KR20130004060A - Optical film - Google Patents

Abstract

PURPOSE: An optical film is provided to improve optical efficiency of a display device and brightness. CONSTITUTION: An optical film(400) includes a liquid crystal layer(401) and a haze layer(402) on an upper side of the liquid crystal layer. A quarter wavelength layer, an orientation layer, an adhesion layer are formed between the haze layer and the liquid crystal layer.

Description

광학 필름{Optical film}Optical film {Optical film}

본 출원은 광학 필름, 반사형 편광판 및 액정 표시 장치에 관한 것이다.The present application relates to an optical film, a reflective polarizer and a liquid crystal display device.

LCD(Liquid crystal display)는, 액정 패널 및 상기 액정 패널의 상부측과 하부측에 배치된 편광판을 포함할 수 있고, 상기 편광판 외에도 다양한 기능성 광학 소자를 포함할 수 있다. The liquid crystal display (LCD) may include a liquid crystal panel and polarizing plates disposed on upper and lower sides of the liquid crystal panel, and may include various functional optical elements in addition to the polarizing plate.

LCD에서는, 액정 패널의 각 화소별로 액정의 배향을 변화시켜 영상을 표시할 수 있다. LCD는 자체 발광형의 소자가 아니기 때문에, 통상적으로 액정 패널의 하부측 편광판의 이면에 BLU(Backlight unit) 등의 광원을 위치시키고, 상기 광원으부터 출사되는 광을 패널에 투과시켜 영상을 표시한다.In the LCD, an image may be displayed by changing the alignment of the liquid crystal for each pixel of the liquid crystal panel. Since the LCD is not a self-luminous device, a light source such as a BLU (Backlight unit) is usually placed on the rear surface of the lower polarizing plate of the liquid crystal panel, and the light emitted from the light source is transmitted to the panel to display an image. .

본 출원은 광학 필름, 반사형 편광판 및 액정 표시 장치를 제공한다.The present application provides an optical film, a reflective polarizer and a liquid crystal display device.

본 출원은, 광학 필름에 관한 것이다. 예시적인 광학 필름은 콜레스테릭 배향된 액정 영역을 포함하는 액정층(이하, 「CLC층」)을 포함한다. 상기 광학 필름은, 상기 액정층의 상부에 헤이즈(haze)가 약 40% 내지 60% 정도인 헤이즈층을 추가로 포함할 수 있다. This application relates to an optical film. Exemplary optical films include a liquid crystal layer (hereinafter referred to as a "CLC layer") comprising a cholesteric oriented liquid crystal region. The optical film may further include a haze layer having a haze of about 40% to about 60% on the liquid crystal layer.

광학 필름에서 CLC층은 단일층일 수 있다. 본 명세서에서 CLC층이 단일층이라는 것은, 2개 이상의 CLC층을 적층 또는 부착시켜서 형성되거나, CLC 조성물을 복수 회 코팅하여 형성되는 CLC층은 제외되는 의미일 수 있다.The CLC layer in the optical film may be a single layer. In the present specification, the CLC layer may be formed by stacking or attaching two or more CLC layers, or the CLC layer formed by coating the CLC composition a plurality of times may be excluded.

상기 CLC층은 콜레스테릭 배향된 액정 영역을 포함하고, 상기 액정 영역은 반사광의 중심 파장이 서로 상이한 2 종류 이상의 액정 영역을 포함할 수 있다. 본 명세서에서 콜레스테릭 액정 또는 콜레스테릭 배향된 액정은 「CLC」로 약칭될 수 있다. 도 1을 참조하면, CLC는, 액정 분자의 도파기(도 1의 n)가 나선축(도 1의 X)을 따라 꼬이면서 층을 이루며 배향한 나선형의 구조를 가진다. CLC의 구조에서 액정 분자의 도파기가 360도의 회전을 완성하기까지의 거리(도 1의 P)를 「피치(pitch)」라고 호칭한다. 본 명세서에서 용어 「액정 영역 또는 CLC 영역」은, CLC의 도파기가 360도의 회전을 완성하고 있는 CLC 영역을 의미할 수 있다. 본 명세서에서 각 CLC 영역은, 예를 들면, 각 CLC 영역의 반사광의 중심 파장에 따라 구분될 수 있다.The CLC layer may include a cholesteric aligned liquid crystal region, and the liquid crystal region may include two or more kinds of liquid crystal regions having different center wavelengths of reflected light. In this specification, cholesteric liquid crystal or cholesteric oriented liquid crystal may be abbreviated as "CLC". Referring to FIG. 1, the CLC has a spiral structure in which waveguides (n in FIG. 1) of liquid crystal molecules are oriented in layers while being twisted along a spiral axis (X in FIG. 1). In the structure of CLC, the distance (P of FIG. 1) until the waveguide of a liquid crystal molecule completes 360 degree rotation is called "pitch." As used herein, the term "liquid crystal region or CLC region" may refer to a CLC region in which the waveguide of the CLC completes a 360 degree rotation. In the present specification, each CLC region may be divided according to, for example, a center wavelength of reflected light of each CLC region.

CLC는 원형 편광의 광을 선택적으로 반사시킬 수 있다. CLC에 의해 반사되는 광의 파장은 액정의 굴절율 및 피치에 의존한다. CLC 도파기의 나선형 뒤틀림은 재료의 유전체 텐서에서 공간적으로 주기적인 변형을 가져오고, 이것은 광의 파장 선택적 반사를 일으킨다. 일반적으로 CLC에서는 나선 축을 따라 전파되는 광에 대하여, 파장 λ가 하기 일반식 1의 범주일 때 브래그(Bragg) 반사가 일어난다.The CLC can selectively reflect light of circular polarization. The wavelength of the light reflected by the CLC depends on the refractive index and pitch of the liquid crystal. Spiral distortion of the CLC waveguide results in spatially periodic deformation in the dielectric tensor of the material, which causes wavelength selective reflection of light. In general, in the CLC, Bragg reflection occurs when the wavelength λ is in the range of the following general formula (1) for light propagating along the spiral axis.

[일반식 1][Formula 1]

N_oP < λ < N_ePN _o P <λ <N _e P

상기 일반식 1에서, P는 CLC 영역의 피치이고, N_e는 CLC의 도파기에 대해 평행하게 편광된 광에 대한 CLC의 굴절율을 나타내며, N_o은 CLC의 도파기에 수직으로 편광된 광에 대한 CLC의 굴절율을 나타낸다. In Equation 1, P is the pitch of the CLC region, N _e represents the refractive index of the CLC for light polarized parallel to the waveguide of the CLC, N _o is CLC for light polarized perpendicular to the waveguide of the CLC The refractive index of is shown.

또한, CLC에 의해 반사되는 광, 즉 반사광의 파장 범위의 중심 파장 λ₀는 하기 일반식 2에 의해 근사될 수 있다.In addition, the light reflected by the CLC, that is, the center wavelength λ ₀ in the wavelength range of the reflected light can be approximated by the following general formula (2).

[일반식 2][Formula 2]

λ_o = 0.5(N_o+N_e)Pλ _o = 0.5 (N _o + N _e ) P

일반식 2에서, P, N_e 및 N_o은 일반식 1에서 정의된 바와 같다.In Formula 2, P, N _e and N _o are as defined in Formula 1.

또한, CLC에 의해 반사되는 광의 스펙트럼 폭 △λ₀은 하기 일반식 3에 의해 근사될 수 있다.In addition, the spectral width Δλ ₀ of the light reflected by the CLC can be approximated by the following general formula (3).

[일반식 3][Formula 3]

△λ₀ =2λ_o(N_e-N_o)/ (N_o+N_e) = P(N_e-N_o)Δλ ₀ = 2λ _o (N _e -N _o ) / (N _o + N _e ) = P (N _e -N _o )

일반식 3에서, P, N_e 및 N_o은 일반식 1에서 정의된 바와 같다In Formula 3, P, N _e and N _o are as defined in Formula 1

상기 CLC층은 2종류 이상의 CLC 영역을 포함한다. 상기 2종류 이상의 CLC 영역은 각각 반사할 수 있는 광, 즉 반사광의 중심 파장이 서로 상이하다. The CLC layer includes two or more types of CLC regions. The two or more types of CLC regions differ from each other in the central wavelength of the light that can be reflected, that is, the reflected light.

하나의 예시에서 반사광의 중심 파장이 서로 상이한 CLC 영역은, 서로 상이한 범위의 피치를 가질 수 있다. 하나의 예시에 따라 단일층의 CLC층 내에 2종류 이상의 CLC 영역이 포함되면, CLC층을 얇게 구성하면서도, CLC층에 의한 선택적 반사 특성을 넓은 파장 범위에서 활용할 수 있다. 본 명세서에서 상기 단일층이면서 2종류 이상의 CLC 영역을 포함하는 CLC층은 광대역 CLC층이라고 호칭할 수 있다.In one example, the CLC regions having different center wavelengths of the reflected light may have different pitches. According to an example, when two or more types of CLC regions are included in a single layer of the CLC layer, the CLC layer may be made thin, but the selective reflection characteristic by the CLC layer may be utilized in a wide wavelength range. In the present specification, a single layer and a CLC layer including two or more kinds of CLC regions may be referred to as a broadband CLC layer.

CLC층에서 반사광의 중심 파장이 서로 상이한 CLC 영역의 배치는 특별히 제한되지 않는다. 하나의 예시에서 CLC 영역들은 CLC층의 일 측에서 다른 측까지 각 영역의 반사광의 중심 파장이 순차적으로 길어지거나 또는 짧아지도록 배치되어 있거나, 혹은 상기 중심 파장이 길어지다가 다시 짧아지도록 배치되거나, 혹은 짧아지다가 다시 길어지도록 배치되거나, 혹은 불규칙적으로 상기 중심 파장이 변화하도록 배치되어 있을 수 있다. 하나의 예시에서 상기 CLC층에 포함되는 CLC가 동일한 종류의 화합물이면, CLC 영역의 피치는 각 CLC 영역이 상기와 같은 반사광의 중심 파장을 나타내도록 변화할 수 있다. The arrangement of the CLC regions in which the central wavelengths of the reflected light are different from each other in the CLC layer is not particularly limited. In one example, the CLC regions are arranged such that the center wavelengths of the reflected light of each region are sequentially lengthened or shortened sequentially from one side to the other side of the CLC layer, or are arranged such that the center wavelengths become shorter and shorter again. It may be arranged to be longer, or may be arranged to change the center wavelength irregularly. In one example, when the CLCs included in the CLC layer are compounds of the same kind, the pitch of the CLC region may be changed such that each CLC region represents the center wavelength of the reflected light as described above.

하나의 예시적인 CLC층에서는, CLC층의 하나의 주표면측에는 반사광의 중심 파장이 가시 광선의 적색(red)광 영역에 속하는 CLC 영역이 배치되고, CLC층의 다른 주표면측에는 반사광의 중심 파장이 청색(blue)광 영역에 속하는 CLC 영역이 배치되면서, 각 CLC 영역의 반사광의 중심 파장이 CLC층의 두께 방향을 따라서 순차적으로 변화하도록 상기 영역들이 배치되어 있을 수 있다. In one exemplary CLC layer, a CLC region belonging to the red light region of visible light is disposed on one major surface side of the CLC layer, and a center wavelength of reflected light is arranged on the other major surface side of the CLC layer. As the CLC regions belonging to the blue light region are disposed, the regions may be arranged such that the central wavelength of the reflected light of each CLC region sequentially changes along the thickness direction of the CLC layer.

본 명세서에서 용어 「CLC층의 두께 방향」은, 상기 CLC층의 하나의 주표면과 그와 대향하는 주표면을 최단거리로 연결하는 가상의 선과 평행한 방향을 의미할 수 있다. 하나의 예시에서 상기 광학 필름이 후술하는 바와 같이 기재층을 추가로 포함하고, 상기 CLC층이 상기 기재층의 일면에 형성되어 있는 경우에는, 상기 CLC층의 두께 방향은, 상기 CLC층이 형성되어 있는 기재층의 면과 수직한 방향으로 형성된 가상의 선과 평행한 방향일 수 있다. 또한, 본 명세서에서 각도를 정의하면서, 수직, 평행, 직교 또는 수평 등의 용어를 사용하는 경우, 이는 목적하는 효과를 손상시키지 않는 범위에서의 실질적인 수직, 평행, 직교 또는 수평을 의미하는 것으로, 예를 들면, 제조 오차(error) 또는 편차(variation) 등을 감안한 오차를 포함하는 것이다. 예를 들면, 상기 각각의 경우는, 약 ±15도 이내의 오차, 약 ±10도 이내의 오차 또는 약 ±5도 이내의 오차를 포함할 수 있다.As used herein, the term "thickness direction of the CLC layer" may refer to a direction parallel to an imaginary line connecting one main surface of the CLC layer and the main surface opposite thereto at the shortest distance. In one example, when the optical film further includes a base layer as described below, and the CLC layer is formed on one surface of the base layer, the CLC layer is formed in a thickness direction of the CLC layer. It may be a direction parallel to the imaginary line formed in a direction perpendicular to the plane of the substrate layer. In addition, when defining angles in the present specification, when using terms such as vertical, parallel, orthogonal or horizontal, this means substantially vertical, parallel, orthogonal or horizontal in a range that does not impair the desired effect. For example, an error including a manufacturing error or a variation is included. For example, each of the above cases may include an error within about ± 15 degrees, an error within about ± 10 degrees or an error within about ± 5 degrees.

도 2는, 상기 CLC층(2)을 추상적으로 도식한 모식도로서, CLC층(2)의 하나의 주표면(21)측으로부터 다른 주표면(22)측 방향으로 반사광의 중심 파장이 적색(Red)광의 범주에 속하는 CLC 영역(231), 녹색(Green)광의 범주에 속하는 CLC 영역(232) 및 청색(Blue)광의 범주에 속하는 CLC 영역(233)이 순차적으로 배치된 예시를 나타낸다. FIG. 2 is a schematic diagram schematically illustrating the CLC layer 2. The central wavelength of the reflected light is red in the direction from one main surface 21 side of the CLC layer 2 to the other main surface 22 side. The CLC region 231 belonging to the category of) light, the CLC region 232 belonging to the category of green light, and the CLC region 233 belonging to the category of blue light are sequentially arranged.

하나의 예시에서 CLC층은, 반사광의 중심 파장이 400 nm 내지 500 nm인 제 1 영역, 반사광의 중심 파장이 500 nm 내지 600 nm인 제 2 영역 및 반사광의 중심 파장이 600 내지 700 nm인 제 3 영역을 적어도 포함할 수 있다. 예를 들면, 상기 제 1 내지 제 3 영역은, CLC층의 두께 방향을 따라서 각 영역의 반사광의 중심 파장이 순차적으로 변화하도록 배치될 수 있으나, 이에 제한되는 것은 아니다. CLC 영역의 반사광의 중심 파장은, 이 분야에서는 공지되어 있는 방식에 따라서 측정할 수 있다.In one example, the CLC layer includes a first region having a center wavelength of reflected light of 400 nm to 500 nm, a second region having a center wavelength of reflected light of 500 nm to 600 nm, and a third region having a center wavelength of reflected light of 600 to 700 nm At least a region. For example, the first to third regions may be arranged such that the central wavelength of the reflected light of each region is sequentially changed along the thickness direction of the CLC layer, but is not limited thereto. The center wavelength of the reflected light in the CLC region can be measured according to a method known in the art.

하나의 예시에서 CLC층은, 액정 분자의 도파기의 나선축이 상기 CLC층의 두께 방향과 평행하지 않도록 형성되어 있는 CLC 영역을 포함할 수 있다. 예를 들면, 상기 CLC층은, 상기 나선축이 상기 두께 방향과 평행하도록 형성되어 있는 CLC 영역과 상기 나선축이 상기 두께 방향과 평행하지 않은 방향으로 형성되어 있는 CLC 영역을 포함할 수 있다.In one example, the CLC layer may include a CLC region in which the spiral axis of the waveguide of the liquid crystal molecules is not parallel to the thickness direction of the CLC layer. For example, the CLC layer may include a CLC region in which the spiral axis is formed parallel to the thickness direction, and a CLC region in which the spiral axis is formed in a direction not parallel to the thickness direction.

CLC 영역의 나선축의 배치를 도 3을 참조하여 예시적으로 설명하면, 하기와 같다.The arrangement of the spiral axes of the CLC region will be described as follows with reference to FIG. 3.

통상적으로 CLC 영역은 나선형으로 회전하고 있는 CLC 분자를 포함하고, CLC 분자의 도파기, 예를 들면, CLC 분자의 장축의 나선축은 CLC층의 두께 방향에 대하여 평행하게 되도록 정렬하게 된다. CLC 영역은, 도 3의 A에 나타난 바와 같이, CLC의 나선 축(HA)이, CLC층의 두께 방향(31)과 평행하게 배향되는 것이 일반적이다. 도 3에서 두께 방향(31)과 수직한 방향(32)은, 예를 들면, 전술한 바와 같은 기재층의 면 방향을 의미할 수 있다. 본 명세서에서 상기와 같이 나선축이 CLC층의 두께 방향과 평행한 상태로 배향되어 있는 CLC 영역은, 플래너(planar) 배향된 CLC 영역으로 호칭될 수 있다.Typically the CLC region comprises CLC molecules that are rotating in a helical fashion, and the waveguides of the CLC molecules, eg, the helix axis of the long axis of the CLC molecules, are aligned to be parallel to the thickness direction of the CLC layer. In the CLC region, as shown in FIG. 3A, the spiral axis HA of the CLC is generally oriented parallel to the thickness direction 31 of the CLC layer. In FIG. 3, the direction 32 perpendicular to the thickness direction 31 may mean, for example, the plane direction of the substrate layer as described above. As described above, the CLC region in which the spiral axis is oriented in parallel with the thickness direction of the CLC layer may be referred to as a planar oriented CLC region.

CLC의 배향 조건이나, 혹은 CLC가 형성되는 기재층의 면의 특성에 따라서는, 상기 CLC 분자의 도파기의 나선축의 방향이 상기 CLC층의 두께 방향과는 평행하지 않은 방향으로 정렬할 수 있다. 예를 들면, 도 3의 B에 나타난 바와 같이, CLC의 나선 축(HA)이 CLC층의 두께 방향(31)과 수직한 방향으로 배향하거나, 도 3의 C에 나타난 바와 같이, CLC의 나선 축(HA)이 CLC층의 두께 방향(31)과 수직 및 평행한 방향 이외의 방향을 이루면서 배향이 이루어질 수 있다. 본 명세서에서는 상기 나선축이 CLC층의 두께 방향과 수직한 상태로 배향되어 있는 CLC 영역은, 호메오트로픽(homeotropic) 배향된 CLC 영역으로 호칭되고, 나선축이 CLC층의 두께 방향과 수직 및 평행한 방향 이외의 방향으로 배향한 상태의 CLC 영역은, 포컬 코틱(focal conic) 배향된 CLC 영역으로 호칭될 수 있다.Depending on the alignment conditions of the CLC or the characteristics of the surface of the base layer on which the CLC is formed, the direction of the spiral axis of the waveguide of the CLC molecules can be aligned in a direction not parallel to the thickness direction of the CLC layer. For example, as shown in B of FIG. 3, the spiral axis HA of the CLC is oriented in a direction perpendicular to the thickness direction 31 of the CLC layer, or as shown in C of FIG. 3, the spiral axis of the CLC. The alignment can be made while (HA) forms a direction other than the direction perpendicular to and parallel to the thickness direction 31 of the CLC layer. In the present specification, the CLC region in which the spiral axis is oriented perpendicular to the thickness direction of the CLC layer is referred to as a homeotropic oriented CLC region, and the spiral axis is perpendicular and parallel to the thickness direction of the CLC layer. The CLC region oriented in a direction other than one direction may be referred to as a focal conic oriented CLC region.

통상적인 방식으로 형성된 CLC층 내에서 CLC 영역은 나선축이 CLC층의 두께 방향과 평행을 이루면서 배향된다. 그렇지만, 상기 광학 필름의 CLC층에는, 인위적으로 나선축이 CLC층의 두께 방향과 평행 이외의 방향으로 형성되는 CLC 영역을 포함시킬 수 있다. 나선축이 CLC층의 두께 방향과 평행 이외의 방향으로 형성되는 CLC 영역은, 광학 필름의 헤이즈 특성을 조절할 수 있다.In the CLC layer formed in a conventional manner, the CLC region is oriented with the spiral axis parallel to the thickness direction of the CLC layer. However, the CLC layer of the optical film may include a CLC region in which a spiral axis is artificially formed in a direction other than parallel to the thickness direction of the CLC layer. The CLC area | region whose spiral axis is formed in directions other than parallel with the thickness direction of a CLC layer can adjust the haze characteristic of an optical film.

호메오트로픽 또는 포컬 코닉 배향된 CLC 영역의 CLC층 내에서의 양이나 위치 내지는 분포 상태 또는 포컬 코닉 배향에서 나선축이 CLC층의 두께 방향과 이루는 각도 등은 특별히 제한되지 않으며, 목적에 따라 적정 범위로 조절될 수 있다.The amount or position in the CLC layer of the homeotropic or focal conic oriented CLC region or the distribution state or the angle at which the spiral axis forms the thickness direction of the CLC layer in the focal conic orientation is not particularly limited. Can be adjusted.

상기 호메오트로픽 또는 포컬 코틱 배향된 CLC 영역은, 예를 들면, 후술하는 바와 같이, CLC층이 형성되는 면의 표면 특성을 조절하거나, 혹은 CLC의 배향 조건을 적절하게 설정함으로써 형성시킬 수 있다.The homeotropic or focal cotic oriented CLC region can be formed, for example, by adjusting the surface properties of the surface on which the CLC layer is formed or by setting the alignment conditions of the CLC appropriately.

하나의 예시에서 CLC층은 액정 고분자를 포함할 수 있다. 예시적인 CLC층의 제조 방법은, 중합성 액정 화합물 및 중합성 또는 비중합성인 키랄제(chiral agent)를 포함하는 조성물을 코팅하고, 상기 키랄제에 의해 액정 화합물의 나선 피치를 유도한 상태로 상기 조성물을 중합시켜서 형성할 수 있고, 이 경우, 상기 CLC층은 중합된 액정 고분자를 포함할 수 있다.In one example, the CLC layer may include a liquid crystal polymer. Exemplary CLC layers are prepared by coating a composition comprising a polymerizable liquid crystal compound and a polymerizable or nonpolymerizable chiral agent, and inducing the helical pitch of the liquid crystal compound by the chiral agent. The composition may be polymerized to form, in this case, the CLC layer may include a polymerized liquid crystal polymer.

하나의 예시적인 CLC층은, 하기 화학식 1로 표시되는 화합물을 중합된 형태로 포함할 수 있다.One exemplary CLC layer may include a compound represented by Chemical Formula 1 in a polymerized form.

[화학식 1] [Formula 1]

상기 화학식 1에서 A는 단일 결합, -COO- 또는 -OCO-이고, R₁ 내지 R₁₀은, 각각 독립적으로 수소, 할로겐, 알킬기, 알콕시기, 시아노기, 니트로기, -O-Q-P 또는 하기 화학식 2의 치환기이되, R₁ 내지 R₁₀ 중 적어도 하나는 -O-Q-P 또는 하기 화학식 2의 치환기이고, 상기에서 Q는 알킬렌기 또는 알킬리덴기이며, P는, 알케닐기, 에폭시기, 시아노기, 카복실기, 아크릴로일기, 메타크릴로일기, 아크릴로일옥시기 또는 메타크릴로일옥시기이다.In Formula 1, A is a single bond, -COO- or -OCO-, and R ₁ to R ₁₀ are each independently hydrogen, halogen, alkyl group, alkoxy group, cyano group, nitro group, -OQP or Wherein at least one of R ₁ to R ₁₀ is -OQP or a substituent of Formula 2, wherein Q is an alkylene group or an alkylidene group, and P is an alkenyl group, an epoxy group, a cyano group, a carboxyl group, or an acryl It is a diary, methacryloyl group, acryloyloxy group, or methacryloyloxy group.

[화학식 2][Formula 2]

상기 화학식 2에서 B는 단일 결합, -COO- 또는 -OCO-이고, R₁₁ 내지 R₁₅는, 각각 독립적으로 수소, 할로겐, 알킬기, 알콕시기, 시아노기, 니트로기 또는 -O-Q-P이되, R₁₁ 내지 R₁₅ 중 적어도 하나는 -O-Q-P이고, 상기에서 Q는 알킬렌기 또는 알킬리덴기이며, P는, 알케닐기, 에폭시기, 시아노기, 카복실기, 아크릴로일기, 메타크릴로일기, 아크릴로일옥시기 또는 메타크릴로일옥시기이다.In Formula 2, B is a single bond, -COO-, or -OCO-, and R ₁₁ to R ₁₅ are each independently hydrogen, halogen, alkyl group, alkoxy group, cyano group, nitro group, or -OQP, and R ₁₁ to At least one of R ₁₅ is -OQP, wherein Q is an alkylene group or an alkylidene group, and P is an alkenyl group, epoxy group, cyano group, carboxyl group, acryloyl group, methacryloyl group, acryloyloxy group or It is a methacryloyloxy group.

상기 화학식 2에서 B의 좌측의 "-"는 B가 화학식 1의 벤젠에 직접 연결되는 것을 의미한다."-" On the left side of B in Chemical Formula 2 means that B is directly connected to benzene of Chemical Formula 1.

상기 화학식 1 및 2에서 용어 "단일 결합"은, A 또는 B로 표시되는 부분에 별도의 원자가 존재하지 않는 경우를 의미한다. 예를 들어, 화학식 1에서 A가 단일 결합인 경우, A의 양측의 벤젠이 직접 연결되어 비페닐(biphenyl) 구조를 형성할 수 있다.In Formulas 1 and 2, the term “single bond” refers to a case where no atom is present in a portion represented by A or B. For example, when A is a single bond in Formula 1, benzene on both sides of A may be directly connected to form a biphenyl structure.

화학식 1 및 2에서 할로겐으로는, 염소, 브롬 또는 요오드 등이 예시될 수 있다. As the halogen in the general formula (1) and (2), chlorine, bromine or iodine may be exemplified.

화학식 1 및 2에서 알킬기로는, 탄소수 1 내지 20, 탄소수 1 내지 16, 탄소수 1 내지 12, 탄소수 1 내지 8 또는 탄소수 1 내지 4의 직쇄 또는 분지쇄 알킬기 또는 탄소수 3 내지 20, 탄소수 3 내지 16 또는 탄소수 4 내지 12의 시클로알킬기가 예시될 수 있다. 또한, 상기 알킬기는 임의적으로 하나 이상의 치환기에 의해 치환될 수 있다.In the general formulas (1) and (2), the alkyl group may be a straight or branched chain alkyl group having 1 to 20 carbon atoms, 1 to 16 carbon atoms, 1 to 12 carbon atoms, 1 to 8 carbon atoms, or 1 to 4 carbon atoms, or 3 to 20 carbon atoms, 3 to 16 carbon atoms, or Cycloalkyl groups having 4 to 12 carbon atoms can be exemplified. In addition, the alkyl group may be optionally substituted by one or more substituents.

화학식 1 및 2에서 알콕시기로는, 탄소수 1 내지 20, 탄소수 1 내지 16, 탄소수 1 내지 12, 탄소수 1 내지 8 또는 탄소수 1 내지 4의 알콕시기가 예시될 수 있다. 상기 알콕시기는, 직쇄, 분지쇄 또는 고리형일 수 있다. 또한, 상기 알콕시기는 임의적으로 하나 이상의 치환기에 의해 치환될 수 있다.As the alkoxy group in the formulas (1) and (2), an alkoxy group having 1 to 20 carbon atoms, 1 to 16 carbon atoms, 1 to 12 carbon atoms, 1 to 8 carbon atoms, or 1 to 4 carbon atoms may be exemplified. The alkoxy group may be linear, branched or cyclic. In addition, the alkoxy group may be optionally substituted by one or more substituents.

또한, 화학식 1 및 2에서 알킬렌기 또는 알킬리덴기로는, 탄소수 1 내지 12, 탄소수 4 내지 10 또는 탄소수 6 내지 9의 알킬렌기 또는 알킬리덴기가 예시될 수 있다. 알킬렌기 또는 알킬리덴기는, 직쇄, 분지쇄 또는 고리형일 수 있다. 알킬렌기 또는 알킬리덴기는 임의적으로 하나 이상의 치환기에 의해 치환될 수 있다.In addition, as the alkylene group or the alkylidene group in the general formula (1) and (2), an alkylene group or alkylidene group having 1 to 12 carbon atoms, 4 to 10 carbon atoms or 6 to 9 carbon atoms may be exemplified. The alkylene group or alkylidene group may be linear, branched or cyclic. The alkylene group or alkylidene group may be optionally substituted by one or more substituents.

또한, 화학식 1 및 2에서 알케닐기로는, 탄소수 2 내지 20, 탄소수 2 내지 16, 탄소수 2 내지 12, 탄소수 2 내지 8 또는 탄소수 2 내지 4의 알케닐기가 예시될 수 있다. 상기 알케닐기는, 직쇄, 분지쇄 또는 고리형일 수 있다. 또한, 상기 알케닐기는 임의적으로 하나 이상의 치환기에 의해 치환될 수 있다.In addition, as the alkenyl group in Chemical Formulas 1 and 2, an alkenyl group having 2 to 20 carbon atoms, 2 to 16 carbon atoms, 2 to 12 carbon atoms, 2 to 8 carbon atoms, or 2 to 4 carbon atoms may be exemplified. The alkenyl group may be linear, branched or cyclic. In addition, the alkenyl group may be optionally substituted with one or more substituents.

상기에서 알킬기, 알콕시기, 알케닐기, 알킬렌기 또는 알킬리덴기에 치환되어 있을 수 있는 치환기로는, 알킬기, 알콕시기, 알케닐기, 에폭시기, 시아노기, 카복실기, 아크릴로일기, 메타크릴로일기, 아크릴로일옥시기, 메타크릴로일옥시기 또는 아릴기 등이 예시될 수 있으나, 이에 제한되는 것은 아니다.Examples of the substituent that may be substituted with an alkyl group, alkoxy group, alkenyl group, alkylene group or alkylidene group include alkyl, alkoxy, alkenyl, epoxy, cyano, carboxyl, acryloyl, methacryloyl, Acryloyloxy group, methacryloyloxy group or an aryl group may be exemplified, but is not limited thereto.

또한, 화학식 1 및 2에서 P는 아크릴로일기, 메타크릴로일기, 아크릴로일옥시기 또는 메타크릴로일옥시기이거나, 아크릴로일옥시기 또는 메타크릴로일옥시기일 수 있으며, 다른 예시에서는 아크릴로일옥시기일 수 있다.In Formulas 1 and 2, P may be an acryloyl group, methacryloyl group, acryloyloxy group or methacryloyloxy group, may be an acryloyloxy group or methacryloyloxy group, in another example acryloyl jade It can be a season.

화학식 1 및 2에서 적어도 하나 이상 존재할 수 있는 -O-Q-P 또는 화학식 2의 잔기는, 예를 들면, R₃, R₈ 또는 R₁₃의 위치에 존재할 수 있고, 예를 들면, 상기는 1개 또는 2개가 존재할 수 있다. 또한, 상기 화학식 1의 화합물 또는 화학식 2의 잔기에서 -O-Q-P 또는 화학식 2의 잔기 이외의 치환기는 예를 들면, 수소, 할로겐, 탄소수 1 내지 4의 직쇄 또는 분지쇄의 알킬기, 탄소수 4 내지 12의 시클로알킬기, 시아노기, 탄소수 1 내지 4의 알콕시기, 시아노기 또는 니트로기일 수 있으며, 바람직하게는 염소, 탄소수 1 내지 4의 직쇄 또는 분지쇄의 알킬기, 탄소수 4 내지 12의 시클로알킬기, 탄소수 1 내지 4의 알콕시기 또는 시아노기일 수 있다.At least one of -OQP or residues of formula (2), which may be present in Formulas (1) and (2), may be, for example, at a position of R ₃ , R _8, or R ₁₃ , for example one or two May exist. Further, in the compound of Formula 1 or the residue of Formula 2, a substituent other than -OQP or the residue of Formula 2 is, for example, hydrogen, halogen, a straight or branched chain alkyl group having 1 to 4 carbon atoms, and a cycloalkyl having 4 to 12 carbon atoms. It may be an alkyl group, a cyano group, an alkoxy group having 1 to 4 carbon atoms, a cyano group or a nitro group, preferably chlorine, a straight or branched chain alkyl group having 1 to 4 carbon atoms, a cycloalkyl group having 4 to 12 carbon atoms, and 1 to 4 carbon atoms. It may be an alkoxy group or cyano group.

CLC층에 포함될 수 있는 키랄제(chiral agent)로는, 액정성, 예를 들면, 네마틱 규칙성을 손상시키지 않고, 목적하는 나선 피치를 유발할 수 있는 것이라면, 특별히 제한되지 않고 사용될 수 있다. 액정에 나선 피치를 유발하기 위한 키랄제는 분자 구조 중에 키랄리티(chirality)를 적어도 포함할 필요가 있다. 키랄제로는, 예를 들면, 1개 또는 2개 이상의 비대칭 탄소(asymmetric carbon)를 가지는 화합물, 키랄 아민 또는 키랄 술폭시드 등의 헤테로원자 상에 비대칭점(asymmetric point)이 있는 화합물 또는 크물렌(cumulene) 또는 비나프톨(binaphthol) 등의 축부제를 가지는 광학 활성인 부위(axially asymmetric, optically active site)를 가지는 화합물이 예시될 수 있다. 키랄제는 예를 들면 분자량이 1,500 이하인 저분자 화합물일 수 있다. 키랄제로는, 시판되는 키랄 네마틱 액정, 예를 들면, Merck사에서 시판되는 키랄 도판트 액정 S-811 또는 BASF사의 LC756 등을 사용할 수도 있다As the chiral agent that can be included in the CLC layer, any one that can cause a desired spiral pitch without impairing liquid crystallinity, for example nematic regularity, can be used without particular limitation. The chiral agent for causing the spiral pitch in the liquid crystal needs to include at least chirality in the molecular structure. As the chiral agent, for example, compounds having one or two or more asymmetric carbons, compounds having asymmetric points on heteroatoms such as chiral amines or chiral sulfoxides, or cumulene Or a compound having an axially asymmetric, optically active site with an axial agent such as binaphthol. The chiral agent may be, for example, a low molecular weight compound having a molecular weight of 1,500 or less. As the chiral agent, a commercially available chiral nematic liquid crystal, for example, a chiral dopant liquid crystal S-811 commercially available from Merck or LC756 of BASF may be used.

CLC층은, 예를 들면, 3 ㎛ 내지 8 ㎛ 또는 4 ㎛ 내지 6 ㎛의 두께를 가질 수 있다. CLC층의 두께를 상기 범위로 제어하여, 광대역 CLC층을 효과적으로 구현하고, 필요에 따라서 전술한 호메오트로픽 또는 포컬 코닉 배항된 CLC 영역을 효과적으로 형성할 수 있다.The CLC layer may have a thickness of, for example, 3 μm to 8 μm or 4 μm to 6 μm. By controlling the thickness of the CLC layer in the above range, it is possible to effectively implement a wideband CLC layer, and to effectively form the aforementioned homeotropic or focal conic circulated CLC region as necessary.

광학 필름은, 상기 액정층상에 존재하고, 헤이즈가 40% 내지 60%인 헤이즈층을 포함할 수 있다. 도 4는, 예시적인 광학 필름(400)의 모식도로서 액정층(401) 및 그 상부에 헤이즈층(402)을 포함하는 경우를 나타내고 있다. 도 4에서는, 액정층(401)의 상부에 헤이즈층(402)이 직접 형성되어 있는 경우가 예시되어 있으나, 헤이즈층(402)과 액정층(401)의 사이에는 다른 층, 예를 들면, 후술하는 1/4 파장층, 배향층, 점착층 또는 접착층이 존재하고 있을 수 있다.The optical film is present on the liquid crystal layer and may include a haze layer having a haze of 40% to 60%. 4 is a schematic diagram of an exemplary optical film 400, and illustrates a case where the liquid crystal layer 401 and the haze layer 402 are included thereon. In FIG. 4, the case in which the haze layer 402 is directly formed on the liquid crystal layer 401 is illustrated, but another layer is formed between the haze layer 402 and the liquid crystal layer 401, for example, later. The quarter wave layer, the alignment layer, the adhesive layer, or the adhesive layer may be present.

헤이즈층은, 광학 필름이 적용되는 용도에 따라서 가장 적합한 효과를 발휘하도록 할 수 있다. 예를 들어, 광학 필름이 후술하는 바와 같이 반사형 편광판에 포함되면, 상기 헤이즈층은, 상기 편광판을 포함하는 디스플레이 장치의 색특성, 특히 측면에서의 색반전과 같은 색감의 변화가 방지되도록 할 수 있다. 또한, 상기 헤이즈층은, 광을 적절하게 산란 및/또는 확산시켜 디스플레이 장치의 휘도를 향상시킬 수 있다. 또한, 상기 헤이즈층에 의해 광학 필름은 광원의 색좌표를 효과적으로 재현할 수 있다. 상기 헤이즈층의 헤이즈는, 예를 들면, 세풍사의 HR-100 또는 HM-150 등과 같은 헤이즈미터(hazemeter)를 사용하여 제조사의 매뉴얼에 따라 측정할 수 있다. The haze layer can be made to exhibit the most suitable effect according to the use to which an optical film is applied. For example, when the optical film is included in the reflective polarizing plate as described below, the haze layer can prevent the change in color characteristics of the display device including the polarizing plate, especially color change such as color inversion at the side surface. have. In addition, the haze layer may improve the brightness of the display device by properly scattering and / or diffusing light. In addition, the haze layer enables the optical film to effectively reproduce the color coordinates of the light source. The haze of the haze layer may be measured according to a manufacturer's manual using a hazemeter such as SEPONG's HR-100 or HM-150.

상기 액정층에서 상기 헤이즈층의 구체적인 종류는 상기 범위의 헤이즈를 나타내는 한 특별히 제한되지 않는다. 즉, 본 명세서에서 용어 헤이즈층에는 광학 필름에 적절한 헤이즈를 부여할 수 있는 공지된 모든 층이 포함될 수 있다.The specific kind of the haze layer in the liquid crystal layer is not particularly limited as long as the haze in the above range is indicated. In other words, the term haze layer herein may include any known layer capable of imparting appropriate haze to the optical film.

하나의 예시에서 헤이즈층은, 입자를 포함하는 수지층일 수 있다. 상기에서 입자는 수지층과 상이한 굴절률을 가질 수 있다. 굴절률이 상이한 입자를 포함하는 수지층은, 입사되는 광을 산란 및/또는 확산시켜서 광학 필름의 헤이즈를 부여할 수 있다. 이러한 수지층은, 예를 들면 적절한 필름 또는 시트상에 형성되어 있을 수 있다. 도 5는 예시적인 광학 필름(500)의 단면도이고, 도 4의 헤이즈층(402)으로서, 필름 또는 시트(501) 및 그 일면에 형성된 수지층(502)을 사용한 경우를 나타낸다. 상기에서 필름 또는 시트로는, 예를 들면, 후술하는 기재층에 사용되는 플라스틱 기재층 중에서 적절한 종류가 선택 및 사용될 수 있다.In one example, the haze layer may be a resin layer including particles. In the above, the particles may have a refractive index different from that of the resin layer. The resin layer containing particles having different refractive indices can scatter and / or diffuse incident light to impart haze of the optical film. Such a resin layer may be formed, for example on a suitable film or sheet. FIG. 5 is a cross-sectional view of an exemplary optical film 500 and shows a case where the film or sheet 501 and the resin layer 502 formed on one surface thereof are used as the haze layer 402 of FIG. 4. As the film or sheet in the above, an appropriate kind may be selected and used, for example, from the plastic base layer used in the base layer described later.

하나의 예시에서 상기 수지층은, 상온경화형, 습기경화형, 열경화형, 활성 에너지선 경화형 또는 혼성 경화형 조성물을 경화된 상태로 포함할 수 있다. 용어 「경화된 상태」란, 조성물에 포함되는 성분들이 가교 반응 또는 중합 반응 등을 거친 후의 상태를 의미할 수 있다. 또한, 상기 상온경화형, 습기경화형, 열경화형, 활성 에너지선 경화형 또는 혼성 경화형 조성물은, 상기 경화된 상태가 각각 상온 또는 습기의 존재 하, 열 또는 활성 에너지선의 조사에 의하여 유도되거나, 또는 상기 중 2개 이상의 메커니즘이 동시 또는 순차로 작용하여 경화되는 조성물을 의미할 수 있다. 또한, 상기에서 활성 에너지선은, 예를 들면, 자외선 또는 전자선 등과 같은 전자기파를 의미할 수 있다. In one example, the resin layer may include a room temperature curing type, a moisture curing type, a thermosetting type, an active energy ray curing type, or a hybrid curing type composition in a cured state. The term "cured state" may mean a state after the components contained in the composition undergo a crosslinking reaction, a polymerization reaction, or the like. In addition, the room temperature curing type, moisture curing type, thermosetting type, active energy ray curable type or hybrid curing type composition, the cured state is induced by irradiation of heat or active energy ray in the presence of room temperature or moisture, respectively, or 2 By more than one mechanism may mean a composition that acts simultaneously or sequentially to cure. In addition, the active energy ray may mean, for example, electromagnetic waves such as ultraviolet rays or electron beams.

상기 조성물은, 아크릴 화합물, 에폭시 화합물, 우레탄 화합물, 페놀 화합물 또는 폴리에스테르 화합물 등을 포함할 수 있다. 상기 「화합물」은, 단량체성, 올리고머성 또는 중합체성 화합물일 수 있다. 이러한 경우, 상기 수지층은, 바인더로서, 아크릴 수지, 에폭시 수지, 우레탄 수지, 페놀 수지 또는 폴리에스테르를 포함할 수 있다.The composition may include an acrylic compound, an epoxy compound, a urethane compound, a phenol compound or a polyester compound. The "compound" may be a monomeric, oligomeric or polymeric compound. In this case, the resin layer may include an acrylic resin, an epoxy resin, a urethane resin, a phenol resin, or a polyester as a binder.

하나의 예시에서는, 상기 수지층은, 투명성 등의 광학 특성이 우수하고, 황변 등에 대한 저항성이 있는 아크릴 조성물, 예를 들면 활성에너지선 경화형 아크릴 조성물을 경화된 상태로 포함할 수 있다. In one example, the resin layer may include an acrylic composition having excellent optical properties such as transparency and resistance to yellowing, for example, an active energy ray-curable acrylic composition, in a cured state.

활성 에너지선 경화형 아크릴 조성물은, 예를 들면, 활성 에너지선 중합성의 중합체 성분과 반응성 희석용 단량체를 포함할 수 있다. The active energy ray-curable acrylic composition may include, for example, an active energy ray polymerizable polymer component and a monomer for reactive dilution.

상기 중합체 성분으로는, 우레탄 아크레이트, 에폭시 아크릴레이트, 에테르 아크릴레이트 또는 에스테르 아크릴레이트 등과 같이 업계에서 소위 광중합성 올리고머로 알려진 성분이나, 또는 (메타)아크릴산 에스테르 단량체 등과 같은 단량체를 포함하는 혼합물의 중합물이 예시될 수 있다. 상기에서 (메타)아크릴산 에스테르 단량체로는, 알킬 (메타)아크릴레이트, 방향족기를 가지는 (메타)아크릴레이트, 헤테로시클릭 (메타)아크릴레이트 또는 알콕시 (메타)아크릴레이트 등이 예시될 수 있다. 이 분야야서는 활성 에너지선 경화형 조성물을 제조하기 위한 다양한 중합체 성분이 알려져 있으며, 상기와 같은 화합물이 필요에 따라서 선택될 수 있다. The polymer component may be a polymer of a mixture including a component known in the art as a so-called photopolymerizable oligomer such as urethane acrylate, epoxy acrylate, ether acrylate or ester acrylate, or a monomer such as (meth) acrylic acid ester monomer or the like. This can be illustrated. As the (meth) acrylic acid ester monomer, alkyl (meth) acrylate, (meth) acrylate having an aromatic group, heterocyclic (meth) acrylate or alkoxy (meth) acrylate and the like can be exemplified. In this field, various polymer components for producing an active energy ray-curable composition are known, and such compounds may be selected as necessary.

활성 에너지선 경화형 아크릴 조성물에 포함될 수 있는, 반응성 희석용 단량체로는, 활성 에너지선 경화형 관능기, 예를 들면, 아크릴로일기 또는 메타크릴로일기 등을 하나 또는 두 개 이상 가지는 단량체가 예시될 수 있고, 예를 들면, 상기 (메타)아크릴산 에스테르 단량체나 다관능성 아크릴레이트 등이 사용될 수 있다. As the monomer for reactive dilution, which may be included in the active energy ray-curable acrylic composition, a monomer having one or two or more active energy ray-curable functional groups, for example, acryloyl group or methacryloyl group, may be exemplified. For example, the (meth) acrylic acid ester monomer or polyfunctional acrylate may be used.

활성 에너지선 경화형 아크릴 조성물을 제조하기 위한 상기 성분의 선택이나 선택된 성분의 배합 비율 등은 특별히 제한되지 않고, 목적하는 수지층의 경도 및 기타 물성을 고려하여 조절될 수 있다.The selection of the above components or the blending ratio of the selected components for producing the active energy ray-curable acrylic composition is not particularly limited and may be adjusted in consideration of the hardness and other physical properties of the desired resin layer.

하나의 예시에서 수지층에 포함되는 입자는, 수지층과는 상이한 굴절률을 가질 수 있다. 상기 입자는, 예를 들면, 수지층과의 굴절률의 차이가 0.03 이하 또는 0.02 내지 0.2일 수 있다. 굴절률의 차이가 지나치게 작으면, 헤이즈를 유발하기 어렵고, 반대로 지나치게 크게 되면, 수지층 내에서의 산란이 많이 발생하여, 헤이즈를 증가시키지만, 광투과도 또는 콘트라스트 특성 등의 저하가 유도될 수 있으므로, 이를 고려하여 적절한 입자를 선택할 수 있다. In one example, the particles included in the resin layer may have a refractive index different from that of the resin layer. For example, the particles may have a difference in refractive index from the resin layer of 0.03 or less or 0.02 to 0.2. If the difference in the refractive index is too small, it is difficult to cause haze, and if the difference is too large, scattering occurs in the resin layer to increase the haze, but a decrease in light transmittance or contrast characteristics may be induced. Consideration can be given to selecting appropriate particles.

수지층에 포함되는 입자의 형상은 특별히 제한되지 않고, 예를 들면, 구형, 타원형, 다면체형, 무정형 또는 기타 다른 형상을 가질 수 있다. 상기 입자는, 평균 직경이 50 nm 내지 5,000 nm일 수 있다. 하나의 예시에서는, 상기 입자로서, 표면에 요철이 형성되어 있는 입자를 사용할 수 있다. 이러한 입자는, 예를 들면, 평균 표면 거칠기(Rz)가 10 nm 내지 50 nm 또는 20 nm 내지 40 nm이거나, 및/또는 표면에 형성된 요철의 최대 높이가 약 100 nm 내지 500 nm 또는 200 nm 내지 400 nm이고, 요철간의 폭이 400 nm 내지 1,200 nm 또는 600 nm 내지 1,000 nm일 수 있다. 이러한 입자는, 수지층과의 상용성이나 그 내부에서의 분산성이 우수하다. The shape of the particles contained in the resin layer is not particularly limited and may have, for example, spherical, elliptical, polyhedral, amorphous or other shapes. The particles may have an average diameter of 50 nm to 5,000 nm. In one example, the particle | grains in which the unevenness | corrugation is formed in the surface can be used as said particle | grain. Such particles may, for example, have an average surface roughness Rz of 10 nm to 50 nm or 20 nm to 40 nm, and / or a maximum height of irregularities formed on the surface of about 100 nm to 500 nm or 200 nm to 400 nm, and the width of the unevenness may be 400 nm to 1,200 nm or 600 nm to 1,000 nm. Such particles are excellent in compatibility with the resin layer or dispersibility therein.

상기 입자로는, 다양한 무기 또는 유기 입자가 예시될 수 있다. 무기 입자로는, 실리카, 비결정질 티타니아, 비결정질 지르코니아, 인듐 옥시드, 알루미나, 비결정질 아연 옥시드, 비결정질 세륨 옥시드, 바륨 옥시드, 칼슘 카보네이트, 비결정질 바륨 티타네이트 또는 바륨 설페이트 등이 예시될 수 있고, 유기 입자로는, 아크릴 수지, 스티렌 수지, 우레탄 수지, 멜라민 수지, 벤조구아나민 수지, 에폭시 수지 또는 실리콘 수지 등의 유기계 소재의 가교물 또는 비가교물을 포함하는 입자가 예시될 수 있으나, 이에 제한되는 것은 아니다. As the particles, various inorganic or organic particles can be exemplified. Examples of the inorganic particles include silica, amorphous titania, amorphous zirconia, indium oxide, alumina, amorphous zinc oxide, amorphous cerium oxide, barium oxide, calcium carbonate, amorphous barium titanate or barium sulfate, and the like. Examples of the organic particles may include particles including a crosslinked or non-crosslinked material of an organic material such as an acrylic resin, a styrene resin, a urethane resin, a melamine resin, a benzoguanamine resin, an epoxy resin, or a silicone resin, but are not limited thereto. It is not.

수지층 내에서 상기 입자의 함량은 특별히 제한되지 않는다. 예를 들면, 광학 필름이 전술한 헤이즈를 나타낼 수 있는 범위에서 상기 입자의 함량은 결정될 수 있다. The content of the particles in the resin layer is not particularly limited. For example, the content of the particles can be determined in the range in which the optical film can exhibit the above-mentioned haze.

상기 수지층은, 필요에 따라서 중합 개시제, 자외선 차단제 또는 흡수제, 대전 방지제 또는 분산제 등의 첨가제를 추가로 포함할 수 있다.The said resin layer may further contain additives, such as a polymerization initiator, a sunscreen or an absorber, an antistatic agent, or a dispersing agent, as needed.

하나의 예시에서 광학 필름은, 기재층을 추가로 포함하고, CLC층이 상기 기재층의 일면에 형성되어 있을 수 있다. 광학 필름이 기재층을 추가로 포함하고, CLC층이 상기 기재층의 일면에 형성될 때, 예를 들면, 상기 기술한 바와 같이 CLC층의 하나의 주표면측에는 반사광의 중심 파장이 가시 광선의 적색광 영역에 속하는 CLC 영역이 배치되고, 다른 주표면측에는 반사광의 중심 파장이 청색광 영역에 속하는 CLC 영역이 배치되면서, 각 CLC 영역의 반사광의 중심 파장이 CLC층의 두께 방향을 따라서 순차적으로 변화하도록 CLC 영역들이 배치되어 있는 형태라면, 상기 기재층과 접하는 CLC층의 주표면측에는 상기 반사광의 중심 파장이 적색광 영역에 속하는 CLC 영역 또는 청색광 영역에 속하는 CLC 영역이 배치될 수 있다. 다른 예시에서는 상기 기재층과 접하는 CLC층의 주표면측에는 상기 반사광의 중심 파장이 적색광 영역에 속하는 CLC 영역이 형성되어 있을 수 있다. In one example, the optical film may further include a base layer, and a CLC layer may be formed on one surface of the base layer. When the optical film further includes a base layer and the CLC layer is formed on one surface of the base layer, for example, as described above, the central wavelength of the reflected light is the red light of the visible light on one main surface side of the CLC layer. The CLC region belonging to the region is arranged, and the CLC region in which the central wavelength of the reflected light belongs to the blue light region is arranged on the other main surface side, so that the center wavelength of the reflected light of each CLC region changes sequentially along the thickness direction of the CLC layer. In this case, the CLC region belonging to the red light region or the CLC region belonging to the blue light region may be disposed on the main surface side of the CLC layer in contact with the base layer. In another example, a CLC region in which the central wavelength of the reflected light belongs to the red light region may be formed on the main surface side of the CLC layer in contact with the base layer.

도 6은, 예시적인 광학 필름(600)을 나타내는 단면도이고, 기재층(601)의 하나의 주표면에 CLC층(401)이 형성되어 있고, 그 상부에는 헤이즈층(402)이 형성되어 있는 경우를 나타낸다. FIG. 6: is sectional drawing which shows the exemplary optical film 600, when the CLC layer 401 is formed in one main surface of the base material layer 601, and the haze layer 402 is formed in the upper part. Indicates.

하나의 예시에서 호메오트로픽 또는 포컬 코닉 배향된 CLC 영역들을 형성시키기 위하여, 기재층의 CLC층이 형성되는 면은 친수성일 수 있다. 하나의 예시에서 기재층의 CLC층이 형성되는 면은, 물에 대한 젖음각(wetting angle)이 0도 내지 50도, 0도 내지 40도, 0도 내지 30도, 0도 내지 20도 또는 0도 내지 10도이거나, 10도 내지 50도, 20도 내지 50도, 30도 내지 50도 정도일 수 있다. 이러한 범위의 젖음각을 가지는 기재층의 면에 CLC층을 형성하면, 호메오트로픽 또는 포컬 코닉 배향된 CLC 영역들을 적절하게 형성할 수 있다. 상기에서 기재층의 물에 대한 젖음각을 측정하는 방식은 특별히 제한되지 않고, 이 분야에서 공지되어 있는 젖음각의 측정 방식을 사용할 수 있으며, 예를 들면, KRUSS사제의 DSA100 기기를 사용하여, 제조사의 매뉴얼에 따라 측정할 수 있다.In one example, to form homeotropic or focal conic oriented CLC regions, the side on which the CLC layer of the substrate layer is formed may be hydrophilic. In one example, the surface on which the CLC layer of the base layer is formed may have a wetting angle of water of 0 degrees to 50 degrees, 0 degrees to 40 degrees, 0 degrees to 30 degrees, 0 degrees to 20 degrees, or 0. It may be 10 degrees to 10 degrees, 10 degrees to 50 degrees, 20 degrees to 50 degrees, 30 degrees to 50 degrees. If the CLC layer is formed on the surface of the base layer having the wet angle in this range, homeotropic or focal conic oriented CLC regions can be appropriately formed. The method of measuring the wet angle with respect to the water of the base layer in the above is not particularly limited, it is possible to use a known wet angle measuring method in this field, for example, using a DSA100 device manufactured by KRUSS, Can be measured according to the manual.

기재층이 상기 젖음각을 가지도록 하기 위해서는, 기재층의 면에 친수화 처리를 수행하거나, 또는 기재층으로서 친수성 관능기를 포함하는 기재층을 사용하면 된다. 이 분야에서는 기재층의 젖음각을 상기 범위로 제어할 수 있는 다양한 친수화 처리 방식이나, 상기와 같은 젖음각을 가지는 기재층이 다양하게 공지되어 있다. 친수화 처리로는, 코로나 처리, 플라즈마 처리 또는 알칼리 처리 등이 예시될 수 있다. 따라서, 하나의 예시에서 상기 기재층의 면에는 코로나 처리층, 플라즈마 처리층 또는 알칼리 처리층이 형성되어 있을 수 있다. In order for a base material layer to have the said wetting angle, hydrophilization may be performed to the surface of a base material layer, or the base material layer containing a hydrophilic functional group may be used as a base material layer. In this field, various hydrophilic treatment methods capable of controlling the wetting angle of the base layer in the above range, and various base layers having the same wetting angle are known. As the hydrophilization treatment, corona treatment, plasma treatment or alkali treatment can be exemplified. Therefore, in one example, the corona treatment layer, the plasma treatment layer, or the alkali treatment layer may be formed on the surface of the substrate layer.

기재층으로는 다양한 종류의 기재층이 사용될 수 있다. 하나의 예시에서 상기 기재층은, 광학적 등방성 기재층, 위상지연층(retardation layer) 등과 같이 광학적 이방성 기재층 또는 편광 소자 등이 사용될 수 있다.As the substrate layer, various kinds of substrate layers may be used. In one example, the substrate layer may be an optically anisotropic substrate layer or a polarizer such as an optically isotropic substrate layer, a retardation layer, or the like.

광학적 등방성 기재층으로는, 유리 또는 투명 플라스틱 기재층 등과 같은 투명 기재층이 사용될 수 있다. 플라스틱 기재층으로는, DAC(diacetyl cellulose) 또는 TAC(triacetyl cellulose) 기재층과 같은 셀룰로오스 기재층; 노르보르넨 유도체 수지 기재층 등의 COP(cyclo olefin copolymer) 기재층; PMMA(poly(methyl methacrylate) 기재층 등의 아크릴 기재층; PC(polycarbonate) 기재층; PE(polyethylene) 또는 PP(polypropylene) 기재층 등과 같은 올레핀 기재층; PVA(polyvinyl alcohol) 기재층; PES(poly ether sulfone) 기재층; PEEK(polyetheretherketone) 기재층; PEI(polyetherimide) 기재층; PEN(polyethylenenaphthatlate) 기재층; PET(polyethyleneterephtalate) 기재층 등과 같은 폴리에스테르 기재층; PI(polyimide) 기재층; PSF(polysulfone) 기재층; PAR(polyarylate) 기재층 또는 플루오르수지 기재층 등이 예시될 수 있다. 상기 기재층은 예를 들면, 시트 또는 필름 형상일 수 있다.As the optically isotropic substrate layer, a transparent substrate layer such as glass or transparent plastic substrate layer can be used. Examples of the plastic base layer include a cellulose base layer such as a diacetyl cellulose (DAC) or a triacetyl cellulose (TAC) base layer; COP (cyclo olefin copolymer) base layers, such as a norbornene derivative resin base layer; An acrylic base layer such as a poly (methyl methacrylate) base layer; a polycarbonate (PC) base layer; an olefin base layer such as a polyethylene (PE) or polypropylene (PP) base layer; a polyvinyl alcohol (PVA) base layer; ether sulfone (PET) base layer; PEEK (polyetheretherketone) base layer; PEI (polyetherimide) base layer; PEN (polyethylenenaphthatlate) base layer; polyester base layer such as PET (polyethyleneterephtalate) base layer; PI (polyimide) base layer; PSF (polysulfone) A substrate layer, a PAR (polyarylate) substrate layer or a fluororesin substrate layer, etc. The substrate layer may be, for example, in the form of a sheet or film.

광학적 이방성 기재층, 예를 들면, 위상 지연층으로는, 예를 들면, 1/4 파장층 또는 1/2 파장층 등이 사용될 수 있다. 본 명세서에서 용어 「1/4 파장층」은, 입사되는 광을 그 파장의 1/4배만큼 위상 지연시킬 수 있는 위상 지연 소자를 의미하고, 「1/2 파장층」은, 입사되는 광을 그 파장의 1/2배만큼 위상 지연시킬 수 있는 위상 지연 소자를 의미할 수 있다. 이러한 위상 지연층은, 중합성 액정 화합물을 배향 및 중합시켜서 형성된 액정 고분자층이거나, 연신 또는 수축 공정 등에 의하여 복굴절성을 부여한 플라스틱 필름일 수 있다. As the optically anisotropic base layer, for example, the phase retardation layer, for example, a quarter wave layer or a half wave layer may be used. As used herein, the term "1/4 wavelength layer" means a phase retardation element capable of retarding incident light by 1/4 times its wavelength, and "1/2 wavelength layer" refers to incident light. It can mean a phase delay element capable of delaying the phase by 1/2 of the wavelength. Such a phase retardation layer may be a liquid crystal polymer layer formed by orienting and polymerizing a polymerizable liquid crystal compound, or may be a plastic film provided with birefringence by a stretching or shrinking process or the like.

편광 소자로는, 이 분야에서 공지되어 있는 통상적인 소자가 사용될 수 있다. 예를 들면, 상기 편광 소자는, 폴리비닐알코올 수지에 이색성 색소 등을 흡착 및 배향시켜서 제조되는 소자가 사용될 수 있다.As the polarizing element, conventional elements known in the art may be used. For example, an element manufactured by adsorbing and orienting a dichroic dye or the like to a polyvinyl alcohol resin may be used as the polarizing element.

상기 기재층에는, 필요에 따라서 저반사 처리, 반사 방지 처리, 눈부심 방지 처리 및/또는 고해상도 방현 처리 등과 같은 다양한 표면 처리가 수행되어 있을 수 있다. The substrate layer may be subjected to various surface treatments such as a low reflection treatment, an antireflection treatment, an antiglare treatment, and / or a high resolution antiglare treatment, as necessary.

광학 필름은, 또한 배향층을 추가로 포함할 수 있다. 용어 「배향층」은, CLC층이 형성되는 과정에서 정렬 균일성을 개선 또는 제공하거나, 액정의 도파기의 정렬을 생성하는 표면 정렬 특성을 나타내는 층을 의미할 수 있다. 배향층은, 예를 들면, 패턴화되어 있는 복수의 홈 영역을 제공하는 수지막, 광배향층 또는 러빙 처리되어 있는 폴리이미드 등과 같은 러빙 처리막 등일 수 있다. 배향층은 예를 들면, 광학 필름이 도 6에 나타난 바와 같은 기재층(601)을 포함하는 경우에는 상기 기재층(601)의 표면, 예를 들면, 기재층(601)와 CLC층(401)의 사이에 형성될 수 있다. 경우에 따라서는, 별도의 배향층을 형성하지 않고, 기재층을 단순히 러빙 또는 연신하거나, 그 표면에 친수성을 부여함으로써 기재층에 배향성을 부여하는 방식을 사용할 수도 있다. 예를 들어, 기재층이 상기 범위의 젖음각을 가진다면, 배향층이 없이도 상기 기재층은, CLC의 배향이나 CLC 영역의 나선축의 위치를 목적하는 범위로 제어할 수 있는 특성을 나타낼 수도 있다. The optical film may further include an alignment layer. The term "alignment layer" may refer to a layer exhibiting surface alignment characteristics that improve or provide alignment uniformity in the process of forming the CLC layer, or generate alignment of the waveguide of the liquid crystal. The alignment layer may be, for example, a resin film that provides a plurality of patterned groove regions, a photo alignment layer, or a rubbing treatment film such as a rubbing treatment polyimide. The alignment layer is, for example, when the optical film includes the base layer 601 as shown in FIG. 6, the surface of the base layer 601, for example, the base layer 601 and the CLC layer 401. It can be formed between. In some cases, a method of imparting orientation to the substrate layer may be used by simply rubbing or stretching the substrate layer or providing hydrophilicity to the surface thereof without forming a separate alignment layer. For example, if the base material layer has a wet angle in the above range, the base material layer may exhibit a property that can control the orientation of the CLC and the position of the spiral axis of the CLC region in a desired range without the alignment layer.

광학 필름은 또한 CLC층과 헤이즈층의 사이에 1/4 파장층을 추가로 포함할 수 있다. 도 7은, CLC층(401)과 헤이즈층(402)의 사이에 1/4 파장층(701)을 추가로 포함하는 예시적인 광학 필름(700)의 모식도이다.The optical film may also further comprise a quarter wave layer between the CLC layer and the haze layer. FIG. 7 is a schematic diagram of an exemplary optical film 700 further including a quarter wave layer 701 between the CLC layer 401 and the haze layer 402.

1/4 파장층으로는, 예를 들면, 고분자 필름 또는 액정 필름이 사용될 수 있고, 상기는 단층 또는 다층 구조일 수 있다. 고분자 필름으로는, PC(polycarbonate), 노르보넨 수지(norbonene resin), PVA(poly(vinyl alcohol)), PS(polystyrene), PMMA(poly(methyl methacrylate)), PP(polypropylene) 등의 폴리올레핀, Par(poly(arylate)), PA(polyamide), PET(poly(ethylene terephthalate)) 또는 PS(polysulfone) 등을 포함하는 필름을 사용할 수 있다. 상기 고분자 필름을 적절한 조건에서 연신 또는 수축 처리하여 복굴절성을 부여하여 상기 1/4 파장층으로 사용할 수 있다. As the quarter wave layer, for example, a polymer film or a liquid crystal film may be used, and the above may have a single layer or a multilayer structure. Examples of the polymer film include polyolefins such as PC (polycarbonate), norbonene resin (PVA), poly (vinyl alcohol), PS (polystyrene), PMMA (poly (methyl methacrylate)), PP (polypropylene), Par (poly (arylate)), PA (polyamide), PET (poly (ethylene terephthalate)) or a film containing a PS (polysulfone) and the like can be used. The polymer film may be stretched or shrunk under appropriate conditions to impart birefringence to be used as the quarter wavelength layer.

다른 예시에서 1/4 파장층으로는, 액정 필름이 사용될 수 있다. 층일 수 있다. 1/4 파장층이 액정 필름인 경우에 광학 필름은, 상기 액정 필름을 형성하는 액정 화합물을 배향시키는 배향층을 추가로 포함할 수 있다. 예를 들어, 도 7의 경우, 1/4 파장층(701)과 헤이즈층(402)의 사이에 배향층이 추가로 형성되어 있을 수 있다. 이 분야에서는 1/4 파장층으로 작용할 수 있는 액정 필름 및 배향층이 다양하게 공지되어 있으며, 이러한 요소들은 상기 광학 필름에서 모두 사용될 수 있다.In another example, a liquid crystal film may be used as the quarter wavelength layer. It may be a layer. When a quarter wavelength layer is a liquid crystal film, an optical film may further contain the orientation layer which orientates the liquid crystal compound which forms the said liquid crystal film. For example, in FIG. 7, an alignment layer may be further formed between the quarter wave layer 701 and the haze layer 402. There are various known liquid crystal films and alignment layers in the art which can act as quarter wave layers, and these elements can all be used in the optical film.

하나의 예시에서 1/4 파장층인 액정 필름은, Merk사의 RM(Reactive Mesogen) 또는 BASF사의 LC242 등과 같은 중합성 액정 화합물을 배향 및 중합시켜서 형성할 수 있다. 또한, 상기 배향층으로는, 예를 들면, 광배향층 또는 러빙 배향층 등과 같은 공지의 배향층이 사용될 수 있다.In one example, the liquid crystal film having a quarter wavelength layer may be formed by orienting and polymerizing a polymerizable liquid crystal compound such as Merk's RM (Reactive Mesogen) or BASF's LC242. As the alignment layer, for example, a known alignment layer such as a photo alignment layer or a rubbing alignment layer may be used.

본 출원은, 또한 광학 필름의 제조 방법에 관한 것이다. 상기 제조 방법은, 반사광의 중심 파장이 서로 상이한 2 종류 이상의 CLC 영역을 포함하는 CLC층상에 헤이즈가 40% 내지 60%인 헤이즈층을 형성하는 것을 포함할 수 있다. The present application also relates to a method for producing an optical film. The manufacturing method may include forming a haze layer having a haze of 40% to 60% on a CLC layer including two or more types of CLC regions having different center wavelengths of reflected light.

하나의 예시에서, CLC층의 형성은 중합성 액정 화합물, 예를 들면, 상기 화학식 1의 화합물 및 키랄제를 포함하는 CLC 조성물을 도포하고, 상기 액정 화합물을 중합시키는 것을 포함할 수 있다.In one example, the formation of the CLC layer may include applying a polymerizable liquid crystal compound, for example, a CLC composition including the compound of Formula 1 and a chiral agent, and polymerizing the liquid crystal compound.

본 명세서에서 용어 「CLC 조성물」은, 목적하는 패턴으로 액정 영역을 포함하는 CLC층을 형성하기 위하여 사용될 수 있는 모든 종류의 조성물이 포함될 수 있다. 하나의 예시에서, 상기 조성물은, CLC 화합물, CLC 중합체 또는 CLC 중합체를 형성하기 위해 반응할 수 있는 단량체 또는 올리고머 등과 같은 저분자량 화합물을 포함할 수 있다. 또한, CLC 조성물은 하나 이상의 다른 첨가제, 예를 들어 가교제나 중합 개시제 등을 포함할 수 있다. 단량체 또는 기타 저 분자량 화합물의 중합 또는 가교를 개시하기 위하여 중합 개시제가 CLC 조성물 내에 포함될 수 있다. 적절한 중합 개시제는 중합 또는 가교를 개시하고 전파하기 위해 자유 라디칼을 발생시킬 수 있는 것을 포함한다. 자유 라디칼 개시제는 예를 들어 안정성 또는 반감기에 따라 선택될 수 있다. 바람직하게는, 자유 라디칼 개시제는 흡수 또는 다른 방식에 의해 CLC 층에서 추가의 색을 발생하지 않는다. 자유 라디칼 개시제는 전형적으로 열적 자유 라디칼 개시제 또는 광개시제이다. 열적 자유 라디칼 개시제는 예를 들어 퍼옥시드, 퍼술페이트 또는 아조니트릴 화합물을 포함한다. 자유 라디칼 개시제는 열적 분해시에 자유 라디칼을 생성한다.As used herein, the term "CLC composition" may include any kind of composition that can be used to form a CLC layer including a liquid crystal region in a desired pattern. In one example, the composition may include low molecular weight compounds, such as CLC compounds, CLC polymers or monomers or oligomers that may react to form CLC polymers. In addition, the CLC composition may include one or more other additives such as crosslinkers, polymerization initiators, and the like. Polymerization initiators may be included in the CLC compositions to initiate polymerization or crosslinking of monomers or other low molecular weight compounds. Suitable polymerization initiators include those capable of generating free radicals to initiate and propagate polymerization or crosslinking. The free radical initiator can be selected according to, for example, stability or half life. Preferably, the free radical initiator does not generate additional color in the CLC layer by absorption or otherwise. Free radical initiators are typically thermal free radical initiators or photoinitiators. Thermal free radical initiators include, for example, peroxides, persulfates or azonitrile compounds. Free radical initiators generate free radicals upon thermal decomposition.

전자기 복사선 또는 입자 조사에 의해 광개시제가 활성화될 수 있다. 적절한 광개시제의 예는 오늄 염 광개시제, 유기 금속 광개시제, 양이온성 금속 염 광개시제, 광분해가능한 유기실란, 잠재성 술폰산, 포스핀 옥시드, 시클로헥실 페닐케톤, 아민 치환된 아세토페논 및 벤조페논을 포함할 수 있다. 일반적으로, 다른 광원들이 사용될 수 있긴 하지만 광개시제를 활성화시키기 위해 자외선(UV) 조사가 사용될 수 있다. 광개시제는 광의 특정 파장의 흡수를 기초로 하여 선택될 수 있다.The photoinitiator may be activated by electromagnetic radiation or particle irradiation. Examples of suitable photoinitiators may include onium salt photoinitiators, organometallic photoinitiators, cationic metal salt photoinitiators, photodegradable organosilanes, latent sulfonic acids, phosphine oxides, cyclohexyl phenylketones, amine substituted acetophenones and benzophenones have. In general, ultraviolet (UV) radiation may be used to activate the photoinitiator although other light sources may be used. Photoinitiators can be selected based on the absorption of a particular wavelength of light.

CLC 조성물은 전형적으로 하나 이상의 용매를 포함하는 코팅 조성물의 일부일 수 있다. 코팅 조성물은 예를 들어 분산제, 산화방지제 및 오존발생방지제를 포함할 수 있다. 추가로, 코팅 조성물은 원한다면 자외선, 적외선 또는 가시광선을 흡수하기 위해 다양한 염료 및 안료를 포함할 수 있다. 일부 경우에, 증점제 및 충진제와 같은 점도 개질제를 첨가하는 것이 적절할 수 있다. The CLC composition can typically be part of a coating composition comprising one or more solvents. The coating composition may include, for example, a dispersant, an antioxidant and an ozoneogenic agent. In addition, the coating composition may include various dyes and pigments, if desired, to absorb ultraviolet, infrared or visible light. In some cases, it may be appropriate to add viscosity modifiers such as thickeners and fillers.

CLC 조성물은 각종 액체 코팅 방법에 의해 적용될 수 있다. 일부 구현 양태에서, 코팅 후에, CLC 조성물은 CLC층으로 중합되거나 전환된다. 이러한 전환은, 용매의 증발, CLC 물질을 정렬하기 위한 가열; CLC 조성물의 가교; 또는 예를 들어 화학선(actinic) 조사와 같은 열의 인가; 자외선, 가시광선 또는 적외선 등의 광의 조사 및 전자 빔의 조사, 또는 이들의 조합 또는 유사한 기술을 사용한 CLC 조성물의 경화를 포함한 다양한 기술에 의해 달성될 수 있다.The CLC composition can be applied by various liquid coating methods. In some embodiments, after coating, the CLC composition is polymerized or converted to a CLC layer. Such conversion may include evaporation of the solvent, heating to align the CLC material; Crosslinking of the CLC composition; Or application of heat, for example actinic radiation; It can be accomplished by a variety of techniques, including irradiation of light such as ultraviolet, visible or infrared light and irradiation of electron beams, or combinations thereof, or curing of CLC compositions using similar techniques.

하나의 예시에서 상기 CLC 조성물은 상기 화학식 1의 화합물, 광개시제 및 키랄제를 포함할 수 있다. In one example, the CLC composition may include the compound of Formula 1, a photoinitiator and a chiral agent.

광개시제는, 화학식 1의 화합물의 중합 또는 가교를 개시시키기 위한 것으로, 상기 화합물과의 상용성에 문제가 없는 한, 이 분야에서 공지된 일반적인 성분을 적절하게 선택하여 사용할 수 있다. 광개시제로는, 예를 들면, 2-메틸-1-[4-(메틸티오)페닐]-2-(4-모르폴리닐)-1-프로파논(2-methyl-1-[4-(methylthio)phenyl]-2-(4-morpholinyl)-1-propanone), 2-디메톡시-1,2-디페닐에탄-1-온 (2-dimethoxy-1,2-diphenylethan-1-one), 1-히드록시-시클로헥실-페닐-케톤(1-hydroxy-cyclohexyl-phenyl-ketone), 트리아릴 술포늄 헥사플루오로안티모네이트염(Triaryl sulfonium hexafluoroantimonate salts) 및 디페닐(2,4,6-트리메틸벤조일)-포스핀 옥사이드(diphenyl(2,4,6-trimethylbenzoyl)-phosphine oxide) 등에서 선택되는 1종 또는 2종 이상이 사용될 수 있으나, 이에 제한되는 것은 아니다. CLC 조성물은, 상기 광개시제를 상기 화학식 1의 화합물 100 중량부에 대하여 0.1 중량부 내지 10 중량부의 비율로 포함할 수 있다. 광개시제의 함량을 상기와 같이 조절함으로써, 액정 화합물의 효과적인 중합 및 가교를 유도하고, 중합 및 가교 후에 잔존 개시제에 의한 물성 저하를 방지할 수 있다. 본 명세서에서 단위 중량부는 특별히 달리 규정하지 않는 한, 각 성분의 중량의 비율을 의미할 수 있다.The photoinitiator is for initiating the polymerization or crosslinking of the compound of the formula (1). As long as there is no problem in compatibility with the compound, a general component known in the art may be appropriately selected and used. As a photoinitiator, for example, 2-methyl-1- [4- (methylthio) phenyl] -2- (4-morpholinyl) -1-propanone (2-methyl-1- [4- (methylthio) ) phenyl] -2- (4-morpholinyl) -1-propanone), 2-dimethoxy-1,2-diphenylethan-1-one (2-dimethoxy-1,2-diphenylethan-1-one), 1 1-hydroxy-cyclohexyl-phenyl-ketone, Triaryl sulfonium hexafluoroantimonate salts and diphenyl (2,4,6-trimethyl One or two or more selected from benzoyl) -phosphine oxide (diphenyl (2,4,6-trimethylbenzoyl) -phosphine oxide) may be used, but is not limited thereto. The CLC composition may include the photoinitiator in a ratio of 0.1 parts by weight to 10 parts by weight with respect to 100 parts by weight of the compound of Formula 1. By adjusting the content of the photoinitiator as described above, effective polymerization and crosslinking of the liquid crystal compound can be induced, and deterioration of physical properties by the remaining initiator after polymerization and crosslinking can be prevented. In the present specification, the unit weight part may mean a ratio of the weight of each component, unless otherwise specified.

키랄제로는, 예를 들면, 전술한 종류ㄹ의 화합물이 사용될 수 있다. CLC 조성물은, 키랄제를 상기 화학식 1의 화합물 100 중량부에 대하여 1 중량부 내지 10 중량부의 비율로 포함할 수 있다. 키랄제의 함량을 상기와 같이 조절함으로써, CLC의 효과적인 비틀림을 유도할 수 있다.As the chiral agent, for example, a compound of the aforementioned kind can be used. The CLC composition may include a chiral agent in a ratio of 1 part by weight to 10 parts by weight based on 100 parts by weight of the compound of Formula 1. By adjusting the content of the chiral agent as described above, effective twisting of the CLC can be induced.

CLC 조성물은 필요에 따라서 용매를 추가로 포함할 수 있다. 용매로는, 예를 들면, 클로로포름, 디클로로메탄, 테트라클로로에탄, 트리클로로에틸렌, 테트라클로로에틸렌, 클로로벤젠 등의 할로겐화 탄화수소류; 벤젠, 톨루엔, 자일렌, 메톡시 벤젠, 1,2-디메톡시벤젠 등의 방향족 탄화수소류; 메탄올, 에탄올, 프로판올, 이소프로판올, 아세톤, 메틸에틸케톤, 메틸이소부틸케톤, 사이클로헥사논, 사이클로펜타논 등의 알코올류; 메틸셀로솔브, 에틸셀로솔브, 부틸셀로솔브 등의 셀로솔브류; 디에틸렌글리콜 디메틸에테르(DEGDME), 디프로필렌글리콜 디메틸에테르(DPGDME)등의 에테르류 등을 들 수 있다. 또한, 상기 용매의 함량은 특별히 제한되지 않으며, 코팅 효율이나 건조 효율 등을 고려하여 적절히 선택될 수 있다. The CLC composition may further comprise a solvent as needed. As a solvent, For example, Halogenated hydrocarbons, such as chloroform, dichloromethane, tetrachloroethane, trichloroethylene, tetrachloroethylene, chlorobenzene; Aromatic hydrocarbons such as benzene, toluene, xylene, methoxy benzene and 1,2-dimethoxybenzene; Alcohols such as methanol, ethanol, propanol, isopropanol, acetone, methyl ethyl ketone, methyl isobutyl ketone, cyclohexanone and cyclopentanone; Cellosolves such as methyl cellosolve, ethyl cellosolve and butyl cellosolve; Ethers such as diethylene glycol dimethyl ether (DEGDME), dipropylene glycol dimethyl ether (DPGDME), and the like. In addition, the content of the solvent is not particularly limited, and may be appropriately selected in consideration of coating efficiency or drying efficiency.

또한, 상기 CLC 조성물은, 계면 활성제를 추가로 포함할 수 있다. 상기 계면 활성제는 액정 표면에 분포하여 표면을 고르게 만들어 줄 뿐만 아니라, 액정 배향을 안정화시켜 CLC층의 형성 후에 필름 표면이 매끄럽게 유지할 수 있도록 하며, 그 결과 외관 품질을 향상시킬 수 있다. In addition, the CLC composition may further include a surfactant. The surfactant is distributed on the surface of the liquid crystal to not only make the surface uniform, but also stabilize the liquid crystal orientation to keep the surface of the film smooth after the formation of the CLC layer, thereby improving appearance quality.

계면 활성제로는, 예를 들면, 플루오르 카본 계열의 계면 활성제 및/또는 실리콘 계열의 계면 활성제가 사용될 수 있다. 플루오르 카본 계열의 계면활성제로는 3M사 제조 제품인 플루오라드(Fluorad) FC4430™, 플루오라드 FC4432™, 플루오라드 FC4434™와 Dupont사 제조 제품인 조닐(Zonyl)등이 사용될 수 있고, 실리콘 계열의 계면활성제로는 BYK-Chemie사 제조 제품인 BYK™등이 사용될 수 있다. 계면 활성제의 함량은 특별히 제한되지 않으며, 코팅 효율이나 건조 효율 등을 고려하여 적절히 선택될 수 있다.As the surfactant, for example, a fluorocarbon surfactant and / or a silicone-based surfactant may be used. Fluorocarbon-based surfactants may be 3M's Fluorad FC4430 ™, Fluorad FC4432 ™, Fluorad FC4434 ™, and Dupont's Zonyl, and the like. BYK ™ manufactured by BYK-Chemie may be used. The content of the surfactant is not particularly limited and may be appropriately selected in consideration of coating efficiency and drying efficiency.

상기와 같은 CLC 조성물을 도포한 후에, 예를 들면, 상기 조성물 내에 액정 화합물의 CLC 배향이 유도된 상태에서, 상기 조성물의 성분들을 중합시켜서 CLC층을 형성할 수 있다.After applying such a CLC composition, for example, in a state in which the CLC orientation of the liquid crystal compound is induced in the composition, the components of the composition may be polymerized to form a CLC layer.

하나의 예시에서 상기 CLC층의 형성은, CLC 조성물의 도포층에 상대적으로 약한 자외선을 조사하여 키랄제의 농도 구배를 형성하고, 농도 구배가 형성되어 있는 도포층에 상대적으로 강한 자외선을 조사하여, 조성물의 성분들을 중합시키는 것을 포함할 수 있다. 이와 같은 방식으로, 반사광의 중심 파장이 서로 상이한 2 종류 이상의 CLC 영역을 포함하는 단일층의 CLC층을 효과적으로 형성할 수 있다.In one example, the CLC layer may be formed by irradiating relatively weak ultraviolet rays to the coating layer of the CLC composition to form a concentration gradient of the chiral agent, and irradiating relatively strong ultraviolet rays to the coating layer on which the concentration gradient is formed. And polymerizing the components of the composition. In this manner, it is possible to effectively form a single layer CLC layer including two or more kinds of CLC regions having different center wavelengths of reflected light.

CLC 조성물의 도포층에 상대적으로 약한 강도의 자외선을 소정 온도에서 조사하는 경우, 도포층 내에서 키랄제의 농도 구배, 즉 도포층 내에서 소정 방향을 따라서 키랄제의 농도의 변화를 유도할 수 있다. 하나의 예시에서 상기 키랄제의 농도 구배는 도포층의 두께 방향을 따라서 형성되어 있을 수 있다. 키랄제의 농도 구배를 형성한 자외선의 조사는, 예를 들면, 40℃ 내지 80℃, 50℃ 내지 70℃ 또는 약 60℃ 전후의 온도 범위에서 수행될 수 있다. 또한, 상기 농도 구배의 형성을 위한 자외선의 조사는 자외선 A 영역의 자외선을 약 10 mJ/cm² 내지 500 mJ/cm²의 광량으로 조사하여 수행될 수 있다. When irradiating ultraviolet light of relatively low intensity to the coating layer of the CLC composition at a predetermined temperature, it is possible to induce a concentration gradient of the chiral agent in the coating layer, that is, a change in the concentration of the chiral agent along the predetermined direction in the coating layer. . In one example, the concentration gradient of the chiral agent may be formed along the thickness direction of the coating layer. Irradiation of ultraviolet rays that form a concentration gradient of the chiral agent may be performed, for example, at a temperature range of about 40 ° C. to 80 ° C., 50 ° C. to 70 ° C., or about 60 ° C. In addition, the irradiation of ultraviolet rays for the formation of the concentration gradient may be performed by irradiating the ultraviolet rays of the ultraviolet region A with a light amount of about 10 mJ / cm ² to 500 mJ / cm ² .

상기와 같은 방식으로 농도 구배를 형성한 후, 조성물의 성분을 중합시키기에 충분한 양의 자외선을 조사하여 CLC층을 형성할 수 있다. 상기 자외선 조사에 의하여 도포층은 형성된 키랄제의 농도 구배에 따라 액정이 상이한 피치를 가진 상태로 고정되어 CLC 영역이 형성될 수 있다. 상기 강한 자외선의 조사의 조건은, 조성물의 성분의 중합이 충분하게 진행될 정도로 수행되는 한 특별히 제한되지 않는다. 하나의 예시에서 상기 자외선의 조사는, 자외선 A 내지 C 영역의 자외선을 약 1 J/cm² 내지 10 J/cm²의 광량으로 조사하여 수행될 수 있다. After forming the concentration gradient in the same manner as above, the CLC layer may be formed by irradiating an amount of ultraviolet light sufficient to polymerize the components of the composition. According to the ultraviolet irradiation, the coating layer may be fixed in a state in which the liquid crystal has a different pitch according to the concentration gradient of the formed chiral agent, thereby forming a CLC region. The conditions for the irradiation of the strong ultraviolet light are not particularly limited as long as the polymerization of the components of the composition is sufficiently advanced. In one example, the irradiation of the ultraviolet rays may be performed by irradiating the ultraviolet rays of the ultraviolet rays A to C with a light amount of about 1 J / cm ² to 10 J / cm ² .

하나의 예시에서 상기 CLC 조성물의 도포층은, 적절한 기재층상에 형성될 수 있다. 상기 기재층은 예를 들면, 전술한 바와 같은 광학적 등방성 또는 이방성 기재층, 또는 편광 소자 등일 수 있다. In one example, the coating layer of the CLC composition may be formed on a suitable substrate layer. The base layer may be, for example, an optically isotropic or anisotropic base layer, a polarizing element, or the like as described above.

하나의 예시에서 CLC 조성물의 도포층이 형성되는 기재층의 면에는 배향성이 부여되어 있을 수 있다. 배향성은, 예를 들면 상기와 같이 친수성 표면의 기재층을 사용하거나, 기재층을 러빙 또는 연신하거나, 혹은 기재층의 표면에 배향층을 형성하여 부여할 수 있다. 기재층의 면에 적절한 배향성을 부여함으로써 광대역 CLC층의 형성 효과를 높일 수 있다. 기재층에 배향층을 형성하는 방식은 특별히 제한되지 않으며, 이 분야에서 공지된 적절한 방식이 사용될 수 있다. In one example, the orientation of the substrate layer on which the coating layer of the CLC composition is formed may be imparted. Orientation can use, for example, using the base material layer of a hydrophilic surface, rubbing or extending a base material layer, or providing an orientation layer in the surface of a base material layer as mentioned above. The formation effect of a broadband CLC layer can be heightened by providing a suitable orientation to the surface of a base material layer. The manner of forming the alignment layer on the substrate layer is not particularly limited, and any suitable method known in the art may be used.

하나의 예시에서 상기 CLC 조성물의 도포층은, 젖음각이 0도 내지 50도, 0도 내지 40도, 0도 내지 30도, 0도 내지 20도 또는 0도 내지 10도인 기재층의 표면에 형성될 수 있다. 상기와 같은 젖음각을 가지는 기재층으로는, 표면에 적절한 친수화 처리를 수행한 기재층, 또는 그 자체가 친수성 관능기를 포함하여 처음부터 친수성을 가지는 기재층을 사용할 수 있다. 상기에서 친수화 처리로는, 코로나 처리, 플라즈마 처리 또는 알칼리 처리 등이 예시될 수 있다. 상기 처리 조건은 특별히 제한되지 않는다. 이 분야에서는 기재층에 친수성을 부여하기 위한 다양한 방식들이 공지되어 있고, 상기와 같은 방식을 채용하여 상기 젖음각을 기재층이 나타내도록 친수화 처리를 수행할 수 있다.In one example, the coating layer of the CLC composition is formed on the surface of the base layer having a wet angle of 0 degrees to 50 degrees, 0 degrees to 40 degrees, 0 degrees to 30 degrees, 0 degrees to 20 degrees, or 0 degrees to 10 degrees. Can be. As the base layer having the wet angle as described above, a base layer having a suitable hydrophilization treatment on its surface, or a base layer having hydrophilicity from the beginning, including its own hydrophilic functional group, can be used. As the hydrophilization treatment, corona treatment, plasma treatment, or alkali treatment may be exemplified. The processing conditions are not particularly limited. Various methods for imparting hydrophilicity to a base material layer are known in this field, and the hydrophilization treatment may be performed such that the base layer exhibits the wet angle by employing the above method.

상기와 같은 젖음각을 가지는 기재층의 표면에 CLC층을 형성하면, 상기 기술한 호메오트로픽 또는 포컬 코닉 배향된 CLC 영역을 포함하는 CLC층을 형성할 수 있다.If the CLC layer is formed on the surface of the base layer having the wet angle as described above, the CLC layer including the homeotropic or focal conic oriented CLC region described above can be formed.

상기 방법은, 상기와 같은 CLC층상에 헤이즈층을 형성하는 것을 포함할 수 있다. 상기에서 헤이즈층을 형성하는 방식은 특별히 제한되지 않는다. 예를 들어, 헤이즈층으로서 상기 기술한 수지층을 채용하는 경우에는, 적절한 필름 또는 시트상에 상기 수지층을 형성하고, 수지층이 형성된 필름 또는 시트를 CLC층에 부착하거나, 혹은 CLC층상에 수지층을 직접 형성하는 방식을 사용할 수 있다.The method may include forming a haze layer on the CLC layer as described above. The manner of forming the haze layer is not particularly limited. For example, when employ | adopting the resin layer mentioned above as a haze layer, the said resin layer is formed on a suitable film or sheet, and the film or sheet in which the resin layer was formed is affixed on a CLC layer, or it can be used on a CLC layer. A method of directly forming the strata can be used.

상기 수지층은, 예를 들면, 입자를 포함하는 상온경화형, 습기경화형, 열경화형, 활성 에너지선 경화형 또는 혼성 경화형 조성물의 코팅하고, 이를 경화시켜서 형성할 수 있다. 상기에서 조성물의 도포 및 경화는, CLC층의 표면에 직접 수행될 수도 있고, CLC층이 형성되어 있거나, 형성되어 있는 기재층의 일면에 수행되거나, 다른 임의의 기재층상에 수행될 수도 있다. 헤이즈층이 다른 임의의 기재층상에 수행되는 경우, 상기 기재층을 CLC층과 부착하거나, 또는 기재층상에 형성되어 있는 헤이즈층을 CLC층 또는 광학 필름의 다른 기재층에 전사하는 방식으로 헤이즈층을 형성할 수 있다.The resin layer may be formed by, for example, coating a room temperature curing type, a moisture curing type, a thermosetting type, an active energy ray curing type, or a hybrid curing type composition including particles, and curing the same. The coating and curing of the composition in the above may be carried out directly on the surface of the CLC layer, the CLC layer is formed, may be performed on one side of the substrate layer is formed, or may be performed on any other substrate layer. When the haze layer is carried out on any other base layer, the haze layer is attached by attaching the base layer to the CLC layer or transferring the haze layer formed on the base layer to the other base layer of the CLC layer or the optical film. Can be formed.

상기 제조 방법은, 상기 CLC층과 헤이즈층의 사이에 1/4 파장층을 형성하는 것을 추가로 포함할 수 있다. 1/4 파장층의 형성 방식은 특별히 제한되지 않으며, 공정 진행 중에 적절한 시기에 1/4 파장층을 CLC층과 헤이즈층의 사이에 배치하여 형성할 수 있다.The manufacturing method may further include forming a quarter wavelength layer between the CLC layer and the haze layer. The formation method of a quarter wavelength layer is not specifically limited, A quarter wavelength layer can be formed between a CLC layer and a haze layer at a suitable time during process progress.

하나의 예시에서는 헤이즈층을 형성하는 과정에서 입자를 포함하는 수지층이고 상기 입자가 상기 수지층과는 상이한 굴절률을 가지는 수지층이 일면에 형성되고, 다른 면에는 1/4 파장층이 형성되어 있는 필름 또는 시트의 1/4 파장층을 CLC층상에 위치시키는 방식으로 상기 헤이즈층과 1/4 파장층을 동시에 형성할 수도 있다. 즉, 상기 헤이즈층으로 필름 또는 시트상에 형성되는 수지층을 사용하는 경우에는, 상기 필름 또는 시트의 일면에는 상기 수지층을 형성하고, 다른 면에는 1/4 파장층을 형성한 후에 상기 필름 또는 시트를 CLC층에 라미네이트하거나, 또는 상기 수지층이 형성되는 필름 또는 시트로서 1/4 파장층으로 작용하는 고분자 필름 또는 시트를 사용하고, 이를 CLC층에 라미네이트함으로써 1/4 파장층 및 헤이즈층을 형성할 수 있다.In one example, a resin layer including particles in a process of forming a haze layer, and a resin layer having a refractive index different from the resin layer is formed on one surface, and a 1/4 wavelength layer is formed on the other surface. The haze layer and the quarter wave layer may be formed simultaneously by placing the quarter wave layer of the film or sheet on the CLC layer. That is, when the resin layer formed on the film or sheet is used as the haze layer, the resin layer is formed on one surface of the film or sheet, and the quarter wave layer is formed on the other surface. The 1/4 wavelength layer and the haze layer are formed by laminating the sheet to the CLC layer or by using a polymer film or sheet serving as a 1/4 wavelength layer as the film or sheet on which the resin layer is formed, and laminating it to the CLC layer. Can be formed.

상기에서 필름 또는 시트의 일면에 1/4 파장층을 형성하는 것은, 예를 들면, (a) 필름 또는 시트상에 배향층을 형성하고, (b) 상기 배향층 상에 중합성 액정 화합물을 도포, 배향 및 중합시키는 것을 포함할 수 있다.Forming a quarter wavelength layer on one surface of the film or sheet in the above, for example, (a) to form an alignment layer on the film or sheet, (b) to apply a polymerizable liquid crystal compound on the alignment layer Orienting and polymerizing.

상기와 같이 형성된 필름 또는 시트를 CLC층과 라미네이트하는 방식은 특별히 제한되지 않고, 예를 들면, 적절한 점착층 또는 접착층을 사용한 공지의 방식을 적용할 수 있다.The method of laminating the film or sheet formed as described above with the CLC layer is not particularly limited, and for example, a known method using an appropriate adhesive layer or adhesive layer can be applied.

본 출원은 또한 반사형 편광판에 관한 것이다. 예시적인 반사형 편광판은 상기 광학 필름 및 편광 소자를 포함할 수 있다. 상기에서 편광 소자는 예를 들면 상기 광학 필름의 헤이즈층의 상부에 배치될 수 있다.The present application also relates to a reflective polarizer. An exemplary reflective polarizer may include the optical film and the polarizer. In the above, the polarizing element may be disposed, for example, on top of the haze layer of the optical film.

반사형 편광판으로 사용되는 경우에 상기 광학 필름은, 헤이즈층과 CLC층의 사이에 상기 1/4 파장층을 포함할 수 있다. 도 8은, 예시적인 반사형 편광판(800)을 나타내고, 편광 소자(801), 헤이즈층(402), 1/4 파장층(701) 및 CLC층(401)이 순차로 형성된 경우를 보여준다.When used as a reflective polarizing plate, the optical film may include the quarter wavelength layer between the haze layer and the CLC layer. 8 shows an exemplary reflective polarizer 800 and shows a case where the polarizer 801, the haze layer 402, the quarter wave layer 701, and the CLC layer 401 are sequentially formed.

상기에서 편광 소자의 종류는 특별히 제한되지 않으며, 예를 들면, LCD 등의 표시 장치에서 통상적으로 사용되는 폴리비닐알코올 편광 소자 등을 사용할 수 있다. The type of polarizing element is not particularly limited in the above, and for example, a polyvinyl alcohol polarizing element commonly used in a display device such as an LCD may be used.

상기 반사형 편광판은, 광대역의 CLC층을 포함하고, 또한 적합한 범위의 헤이즈를 나타내는 헤이즈층을 포함함으로써, 예를 들면, LCD 등의 디스플레이 장치에 적용되어서 적합한 휘도 특성을 보이면서 광원의 광원의 색을 효과적으로 재현하고, 또한 측면 관찰 시에 문제되는 색반전 현상도 방지할 수 있다.The reflective polarizer includes a broadband CLC layer and a haze layer that exhibits a suitable range of haze. For example, the reflective polarizer may be applied to a display device such as an LCD to display a color of a light source of a light source while exhibiting suitable luminance characteristics. It can reproduce effectively, and also prevents the color inversion phenomenon which is a problem at the time of side observation.

본 출원은 또한 LCD에 관한 것이다. 예시적인 LCD는 상기 반사형 편광판을 포함할 수 있다.The present application also relates to an LCD. An exemplary LCD may include the reflective polarizer.

하나의 예시에서 상기 LCD는, 액정 패널과 상기 액정 패널의 일측에 배치된 광원을 추가로 포함할 수 있고, 상기 반사형 편광판이 상기 액정 패널과 광원의 사이에 배치되어 있을 수 있다. 반사형 편광판이 1/4 파장층을 포함하는 경우에는, 상기 편광판은, 광학 필름의 CLC층이 상기 1/4 파장층에 비하여 광원이 가깝게 위치하도록 배치되어 있을 수 있다. In one example, the LCD may further include a liquid crystal panel and a light source disposed on one side of the liquid crystal panel, and the reflective polarizer may be disposed between the liquid crystal panel and the light source. When the reflective polarizer includes a quarter wavelength layer, the polarizer may be disposed such that the CLC layer of the optical film is positioned closer to the light source than the quarter wavelength layer.

도 9에 예시적으로 나타난 바와 같이, LCD(900)는, 예를 들면, 상부 편광판(903)이 일측에 배치되고, 다른 측에는 상기 반사형 편광판(902)이 배치되어 있는 액정 패널(901); 및 상기 반사형 편광판(902)의 하부에 배치되어 있는 광원(905)을 포함할 수 있다. As exemplarily shown in FIG. 9, the LCD 900 includes, for example, a liquid crystal panel 901 having an upper polarizer 903 disposed on one side and the reflective polarizer 902 disposed on the other side; And a light source 905 disposed under the reflective polarizer 902.

상기 구조에서 반사형 편광판(902)의 CLC층은, 광원(904)에서 출사되는 광의 일부는 투과시켜 1/4 파장층측으로 보내고, 나머지 광은 다시 광원(904)측으로 반사시킬 수 있다. 1/4 파장층측으로 보내진 광은 1/4 파장층에 의하여 직선 편광으로 변환되어 편광 소자를 거쳐서 상부의 액정 패널(901)로 전달될 수 있다. 상기에서 CLC층에 의해 반사된 광은 장치의 내부에서 재반사되며, 그 편광 특성이 변하여 다시 편광판(902)으로 입사되며, 이러한 과정이 반복되면서 장치의 휘도 특성이 향상될 수 있다.In the above structure, the CLC layer of the reflective polarizer 902 may transmit part of the light emitted from the light source 904 to the 1/4 wavelength layer and reflect the remaining light back to the light source 904. Light sent to the quarter wave layer side may be converted into linearly polarized light by the quarter wave layer and transmitted to the upper liquid crystal panel 901 through the polarizer. The light reflected by the CLC layer is reflected back inside the device, the polarization characteristic is changed and incident again to the polarizing plate 902, the brightness characteristics of the device can be improved as this process is repeated.

LCD가 상기 광학 소자를 포함하는 한, 다른 부품 내지는 구조 등은 특별히 제한되지 않으며, 이 분야에서 공지되어 있는 모든 내용이 적절하게 적용될 수 있다.As long as the LCD includes the optical element, other components, structures, and the like are not particularly limited, and all contents known in the art may be appropriately applied.

본 출원의 예시적인 광학 필름은, 예를 들면, LCD 등의 디스플레이 장치의 광 이용 효율을 개선하고, 휘도를 향상시킬 수 있는 반사형 편광판으로 사용될 수 있다. 예시적인 광학 필름은 입사되는 광의 색감을 휘도의 손실을 최소화하면서 효과적으로 재현할 수 있어서, 영상 품질이 탁월한 디스플레이 장치를 제공할 수 있다.An exemplary optical film of the present application may be used as a reflective polarizing plate that may improve light utilization efficiency of display devices such as LCDs and improve luminance. The exemplary optical film can effectively reproduce the color of incident light while minimizing the loss of luminance, thereby providing a display device having excellent image quality.

도 1은, CLC의 설명을 위한 예시적인 도면이다.
도 2는 CLC층 내에서 CLC 영역의 배치를 예시적으로 설명하는 도면이다.
도 3은, CLC의 배향을 설명하기 위한 예시적인 도면이다.
도 4 내지 8은, 예시적인 광학 필름을 나타내는 도면이다.
도 9는, 예시적인 LCD를 나타내는 도면이다.
도 10 및 11은 실시예 및 비교예에서 제조된 반사형 편광판에 대하여 CIE 색좌표를 측정한 결과를 보여주는 도면이다.1 is an exemplary diagram for explaining the CLC.
FIG. 2 is a diagram exemplarily illustrating an arrangement of a CLC region in a CLC layer. FIG.
3 is an exemplary diagram for explaining the orientation of the CLC.
4-8 is a figure which shows an exemplary optical film.
9 is a diagram illustrating an exemplary LCD.
10 and 11 illustrate the results of measuring CIE color coordinates of reflective polarizers manufactured in Examples and Comparative Examples.

이하 실시예 및 비교예를 통하여 상기 광학 필름을 구체적으로 설명하나, 상기 필름의 범위가 하기 실시예에 의해 제한되는 것은 아니다.
Hereinafter, the optical film will be described in detail through Examples and Comparative Examples, but the scope of the film is not limited by the following Examples.

제조예Manufacturing example 1.  One. CLCCLC 조성물(A)의 조제 Preparation of Composition (A)

CLC 조성물은, Merck사에서 입수할 수 있는 CLC 혼합물인 RMM856을 톨루엔 및 시클로헥사논의 혼합 용매(중량 비율 = 7:3(톨루엔:시클로헥사논)에 고형분이 40 중량% 정도가 되도록 용해시킨 후에, 균일한 용액의 형성을 위하여 60℃에서 1 시간 정도 가열한 후 충분히 식혀서 제조하였다.
The CLC composition is obtained by dissolving RMM856, a CLC mixture available from Merck, in a mixed solvent of toluene and cyclohexanone (weight ratio = 7: 3 (toluene: cyclohexanone) so that the solid content is about 40% by weight. In order to form a uniform solution, the mixture was heated at 60 ° C. for about 1 hour and then cooled sufficiently.

제조예Manufacturing example 2.  2. 헤이즈층(A)의Of haze layer (A) 제조 Produce

우레탄 아크릴레이트 올리고머 10 g 및 디펜타에리스리톨 헥사아크릴레이트(DPHA) 20 g을 메틸에틸케톤 30 g과 톨루엔 38 g의 혼합 용매에 배합하여 바인더용 조성물을 제조하였다. 그 후, 상기 바인더용 조성물에 형성될 바인더와는 상이한 굴절률을 가지며, 평균 입경이 3,500 nm 정도인 스티렌 수지계 입자를 배합하였다. 상기 스티렌 수지계 입자의 배합 비율은 최종적으로 제조된 수지층의 헤이즈가 약 50% 정도가 되도록 하였다. 그 후, 자외선 중합 개시제 2 g을 균일하게 혼합하여 헤이즈층을 형성하기 위한 수지 조성물을 제조하였다. 그 후, 광학용 TAC(Triacetyl cellulose) 필름의 일면에 상기 수지 조성물을 약 2 ㎛ 의 건조 두께를 가지도록 도포하고, 자외선(300mW/cm²)을 조사하여 헤이즈가 약 50% 정도인 헤이즈층을 형성하였다.
10 g of urethane acrylate oligomer and 20 g of dipentaerythritol hexaacrylate (DPHA) were combined with a mixed solvent of 30 g of methyl ethyl ketone and 38 g of toluene to prepare a composition for a binder. Thereafter, styrene resin particles having a refractive index different from the binder to be formed in the binder composition and having an average particle diameter of about 3,500 nm were blended. The blending ratio of the styrene resin particles was such that the haze of the finally produced resin layer was about 50%. Thereafter, 2 g of an ultraviolet polymerization initiator was uniformly mixed to prepare a resin composition for forming a haze layer. Thereafter, the resin composition is applied to one surface of an optical triacetyl cellulose (TAC) film to have a dry thickness of about 2 μm, and irradiated with ultraviolet (300 mW / cm ² ) to form a haze layer having a haze of about 50%. Formed.

실시예Example 1.  One.

광학 필름의 제조Manufacture of optical film

기재층으로서, PET(poly(ethylene terephthalate), MRL38, Mitsubishi사제) 기재층의 일면에 300 Watt의 조건으로 5초 동안 코로나 처리를 수행하여 친수성 표면이 형성된 기재층을 제조하였다. 상기 PET 기재층의 물에 대한 젖음각은 약 60도 정도이며, 상기 자외선 조사를 통하여 친수성 표면의 물에 대한 젖음각이 약 30도 내지 40도가 되도록 조절하였다. 이어서, 상기 기재층의 친수성 표면 상에 CLC 조성물(A)를 와이어바로 코팅하고, 100℃에서 2 분 동안 건조시켜서 두께가 약 5 ㎛인 액정층을 형성하였다. 그 후 약 60℃의 온도에서 건조된 코팅층에 파장이 자외선 조사 장비(TLK40W/10R, Philips사제)로 350 nm 내지 400 nm 정도의 범위 내인 자외선을 조사하여 키랄제의 농도 구배를 유도하였다(광량: 약 100 mJ/cm²). 농도 구배를 유도한 후에 다시 자외선 조사 장비(Fusion UV, 400W)로 조성물이 충분히 경화되도록 자외선을 조사하여 코팅층을 중합시켜서 CLC층을 형성하여 광학 필름을 제조하였다.
As a base layer, a corona treatment was performed on one surface of a PET (poly (ethylene terephthalate), MRL38, manufactured by Mitsubishi) base layer for 5 seconds under a condition of 300 Watt to prepare a base layer having a hydrophilic surface. The wet angle of the PET base layer with respect to water is about 60 degrees, and the wet angle with respect to water on the hydrophilic surface is adjusted to about 30 degrees to 40 degrees through the ultraviolet irradiation. Subsequently, the CLC composition (A) was coated on the hydrophilic surface of the base layer with a wire bar and dried at 100 ° C. for 2 minutes to form a liquid crystal layer having a thickness of about 5 μm. Thereafter, the coating layer dried at a temperature of about 60 ° C. was irradiated with ultraviolet rays having a wavelength in the range of 350 nm to 400 nm with an ultraviolet irradiation equipment (TLK40W / 10R, manufactured by Philips) to induce a concentration gradient of the chiral agent (light quantity: About 100 mJ / cm ² ). After inducing a concentration gradient, UV coating was further irradiated to cure the composition with UV irradiation equipment (Fusion UV, 400W) to polymerize the coating layer to form a CLC layer, thereby preparing an optical film.

반사형 편광판의 제조Manufacture of Reflective Polarizer

상기 제조된 광학 필름의 CLC층을 1/4 파장층과 부착하여 반사형 편광판을 제조하였다. 1/4 파장층으로는 제조예 2에서 제조된 수지층이 일면에 형성되어 있는 TAC 필름의 수지층이 형성되어 있지 않은 면에 1/4 파장층을 형성할 수 있는 일반적인 배향층 및 액정층을 순차로 형성하여 제조하였다. 제조된 1/4 파장층을 CLC층에 라미네이트하여 반사형 편광판을 제조하였다. 도 10 및 11에는 제조된 반사형 편광판에 대하여 측정한 CIE 색좌표의 x 및 y 특성이 나타나 있다. CIE 색좌표는, 편광판의 CLC층측으로 광을 조사하면서, 투과하여 나온 광에 대하여 Eldim사의 EZ Contrast 장비를 이용하여 제조사의 매뉴얼에 따라서 측정하였다.
The CLC layer of the prepared optical film was attached to a quarter wavelength layer to prepare a reflective polarizing plate. As the 1/4 wavelength layer, a general alignment layer and a liquid crystal layer capable of forming a 1/4 wavelength layer on the surface where the resin layer of the TAC film in which the resin layer manufactured in Production Example 2 is formed is not formed. Produced by forming sequentially. The prepared quarter wave layer was laminated on the CLC layer to prepare a reflective polarizer. 10 and 11 show the x and y characteristics of the CIE color coordinates measured for the manufactured reflective polarizer. CIE color coordinates were measured according to the manufacturer's manual using Eldim's EZ Contrast equipment for the transmitted light while irradiating light to the CLC layer side of the polarizing plate.

비교예Comparative example 1.  One.

반사형 편광판의 제조 시에 제조예 2에서 사용한 TAC 필름과 동일한 것으로 일면에 수지층이 형성되어 있지 않은 TAC 필름에 배향층 및 액정층을 순차로 형성하여 제조된 1/4 파장층을 사용한 것을 제외하고는 실시예 1과 동일한 방식으로 반사형 편광판을 제조하였다. 도 10 및 11에는 상기 비교예 제조된 반사형 편광판에 대하여 측정한 CIE 색좌표의 x 및 y 특성이 실시예 1과 비교되어 나타나 있다. 도 10 및 11로부터 헤이즈층을 포함하는 실시예 1의 반사형 편광판은 비교예 1 대비 광원의 색좌표를 효과적으로 재현하면서 측면에서의 색반전 현상도 방지하고 있는 것을 확인할 수 있다.Except for using the 1/4 wavelength layer manufactured by forming the alignment layer and the liquid crystal layer sequentially in the TAC film in which the resin layer was not formed on one surface in the same manner as the TAC film used in Preparation Example 2 at the time of manufacturing the reflective polarizing plate. Then, a reflective polarizing plate was manufactured in the same manner as in Example 1. 10 and 11 show the x and y characteristics of the CIE color coordinates measured for the reflective polarizer prepared in Comparative Example compared with Example 1. It can be seen from FIGS. 10 and 11 that the reflective polarizer of Example 1 including the haze layer effectively prevents color inversion from the side while effectively reproducing the color coordinates of the light source compared to Comparative Example 1. FIG.

n: CLC 도파기
P: 피치
X: 나선축
2: CLC층 21, 22: CLC층의 주표면
231, 232, 233: CLC 영역
HA: CLC 영역의 나선축
31: CLC층의 두께 방향
32: CLC층의 두께 방향과 수직한 방향
400, 500, 600, 700: 광학 필름
401: CLC층
402: 헤이즈층
501: 필름 또는 시트
502: 수지층
601: 기재층
701: 1/4 파장층
800: 반사형 편광판
801: 편광 소자
900: 액정 표시 장치
903: 상부 편광판
901: 액정 패널
902: 반사형 편광판
904: 광원n: CLC waveguide
P: pitch
X: spiral axis
2: CLC layer 21, 22: main surface of CLC layer
231, 232, 233: CLC area
HA: Helix axis in the CLC region
31: thickness direction of the CLC layer
32: direction perpendicular to the thickness direction of the CLC layer
400, 500, 600, 700: optical film
401: CLC layer
402: haze layer
501: film or sheet
502: resin layer
601: base material layer
701: 1/4 wavelength layer
800: reflective polarizer
801: polarizing element
900: liquid crystal display
903: upper polarizer
901: liquid crystal panel
902: reflective polarizer
904: light source

Claims (18)

반사광의 중심 파장이 서로 상이한 2종류 이상의 콜레스테릭 배향된 액정 영역을 포함하는 액정층; 및 상기 액정층의 상부에 헤이즈가 40% 내지 60%인 헤이즈층을 포함하는 광학 필름.A liquid crystal layer comprising two or more kinds of cholesteric oriented liquid crystal regions different from each other in the central wavelength of the reflected light; And a haze layer having a haze of 40% to 60% on top of the liquid crystal layer. 제 1 항에 있어서, 액정 영역은, 반사광의 중심 파장이 400 nm 내지 500 nm인 제 1 영역, 반사광의 중심 파장이 500 nm 내지 600 nm인 제 2 영역 및 반사광의 중심 파장이 600 내지 700 nm인 제 3 영역을 포함하는 광학 필름.The liquid crystal region according to claim 1, wherein the liquid crystal region has a first region having a central wavelength of reflected light of 400 nm to 500 nm, a second region having a central wavelength of reflected light of 500 nm to 600 nm, and a central wavelength of reflected light of 600 to 700 nm. An optical film comprising a third region. 제 1 항에 있어서, 액정 영역은, 콜레스테릭 액정 분자의 도파기의 나선축이 액정층의 두께 방향과 평행하도록 형성되어 있는 액정 영역과 상기 나선축이 액정층의 두께 방향과 평행하지 않도록 형성되어 있는 액정 영역을 포함하는 광학 필름.The liquid crystal region according to claim 1, wherein the liquid crystal region is formed so that the spiral axis of the waveguide of the cholesteric liquid crystal molecules is parallel to the thickness direction of the liquid crystal layer and the spiral axis is not parallel to the thickness direction of the liquid crystal layer. An optical film containing a liquid crystal region. 제 1 항에 있어서, 헤이즈층은 입자를 포함하는 수지층이고, 상기 입자는 상기 수지층과는 상이한 굴절률을 가지는 광학 필름.The optical film according to claim 1, wherein the haze layer is a resin layer containing particles, and the particles have a refractive index different from that of the resin layer. 제 4 항에 있어서, 수지층과 입자의 굴절률의 차이는 0.03 이하인 광학 필름.The optical film according to claim 4, wherein the difference in refractive index between the resin layer and the particles is 0.03 or less. 제 4 항에 있어서, 수지층은, 아크릴 수지, 에폭시 수지, 우레탄 수지, 페놀 수지 또는 폴리에스테르를 포함하는 광학 필름.The optical film of Claim 4 in which a resin layer contains an acrylic resin, an epoxy resin, a urethane resin, a phenol resin, or polyester. 제 1 항에 있어서, 기재층을 추가로 포함하고, 액정층이 상기 기재층의 일면에 형성되어 있는 액정 필름.The liquid crystal film according to claim 1, further comprising a base layer, wherein a liquid crystal layer is formed on one surface of the base layer. 제 7 항에 있어서, 기재층의 액정층이 형성되어 있는 면은 젖음각이 0도 내지 50도인 액정 필름.The liquid crystal film according to claim 7, wherein the surface on which the liquid crystal layer of the substrate layer is formed has a wet angle of 0 to 50 degrees. 제 7 항에 있어서, 기재층 및 액정층의 사이에 배향층을 추가로 포함하는 광학 필름. The optical film according to claim 7, further comprising an alignment layer between the base layer and the liquid crystal layer. 제 1 항에 있어서, 액정층과 헤이즈층의 사이에 1/4 파장층을 추가로 포함하는 광학 필름.The optical film according to claim 1, further comprising a quarter wave layer between the liquid crystal layer and the haze layer. 제 10 항에 있어서, 1/4 파장층은 고분자 필름 또는 액정 필름인 광학 필름.The optical film of claim 10, wherein the quarter wave layer is a polymer film or a liquid crystal film. 반사광의 중심 파장이 서로 상이한 2 종류 이상의 콜레스테릭 배향된 액정 영역을 포함하는 액정층상에 헤이즈가 40% 내지 60%인 헤이즈층을 형성하는 것을 포함하는 광학 필름의 제조 방법.A method of manufacturing an optical film comprising forming a haze layer having a haze of 40% to 60% on a liquid crystal layer including two or more kinds of cholesteric oriented liquid crystal regions having different center wavelengths of reflected light from each other. 제 12 항에 있어서, 액정층은, 콜레스테릭 액정 조성물의 도포층에 40℃ 내지 80℃에서 자외선 A 영역의 자외선을 10 mJ/cm² 내지 500 mJ/cm²로 조사한 후에 자외선 A 내지 C 영역의 자외선을 1 J/cm² 내지 10 J/cm²로 조사하는 것을 포함하는 방식으로 형성되는 광학 필름의 제조 방법.13. The liquid crystal layer according to claim 12, wherein the liquid crystal layer is irradiated with ultraviolet rays of the ultraviolet A region at 10 mJ / cm ² to 500 mJ / cm ² to the coating layer of the cholesteric liquid crystal composition at 40 ° C. to 80 ° C. The manufacturing method of the optical film formed by the method containing irradiating the ultraviolet-ray of 1 J / cm <^2> -10J / cm <^2> . 제 13 항에 있어서, 콜레스테릭 액정 조성물의 도포층은 젖음각이 0도 내지 50도인 기재층의 면에 형성되는 광학 필름의 제조 방법.The method for producing an optical film according to claim 13, wherein the coating layer of the cholesteric liquid crystal composition is formed on the surface of the base layer having a wet angle of 0 to 50 degrees. 제 12 항에 있어서, 헤이즈층은, 입자를 포함하는 수지층이고 상기 입자가 상기 수지층과는 상이한 굴절률을 가지는 수지층이 일면에 형성되고, 다른 면에는 1/4 파장층이 형성되어 있는 필름 또는 시트의 1/4 파장층을 반사광의 중심 파장이 서로 상이한 2 종류 이상의 콜레스테릭 배향된 액정 영역을 포함하는 액정층상에 위치시키는 방식으로 형성하는 광학 필름의 제조 방법.The film according to claim 12, wherein the haze layer is a resin layer containing particles, and a resin layer having a refractive index different from the resin layer is formed on one surface, and a quarter wavelength layer is formed on the other surface. Or a quarter wavelength layer of the sheet is formed in such a manner as to be positioned on a liquid crystal layer comprising two or more kinds of cholesteric oriented liquid crystal regions having different center wavelengths of reflected light. 제 1 항에 따른 광학 필름; 및 상기 광학 필름의 헤이즈층의 상부에 편광 소자를 포함하는 반사형 편광판.An optical film according to claim 1; And a polarizing element on the haze layer of the optical film. 제 16 항에 있어서, 광학 필름의 헤이즈층과 액정층의 사이에 1/4 파장층을 추가로 포함하는 반사형 편광판.The reflective polarizing plate according to claim 16, further comprising a quarter wave layer between the haze layer and the liquid crystal layer of the optical film. 제 16 항의 반사형 편광판을 포함하는 액정 표시 장치.A liquid crystal display device comprising the reflective polarizer of claim 16.

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