KR20150033039A - Method for manufacturing Wire Grid Polarizer - Google Patents

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KR20150033039A
KR20150033039A KR20130112497A KR20130112497A KR20150033039A KR 20150033039 A KR20150033039 A KR 20150033039A KR 20130112497 A KR20130112497 A KR 20130112497A KR 20130112497 A KR20130112497 A KR 20130112497A KR 20150033039 A KR20150033039 A KR 20150033039A
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이성중
심의택
이제훈
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(주)파버나인
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Abstract

Provided in the present invention is a method for manufacturing a wire grid polarizer, which comprises the first step of preparing a transparent wire grid frame in which a trans parent lattice is formed on a support substrate in parallel; a second step of forming a metal thin film layer along the upper surface and the side surface of the transparent lattice; a third step of forming a filled layer by filling between the metal thin film layers with a transparent resin; a fourth step of removing the upper part of the metal thin film layer and the upper part of the filling layer for the transparent lattice of the transparent wire grid frame to be exposed; a fifth step of attaching the transparent film on the surface in which the transparent lattice of the transparent wire grid frame is exposed; and the sixth step of forming a metal lattice and a filling lattice by removing the support substrate, the transparent wire grid frame adjacent to the support substrate, the metal thin film layer adjacent to the support substrate, and a filling layer adjacent to the support substrate to expose the filling layer.

Description

와이어 그리드 편광판 제조 방법{Method for manufacturing Wire Grid Polarizer}FIELD OF THE INVENTION [0001] The present invention relates to a wire grid polarizer,

본 발명은 와이어 그리드 편광판 제조 방법에 관한 것으로서, 보다 상세하게는 금속 박막을 증착하고 투명 레진을 충진하는 공정 등을 통하여 미세 패턴의 와이어 그리드 편광판을 제조할 수 있는 와이어 그리드 편광판 제조 방법에 관한 것이다.
The present invention relates to a wire grid polarizer manufacturing method, and more particularly, to a wire grid polarizer manufacturing method capable of manufacturing a fine wire grid polarizer through a process of depositing a metal thin film and filling a transparent resin.

일반적으로, 소정의 파장 영역의 전자기파를 편광시키기 위하여 동일한 간격으로 도전체의 격자가 형성되어 있는 와이어 그리드 편광판이 산업의 각 분야에 이미 사용되고 있고 점점 더 그 적용 분야가 확대되고 있지만 아직은 소형 크기로 생산되고 있으며 고가로 판매되고 있어서 대형화 저가격화가 절실한 상황이다.In general, a wire grid polarizer in which a grid of conductors are formed at equal intervals in order to polarize electromagnetic waves in a predetermined wavelength region has already been used in various fields of industry, and its application field is gradually increasing. However, And it is sold at a high price.

한편, 음극선관의 단점인 무게와 부피를 줄일 수 있는 평판 디스플레이들이 개발되었고, 이러한 평판 디스플레이로는 액정 표시 장치(Liquid Crystal Display; LCD)를 들 수 있다.Meanwhile, flat panel displays capable of reducing weight and volume, which are disadvantages of cathode ray tubes, have been developed, and such flat panel displays include liquid crystal displays (LCDs).

최근, 상술한 와이어 그리드 편광판을 액정 표시 장치의 내부에 In Cell 구조로 적용할 경우, 기존의 PVA 편광판과 광효율 향상용 특수필름을 동시에 대체함은 물론, 시야각 제한이 전혀 없는 편광안경방식의 새로운 입체 영상 디스플레이를 양산할 수 있는 가능성이 높아지고 있다.In recent years, when the wire grid polarizer described above is applied to the inside of a liquid crystal display device using an In Cell structure, not only a conventional PVA polarizer and a special film for improving the light efficiency can be replaced at the same time, The possibility of mass production of video displays is increasing.

또한 무안경방식인 패럴랙스 배리어(parallax barrier) 방식의 입체 영상 표시 장치의 내부에 In Cell 구조로 와이어 그리드 편광판을 적용할 경우 고해상도의 소형 입체 영상 표시 장치를 얇게 제작할 수 있음은 물론, 입체 영상 표시 장치를 좀 더 용이하게 구현할 수 있다.In addition, when a wire grid polarizer is applied to an inside of a three-dimensional image display device of a parallax barrier type which is a non-glasses type, a small-sized three-dimensional image display device of a high resolution can be made thin, The device can be implemented more easily.

한편, 대한민국 공개특허공보 10-2004-0106982에는 각인 기법을 이용하여 몰드를 제작하고, 상기 몰드를 이용하여 폴리머를 성형하며, 상기 폴리머를 이용하여 금속 격자 패턴을 형성한 후에 상기 폴리머를 제거하는 와이어 그리드 편광자 제조 방법이 개시되어 있으나, 상술한 와이어 그리드 편광자 제조 방법은 미세한 금속 격자 패턴을 형성하는데 어려움이 있었다.
Korean Patent Laid-Open Publication No. 10-2004-0106982 discloses a method of manufacturing a mold using a stamping method, forming a polymer using the mold, forming a metal grid pattern using the polymer, Although a method of manufacturing a grid polarizer is disclosed, the wire grid polarizer manufacturing method described above has difficulty in forming a fine metal grid pattern.

따라서 본 발명은 종래 기술의 문제점을 해결하기 위하여 안출된 것으로, 본 발명이 이루고자 하는 기술적 과제는, 금속 박막을 증착하고 투명 레진을 충진하는 공정 등을 통하여 미세 패턴의 와이어 그리드 편광판을 제조할 수 있는 와이어 그리드 편광판 제조 방법을 제공하는 것이다.SUMMARY OF THE INVENTION The present invention has been made in order to solve the problems of the prior art, and it is an object of the present invention to provide a wire grid polarizer capable of manufacturing a wire grid polarizer of fine pattern through a process of depositing a metal thin film and filling transparent resin And to provide a method for manufacturing a wire grid polarizer.

본 발명이 이루고자 하는 기술적 과제들은 이상에서 언급한 기술적 과제들로 제한되지 않으며, 언급되지 않은 또 다른 기술적 과제들은 아래의 기재로부터 본 발명이 속하는 기술분야에서 통상의 지식을 가진 자에게 명확하게 이해될 수 있을 것이다.
It is to be understood that both the foregoing general description and the following detailed description are exemplary and explanatory and are not intended to limit the invention to the precise forms disclosed. Other objects, which will be apparent to those skilled in the art, It will be possible.

상기와 같은 목적을 달성하기 위하여 본 발명의 일 실시예에 따른 와이어 그리드 편광판 제조 방법은 지지 기판 위에 투명 격자가 평행하게 형성되어 있는 투명 와이어 그리드 프레임을 준비하는 제 1 단계, 상기 투명 격자의 상면과 측면을 따라서 형상의 금속 박막층을 형성하는 제 2 단계, 상기 금속 박막층 사이를 투명 레진으로 충진하여 충진층을 형성하는 제 3 단계, 상기 투명 와이어 그리드 프레임의 투명 격자가 노출되도록 상기 금속 박막층의 상부와 상기 충진층의 상부를 제거하는 제 4 단계, 상기 투명 와이어 그리드 프레임의 투명 격자가 노출되어 있는 면에 투명 필름을 부착하는 제 5 단계 및 상기 충진층이 노출되도록 상기 지지 기판과, 상기 지지 기판에 인접한 투명 와이어 그리드 프레임과, 상기 지지 기판에 인접한 금속 박막층과, 상기 지지 기판에 인접한 충진층을 제거하여 금속 격자와 충진 격자를 형성하는 제 6 단계를 포함한다.According to an aspect of the present invention, there is provided a method of manufacturing a wire grid polarizer, including the steps of: preparing a transparent wire grid frame having a transparent grid formed in parallel on a support substrate; A second step of forming a metal thin film layer having a shape along the side surface, a third step of filling a space between the metal thin film layers with a transparent resin to form a filling layer, A fourth step of removing the upper part of the filling layer, a fifth step of attaching a transparent film to a surface of the transparent wire grid frame on which the transparent grid is exposed, An adjacent transparent wire grid frame, a metal thin film layer adjacent to the support substrate, And a sixth step of removing the filling layer adjacent to the supporting substrate to form a metal grid and a filling grid.

본 발명의 일 실시예에 따른 와이어 그리드 편광판 제조 방법은, 상기 제 1 단계에서, 상기 투명 와이어 그리드 프레임의 투명 격자의 간격은 상기 투명 와이어 그리드의 투명 격자의 두께의 2.5 배 ~ 3.5 배인 것이 바람직하다.In the method of manufacturing a wire grid polarizer according to an embodiment of the present invention, in the first step, the interval of the transparent grid of the transparent wire grid frame is preferably 2.5 to 3.5 times the thickness of the transparent grid of the transparent wire grid .

본 발명의 일 실시예에 따른 와이어 그리드 편광판 제조 방법은, 상기 제 2 단계에서, 상기 금속 박막층의 두께는 상기 투명 와이어 그리드 프레임의 투명 격자의 두께의 0.8 배 ~ 1.2 배인 것이 바람직하다.
In the method of manufacturing a wire grid polarizer according to an embodiment of the present invention, in the second step, the thickness of the metal thin film layer is preferably 0.8 to 1.2 times the thickness of the transparent grid of the transparent wire grid frame.

본 발명의 실시예들에 따른 와이어 그리드 편광판 제조 방법은 금속 박막을 증착하고 투명 레진을 충진하는 공정 등을 통하여 미세 패턴의 와이어 그리드 편광판을 제조할 수 있다.
The method of manufacturing a wire grid polarizer according to embodiments of the present invention can produce a patterned wire grid polarizer through a process of depositing a metal thin film and filling a transparent resin.

도 1 내지 도 6은 본 발명의 일 실시예에 따른 와이어 그리드 편광판 제조 방법의 세부 공정을 설명하기 위한 단면도.FIGS. 1 to 6 are cross-sectional views illustrating a detailed process of a wire grid polarizer manufacturing method according to an embodiment of the present invention.

이하, 본 발명의 바람직한 실시예를 첨부한 도면을 참조하여 설명하기로 한다. Hereinafter, preferred embodiments of the present invention will be described with reference to the accompanying drawings.

본 발명의 일 실시예에 따른 와이어 그리드 편광판 제조 방법은 먼저, 제 1 단계로 도 1에 도시된 것처럼, 투명 와이어 그리드 프레임(2100)의 투명 격자(2101)를 성형할 때는, 먼저 지지 기판(2110) 위에 투명 레진을 일정한 두께로 얇게 도포한 필름을 준비한 후 롤투롤(roll-to-roll) 방식의 임프린트 공정이나 스탬프 방식의 임프린트 공정을 사용하여 제작되는데, 이 때에 사용되는 패턴 마스터는 투명 격자(2101)에 대응되는 형상이 형성되어 있다.1, in the first step, when forming the transparent grid 2101 of the transparent wire grid frame 2100, the support grid 2110 ) Is prepared by using a roll-to-roll imprint process or a stamp-type imprint process after preparing a thinly coated film of transparent resin on a predetermined thickness. The pattern master used in this case is a transparent grid 2101 are formed.

한편, 상기 투명 와이어 그리드 프레임(2100)의 투명 격자(2101)의 간격(d)은 상기 투명 와이어 그리드의 투명 격자(2101)의 두께(t1)의 2.5 배 ~ 3.5 배 정도가 바람직하다. 상술한 것처럼, 투명 격자(2101)의 간격(d)이 투명 격자(2101)의 두께(t1)보다 충분히 크므로, 후술하는 금속 박막층(2200)을 효과적으로 형성할 수 있다.The distance d between the transparent gratings 2101 of the transparent wire grid frame 2100 is preferably about 2.5 to 3.5 times the thickness t1 of the transparent grating 2101 of the transparent wire grid. As described above, since the interval d between the transparent gratings 2101 is sufficiently larger than the thickness t1 of the transparent grating 2101, the metal thin film layer 2200 described later can be effectively formed.

다음으로, 제 2 단계로 도 2에 도시된 것처럼, 상기 투명 격자(2101)의 상면과 측면을 따라서 형상의 금속 박막층(2200)을 형성한다. 여기에서, 금속 박막층(2200)은 Al 또는 Ag로 스퍼터링(sputtering) 공정이나 이베퍼레이션(evaporation) 공정 등을 이용하여 형성될 수 있다.Next, as shown in FIG. 2, a metal thin film layer 2200 having a shape along the upper and side surfaces of the transparent grid 2101 is formed in a second step. Here, the metal thin film layer 2200 may be formed using a sputtering process or an evaporation process with Al or Ag.

한편, 상기 금속 박막층(2200)의 두께(t2)는 상기 투명 와이어 그리드 프레임(2100)의 투명 격자(2101)의 두께(t1)의 0.8 배 ~ 1.2 배 정도가 바람직하다. 상술한 것처럼, 금속 박막층(2200)의 두께(t2)가 투명 와이어 그리드 프레임(2100)의 투명 격자(2101)의 두께(t1)의 0.8 배 ~ 1.2 배 정도로 형성되는 경우에, 후술하는 충진층(2300)을 효과적으로 형성할 수 있다.The thickness t2 of the metal thin film layer 2200 is preferably about 0.8 to 1.2 times the thickness t1 of the transparent grid 2101 of the transparent wire grid frame 2100. [ When the thickness t2 of the metal thin film layer 2200 is formed to be about 0.8 to 1.2 times the thickness t1 of the transparent grid 2101 of the transparent wire grid frame 2100, 2300) can be effectively formed.

다음으로, 제 3 단계로 도 3에 도시된 것처럼, 금속 박막층(2200) 사이를 투명 레진으로 충진하여 충진층(2300)을 형성한다.Next, in a third step, as shown in FIG. 3, a filling layer 2300 is formed by filling spaces between the metal thin film layers 2200 with transparent resin.

다음으로, 제 4 단계로 도 4에 도시된 것처럼, 상기 투명 와이어 그리드 프레임(2100)의 투명 격자(2101)가 노출되도록 상기 금속 박막층(2200)의 상부와 상기 충진층(2300)의 상부를 제거한다. 여기에서, 상기 금속 박막층(2200)의 상부와 상기 충진층(2300)의 상부는 건식 식각 공정이나 화학 기계 연마(Chemical Mechanical Polishing; CMP) 공정 등을 이용하여 제거될 수 있다.4, the upper part of the metal thin film layer 2200 and the upper part of the filling layer 2300 are removed so that the transparent grid 2101 of the transparent wire grid frame 2100 is exposed, do. The upper part of the metal thin film layer 2200 and the upper part of the filling layer 2300 may be removed by a dry etching process or a chemical mechanical polishing (CMP) process.

다음으로, 제 5 단계로 도 5에 도시된 것처럼, 상기 투명 와이어 그리드 프레임(2100)의 투명 격자(2101)가 노출되어 있는 면에 양면 테이프 등을 이용하여 투명 필름(2400)을 부착한다. 여기에서, 투명 필름(2400)으로는 TAC(Tri Acetate Cellulose) 필름 등이 이용될 수 있다.Next, as shown in FIG. 5, a transparent film 2400 is attached to the surface of the transparent wire grid frame 2100 on which the transparent grid 2101 is exposed, using a double-sided tape or the like. As the transparent film 2400, a TAC (Tri Acetate Cellulose) film or the like can be used.

다음으로, 제 6 단계로 도 6에 도시된 것처럼, 상기 충진층(2310)이 노출되도록 상기 지지 기판(2110)과, 상기 지지 기판(2110)에 인접한 투명 와이어 그리드 프레임(2100)과, 상기 지지 기판(2110)에 인접한 금속 박막층(2210)과, 상기 지지 기판(2110)에 인접한 충진층(2310)을 제거하여 금속 격자(2220)와 충진 격자(2320)를 형성한다. 여기에서, 상기 지지 기판(2110)과, 상기 지지 기판(2110)에 인접한 투명 와이어 그리드 프레임(2100)과, 상기 지지 기판(2110)에 인접한 금속 박막층(2210)과, 상기 지지 기판(2110)에 인접한 충진층(2310)은 건식 식각 공정이나 화학 기계 연마(Chemical Mechanical Polishing; CMP) 공정 등을 이용하여 제거될 수 있다.Next, in a sixth step, as shown in FIG. 6, the support substrate 2110, the transparent wire grid frame 2100 adjacent to the support substrate 2110, A metal thin film layer 2210 adjacent to the substrate 2110 and a filler layer 2310 adjacent to the support substrate 2110 are removed to form a metal grid 2220 and a filler grid 2320. Here, the support substrate 2110, the transparent wire grid frame 2100 adjacent to the support substrate 2110, the metal thin film layer 2210 adjacent to the support substrate 2110, The adjacent filling layer 2310 may be removed using a dry etching process or a chemical mechanical polishing (CMP) process.

본 발명의 일 실시예에 따른 와이어 그리드 편광판 제조 방법은 투명 격자(2101)의 간격(d)이 투명 격자(2101)의 두께(t1)보다 충분히 큰 투명 와이어 그리드 프레임(2100)을 이용하여 후속 공정으로 금속 박막층(2200)을 형성하고, 투명 레진의 충진층(2300)을 형성한 후에 투명 격자(2101)과, 금속 박막층(2200)과, 충진층(2300)이 노출되도록 와이어 그리드 프레임(2100)과, 금속 박막층(2200)과, 충진층(2300)을 제거함으로써, 미세 패턴의 와이어 그리드 편광판을 효과적으로 제조할 수 있다.
A method of manufacturing a wire grid polarizer according to an embodiment of the present invention is a method of manufacturing a wire grid polarizer using a transparent wire grid frame 2100 having a space d of a transparent grid 2101 sufficiently larger than a thickness t1 of a transparent grid 2101, The metal thin film layer 2200 is formed and the transparent resin lining layer 2300 is formed and then the wire grid frame 2100 is exposed so that the transparent lattice 2101, the metal thin film layer 2200, and the filling layer 2300 are exposed. The metal thin film layer 2200 and the filling layer 2300 are removed, a wire grid polarizer having a fine pattern can be effectively manufactured.

이상, 본 발명을 본 발명의 원리를 예시하기 위한 바람직한 실시예와 관련하여 설명하고 도시하였지만, 본 발명은 그와 같이 도시되고 설명된 그대로의 구성 및 작용으로 한정되는 것이 아니다.
While the present invention has been particularly shown and described with reference to exemplary embodiments thereof, it is to be understood that the invention is not limited to the disclosed exemplary embodiments.

오히려, 첨부된 청구범위의 사상 및 범주를 일탈함이 없이 본 발명에 대한 다수의 변경 및 수정이 가능함을 당업자들은 잘 이해할 수 있을 것이다.
On the contrary, those skilled in the art will appreciate that many modifications and variations of the present invention are possible without departing from the spirit and scope of the appended claims.

따라서, 그러한 모든 적절한 변경 및 수정과 균등물들도 본 발명의 범위에 속하는 것으로 간주되어야 할 것이다.
Accordingly, all such appropriate modifications and changes, and equivalents thereof, should be regarded as within the scope of the present invention.

2100 : 투명 와이어 그리드 프레임
2100 : 투명 와이어 그리드 프레임
2110 : 지지 기판
2101 : 투명 격자
2200, 2210 : 금속 박막층
2220 : 금속 격자
2320 : 충진 격자
2300, 2310 : 충진층
2400 : 투명 필름2100: Transparent Wire Grid Frame
2100: Transparent Wire Grid Frame
2110: Support substrate
2101: Transparent grid
2200, 2210: metal thin film layer
2220: metal grating
2320: Filling grid
2300, 2310: filling layer
2400: Transparent film

Claims (3)

지지 기판 위에 투명 격자가 평행하게 형성되어 있는 투명 와이어 그리드 프레임을 준비하는 제 1 단계;
상기 투명 격자의 상면과 측면을 따라서 형상의 금속 박막층을 형성하는 제 2 단계;
상기 금속 박막층 사이를 투명 레진으로 충진하여 충진층을 형성하는 제 3 단계;
상기 투명 와이어 그리드 프레임의 투명 격자가 노출되도록 상기 금속 박막층의 상부와 상기 충진층의 상부를 제거하는 제 4 단계;
상기 투명 와이어 그리드 프레임의 투명 격자가 노출되어 있는 면에 투명 필름을 부착하는 제 5 단계; 및
상기 충진층이 노출되도록 상기 지지 기판과, 상기 지지 기판에 인접한 투명 와이어 그리드 프레임과, 상기 지지 기판에 인접한 금속 박막층과, 상기 지지 기판에 인접한 충진층을 제거하여 금속 격자와 충진 격자를 형성하는 제 6 단계를 포함하는 와이어 그리드 편광판 제조 방법.
A method for manufacturing a transparent wire grid frame, comprising the steps of: preparing a transparent wire grid frame having a transparent grid formed in parallel on a support substrate;
A second step of forming a metal thin film layer having a shape along the upper and side surfaces of the transparent grid;
A third step of filling a space between the metal thin film layers with a transparent resin to form a filling layer;
A fourth step of removing the upper portion of the metal thin film layer and the upper portion of the filling layer so that the transparent grid of the transparent wire grid frame is exposed;
A fifth step of attaching a transparent film to a surface of the transparent wire grid frame on which the transparent grid is exposed; And
A transparent wire grid frame adjacent to the support substrate, a metal thin film layer adjacent to the support substrate, and a filler layer adjacent to the support substrate to form a metal grid and a filler grid to expose the filler layer, A method for manufacturing a wire grid polarizer comprising six steps.
제1항에 있어서,
상기 제 1 단계에서, 상기 투명 와이어 그리드 프레임의 투명 격자의 간격은 상기 투명 와이어 그리드의 투명 격자의 두께의 2.5 배 ~ 3.5 배인 것을 특징으로 하는 와이어 그리드 편광판 제조 방법.
The method according to claim 1,
Wherein in the first step, the interval of the transparent grid of the transparent wire grid frame is 2.5 to 3.5 times the thickness of the transparent grid of the transparent wire grid.
제1항에 있어서,
상기 제 2 단계에서, 상기 금속 박막층의 두께는 상기 투명 와이어 그리드 프레임의 투명 격자의 두께의 0.8 배 ~ 1.2 배인 것을 특징으로 하는 와이어 그리드 편광판 제조 방법.
The method according to claim 1,
Wherein the thickness of the metal thin film layer in the second step is 0.8 to 1.2 times the thickness of the transparent grid of the transparent wire grid frame.
KR20130112497A 2013-09-23 2013-09-23 Method for manufacturing Wire Grid Polarizer KR20150033039A (en)

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* Cited by examiner, † Cited by third party
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CN109375419A (en) * 2018-10-29 2019-02-22 京东方科技集团股份有限公司 Backlight module and display device

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