KR20140047490A - Treatment apparatus for highly viscos fluid - Google Patents

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KR20140047490A
KR20140047490A KR1020120146133A KR20120146133A KR20140047490A KR 20140047490 A KR20140047490 A KR 20140047490A KR 1020120146133 A KR1020120146133 A KR 1020120146133A KR 20120146133 A KR20120146133 A KR 20120146133A KR 20140047490 A KR20140047490 A KR 20140047490A
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마사카즈 이노우에
세이지 나가이
요시히로 카네마루
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가부시키가이샤 이노우에 세이사쿠쇼
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Abstract

The present invention relates to a treatment device for highly viscous fluid. The treatment device can knead and disperse high viscous paste with viscosity range of 10-2500 dPa·s without using a dispersion media (bead) when manufacturing chemical materials, medical materials, electronic materials, ceramic, medicine, food, feed, other solid and liquid materials. The treatment device includes a vessel having an inlet and an outlet for materials to be processed and a rotator which is rotationally mounted in the vessel. A loop-shaped fine gap is formed between the inner surface and the outer circumferential surface of the rotator, wherein materials to be processed pass the loop-shaped fine gap while being treated by the rotator. A notch is formed on the surface of the rotator being in contact with the fine gap by knurling.

Description

고점성 유체의 처리 장치{TREATMENT APPARATUS FOR HIGHLY VISCOS FLUID}TECHNICAL FIELD [0001] The present invention relates to a high-

본 발명은 화학, 의약, 전자, 세라믹스, 식품, 사료 기타의 각종 분야에서 고체/액체계 처리 재료를 분산 매체(비즈)를 사용하지 않고 통액 처리에 의해 미립자화할 수 있도록 한 고점성 유체의 처리 장치에 관한 것이다.The present invention relates to a high-viscosity fluid treatment device capable of making a solid / liquid system processing material fine particles by liquid-phase treatment without using a dispersion medium (beads) in various fields of chemistry, medicine, electronics, ceramics, food, .

고체/액체계의 유성, 수성에 한정되지 않는 저점도로부터 고점도(10~2500 dPa·s)의 고점성 유체를 혼련, 날화, 분산 처리할 경우 특히, 나노 파우더가 혼입되어 있는 계에서는 분체의 부분 응집인 소위 멍울이나 알갱이의 발생이 발견된다. 따라서, 그와 같은 처리는 분산 매체(비즈)를 이용한 예를 들면 일본 특허 공개 평 3-178326 호 공보에 기재되어 있는 바와 같은 비즈 밀에 의한 분산 공정에 의해 처리하는 경우가 많다. 비즈 밀은 처리 재료를 베슬(vessel) 내에서 분산 매체(비즈)와 혼합하고, 이 혼합물을 베슬 내에서 회전하는 회전체에 의해 교반하여 분산 매체로부터의 전단, 충격 작용으로 분산하는 구조이기 때문에, 분산 매체는 교반 운동에 따라 충격이나 마찰에 의해 마모, 파손이 발생할 경우가 있다. 그 때문에 처리 재료에 이와 같은 컨테미네이션이 혼입되어 품질 특성상 바람직하지 못한 결과를 발생시킬 위험이 있다. 또한, 분산 매체를 이동시키기 위해서는 큰 동력을 필요로 함과 아울러 처리 후에 분산 매체를 처리 재료로부터 분리하는 매체 분리 장치(세퍼레이터)를 통과시킬 필요가 있기 때문에 내부 저항이 커진다. 그 결과, 비즈 밀를 구동하기 위해서는 고에너지가 요구되고 있었다. 또한, 일본 특허 공개 제 2007-125518 호 공보에는 비즈를 사용하지 않는 처리 장치가 제안되어 있다. 이 공보에 기재된 처리 장치에서는 회전체의 표면이 평활면으로 형성되어 있으므로 처리 재료가 고점성 유체의 경우 처리 재료가 미끄러져 높은 전단 응력을 재료에 부여할 수 없어 충분히 분산 처리할 수 없는 경우가 있었다.When kneading, kneading, or dispersing high viscosity (10 ~ 2500 dPa · s) high viscous fluids from low viscosity, not limited to solid / liquid oily and aqueous, part of powder especially in the system containing nano powder The occurrence of so-called lumps or grains that are aggregates is found. Therefore, such a treatment is often carried out by a dispersion process using a dispersion medium (beads), for example, a dispersion process using a bead mill as described in JP-A-3-178326. Since the bead mill is a structure in which a processing material is mixed with a dispersion medium (beads) in a vessel, the mixture is agitated by a rotating body rotating in the vessel and dispersed by shearing and impact action from the dispersion medium. The dispersion medium may be abraded or broken by impact or friction due to the stirring movement. There is therefore the risk that such contaminants may be incorporated into the treatment material, resulting in undesirable results in terms of quality characteristics. Further, in order to move the dispersing medium, it is necessary to pass a medium separating device (separator) that requires a large power and separates the dispersing medium from the treating material after the treatment. As a result, high energy is required to drive the bead mill. Japanese Patent Application Laid-Open No. 2007-125518 proposes a processing apparatus that does not use beads. In the treatment apparatus described in this publication, since the surface of the rotating body is formed as a smooth surface, the treatment material slips when the treatment material is a high-viscosity fluid, and a high shear stress can not be imparted to the material, .

본 발명의 목적은 분산 매체(비즈)를 사용하지 않고 저에너지로 고점성 유체를 혼련, 날화, 분산 처리할 수 있고 또한 슬립을 발생시킬 일 없이 확실하게 처리할 수 있고, 알갱이나 멍울이 없는 균일 분산 가능한 고점성 유체의 처리 장치를 제공하는 것이다. It is an object of the present invention to provide a method of kneading, nailing and dispersing a high viscosity fluid with a low energy without using a dispersion medium (beads), which can be surely processed without causing slip, And to provide an apparatus for treating a high-viscosity fluid as much as possible.

본 발명은 상기와 같은 실정을 감안하여 상기 일본 특허 공개 평 3-178326호 공보에 기재된 바와 같은 소위 애뉼러형의 습식 매체 분산기(비즈 밀)에 착안하여 분산 매체(비즈)를 사용하지 않아도 멍울, 알갱이의 발생이 없는 입자 미립자화가 가능한 구성을 발명하여 하기의 처리 장치에 도달했다.In view of the above circumstances, the present invention has been made in consideration of the so-called annular type wet-type medium dispersing machine (bead mill) as described in Japanese Unexamined Patent Application Publication No. 3-178326, The present inventors have invented a configuration capable of forming a fine particle of particles without occurrence of a particle,

즉, 본 발명의 처리 장치는 고체/액체계 처리 재료의 제조 시에 미리 혼련 된 점도 범위가 10~2500 dPa·s의 고점성 유체의 처리 재료를 분산 매체를 사용하지 않고 혼련, 날화, 분산하는 처리 장치다. 이 처리 장치는 처리 재료의 공급구와 배출구를 갖는 베슬과, 상기 베슬 내에 회전 가능하게 설치된 회전체와, 상기 베슬의 내면과 상기 회전체의 외주면 사이에 상기 처리 재료가 회전체에 의한 처리를 받으면서 흐르는 통로가 되도록 형성된 고리형 미소 간극을 갖고, 상기 회전체의 표면에 노치를 형성한 것을 특징으로 하고 있다.That is, the treatment apparatus of the present invention is a treatment apparatus for treating a high-viscosity fluid having a viscosity range of 10 to 2500 dPa · s pre-kneaded at the time of manufacturing a solid / liquid system treatment material without kneading, Processing device. This processing apparatus includes a vessel having a supply port and a discharge port for processing material, a rotating body rotatably provided in the vessel, and an inner surface of the vessel and an outer circumferential surface of the rotating body while the processing material flows while being processed by the rotating body. It has an annular micro clearance formed so that it may become a channel | path, and formed the notch in the surface of the said rotating body.

상기 노치는 회전체의 표면에 바람직하게는 널링 가공을 실시함으로써 형성된다. 회전체를 단면이 원형인 통형체로 형성한 경우 노치는 외주면의 전체면에 형성된다. 회전체를 외주면에 원주 방향으로 간격을 두고 홈부를 형성하고 길이 방향으로 연장되는 띠형 돌기를 형성한 변형 단면의 통형체로 형성한 경우 노치는 띠형 돌기의 외주면에 형성되어 있다.The notch is preferably formed by subjecting the surface of the rotating body to a knurling process. When the rotating body is formed as a cylindrical body having a circular section, the notch is formed on the entire surface of the outer peripheral surface. Shaped notch is formed on the outer peripheral surface of the band-like projection when the rotating body is formed as a tubular body of a deformed section in which groove portions are formed on the outer circumferential surface at intervals in the circumferential direction at intervals and band-shaped protrusions extending in the longitudinal direction are formed.

상기 노치에 의해 회전체의 실표면적은 평활면의 경우의 표면적보다도 넓어진다. 이 때의 조화율(粗化率), 즉 수평면으로의 투영 표면적에 대한 실표면적의 비는 바람직하게는 약 1.05~2.35 정도이다. 상기 고리형 미소 간극은 약 1.0~10mm정도인 것이 바람직하다.The actual surface area of the rotating body is wider than the surface area in the case of the smooth surface by the notches. The ratio of the roughening ratio, that is, the ratio of the actual surface area to the projected surface area to the horizontal plane is preferably about 1.05 to 2.35. It is preferable that the annular micro gap is about 1.0 to 10 mm.

본 발명은 상기와 같이 구성되어 베슬의 내면과 회전체의 외주면 사이를 처리 재료가 회전체에 의한 처리를 받으면서 통과하도록 고리형 미소 간극을 형성하고, 이 미소 간극에 면하는 상기 회전체의 표면에 노치를 형성했기 때문에 회전체의 실질적인 표면적을 증대시킴과 아울러 마찰 계수를 높게 할 수 있다. 이에 따라, 상기 고리형 미소 간극을 통과하는 처리 재료에 대하여 회전체가 미끄러질 일 없이 높은 전단 응력을 작용시킬 수 있어 전단 속도를 낮게 할 수 있다. 또한, 분산 매체(비즈)를 사용하지 않기 때문에 베슬 내압도 낮게 할 수 있어 분산 매체의 마모 등에 의한 컨테미네이션의 영향이 없다. 매체 분리 장치(세퍼레이터)를 사용할 필요가 없기 때문에 저에너지로 효율적으로 분산 처리할 수 있다.According to the present invention, as described above, an annular micro gap is formed between the inner surface of the wheel and the outer peripheral surface of the rotating body so that the treatment material passes through the rotating body under the treatment with the rotating body, and the surface of the rotating body facing the micro gap Since the notch is formed, the substantial surface area of the rotating body can be increased and the friction coefficient can be increased. This makes it possible to apply a high shearing stress to the treatment material passing through the annular micro gap and without slipping the rotating body, thereby lowering the shearing speed. In addition, since the dispersion medium (beads) is not used, the pressure inside the vessel can be made low, and there is no influence of contamination due to abrasion of the dispersion medium or the like. It is not necessary to use a medium separating device (separator), so that it is possible to efficiently perform dispersion treatment with low energy.

회전체의 외주면에 원주 방향으로 간격을 두고 홈부를 형성하고 길이 방향으로 연장되는 띠형 돌기를 형성하면 이 띠형 돌기의 노치 부분에서 처리 재료는 압축, 전단 작용을 받고, 돌기 사이의 노치가 없는 홈부에서는 개방, 팽창 작용을 받는다. 그리고 처리 재료는 이와 같은 압축, 전단 작용과 개방, 팽창 작용을 공급구로부터 배출구측으로 유동하는 사이에 반복해서 받게 된다. 따라서, 마치 롤 밀로 분산 처리한 것과 같은 압축, 전단, 팽창에 의한 분산 처리를 할 수 있어 한층 확실히 균일하게 미립자화할 수 있다. When the groove portion is formed on the outer circumferential surface of the rotating body at intervals in the circumferential direction and a strip-like projection extending in the longitudinal direction is formed, the processing material is subjected to compression and shearing action at the notch portion of the strip- Open, and inflated. Then, the processing material is repeatedly subjected to such compression, shearing action and opening and expansion action while flowing from the supply port to the discharge port side. Therefore, it is possible to carry out the dispersion treatment by compression, shearing and expansion as in the case of dispersion treatment by roll mill, and it is possible to make the dispersion more uniformly and finely.

상기 노치가 형성된 회전체의 표면의 조화율(r)은 약 1.05~2.35 정도, 바람직하게는 약 1.15~1.55 정도로 형성하고 있다. 조화율이 2.35보다 크면 교반 저항이 커져 큰 동력이 필요하고, 처리 재료가 회전체의 표면에 고착되는 현상이 나타나고, 처리 재료의 온도 컨트롤도 잘 할 수 없게 된다. 조화율이 1.05보다도 낮으면 본 발명이 대상으로 하는 고점성 유체의 점도 범위의 상한측의 처리 재료의 경우 로딩(loading)에 의한 동시 회전 현상이나 미끄러짐 현상이 나타나서 효율적으로 분산 처리할 수 없게 된다. 또한, 고리형 미소 간극은 약 1.0~10mm, 바람직하게는 약 2.0~5.0mm로 형성되어 있다. 이 간격이 지나치게 좁으면 흐름 저항이 커져 큰 구동력을 필요로 하고, 간격이 지나치게 넓으면 멍울이나 알갱이의 발생을 제거할 수 없다.The surface roughness (r) of the surface of the notched rotor is about 1.05 to 2.35, preferably about 1.15 to 1.55. If the harmonization ratio is larger than 2.35, the agitation resistance becomes large, a large power is required, the phenomenon that the treatment material adheres to the surface of the rotating body appears, and the temperature of the treatment material can not be controlled well. If the harmonization ratio is lower than 1.05, the treatment material of the upper limit of the viscosity range of the high viscosity fluid to which the present invention is applied may exhibit a simultaneous rotation phenomenon or a slipping phenomenon due to loading, so that the dispersion treatment can not be efficiently performed. In addition, the ring-shaped micro gap is formed to be about 1.0 to 10 mm, preferably about 2.0 to 5.0 mm. If the gap is too narrow, the flow resistance becomes large and a large driving force is required. If the gap is too wide, the occurrence of lumps or grains can not be eliminated.

도 1은 본 발명의 일 실시예를 도시하고 베슬 부분을 단면으로 해서 도시하는 정면도이다.
도 2는 회전체의 일례를 도시하고 단면이 원형인 회전체의 측면도이다.
도 3은 회전체의 다른 실시예이고 띠형 돌기를 갖는 회전체의 측면도이다.
도 4는 노치의 일례를 도시하는 설명 평면도이다.
도 5는 노치의 다른 일례를 도시하는 설명 평면도이다.
도 6은 노치의 또 다른 일례를 도시하는 설명 평면도이다.
도 7은 노치 부분의 확대 단면도이다.BRIEF DESCRIPTION OF THE DRAWINGS Fig. 1 is a front view showing one embodiment of the present invention and showing a cross section of the boss portion. Fig.
Fig. 2 is a side view of the rotating body showing an example of the rotating body and having a circular section.
3 is another side view of the rotating body and is a side view of the rotating body having banded projections.
4 is an explanatory plan view showing an example of a notch.
5 is an explanatory plan view showing another example of the notch.
6 is an explanatory plan view showing another example of the notch.
7 is an enlarged cross-sectional view of the notch portion.

본 발명은 화학, 의약, 전자, 세라믹스, 식품, 사료 기타의 분야의 고체/액체계의 처리 재료의 미립자화에 대응할 수 있다. 도 1에 도시된 바와 같이 본 발명의 처리 장치는 베슬(용기)(1)과 이 베슬 내에서 회전하는 회전체(로터)(2)를 갖는다. 베슬(1)은 고점성 슬러리와 같은 처리 재료의 공급구(3)와 배출구(4)에 연통하고, 주위에는 냉각수 등의 조온(調溫) 매체를 유통시키는 자켓(5)이 설치되고, 자켓(5)에는 조온 매체의 유입구(6)와 유출구(7)가 설치되어 있다. 상기 회전체(2)는 메카니컬 시일(8)을 통해 구동 모터(도시 생략)에 연결된 구동축(9)에 의해 회전한다.The present invention can cope with the microparticulation of a solid / liquid system treatment material in the fields of chemistry, medicine, electronics, ceramics, food, feed and the like. As shown in Fig. 1, the treatment apparatus of the present invention has a vessel (vessel) 1 and a rotor (rotor) 2 that rotates in the vessel. The vessel 1 is connected to a supply port 3 and a discharge port 4 of a treatment material such as a high viscosity slurry and is provided with a jacket 5 for circulating a cooling medium such as cooling water, (5) is provided with an inlet (6) and an outlet (7) for the temperature-adjusting medium. The rotating body 2 is rotated by a driving shaft 9 connected to a driving motor (not shown) through a mechanical seal 8.

상기 베슬(1)의 내벽면과 회전체(2)의 외주면 사이에는 고리형의 미소 간극(10)이 형성되어 있다. 상기 공급구(3)로부터 공급 펌프(도시 생략)에 의해 베슬(1) 내에 공급된 처리 재료는 배출구를 향해서 유동하면서 이 고리형 미소 간극(10) 내에 체류한다. 이 고리형 미소 간극(10)의 치수는 약 1.0~10mm, 바람직하게는 약 2.0~5.0mm로 형성되어 있다. 이 때, 베슬 내에 공급되는 처리 재료로서는 점도 범위가 약 10~2500 dPa·s의 고점성 페이스트가 최적이다. 1OdPa·s미만에서는 점도가 지나치게 낮아 회전체의 회전 속도를 최고속으로 하지 않으면 전단 응력 부족을 초래한다. 2500dPa·s 이상의 고점성 페이스트에서는 점성 저항이 지나치게 커서 회전체의 구동에 큰 동력을 필요로 함과 아울러 발열도 커져 통상의 온도 컨트롤을 할 수 없게 되기 때문이다.An annular small clearance 10 is formed between the inner wall surface of the above-mentioned bezel 1 and the outer peripheral surface of the rotating body 2. The treatment material supplied from the supply port 3 into the vessel 1 by the supply pump (not shown) flows into the discharge port and stays in the annular minute gap 10. The size of the annular micro gap 10 is about 1.0 to 10 mm, preferably about 2.0 to 5.0 mm. At this time, as the treatment material to be supplied into the vessel, a high viscosity paste having a viscosity range of about 10 to 2500 dPa.s is most suitable. When the viscosity is less than 10 dPa · s, the viscosity is too low, and if the rotation speed of the rotating body is not set to the maximum speed, the shear stress is insufficient. In the high-viscosity paste having a viscosity of 2500 dPa · s or more, the viscosity resistance is excessively large, which requires a large power for driving the rotating body, and heat generation becomes large, and normal temperature control becomes impossible.

상기 회전체(2)는 도 1, 도 2에 도시하는 장치에서는 단면이 원형인 통형체로 형성되어 있다. 이 구성에서는 회전체의 회전에 의해 처리 재료는 미소 간극 내에서 연속적으로 압축, 전단 작용을 받는다. 또한, 도 3에 도시하는 실시예에서는 외주면에 원주 방향으로 간격을 두고 홈부(11)를 형성하고 회전체의 길이 방향으로 연장되는 띠형 돌기(12)를 형성한 변형 단면의 통형체로 형성되어 있다. 이 구성에서는 처리 재료가 띠형 돌기 부분에서 압축, 전단되고 홈부 부분에서 개방, 팽창되어 반복적으로 이 작용을 받으면서 배출구로부터 배출된다.1 and 2, the rotating body 2 is formed as a cylindrical body having a circular section. In this configuration, the processing material is continuously compressed and sheared in the minute clearance by the rotation of the rotating body. In the embodiment shown in Fig. 3, the groove 11 is formed on the outer circumferential surface at intervals in the circumferential direction and is formed as a tubular body having a deformed section formed with strip-like projections 12 extending in the longitudinal direction of the rotor . In this configuration, the processing material is compressed and sheared in the strip-shaped protrusions, opened and expanded in the groove portion, and discharged from the discharge port while being repeatedly subjected to this action.

상기 회전체(2)를 단면을 원형으로 형성한 경우의 외주면의 전체면이나, 회전체를 변형 단면으로 형성한 경우의 띠형 돌기(12)의 표면에는 노치(13)가 형성되어 있다. 이 노치(13)는 바람직하게는 널링 가공에 의해 형성될 수 있다. 노치(13)의 형상은 도 1에 도시하는 바와 같은 수평선형이나 도 4에 도시하는 바와 같은 경사선형 등의 평평한 눈형 널링이나, 도 5, 도 6에 도시하는 바와 같은 사각눈, 크로스눈, 다이아몬드눈 등의 줄무늬 눈형 널링로 형성할 수 있다. 또한, 노치에 의해 형성된 미소 돌기(14)는 높이 약 1.0~0.1mm, 바람직하게는 약 0.6~0.3mm로 형성되어 있다. 이 높이는 고체/액체계 처리 재료 중에 포함되는 ２차 응집체의 사이즈에도 좌우되지만 약 1.Omm 이상의 경우 큰 동력이 필요하게 되어 온도 컨트롤도 어려워진다. 또한, 약 O.1mm 이하에서는 점도 범위의 상한측에서 로딩에 의한 동시 회전 현상이 발견된다. 노치(13)에 의해 형성된 미소 돌기(14)는 각종 형상으로 형성될 수 있지만, 예를 들면 도 7에 도시하는 바와 같은 사각눈의 미소 돌기의 경우 미소 돌기(14)에 의한 오목부의 경사면의 각도α가 약 90°, 돌기의 정점 사이의 간격(d)이 약 1mm, 높이(h)를 약 0.5mm정도로 형성할 수 있다.A notch 13 is formed on the entire surface of the outer circumferential surface of the rotary body 2 in the case where the rotary body 2 has a circular section and on the surface of the belt-shaped protrusion 12 when the rotary body is formed as a deformed section. The notch 13 can be formed preferably by knurling. The shape of the notch 13 may be a horizontal line shape as shown in Fig. 1, a flat-eyelike knurling such as an oblique line shape as shown in Fig. 4, a rectangular eye as shown in Figs. 5 and 6, And can be formed by stripe-like knurling such as snow. The fine protrusions 14 formed by the notches are formed to have a height of about 1.0 to 0.1 mm, and preferably about 0.6 to 0.3 mm. This height depends on the size of the secondary agglomerate contained in the solid / liquid system treatment material, but when it is about 1.0 mm or more, a large power is required and the temperature control becomes difficult. Simultaneous rotation due to loading is found at the upper limit side of the viscosity range at about 0.1 mm or less. The fine protrusions 14 formed by the notches 13 can be formed in various shapes. For example, in the case of the fine protrusions of the square eye as shown in Fig. 7, the angle of the slopes of the recesses by the fine protrusions 14 alpha of about 90 degrees, a distance d between the apexes of the projections of about 1 mm, and a height h of about 0.5 mm.

상기 노치(13)를 회전체(2)의 표면에 구성함으로써 회전체(2)의 실표면적은 노치를 형성하고 있지 않은 평활면인 상태의 회전체의 표면적보다도 넓어진다. 이 때의 표면적의 증가 정도는 조화율(r), 즉 수평면으로의 투영 표면적에 대한 실표면적의 비로 나타낼 수 있다. 그리고, 본 발명의 경우 노치를 형성함으로써 회전체의 표면의 조화율(r)이 r>1이 되도록, 바람직하게는 r=1.05~2.35 정도, 특히 바람직하게는 r=1.15~1.55 정도가 되도록 형성하고 있다. 이에 따라, 이 회전체의 실표면적은 평활면을 갖는 종래의 회전체의 표면적에 비해 표면적이 r배 증가하게 되어 처리 재료와의 접촉 면적이 증대하고, 그에 따라 전단 응력을 확실하게 작용시킬 수 있다. 또한, 처리 재료에 포함되는 분체 입자가 고경도의 입자일 경우에 처리 재료에 접하는 베슬의 내벽면이나 회전체를 세라믹제로 할 때는 표면 처리를 행하기 전의 거친 세라믹제인 채라도 좋다. 특히 회전체의 표면은 표면 처리를 행한 통상의 세라믹제의 표면에 비해 조화율(r)이 r= 약 1.05~2.35 정도로 되어 있으므로 그대로 사용할 수 있다.By configuring the notch 13 on the surface of the rotating body 2, the actual surface area of the rotating body 2 is wider than the surface area of the rotating body in a state of being a smooth surface in which no notch is formed. The degree of increase of the surface area at this time can be expressed by the ratio of the surface area to the projection surface area to the horizontal surface (r). In the case of the present invention, by forming the notch, the surface roughness r of the surface of the rotating body is formed to be r> 1, preferably r = 1.05 to 2.35, and particularly preferably r = . As a result, the surface area of the rotating body is increased by r times the surface area of the conventional rotating body having a smooth surface, so that the contact area with the treating material increases, and the shearing stress can reliably act thereon . When the powder particles contained in the treatment material are particles of high hardness, the inner wall of the vessel contacting the treatment material or the rotating body may be made of a coarse ceramic before the surface treatment. In particular, the surface of the rotating body can be used as it is because the surface roughness r is about 1.05 to 2.35, as compared with the surface of a conventional ceramic surface subjected to the surface treatment.

상기 회전체의 주속(회전 속도)은 약 3~30m/sec정도, 바람직하게는 약 5~25m/sec정도의 범위가 좋고, 처리 재료의 온도는 가능한 한 60℃ 이하의 조건하에서 운전하는 것이 좋다. 3m/sec 미만에서는 전단 응력이 부족하여 상기 고리형 미소 간극 내를 처리 재료가 회전체에 의한 처리를 받지 않고 그냥 지나침 상태로 통과하여 분산 작용도 받지 않아 분산 효과는 전혀 없는 것과 동일하다. 또한 주속이 30m/sec 이상에서는 큰 동력을 필요로 함과 아울러 발열이 커져 점도를 조정해도 처리 재료의 온도를 60℃ 이하로 유지하는 것이 곤란하게 되어 처리 재료의 특성 열화를 초래하여서 품질에의 영향이 크기 때문이다.The peripheral speed (rotation speed) of the rotating body is preferably in the range of about 3 to 30 m / sec, preferably about 5 to 25 m / sec, and the temperature of the treatment material is preferably set to be 60 ° C or less . Below 3 m / sec, the shear stress is insufficient so that the treatment material passes through the annular micro gap without being subjected to the treatment by the rotating body, and passes through the same in a state where it is not dispersed. In addition, when the peripheral speed is 30 m / sec or more, a large power is required, and it is difficult to maintain the temperature of the treating material at 60 ° C or less even if the viscosity of the heating material is increased, This is because of this size.

실시예 1Example 1

에폭시계 접착제에 백색 안료를 혼련한 고점성 페이스트를 도 1에 도시하는 바와 같이 비즈를 사용하지 않은 장치로 처리했다. 이 때, 베슬의 내벽면과 회전체의 외주면 사이의 고리형 미소 간극을 2mm로 했다. 회전체의 표면에는 줄무늬 눈형 널링에 의해 도 7에 도시된 바와 같이 경사면의 각도 90도, 사각눈이며 높이 0.5mm의 미소 돌기를 갖는 노치를 형성했다. 회전체의 표면의 조화율은 약 1.45이었다. 페이스트의 점도는 2000dPa·s이며 회전체의 주속을 1Om/sec로 했을 때 얻어진 페이스트의 입도는 1O㎛이었다.A high-viscosity paste obtained by kneading a white pigment with an epoxy adhesive was treated with a device not using beads as shown in Fig. At this time, the annular micro clearance between the inner wall surface of the vessel and the outer peripheral surface of the rotating body was 2 mm. On the surface of the rotating body, a stripe-shaped knurling was performed to form a notch having an inclined plane at an angle of 90 degrees, a square eye, and a height of 0.5 mm, as shown in Fig. The harmonization ratio of the surface of the rotating body was about 1.45. The viscosity of the paste was 2000 dPa · s and the particle size of the paste obtained when the peripheral speed of the rotating body was 10 m / sec was 10 μm.

실시예 2Example 2

에폭시계 접착제에 필러를 혼련한 고점성 페이스트를 도 1에 도시하는 바와 같이 비즈를 사용하지 않은 장치로 처리했다. 이 때의 평균 입경은 60~70㎛[조입경(粗粒徑) 90㎛]이다. 장치의 베슬의 내벽면과 회전체의 외주면 사이의 고리형 미소 간극은 5mm이다. 회전체의 표면에는 줄무늬 눈형 널링에 의해 경사면의 각도 60도, 사각눈이며 높이 0.5mm의 미소 돌기를 갖는 노치를 형성했다. 회전체의 표면의 조화율은 약 2.00이었다. 페이스트의 점도는 2020dPa·s이며 회전체의 주속을 10m/sec로 했을 때 입도는 10㎛이며, 처리 시간은 종래의 비즈 밀의 약 절반의 시간이었다.A high-viscosity paste obtained by kneading a filler with an epoxy adhesive was treated with a device not using beads as shown in Fig. The average particle diameter at this time is 60 to 70 mu m (coarse particle diameter 90 mu m). The annular micro clearance between the inner wall surface of the vessel of the apparatus and the outer peripheral surface of the rotating body is 5 mm. On the surface of the rotating body, a notch having an inclined plane angle of 60 degrees, a square eye, and a height of 0.5 mm was formed by stripe knitting. The harmonization ratio of the surface of the rotating body was about 2.00. The viscosity of the paste was 2020 dPa · s and the particle size was 10 μm when the peripheral velocity of the rotating body was 10 m / sec. The treatment time was about half the time of the conventional bead mill.

실시예 3Example 3

플라스틱 착색제와 백색 안료를 혼련한 고점성 페이스트를 도 1에 도시하는 바와 같이 비즈를 사용하지 않은 장치로 처리했다. 이 때, 베슬의 내벽면과 회전체의 외주면 사이의 고리형 미소 간극은 5mm이다. 회전체의 표면에는 줄무늬 눈형 널링에 의해 도 7에 도시된 바와 같이 경사면의 각도 90도, 사각눈이며 높이 0.5mm의 미소 돌기를 갖는 노치를 형성했다. 회전체의 표면의 조화율은 약 1.45이었다. 페이스트의 점도는 260dPa·s이며 회전체의 주속을 15m/sec로 했을 때 입도는 30㎛이었다.The high-viscosity paste obtained by kneading the plastic colorant and the white pigment was treated with a device not using beads as shown in Fig. At this time, the annular micro gap between the inner wall surface of the vessel and the outer peripheral surface of the rotating body is 5 mm. On the surface of the rotating body, a stripe-shaped knurling was performed to form a notch having an inclined plane at an angle of 90 degrees, a square eye, and a height of 0.5 mm, as shown in Fig. The harmonization ratio of the surface of the rotating body was about 1.45. The viscosity of the paste was 260 dPa · s and the particle size was 30 μm when the peripheral velocity of the rotating body was 15 m / sec.

이상과 같이 본 발명의 장치는 회전체의 표면에 널링 가공에 의해 미세한 노치를 형성하고, 처리 재료가 접하는 회전체의 표면의 조화율(r)을 1보다 크게 했다. 이에 따라, 회전체의 실표면적이 평활면을 갖는 회전체의 표면적의 r배로 되어 접촉 면적이 증가함과 아울러 마찰 계수를 증가시켜서 미끄러짐을 방지할 수 있고, 회전체로부터의 전단 응력을 충분히 처리 재료에 전해 효율적으로 분산할 수 있다.As described above, in the apparatus of the present invention, fine notches are formed on the surface of the rotating body by knurling to increase the harmony ratio r of the surface of the rotating body to which the treating material contacts. As a result, the actual surface area of the rotating body becomes r times the surface area of the rotating body having a smooth surface, thereby increasing the contact area, increasing the friction coefficient to prevent slipping, and sufficiently reducing the shear stress from the rotating body And can be efficiently dispersed.

Claims (6)

고체/액체계 처리 재료의 제조 시에 미리 혼련된 점도 범위가 10~2500dPa·s의 고점성 유체의 처리 재료를 분산 매체를 사용하지 않고 혼련, 날화, 분산하는 처리 장치로서,
처리 재료의 공급구와 배출구를 갖는 베슬과, 상기 베슬 내에 회전 가능하게 설치된 회전체와, 상기 베슬의 내면과 상기 회전체의 외주면 사이에 상기 처리 재료가 회전체에 의한 처리를 받으면서 흐르는 통로가 되도록 형성된 고리형 미소 간극을 갖고, 상기 회전체의 표면에 노치를 형성한 것을 특징으로 하는 고점성 유체의 처리 장치.A processing apparatus for kneading, kneading and dispersing a processing material of a highly viscous fluid having a viscosity range of 10 to 2500 dPa · s previously kneaded in the preparation of a solid / liquid processing material without using a dispersion medium,
A vessel having a supply port and a discharge port of processing material, a rotating body rotatably provided in the vessel, and an inner surface of the vessel and an outer circumferential surface of the rotating body so that the processing material flows while being processed by the rotating body; An apparatus for treating high-viscosity fluids having annular microgaps and notches formed on the surface of the rotating body. 제 1 항에 있어서,
상기 회전체는 단면이 원형인 통형체로 형성되고, 상기 노치는 회전체의 표면에 널링 가공을 실시함으로써 형성되어 있는 것을 특징으로 하는 고점성 유체의 처리 장치.The method according to claim 1,
The rotating body is formed of a cylindrical body having a circular cross section, and the notch is formed by performing a knurling process on the surface of the rotating body. 제 1 항에 있어서,
상기 회전체는 외주면에 원주 방향으로 간격을 두고 홈부를 형성하고 길이 방향으로 연장되는 띠형 돌기를 형성한 통형체로 구성되고, 상기 노치는 회전체의 띠형 돌기의 표면에 널링 가공을 실시함으로써 형성되어 있는 것을 특징으로 하는 고점성 유체의 처리 장치.The method according to claim 1,
The rotating body is composed of a cylindrical body formed with grooves on the outer circumferential surface at intervals in the circumferential direction and formed with a strip-shaped protrusion extending in the longitudinal direction, and the notch is formed by performing a knurling process on the surface of the strip-shaped protrusion of the rotating body. It is a high viscosity fluid processing apparatus characterized by the above-mentioned. 제 1 항 내지 제 3 항 중 어느 한 항에 있어서,
상기 회전체의 표면의 조화율은 1.05~2.35인 것을 특징으로 하는 고점성 유체의 처리 장치.4. The method according to any one of claims 1 to 3,
Harmonic ratio of the surface of the rotating body is 1.05 to 2.35, characterized in that the treatment device of high viscosity fluid. 제 1항 내지 제 4 항 중 어느 한 한에 있어서,
상기 고리형 미소 간극은 1.0~10mm인 것을 특징으로 하는 고점성 유체의 처리 장치.The method according to any one of claims 1 to 4,
The annular micro-gap is a high viscosity fluid processing apparatus, characterized in that 1.0 ~ 10mm. 제 1 항 내지 제 5 항 중 어느 한 항에 있어서,
상기 회전체의 주속은 3~30m/sec인 것을 특징으로 하는 고점성 유체의 처리 장치.6. The method according to any one of claims 1 to 5,
The circumferential speed of the rotating body is 3 ~ 30m / sec treatment apparatus for a high viscosity fluid.
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Families Citing this family (1)

* Cited by examiner, † Cited by third party
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Family Cites Families (17)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
US2969960A (en) * 1957-06-05 1961-01-31 Mobay Chemical Corp Mixing apparatus
DE1457182C3 (en) * 1965-07-26 1975-04-24 Wacker Chemie Gmbh Device for continuous mixing
US3684732A (en) * 1967-10-11 1972-08-15 Union Carbide Corp Process for producing a formable collagen dispersion
GB1307926A (en) * 1970-05-22 1973-02-21 Pliz G Maschinenfabrik J S Pet Process and apparatus for continuous flow mixing blending and homogenising pasty and flowable materials
NL8100247A (en) * 1981-01-20 1982-08-16 Tno METHOD FOR MIXING AND KNeading HIGH-VISCOUS MATERIALS AND MIXING APPARATUS FOR USE THEREIN
JPH0622662B2 (en) 1989-12-05 1994-03-30 株式会社井上製作所 Medium disperser
US5141328A (en) * 1990-05-23 1992-08-25 Dilley Jerry D High speed mixing apparatus
JPH10216408A (en) * 1996-12-02 1998-08-18 Kobayashi Seisakusho:Kk Dissolver for flocculant
JP3184797B2 (en) * 1998-03-19 2001-07-09 ミヤマ株式会社 Mixing equipment
KR20020074560A (en) * 2001-03-20 2002-10-04 이종원 Crossing grid fluid mixer
JP2003275555A (en) * 2002-01-15 2003-09-30 Sumitomo Bakelite Co Ltd Mixing method and mixing device for solid and liquid materials
JP2007125518A (en) 2005-11-07 2007-05-24 Chuo Kakoki Kk Apparatus and method for processing liquid material
JP2008049508A (en) * 2006-08-23 2008-03-06 Hitachi Ltd High viscosity resin mixing apparatus
KR200439861Y1 (en) * 2006-12-05 2008-05-09 양재학 Preparation pulverization type transfer screw for red pepper pulverizer
JP4877996B2 (en) * 2007-03-23 2012-02-15 キユーピー株式会社 Bubble dispersion emulsification apparatus for high viscosity liquid and method for producing oil-in-water emulsified food with bubbles using the same
JP2009018275A (en) * 2007-07-13 2009-01-29 Inoue Mfg Inc Wet medium dispersing machine and wet medium dispersing method
US8313051B2 (en) * 2008-03-05 2012-11-20 Sealed Air Corporation (Us) Process and apparatus for mixing a polymer composition and composite polymers resulting therefrom

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