KR20130125918A - Composition for enamel, preparation method of composition for enamel, and cooking appliance - Google Patents
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Abstract
Description
본 발명은 법랑 조성물에 관한 것이다.The present invention relates to an enamel composition.
법랑(enamel)은 금속판의 표면에 유리질 유약을 도포시킨 것이다. 일반적인 법랑은 전자레인지와 오븐과 같은 조리기기 등에 사용된다. 한편, 법랑은 유약의 종류 또는 용도에 따라, 산화를 방지하는 내산법랑, 고온에 견딜 수 있는 내열법랑 등으로 나뉜다. 또한, 법랑에 첨가되는 재료에 따라, 알루미늄법랑, 지르코늄법랑, 티탄법랑 및 소다유리법랑 등으로 분류된다.Enamel is a glass glaze applied to the surface of a metal plate. Common enamel is used in cooking appliances such as microwave ovens and ovens. On the other hand, the enamel is divided into an acid-proof enamel to prevent oxidation, a heat-resistant enamel to withstand high temperatures, etc., depending on the type or use of the glaze. Moreover, according to the material added to an enamel, it is classified into aluminum enamel, zirconium enamel, titanium enamel, soda glass enamel, etc.
일반적으로 조리기기는 가열원을 이용하여 음식물을 가열하여 조리하는 기기이다. 조리 과정에서 발생한 음식물 찌꺼기 등이 상기 조리기기의 캐비티 내벽에 묻게 되므로, 상기 조리기기에서 음식물의 조리가 완료된 경우, 상기 캐비티 내부를 청소할 필요가 있다. 또한, 음식물의 조리는 고온을 수반하고, 상기 캐비티 내벽 등은 유기물질 및 알칼리 성분에 노출된다. 따라서, 법랑을 조리기기에 사용하는 경우에, 이러한 법랑은 내열성, 내화학성, 내마모성 및 내오염성 등을 필요로 한다. 따라서, 법랑의 내열성, 내화학성, 내마모성 및 내오염성을 개선시키기 위한 법랑용 조성물이 필요하다.In general, a cooking device is a device for cooking food by heating food using a heating source. Since food waste generated during the cooking process is buried in the cavity inner wall of the cooking appliance, when the cooking of the food is completed in the cooking appliance, it is necessary to clean the inside of the cavity. In addition, cooking of food involves high temperature, and the cavity inner wall and the like are exposed to organic substances and alkali components. Therefore, when enamel is used in a cooking appliance, such enamel requires heat resistance, chemical resistance, abrasion resistance, and stain resistance. Therefore, there is a need for a composition for enamel to improve the heat resistance, chemical resistance, abrasion resistance and fouling resistance of the enamel.
특히, 일반적으로 오븐에 사용되는 법랑을 쉽게 청소할 수 있는 기술로는 고온에서 오염물을 태워 재로 만드는 피롤리시스 방법 또는 강한 알칼리 세제를 사용하는 방법이 있다. 이에 따라서, 법랑은 고온 또는 고알칼리 세제에 노출되므로, 높은 내열성 및 내화학성을 요구한다. In particular, a technique that can easily clean the enamel commonly used in the oven is a pyrrolisis method that burns contaminants at a high temperature to ashes or a strong alkaline detergent. Accordingly, enamel is exposed to high temperature or high alkali detergents, and thus requires high heat resistance and chemical resistance.
또한, 이와 같은 법랑을 형성하기 위해서, 다양한 종류의 글래스 프릿이 사용될 수 있다. 즉, 상기 법랑을 형성하기 위해서, 서로 다른 성분을 가지는 글래스 프릿들이 사용될 수 있다. 이와 같은 경우, 여러 종류의 글래스 프릿들을 형성하고, 이를 균일하게 혼합하는 공정이 적용되어, 높은 에너지 소모 및 높은 불량률이 야기될 수 있다.In addition, various kinds of glass frits may be used to form such enamel. That is, to form the enamel, glass frits having different components may be used. In such a case, a process of forming various types of glass frits and uniformly mixing them may be applied, resulting in high energy consumption and high defective rate.
실시예는 향상된 내열성, 내화학성 및 청소성을 가지는 법랑 조성물, 이의 제조방법 및 이를 포함하는 조리기기를 제공하고자 한다.Embodiments provide an enamel composition having improved heat resistance, chemical resistance, and cleaning properties, a method for preparing the same, and a cooking apparatus including the same.
일 실시예에 따른 법랑 조성물은 P2O5, SiO2, B2O3, 내열 특성 강화 성분 및 밀착력 강화 성분을 포함하는 글래스 프릿을 포함하고, 상기 내열 특성 강화 성분은 ZrO2, Al2O3, TiO2 또는 BaO로부터 선택되고, 상기 밀착력 강화 성분은 CoO, NiO, MnO, Fe2O3 또는 CuO로부터 선택된다.The enamel composition according to one embodiment includes a glass frit including P 2 O 5, SiO 2, B 2 O 3, a heat resistant strengthening component and an adhesion enhancing component, and the heat resistant enhancing component is selected from ZrO 2, Al 2 O 3, TiO 2 or BaO, and the adhesion strength The reinforcing component is selected from CoO, NiO, MnO, Fe 2 O 3 or CuO.
일 실시예에서, 상기 글래스 프릿은 Li2O, Na2O 및 K2O를 더 포함할 수 있다.In one embodiment, the glass frit may further include Li 2 O, Na 2 O and K 2 O.
일 실시예에서, 상기 글래스 프릿은 NaF 및 ZnO를 더 포함할 수 있다.In one embodiment, the glass frit may further include NaF and ZnO.
일 실시예에서, 상기 글래스 프릿은 Ⅱ족계 산화물을 더 포함하고, 상기 Ⅱ족계 산화물은 CaO 또는 MgO로부터 선택될 수 있다.In one embodiment, the glass frit may further include a Group II oxide, and the Group II oxide may be selected from CaO or MgO.
일 실시예에서, 상기 내열 특성 강화 성분은 ZrO2, Al2O3, TiO2 및 BaO를 포함할 수 있다.In one embodiment, the heat resistance enhancing component may include ZrO 2, Al 2 O 3, TiO 2 and BaO.
일 실시예에서, 상기 글래스 프릿은 P2O5를 10wt% 내지 20wt%의 비율로, SiO2를 35wt% 내지 50wt%의 비율로, B2O3를 15wt% 내지 25wt%의 비율로, Na2O를 10wt% 내지 25wt%의 비율로, K2O를 4wt% 내지 15wt%의 비율로, Li2O를 0.1wt% 내지 5wt%의 비율로, Al2O3를 0.1wt% 내지 10wt%의 비율로, ZrO2를 0.1wt% 내지 10wt%의 비율로, BaO를 0.1wt% 내지 5wt%의 비율로, TiO2를 0.1wt% 내지 5wt%의 비율로, NaF를 0.1wt% 내지 10wt%의 비율로, ZnO를 0.1wt% 내지 5wt%의 비율로, 상기 Ⅱ족계 산화물을 0.1wt% 내지 10wt%의 비율로, 상기 밀착력 강화 성분을 0.1wt% 내지 5wt%의 비율로 포함할 수 있다.In one embodiment, the glass frit has a ratio of 10wt% to 20wt% of P2O5, 35wt% to 50wt% of SiO2, 15wt% to 25wt% of B2O3, and 10wt% to 25wt% of Na2O. Ratio, K2O at 4wt% to 15wt%, Li2O at 0.1wt% to 5wt%, Al2O3 at 0.1wt% to 10wt%, ZrO2 at 0.1wt% to 10wt%, BaO at a rate of 0.1wt% to 5wt%, TiO2 at a rate of 0.1wt% to 5wt%, NaF at a rate of 0.1wt% to 10wt%, ZnO at a rate of 0.1wt% to 5wt%, the above II The group oxide may be included in a ratio of 0.1 wt% to 10 wt%, and the adhesion reinforcing component may be included in a ratio of 0.1 wt% to 5 wt%.
일 실시예에서, 상기 밀착력 강화 성분은 CoO, NiO, MnO, Fe2O3 및 CuO을 포함하고, 상기 Ⅱ족계 산화물은 CaO 및 MgO을 포함할 수 있다.In one embodiment, the adhesion enhancing component may include CoO, NiO, MnO, Fe 2 O 3 and CuO, and the Group II oxide may include CaO and MgO.
일 실시예에서, 상기 글래스 프릿은 P2O5를 14wt% 내지 16wt%의 비율로, SiO2를 31wt% 내지 33wt%의 비율로, B2O3를 19wt% 내지 20wt%의 비율로, Na2O를 6wt% 내지 8wt%의 비율로, K2O를 4wt% 내지 5wt%의 비율로, Li2O를 3wt% 내지 5wt%의 비율로, Al2O3를 1wt% 내지 2wt%의 비율로, ZrO2를 2wt% 내지 4wt%의 비율로, BaO를 2wt% 내지 4wt%의 비율로, NaF를 4wt% 내지 5wt%의 비율로, 상기 Ⅱ족계 산화물을 4wt% 내지 5wt%의 비율로, 상기 밀착력 강화 성분을 1.5wt% 내지 2.5wt%의 비율로 포함한다.In one embodiment, the glass frit has a ratio of 14 wt% to 16 wt% of P2O5, 31 wt% to 33 wt% of SiO2, 19 wt% to 20 wt% of B2O3, and 6 wt% to 8 wt% of Na2O. Ratio, K2O at 4wt% to 5wt%, Li2O at 3wt% to 5wt%, Al2O3 at 1wt% to 2wt%, ZrO2 at 2wt% to 4wt%, BaO 2wt % To 4 wt%, NaF to 4wt% to 5wt%, Group II oxides to 4wt% to 5wt%, and the adhesion enhancing component at a ratio of 1.5wt% to 2.5wt%. .
일 실시예에 따른 법랑 조성물의 제조방법은 P2O5, SiO2, B2O3, 내열 특성 강화 성분 및 밀착력 강화 성분을 포함하는 글래스 프릿 재료를 제공하는 단계; 상기 글래스 프릿 재료를 멜팅하는 단계; 및 상기 멜팅된 P2O5, SiO2, B2O3, 내열 특성 강화 성분 및 밀착력 강화 성분을 퀀칭하여, 글래스 프릿을 형성하는 단계를 포함하고, 상기 내열 특성 강화 성분은 ZrO2, Al2O3, TiO2 또는 BaO로부터 선택되고, 상기 밀착력 강화 성분은 CoO, NiO, MnO, Fe2O3 또는 CuO로부터 선택된다.According to an embodiment, a method of preparing an enamel composition may include providing a glass frit material including P 2 O 5, SiO 2, B 2 O 3, a heat resistance enhancing component, and an adhesion enhancing component; Melting the glass frit material; And quenching the melted P 2 O 5, SiO 2, B 2 O 3, a heat resistant strengthening component and an adhesion enhancing component to form a glass frit, wherein the heat resistant enhancing component is selected from ZrO 2, Al 2 O 3, TiO 2 or BaO, and The adhesion enhancing component is selected from CoO, NiO, MnO, Fe 2 O 3 or CuO.
일 실시예에서, 상기 글래스 프릿의 유리 변형 온도는 520℃ 내지 700℃일 수 있다.In one embodiment, the glass deformation temperature of the glass frit may be 520 ℃ to 700 ℃.
실시예에 따른 법랑 조성물은 ZrO2, Al2O3, TiO2 및 BaO 등의 성분의 조합을 통하여, 높은 내열성을 가질 수 있다. 또한, 실시예에 따른 법랑 조성물은 Al2O3, SiO2 및 ZrO2 등의 성분을 통하여, 높은 표면 경도를 가지는 법랑을 제공할 수 있다. The enamel composition according to the embodiment may have high heat resistance through a combination of components such as ZrO 2, Al 2 O 3, TiO 2, and BaO. In addition, the enamel composition according to the embodiment may provide an enamel having a high surface hardness through components such as Al 2 O 3, SiO 2, and ZrO 2.
또한, 실시예에 따른 법랑 조성물은 한 종류의 글래스 프릿에 P2O5, SiO2, B2O3, Na2O, K2O, Li2O, Al2O3, ZrO2, BaO, TiO2, NaF, ZnO, Ⅱ족계 산화물 및 상기 밀착력 강화 성분을 한꺼번에 포함시킬 수 있다.In addition, the enamel composition according to the embodiment includes P2O5, SiO2, B2O3, Na2O, K2O, Li2O, Al2O3, ZrO2, BaO, TiO2, NaF, ZnO, Group II-based oxides, and the adhesion-enhancing component in one kind of glass frit at once. You can.
이에 따라서, 실시예에 따른 법랑 조성물은 한 종류의 글래스 프릿을 사용하여, 오븐 등과 같은 조리 기기 등에 코팅층을 용이하게 형성할 수 있다. 즉, 실시예에 따른 법랑 조성물은 조리 기기의 코팅층에 필요한 성분을 한 종류에 글래스 프릿에 포함시킨다.Accordingly, the enamel composition according to the embodiment can easily form a coating layer on a cooking appliance such as an oven by using one kind of glass frit. That is, the enamel composition according to the embodiment includes the components necessary for the coating layer of the cooking appliance in one type of glass frit.
따라서, 실시예에 따른 법랑 조성물은 전체적으로 균일한 특성을 가진다. 또한, 실시예에 따른 법랑 조성물은 간단한 공정으로 용이하게 제조될 수 있다.Thus, the enamel composition according to the embodiment has a uniform property as a whole. In addition, the enamel composition according to the embodiment can be easily prepared in a simple process.
도 1은 본 발명의 실시예에 따른 조리기기를 보인 정면도.
도 2는 도 1의 캐비티 내면의 일부를 확대하여 보인 단면도.
도 3은 도 1의 도어의 이면의 일부를 확대하여 보인 단면도.1 is a front view showing a cooking apparatus according to an embodiment of the present invention;
FIG. 2 is an enlarged cross-sectional view of a portion of a cavity inner surface of FIG. 1. FIG.
3 is an enlarged cross-sectional view of a part of the rear surface of the door of FIG. 1;
일 실시예에 따른 법랑 조성물은 P2O5, SiO2, B2O3, 내열 특성 강화 성분 및 밀착력 강화 성분을 포함하는 글래스 프릿을 포함한다.The enamel composition according to one embodiment includes a glass frit including P 2 O 5, SiO 2, B 2 O 3, a heat resistance enhancing component and an adhesion enhancing component.
또한, 상기 글래스 프릿은 Li2O, Na2O 및 K2O를 더 포함할 수 있다.In addition, the glass frit may further include Li 2 O, Na 2 O, and K 2 O.
또한, 상기 글래스 프릿은 NaF 및 ZnO을 더 포함할 수 있다.In addition, the glass frit may further include NaF and ZnO.
또한, 상기 글래스 프릿은 Ⅱ족계 산화물을 더 포함할 수 있다.In addition, the glass frit may further include a Group II oxide.
SiO2 및 B2O3는 상기 글래스 프릿의 주된 구성 성분일 수 있다. SiO2 및 B2O3는 상기 글래스 프릿에 약 50wt% 내지 약 75wt%의 비율로 포함될 수 있다. 더 자세하게, SiO2 및 B2O3는 상기 글래스 프릿에 약 50wt% 내지 약 60wt%의 비율로 포함될 수 있다. 더 자세하게, SiO2 및 B2O3는 상기 글래스 프릿에, 약 50wt% 내지 약 55wt%의 비율로 포함될 수 있다.SiO 2 and B 2 O 3 may be the main constituents of the glass frit. SiO 2 and B 2 O 3 may be included in the ratio of about 50 wt% to about 75 wt% in the glass frit. In more detail, SiO 2 and B 2 O 3 may be included in the ratio of about 50 wt% to about 60 wt% in the glass frit. In more detail, SiO 2 and B 2 O 3 may be included in the glass frit in a ratio of about 50 wt% to about 55 wt%.
또한, SiO2는 상기 글래스 프릿을 기준으로, 약 35wt% 내지 약 50wt%의 비율로 포함될 수 있다. 더 자세하게, SiO2는 상기 글래스 프릿을 기준으로, 약 31wt% 내지 약 33wt%의 비율로 포함될 수 있다.In addition, SiO 2 may be included in a ratio of about 35 wt% to about 50 wt% based on the glass frit. In more detail, SiO 2 may be included in a ratio of about 31 wt% to about 33 wt% based on the glass frit.
또한, B2O3는 상기 글래스 프릿을 기준으로, 약 15wt% 내지 약 25wt%의 비율로 포함될 수 있다. 더 자세하게, B2O3는 상기 글래스 프릿을 기준으로, 약 19wt% 내지 약 20wt%의 비율로 포함될 수 있다.In addition, B 2 O 3 may be included in a ratio of about 15 wt% to about 25 wt% based on the glass frit. In more detail, B 2 O 3 may be included in a ratio of about 19 wt% to about 20 wt% based on the glass frit.
상기 글래스 프릿의 주된 성분으로 SiO2 및 B2O3이 사용됨에 따라서, 상기 글래스 프릿은 P2O5, Na2O, K2O, LiO2, ZrO2, Al2O3, TiO2, BaO, NaF, 상기 Ⅱ족계 산화물 및 상기 밀착력 강화 성분을 포함할 수 있다. 즉, SiO2 및 B2O3은 용매 기능을 수행하여, P2O5, Na2O, K2O, LiO2, ZrO2, Al2O3, TiO2, BaO, NaF, 상기 Ⅱ족계 산화물 및 상기 밀착력 강화 성분과 함께, 상기 글래스 프릿을 구성할 수 있다. 즉, SiO2 및 B2O3에 의해서, P2O5, Na2O, K2O, LiO2, ZrO2, Al2O3, TiO2, BaO, NaF, 상기 Ⅱ족계 산화물 및 상기 밀착력 강화 성분이 하나의 글래스 프릿으로 형성될 수 있다.As SiO 2 and B 2 O 3 are used as main components of the glass frit, the glass frit may include P 2 O 5, Na 2 O, K 2 O, LiO 2, ZrO 2, Al 2 O 3, TiO 2, BaO, NaF, the Group II-based oxide, and the adhesion enhancing component. have. That is, SiO 2 and B 2 O 3 may perform a solvent function to form the glass frit together with P 2 O 5, Na 2 O, K 2 O, LiO 2, ZrO 2, Al 2 O 3, TiO 2, BaO, NaF, the Group II oxide, and the adhesion enhancing component. . That is, by SiO 2 and B 2 O 3, P 2 O 5, Na 2 O, K 2 O, LiO 2, ZrO 2, Al 2 O 3, TiO 2, BaO, NaF, the Group II oxide, and the adhesion enhancing component may be formed of one glass frit.
또한, SiO2는 상기 글래스 프릿에 포함되어, 상기 글래스 프릿의 내산성을 향상시킬 수 있다. 또한, B2O3는 상기 글래스 프릿의 유리화 영역을 확대하고, 실시예에 따른 법랑 조성물의 열팽창 계수를 적절하게 조절하는 기능을 수행할 수 있다.In addition, SiO 2 may be included in the glass frit to improve acid resistance of the glass frit. In addition, B 2 O 3 may perform a function of enlarging the vitrification area of the glass frit and appropriately adjusting the thermal expansion coefficient of the enamel composition according to the embodiment.
P2O5, Na2O, K2O 및 LiO2는 알칼리 포스페이트 유리 구조(alkali phosphate glass structure)를 형성할 수 있다. 또한, P2O5, Na2O, K2O 및 LiO2는 실시예에 따른 법랑 조성물에 향상된 청소 성능을 부여한다. 즉, 상기 글래스 프릿이 P2O5, Na2O, K2O 및 LiO2를 포함하기 때문에, 실시예에 따른 법랑 조성물에 의해서 형성된 코팅층이 음식물 등에 의해서 오염될 때, 상기 코팅층은 물에 의해서 용이하게 청소될 수 있다.P 2 O 5, Na 2 O, K 2 O and LiO 2 may form an alkali phosphate glass structure. In addition, P 2 O 5, Na 2 O, K 2 O and LiO 2 impart improved cleaning performance to the enamel composition according to the embodiment. That is, since the glass frit includes P 2 O 5, Na 2 O, K 2 O and LiO 2, when the coating layer formed by the enamel composition according to the embodiment is contaminated by food or the like, the coating layer may be easily cleaned by water.
P2O5는 상기 글래스 프릿을 기준으로, 약 10wt% 내지 약 20wt%의 비율로 포함될 수 있다. 더 자세하게, P2O5는 상기 글래스 프릿을 기준으로, 약 14wt% 내지 약 16wt%의 비율로 포함될 수 있다.P 2 O 5 may be included in a ratio of about 10 wt% to about 20 wt% based on the glass frit. In more detail, P 2 O 5 may be included in a ratio of about 14 wt% to about 16 wt% based on the glass frit.
Na2O는 상기 글래스 프릿을 기준으로, 약 10wt% 내지 약 25wt%의 비율로 포함될 수 있다. 더 자세하게, Na2O는 상기 글래스 프릿을 기준으로, 약 6wt% 내지 약 8wt%의 비율로 포함될 수 있다.Na 2 O may be included in a ratio of about 10 wt% to about 25 wt% based on the glass frit. In more detail, Na 2 O may be included in a ratio of about 6 wt% to about 8 wt% based on the glass frit.
K2O는 상기 글래스 프릿을 기준으로, 상기 글래스 프릿에, 약 4wt% 내지 약 15wt%의 비율로 포함될 수 있다. 더 자세하게, K2O는 상기 글래스 프릿을 기준으로, 상기 글래스 프릿에, 약 4wt% 내지 약 5wt%의 비율로 포함될 수 있다.K2O may be included in the glass frit in a ratio of about 4 wt% to about 15 wt% based on the glass frit. In more detail, K 2 O may be included in the glass frit in a ratio of about 4 wt% to about 5 wt% based on the glass frit.
Li2O는 상기 글래스 프릿을 기준으로, 상기 글래스 프릿에, 약 0.1wt% 내지 약 5wt%의 비율로 포함될 수 있다. 더 자세하게, Li2O는 상기 글래스 프릿을 기준으로, 상기 글래스 프릿에, 약 3wt% 내지 약 5wt%의 비율로 포함될 수 있다.Li2O may be included in the glass frit in a ratio of about 0.1 wt% to about 5 wt% based on the glass frit. In more detail, Li 2 O may be included in the glass frit in a ratio of about 3 wt% to about 5 wt% based on the glass frit.
상기 내열 특성 강화 성분은 ZrO2, Al2O3, TiO2 또는 BaO로부터 선택될 수 있다. 더 자세하게, 상기 내열 특성 강화 성분은 ZrO2, Al2O3, TiO2 및 BaO을 포함할 수 있다. 상기 내열 특성 강화 성분은 ZrO2, Al2O3 및 BaO를 포함할 수 있다. 즉, 상기 글래스 프릿은 ZrO2, Al2O3, TiO2 및 BaO을 모두 포함하거나, TiO2를 제외하고, ZrO2, Al2O3 및 BaO를 포함할 수 있다. 특히, ZrO2, Al2O3 및 BaO이 조합되어, 실시예에 따른 법랑 조성물의 내열 특성이 향상될 수 있다.The heat resistance enhancing component may be selected from ZrO 2, Al 2 O 3, TiO 2 or BaO. In more detail, the heat resistance enhancing component may include ZrO 2, Al 2 O 3, TiO 2 and BaO. The heat resistance enhancing component may include ZrO 2, Al 2 O 3 and BaO. That is, the glass frit may include all of ZrO 2, Al 2 O 3, TiO 2 and BaO, or may include ZrO 2, Al 2 O 3, and BaO except for TiO 2. In particular, ZrO 2, Al 2 O 3 and BaO may be combined to improve heat resistance characteristics of the enamel composition according to the embodiment.
상기 글래스 프릿은 약 520℃ 이상의 유리 변형 온도를 가질 수 있다. 예를 들어, 상기 글래스 프릿의 유리 변형 온도는 520℃ 내지 700℃일 수 있다. 이에 따라서, 실시예에 따른 법랑 조성물에 의해서 형성된 코팅층은 약 520℃ 이상의, 더 자세하게, 약 520℃ 내지 약 700℃의 유리 변형 온도를 가질 수 있다. 이에 따라서, 실시예에 따른 법랑 조성물은 높은 온도에서도 변형되지 않는 코팅층을 형성할 수 있다.The glass frit may have a glass deformation temperature of about 520 ° C. or more. For example, the glass deformation temperature of the glass frit may be 520 ° C to 700 ° C. Accordingly, the coating layer formed by the enamel composition according to the embodiment may have a glass deformation temperature of about 520 ° C. or more, more specifically, about 520 ° C. to about 700 ° C. Accordingly, the enamel composition according to the embodiment can form a coating layer that does not deform even at high temperatures.
또한, Al2O3 및 ZrO2는 상기 글래스 프릿의 화학적 내구성을 향상시킬 수 있다. 특히, Al2O3 및 ZrO2는 P2O5, Na2O, K2O 및 LiO2가 형성하는 알칼리 포스페이스 유리 구조의 약한 내화학성을 보완할 수 있다.In addition, Al 2 O 3 and ZrO 2 may improve the chemical durability of the glass frit. In particular, Al 2 O 3 and ZrO 2 can compensate for the weak chemical resistance of the alkaline foam glass structure formed by P 2 O 5, Na 2 O, K 2 O and LiO 2.
또한, SiO2, Al2O3 및 ZrO2의 조합에 의해서, 상기 코팅층의 표면 경도가 향상될 수 있다.In addition, by the combination of SiO 2, Al 2 O 3 and ZrO 2, the surface hardness of the coating layer may be improved.
Al2O3는 상기 글래스 프릿에, 상기 글래스 프릿을 기준으로, 약 0.1wt% 내지 약 10wt%의 비율로 포함될 수 있다. 더 자세하게, Al2O3는 상기 글래스 프릿에, 상기 글래스 프릿을 기준으로, 약 1wt% 내지 약 2wt%의 비율로 포함될 수 있다.Al 2 O 3 may be included in the glass frit in a ratio of about 0.1 wt% to about 10 wt% based on the glass frit. In more detail, Al 2 O 3 may be included in the glass frit in a ratio of about 1 wt% to about 2 wt% based on the glass frit.
ZrO2는 상기 글래스 프릿에, 상기 글래스 프릿을 기준으로, 약 0.1wt% 내지 약 10wt%의 비율로 포함될 수 있다. 더 자세하게, ZrO2는 상기 글래스 프릿에, 상기 글래스 프릿을 기준으로, 약 2wt% 내지 약 4wt%의 비율로 포함될 수 있다.ZrO 2 may be included in the glass frit in a ratio of about 0.1 wt% to about 10 wt% based on the glass frit. In more detail, ZrO 2 may be included in the glass frit in a ratio of about 2 wt% to about 4 wt% based on the glass frit.
BaO는 상기 글래스 프릿에, 상기 글래스 프릿을 기준으로, 약 0.1wt% 내지 약 5wt%의 비율로 포함될 수 있다. 더 자세하게, BaO는 상기 글래스 프릿에, 상기 글래스 프릿을 기준으로, 약 2wt% 내지 약 4wt%의 비율로 포함될 수 있다.BaO may be included in the glass frit in a ratio of about 0.1 wt% to about 5 wt% based on the glass frit. In more detail, BaO may be included in the glass frit in a ratio of about 2 wt% to about 4 wt% based on the glass frit.
TiO2는 상기 글래스 프릿에, 상기 글래스 프릿을 기준으로, 약 0.1wt% 내지 약 5wt%의 비율로 포함될 수 있다.TiO 2 may be included in the glass frit at a rate of about 0.1 wt% to about 5 wt% based on the glass frit.
또한, NaF 및 TiO2는 상기 코팅층의 표면 장력(surface tension)을 적절하게 조절하는 기능을 수행할 수 있다. 또한, NaF 및 TiO2는 실시예에 따른 법랑 조성물의 은폐력을 향상시킬 수 있다. 즉, NaF 및 TiO2에 의해서, 상기 코팅층의 은폐력이 향상될 수 있다.In addition, NaF and TiO 2 may perform a function of appropriately adjusting the surface tension of the coating layer. In addition, NaF and TiO 2 may improve the hiding power of the enamel composition according to the embodiment. That is, by NaF and TiO2, hiding power of the coating layer can be improved.
NaF는 상기 글래스 프릿에, 상기 글래스 프릿을 기준으로, 약 0.1wt% 내지 약 10wt%의 비율로 포함될 수 있다. 더 자세하게, NaF는 상기 글래스 프릿에, 상기 글래스 프릿을 기준으로, 약 4wt% 내지 약 5wt%의 비율로 포함될 수 있다. NaF may be included in the glass frit in a ratio of about 0.1 wt% to about 10 wt% based on the glass frit. In more detail, NaF may be included in the glass frit in a ratio of about 4 wt% to about 5 wt% based on the glass frit.
ZnO는 상기 글래스 프릿에, 상기 글래스 프릿을 기준으로, 약 0.1wt% 내지 약 5wt%의 비율로 포함될 수 있다.ZnO may be included in the glass frit in a ratio of about 0.1 wt% to about 5 wt% based on the glass frit.
상기 Ⅱ족계 산화물은 CaO 또는 MgO로부터 선택될 수 있다. 더 자세하게, 상기 Ⅱ족계 산화물은 CaO 및 MgO를 포함할 수 있다. 즉, 상기 글래스 프릿은 CaO 및 MgO를 포함할 수 있다.The Group II-based oxide may be selected from CaO or MgO. In more detail, the Group II oxide may include CaO and MgO. That is, the glass frit may include CaO and MgO.
상기 Ⅱ족계 산화물은 상기 글래스 프릿에, 상기 글래스 프릿을 기준으로, 약 0.1wt% 내지 약 10wt%의 비율로 포함될 수 있다. 더 자세하게, 상기 Ⅱ족계 산화물은 상기 글래스 프릿에, 상기 글래스 프릿을 기준으로, 약 4wt% 내지 약 5wt%의 비율로 포함될 수 있다.The Group II-based oxide may be included in the glass frit in a ratio of about 0.1 wt% to about 10 wt% based on the glass frit. In more detail, the Group II-based oxide may be included in the glass frit in a ratio of about 4 wt% to about 5 wt% based on the glass frit.
상기 밀착력 강화 성분은 CoO, NiO, MnO, Fe2O3 또는 CuO로부터 선택된다. 더 자세하게, 상기 밀착력 강화 성분은 CoO, NiO, MnO, Fe2O3 및 CuO를 포함할 수 있다. 즉, 상기 글래스 프릿은 CoO, NiO, MnO, Fe2O3 및 CuO를 모두 포함할 수 있다.The adhesion enhancing component is selected from CoO, NiO, MnO, Fe 2 O 3 or CuO. In more detail, the adhesion enhancing component may include CoO, NiO, MnO, Fe 2 O 3 and CuO. That is, the glass frit may include all of CoO, NiO, MnO, Fe 2 O 3, and CuO.
상기 밀착력 강화 성분은 상기 글래스 프릿에, 상기 글래스 프릿을 기준으로, 약 0.1wt% 내지 약 5wt%의 비율로 포함될 수 있다. 더 자세하게, 상기 밀착력 강화 성분은 상기 글래스 프릿에, 상기 글래스 프릿을 기준으로, 약 1.5wt% 내지 약 2.5wt%의 비율로 포함될 수 있다.The adhesion enhancing component may be included in the glass frit in a ratio of about 0.1 wt% to about 5 wt% based on the glass frit. In more detail, the adhesion enhancing component may be included in the glass frit in a ratio of about 1.5 wt% to about 2.5 wt% based on the glass frit.
또한, 상기 글래스 프릿은 P2O5를 약 10wt% 내지 약 20wt%의 비율로, SiO2를 약 35wt% 내지 약 50wt%의 비율로, B2O3를 약 15wt% 내지 약 25wt%의 비율로, Na2O를 약 10wt% 내지 약 25wt%의 비율로, K2O를 약 4wt% 내지 약 15wt%의 비율로, Li2O를 약 0.1wt% 내지 약 5wt%의 비율로, Al2O3를 약 0.1wt% 내지 약 10wt%의 비율로, ZrO2를 약 0.1wt% 내지 약 10wt%의 비율로, BaO를 약 0.1wt% 내지 약 5wt%의 비율로, TiO2를 약 0.1wt% 내지 약 5wt%의 비율로, NaF를 약 0.1wt% 내지 약 10wt%의 비율로, ZnO를 약 0.1wt% 내지 약 5wt%의 비율로, 상기 Ⅱ족계 산화물을 약 0.1wt% 내지 약 10wt%의 비율로, 상기 밀착력 강화 성분을 약 0.1wt% 내지 약 5wt%의 비율로 포함할 수 있다.In addition, the glass frit has a ratio of about 10 wt% to about 20 wt% of P 2 O 5, about 35 wt% to about 50 wt% of SiO 2, about 15 wt% to about 25 wt% of B 2 O 3, and about 10 wt% of Na 2 O. To about 25 wt%, K 2 O at about 4 wt% to about 15 wt%, Li 2 O at about 0.1 wt% to about 5 wt%, Al 2 O 3 at about 0.1 wt% to about 10 wt%, ZrO 2 At a ratio of about 0.1 wt% to about 10 wt%, BaO at a ratio of about 0.1 wt% to about 5 wt%, TiO 2 at a ratio of about 0.1 wt% to about 5 wt%, NaF about 0.1 wt% to about 10 wt% % Of ZnO in a ratio of about 0.1 wt% to about 5 wt%, about 0.1 wt% to about 10 wt% of the Group II oxide, and about 0.1 wt% to about 5 wt% of the adhesion enhancing component. It can be included as a ratio.
더 자세하게, 상기 글래스 프릿은 P2O5를 약 14wt% 내지 약 16wt%의 비율로, SiO2를 약 31wt% 내지 약 33wt%의 비율로, B2O3를 약 19wt% 내지 약 20wt%의 비율로, Na2O를 약 6wt% 내지 약 8wt%의 비율로, K2O를 약 4wt% 내지 약 5wt%의 비율로, Li2O를 약 3wt% 내지 약 5wt%의 비율로, Al2O3를 약 1wt% 내지 약 2wt%의 비율로, ZrO2를 약 2wt% 내지 약 4wt%의 비율로, BaO를 약 2wt% 내지 약 4wt%의 비율로, NaF를 약 4wt% 내지 약 5wt%의 비율로, 상기 Ⅱ족계 산화물을 약 4wt% 내지 약 5wt%의 비율로, 상기 밀착력 강화 성분을 약 1.5wt% 내지 약 2.5wt%의 비율로 포함할 수 있다.More specifically, the glass frit has a ratio of about 14 wt% to about 16 wt% P 2 O 5, about 31 wt% to about 33 wt% SiO 2, about 19 wt% to about 20 wt% B 2 O 3, about 6 wt% Na 2 O. % To about 8wt%, K2O to about 4wt% to about 5wt%, Li2O to about 3wt% to about 5wt%, Al2O3 to about 1wt% to about 2wt%, ZrO2 to From about 2 wt% to about 4 wt%, from about 2 wt% to about 4 wt% BaO, from about 4 wt% to about 5 wt% NaF, and from about 4 wt% to about 5 wt% of the Group II oxide. In proportion, the adhesion enhancing component may be included in a ratio of about 1.5 wt% to about 2.5 wt%.
상기 글래스 프릿의 직경은 약 0.1㎛ 내지 약 50㎛일 수 있다. 또한, 상기 글래스 프릿은 아세톤 또는 물 등과 같은 용매에 분산될 수 있다. 즉, 실시예에 따른 법랑 조성물은 상기 글래스 프릿을 상기 용매에 분산시켜서 사용할 수 있다.The glass frit may have a diameter of about 0.1 μm to about 50 μm. In addition, the glass frit may be dispersed in a solvent such as acetone or water. That is, the enamel composition according to the embodiment may be used by dispersing the glass frit in the solvent.
실시예에 따른 법랑 조성물은 다음과 같은 방법에 의해서 제조될 수 있다.The enamel composition according to the embodiment may be prepared by the following method.
먼저, 상기 글래스 프릿을 형성하기 위한 글래스 프릿 재료가 제공된다. 상기 글래스 프릿 재료는 P2O5, SiO2, B2O3, 상기 내열 특성 강화 성분 및 상기 밀착력 강화 성분을 포함한다. 또한, 상기 글래스 프릿 재료는 Li2O, Na2O 및 K2O를 더 포함할 수 있다. 또한, 상기 글래스 프릿 재료는 NaF 및 ZnO을 더 포함할 수 있다. 또한, 상기 글래스 프릿 재료는 상기 Ⅱ족계 산화물을 더 포함할 수 있다.First, a glass frit material for forming the glass frit is provided. The glass frit material includes P 2 O 5, SiO 2, B 2 O 3, the heat resistance enhancing component and the adhesion enhancing component. In addition, the glass frit material may further include Li 2 O, Na 2 O and K 2 O. In addition, the glass frit material may further comprise NaF and ZnO. In addition, the glass frit material may further include the Group II oxide.
이후, 상기 글래스 프릿 재료는 멜팅된다. 예를 들어, 상기 글래스 프릿 재료는 약 1300℃ 내지 약 1600℃의 온도에서 멜팅될 수 있다. 또한, 상기 글래스 프릿 재료는 약 1시간 내지 약 1시간 30분 동안 멜팅될 수 있다.Thereafter, the glass frit material is melted. For example, the glass frit material may be melted at a temperature of about 1300 ° C to about 1600 ° C. In addition, the glass frit material may be melted for about 1 hour to about 1 hour 30 minutes.
이후, 상기 멜팅된 글래스 프릿 재료는 칠러 등이 사용되어, 퀀칭될 수 있다. 이에 따라서, 상기 글래스 프릿이 형성될 수 있다. 이때, 상기 글래스 프릿 재료에 포함되는 각각의 성분의 함량에 의해서, 형성되는 글래스 프릿의 각각 성분의 함량이 결정될 수 있다. 즉, 상기 글래스 프릿 재료에 포함되는 각각의 성분의 함량은 상기 글래스 프릿의 각각의 성분의 함량과 실질적으로 동일할 수 있다.Thereafter, the melted glass frit material may be quenched by using a chiller or the like. Accordingly, the glass frit may be formed. In this case, the content of each component of the glass frit to be formed may be determined by the content of each component included in the glass frit material. That is, the content of each component included in the glass frit material may be substantially the same as the content of each component of the glass frit.
이후, 상기 글래스 프릿은 아세톤 등의 용매에 분산될 수 있다. 이후, 상기 용매는 건조될 수 있다. 이후, 상기 글래스 프릿은 메쉬 등에 의해서, 걸러질 수 있다. 특히, 상기 글래스 프릿은 약 50㎛ 이하의 직경을 가지도록 걸러질 수 있다.Thereafter, the glass frit may be dispersed in a solvent such as acetone. Thereafter, the solvent may be dried. Thereafter, the glass frit may be filtered by a mesh or the like. In particular, the glass frit may be filtered to have a diameter of about 50 μm or less.
이와 같이, 상기 글래스 프릿을 포함하는 법랑 조성물이 형성될 수 있다.As such, an enamel composition including the glass frit may be formed.
이후, 실시예에 따른 법랑 조성물은 다음과 같은 방법에 의해서, 상기 코팅층을 형성할 수 있다.Thereafter, the enamel composition according to the embodiment may form the coating layer by the following method.
일단, 실시예에 따른 법랑 조성물은 물 등과 같은 용매에 분산되어 사용될 수 있다. 즉, 상기 글래스 프릿은 용매에 분산된다. 이후, 실시예에 따른 법랑 조성물은 스프레이 방식에 의해서, 코팅하고자하는 대상 물체의 일 표면에 코팅된다. 상기 대상 물체는 금속 플레이트 또는 강화 유리 플레이트 등일 수 있다. 특히, 상기 대상 물체는 조리기기의 일부 또는 전부일 수 있다.First, the enamel composition according to the embodiment can be used dispersed in a solvent such as water. That is, the glass frit is dispersed in a solvent. Thereafter, the enamel composition according to the embodiment is coated on one surface of the object to be coated by a spray method. The object may be a metal plate or a tempered glass plate. In particular, the target object may be part or all of the cooking appliance.
이와는 다르게, 실시예에 따른 법랑 조성물은 건조된 상태로, 상기 대상 물체에 코팅될 수 있다. 실시예에 따른 법랑 조성물은 정전기적 인력에 의해서, 상기 대상 물체에 코팅될 수 있다.Alternatively, the enamel composition according to the embodiment may be coated on the object in a dried state. The enamel composition according to the embodiment may be coated on the object by electrostatic attraction.
이후, 실시예에 따른 법랑 조성물이 코팅된 대상 물체는 약 700℃ 내지 약 900℃의 온도에서 소성될 수 있다. 상기 코팅된 법랑 조성물은 약 100초 내지 약 400초 동안 소성될 수 있다.Thereafter, the object to which the enamel composition is coated according to the embodiment may be fired at a temperature of about 700 ° C to about 900 ° C. The coated enamel composition may be calcined for about 100 seconds to about 400 seconds.
이에 따라서, 실시예에 따른 법랑 조성물은 상기 대상 물체에 코팅층을 형성할 수 있다.Accordingly, the enamel composition according to the embodiment may form a coating layer on the target object.
상기 코팅층은 ZrO2, Al2O3, TiO2 및 BaO 등의 성분의 조합을 통하여, 높은 내열성을 가질 수 있다. 또한, 상기 코팅층은 Al2O3, SiO2 및 ZrO2 등의 성분을 통하여, 높은 표면 경도를 가지는 법랑을 제공할 수 있다.The coating layer may have high heat resistance through a combination of components such as ZrO 2, Al 2 O 3, TiO 2, and BaO. In addition, the coating layer may provide an enamel having high surface hardness through components such as Al 2 O 3, SiO 2, and ZrO 2.
따라서, 실시예에 따른 법랑 조성물은 향상된 내열성, 청소성 및 내화학성을 가지는 코팅층을 제공할 수 있다.Therefore, the enamel composition according to the embodiment may provide a coating layer having improved heat resistance, cleaning property and chemical resistance.
또한, 실시예에 따른 법랑 조성물은 한 종류의 글래스 프릿에 P2O5, SiO2, B2O3, Na2O, K2O, Li2O, Al2O3, ZrO2, BaO, TiO2, NaF, ZnO, Ⅱ족계 산화물 및 상기 밀착력 강화 성분을 한꺼번에 포함시킬 수 있다.In addition, the enamel composition according to the embodiment includes P2O5, SiO2, B2O3, Na2O, K2O, Li2O, Al2O3, ZrO2, BaO, TiO2, NaF, ZnO, Group II-based oxides, and the adhesion-enhancing component in one kind of glass frit at once. You can.
이에 따라서, 실시예에 따른 법랑 조성물은 한 종류의 글래스 프릿을 사용하여, 오븐 등과 같은 조리 기기 등에 상기 코팅층을 용이하게 형성할 수 있다. 즉, 실시예에 따른 법랑 조성물은 조리 기기의 코팅층에 필요한 성분을 한 종류에 글래스 프릿에 포함시킨다.Accordingly, the enamel composition according to the embodiment may easily form the coating layer on a cooking appliance such as an oven by using one kind of glass frit. That is, the enamel composition according to the embodiment includes the components necessary for the coating layer of the cooking appliance in one type of glass frit.
따라서, 실시예에 따른 법랑 조성물은 전체적으로 균일한 특성을 가지는 코팅층을 제공할 수 있다. 또한, 실시예에 따른 법랑 조성물은 간단한 공정으로 용이하게 제조될 수 있다.
Thus, the enamel composition according to the embodiment may provide a coating layer having a uniform property as a whole. In addition, the enamel composition according to the embodiment can be easily prepared in a simple process.
이하에서는, 본 발명의 실시예에 따른 조리기기를 첨부된 도면을 참조하여 보다 상세하게 설명한다.Hereinafter, a cooking apparatus according to an embodiment of the present invention will be described in more detail with reference to the accompanying drawings.
도 1은 본 발명의 실시예에 따른 조리기기를 보인 정면도이고, 도 2는 도 1의 캐비티 내면의 일부를 확대하여 보인 단면도이며, 도 3은 도 1의 도어의 이면의 일부를 확대하여 보인 단면도이다.1 is a front view showing a cooking appliance according to an embodiment of the present invention, Figure 2 is a sectional view showing an enlarged portion of the inner surface of the cavity of Figure 1, Figure 3 is a sectional view showing an enlarged portion of the rear surface of the door of Figure 1 to be.
도 1을 참조하면, 조리기기(1)는, 조리실(12)이 형성되는 캐비티(11), 상기 조리실(12)을 선택적으로 개폐하는 도어(14), 및 상기 조리실(12)에서의 조리물의 가열을 위한 열을 제공하는 적어도 1개의 가열원(13)(15)(16)을 포함한다.Referring to FIG. 1, the
보다 상세하게는, 상기 캐비티(11)는 대략 전면이 개구되는 육면체 형상으로 형성될 수 있다. 상기 가열원(13)(15)(16)은, 상기 캐비티(11) 내부로 가열된 공기가 토출되도록 하는 컨벡션 어셈블리(13), 상기 캐비티(11)의 상부에 배치되는 상부 히터(15), 및 상기 캐비티(11)의 하부에 배치되는 하부 히터(16)를 포함한다. 상기 상부 히터(15) 및 상기 하부 히터(16)는 상기 캐비티(11)의 내부 또는 외부에 구비될 수 있다. 물론, 상기 가열원(13)(15)(16)이 반드시 상기 컨벡션 어셈블리(13), 상부 히터(15) 및 하부 히터(16)를 포함하여야 하는 것은 아니다. 즉 상기 가열원(13)(15)(16)은, 상기 컨벡션 어셈블리(13), 상부 히터(15) 및 하부 히터(16) 중 어느 하나 이상을 포함할 수 있다.More specifically, the
한편 도 2 및 도 3을 참조하면, 상기 캐비티(11)의 내면, 및 상기 도어(14)의 내면에는 각각 코팅층(17)(18)이 구비된다. 상기 코팅층(17)은, 상술한 법랑 조성물을 상기 캐비티(11)의 내면 또는 상기 도어(14)의 이면에 코팅함으로써 형성된다. 실질적으로, 상기 코팅층(17)(18)은 상기 캐비티(12)의 내면 및 상기 도어(14)의 이면의 내열성, 내화학성 및 내오염성을 향상시키는 역할을 한다.2 and 3, coating layers 17 and 18 are provided on the inner surface of the
특히, 상기 캐비티(11) 및 상기 도어(14)는 금속 플레이트로 형성될 수 있고, 상기 코팅층(17)(18)은 상기 금속 플레이트에 직접 코팅될 수 있다. 즉, 실시예에 따른 법랑 조성물은 상기 밀착력 강화 성분을 포함하기 때문에, 상기 코팅층(17)(18)은 추가적인 버퍼층을 필요로 하지 않고, 상기 금속 플레이트 등에 직접 코팅될 수 있다.In particular, the
도 4를 참조하면, 상기 도어의 이면에는 코팅층(18)이 구비된다. 특히, 조리실(12)이 차페된 상태에서, 상기 조리실(12)과 마주보는 도어(14)의 이면에 코팅층(18)이 구비된다. 상기 코팅층(18)은 상기 도어(12)의 이면의 내열성, 내화학성 및 내오염성을 향상시키는 역할을 한다. 즉, 도어(14)의 이면도 상기 캐비티(11)의 내면과 동일한 효과를 갖는다.Referring to FIG. 4, a
따라서, 상기 캐비티(11) 내면 및 도어(14)의 이면은 내열성이 개선됨으로써, 고온에서의 조리 및 세척에도 장기간 견딜 수 있다. 그리고, 상기 코팅층(17)(18)에 의하여, 상기 캐비티(11)의 내면 및 도어(14)의 이면은 내오염성이 개선됨으로써, 상기 캐비티(11)의 내면 및 도어(14)의 이면이 유기 물질에 의하여 오염되는 현상이 감소되고, 상기 캐비티(11)의 내면 및 도어(14)의 이면의 세척이 용이하다. 또한, 상기 캐비티(11)의 내면 및 도어(14)의 이면은 내화학성이 개선됨으로써, 유기 물질 및 알칼리계 화학성분에도 변성되지 않고, 장기간 사용하더라도 부식되지 않게 된다.Therefore, the inner surface of the
상에서 실시예를 중심으로 설명하였으나, 이는 단지 예시일 뿐 본 발명을 한정하는 것은 아니며, 본 발명이 속하는 분야의 평균적 지식을 가진 자라면 본 실시예의 본질적인 특성을 벗어나지 않는 범위에서 이상에 예시되지 않은 여러 가지의 변형과 응용이 가능함을 알 수 있을 것이다. 예를 들어, 실시예에 구체적으로 나타난 각 구성 요소는 변형하여 실시할 수 있는 것이다. 그리고 이러한 변형과 응용에 관계된 차이점들은 첨부된 청구범위에서 규정하는 본 발명의 범위에 포함되는 것으로 해석되어야 할 것이다.
Although described above with reference to the embodiment, this is only an example and not to limit the present invention, those skilled in the art to which the present invention belongs to a variety of not illustrated above in the range without departing from the essential characteristics of the present embodiment It will be appreciated that eggplant modifications and applications are possible. For example, each component specifically shown in the embodiments can be modified and implemented. And differences relating to such modifications and applications will have to be construed as being included in the scope of the invention defined in the appended claims.
실험예Experimental Example
아래의 표1과 같이, 글래스 프릿 재료가 제공되었다. 이후, 상기 글래스 프릿 재료는 약 1500℃의 온도에서, 약 1시간 동안 멜팅되었다. 이후, 상기 멜팅된 글래스 프릿 재료는 칠러(chiller)를 통하여 퀀칭(quenching)되어, 로 프릿(raw frit)이 제조되었다. 이후, 상기 로 프릿은 아세톤에 분산되고, 볼 밀에서 5시간 동안 밀링되었다. 상기 로 프릿은 건조되고, 메쉬(325 mesh sieve)를 통하여, 약 45㎛ 이하의 입경을 가지도록 걸러져서, 글래스 프릿이 형성되었다.As shown in Table 1 below, a glass frit material was provided. Thereafter, the glass frit material was melted for about 1 hour at a temperature of about 1500 ° C. Thereafter, the melted glass frit material was quenched through a chiller to produce a raw frit. The loaf frit was then dispersed in acetone and milled for 5 hours in a ball mill. The frit was dried and filtered through a mesh (325 mesh sieve) to have a particle diameter of about 45 μm or less, thereby forming a glass frit.
이후, 상기 글래스 프릿을 포함하는 법랑 조성물은 코로나 방전 건을 통하여, 강철 플레이트에 코팅되었다.Thereafter, the enamel composition comprising the glass frit was coated on a steel plate through a corona discharge gun.
이후, 상기 코팅된 법랑 조성물은 약 850℃의 온도에서, 약 300초 동안 소성되어 코팅층이 형성되었다.Thereafter, the coated enamel composition was baked at a temperature of about 850 ° C. for about 300 seconds to form a coating layer.
결과result
이와 같이 형성된 코팅층의 유리 변형 온도(Td)는 약 530℃로 매우 높은 내열 특성을 가지는 것을 알 수 있었다. 특히, 열팽창계수와 유리의 내열특성 측정을 위해, 시편의 양면을 평행하게 연마한 뒤 TMA(Thermo Machnical Analyzer)를 사용하여, 유리 변형 온도, Ts(연화점) 직후까지, 전이온도 및 열팽창계수를 측정하였다.The glass strain temperature (Td) of the coating layer thus formed was found to have a very high heat resistance of about 530 ℃. In particular, in order to measure the coefficient of thermal expansion and the heat resistance of the glass, both surfaces of the specimen were polished in parallel and then measured using the TMA (Thermo Machnical Analyzer), until the glass strain temperature, immediately after Ts (softening point), and the transition temperature and coefficient of thermal expansion. It was.
법랑용 조성물(A)의 청소성능을 측정하였다. 청소성능의 측정방법은 시험체(200×200(mm)에 법랑이 코팅된 시편) 표면에 오염물로서 닭기름 또는 몬스터 메쉬(monster mesh) 1g 정도를 골고루 얇게 브러쉬(brush)로 바른 다음, 오염물이 도포된 시험체를 항온기 속에 넣고, 240℃의 온도 및 1시간의 조건에서 오염물을 고착화시켰다. 고착화 이후, 시험체를 자연 냉각한 후, 경화 정도를 확인한 다음 25℃의 물이 있는 수조 속에 10분 동안 침지시켰다. 이후 젖은 헝겊으로 2.5 kgf 이하의 힘으로 경화된 닭기름을 닦았다. 지름 5cm의 바닥이 평탄한 봉을 사용하여 오염된 법랑 표면에서 닦아지는 부분을 균일화하였다. 이때 닦은 왕복 횟수를 측정하여 이를 청소 횟수로 정의하며, 평가 지표는 다음과 같다. 이와 같은 방법을 통해 측정한, 법랑 조성물로 이루어진 코팅층의 청소성능은 5이었다. 하기의 표 2는 청소성능에 관한 것이다.The cleaning performance of the composition for enamel (A) was measured. To measure the cleaning performance, apply 1g of chicken oil or monster mesh evenly and thinly as a contaminant on the surface of the test specimen (200 × 200 (mm) coated enamel), and then apply the contaminant. The prepared test body was placed in a thermostat and the contaminants were fixed at a temperature of 240 ° C. and a condition of 1 hour. After solidification, the test specimen was naturally cooled, and then the degree of curing was confirmed, and then immersed in a water bath having water at 25 ° C. for 10 minutes. After that, the hardened chicken oil was wiped with a wet cloth with a force of 2.5 kgf or less. A flat bar with a diameter of 5 cm was used to homogenize the wipe on the contaminated enamel surface. At this time, the number of reciprocating wipes is measured and this is defined as the number of cleaning, and the evaluation index is as follows. The cleaning performance of the coating layer made of the enamel composition measured by the above method was 5. Table 2 below relates to cleaning performance.
또한, 법랑 조성물로 이루어진 코팅층의 내산 및 내알칼리 성능을 측정하였다. 내산성은 시트르산 10% 용액을 소성된 법랑 시편 위에 몇 방울씩 떨어뜨리고, 15분 후에 용액을 깨끗이 닦아낸 후 표면 변화를 관찰하였다. 내알칼리성 평가는 내산성 평가와 같은 방법으로 하되 시약으로 무수 탄산 나트륨 10% 용액을 사용하였다.In addition, the acid and alkali resistance of the coating layer consisting of the enamel composition was measured. Acid resistance was dropped a few drops of the citric acid 10% solution on the calcined enamel specimens, after 15 minutes to wipe off the solution and observed the surface change. Alkali resistance evaluation was performed in the same manner as acid resistance evaluation, but anhydrous sodium carbonate 10% solution was used as a reagent.
그 결과, 법랑 조성물로 이루어진 코팅층의 내산 성능은 A, 내알칼리 성능은 AA이었다. 여기서, 내산 성능 및 내알칼리 성능을 나타내는 정도는, ASTM, ISO 2722 방법에 의해 평가하였으며, AA는 매우 우수함, A는 우수함, B는 보통, C는 낮음, D는 매우 낮음을 의미한다.As a result, the coating layer comprising the enamel composition had an acid resistance of AA and an alkali resistance of AA. Here, the degree of acid resistance and alkali resistance was evaluated by ASTM, ISO 2722 method, which means that AA is very excellent, A is excellent, B is usually low, C is low, and D is very low.
이와 같이, 상기 코팅층은 높은 청소 성능, 열충격 안정성, 높은 내화학성 및 높은 밀착성을 가지는 것으로 측정되었다.As such, the coating layer was determined to have high cleaning performance, thermal shock stability, high chemical resistance and high adhesion.
Claims (15)
상기 내열 특성 강화 성분은 ZrO2, Al2O3, TiO2 또는 BaO로부터 선택되고,
상기 밀착력 강화 성분은 CoO, NiO, MnO, Fe2O3 또는 CuO로부터 선택되는 법랑 조성물.A glass frit comprising P 2 O 5, SiO 2, B 2 O 3, a heat resistance enhancing component and an adhesion enhancing component,
The heat resistance enhancing component is selected from ZrO 2, Al 2 O 3, TiO 2 or BaO,
The adhesion enhancing component is enamel composition selected from CoO, NiO, MnO, Fe 2 O 3 or CuO.
상기 Ⅱ족계 산화물은 CaO 또는 MgO로부터 선택되는 법랑 조성물.The method of claim 3, wherein the glass frit further comprises a Group II-based oxide,
Wherein the II-family oxide is selected from CaO or MgO.
P2O5를 10wt% 내지 20wt%의 비율로,
SiO2를 35wt% 내지 50wt%의 비율로,
B2O3를 15wt% 내지 25wt%의 비율로,
Na2O를 10wt% 내지 25wt%의 비율로,
K2O를 4wt% 내지 15wt%의 비율로,
Li2O를 0.1wt% 내지 5wt%의 비율로,
Al2O3를 0.1wt% 내지 10wt%의 비율로,
ZrO2를 0.1wt% 내지 10wt%의 비율로,
BaO를 0.1wt% 내지 5wt%의 비율로,
TiO2를 0.1wt% 내지 5wt%의 비율로,
NaF를 0.1wt% 내지 10wt%의 비율로,
ZnO를 0.1wt% 내지 5wt%의 비율로,
상기 Ⅱ족계 산화물을 0.1wt% 내지 10wt%의 비율로,
상기 밀착력 강화 성분을 0.1wt% 내지 5wt%의 비율로 포함하는 법랑 조성물.The method of claim 5, wherein the glass frit,
P 2 O 5 in a ratio of 10wt% to 20wt%,
SiO 2 at a rate of 35wt% to 50wt%,
B2O3 in a ratio of 15 wt% to 25 wt%,
Na 2 O at a rate of 10wt% to 25wt%,
K 2 O at a rate of 4wt% to 15wt%,
Li 2 O at a rate of 0.1wt% to 5wt%,
Al2O3 in a ratio of 0.1wt% to 10wt%,
ZrO 2 in a ratio of 0.1 wt% to 10 wt%,
BaO in a ratio of 0.1wt% to 5wt%,
TiO2 in a ratio of 0.1wt% to 5wt%,
NaF in a ratio of 0.1wt% to 10wt%,
ZnO at a ratio of 0.1 wt% to 5 wt%,
0.1 to 10 wt% of the Group II-based oxide,
Enamel composition comprising the adhesion strength enhancing component in a ratio of 0.1wt% to 5wt%.
상기 Ⅱ족계 산화물은 CaO 및 MgO을 포함하는 법랑 조성물.The method of claim 5, wherein the adhesion enhancing component comprises CoO, NiO, MnO, Fe2O3 and CuO,
Wherein the II-family oxide comprises CaO and MgO.
P2O5를 14wt% 내지 16wt%의 비율로,
SiO2를 31wt% 내지 33wt%의 비율로,
B2O3를 19wt% 내지 20wt%의 비율로,
Na2O를 6wt% 내지 8wt%의 비율로,
K2O를 4wt% 내지 5wt%의 비율로,
Li2O를 3wt% 내지 5wt%의 비율로,
Al2O3를 1wt% 내지 2wt%의 비율로,
ZrO2를 2wt% 내지 4wt%의 비율로,
BaO를 2wt% 내지 4wt%의 비율로,
NaF를 4wt% 내지 5wt%의 비율로,
상기 Ⅱ족계 산화물을 4wt% 내지 5wt%의 비율로,
상기 밀착력 강화 성분을 1.5wt% 내지 2.5wt%의 비율로 포함하는 법랑 조성물.The method of claim 7, wherein the glass frit,
P2O5 at a ratio of 14 wt% to 16 wt%,
SiO 2 in a ratio of 31wt% to 33wt%,
B2O3 at a ratio of 19 wt% to 20 wt%,
Na 2 O at a rate of 6wt% to 8wt%,
K 2 O at a rate of 4wt% to 5wt%,
Li 2 O at a rate of 3wt% to 5wt%,
Al2O3 in a ratio of 1wt% to 2wt%,
ZrO 2 in a ratio of 2wt% to 4wt%,
BaO in a ratio of 2wt% to 4wt%,
NaF at a rate of 4wt% to 5wt%,
4 wt% to 5wt% of the Group II oxide,
Enamel composition comprising the adhesive strength enhancing component in a ratio of 1.5wt% to 2.5wt%.
상기 글래스 프릿 재료를 멜팅하는 단계; 및
상기 멜팅된 P2O5, SiO2, B2O3, 내열 특성 강화 성분 및 밀착력 강화 성분을 퀀칭하여, 글래스 프릿을 형성하는 단계를 포함하고,
상기 내열 특성 강화 성분은 ZrO2, Al2O3, TiO2 또는 BaO로부터 선택되고,
상기 밀착력 강화 성분은 CoO, NiO, MnO, Fe2O3 또는 CuO로부터 선택되는 법랑 조성물의 제조방법.Providing a glass frit material comprising P 2 O 5, SiO 2, B 2 O 3, a heat resistance enhancing component and an adhesion enhancing component;
Melting the glass frit material; And
Quenching the melted P 2 O 5, SiO 2, B 2 O 3, heat resistance enhancing component and adhesion enhancing component to form a glass frit,
The heat resistance enhancing component is selected from ZrO 2, Al 2 O 3, TiO 2 or BaO,
The adhesion enhancing component is a method for producing an enamel composition selected from CoO, NiO, MnO, Fe 2 O 3 or CuO.
상기 Ⅱ족계 산화물은 CaO 또는 MgO로부터 선택되는 법랑 조성물의 제조방법.10. The method of claim 9, wherein the glass frit material further comprises Li 2 O, Na 2 O, K 2 O, NaF, ZnO and Group II based oxides.
Wherein the II-family oxide is selected from CaO or MgO.
상기 Ⅱ족계 산화물은 CaO 및 MgO을 포함하는 법랑 조성물의 제조방법.The method of claim 11, wherein the adhesion enhancing component comprises CoO, NiO, MnO, Fe2O3 and CuO,
Wherein the II-family oxide comprises CaO and MgO.
P2O5를 14wt% 내지 16wt%의 비율로,
SiO2를 31wt% 내지 33wt%의 비율로,
B2O3를 19wt% 내지 20wt%의 비율로,
Na2O를 6wt% 내지 8wt%의 비율로,
K2O를 4wt% 내지 5wt%의 비율로,
Li2O를 3wt% 내지 5wt%의 비율로,
Al2O3를 1wt% 내지 2wt%의 비율로,
ZrO2를 2wt% 내지 4wt%의 비율로,
BaO를 2wt% 내지 4wt%의 비율로,
NaF를 4wt% 내지 5wt%의 비율로,
상기 Ⅱ족계 산화물을 4wt% 내지 5wt%의 비율로,
상기 밀착력 강화 성분을 1.5wt% 내지 2.5wt%의 비율로 포함하는 법랑 조성물의 제조방법.The method of claim 12, wherein the glass frit,
P2O5 at a ratio of 14 wt% to 16 wt%,
SiO 2 in a ratio of 31wt% to 33wt%,
B2O3 at a ratio of 19 wt% to 20 wt%,
Na 2 O at a rate of 6wt% to 8wt%,
K 2 O at a rate of 4wt% to 5wt%,
Li 2 O at a rate of 3wt% to 5wt%,
Al2O3 in a ratio of 1wt% to 2wt%,
ZrO 2 in a ratio of 2wt% to 4wt%,
BaO in a ratio of 2wt% to 4wt%,
NaF at a rate of 4wt% to 5wt%,
4 wt% to 5wt% of the Group II oxide,
Method for producing an enamel composition comprising the adhesive strength enhancing component in a ratio of 1.5wt% to 2.5wt%.
Priority Applications (5)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| KR1020120049545A KR101476501B1 (en) | 2012-05-10 | 2012-05-10 | Composition for enamel, preparation method of composition for enamel, and cooking appliance |
| US13/889,947 US9296643B2 (en) | 2012-05-10 | 2013-05-08 | Enamel composition, preparation method thereof, and cooking appliance including the same |
| EP19165072.0A EP3539933B1 (en) | 2012-05-10 | 2013-05-10 | Enamel composition and cooking appliance including the same |
| EP21162861.5A EP3904301A1 (en) | 2012-05-10 | 2013-05-10 | Enamel composition, preparation mehtod thereof, and cooking appliance including the same |
| EP13167260.2A EP2662340B1 (en) | 2012-05-10 | 2013-05-10 | Enamel composition and cooking appliance including the same |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| KR1020120049545A KR101476501B1 (en) | 2012-05-10 | 2012-05-10 | Composition for enamel, preparation method of composition for enamel, and cooking appliance |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| KR20130125918A true KR20130125918A (en) | 2013-11-20 |
| KR101476501B1 KR101476501B1 (en) | 2014-12-24 |
Family
ID=49854118
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| KR1020120049545A KR101476501B1 (en) | 2012-05-10 | 2012-05-10 | Composition for enamel, preparation method of composition for enamel, and cooking appliance |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| KR (1) | KR101476501B1 (en) |
Cited By (20)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| KR20180067136A (en) * | 2016-12-12 | 2018-06-20 | 엘지이노텍 주식회사 | Glass component, the sensing device including the same and container |
| WO2018143700A1 (en) * | 2017-02-02 | 2018-08-09 | 엘지전자 주식회사 | Glass composition and cooking equipment |
| WO2018143704A1 (en) * | 2017-02-02 | 2018-08-09 | 엘지전자 주식회사 | Glass composition and cooking equipment |
| KR20180089987A (en) * | 2017-02-02 | 2018-08-10 | 엘지전자 주식회사 | Glass composition, preparation method of glass composition, and cooking appliance |
| KR20180089988A (en) * | 2017-02-02 | 2018-08-10 | 엘지전자 주식회사 | Glass composition, preparation method of glass composition, and cooking appliance |
| KR20190035173A (en) * | 2017-09-26 | 2019-04-03 | 엘지전자 주식회사 | Glass composition and cooking appliance |
| KR20190052310A (en) * | 2017-11-08 | 2019-05-16 | 엘지전자 주식회사 | Glass composition, coation member and cooking appliance |
| WO2019203565A1 (en) * | 2018-04-17 | 2019-10-24 | 엘지전자 주식회사 | Enamel composition, manufacturing method therefor, and cooking utensils |
| WO2019208969A1 (en) * | 2018-04-24 | 2019-10-31 | 엘지전자 주식회사 | Enamel composition, manufacturing method therefor, and cooking utensils |
| KR20200102759A (en) * | 2019-02-22 | 2020-09-01 | 엘지전자 주식회사 | Composition for enamel, method for preparation thereof and cooking appliance |
| CN111606569A (en) * | 2019-02-22 | 2020-09-01 | Lg电子株式会社 | Enamel composition, method for producing an enamel composition and cooking utensil |
| EP3835274A1 (en) * | 2019-12-10 | 2021-06-16 | LG Electronics, Inc. | Composition for enamel, method for preparing a composition for enamel, and cooking appliance |
| EP3835273A1 (en) * | 2019-12-10 | 2021-06-16 | LG Electronics, Inc. | Composition for enamel, method for preparing a composition for enamel, and cooking appliance |
| US11261124B2 (en) | 2018-10-31 | 2022-03-01 | Lg Electronics Inc. | Enamel composition and method of preparing the same |
| US11274060B2 (en) | 2019-02-22 | 2022-03-15 | Lg Electronics Inc. | Enamel composition, method for preparing enamel composition, and cooking appliance |
| US11292743B2 (en) | 2018-11-09 | 2022-04-05 | Lg Electronics Inc. | Enamel composition, method of preparing same, and cooking appliance |
| US11396472B2 (en) | 2019-02-22 | 2022-07-26 | Lg Electronics Inc. | Enamel composition, method for preparing enamel composition, and cooking appliance |
| US11401201B2 (en) | 2019-02-22 | 2022-08-02 | Lg Electronics Inc. | Enamel composition, method for preparing enamel composition, and cooking appliance |
| US11479500B2 (en) | 2019-02-22 | 2022-10-25 | Lg Electronics Inc. | Enamel composition, method for preparing enamel composition, and cooking appliance |
| CN115403943A (en) * | 2022-08-15 | 2022-11-29 | 广东富多新材料股份有限公司 | Low-temperature enamel coating and preparation method and application thereof |
Family Cites Families (2)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| DE4124801C2 (en) * | 1991-07-26 | 1995-03-30 | Bayer Ag | Enamel frit for direct enameling on unpainted steel sheet and its use |
| JP2005008974A (en) * | 2003-06-20 | 2005-01-13 | Jfe Steel Kk | Porcelain enameled material and manufacturing method therefor |
-
2012
- 2012-05-10 KR KR1020120049545A patent/KR101476501B1/en active IP Right Grant
Cited By (35)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| KR20180067136A (en) * | 2016-12-12 | 2018-06-20 | 엘지이노텍 주식회사 | Glass component, the sensing device including the same and container |
| KR20180089987A (en) * | 2017-02-02 | 2018-08-10 | 엘지전자 주식회사 | Glass composition, preparation method of glass composition, and cooking appliance |
| WO2018143704A1 (en) * | 2017-02-02 | 2018-08-09 | 엘지전자 주식회사 | Glass composition and cooking equipment |
| EP3578526A4 (en) * | 2017-02-02 | 2020-11-18 | LG Electronics Inc. -1- | Glass composition and cooking equipment |
| KR20180089988A (en) * | 2017-02-02 | 2018-08-10 | 엘지전자 주식회사 | Glass composition, preparation method of glass composition, and cooking appliance |
| US11091387B2 (en) | 2017-02-02 | 2021-08-17 | Lg Electronics Inc. | Glass composition and cooking appliance |
| WO2018143700A1 (en) * | 2017-02-02 | 2018-08-09 | 엘지전자 주식회사 | Glass composition and cooking equipment |
| US11673825B2 (en) | 2017-02-02 | 2023-06-13 | Lg Electronics Inc. | Glass composition and cooking appliance |
| US10899656B2 (en) | 2017-02-02 | 2021-01-26 | Lg Electronics Inc. | Glass composition, preparation method of glass composition, and cooking appliance |
| US10836673B2 (en) | 2017-02-02 | 2020-11-17 | Lg Electronics Inc. | Glass composition, preparation method of glass composition, and cooking appliance |
| KR20190035173A (en) * | 2017-09-26 | 2019-04-03 | 엘지전자 주식회사 | Glass composition and cooking appliance |
| KR20190052310A (en) * | 2017-11-08 | 2019-05-16 | 엘지전자 주식회사 | Glass composition, coation member and cooking appliance |
| WO2019203565A1 (en) * | 2018-04-17 | 2019-10-24 | 엘지전자 주식회사 | Enamel composition, manufacturing method therefor, and cooking utensils |
| US11964910B2 (en) | 2018-04-17 | 2024-04-23 | Lg Electronics Inc. | Enamel composition, manufacturing method therefor, and cooking utensils |
| WO2019208969A1 (en) * | 2018-04-24 | 2019-10-31 | 엘지전자 주식회사 | Enamel composition, manufacturing method therefor, and cooking utensils |
| US11492287B2 (en) | 2018-04-24 | 2022-11-08 | Lg Electronics Inc. | Enamel composition, manufacturing method therefor, and cooking utensils |
| KR20190123571A (en) * | 2018-04-24 | 2019-11-01 | 엘지전자 주식회사 | Composition for enamel, preparation method of composition for enamel, and cooking appliance |
| US11261124B2 (en) | 2018-10-31 | 2022-03-01 | Lg Electronics Inc. | Enamel composition and method of preparing the same |
| US11292743B2 (en) | 2018-11-09 | 2022-04-05 | Lg Electronics Inc. | Enamel composition, method of preparing same, and cooking appliance |
| US11396472B2 (en) | 2019-02-22 | 2022-07-26 | Lg Electronics Inc. | Enamel composition, method for preparing enamel composition, and cooking appliance |
| US11479500B2 (en) | 2019-02-22 | 2022-10-25 | Lg Electronics Inc. | Enamel composition, method for preparing enamel composition, and cooking appliance |
| KR20200102759A (en) * | 2019-02-22 | 2020-09-01 | 엘지전자 주식회사 | Composition for enamel, method for preparation thereof and cooking appliance |
| CN111606571B (en) * | 2019-02-22 | 2022-06-14 | Lg电子株式会社 | Enamel composition, method for producing an enamel composition and cooking utensil |
| CN111606569B (en) * | 2019-02-22 | 2022-06-14 | Lg电子株式会社 | Enamel composition, method for producing an enamel composition and cooking utensil |
| US11780766B2 (en) | 2019-02-22 | 2023-10-10 | Lg Electronics Inc. | Enamel composition, method for preparing enamel composition, and cooking appliance |
| US11401201B2 (en) | 2019-02-22 | 2022-08-02 | Lg Electronics Inc. | Enamel composition, method for preparing enamel composition, and cooking appliance |
| US11274060B2 (en) | 2019-02-22 | 2022-03-15 | Lg Electronics Inc. | Enamel composition, method for preparing enamel composition, and cooking appliance |
| CN111606569A (en) * | 2019-02-22 | 2020-09-01 | Lg电子株式会社 | Enamel composition, method for producing an enamel composition and cooking utensil |
| US11773007B2 (en) | 2019-02-22 | 2023-10-03 | Lg Electronics Inc. | Enamel composition, method for preparing enamel composition, and cooking appliance |
| CN111606571A (en) * | 2019-02-22 | 2020-09-01 | Lg电子株式会社 | Enamel composition, method for producing an enamel composition and cooking utensil |
| US11661371B2 (en) | 2019-12-10 | 2023-05-30 | Lg Electronics Inc. | Composition for enamel, method for preparing a composition for enamel, and cooking appliance |
| EP3835274A1 (en) * | 2019-12-10 | 2021-06-16 | LG Electronics, Inc. | Composition for enamel, method for preparing a composition for enamel, and cooking appliance |
| US11912622B2 (en) | 2019-12-10 | 2024-02-27 | Lg Electronics Inc. | Composition for enamel, method for preparing a composition for enamel, and cooking appliance |
| EP3835273A1 (en) * | 2019-12-10 | 2021-06-16 | LG Electronics, Inc. | Composition for enamel, method for preparing a composition for enamel, and cooking appliance |
| CN115403943A (en) * | 2022-08-15 | 2022-11-29 | 广东富多新材料股份有限公司 | Low-temperature enamel coating and preparation method and application thereof |
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| Publication number | Publication date |
|---|---|
| KR101476501B1 (en) | 2014-12-24 |
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| A201 | Request for examination | ||
| E902 | Notification of reason for refusal | ||
| E90F | Notification of reason for final refusal | ||
| E701 | Decision to grant or registration of patent right | ||
| GRNT | Written decision to grant | ||
| FPAY | Annual fee payment |
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| FPAY | Annual fee payment |
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