KR20140130686A - (메트)아크릴레이트계 조성물, 수지, 및 성형체 - Google Patents

(메트)아크릴레이트계 조성물, 수지, 및 성형체 Download PDF

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유타카 오바타
다케시 이와사키
다이치 오가와
하야토 야마사키
도요조 후지오카
도모아키 다케베
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Abstract

하기 일반식 (A-1) 로 나타내는 아다만틸기를 갖는 (메트)아크릴레이트 화합물 (A), 및 1 분자 중에 특정한 구조를 갖는 (메트)아크릴레이트 화합물 (B) 를 포함하는, (메트)아크릴레이트계 조성물은, 양호한 내열성이나 형상 안정성, 및 굴절률이나 투명성 등의 광학 성능을 유지하면서, 고점도이기 때문에 우수한 가공성을 갖는다.
Figure pct00047

(상기 식 (A-1) 중, R1 은 각각 독립적으로, 수소 원자 또는 메틸기를 나타내고, X 는 각각 독립적으로, 단결합, 탄소수 1 ∼ 4 의 알킬렌기, 또는 탄소수 1 ∼ 4 의 옥시알킬렌기를 나타내고, U 는 탄소수 1 ∼ 4 의 알킬기, 할로겐기, 수산기, 또는 2 개의 U 가 하나가 되어 형성된 =O 를 나타낸다. k 는 0 ∼ 15 의 정수, m 은 1 ∼ 4 의 정수를 나타낸다.)

Description

(메트)아크릴레이트계 조성물, 수지, 및 성형체{(METH)ACRYLATE-BASED COMPOSITION, RESIN AND MOLDED ARTICLE}
본 발명은 (메트)아크릴레이트계 조성물, 그 조성물을 중합하여 얻어지는 수지, 및, 그 수지를 성형하여 이루어지는 성형체에 관한 것이다. 상세하게는, 아다만틸기를 갖는 (메트)아크릴레이트 화합물을 포함하는, 광학 부품용 수지 원료 조성물인 (메트)아크릴레이트계 조성물, 그 조성물을 중합하여 얻어지는 광학 부품용 수지, 및, 그 수지를 성형하여 이루어지는 광학 부품에 관한 것이다.
투명성 수지로서, 폴리메틸메타크릴레이트 수지, 폴리카보네이트 수지, 폴리스티렌 수지, 지환형 올레핀 폴리머 및 에폭시 수지 등이 알려져 있다. 이들 투명성 수지는, 공업적으로도 대량으로 제조되어, 그 양호한 투명성을 살려 각 분야에서 대량으로 사용되고 있다.
또한, 투명성 수지는 그 양호한 투명성에 더하여, 경량성, 성형성을 살려 유리 대체품으로서 이용되고 있으며, 카메라가 부착된 휴대 전화에 탑재되는 카메라 모듈용 렌즈 등에 대한 응용이 도모되고 있다. 여기서, 최근의 경박 단소화, 부품 개수의 삭감을 반영하여, 땜납 리플로우 공정에서 견딜 수 있는 투명성 수지가 요망되고 있고, 그러기 위해서는 광선 투과율 등의 광학 특성에 더하여 매우 높은 내열성이 요구되고 있다.
그러나, 상기 투명성 수지는 내열성이 반드시 충분한 것은 아니다. 예를 들어 상기 투명성 수지 중에서 내열성이 가장 높은 수지로 여겨지는 폴리카보네이트 수지도, 그 내열성의 지표인 유리 전이 온도는 150 ℃ 정도로, 보다 높은 내열성을 가지는 새로운 투명 수지의 개발이 요망되고 있다.
투명성 수지로서 알려져 있는 폴리메틸아크릴레이트는, 내열성, 내열 안정성, 내용제성 등의 성능에 열등함과 함께, 흡수성이 크고 내수성도 열등하기 때문에, 광학 부품용 수지의 성능이 요구되는 분야에서는 이용할 수 없다. 또한, 폴리메틸메타크릴레이트는, 광학 부품용 수지 재료의 용도에 제공되지만, 땜납 리플로우 공정에 견딜 수 있는 매우 높은 내열성, 내열 안정성이 요구되는 분야에는 적용할 수 없다.
이와 같은 문제를 개선하는 방법으로서, 다고리형 지환족 알킬(메트)아크릴레이트의 단독 중합체나, 다고리형 지환족 알킬(메트)아크릴레이트와 각종 (메트)아크릴레이트계 단량체의 공중합체를 포함하는 광학 재료용 수지 조성물을 사용하는 방법이 제안되어 있다 (예를 들어, 특허문헌 1 을 참조). 특허문헌 1 에 개시된 재료는, 우수한 투명성을 유지하면서 내열성도 우수하다.
일본 공개특허공보 2006-213851호
이와 같은 광학 부품은, 상온에서 액상의 조성물을 금형에 넣고, 가열 및 가압 등에 의해 경화시켜 성형한다는 제조 공정을 거쳐 생산된다. 이 때, 광학 부품의 원료가 되는 액상의 조성물의 점도가 작으면, 그 조성물을 금형에 주입하여 가압했을 때, 그 조성물이 금형과 공구 사이의 클리어런스로부터 누출되는 경우가 있다. 특별한 구조를 갖는 금형을 사용함으로써, 이와 같은 폐해는 방지할 수는 있다. 그러나, 이와 같은 특별한 금형을 사용하지 않아도, 조성물이 클리어런스로부터 누출되는 현상을 방지할 수 있는, 광학 부품의 제조 방법이 요망되고 있다.
특별한 금형을 사용하지 않는 경우에, 조성물이 클리어런스로부터 누출되는 현상을 방지하기 위해서, 조성물의 점도를 올리는 것을 생각할 수 있다. 조성물의 점도를 올리는 수단으로서, 조성물 중에 포함되는 각 성분의 분자량을 올린다는 수법을 생각할 수 있지만, 각 성분의 분자량을 올리면, 경화시의 가교 반응이 잘 진행되지 않아, 얻어지는 경화물의 가교 밀도가 낮아지기 때문에, 경화물의 내열성이나 형상 안정성, 및, 굴절률이나 투명성 등의 광학 성능이 저하되는 경우가 많다. 또한, 조성물 중에 폴리머 성분을 배합한다는 수법도 생각할 수 있지만, 보다 더욱 경화물의 가교 밀도가 낮아지기 때문에, 경화물의 내열성, 형상 안정성, 및 선팽창 계수가 악화된다는 문제가 있다.
또한, 상기의 특허문헌 1 에서는, 특별한 금형을 사용하지 않고, 조성물이 클리어런스로부터 누출되는 현상을 방지하는 수단에 대한 검토는 이루어져 있지 않다.
또한, 일반적으로, 렌즈는 상이한 굴절률을 갖는 재료를 조합하여 광로를 제어하기 때문에, 다양한 굴절률을 갖는 재료가 요망되고 있다. 특허문헌 1 에 개시된 재료는 굴절률이 낮은 것이 많기 때문에, 우수한 투명성을 유지하면서 내열성도 우수한 고굴절률 재료의 배리에이션이 요구되고 있다.
본 발명은 상기 문제점을 감안하여 이루어진 것으로서, 우수한 투명성 등의 광학 성능이나 열 이력에 의한 형상 안정성을 유지하면서, 내열성도 우수하고, 또한 굴절률이 높은 성형체가 될 수 있음과 함께, 고점도이기 때문에 우수한 가공성을 갖는, (메트)아크릴레이트계 조성물, 및 그 조성물로부터 얻어지는 수지, 그리고 그 수지를 성형하여 이루어지는 성형체를 제공하는 것을 목적으로 한다.
본 발명자들은, 아다만틸기를 갖는 (메트)아크릴레이트 화합물과 함께, 특정한 구조를 갖는 (메트)아크릴레이트 화합물을 포함하는 (메트)아크릴레이트계 조성물이, 상기 과제를 해결할 수 있는 것을 알아내고, 본 발명을 완성하였다.
즉, 본 발명은, 하기 [1] ∼ [23] 을 제공하는 것이다.
[1] 하기 일반식 (A-1) 로 나타내는 아다만틸기를 갖는 (메트)아크릴레이트 화합물 (A), 및 1 분자 중에 하기 일반식 (b-I) ∼ (b-VII) 로 나타내는 구조의 1 개 이상을 갖는 (메트)아크릴레이트 화합물 (B) 를 포함하는, (메트)아크릴레이트계 조성물.
[화학식 1]
Figure pct00001
(상기 식 (A-1) 중, R1 은, 각각 독립적으로, 수소 원자 또는 메틸기를 나타내고, X 는, 각각 독립적으로, 단결합, 탄소수 1 ∼ 4 의 알킬렌기, 또는 탄소수 1 ∼ 4 의 옥시알킬렌기를 나타내고, U 는 탄소수 1 ∼ 4 의 알킬기, 할로겐기, 수산기, 또는 2 개의 U 가 하나가 되어 형성된 =O 를 나타낸다. k 는 0 ∼ 15 의 정수, m 은 1 ∼ 4 의 정수를 나타낸다.)
[화학식 2]
Figure pct00002
(상기 식 (b-I) ∼ (b-VII) 중, Ya 는 2 가의 유기기를 나타내고, R6 은, 각각 독립적으로, 할로겐 원자, 탄소수 1 ∼ 6 의 알킬기, 또는 탄소수 1 ∼ 6 의 알콕시기이고, R7 은, 각각 독립적으로, 2 가의 유기기이다. 또한, p 는 0 ∼ 4 의 정수, q 는 0 ∼ 3 의 정수를 나타낸다. * 는 결합 부분을 나타낸다.)
[2] 추가로 하기 일반식 (C-1) 로 나타내는 (메트)아크릴레이트 화합물 (C) 를 포함하는, 상기 [1] 에 기재된 (메트)아크릴레이트계 조성물.
[화학식 3]
Figure pct00003
(상기 식 (C-1) 중, R2 는, 각각 독립적으로, 수소 원자 또는 메틸기를 나타내고, Y1 은, 치환 또는 무치환의 탄소수 5 ∼ 30 의 비고리형 탄화수소기 및 -R'(OR')L- 로 나타내는 기 (단, R' 는, 각각 독립적으로, 치환 또는 무치환의 탄소수 1 ∼ 4 의 알킬렌기를 나타내고, L 은 1 ∼ 20 의 정수이다) 에서 선택되는 1 종 이상의 비고리형의 유기기를 나타낸다. n 은 1 ∼ 8 의 정수를 나타낸다.)
[3] (B) 성분이, 상기 일반식 (b-I) 로 나타내는 이소시아누레이트 구조를 갖는 (메트)아크릴레이트 화합물 (B1), 및 하기 일반식 (B-2) 로 나타내는 (메트)아크릴레이트 화합물 (B2) 에서 선택되는 1 종 이상을 포함하는, 상기 [1] 또는 [2] 에 기재된 (메트)아크릴레이트계 조성물.
[화학식 4]
Figure pct00004
(상기 식 (B-2) 중, G 는, 각각 독립적으로, 단결합, 탄소수 1 ∼ 4 의 알킬렌기, 또는 탄소수 1 ∼ 4 의 옥시알킬렌기를 나타내고, R4 는, 각각 독립적으로, 수소 원자 또는 메틸기를 나타내고, R5 는, 각각 독립적으로, 탄소수 1 ∼ 4 의 알킬렌기, 또는 하이드록시기로 치환된 탄소수 1 ∼ 4 의 알킬렌기를 나타낸다. a 는 2 ∼ 8 의 정수를 나타내고, b 는 각각 독립적으로, 1 ∼ 4 의 양의 수이다. 또한, Z 는 하기 일반식 (b-II-1) ∼ (b-II-6) 및 상기 일반식 (b-III) ∼ (b-VII) 로 나타내는 유기기의 어느 것을 나타낸다.)
[화학식 5]
Figure pct00005
(상기 일반식 (b-II-1) ∼ (b-II-6) 중, R6 은, 각각 독립적으로, 할로겐 원자, 탄소수 1 ∼ 6 의 알킬기, 또는 탄소수 1 ∼ 6 의 알콕시기이고, R7 은, 각각 독립적으로, 2 가의 유기기이다. 또한, p 는 0 ∼ 4 의 정수, q 는 0 ∼ 3 의 정수를 나타낸다. * 는 결합 부분을 나타낸다.)
[4] (B1) 성분이, 하기 일반식 (B-1) 로 나타내는 이소시아누레이트 구조를 갖는 (메트)아크릴레이트 화합물인, 상기 [3] 에 기재된 (메트)아크릴레이트계 조성물.
[화학식 6]
Figure pct00006
(상기 식 (B-1) 중, R3 은, 각각 독립적으로, 수소 원자 또는 메틸기를 나타내고, D1 ∼ D3 은, 각각 독립적으로, 2 가의 유기기를 나타낸다.)
[5] 추가로 (D) 성분으로서, (B) 성분에 해당하는 화합물 이외의, 에폭시 화합물과 (메트)아크릴산의 반응 화합물 (D1) 및 우레탄(메트)아크릴레이트 화합물 (D2) 에서 선택되는 1 종 이상을 포함하는, 상기 [1] ∼ [4] 중 어느 하나에 기재된 (메트)아크릴레이트계 조성물.
[6] (D) 성분의 함유량이, (A) ∼ (C) 성분의 합계 100 질량부에 대하여, 2 ∼ 50 질량부인, 상기 [5] 에 기재된 (메트)아크릴레이트계 조성물.
[7] (B) 성분으로서 (B1) 성분을 포함하고, 또한, (B1) 성분의 함유량이, (A) ∼ (C) 성분의 총량에 대하여, 20 ∼ 80 질량％ 인, 상기 [3] ∼ [6] 중 어느 하나에 기재된 (메트)아크릴레이트계 조성물.
[8] (B) 성분으로서 (B1) 성분 및 (B2) 성분을 포함하고, 또한, (B2) 성분의 함유량이, (A) ∼ (C) 성분의 총량에 대하여, 5 ∼ 40 질량％ 인, 상기 [3] ∼ [7] 중 어느 하나에 기재된 (메트)아크릴레이트계 조성물.
[9] (B) 성분으로서 (B1) 성분을 포함하고, 또한, 상기 (메트)아크릴레이트계 조성물의 25 ℃ 에 있어서의 점도가 1000 ∼ 50000 m㎩·s 인, 상기 [3] ∼ [7] 중 어느 하나에 기재된 (메트)아크릴레이트계 조성물.
[10] (B) 성분으로서 (B2) 성분을 포함하고, (B2) 성분의 함유량이, (A) ∼ (C) 성분의 총량에 대하여, 30 ∼ 85 질량％ 인, 상기 [3] ∼ [6] 중 어느 하나에 기재된 (메트)아크릴레이트계 조성물.
[11] (B) 성분으로서 (B2) 성분을 포함하고, 또한, 상기 (메트)아크릴레이트계 조성물의 25 ℃ 에 있어서의 점도가 500 ∼ 50000 m㎩·s 인, 상기 [3] ∼ [6] 및 상기 [10] 중 어느 하나에 기재된 (메트)아크릴레이트계 조성물.
[12] (B) 성분이, 하기 일반식 (B-3a) 또는 (B-3b) 로 나타내는 페닐기를 갖는 (메트)아크릴레이트 화합물 (B3) 을 포함하는, 상기 [1] 또는 [2] 에 기재된 (메트)아크릴레이트계 조성물.
[화학식 7]
Figure pct00007
(상기 식 (B-3a) 및 (B-3b) 중, X1 은, 각각 독립적으로, 단결합, 탄소수 1 ∼ 4 의 알킬렌기, 또는 탄소수 1 ∼ 4 의 옥시알킬렌기를 나타내고, Ya 는 2 가의 유기기를 나타내고, R22, R23 은, 각각 독립적으로, 탄소수 1 ∼ 4 의 알킬렌기, 또는 하이드록시기로 치환된 탄소수 1 ∼ 4 의 알킬렌기를 나타내고, R4a, R4b 는, 각각 독립적으로 수소 원자 또는 메틸기를 나타내고, R6 ∼ R13 은, 각각 독립적으로 수소 원자, 할로겐 원자, 탄소수 1 ∼ 5 의 직사슬 또는 분기 사슬의 알킬기를 나타낸다. a 및 b 는, 알킬렌옥사이드의 부가 몰수를 나타내고, 각각 양의 수로서, a ＋ b 의 평균치는 2 ∼ 4 이다. c 는 1 ∼ 5 의 정수를 나타내고, d 는 1 ∼ 5 의 정수를 나타내고, e 는 1 ∼ 5 의 정수를 나타낸다.)
[13] 상기 일반식 (B-3a) 또는 (B-3b) 중의 유기기 Ya 가, -C(CH3)2-, -C(CF3)2-, -SO2-, -CH2-, -O-, -CO- 의 어느 것인, 상기 [12] 에 기재된 (메트)아크릴레이트계 조성물.
[14] (B) 성분으로서, 추가로 하기 일반식 (B-2a) 로 나타내는 (메트)아크릴레이트 화합물 (B2') 를 포함하는, 상기 [12] 또는 [13] 에 기재된 (메트)아크릴레이트계 조성물.
[화학식 8]
Figure pct00008
(상기 식 (B-2a) 중, Z 는 상기 일반식 (b-III) 으로 나타내는 2 가의 유기기를 나타내고, R14, R15 는, 각각 독립적으로 탄소수 1 ∼ 4 의 알킬렌기를 나타내고, R16, R17 은, 각각 독립적으로 수소 원자 또는 메틸기를 나타낸다. f 및 g 는, 알킬렌옥사이드의 부가 몰수를 나타내고, 각각 양의 수로서, f ＋ g 의 평균치는 2 ∼ 4 이다.)
[15] (B3) 성분의 함유량과 (B2') 성분의 함유량의 질량비 [(B3) 성분/(B2') 성분] 가, 15/85 ∼ 40/60 인, 상기 [14] 에 기재된 (메트)아크릴레이트계 조성물.
[16] (A) 성분의 함유량이, (A) ∼ (C) 성분의 총량에 대하여, 5 ∼ 40 질량％ 인, 상기 [12] ∼ [15] 중 어느 하나에 기재된 (메트)아크릴레이트계 조성물.
[17] 25 ℃ 에 있어서의 점도가 300 ∼ 50000 m㎩·s 인, 상기 [12] ∼ [16] 중 어느 하나에 기재된 (메트)아크릴레이트계 조성물.
[18] 상기 [1] ∼ [17] 중 어느 하나에 기재된 (메트)아크릴레이트계 조성물을 중합하여 얻어지는, 수지.
[19] 상기 [18] 에 기재된 수지를 성형하여 이루어지는, 성형체.
[20] 상기 성형체의 전체 광선 투과율이 85 ％ 이상인, 상기 [19] 에 기재된 성형체.
[21] 상기 성형체의 d 선에서의 굴절률이 1.45 이상인, 상기 [19] 또는 [20] 에 기재된 성형체.
[22] 상기 성형체의 d 선에서의 아베수가 60 이하인, 상기 [19] ∼ [21] 중 어느 하나에 기재된 성형체.
[23] 상기 성형체가 광학 부품인, 상기 [19] ∼ [22] 중 어느 하나에 기재된 성형체.
또한, 본 발명은, 사용하는 (B) 성분에 의해, 3 개의 발명 (제 1 ∼ 3 의 발명) 으로 분류된다.
본 발명의 제 1 발명의 양태로는, 하기 [1a] ∼ [13a] 를 들 수 있다.
[1a] 상기 일반식 (A-1) 로 나타내는 아다만틸기를 갖는 (메트)아크릴레이트 화합물 (A), 이소시아누레이트 구조를 갖는 (메트)아크릴레이트 화합물 (B1) 을 포함하는 (메트)아크릴레이트 화합물 (B), 및 상기 일반식 (C-1) 로 나타내는 (메트)아크릴레이트 화합물 (C) 를 포함하는, (메트)아크릴레이트계 조성물.
[2a] (B1) 성분이, 상기 일반식 (B-1) 로 나타내는 이소시아누레이트 구조를 갖는 (메트)아크릴레이트 화합물인, 상기 [1a] 에 기재된 (메트)아크릴레이트계 조성물.
[3a] (B) 성분으로서, 추가로 상기 일반식 (B-2) 로 나타내는 (메트)아크릴레이트 화합물 (B2) 를 포함하는, 상기 [1a] 또는 [2a] 에 기재된 (메트)아크릴레이트계 조성물.
[4a] (B2) 성분의 함유량이, (A) ∼ (C) 성분의 총량에 대하여, 5 ∼ 40 질량％ 인, 상기 [3a] 에 기재된 (메트)아크릴레이트계 조성물.
[5a] (B1) 성분의 함유량이, (A) ∼ (C) 성분의 총량에 대하여, 20 ∼ 80 질량％ 인, 상기 [1a] ∼ [4a] 중 어느 하나에 기재된 (메트)아크릴레이트계 조성물.
[6a] 추가로 (D) 성분으로서, (B) 성분에 해당하는 화합물 이외의, 에폭시 화합물과 (메트)아크릴산의 반응 화합물 (C1) 및 우레탄(메트)아크릴레이트 화합물 (D2) 에서 선택되는 1 종 이상을 포함하는, 상기 [1a] ∼ [5a] 중 어느 하나에 기재된 (메트)아크릴레이트계 조성물.
[7a] (D) 성분의 함유량이, (A) ∼ (C) 성분의 합계 100 질량부에 대하여, 2 ∼ 50 질량부인, 상기 [6a] 에 기재된 (메트)아크릴레이트계 조성물.
[8a] 상기 (메트)아크릴레이트계 조성물의 25 ℃ 에 있어서의 점도가 1000 ∼ 50000 m㎩·s 인, 상기 [1a] ∼ [7a] 중 어느 하나에 기재된 (메트)아크릴레이트계 조성물.
[9a] 상기 [1a] ∼ [8a] 중 어느 하나에 기재된 (메트)아크릴레이트계 조성물을 중합하여 얻어지는, 수지.
[10a] 상기 일반식 (A-1) 로 나타내는 아다만틸기를 갖는 (메트)아크릴레이트 화합물 (A), 이소시아누레이트 구조를 갖는 (메트)아크릴레이트 화합물 (B1) 을 포함하는 (메트)아크릴레이트 화합물 (B), 및 상기 일반식 (C-1) 로 나타내는 (메트)아크릴레이트 화합물 (C) 를 포함하는 (메트)아크릴레이트계 조성물을, 중합하여 얻어지는 수지를 성형하여 이루어지는, 성형체.
[11a] 상기 성형체의 전체 광선 투과율이 85 ％ 이상인, 상기 [10a] 에 기재된 성형체.
[12a] 상기 성형체의 d 선에서의 굴절률이 1.45 ∼ 1.65 인, 상기 [10a] 또는 [11a] 에 기재된 성형체.
[13a] 상기 성형체가 광학 부품인, 상기 [10a] ∼ [12a] 중 어느 하나에 기재된 성형체.
또한, 본 발명의 제 2 발명의 양태로는, 하기 [1b] ∼ [10b] 를 들 수 있다.
[1b] 상기 일반식 (A-1) 로 나타내는 아다만틸기를 갖는 (메트)아크릴레이트 화합물 (A), 상기 일반식 (B-2) 로 나타내는 (메트)아크릴레이트 화합물 (B2) 를 포함하는 (메트)아크릴레이트 화합물 (B), 및 상기 일반식 (C-1) 로 나타내는 (메트)아크릴레이트 화합물 (C) 를 포함하는, (메트)아크릴레이트계 조성물.
[2b] (B) 성분의 함유량이, (A) ∼ (C) 성분의 총량에 대하여, 30 ∼ 85 질량％ 인, 상기 [1b] 에 기재된 (메트)아크릴레이트계 조성물.
[3b] 추가로 (D) 성분으로서, (B) 성분에 해당하는 화합물 이외의, 에폭시 화합물과 (메트)아크릴산의 반응 화합물 (D1) 및 우레탄(메트)아크릴레이트 화합물 (D2) 에서 선택되는 1 종 이상을 포함하는, 상기 [1b] 또는 [2b] 에 기재된 (메트)아크릴레이트계 조성물.
[4b] (D) 성분의 함유량이, (A) ∼ (C) 성분의 합계 100 질량부에 대하여, 2 ∼ 50 질량부인, 상기 [3b] 에 기재된 (메트)아크릴레이트계 조성물.
[5b] 상기 (메트)아크릴레이트계 조성물의 25 ℃ 에 있어서의 점도가 500 ∼ 50000 m㎩·s 인, 상기 [1b] ∼ [4b] 중 어느 하나에 기재된 (메트)아크릴레이트계 조성물.
[6b] 상기 [1b] ∼ [5b] 중 어느 하나에 기재된 (메트)아크릴레이트계 조성물을 중합하여 얻어지는, 수지.
[7b] 상기 [6b] 에 기재된 수지를 성형하여 이루어지는, 성형체.
[8b] 상기 성형체의 전체 광선 투과율이 85 ％ 이상인, 상기 [7b] 에 기재된 성형체.
[9b] 상기 성형체의 d 선에서의 굴절률이 1.45 ∼ 1.65 인, 상기 [7b] 또는 [8b] 에 기재된 성형체.
[10b] 상기 성형체가 광학 부품인, 상기 [7b] ∼ [9b] 중 어느 하나에 기재된 성형체.
또한, 본 발명의 제 3 발명의 양태로는, 하기 [1c] ∼ [15c] 를 들 수 있다.
[1c] 상기 일반식 (A-1) 로 나타내는 아다만틸기를 갖는 (메트)아크릴레이트 화합물 (A) 및 상기 일반식 (B-3a) 또는 (B-3b) 로 나타내는 페닐기를 갖는 (메트)아크릴레이트 화합물 (B3) 을 포함하는 (메트)아크릴레이트 화합물 (B) 를 함유하는, (메트)아크릴레이트계 조성물.
[2c] 상기 일반식 (B-3a) 또는 (B-3b) 중의 R6 ∼ R13 의 1 개 이상이 브롬 원자인, 상기 [1c] 에 기재된 (메트)아크릴레이트계 조성물.
[3c] 상기 일반식 (B-3a) 또는 (B-3b) 중의 R6, R8, R11, R13 이 t-부틸기인, 상기 [1c] 또는 [2c] 에 기재된 (메트)아크릴레이트계 조성물.
[4c] 상기 일반식 (B-3a) 또는 (B-3b) 중의 유기기 Ya 가, -C(CH3)2-, -C(CF3)2-, -SO2-, -CH2-, -O-, -CO- 의 어느 것인, 상기 [1c] ∼ [3c] 중 어느 하나에 기재된 (메트)아크릴레이트계 조성물.
[5c] (B) 성분으로서, 추가로 상기 일반식 (B-2a) 로 나타내는 (메트)아크릴레이트 화합물 (B2') 및 상기 일반식 (C-1) 로 나타내는 (메트)아크릴레이트 화합물 (C) 에서 선택되는 1 종 이상을 포함하는, 상기 [1c] ∼ [4c] 중 어느 하나에 기재된 (메트)아크릴레이트계 조성물.
[6c] (B3) 성분의 함유량과 (B2') 성분의 함유량의 질량비 [(B3) 성분/(B2') 성분] 가, 15/85 ∼ 40/60 인, 상기 [5c] 에 기재된 (메트)아크릴레이트계 조성물.
[7c] (A) 성분의 함유량이, (A) ∼ (C) 성분의 총량에 대하여, 5 ∼ 40 질량％ 인, 상기 [1c] ∼ [6c] 중 어느 하나에 기재된 (메트)아크릴레이트계 조성물.
[8c] (A) ∼ (C) 성분의 합계 함유량이, 상기 조성물 중에 포함되는 (메트)아크릴레이트 화합물의 총량에 대하여, 60 ∼ 100 질량％ 인, 상기 [1c] ∼ [7c] 중 어느 하나에 기재된 (메트)아크릴레이트계 조성물.
[9c] 25 ℃ 에 있어서의 점도가 300 ∼ 50000 m㎩·s 인, 상기 [1c] ∼ [8c] 중 어느 하나에 기재된 (메트)아크릴레이트계 조성물.
[10c] 상기 [1c] ∼ [9c] 중 어느 하나에 기재된 (메트)아크릴레이트계 조성물을 중합하여 얻어지는, 수지.
[11c] 상기 일반식 (A-1) 로 나타내는 아다만틸기를 갖는 (메트)아크릴레이트 화합물 (A) 및 상기 일반식 (B-3a) 또는 (B-3b) 로 나타내는 페닐기를 갖는 (메트)아크릴레이트 화합물 (B3) 을 포함하는 (메트)아크릴레이트계 조성물을, 중합하여 얻어지는 수지를 성형하여 이루어지는, 성형체.
[12c] 상기 성형체의 d 선에서의 굴절률이 1.55 이상인, 상기 [11c] 에 기재된 성형체.
[13c] 상기 성형체의 d 선에서의 아베수가 40 이하인, 상기 [11c] 또는 [12c] 에 기재된 성형체.
[14c] 상기 성형체의 전체 광선 투과율이 85 ％ 이상인, 상기 [11c] ∼ [13c] 중 어느 하나에 기재된 성형체.
[15c] 상기 성형체가 광학 부품인, 상기 [11c] ∼ [14c] 중 어느 하나에 기재된 성형체.
본 발명의 (메트)아크릴레이트계 조성물은, 우수한 투명성 등의 광학 성능이나 열 이력에 의한 형상 안정성을 유지하면서, 내열성도 우수하고, 또한 굴절률이 높은 성형체가 될 수 있음과 함께, 고점도이기 때문에 우수한 가공성을 갖는다.
그 때문에, 상기 조성물을 사용함으로써, 특별한 금형 등을 사용하지 않고, 생산성을 향상시켜, 광학 성능이 우수한 광학 부품 등의 성형체를 제조할 수 있다.
이하의 기재에 있어서, (메트)아크릴레이트 화합물이란, 아크릴레이트 화합물 및 메타크릴레이트 화합물의 쌍방을 가리키는 의미로 사용된다 (또한, 다른 유의 용어도 동일하다).
또한, 본 발명에 있어서, 각 성분의 분자량은, 수평균 분자량을 의미하고, 겔 퍼미에이션 크로마토그래피 (GPC) 법에 의해, 하기의 장치 및 조건으로 측정한 폴리스티렌 환산으로부터 산출한 값이다.
＜GPC 측정 장치＞
· 칼럼 : TOSO GMHHR-H(S)HT
· 검출기 : 액체 크로마토그램용 RI 검출기 WATERS 150C
＜측정 조건＞
· 용매 : 1,2,4-트리클로로벤젠
· 측정 온도 : 145 ℃
· 유속 : 1.0 ㎖/분
· 시료 농도 : 2.2 ㎎/㎖
· 주입량 : 160 ㎕
· 검량선 : Universal Calibration
· 해석 프로그램 : HT-GPC (Ver. 1.0)
[(메트)아크릴레이트계 조성물]
본 발명의 (메트)아크릴레이트계 조성물 (이하, 간단히 「조성물」 이라고도 한다) 은, 상기 일반식 (A-1) 로 나타내는 아다만틸기를 갖는 (메트)아크릴레이트 화합물 (A), 및 1 분자 중에 상기 일반식 (b-I) ∼ (b-VII) 로 나타내는 구조의 1 개 이상을 갖는 (메트)아크릴레이트 화합물 (B) 를 포함한다.
또한, 본 발명의 조성물은, 임의의 성분으로서, 추가로 상기 일반식 (C-1) 로 나타내는 (메트)아크릴레이트 화합물 (C) 를 포함할 수 있는데, 조성물로부터 성형체를 제조할 때의 크랙의 발생을 억제하는 관점에서, 당해 (C) 성분을 포함하는 것이 바람직하다.
본 발명의 조성물은, 얻어지는 조성물의 점도를 증가시키는 관점에서, 추가로 (D) 성분으로서, (B) 성분에 해당하는 화합물 이외의, 에폭시 화합물과 (메트)아크릴산의 반응 화합물 (D1) 및 우레탄(메트)아크릴레이트 화합물 (D2) 에서 선택되는 1 종 이상을 포함하는 것이 바람직하다.
또한, 본 발명의 조성물은, 필요에 따라, 산화 방지제, 중합 개시제, 및 광 안정제 등의 그 밖의 첨가제를 배합해도 된다.
본 발명의 조성물의 25 ℃ 에 있어서의 점도는, 바람직하게는 300 ∼ 50000 m㎩·s, 보다 바람직하게는 400 ∼ 40000 m㎩·s, 더욱 바람직하게는 450 ∼ 20000 m㎩·s 이다.
또한, 상기 조성물의 25 ℃ 에 있어서의 점도의 값은, 실시예에 기재된 방법에 기초하여 측정된 값을 의미한다.
또한, 본 발명의 조성물은, 당해 조성물 중에 함유하는 (B) 성분의 구조의 차이에 의해, 이하의 3 개의 조성물 (제 1 ∼ 3 조성물) 로 분류된다.
본 발명의 제 1 조성물은, (B) 성분으로서, 상기 일반식 (b-I) 로 나타내는 이소시아네이트 구조를 갖는 (메트)아크릴레이트 화합물 (B1) 을 포함한다. 조성물 중에 (B1) 성분을 포함함으로써, 조성물의 점도를 증가시킬 수 있어, 조성물의 가공성이 향상된다.
본 발명의 제 2 조성물은, (B) 성분으로서, 상기 일반식 (B-2) 로 나타내는 (메트)아크릴레이트 화합물 (B2) 를 포함한다. 조성물 중에 (B2) 성분을 포함함으로써, 얻어지는 조성물의 점도를 증가시켜, 조성물의 가공성을 향상시킴과 함께, 그 조성물로부터 얻어지는 성형체의 굴절률을 높일 수 있다.
본 발명의 제 3 조성물은, (B) 성분으로서, 상기 일반식 (B-3a) 또는 (B-3b) 로 나타내는 페닐기를 갖는 (메트)아크릴레이트 화합물을 포함한다. 조성물 중에 (B3) 성분을 포함함으로써, 그 조성물로부터 얻어지는 성형체의 굴절률을 높일 수 있다.
또한, 본 발명의 조성물은, 함유하는 (B) 성분의 구조나, 2 종 이상의 (B) 성분을 함유하는 경우 등, 복수의 유형에 해당하는 경우도 있다.
먼저, 본 발명의 조성물 (본 발명의 제 1 ∼ 3 조성물) 중에 포함되는 각 성분에 대하여 설명한다.
[(A) 성분 : 일반식 (A-1) 로 나타내는 아다만틸기를 갖는 (메트)아크릴레이트 화합물 (A)]
본 발명의 조성물은, (A) 성분으로서, 하기 일반식 (A-1) 로 나타내는 아다만틸기를 갖는 (메트)아크릴레이트 화합물을 포함한다. (A) 성분은, 본 발명의 조성물을 중합하여 수지로 했을 때, 주로 하드 세그먼트가 되는 것으로, 분자 사이에서 운동성이 낮은 부위가 된다. 또한, (A) 성분을 함유함으로써, 그 조성물로부터 얻어지는 성형체의 내열성을 향상시킬 수 있다.
[화학식 9]
Figure pct00009
상기 식 (A-1) 중, R1 은, 각각 독립적으로, 수소 원자 또는 메틸기를 나타낸다.
또한, X 는, 각각 독립적으로, 단결합, 탄소수 1 ∼ 4 의 알킬렌기, 또는 탄소수 1 ∼ 4 의 옥시알킬렌기를 나타낸다.
탄소수 1 ∼ 4 의 알킬렌기로는, 예를 들어, 메틸렌기, 에틸렌기, 트리메틸렌기, 프로필렌기, 테트라메틸렌기, 부틸렌기, 2-메틸트리메틸렌기 등을 들 수 있다.
탄소수 1 ∼ 4 의 옥시알킬렌기로는, 예를 들어, 옥시메틸렌기, 옥시에틸렌기, 옥시프로필렌기, 옥시부틸렌기 등을 들 수 있다.
이들 X 중에서도, 조성물로부터 얻어지는 성형체의 내열성을 향상시키는 관점에서, 단결합이 바람직하다.
상기 식 (A-1) 중, U 는 탄소수 1 ∼ 4 의 알킬기, 할로겐 원자, 수산기, 또는 2 개의 U 가 하나가 되어 형성된 =O 를 나타낸다. 또한, 복수의 U 는 동일해도 되고, 상이해도 된다.
탄소수 1 ∼ 4 의 알킬기로는, 예를 들어, 메틸기, 에틸기, 프로필기, 이소프로필기, n-부틸기, s-부틸기, 이소부틸기 등을 들 수 있다.
할로겐 원자로는, 예를 들어, 불소 원자, 염소 원자, 브롬 원자, 요오드 원자 등을 들 수 있다.
또한, k 는, 아다만틸 골격 중의 치환기 U 의 수를 나타내고, 0 ∼ 15 의 정수를 나타내고, 바람직하게는 0 ∼ 10 의 정수이다.
또한, 상기 식 (A-1) 중, m 은 1 ∼ 4 의 정수를 나타내고, 바람직하게는 1 ∼ 2 의 정수이다.
일반식 (A-1) 에 있어서, m 이 1 인 화합물로는, 예를 들어, 아다만틸메탄올(메트)아크릴레이트, 아다만틸에탄올(메트)아크릴레이트 등을 들 수 있다.
m 이 2 인 화합물로는, 예를 들어, 아다만틸디메탄올디(메트)아크릴레이트, 아다만틸디에탄올디(메트)아크릴레이트 등을 들 수 있다.
m 이 3 인 화합물로는, 예를 들어, 아다만틸트리메탄올트리(메트)아크릴레이트, 아다만틸트리에탄올트리(메트)아크릴레이트 등을 들 수 있다.
m 이 4 인 화합물로는, 예를 들어, 아다만틸테트라메탄올테트라(메트)아크릴레이트, 아다만틸테트라에탄올테트라(메트)아크릴레이트 등을 들 수 있다.
이들 (A) 성분은, 단독으로 또는 2 종 이상 조합하여 사용해도 된다.
본 발명의 조성물 중의 (A) 성분의 함유량은, 당해 조성물의 총량에 대하여, 바람직하게는 5 ∼ 60 질량％, 보다 바람직하게는 7 ∼ 40 질량％, 더욱 바람직하게는 9 ∼ 30 질량％ 이다.
[(B) 성분 : 1 분자 중에 일반식 (b-I) ∼ (b-VII) 로 나타내는 구조의 1 개 이상을 갖는 (메트)아크릴레이트 화합물 (B)]
본 발명의 조성물은, (B) 성분으로서, 1 분자 중에 하기 일반식 (b-I) ∼ (b-VII) 로 나타내는 구조의 1 개 이상을 갖는 (메트)아크릴레이트 화합물 (B) 를 포함한다.
[화학식 10]
Figure pct00010
상기 일반식 (b-I) ∼ (b-VII) 중, Ya 는 2 가의 유기기를 나타내고, R6 은, 각각 독립적으로, 할로겐 원자, 탄소수 1 ∼ 6 의 알킬기, 또는 탄소수 1 ∼ 6 의 알콕시기이고, R7 은, 각각 독립적으로, 2 가의 유기기이다. 또한, p 는 0 ∼ 4 의 정수, q 는 0 ∼ 3 의 정수를 나타낸다. * 는 결합 부분을 나타낸다.
Ya 가 나타내는 2 가의 유기기로는, 예를 들어, -C(CH3)2-, -C(CF3)2-, -SO2-, -CH2-, -O-, -CO- 등을 들 수 있지만, 조성물로부터 얻어지는 성형체의 굴절률을 높이는 관점에서, -C(CH3)2- 가 바람직하다.
R6 이 나타내는 할로겐 원자로는, 예를 들어, 불소 원자, 염소 원자, 브롬 원자, 요오드 원자 등을 들 수 있다.
R6 이 나타내는 탄소수 1 ∼ 6 의 알킬기로는, 예를 들어, 메틸기, 에틸기, 프로필기, 이소프로필기, n-부틸기, s-부틸기, 이소부틸기, 펜틸기, 헥실기 등을 들 수 있다.
R6 이 나타내는 탄소수 1 ∼ 6 의 알콕시기로는, 예를 들어, 메톡시기, 에톡시기, 프로폭시기, 부톡시기, 펜틸옥시기, 헥실옥시기 등을 들 수 있다.
R7 이 나타내는 2 가의 유기기로는, 예를 들어, 직사슬형 또는 분기 사슬형의 알킬렌기, 옥시알킬렌기, 알킬리덴기, 알케닐렌기 등의 2 가의 지방족기나, 페닐렌기나, 비페닐렌기, 나프틸렌기 등의 아릴렌기 등을 들 수 있다.
R7 이 알킬렌기, 옥시알킬렌기, 알킬리덴기, 또는 알케닐렌기인 경우, 이들 기의 탄소수로는, 바람직하게는 1 ∼ 18, 보다 바람직하게는 1 ∼ 12, 더욱 바람직하게는 1 ∼ 6, 보다 더욱 바람직하게는 1 ∼ 3 이다.
또한, R7 이 아릴렌기인 경우, 당해 아릴렌기의 탄소수로는, 바람직하게는 6 ∼ 24, 보다 바람직하게는 6 ∼ 18, 더욱 바람직하게는 6 ∼ 12 이다.
이들 (B) 성분은, 단독으로 또는 2 종 이상 조합하여 사용해도 된다.
본 발명의 조성물 중의 (B) 성분의 함유량은, 당해 조성물의 총량에 대하여, 바람직하게는 25 ∼ 95 질량％, 보다 바람직하게는 30 ∼ 92 질량％, 더욱 바람직하게는 40 ∼ 88 질량％ 이다.
본 발명의 조성물에 있어서, (B) 성분으로서, 상기 서술한 (B1) 성분, (B2) 성분, (B3) 성분으로부터 얻어지는 1 종 이상을 포함하는 것이 바람직하다. 또한, (B1) ∼ (B3) 성분은, 단독으로 또는 2 종 이상을 조합하여 사용해도 된다.
조성물의 점도를 높이면서, 또한, 당해 조성물로부터 얻어지는 성형체의 굴절률을 높이는 관점에서, (B) 성분으로서, (B1) 성분과 (B2) 성분을 함유하는 조성물이 바람직하다.
또한, 조성물로부터 얻어지는 성형체의 굴절률을 보다 높이면서, 더욱 조성물의 점도를 높여, 가공성이 우수한 조성물을 얻는 관점에서, (B) 성분으로서, (B3) 성분과 (B2) 성분을 함유하는 조성물이 바람직하다.
이하, (B1) ∼ (B3) 성분의 상세에 대하여 설명한다.
[(B1) 성분 : 이소시아누레이트 구조를 갖는 (메트)아크릴레이트 화합물 (B1)]
본 발명의 조성물은, (B) 성분으로서, 상기 일반식 (b-I) 로 나타내는 이소시아누레이트 구조를 갖는 (메트)아크릴레이트 화합물 (B1) 을 함유하는 것이 바람직하다. 조성물 중에 (B1) 성분을 함유함으로써, 당해 조성물의 점도를 높여, 조성물의 가공성을 향상시킬 수 있다. 또한, 조성물로부터 얻어지는 성형체의 광학 특성도 양호해진다.
(B1) 성분으로는, 조성물의 점도를 높여, 조성물의 가공성을 향상시키는 관점에서, 하기 일반식 (B-1) 로 나타내는 이소시아누레이트 구조를 갖는 (메트)아크릴레이트 화합물이 바람직하다.
[화학식 11]
Figure pct00011
상기 식 (B-1) 중, R3 은, 각각 독립적으로, 수소 원자 또는 메틸기를 나타내고, D1 ∼ D3 은, 각각 독립적으로, 2 가의 유기기를 나타낸다.
상기 식 (B-1) 중의, D 가 나타내는 2 가의 유기기로는, 예를 들어, 직사슬형 또는 분기 사슬형의 알킬렌기, 옥시알킬렌기, 알킬리덴기, 알케닐렌기 등의 2 가의 지방족기나, 페닐렌기, 비페닐렌기, 나프틸렌기 등의 아릴렌기 등을 들 수 있다.
상기 알킬렌기, 옥시알킬렌기, 알킬리덴기, 및 알케닐렌기의 탄소수로는, 바람직하게는 1 ∼ 18, 보다 바람직하게는 1 ∼ 12, 더욱 바람직하게는 1 ∼ 6, 보다 더욱 바람직하게는 1 ∼ 3 이다.
또한, 상기 아릴렌기의 탄소수는, 바람직하게는 6 ∼ 24, 보다 바람직하게는 6 ∼ 18, 더욱 바람직하게는 6 ∼ 12 이다.
또한, 상기 식 (B-1) 중의, D 가 나타내는 2 가의 유기기로는, 하기 식 (B-1a) 로 나타내는 기도 들 수 있다.
[화학식 12]
Figure pct00012
상기 식 (B-1a) 중, R11 및 R12 는, 각각 독립적으로, 탄소수 1 ∼ 10 의 알킬렌기를 나타내고, 바람직하게는 탄소수 1 ∼ 6 의 알킬렌기이다. 또한, d 는 1 ∼ 10 의 정수를 나타내고, 바람직하게는 1 ∼ 4 의 정수이다. * 는 결합 부분을 나타낸다.
이들 2 가의 유기기 중에서도, 조성물의 점도를 올리는 관점에서, 탄소수 1 ∼ 6 의 알킬렌기, 탄소수 1 ∼ 6 의 옥시알킬렌기, 상기 식 (B-1a) 로 나타내는 기가 바람직하다. 또한, 이들 2 가의 유기기 D1 ∼ D3 은, 모두 동일해도 되고, 서로 상이한 것이어도 된다.
이들 (B1) 성분은, 단독으로 또는 2 종 이상 조합하여 사용해도 된다.
[(B2) 성분 : 일반식 (B-2) 로 나타내는 (메트)아크릴레이트 화합물 (B2)]
본 발명의 조성물은, (B) 성분으로서, 하기 일반식 (B-2) 로 나타내는 (메트)아크릴레이트 화합물 (B) 를 함유하는 것이 바람직하다. 조성물 중에 (B2) 성분을 함유함으로써, 당해 조성물의 점도를 높이고, 조성물의 가공성을 향상시키면서, 당해 조성물로부터 얻어지는 성형체의 굴절률을 높일 수 있다.
[화학식 13]
Figure pct00013
상기 식 (B-2) 중, G 는, 각각 독립적으로, 단결합, 탄소수 1 ∼ 4 의 알킬렌기, 또는 탄소수 1 ∼ 4 의 옥시알킬렌기를 나타내고, R4 는, 각각 독립적으로, 수소 원자 또는 메틸기를 나타내고, R5 는, 각각 독립적으로, 탄소수 1 ∼ 4 의 알킬렌기, 또는 하이드록시기로 치환된 탄소수 1 ∼ 4 의 알킬렌기를 나타낸다. a 는 2 ∼ 8 의 정수를 나타내고, b 는 각각 독립적으로, 1 ∼ 4 의 양의 수이고, 바람직하게는 1 ∼ 3, 보다 바람직하게는 1 ∼ 2 이다. 또한, R5 가 탄소수 1 ∼ 4 의 알킬렌기인 경우, b 의 값은, 각각 독립적으로, 알킬렌옥사이드의 부가 몰수의 평균치를 나타낸다.
G 중의 탄소수 1 ∼ 4 의 알킬렌기로는, 예를 들어, 메틸렌기, 에틸렌기, 트리메틸렌기, 프로필렌기, 테트라메틸렌기, 부틸렌기, 2-메틸트리메틸렌기 등을 들 수 있고, 탄소수 1 ∼ 4 의 옥시알킬렌기로는, 예를 들어, 옥시메틸렌기, 옥시에틸렌기, 옥시프로필렌기, 옥시부틸렌기 등을 들 수 있다.
R5 중의 탄소수 1 ∼ 4 의 알킬렌기로는, 예를 들어, 메틸렌기, 에틸렌기, 트리메틸렌기, 프로필렌기, 테트라메틸렌기, 부틸렌기, 2-메틸트리메틸렌기 등을 들 수 있다.
하이드록시기로 치환된 탄소수 1 ∼ 4 의 알킬렌기로는, 상기 서술한 탄소수 1 ∼ 4 의 알킬렌기로서 열거된 기 중의 수소 원자가 하이드록시기로 치환된 기를 들 수 있지만, 하기 식 (a) ∼ (c) 로 나타내는 기가 바람직하다.
[화학식 14]
Figure pct00014
(상기 식 (a) ∼ (c) 중, * 는 결합 부분을 나타낸다.)
또한, Z 는, 하기 일반식 (b-II-1) ∼ (b-II-6) 및 상기 일반식 (b-III) ∼ (b-VII) 로 나타내는 유기기의 어느 것을 나타낸다.
[화학식 15]
Figure pct00015
상기 일반식 (b-II-1) ∼ (b-II-6) 중, R6 은, 각각 독립적으로, 할로겐 원자, 탄소수 1 ∼ 6 의 알킬기, 또는 탄소수 1 ∼ 6 의 알콕시기이고, R7 은, 각각 독립적으로, 2 가의 유기기이다. 또한, p 는 0 ∼ 4 의 정수, q 는 0 ∼ 3 의 정수를 나타낸다.
또한, * 는 결합 부분을 나타내는데, 상기 일반식 (b-II-1) ∼ (b-II-6) 으로 나타내는 유기기는, 파라 위치에서 결합하고 있는 것이 바람직하다.
R6 이 나타내는 알킬기 및 알콕시기, 그리고, R7 이 나타내는 2 가의 유기기로는, 상기 일반식 (b-I) ∼ (b-VII) 중의 R6 및 R7 에서 예시한 기를 들 수 있다.
이들 중에서도, 그 조성물로부터 얻어지는 성형체의 내열 변형성의 향상의 관점에서, 상기 일반식 (B-2) 중의 Z 가 상기 일반식 (b-II-1) 로 나타내는 유기기인 (메트)아크릴레이트 화합물이 바람직하다.
Z 가 상기 일반식 (b-II-1) 로 나타내는 유기기인 (메트)아크릴레이트 화합물로는, 예를 들어, 비스페놀 A 디글리시딜에테르의 (메트)아크릴산 부가물, 수소 첨가 비스페놀 A 디글리시딜에테르의 (메트)아크릴산 부가물 등을 들 수 있고, 시판품으로는, 예를 들어, 에폭시에스테르 3002M, 3002A, 3000M, 3000MK, 3000A (이상, 쿄에이샤 화학사 제조) 등을 들 수 있다.
이들 (B2) 성분은, 단독으로 또는 2 종 이상 조합하여 사용해도 된다.
[(B3) 성분 : 일반식 (B-3a) 또는 (B-3b) 로 나타내는 페닐기를 갖는 (메트)아크릴레이트 화합물 (B3)]
본 발명의 조성물은, (B) 성분으로서, 하기 일반식 (B-3a) 또는 (B-3b) 로 나타내는 페닐기를 갖는 (메트)아크릴레이트 화합물을 함유하는 것이 바람직하다.
조성물 중에 (B3) 성분을 함유함으로써, 당해 조성물로부터 얻어지는 성형체의 굴절률을 높일 수 있다.
[화학식 16]
Figure pct00016
상기 식 (B-3a) 및 (B-3b) 중, X1 은, 각각 독립적으로, 단결합, 탄소수 1 ∼ 4 의 알킬렌기, 또는 탄소수 1 ∼ 4 의 옥시알킬렌기를 나타내고, Ya 는 2 가의 유기기를 나타내고, R22, R23 은, 각각 독립적으로, 탄소수 1 ∼ 4 의 알킬렌기, 또는 하이드록시기로 치환된 탄소수 1 ∼ 4 의 알킬렌기를 나타내고, R4a, R4b 는, 각각 독립적으로 수소 원자 또는 메틸기를 나타내고, R6 ∼ R13 은, 각각 독립적으로 수소 원자, 할로겐 원자, 탄소수 1 ∼ 5 의 직사슬 또는 분기 사슬의 알킬기를 나타낸다.
X1, R22, R23 이 나타내는 탄소수 1 ∼ 4 의 알킬렌기로는, 예를 들어, 메틸렌기, 에틸렌기, 트리메틸렌기, 프로필렌기, 테트라메틸렌기, 부틸렌기, 2-메틸트리메틸렌기 등을 들 수 있다.
R22, R23 이 나타내는 하이드록시기로 치환된 탄소수 1 ∼ 4 의 알킬렌기로는, 상기 서술한 탄소수 1 ∼ 4 의 알킬렌기로서 열거된 기 중의 수소 원자가 하이드록시기로 치환된 기를 들 수 있지만, 하기 식으로 나타내는 기가 바람직하다.
[화학식 17]
Figure pct00017
(식 중, * 는 결합 부분을 나타낸다.)
R6 ∼ R13 은, 각각 독립적으로 수소 원자, 할로겐 원자, 탄소수 1 ∼ 5 의 직사슬 또는 분기 사슬의 알킬기를 나타낸다.
R6 ∼ R13 이 나타내는 할로겐 원자로는, 불소 원자, 염소 원자, 브롬 원자, 요오드 원자 등을 들 수 있다.
R6 ∼ R13 이 나타내는 탄소수 1 ∼ 5 의 직사슬 또는 분기 사슬의 알킬기로는, 예를 들어, 메틸기, 에틸기, 프로필기, 이소프로필기, n-부틸기, s-부틸기, 이소부틸기, t-부틸기, n-펜틸기 등을 들 수 있다. 당해 조성물로부터 얻어지는 성형체의 굴절률을 높이는 관점에서, R6 ∼ R13 의 1 개 이상이 브롬 원자인 것이 바람직하고, 또한, R6, R8, R11, R13 이 t-부틸기인 것이 바람직하다.
또한, 상기 식 (B-3a) 및 (B-3b) 중, Y 는 2 가의 유기기를 나타내고, 예를 들어, -C(CH3)2-, -C(CF3)2-, -SO2-, -CH2-, -O-, -CO- 등을 들 수 있지만, 당해 조성물로부터 얻어지는 성형체의 굴절률을 높이는 관점에서, -C(CH3)2- 가 바람직하다.
상기 식 (B-3a) 중, a 및 b 는, 알킬렌옥사이드의 부가 몰수를 나타내고, 각각 양의 수로서, a ＋ b 의 평균치는 2 ∼ 4 이다.
상기 식 (B-3b) 중, c 는 1 ∼ 5 의 정수를 나타내고, 바람직하게는 1 ∼ 3 이다. d 는 1 ∼ 5 의 정수를 나타내고, 바람직하게는 1 ∼ 3 이다. e 는 1 ∼ 5 의 정수를 나타내고, 바람직하게는 1 ∼ 3 이다. 단, X 가 단결합인 경우, e 는 2 ∼ 5 의 정수를 나타내고, 바람직하게는 2 ∼ 3 이다.
또한, 이들 (B3) 성분은, 단독으로 또는 2 종 이상 조합하여 사용해도 된다.
또한, 본 발명의 조성물에 있어서는, (B) 성분으로서, 상기 (B3) 성분과 상기 (B2) 성분을 함유하는 것이 바람직하고, (B3) 성분과 함께, 하기 일반식 (B-2a) 로 나타내는 (메트)아크릴레이트 화합물 (B2') 를 함유하는 것이 보다 바람직하다.
(B2') 성분을 포함함으로써, 상기 (B3) 성분의 함유량을 억제해도, 조성물의 굴절률을 높일 수 있음과 함께, 점도가 높은 조성물을 얻을 수 있다.
또한, 당해 (B2') 성분은, 단독으로 또는 2 종 이상을 조합하여 사용해도 된다.
[화학식 18]
Figure pct00018
상기 식 (B-2a) 중, R14, R15 는, 각각 독립적으로, 탄소수 1 ∼ 4 의 알킬렌기를 나타내고, 예를 들어, 메틸렌기, 에틸렌기, 트리메틸렌기, 프로필렌기, 테트라메틸렌기, 부틸렌기, 2-메틸트리메틸렌기 등을 들 수 있다.
R16, R17 은, 각각 독립적으로 수소 원자 또는 메틸기를 나타낸다.
f 및 g 는, 알킬렌옥사이드의 부가 몰수를 나타내고, 각각 양의 수이고, f ＋ g 의 평균치는 2 ∼ 4 이다.
또한, Z 는 하기 일반식 (b-III) 으로 나타내는 2 가의 유기기를 나타낸다.
[화학식 19]
Figure pct00019
(상기 식 (b-III) 중, R6, R7, p 는, 상기 서술한 바와 같고, * 는 결합 부분을 나타낸다.)
[(C) 성분 : 일반식 (C-1) 로 나타내는 (메트)아크릴레이트 화합물 (C)]
본 발명의 조성물은, (C) 성분으로서, 하기 일반식 (C-1) 로 나타내는 (메트)아크릴레이트 화합물을 포함한다. (C) 성분은, 본 발명의 조성물을 중합하여 수지로 했을 때, 주로, 굴곡성 부위를 많이 갖는 부위인 소프트 세그먼트가 되는 것으로, 분자 내에서 폴리머 사슬의 운동성이 높아져, 유연한 부위가 된다. 또한, (C) 성분을 함유함으로써, 그 조성물로부터 성형체를 얻을 때의 크랙의 발생을 억제할 수 있다.
[화학식 20]
Figure pct00020
상기 식 (C-1) 중, R2 는, 각각 독립적으로, 수소 원자 또는 메틸기를 나타낸다.
또한, Y1 은, 치환 또는 무치환의 탄소수 5 ∼ 30 의 비고리형 탄화수소기 및 -R'(OR')L- 로 나타내는 기 (단, R' 는, 각각 독립적으로, 치환 또는 무치환의 탄소수 1 ∼ 4 의 알킬렌기를 나타내고, L 은 1 ∼ 20 의 정수이다) 에서 선택되는 1 종 이상의 비고리형의 유기기를 나타낸다.
또한, 상기 비고리형 탄화수소기 및 알킬렌기의 치환기로는, 예를 들어, 할로겐 원자, 수산기, 아미노기 등을 들 수 있다. 또한, R' 가 나타내는 탄소수 1 ∼ 4 의 알킬렌기로는, 상기 서술한 기를 들 수 있다.
L 은 1 ∼ 20 의 정수이지만, 바람직하게는 2 ∼ 15, 보다 바람직하게는 2 ∼ 10 이다.
n 은 1 ∼ 8 의 정수를 나타내고, 본 발명의 조성물로부터 얻어지는 수지의 가교 밀도를 향상시키는 관점에서, 바람직하게는 2 ∼ 7 의 정수, 보다 바람직하게는 3 ∼ 6 의 정수이다.
상기 식 (C-1) 중의 Y1 이 나타내는, 치환 또는 무치환의 탄소수 5 ∼ 30 의 비고리형 탄화수소기 및 -R'(OR')L- 로 나타내는 기에서 선택되는 1 종 이상의 비고리형의 유기기는, 에테르 결합을 가지고 있어도 되고, 그 밖에 탄소수 5 미만의 직사슬 탄화수소기, 분기형 탄화수소기 등을 포함해도 된다.
Y1 이 나타내는 상기 기는, 조성물로부터 얻어지는 수지에 있어서의, 소프트 세그먼트에 해당하는 부위가 되고, 분자 내에서 폴리머 사슬의 운동성이 높아져, 유연한 부위가 된다.
여기서, 상기 식 (C-1) 중의 Y1 이, 치환 또는 무치환의 탄소수 5 ∼ 30 의 비고리형 탄화수소기인 경우, (C) 성분은, 하기의 일반식 (C-1a) 로 나타내는 (메트)아크릴레이트 화합물 (C1) 인 것이 바람직하다.
[화학식 21]
Figure pct00021
상기 식 (C-1a) 중, R2 및 n 은, 식 (C-1) 과 동일하다. Q1 은, 탄소수 1 ∼ 30 의 직사슬 탄화수소기, 탄소수 3 ∼ 30 의 분기형 탄화수소기에서 선택되는 1 종 이상의 유기기로서, 이들 유기기는, 에테르 결합을 포함해도 되고, 할로겐 원자, 수산기, 아미노기 등에 의해 치환되어 있어도 된다.
Y2 는, 탄소수 5 ∼ 30 의 비고리형 탄화수소기로서, 에테르 결합을 포함해도 되고, 할로겐 원자, 수산기, 아미노기 등에 의해 치환되어 있어도 된다.
상기 일반식 (C-1a) 중의 Q1 에 있어서의, 탄소수 1 ∼ 30 의 직사슬 탄화수소기로는, 예를 들어, 메틸렌기, 에틸렌기, n-프로필렌기, n-부틸렌기, n-펜틸렌기, n-헥실렌기, n-헵틸렌기, n-옥틸렌기, 2-에틸헥실렌기, n-노닐렌기, n-데실렌기, n-운데실렌기, n-도데실렌기, n-트리데실렌기, n-테트라데실렌기, n-펜타데실렌기, n-헥사데실렌기, n-헵타데실렌기, n-옥타데실렌기 등의 탄소수 1 ∼ 30 의 알킬렌기, 및, 옥시메틸렌기, 옥시에틸렌기, 옥시프로필렌기, 옥시부틸렌기 등의 탄소수 1 ∼ 30 의 옥시알킬렌기 등을 들 수 있다.
상기 일반식 (C-1a) 중의 Q1 에 있어서의, 탄소수 3 ∼ 30 의 분기형 탄화수소기로는, 예를 들어, 이소프로필기, 이소부틸기, s-부틸기, t-부틸기, 이소펜틸기, 네오펜틸기, t-펜틸기, 이소헥실기 등을 들 수 있다.
상기 일반식 (C-1a) 중의 Y2 의 탄소수 5 ∼ 30 의 비고리형 탄화수소기로는, 예를 들어, -(CH2)r1- 또는 -(CH3CH)r1- 로 나타내는 알킬렌기 (r1 은 5 ∼ 30 의 정수), -(CRc-CRd)r2- 로 나타내는 프로필렌기 (Rc, Rd 의 일방이 수소 원자이고, 타방이 메틸기, r2 는 2 ∼ 15 의 정수), -(CH2O)r3- 또는 -(CH3CHO)r3- 으로 나타내는 알콕시기 (r3 은 5 ∼ 30 의 정수) 등을 들 수 있다.
이들 중에서도, -(CH2)r1- 로 나타내는 알킬렌기 (r1 은 5 ∼ 30 의 정수), -(CRc-CRd)r2- 로 나타내는 프로필렌기 (Rc, Rd 의 일방이 수소 원자이고, 타방이 메틸기, r2 는 2 ∼ 15 의 정수) 가 바람직하다.
상기 일반식 (C-1a) 로 나타내는 (메트)아크릴레이트 화합물 (C1) 중, n 이 2 인 화합물로는, 예를 들어, 1,5-펜탄디올디(메트)아크릴레이트, 1,6-헥산디올디(메트)아크릴레이트, 1,9-노난디올디(메트)아크릴레이트, 1,12-도데칸디올디메타크릴레이트, 폴리부타디엔디(메트)아크릴레이트, 수소 첨가 폴리부타디엔디(메트)아크릴레이트 등을 들 수 있다.
또한, 상기 일반식 (C-1a) 로 나타내는 (메트)아크릴레이트 화합물 (C1) 중, n 이 3 이상인 화합물로는, 예를 들어, 펜타에리트리톨테트라아크릴레이트, 디펜타에리트리톨헥사아크릴레이트, 다관능성 폴리에스테르(메트)아크릴레이트 등을 들 수 있다.
또한, 상기 식 (C-1) 중의 Y1 이, -R'(OR')L- 로 나타내는 기를 포함하는 비고리형의 유기기인 경우, (C) 성분은, 하기의 일반식 (C-1b) 로 나타내는 (메트)아크릴레이트 화합물 (C2) 인 것이 바람직하다.
[화학식 22]
Figure pct00022
상기 식 (C-1b) 중, R2 및 n 은, 식 (C-1) 과 동일하고, Y2 는, 식 (C-1a) 와 동일하게, 탄소수 5 ∼ 30 의 비고리형 탄화수소기로서, 에테르 결합을 포함해도 되고, 할로겐 원자, 수산기, 아미노기 등에 의해 치환되어 있어도 된다.
또한, R' 는, 각각 독립적으로, 치환 또는 무치환의 탄소수 1 ∼ 4 의 알킬렌기를 나타낸다. L 은 1 ∼ 20 의 정수이고, 바람직하게는 2 ∼ 15, 보다 바람직하게는 2 ∼ 10 이다.
상기 일반식 (C-1b) 로 나타내는 (메트)아크릴레이트 화합물 (C2) 중, n 이 2 인 화합물로는, 예를 들어, 디에틸렌글리콜디(메트)아크릴레이트, 트리에틸렌글리콜디(메트)아크릴레이트, L 이 2 ∼ 20 인 폴리에틸렌글리콜디(메트)아크릴레이트, 폴리프로필렌글리콜디(메트)아크릴레이트, 폴리부틸렌글리콜디(메트)아크릴레이트, 에톡시화비스페놀 A 디(메트)아크릴레이트, 알콕시화네오펜틸글리콜디아크릴레이트, 테트라에틸렌글리콜디(메트)아크릴레이트, 알콕시화시클로헥산디올디아크릴레이트 (사토머·재팬 (주) 제조) 등을 들 수 있다.
이들 중에서도, L 이 2 ∼ 20 인 폴리에틸렌글리콜디(메트)아크릴레이트, 폴리프로필렌글리콜디(메트)아크릴레이트, 폴리부틸렌글리콜디(메트)아크릴레이트, 테트라에틸렌글리콜디(메트)아크릴레이트가 바람직하다.
또한, 상기 일반식 (C-1b) 로 나타내는 (메트)아크릴레이트 화합물 (C2) 중, n 이 3 이상인 화합물로는, 예를 들어, 에톡시화트리메틸올프로판트리(메트)아크릴레이트, 프로폭시화트리메틸올프로판트리(메트)아크릴레이트, L 이 2 ∼ 20 인 알콕시화트리메틸올프로판트리(메트)아크릴레이트, 에톡시화글리세릴트리(메트)아크릴레이트, 프로폭시화글리세릴트리(메트)아크릴레이트, 알콕시화글리세릴트리(메트)아크릴레이트, 에톡시화펜타에리트리톨테트라(메트)아크릴레이트, 프로폭시화펜타에리트리톨테트라(메트)아크릴레이트, 알킬화트리메틸올프로판트리(메트)아크릴레이트, L 이 2 ∼ 20 인 알콕시화펜타에리트리톨테트라(메트)아크릴레이트, 에톡시화디펜타에리트리톨헥사(메트)아크릴레이트, 프로폭시화디펜타에리트리톨헥사(메트)아크릴레이트, 알킬화디펜타에리트리톨헥사(메트)아크릴레이트, L 이 2 ∼ 20 인 알콕시화디펜타에리트리톨헥사(메트)아크릴레이트, 에톡시화디펜타에리트리톨펜타(메트)아크릴레이트, 프로폭시화디펜타에리트리톨펜타(메트)아크릴레이트, 알킬화디펜타에리트리톨헥사(메트)아크릴레이트, L 이 2 이상인 알콕시화디펜타에리트리톨펜타(메트)아크릴레이트, 알킬화디펜타에리트리톨펜타(메트)아크릴레이트 등을 들 수 있다.
(C) 성분의 수평균 분자량으로는, 조성물의 점도의 조정 및 열 이력 후의 형상 변화를 억제하는 관점에서, 바람직하게는 140 ∼ 50000, 보다 바람직하게는 250 ∼ 40000, 더욱 바람직하게는 350 ∼ 10000 이다.
이들 (C) 성분은, 단독으로 또는 2 종 이상 조합하여 사용해도 된다.
본 발명의 조성물 중의 (C) 성분의 함유량은, 당해 조성물의 총량에 대하여, 바람직하게는 0 ∼ 50 질량％, 보다 바람직하게는 3 ∼ 40 질량％, 더욱 바람직하게는 6 ∼ 35 질량％ 이다.
[(D) 성분 : (B) 성분에 해당하는 화합물 이외의, 에폭시 화합물과 (메트)아크릴산의 반응 화합물 (D1), 우레탄(메트)아크릴레이트 화합물 (D2)]
본 발명의 조성물은, 추가로 (D) 성분으로서, (B) 성분에 해당하는 화합물 이외의, 에폭시 화합물과 (메트)아크릴산의 반응 화합물 (D1) 및 우레탄(메트)아크릴레이트 화합물 (D2) 에서 선택되는 1 종 이상을 포함하는 것이 바람직하다.
(D1) 성분에서는, 카르보닐기의 산소 원자와 에폭시 화합물의 에폭시기가 개환하여 형성된 하이드록실기의 수소 원자 사이의 수소 결합의 영향에 의해, (D2) 성분에서는, 우레탄 결합 중의 산소 원자와 수소 원자 사이의 수소 결합의 영향에 의해, 이들 성분을 포함하는 조성물의 점도를 올릴 수 있다.
(D) 성분의 함유량 ((D1) 성분과 (D2) 성분의 합계 함유량) 은, (A) ∼ (C) 성분의 합계 100 질량부에 대하여, 바람직하게는 2 ∼ 50 질량부, 보다 바람직하게는 4 ∼ 42 질량부, 보다 바람직하게는 6 ∼ 40 질량부, 더욱 바람직하게는 8 ∼ 38 질량부, 보다 더욱 바람직하게는 9 ∼ 25 질량부이다.
당해 함유량이 2 질량부 이상이면, 조성물의 점도를 충분히 올려, 조성물의 가공성을 향상시킬 수 있다. 한편, 당해 함유량이 50 질량부 이하이면, 조성물의 점도가 지나치게 높아지지 않고, 가공성에 최적인 적절한 점도로 할 수 있다.
[(D1) 성분 : (B) 성분에 해당하는 화합물 이외의, 에폭시 화합물과 (메트)아크릴산의 반응 화합물 (D1)]
(D1) 성분은, (B) 성분에 해당하는 화합물 이외의 화합물로서, 에폭시 화합물의 에폭시기가 개환하여, (메트)아크릴산과 반응함으로써 생성된다.
에폭시 화합물로는, 예를 들어, 알킬글리시딜에테르, 알릴글리시딜에테르 등을 들 수 있다.
또한, 에폭시 화합물로는, 2 개 이상의 에폭시기를 갖는 화합물이 바람직하다.
2 개 이상의 에폭시기를 갖는 에폭시 화합물과 (메트)아크릴산의 반응 화합물로는, 예를 들어, 프로필렌글리콜디글리시딜에테르의 (메트)아크릴산 부가물, 1,6-헥산디올디글리시딜에테르의 (메트)아크릴산 부가물, 에틸렌글리콜디글리시딜에테르의 (메트)아크릴산 부가물, 1,4-부탄디올디글리시딜에테르의 (메트)아크릴산 부가물, 1,5-펜탄디올디글리시딜에테르의 (메트)아크릴산 부가물, 1,6-헥산디올디글리시딜에테르의 (메트)아크릴산 부가물, 1,9-노난디올디글리시딜에테르의 (메트)아크릴산 부가물, 네오펜틸글리콜디글리시딜에테르의 (메트)아크릴산 부가물, 글리세린디글리시딜에테르의 (메트)아크릴산 부가물 등을 들 수 있다.
(D1) 성분의 시판품으로는, 예를 들어, 에폭시에스테르 40EM, 70PA, 200PA, 80MFA (이상, 쿄에이샤 화학사 제조) 등을 들 수 있다.
또한, 이들 (D1) 성분은, 단독으로 또는 2 종 이상 조합하여 사용해도 된다.
[(D2) 성분 : 우레탄(메트)아크릴레이트 화합물 (D2)]
우레탄(메트)아크릴레이트 화합물 (D2) 는, 폴리올 성분, 이소시아네이트 성분, 및 하이드록시기 함유 (메트)아크릴레이트 성분으로부터 합성되는 화합물인 것이 바람직하다. 또한, (D2) 성분의 관능기수는, 그 조성물로부터 얻어지는 성형체의 고경도, 고탄성률, 내열 변형성의 향상의 관점에서, 바람직하게는 2 이상, 보다 바람직하게는 2 ∼ 4, 더욱 바람직하게는 2 ∼ 3 이다.
2 관능의 우레탄(메트)아크릴레이트 화합물로는, 예를 들어, U-108A, UA-112P, UA-5201, UA-512, UA-412A, UA-4200, UA-4400, UA-340P, UA-2235PE, UA-160TM, UA-122P, UA-512, UA-W2, UA-7000, UA-7100 (이상, 상품명, 신나카무라 화학 공업 제조) ; CN962, CN963, CN964, CN965, CN980, CN981, CN982, CN983, CN996, CN9001, CN9002, CN9788, CN9893, CN978, CN9782, CN9783 (이상, 상품명, 사토머·재팬 (주) 제조) ; M-1100, M-1200, M-1210, M-1310, M-1600 (이상, 상품명, 토아 합성 화학 공업 제조) ; UN-9000PEP, UN-9200A, UN-7600, UN-333, UN-1255, UN-6060PTM, UN-6060P, SH-500B (이상, 상품명, 네가미 공업 제조) ; AH-600, AT-600 (이상, 상품명, 쿄에이샤 화학 제조) ; 에베크릴 280, 에베크릴 284, 에베크릴 402, 에베크릴 8402, 에베크릴 8807, 에베크릴 9270 (이상, 상품명, 다이셀·사이테크 제조) ; 등을 들 수 있다.
3 관능의 우레탄(메트)아크릴레이트 화합물로는, 예를 들어, CN929, CN944B85, CN989, CN9008 (이상, 상품명, 사토머·재팬 (주) 제조) ; 에베크릴 264, 에베크릴 265, 에베크릴 1259, 에베크릴 8201, KRM8296, 에베크릴 294/25HD, 에베크릴 4820 (이상, 상품명, 다이셀·사이테크 제조) ; 등을 들 수 있다.
4 관능 이상의 우레탄(메트)아크릴레이트 화합물로는, 예를 들어, U-6HA, U-6H, U-15HA, UA-32P, U-324A, UA-7200 (이상, 상품명, 신나카무라 화학 공업 제조) ; CN968, CN9006, CN9010 (이상, 상품명, 사토머·재팬 (주) 제조) ; UN-3320HA, UN-3320HB, UN-3320HC, UN-3320HS, UN-904, UN-901T, UN-905, UN-952 (이상, 상품명, 네가미 공업 제조) ; 에베크릴 1290, 에베크릴 1290K, KRM8200, 에베크릴 5129, 에베크릴 8210, 에베크릴 8301, 에베크릴 8405 (이상, 상품명, 다이셀·사이테크 제조) ; 등을 들 수 있다.
이들 (D2) 성분은, 단독으로 또는 2 종 이상 조합하여 사용해도 된다.
[그 밖의 성분]
본 발명의 조성물은, 본 발명의 효과를 저해하지 않는 범위에서, 상기 (A) ∼ (D) 성분에 해당하지 않는 (메트)아크릴레이트 화합물을 포함해도 된다.
단, (A) ∼ (D) 성분의 합계 함유량은, 본 발명의 조성물 중에 포함되는 (메트)아크릴레이트 화합물의 총량에 대하여, 바람직하게는 60 ∼ 100 질량％, 보다 바람직하게는 75 ∼ 100 질량％, 더욱 바람직하게는 90 ∼ 100 질량％, 보다 더욱 바람직하게는 95 ∼ 100 질량％ 이다.
또한, 필요에 따라, 산화 방지제, 중합 개시제를 배합해도 된다.
(산화 방지제)
본 발명의 조성물은, 필요에 따라, 산화 방지제를 함유할 수 있다.
산화 방지제로는, 예를 들어, 힌더드페놀계 산화 방지제, 인계 산화 방지제, 황계 산화 방지제, 티오에테르계 산화 방지제, 비타민계 산화 방지제, 락톤계 산화 방지제, 아민계 산화 방지제 등을 들 수 있다.
이들 산화 방지제 중에서도, 내열성 및 내황변성의 관점에서, 힌더드페놀계 산화 방지제가 바람직하다.
또한, 산화 방지제의 수평균 분자량으로는, 내열성 및 내황변성의 관점에서, 바람직하게는 300 ∼ 1500, 보다 바람직하게는 330 ∼ 1300 이다.
힌더드페놀계 산화 방지제로는, 예를 들어, Irganox1010, 동 1076, 동 1330, 동 3114, 동 3125 (이상, 모두 상품명, BASF 사 제조), 아데카스타브 AO-20, 동 AO-50, 동 AO-60, 동 AO-80, 동 AO-30, 동 AO-40 (이상, 모두 상품명, 주식회사 ADEKA 제조), BHT (상품명, 타케다 약품 공업 (주) 제조), Cyanox1790 (상품명, 사이아나미드사 제조), SumilizerGP, 동 GM, 동 GS, 동 GA-80 (이상, 모두 상품명, 스미토모 화학 (주) 제조) 등의 시판품을 들 수 있다.
인계 산화 방지제로는, 예를 들어, IRAGAFOS168, 동 12, 동 38, 동 P-EPQ, 동 126 (이상, 모두 상품명, BASF 사 제조), ADKSTAB329K, 동 PEP-36, 동 PEP-8, 동 HP-10, 동 2112, 동 260, 동 522A (이상, 모두 상품명, 주식회사 ADEKA 제조), Weston618, 동 619G, 동 624 (이상, 모두 상품명, GE 사 제조) 등의 시판품을 들 수 있다.
황계 산화 방지제로는, 예를 들어, DSTP 「요시토미」, DLTP 「요시토미」, DLTOIB, DMTP 「요시토미」 (이상, 모두 상품명, 요시토미 (주) 제조), Seenox412S (상품명, 시프로 화성 (주) 제조), Cyanox1212 (상품명, 사이아나미드사 제조), TP-D, TPS, TPM, TPL-R (이상, 모두 상품명, 스미토모 화학 (주) 제조) 등의 시판품을 들 수 있다.
티오에테르계 산화 방지제로는, 예를 들어, 아데카스타브 AO-412S, 동 AO-503 (이상, 모두 상품명, 주식회사 ADEKA 제조) 등의 시판품을 들 수 있다.
비타민계 산화 방지제로는, 예를 들어, 토코페롤 (상품명, 에자이 (주) 제조), IrganoxE201 (상품명, BASF 사 제조) 등의 시판품을 들 수 있다.
락톤계 산화 방지제로는, 예를 들어, 일본 공개특허공보 평7-233160호 및 일본 공개특허공보 평7-247278호에 기재되어 있는 화합물, HP-136 (상품명, BASF 사 제조) 등의 시판품을 들 수 있다.
아민계 산화 방지제로는, 예를 들어, IrgastabFS042 (상품명, BASF 사 제조), GENOX EP (상품명, 크롬프톤사 제조) 등의 시판품을 들 수 있다.
이들 산화 방지제는, 단독으로 또는 2 종 이상을 조합하여 사용할 수 있다.
산화 방지제의 배합량은, 조성물로부터 얻어지는 성형체의 투명성을 향상시키는 관점, 및 황변을 억제하는 관점에서, (A) ∼ (C) 성분의 합계 100 질량부에 대하여, 바람직하게는 0.1 ∼ 20 질량부, 보다 바람직하게는 1 ∼ 18 질량부, 더욱 바람직하게는 1.5 ∼ 15 질량부이다.
(중합 개시제)
본 발명의 조성물은, 필요에 따라, 중합 개시제를 배합할 수 있다.
중합 개시제로는, 열에 의해 개열하여 개시 라디칼을 발생하는 열중합 개시제, 광, 전자선, 방사선 등의 활성 에너지선의 조사에 의해 개시 라디칼을 생성하는 광중합 개시제 모두 사용할 수 있다.
열중합 개시제를 사용하는 경우에는, 그 열중합 개시제를 포함하는 조성물에 대하여, 40 ∼ 200 ℃ 에서 가열함으로써, 중합 반응을 촉진시킬 수 있다. 한편, 광중합 개시제를 사용하는 경우에는, 그 광중합 개시제를 포함하는 조성물에 대하여, 수은 크세논 램프 등을 광원으로 하여, 50 ∼ 2000 mJ/㎠ 의 적산 광량으로 자외선 등을 조사함으로써, 중합시킬 수 있다.
열중합 개시제로는, 예를 들어, 메틸에틸케톤퍼옥사이드, 메틸이소부틸케톤퍼옥사이드, 아세틸아세톤퍼옥사이드, 시클로헥사논퍼옥사이드, 및 메틸시클로헥사논퍼옥사이드 등의 케톤퍼옥사이드류 ; 1,1,3,3-테트라메틸부틸하이드로퍼옥사이드, 쿠멘하이드로퍼옥사이드, 및 t-부틸하이드로퍼옥사이드 등의 하이드로퍼옥사이드류 ; 디이소부티릴퍼옥사이드, 비스-3,5,5-트리메틸헥산올퍼옥사이드, 라우로일퍼옥사이드, 벤조일퍼옥사이드, 및 m-톨루일벤조일퍼옥사이드 등의 디아실퍼옥사이드류 ; 디쿠밀퍼옥사이드, 2,5-디메틸-2,5-디(t-부틸퍼옥시)헥산, 1,3-비스(t-부틸퍼옥시이소프로필)헥산, t-부틸쿠밀퍼옥사이드, 디-t-부틸퍼옥사이드, 및 2,5-디메틸-2,5-디(t-부틸퍼옥시)헥센 등의 디알킬퍼옥사이드류 ; 1,1-디(t-부틸퍼옥시-3,5,5-트리메틸)시클로헥산, 1,1-디-t-부틸퍼옥시시클로헥산, 및 2,2-디(t-부틸퍼옥시)부탄 등의 퍼옥시케탈류 ; 1,1,3,3-테트라메틸부틸퍼옥시네오디카보네이트, α-쿠밀퍼옥시네오디카보네이트, t-부틸퍼옥시네오디카보네이트, t-헥실퍼옥시피발레이트, t-부틸퍼옥시피발레이트, 1,1,3,3-테트라메틸부틸퍼옥시-2-에틸헥사노에이트, t-아밀퍼옥시-2-에틸헥사노에이트, t-부틸퍼옥시-2-에틸헥사노에이트, t-부틸퍼옥시이소부틸레이트, 디-t-부틸퍼옥시헥사하이드로테레프탈레이트, 1,1,3,3-테트라메틸부틸퍼옥시-3,5,5-트리메틸헥사네이트, t-아밀퍼옥시-3,5,5-트리메틸헥사노에이트, t-부틸퍼옥시-3,5,5-트리메틸헥사노에이트, t-부틸퍼옥시아세테이트, t-부틸퍼옥시벤조에이트, 및 디부틸퍼옥시트리메틸아디페이트 등의 알킬퍼옥시에스테르류 ; 디-3-메톡시부틸퍼옥시디카보네이트, 디-2-에틸헥실퍼옥시디카보네이트, 비스(1,1-부틸시클로헥사옥시디카보네이트), 디이소프로필옥시디카보네이트, t-아밀퍼옥시이소프로필카보네이트, t-부틸퍼옥시이소프로필카보네이트, t-부틸퍼옥시-2-에틸헥실카보네이트, 및 1,6-비스(t-부틸퍼옥시카르복시)헥산 등의 퍼옥시카보네이트류 ; 1,1-디(t-헥실퍼옥시)시클로헥산, 및 (4-t-부틸시클로헥실)퍼옥시디카보네이트 등을 들 수 있다. 이들 중에서도, 디아실퍼옥사이드류, 퍼옥시케탈류, 알킬퍼옥시에스테르류, 1,1-디(t-헥실퍼옥시)시클로헥산이 바람직하고, 라우로일퍼옥사이드, 1,1-디-t-부틸퍼옥시시클로헥산, t-부틸퍼옥시-2-에틸헥사노에이트, 1,1-디(t-헥실퍼옥시)시클로헥산이 보다 바람직하다.
광중합 개시제로는, 예를 들어, 벤조인에테르, 2,2-디메톡시-1,2-디페닐에탄-1-온 (시판품 : 「IRGACURE651 (BASF 사 제조, 상품명)」), 1-하이드록시-시클로헥실-페닐-케톤 (시판품 : 「IRGACURE184 (BASF 사 제조, 상품명)」), 2-하이드록시-2-메틸-1-페닐-프로판-1-온 (시판품 : 「DAROCUR1173 (BASF 사 제조, 상품명)」), 1-[4-(2-하이드록시에톡시)-페닐]-2-하이드록시-2-메틸-1-프로판-1-온 (시판품 : 「IRGACURE2959 (BASF 사 제조, 상품명)」), 2-하이드록시-1-[4-[4-(2-하이드록시-2-메틸-프로피오닐)-벤질]페닐]-2-메틸-프로판-1-온 (시판품 : 「IRGACURE127 (BASF 사 제조, 상품명)」), 2-메틸-1-(4-메틸티오페닐)-2-모르폴리노프로판-1-온 (시판품 : 「IRGACURE907 (BASF 사 제조, 상품명)」), 2-벤질-2-디메틸아미노-1-(4-모르폴리노페닐)-부타논-1 (시판품 : 「IRGACURE369 (BASF 사 제조, 상품명)」), 2-(디메틸아미노)-2-[(4-메틸페닐)메틸]-1-[4-(4-모노폴리닐)페닐]-1-부타논 (시판품 : 「IRGACURE379 (BASF 사 제조, 상품명)」), 2,4,6-트리메틸벤조일-디페닐-포스핀옥사이드 (시판품 : 「DAROCUR TPO (BASF 사 제조, 상품명)」), 비스(2,4,6-트리메틸벤조일)-페닐포스핀옥사이드 (시판품 : 「IRGACURE819 (BASF 사 제조, 상품명)」), 비스(η5-2,4-시클로펜타디엔-1-일)-비스(2,6-디플루오로-3-(1H-피롤-1-일)-페닐)티타늄 (시판품 : 「IRGACURE784 (BASF 사 제조, 상품명)」), 1,2-옥탄디온, 1-[4-(페닐티오)-, 2-(O-벤조일옥심)] (시판품 : 「IRGACURE OXE 01 (BASF 사 제조, 상품명)」), 에타논-1-[9-에틸-6-(2-메틸벤조일)-9H-카르바졸-3-일]-1-(O-아세틸옥심) (시판품 : 「IRGACURE OXE 02 (BASF 사 제조, 상품명)」) 등을 들 수 있다.
이들 중합 개시제는, 단독으로 또는 2 종 이상을 조합하여 사용할 수 있다.
중합 개시제의 배합량은, 중합 반응을 효과적으로 촉진시키는 관점에서, (A) ∼ (C) 성분의 합계 100 질량부에 대하여, 바람직하게는 0.01 ∼ 12 질량부, 보다 바람직하게는 0.1 ∼ 8 질량부, 더욱 바람직하게는 0.3 ∼ 5 질량부이다.
(그 밖의 첨가제)
본 발명의 조성물에는, 본 발명의 효과를 저해하지 않는 범위에 있어서, 광 안정제, 자외선 흡수제, 활제, 가소제, 대전 방지제, 무기 충전제, 착색제, 대전 방지제, 이형제, 난연제 등의 첨가제를 배합해도 된다. 또한, 산화티탄이나 산화규소 등의 무기 화합물과의 밀착성 개량을 목적으로 하여, 실란 화합물의 메타크릴옥시기나 아크릴옥시기를 포함하는 실란 커플링제 등의 첨가제를 배합해도 된다.
[본 발명의 제 1 조성물에 있어서의 (A) ∼ (C) 성분의 함유량, 및 당해 조성물의 점도]
본 발명의 제 1 조성물 중의 (A) 성분의 함유량은, 당해 조성물로부터 얻어지는 성형체의 내열성을 향상시키는 관점에서, (A) ∼ (C) 성분의 총량에 대하여, 바람직하게는 5 ∼ 60 질량％, 보다 바람직하게는 10 ∼ 45 질량％, 더욱 바람직하게는 15 ∼ 35 질량％ 이다.
또한, 본 발명에 있어서, (A) ∼ (C) 성분의 총량은, 100 질량％ 를 초과하는 경우는 없다 (이하 동일).
본 발명의 제 1 조성물에 있어서의 (B1) 성분의 함유량으로는, 그 조성물의 점도를 적당히 높이는 관점, 그리고, 고온 고습하에서의 가수 분해에 의한 영향을 억제하는 관점에서, (A) ∼ (C) 성분의 총량에 대하여, 바람직하게는 20 ∼ 80 질량％, 보다 바람직하게는 25 ∼ 77 질량％, 더욱 바람직하게는 30 ∼ 75 질량％ 이다.
당해 함유량이 20 질량％ 이상이면, 얻어지는 조성물의 점도를 적당히 높여, 조성물의 가공성을 향상시킬 수 있다.
한편, 당해 함유량이 80 질량％ 이하이면, 고온 고습하에서 (C) 성분 자체가 가수 분해하여, 그 조성물로 이루어지는 성형체가 변색되는 현상을 억제할 수 있다.
여기서, (B) 성분으로서, (B2) 성분을 함유하고 있지 않은 경우의 (B1) 성분의 함유량은, (A) ∼ (C) 성분의 총량에 대하여, 보다 바람직하게는 40 ∼ 77 질량％, 더욱 바람직하게는 50 ∼ 75 질량％ 이다.
또한, (B) 성분으로서, (B2) 성분을 함유하고 있는 경우의 (B1) 성분의 함유량은, (A) ∼ (C) 성분의 총량에 대하여, 보다 바람직하게는 25 ∼ 70 질량％, 더욱 바람직하게는 30 ∼ 60 질량％, 보다 더욱 바람직하게는 35 ∼ 55 질량％ 이다.
본 발명의 제 1 조성물에 있어서, (B) 성분으로서, (B1) 성분과 (B2) 성분을 병용하는 경우, (B2) 성분의 함유량으로는, 조성물의 점도를 향상시키면서, 당해 조성물로부터 얻어지는 성형체의 굴절률을 높이는 관점에서, (A) ∼ (C) 성분의 총량에 대하여, 바람직하게는 5 ∼ 40 질량％, 보다 바람직하게는 7 ∼ 30 질량％, 더욱 바람직하게는 10 ∼ 25 질량％ 이다.
당해 함유량이 30 질량％ 이상이면, 점도를 향상시켜, 가공성이 우수한 조성물로 할 수 있다. 한편, 당해 함유량이 85 질량％ 이하이면, 조성물의 점도가 지나치게 높아지지 않아, 얻어지는 조성물의 성형성을 양호하게 할 수 있다.
본 발명의 제 1 조성물에 있어서, (B) 성분으로서, (B1) 성분과 (B2) 성분을 병용하는 경우, (B1) 성분의 함유량과 (B2) 성분의 함유량의 질량비 [(B1) 성분/(B2) 성분] 는, 조성물의 점도를 향상시키면서, 당해 조성물로부터 얻어지는 성형체의 굴절률을 높이는 관점에서, 바람직하게는 40/60 ∼ 95/5, 보다 바람직하게는 55/45 ∼ 90/10, 더욱 바람직하게는 60/40 ∼ 85/15, 보다 더욱 바람직하게는 65/35 ∼ 80/20 이다.
본 발명의 제 1 조성물에 있어서의 (C) 성분의 함유량으로는, 그 조성물로부터 얻어지는 성형체의 열에 대한 변형 및 변색을 억제하는 관점에서, (A) ∼ (C) 성분의 총량에 대하여, 바람직하게는 0 ∼ 50 질량％, 보다 바람직하게는 3 ∼ 50 질량％, 더욱 바람직하게는 5 ∼ 40 질량％, 보다 더욱 바람직하게는 7 ∼ 30 질량％ 이다.
본 발명의 제 1 조성물의 25 ℃ 에 있어서의 점도는, 가공성의 관점에서, 바람직하게는 1000 ∼ 50000 m㎩·s, 보다 바람직하게는 1100 ∼ 40000 m㎩·s, 더욱 바람직하게는 1200 ∼ 5000 m㎩·s, 보다 더욱 바람직하게는 1400 ∼ 3500 m㎩·s 이다.
또한, 상기 조성물의 25 ℃ 에 있어서의 점도의 값은, 실시예에 기재된 방법에 기초하여 측정된 값이다.
[본 발명의 제 2 조성물에 있어서의 (A) ∼ (C) 성분의 함유량, 및 당해 조성물의 점도]
본 발명의 제 2 조성물에 있어서의 (A) 성분의 함유량으로는, 그 조성물로부터 얻어지는 성형체의 내열성을 향상시키는 관점에서, (A) ∼ (C) 성분의 총량에 대하여, 바람직하게는 5 ∼ 60 질량％, 보다 바람직하게는 8 ∼ 45 질량％, 더욱 바람직하게는 12 ∼ 30 질량％ 이다.
본 발명의 제 2 조성물에 있어서의 (B2) 성분의 함유량으로는, 조성물의 점도를 향상시키면서, 당해 조성물로부터 얻어지는 성형체의 굴절률을 높이는 관점에서, (A) ∼ (C) 성분의 총량에 대하여, 바람직하게는 30 ∼ 85 질량％, 보다 바람직하게는 40 ∼ 80 질량％, 더욱 바람직하게는 45 ∼ 70 질량％ 이다.
당해 함유량이 30 질량％ 이상이면, 점도를 향상시켜, 가공성이 우수한 조성물로 할 수 있다. 한편, 당해 함유량이 85 질량％ 이하이면, 조성물의 점도가 지나치게 높아지지 않아, 얻어지는 조성물의 성형성을 양호하게 할 수 있다.
본 발명의 제 2 조성물에 있어서의 (C) 성분의 함유량으로는, 그 조성물로부터 얻어지는 성형체의 열에 대한 변형 및 변색을 억제하는 관점에서, (A) ∼ (C) 성분의 총량에 대하여, 바람직하게는 0 ∼ 50 질량％, 보다 바람직하게는 5 ∼ 50 질량％, 더욱 바람직하게는 10 ∼ 45 질량％, 보다 더욱 바람직하게는 18 ∼ 40 질량％ 이다.
본 발명의 제 2 조성물의 25 ℃ 에 있어서의 점도는, 가공성의 관점에서, 바람직하게는 500 ∼ 50000 m㎩·s, 보다 바람직하게는 700 ∼ 40000 m㎩·s, 더욱 바람직하게는 800 ∼ 5000 m㎩·s, 보다 더욱 바람직하게는 1000 ∼ 2000 m㎩·s 이다.
[본 발명의 제 3 조성물에 있어서의 (A) ∼ (C) 성분의 함유량, 및 당해 조성물의 점도]
본 발명의 제 3 조성물에 있어서의 (A) 성분의 함유량은, 그 조성물로부터 얻어지는 성형체의 내열성을 향상시키는 관점에서, (A) ∼ (C) 성분의 총량에 대하여, 바람직하게는 5 ∼ 40 질량％, 보다 바람직하게는 10 ∼ 35 질량％, 더욱 바람직하게는 15 ∼ 30 질량％ 이다.
본 발명의 조성물에 있어서의 (B3) 성분의 함유량은, 그 조성물로부터 얻어지는 성형체의 굴절률을 높이는 관점에서, (A) ∼ (C) 성분의 총량에 대하여, 바람직하게는 10 ∼ 95 질량％, 보다 바람직하게는 15 ∼ 90 질량％, 더욱 바람직하게는 20 ∼ 85 질량％ 이다.
여기서, (B2') 성분 및 (C) 성분을 함유하지 않은 경우의 (B3) 성분의 함유량은, (A) ∼ (C) 성분의 총량에 대하여, 바람직하게는 60 ∼ 95 질량％, 보다 바람직하게는 65 ∼ 90 질량％, 더욱 바람직하게는 70 ∼ 85 질량％ 이다.
또한, (B2') 성분 및 (C) 성분의 적어도 일방을 함유하고 있는 경우의 (B3) 성분의 함유량은, (A) ∼ (C) 성분의 총량에 대하여, 바람직하게는 10 ∼ 80 질량％, 보다 바람직하게는 15 ∼ 75 질량％, 더욱 바람직하게는 20 ∼ 70 질량％ 이다.
본 발명의 제 3 조성물은, 상기 서술한 바와 같이, (B3) 성분과 함께 (B2') 성분을 포함함으로써, 상기 (B3) 성분의 함유량을 억제해도 조성물의 굴절률을 높일 수 있다.
(B2') 성분의 함유량은, (A) ∼ (C) 성분의 총량에 대하여, 바람직하게는 10 ∼ 85 질량％, 보다 바람직하게는 30 ∼ 80 질량％, 더욱 바람직하게는 50 ∼ 70 질량％ 이다.
또한, (B3) 성분의 함유량과 (B2') 성분의 함유량의 질량비 [(B3) 성분/(B2') 성분] 는, 바람직하게는 15/85 ∼ 40/60, 보다 바람직하게는 20/80 ∼ 35/65, 더욱 바람직하게는 25/75 ∼ 30/70 이다.
상기 서술한 바와 같이, 본 발명의 제 3 조성물은 (C) 성분을 포함함으로써, 조성물로부터 성형체를 얻을 때의 크랙의 발생을 억제할 수 있다.
본 발명의 제 3 조성물에 있어서의 (C) 성분의 함유량은, 고굴절률을 달성한다하는 본 발명의 효과를 저해하지 않는 범위에서 적절히 결정되지만, (A) ∼ (C) 성분의 총량에 대하여, 바람직하게는 0 ∼ 50 질량％, 보다 바람직하게는 5 ∼ 45 질량％, 더욱 바람직하게는 10 ∼ 40 질량％ 이다.
또한, (B) 성분의 함유량과 (C) 성분의 함유량의 질량비 [(B) 성분/(C) 성분] 가, 바람직하게는 100/0 ∼ 60/40, 보다 바람직하게는 85/15 ∼ 65/35, 더욱 바람직하게는 90/10 ∼ 70/30 이다.
본 발명의 제 3 조성물의 25 ℃ 에 있어서의 점도는, 성형성의 관점에서, 바람직하게는 300 ∼ 50000 m㎩·s, 보다 바람직하게는 400 ∼ 40000 m㎩·s, 더욱 바람직하게는 450 ∼ 20000 m㎩·s 이다.
[수지, 성형체]
본 발명의 수지는, 상기 서술한 본 발명의 조성물을 중합하여 얻을 수 있다.
조성물의 중합에 있어서는, 중합 반응을 효율성의 관점에서, 조성물 중에 상기 서술한 중합 개시제를 포함하는 것이 바람직하다.
또한, 본 발명의 성형체는, 당해 수지를 성형하여 이루어지는 성형체이다.
중합 및 성형 방법으로는, 통상적인 열경화성 수지의 성형과 동일한 방법을 사용할 수 있고, 예를 들어, 본 발명의 조성물 또는 그 조성물을 미리 중합시킨 예비 중합물을 이용하여, 이들 액상 조성물의 사출 성형, 압축 성형, 트랜스퍼 성형 및 인서트 성형 등으로, 중합 및 성형 공정과 동시에 진행하는 방법 등을 들 수 있다. 또한, 포팅 가공이나 코팅 가공 등으로 성형체를 얻을 수도 있고, UV 경화 성형 등의 광 경화 수지의 성형과 동일한 방법에 의해서도 성형체를 얻을 수 있다.
본 발명의 조성물은, 광학 성능을 유지하면서, 높은 점도를 가지고 있기 때문에, 액상 수지 성형법을 이용하여 성형체를 제조하는 데에 적합하다.
액상 수지 성형법으로는, 상온에서 액상의 원료 조성물 또는 그 예비 중합물을 고온의 금형에 압입하여 가열 경화시키는 액상 수지 사출 성형, 액상의 원료 조성물을 금형에 넣고, 프레스에 의해 가압하고, 경화시키는 압축 성형, 가온한 액상의 원료 조성물에 압력을 가하여 금형에 압입함으로써 원료 조성물을 경화시키는 트랜스퍼 성형 등을 들 수 있다.
상기와 같이 제조되는 본 발명의 성형체의 각 광학 성능 및 물성에 대하여 설명한다.
본 발명의 성형체의 전체 광선 투과율은, 바람직하게는 85 ％ 이상, 보다 바람직하게는 88 ％ 이상, 더욱 바람직하게는 90 ％ 이상이다.
260 ℃ 에서 10 분간 방치한 열 이력 후의 성형체와, 열 이력 전의 성형체의 파장 440 ㎚ 에 있어서의 광선 투과율의 저하량 (당해 광선 투과율의 차의 절대치) 으로는, 바람직하게는 5.0 ％ 이하, 보다 바람직하게는 3.0 ％ 이하, 더욱 바람직하게는 2.5 ％ 이하이다.
또한, 본 발명의 제 1 조성물로부터 얻어진 성형체에 대하여, 260 ℃ 에서 10 분간 방치한 열 이력 후의 성형체와 열 이력 전의 성형체의 파장 440 ㎚ 에 있어서의 광선 투과율의 저하량 (당해 광선 투과율의 차의 절대치) 으로는, 바람직하게는 5.0 ％ 이하, 보다 바람직하게는 4.0 ％ 이하, 더욱 바람직하게는 3.0 ％ 이하이다.
또한, 본 발명의 제 2 조성물로부터 얻어진 성형체에 대하여, 260 ℃ 에서 10 분간 방치한 열 이력 후의 성형체와 열 이력 전의 성형체의 파장 440 ㎚ 에 있어서의 광선 투과율의 저하량 (당해 광선 투과율의 차의 절대치) 으로는, 바람직하게는 5.0 ％ 이하, 보다 바람직하게는 3.0 ％ 이하, 더욱 바람직하게는 1.5 ％ 이하이다.
그리고, 본 발명의 제 3 조성물로부터 얻어진 성형체에 대하여, 260 ℃ 에서 10 분간 방치한 열 이력 후의 성형체와 열 이력 전의 성형체의 파장 440 ㎚ 에 있어서의 광선 투과율의 저하량 (당해 광선 투과율의 차의 절대치) 으로는, 바람직하게는 0.5 ％ 이하, 보다 바람직하게는 0.4 ％ 이하, 더욱 바람직하게는 0.35 ％ 이하이다.
본 발명의 성형체의 d 선 (파장 589.3 ㎚) 에서의 굴절률은, 바람직하게는 1.45 이상, 보다 바람직하게는 1.50 이상, 더욱 바람직하게는 1.53 이상이다.
또한, 본 발명의 제 1 조성물로부터 얻어진 성형체의 d 선 (파장 589.3 ㎚) 에서의 굴절률은, 바람직하게는 1.45 ∼ 1.65, 보다 바람직하게는 1.47 ∼ 1.60, 더욱 바람직하게는 1.50 ∼ 1.56 이다.
또한, 본 발명의 제 2 조성물로부터 얻어진 성형체의 d 선 (파장 589.3 ㎚) 에서의 굴절률은, 바람직하게는 1.45 ∼ 1.65, 보다 바람직하게는 1.50 ∼ 1.63, 더욱 바람직하게는 1.53 ∼ 1.60 이다.
그리고, 본 발명의 제 3 조성물로부터 얻어진 본 발명의 성형체의 d 선 (파장 589.3 ㎚) 에서의 굴절률은, 바람직하게는 1.55 이상, 보다 바람직하게는 1.55 ∼ 1.65, 더욱 바람직하게는 1.55 ∼ 1.60 이다.
본 발명의 성형체의 d 선 (파장 589.3 ㎚) 에서의 아베수는, 바람직하게는 60 이하, 보다 바람직하게는 55 이하, 더욱 바람직하게는 50 이하이다.
또한, 본 발명의 제 1 조성물로부터 얻어진 성형체의 d 선 (파장 589.3 ㎚) 에서의 아베수는, 바람직하게는 30 ∼ 60, 보다 바람직하게는 35 ∼ 52, 더욱 바람직하게는 40 ∼ 48 이다.
또한, 본 발명의 제 2 조성물로부터 얻어진 성형체의 d 선 (파장 589.3 ㎚) 에서의 아베수는, 바람직하게는 30 ∼ 60, 보다 바람직하게는 33 ∼ 52, 더욱 바람직하게는 36 ∼ 45 이다.
그리고, 본 발명의 제 3 조성물로부터 얻어진 성형체의 d 선 (파장 589.3 ㎚) 에서의 아베수는, 바람직하게는 40 이하, 보다 바람직하게는 25 ∼ 40, 더욱 바람직하게는 30 ∼ 40, 더욱 바람직하게는 35 ∼ 40 이다.
본 발명의 성형체의 선팽창 계수는, 바람직하게는 110 ppm 이하, 보다 바람직하게는 90 ppm 이하, 더욱 바람직하게는 80 ppm 이하이다.
본 발명의 성형체의 굽힘 탄성률은, 바람직하게는 2.0 ㎬ 이상, 보다 바람직하게는 2.4 ㎬ 이상, 더욱 바람직하게는 2.8 ㎬ 이상이다.
본 발명의 성형체의 굽힘 강도는, 바람직하게는 50 ㎫ 이상, 보다 바람직하게는 60 ㎫ 이상, 더욱 바람직하게는 70 ㎫ 이상이다.
본 발명의 성형체의 쇼어 D 경도는, 바람직하게는 60 이상, 보다 바람직하게는 70 이상, 더욱 바람직하게는 77 이상이다.
특히 본 발명의 성형체가 광학 부품인 경우, 제조시에 변형되지 않도록 어느 정도의 기계적 강도가 요구된다.
또한, 성형체의 상기 각 물성의 값은, 실시예에 기재된 방법에 의해 측정된 값을 의미한다.
상기와 같이 본 발명의 성형체는, 각종 광학 성능이 우수하기 때문에, 각종 기기에 사용되는 렌즈나 광 통신용 렌즈 등의 광학 부품으로서 바람직하다.
실시예
이하의 본 발명을 실시예에 의해 더욱 구체적으로 설명하지만, 본 발명은 이들 실시예에 전혀 한정되는 것은 아니다.
또한, 이하의 실시예 및 비교예에 의해 얻어진 조성물 및 성형체의 각 물성에 대하여, 이하의 방법에 기초하여 측정하고 평가하였다.
(1) 점도
얻어진 조성물의 25 ℃ 에 있어서의 점도를, JIS K7117-1 에 기초하여, 점도계 (브룩스필드사 제조, 제품명 「LVDV-I＋」) 를 이용하여 측정하였다.
(2) 전체 광선 투과율
시험편으로서, 얻어진 두께 3 ㎜ 의 성형체를 이용하여, JIS K7105 에 기초하여, 헤이즈미터 (스가 시험기 (주) 제조, 제품명 「HGM-2DP」) 에 의해, 전체 광선 투과율을 측정하였다.
(3) 열 이력 후의 파장 440 ㎚ 의 광선 투과율의 저하량
시험편으로서, 얻어진 두께 1 ㎜ 의 성형체를 이용하여, 분광 광도계 (히타치 하이테크 필딩사 제조, 제품명 「U-4100 스펙트로미터」) 에 의해 파장 440 ㎚ 의 광선 투과율을 측정하였다.
이어서, 상기 시험편을 두께 1 ㎜ 의 스테인리스 강판 상에 올리고, 260 ℃ 에서 10 분간 방치하였다 (이하, 이 조작을 「열 이력 1」 이라고도 한다). 열 이력 1 후의 시험편에 대해서도, 상기와 동일하게 하여 파장 440 ㎚ 에 있어서의 광선 투과율을 측정하고, 열 이력 1 전후의 파장 440 ㎚ 의 광선 투과율의 저하량 (당해 광선 투과율의 차의 절대치) (％) 을 구하였다.
(4) 굴절률, 아베수
시험편으로서, 얻어진 두께 3 ㎜ 의 성형체에 대하여, 굴절률계 (메트리콘사 제조, 제품명 「모델 2010 프리즘 커플러」) 를 이용하여, 20 ℃ 에 있어서의, d 선 (파장 589.3 ㎚) 에서의 굴절률, 및 아베수를 측정하였다.
(5) 선팽창 계수
얻어진 성형체에 대하여, ASTM E831 에 기초하여, 선팽창 측정 장치 (세이코 인스트루먼트 제조, 제품명 「TMA/SS6100」) 를 이용하여, 하중 49 mN 의 압축법으로 20 ∼ 90 ℃ 의 온도 범위에 있어서의 선팽창을 측정하여, 선팽창 계수를 산출하였다.
(6) 형상 안정성 평가
세로 25 ㎜ × 가로 25 ㎜ × 두께 2 ㎜ 의 판상의 성형체를 이용하여, 그 판상체 3 장을 두께 3 ㎜ 의 스테인리스 강판 상에 올리고, 260 ℃ 에서 10 분간 방치한 (열 이력 1) 후, 그 판상의 성형체의 가장자리의 변형 정도를 육안으로 확인하여, 하기 기준으로 평가하였다.
A : 가장자리 부분이 열 이력 전과 동일하여, 형상 안정성이 우수하다.
F : 가장자리의 부분이 동일하게 둥그스름하여, 형상 안정성이 열등하다.
(7) 굽힘 탄성률, 굽힘 강도
얻어진 성형체에 대하여, JIS K 6911 에 기초하여, 시험기 (인스트론 재팬 컴퍼니 리미티드사 제조, 제품명 「INSTRON 5567」) 를 이용하여, 굽힘 탄성률 (단위 : ㎬) 및 굽힘 강도 (단위 : ㎫) 를 측정하였다.
(8) 쇼어 D 경도
얻어진 성형체에 대하여, JIS-K 6253 에 기초하여, 시험기 (고분시 계기사 제조, 제품명 「ASKER P1」) 를 이용하여, 쇼어 D 경도를 측정하였다.
[실시예 1a ∼ 8a, 1b ∼ 8b, 1c ∼ 5c, 비교예 1a ∼ 2a, 1b ∼ 2b, 1c ∼ 2c]
표 1 ∼ 표 3 에 나타내는 각 성분을, 표 1 ∼ 표 3 에 기재된 배합량 (고형분비) 으로 첨가하고, 혼합하여, 조성물을 얻었다.
그리고, 이 조성물로부터 성형체를 제작하는 데에 있어서, 2 장의 스테인리스판 (세로 70 ㎜ × 가로 70 ㎜ × 두께 3 ㎜) 사이에, 2 장의 경면 마무리의 알루미늄판 시트 (세로 70 ㎜ × 가로 70 ㎜ × 두께 0.3 ㎜) 를 끼우고, 그 시트 사이에, 테플론 (등록상표) 제 스페이서 (세로 70 ㎜ × 가로 70 ㎜ × 두께 3 ㎜) 를 끼움으로써 얻어지는 용기를 사용하였다. 당해 용기의 테플론 (등록상표) 제의 스페이서부에는, 세로 30 ㎜ × 가로 30 ㎜ × 두께 3 ㎜ 의 창이 형성되어 있으며, 당해 창으로부터 조성물을 용기 내로 흘려 넣을 수 있게 되어 있다.
이 용기의 상기 창으로부터, 조성물을 흘려 넣고, 액이 누출되지 않도록 용기를 누르면서, 질소 분위기하 (산소 농도 5 용량％ 이하) 의 오븐에서 110 ℃ 에서 3 시간, 이어서 160 ℃ 에서 1 시간 가열을 실시하고, 중합 및 성형한 후, 실온으로 냉각시킴으로써, 판상의 성형체를 얻었다.
얻어진 조성물 및 성형체에 대하여, 상기 서술한 방법에 의해, 각종 물성치를 측정하였다. 그 결과를 표 1 ∼ 표 3 에 나타낸다.
또한, 표 1 ∼ 표 3 에 나타내는 실시예 및 비교예의 조성물 중에 포함되는 각 성분은 이하와 같다.
＜(A) 성분＞
· 「AM」 : 하기 식 (a1) 로 나타내는, 1-아다만틸메타크릴레이트 (오사카 유기화학 공업 (주) 제조).
[화학식 23]
Figure pct00023
＜(B) 성분＞
· 「9300-1CL」 : 하기 식 (b1) 로 나타내는, ε-카프로락톤 변성 트리스-(2-아크릴옥시에틸)이소시아누레이트 (신나카무라 화학 공업 (주) 제조).
[화학식 24]
Figure pct00024
· 「BPE-80N」 : 하기 식 (b2) 로 나타내는, 에톡시화비스페놀 A 형 디메타크릴레이트 (신나카무라 화학 공업 (주) 제조).
[화학식 25]
Figure pct00025
· 「에폭시에스테르 3000MK」 : 하기 식 (b3) 으로 나타내는, 비스페놀 A 디글리시딜에테르메타크릴산 부가물 (쿄에이샤 화학 (주) 제조).
[화학식 26]
Figure pct00026
· 「에폭시에스테르 3000A」 : 하기 식 (b4) 로 나타내는, 비스페놀 A 디글리시딜에테르아크릴산 부가물 (쿄에이샤 화학 (주) 제조).
[화학식 27]
Figure pct00027
· 「SR-349」 : 하기 식 (b5) 로 나타내는, 에톡시화비스페놀 A 형 디아크릴레이트 (사토머·재팬 (주) 제조).
[화학식 28]
Figure pct00028
· 「A-BPEF」 : 하기 식 (b6) 으로 나타내는, 9,9-비스[4-(2-아크릴로일옥시에톡시)페닐]플루오렌 (신나카무라 화학 공업 (주) 제조).
[화학식 29]
Figure pct00029
＜(C) 성분＞
· 「SR-399」 : 하기 식 (c1) 로 나타내는, 디펜타에리트리톨펜타아크릴레이트 (사토머·재팬 (주) 제조, 수평균 분자량 525).
[화학식 30]
Figure pct00030
· 「SR-499」 : 하기 식 (c2) 로 나타내는, 에톡시화 (6) 트리메틸올프로판트리아크릴레이트 (사토머·재팬 (주) 제조, 수평균 분자량 560).
[화학식 31]
Figure pct00031
· 「SR-295」 : 하기 식 (c3) 으로 나타내는, 펜타에리트리톨테트라아크릴레이트 (사토머·재팬 (주) 제조, 수평균 분자량 352).
[화학식 32]
Figure pct00032
＜(D) 성분＞
· 「CN929」 : 3 관능 우레탄아크릴레이트 (사토머·재팬 (주) 제조).
＜그 밖의 성분＞
· 「A-DCP」 : 하기 식 (e) 로 나타내는, 트리시클로데칸디메탄올디아크릴레이트 (신나카무라 화학 공업 (주) 제조).
[화학식 33]
Figure pct00033
· 「열중합 개시제」 : 하기 식 (f1) 로 나타내는, 1,1-디(t-헥실퍼옥시)시클로헥산 (니치유 주식회사 제조).
[화학식 34]
Figure pct00034
· 「산화 방지제 (TP-D)」 : 하기 식 (f2) 로 나타내는, 티오에테르계 산화 방지제 (스미토모 화학사 제조, 펜타에리트리틸테트라키스(3-라우릴티오프로피오네이트), 수평균 분자량 : 1162).
(H25C12SCH2CH2COOCH2)4C (f2)
· 「산화 방지제 (아데카스타브 A-80)」 : 하기 식 (f3) 으로 나타내는, 힌더드페놀계 산화 방지제 (주식회사 ADEKA 사 제조, 수평균 분자량 : 741).
[화학식 35]
Figure pct00035
Figure pct00036
표 1 로부터, 실시예 1a ∼ 8a 의 조성물은, 모두 25 ℃ 에 있어서의 점도가 1000 m㎩·s 이상으로 높아, 가공성이 우수하다. 또한, 실시예 1a ∼ 8a 의 조성물로부터 얻어진 성형체의 각종 광학 성능은, 어느 것에 대해서도 양호한 결과가 얻어졌다.
한편, 비교예 1a 및 2a 의 조성물은, 모두 25 ℃ 에 있어서의 점도가 낮아, 가공성에 문제가 있는 결과가 되었다.
Figure pct00037
표 2 로부터, 실시예 1b ∼ 8b 의 조성물은, 모두 25 ℃ 에 있어서의 점도가 500 m㎩·s 이상으로 높아, 가공성이 우수하다. 또한, 실시예 1b ∼ 8b 의 조성물로부터 얻어진 성형체의 각종 광학 성능은, 어느 것에 대해서도 양호한 결과가 얻어졌다.
한편, 비교예 1b 및 2b 의 조성물은, 모두 25 ℃ 에 있어서의 점도가 낮아, 가공성에 문제가 있는 결과가 되었다.
Figure pct00038
표 3 으로부터, 실시예 1c ∼ 5c 의 조성물로부터 얻어진 성형체는, 모두 20 ℃ 에 있어서의 d 선 (파장 589.3 ㎚) 에서의 굴절률이 1.55 이상으로 높다. 게다가, 440 ㎚ 에 있어서의 광선 투과율이 높아 투명성이 우수하다는 것을 알 수 있다. 또한, 260 ℃ 의 열 이력 후에 있어서도 투명성이 저하되지 않고, 땜납 리플로우 공정에 견딜 수 있는 매우 높은 내열성을 가짐과 함께 형상 안정성도 우수한 것도 알 수 있다.
산업상 이용가능성
본 발명의 (메트)아크릴레이트계 조성물은, 고점도이기 때문에 우수한 가공성을 갖고, 우수한 투명성 등의 광학 성능이나 열 이력에 의한 형상 안정성을 유지하면서, 내열성도 우수하고, 또한 굴절률이 높은 성형체가 될 수 있다. 그 때문에, 본 발명의 (메트)아크릴레이트계 조성물은, 각종 기기에 사용되는 렌즈나 광 통신용 렌즈 등의 광학 부품의 형성 재료로서 바람직하다.

Claims (23)

  1. 하기 일반식 (A-1) 로 나타내는 아다만틸기를 갖는 (메트)아크릴레이트 화합물 (A), 및 1 분자 중에 하기 일반식 (b-I) ∼ (b-VII) 로 나타내는 구조의 1 개 이상을 갖는 (메트)아크릴레이트 화합물 (B) 를 포함하는 (메트)아크릴레이트계 조성물.
    [화학식 1]
    Figure pct00039

    (상기 식 (A-1) 중, R1 은 각각 독립적으로, 수소 원자 또는 메틸기를 나타내고, X 는 각각 독립적으로, 단결합, 탄소수 1 ∼ 4 의 알킬렌기, 또는 탄소수 1 ∼ 4 의 옥시알킬렌기를 나타내고, U 는 탄소수 1 ∼ 4 의 알킬기, 할로겐기, 수산기, 또는 2 개의 U 가 하나가 되어 형성된 =O 를 나타낸다. k 는 0 ∼ 15 의 정수, m 은 1 ∼ 4 의 정수를 나타낸다.)
    [화학식 2]
    Figure pct00040

    (상기 식 (b-I) ∼ (b-VII) 중, Ya 는 2 가의 유기기를 나타내고, R6 은 각각 독립적으로, 할로겐 원자, 탄소수 1 ∼ 6 의 알킬기, 또는 탄소수 1 ∼ 6 의 알콕시기이고, R7 은 각각 독립적으로, 2 가의 유기기이다. 또한, p 는 0 ∼ 4 의 정수, q 는 0 ∼ 3 의 정수를 나타낸다. * 는 결합 부분을 나타낸다.)
  2. 제 1 항에 있어서,
    추가로 하기 일반식 (C-1) 로 나타내는 (메트)아크릴레이트 화합물 (C) 를 포함하는 (메트)아크릴레이트계 조성물.
    [화학식 3]
    Figure pct00041

    (상기 식 (C-1) 중, R2 는 각각 독립적으로, 수소 원자 또는 메틸기를 나타내고, Y1 은 치환 또는 무치환의 탄소수 5 ∼ 30 의 비고리형 탄화수소기 및 -R'(OR')L- 로 나타내는 기 (단, R' 는 각각 독립적으로, 치환 또는 무치환의 탄소수 1 ∼ 4 의 알킬렌기를 나타내고, L 은 1 ∼ 20 의 정수이다) 에서 선택되는 1 종 이상의 비고리형의 유기기를 나타낸다. n 은 1 ∼ 8 의 정수를 나타낸다.)
  3. 제 1 항 또는 제 2 항에 있어서,
    (B) 성분이 상기 일반식 (b-I) 로 나타내는 이소시아누레이트 구조를 갖는 (메트)아크릴레이트 화합물 (B1), 및 하기 일반식 (B-2) 로 나타내는 (메트)아크릴레이트 화합물 (B2) 에서 선택되는 1 종 이상을 포함하는 (메트)아크릴레이트계 조성물.
    [화학식 4]
    Figure pct00042

    (상기 식 (B-2) 중, G 는 각각 독립적으로, 단결합, 탄소수 1 ∼ 4 의 알킬렌기, 또는 탄소수 1 ∼ 4 의 옥시알킬렌기를 나타내고, R4 는 각각 독립적으로, 수소 원자 또는 메틸기를 나타내고, R5 는 각각 독립적으로, 탄소수 1 ∼ 4 의 알킬렌기, 또는 하이드록시기로 치환된 탄소수 1 ∼ 4 의 알킬렌기를 나타낸다. a 는 2 ∼ 8 의 정수를 나타내고, b 는 각각 독립적으로, 1 ∼ 4 의 양수이다. 또한, Z 는 하기 일반식 (b-II-1) ∼ (b-II-6) 및 상기 일반식 (b-III) ∼ (b-VII) 로 나타내는 유기기의 어느 하나를 나타낸다.)
    [화학식 5]
    Figure pct00043

    (상기 일반식 (b-II-1) ∼ (b-II-6) 중, R6 은 각각 독립적으로, 할로겐 원자, 탄소수 1 ∼ 6 의 알킬기, 또는 탄소수 1 ∼ 6 의 알콕시기이고, R7 은 각각 독립적으로, 2 가의 유기기이다. 또한, p 는 0 ∼ 4 의 정수, q 는 0 ∼ 3 의 정수를 나타낸다. * 는 결합 부분을 나타낸다.)
  4. 제 3 항에 있어서,
    (B1) 성분이 하기 일반식 (B-1) 로 나타내는 이소시아누레이트 구조를 갖는 (메트)아크릴레이트 화합물인 (메트)아크릴레이트계 조성물.
    [화학식 6]
    Figure pct00044

    (상기 식 (B-1) 중, R3 은 각각 독립적으로, 수소 원자 또는 메틸기를 나타내고, D1 ∼ D3 은 각각 독립적으로, 2 가의 유기기를 나타낸다.)
  5. 제 1 항 내지 제 4 항 중 어느 한 항에 있어서,
    추가로 (D) 성분으로서, (B) 성분에 해당하는 화합물 이외의, 에폭시 화합물과 (메트)아크릴산의 반응 화합물 (D1) 및 우레탄(메트)아크릴레이트 화합물 (D2) 에서 선택되는 1 종 이상을 포함하는 (메트)아크릴레이트계 조성물.
  6. 제 5 항에 있어서,
    (D) 성분의 함유량이 (A) ∼ (C) 성분의 합계 100 질량부에 대하여, 2 ∼ 50 질량부인 (메트)아크릴레이트계 조성물.
  7. 제 3 항 내지 제 6 항 중 어느 한 항에 있어서,
    (B) 성분으로서 (B1) 성분을 포함하고, 또한, (B1) 성분의 함유량이 (A) ∼ (C) 성분의 총량에 대하여, 20 ∼ 80 질량％ 인 (메트)아크릴레이트계 조성물.
  8. 제 3 항 내지 제 7 항 중 어느 한 항에 있어서,
    (B) 성분으로서 (B1) 성분 및 (B2) 성분을 포함하고, 또한, (B2) 성분의 함유량이 (A) ∼ (C) 성분의 총량에 대하여, 5 ∼ 40 질량％ 인 (메트)아크릴레이트계 조성물.
  9. 제 3 항 내지 제 7 항 중 어느 한 항에 있어서,
    (B) 성분으로서 (B1) 성분을 포함하고, 또한 상기 (메트)아크릴레이트계 조성물의 25 ℃ 에 있어서의 점도가 1000 ∼ 50000 m㎩·s 인 (메트)아크릴레이트계 조성물.
  10. 제 3 항 내지 제 6 항 중 어느 한 항에 있어서,
    (B) 성분으로서 (B2) 성분을 포함하고, (B2) 성분의 함유량이 (A) ∼ (C) 성분의 총량에 대하여, 30 ∼ 85 질량％ 인 (메트)아크릴레이트계 조성물.
  11. 제 3 항 내지 제 6 항 및 제 10 항 중 어느 한 항에 있어서,
    (B) 성분으로서 (B2) 성분을 포함하고, 또한 상기 (메트)아크릴레이트계 조성물의 25 ℃ 에 있어서의 점도가 500 ∼ 50000 m㎩·s 인 (메트)아크릴레이트계 조성물.
  12. 제 1 항 또는 제 2 항에 있어서,
    (B) 성분이 하기 일반식 (B-3a) 또는 (B-3b) 로 나타내는 페닐기를 갖는 (메트)아크릴레이트 화합물 (B3) 을 포함하는 (메트)아크릴레이트계 조성물.
    [화학식 7]
    Figure pct00045

    (상기 식 (B-3a) 및 (B-3b) 중, X1 은 각각 독립적으로, 단결합, 탄소수 1 ∼ 4 의 알킬렌기, 또는 탄소수 1 ∼ 4 의 옥시알킬렌기를 나타내고, Ya 는 2 가의 유기기를 나타내고, R22, R23 은 각각 독립적으로, 탄소수 1 ∼ 4 의 알킬렌기, 또는 하이드록시기로 치환된 탄소수 1 ∼ 4 의 알킬렌기를 나타내고, R4a, R4b 는 각각 독립적으로 수소 원자 또는 메틸기를 나타내고, R6 ∼ R13 은 각각 독립적으로 수소 원자, 할로겐 원자, 탄소수 1 ∼ 5 의 직사슬 또는 분기 사슬의 알킬기를 나타낸다. a 및 b 는 알킬렌옥사이드의 부가 몰수를 나타내고, 각각 양수로서, a ＋ b 의 평균치는 2 ∼ 4 이다. c 는 1 ∼ 5 의 정수를 나타내고, d 는 1 ∼ 5 의 정수를 나타내고, e 는 1 ∼ 5 의 정수를 나타낸다.)
  13. 제 12 항에 있어서,
    상기 일반식 (B-3a) 또는 (B-3b) 중의 유기기 Ya 가, -C(CH3)2-, -C(CF3)2-, -SO2-, -CH2-, -O-, -CO- 의 어느 하나인 (메트)아크릴레이트계 조성물.
  14. 제 12 항 또는 제 13 항에 있어서,
    (B) 성분으로서, 추가로 하기 일반식 (B-2a) 로 나타내는 (메트)아크릴레이트 화합물 (B2') 를 포함하는 (메트)아크릴레이트계 조성물.
    [화학식 8]
    Figure pct00046

    (상기 식 (B-2a) 중, Z 는 상기 일반식 (b-III) 으로 나타내는 2 가의 유기기를 나타내고, R14, R15 는 각각 독립적으로 탄소수 1 ∼ 4 의 알킬렌기를 나타내고, R16, R17 은 각각 독립적으로 수소 원자 또는 메틸기를 나타낸다. f 및 g 는 알킬렌옥사이드의 부가 몰수를 나타내고, 각각 양수로서, f ＋ g 의 평균치는 2 ∼ 4 이다.)
  15. 제 14 항에 있어서,
    (B3) 성분의 함유량과 (B2') 성분의 함유량의 질량비 [(B3) 성분/(B2') 성분] 이 15/85 ∼ 40/60 인 (메트)아크릴레이트계 조성물.
  16. 제 12 항 내지 제 15 항 중 어느 한 항에 있어서,
    (A) 성분의 함유량이 (A) ∼ (C) 성분의 총량에 대하여, 5 ∼ 40 질량％ 인 (메트)아크릴레이트계 조성물.
  17. 제 12 항 내지 제 16 항 중 어느 한 항에 있어서,
    25 ℃ 에 있어서의 점도가 300 ∼ 50000 m㎩·s 인 (메트)아크릴레이트계 조성물.
  18. 제 1 항 내지 제 17 항 중 어느 한 항에 기재된 (메트)아크릴레이트계 조성물을 중합하여 얻어지는 수지.
  19. 제 18 항에 기재된 수지를 성형하여 이루어지는 성형체.
  20. 제 19 항에 있어서,
    상기 성형체의 전체 광선 투과율이 85 ％ 이상인 성형체.
  21. 제 19 항 또는 제 20 항에 있어서,
    상기 성형체의 d 선에서의 굴절률이 1.45 이상인 성형체.
  22. 제 19 항 내지 제 21 항 중 어느 한 항에 있어서,
    상기 성형체의 d 선에서의 아베수가 60 이하인 성형체.
  23. 제 19 항 내지 제 22 항 중 어느 한 항에 있어서,
    상기 성형체가 광학 부품인 성형체.
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