10 중량% 내지 40 중량%의 고형분 농도를 가질 수 있으나, 15 중량% 내지 35 중량%의 고형분 농도를 가지는 것이 바람직하다. 더욱 바람직하게는 18 중량% 내지 33 중량%일 수 있다.
상기 딥 성형용 라텍스 조성물의 pH는 8.0 내지 12일 수 있으나, 9 내지 11이 바람직하며, 더욱 바람직하게는 9.3 내지 10.5일 수 있다.
또한, 본 발명의 상기 카르본산 변성 니트릴계 공중합체 라텍스 조성물을 포함하는 딥 성형용 라텍스 조성물은 딥 성형품의 제조에 용이하게 사용될 수 있다. 상기 딥 성형품은 특별히 한정되는 것은 아니나, 가정용 장갑, 산업용 장갑, 콘돔 또는 카테터일 수 있다.
이하, 하기 실시예 및 실험예에 의하여 본 발명을 더 상세하게 설명하고자 한다. 그러나, 하기 실시예 및 실험예는 본 발명을 예시하기 위한 것으로, 이들 만으로 본 발명의 범위가 한정되는 것은 아니다.
실시예
1
1) 카르본산 변성 니트릴계 공중합체 라텍스의 제조
중합 반응기에 아크릴로니트릴 29 중량%, 1,4-부타디엔 65 중량% 및 메타크릴산 6 중량%로 구성되는 단량체 혼합물과 상기 단량체 혼합물 100 중량부에 대하여 t-도데실 머캅탄 0.5 중량부, 소듐 도데실 아릴 설포석시네이트 2 중량부, 소듐 도데실벤젠 설포네이트 1 중량부, 과황산칼륨 0.6 중량부, 물 140 중량부를 넣은 후 40℃의 온도에서 중합을 개시하였다. 전환율이 65%에 이르렀을 때 온도를 55℃로 올려 중합을 진행시키고 전환율이 94%에 이르렀을 때 수산화암모늄 0.3 중량부를 첨가하여 중합을 정지시켰다. 그 후 탈취공정을 통하여 미반응물을 제거하고 암모니아수, 산화방지제, 소포제를 첨가하여 고형분 농도 45%, pH 8.5의 카르본산 변성 니트릴계 공중합체 라텍스를 수득하였다.
실시예
2
소듐 도데실 아릴 설포석시네이트를 3 중량부로 사용하고 소듐 도데실벤젠 설포네이트를 사용하지 않은 것을 제외하고는 상기 실시예 1과 동일한 방법을 통하여 고형분 농도 45%, pH 8.5의 카르본산 변성 니트릴계 공중합체 라텍스를 수득하였다.
실시예
3
중합 개시 전에 1.5 중량부의 소듐 도데실벤젠 설포네이트를 투입하고, 소듐 도데실 아릴 설포석시네이트 0.5 중량부는 중합 전환율 60% 시점에 투입한 것을 제외하고는 상기 실시예 1과 동일한 방법을 통하여 고형분 농도 45%, pH 8.5의 카르본산 변성 니트릴계 공중합체 라텍스를 수득하였다.
비교예
1
소듐 도데실 아릴 설포석시네이트를 사용하지 않고 소듐 도데실벤젠 설포네이트를 3 중량부로 사용한 것을 제외하고는 상기 실시예 1과 동일한 방법을 통하여 카르본산 변성 니트릴계 공중합체 라텍스를 수득하였다.
비교예
2
소듐 도데실 아릴 설포석시네이트 대신에 고분자형 반응형 유화제인 UM-9010(아크릴레이트-아크릴산 공중합체, Mw=4500)을 2 중량부로 사용한 것을 제외하고는 상기 실시예 1과 동일한 방법을 통하여 카르본산 변성 니트릴계 공중합체 라텍스를 수득하였다.
실험예
1: 거품발생 정도 분석
본 발명에 따른 반응형 유화제를 포함하는 실시예 1 내지 실시예 3에서 제조한 카르본산 변성 니트릴계 공중합체 라텍스와 비교예 1 및 2의 카르본산 변성 니트릴계 공중합체 라텍스의 거품발생 정도에 대한 비교 분석을 위하여, 각 라텍스의 거품발생 정도를 측정하였다.
거품발생 정도는 각 라텍스 20 g을 메스실린더에 넣은 후 입구를 막고 위 아래로 20번 강하게 흔들어 준 후 높이를 측정하였다.
각 측정 결과는 하기 표 1에 나타내었으며, 거품발생 높이가 높을수록 거품이 많이 발생하였음을 의미한다.
구분 | 거품발생 높이(mm) |
실시예 1 | 20 |
실시예 2 | 5 |
실시예 3 | 12 |
비교예 1 | 36 |
비교예 2 | 21 |
상기 표 1에 나타난 바와 같이, 본 발명에 따른 반응형 유화제인 소듐 도데실 아릴 설포석시네이트를 사용하여 제조된 실시예 1 내지 실시예 3의 카르본산 변성 니트릴계 공중합체 라텍스가 반응형 유화제를 사용하지 않은 비교예 1의 카르본산 변성 니트릴계 공중합체 라텍스와 비교하여 현저히 낮은 거품발생 정도를 나타내었다. 구체적으로, 비교예 1의 카르본산 변성 니트릴계 공중합체 라텍스의 거품발생 정도가 실시예 1 내지 3의 카르본산 변성 니트릴계 공중합체 라텍스의 거품발생 정도와 비교하여 적게는 1.8배 증가하였으며, 많게는 7.2배가 증가하는 현상을 나타내었다.
이는, 본 발명의 반응형 유화제가 라텍스 중합 시 발생하는 거품을 효과적으로 억제할 수 있음을 의미한다.
실험예
2:
시네리시스
(
syneresis
) 특성 분석
본 발명에 따른 반응형 유화제를 포함하는 실시예 1 내지 실시예 3에서 제조한 카르본산 변성 니트릴계 공중합체 라텍스와 비교예 1 및 2의 카르본산 변성 니트릴계 공중합체 라텍스의 시네리시스 특성을 비교분석하였다. 결과를 하기 표 2에 나타내었다.
상기 각 라텍스의 시네리시스는 하기와 같은 단계를 통하여 측정하였다.
먼저, 상기 각 라텍스에 수산화칼륨 용액, 유황 1 중량%, ZDBC 0.5 중량%, 산화아연 1.5 중량%, 티타늄 옥사이드 0.5 중량% 및 적정량의 분산제와 2차 증류수를 첨가하여 고형분 농도 20%, pH 10.0의 각 딥 성형용 라텍스 조성물을 제조하였다.
상기 딥 성형용 라텍스 조성물과 별도로 22 중량%의 칼슘 나이트레이트, 69.5 중량%의 물, 8 중량%의 칼슘 카보네이트, 0.5 중량%의 습윤제(Teric 320, Huntsman Corporation, Australia)를 혼합하여 응고제 용액을 만든 후, 상기 응고제 용액에 손 모양의 세라믹 몰드를 1분간 담그고, 끄집어 낸 후 70℃에서 3분간 건조하여 응고제를 손 모양의 몰드에 도포하였다. 그 후, 응고제가 도포된 손 모양의 몰드를 상기의 딥 성형용 라텍스 조성물에 1분간 담그고, 끌어 올린 뒤 손 모양의 몰드에서 방울이 떨어지는데 걸리는 시간을 측정하였다.
구분 | 시네리시스(min) |
실시예 1 | 2.5 |
실시예 2 | 2.6 |
실시예 3 | 2. |
비교예 1 | 2.1 |
비교예 2 | 1 |
상기 표 2에 나타난 바와 같이, 본 발명에 따른 반응형 유화제인 소듐 도데실 아릴 설포석시네이트를 사용하여 제조된 실시예 1 내지 실시예 3의 카르본산 변성 니트릴계 공중합체 라텍스가 본 발명에 따른 반응형 유화제가 아닌 고분자형 반응형 유화제를 사용하여 제조된 비교예 2의 카르본산 변성 니트릴계 공중합체 라텍스와 비교하여 현저히 우수한 시네리시스 특성을 나타내는 것을 확인하였다. 이는, 비교예 2에서 사용한 것과 같은 고분자형 반응형 유화제는 카르본산 변성 니트릴계 공중합체 라텍스를 구성하는 단량체 성분들과의 반응성이 낮아 상기 고분자형 반응형 유화제의 고분자 사슬에 결합이 일어나지 않고 비이온성 유화제와 같은 작용을 하였음을 시사하는 결과이다.
일반적으로 카르본산 변성 니트릴계 공중합체 라텍스는 제조시에 첨가되는 유화제에 따라 거품발생 현상 및 시네리시스 특성에 영향을 받으며, 상기 유화제의 종류, 예컨대 이온성 유화제, 비이온성 유화제, 반응형 유화제 등의 종류에 따라 다량의 거품을 발생시키거나 시네리시스 특성이 현저히 저하되는 등의 영향을 받는다. 이는 상기 실험예 1 및 실험예 2에 나타난 결과로도 확인할 수 있으며, 상기의 결과는 본 발명에 따른 반응형 유화제가 거품발생을 억제하면서 우수한 시네리시스 특성을 부여하는 효과가 있음을 의미한다.
카르본산 변성 니트릴계 공중합체 라텍스 조성물을 이용한 딥 성형품의 제조
실시예
4
상기 실시예 1에서 제조한 카르본산 변성 니트릴계 공중합체 라텍스를 이용하여 딥 성형품을 제조하였다.
먼저, 실시예 1의 카르본산 변성 니트릴계 공중합체 라텍스에 수산화칼륨 용액, 유황 1 중량%, ZDBC 0.5 중량%, 산화아연 1.5 중량%, 티타늄 옥사이드 0.5 중량% 및 적정량의 분산제와 2차 증류수를 첨가하여 고형분 농도 20%, pH 10.0의 딥 성형용 라텍스 조성물을 제조하였다.
22 중량%의 칼슘 나이트레이트, 69.5 중량%의 물, 8 중량%의 칼슘 카보네이트, 0.5 중량%의 습윤제(Teric 320, Huntsman Corporation, Australia)를 혼합하여 응고제 용액을 만든 후, 상기 응고제 용액에 손 모양의 세라믹 몰드를 1분간 담그고, 끄집어 낸 후 70℃에서 3분간 건조하여 응고제를 손 모양의 몰드에 도포하였다. 그 후, 응고제가 도포된 손 모양의 몰드를 상기의 딥 성형용 라텍스 조성물에 1분간 담그고, 끌어 올린 뒤, 70℃에서 2분간 건조한 후 물에 3분간 담가 리칭(leaching)하였다. 다시 몰드를 70℃에서 3분간 건조한 후 130℃에서 20분간 가교시키고, 가교된 딥 성형층을 손 모양의 몰드로부터 벗겨내어 장갑 형태의 딥 성형품을 수득하였다.
실시예
5
상기 실시예 2에서 제조한 카르본산 변성 니트릴계 공중합체 라텍스를 이용하여 딥 성형품을 제조한 것 이외에는 상기 실시예 4와 동일한 방법을 통하여 딥 성형품을 수득하였다.
실시예
6
상기 실시예 3에서 제조한 카르본산 변성 니트릴계 공중합체 라텍스를 이용하여 딥 성형품을 제조한 것 이외에는 상기 실시예 4와 동일한 방법을 통하여 딥 성형품을 수득하였다.
비교예
3
상기 비교예 1에서 제조한 반응형 유화제를 포함하지 않는 카르본산 변성 니트릴계 공중합체 라텍스를 이용하여 딥 성형품을 제조한 것 이외에는 상기 실시예 4와 동일한 방법을 통하여 딥 성형품을 수득하였다.
비교예
4
상기 비교예 2에서 제조한 카르본산 변성 니트릴계 공중합체 라텍스를 이용하여 딥 성형품을 제조한 것 이외에는 상기 실시예 4와 동일한 방법을 통하여 딥 성형품을 수득하였다.
실험예
2: 딥 성형품의 기계적 특성 및 거품발생 정도 분석
1) 기계적 특성
본 발명에 따른 반응형 유화제를 포함하는 카르본산 변성 니트릴계 공중합체 라텍스 조성물을 포함하는 실시예 4 내지 6의 딥 성형품과 비교예 3 및 4의 딥 성형품의 기계적 특성 및 거품발생 정도를 비교 분석하기 위하여, 각 성형품의 인장강도, 신장율, 신장율 300%에서의 응력 및 거품발생 정도를 측정하였다.
인장강도, 신장율 및 신장율 300%에서의 응력은 각 딥 성형품을 ASTMD-412에 따라 덤벨형상의 시편을 제작하여 측정하였다. 각 시편을 신장속도 500 mm/min으로 끌어당기고, 신장율이 300%일 때의 응력, 파단시의 인장강도 및 파단시의 신장율을 측정하였다. 결과를 표 3에 나타내었다.
구분 | 인장강도(MPa) | 신장율(%) | 응력(MPa) |
실시예 4 | 29.9 | 518 | 3.2 |
실시예 5 | 28.5 | 547 | 3.0 |
실시예 6 | 32.0 | 525 | 3.3 |
비교예 3 | 31.8 | 520 | 3.4 |
비교예 4 | 27 | 550 | 2.8 |
2) 거품발생 정도
상기 실시예 4 내지 6 및 비교예 3 및 4의 각 카르본산 변성 니트릴계 공중합체 라텍스를 이용한 딥 성형품의 거품발생 정도를 비교분석 하였다.
거품발생 정도는 각 딥 성형품의 리칭조건을 변화시키면서 측정하였다. 상기의 각 카르본산 변성 니트릴계 공중합체 라텍스를 이용하여 상기 실시예 4에 나타낸 방법과 동일한 방법으로 딥 성형품을 제조하되 리칭시 조건을 50℃에서 1분, 30℃에서 1분, 50℃에서 30초 및 50℃에서 10초로 각각 변화시켰다. 제조된 각 딥 성형품에 증류수 2 ml를 바르고 비벼서 거품발생 정도를 10점법으로 상대평가하였다. 점수가 높을수록 장갑에 거품이 발생하지 않았음을 의미한다. 결과를 하기 표 4에 나타내었다.
구분 | 50℃, 1분 | 30℃, 1분 | 50℃, 30초 | 50℃, 10초 |
실시예 4 | 9 | 7 | 8 | 8 |
실시예 5 | 9 | 8 | 9 | 8 |
실시예 6 | 7 | 7 | 6 | 6 |
비교예 3 | 3 | 1 | 1 | 1 |
비교예 4 | 6 | 5 | 5 | 5 |
상기 표 3 및 표 4에 나타난 바와 같이, 본 발명에 따른 반응형 유화제를 사용하여 제조된 카르본산 변성 니트릴계 공중합체 라텍스를 이용한 실시예 4 내지 실시예 6의 딥 성형품이 반응형 유화제를 사용하지 않고 통상적인 유화제를 사용하여 제조된 비교예 1의 카르본산 변성 니트릴계 공중합체 라텍스를 이용한 비교예 3의 딥 성형품 및 본 발명에 따른 반응형 유화제가 아닌 다른 반응형 유화제를 사용하여 제조된 비교예 2의 카르본산 변성 니트릴계 공중합체 라텍스를 이용한 비교예 4의 딥 성형품과 비교하여 유사한 기계적 특성을 유지하면서 표면에 거품발생 정도가 현저히 감소된 것을 확인하였다. 이는, 본 발명의 반응형 유화제가 라텍스의 특성을 유지할 뿐 아니라 안정성을 높여, 딥 성형 후에도 표면으로 용출되지 않음을 의미한다.
Claims (19)
- 단량체 혼합물 100 중량부에 대하여 반응형 유화제 0.1 중량부 내지 10 중량부를 포함하고,
상기 단량체 혼합물이
a) 공역 디엔계 단량체 40 중량% 내지 88 중량%;
b) 에틸렌성 불포화 니트릴 단량체 10 중량% 내지 50 중량%; 및
c) 에틸렌성 불포화 산 단량체 0.1 중량% 내지 10 중량%를 포함하는 것을 특징으로 하는 카르본산 변성 니트릴계 공중합체 라텍스 조성물.
- 청구항 1에 있어서,
상기 공역 디엔계 단량체는 1,3-부타디엔, 2,3-디메틸-1,3-부타디엔, 2-에틸-1,3-부타디엔, 1,3-펜타디엔, 이소프렌 또는 이들 조합인 것을 특징으로 하는 카르본산 변성 니트릴계 공중합체 라텍스 조성물.
- 청구항 1에 있어서,
상기 에틸렌성 불포화 니트릴 단량체는 아크릴로니트릴, 메타크릴로니트릴, 후마로니트릴, α-클로로니트릴, α-시아노 에틸 아크릴로니트릴 또는 이들 조합인 것을 특징으로 하는 카르본산 변성 니트릴계 공중합체 라텍스 조성물.
- 청구항 1에 있어서,
상기 에틸렌성 불포화 산 단량체는 카르복실기, 술폰산기 또는 산무수물기를 갖는 에틸렌성 불포화 단량체인 것을 특징으로 하는 카르본산 변성 니트릴계 공중합체 라텍스 조성물.
- 청구항 4에 있어서,
상기 에틸렌성 불포화 산 단량체는 아크릴산, 메타크릴산, 이타콘산, 말레인산, 푸마르산, 무수말레산, 무수 시트라콘산, 스티렌 술폰산, 푸마르산 모노부틸, 말레인산 모노부틸, 말레인산 모노-2-히드록시 프로필 또는 이들 조합인 것을 특징으로 하는 카르본산 변성 니트릴계 공중합체 라텍스 조성물.
- 청구항 1에 있어서,
상기 반응형 유화제는 소듐 도데실 아릴 설포석시네이트, 소듐 3-설포프로필테트라데실 말레이트 또는 이들 조합인 것을 특징으로 하는 카르본산 변성 니트릴계 공중합체 라텍스 조성물.
- 청구항 6에 있어서,
상기 반응형 유화제는 소듐 도데실 아릴 설포석시네이트인 것을 특징으로 하는 카르본산 변성 니트릴계 공중합체 라텍스 조성물.
- 청구항 1에 있어서,
상기 라텍스 조성물은 단량체 혼합물 100 중량부에 대하여 0.1 중량부 내지 10 중량부의 음이온성 계면활성제를 추가로 포함하는 것을 특징으로 하는 카르본산 변성 니트릴계 공중합체 라텍스 조성물.
- 청구항 8에 있어서,
상기 음이온성 계면활성제는 소듐 도데실벤젠 설포네이트, 알킬벤젠술폰산염, 지방족술폰산염, 고급 알코올의 황산 에스테르염, α-올레핀 술폰산염 및 알킬 에테르 황산 에스테르염으로 이루어진 군으로부터 선택되는 1종 이상인 것을 특징으로 하는 카르본산 변성 니트릴계 공중합체 라텍스 조성물.
- 청구항 1에 있어서,
상기 단량체 혼합물은 상기 단량체 혼합물 100 중량부에 대하여 에틸렌성 불포화 단량체 1 중량부 내지 20 중량부를 추가로 포함하는 것을 특징으로 하는 카르본산 변성 니트릴계 공중합체 라텍스 조성물.
- 청구항 10에 있어서,
상기 에틸렌성 불포화 단량체는 스티렌, 알킬 스티렌, 비닐 나프탈렌, 플로로 에틸 비닐 에테르, (메타)아크릴아미드, N-메틸올(메타)아크릴아미드, N,N-디메틸올(메타)아크릴아미드, N-메톡시 메틸(메타)아크릴아미드, N-프로폭시 메틸(메타)아크릴아미드, 비닐 피리딘, 비닐 놀보넨, 디시클로 펜타디엔, 1,4-헥사디엔, (메타)아크릴산 메틸, (메타)아크릴산 에틸, (메타)아크릴산 부틸, (메타)아크릴산-2-에틸 헥실, (메타)아크릴산 트리 플루오르 에틸, (메타)아크릴산 테트라 플루오르 프로필, 말레인산 디부틸, 푸마르산 디부틸, 말레인산 디에틸, (메타)아크릴산 메톡시 메틸, (메타)아크릴산 에톡시 에틸,(메타)아크릴산 메톡시 에톡시 에틸, (메타)아크릴산 시아노 메틸, (메타)아크릴산 2-시아노 에틸, (메타)아크릴산 1-시아노 프로필, (메타)아크릴산 2-에틸-6-시아노 헥실, (메타)아크릴산 3-시아노 프로필, (메타)아크릴산 히드록시 에틸, (메타)아크릴산 히드록시 에틸, (메타)아크릴산 히드록시 프로필, 글리시딜 (메타)아크릴레이트 및 디메틸아미노 에틸 (메타)아크릴레이트로 이루어진 군으로부터 선택된 1종 이상인 것을 특징으로 하는 카르본산 변성 니트릴계 공중합체 라텍스 조성물.
- 청구항 1에 있어서,
상기 라텍스 조성물은 단량체 혼합물 100 중량부 대비 중합개시제 0.01 중량부 내지 2 중량부 및 분자량 조절제 0.1 중량부 내지 0.9 중량부를 포함하는 것을 특징으로 하는 카르본산 변성 니트릴계 공중합체 라텍스 조성물.
- 중합 개시 전에 반응형 유화제를 단량체 혼합물과 동시에 첨가하여 반응시키는 단계; 또는
단량체 혼합물의 중합 진행 후 전환율 5% 내지 80% 시점에서 반응형 유화제를 첨가하여 반응시키는 단계를 포함하는 것을 특징으로 하는 카르본산 변성 니트릴계 공중합체 라텍스 조성물의 제조방법.
- 청구항 13에 있어서,
상기 반응형 유화제는 소듐 도데실 아릴 설포석시네이트, 소듐 3-설포프로필테트라데실 말레이트 또는 이들 조합인 것을 특징으로 하는 카르본산 변성 니트릴계 공중합체 라텍스 조성물의 제조방법.
- 청구항 13에 있어서,
상기 단량체 혼합물은 공역 디엔계 단량체 40 중량% 내지 88 중량%, 에틸렌성 불포화 니트릴 단량체 10 중량% 내지 50 중량%; 및 에틸렌성 불포화 산 단량체 0.1 중량% 내지 10 중량%를 포함하는 것을 특징으로 하는 카르본산 변성 니트릴계 공중합체 라텍스 조성물의 제조방법.
- 청구항 13에 있어서,
상기 단량체 혼합물은 단량체 혼합물 100 중량부 대비 에틸렌성 불포화 단량체 1 중량부 내지 20 중량부를 추가로 포함하는 것을 특징으로 하는 카르본산 변성 니트릴계 공중합체 라텍스 조성물의 제조방법.
- 청구항 1 내지 청구항 12 중 어느 한 항의 카르본산 변성 니트릴계 공중합체 라텍스 조성물 80 중량% 내지 99 중량%를 포함하는 딥 성형용 라텍스 조성물.
- 청구항 17의 딥 성형용 라텍스 조성물로부터 제조된 딥 성형품.
- 청구항 18에 있어서,
상기 딥 성형품은 가정용 장갑, 산업용 장갑, 의료용 장갑, 콘돔 또는 카테터인 것을 특징으로 하는 딥 성형품.
Priority Applications (5)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP2015555951A JP6067887B2 (ja) | 2013-11-18 | 2014-11-17 | カルボン酸変性ニトリル系共重合体ラテックス組成物、この製造方法、及びこれを含むディップ成形用ラテックス組成物 |
US14/432,972 US9820517B2 (en) | 2013-11-18 | 2014-11-17 | Carboxylic acid-modified nitrile-based copolymer latex composition, preparation method thereof, and latex composition for dip molding including the same |
CN201480004214.4A CN105102494B (zh) | 2013-11-18 | 2014-11-17 | 羧酸改性的基于腈的共聚物胶乳组合物、其制备方法、及包含该胶乳组合物的用于浸渍模塑的胶乳组合物 |
MYPI2015001757A MY171235A (en) | 2013-11-18 | 2014-11-17 | Carboxylic acid-modified nitrile-based copolymer latex composition, preparation method thereof, and latex composition for dip molding including the same |
PCT/KR2014/011032 WO2015072801A1 (ko) | 2013-11-18 | 2014-11-17 | 카르본산 변성 니트릴계 공중합체 라텍스 조성물, 이의 제조방법 및 이를 포함하는 딥 성형용 라텍스 조성물 |
Applications Claiming Priority (2)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
KR20130139968 | 2013-11-18 | ||
KR1020130139968 | 2013-11-18 |
Publications (2)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
KR20150058001A true KR20150058001A (ko) | 2015-05-28 |
KR101784048B1 KR101784048B1 (ko) | 2017-11-06 |
Family
ID=53392692
Family Applications (2)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
KR1020140157391A KR101784048B1 (ko) | 2013-11-18 | 2014-11-12 | 카르본산 변성 니트릴계 공중합체 라텍스 조성물, 이의 제조방법 및 이를 포함하는 딥 성형용 라텍스 조성물 |
KR1020140157390A KR101722818B1 (ko) | 2013-11-18 | 2014-11-12 | 카르본산 변성 니트릴계 공중합체 라텍스 조성물, 이의 제조방법 및 이를 포함하는 딥 성형용 라텍스 조성물 |
Family Applications After (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
KR1020140157390A KR101722818B1 (ko) | 2013-11-18 | 2014-11-12 | 카르본산 변성 니트릴계 공중합체 라텍스 조성물, 이의 제조방법 및 이를 포함하는 딥 성형용 라텍스 조성물 |
Country Status (5)
Country | Link |
---|---|
US (1) | US9820517B2 (ko) |
JP (1) | JP6067887B2 (ko) |
KR (2) | KR101784048B1 (ko) |
CN (1) | CN105102494B (ko) |
MY (1) | MY171235A (ko) |
Cited By (3)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
KR20150058000A (ko) * | 2013-11-18 | 2015-05-28 | 주식회사 엘지화학 | 카르본산 변성 니트릴계 공중합체 라텍스 조성물, 이의 제조방법 및 이를 포함하는 딥 성형용 라텍스 조성물 |
US11834537B2 (en) | 2020-03-31 | 2023-12-05 | Lg Chem, Ltd. | Carboxylic acid modified-nitrile based copolymer latex and latex composition for dip-forming comprising the copolymer latex and article formed by the composition |
US11873391B2 (en) | 2020-03-31 | 2024-01-16 | Lg Chem, Ltd. | Carboxylic acid modified-nitrile based copolymer latex and latex composition for dip-forming comprising the copolymer latex and article formed by the composition |
Families Citing this family (13)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
KR102093962B1 (ko) * | 2016-01-05 | 2020-03-26 | 주식회사 엘지화학 | 딥 성형용 라텍스 조성물 및 이로부터 제조된 성형품 |
JP6908024B2 (ja) * | 2016-03-30 | 2021-07-21 | 日本ゼオン株式会社 | 共重合体ラテックス |
EP3464453A1 (en) * | 2016-06-01 | 2019-04-10 | Synthomer Sdn. Bhd. | Polymer latex for dip-molding applications |
KR102081765B1 (ko) * | 2016-09-07 | 2020-02-26 | 주식회사 엘지화학 | 딥 성형용 라텍스 조성물 및 이로부터 제조된 성형품 |
KR102081766B1 (ko) | 2016-09-09 | 2020-02-26 | 주식회사 엘지화학 | 딥 성형용 라텍스 조성물 및 이로부터 제조된 성형품 |
US10448686B2 (en) * | 2016-09-23 | 2019-10-22 | Medline Industries, Inc. | Glide-on coating for polymeric gloves |
KR102229447B1 (ko) * | 2016-12-09 | 2021-03-18 | 주식회사 엘지화학 | 카르본산 변성 니트릴계 공중합체 라텍스 및 이를 포함하는 딥 성형용 라텍스 조성물 |
CN106832139B (zh) * | 2017-01-18 | 2019-10-08 | 新辉(中国)新材料有限公司 | 包含聚氨酯改性羧基丁苯共聚物的胶乳及其制备方法 |
KR102349520B1 (ko) * | 2017-12-19 | 2022-01-07 | 주식회사 엘지화학 | 카르본산 변성 니트릴계 공중합체 라텍스 제조방법, 카르본산 변성 니트릴계 공중합체 라텍스 및 이로부터 성형된 성형품 |
CN108586856B (zh) * | 2018-03-30 | 2020-11-13 | 山东星宇手套有限公司 | 丁腈胶乳复合浆料及其制备方法、丁腈手套及其制备方法 |
KR102350280B1 (ko) * | 2018-12-19 | 2022-01-11 | 주식회사 엘지화학 | 카르본산 변성 니트릴계 공중합체 라텍스 조성물, 이를 포함하는 딥 성형용 라텍스 조성물 및 이로부터 성형된 성형품 |
CN113880988B (zh) * | 2021-09-30 | 2024-03-22 | 枣阳市福星化工有限公司 | 丁腈胶乳及其制备方法和应用 |
WO2023234491A1 (ko) * | 2022-05-30 | 2023-12-07 | 금호석유화학 주식회사 | 딥 성형용 라텍스 조성물, 그 제조방법 및 그로부터 제조된 딥 성형품 |
Family Cites Families (27)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
US3904558A (en) * | 1973-06-22 | 1975-09-09 | Polysar Ltd | Preparation of latex foam rubbers and films |
US4102844A (en) * | 1973-09-22 | 1978-07-25 | Bayer Aktiengesellschaft | Dipped articles of rubber |
JPS5538821A (en) | 1978-09-12 | 1980-03-18 | Saiden Kagaku Kk | Production of stable copolymer emulsion |
US4331738A (en) * | 1980-12-04 | 1982-05-25 | The General Tire & Rubber Company | Blend of a carboxylated copolymer latex and of an acrylate copolymer latex for coating rubber and product |
JP3601544B2 (ja) * | 1994-09-28 | 2004-12-15 | 日本ゼオン株式会社 | 接着剤組成物及びゴムと繊維との複合体 |
US5516865A (en) * | 1995-02-03 | 1996-05-14 | Minnesota Mining And Manufacturing Company | Waterborne (meth) acrylic latex polymers for release |
JPH11152439A (ja) | 1997-11-19 | 1999-06-08 | Saiden Chem Ind Co Ltd | 水性重合体被覆組成物 |
US6376600B1 (en) * | 1998-07-24 | 2002-04-23 | Rohm And Haas Company | Aqueous composition |
JP4265709B2 (ja) * | 1999-01-28 | 2009-05-20 | 旭化成ケミカルズ株式会社 | 高ニトリル共重合体ラテックスの製造方法 |
EP1361247B1 (en) * | 2000-10-30 | 2007-09-05 | Zeon Corporation | Dip moldings, composition for dip molding and method for producing dip moldings |
KR20020036556A (ko) * | 2000-11-10 | 2002-05-16 | 노기호 | 총고형분 함량이 높은 아크릴로니트릴-부타디엔-스티렌라텍스의 제조방법 |
US6870019B2 (en) | 2000-12-12 | 2005-03-22 | Nippon A & L Inc. | Latex for dip molding and a dip molded product |
US20040057408A1 (en) * | 2002-09-19 | 2004-03-25 | Gray William H. | Method and system of providing bandwidth on demand to WAN user from WLAN access point |
KR100485182B1 (ko) | 2002-12-24 | 2005-04-22 | 주식회사 엘지화학 | 스티렌-부타디엔계 라텍스 조성물 |
KR100513658B1 (ko) * | 2002-12-26 | 2005-09-07 | 주식회사 엘지화학 | 열안정성 및 분체 특성이 뛰어난 열가소성 수지 조성물 및그 제조방법 |
KR100409088B1 (ko) | 2003-07-28 | 2003-12-11 | 주식회사 엘지화학 | 안정성이 우수한 고무라텍스의 제조방법 |
JP5207221B2 (ja) | 2006-11-14 | 2013-06-12 | 三菱レイヨン株式会社 | ポリマー粒子の製造方法、ポリマー粒子、艶消し剤、樹脂組成物、塗料組成物、成形体、及び塗膜 |
KR101126583B1 (ko) * | 2008-09-26 | 2012-03-29 | 주식회사 엘지화학 | 황 및 가황 촉진제를 포함하지 않는 고무장갑용 라텍스 수지 조성물 및 그 조성물을 이용한 딥 성형물 제조방법 |
CN102473923B (zh) * | 2009-08-14 | 2014-06-18 | 株式会社Lg化学 | 具有优异胶粘力的二次电池用粘合剂 |
WO2011122595A1 (ja) * | 2010-03-31 | 2011-10-06 | Jsr株式会社 | 共重合体ラテックス並びにそれを含有する組成物およびその応用製品 |
KR101182128B1 (ko) * | 2010-07-22 | 2012-09-12 | 주식회사 엘지화학 | 접착력이 우수한 이차전지용 바인더 |
JP5594207B2 (ja) * | 2011-03-28 | 2014-09-24 | 日本ゼオン株式会社 | ディップ成形用ラテックスの製造方法、ディップ成形用ラテックス及びディップ成形用組成物並びにディップ成形物 |
WO2013051205A1 (ja) | 2011-10-07 | 2013-04-11 | 第一工業製薬株式会社 | 反応性乳化剤を用いた乳化重合方法、それにより得られる水系ポリマーディスパージョン及びポリマーフィルム |
KR20130078767A (ko) * | 2011-12-30 | 2013-07-10 | 코오롱인더스트리 주식회사 | 광학 투명성을 갖는 자외선 경화형 점·접착제 조성물 및 이를 이용한 다층 필름 |
US9353298B2 (en) * | 2012-10-09 | 2016-05-31 | Lg Chem, Ltd. | Acrylic emulsion pressure sensitive adhesive composition including nanometer scale latex particles with monomodal particle size distribution and method of preparing the same |
EP3001487B1 (en) * | 2013-05-23 | 2017-10-18 | LG Chem, Ltd. | Binder for secondary battery, and secondary battery including the same |
KR101784048B1 (ko) * | 2013-11-18 | 2017-11-06 | 주식회사 엘지화학 | 카르본산 변성 니트릴계 공중합체 라텍스 조성물, 이의 제조방법 및 이를 포함하는 딥 성형용 라텍스 조성물 |
-
2014
- 2014-11-12 KR KR1020140157391A patent/KR101784048B1/ko active IP Right Grant
- 2014-11-12 KR KR1020140157390A patent/KR101722818B1/ko active IP Right Grant
- 2014-11-17 JP JP2015555951A patent/JP6067887B2/ja active Active
- 2014-11-17 MY MYPI2015001757A patent/MY171235A/en unknown
- 2014-11-17 US US14/432,972 patent/US9820517B2/en active Active
- 2014-11-17 CN CN201480004214.4A patent/CN105102494B/zh active Active
Cited By (4)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
KR20150058000A (ko) * | 2013-11-18 | 2015-05-28 | 주식회사 엘지화학 | 카르본산 변성 니트릴계 공중합체 라텍스 조성물, 이의 제조방법 및 이를 포함하는 딥 성형용 라텍스 조성물 |
US9820517B2 (en) | 2013-11-18 | 2017-11-21 | Lg Chem. Ltd. | Carboxylic acid-modified nitrile-based copolymer latex composition, preparation method thereof, and latex composition for dip molding including the same |
US11834537B2 (en) | 2020-03-31 | 2023-12-05 | Lg Chem, Ltd. | Carboxylic acid modified-nitrile based copolymer latex and latex composition for dip-forming comprising the copolymer latex and article formed by the composition |
US11873391B2 (en) | 2020-03-31 | 2024-01-16 | Lg Chem, Ltd. | Carboxylic acid modified-nitrile based copolymer latex and latex composition for dip-forming comprising the copolymer latex and article formed by the composition |
Also Published As
Publication number | Publication date |
---|---|
KR20150058000A (ko) | 2015-05-28 |
CN105102494B (zh) | 2018-05-15 |
JP2016508534A (ja) | 2016-03-22 |
US9820517B2 (en) | 2017-11-21 |
CN105102494A (zh) | 2015-11-25 |
KR101722818B1 (ko) | 2017-04-03 |
MY171235A (en) | 2019-10-04 |
JP6067887B2 (ja) | 2017-01-25 |
US20160244575A1 (en) | 2016-08-25 |
KR101784048B1 (ko) | 2017-11-06 |
Similar Documents
Publication | Publication Date | Title |
---|---|---|
KR101784048B1 (ko) | 카르본산 변성 니트릴계 공중합체 라텍스 조성물, 이의 제조방법 및 이를 포함하는 딥 성형용 라텍스 조성물 | |
US9803070B2 (en) | Carboxylic acid modified-nitrile based copolymer latex for dip-forming, latex composition for dip-forming comprising the same, and product thereof | |
JP6878602B2 (ja) | カルボン酸変性ニトリル系共重合体ラテックス、その製造方法、これを含むディップ成形用ラテックス組成物およびこれから成形された成形品 | |
JP5272226B2 (ja) | カルボン酸変性ニトリル系共重合体ラテックス、これを含むディップ成形用ラテックス組成物 | |
JP6703615B2 (ja) | ディップ成形用ラテックス組成物及びこれより製造された成形品 | |
KR101795842B1 (ko) | 카르본산 변성 니트릴계 공중합체 라텍스를 포함하는 딥 성형용 라텍스 조성물 및 이로부터 제조된 딥 성형품 | |
KR101297871B1 (ko) | 딥 성형용 라텍스, 딥 성형용 조성물, 딥 성형물 제조방법 및 그 방법에 의해 제조된 딥 성형물 | |
JP6458139B2 (ja) | ディップ成形用ラテックス組成物及びこれから製造されたディップ成形品 | |
KR101599583B1 (ko) | 카르본산 변성 니트릴계 공중합체 라텍스 조성물 및 이를 포함하는 딥 성형품 | |
KR101467020B1 (ko) | 딥 성형용 카르본산 변성 니트릴계 공중합체 라텍스, 이를 포함하는 딥 성형용 라텍스 조성물 및 이로부터 제조된 성형품 | |
KR102069828B1 (ko) | 딥 성형용 라텍스 조성물 및 이로부터 제조된 성형품 | |
KR101582005B1 (ko) | 딥 성형용 라텍스 조성물 및 이로부터 제조된 성형품 | |
KR101338539B1 (ko) | 딥 성형용 카르본산 변성 니트릴계 공중합체 라텍스, 이를 포함하는 딥 성형용 라텍스 조성물 및 이로부터 제조된 성형품 | |
KR101687866B1 (ko) | 카르본산 변성 니트릴계 공중합체 라텍스 조성물 및 이를 포함하는 딥 성형용 라텍스 조성물 | |
KR20170047880A (ko) | 딥 성형용 라텍스 조성물 및 이로부터 제조된 성형품 | |
US20180230297A1 (en) | Latex composition for dip molding and molded article manufactured therefrom | |
KR101483333B1 (ko) | 카르본산 변성 니트릴계 공중합체 라텍스를 포함하는 딥 성형용 라텍스 조성물 및 이의 성형품 | |
KR101779295B1 (ko) | 딥 성형용 라텍스 조성물 및 이로부터 제조된 딥 성형품 | |
KR102274027B1 (ko) | 딥 성형용 라텍스 조성물 및 이로부터 제조된 성형품 | |
KR20160061125A (ko) | 카르본산 변성 니트릴계 공중합체 라텍스 조성물, 이의 제조방법 및 이를 포함하는 딥 성형용 라텍스 조성물 | |
KR101590694B1 (ko) | 카르본산 변성 니트릴계 공중합체 라텍스 조성물을 포함하는 딥 성형용 조성물 및 이로부터 제조된 딥 성형품 | |
KR101602527B1 (ko) | 딥 성형용 조성물의 제조방법, 딥 성형품 및 그 제조 방법 | |
KR20190073694A (ko) | 카르본산 변성 니트릴계 공중합체 라텍스 제조방법, 카르본산 변성 니트릴계 공중합체 라텍스 및 이로부터 성형된 성형품 | |
KR102497309B1 (ko) | 딥 성형용 라텍스 조성물, 이로부터 성형된 성형품 및 이의 제조방법 | |
KR102600563B1 (ko) | 카르본산 변성 니트릴계 공중합체 라텍스, 이를 포함하는 딥 성형용 라텍스 조성물 및 이로부터 성형된 성형품 |
Legal Events
Date | Code | Title | Description |
---|---|---|---|
A201 | Request for examination | ||
E902 | Notification of reason for refusal | ||
E701 | Decision to grant or registration of patent right | ||
GRNT | Written decision to grant |