KR20140067455A - Dual display device and manufacturing method of the same - Google Patents

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Abstract

According to each embodiment of the present invention, a dual display device, which displays images on both surfaces thereof, comprises multiple first and second pixels. Each of the first and the second pixels includes a support substrate; a switching element formed on the top of the support substrate; an organic light emitting unit formed on the top of the switching element and emitting light based on a driving voltage selectively applied from the switching element; and a cover layer formed on the top of the organic light emitting unit to be bonded to the support substrate while facing the support substrate. Each of the first pixels further includes a first reflection layer formed on the bottom of the organic light emitting unit; and a first light shielding layer formed on the bottom of the first reflection layer to shield light toward the support substrate. Each of the second pixels further includes a second reflection layer formed on the top of the organic light emitting unit; and a second light shielding layer formed on the top of the second reflection layer to shield light toward the cover layer.

Description

양면표시장치 및 그의 제조방법{DUAL DISPLAY DEVICE and MANUFACTURING METHOD OF THE SAME}DISPLAY DEVICE AND MANUFACTURING METHOD OF THE SAME

본원은 양면에 서로 다른 영상을 표시할 수 있는 양면표시장치 및 그의 제조방법에 관한 것으로, 양면영상의 잔상을 감소시킬 수 있는 양면표시장치 및 그의 제조방법에 관한 것이다.The present invention relates to a double-sided display device capable of displaying different images on both sides and a method of manufacturing the same, and more particularly, to a double-sided display device capable of reducing the afterimage of a double-sided image and a method of manufacturing the same.

본격적인 정보화 시대로 접어듦에 따라, 전기적 정보신호를 시각적으로 표시하는 디스플레이(display) 분야가 급속도로 발전하고 있다. 이에, 여러가지 다양한 평판표시장치(Flat Display Device)에 대해 박형화, 경량화 및 저소비전력화 등의 성능을 개발시키기 위한 연구가 계속되고 있다.As the era of informationization becomes full-scale, the display field for visually displaying electrical information signals is rapidly developing. Accordingly, studies are being continued to develop performance such as thinning, lightening, and low power consumption for various various flat display devices.

이 같은 평판표시장치의 대표적인 예로는 액정표시장치(Liquid Crystal Display device: LCD), 플라즈마표시장치(Plasma Display Panel device: PDP), 전계방출표시장치(Field Emission Display device: FED), 전기발광표시장치(Electro Luminescence Display device: ELD), 전기습윤표시장치(Electro-Wetting Display device: EWD) 및 유기발광표시장치(Organic Light Emitting Display device: OLED) 등을 들 수 있다.Typical examples of such flat panel display devices include a liquid crystal display device (LCD), a plasma display panel (PDP), a field emission display (FED) An electroluminescence display device (ELD), an electro-wetting display device (EWD), and an organic light emitting display device (OLED).

이 중 유기발광표시장치(이하, "OLED"라 함)는 자체 발광형 소자인 유기발광소자(Organic Light Emitting Diode)를 이용하여 화상을 표시하는 장치이다.Among them, an organic light emitting display (hereinafter referred to as "OLED") is an apparatus that displays an image using an organic light emitting diode (organic light emitting diode).

이에, OLED는 서로 다른 색상의 광을 방출하는 둘 이상의 유기발광소자를 포함함으로써, 별도의 컬러필터를 구비하지 않고서도 컬러화상을 구현할 수 있는 장점이 있다. 그리고, 별도의 광원을 구비할 필요가 없으므로, 액정표시장치보다 소형화, 박형화 및 경량화에 유리한 장점, 시야각이 넓은 장점, 및 1000배 이상 빠른 반응속도를 나타내어 잔상이 적은 장점이 있다.Accordingly, the OLED includes two or more organic light emitting devices that emit light of different colors, so that it is possible to realize a color image without having a separate color filter. In addition, since there is no need to provide a separate light source, the liquid crystal display device has advantages such as miniaturization, thinness and light weight, wide viewing angle, and 1000 times faster response speed.

한편, OLED는 유기발광소자의 발광층과 반사층 간의 상대적 위치에 따라, 전면발광형, 후면발광형 및 양면발광형(즉, 양면표시장치) 중 어느 하나로 구현될 수 있다.Meanwhile, the OLED may be implemented by any one of a front emission type, a back emission type, and a double-sided emission type (i.e., a double-sided display device) depending on the relative position between the light emitting layer and the reflective layer of the organic light emitting device.

즉, 복수의 화소 전체가 반사층 상에 형성된 발광층을 포함하는 경우, OLED는 상면에 셀 어레이가 형성되는 기판 상부 측으로 광을 방출하는 전면 발광형이 된다. 또는, 복수의 화소 전체가 발광층 상에 형성된 반사층을 포함하는 경우, OLED는 광을 기판 하부 측으로 방출하는 후면 발광형이 된다.That is, when a plurality of pixels includes the light emitting layer formed on the reflective layer, the OLED becomes a top emission type emitting light toward the upper side of the substrate on which the cell array is formed. Alternatively, when the entire plurality of pixels includes a reflective layer formed on the light emitting layer, the OLED becomes a back light emitting type that emits light toward the lower side of the substrate.

그리고, 복수의 화소 중 일부가 전면발광형이고, 나머지 일부가 후면발광형인 경우, OLED는 양면발광형(이하, "양면표시장치"라 함)가 된다.When a part of the plurality of pixels is of the top emission type and the remaining part of the plurality of pixels is of the back emission type, the OLED becomes a both-side emission type (hereinafter referred to as "

그런데, 양면표시장치에 있어서, 전면발광형 화소로부터 방출된 광의 일부가 반사층을 투과하여 기판 하부 측으로도 방출되거나, 반대로, 후면발광형 화소로부터 방출된 광의 일부가 반사층을 투과하여 기판 상부 측으로도 방출될 수 있다. 이와 같이, 양면표시장치의 전면영상과 후면영상이 상호 영향을 주고 받음에 따라, 양면표시장치의 전면영상 및 후면영상에서 잔상이 발생하는 문제점, 및 그로 인해 전면 및 후면 영상의 콘트라스트비가 저하되는 문제점이 있다.However, in the double-sided display device, a part of the light emitted from the top emission type pixel is also transmitted to the lower side of the substrate through the reflection layer, or conversely, a part of the light emitted from the back emission type pixel is also transmitted to the upper side of the substrate . As described above, there is a problem that a front image and a rear image of the double-sided display device are mutually influenced and mutually influenced, resulting in a residual image on a front image and a rear image of the double-side display device, .

아래의 표 1은 일반적인 양면표시장치에 있어서, 후면발광형 화소들을 모두 턴오프시킨 상태에서 전면발광형 화소를 턴온시키는 경우, 각 전면휘도에 따른 후면휘도를 측정한 결과를 나타낸 것이다.Table 1 below shows the result of measurement of the back luminance according to the front luminance when the front emission type pixel is turned on in the state that both the back emission type pixels are turned off in the general double-sided display device.

전면휘도 (nit)Front luminance (nit) 후면휘도(nit)Rear luminance (nit) 후면휘도/전면휘도 비율(%)Rear Luminance / Front Luminance Ratio (%) 4848 3.13.1 6.466.46 4444 2.682.68 6.096.09 46.2246.22 2.62.6 5.665.66 39.6839.68 1.981.98 4.994.99

표 1에 나타난 바와 같이, 일반적인 양면표시장치의 경우, 후면발광형 화소들을 모두 턴오프시켰음에도 불구하고, 후면휘도가 0이 되지 않는 점, 및 전면휘도 대비 후면휘도의 비율이 점차 높아지는 점에서, 후면영상은 전면영상으로부터 소정의 영향을 받고 있음을 알 수 있다.As shown in Table 1, in the case of a general double-sided display device, in spite of turning off all the backlit pixels, the rear luminance does not become zero and the ratio of the front luminance to the rear luminance gradually increases, It can be seen that the rear image is affected by the front image.

따라서, 양면표시장치에 있어서, 전면영상과 후면영상 간의 영향을 감소시킬 수 있는 방안이 마련될 필요가 있다.Therefore, it is necessary to provide a way to reduce the influence between the front image and the rear image in the double-sided display device.

본원은 전면영상과 후면영상 간의 영향을 감소시킬 수 있는 양면표시장치 및 그의 제조방법을 제공하기 위한 것이다.The present invention provides a double-sided display device capable of reducing the influence between a front image and a rear image and a manufacturing method thereof.

이와 같은 과제를 해결하기 위하여, 본원은 일측 방향으로 광을 방출하는 복수의 제 1 화소, 및 일측 방향에 반대되는 다른 일측 방향으로 광을 방출하는 복수의 제 2 화소를 포함하여, 양면으로 영상을 표시하는 양면표시장치에 있어서, 복수의 제 1 및 제 2 화소 각각은, 지지기판; 상기 지지기판의 상측에 형성되는 스위칭소자; 상기 스위칭소자의 상측에 형성되고, 상기 스위칭소자로부터 선택적으로 인가되는 구동전압에 기초하여 광을 방출하는 유기발광부; 및 상기 유기발광부를 밀봉하도록, 상기 유기발광부의 상측에 상기 지지기판과 대향 합착되어 형성되는 커버층을 포함하는 양면표시장치를 제공한다. 여기서, 상기 복수의 제 1 화소 각각은, 상기 유기발광부의 하부에 상기 유기발광부와 대응하도록 형성되고 상기 유기발광부로부터 방출된 광을 상기 커버층 측으로 반사하는 제 1 반사층; 및 상기 제 1 반사층의 하측에 형성되고 상기 지지기판 측으로 향하는 광을 차폐하는 제 1 광차폐층을 더 포함한다. 그리고, 상기 복수의 제 2 화소 각각은, 상기 유기발광부의 상측에 상기 유기발광부와 대응하도록 형성되고 상기 유기발광부로부터 방출된 광을 상기 지지기판 측으로 반사하는 제 2 반사층; 및 상기 제 2 반사층의 상측에 형성되고 상기 커버층 측으로 향하는 광을 차폐하는 제 2 광차폐층을 더 포함한다.According to an aspect of the present invention, there is provided a display device including a plurality of first pixels for emitting light in one direction and a plurality of second pixels for emitting light in the other direction opposite to the one direction, A two-sided display device according to claim 1, wherein each of the plurality of first and second pixels comprises: a support substrate; A switching device formed on the supporting substrate; An organic light emitting portion formed on the switching element and emitting light based on a driving voltage selectively applied from the switching element; And a cover layer formed on the organic light emitting portion so as to face the support substrate so as to seal the organic light emitting portion. Each of the plurality of first pixels includes a first reflective layer formed below the organic light emitting portion and corresponding to the organic light emitting portion and reflecting the light emitted from the organic light emitting portion toward the cover layer side. And a first light-shielding layer formed below the first reflective layer and shielding light toward the support substrate. Each of the plurality of second pixels includes a second reflective layer formed on the organic light emitting portion and corresponding to the organic light emitting portion and reflecting the light emitted from the organic light emitting portion toward the support substrate side. And a second light-shielding layer formed on the second reflective layer and shielding light directed toward the cover layer.

그리고, 본원은 일측 방향으로 광을 방출하는 복수의 제 1 화소, 및 일측 방향에 반대되는 다른 일측 방향으로 광을 방출하는 복수의 제 2 화소를 포함하여, 양면으로 영상을 표시하는 양면표시장치를 제조하는 방법에 있어서, 지지기판의 상측에, 상기 복수의 제 1 및 제 2 화소 각각의 스위칭소자를 형성하는 단계; 스위칭소자의 상측에, 상기 복수의 제 1 및 제 2 화소 각각의 유기발광부를 형성하는 단계; 상기 유기발광부의 상부에, 상기 유기발광부를 덮는 보호층을 형성하는 단계; 상기 보호층의 상측에, 상기 유기발광부를 밀봉하는 커버층을 상기 지지기판에 대면 합착하여 형성하는 단계를 포함하는 양면표시장치의 제조방법을 제공한다. 여기서, 양면표시장치의 제조방법은 상기 복수의 제 1 화소 각각의 유기발광부의 하부에, 광을 상기 커버층 측으로 반사하는 제 1 반사층을 형성하는 단계; 상기 지지기판 측으로 향하는 광을 차폐하는 제 1 광차폐층을, 상기 제 1 반사층의 하측에 형성하는 단계; 상기 복수의 제 2 화소 각각의 유기발광부의 상부에, 광을 상기 지지기판 측으로 반사하는 제 2 반사층을 형성하는 단계; 및 상기 커버층 측으로 향하는 광을 차폐하는 제 2 광차폐층을, 상기 제 2 반사층의 상측에 형성하는 단계를 더 포함한다.The present invention relates to a two-sided display device for displaying an image on both sides, including a plurality of first pixels emitting light in one direction and a plurality of second pixels emitting light in the other direction opposite to the one direction, A method of manufacturing a semiconductor device, comprising: forming a switching element of each of the plurality of first and second pixels on a supporting substrate; Forming an organic light emitting portion of each of the plurality of first and second pixels on the upper side of the switching element; Forming a protective layer covering the organic light emitting portion on the organic light emitting portion; And forming a cover layer for sealing the organic light emitting portion on the support substrate by being adhered to the support substrate on the upper side of the protective layer. Here, the method of manufacturing a double-sided display device may include forming a first reflective layer on the lower portion of the organic light emitting portion of each of the plurality of first pixels, the first reflective layer reflecting light toward the cover layer side; Forming a first light-shielding layer on the lower side of the first reflective layer to shield light directed toward the support substrate; Forming a second reflective layer on the organic light emitting portion of each of the plurality of second pixels, the second reflective layer reflecting light toward the support substrate; And forming a second light-shielding layer on the upper side of the second reflective layer to shield light directed toward the cover layer side.

본원의 각 실시예에 따른 양면표시장치는 복수의 제 1 화소 각각에 대응한 제 1 광차폐층 또는 제 2 광필름의 광차폐패턴, 및 복수의 제 2 화소 각각에 대응한 제 2 광차폐층 또는 제 1 광필름의 광차폐패턴을 포함함으로써, 제 1 화소의 광이 제 2 화소의 광 방출 방향으로 방출되는 것과, 제 2 화소의 광이 제 1 화소의 광 방출 방향으로 방출되는 것이 방지될 수 있다.The double-sided display device according to each embodiment of the present invention includes a light shielding pattern of the first light shielding layer or the second light film corresponding to each of the plurality of first pixels and a light shielding pattern of the second light shielding layer corresponding to each of the plurality of second pixels, Or the light shielding pattern of the first optical film, the light of the first pixel is emitted in the light emitting direction of the second pixel and the light of the second pixel is prevented from being emitted in the light emitting direction of the first pixel .

이로써, 복수의 제 1 화소를 포함한 제 1 표시부와, 복수의 제 2 화소를 포함한 제 2 표시부가 상호 영향을 주고 받음에 따른 제 1 및 제 2 면 영상에서의 잔상 발생, 및 그로 인한 콘트라스트비 저하를 방지할 수 있다. 그러므로, 양면표시장치의 화질이 향상될 수 있다.Thereby, a residual image is generated in the first and second surface images due to mutual influences between the first display section including the plurality of first pixels and the second display section including the plurality of second pixels, and the resulting contrast ratio degradation Can be prevented. Therefore, the image quality of the double-side display device can be improved.

도 1은 본원의 제 1 실시예에 따른 양면표시장치를 나타낸 개요도이다.
도 2a 및 도 2b는 본원의 일 실시예에 따른 양면표시장치의 화소 배열 구조에 대한 예시들을 나타낸 평면도이다.
도 3a 내지 도 3c는 도 2a의 I-I'로서, 본원의 제 1 실시예에 따른 제 1 화소의 예시들을 나타낸 개략도이다.
도 4a 및 도 4b는 도 1a의 II-II'로서, 본원의 제 1 실시예에 따른 제 2 화소의 예시들을 나타낸 개략도이다.
도 5 내지 도 7은 도 1a의 III-III'로서, 본원의 제 1 실시예에 따른 제 1 및 제 2 화소의 예시들을 나타낸 단면도이다.
도 8은 본원의 제 1 실시예에 따른 양면표시장치의 제조방법을 나타낸 순서도이다.
도 9는 본원의 제 2 실시예에 따른 제 1 및 제 2 화소를 나타낸 단면도이다.
도 10a 및 도 10b는 도 9에 도시된 제 1 및 제 2 광필름을 나타낸 평면도이다.
도 11은 본원의 제 2 실시예에 따른 양면표시장치의 제조방법을 나타낸 순서도이다.
도 12a 내지 도 12d는 도 11의 제조방법을 나타낸 공정도이다.
1 is a schematic diagram showing a double-sided display device according to a first embodiment of the present invention.
2A and 2B are plan views showing examples of the pixel arrangement structure of the double-sided display device according to one embodiment of the present invention.
Figures 3A-3C are schematic diagrams illustrating examples of a first pixel according to the first embodiment of the present invention, taken along line I-I 'of Figure 2A.
4A and 4B are schematic views showing examples of a second pixel according to the first embodiment of the present invention as II-II 'of FIG. 1A.
5 to 7 are sectional views showing examples of the first and second pixels according to the first embodiment of the present invention, as III-III 'of FIG. 1A.
8 is a flowchart showing a method of manufacturing the double-sided display device according to the first embodiment of the present invention.
9 is a cross-sectional view illustrating first and second pixels according to a second embodiment of the present invention.
10A and 10B are plan views showing the first and second optical films shown in FIG.
11 is a flowchart showing a manufacturing method of a double-sided display device according to a second embodiment of the present invention.
12A to 12D are process drawings showing the manufacturing method of Fig.

이하, 본원의 각 실시예에 따른 양면표시장치 및 그의 제조방법에 대하여 첨부한 도면을 참고로 하여 상세히 설명하기로 한다.Hereinafter, a double-sided display device and a method of manufacturing the same according to embodiments of the present invention will be described in detail with reference to the accompanying drawings.

먼저, 도 1, 도 2a, 도 2b, 도 3a 내지 도 3c, 도 4a, 도 4b 및 도 5 내지 도 7을 참조하여, 본원의 제 1 실시예에 따른 양면표시장치에 대해 설명한다.First, with reference to Figs. 1, 2A, 2B, 3A to 3C, 4A, 4B and 5 to 7, a double-side display device according to the first embodiment of the present invention will be described.

도 1은 본원의 제 1 실시예에 따른 양면표시장치를 나타낸 개요도이고, 도 2a 및 도 2b는 본원의 제 1 실시예에 따른 양면표시장치의 화소 배열 구조에 대한 예시들을 나타낸 평면도이다. 그리고, 도 3a 내지 도 3c는 도 2a의 I-I'로서, 본원의 제 1 실시예에 따른 제 1 화소의 예시들을 나타낸 개략도이고, 도 4a 및 도 4b는 도 1a의 II-II'로서, 본원의 제 1 실시예에 따른 제 2 화소의 예시들을 나타낸 개략도이다. 또한, 도 5 내지 도 7은 도 1a의 III-III'로서, 본원의 제 1 실시예에 따른 제 1 및 제 2 화소의 예시들을 나타낸 단면도이다.FIG. 1 is a schematic view showing a double-sided display device according to a first embodiment of the present invention, and FIGS. 2 (a) and 2 (b) are plan views showing examples of a pixel arrangement structure of a double-sided display device according to a first embodiment of the present invention. 3A to 3C are schematic views showing examples of the first pixel according to the first embodiment of the present invention as I-I 'in FIG. 2A, FIGS. 4A and 4B are II-II' 1 is a schematic diagram illustrating examples of a second pixel according to the first embodiment of the present application. 5 to 7 are sectional views showing examples of the first and second pixels according to the first embodiment of the present invention, as III-III 'of FIG. 1A.

도 1에 도시한 바와 같이, 본원의 제 1 실시예에 따른 양면표시장치(100)는 일측 방향(①)으로 광을 방출하여 제 1 면에서 영상을 표시하는 제 1 표시부(A), 및 일측 방향에 반대되는 다른 일측 방향(②)으로 광을 방출하여 제 1 면에 대면하는 제 2 면에서 영상을 표시하는 제 2 표시부(B)를 포함한다.As shown in FIG. 1, the two-sided display device 100 according to the first embodiment of the present invention includes a first display portion A that emits light in one direction (1) and displays an image on the first surface, And a second display portion (B) for displaying an image on a second surface facing the first surface by emitting light in the other direction (2) opposite to the direction.

여기서, 제 1 표시부(A)는 일측 방향(①)으로 광을 방출하는 복수의 제 1 화소를 포함하고, 제 2 표시부(B)는 다른 일측 방향(②)으로 광을 방출하는 복수의 제 2 화소를 포함한다.Here, the first display portion A includes a plurality of first pixels for emitting light in one direction (1), and the second display portion B includes a plurality of second pixels for emitting light in the other one direction (2) Pixel.

도 2a에 도시한 바와 같이, 복수의 제 1 화소(A) 및 복수의 제 2 화소(B)는 제 1 및 제 2 방향(도 2a에서 가로, 세로 방향에 해당함)으로 매트릭스 배열된다. 그리고, 복수의 제 1 및 제 2 화소(A, B)는 제 1 및 제 2 방향 중 적어도 하나의 방향으로 교번하여 배열된다.2A, a plurality of first pixels A and a plurality of second pixels B are arranged in a matrix in first and second directions (corresponding to the horizontal and vertical directions in FIG. 2A). The plurality of first and second pixels A and B are alternately arranged in at least one of the first and second directions.

예시적으로, 복수의 제 1 및 제 2 화소(A, B)는 제 1 및 제 2 방향으로 교번하여 배열될 수 있다.Illustratively, the plurality of first and second pixels A, B may be alternately arranged in the first and second directions.

또는, 도 2b에 도시한 바와 같이, 복수의 제 1 및 제 2 화소(A, B)는 게이트라인과 마찬가지로, 제 1 방향(도 2a에서 가로 방향임)의 열 단위로, 제 2 방향(도 2a에서 세로 방향임)을 따라 교번하여 배열될 수 있다.2B, the plurality of first and second pixels A and B are arranged in a first direction (in the horizontal direction in FIG. 2A) in a row unit, in the second direction 2a in the vertical direction).

도 3a에 도시한 바와 같이, 복수의 제 1 화소(A) 각각은 지지기판(11), 지지기판(11)의 상측에 형성되는 스위칭소자(12), 스위칭소자(12)의 상측에 형성되는 유기발광부(13), 유기발광부(13)의 상부에 형성되는 보호층(14), 및 보호층(14)의 상측에 형성되는 커버층(15)을 포함한다. 그리고, 복수의 제 1 화소(A) 각각은 커버층(15)의 상부에 형성되는 제 1 편광층(21)을 더 포함한다. 또한, 복수의 제 1 화소(A) 각각은 유기발광부(13)의 하부에 형성되는 제 1 반사층(16), 및 제 1 반사층(16)의 하측에 형성되는 제 1 광차폐층(17)을 더 포함한다.3A, each of the plurality of first pixels A includes a supporting substrate 11, a switching element 12 formed on the upper side of the supporting substrate 11, and a switching element 12 formed on the upper side of the switching element 12 A protective layer 14 formed on the organic light emitting portion 13 and a cover layer 15 formed on the protective layer 14. The organic light emitting portion 13 is formed on the organic light emitting portion 13, Each of the plurality of first pixels (A) further includes a first polarizing layer (21) formed on the cover layer (15). Each of the plurality of first pixels A includes a first reflective layer 16 formed under the organic light emitting portion 13 and a first light shielding layer 17 formed under the first reflective layer 16, .

참고로, 본 명세서에서, "상측"은 제 1 표시부(A)의 광 방출 방향인 일측 방향을 따라 이웃하거나 이격되는 위치를 의미하고, "하측"는 제 2 표시부(B)의 광 방출 방향인 다른 일측 방향을 따라 이웃하거나 이격되는 위치를 의미한다. 그리고, "상부"는 일측 방향으로 이웃하는 위치를 의미하고, "하부"는 다른 일측 방향으로 이웃하는 위치를 의미한다.Refers to a position that is adjacent or spaced apart along one direction that is the light emitting direction of the first display portion A and "lower" refers to a light emitting direction of the second display portion B Means a position that is neighboring or spaced along another direction. The "upper" means a position neighboring in one direction, and the "lower" means a position neighboring in the other direction.

지지기판(11)은 광이 지지기판을 투과하여 외부로 방출될 수 있도록, 투과성을 갖는 재료로 마련된다. 그리고, 지지기판(11)은 유연성이 있는 필름 형태로 마련될 수도 있다.The support substrate 11 is made of a material having transparency so that light can be transmitted through the support substrate and emitted to the outside. The support substrate 11 may be provided in the form of a flexible film.

도 3a의 도시와 같이, 스위칭소자(12)는 지지기판(11)의 상부에 형성될 수 있다. 그리고, 도 3a에서 상세히 도시되어 있지 않으나, 스위칭소자(12)는 게이트라인에 연결되는 게이트전극, 데이터라인에 연결되는 소스전극, 및 유기발광부(13)에 연결되는 드레인전극을 포함한다.As shown in Fig. 3A, the switching element 12 may be formed on the upper portion of the supporting substrate 11. Fig. 3A, the switching element 12 includes a gate electrode connected to the gate line, a source electrode connected to the data line, and a drain electrode connected to the organic light emitting portion 13. [

유기발광부(13)는 스위칭소자(12)의 상측에 형성되고, 스위칭소자(12)와 연결된다. 이러한 유기발광부(13)는 스위칭소자(12)로부터 선택적으로 인가된 구동전압에 기초하여, 소정 파장영역의 광을 방출한다.The organic light emitting portion 13 is formed on the upper side of the switching element 12 and is connected to the switching element 12. [ The organic light emitting portion 13 emits light in a predetermined wavelength region based on a driving voltage selectively applied from the switching element 12. [

한편, 스위칭소자(12) 및 유기발광부(13)에 대해서는 이하에서 도 5 내지 도 7을 참조하여 상세히 설명하기로 한다.On the other hand, the switching element 12 and the organic light emitting portion 13 will be described below in detail with reference to FIG. 5 to FIG.

보호층(14)은 유기발광부(13)의 상부에, 유기발광부(13)를 덮도록 형성된다. 그리고, 보호층(14)는 유기 또는 무기의 절연재료로 선택되는 단일층 또는 다중층으로 형성될 수 있다. 이러한 보호층(14)에 의해, 유기발광부(13)는 물리적, 전기적 충격으로부터 보호될 수 있다.The protective layer 14 is formed on the organic light emitting portion 13 so as to cover the organic light emitting portion 13. The protective layer 14 may be formed of a single layer or multiple layers selected from organic or inorganic insulating materials. With this protective layer 14, the organic light emitting portion 13 can be protected from physical and electrical shocks.

커버층(15)은 보호층(14)의 상부에 지지기판(10)과 대면 합착하여 형성된다. 이러한 커버층(15)은 투과성을 갖는 기판, 또는 투과성과 유연성을 갖는 필름 형태로 마련될 수 있다.The cover layer 15 is formed by face-to-face cementing with the support substrate 10 on the protective layer 14. The cover layer 15 may be provided as a substrate having transparency or in the form of a film having permeability and flexibility.

이와 같이, 지지기판(11)과 커버층(15)이 대면 합착됨에 따라, 지지기판(11)과 커버층(15) 사이의 유기발광부(13)는 밀봉되어, 외부의 수분 및 산소로부터 차단될 수 있다.The organic light emitting portion 13 between the support substrate 11 and the cover layer 15 is sealed and shielded from external moisture and oxygen as the support substrate 11 and the cover layer 15 are face- .

제 1 편광층(21)은 커버층(21)의 상부에 형성되어, 커버층(21)을 투과한 광을 편광하여 외부로 방출한다.The first polarizing layer 21 is formed on the cover layer 21 to polarize the light transmitted through the cover layer 21 and emit the polarized light to the outside.

제 1 반사층(16)은 유기발광부(13)의 하부, 즉 스위칭소자(12)와 유기발광부(13) 사이에, 유기발광부(13)와 대응하도록 형성된다. 그리고, 제 1 반사층(16)은 반사성을 갖는 재료로, 유기발광부(13)를 가리도록 유기발광부(13) 이상의 크기로 형성된다. 이러한 제 1 반사층(16)은 유기발광부(13)로부터 방출된 광을 커버층(15) 측으로 반사한다.The first reflective layer 16 is formed to correspond to the organic light emitting portion 13 under the organic light emitting portion 13, that is, between the switching element 12 and the organic light emitting portion 13. The first reflective layer 16 is made of a reflective material and has a size larger than that of the organic light emitting portion 13 so as to cover the organic light emitting portion 13. The first reflective layer 16 reflects the light emitted from the organic light emitting portion 13 toward the cover layer 15 side.

이로써, 제 1 화소(A)는 유기발광부(13) 하측에 형성된 제 1 반사층(16)에 의해 일측 방향(도 1의 ①에 해당함)으로 광을 방출하는 영역이 된다.Thus, the first pixel A is a region that emits light in one direction (corresponding to? In FIG. 1) by the first reflective layer 16 formed under the organic light emitting portion 13.

제 1 광차폐층(17)은 제 1 반사층(16)의 하측에, 유기발광부(13)와 대응하도록 형성된다. 일 예로, 도 3a의 도시와 같이, 제 1 광차폐층(17)은 스위칭소자(12)와 제 1 반사층(16) 사이에 형성될 수 있다.The first light-blocking layer 17 is formed on the lower side of the first reflective layer 16 to correspond to the organic light-emitting portion 13. For example, as shown in FIG. 3A, the first light-blocking layer 17 may be formed between the switching element 12 and the first reflective layer 16.

그리고, 제 1 광차폐층(17)은, 카본블랙과 같이 광을 차폐하는 재료로, 유기발광부(13)를 가리도록 유기발광부(13) 이상의 크기로 형성된다. 이에, 제 1 광차폐층(17)은, 제 1 반사층(16)을 투과하여 지지기판(11) 측으로 향하는 광을 차폐한다. The first light-shielding layer 17 is formed of a material such as carbon black that shields light and has a size larger than that of the organic light-emitting portion 13 so as to cover the organic light- Thus, the first light-shielding layer 17 shields the light passing through the first reflection layer 16 and directed toward the support substrate 11 side.

이로써, 제 1 화소(A)의 광이 다른 일측 방향(도 1의 ②에 해당함)으로 방출되는 것이 방지되므로, 제 1 표시부(도 1의 A)에 의한 제 2 표시부(도 1의 B)에서의 잔상 발생, 및 그로 인한 콘트라스트비 저하가 방지될 수 있다.This prevents the light of the first pixel A from being emitted in the other direction (corresponding to? In Fig. 1), so that the second display portion (B in Fig. 1) by the first display portion And the deterioration of the contrast ratio due to the occurrence of the after-image can be prevented.

특히, 제 1 광차폐층(17)은 제 1 반사층(16)을 가리면서 제 2 화소(B) 영역을 가리지 않도록, 제 1 반사층(16) 이상이고 제 1 화소(A) 영역 이하인 크기로 형성될 수 있다. 이와 같이 하면, 제 1 화소(A) 영역에서 다른 일측 방향(도 1의 ②)으로의 빛샘이 더욱 견고하게 방지될 수 있다.In particular, the first light-blocking layer 17 is formed to have a size larger than the first reflective layer 16 and smaller than the first pixel A region so as to cover the second pixel B region while covering the first reflective layer 16 . In this way, the light leakage from the first pixel (A) region to the other one direction (② in Fig. 1) can be more firmly prevented.

한편, 제 1 광차폐층(17)은 스위칭소자(12)와 제 1 반사층(16) 사이 외에도, 제 1 반사층(16)의 하측에 해당하는 다른 위치에 형성될 수도 있다.The first light-blocking layer 17 may be formed on the lower side of the first reflective layer 16 in addition to the switching element 12 and the first reflective layer 16.

즉, 도 3b에 도시한 바와 같이, 제 1 광차폐층(17')은 스위칭소자(12)와 지지기판(11) 사이에 형성될 수도 있다.That is, as shown in FIG. 3B, the first light-blocking layer 17 'may be formed between the switching element 12 and the support substrate 11. [

또는, 도 3c에 도시한 바와 같이, 제 1 광차폐층(17'')은 지지기판(11)의 하부에 형성될 수도 있다.Alternatively, as shown in FIG. 3C, the first light-shielding layer 17 '' may be formed under the support substrate 11.

도 4a에 도시한 바와 같이, 복수의 제 2 화소(B) 각각은, 복수의 제 1 화소(A) 각각과 마찬가지로, 지지기판(11), 지지기판(11)의 상측에 형성되는 스위칭소자(12), 스위칭소자(12)의 상측에 형성되는 유기발광부(13), 유기발광부(13)의 상부에 형성되는 보호층(14), 및 보호층(14)의 상측에 형성되는 커버층(15)을 포함한다. 그리고, 복수의 제 2 화소(B) 각각은 지지기판(11)의 하부에 형성되는 제 2 편광층(22)을 더 포함한다. 또한, 복수의 제 2 화소(B) 각각은 유기발광부(13)의 상부에 형성되는 제 2 반사층(18), 및 제 2 반사층(18)의 상측에 형성되는 제 2 광차폐층(19)을 더 포함한다.As shown in Fig. 4A, each of the plurality of second pixels B includes a supporting substrate 11, a switching element (not shown) formed on the supporting substrate 11 An organic light emitting portion 13 formed on the upper side of the switching element 12, a protective layer 14 formed on the organic light emitting portion 13 and a cover layer 14 formed on the protective layer 14, (15). Each of the plurality of second pixels B further includes a second polarizing layer 22 formed on the lower portion of the supporting substrate 11. Each of the plurality of second pixels B includes a second reflective layer 18 formed on the organic light emitting portion 13 and a second light shielding layer 19 formed on the second reflective layer 18, .

즉, 복수의 제 2 화소(B) 각각은, 제 1 편광층(21), 제 1 반사층(16) 및 제 1 광차폐층(17) 대신, 제 2 편광층(22), 제 2 반사층(18) 및 제 2 광차폐층(19)을 포함한다는 것을 제외하면, 복수의 제 1 화소(A) 각각과 동일하므로, 이하에서 중복되는 설명은 생략하기로 한다.That is, each of the plurality of second pixels B includes a second polarizing layer 22 and a second polarizing layer 22 instead of the first polarizing layer 21, the first reflecting layer 16 and the first light blocking layer 17 18 and the second light-shielding layer 19, the description of the second light-shielding layer 19 will be omitted.

제 2 편광층(22)은 지지기판(11)의 하부에 형성되어, 지지기판(11)을 투과한 광을 편광하여 외부로 방출한다.The second polarizing layer 22 is formed under the support substrate 11 to polarize the light transmitted through the support substrate 11 and emit the polarized light to the outside.

제 2 반사층(18)은 유기발광부(13)의 상측, 즉 보호층(14)과 커버층(15) 사이에, 유기발광부(13)와 대응하도록 형성된다. 그리고, 제 2 반사층(18)은 반사성을 갖는 재료로, 유기발광부(13)를 가리도록 유기발광부(13) 이상의 크기로 형성된다. 이러한 제 2 반사층(18)은 유기발광부(13)로부터 방출된 광을 지지기판(11) 측으로 반사한다.The second reflective layer 18 is formed to correspond to the organic light emitting portion 13 on the upper side of the organic light emitting portion 13, that is, between the protective layer 14 and the cover layer 15. The second reflective layer 18 is made of a reflective material and has a size larger than that of the organic light emitting portion 13 so as to cover the organic light emitting portion 13. The second reflective layer 18 reflects the light emitted from the organic light emitting portion 13 toward the support substrate 11.

이로써, 제 2 화소(B)는 유기발광부(13)의 상측에 형성된 제 2 반사층(18)에 의해 다른 일측 방향(도 1의 ②)으로 광을 방출하는 영역이 된다.Thus, the second pixel B is a region that emits light in the other direction (indicated by? In FIG. 1) by the second reflective layer 18 formed on the upper side of the organic light emitting portion 13.

제 2 광차폐층(19)은 제 2 반사층(18)의 상측에, 유기발광부(13)와 대응하도록 형성된다. 일 예로, 도 4a의 도시와 같이, 제 2 광차폐층(19)은 제 2 반사층(18)과 커버층(15) 사이에 형성될 수 있다.The second light-shielding layer 19 is formed on the second reflective layer 18 so as to correspond to the organic light-emitting portion 13. For example, as shown in FIG. 4A, a second light-shielding layer 19 may be formed between the second reflective layer 18 and the cover layer 15.

그리고, 제 2 광차폐층(19)은 카본블랙과 같이 광을 차폐하는 재료로, 유기발광부(13)를 가리도록, 유기발광부(13) 이상의 크기로 형성된다. 이에, 제 2 광차폐층(19)은, 제 2 반사층(18)을 투과하여 커버층(15) 측으로 향하는 광을 차폐한다.The second light-blocking layer 19 is formed of a material such as carbon black that shields light and has a size larger than that of the organic light-emitting portion 13 so as to cover the organic light- Thus, the second light-shielding layer 19 shields the light passing through the second reflection layer 18 and directed toward the cover layer 15 side.

이로써, 제 2 화소(B)의 광이 일측 방향(도 1의 ①)으로 방출되는 것이 방지되므로, 제 2 표시부(도 1의 B)에 의한 제 1 표시부(도 1의 A)에서의 잔상 발생, 및 그로 인한 콘트라스트비 저하가 방지될 수 있다.1) by the second display portion (B in Fig. 1) is prevented because the light of the second pixel B is prevented from being emitted in one direction (1 in Fig. 1) , And consequently a reduction in the contrast ratio can be prevented.

또한, 제 2 광차폐층(19)은 제 2 반사층(18)을 가리면서 제 1 화소(A) 영역을 가리지 않도록, 제 2 반사층(18) 이상이고 제 2 화소(B) 영역 이하인 크기로 형성될 수 있다. 이와 같이 하면, 제 2 화소(B) 영역에서 일측 방향(도 1의 ①)으로의 빛샘이 더욱 견고하게 방지될 수 있다.The second light blocking layer 19 is formed to have a size larger than that of the second reflective layer 18 and smaller than that of the second pixel B so as not to block the first pixel A region while covering the second reflective layer 18, . In this way, the light leakage from the second pixel (B) region to one direction (1 in Fig. 1) can be more firmly prevented.

한편, 제 2 광차폐층(19)은 제 2 반사층(18)과 커버층(15) 사이 외에도, 제 2 반사층(18)의 상측에 해당하는 다른 위치에 형성될 수 있다.The second light-shielding layer 19 may be formed on the second reflective layer 18 at a position other than the second reflective layer 18 and the cover layer 15.

즉, 도 4b에 도시한 바와 같이, 제 2 광차폐층(19')은 커버층(15) 상부에 형성될 수도 있다.That is, as shown in FIG. 4B, the second light-shielding layer 19 'may be formed on the cover layer 15.

다음, 도 5 내지 도 7을 참조하여, 스위칭소자(12) 및 유기발광소자(13)에 대해 구체적으로 설명한다.Next, the switching element 12 and the organic light emitting element 13 will be described in detail with reference to Figs. 5 to 7. Fig.

도 5는 도 3a의 제 1 화소(A) 및 도 4a의 제 2 화소(B)에 대한 단면도이다.5 is a cross-sectional view of the first pixel A of FIG. 3A and the second pixel B of FIG. 4A.

도 5에 도시한 바와 같이, 제 1 및 제 2 화소(A, B)는 지지기판(11)의 상부에 형성되는 스위칭소자(12), 스위칭소자(12)의 상측에 형성되는 유기발광부(13), 유기발광부(13)의 상부에 형성되는 보호층(14), 보호층(14)의 상측에 형성되는 커버층(15)을 포함한다.5, the first and second pixels A and B include a switching element 12 formed on the upper portion of the supporting substrate 11, an organic light emitting portion (not shown) formed on the upper side of the switching element 12 13, a protective layer 14 formed on the organic light emitting portion 13, and a cover layer 15 formed on the protective layer 14.

그리고, 제 1 화소(A)는 유기발광부(13)의 하부에 형성되는 제 1 반사층(16), 스위칭소자(12)와 제 1 반사층(16) 사이에 형성되는 제 1 광차폐층(17), 및 커버층(15)의 상부에 형성되는 제 1 편광층(21)을 더 포함한다.The first pixel A includes a first reflective layer 16 formed under the organic light emitting portion 13, a first light blocking layer 17 formed between the switching element 12 and the first reflective layer 16, And a first polarizing layer 21 formed on the cover layer 15.

또한, 제 2 화소(B)는 보호층(14)의 상부에 형성되는 제 2 반사층(18), 제 2 반사층(18)과 커버층(15) 사이에 형성되는 제 2 광차폐층(19), 및 지지기판(11)의 하부에 형성되는 제 2 편광층(22)을 더 포함한다.The second pixel B includes a second reflective layer 18 formed on the protective layer 14 and a second light shielding layer 19 formed between the second reflective layer 18 and the cover layer 15, And a second polarizing layer 22 formed on the lower portion of the supporting substrate 11. [

그 중, 스위칭소자(12)는 지지기판(11)의 상부에 형성되고 게이트라인(미도시)에 연결되는 게이트전극(12a), 지지기판(11)의 상부 전면에 게이트라인 및 게이트전극(12a)을 덮도록 형성되는 게이트절연막(12b), 게이트절연막(12b)의 상부에 게이트전극(12a)과 적어도 일부 중첩하도록 형성되는 반도체층(12c), 게이트절연막(12b)의 상부에 반도체층(12c)의 일측영역과 연결되도록 형성되고 데이터라인(미도시)와 연결되는 소스전극(12d), 및 게이트절연막(12b)의 상부에 반도체층(12c)의 다른 일측영역과 연결되도록 형성되는 드레인전극(12e), 및 게이트절연막(12d)의 상부 전면에 반도체층(12c), 소스전극(12d) 및 드레인전극(12e)을 덮도록 형성되는 층간절연막(12f)을 포함한다.The switching element 12 includes a gate electrode 12a formed on the upper portion of the supporting substrate 11 and connected to a gate line (not shown), a gate line and a gate electrode 12a A semiconductor layer 12c formed so as to at least partially overlap the gate electrode 12a on the gate insulating film 12b and a semiconductor layer 12c formed on the gate insulating film 12b over the gate insulating film 12b, A source electrode 12d formed to be connected to one side region of the semiconductor layer 12c and connected to a data line (not shown), and a drain electrode connected to the other side region of the semiconductor layer 12c above the gate insulating film 12b And an interlayer insulating film 12f formed to cover the semiconductor layer 12c, the source electrode 12d, and the drain electrode 12e on the entire upper surface of the gate insulating film 12d.

그리고, 유기발광부(13)는 층간절연막(12f)의 상부에 형성되는 애노드전극(13a), 애노드전극(13a)에 대향하여 형성되는 캐소드전극(13b), 애노드전극(13a)과 캐소드전극(13b) 사이에 형성되는 유기층(13c), 및 유기층(13c)의 경계부에 형성되는 뱅크(13d)를 포함한다.The organic light emitting portion 13 includes an anode electrode 13a formed on the interlayer insulating film 12f, a cathode electrode 13b formed to face the anode electrode 13a, an anode electrode 13a and a cathode electrode An organic layer 13c formed between the organic layers 13a and 13b, and a bank 13d formed at the boundary of the organic layer 13c.

여기서, 애노드전극(13a)은 층간절연막(12f)을 관통하는 콘택홀을 통해 스위칭소자의 드레인전극(12e)과 연결된다. 이에, 애노드전극(13a)에 드레인전극(12e)로부터 구동전압이 인가되면, 유기층(13c)은 애노드전극(13a)과 캐소드전극(13b)을 통해 주입된 전자와 정공에 반응하여, 소정 파장영역의 광을 발생시킨다. 즉, 제 1 및 제 2 화소(A, B) 각각의 발광영역은 유기층(13c)이 형성된 영역에 해당한다.Here, the anode electrode 13a is connected to the drain electrode 12e of the switching element through the contact hole passing through the interlayer insulating film 12f. When the driving voltage is applied to the anode electrode 13a from the drain electrode 12e, the organic layer 13c reacts with the electrons and holes injected through the anode electrode 13a and the cathode electrode 13b, . That is, the light emitting region of each of the first and second pixels A and B corresponds to the region where the organic layer 13c is formed.

스위칭소자(12)와 애노드전극(13a)은 제 1 및 제 2 화소(A, B)를 포함한 복수의 화소 각각에 대응하여 형성되고, 캐소드전극(13b)은 복수의 화소에 공통으로 대응하여 형성될 수 있다.The switching element 12 and the anode electrode 13a are formed corresponding to a plurality of pixels including the first and second pixels A and B and the cathode electrode 13b is formed corresponding to a plurality of pixels in common .

한편, 제 1 광차폐층(17)은 층간절연막(12f)의 상부 중에서 제 1 화소(A) 에 대응한 일부 영역에 형성되고, 제 1 반사층(16)은 제 1 광차폐층(17)의 상부에, 제 1 광차폐층(17) 이하의 크기로 형성된다.The first light-shielding layer 17 is formed in a part of the upper portion of the interlayer insulating film 12f corresponding to the first pixel A and the first reflecting layer 16 is formed in a portion of the first light- The first light-shielding layer 17 and the second light-shielding layer 17 are formed.

그리고, 제 2 반사층(18)은 보호층(14)의 상부 중에서 제 2 화소(B)에 대응한 일부 영역에 형성되고, 제 2 광차폐층(19)은 제 2 반사층(18)의 상부에 제 2 반사층(18) 이상의 크기로 형성된다.The second reflective layer 18 is formed on a portion of the upper portion of the protective layer 14 corresponding to the second pixel B and the second light blocking layer 19 is formed on the upper portion of the second reflective layer 18 The second reflective layer 18 is formed to have a size larger than that of the second reflective layer 18.

이때, 제 1 반사층(16)과 제 1 광차폐층(17), 및 제 2 반사층(18)과 제 2 광차폐층(19)은 적어도 그에 대응되는 유기층(13c)을 가리는 크기로 형성되어야 한다.The first reflective layer 16 and the first light blocking layer 17 and the second reflective layer 18 and the second light blocking layer 19 should be formed to cover at least the organic layer 13c corresponding thereto .

한편, 앞서 언급한 바와 같이, 제 1 광차폐층(17)은 제 1 반사층(16)과 스위칭소자(12) 사이 외에도, 제 1 반사층(16)의 하측인 스위칭소자(12)와 지지기판(11) 사이, 및 지지기판(11)의 하부에도 형성될 수 있다. 그리고, 제 2 광차폐층(19)은 제 2 반사층(18)과 커버층(15) 사이 외에도, 제 2 반사층(18)의 상측인 커버층(15)의 상부에도 형성될 수 있다.The first light shielding layer 17 is formed between the first reflective layer 16 and the switching element 12 as well as between the switching element 12 under the first reflective layer 16 and the supporting substrate 12 11 and the lower portion of the supporting substrate 11, as shown in Fig. The second light-shielding layer 19 may be formed on the cover layer 15 on the upper side of the second reflective layer 18 in addition to the second reflective layer 18 and the cover layer 15.

도 6은 도 3b의 제 1 화소(A') 및 도 4b의 제 2 화소(B')에 대한 단면도이고, 도 7은 도 3c의 제 1 화소(A'') 및 도 4b의 제 2 화소(B')에 대한 단면도이다.FIG. 6 is a cross-sectional view of the first pixel A 'of FIG. 3B and the second pixel B' of FIG. 4B, FIG. 7 is a cross-sectional view of the first pixel A " (B ').

도 6에 도시한 바와 같이, 제 1 광차폐층(17')은 스위칭소자(12)와 지지기판(11) 사이에 형성될 수 있다. 즉, 제 1 광차폐층(17')은 지지기판(11)의 상부에 형성되고, 제 1 반사층(16)은 스위칭소자(12)의 층간절연층(12f) 상부에 형성된다.As shown in FIG. 6, the first light-blocking layer 17 'may be formed between the switching element 12 and the support substrate 11. That is, the first light-blocking layer 17 'is formed on the upper portion of the supporting substrate 11, and the first reflective layer 16 is formed on the interlayer insulating layer 12f of the switching element 12.

이때, 스위칭소자(12) 중 적어도 일부는 제 1 광차폐층(17')의 상부에 형성될 수 있다. 이에, 제 1 광차폐층(17')은 스위칭소자(12)의 전기적특성을 저하시키지 않도록, 절연성 재료로 선택될 수 있다.At this time, at least a part of the switching elements 12 may be formed on the first light-shielding layer 17 '. Accordingly, the first light-shielding layer 17 'may be selected as an insulating material so as not to deteriorate the electrical characteristics of the switching element 12. [

그리고, 제 2 광차폐층(19')은 커버층(15)의 상부에 형성될 수 있다. 이때, 커버층(15)은 제 1 반사층(18)의 상부에 형성된다.The second light-shielding layer 19 'may be formed on the cover layer 15. At this time, the cover layer 15 is formed on the first reflective layer 18.

또는, 도 7에 도시한 바와 같이, 제 1 광차폐층(17'')은 지지기판(11)의 하부에 형성될 수도 있다. 이때, 제 1 반사층(16)은 스위칭소자(12)의 층간절연층(12f) 상부에 형성된다.Alternatively, as shown in Fig. 7, the first light-shielding layer 17 '' may be formed under the support substrate 11. [ At this time, the first reflective layer 16 is formed on the interlayer insulating layer 12f of the switching element 12.

이상과 같이, 본원의 제 1 실시예에 따른 양면표시장치는 제 1 반사층(16) 하측의 제 1 광차폐층(17, 17', 17'') 및 제 2 반사층(18) 상측의 제 2 광차폐층(19, 19')을 포함함에 따라, 제 1 및 제 2 표시부(도 1의 A, B) 상호 간의 영향으로 인한 잔상 발생, 및 콘트라스트비의 저하를 방지할 수 있다. 그러므로, 양면표시장치의 화질이 향상될 수 있다.As described above, the double-sided display device according to the first embodiment of the present invention has a structure in which the first light-shielding layer 17, 17 ', 17' 'under the first reflective layer 16 and the second light- By including the light shielding layers 19 and 19 ', it is possible to prevent the occurrence of the afterimage due to the mutual influence between the first and second display portions (A and B in FIG. 1) and the decrease in the contrast ratio. Therefore, the image quality of the double-side display device can be improved.

이러한 제 1 실시예에 따른 양면표시장치를 제조하는 방법은 다음과 같다.A method of manufacturing the double-side display device according to the first embodiment is as follows.

도 8은 본원의 제 1 실시예에 따른 양면표시장치의 제조방법을 나타낸 순서도이다.8 is a flowchart showing a method of manufacturing the double-sided display device according to the first embodiment of the present invention.

도 8에 도시한 바와 같이, 본원의 제 1 실시예에 따른 양면표시장치의 제조방법은, 지지기판을 마련하는 단계(S10), 지지기판의 상측에 복수의 제 1 및 제 2 화소 각각의 스위칭소자를 형성하는 단계(S11), 스위칭소자의 상측에 복수의 제 1 화소 각각의 제 1 반사층을 형성하는 단계(S12), 스위칭소자의 상측에 복수의 제 1 및 제 2 화소 각각의 유기발광부를 형성하는 단계(S13), 유기발광부의 상측에 유기발광부를 덮는 보호층을 형성하는 단계(S14), 보호층의 상측에 복수의 제 1 화소 각각의 제 2 반사층을 형성하는 단계(S15), 보호층의 상측에 유기발광부를 밀봉하는 커버층을 지지기판에 대면 합착하여 형성하는 단계(S16), 및 커버층의 상부에 복수의 제 1 화소 각각의 제 1 편광층을 형성하고, 지지기판의 하부에 복수의 제 2 화소 각각의 제 2 편광층을 형성하는 단계(S17)를 포함한다. 그리고, 지지기판 측으로 향하는 광을 차폐하는 제 1 광차폐층을, 제 1 반사층의 하측에 형성하는 단계(S18), 및 커버층 측으로 향하는 광을 차폐하는 제 2 광차폐층을, 제 2 반사층의 상측에 형성하는 단계(S19)를 더 포함한다.As shown in FIG. 8, the method of manufacturing the double-sided display according to the first embodiment of the present invention includes the steps of: (S10) forming a supporting substrate; Forming a first reflective layer of each of the plurality of first pixels on the upper side of the switching element (S12); forming an organic light emitting portion of each of the plurality of first and second pixels on the upper side of the switching element (S14) forming a protective layer covering the organic light emitting portion on the upper side of the organic light emitting portion, forming a second reflective layer of each of the plurality of first pixels on the protective layer (S15) Forming a first polarizing layer of each of the plurality of first pixels on the cover layer and forming a first polarizing layer of the second polarizing layer on the lower portion of the supporting substrate, The second polarizing layer of each of the plurality of second pixels is formed And a system (S17). A step (S18) of forming a first light-shielding layer for shielding light toward the support substrate on the lower side of the first reflective layer and a second light-blocking layer for shielding light directed toward the cover- (S19) on the upper side.

여기서, 제 1 광차폐층을 형성하는 단계(S18)는 스위칭소자를 형성하는 단계(S11) 이전(A') 및 이후(A), 그리고 상기 커버층을 형성하는 단계(A'') 이후 중 어느 하나에 실시됨으로써, 제 1 광차폐층은 제 1 반사층과 스위칭소자 사이, 스위칭소자와 지지기판 사이, 및 지지기판의 하부 중 어느 하나에 형성된다.Here, the step (S18) of forming the first light-shielding layer may be performed after step (A ') and after step (S11) of forming a switching element and step (A " The first light-shielding layer is formed on any one of the first reflection layer and the switching element, between the switching element and the support substrate, and the lower portion of the support substrate.

즉, 도 3a 및 도 5에 도시된 제 1 화소(A)와 같이, 제 1 광차폐층(17)이 제 1 반사층(16)과 스위칭소자 사이(12)에 형성되는 경우, 제 1 광차폐층(17)을 형성하는 단계는 스위칭소자(12)를 형성하는 단계(S11) 이후, 및 제 1 반사층(16)을 형성하는 단계(S12) 이전에 실시된다. (도 8에서 점선 A로 도시함) 이때, 제 1 광차폐층(17)은 스위칭소자의 층간절연막(12f) 상부에, 적어도 유기발광부의 유기층(12c)을 가릴 수 있고, 제 2 화소(B) 영역을 침범하지 않는 크기로 형성된다.That is, when the first light-shielding layer 17 is formed between the first reflective layer 16 and the switching elements 12 as in the first pixel A shown in FIGS. 3A and 5, The step of forming the layer 17 is carried out after the step S11 of forming the switching element 12 and before the step S12 of forming the first reflective layer 16. The first light blocking layer 17 may cover at least the organic layer 12c of the organic light emitting portion on the interlayer insulating film 12f of the switching element and the second pixel B Quot; region ").

또는, 도 3b 및 도 6에 도시된 제 1 화소(A')와 같이, 제 1 광차폐층(17')이 스위칭소자(12)와 지지기판(11) 사이에 형성되는 경우, 제 1 광차폐층(17')을 형성하는 단계는 지지기판을 마련하는 단계(S10) 이후, 및 스위칭소자(12)를 형성하는 단계(S11) 이전에 실시된다. (도 8에서 점선 A'로 도시함) 이때, 제 1 광차폐층(17')은 지지기판(11) 상부에 형성되고, 제 1 반사층(16)은 스위칭소자(12)의 상부에 형성된다. 또한, 제 1 광차폐층(17')은 그 상부에 형성되는 스위칭소자(12)와 적어도 일부 접하도록 형성될 수 있으므로, 스위칭소자(12)의 전기적특성 저하를 방지할 수 있도록, 절연재료로 형성될 수 있다.Alternatively, when the first light-blocking layer 17 'is formed between the switching element 12 and the support substrate 11, such as the first pixel A' shown in FIGS. 3B and 6, The step of forming the shielding layer 17 'is carried out after the step S10 of providing the supporting substrate and before the step S11 of forming the switching element 12. The first light-shielding layer 17 'is formed on the support substrate 11 and the first reflection layer 16 is formed on the upper portion of the switching element 12 (see FIG. 8) . Since the first light-blocking layer 17 'can be formed to be at least partially in contact with the switching element 12 formed on the first light-blocking layer 17', it is possible to prevent the deterioration of the electrical characteristics of the switching element 12, .

또는, 도 3c 및 도 7에 도시된 제 1 화소(A'')와 같이, 제 1 광차폐층(17'')이 지지기판(11)의 하부에 형성되는 경우, 제 1 광차폐층(17'')을 형성하는 단계는 지지기판(11)과 커버층(15)을 대면 합착하여 커버층(15)을 형성하는 단계(S16) 이후에 실시된다. (도 8에서 점선 A''로 도시함)Alternatively, when the first light-blocking layer 17 '' is formed on the lower portion of the support substrate 11, as in the first pixel A '' shown in FIGS. 3C and 7, 17 '' is carried out after step (S16) of forming the cover layer 15 by facing the support substrate 11 and the cover layer 15 in a face-to-face manner. (Indicated by dotted line A " in Fig. 8)

도 8에 상세히 도시되어 있지 않으나, 도 3c 및 도 7의 제 1 광차폐층(17'')을 형성하는 단계는 제 1 및 제 2 편광층(21, 22)을 형성하는 단계(S17)와 관계없이, 커버층(15)을 형성하는 단계(S16) 이후라면 어느 시기에서든 실시 가능하다. 즉, 제 1 광차폐층(17'')을 형성하는 단계는 커버층(15)을 형성한 후(S16), 제 1 및 제 2 편광층(21, 22)을 형성하는 단계(S17)의 이전 및 이후에 실시되거나, 또는 제 1 및 제 2 편광층(21, 22)을 형성하는 단계(S17) 중간에 실시되거나, 또는 제 1 및 제 2 편광층(21, 22)을 형성하는 단계(S17)와 동시에 실시될 수 있다.Although not shown in detail in FIG. 8, the step of forming the first light-shielding layer 17 '' of FIG. 3C and FIG. 7 includes the steps of forming the first and second polarizing layers 21 and 22 (S17) Regardless, it can be carried out at any time after the step S16 of forming the cover layer 15. That is, the step of forming the first light-blocking layer 17 '' may be performed after the cover layer 15 is formed (S16) and the step of forming the first and second polarizing layers 21 and 22 (S17) (Step S17) of forming the first and second polarizing layers 21 and 22 or forming the first and second polarizing layers 21 and 22 S17). ≪ / RTI >

그리고, 제 2 광차폐층을 형성하는 단계(S19)는 커버층을 형성하는 단계 이전(B) 및 이후(B') 중 어느 하나에 실시됨으로써, 제 2 광차폐층은 제 2 반사층과 커버층 사이, 및 커버층의 상부 중 어느 하나에 형성된다.The step (S19) of forming the second light-shielding layer may be performed before (B) or after (B ') the step of forming the cover layer, so that the second light- And the top of the cover layer.

즉, 도 4a 및 도 5에 도시된 제 2 화소(B)와 같이, 제 2 광차폐층(19)이 커버층(15)과 제 2 반사층(18) 사이에 형성되는 경우, 제 2 광차폐층(19)을 형성하는 단계는 제 2 반사층(18)을 형성하는 단계(S15) 이후, 및 커버층(15)을 형성하는 단계 이전에 실시된다. (도 8에서 점선 B로 도시함) 이때, 제 2 광차폐층(19)은 제 2 반사층(18)의 상부에, 적어도 유기발광부의 유기층(12c)을 가릴 수 있고, 제 1 화소(A) 영역을 침범하지 않는 크기로 형성된다.That is, when the second light-shielding layer 19 is formed between the cover layer 15 and the second reflective layer 18 like the second pixel B shown in FIGS. 4A and 5, The step of forming the layer 19 is carried out after the step S15 of forming the second reflective layer 18 and before the step of forming the cover layer 15. The second light shielding layer 19 may cover at least the organic layer 12c of the organic light emitting portion on the second reflective layer 18 and may cover the organic layer 12c of the first pixel A, Is formed in a size that does not invade the region.

또는, 도 4b, 도 6 및 도 7에 도시된 제 2 화소(B')와 같이, 제 2 광차폐층(19')이 커버층(15)의 상부에 형성되는 경우, 제 2 광차폐층(19')을 형성하는 단계는 커버층을 형성하는 단계 이후에 실시된다. (도 8에서 점선 B'로 도시함) 이때, 제 2 반사층(18)은 커버층(15)의 하부에 형성된다.Alternatively, when the second light-shielding layer 19 'is formed on the top of the cover layer 15, such as the second pixel B' shown in FIGS. 4B, 6 and 7, (19 ') is carried out after the step of forming the cover layer. (Indicated by a dotted line B 'in FIG. 8). At this time, the second reflective layer 18 is formed under the cover layer 15.

한편, 제 1 및 제 2 광차폐층(17, 19)과, 제 1 및 제 2 편광층(21, 22)이 지지기판(11)의 하부 및 커버층(15)의 상부에, 제 1 및 제 2 화소(A, B) 각각의 영역과 대응되도록 형성된다면, 차폐패턴과 편광패턴을 포함하도록 패터닝되고, 지지기판(11)의 하부 및 커버층(15)의 상부에 점착될 수 있는 광필름으로 대체될 수 있다.On the other hand, the first and second light-shielding layers 17 and 19 and the first and second polarizing layers 21 and 22 are provided on the lower portion of the supporting substrate 11 and on the cover layer 15, A light film that is patterned to include a shielding pattern and a polarization pattern and that can be adhered to the bottom of the support substrate 11 and the top of the cover layer 15 if it is formed to correspond to the area of each of the second pixels A, . ≪ / RTI >

도 9는 본원의 제 2 실시예에 따른 제 1 및 제 2 화소를 나타낸 단면도이다.9 is a cross-sectional view illustrating first and second pixels according to a second embodiment of the present invention.

도 9에 도시한 바와 같이, 본원의 제 2 실시예에 따른 양면표시장치는 제 1 편광층 및 제 2 광차폐층을 대체하는 제 1 광필름(31), 및 제 1 광차폐층 및 제 2 편광층을 대체하는 제 2 광필름(32)을 포함한다는 점을 제외하면, 도 3c, 도 4b, 도 6 및 도 7에 도시된 제 1 실시예와 동일하다. 이에, 이하에서 중복되는 설명은 생략하기로 한다.As shown in Fig. 9, the double-sided display device according to the second embodiment of the present invention comprises a first optical film 31 replacing the first polarizing layer and the second light-shielding layer, and a second light- 3C, 4B, 6 and 7 except that the first optical film 32 includes a second optical film 32 replacing the polarizing layer. Hereinafter, a duplicate description will be omitted.

제 1 광필름(31)은 복수의 제 1 화소(ⓐ) 각각에 대응하는 편광패턴(31a), 및 복수의 제 2 화소(ⓑ) 각각에 대응하는 광차폐패턴(31b)을 포함하도록 패터닝된다. 즉, 제 1 광필름(31)의 편광패턴(31a)은 복수의 제 1 화소(ⓐ) 각각의 제 1 편광층(도 3c 및 도 7의 21)이고, 제 1 광필름(31)의 광차폐패턴(31b)은 복수의 제 2 화소(ⓑ) 각각의 제 2 광차폐층(도 4b 및 도 7의 19')이다.The first optical film 31 is patterned so as to include the polarization pattern 31a corresponding to each of the plurality of first pixels a and the light shielding pattern 31b corresponding to each of the plurality of second pixels b . That is, the polarizing pattern 31a of the first optical film 31 is the first polarizing layer (Fig. 3C and 21 in Fig. 7) of each of the plurality of first pixels A, The shielding pattern 31b is a second light-shielding layer (Fig. 4B and 19 'in Fig. 7) of each of the plurality of second pixels b.

이러한 제 1 광필름(31)은 커버층(15)의 상부에 부착되어 형성될 수 있다.The first optical film 31 may be attached to the top of the cover layer 15.

그리고, 제 2 광필름(32)은 복수의 제 1 화소(ⓐ) 각각에 대응하는 광차폐패턴(32a), 및 복수의 제 2 화소(ⓑ) 각각에 대응하는 편광패턴(32b)을 포함하도록 패터닝된다. 즉, 제 2 광필름(32)의 광차폐패턴(32a)은 복수의 제 1 화소(ⓐ) 각각의 제 1 광차폐층(도 3c 및 도 7의 17'')이고, 제 2 광필름(32)의 편광패턴(32b)은 복수의 제 2 화소(ⓑ) 각각의 제 2 편광층(도 3c 및 도 7의 22)이다.The second optical film 32 includes a light shielding pattern 32a corresponding to each of the plurality of first pixels a and a polarizing pattern 32b corresponding to each of the plurality of second pixels b Patterned. That is, the light shielding pattern 32a of the second optical film 32 is the first light shielding layer (Fig. 3C and 17 '' of Fig. 7) of each of the plurality of first pixels 32) are the second polarizing layers (Figs. 3C and 22 in Fig. 7) of each of the plurality of second pixels (b).

이러한 제 2 광필름(32)은 지지기판(11)의 하부에 부착되어 형성될 수 있다.The second optical film 32 may be attached to the lower portion of the supporting substrate 11.

즉, 제 2 실시예에 따르면, 복수의 제 1 화소(ⓐ) 각각은, 도 3c 및 도 7에 도시된 제 1 실시예의 제 1 화소(A'')와 마찬가지로, 지지기판(11), 지지기판(11)의 상측에 형성되는 스위칭소자(12), 스위칭소자(12)의 상측에 형성되는 유기발광부(13), 유기발광부(13)의 상부에 형성되는 보호층(14), 및 보호층(14)의 상측에 형성되는 커버층(15)을 포함하고, 유기발광부(13)의 하부에 형성되는 제 1 반사층(16)을 더 포함한다.In other words, according to the second embodiment, each of the plurality of first pixels (a) includes a support substrate 11, a support (not shown) A switching element 12 formed on the substrate 11, an organic light emitting portion 13 formed on the upper side of the switching element 12, a protective layer 14 formed on the organic light emitting portion 13, And a first reflective layer 16 including a cover layer 15 formed on the protective layer 14 and formed under the organic light emitting portion 13. [

그리고, 복수의 제 2 화소(ⓑ) 각각은, 도 4b, 도 6 및 도 7에 도시된 제 1 실시예의 제 2 화소(B')와 마찬가지로, 지지기판(11), 지지기판(11)의 상측에 형성되는 스위칭소자(12), 스위칭소자(12)의 상측에 형성되는 유기발광부(13), 유기발광부(13)의 상부에 형성되는 보호층(14), 및 보호층(14)의 상측에 형성되는 커버층(15)을 포함하고, 유기발광부(13)의 상측에 형성되는 제 2 반사층(18)을 더 포함한다.Each of the plurality of second pixels b includes the same number of pixels as the second pixel B 'of the first embodiment shown in Figs. 4B, 6, and 7, An organic light emitting portion 13 formed on the upper side of the switching element 12, a protective layer 14 formed on the organic light emitting portion 13, and a protective layer 14, And a second reflective layer 18 formed on the organic light emitting portion 13 and including a cover layer 15 formed on the upper side of the organic light emitting portion 13.

반면, 제 2 실시예에 따르면, 양면표시장치는 제 1 및 제 2 광필름(31, 32)을 포함함에 따라, 제 1 실시예와 달리, 복수의 제 1 화소(ⓐ) 각각은 제 1 편광층(도 3c 및 도 7의 21) 및 제 1 광차폐층(도 3c 및 도 7의 17'')을 포함하지 않고, 복수의 제 2 화소(ⓑ) 각각은 제 2 편광층(도 4b, 도 6 및 도 7의 22) 및 제 2 광차폐층(도 4b, 도 6 및 도 7의 19')을 포함하지 않는다.On the other hand, according to the second embodiment, since the double-sided display device includes the first and second optical films 31 and 32, unlike the first embodiment, each of the plurality of first pixels (a) Each of the plurality of second pixels (b) does not include the first polarizing layer (Figs. 3C and 7) and the first light blocking layer (Figs. 3C and 7 ' 6 and 7, 22) and the second light-shielding layer (FIG. 4B, FIG. 6 and FIG.

즉, 복수의 제 1 화소(ⓐ) 각각에서, 커버층(15)을 투과한 광은 제 1 편광층(도 3c 및 도 7의 21) 대신 제 1 광필름(31)의 편광패턴(31a)에 의해 편광되고, 제 1 반사층(16)을 투과하여 지지기판(11)을 통해 외부로 방출되려는 광은 제 1 광차폐층(도 3c 및 도 7의 17') 대신 제 2 광필름(32)의 광차폐패턴(32a)에 의해 차폐된다.That is, in each of the plurality of first pixels (a), the light transmitted through the cover layer 15 is incident on the polarizing pattern 31a of the first optical film 31 instead of the first polarizing layer (Fig. 3C and Fig. 7) Light that is transmitted through the first reflective layer 16 and emitted to the outside through the support substrate 11 is polarized by the second optical film 32 instead of the first light shielding layer (FIG. 3C and FIG. 7 ' The light shielding pattern 32a of FIG.

그리고, 복수의 제 2 화소(ⓑ) 각각에서, 지지기판(11)을 투과한 광은 제 2 편광층(도 4b, 도 6 및 도 7의 22) 대신 제 2 광필름(32)의 편광패턴(32b)에 의해 편광되고, 제 2 반사층(18)을 투과하여 커버층(15)을 통해 외부로 방출되려는 광은 제 2 광차폐층(도 4b, 도 6 및 도 7의 19') 대신 제 1 광필름(31)의 광차폐패턴(31a)에 의해 차폐된다.In each of the plurality of second pixels b, the light transmitted through the support substrate 11 is converted into the polarization pattern of the second optical film 32 in place of the second polarizing layer (Fig. 4B, Fig. 6, The light that is polarized by the second light blocking layer 32b and is transmitted through the second reflective layer 18 and is emitted to the outside through the cover layer 15 is converted into a light by the second light blocking layer (FIG. 4B, Shielded by the light shielding pattern 31a of the one optical film 31. [

도 10a 및 도 10b는 도 9에 도시된 제 1 및 제 2 광필름을 나타낸 평면도이다.10A and 10B are plan views showing the first and second optical films shown in FIG.

도 10a에 도시한 바와 같이, 제 1 광필름(31)은 복수의 제 1 화소(ⓐ)에 대응하는 복수의 편광패턴(31a), 및 복수의 제 2 화소(ⓑ)에 대응하는 복수의 광차폐패턴(31b)을 포함한다. 이때, 복수의 제 1 및 제 2 화소(ⓐ, ⓑ)와 마찬가지로, 복수의 편광패턴(31a) 및 복수의 광차폐패턴(31b) 또한 제 1 및 제 2 방향으로 교번하여 매트릭스 배열될 수 있다.10A, the first optical film 31 includes a plurality of polarization patterns 31a corresponding to a plurality of first pixels (a), and a plurality of light beams 31b corresponding to a plurality of second pixels (b) Shielding pattern 31b. At this time, similarly to the plurality of first and second pixels (a, b), the plurality of polarization patterns 31a and the plurality of light shielding patterns 31b may be arranged in a matrix alternating in the first and second directions.

그리고, 도 10b에 도시한 바와 같이, 제 2 광필름(32)은 복수의 제 1 화소(ⓐ)에 대응하는 복수의 광차폐패턴(32a), 및 복수의 제 1 화소(ⓑ)에 대응하는 복수의 편광패턴(32b)을 포함하도록 패터닝된다.10B, the second optical film 32 includes a plurality of light shielding patterns 32a corresponding to the plurality of first pixels (a), and a plurality of light shielding patterns 32a corresponding to the plurality of first pixels And is patterned to include a plurality of polarization patterns 32b.

이와 같이, 본원의 제 2 실시예에 따른 양면표시장치는 제 1 및 제 2 편광층과 제 1 및 제 2 광차폐층을 대신하는 제 1 및 제 2 광필름을 포함함으로써, 제 1 실시예보다, 제 1 및 제 2 편광층과 제 1 및 제 2 광차폐층을 형성하는 공정이 간단해지고, 화소 구조가 단순해질 수 있다.As described above, the double-sided display device according to the second embodiment of the present invention includes the first and second polarizing layers and the first and second optical films replacing the first and second light shielding layers, , The process of forming the first and second polarizing layers and the first and second light-shielding layers is simplified, and the pixel structure can be simplified.

도 11은 본원의 제 2 실시예에 따른 양면표시장치의 제조방법을 나타낸 순서도이고, 도 12a 내지 도 12d는 도 11의 제조방법을 나타낸 공정도이다.11 is a flowchart showing a manufacturing method of the double-sided display device according to the second embodiment of the present invention, and Figs. 12A to 12D are process drawings showing the manufacturing method of Fig.

도 11에 도시한 바와 같이, 본원의 제 2 실시예에 따른 양면표시장치의 제조방법은, 제 1 및 제 2 편광층을 형성하는 단계(S17), 제 1 광차폐층을 형성하는 단계(S18), 및 제 2 광차폐층을 형성하는 단계(S19) 대신, 커버층을 형성하는 단계(S16) 이후에 제 1 및 제 2 광필름을 형성하는 단계(S20)을 더 포함한다는 점을 제외하면, 도 8에 도시된 제 1 실시예와 동일하다. 이에, 이하에서 중복되는 설명은 생략하기로 한다.As shown in FIG. 11, the method for manufacturing a double-sided display device according to the second embodiment of the present invention includes the steps of forming first and second polarizing layers (S17), forming a first light- (S20) of forming the first and second optical films after the step of forming the cover layer (S16) instead of the step (S19) of forming the second light-shielding layer , Which is the same as the first embodiment shown in Fig. Hereinafter, a duplicate description will be omitted.

즉, 도 12a에 도시한 바와 같이, 지지기판(11) 상에 제 1 및 제 2 화소(ⓐ, ⓑ) 각각의 스위칭소자(12)를 형성한다. (S10~S11)That is, as shown in Fig. 12A, the switching elements 12 of the first and second pixels a and b are formed on the supporting substrate 11, respectively. (S10 to S11)

도 12b에 도시한 바와 같이, 스위칭소자(12)의 상부에 제 1 화소(ⓐ)의 제 1 반사층(16)을 형성하고(S12), 제 1 및 제 2 화소(ⓐ, ⓑ) 각각의 유기발광부(13)를 형성한다. (S13)12B, the first reflective layer 16 of the first pixel a is formed on the switching element 12 (S12), and the first and second reflective layers 16, Emitting portion 13 is formed. (S13)

도 12c에 도시한 바와 같이, 유기발광부(13)의 상부에 유기발광부(13)을 덮는 보호층(14)을 형성하고(S14), 보호층(14)의 상부에 제 2 화소(ⓑ)의 제 2 반사층(18)을 형성한 후(S15), 보호층(14)의 상측에 커버층(15)을 지지기판(11)과 대면 합착하여 형성한다. (S16)The protective layer 14 covering the organic light emitting portion 13 is formed on the organic light emitting portion 13 as shown in FIG. 12C, and the second pixel b The second reflective layer 18 is formed on the protective layer 14 at step S15 and then the cover layer 15 is formed on the protective layer 14 by facing the supporting substrate 11. [ (S16)

이어서, 도 12d에 도시한 바와 같이, 커버층(15)의 상부에 제 1 광필름(31)을 형성하고, 지지기판(11)의 하부에 제 2 광필름(32)을 형성한다. (S20)Next, as shown in FIG. 12D, a first optical film 31 is formed on the cover layer 15, and a second optical film 32 is formed on the lower side of the support substrate 11. (S20)

이상과 같이, 제 2 실시예에 따르면, 제 1 및 제 2 광차폐층(17'', 19') 및 제 1 및 제 2 편광층(21, 22)을 별도의 공정으로 형성하는 대신, 제 1 및 제 2 광필름을 형성함으로써, 제 1 실시예보다 제조방법이 간단해질 수 있다.As described above, according to the second embodiment, instead of forming the first and second light-shielding layers 17 '' and 19 'and the first and second polarizing layers 21 and 22 by separate processes, 1 and the second optical film, the manufacturing method can be simplified as compared with the first embodiment.

이상에서 설명한 본 발명은 상술한 실시예 및 첨부된 도면에 한정되는 것이 아니고, 본 발명의 기술적 사상을 벗어나지 않는 범위 내에서 여러 가지 치환, 변형 및 변경이 가능하다는 것이 본 발명이 속하는 기술분야에서 종래의 지식을 가진 자에게 있어 명백할 것이다.It will be apparent to those skilled in the art that various modifications and variations can be made in the present invention without departing from the spirit or scope of the invention. Will be clear to those who have knowledge of.

100: 양면표시장치
A, A', A'', ⓐ: 제 1 표시부 또는 그에 포함되는 제 1 화소
B, B', ⓑ: 제 2 표시부 또는 그에 포함되는 제 2 화소
11: 지지기판 12: 스위칭소자
13: 유기발광부 14: 보호층
15: 커버층
16: 제 1 반사층 17: 제 1 광차폐층
18: 제 2 반사층 19: 제 2 광차폐층
21: 제 1 편광층 22: 제 2 편광층
31: 제 1 광필름 32: 제 2 광필름
31a, 32b: 편광패턴 31b, 32a: 광차폐패턴
100: Double-sided display device
A, A ', A ", a: a first display unit or a first pixel included therein
B, B ', b: a second display portion or a second pixel included therein
11: Support substrate 12: Switching element
13: organic light emitting portion 14: protective layer
15: Cover layer
16: first reflective layer 17: first light-
18: second reflective layer 19: second light-shielding layer
21: first polarizing layer 22: second polarizing layer
31: first optical film 32: second optical film
31a, 32b: polarization pattern 31b, 32a: light shielding pattern

Claims (12)

일측 방향으로 광을 방출하는 복수의 제 1 화소, 및 일측 방향에 반대되는 다른 일측 방향으로 광을 방출하는 복수의 제 2 화소를 포함하여, 양면으로 영상을 표시하는 양면표시장치에 있어서,
복수의 제 1 및 제 2 화소 각각은,
지지기판;
상기 지지기판의 상측에 형성되는 스위칭소자;
상기 스위칭소자의 상측에 형성되고, 상기 스위칭소자로부터 선택적으로 인가되는 구동전압에 기초하여 광을 방출하는 유기발광부; 및
상기 유기발광부를 밀봉하도록, 상기 유기발광부의 상측에 상기 지지기판과 대향 합착되어 형성되는 커버층을 포함하고,
상기 복수의 제 1 화소 각각은,
상기 유기발광부의 하부에 상기 유기발광부와 대응하도록 형성되고 상기 유기발광부로부터 방출된 광을 상기 커버층 측으로 반사하는 제 1 반사층; 및
상기 제 1 반사층의 하측에 형성되고 상기 지지기판 측으로 향하는 광을 차폐하는 제 1 광차폐층을 더 포함하며,
상기 복수의 제 2 화소 각각은,
상기 유기발광부의 상측에 상기 유기발광부와 대응하도록 형성되고 상기 유기발광부로부터 방출된 광을 상기 지지기판 측으로 반사하는 제 2 반사층; 및
상기 제 2 반사층의 상측에 형성되고 상기 커버층 측으로 향하는 광을 차폐하는 제 2 광차폐층을 더 포함하는 양면표시장치.
A double-sided display device for displaying an image on both sides, comprising a plurality of first pixels emitting light in one direction and a plurality of second pixels emitting light in a direction opposite to the one direction,
Each of the plurality of first and second pixels includes:
A support substrate;
A switching device formed on the supporting substrate;
An organic light emitting portion formed on the switching element and emitting light based on a driving voltage selectively applied from the switching element; And
And a cover layer formed on the upper side of the organic light emitting portion so as to be opposed to the supporting substrate so as to seal the organic light emitting portion,
Wherein each of the plurality of first pixels includes:
A first reflective layer formed on the lower portion of the organic light emitting portion to correspond to the organic light emitting portion and reflecting the light emitted from the organic light emitting portion toward the cover layer side; And
Further comprising a first light-shielding layer formed below the first reflective layer and shielding light directed toward the support substrate,
Wherein each of the plurality of second pixels includes:
A second reflective layer formed on the organic light emitting portion to correspond to the organic light emitting portion and reflecting the light emitted from the organic light emitting portion toward the support substrate; And
And a second light-shielding layer formed on the second reflective layer and shielding light directed toward the cover layer.
제 1 항에 있어서,
상기 제 1 광차폐층은 상기 스위칭소자와 상기 제 1 반사층 사이, 상기 지지기판과 상기 스위칭소자 사이, 및 상기 지지기판의 하부 중 어느 하나에, 상기 유기발광부를 가리도록 상기 유기발광부 이상의 크기로 형성되는 양면표시장치.
The method according to claim 1,
Wherein the first light-blocking layer is disposed between the switching element and the first reflective layer, between the supporting substrate and the switching element, and between the switching element and the bottom of the supporting substrate, Sided display device.
제 1 항에 있어서,
상기 제 2 광차폐층은 상기 커버층과 상기 제 2 반사층 사이, 및 상기 커버층의 상부 중 어느 하나에, 상기 유기발광부를 가리도록 상기 유기발광부 이상의 크기로 형성되는 양면표시장치.
The method according to claim 1,
Wherein the second light-shielding layer is formed between the cover layer and the second reflective layer and the upper portion of the cover layer, and is formed to have a size larger than the organic light-emitting portion to cover the organic light-emitting portion.
제 1 항에 있어서,
상기 복수의 제 1 화소 각각은 상기 커버층의 상부에 형성되고 상기 커버층을 투과한 광을 편광하는 제 1 편광층을 더 포함하고,
상기 복수의 제 2 화소 각각은 상기 지지기판의 하부에 형성되고 상기 지지기판을 투과한 광을 편광하는 제 2 편광층을 더 포함하는 양면표시장치.
The method according to claim 1,
Wherein each of the plurality of first pixels further comprises a first polarizing layer formed on the cover layer and polarizing light transmitted through the cover layer,
Wherein each of the plurality of second pixels further comprises a second polarizing layer formed on a lower portion of the supporting substrate and polarizing light transmitted through the supporting substrate.
제 4 항에 있어서,
상기 복수의 제 1 화소 각각에 대응한 편광패턴, 및 상기 복수의 제 2 화소 각각에 대응한 광차폐패턴을 포함하도록 패터닝되고, 상기 커버층의 상부에 형성되는 제 1 광필름; 및
상기 복수의 제 1 화소 각각에 대응한 광차폐패턴, 및 상기 복수의 제 2 화소 각각에 대응한 편광패턴을 포함하도록 패터닝되고, 상기 지지기판의 하부에 형성되는 제 2 광필름을 더 포함하고,
상기 제 1 및 제 2 광필름은 상기 제 1 및 제 2 광차폐층, 및 상기 제 1 및 제 2 편광층을 대체하는 것인 양면표시장치.
5. The method of claim 4,
A first optical film patterned to include a polarization pattern corresponding to each of the plurality of first pixels and an optical shield pattern corresponding to each of the plurality of second pixels, and formed on the cover layer; And
Further comprising a second optical film patterned to include a light shielding pattern corresponding to each of the plurality of first pixels and a polarization pattern corresponding to each of the plurality of second pixels and formed on a lower portion of the supporting substrate,
Wherein the first and second optical films replace the first and second light-shielding layers, and the first and second polarizing layers.
제 1 항 내지 제 5 항 중 어느 한 항에 있어서,
상기 복수의 제 1 및 제 2 화소는 제 1 및 제 2 방향으로 매트릭스 배열되는 양면표시장치.
6. The method according to any one of claims 1 to 5,
Wherein the plurality of first and second pixels are arranged in a matrix in the first and second directions.
제 6 항에 있어서
상기 복수의 제 1 및 제 2 화소는 상기 제 1 및 제 2 방향 중 적어도 하나의 방향으로 교번하는 양면표시장치.
The method of claim 6, wherein
Wherein the plurality of first and second pixels are alternated in at least one of the first and second directions.
일측 방향으로 광을 방출하는 복수의 제 1 화소, 및 일측 방향에 반대되는 다른 일측 방향으로 광을 방출하는 복수의 제 2 화소를 포함하여, 양면으로 영상을 표시하는 양면표시장치를 제조하는 방법에 있어서,
지지기판의 상측에, 상기 복수의 제 1 및 제 2 화소 각각의 스위칭소자를 형성하는 단계;
스위칭소자의 상측에, 상기 복수의 제 1 및 제 2 화소 각각의 유기발광부를 형성하는 단계;
상기 유기발광부의 상부에, 상기 유기발광부를 덮는 보호층을 형성하는 단계;
상기 보호층의 상측에, 상기 유기발광부를 밀봉하는 커버층을 상기 지지기판에 대면 합착하여 형성하는 단계를 포함하고,
상기 복수의 제 1 화소 각각의 유기발광부의 하부에, 광을 상기 커버층 측으로 반사하는 제 1 반사층을 형성하는 단계;
상기 지지기판 측으로 향하는 광을 차폐하는 제 1 광차폐층을, 상기 제 1 반사층의 하측에 형성하는 단계;
상기 복수의 제 2 화소 각각의 유기발광부의 상부에, 광을 상기 지지기판 측으로 반사하는 제 2 반사층을 형성하는 단계; 및
상기 커버층 측으로 향하는 광을 차폐하는 제 2 광차폐층을, 상기 제 2 반사층의 상측에 형성하는 단계를 더 포함하는 양면표시장치의 제조방법.
A method of manufacturing a double-sided display device including a plurality of first pixels emitting light in one direction and a plurality of second pixels emitting light in the other direction opposite to the one direction, As a result,
Forming a switching element of each of the plurality of first and second pixels on the upper side of the supporting substrate;
Forming an organic light emitting portion of each of the plurality of first and second pixels on the upper side of the switching element;
Forming a protective layer covering the organic light emitting portion on the organic light emitting portion;
And forming a cover layer on the support layer to seal the organic light emitting portion on the support layer,
Forming a first reflective layer on the lower portion of the organic light emitting portion of each of the plurality of first pixels, the first reflective layer reflecting light toward the cover layer side;
Forming a first light-shielding layer on the lower side of the first reflective layer to shield light directed toward the support substrate;
Forming a second reflective layer on the organic light emitting portion of each of the plurality of second pixels, the second reflective layer reflecting light toward the support substrate; And
And forming a second light-shielding layer for shielding light directed toward the cover layer side on the second reflective layer.
제 8 항에 있어서,
상기 제 1 광차폐층이 상기 제 1 반사층과 상기 스위칭소자 사이, 상기 스위칭소자와 상기 지지기판 사이 및 상기 지지기판의 하부 중 어느 하나에 형성되도록,
상기 제 1 광차폐층을 형성하는 단계는
상기 스위칭소자를 형성하는 단계 이후, 상기 스위칭소자를 형성하는 단계 이전, 및 상기 커버층을 형성하는 단계 이후 중 어느 하나에 실시되는 양면표시장치의 제조방법.
9. The method of claim 8,
The first light-shielding layer is formed between the first reflection layer and the switching element, between the switching element and the support substrate, and between the first reflection layer and the switching element,
The step of forming the first light-
Wherein the step of forming the switching element, the step of forming the switching element, and the step of forming the cover layer are performed after the step of forming the switching element, the step of forming the switching element, and the step of forming the cover layer.
제 8 항에 있어서,
상기 제 2 광차폐층이 상기 제 2 반사층과 상기 커버층 사이 및 상기 커버층의 상부 중 어느 하나에 형성되도록,
상기 제 2 광차폐층을 형성하는 단계는
상기 커버층을 형성하는 단계 이전 및 이후 중 어느 하나에 실시되는 양면표시장치의 제조방법.
9. The method of claim 8,
And the second light-shielding layer is formed between the second reflective layer and the cover layer and on the top of the cover layer,
The step of forming the second light-shielding layer
Wherein the cover layer is formed before or after the step of forming the cover layer.
제 8 항에 있어서,
상기 커버층을 형성하는 단계 이후에,
상기 커버층의 상부에, 상기 복수의 제 1 화소 각각의 제 1 편광층을 형성하는 단계; 및
상기 지지기판의 하부에, 상기 복수의 제 2 화소 각각의 제 2 편광층을 형성하는 단계를 더 포함하고,
상기 제 1 편광층은 상기 커버층을 투과한 광을 편광하며, 상기 제 2 편광층은 상기 지지기판을 투과한 광을 편광하는 양면표시장치의 제조방법.
9. The method of claim 8,
After the step of forming the cover layer,
Forming a first polarizing layer of each of the plurality of first pixels on the cover layer; And
Further comprising forming a second polarizing layer of each of the plurality of second pixels in a lower portion of the supporting substrate,
Wherein the first polarizing layer polarizes light transmitted through the cover layer and the second polarizing layer polarizes light transmitted through the support substrate.
제 8 항에 있어서,
상기 제 1 광차폐층을 형성하는 단계, 및 상기 제 2 광차폐층을 형성하는 단계는 상기 커버층을 형성하는 단계 이후에 실시되고,
상기 제 1 광차폐층을 형성하는 단계에서,
상기 복수의 제 1 화소 각각에 대응한 편광패턴, 및 상기 복수의 제 2 화소 각각의 상기 광차폐층을 포함한 필름 형태의 제 1 광필름을, 상기 커버층의 상부에 형성하고,
상기 제 2 광차폐층을 형성하는 단계에서, 상기 복수의 제 1 화소 각각의 상기 제 1 광차폐층, 및 상기 복수의 제 2 화소 각각에 대응한 편광패턴을 포함한 필름 형태의 제 2 광필름을, 상기 지지기판 하부에 형성하는 양면표시장치의 제조방법.
9. The method of claim 8,
The step of forming the first light-shielding layer and the step of forming the second light-shielding layer are performed after the step of forming the cover layer,
In the step of forming the first light-shielding layer,
A first optical film in the form of a film including the light shielding layer of each of the plurality of second pixels and a polarization pattern corresponding to each of the plurality of first pixels is formed on the cover layer,
The second light shielding layer may be formed by forming a second optical film in the form of a film including a polarization pattern corresponding to each of the first light blocking layer and the plurality of second pixels of each of the plurality of first pixels, Sided display device according to claim 1;
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