KR20140119912A - Thin film transistor liquid crystal display device - Google Patents

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Abstract

Disclosed is a thin film transistor liquid crystal display device, comprising: a lower substrate which is divided into an active area having multiple pixel areas and a bezel area; a thin film transistor and color filter layers which are formed on the pixel areas and a color filter pattern arranged along the pixel area circumference; a blocking layer formed on the color filter pattern; and a bezel blocking layer formed on the bezel area, wherein the blocking layer and the bezel blocking layer are formed by stacking at least one or more of red(R), green(G), and blue(B) color filter layers. In the thin film transistor liquid crystal display device of the present invention, the color filter layers are formed on an array substrate having the thin film transistor formed thereon, and a black matrix is removed, thereby simplifying processes and improving a pixel opening rate.

Description

박막 트랜지스터 액정표시장치{THIN FILM TRANSISTOR LIQUID CRYSTAL DISPLAY DEVICE}TECHNICAL FIELD [0001] The present invention relates to a thin film transistor liquid crystal display device,

본 발명은 박막 트랜지스터 액정표시장치에 관한 것이다.
The present invention relates to a thin film transistor liquid crystal display device.

통상적으로 액정표시장치(Liquid Crystal Display)는 전계를 이용하여 유전 이방성을 갖는 액정의 광투과율을 조절함으로써 화상을 표시한다. 액정표시장치는 주로 컬러필터 어레이가 형성되는 컬러필터 기판과 박막 트랜지스터(TFT: Thin Film Transistor) 어레이가 형성되는 박막 트랜지스터 어레이 기판이 액정을 사이에 두고 합착되어 형성된다.[0002] A liquid crystal display typically displays an image by adjusting the light transmittance of a liquid crystal having dielectric anisotropy using an electric field. The liquid crystal display device is formed by a color filter substrate on which a color filter array is formed and a thin film transistor array substrate on which a thin film transistor (TFT) array is formed.

최근에는 액정표시장치의 협소한 시야각 문제를 해결하기 위해 여러가지 새로운 방식을 채용한 액정표시장치가 개발되고 있다. 광시야각 특성을 갖는 액정표시장치는 횡전계 방식(IPS:in-plane switching mode), OCB 방식(optically compensated birefrigence mode) 및 FFS(Fringe Field Swithching) 방식 등이 있다.In recent years, liquid crystal display devices employing various new methods have been developed to solve the narrow viewing angle problem of the liquid crystal display device. A liquid crystal display device having a wide viewing angle characteristic includes an in-plane switching mode (IPS), an optically compensated birefringence mode (OCB), and a fringe field swithching (FFS) mode.

이중 상기 횡전계 방식 액정표시장치는 화소 전극과 공통 전극을 동일한 기판 상에 배치하여 전극들 간에 수평 전계가 발생하도록 한다. 이로 인하여 액정 분자들의 장축이 기판에 대해서 수평 방향으로 배열되어 종래 TN(Twisted Nematic) 방식 액정표시장치에 비해 광시야각 특성이 있다.In the transverse electric field type liquid crystal display device, a pixel electrode and a common electrode are disposed on the same substrate so that a horizontal electric field is generated between the electrodes. As a result, the long axes of the liquid crystal molecules are aligned in the horizontal direction with respect to the substrate, and thus the liquid crystal display device has a wide viewing angle characteristic as compared with a conventional TN (Twisted Nematic) type liquid crystal display device.

또한, 박막 트랜지스터 어레이 기판 상에 컬러필터 어레이가 형성된 COT (Color filter On TFT) 구조의 어레이 기판이 개발되었는데, 이는 상부 및 하부 기판을 합착하는 공정에서 고려되는 합착 마진을 줄여 개구율 등의 향상을 목적으로 하는 것이다.In addition, an array substrate of a color filter on TFT (COT) structure in which a color filter array is formed on a thin film transistor array substrate has been developed. This is because the adhesion margin considered in the process of attaching the upper and lower substrates is reduced, .

상기 COT 구조의 어레이 기판은 박막 트랜지스터 어레이가 형성된 기판 상에 컬러필터와 블랙 매트릭스(Black Matrix)를 중첩 형성하여 제조한다. 즉, 종래 컬러필터 어레이 기판 상에 형성하던 블랙 매트릭스는 박막 트랜지스터 어레이 기판의 박막 트랜지스터(TFT), 게이트 라인 및 데이터 라인과 대응되는 영역에 형성되고, 화소 전극과 공통 전극이 형성된 화소 영역에는 적색(R), 녹색(G) 및 청색(B) 컬러필터들을 형성하여 제조한다.The array substrate of the COT structure is manufactured by forming a color filter and a black matrix on a substrate on which a thin film transistor array is formed. That is, a black matrix formed on a conventional color filter array substrate is formed in a region corresponding to a thin film transistor (TFT), a gate line, and a data line of a thin film transistor array substrate, and a red R), green (G), and blue (B) color filters.

도 1은 종래 기술에 따른 액정표시장치의 액정표시패널의 구조를 도시한 도면이고, 도 2는 도 1의 액정표시패널의 화소 영역과 베젤 영역의 단면도이다.FIG. 1 is a view showing a structure of a liquid crystal display panel of a conventional liquid crystal display device, and FIG. 2 is a sectional view of a pixel region and a bezel region of the liquid crystal display panel of FIG.

도 1 및 도 2를 참조하면, 액정표시패널(10)은 화상을 표시하는 액티브 영역(A/A: Active Area)과 상기 액티브 영역의 둘레를 따라 빛 샘을 차단하기 위해 형성된 베젤(Bezel Area) 영역을 포함한다. 상기 베젤 영역과 대응되는 액정표시패널(10)의 가장자리 둘레에는 블랙매트릭스(Black Matrix)가 형성된다. 상기 액티브 영역에는 복수개의 화소 영역들이 구획된다.1 and 2, the liquid crystal display panel 10 includes an active area (A / A) for displaying an image and a bezel area formed for blocking light leakage along the periphery of the active area. Region. A black matrix is formed around the edge of the liquid crystal display panel 10 corresponding to the bezel area. A plurality of pixel regions are partitioned in the active region.

상기 액정표시패널(10)은 하부기판(20) 상에 형성된 게이트 전극(21), 게이트 절연막(22), 채널층(24) 및 소스/드레인 전극(25a, 25b)으로 구성된 박막 트랜지스터와 화소 영역에 형성된 화소 전극(27)을 포함하는 어레이 기판과 상부기판(30) 상에 제1 블랙 매트릭스(31), 제2 블랙 매트릭스(32), 적색(R), 녹색(G), 청색(B) 컬러필터들 및 공통전극(37)을 포함하는 컬러필터 기판이 액정층(40)을 사이에 두고 합착된 구조로 형성된다. 도면에 도시하였지만, 설명하지 않은 29는 보호막, 28은 하부배향막, 38은 상부배향막이다.The liquid crystal display panel 10 includes a thin film transistor formed of a gate electrode 21, a gate insulating film 22, a channel layer 24 and source / drain electrodes 25a and 25b formed on a lower substrate 20, A second black matrix 32, red (R), green (G), blue (B), and blue (B) are formed on the upper substrate 30 and the array substrate including the pixel electrodes 27 formed on the substrate 30, A color filter substrate including color filters and a common electrode 37 is formed in a structure in which the liquid crystal layer 40 is sandwiched therebetween. Although not shown in the drawings, 29 denotes a protective film, 28 denotes a lower alignment film, and 38 denotes an upper alignment film.

또한, 상기 액정표시패널(10)의 가장자리 둘레에는 베젤 영역과 대응되는 제2 블랙 매트릭스(32)가 형성되고, 상기 어레이 기판과 컬러필터 기판은 실라인(50)을 통해 서로 합착된다.A second black matrix 32 corresponding to a bezel region is formed around the edges of the liquid crystal display panel 10, and the array substrate and the color filter substrate are bonded together via a seal line 50.

이와 같이, 종래 액정표시장치는 컬러필터 기판 상에 블랙 매트릭스를 형성하고, 이를 어레이 기판의 비표시 영역(게이트 라인, 데이터 라인 등)과 얼라인하여 합착되기 때문에 화소 영역의 개구율을 향상시키는데 한계가 있다.As described above, the conventional liquid crystal display device has a limitation in improving the aperture ratio of the pixel region because the black matrix is formed on the color filter substrate and is attached by being aligned with the non-display region (gate line, data line, etc.) of the array substrate .

또한, 박막 트랜지스터 어레이 기판에는 박막 트랜지스터와 화소 전극을 형성하는 공정을 진행하고, 컬러필터 기판에는 컬러필터층들과 블랙 매트릭스를 형성하는 공정이 각각 독립적으로 이루어지기 때문에 공정이 복잡한 단점이 있다.
In addition, since the process of forming the thin film transistor and the pixel electrode on the thin film transistor array substrate and the process of forming the color filter layers and the black matrix on the color filter substrate are independently performed, the process is complicated.

본 발명은, 컬러필터층을 박막 트랜지스터가 형성된 어레이 기판에 형성하고, 블랙 매트릭스를 제거함으로써, 공정을 단순화하고 화소 개구율을 향상시킨 박막 트랜지스터 액정표시장치를 제공하는데 그 목적이 있다.An object of the present invention is to provide a thin film transistor liquid crystal display device in which a color filter layer is formed on an array substrate on which thin film transistors are formed and the black matrix is removed to simplify the process and improve the pixel aperture ratio.

또한, 본 발명은, 컬러필터층들로 형성된 차단층과 베젤 차단층의 단차를 이용하여 동일한 두께의 컬럼 스페이서들을 형성한 박막 트랜지스터 액정표시장치를 제공하는데 다른 목적이 있다.It is another object of the present invention to provide a thin film transistor liquid crystal display in which column spacers of the same thickness are formed by using a step between a blocking layer formed of color filter layers and a bezel blocking layer.

또한, 본 발명은 차단층과 베젤 차단층의 단차를 이용하여 광학 밀도(Optical Density)가 높은 컬럼 스페이서를 베젤 영역에 형성하여, 액정표시패널의 가장자리 영역에서 발생되는 빛 샘 불량을 개선한 박막 트랜지스터 액정표시장치를 제공하는데 또 다른 목적이 있다.
In addition, the present invention provides a thin film transistor (TFT) in which a column spacer having a high optical density is formed in a bezel region by using a step between a blocking layer and a bezel blocking layer, Another object of the present invention is to provide a liquid crystal display device.

상기와 같은 종래 기술의 과제를 해결하기 위한 본 발명의 박막 트랜지스터 액정표시장치는, 복수개의 화소 영역들이 구획된 액티브 영역과 베젤 영역으로 구획된 하부기판; 상기 화소 영역에 형성된 박막 트랜지스터와 컬러필터층 및 상기 화소 영역 둘레를 따라 배치된 컬러필터패턴; 상기 컬러필터패턴 상에 형성된 차단층; 및 상기 베젤 영역에 형성된 베젤 차단층을 포함하고, 상기 차단층과 베젤 차단층은 적색(R), 녹색(G) 및 청색(B) 컬러필터층들을 적어도 하나 이상 적층하여 형성한 것을 특징으로 한다.According to an aspect of the present invention, there is provided a thin film transistor liquid crystal display comprising: a lower substrate divided into an active region and a bezel region in which a plurality of pixel regions are partitioned; A thin film transistor formed in the pixel region, a color filter layer, and a color filter pattern disposed along the pixel region; A blocking layer formed on the color filter pattern; And a bezel blocking layer formed in the bezel region, wherein the blocking layer and the bezel blocking layer are formed by laminating at least one of red (R), green (G), and blue (B) color filter layers.

또한, 본 발명의 박막 트랜지스터 액정표시장치는, 복수개의 화소 영역들이 구획된 액티브 영역과 베젤 영역으로 구획된 하부기판; 상기 화소 영역에 형성된 박막 트랜지스터와 컬러필터층 및 상기 화소 영역 둘레를 따라 배치된 컬러필터패턴; 상기 컬러필터패턴 상에 형성된 차단층; 상기 베젤 영역에 형성된 베젤 차단층; 상기 차단층 상에 형성된 셀갭 컬럼 스페이서; 및 상기 베젤 차단층 상에 형성된 베젤 컬럼 스페이서를 포함하고, 상기 차단층과 베젤 차단층은 적색(R), 녹색(G) 및 청색(B) 컬러필터층들을 적어도 하나 이상 적층하여 형성한 것을 특징으로 한다.
According to another aspect of the present invention, there is provided a thin film transistor liquid crystal display comprising: a lower substrate partitioned into an active region and a bezel region in which a plurality of pixel regions are partitioned; A thin film transistor formed in the pixel region, a color filter layer, and a color filter pattern disposed along the pixel region; A blocking layer formed on the color filter pattern; A bezel blocking layer formed in the bezel region; A cell gap column spacer formed on the blocking layer; And a bezel column spacer formed on the bezel blocking layer, wherein the blocking layer and the bezel blocking layer are formed by laminating at least one color filter layer of red (R), green (G), and blue (B) do.

본 발명의 박막 트랜지스터 액정표시장치는, 컬러필터층을 박막 트랜지스터가 형성된 어레이 기판에 형성하고, 블랙 매트릭스를 제거함으로써, 공정을 단순화하고 화소 개구율을 향상시킨 효과가 있다.The thin film transistor liquid crystal display device of the present invention has the effect of simplifying the process and improving the pixel aperture ratio by forming the color filter layer on the array substrate on which the thin film transistor is formed and removing the black matrix.

또한, 본 발명의 박막 트랜지스터 액정표시장치는, 컬러필터층들로 형성된 차단층과 베젤 차단층의 단차를 이용하여 동일한 두께의 컬럼 스페이서들을 형성한 효과가 있다.In addition, the thin film transistor liquid crystal display of the present invention has the effect of forming column spacers of the same thickness using the step difference between the blocking layer formed of color filter layers and the bezel blocking layer.

또한, 본 발명의 박막 트랜지스터 액정표시장치는, 차단층과 베젤 차단층의 단차를 이용하여 광학 밀도(Optical Density)가 높은 컬럼 스페이서를 베젤 영역에 형성하여, 액정표시패널의 가장자리 영역에서 발생되는 빛 샘 불량을 개선한 효과가 있다.
In the thin film transistor liquid crystal display of the present invention, a column spacer having a high optical density is formed in a bezel region by using a step between a blocking layer and a bezel blocking layer, and a light generated in an edge region of the liquid crystal display panel There is an effect of improving the defect of sam.

도 1은 종래 기술에 따른 액정표시장치의 액정표시패널의 구조를 도시한 도면이다.
도 2는 도 1의 액정표시패널의 화소 영역과 베젤 영역의 단면도이다.
도 3은 본 발명에 따른 액정표시장치의 화소 영역과 베젤 영역의 단면도이다.
도 4는 본 발명에 따른 액정표시장치의 베젤 영역에 형성되는 베젤 컬럼 스페이서의 구조들을 도시한 도면이다.
도 5는 본 발명에 따른 액정표시장치의 합착 구조를 도시한 도면이다.
도 6은 본 발명의 다른 실시예에 따른 액정표시장치를 도시한 도면이다.1 is a view showing the structure of a liquid crystal display panel of a liquid crystal display device according to the related art.
2 is a cross-sectional view of a pixel region and a bezel region of the liquid crystal display panel of FIG.
3 is a cross-sectional view of a pixel region and a bezel region of a liquid crystal display device according to the present invention.
4 is a view illustrating structures of a bezel column spacer formed in a bezel region of a liquid crystal display device according to the present invention.
FIG. 5 is a view showing a bonding structure of a liquid crystal display device according to the present invention.
6 is a view illustrating a liquid crystal display device according to another embodiment of the present invention.

이하, 본 발명의 실시예들은 도면을 참고하여 상세하게 설명한다. 다음에 소개되는 실시예들은 당업자에게 본 발명의 사상이 충분히 전달될 수 있도록 하기 위해 예로서 제공되어지는 것이다. 따라서, 본 발명은 이하 설명되어지는 실시예들에 한정되지 않고 다른 형태로 구체화될 수도 있다. 그리고 도면들에 있어서, 장치의 크기 및 두께 등은 편의를 위하여 과장되어 표현될 수도 있다. 명세서 전체에 걸쳐서 동일한 참조번호들은 동일한 구성요소들을 나타낸다.
Hereinafter, embodiments of the present invention will be described in detail with reference to the drawings. The following embodiments are provided by way of example so that those skilled in the art can fully understand the spirit of the present invention. Therefore, the present invention is not limited to the embodiments described below, but may be embodied in other forms. In the drawings, the size and thickness of the device may be exaggerated for convenience. Like reference numerals designate like elements throughout the specification.

도 3은 본 발명에 따른 액정표시장치의 화소 영역과 베젤 영역의 단면도이다.3 is a cross-sectional view of a pixel region and a bezel region of a liquid crystal display device according to the present invention.

도 3을 참조하면, 본 발명의 박막 트랜지스터 액정표시장치는 복수개의 화소 영역들이 형성된 액티브 영역과 베젤 영역을 포함한다.Referring to FIG. 3, the thin film transistor liquid crystal display of the present invention includes an active region and a bezel region in which a plurality of pixel regions are formed.

또한, 상기 박막 트랜지스터 액정표시장치는 하부기판(120) 상에 박막 트랜지스터와 적색(R), 녹색(G) 및 청색(B) 컬러필터층들이 형성된 박막 트랜지스터 어레이 기판과 컬럼 스페이서들이 형성된 상부기판(130)이 액정층(미도시)을 사이에 두고 합착되어 있다.The thin film transistor liquid crystal display device includes a thin film transistor array substrate on which a thin film transistor and red (R), green (G), and blue (B) color filter layers are formed on a lower substrate 120, ) Are bonded together with a liquid crystal layer (not shown) therebetween.

도면에는 도시하지 않았지만, 상기 화소 영역은 게이트 라인 데이터 라인이 교차 배열되어 정의되고, 상기 게이트 라인과 데이터 라인의 교차 영역에는 스위칭 소자인 박막 트랜지스터(TFT)가 배치된다. 상기 게이트 라인과 데이터 라인 및 박막 트랜지스터가 형성되는 영역을 화소 영역의 비표시 영역이라 한다.Though not shown in the drawing, the pixel region is defined by intersecting gate line data lines, and a thin film transistor (TFT) as a switching element is disposed in an intersecting region of the gate line and the data line. The region where the gate line, the data line, and the thin film transistor are formed is referred to as a non-display region of the pixel region.

또한, 상기 화소 영역에는 화소 전극과 공통 전극 및 컬러필터층들이 배치될 수 있다.In addition, pixel electrodes, common electrodes, and color filter layers may be disposed in the pixel region.

본 발명의 박막 트랜지스터 어레이 기판은, 투명한 절연물질로된 하부기판(120)에 게이트 전극(121), 게이트 절연막(122), 소스/드레인 전극(125a, 125b)으로 구성된 박막 트랜지스터가 형성되고, 화소 영역에는 하부기판(120) 상에 게이트 절연막(122), 제1 보호막(129), 상기 제1 보호막(129) 상에 형성된 화소 전극들, 적색(R) 컬러필터층(135)이 형성된다.A thin film transistor array substrate according to the present invention is a thin film transistor array substrate in which a thin film transistor composed of a gate electrode 121, a gate insulating film 122 and source / drain electrodes 125a and 125b is formed on a lower substrate 120 made of a transparent insulating material, A gate insulating layer 122, a first passivation layer 129, pixel electrodes formed on the first passivation layer 129, and a red color filter layer 135 are formed on the lower substrate 120.

또한, 상기 박막 트랜지스터의 상부에는(비표시 영역) 컬러필터패턴(135a)이 형성된다. 상기 컬러필터패턴(135a)은 적색(R) 컬러필터층(135: 도면에는 도시하지 않았지만, 녹색(G:) 및 청색(B: 136) 컬러필터층 영역도 동일한 구조)과, 녹색(G) 및 청색(B) 컬러필터층을 중 어느 하나의 두 개의 컬러필터층들로 형성될 수 있다. 경우에 따라서는 적색, 녹색 및 청색 컬러필터층들이 적층되어 형성될 수 있다.In addition, a color filter pattern 135a (non-display area) is formed on the top of the thin film transistor. The color filter pattern 135a includes a red (R) color filter layer 135 (not shown in the figure, but also a green (G) and blue (B) (B) a color filter layer, and (B) a color filter layer. In some cases, red, green, and blue color filter layers may be stacked.

따라서, 상기 컬러필터패턴(135)은 적색(R) 컬러필터층으로된 단일층 또는 녹색(G) 및 청색 컬러필터층과 같은 단일층으로 형성되거나, 적색(R), 녹색(G) 및 청색(B) 컬러필터층들 중 두 개 이상의 컬러필터층들로 형성될 수 있다.Accordingly, the color filter pattern 135 may be formed as a single layer of a red (R) color filter layer or a single layer such as a green (G) and a blue color filter layer, or may be formed of a single layer such as red (R), green ) Color filter layers. ≪ / RTI >

도면에는 도시하지 않았지만, 상기 컬러필터패턴(135)은 화소 전극과 컬러필터층들(적색, 녹색, 청색)이 형성된 주위를 따라 게이트 라인 및 데이터 라인과 오버랩되는 영역에 형성될 수 있다. 즉, 화소 영역의 비표시 영역에 형성될 수 있다.Although not shown in the figure, the color filter pattern 135 may be formed in an area overlapping with the gate lines and the data lines along the periphery where the pixel electrodes and the color filter layers (red, green, and blue) are formed. That is, in the non-display region of the pixel region.

또한, 상기 컬러필터패턴(135a) 상에는 컬럼 스페이서들 중 셀갭 컬럼스페이서(300)와 대응되도록 적색(R), 녹색(G) 및 청색(B) 컬러필터층들로 중 어느 하나의 층으로 형성된 차단층(200)이 형성된다.The color filter pattern 135a is formed on one of the red (R), green (G) and blue (B) color filter layers so as to correspond to the cell gap column spacer 300 among the column spacers. (200) is formed.

상기 차단층(200)은 적색(R), 녹색(G) 및 청색(B) 컬러필터층들 중 적어도 두 개 이상의 적층 구조로 형성될 수 있다. 상기 차단층(200)과 적색(R) 컬러필터층(135) 상에는 제2 보호막(139)이 형성된다.The barrier layer 200 may be formed of at least two layers of red (R), green (G), and blue (B) color filter layers. A second passivation layer 139 is formed on the barrier layer 200 and the red color filter layer 135.

도면에서는 적색(R) 컬러필터층(135)과 그 인접 영역의 구조를 중심으로 설명하였지만, 녹색(G) 및 청색(G: 136) 컬러필터층 영역에서도 동일한 구조를 갖는다.Although the structures of the red (R) color filter layer 135 and its adjacent area are described in the drawing, the same structure is also provided in the green (G) and blue (G) color filter layer regions.

또한, 화소 영역에는 상부기판(130)과 COT(Color on TFT) 구조를 갖는 박막 트랜지스터 어레이 기판 사이의 셀갭 유지를 위한 컬럼 스페이서와 눌림 방지를 위한 컬럼 스페이서가 형성될 수 있다. 눌림 방지를 위한 컬럼 스페이서는 박막 트랜지스터의 어레이 기판과 소정거리 이격되어 액정표시패널이 눌려 졌을 때, 액정 터짐 및 기판 손상을 방지한다. 도면에 도시한 310은 그라운드 접지를 위한 금속층이다.In addition, a column spacer for holding the cell gap between the upper substrate 130 and the thin film transistor array substrate having a color on TFT (COT) structure, and a column spacer for preventing the touch can be formed in the pixel region. The column spacer for preventing the pressing is spaced apart from the array substrate of the thin film transistor by a predetermined distance to prevent liquid crystal burst and substrate damage when the liquid crystal display panel is pressed. Reference numeral 310 denotes a metal layer for grounding the ground.

본 발명에서는 셀갭 유지를 위한 컬럼 스페이서(300)와 대응되는 박막 트랜지스터 어레이 기판 상에 컬러필터층으로 형성된 차단층(200)을 배치하여, 셀갭 유지를 위한 컬럼 스페이서(300)와 눌림 방지를 위한 컬럼 스페이서의 두께를 동일하게 형성하도록 하였다.In the present invention, a barrier layer 200 formed of a color filter layer is disposed on a thin film transistor array substrate corresponding to a column spacer 300 for maintaining a cell gap, and a column spacer 300 for maintaining a cell gap and a column spacer Are formed to have the same thickness.

또한, 베젤 영역에서도 상기 차단층(200) 형성시, 차단층(200)과 동일한 구조로 베젤 차단층(201)을 제1 보호막(129) 상에 형성하여, 상부기판(130) 상에 형성되는 베젤 컬럼 스페이서(301)의 두께도 컬럼 스페이서(300)의 두께와 동일한 두께로 형성한다.The bezel barrier layer 201 may be formed on the first protective layer 129 in the same structure as the barrier layer 200 when the barrier layer 200 is formed in the bezel region, The thickness of the bezel column spacer 301 is formed to be the same as the thickness of the column spacer 300.

즉, 본 발명의 액정표시장치는 셀갭 컬럼 스페이서, 눌림 컬럼 스페이서 및 베젤 컬럼 스페이서를 광학 밀도가 높은 재질로 동일한 두께로 형성할 수 있다.That is, the liquid crystal display of the present invention can form the cell gap column spacer, the pressed column spacer, and the bezel column spacer with the same thickness with a material having high optical density.

또한, 본 발명에서는 종래 베젤 영역에 형성되던 블랙 매트릭스를 제거하고, 베젤 차단층(201)과 베젤 컬럼 스페이서(301)를 이용하여 빛 샘 불량을 방지하였다.Also, in the present invention, the black matrix formed in the bezel region is removed, and the bezel barrier layer 201 and the bezel column spacer 301 are used to prevent defects in the light source.

상기 베젤 차단층(201)은 적색(R) 컬러레진, 녹색(G) 컬러레진 및 청색(B) 컬러레진들 중 어느 하나로 형성되는 컬러필터층일 수 있다. 경우에 따라서는 적색(R), 녹색(G) 및 청색(B) 컬러레진들을 이용하여 2개 이상의 컬러필터층으로 형성할 수 있다. 또한, 도면에는 도시하지 않았지만, 실라인과의 접촉을 위해 제2 보호막(139)이 형성될 수 있다.The bezel blocking layer 201 may be a color filter layer formed of any one of red (R) color resin, green (G) color resin, and blue (B) color resin. In some cases, two or more color filter layers may be formed using red (R), green (G), and blue (B) color resins. Although not shown in the drawing, a second protective film 139 may be formed for contact with the silane.

도 4는 본 발명에 따른 액정표시장치의 베젤 영역에 형성되는 베젤 컬럼 스페이서의 구조들을 도시한 도면이다.4 is a view illustrating structures of a bezel column spacer formed in a bezel region of a liquid crystal display device according to the present invention.

도 4를 참조하면, (a)에 도시된 바와 같이, 베젤 차단층(201)은 적색(R) 컬러 레진과 녹색(G) 컬러 레진을 패터닝한 컬러필터층들을 적층 형성하거나, 적색(R), 녹색(G) 및 청색(B) 컬러레진들로된 컬러필터층들을 적층하여 형성하거나(b), 녹색(G) 및 청색(B) 컬러레진들로된 컬러필터층들을 형성할 수 있다(c).4, the bezel blocking layer 201 may be formed by laminating color filter layers formed by patterning red (R) color resin and green (G) color resin, or by forming red (R) (B) forming color filter layers of green (G) and blue (B) color resins, or (c) forming color filter layers of green (G) and blue (B) color resins.

또한, 적색(R), 녹색(G) 및 청색(B) 컬러레진들 각각을 패터닝하여 형성한 컬러필터층을 단일층으로 형성할 수 있다.(d)Further, the color filter layer formed by patterning each of the red (R), green (G), and blue (B) color resins can be formed as a single layer. (D)

도 5는 본 발명에 따른 액정표시장치의 합착 구조를 도시한 도면이다.FIG. 5 is a view showing a bonding structure of a liquid crystal display device according to the present invention.

도 5를 참조하면, 복수개의 화소 영역을 포함하는 액티브 영역과 베젤 영역으로 구획되는 본 발명의 액정표시장치는 도 3에 도시된 바와 같이, 하부기판(120) 상에 박막 트랜지스터와 적색(R), 녹색(G) 및 청색(B) 컬러필터층들로 구성된 박막 트랜지스터 어레이층(450)이 형성된다. 또한, 도 3에 도시된 바와 같이, 화소 영역에는 셀갭 컬럼 스페이서와 대응되는 영역에 컬러필터층으로 구성된 차단층이 형성된다.Referring to FIG. 5, the liquid crystal display of the present invention, which is divided into an active region including a plurality of pixel regions and a bezel region, includes a thin film transistor and a red (R) , Green (G), and blue (B) color filter layers. In addition, as shown in Fig. 3, a barrier layer composed of a color filter layer is formed in a region corresponding to the cell gap column spacer in the pixel region.

상기 베젤 영역에서는 하부기판(120) 상에 절연층(430)이 형성된다. 상기 절연층은 게이트 절연막, 보호막 또는 박막 트랜지스터와 같은 구동 소자를 포함할 수 있다.In the bezel region, an insulating layer 430 is formed on the lower substrate 120. The insulating layer may include a driving element such as a gate insulating layer, a passivation layer, or a thin film transistor.

상기 절연층(430) 상에는 베젤 차단층(440)이 형성되고, 도 3과 도 4에서 설명한 바와 같이, 적색(R), 녹색(G) 및 청색(B) 컬러필터 단일층 또는 두 개 이상의 컬러필터층들이 적층된 구조로 형성할 수 있다.A bezel barrier layer 440 is formed on the insulating layer 430 and a single layer of red (R), green (G), and blue (B) color filters or two or more colors And filter layers may be stacked.

상기 베젤 차단층(440)과 대응되는 영역의 상부기판(130) 상에는 베젤 컬럼 스페이서(401)가 형성된다. 상기 베젤 컬럼 스페이서(401)는 화소 영역과 대응되는 영역에 형성된 컬럼 스페이서(400: 셀갭 컬럼 스페이서와 눌림 컬럼 스페이서를 포함한다)와 동일한 두께로 형성된다. 도면에 도시하였지만, 설명하지 않은 420은 기판 합착을 위한 실라인이다.A bezel column spacer 401 is formed on the upper substrate 130 in a region corresponding to the bezel blocking layer 440. The bezel column spacer 401 is formed to have the same thickness as a column spacer 400 (including a cell gap column spacer and a pressed column spacer) formed in a region corresponding to the pixel region. Although not shown in the drawings, the unexplained 420 is a seal line for attaching the substrate.

상기와 같이, 본 발명에서는 화소 영역에 형성되는 차단층과 베젤 영역에 형성되는 베젤 차단층의 단차를 이용하여 동일한 두께의 컬럼 스페이서들(셀갭 컬럼 스페이서, 눌림 컬럼 스페이서 및 베젤 컬럼 스페이서)을 구현할 수 있다.As described above, in the present invention, the column spacers (cell gap column spacer, pressed column spacer, and bezel column spacer) having the same thickness can be realized by using the step difference between the blocking layer formed in the pixel region and the bezel blocking layer formed in the bezel region have.

종래에는 하프톤 마스크 또는 회절 마스크를 이용하여 셀갭 컬럼 스페이서와 눌림 컬럼 스페이서의 두께를 다르게 형성하였으나, 하프톤 마스크 또는 회절 마스크 공정에 사용되는 컬럼 스페이서의 재질은 광학 밀도가 낮은 단점이 있었다. Conventionally, the thicknesses of the cell gap spacer and the pressed column spacer are differently formed by using a half-tone mask or a diffraction mask. However, the material of the column spacer used for the halftone mask or the diffraction mask process has a disadvantage of low optical density.

하지만, 본 발명에서는 컬러필터층으로 형성된 차단층과 베젤 차단층의 단차를 이용하여, 광학 밀도가 높은 컬럼 스페이서들을 형성할 수 있다. 이로 인하여 블랙 매트릭스를 제거하여 발생될 수 있는 빛 샘 불량을 제거하였다.However, in the present invention, column spacers having high optical density can be formed using the step difference between the blocking layer formed of the color filter layer and the bezel blocking layer. As a result, the defects of the light source that can be generated by removing the black matrix are removed.

도 6은 본 발명의 다른 실시예에 따른 액정표시장치를 도시한 도면이다.6 is a view illustrating a liquid crystal display device according to another embodiment of the present invention.

도 6을 참조하면, 복수개의 화소 영역을 포함하는 액티브 영역과 베젤 영역으로 구획되는 본 발명의 액정표시장치는 도 3에 도시된 바와 같이, 하부기판(120) 상에 박막 트랜지스터와 적색(R), 녹색(G) 및 청색(B) 컬러필터층들로 구성된 박막 트랜지스터 어레이층(450)이 형성된다. 도 5와 달리, 컬럼 스페이서(500)와 베젤 컬럼 스페이서(501)들은 박막 트랜지스터가 형성된 하부기판(120) 상에 형성된다.Referring to FIG. 6, the liquid crystal display of the present invention, which is divided into an active region including a plurality of pixel regions and a bezel region, includes a thin film transistor and a red (R) , Green (G), and blue (B) color filter layers. 5, the column spacers 500 and the bezel column spacers 501 are formed on the lower substrate 120 on which the thin film transistors are formed.

즉, 베젤 영역에서는 하부기판(120) 상에 절연층(430), 베젤 차단층(440) 및 베젤 컬럼 스페이서(501)가 적층되고, 적색(R), 녹색(G) 및 청색(B) 컬러필터층들이 형성된 화소 영역에는 컬럼 스페이서(500)가 형성된다. 상기 컬럼 스페이서(500)는 셀갭 컬럼 스페이서와 눌림 컬럼 스페이서를 포함한다.That is, in the bezel region, the insulating layer 430, the bezel blocking layer 440, and the bezel column spacer 501 are laminated on the lower substrate 120, and the red (R), green (G), and blue A column spacer 500 is formed in the pixel region where the filter layers are formed. The column spacer 500 includes a cell gap column spacer and a pressed column spacer.

상기 베젤 차단층(501)은 도 3과 도 4에서 설명한 바와 같이, 적색(R), 녹색(G) 및 청색(B) 컬러필터 단일층 또는 두 개 이상의 컬러필터층들을 적층하여 형성할 수 있다.The bezel blocking layer 501 may be formed by laminating a single layer of red (R), green (G), and blue (B) color filters or two or more color filter layers as described with reference to FIGS.

상기와 같이, 본 발명에서는 화소 영역에 형성되는 차단층과 베젤 영역에 형성되는 베젤 차단층의 단차를 이용하여 동일한 두께의 컬럼 스페이서들(셀갭 컬럼 스페이서, 눌림 컬럼 스페이서 및 베젤 컬럼 스페이서)을 형성할 수 있다.As described above, in the present invention, the column spacers (cell gap column spacer, pressed column spacer, and bezel column spacer) having the same thickness are formed by using the step difference between the blocking layer formed in the pixel region and the bezel blocking layer formed in the bezel region .

본 발명에서는 본 발명에서는 컬러필터층으로 형성된 차단층과 베젤 차단층의 단차를 이용하여, 광학 밀도가 높은 컬럼 스페이서들을 형성할 수 있다.In the present invention, column spacers having high optical density can be formed using the step difference between the blocking layer formed of the color filter layer and the bezel blocking layer.

특히, 종래 액정표시장치에 형성되던 블랙 매트릭스를 제거하였지만, 광 차단 특성이 높은 컬럼 스페이서들(셀갭 컬럼 스페이서, 눌림 컬럼 스페이서 및 베젤 컬럼 스페이서)을 사용할 수 있어 빛 샘 불량을 제거하였다.
Particularly, although the black matrix formed in the conventional liquid crystal display device is removed, the column spacers (cell gap column spacer, pressed column spacer, and bezel column spacer) having high light shielding characteristics can be used, thereby eliminating the defects of the light scattering.

120: 하부기판 130: 상부기판
430: 절연층 440: 베젤 차단층
401, 501: 베젤 컬럼 스페이서 400,500: 컬럼 스페이서
450: 박막 트랜지스터 어레이층120: lower substrate 130: upper substrate
430: Insulation layer 440: Bezel barrier layer
401, 501: bezel column spacer 400, 500: column spacer
450: thin film transistor array layer

Claims (12)

복수개의 화소 영역들이 구획된 액티브 영역과 베젤 영역으로 구획된 하부기판;
상기 화소 영역에 형성된 박막 트랜지스터와 컬러필터층 및 상기 화소 영역 둘레를 따라 배치된 컬러필터패턴;
상기 컬러필터패턴 상에 형성된 차단층; 및
상기 베젤 영역에 형성된 베젤 차단층을 포함하고,
상기 차단층과 베젤 차단층은 적색(R), 녹색(G) 및 청색(B) 컬러필터층들을 적어도 하나 이상 적층하여 형성한 것을 특징으로 하는 박막 트랜지스터 액정표시장치.
A lower substrate divided into an active region and a bezel region in which a plurality of pixel regions are partitioned;
A thin film transistor formed in the pixel region, a color filter layer, and a color filter pattern disposed along the pixel region;
A blocking layer formed on the color filter pattern; And
And a bezel blocking layer formed in the bezel region,
Wherein the blocking layer and the bezel blocking layer are formed by laminating at least one of red (R), green (G), and blue (B) color filter layers.
제1항에 있어서, 상기 차단층과 대응되는 셀갭 컬럼 스페이서와 상기 베젤 차단층과 대응되는 베젤 컬럼 스페이서를 구비한 상부기판을 더 포함하는 박막 트랜지스터 액정표시장치.
The thin film transistor liquid crystal display of claim 1, further comprising an upper substrate having a cell gap column spacer corresponding to the blocking layer and a bezel column spacer corresponding to the bezel blocking layer.
제2항에 있어서, 상기 셀갭 컬럼 스페이서와 베젤 컬럼 스페이서는 동일한 두께인 것을 특징으로 하는 박막 트랜지스터 액정표시장치.
The thin film transistor liquid crystal display of claim 2, wherein the cell gap column spacer and the bezel column spacer have the same thickness.
제1항에 있어서, 상기 차단층과 베젤 차단층은 적색(R), 녹색(G) 및 청색(B) 컬러필터층들 중 어느 하나로 형성된 것을 특징으로 하는 박막 트랜지스터 액정표시장치.
The thin film transistor liquid crystal display of claim 1, wherein the blocking layer and the bezel blocking layer are formed of one of red (R), green (G), and blue (B) color filter layers.
제1항에 있어서, 상기 컬러필터패턴은 상기 화소 영역의 둘레를 따라 배치되는 데이터 라인 및 게이트 라인과 중첩되어 형성된 것을 특징으로 하는 박막 트랜지스터 액정표시장치.
The thin film transistor liquid crystal display of claim 1, wherein the color filter pattern is formed by overlapping a data line and a gate line disposed along the periphery of the pixel region.
제1항에 있어서, 상기 컬러필터패턴은 적색(R), 녹색(G) 및 청색(B) 컬러필터층들 중 적어도 두 개 이상 적층하여 형성된 것을 특징으로 하는 박막 트랜지스터 액정표시장치.
The thin film transistor liquid crystal display of claim 1, wherein the color filter pattern is formed by stacking at least two of red (R), green (G), and blue (B) color filter layers.
복수개의 화소 영역들이 구획된 액티브 영역과 베젤 영역으로 구획된 하부기판;
상기 화소 영역에 형성된 박막 트랜지스터와 컬러필터층 및 상기 화소 영역 둘레를 따라 배치된 컬러필터패턴;
상기 컬러필터패턴 상에 형성된 차단층;
상기 베젤 영역에 형성된 베젤 차단층;
상기 차단층 상에 형성된 셀갭 컬럼 스페이서; 및
상기 베젤 차단층 상에 형성된 베젤 컬럼 스페이서를 포함하고,
상기 차단층과 베젤 차단층은 적색(R), 녹색(G) 및 청색(B) 컬러필터층들을 적어도 하나 이상 적층하여 형성한 것을 특징으로 하는 박막 트랜지스터 액정표시장치.
A lower substrate divided into an active region and a bezel region in which a plurality of pixel regions are partitioned;
A thin film transistor formed in the pixel region, a color filter layer, and a color filter pattern disposed along the pixel region;
A blocking layer formed on the color filter pattern;
A bezel blocking layer formed in the bezel region;
A cell gap column spacer formed on the blocking layer; And
And a bezel column spacer formed on the bezel blocking layer,
Wherein the blocking layer and the bezel blocking layer are formed by laminating at least one of red (R), green (G), and blue (B) color filter layers.
제7항에 있어서, 상기 셀갭 컬럼 스페이서와 상기 베젤 컬럼 스페이서가 형성된 하부기판과 합착되는 상부기판을 더 포함하는 박막 트랜지스터 액정표시장치.
The thin film transistor liquid crystal display of claim 7, further comprising an upper substrate bonded to the lower substrate on which the cell gap spacer and the bezel column spacer are formed.
제7항에 있어서, 상기 셀갭 컬럼 스페이서와 베젤 컬럼 스페이서는 동일한 두께인 것을 특징으로 하는 박막 트랜지스터 액정표시장치.
The thin film transistor liquid crystal display of claim 7, wherein the cell gap column spacer and the bezel column spacer have the same thickness.
제7항에 있어서, 상기 차단층과 베젤 차단층은 적색(R), 녹색(G) 및 청색(B) 컬러필터층들 중 어느 하나로 형성된 것을 특징으로 하는 박막 트랜지스터 액정표시장치.
The thin film transistor liquid crystal display of claim 7, wherein the blocking layer and the bezel blocking layer are formed of one of red (R), green (G), and blue (B) color filter layers.
제7항에 있어서, 상기 컬러필터패턴은 상기 화소 영역의 둘레를 따라 배치되는 데이터 라인 및 게이트 라인과 중첩되어 형성된 것을 특징으로 하는 박막 트랜지스터 액정표시장치.
The thin film transistor liquid crystal display of claim 7, wherein the color filter pattern is formed by overlapping a data line and a gate line arranged along the periphery of the pixel region.
제7항에 있어서, 상기 컬러필터패턴은 적색(R), 녹색(G) 및 청색(B) 컬러필터층들 중 적어도 두 개 이상 적층하여 형성된 것을 특징으로 하는 박막 트랜지스터 액정표시장치.
The thin film transistor liquid crystal display of claim 7, wherein the color filter pattern is formed by stacking at least two of red (R), green (G), and blue (B) color filter layers.
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