KR20150034330A - Method for preparing flexible substrate and method for preparing organic light emitting device comprising the same - Google Patents

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KR20150034330A KR20130114249A KR20130114249A KR20150034330A KR 20150034330 A KR20150034330 A KR 20150034330A KR 20130114249 A KR20130114249 A KR 20130114249A KR 20130114249 A KR20130114249 A KR 20130114249A KR 20150034330 A KR20150034330 A KR 20150034330A
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Abstract

The present specification relates to a method for manufacturing a flexible substrate and a method for manufacturing an organic light emitting device comprising the same. A method for manufacturing a flexible substrate according to the present specification includes 1) a step of directly forming an inorganic barrier layer on at least one surface of a plastic substrate, and 2) a step of laminating the plastic substrate to form the inorganic barrier layer on a carrier substrate.

Description

플렉서블 기판의 제조방법 및 이를 포함하는 유기 발광 소자의 제조방법{METHOD FOR PREPARING FLEXIBLE SUBSTRATE AND METHOD FOR PREPARING ORGANIC LIGHT EMITTING DEVICE COMPRISING THE SAME}BACKGROUND OF THE INVENTION 1. Field of the Invention [0001] The present invention relates to a method of manufacturing a flexible substrate and a method of manufacturing an organic light-

본 출원은 플렉서블 기판의 제조방법 및 이를 포함하는 유기 발광 소자의 제조방법에 관한 것이다.The present invention relates to a method of manufacturing a flexible substrate and a method of manufacturing an organic light emitting device including the same.

유기 발광 소자는 두 개의 반대 전극과 그 사이에 존재하는 다층의 반도체적 성질을 갖는 유기물의 박막들로 구성되어 있다. 이와 같은 구성의 유기 발광 소자는 유기 물질을 이용하여 전기 에너지를 빛 에너지로 전환시켜주는 현상, 즉 유기 발광 현상을 이용한다. 구체적으로, 양극과 음극 사이에 유기물층을 위치시킨 구조에 있어서 두 전극 사이에 전압을 걸어주게 되면 양극에서는 정공이, 음극에서는 전자가 유기물층에 주입되게 된다. 주입된 정공과 전자가 만났을 때 엑시톤(exciton)이 형성되고, 이 엑시톤이 다시 바닥 상태로 떨어질 때 빛이 나게 된다.The organic light emitting device is composed of two opposing electrodes and thin films of an organic material having a multilayered semiconducting property existing therebetween. The organic light emitting device having such a structure uses an organic light emitting phenomenon that converts electric energy into light energy using an organic material. Specifically, when a voltage is applied between two electrodes in a structure in which an organic layer is positioned between an anode and a cathode, holes are injected into the organic layer and holes are injected into the organic layer. When the injected holes and electrons meet, an exciton is formed. When the exciton falls back to the ground state, light is emitted.

상기와 같은 유기 발광 소자에서는 유기물층에서 생성된 빛이 광 투과성 전극을 통하여 방출하게 되며, 유기 발광 소자는 통상 전면 발광(top emission), 후면 발광(bottom emisstion) 및 양면 발광형으로 분류할 수 있다. 전면 또는 후면 발광형의 경우는 두 개의 전극 중 하나가 광 투과성 전극이어야 하며, 양면 발광형의 경우는 두 개의 전극이 모두 광 투과성 전극이어야 한다.In the organic light emitting device, light generated in the organic layer is emitted through the light-transmitting electrode. The organic light emitting device may be classified into a top emission type, a bottom emission type, and a double-side emission type. In the case of the front or rear emission type, one of the two electrodes must be a light-transmitting electrode, and in the case of a double-sided light-emitting type, both electrodes must be a light-transmitting electrode.

상기와 같은 유기 발광 소자에 대해서는 다층 구조를 사용하는 경우 저전압에서 구동할 수 있다는 코닥사의 발표 이래 많은 연구가 집중되어 왔으며, 최근에는 유기 발광 소자를 이용한 천연색 디스플레이가 휴대용 전화기에 부착되어 상용화되고 있다.In recent years, a color display using an organic light emitting device has been attached to a portable telephone, and has been commercialized.

또한, 최근의 유기 발광 소자는 기존의 형광 물질을 이용하는 대신 인광 물질의 이용에 대한 연구가 진행되면서 효율의 향상이 급격히 이루어지고 있으며, 가까운 미래에는 기존의 조명을 대체할 수 있다는 예상도 나오고 있다.In recent years, as the use of phosphorescent materials has been studied instead of using conventional fluorescent materials, efficiency of the organic light emitting devices has been rapidly improved, and it is expected that the organic light emitting devices can be replaced with existing ones in the near future.

유기 발광 소자가 조명으로 이용되기 위해서는 기존의 천연색 디스플레이와는 달리 고휘도에서 소자를 구동하여야 하며, 기존의 조명과 같이 일정한 휘도를 유지하여야 한다. 유기 발광 소자의 휘도를 충분히 향상시키기 위해서는 넓은 면적에서 발광이 이루어져야 하고, 이와 같이 넓은 면적에서 발광이 이루어지게 하기 위해서는 높은 구동 전류를 이용해야 한다. 또한, 넓은 면적에서 일정한 휘도를 유지하기 위해서는 상기와 같은 높은 전류가 넓은 면적의 소자에 균일하게 주입되어야 한다.In order to use the organic light emitting device as a light source, the device must be driven at a high luminance unlike a conventional color display, and a constant luminance should be maintained as in conventional lighting. In order to sufficiently improve the luminance of the organic light emitting device, light must be emitted in a large area, and a high driving current must be used in order to emit light in such a large area. In order to maintain a constant luminance over a large area, the above-mentioned high current must be uniformly injected into a large-area device.

대한민국 공개특허공보 제10-2010-0096924호Korean Patent Publication No. 10-2010-0096924

당 기술분야에서는 제조공정을 단순화하여 공정비용을 절감할 수 있고, 플렉서블한 특성을 가지는 기판을 포함하는 유기 발광 소자에 대한 연구가 필요하다.There is a need in the art to study an organic light emitting device including a substrate having a flexible property that can simplify the manufacturing process and reduce the process cost.

이에 본 출원은,In this application,

1) 플라스틱 기판의 적어도 일면에, 상기 플라스틱 기판에 직접 접하는 무기 배리어층을 형성하는 단계, 및1) forming an inorganic barrier layer directly on the plastic substrate on at least one side of the plastic substrate, and

2) 캐리어(carrier) 기판 상에 상기 무기 배리어층이 구비되도록 플라스틱 기판을 라미네이션 하는 단계2) Lamination of a plastic substrate such that the inorganic barrier layer is provided on a carrier substrate

를 포함하는 플렉서블(flexible) 기판의 제조방법을 제공한다.The present invention also provides a method of manufacturing a flexible substrate.

또한, 본 출원은,In addition,

플라스틱 기판; 및A plastic substrate; And

상기 플라스틱 기판의 적어도 일면에 직접 접하도록 구비된 무기 배리어층An inorganic barrier layer provided directly on at least one side of the plastic substrate,

을 포함하는 플렉서블(flexible) 기판을 제공한다.And a flexible substrate.

또한, 본 출원은,In addition,

a) 플라스틱 기판의 적어도 일면에, 상기 플라스틱 기판에 직접 접하는 무기 배리어층을 형성하는 단계,comprising the steps of: a) forming, on at least one side of a plastic substrate, an inorganic barrier layer in direct contact with said plastic substrate,

b) 캐리어(carrier) 기판 상에 상기 무기 배리어층이 구비되도록 플라스틱 기판을 라미네이션 하는 단계,b) laminating a plastic substrate such that the inorganic barrier layer is provided on a carrier substrate,

c) 상기 플라스틱 기판 상에 유기 발광 소자를 형성하는 단계, 및c) forming an organic light emitting device on the plastic substrate, and

d) 상기 캐리어 기판을 분리하는 단계d) separating the carrier substrate

를 포함하는 플렉서블(flexible) 유기 발광 소자의 제조방법을 제공한다.The present invention provides a method of manufacturing a flexible organic light emitting device.

또한, 본 출원은,In addition,

무기 배리어층;An inorganic barrier layer;

상기 무기 배리어층 상에 직접 접하도록 구비된 플라스틱 기판; 및A plastic substrate provided to be in direct contact with the inorganic barrier layer; And

상기 플라스틱 기판 상에 구비된 유기 발광 소자The organic light emitting device provided on the plastic substrate

를 포함하는 플렉서블(flexible) 유기 발광 소자를 제공한다.The present invention provides a flexible organic light emitting device comprising:

또한, 본 출원은 상기 플렉서블 유기 발광 소자를 포함하는 디스플레이 장치를 제공한다.The present application also provides a display device including the flexible organic light emitting device.

또한, 본 출원은 상기 플렉서블 유기 발광 소자를 포함하는 조명 장치를 제공한다.The present application also provides a lighting apparatus including the flexible organic light emitting device.

본 출원에 따르면, 제조공정을 단순화하여 공정비용을 절감할 수 있고, 플렉서블한 특성을 가지는 기판을 포함하는 유기 발광 소자를 제공할 수 있다.According to the present application, it is possible to provide an organic light emitting device including a substrate having a flexible property, which can simplify the manufacturing process and reduce the process cost.

또한, 본 출원에 따르면, 무기 배리어층과 캐리어 기판과의 접착력이 우수하고, 상기 무기 배리어층은 외부의 산소, 수분 등을 차단하는 배리어 역할 뿐만 아니라, 광추출층의 역할을 수행할 수 있다.In addition, according to the present application, the adhesion between the inorganic barrier layer and the carrier substrate is excellent, and the inorganic barrier layer can serve as a light extraction layer as well as a barrier for blocking oxygen, moisture and the like from the outside.

또한, 본 출원에 따르면, 플렉서블 기판 상에 유기 발광 소자를 제작하는 과정이 글래스 기판 상에 유기 발광 소자를 제작하는 과정과 동일하므로, 기존의 공정을 그대로 적용할 수 있고, 플렉서블 기판을 자유자재로 탈부착이 가능하다는 특징이 있다.In addition, according to the present invention, since the process of fabricating the organic light emitting device on the flexible substrate is the same as the process of fabricating the organic light emitting device on the glass substrate, the existing process can be applied as it is and the flexible substrate can be freely It can be attached and detached.

도 1은 본 출원의 일구체예로서, 플렉서블 기판을 제조하는 방법을 개략적으로 나타낸 도이다.
<도면의 주요부호의 설명>
10: 플라스틱 기판
20: 무기 배리어층
30: 캐리어 기판
40: 실란계 커플링제
1 schematically shows a method of manufacturing a flexible substrate as one embodiment of the present application.
DESCRIPTION OF THE REFERENCE NUMERALS
10: plastic substrate
20: inorganic barrier layer
30: carrier substrate
40: Silane coupling agent

이하 본 출원에 대해서 자세히 설명한다.The present application will be described in detail below.

최근 디스플레이 분야에서 제품의 경량화 및 소형화가 중요시 되고 있으나 현재 사용되고 있는 유리 기판의 경우 무겁고 잘 깨지며 연속공정이 어렵다는 단점이 있기 때문에 유리 기판을 대체하여 가볍고 유연하며 연속공정이 가능한 장점을 갖는 플라스틱 기판을 핸드폰, 노트북, PDA 등에 적용하기 위한 연구가 활발히 진행되고 있다.Recently, weight reduction and miniaturization of products have been emphasized in the field of display. However, since the glass substrates currently used are heavy, fragile and difficult to be continuously processed, a plastic substrate having advantages of being light, Mobile phones, notebook computers, PDAs, and the like.

종래에는 플라스틱 기판 상에 점착층 등을 이용하여 무기 배리어층을 적층하는 방법이 알려져 있었으나, 상기 점착층을 통하여 외부 산소, 수분 등이 유기 발광 소자로 침투하는 문제점이 있었다.Conventionally, there has been known a method of laminating an inorganic barrier layer on a plastic substrate using an adhesive layer or the like. However, there has been a problem that external oxygen, water, etc. penetrate into the organic light emitting element through the adhesive layer.

또한, 플라스틱 기판을 이용하기 위하여, 일반적으로 플라스틱 기판을 글래스 기판 상에 부착하여 제조하였으나, 상기 플라스틱 기판과 글래스 기판은 서로 상호작용이 없으므로, 이들간의 접착력이 떨어지는 문제점이 있었다.Also, in order to use a plastic substrate, a plastic substrate is generally manufactured by adhering a plastic substrate on a glass substrate. However, since the plastic substrate and the glass substrate do not interact with each other, there is a problem that the adhesion between them is low.

이에 본 출원에서는, 플라스틱 기판과 글래스 기판 간의 접착력이 우수하고, 외부 산소, 수분 등의 침투를 효과적으로 방지할 수 있는 플렉서블 기판을 제공하고자 한다.Thus, in the present application, it is intended to provide a flexible substrate which is excellent in adhesion between a plastic substrate and a glass substrate and can effectively prevent penetration of external oxygen, moisture, and the like.

본 출원의 일 실시상태에 따른 플렉서블 기판의 제조방법은, 1) 플라스틱 기판의 적어도 일면에, 상기 플라스틱 기판에 직접 접하는 무기 배리어층을 형성하는 단계, 및 2) 캐리어(carrier) 기판 상에 상기 무기 배리어층이 구비되도록 플라스틱 기판을 라미네이션 하는 단계를 포함한다.According to an embodiment of the present invention, there is provided a method of manufacturing a flexible substrate, comprising the steps of: 1) forming an inorganic barrier layer directly on the plastic substrate on at least one side of the plastic substrate; and 2) And laminating the plastic substrate so that the barrier layer is provided.

본 출원에 있어서, 상기 1) 단계는 플라스틱 기판의 적어도 일면에, 상기 플라스틱 기판에 직접 접하는 무기 배리어층을 형성하는 단계이다. 상기 플라스틱 기판은 PET(polyethylene terephthalate), 폴리에스테르(polyester), PC(Polycarbonate), PI(polyimide), PEN(polyethylene naphthalate), PEEK(polyether ether ketone), PAR(polyarylate), PCO(polycyclicolefin), 폴리노보넨(polynorbornene), PES(polyethersulphone) 및 COP(cycloolefin polymer)로 이루어진 군으로부터 선택될 수 있으나, 이에만 한정되는 것은 아니다.In the present application, step (1) is a step of forming an inorganic barrier layer directly on the plastic substrate on at least one side of the plastic substrate. The plastic substrate may be made of a plastic material such as PET (polyethylene terephthalate), polyester, PC (polycarbonate), PI (polyimide), PEN (polyethylene naphthalate), PEEK (polyether ether ketone) But are not limited to, polynorbornene, polyethersulphone (PES), and cycloolefin polymer (COP).

상기 무기 배리어층을 형성하는 단계는 습식 코팅, 화학기상증착 공정, 스퍼터링 공정 또는 ALD(atomic layer deposition) 공정을 이용할 수 있다. 상기 습식 코팅, 화학기상증착 공정, 스퍼터링 공정, ALD 공정 등은 당 기술분야에 알려진 방법을 이용할 수 있고, 특별히 제한되는 것은 아니다.The inorganic barrier layer may be formed using a wet coating, a chemical vapor deposition process, a sputtering process, or an atomic layer deposition (ALD) process. The wet coating, the chemical vapor deposition process, the sputtering process, the ALD process, and the like can be performed by any method known in the art, and are not particularly limited.

상기 무기 배리어층의 두께는 10 ~ 100nm 일 수 있으나, 이에만 한정되는 것은 아니다.The thickness of the inorganic barrier layer may be 10 to 100 nm, but is not limited thereto.

상기 무기 배리어층의 굴절율은 1.7 이상일 수 있고, 1.8 내지 3.5 일 수 있으며, 2.2 내지 3 일 수 있으나, 이에만 한정되는 것은 아니다.The refractive index of the inorganic barrier layer may be 1.7 or more, 1.8 to 3.5, or 2.2 to 3, but is not limited thereto.

상기 무기 배리어층은 SiON, TiO2, SiO2, Al2O3, Ta2O3, Ti3O3, ZrO2, Nb2O3, CeO2, ZnS 등을 1종 이상 포함할 수 있으나, 이에만 한정되는 것은 아니다.The inorganic barrier layer is SiON, TiO 2, SiO 2, Al 2 O 3, Ta 2 O 3, Ti 3 O 3, ZrO 2, Nb 2 O 3, CeO 2, but can include ZnS including at least one member, But is not limited thereto.

상기 무기 배리어층은 두께 방향으로 굴절율이 점진적으로 증가하거나 감소하는 굴절율 구배를 가질 수 있다. 특히, 상기 무기 배리어층의 형성시 TiO2:SiO2의 함량을 10:1, 5:1, 2:1 등의 비율로 조절함으로써, 상기 무기 배리어층의 굴절율을 1.7 ~ 2의 범위에서 다양하게 조절할 수 있다. 즉, 상기 무기 배리어층의 두께 방향으로 Å 단위로 미세하게 굴절율을 조절할 수 있다.The inorganic barrier layer may have a refractive index gradient such that the refractive index gradually increases or decreases in the thickness direction. Particularly, by adjusting the content of TiO 2 : SiO 2 at a ratio of 10: 1, 5: 1, 2: 1 or the like at the time of forming the inorganic barrier layer, the refractive index of the inorganic barrier layer can be varied Can be adjusted. That is, the refractive index can be finely adjusted in units of A in the thickness direction of the inorganic barrier layer.

본 출원에 있어서, 상기 2) 단계는 캐리어 기판 상에 상기 무기 배리어층이 구비되도록 플라스틱 기판을 라미네이션 하는 단계이다. 상기 2) 단계의 캐리어 기판, 및 무기 배리어층이 형성된 플라스틱 기판 사이에 접착력을 부가하는 단계를 추가로 포함할 수 있다. 상기 접착력을 부가하는 단계는 실란계 커플링제, DAF(die attach film) 또는 AP(adhesion promoter)를 이용할 수 있으나, 이에만 한정되는 것은 아니다.In the present application, the step 2) is a step of laminating the plastic substrate so that the inorganic barrier layer is provided on the carrier substrate. Adding a bonding force between the carrier substrate of step 2) and the plastic substrate on which the inorganic barrier layer is formed. The step of adding the adhesive force may be a silane coupling agent, a DAF (die attach film), or an adhesion promoter (AP), but is not limited thereto.

상기 캐리어 기판은 캐리어 글래스일 수 있다. 이 때, 상기 캐리어 글래스의 두께는 0.5 ~ 0.7mm일 수 있으나, 이에만 한정되는 것은 아니다.The carrier substrate may be a carrier glass. At this time, the thickness of the carrier glass may be 0.5 to 0.7 mm, but is not limited thereto.

본 출원의 일구체예로서, 플렉서블 기판을 제조하는 방법을 하기 도 1에 개략적으로 나타내었다.As a specific example of the present application, a method of manufacturing a flexible substrate is schematically shown in Fig.

또한, 본 출원의 일 실시상태에 따른 플렉서블 기판은, 플라스틱 기판; 및 상기 플라스틱 기판의 적어도 일면에 직접 접하도록 구비된 무기 배리어층을 포함한다.According to an embodiment of the present invention, there is provided a flexible substrate comprising: a plastic substrate; And an inorganic barrier layer provided to directly contact at least one surface of the plastic substrate.

상기 플라스틱 기판 및 무기 배리어층에 대한 내용은 전술한 바와 동일하므로, 이에 대한 구체적인 설명은 생략하기로 한다.Since the plastic substrate and the inorganic barrier layer are the same as those described above, a detailed description thereof will be omitted.

또한, 본 출원의 일 실시상태에 따른 플렉서블 유기 발광 소자의 제조방법은, a) 플라스틱 기판의 적어도 일면에, 상기 플라스틱 기판에 직접 접하는 무기 배리어층을 형성하는 단계, b) 캐리어(carrier) 기판 상에 상기 무기 배리어층이 구비되도록 플라스틱 기판을 라미네이션 하는 단계, c) 상기 플라스틱 기판 상에 유기 발광 소자를 형성하는 단계, 및 d) 상기 캐리어 기판을 분리하는 단계를 포함한다.The method of manufacturing a flexible organic light emitting device according to one embodiment of the present application includes the steps of: a) forming an inorganic barrier layer directly on the plastic substrate on at least one surface of a plastic substrate; b) Laminating a plastic substrate such that the inorganic barrier layer is provided on the plastic substrate, c) forming an organic light emitting device on the plastic substrate, and d) separating the carrier substrate.

상기 a) 및 b) 단계의 구체적인 내용은 전술한 바와 동일하므로, 이에 대한 구체적인 설명은 생략하기로 한다.Since the details of the steps a) and b) are the same as those described above, a detailed description thereof will be omitted.

본 출원에 있어서, 상기 c) 단계는 플라스틱 기판 상에 유기 발광 소자를 형성하는 단계이다. 상기 유기 발광 소자는 애노드, 1층 이상의 유기물층 및 캐소드를 포함할 수 있다.In the present application, the step c) is a step of forming an organic light emitting device on a plastic substrate. The organic light emitting device may include an anode, one or more organic layers, and a cathode.

상기 애노드는 마그네슘, 칼슘, 나트륨, 칼륨, 타이타늄, 인듐, 이트륨, 리튬, 가돌리늄, 알루미늄, 백금, 금, 텅스텐, 탄탈륨, 구리, 은, 주석 및 납 중에서 선택된 1종 이상으로 형성될 수 있다.The anode may be formed of at least one selected from magnesium, calcium, sodium, potassium, titanium, indium, yttrium, lithium, gadolinium, aluminum, platinum, gold, tungsten, tantalum, copper, silver, tin and lead.

또한, 애노드는 투명 전도성 산화물로 형성될 수도 있다. 여기서, 상기 투명 전도성 산화물은 인듐(In), 주석(Sn), 아연(Zn), 갈륨(Ga), 세륨(Ce), 카드뮴(Cd), 마그네슘(Mg), 베릴륨(Be), 은(Ag), 몰리브덴(Mo), 바나듐(V), 구리(Cu), 이리듐(Ir), 로듐(Rh), 루세늄(Ru), 텅스텐(W), 코발트(Co), 니켈(Ni), 망간(Mn), 알루미늄(Al), 및 란탄(La) 중에서 선택된 적어도 하나의 산화물일 수 있다.In addition, the anode may be formed of a transparent conductive oxide. The transparent conductive oxide may be at least one selected from the group consisting of In, Sn, Zn, Ga, Ce, Cd, Mg, Ber, Ag, ), Molybdenum (Mo), vanadium (V), copper (Cu), iridium (Ir), rhodium (Rh), ruthenium (Ru), tungsten (W), cobalt Mn), aluminum (Al), and lanthanum (La).

상기 애노드는 스퍼터링(Sputtering)법, 전자-빔 증착법(E-beam evaporation), 열 증착법(Thermal evaporation), 레이저 분자 빔 증착법(Laser Molecular Beam Epitaxy, L-MBE), 및 펄스 레이저 증착법(Pulsed Laser Deposition, PLD) 중에서 선택된 어느 하나의 물리 기상 증착법(Physical Vapor Deposition, PVD); 열 화학 기상 증착법(Thermal Chemical Vapor Deposition), 플라즈마 화학 기상 증착법(Plasma-Enhanced Chemical Vapor Deposition, PECVD), 광 화학 기상 증착법(Light Chemical Vapor Deposition), 레이저 화학 기상 증착법(Laser Chemical Vapor Deposition), 금속-유기 화학 기상 증착법(Metal-Organic Chemical Vapor Deposition, MOCVD), 및 수소화물 기상 증착법(Hydride Vapor Phase Epitaxy, HVPE) 중에서 선택된 어느 하나의 화학 기상 증착법(Chemical Vapor Deposition); 또는 원자층 증착법(Atomic Layer Deposition, ALD)을 이용하여 형성할 수 있다The anode may be formed by sputtering, E-beam evaporation, thermal evaporation, Laser Molecular Beam Epitaxy (L-MBE), Pulsed Laser Deposition , And PLD); a physical vapor deposition (PVD) method; A thermal chemical vapor deposition method, a plasma chemical vapor deposition (PECVD) method, a light chemical vapor deposition method, a laser chemical vapor deposition method, a metal- A chemical vapor deposition method selected from the group consisting of metal organic chemical vapor deposition (MOCVD), and hydride vapor phase epitaxy (HVPE); Or by using Atomic Layer Deposition (ALD)

상기 애노드의 저항 개선을 위하여 보조전극을 추가로 포함할 수 있다. 상기 보조전극은 전도성 실란트(sealant) 및 금속으로 이루어진 군으로부터 선택되는 1종 이상을 증착 공정 또는 프린팅 공정을 이용하여 형성할 수 있다. 보다 구체적으로, 상기 보조전극은 Cr, Mo, Al, Cu, 이들의 합금 등을 포함할 수 있으나, 이에만 한정되는 것은 아니다.An auxiliary electrode may be further included to improve the resistance of the anode. The auxiliary electrode may be formed using a deposition process or a printing process using at least one selected from the group consisting of a conductive sealant and a metal. More specifically, the auxiliary electrode may include, but is not limited to, Cr, Mo, Al, Cu, alloys thereof, and the like.

상기 보조전극 상에 절연층을 추가로 포함할 수 있다. 상기 절연층은 당 기술분야에 알려진 재료 및 방법을 이용하여 형성될 수 있다. 보다 구체적으로, 일반적인 포토 레지스트 물질; 폴리이미드; 폴리아크릴; 실리콘 나이트라이드; 실리콘 옥사이드; 알루미늄 옥사이드; 알루미늄 나이트라이드; 알카리 금속 산화물; 알카리토금속 산화물 등을 이용하여 형성될 수 있으나, 이에만 한정되는 것은 아니다. 상기 절연층의 두께는 10nm ~ 10㎛일 수 있으나, 이에 한정되는 것은 아니다.And may further include an insulating layer on the auxiliary electrode. The insulating layer may be formed using materials and methods known in the art. More specifically, general photoresist materials; Polyimide; Polyacrylics; Silicon nitride; Silicon oxide; Aluminum oxide; Aluminum nitride; Alkali metal oxides; An alkaline earth metal oxide, or the like, but the present invention is not limited thereto. The thickness of the insulating layer may be 10 nm to 10 탆, but is not limited thereto.

상기 유기물층의 구체적인 물질, 형성방법은 특별히 제한되는 것은 아니고, 당 기술분야에 널리 알려진 물질 및 형성방법을 이용할 수 있다.The material and method for forming the organic material layer are not particularly limited, and materials and forming methods well known in the art can be used.

상기 유기물층은 다양한 고분자 소재를 사용하여 증착법이 아닌 용매 공정(solvent process), 예컨대 스핀 코팅, 딥 코팅, 닥터 블레이딩, 스크린 프린팅, 잉크젯 프린팅 또는 열 전사법 등의 방법에 의하여 더 적은 수의 층으로 제조할 수 있다.The organic material layer may be formed by using a variety of polymer materials in a smaller number of layers by a solvent process such as a spin coating process, a dip coating process, a doctor blading process, a screen printing process, an inkjet printing process or a thermal transfer process, Can be manufactured.

상기 유기물층은 발광층을 포함하고, 정공 주입층, 정공 수송층, 전자 수송층 및 전자 주입층 중에서 선택된 하나 이상을 포함하는 적층 구조일 수 있다.The organic material layer may include a light emitting layer, and may have a laminated structure including at least one selected from a hole injecting layer, a hole transporting layer, an electron transporting layer, and an electron injecting layer.

상기 정공 주입층을 형성할 수 있는 물질로는 통상 유기물층으로 정공 주입이 원활할 수 있도록 일함수가 큰 물질이 바람직하다. 상기 정공 주입 물질의 구체적인 예로는 바나듐, 크롬, 구리, 아연, 금과 같은 금속 또는 이들의 합금; 아연 산화물, 인듐 산화물, 인듐 주석 산화물(ITO), 인듐 아연 산화물(IZO)과 같은 금속 산화물; ZnO : Al 또는 SnO2 : Sb와 같은 금속과 산화물의 조합; 폴리(3-메틸티오펜), 폴리[3,4-(에틸렌-1,2-디옥시)티오펜](PEDT), 폴리피롤 및 폴리아닐린과 같은 전도성 고분자 등이 있으나, 이들에만 한정되는 것은 아니다.As a material capable of forming the hole injection layer, a material having a large work function is preferably used so that hole injection can be smoothly conducted into the organic material layer. Specific examples of the hole injecting material include metals such as vanadium, chromium, copper, zinc, and gold, or alloys thereof; Metal oxides such as zinc oxide, indium oxide, indium tin oxide (ITO), and indium zinc oxide (IZO); ZnO: Al or SnO 2: a combination of a metal and an oxide such as Sb; Conductive polymers such as poly (3-methylthiophene), poly [3,4- (ethylene-1,2-dioxy) thiophene] (PEDT), polypyrrole and polyaniline.

상기 전자 주입층을 형성할 수 있는 물질로는 통상 유기물층으로 전자 주입이 용이하도록 일함수가 작은 물질인 것이 바람직하다. 상기 전자 주입 물질의 구체적인 예로는 마그네슘, 칼슘, 나트륨, 칼륨, 티타늄, 인듐, 이트륨, 리튬, 가돌리늄, 알루미늄, 은, 주석 및 납과 같은 금속 또는 이들의 합금; LiF/Al 또는 LiO2/Al과 같은 다층 구조 물질 등이 있고, 정공 주입 전극 물질과 동일한 물질을 사용할 수도 있으나, 이들에만 한정되는 것은 아니다.As the material capable of forming the electron injection layer, it is preferable that the material has a small work function to facilitate electron injection into the organic material layer. Specific examples of the electron injecting material include metals such as magnesium, calcium, sodium, potassium, titanium, indium, yttrium, lithium, gadolinium, aluminum, silver, tin and lead or alloys thereof; A multilayer structure material such as LiF / Al or LiO 2 / Al, and the same material as the hole injection electrode material may be used, but is not limited thereto.

상기 발광층을 형성할 수 있는 물질로는 정공 수송층과 전자 수송층으로부터 정공과 전자를 각각 수송받아 결합시킴으로써 가시광선 영역의 빛을 낼 수 있는 물질로서, 형광이나 인광에 대한 양자 효율이 좋은 물질이 바람직하다. 구체적인 예로는 8-히드록시-퀴놀린 알루미늄 착물(Alq3); 카르바졸 계열 화합물; 이량체화 스티릴(dimerized styryl) 화합물; BAlq; 10-히드록시벤조 퀴놀린-금속 화합물; 벤족사졸, 벤즈티아졸 및 벤즈이미다졸 계열의 화합물; 폴리(p-페닐렌비닐렌)(PPV) 계열의 고분자; 스피로(spiro) 화합물; 폴리플루오렌, 루브렌; 인광 호스트 CBP[[4,4'-bis(9-carbazolyl)biphenyl]; 등이 있으나, 이들에만 한정되는 것은 아니다.The material capable of forming the light emitting layer is preferably a material capable of emitting light in the visible light region by transporting and combining holes and electrons from the hole transporting layer and the electron transporting layer and having high quantum efficiency for fluorescence or phosphorescence . Specific examples include 8-hydroxy-quinoline aluminum complex (Alq 3 ); Carbazole-based compounds; Dimerized styryl compounds; BAlq; 10-hydroxybenzoquinoline-metal compounds; Compounds of the benzoxazole, benzothiazole and benzimidazole series; Polymers of poly (p-phenylenevinylene) (PPV) series; Spiro compounds; Polyfluorene, rubrene; Phosphorescent host CBP [[4,4'-bis (9-carbazolyl) biphenyl]; And the like, but are not limited thereto.

또한, 상기 발광 물질은 형광 또는 인광 특성을 향상시키기 위해 인광 도판트 또는 형광 도판트를 추가로 포함할 수 있다. 상기 인광 도판트의 구체적인 예로는 ir(ppy)(3)(fac tris(2-phenylpyridine) iridium) 또는 F2Irpic[iridium(Ⅲ)bis(4,6-di-fluorophenyl-pyridinato-N,C2) picolinate] 등이 있다. 형광 도판트로는 당 기술분야에 알려진 것들을 사용할 수 있다.In addition, the luminescent material may further include a phosphorescent dopant or a fluorescent dopant to improve fluorescence or phosphorescence characteristics. Specific examples of the phosphorescent dopant include ir (ppy) (3) (fac tris (2-phenylpyridine) iridium) or F2Irpic [iridium (Ⅲ) bis (4,6-di- fluorophenyl-pyridinato- . As the fluorescent dopant, those known in the art can be used.

상기 전자 수송층을 형성할 수 있는 물질로는 전자 주입층으로부터 전자를 잘 주입 받아 발광층으로 옮겨줄 수 있는 물질로서, 전자에 대한 이동성이 큰 물질이 적합하다. 구체적인 예로는 8-히드록시퀴놀린의 Al 착물; Alq3를 포함한 착물; 유기 라디칼 화합물; 히드록시플라본-금속 착물 등이 있으나, 이들에만 한정되는 것은 아니다.As the material capable of forming the electron transport layer, a material capable of transferring electrons from the electron injection layer to the light emitting layer well is preferable. Specific examples include an Al complex of 8-hydroxyquinoline; Complexes containing Alq 3 ; Organic radical compounds; Hydroxyflavone-metal complexes, and the like, but are not limited thereto.

상기 캐소드는 Al, Ag, Ca, Mg, Au, Mo, Ir, Cr, Ti, Pd, 이들의 합금 등을 1종 이상 포함할 수 있으나, 이에만 한정되는 것은 아니다.The cathode may include one or more of Al, Ag, Ca, Mg, Au, Mo, Ir, Cr, Ti, Pd and alloys thereof.

본 출원에 있어서, 상기 c) 단계 이후 유기 발광 소자를 인캡슐레이션하는 단계를 추가로 포함할 수 있다. 상기 인캡슐레이션은 산소, 수분 등의 이물질이 유기 발광 소자에 침투하는 것을 방지하기 위한 것으로서, 당 기술분야에 알려진 재료, 방법 등을 이용하여 수행할 수 있다.In the present application, it may further include a step of encapsulating the organic light emitting element after the step c). The encapsulation is to prevent foreign substances such as oxygen and moisture from penetrating the organic light emitting device, and may be performed using materials and methods known in the art.

상기 인캡슐레이션 공정은 유기 발광 소자의 외측을 덮은 밀봉부를 형성함으로써 수행될 수 있다.The encapsulation process may be performed by forming a sealing portion covering the outside of the organic light emitting device.

상기 밀봉부는 유기 발광 소자의 외측을 덮으면서 유기 발광 소자를 밀봉할 수 있다면, 그 재료는 특별히 한정되는 것은 아니다. 예컨대, 유기 발광 소자의 외측을 봉지 필름으로 압착하거나, 금속 또는 금속 산화물을 증착하여 밀봉부를 형성하거나, 수지 조성물을 코팅 및 경화하여 밀봉부를 형성할 수 있다.The material of the sealing portion is not particularly limited as long as it can seal the organic light emitting element while covering the outside of the organic light emitting element. For example, the sealing portion may be formed by pressing the outside of the organic light emitting element with a sealing film, or by depositing a metal or a metal oxide to form a sealing portion, or by coating and hardening the resin composition.

또한, 상기 수지 조성물에 수분 반응성 필러(filler)를 가진 점착제를 사용해서 압착하여 밀봉부를 형성할 수 있다.Further, the resin composition may be pressed to form a sealing portion using a pressure-sensitive adhesive having a water-reactive filler.

또한, 상기 밀봉부는 원자층 증착법으로 금속 또는 금속 산화물을 증착하여 형성할 수 있다. 여기서, 형성되는 금속층 또는 금속 산화물층은 2층 이상의 구조일 수 있다.The sealing portion may be formed by depositing a metal or a metal oxide by an atomic layer deposition method. Here, the formed metal layer or metal oxide layer may have a two-layer structure or more.

본 출원에 있어서, 상기 d) 단계는 캐리어 기판을 분리하는 단계이다. 이 때, 캐리어 기판의 분리방법은 나이프, 레이저 등 당 기술분야에 알려진 방법을 이용할 수 있다.In the present application, the step d) is a step of separating the carrier substrate. At this time, the separation method of the carrier substrate can use a method known in the art such as a knife and a laser.

또한, 본 출원은, 상기 유기 발광 소자의 제조방법에 의하여 제조된 플렉서블 유기 발광 소자를 제공한다.The present application also provides a flexible organic light emitting device manufactured by the method for manufacturing an organic light emitting device.

또한, 본 출원의 일구체예에 따른 플렉서블 유기 발광 소자는, 무기 배리어층; 상기 무기 배리어층 상에 직접 접하도록 구비된 플라스틱 기판; 및 상기 플라스틱 기판 상에 구비된 유기 발광 소자를 포함한다.In addition, the flexible organic light emitting device according to one embodiment of the present application includes an inorganic barrier layer; A plastic substrate provided to be in direct contact with the inorganic barrier layer; And an organic light emitting device provided on the plastic substrate.

본 출원에 따른 플렉서블 유기 발광 소자에 있어서, 상기 무기 배리어층, 플라스틱 기판, 유기 발광 소자 등에 대한 내용은 전술한 바와 동일하므로, 이의 구체적인 설명은 생략하기로 한다.In the flexible organic light emitting device according to the present application, the contents of the inorganic barrier layer, the plastic substrate, the organic light emitting device, and the like are the same as those described above, and a detailed description thereof will be omitted.

본 출원에 따른 플렉서블 유기 발광 소자는 광추출 구조를 포함할 수 있다. 보다 구체적으로, 상기 플라스틱 기판과 유기 발광 소자 사이에 광추출층을 추가로 포함할 수 있다.The flexible organic light emitting device according to the present application may include a light extracting structure. More specifically, a light extraction layer may be additionally provided between the plastic substrate and the organic light emitting device.

상기 광추출층은 광산란을 유도하여, 유기 발광 소자의 광추출 효율을 향상시킬 수 있는 구조라면 특별히 제한하지 않는다. 보다 구체적으로, 상기 광추출층은 바인더 내에 산란입자가 분산된 구조일 수 있다.The light extracting layer is not particularly limited as long as it can induce light scattering and improve the light extraction efficiency of the organic light emitting device. More specifically, the light extracting layer may be a structure in which scattering particles are dispersed in the binder.

또한, 상기 광추출층은 기재 위에 스핀 코팅, 바 코팅, 슬릿 코팅 등의 방법에 의하여 직접 형성되거나, 필름 형태로 제작하여 부착하는 방식에 의하여 형성될 수 있다.The light extracting layer may be formed directly on the substrate by spin coating, bar coating, slit coating, or the like, or may be formed in a film form and attached.

또한, 상기 광추출층 상에 평탄층을 추가로 포함할 수 있다.In addition, a flat layer may be further included on the light extracting layer.

또한, 본 발명은 상기 플렉서블 유기 발광 소자를 포함하는 디스플레이 장치를 제공한다. 디스플레이 장치에서 상기 유기 발광 소자는 화소 또는 백라이트 역할을 할 수 있다. 그 외 디스플레이 장치의 구성은 당 기술분야에 알려져 있는 것들이 적용될 수 있다.The present invention also provides a display device including the flexible organic light emitting device. In the display device, the organic light emitting diode may serve as a pixel or a backlight. The configuration of the other display device may be applied to those known in the art.

또한, 본 발명은 상기 플렉서블 유기 발광 소자를 포함하는 조명 장치를 제공한다. 조명 장치에서 상기 유기 발광 소자는 발광부의 역할을 수행한다. 그 외 조명 장치에 필요한 구성들은 당 기술분야에 알려져 있는 것들이 적용될 수 있다.The present invention also provides a lighting apparatus including the flexible organic light emitting device. In the lighting apparatus, the organic light emitting element plays a role of a light emitting portion. The configurations necessary for other illumination devices can be applied to those known in the art.

전술한 바와 같이, 본 출원에 따르면, 제조공정을 단순화하여 공정비용을 절감할 수 있고, 플렉서블한 특성을 가지는 기판을 포함하는 유기 발광 소자를 제공할 수 있다.INDUSTRIAL APPLICABILITY As described above, according to the present application, it is possible to provide an organic light emitting device including a substrate having a flexible property, which can simplify the manufacturing process and reduce the process cost.

또한, 본 출원에 따르면, 무기 배리어층과 캐리어 기판과의 접착력이 우수하고, 상기 무기 배리어층은 외부의 산소, 수분 등을 차단하는 배리어 역할 뿐만 아니라, 광추출층의 역할을 수행할 수 있다.In addition, according to the present application, the adhesion between the inorganic barrier layer and the carrier substrate is excellent, and the inorganic barrier layer can serve as a light extraction layer as well as a barrier for blocking oxygen, moisture and the like from the outside.

또한, 본 출원에 따르면, 플렉서블 기판 상에 유기 발광 소자를 제작하는 과정이 글래스 기판 상에 유기 발광 소자를 제작하는 과정과 동일하므로, 기존의 공정을 그대로 적용할 수 있고, 플렉서블 기판을 자유자재로 탈부착이 가능하다는 특징이 있다.In addition, according to the present invention, since the process of fabricating the organic light emitting device on the flexible substrate is the same as the process of fabricating the organic light emitting device on the glass substrate, the existing process can be applied as it is and the flexible substrate can be freely It can be attached and detached.

Claims (21)

1) 플라스틱 기판의 적어도 일면에, 상기 플라스틱 기판에 직접 접하는 무기 배리어층을 형성하는 단계, 및
2) 캐리어(carrier) 기판 상에 상기 무기 배리어층이 구비되도록 플라스틱 기판을 라미네이션 하는 단계
를 포함하는 플렉서블(flexible) 기판의 제조방법.
1) forming an inorganic barrier layer directly on the plastic substrate on at least one side of the plastic substrate, and
2) Lamination of a plastic substrate such that the inorganic barrier layer is provided on a carrier substrate
Wherein the method comprises the steps of:
청구항 1에 있어서, 상기 무기 배리어층을 형성하는 단계는 습식 코팅, 화학기상증착 공정, 스퍼터링 공정 또는 ALD(atomic layer deposition) 공정을 이용하는 것을 특징으로 하는 플렉서블 기판의 제조방법.[2] The method of claim 1, wherein the inorganic barrier layer is formed using a wet coating, a chemical vapor deposition process, a sputtering process, or an ALD (atomic layer deposition) process. 청구항 1에 있어서, 상기 무기 배리어층의 두께는 10 ~ 100nm인 것을 특징으로 하는 플렉서블 기판의 제조방법.The manufacturing method of a flexible substrate according to claim 1, wherein the inorganic barrier layer has a thickness of 10 to 100 nm. 청구항 1에 있어서, 상기 무기 배리어층은 두께 방향으로 굴절율 구배를 갖는 것을 특징으로 하는 플렉서블 기판의 제조방법.The manufacturing method of a flexible substrate according to claim 1, wherein the inorganic barrier layer has a refractive index gradient in a thickness direction. 청구항 1에 있어서, 상기 무기 배리어층의 굴절율은 1.7 이상인 것을 특징으로 하는 플렉서블 기판의 제조방법.The manufacturing method of a flexible substrate according to claim 1, wherein the inorganic barrier layer has a refractive index of 1.7 or more. 청구항 1에 있어서, 상기 플라스틱 기판은 PET(polyethylene terephthalate), 폴리에스테르(polyester), PC(Polycarbonate), PI(polyimide), PEN(polyethylene naphthalate), PEEK(polyether ether ketone), PAR(polyarylate), PCO(polycylicolefin), 폴리노보넨(polynorbornene), PES(polyethersulphone) 및 COP(cycloolefin polymer)로 이루어진 군으로부터 선택되는 것을 특징으로 하는 플렉서블 기판의 제조방법.[2] The method of claim 1, wherein the plastic substrate is made of a material selected from the group consisting of PET (polyethylene terephthalate), polyester, PC (polycarbonate), PI (polyimide), PEN (polyethylene naphthalate), PEEK wherein the substrate is selected from the group consisting of polycylic olefin, polynorbornene, polyethersulphone (PES), and cycloolefin polymer (COP). 청구항 1에 있어서, 상기 2) 단계의 캐리어 기판, 및 무기 배리어층이 형성된 플라스틱 기판 사이에 접착력을 부가하는 단계를 추가로 포함하는 것을 특징으로 하는 플렉서블 기판의 제조방법.2. The method of manufacturing a flexible substrate according to claim 1, further comprising the step of applying an adhesive force between the carrier substrate of step 2) and the plastic substrate on which the inorganic barrier layer is formed. 청구항 7에 있어서, 상기 접착력을 부가하는 단계는 실란계 커플링제, DAF(die attach film) 또는 AP(adhesion promoter)를 이용하는 것을 특징으로 하는 플렉서블 기판의 제조방법.The method of claim 7, wherein the step of applying the adhesive force comprises using a silane-based coupling agent, a DAF (die attach film), or an AP (adhesion promoter). 플라스틱 기판; 및
상기 플라스틱 기판의 적어도 일면에 직접 접하도록 구비된 무기 배리어층
을 포함하는 플렉서블(flexible) 기판.
A plastic substrate; And
An inorganic barrier layer provided directly on at least one side of the plastic substrate,
And a flexible substrate.
청구항 9에 있어서, 상기 무기 배리어층의 두께는 10 ~ 100nm인 것을 특징으로 하는 플렉서블 기판.The flexible substrate according to claim 9, wherein the inorganic barrier layer has a thickness of 10 to 100 nm. 청구항 9에 있어서, 상기 무기 배리어층은 두께 방향으로 굴절율 구배를 갖는 것을 특징으로 하는 플렉서블 기판.The flexible substrate according to claim 9, wherein the inorganic barrier layer has a refractive index gradient in a thickness direction. 청구항 9에 있어서, 상기 무기 배리어층의 굴절율은 1.7 이상인 것을 특징으로 하는 플렉서블 기판.The flexible substrate according to claim 9, wherein the inorganic barrier layer has a refractive index of 1.7 or more. a) 플라스틱 기판의 적어도 일면에, 상기 플라스틱 기판에 직접 접하는 무기 배리어층을 형성하는 단계,
b) 캐리어(carrier) 기판 상에 상기 무기 배리어층이 구비되도록 플라스틱 기판을 라미네이션 하는 단계,
c) 상기 플라스틱 기판 상에 유기 발광 소자를 형성하는 단계, 및
d) 상기 캐리어 기판을 분리하는 단계
를 포함하는 플렉서블(flexible) 유기 발광 소자의 제조방법.
comprising the steps of: a) forming, on at least one side of a plastic substrate, an inorganic barrier layer in direct contact with said plastic substrate,
b) laminating a plastic substrate such that the inorganic barrier layer is provided on a carrier substrate,
c) forming an organic light emitting device on the plastic substrate, and
d) separating the carrier substrate
Wherein the organic light emitting layer is formed on the substrate.
청구항 13에 있어서, 상기 무기 배리어층을 형성하는 단계는 습식 코팅, 화학기상증착 공정, 스퍼터링 공정 또는 ALD(atomic layer deposition) 공정을 이용하는 것을 특징으로 하는 플렉서블 유기 발광 소자의 제조방법.[14] The method of claim 13, wherein the inorganic barrier layer is formed using a wet coating, a chemical vapor deposition process, a sputtering process, or an ALD (atomic layer deposition) process. 청구항 13에 있어서, 상기 c) 단계 이후 유기 발광 소자를 인캡슐레이션하는 단계를 추가로 포함하는 것을 특징으로 하는 플렉서블(flexible) 유기 발광 소자의 제조방법.[14] The method of claim 13, further comprising encapsulating the organic light emitting device after step c). 청구항 13에 있어서, 상기 d) 단계의 제거방법은 나이프 또는 레이저를 이용하는 것을 특징으로 하는 것을 특징으로 하는 플렉서블(flexible) 유기 발광 소자의 제조방법.[14] The method of claim 13, wherein the removing method of step d) comprises using a knife or a laser. 무기 배리어층;
상기 무기 배리어층 상에 직접 접하도록 구비된 플라스틱 기판; 및
상기 플라스틱 기판 상에 구비된 유기 발광 소자
를 포함하는 것을 특징으로 하는 플렉서블(flexible) 유기 발광 소자.
An inorganic barrier layer;
A plastic substrate provided to be in direct contact with the inorganic barrier layer; And
The organic light emitting device provided on the plastic substrate
Wherein the organic light emitting device comprises a light emitting layer.
청구항 17에 있어서, 상기 플라스틱 기판과 유기 발광 소자 사이에 광추출층을 추가로 포함하는 것을 특징으로 하는 플렉서블 유기 발광 소자.The flexible organic light emitting device according to claim 17, further comprising a light extracting layer between the plastic substrate and the organic light emitting device. 청구항 18에 있어서, 상기 광추출층 상에 평탄층을 추가로 포함하는 것을 특징으로 하는 플렉서블 유기 발광 소자.The flexible organic light emitting device according to claim 18, further comprising a flat layer on the light extracting layer. 청구항 17의 플렉서블 유기 발광 소자를 포함하는 디스플레이 장치.A display device comprising the flexible organic light emitting device according to claim 17. 청구항 17의 플렉서블 유기 발광 소자를 포함하는 조명 장치.A lighting device comprising the flexible organic light emitting device according to claim 17.
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