KR20130008745A - Method for fabricating touch panel - Google Patents

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이원형
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이원형
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Abstract

PURPOSE: A touch panel manufacturing method is provided to simplify a process by forming a sensing signal with a printing method after the formation of a mask layer. CONSTITUTION: A shielding layer(13) is formed on an outer area on a transparent window(11). A smoothing layer(15) is formed on the transparent window. A first mask layer is formed on the smoothing layer. A first connection unit(19) is formed. An insulation layer(21) is formed after removing the first mask layer. A second mask layer(23) is formed on the smoothing layer. A transparent conductive substance is deposited on the smoothing layer to form a sensing electrode(25).

Description

터치 패널의 제조 방법{Method for fabricating touch panel}Manufacturing method of touch panel {Method for fabricating touch panel}

본 발명은 터치 패널의 제조 방법에 관한 것으로, 특히, 투명 윈도우의 일면에 감지 전극을 일체형으로 형성하는 터치 패널의 제조 방법에 관한 것이다.
The present invention relates to a method of manufacturing a touch panel, and more particularly, to a method of manufacturing a touch panel in which a sensing electrode is integrally formed on one surface of a transparent window.

일반적으로, 터치 패널은 디스플레이에 표시되어 있는 버튼을 손가락으로 접촉하는 것만으로 컴퓨터를 대화적, 직감적으로 조작함으로써 남녀노소 누구나 쉽게 사용할 수 있는 입력장치이다.In general, the touch panel is an input device that can be easily used by anyone of all ages by interactively and intuitively operating a computer by simply touching a button displayed on a display with a finger.

터치 패널은 동작 방식에 따라 저항막 방식, 정전용량 방식, 초음파 방식, 적외선 방식 등으로 구분할 수 있으며, 이 중에서 특히 정전용량 방식은 접촉 감지 패널의 두께가 얇고, 내구성이 높으며, 멀티 터치가 가능하여 다양한 전자 기기에 널리 사용되고 있다.The touch panel can be classified into a resistive method, a capacitive method, an ultrasonic method, and an infrared method according to an operation method. Among the capacitive methods, the touch sensing panel has a thin thickness, high durability, and multi-touch. Widely used in various electronic devices.

종래의 정전용량 방식 접촉 감지 패널은 PET 등을 기재로 하고 일면에 감지 전극이 형성된 별개의 기판을 OCA(Optical Clean Adhesive) 필름 등의 접착층을 이용하여 투명 윈도우에 부착하는 공정에 의해 제조된다. Conventional capacitive touch sensing panels are manufactured by a process of attaching a separate substrate based on PET or the like and having a sensing electrode formed on one surface thereof to a transparent window using an adhesive layer such as an optical clean adhesive (OCA) film.

그러나 접착층을 이용하여 투명 윈도우에 감지 전극이 형성된 기판을 부착할 때 기포, 스크래치 및 이물 등의 다양한 불량이 발생되어 생산 수율이 저하될 뿐만 아니라 이 부착 공정시 불량률을 감소시기 위해 투명 윈도우를 사전에 플라즈마 등에 의해 표면 처리하는 등의 부가 공정이 포함되므로 제조 원가가 증가된다. However, when attaching a substrate on which a sensing electrode is formed to a transparent window using an adhesive layer, various defects such as bubbles, scratches, and foreign matters are generated, which not only lowers the production yield but also reduces the defective rate during the attaching process. Since additional processes, such as surface treatment by plasma etc., are included, manufacturing cost increases.

따라서, 투명 윈도우의 일면에 일체형으로 형성된 감지 전극, 배선부 및 입출력 패드가 형성되고, 이 일면과 대응하는 타면이 접촉되어 동작하도록 하여 두께 및 중량을 감소시키면서 제조 공정을 단순화하고 수율을 높일 수 있는 전극 일체형 윈도우를 포함하는 터치 패널이 개발되었다.Accordingly, a sensing electrode, a wiring part, and an input / output pad formed integrally with one surface of the transparent window are formed, and the other surface corresponding to the one surface is in contact with each other so that the manufacturing process can be simplified and the yield can be increased while reducing the thickness and weight. Touch panels including electrode integrated windows have been developed.

상술한 전극 일체형 윈도우를 포함하는 종래에 기술에 따른 터치 패널은 투명 윈도우의 일면에 소정 패턴으로 감지 전극과, 투명 윈도우의 터치 패널의 유효 표시 영역을 한정하기 위해 일부 영역, 바람직하기는 외곽 영역에 형성되어 시각적으로 차폐하는 차폐층과, 이 차폐층 상에 형성된 배선부와, 차폐층 상에 형성되어 배선부에 의해 감지 전극과 연결되게 형성된 입출력 패드로 구성된다.The touch panel according to the related art including the above-described electrode-integrated window has a predetermined pattern on one surface of the transparent window in order to define an effective display area of the sensing electrode and the touch panel of the transparent window. And a shielding layer formed and visually shielding, a wiring portion formed on the shielding layer, and an input / output pad formed on the shielding layer and connected to the sensing electrode by the wiring portion.

상기에서 전극 일체형 윈도우를 포함하는 터치 패널은 투명 윈도우의 일면 외곽 영역에 차폐층이 불투명한 잉크 등이 인쇄되어 형성되는데, 이 차폐층은 상부에 형성되는 배선부 및 입출력 패드가 투명 윈도우의 타면 방향으로 시각적으로 차폐하기 위해서는 수 ㎛ 정도의 두께로 형성된다. 또한, 이 차폐층이 형성된 후 투명 윈도우 일면에 ITO(Indium Tin Oxide) 등의 투명한 전도성 물질을 증착하고 포토그래피 방법으로 패터닝하는 것에 의해 감지 전극이 형성된다.The touch panel including the electrode-integrated window is formed by printing an opaque ink or the like with a shielding layer printed on an outer region of one surface of the transparent window, and the shielding layer is formed on the other side of the transparent window with the wiring part and the input / output pad formed thereon. In order to visually shield in the form of a thickness of about several μm. In addition, after the shielding layer is formed, a sensing electrode is formed by depositing a transparent conductive material such as indium tin oxide (ITO) on one surface of the transparent window and patterning the same by a photography method.

그러나, 상술한 바와 같은 종래 기술에 따른 터치 패널은 제조 공정시 차폐층이 수 ㎛ 정도의 두꺼운 두께로 형성되므로 투명 윈도우와 큰 단차에 의해 감지 전극이 단선되는 문제점이 발생되었다. 또한, 감지 전극을 증착된 투명한 도전 물질을 포토리쏘그래피 방법으로 형성하므로 공정이 복잡할 뿐만 아니라 식각 잔유물에 의해 원치 않게 단락되는 문제점이 있었다.
However, the touch panel according to the related art as described above has a problem that the sensing electrode is disconnected due to the transparent window and the large step because the shielding layer is formed to a thick thickness of several μm during the manufacturing process. In addition, since the sensing electrode is formed by the photolithographic method on which the transparent conductive material is deposited, the process is not only complicated and there is a problem of undesired shorting by the etching residue.

따라서, 본 발명의 목적은 차폐층의 단차에 의해 감지 전극이 단선되는 것을 방지할 수 있는 터치 패널의 제조 방법을 제공하는데 있다.Accordingly, an object of the present invention is to provide a method for manufacturing a touch panel which can prevent the detection electrode from being disconnected by the step of the shielding layer.

본 발명의 다른 목적은 감지 전극 형성시 증착된 투명한 도전 물질을 포토리쏘그래피 방법으로 형성하므로 공정이 복잡할 뿐만 아니라 식각 잔유물에 의해 원치 않게 단락되는 문제점이 있었다.
Another object of the present invention is to form a transparent conductive material deposited during the formation of the sensing electrode by a photolithography method, so that the process is complicated and there is a problem of undesired shorting by the etching residue.

상기 목적을 달성하기 위한 본 발명에 따른 터치 패널의 제조 방법은 투명 윈도우 상의 외곽 영역에 유효 표시 영역을 한정하는 차폐층을 형성하는 공정과, 상기 투명 윈도우 상에 차폐층을 덮도록 평탄화층을 형성하는 공정과, 상기 평탄화층 상에 X축 방향의 길이가 Y축 방향의 폭 보다 큰 영역을 노출시키는 제 1 마스크층을 형성하는 공정과, 상기 제 1 마스크층에 의해 노출된 평탄화층 상에 투명한 도전성 물질을 증착하여 제 1 연결부를 형성하는 공정과, 상기 제 1 마스크층을 제거하고 상기 평탄화층 상에 상기 제 1 연결부의 X축 방향의 길이의 양 끝단이 노출되고 Y축 방향의 폭의 측면도 덮도록 절연층을 형성하는 공정과, 상기 평탄화층 상에 적어도 상기 제 1 연결부의 X축 방향의 양측 끝단을 노출시키는 제 2 마스크층을 형성하는 공정과, 상기 제 1 마스크층에 의해 노출된 평탄화층 상에 투명한 도전성 물질을 증착하여 Y축을 따라 N개가 X축 상의 M개의 열로 배열되되 X축 상의 M개의 열이 인접하는 것과 각각 이격되면서 상기 제 1 연결부에 의해 전기적으로 연결되고 Y축의 N개가 제 2 연결부에 의해 전기적으로 연결되는 감지 전극을 형성하는 공정을 포함한다.According to an aspect of the present invention, there is provided a method of manufacturing a touch panel, including: forming a shielding layer defining an effective display area on an outer region of a transparent window; and forming a planarization layer to cover the shielding layer on the transparent window. Forming a first mask layer on the planarization layer, the first mask layer exposing a region having a length in the X-axis direction greater than a width in the Y-axis direction, and transparent on the planarization layer exposed by the first mask layer. Depositing a conductive material to form a first connection portion, and removing both the first mask layer and exposing both ends of the length in the X-axis direction of the first connection portion on the planarization layer, and a side view of the width in the Y-axis direction Forming an insulating layer to cover, forming a second mask layer exposing at least both ends of the first connecting portion in the X-axis direction on the planarization layer; A transparent conductive material is deposited on the planarization layer exposed by the mask layer, so that N pieces are arranged along the Y axis in M rows on the X axis, and are spaced apart from each other by adjacent M rows on the X axis. And forming a sensing electrode connected to each other and electrically connected by N second axes of the Y-axis.

상기에서 평탄화층을 투명한 잉크로 형성한다.In the above, the planarization layer is formed of a transparent ink.

상기에서 평탄화층을 실크스크린 인쇄, 그라비아 인쇄 또는 콤마 인쇄의 방법으로 형성한다.The planarization layer is formed by the method of silkscreen printing, gravure printing or comma printing.

상기에서 제 1 및 제 2 마스크층을 UV 잉크로 형성한다.In the above, the first and second mask layers are formed of UV ink.

상기에서 제 1 및 제 2 마스크층을 실크스크린 인쇄, 그라비아 인쇄 또는 콤마 인쇄 등의 인쇄 방법으로 형성한다.In the above, the first and second mask layers are formed by a printing method such as silk screen printing, gravure printing, or comma printing.

상기에서 절연층을 마스크를 이용하여 절연성 잉크로 형성한다.In the above, the insulating layer is formed of an insulating ink using a mask.

상기에서 절연층을 실크스크린 인쇄, 그라비아 인쇄 또는 콤마 인쇄 등의 인쇄 방법으로 형성한다.
The insulating layer is formed by a printing method such as silkscreen printing, gravure printing, or comma printing.

그러므로, 본 발명에 터치 패널은 평탄화층이 차폐층에 의해 발생된 단차를 제거하여 감지 전극이 단선되는 것을 방지할 수 있는 이점이 있다. 또한, 감지 전극을 마스크층을 형성한 후 인쇄 방법에 의해 형성하므로 공정이 간단할 뿐만 아니라 식각 잔유물에 의해 단락되는 것을 방지할 수 있는 이점이 있다.
Therefore, the touch panel of the present invention has an advantage that the planarization layer can prevent the sensing electrode from being disconnected by removing the step generated by the shielding layer. In addition, since the sensing electrode is formed by the printing method after forming the mask layer, the process is not only simple, and there is an advantage of preventing the short circuit caused by the etching residue.

도 1 는 본 발명의 실시 예에 따른 터치 패널를 개략적으로 예시한 평면도.
도 2는 도 1의 A 부분에 대한 확대도.
도 3은 도 2를 B-B 선으로 절단한 단면도.
도 4a 내지 도 4e는 본 발명에 따른 터치 패널의 제조 공정도.1 is a plan view schematically illustrating a touch panel according to an exemplary embodiment of the present invention.
2 is an enlarged view of a portion A of FIG. 1.
3 is a cross-sectional view taken along the line BB of FIG.
4a to 4e is a manufacturing process diagram of the touch panel according to the present invention.

이하, 첨부 도면을 참조하여 본 발명의 실시예를 상세하게 설명한다. 그러나, 다음에 예시하는 본 발명의 실시예는 여러 가지 다른 형태로 변형될 수 있으며, 본 발명의 범위가 다음에 상술하는 실시예에 한정되는 것은 아니다. 본 발명의 실시예는 당업계에서 통상의 지식을 가진 자에게 본 발명을 보다 완전하게 설명하기 위하여 제공되어지는 것이다.Hereinafter, embodiments of the present invention will be described in detail with reference to the accompanying drawings. However, the following embodiments of the present invention may be modified into various other forms, and the scope of the present invention is not limited to the embodiments described below. The embodiments of the present invention are provided to enable those skilled in the art to more fully understand the present invention.

도 1 는 본 발명의 실시 예에 따른 터치 패널를 개략적으로 예시한 평면도이고, 도 2는 도 1의 A 부분에 대한 확대도이다.1 is a plan view schematically illustrating a touch panel according to an exemplary embodiment of the present invention, and FIG. 2 is an enlarged view of a portion A of FIG. 1.

도 1 및 도 2를 참조하면, 본 발명의 실시 예에 따른 터치 패널의 평면은 투명 윈도우(11), 차폐층(13), 평탄화층(15), 감지 전극(25), 배선부(29) 및 입출력 패드(31)로 형성된다.1 and 2, a plane of a touch panel according to an exemplary embodiment may include a transparent window 11, a shielding layer 13, a planarization layer 15, a sensing electrode 25, and a wiring unit 29. And an input / output pad 31.

차폐층(13)은 투명 윈도우(11)의 일면 상의 일부 영역, 바람직하기는 외곽 영역에 불투명한 잉크 등이 인쇄되어 형성되어 터치 패널의 유효 표시 영역을 한정한다. 또한, 차폐층(13)은 상부에 형성된 배선부(29) 및 입출력 패드(31) 등이 투명 윈도우(11)의 타면 쪽으로 노출되지 않도록 시각적으로 차폐한다.The shielding layer 13 is formed by printing an opaque ink or the like on a portion of the transparent window 11, preferably, an outer region, to define an effective display area of the touch panel. In addition, the shielding layer 13 visually shields the wiring portion 29 and the input / output pad 31 formed on the upper surface of the shielding layer 13 from being exposed to the other surface of the transparent window 11.

그리고, 감지 전극(25)은 투명 윈도우(11)의 일면 상에 평탄화층(15)을 개재시켜 다이아몬드 형상, 직사각형 형상, 벌집 형상 및 직각삼각형 형상 등의 어느 하나의 형상으로 형성된다. 상기에서 감지 전극(25)은 빛 투과율 및 전기 전도성이 우수한 ITO(indium-tin oxide), IZO(indium zinc oxide) 또는 ZnO(zinc oxide) 등의 투명한 도전성 물질로 X축 및 Y축을 따라 각각 M(M은 자연수)개 및 N(N은 자연수)개가 형성된다. The sensing electrode 25 is formed in any one of a diamond shape, a rectangular shape, a honeycomb shape, and a right triangle shape by interposing the planarization layer 15 on one surface of the transparent window 11. The sensing electrode 25 is a transparent conductive material such as indium-tin oxide (ITO), indium zinc oxide (IZO), or zinc oxide (ZnO) that has excellent light transmittance and electrical conductivity. M is a natural number) and N (N is a natural number).

상기에서 감지 전극(25)은 Y축을 따라 형성된 N개가 동일한 공정에 의해 형성되어 한 몸체를 이루도록 형성된 제 2 연결부(27)에 의해 전기적으로 연결되는 것이 M개 열로 형성된다. 그리고, 감지 전극(25)의 제 2 연결부(27)에 의해 N개가 Y축을 따라 전기적으로 연결되는 각각의 M개 열은 X축 상의 인접하는 것과 이격되게 형성된다.The sensing electrodes 25 are formed in M rows in which N pieces formed along the Y axis are electrically connected by the second connection part 27 formed by the same process to form a body. In addition, each of the M columns in which N pieces are electrically connected along the Y axis by the second connection part 27 of the sensing electrode 25 is formed to be spaced apart from adjacent ones on the X axis.

그리고, X축 상의 인접하는 것과 이격되는 M개의 감지 전극(25) 각각은 제 1 연결부(19)를 통해 전기적으로 연결된다. 상기에서 제 1 연결부(19)는 절연층(21)에 의해 양 끝단이 노출되며, 이 노출된 제 1 연결부(19)의 양 끝단이 각각의 감지 전극(25)과 접촉되어 전기적으로 연결된다.Each of the M sensing electrodes 25 spaced apart from the adjacent one on the X axis is electrically connected to each other through the first connection unit 19. In the above, both ends of the first connector 19 are exposed by the insulating layer 21, and both ends of the exposed first connector 19 are in contact with each sensing electrode 25 to be electrically connected to each other.

상기에서 감지 전극(25)이 N개가 Y축을 따라 연결되고 X축 상의 M개의 열이 인접하는 것과 각각 이격되는 것으로 설명하였으나, 본 발명의 다른 실시 예는 M개가 X축을 따라 연결되고 Y축 상의 N개의 열이 인접하는 것과 각각 이격되게 형성될 수도 있다.Although the sensing electrodes 25 are described as being spaced apart from each other in which N pieces are connected along the Y axis and M columns on the X axis are adjacent to each other, in another embodiment of the present invention, M pieces are connected along the X axis and N on the Y axis. Columns may be formed spaced apart from each other adjacent to each other.

배선부(29) 및 입출력 패드(31)는 차폐층(13) 상에 알루미늄(Al) 또는 구리(Cu) 등의 도전성 금속으로 형성된다. 상기에서 배선부(29)는 X축을 따라 각각 연결되게 형성된 다수 개의 감지 전극(25)의 각각을 입출력 패드(31)와 연결되게 형성된다.The wiring portion 29 and the input / output pad 31 are formed of a conductive metal such as aluminum (Al) or copper (Cu) on the shielding layer 13. In the above, the wiring unit 29 is formed to connect each of the plurality of sensing electrodes 25 formed to be connected along the X axis to the input / output pad 31.

도 3은 도 2를 B-B 선으로 절단한 단면도이다.3 is a cross-sectional view taken along the line B-B in FIG. 2.

도 3에 도시된 터치 패널의 단면 구조는 투명 윈도우(11) 상의 일면에 형성된 차폐층(13), 평탄화층(15), 제 1 연결부(19), 절연층(21), 감지 전극(25) 및 제 2 연결부(27)를 포함한다.The cross-sectional structure of the touch panel illustrated in FIG. 3 includes a shielding layer 13, a planarization layer 15, a first connection portion 19, an insulating layer 21, and a sensing electrode 25 formed on one surface of the transparent window 11. And a second connection portion 27.

상기에서 투명 윈도우(11)는 폴리에틸렌 수지(polyethylene terephtalete : PET) 또는 아크릴 등의 투명한 합성수지, 또는, 소다라임 유리 (sodalime glass)로 형성될 수 있다.The transparent window 11 may be formed of a transparent synthetic resin such as polyethylene terephtalete (PET) or acrylic, or soda lime glass.

차폐층(13)은 투명 윈도우(11)의 일면 상의 외곽 영역에 형성된다. 상기에서 차폐층(13)은 상부에 형성되는 배선부(29) 및 입출력 패드(31)가 투명 윈도우(11)의 타면 쪽에 시각적으로 노출되는 것을 방지하면서 투명 윈도우(11)의 장식(decoration)을 위해 형성되는 것으로 검은 색 등의 불투명한 잉크 등을 실크스크린 인쇄, 그라비아 인쇄 또는 콤마 인쇄 등의 방법에 의해 2 ～ 5㎛ 정도의 두께로 형성된다. 또한, 차폐층(13)은 터치 패널의 유효 표시 영역을 한정할 수도 있다.The shielding layer 13 is formed in the outer region on one surface of the transparent window 11. In the shielding layer 13, the wiring part 29 and the input / output pad 31 formed thereon are prevented from being visually exposed to the other side of the transparent window 11 while preventing the decoration of the transparent window 11. The opaque ink such as black is formed to have a thickness of about 2 to 5 μm by a method such as silk screen printing, gravure printing, or comma printing. In addition, the shielding layer 13 may define an effective display area of the touch panel.

평탄화층(15)은 투명 윈도우(11)의 일면 상의 차폐층(13)을 덮도록 형성된다. 상기에서 평탄화층(15)은 UV(ultraviolet) 투명 잉크 등의 투명한 잉크 등을 실크스크린 인쇄, 그라비아 인쇄 또는 콤마 인쇄 등의 방법에 의해 3 ～ 7㎛ 정도의 두께로 형성된다. 이에 의해, 평탄화층(15)은 투명 윈도우(11)와 차폐층(13) 사이의 단차를 감소시키거나 제거한다.The planarization layer 15 is formed to cover the shielding layer 13 on one surface of the transparent window 11. The planarization layer 15 is formed of a transparent ink such as UV (ultraviolet) transparent ink to a thickness of about 3 to 7 μm by a method such as silk screen printing, gravure printing, or comma printing. As a result, the planarization layer 15 reduces or eliminates the step between the transparent window 11 and the shielding layer 13.

제 1 연결부(19)는 평탄화층(15) 상의 차폐층(13)에 의해 한정된 터치 패널의 유효 표시 영역 내에 X축 방향의 길이가 Y축 방향의 폭 보다 크게 패터닝되어 다수 개의 횡(橫)과 다수 개의 열(列)로 배열되게 형성된다. 상기에서 제 1 연결부(19)는 빛 투과율 및 전기 전도성이 우수한 ITO(indium-tin oxide), IZO(indium zinc oxide) 또는 ZnO(zinc oxide) 등의 투명한 도전성 물질을 스퍼터링 등의 방법으로 1000 ～ 2000Å 정도의 두께로 형성된다. 상기에서 제 1 연결부(19)는 투명한 도전성 물질을 증착한 후 포토리쏘그래피 방법으로 패터닝하여 형성할 수 있다. 또한, 제 1 연결부(19)는 평탄화층(15) 상에 형성될 부분을 노출시키는 제 1 마스크층(도시되지 않음)을 형성한 후 ITO(indium-tin oxide), IZO(indium zinc oxide) 또는 ZnO(zinc oxide) 등의 투명한 도전성 물질을 스퍼터링 등의 방법으로 증착하고 이 제 1 마스크층을 제거하는 것에 의해 형성될 수도 있다.The first connection portion 19 is patterned in the effective display area of the touch panel defined by the shielding layer 13 on the planarization layer 15 so that the length in the X-axis direction is larger than the width in the Y-axis direction, It is formed to be arranged in a plurality of rows. In the first connection portion 19 is a transparent conductive material such as ITO (indium-tin oxide), IZO (indium zinc oxide) or ZnO (zinc oxide) excellent in light transmittance and electrical conductivity 1000 ~ 2000Å It is formed to a thickness of about. The first connection portion 19 may be formed by depositing a transparent conductive material and patterning the photolithography method. In addition, the first connector 19 may form an indium-tin oxide (ITO), indium zinc oxide (IZO), or the like after forming a first mask layer (not shown) that exposes a portion to be formed on the planarization layer 15. It may be formed by depositing a transparent conductive material such as zinc oxide (ZnO) by a method such as sputtering and removing the first mask layer.

절연층(21)은 평탄화층(15) 상에 제 1 연결부(19)를 X축 방향의 길이의 양 끝단이 노출되고 Y축 방향의 폭의 측면도 덮도록 형성된다. 상기에서 절연층(21)은 절연성을 갖는 UV(ultraviolet) 투명 잉크를 실크스크린 인쇄, 그라비아 인쇄 또는 콤마 인쇄 등의 방법에 의해 1 ～ 3㎛ 정도의 두께로 형성된다.The insulating layer 21 is formed on the planarization layer 15 so that both ends of the length of the first connecting portion 19 in the X-axis direction are exposed and the side surface of the width in the Y-axis direction is also covered. In the above-described insulating layer 21, UV (ultraviolet) transparent ink having an insulating property is formed in a thickness of about 1 to 3 μm by a method such as silk screen printing, gravure printing, or comma printing.

감지 전극(25)은 평탄화층(15) 상에 빛 투과율 및 전기 전도성이 우수한 ITO(indium-tin oxide), IZO(indium zinc oxide) 또는 ZnO(zinc oxide) 등의 투명한 도전성 물질로 200 ～ 500Å 정도의 두께를 가지며 다이아몬드 형상, 직사각형 형상, 벌집 형상 및 직각삼각형 형상 등의 어느 하나의 형상으로 형성된다. 상기에서 감지 전극(25)은 다수 개가 동일한 공정에 의해 형성되어 한 몸체를 이루는 제 2 연결부(27)에 의해 Y축을 따라 연결되게 형성된다. 또한, Y축을 따라 연결되는 감지 전극(25)은 각각 X축 상의 인접하는 것과 각각 절연층(21) 상에서 1 ～ 5㎛ 정도의 간격으로 이격되며 제 1 연결부(19)의 노출된 양 끝단과 접촉되어 전기적으로 연결되게 형성된다.The sensing electrode 25 is a transparent conductive material, such as indium-tin oxide (ITO), indium zinc oxide (IZO), or zinc oxide (ZnO), which has excellent light transmittance and electrical conductivity on the planarization layer 15. It has a thickness of and is formed in any one shape such as diamond shape, rectangular shape, honeycomb shape and right triangle shape. In the above-described sensing electrodes 25, a plurality of sensing electrodes 25 are formed by the same process so as to be connected along the Y axis by the second connection part 27 forming one body. In addition, the sensing electrodes 25 connected along the Y-axis are respectively adjacent to each other on the X-axis and spaced apart at intervals of about 1 to 5 μm on the insulating layer 21, respectively, and are in contact with both exposed ends of the first connector 19. And is electrically connected.

상기에서 감지 전극(25)은 투명한 도전성 물질을 증착한 후 포토리쏘그래피 방법으로 패터닝하여 형성할 수 있다. 또한, 감지 전극(25)은 평탄화층(15) 및 절연층(21)상에 이 감지 전극(25)이 형성될 부분을 노출시키는 제 2 마스크층(도시되지 않음)을 형성한 후 ITO(indium-tin oxide), IZO(indium zinc oxide) 또는 ZnO(zinc oxide) 등의 투명한 도전성 물질을 스퍼터링 등의 방법으로 증착하고 이 제 2 마스크층을 제거하는 것에 의해 형성될 수도 있다.The sensing electrode 25 may be formed by depositing a transparent conductive material and patterning the photolithography method. In addition, the sensing electrode 25 forms a second mask layer (not shown) on the planarization layer 15 and the insulating layer 21 to expose a portion where the sensing electrode 25 is to be formed. It may be formed by depositing a transparent conductive material such as -tin oxide), indium zinc oxide (IZO) or zinc oxide (ZnO) by sputtering or the like, and removing the second mask layer.

상기에서 감지 전극(25)이 차폐층(13)에 의한 단차를 갖지 않는 평탄화층(15)에 형성되므로 이 차폐층(13)의 모서리와 대응하는 부분에서 감지 전극(25)이 단선되는 것이 방지된다.Since the sensing electrode 25 is formed in the planarization layer 15 having no step by the shielding layer 13, the sensing electrode 25 is prevented from being disconnected at a portion corresponding to the edge of the shielding layer 13. do.

그리고, 도 3에 도시되어 있지는 않지만 도 1에 도시된 바와 같이 차폐층(13) 상에 배선부(29) 및 입출력 패드(31)가 형성된다.Although not shown in FIG. 3, the wiring unit 29 and the input / output pad 31 are formed on the shielding layer 13 as shown in FIG. 1.

상술한 구성의 터치 패널은 투명 윈도우(11)의 감지 전극(25)이 형성되지 않은 타면을 사용자가 손가락 또는 터치 펜을 접촉하면 감지 전극(120)에서 감지 신호가 생성된다. 감지 신호는 접촉에 따라 발생하는 캐패시턴스 변화를 포함할 수 있다. 상기에서 접촉 위치 및 접촉에 따른 압력 등을 정확히 판단할 수 있는 캐패시턴스 값을 생성하기 위하여 투명 윈도우(11)는 균일한 두께로 형성하는 것이 바람직하다.In the touch panel having the above-described configuration, when a user touches a finger or a touch pen on the other surface on which the sensing electrode 25 of the transparent window 11 is not formed, a sensing signal is generated at the sensing electrode 120. The sense signal may include a capacitance change that occurs upon contact. The transparent window 11 is preferably formed to have a uniform thickness in order to generate a capacitance value capable of accurately determining the contact position and the pressure according to the contact.

상기에서 사용자의 손가락 또는 터치 펜이 접촉되어 생성된 감지 신호는 감지 전극(25)과 전기적으로 연결되는 배선부(29) 및 입출력 패드(31)를 통해 회로 기판(도시되지 않음)에 실장된 제어부(도시되지 않음)가 감지 신호를 수신하여 접촉 발생 여부 및 접촉이 발생한 위치 등을 판단한다.The sensing signal generated by contacting the user's finger or the touch pen is a control unit mounted on a circuit board (not shown) through the wiring unit 29 and the input / output pad 31 electrically connected to the sensing electrode 25. (Not shown) receives a detection signal to determine whether a contact has occurred and a location where the contact has occurred.

상술한 바와 같이 본 발명의 실시 예에 따른 터치 패널은 투명 윈도우 상에 평탄화층(15)을 차폐층(13)을 덮도록 형성하여 이 차폐층(13)에 의한 단차를 감소 또는 제거하는 것에 의해 감지 전극(25)이 단선되는 것을 방지할 수 있다.As described above, the touch panel according to the embodiment of the present invention is formed by forming the planarization layer 15 on the transparent window so as to cover the shielding layer 13 so as to reduce or eliminate the step by the shielding layer 13. Disconnection of the sensing electrode 25 can be prevented.

도 4a 내지 도 4e는 본 발명에 따른 터치 패널의 제조 공정도이다.4A to 4E are manufacturing process diagrams of a touch panel according to the present invention.

도 4a를 참조하면, 투명 윈도우(11)의 일면 상의 외곽 영역에 차폐층(13)을 형성한다. 상기에서 차폐층(13)을 검은 색 등의 불투명한 잉크 등을 실크스크린 인쇄, 그라비아 인쇄 또는 콤마 인쇄 등의 방법에 의해 2 ～ 5㎛ 정도의 두께로 형성한다. 차폐층(13)은 터치 패널의 유효 표시 영역을 한정하면서 이 후에 상부에 형성되는 배선부(29) 및 입출력 패드(31)가 투명 윈도우(11)의 타면 쪽에 시각적으로 노출되는 것을 방지하고 투명 윈도우(11)의 외곽 영역을 장식(decoration)한다.Referring to FIG. 4A, a shielding layer 13 is formed in an outer region on one surface of the transparent window 11. In the above-described shielding layer 13, an opaque ink such as black or the like is formed into a thickness of about 2 to 5 µm by a method such as silk screen printing, gravure printing, or comma printing. The shielding layer 13 defines an effective display area of the touch panel, and prevents the wiring portion 29 and the input / output pad 31 formed thereon from being visually exposed to the other side of the transparent window 11, and prevents the transparent window 11 from being visually exposed. Decorate the outer area of (11).

상기에서 투명 윈도우(11)는 폴리에틸렌 수지(polyethylene terephtalete : PET) 또는 아크릴 등의 투명한 합성수지, 또는, 소다라임 유리 (sodalime glass)로 형성할 수 있다.The transparent window 11 may be formed of a transparent synthetic resin such as polyethylene terephtalete (PET) or acrylic, or soda lime glass.

그리고, 투명 윈도우(11)의 일면 상에 평탄화층(15)을 차폐층(13)을 덮도록 형성하여 투명 윈도우(11)와 차폐층(13) 사이의 단차를 감소시키거나 제거한다. 상기에서 평탄화층(15)은 UV(ultraviolet) 투명 잉크 등의 투명한 잉크 등을 실크스크린 인쇄, 그라비아 인쇄 또는 콤마 인쇄 등의 방법에 의해 3 ～ 7㎛ 정도의 두께로 형성한다.Then, the planarization layer 15 is formed on one surface of the transparent window 11 to cover the shielding layer 13 to reduce or eliminate the step between the transparent window 11 and the shielding layer 13. The planarization layer 15 is formed of a transparent ink, such as UV (ultraviolet) transparent ink to a thickness of 3 ~ 7㎛ by a method such as silk screen printing, gravure printing or comma printing.

도 4b를 참조하면, 평탄화층(15) 상에 마스크를 이용하여 UV 잉크 등의 잉크를 실크스크린 인쇄, 그라비아 인쇄 또는 콤마 인쇄 등의 인쇄 방법으로 소정 영역을 노출시키는 제 1 마스크층(17)을 형성한다. 상기에서 제 1 마스크층(17)은 평탄화층(15)을 노출하는 영역이 X축 방향의 길이가 Y축 방향의 폭 보다 크면서 다수 개의 횡(橫)과 다수 개의 열(列)로 배열되게 형성된다. Referring to FIG. 4B, a first mask layer 17 is formed on the planarization layer 15 by exposing a predetermined area to ink such as UV ink using silk mask printing, gravure printing, or comma printing. Form. In the above description, the first mask layer 17 is arranged such that a region exposing the planarization layer 15 is arranged in a plurality of rows and a plurality of rows while the length of the X-axis direction is larger than the width of the Y-axis direction. Is formed.

그리고, 제 1 마스크층(17)에 의해 노출된 평탄화층(15)을 플라즈마로 제 1 전처리를 하고 빛 투과율 및 전기 전도성이 우수한 ITO(indium-tin oxide), IZO(indium zinc oxide) 또는 ZnO(zinc oxide) 등의 투명한 도전성 물질을 스퍼터링 등의 방법으로 1000 ～ 2000Å 정도의 두께로 증착한다. 이 때, 평탄화층(15)의 노출된 부분 상에 X축 방향의 길이가 Y축 방향의 폭 보다 큰 제 1 연결부(19)가 형성된다.In addition, the planarization layer 15 exposed by the first mask layer 17 is first pretreated with plasma, and indium-tin oxide (ITO), indium zinc oxide (IZO), or ZnO ( A transparent conductive material such as zinc oxide) is deposited to a thickness of about 1000 to 2000Å by a method such as sputtering. At this time, on the exposed portion of the planarization layer 15, a first connecting portion 19 having a length in the X-axis direction larger than a width in the Y-axis direction is formed.

도 4c를 참조하면, 제 1 마스크층(17)을 제거한다. 이 때, 제 1 마스크층(17) 상에 증착된 투명한 도전성 물질도 제거되고 제 1 연결부(19)만 남게 된다. 상기에서 제 1 연결부(19)를 포토리쏘그래피 방법으로 패터닝하지 않고 제 1 마스크층(17)을 이용하여 형성하므로 공정이 간단하면서 평탄화층(15) 상에 식각 잔유물이 발생되지 않는다.Referring to FIG. 4C, the first mask layer 17 is removed. At this time, the transparent conductive material deposited on the first mask layer 17 is also removed, leaving only the first connection portion 19. Since the first connector 19 is formed using the first mask layer 17 without patterning the photolithography method, the etching process is simple and no etching residues are generated on the planarization layer 15.

그리고, 평탄화층(15) 상에 제 1 연결부(19)를 X축 방향의 길이의 양 끝단이 노출되고 Y축 방향의 폭의 측면도 덮도록 절연층(21)을 형성한다. 상기에서 절연층(21)을 마스크를 이용하여 절연성을 갖는 UV(ultraviolet) 투명 잉크를 실크스크린 인쇄, 그라비아 인쇄 또는 콤마 인쇄 등의 방법에 의해 1 ～ 3㎛ 정도의 두께로 형성한다.Then, the insulating layer 21 is formed on the planarization layer 15 so that both ends of the length in the X-axis direction are exposed and the side surfaces of the width in the Y-axis direction are also covered. By using the insulating layer 21 as a mask, an insulating UV (ultraviolet) transparent ink having a thickness of about 1 to 3 μm is formed by a method such as silk screen printing, gravure printing, or comma printing.

도 4d를 참조하면, 평탄화층(15) 상에 마스크를 이용하여 UV 잉크 등의 잉크를 실크스크린 인쇄, 그라비아 인쇄 또는 콤마 인쇄 등의 인쇄 방법으로 소정 영역을 노출시키는 제 2 마스크층(23)을 형성한다. 이 때, 제 2 마스크층(23)을 다이아몬드 형상, 직사각형 형상, 벌집 형상 및 직각삼각형 형상 등의 어느 하나의 형상으로 평탄화층(15)을 노출시키면서 제 1 연결부(19)의 양쪽 끝단이 노출되도록 형성한다.Referring to FIG. 4D, a second mask layer 23 is formed on the planarization layer 15 that exposes a predetermined area by using a mask such as UV ink, silkscreen printing, gravure printing, or comma printing. Form. At this time, both ends of the first connecting portion 19 are exposed while the planarization layer 15 is exposed to the second mask layer 23 in any one of a diamond shape, a rectangular shape, a honeycomb shape, and a right triangle shape. Form.

그리고, 제 1 마스크층(17)에 의해 노출된 평탄화층(15)을 플라즈마로 제 2 전처리를 하고 빛 투과율 및 전기 전도성이 우수한 ITO(indium-tin oxide), IZO(indium zinc oxide) 또는 ZnO(zinc oxide) 등의 투명한 도전성 물질을 스퍼터링 등의 방법으로 200 ～ 500Å 정도의 두께로 증착하여 감지 전극(25) 및 제 2 연결부(27)를 형성한다. 이 때, 감지 전극(25)은 Y축을 따라 N개가 제 2 연결부(27)에 의해 전기적으로 연결되며 X축 상의 M개의 열이 인접하는 것과 각각 이격되게 형성된다. 또한, 평탄화층(15)에 의해 차폐층(13)에 의한 단차가 감소되거나 제거되므로 감지 전극(25)이 단선되는 것이 방지된다. 상기에서 감지 전극(25)은 X축 상에 서로 이격되는 것은 제 1 연결부(19)에 의해 전기적으로 연결된다. 또한, 제 2 연결부(27)는 절연층(21) 상에 형성된다.In addition, the planarization layer 15 exposed by the first mask layer 17 is subjected to a second pretreatment with plasma, and has excellent light transmittance and electrical conductivity, such as indium-tin oxide (ITO), indium zinc oxide (IZO), or ZnO ( A transparent conductive material such as zinc oxide) is deposited to a thickness of about 200 to 500 kW by a sputtering method to form the sensing electrode 25 and the second connection part 27. At this time, N sensing electrodes 25 are electrically connected along the Y axis by the second connection part 27, and M rows on the X axis are spaced apart from adjacent ones. In addition, since the step difference caused by the shielding layer 13 is reduced or eliminated by the planarization layer 15, the sensing electrode 25 is prevented from being disconnected. In the above, the sensing electrodes 25 are electrically connected to each other on the X axis by the first connector 19. In addition, the second connection part 27 is formed on the insulating layer 21.

도 4e를 참조하면, 제 2 마스크층(23)을 제거한다. 이 때, 제 2 마스크층(23) 상에 증착된 투명한 도전성 물질도 제거되고 감지 전극(25) 및 제 2 연결부(27)가 남게 된다. 상기에서 감지 전극(25) 및 제 2 연결부(27)를 포토리쏘그래피 방법으로 패터닝하지 않고 제 2 마스크층(23)을 이용하여 형성하므로 공정이 간단하면서 식각 잔유물에 의한 단락이 발생되지 않는다.Referring to FIG. 4E, the second mask layer 23 is removed. At this time, the transparent conductive material deposited on the second mask layer 23 is also removed, leaving the sensing electrode 25 and the second connection portion 27. Since the sensing electrode 25 and the second connection part 27 are formed using the second mask layer 23 without patterning by the photolithography method, the process is simple and no short circuit due to the etching residues occurs.

전술한 본 발명에 따른 터치 패널에 대한 바람직한 실시예에 대하여 설명하였지만, 본 발명은 이에 한정되는 것이 아니고 특허청구범위와 발명의 상세한 설명 및 첨부한 도면의 범위 안에서 여러 가지로 변형하여 실시하는 것이 가능하고 이 또한 본 발명에 속한다.
Although a preferred embodiment of the touch panel according to the present invention has been described above, the present invention is not limited thereto, and various modifications can be made within the scope of the claims and the detailed description of the invention and the accompanying drawings. This also belongs to the present invention.

11 : 윈도우 13 : 차폐층
15 : 평탄화층 19 : 제 1 연결부
21 : 절연층 25 : 감지 전극
27 : 제 2 연결부 29 : 배선부
31 : 입출력 패드 11: window 13: shielding layer
15: planarization layer 19: first connection portion
21 insulating layer 25 sensing electrode
27: second connection portion 29: wiring portion
31: input / output pad

Claims (7)

투명 윈도우 상의 외곽 영역에 유효 표시 영역을 한정하는 차폐층을 형성하는 공정과,
상기 투명 윈도우 상에 차폐층을 덮도록 평탄화층을 형성하는 공정과,
상기 평탄화층 상에 X축 방향의 길이가 Y축 방향의 폭 보다 큰 영역을 노출시키는 제 1 마스크층을 형성하는 공정과,
상기 제 1 마스크층에 의해 노출된 평탄화층 상에 투명한 도전성 물질을 증착하여 제 1 연결부를 형성하는 공정과,
상기 제 1 마스크층을 제거하고 상기 평탄화층 상에 상기 제 1 연결부의 X축 방향의 길이의 양 끝단이 노출되고 Y축 방향의 폭의 측면도 덮도록 절연층을 형성하는 공정과,
상기 평탄화층 상에 적어도 상기 제 1 연결부의 X축 방향의 양측 끝단을 노출시키는 제 2 마스크층을 형성하는 공정과,
상기 제 1 마스크층에 의해 노출된 평탄화층 상에 투명한 도전성 물질을 증착하여 Y축을 따라 N개가 X축 상의 M개의 열로 배열되되 X축 상의 M개의 열이 인접하는 것과 각각 이격되면서 상기 제 1 연결부에 의해 전기적으로 연결되고 Y축의 N개가 제 2 연결부에 의해 전기적으로 연결되는 감지 전극을 형성하는 공정을 포함하는 터치 패널의 제조 방법.
Forming a shielding layer defining an effective display region in an outer region on the transparent window;
Forming a planarization layer to cover the shielding layer on the transparent window;
Forming a first mask layer on the planarization layer exposing a region having a length in the X-axis direction greater than a width in the Y-axis direction;
Depositing a transparent conductive material on the planarization layer exposed by the first mask layer to form a first connection portion;
Removing the first mask layer and forming an insulating layer on the planarization layer so that both ends of the length in the X-axis direction of the first connection part are exposed and the side surfaces of the width in the Y-axis direction are also covered;
Forming a second mask layer on the planarization layer exposing at least both ends of the first connection portion in the X-axis direction;
By depositing a transparent conductive material on the planarization layer exposed by the first mask layer, N is arranged along the Y axis in M rows on the X axis, and spaced apart from adjacent M columns on the X axis, respectively, to the first connection portion. Forming a sensing electrode that is electrically connected by the N-axis and electrically connected by N second axes of the Y-axis.
청구항 1에 있어서 상기 평탄화층을 투명한 잉크로 형성하는 터치 패널의 제조 방법.
The method of claim 1, wherein the planarization layer is formed of a transparent ink.
청구항 1에 있어서 상기 평탄화층을 실크스크린 인쇄, 그라비아 인쇄 또는 콤마 인쇄의 방법으로 형성하는 터치 패널의 제조 방법.
The method of claim 1, wherein the flattening layer is formed by silkscreen printing, gravure printing, or comma printing.
청구항 1에 있어서 상기 제 1 및 제 2 마스크층을 UV 잉크로 형성하는 터치 패널의 제조 방법.
The method of claim 1, wherein the first and second mask layers are formed of UV ink.
청구항 1에 있어서 상기 제 1 및 제 2 마스크층을 실크스크린 인쇄, 그라비아 인쇄 또는 콤마 인쇄 등의 인쇄 방법으로 형성하는 터치 패널의 제조 방법.
The method of manufacturing a touch panel according to claim 1, wherein the first and second mask layers are formed by a printing method such as silk screen printing, gravure printing, or comma printing.
청구항 1에 있어서 상기 절연층을 마스크를 이용하여 절연성 잉크로 형성하는 제조 방법.
The method according to claim 1, wherein the insulating layer is formed of an insulating ink using a mask.
청구항 1에 있어서 상기 절연층을 실크스크린 인쇄, 그라비아 인쇄 또는 콤마 인쇄 등의 인쇄 방법으로 형성하는 터치 패널의 제조 방법.The method of manufacturing a touch panel according to claim 1, wherein the insulating layer is formed by a printing method such as silk screen printing, gravure printing, or comma printing.
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