KR20140107373A - Support including an electrostatic substrate holder - Google Patents

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로랭 루
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이옹 빔 세르비스
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Abstract

본 발명은 지지대를 제공한다. 이 지지대는, 전기 전도성의 바이어싱된 테이블; 기판 캐리어의 하부면은 바이어싱된 테이블을 향하며, 그 상부면은 기판을 수용하도록 설계된 베어링면에 위치하고, 숄더를 갖는 실린더 형태의 절연 정전 기판 캐리어; 및 바이어싱된 테이블에 대해 숄더를 클램핑하기 위한 전기 전도성의 클램핑 칼러를 포함한다. 지지대는 또한 베어링면을 숄더에 연결하기 위한 적어도 하나의 전기 전도성 요소를 포함한다.The present invention provides a support. The support includes an electrically conductive biased table; The lower surface of the substrate carrier facing the biased table, the upper surface of which is located on a bearing surface designed to receive the substrate, the insulating substrate carrier having a cylindrical shape with a shoulder; And an electrically conductive clamping collar for clamping the shoulder against the biased table. The support also includes at least one electrically conductive element for connecting the bearing surface to the shoulder.

Description

정전 기판 캐리어를 포함하는 지지대{SUPPORT INCLUDING AN ELECTROSTATIC SUBSTRATE HOLDER}[0001] SUPPORT INCLUDING AN ELECTROSTATIC SUBSTRATE HOLDER [0002]

본 발명은 정전 기판 캐리어(electrostatic substrate carrier)를 포함하는 지지대(support)에 관한 것이다.The present invention relates to a support comprising an electrostatic substrate carrier.

본 발명은 지지대에 장착되어 가열처리될 부품을 저압에서 처리하는 분야에 관한 것이다.Field of the Invention The present invention relates to the field of processing a component to be heated to be mounted on a support at a low pressure.

이는 처리될 부품이 기판에 위치하는 마이크로전자부품에 주로 관한 것이다. 보다 구체적으로, 본 발명은 “도핑”으로 알려진 기술, 즉, 기판 내에 불순물이 유입되게 하는 이온 주입에 관한 것이다. 도핑은 기판의 소정의 특성, 가령, 기계적, 열적, 전기적, 소수성(hydrophobic) 특성 등을 변경하기 위한 역할을 한다.This is primarily concerned with microelectronic components where the part to be processed is located on the substrate. More specifically, the present invention relates to a technique known as " doping ", that is, ion implantation to allow impurities to enter the substrate. Doping serves to alter certain properties of the substrate, such as mechanical, thermal, electrical, hydrophobic characteristics, and the like.

이러한 주입을 수행하기 위해, 최근에는 플라즈마 침지 모드(plasma immersion mode)에서 동작하는 이온 주입기(ion implanter)를 사용하는 것이 가능하다. 따라서, 기판에 이온을 주입하는 것은, 기판을 플라즈마에 침지하는 것과, 이를 수십 볼트 내지 수십 킬로볼트 범위(일반적으로 100 kV 미만)의 음의 전압으로 바이어싱하는 것으로 이루어지며, 기판을 향해 플라즈마의 이온을 가속할 수 있는 전기장을 생성하여 이온이 기판 내에 주입되게 한다. 이 방식으로 주입되는 원자들을 도펀트라 한다. 일반적으로 바이어스는 펄스 형태로 인가된다.In order to carry out this implantation, it is possible to use an ion implanter which operates in a plasma immersion mode recently. Thus, implanting ions into a substrate consists of immersing the substrate in a plasma and biasing it with a negative voltage in the range of a few tens of volts to a few tens of kilos (typically less than 100 kV) Thereby generating an electric field capable of accelerating the ions so that the ions are injected into the substrate. The atoms injected in this way are called dopants. Generally, the bias is applied in the form of a pulse.

이온의 침투 깊이는 그 가속 에너지에 의해 결정된다. 이는 첫째로 기판에 인가되는 전압에 의존하며, 둘째로 이온과 기판의 성질에 의존한다. 주입되는 원자의 농도는 제곱 센티미터(cm2)당 이온 수로 표현되는 주입량과, 주입 깊이에 의존한다.The penetration depth of ions is determined by its acceleration energy. This depends first on the voltage applied to the substrate and secondly on the nature of the ions and substrate. The concentration of the implanted atoms depends on the implanted dose, expressed as the number of ions per square centimeter (cm 2 ), and the implant depth.

열이 복사에 의해서만 교환되도록 진공 영역(evacuated enclosure)에서 주입이 수행되어, 기판의 온도를 정확하게 제어할 수 있게 한다.Infusion is performed in an evacuated enclosure such that the heat is only exchanged by radiation, allowing precise control of the temperature of the substrate.

미국 특허 제 7,126,808 호는 냉각 챔버를 포함하는 정전 기판 캐리어와 결합되는 지지대를 갖는 기기를 제안한다. 이 기기는 상부면과 하부면 사이에서 연장되는 복수의 채널을 갖는 기판 캐리어를 포함한다. 각 채널에는 리프트 핀(lift pin)이 존재한다. 이 리프트 핀은, 정전 클램핑(electrostatic clamping)을 제공하기 위해, 기판을 기판 캐리어로부터 약간 들어올리는 것을 주역할로 한다. 기판과 기판 캐리어 사이에 존재하는 공간은 냉각 가스로 채워진다.U.S. Patent No. 7,126,808 proposes a device having a support coupled with an electrostatic substrate carrier comprising a cooling chamber. The apparatus includes a substrate carrier having a plurality of channels extending between an upper surface and a lower surface. Each channel has a lift pin. The lift pin is intended to lift the substrate slightly from the substrate carrier to provide electrostatic clamping. The space existing between the substrate and the substrate carrier is filled with the cooling gas.

기판이 기판 캐리어의 테두리에서만 지지되므로, 기계적인 관점에서 충분하지 못하다.Since the substrate is supported only at the edge of the substrate carrier, it is not sufficient from a mechanical point of view.

다른 공지된 지지대가 도 1에 도시되어 있다. 이 지지대는 필수적으로 3개의 부분, 즉, 바이어스 테이블(10), 기판 캐리어(20) 및 클램핑 칼러(clamping collar, 30)를 포함한다.Another known support is shown in Fig. This support essentially includes three parts: a bias table 10, a substrate carrier 20, and clamping collar 30.

바이어스 테이블(10)은 고전압(직류(DC) 또는 펄스 신호)로 바이어싱되며, 두면이 모두 개방되는 덕트(11)를 갖는 도전성 플래튼(conductive platen)의 형태이다. 덕트(11)의 기능을 보다 상세히 설명한다.The bias table 10 is in the form of a conductive platen having a duct 11 that is biased at a high voltage (direct current (DC) or pulse signal) and both sides open. The function of the duct 11 will be described in more detail.

절연 기판 캐리어(20)는 기판 캐리어의 하부면의 테두리에 배치되는 가스켓(12)을 통해 바이어스 테이블(10)상에 놓여진다. 이는 그 상부면을 지탱하는 실린더 형태인데, 이 실린더에는 그 베이스로부터 돌출하는 숄더(21)가 제공된다.An insulating substrate carrier (20) is placed on the bias table (10) through a gasket (12) disposed at the rim of the lower surface of the substrate carrier. It is in the form of a cylinder which carries its upper face, which is provided with a shoulder 21 projecting from its base.

클램핑 칼러(30)는 숄더(21)를 누름으로써 바이어스 테이블(10)상에 기판 캐리어(20)를 클램핑하는 역할을 하는데, 이는 복수의 스크류(31)에 의해 달성된다.The clamping collar 30 serves to clamp the substrate carrier 20 on the bias table 10 by pressing the shoulder 21, which is accomplished by a plurality of screws 31.

기판 캐리어(20)의 상부면(22)은 그 테두리에 링(23)을 제공하며, 이는 또한 링 내에 분배되는 복수의 스터드(24)를 제공한다. 링(23) 및 스터드(24)의 두께는 동일하며, 통상적으로 10 마이크로미터(μm) 내지 15 마이크로미터(μm) 범위에 해당한다. 링(23) 및 스터드(24)의 상부는 기판(40)이 놓여지는 베어링면(bearing plane)을 정의한다.The top surface 22 of the substrate carrier 20 provides a ring 23 at its rim, which also provides a plurality of studs 24 that are distributed within the ring. The thickness of the ring 23 and the stud 24 is the same and typically ranges from 10 micrometers (μm) to 15 micrometers (μm). The ring 23 and the top of the stud 24 define a bearing plane on which the substrate 40 rests.

제1 타입의 전극은 기판을 정전기적으로(electrostatically) 클램핑하기 위해 사용된다. 이들 전극은 쌍으로 배열된다. 이들은 상부면(22)에 평행한 평면에 제공되는데, 이 평면은 상부면에 매우 근접한다. 이는 당업자에게 공지된 임의의 수단, 가령, 소위 “두꺼운 층(thick layer)” 기술을 사용하여 달성된다.A first type of electrode is used to electrostatically clamp the substrate. These electrodes are arranged in pairs. These are provided in a plane parallel to the top surface 22, which is very close to the top surface. This is accomplished using any means known to those skilled in the art, e.g., the so-called " thick layer " technique.

도면의 우측에 위치된 쌍은 양의 전극(25) 또는 애노드와, 음의 전극(26) 또는 캐소드를 포함한다. 그 원리는 2개의 캐패시터, 즉, 애노드-기판 캐패시터 및 기판-캐소드 캐패시터를 제공하는 데에 있다.The pair positioned on the right side of the drawing includes a positive electrode 25 or an anode, and a negative electrode 26 or a cathode. The principle is to provide two capacitors, an anode-substrate capacitor and a substrate-cathode capacitor.

또한, 기판(40)과 바이어싱된 테이블(10) 사이의 전기적 콘택트가 존재하는 것을 보장하는 것이 바람직한데, 이는 제2 타입의 전극에 의해 달성된다.It is also desirable to ensure that there is an electrical contact between the substrate 40 and the biased table 10, which is achieved by the second type of electrode.

이를 위해, 복수의 채널은 기판 캐리어(20)를 직접 통해 통과한다. 도면 우측의 채널(27)은, 바이어스 테이블(10)에 대해 지탱하고 따라서 기판(40)에 대해 핀(28)을 누르는 스프링(29)에 장착되는 핀(28)을 수용한다. 핀-스프링 쌍은 제2 타입의 전극을 구성하며 하나의 이러한 쌍은 각 채널에 제공된다.To this end, the plurality of channels pass directly through the substrate carrier 20. The channel 27 on the right side of the drawing receives a pin 28 that is mounted to a spring 29 that holds against the bias table 10 and thus pushes the pin 28 against the substrate 40. The pin-spring pair constitutes a second type of electrode and one such pair is provided for each channel.

바이어스 테이블을 통해 형성되는 덕트(11)는, 기판 캐리어(20)의 하부면과 바이어스 테이블 사이에 생성되는 제 1 공간을 헬륨으로 채우는 역할을 한다.The duct 11 formed through the bias table serves to fill the first space created between the lower surface of the substrate carrier 20 and the bias table with helium.

기판 캐리어(20)의 상부면(22)과 기판(40) 사이에 존재하는 제 2 공간 또한 채널을 통해 헬륨으로 채워진다. 제 1 및 제 2 공간이 서로 연결될 수 있도록 하기 위해, 기판 캐리어를 통해 통과하는 추가적인 개구부(도시 생략)를 제공하는 것도 가능하다.A second space existing between the top surface 22 of the substrate carrier 20 and the substrate 40 is also filled with helium through the channel. It is also possible to provide additional openings (not shown) through the substrate carrier to allow the first and second spaces to be connected to each other.

기판을 제조하기에 적합한 수단은 당업자에게9+ 알려져 있으므로 생략한다.Means suitable for manufacturing the substrate are known to those skilled in the art and will be omitted here.

주입 동안에, 전류 주입은 제 2 타입의 전극에 의해 배출된다(drained). 핀(28)의 콘택트 면적이 작으므로 전류 밀도가 높다. 이는, 특히 바이어스 전압이 펄스로 인가되는 경우, 핀을 용융시키고 기판의 후면이 오염되게 할 수 있다.During implantation, the current implant is drained by the second type of electrode. Since the contact area of the pin 28 is small, the current density is high. This may cause the pins to melt and contaminate the backside of the substrate, especially if a bias voltage is applied in a pulse.

따라서, 본 발명의 목적은 주입 전류가 통과하는 표면 면적을 증가시키는 것이다.Therefore, an object of the present invention is to increase the surface area through which the injection current passes.

본 발명에 따르면, 지지대는, 전기 전도성의 바이어싱된 테이블과; 하부면은 바이어싱된 테이블을 향하며, 그 상부면은 기판을 수용하도록 설계된 베어링면을 제공하고, 숄더를 갖는 실린더 형태의 절연 정전 기판 캐리어와; 바이어싱된 테이블에 대해 숄더를 클램핑하기 위한 전기 전도성의 클램핑 칼러를 포함하며, 지지대는 베어링면을 숄더에 연결하기 위한 적어도 하나의 전기 전도성 요소를 포함한다.According to the invention, the support comprises an electrically conductive biased table; The lower surface facing the biased table, the upper surface providing a bearing surface designed to receive the substrate, an insulating electrostatic substrate carrier in the form of a cylinder having a shoulder; An electrically conductive clamping collar for clamping the shoulder against the biased table, the support including at least one electrically conductive element for connecting the bearing surface to the shoulder.

제 1 실시형태에서, 전기 전도성의 요소는 상부면의 테두리에 배치되는 제 1 스트립과; 제 1 스트립과 숄더 사이에서 실린더를 따라 연장되는 제 2 스트립과; 제 2 스트립과 접촉하여 숄더상에 배치되는 제 3 스트립을 포함한다.In a first embodiment, the electrically conductive element comprises a first strip disposed at an edge of the top surface; A second strip extending between the first strip and the shoulder along the cylinder; And a third strip in contact with the second strip and disposed on the shoulder.

유리하게는, 지지대는 기판 캐리어를 통해 통과하며, 바이어싱된 테이블과 베어링면 사이의 전기 콘택트를 제공하는 복수의 전극을 더 포함한다.Advantageously, the pedestal passes through the substrate carrier and further comprises a plurality of electrodes providing electrical contact between the biased table and the bearing surface.

제 2 실시형태에서, 전기 전도성의 요소는 숄더에서 기판 캐리어에 배치되는 전기 전도성의 콘택트면과; 콘택트면에 연결되고, 상부면으로부터 돌출하여 베어링면을 정의하는 복수의 전극을 포함한다.In a second embodiment, the electrically conductive element comprises an electrically conductive contact surface disposed on a substrate carrier at a shoulder; And a plurality of electrodes connected to the contact surface and protruding from the upper surface to define a bearing surface.

바람직하게는, 베어링면 아래에서 상부면의 테두리에 배치되는 스트립을 더 포함하되, 기판 캐리어는 그 상부면 및 하부면이 개방되어 있는 적어도 하나의 오리피스를 포함한다.Preferably, the apparatus further includes a strip disposed at a rim of the top surface below the bearing surface, wherein the substrate carrier includes at least one orifice with the top and bottom surfaces open.

본 발명의 다른 특징에 따르면, 지지대는 상부면과 바이어싱된 테이블 사이에 배치되는 전기 전도성의 층을 더 포함한다.According to another aspect of the invention, the support further comprises an electrically conductive layer disposed between the top surface and the biased table.

유리하게는, 전극은 도금 관통홀(plated-through hole) 형태이다.Advantageously, the electrode is in the form of a plated-through hole.

선택적으로, 지지대는 바이어싱된 테이블과 접촉하고 하부면의 테두리에 배치되는 가스켓을 더 포함한다.Optionally, the support further comprises a gasket in contact with the biased table and disposed at an edge of the lower surface.

이와 달리, 지지대는 하부면과 바이어싱된 테이블 사이에 배치되는 열 전도성 층을 더 포함한다.Alternatively, the support further comprises a thermally conductive layer disposed between the bottom surface and the biased table.

본 발명은, 첨부된 도면을 참조하여, 예시적인 방식으로 제공되는 실시형태의 이하의 상세한 설명에 의해 보다 상세히 설명될 것이다.BRIEF DESCRIPTION OF THE DRAWINGS The invention will be explained in more detail by the following detailed description of an embodiment which is provided in an illustrative manner, with reference to the accompanying drawings.

도 1은 종래 기술에 따른 지지대의 단면도이다.
도 2는 본 발명에 따른 지지대의 제 1 실시형태의 단면도이다.
도 3은 본 발명에 따른 지지대의 제 2 실시형태의 단면도이다.1 is a cross-sectional view of a support according to the prior art.
2 is a cross-sectional view of a first embodiment of a support according to the present invention.
3 is a cross-sectional view of a second embodiment of a support according to the present invention.

도면들 중 하나 이상에서 제공되는 요소들은 각 도면에서 동일한 참조번호로 표시된다.The elements provided in one or more of the figures are designated by the same reference numerals in the figures.

따라서, 본 발명은 기판 캐리어의 베어링면과 기판 캐리어의 숄더 사이의 전기적 콘택트를 수립하는 것을 목적으로 한다.Accordingly, the present invention aims to establish electrical contact between the bearing surface of the substrate carrier and the shoulder of the substrate carrier.

도 2를 참조하면, 제 1 실시형태에서, 전술한 기판 캐리어(20)가 다시 한 번 사용된다.Referring to Fig. 2, in the first embodiment, the above-described substrate carrier 20 is once again used.

기판 캐리어(20)의 상부면(22)의 테두리에 형성된 링(23)에 제 1 금속 스트립(201)이 배치된다. 이는, 가령, 소위 “얇은 층(thin layer)” 기술에 의해 구현되는데, 티타늄, 질화 티타늄, 백금, 텅스텐 또는 탄화 텅스텐과 같은 금속을 사용한다. 어느 경우에도, 이는 도전성을 띄는 금속이어야 하며, 가능하다면 내화성(refractory)을 가져야 한다.A first metal strip 201 is disposed on a ring 23 formed in the rim of the top surface 22 of the substrate carrier 20. This is implemented, for example, by the so-called " thin layer " technique, using metals such as titanium, titanium nitride, platinum, tungsten or tungsten carbide. In either case, it must be a conductive metal and should have refractory if possible.

스트립의 두께는 수용 가능한 저항을 제공하기에 충분하여야 하지만, 기판이 확실히 스터드(24)상에 놓이는 것을 보장하기 위해 너무 크지 않아야 한다. 이 두께의 적합한 값은 1 μm 내지 2 μm 사이의 범위에 존재한다.The thickness of the strip should be sufficient to provide acceptable resistance, but not too large to ensure that the substrate rests on the stud 24. Suitable values for this thickness are in the range between 1 [mu] m and 2 [mu] m.

제 1 금속 스트립(201)과 숄더(211) 사이에서 기판 캐리어(20)의 실린더 벽에 제 2 금속 스트립(202)이 배치된다.A second metal strip 202 is disposed on the cylinder wall of the substrate carrier 20 between the first metal strip 201 and the shoulder 211.

최종적으로, 클램핑 칼러(30)를 향하는 숄더(211)의 면에 제 3 금속 스트립(203)이 배치된다.Finally, a third metal strip 203 is placed on the face of the shoulder 211 facing the clamping collar 30.

이 방식으로 배치된 3개의 스트립은, 베어링면으로부터 클램핑 칼러로의 전기적 연속성을 제공하며, 이는 그 자체로 도전성을 띈다.The three strips arranged in this manner provide electrical continuity from the bearing surface to the clamping collar, which is itself conductive.

따라서, 기판에 대한 전기 콘택트의 면적이 크게 증가되고, 이에 의해 주입 전류로 인한 전하의 배출(drainage)을 향상시킨다. 또한, 기판(40)의 후면과 바이어싱된 테이블(10) 사이에 콘택트를 제공하기 위해 사용되는 제 2 타입의 전극을 제거하는 것도 고려할 수 있다.Thus, the area of the electrical contact to the substrate is greatly increased, thereby improving the drainage of charge due to the injection current. It is also contemplated to remove the second type of electrode used to provide a contact between the backside of the substrate 40 and the biased table 10.

이들 전극이 생략되는 경우, 기판 캐리어(20)의 하부면과 테이블(10) 사이에 생성되는 제 1 공간으로부터 기판 캐리어(20)의 상부면(22)과 기판(40) 사이에 존재하는 제 2 공간으로 헬륨을 전달하기 위해 적어도 하나의 채널(27)을 보존할 필요가 있다.The first and second spaces between the top surface 22 of the substrate carrier 20 and the substrate 40 from the first space created between the bottom surface of the substrate carrier 20 and the table 10, It is necessary to preserve at least one channel 27 to transfer helium to the space.

따라서, 이들 제 2 타입의 전극을 생략하거나, 이들을 보전하거나, 또는 그 구성을 변경하는 것이 가능하다.Therefore, it is possible to omit these second type electrodes, to preserve them, or to change the configuration thereof.

채널(27)을 보존하거나 이를 금속 도금함으로써, 소위 “도금 관통홀(plated-through hole)”을 제공할 수 있다. 도금 관통홀은 베어링면과 기판 캐리어(20)의 하부면 사이에 전기 콘택트를 제공한다.By providing a channel 27 or metal plating it, a so-called " plated-through hole " can be provided. The plated through hole provides electrical contact between the bearing surface and the lower surface of the substrate carrier 20.

도 3을 참조하면, 제 2 실시형태에서, 기판 캐리어(210)는, 링과 스터드가 생략되어 그 상부면(212)이 평면이라는 점을 제외하고는 전술한 기판 캐리어(210)와 동일하다.Referring to Figure 3, in the second embodiment, the substrate carrier 210 is the same as the substrate carrier 210 described above, except that the ring and studs are omitted so that the top surface 212 thereof is planar.

이 실시형태에서, 기판 캐리어(210)는, 실린더의 축에 수직하며 숄더(211)를 덮는 전기 전도성을 띄는 콘택트면(213)을 갖는다.In this embodiment, the substrate carrier 210 has an electrically conductive contact surface 213 that is perpendicular to the axis of the cylinder and that covers the shoulder 211.

제 3 타입의 복수의 전극(215)은 콘택트면에 수직하게 배열되며, 기판 캐리어(210)의 상부면(212)으로부터 돌출한다. 이들 전극은 콘택트면과 접촉하며, 따라서 상부면(212)으로부터 약간, 약 10 μm 내지 15 μm 만큼 돌출한다. 예를 들어, 이들은 도금 관통홀을 구성한다.A plurality of electrodes 215 of a third type are arranged perpendicular to the contact surface and protrude from the top surface 212 of the substrate carrier 210. These electrodes are in contact with the contact surface and thus protrude slightly from the top surface 212 by about 10 [mu] m to 15 [mu] m. For example, they constitute plating through holes.

제 1 금속 스트립(231)은 보존되는데, 이 스트립은 기판 캐리어(210)의 상부면(212)의 테두리에 배치된다. 제 1 금속 스트립(231)은 제 3 타입의 전극(215)과 실질적으로 동일한 레벨이 된다. 이 제 1 금속 스트립은 기판과 기판 캐리어를 포함하는 어셈블리를 실링(sealing)하여 기판의 테두리에서 헬륨이 유출되는 것을 제한한다.A first metal strip 231 is preserved that is disposed on the rim of the upper surface 212 of the substrate carrier 210. The first metal strip 231 is at substantially the same level as the electrode 215 of the third type. This first metal strip seals the assembly comprising the substrate and the substrate carrier to limit the flow of helium at the edge of the substrate.

바람직하게는, 제 2 금속 스트립(232) 또한 콘택트면(213)에 제 1 금속 스트립(231)을 연결하도록 보존되며, 역시 주입 전류로 인한 전하의 배출을 향상시키기 위한 것이다.Preferably, the second metal strip 232 is also reserved to connect the first metal strip 231 to the contact surface 213 and is also intended to improve the discharge of charge due to the injection current.

기판 캐리어를 직접 통과하는 오리피스(217)가 여전히 제공되어, 기판 캐리어(210)의 하부면과 테이블(10) 사이에 존재하는 제 1 공간이 기판 캐리어(210)의 상부면(212)과 기판(40) 사이에 존재하는 제 2 공간과 연결되게 한다.An orifice 217 that passes directly through the substrate carrier is still provided so that a first space present between the bottom surface of the substrate carrier 210 and the table 10 is aligned with the top surface 212 of the substrate carrier 210 and the substrate 40 in the first space.

전술한 기판 캐리어(210)는 “두꺼운 층(thick layer)” 기술을 사용하여 쉽게 구현된다.The above-described substrate carrier 210 is easily implemented using a " thick layer " technique.

제 3 타입의 전극(215)에 있어서, 도금 관통홀 대신에 금속 삽입물을 제공하는 것이 가능하다.In the third type of electrode 215, it is possible to provide a metal insert in place of the plated through hole.

도 1로 다시 돌아오면, 기판 캐리어(20)와 테이블(10) 사이에서 열 교환을 최대한으로 가능하게 하는 것이 바람직하다.Returning to FIG. 1, it is desirable to maximize heat exchange between the substrate carrier 20 and the table 10.

이를 위해, 첫 번째 해결책은, 덕트(11)에 의해 헬륨으로 이들 두 요소 사이에 형성되는 공간을 채우는 것으로 이루어진다.To this end, the first solution consists in filling the space formed between these two elements with helium by the duct 11.

다른 해결책은, 접착체, 그리즈(grease) 또는 인듐 시트(indium sheet)와 같은 열 전도성을 갖는 층을 이들 두 요소 사이에 배치하는 것으로 이루어진다. 환경에 따라서, 이 층도 전기 전도성을 띄는 것이 유리할 수 있다. 그러한 상황에서는, 기판(40)과 기판 캐리어(20) 사이에 존재하는 공간에 헬륨이 도달할 수 있도록 순환로(circuit)를 제공할 필요성이 여전히 존재한다.Another solution consists of placing a thermally conductive layer between these two elements, such as an adhesive, a grease or an indium sheet. Depending on the environment, it may be advantageous for this layer to be electrically conductive. In such a situation, there is still a need to provide a circuit so that helium can reach the space existing between the substrate 40 and the substrate carrier 20. [

전술한 설명에서, 열 전달 가스로서 헬륨만이 언급되었다. 본 발명에는, 가령, 수소와 같은 어떤 다른 가스도 마찬가지로 적용될 수 있다.In the above description, only helium is mentioned as a heat transfer gas. In the present invention, for example, any other gas such as hydrogen can be applied as well.

전술한 본 발명의 실시형태는 구체적 설명을 위해 선택되었다. 그럼에도 불구하고, 본 발명에 포함되는 모든 가능한 실시형태를 빠짐없이 나열하는 것은 가능하지 않다. 특히, 전술한 수단 중 임의의 것은 본 발명의 범위를 벗어나지 않고 균등한 수단에 의해 대체될 수 있다.
The embodiments of the present invention described above have been selected for the purpose of illustration. Nevertheless, it is not possible to enumerate all possible embodiments included in the present invention. In particular, any of the foregoing means may be substituted by equivalent means without departing from the scope of the present invention.

Claims (9)

지지대로서,
전기 전도성의 바이어싱된 테이블(10);
하부면은 상기 바이어싱된 테이블(10)을 향하며, 그 상부면(22, 212)은 기판(40)을 수용하도록 설계된 베어링면을 제공하고, 숄더(211)를 갖는 실린더 형태의 절연 정전 기판 캐리어(20); 및
상기 바이어싱된 테이블(10)에 대해 상기 숄더(211)를 클램핑하기 위한 전기 전도성의 클램핑 칼러(30);를 포함하며,
상기 지지대는 상기 베어링면을 상기 숄더(211)에 연결하기 위한 적어도 하나의 전기 전도성 요소(201, 202, 203; 213, 215)를 포함하여 구성되는 것을 특징으로 하는 지지대.As a support,
An electrically conductive biased table (10);
The lower surface faces the biased table 10 and the upper surfaces 22 and 212 thereof provide a bearing surface designed to receive the substrate 40 and a cylindrical insulated electrostatic substrate carrier with a shoulder 211 (20); And
And an electrically conductive clamping collar (30) for clamping the shoulder (211) against the biased table (10)
Characterized in that said support comprises at least one electrically conductive element (201, 202, 203; 213, 215) for connecting said bearing surface to said shoulder (211). 제 1 항에 있어서,
상기 전기 전도성의 요소는,
상기 상부면(22)의 테두리에 배치되는 제 1 스트립(201);
상기 제 1 스트립(201)과 상기 숄더(211) 사이에서 상기 실린더 위로 연장되는 제 2 스트립(202); 및
상기 제 2 스트립(202)과 접촉하고 상기 숄더(211)상에 배치되는 제 3 스트립(203);을 포함하여 구성되는 것을 특징으로 하는 지지대.The method according to claim 1,
Wherein the electrically conductive element comprises:
A first strip (201) disposed at an edge of the top surface (22);
A second strip (202) extending over the cylinder between the first strip (201) and the shoulder (211); And
And a third strip (203) in contact with the second strip (202) and disposed on the shoulder (211). 제 2 항에 있어서,
상기 기판 캐리어(20)를 통해 통과하며 상기 바이어싱된 테이블(10)과 상기 베어링면 사이의 전기 콘택트를 제공하는 복수의 전극(28, 29)을 더 포함하여 구성되는 것을 특징으로 하는 지지대.3. The method of claim 2,
Further comprising a plurality of electrodes (28, 29) that pass through the substrate carrier (20) and provide electrical contact between the biased table (10) and the bearing surface. 제 1 항에 있어서,
상기 전기 전도성의 요소는,
상기 숄더(211)에서 상기 기판 캐리어(210)에 배치되는 전기 전도성의 콘택트면(213); 및
상기 콘택트면(213)에 연결되고, 상기 상부면(212)으로부터 돌출하여 상기 베어링면을 형성하는 복수의 전극(215)을 포함하여 구성되는 것을 특징으로 하는 지지대.The method according to claim 1,
Wherein the electrically conductive element comprises:
An electrically conductive contact surface (213) disposed on the substrate carrier (210) at the shoulder (211); And
And a plurality of electrodes (215) connected to the contact surface (213) and protruding from the upper surface (212) to form the bearing surface. 제 4 항에 있어서,
상기 베어링면 아래에서 상기 상부면(212)의 테두리에 배치되는 스트립(231)을 더 포함하며,
상기 기판 캐리어(210)는 그 상부면 및 하부면이 개방되어 있는 적어도 하나 이상의 오리피스(orifice, 217)를 포함하여 구성되는 것을 특징으로 하는 지지대.5. The method of claim 4,
Further comprising a strip (231) disposed at an edge of the upper surface (212) below the bearing surface,
Wherein the substrate carrier (210) comprises at least one orifice (217) having open top and bottom surfaces. 제 3 항에 있어서,
상기 상부면(22, 212)과 상기 바이어싱된 테이블(10) 사이에 배치되는 전기 전도성의 층을 더 포함하여 구성되는 것을 특징으로 하는 지지대.The method of claim 3,
Further comprising an electrically conductive layer disposed between the top surface (22, 212) and the biased table (10). 제 3 항 내지 제 5 항 중 어느 한 항에 있어서,
상기 전극(215)은 도금 관통홀(plated-through hole) 형태인 것을 특징으로 하는 지지대.6. The method according to any one of claims 3 to 5,
Wherein the electrode (215) is in the form of a plated-through hole. 제 1 항 내지 제 5 항 중 어느 한 항에 있어서,
상기 바이어싱된 테이블(10)과 접촉하고 상기 하부면의 테두리에 배치되는 가스켓(gasket, 12)을 더 포함하여 구성되는 것을 특징으로 하는 지지대.6. The method according to any one of claims 1 to 5,
Further comprising a gasket (12) in contact with the biased table (10) and disposed at a rim of the lower surface. 제 1 항 내지 제 5 항 중 어느 한 항에 있어서,
상기 하부면과 상기 바이어싱된 테이블(10)사이에 배치되는 열 전도성의 층을 더 포함하여 구성되는 것을 특징으로 하는 지지대.6. The method according to any one of claims 1 to 5,
And a thermally conductive layer disposed between the lower surface and the biased table (10).
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