KR20120095712A - Enhanced image quality composite film for electrostatic capacity type touch screen panel - Google Patents

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KR20120095712A
KR20120095712A KR1020110015201A KR20110015201A KR20120095712A KR 20120095712 A KR20120095712 A KR 20120095712A KR 1020110015201 A KR1020110015201 A KR 1020110015201A KR 20110015201 A KR20110015201 A KR 20110015201A KR 20120095712 A KR20120095712 A KR 20120095712A
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Abstract

PURPOSE: A film enhanced an image quality using an electrostatic capacity type for a touch panel is provided to preventing oxidation of a silver layer of an indium thin oxide layer and a outgoing line of an indium thin oxide film, thereby performing electronic stability and process simplification and cost reduction. CONSTITUTION: A low refractive layer(7) is formed on a transparent base film(5). The low refractive layer has average specular reflectance of less than 1.5% in a 5° incident angle among a refractive index of 1.31-1.40 and a wavelength area from 480 nm to 680nm. An adhesive layer(4) is formed on an opposite surface of a base film which is formed on the low refractive layer, and composes acrylic copolymer resin, a hardener and a silan coupling agent. The low refractive layer has peel force with double sided tape of more than 500gf/25mm.

Description

정전용량방식 터치패널용 화질향상필름{ENHANCED IMAGE QUALITY COMPOSITE FILM FOR ELECTROSTATIC CAPACITY TYPE TOUCH SCREEN PANEL}Quality Enhancement Film for Capacitive Touch Panels {ENHANCED IMAGE QUALITY COMPOSITE FILM FOR ELECTROSTATIC CAPACITY TYPE TOUCH SCREEN PANEL}

본 발명은 정전용량방식 터치패널용 화질향상필름에 관한 것으로서, 보다 상세하게는 저굴절층의 양면 테이프와의 박리력을 향상시키고 표면반사를 최소화하고 투과율을 향상시킴으로써 화질을 향상시킬 수 있고, LCD의 BLU에서 나오는 빛에 의한 반사를 최소화함과 동시에 투과율을 향상시킴으로써 화질을 향상시킬 수 있으며, 산을 포함하지 않는 점착층과 일체화함으로써 ITO필름의 ITO층과 인출선의 은(Ag)층을 산화되는 것을 방지하여 전기적 안정성을 확보함과 동시에 공정 간소화 및 원가절감을 이룰 수 있는 정전용량방식 터치패널용 화질향상필름에 관한 것이다.The present invention relates to an image quality improvement film for capacitive touch panels. More particularly, the image quality can be improved by improving the peeling force with the double-sided tape of the low refractive index layer, minimizing surface reflection, and improving the transmittance. The image quality can be improved by minimizing the reflection by the light emitted from the BLU and improving the transmittance, and oxidizing the ITO layer of the ITO film and the silver (Ag) layer of the leader line by integrating with an adhesive layer containing no acid. The present invention relates to an image quality improvement film for capacitive touch panels, which can prevent electrical damage and secure electrical stability, and at the same time, simplify processes and reduce costs.

일반적으로, 터치스크린패널(Touch Screen Panel)은 디스플레이 장치의 표면에 장착되어 사용자의 손가락, 터치펜 등의 물리적 접촉을 전기적 신호로 변환하여 출력하는 장치로서, 액정표시장치(Liquid Crystal Display), 플라즈마 디스플레이 패널(Plasma Display Panel), EL(Electro-luminescence)소자 등에 응용되고 있다.In general, a touch screen panel is a device mounted on a surface of a display device to convert physical contact of a user's finger, touch pen, etc. into an electrical signal and output the electrical signal. A liquid crystal display, a plasma It is applied to a Plasma Display Panel, an EL (Electro-luminescence) device, and the like.

이와 같은 터치패널은 동작 원리에 따라 크게 정전용량 방식, 저항막 방식, 초음파 방식, 적외선 방식 등으로 구분되며, 이중 정전용량 방식과 저항막 방식이 현재 널리 이용되고 있다. 최근에는, 저항막 방식에 비교하여 내구성 및 투과율 측면에서 특성이 우수한 정전용량 방식이 각광받고 있다.The touch panel is classified into a capacitive type, a resistive film type, an ultrasonic type, an infrared type, and the like according to an operating principle, and a double capacitive type and a resistive film type are currently widely used. In recent years, the electrostatic capacitive method which is excellent in a characteristic with respect to durability and a transmittance | permeability compared with a resistive film system is attracting attention.

이러한 정전용량 방식 터치패널의 구조를 살펴보면 도 2와 같다. 도 2는 종래 기술에서 진보된 일체형 정전용량 방식의 터치스크린패널 단면도이다. 도 2에 도시한 바와 같이 터치패널용 글라스 위에 엣지(Edge)부위에 인쇄(2)를 한 후 ITO막(1)을 증착을 한다. 이 ITO(1)막을 증착한 후 에칭을 통해 패턴을 형성한 후 양끝부분에 인출선인 Ag층(3)이 올라오게 하여 정전용량 터치패널을 제작하게 된다. 이렇게 가장 하판에 ITO층 및 Ag층이 오게 되며, 이 두층이 공기(산소) 중에 노출되게 되면 산화되는 특성으로 인해, 전기전도도가 나빠지게 되는 단점을 보완하기위해 ITO및 Ag층을 보호하기 위해 또 하나의 보호막을 형성하게 되는데, 이 보호막을 개발하는 것이 금번 발명의 목적이 된다. 이러한 보호막(9)의 구조는 플라스틱 기재(5)위에 ITO및 Ag층의 산화방지를 위해 산(acid)을 포함하지 않는 점착층(4)을 형성하고, 반대면에 투과율과 시인성을 좋게 하는 반사방지기능을 부여하기 위해 고굴절수지층(6)과 저굴절수지층(7)과 같은 굴절률이 다른 2층을 코팅하여 제조하게 된다. Looking at the structure of the capacitive touch panel as shown in FIG. 2 is a cross-sectional view of an integrated capacitive touch screen panel according to the related art. As shown in FIG. 2, the ITO film 1 is deposited after printing 2 on the edge of the glass for the touch panel. After the ITO (1) film is deposited, a pattern is formed through etching, and then the Ag layer 3, which is a lead wire, is raised on both ends to fabricate a capacitive touch panel. In this way, the ITO layer and the Ag layer come on the bottom plate, and when the two layers are exposed to air (oxygen), they are oxidized, so that the electrical conductivity is deteriorated. One protective film is formed, and the development of this protective film is the object of this invention. The structure of the protective film 9 forms a pressure-sensitive adhesive layer 4 containing no acid to prevent oxidation of the ITO and Ag layers on the plastic substrate 5, and the reflection on the opposite side to improve transmittance and visibility. In order to provide a prevention function, the high refractive index resin layer 6 and the low refractive index resin layer 7 may be manufactured by coating two layers having different refractive indices.

또한 화질향상 필름의 점착층이 무기질 기재인 ITO층과 합지하게 되는데, 점착제가 무기질 기재에 대해 점착력이 낮아지는 일반적인 문제가 발생하고 있다. 또한 일반적인 점착층은 관능기에 산을 포함하게 되며, 산이 포함된 점착층은 ITO필름과 합지하게 되면, 시간이 지나면서 ITO층과 인출선의 은(Ag)층이 산화되어 전기적 안정성을 떨어뜨리는 문제가 발생한다. 또한 터치패널 업계에서는 화질향상 필름과 점착 필름을 따로 구매해서 합지 공정을 외주가공으로 진행하게 되는데, 두 가지 필름을 각각 구매를 하기 때문에 관리적 문제 및 외주 가공(합지) 시 발생하는 결점관리 문제, 높은 가격, 낮은 수율과 같은 문제가 많이 대두되고 있는 실정이다.In addition, the pressure-sensitive adhesive layer of the image quality improvement film is laminated with the ITO layer, which is an inorganic substrate, and a general problem occurs in that the pressure-sensitive adhesive has a low adhesive strength with respect to the inorganic substrate. In addition, the general adhesive layer contains an acid in the functional group, and if the adhesive layer including the acid is laminated with the ITO film, the silver (Ag) layer of the ITO layer and the leader line is oxidized over time, thereby deteriorating the electrical stability. Occurs. In addition, in the touch panel industry, quality improvement film and adhesive film are purchased separately, and the lamination process is outsourced.Because the two films are purchased separately, management problems and defect management problems occurring during outsourcing (lamination) are high. There are many problems such as price and low yield.

본 발명은 상기와 같은 문제점을 해결하기 위해 안출한 것으로서, 본 발명의 목적은 화질을 향상시킬 수 있고, ITO필름의 ITO층과 인출선의 은(Ag)층을 산화되는 것을 방지하여 전기적 안정성을 확보함과 동시에 공정 간소화 및 원가절감을 이룰 수 있는 정전용량방식 터치패널용 화질향상필름을 제공하고자 하는 것이다.The present invention has been made to solve the above problems, an object of the present invention is to improve the image quality, to prevent the oxidation of the ITO layer and the lead (Ag) layer of the lead line of the ITO film to secure electrical stability At the same time, it is to provide a quality improvement film for capacitive touch panels that can simplify the process and reduce the cost.

본 발명의 상기 및 다른 목적과 이점은 바람직한 실시예를 설명한 하기의 설명으로부터 보다 분명해 질 것이다.These and other objects and advantages of the present invention will become more apparent from the following description of a preferred embodiment thereof.

상기 목적은, 투명한 기재필름과, 상기 기재필름 상에 형성된 저굴절층으로서, 굴절률이 1.31 ~ 1.40이고, 480 내지 680 nm의 파장 영역 중 5° 입사각에서 1.5% 이하의 평균경면반사율(average specular reflectance)을 가지는 저굴절층과, 상기 저굴절층이 형성된 상기 기재필름의 반대면에 형성된 점착층으로서, 아크릴계 공중합체 수지, 경화제 및 실란커플링제를 포함하는 점착제 조성물로 코팅된 첨착층을 포함하는 것을 특징으로 하는 정전용량방식 터치패널용 화질향상필름에 의해 달성된다.The object is a transparent base film and a low refractive index layer formed on the base film, the refractive index is 1.31 ~ 1.40, average specular reflectance of 1.5% or less at 5 ° incidence angle in the wavelength range of 480 to 680 nm And a pressure-sensitive adhesive layer formed on the opposite surface of the base film on which the low-refraction layer is formed, and comprising an adhesive layer coated with an adhesive composition comprising an acrylic copolymer resin, a curing agent, and a silane coupling agent. It is achieved by the image quality improvement film for capacitive touch panel characterized in that.

여기서, 상기 저굴절층은 양면테이프와의 박리력이 500gf/25mm 이상인 것을 특징으로 한다.Here, the low refractive index layer is characterized in that the peel force with the double-sided tape is 500gf / 25mm or more.

바람직하게는, 상기 정전용량방식 터치패널용 화질향상필름의 투과율 및 탁도(HAZE)는 각각 93.0% 이상 및 1.5% 이하인 것을 특징으로 한다.Preferably, the transmittance and haze of the image quality enhancing film for the capacitive touch panel is 93.0% or more and 1.5% or less, respectively.

바람직하게는, 상기 저굴절층의 수접촉각은 85° 이하인 것을 특징으로 한다.Preferably, the water contact angle of the low refractive layer is characterized in that less than 85 °.

바람직하게는, 상기 아크릴계 공중합체 수지 및 상기 경화제는 산을 포함하지 않는(Acid free) 관능기를 가지고, 상기 점착층은 습식 코팅된 것을 특징으로 한다.Preferably, the acrylic copolymer resin and the curing agent have an acid free (Acid free) functional group, the adhesive layer is characterized in that the wet coating.

바람직하게는, 상기 아크릴계 공중합체 수지를 포함하는 상기 점착층을 형성한 후 상기 기재필름의 전류 변화율은 20% 이내인 것을 특징으로 한다.Preferably, after forming the adhesive layer containing the acrylic copolymer resin, the current change rate of the base film is characterized in that less than 20%.

바람직하게는, 상기 실란커플링제는 상기 아크릴계 공중합체 수지(고형분 함량 기준) 100중량부에 대해 0.01 내지 1중량부를 포함하는 것을 특징으로 한다.Preferably, the silane coupling agent is characterized in that it comprises 0.01 to 1 parts by weight based on 100 parts by weight of the acrylic copolymer resin (based on the solid content).

바람직하게는, 상기 점착층의 코팅 두께는 10 내지 100㎛이고, 상기 점착층의 점착력은 200 내지 2500gf/25mm 인 것을 특징으로 한다.Preferably, the coating thickness of the adhesive layer is 10 to 100㎛, the adhesive force of the adhesive layer is characterized in that the 200 to 2500gf / 25mm.

바람직하게는, 상기 저굴절층은 방오성분이 포함되어 있지 않는 기재필름인 것을 특징으로 한다.Preferably, the low refractive layer is characterized in that the base film does not contain an antifouling component.

더욱 바람직하게는, 상기 기재필름은 폴리에틸렌테레프탈레이트(PET) 필름, 트리아세테이트셀룰로오스(TAC) 필름, 폴리프로필렌(PP) 필름 또는 폴리에틸렌(PE) 필름 중 어느 하나인 것을 특징으로 한다.More preferably, the base film is any one of a polyethylene terephthalate (PET) film, a triacetate cellulose (TAC) film, a polypropylene (PP) film or a polyethylene (PE) film.

본 발명에 따르면, 저굴절층의 양면 테이프와의 박리력을 향상시키고 표면반사를 최소화하고 투과율을 향상시킴으로써 화질을 향상시킬 수 있고, LCD의 BLU에서 나오는 빛에 의한 반사를 최소화함과 동시에 투과율을 향상시킴으로써 화질을 향상시킬 수 있다. 또한 산을 포함하지 않는 점착층과 일체화함으로써 ITO필름의 ITO층과 인출선의 은(Ag)층을 산화되는 것을 방지하여 전기적 안정성을 확보함과 동시에 공정 간소화 및 원가절감을 이룰 수 있는 등의 효과를 가진다.According to the present invention, the image quality can be improved by improving the peeling force with the double-sided tape of the low refractive index layer, minimizing the surface reflection and improving the transmittance, and minimize the reflection by the light emitted from the BLU of the LCD and at the same time transmittance Image quality can be improved by improving. In addition, by integrating with the adhesive layer containing no acid, the ITO layer and the silver (Ag) layer of the lead line of the ITO film are prevented from being oxidized, thereby ensuring electrical stability, and simplifying the process and reducing costs. Have

도 1은 본 발명에 따른 정전용량방식 터치패널용 화질향상필름을 적용한 일체형 정전용량 방식의 터치스크린패널 단면도.
도 2는 종래기술에 따른 정전용량방식 터치패널용 화질향상필름을 적용한 일체형 정전용량 방식의 터치스크린패널 단면도.
도 3은 전류 변화량 확인실험을 위한 도식도.1 is a cross-sectional view of an integrated capacitive touch screen panel to which an image enhancement film for a capacitive touch panel according to the present invention is applied.
2 is a cross-sectional view of an integrated capacitive touch screen panel to which an image enhancement film for a capacitive touch panel according to the prior art is applied.
Figure 3 is a schematic diagram for the current change amount confirmation experiment.

이하, 본 발명의 실시예와 도면을 참조하여 본 발명을 상세히 설명한다. 이들 실시예는 오로지 본 발명을 보다 구체적으로 설명하기 위해 예시적으로 제시한 것일 뿐, 본 발명의 범위가 이들 실시예에 의해 제한되지 않는다는 것은 당업계에서 통상의 지식을 가지는 자에 있어서 자명할 것이다.Hereinafter, the present invention will be described in detail with reference to embodiments and drawings of the present invention. These examples are only presented by way of example only to more specifically describe the present invention, it will be apparent to those skilled in the art that the scope of the present invention is not limited by these examples. .

본 발명에 따른 정전용량방식 터치패널용 화질향상필름은 투명한 기재필름과 상기 기재필름 상에 형성된 저굴절층으로서, 굴절률이 1.31 ~ 1.40이고, 480 내지 680 nm의 파장 영역 중 5°입사각에서 1.5% 이하의 평균경면반사율(average specular reflectance)을 가지는 저굴절층과, 상기 저굴절층이 형성된 상기 기재필름의 반대면에 형성된 점착층으로서, 아크릴계 공중합체 수지, 경화제 및 실란커플링제를 포함하는 점착제 조성물로 코팅된 점착층을 포함하는 것을 특징으로 한다.Capacitive touch panel image quality improvement film according to the present invention is a transparent base film and a low refractive index layer formed on the base film, the refractive index is 1.31 ~ 1.40, 1.5% at a 5 ° incidence angle in the wavelength range of 480 to 680 nm A pressure-sensitive adhesive composition comprising an acrylic copolymer resin, a curing agent, and a silane coupling agent as an adhesive layer formed on the opposite surface of the low refractive index layer having the following average specular reflectance and the base film on which the low refractive index layer is formed. It characterized in that it comprises an adhesive layer coated with.

일반적인 투명한 기재필름과 하드코팅층의 가진 필름의 경우 표면의 반사율이 480 내지 680 nm의 파장 영역 중 5° 입사각에서 3 ~ 5%의 평균 경면 반사율(avergae specular reflectance)을 가지기 때문에, 외부 광원에 의한 반사율이 높아서 표면에서 반사가 많이 이루어져 반사된 빛에 의해 디스플레이의 화질을 떨어뜨리기 문제가 발생하게 된다. 상기와 같은 문제를 해결하기 위해 본 발명에 따른 정전용량방식 터치패널용 화질향상필름은 투명한 기재필름 상에 저굴절률을 가진 저굴절층을 형성하되, 방오 성분이 포함되어 있지 않는 굴절률이 1.31 ~ 1.40인 저굴절율층을 구성함으로써, 외부에서 들어오는 빛을 굴절률 조절층을 통해 표면 반사율을 최소화시킴과 동시에 투과율을 향상시켜 화질을 개선하였다.In the case of a general transparent base film and a film having a hard coating layer, reflectance by an external light source is because the surface reflectance has an average specular reflectance of 3 to 5% at a 5 ° incidence angle in a wavelength region of 480 to 680 nm. Due to this high reflection surface is a lot of problems caused by the reflected light to degrade the display quality. In order to solve the above problems, the quality improvement film for capacitive touch panels according to the present invention forms a low refractive index layer having a low refractive index on a transparent base film, but has a refractive index of 1.31 to 1.40 that does not include an antifouling component. By constructing a low refractive index layer, the light from outside is minimized through the refractive index control layer, and at the same time, the transmittance is improved to improve image quality.

또한, 화질향상필름의 점착층(점착제층)은 무기질 기재인 ITO층과 합지하게 되는데, 이 때 점착제가 무기질 기재에 대해 점착력이 낮아지는 일반적인 문제가 발생한다. 상기와 같은 문제점을 개선하기 위해 본 발명에 따른 정전용량방식 터치패널용 화질향상필름은 경화제를 포함한 점착제 조성물에 ITO층과 수소결합을 이룰 수 있는 실란커플링제를 부가하여, ITO층과의 밀착력을 향상시킴으로써, 점착력을 개선하였다.In addition, the pressure-sensitive adhesive layer (adhesive layer) of the image quality improvement film is laminated with the ITO layer, which is an inorganic substrate. At this time, a general problem occurs in that the pressure-sensitive adhesive is lowered with respect to the inorganic substrate. In order to improve the problems described above, the capacitive touch panel image quality improving film according to the present invention adds a silane coupling agent capable of forming a hydrogen bond with the ITO layer to the pressure-sensitive adhesive composition including a curing agent, thereby improving adhesion to the ITO layer. By improving, adhesive force was improved.

또한, 일반적인 점착층은 관능기에 산을 포함하게 되며, 산이 포함된 점착층을 ITO필름과 합지하게 되는데, 이럴 경우 시간이 지나면서 ITO층과 인출선의 은(Ag)층이 산화되어 전기적 안정성을 떨어뜨리는 문제가 발생한다. 상기와 같은 문제점을 해결하기 위해서, 본 발명에 따른 정전용량방식 터치패널용 화질향상필름의 점착층에 포함되는 아크릴계 공중합체 수지의 관능기를 하이드록실기로 도입하고, 경화제로 이소시아네이트계로 설계함으로써, 전기적 안정성을 확보하였다.In addition, the general adhesive layer contains an acid in the functional group, and the adhesive layer containing the acid is laminated with the ITO film. In this case, the silver (Ag) layer of the ITO layer and the leader line is oxidized over time, resulting in poor electrical stability. A floating problem occurs. In order to solve the above problems, by introducing a functional group of the acrylic copolymer resin contained in the adhesive layer of the image quality improvement film for capacitive touch panel according to the present invention as a hydroxyl group, by designing an isocyanate-based as a curing agent, Stability was secured.

또한, 터치패널 업계에서는 화질향상 필름과 점착 필름을 따로 구매해서 합지 공정을 외주 가공하게 되는데, 두 가지 필름을 각각 구매를 하기 때문에 관리적 문제 및 외주 가공(합지) 시 발생하는 결점관리 문제, 높은 가격, 낮은 수율과 같은 문제점이 대두되고 있는 실정이므로 본 발명에서는 상기 두 필름을 일체화함으로써, 상기와 같은 문제를 해결하였다.In addition, in the touch panel industry, the quality improvement film and the adhesive film are purchased separately, and the lamination process is outsourced.Because the two films are purchased separately, management problems, defect management problems during outsourcing (lamination), and high price In the present invention, the above problems are solved by integrating the two films.

본 발명에 따른 정전용량방식 터치패널용 화질향상필름의 투과율 및 탁도(HAZE)는 각각 93.0% 이상 및 1.5% 이하인 것이 바람직하고, 또한 상기 저굴절층의 수접촉각은 85° 이하인 것을 특징으로 한다.The transmittance and haze (HAZE) of the capacitive touch panel image quality improving film according to the present invention are preferably 93.0% or more and 1.5% or less, respectively, and the water contact angle of the low refractive layer is 85 ° or less.

또한 상기 점착층은 습식 코팅된 것을 특징으로 하고, 상기 점착층의 코팅 두께는 10 내지 100㎛이며, 상기 점착층의 점착력은 200 내지 2500gf/25mm 인 것을 특징으로 한다.In addition, the adhesive layer is characterized in that the wet coating, the coating thickness of the adhesive layer is 10 to 100㎛, the adhesive force of the adhesive layer is characterized in that 200 to 2500gf / 25mm.

따라서 본 발명에 따른 정전용량방식 터치패널용 화질향상필름은 화질향상, 산화방지 및 비산방지의 기능을 할 수 있는 복합 기능을 가진 필름이 되는 것이다. 도 1은 본 발명에 따른 정전용량방식 터치패널용 화질향상필름을 적용한 일체형 정전용량 방식의 터치스크린패널 단면도이다. 즉 도 1은 종래 기술에서 진보된 일체형 정전용량 방식의 터치스크린패널 단면도이다. 도 1에 도시한 바와 같이 터치패널용 글라스 위에 엣지(Edge)부위에 인쇄층(2)을 형성한 후 ITO막(1)을 증착한다. 이러한 ITO막(1)을 증착하고나서 에칭을 통해 패턴을 형성한 후 양끝 부분에 인출선인 Ag층(3)이 올라오게 하여 정전용량 터치패널을 제작하게 된다. 이렇게 가장 하판에 ITO층 및 Ag층이 오게 되며, 이 두층이 공기(산소) 중에 노출되게 되면 산화되는 특성으로 인해, 전기전도도가 나빠지게 되는 단점을 보완하기위해 ITO층 및 Ag층을 보호하기 위해 또 하나의 보호막을 형성하게 되는데, 이 보호막을 개발하는 것이 본 발명의 목적이 된다. 이러한 보호막(9)의 구조는 플라스틱 기재(5)위에 ITO층 및 Ag층의 산화방지를 위해 산(acid)을 포함하지 않는 점착층(4)을 형성하고, 반대면에 투과율과 시인성을 좋게하는 반사방지기능을 부여하기 위해 저굴절수지층(7)을 코팅하여 제조하게 된다.Therefore, the image quality improvement film for capacitive touch panels according to the present invention is a film having a composite function capable of improving the image quality, preventing oxidation, and preventing scattering. 1 is a cross-sectional view of an integrated capacitive touch screen panel to which an image enhancement film for a capacitive touch panel according to the present invention is applied. 1 is a cross-sectional view of an integrated capacitive touch screen panel according to the related art. As shown in FIG. 1, after the printing layer 2 is formed on the edge of the touch panel glass, the ITO film 1 is deposited. After depositing the ITO film 1, a pattern is formed through etching, and the Ag layer 3, which is a leader line, is raised on both ends to manufacture a capacitive touch panel. In this way, the ITO layer and the Ag layer come on the bottom plate, and the two layers are exposed to air (oxygen) to oxidize, and thus, to protect the ITO layer and the Ag layer to compensate for the disadvantage of poor electrical conductivity. Another protective film is formed, which is an object of the present invention. The structure of the protective film 9 forms an adhesive layer 4 containing no acid on the plastic substrate 5 to prevent oxidation of the ITO layer and the Ag layer, and improves transmittance and visibility on the opposite side. The low refractive index resin layer 7 is coated to produce an antireflection function.

1. 저굴절율층 제조1. Low refractive index layer manufacturing

1.1 저굴절율층1.1 Low refractive index layer

본 발명에 따른 정전용량방식 터치패널용 화질향상필름의 저굴절율층은 1.31 내지 1.40의 굴절률을 갖는 것이 바람직하고, 더욱 바람직하게는 1.31 내지 1.38이다. 이 범위는 반사율을 감소시키면서 필름 강도를 유지할 수 있기 때문에 바람직하다. 상기 저굴절율층을 형성하는 방법은 화학 기상 증착(CVD) 또는 물리 기상 증착 (PVD), 특히 물리 기상 증착법의 한 종류인 진공 증착 또는 스퍼터링에 의해 형성된 무기 산화물의 투명 박막을 사용할 수도 있지만, 후술하는 저굴절율층 형성용 코팅 조성물을 사용하는 올-웨트 코팅에 의한 방법이 바람직하다.The low refractive index layer of the capacitive touch panel image quality improving film according to the present invention preferably has a refractive index of 1.31 to 1.40, more preferably 1.31 to 1.38. This range is preferable because the film strength can be maintained while reducing the reflectance. The method of forming the low refractive index layer may use a transparent thin film of an inorganic oxide formed by chemical vapor deposition (CVD) or physical vapor deposition (PVD), in particular, vacuum deposition or sputtering, which is a kind of physical vapor deposition. The method by all-wet coating using the coating composition for low refractive index layer formation is preferable.

또한, 저굴률층까지의 층들이 형성된 반사방지필름의 강도는, 500g 하중의 연필 경도 시험에서, H 이상이 바람직하고, 2H 이상이 더욱 바람직하고, 3H 이상이 가장 바람직하다.In addition, the strength of the antireflection film having the layers up to the low refractive index layer is preferably at least H, more preferably at least 2H, and most preferably at least 3H, in a pencil hardness test of 500 g load.

또한, PDP용 반사방지필름의 경우 지문방지 성능을 향상시키기 위해, 표면의 물에 대한 접촉각은 접촉각이 95° 내지 120°인 것이 바람직하지만, 터치패널용 반사방지필름의 경우는 터치패널 내부에 위치하며, LCD면과 양면테이프로 엣지(edge)부분이 합지 되어 AR 면과의 충분한 점착력이 확보되어야 하기 때문에 표면의 물에 대한 접촉각은 85°이하인 것이 바람직하다.In addition, in the case of the antireflection film for PDP, in order to improve the anti-fingerprint performance, the contact angle with respect to water on the surface is preferably 95 ° to 120 °, but in the case of the touch panel antireflection film, it is located inside the touch panel. In addition, since the edge portion of the LCD surface and the double-sided tape are laminated to ensure sufficient adhesion to the AR surface, the contact angle of the surface with water is preferably 85 ° or less.

1.2 무기 미립자1.2 Inorganic Particulates

상기 저굴절율층에 사용될 수 있는 무기 미립자는 중공 입자가 바람직하다. 중공 입자의 굴절률은 1.40 이하가 바람직하고, 1.28 내지 1.38이 더욱 바람직하고, 1.32 내지 1.36이 가장 바람직하다. 중공 입자는 중공 실리카 입자가 바람직하고, 무기 미립자에 대해 이하 중공 실리카 입자를 참조하면서 설명한다. 여기서 사용되는 굴절률은 전체 입자의 굴절률을 나타내며, 중공 실리카 입자를 형성하는 외측 셸로서의 실리카만의 굴절률을 나타내는 것은 아니다. 이때, 입자 내부의 캐비티의 반경을 a라 가정하고 입자의 외측 셸의 반경을 b라 가정하면, 다음 수학식 1에 의해 나타내지는 공극률 x는 10 내지 60%가 바람직하고, 20 내지 60%가 더욱 바람직하고, 30 내지 60%가 가장 바람직하다.The inorganic fine particles that can be used for the low refractive index layer are preferably hollow particles. The refractive index of the hollow particles is preferably 1.40 or less, more preferably 1.28 to 1.38, and most preferably 1.32 to 1.36. The hollow particles are preferably hollow silica particles, and the inorganic particles will be described with reference to the hollow silica particles below. The refractive index used here represents the refractive index of all the particles, and does not represent the refractive index of silica alone as the outer shell forming the hollow silica particles. In this case, assuming that the radius of the cavity inside the particle is a and the radius of the outer shell of the particle is b, the porosity x represented by Equation 1 is preferably 10 to 60%, more preferably 20 to 60%. Preferred, 30 to 60% is most preferred.

(수학식 1)(1)

x=(4πa3/3)(4πb3/3) X 100 x = (4πa 3/3) (4πb 3/3) X 100

중공 실리카 입자가 보다 낮은 굴절률 및 보다 높은 공극률을 가지도록 의도될 경우, 외측 셸의 두께가 얇아지고 입자로서의 강도가 저하된다. 따라서, 내찰상성의 관점에서, 상술한 범위내의 굴절률을 갖는 입자가 바람직하다.If the hollow silica particles are intended to have lower refractive index and higher porosity, the outer shell becomes thinner and the strength as particles is lowered. Therefore, from the viewpoint of scratch resistance, particles having a refractive index within the above range are preferable.

여기서, 중공 실리카 입자의 굴절률은 아베 굴절계에 의해 측정될 수 있다(ATAGO K.K. 제조). 중공 실리카의 제조방법은, 예컨대 JP-A-2001-233611 및 JP-A-2002-79616에 기재되어 있다. 또한, 시판되는 중공 실리카 입자를 사용할 수도 있다. 또한, 중공 실리카 입자의 코팅량은 1 내지 100mg/㎡이 바람직하고, 5 내지 80mg/㎡이 더욱 바람직하고, 10 내지 60mg/㎡이 더욱 더 바람직하다. 이 범위 내에서, 굴절률을 감소시키거나 또는 내찰상성을 개량시키는 양호한 효과가 얻어지고, 저굴절율층 표면상의 미세한 요철의 발생을 방지할 수 있고, 외관 (예컨대, 농후한 블랙외관) 및 적분 반사율을 양호하게 유지할 수 있다.Here, the refractive index of the hollow silica particles can be measured by an Abbe refractometer (manufactured by ATAGO K.K.). Methods for producing hollow silica are described, for example, in JP-A-2001-233611 and JP-A-2002-79616. In addition, commercially available hollow silica particles can also be used. In addition, the coating amount of the hollow silica particles is preferably 1 to 100 mg / m 2, more preferably 5 to 80 mg / m 2, even more preferably 10 to 60 mg / m 2. Within this range, a favorable effect of reducing the refractive index or improving the scratch resistance can be obtained, and the occurrence of minute irregularities on the surface of the low refractive index layer can be prevented, and the appearance (e.g. rich black appearance) and integral reflectance can be It can be kept well.

또한, 중공 실리카 입자의 평균 입자직경은 저굴절율층의 두께에 대하여 30 내지 150%가 바람직하고, 35 내지 80%가 더욱 바람직하고, 40 내지 60%가 더욱 더 바람직하다. 즉, 저굴절율층의 두께가 100nm이라면, 중공 실리카 입자의 입자직경은 30 내지 150nm가 바람직하고, 35 내지 80nm가 더욱 바람직하고, 40 내지 60nm가 더욱 더 바람직하다. 입자직경이 이러한 범위내에 있다면, 캐비티의 비율이 만족스럽게 유지될 수 있고, 굴절률을 충분히 감소시킬 수 있으며, 저굴절율층 표면상의 미세한 요철의 발생을 방지할 수 있고, 외관 (예컨대, 농후한 블랙 외관) 및 적분 반사율을 양호하게 유지할 수 있다. 실리카 미립자는 결정질일 수도 있고 비정질일 수도 있고, 단분산입자가 바람직하다. 그 형상은 구형이 가장 바람직하지만, 부정형이더라도 문제는 없다. 중공 실리카 입자의 평균 입자직경은 전자 현미경 사진으로부터 결정될 수 있다.Further, the average particle diameter of the hollow silica particles is preferably 30 to 150%, more preferably 35 to 80%, even more preferably 40 to 60% with respect to the thickness of the low refractive index layer. That is, if the thickness of the low refractive index layer is 100 nm, the particle diameter of the hollow silica particles is preferably 30 to 150 nm, more preferably 35 to 80 nm, even more preferably 40 to 60 nm. If the particle diameter is within this range, the ratio of the cavity can be maintained satisfactorily, the refractive index can be sufficiently reduced, the occurrence of minute irregularities on the surface of the low refractive index layer can be prevented, and the appearance (eg, a dense black appearance) ) And integrated reflectance can be kept good. The silica fine particles may be crystalline or amorphous, and monodisperse particles are preferable. Although the shape is the most preferable spherical form, there is no problem even if it is indefinite. The average particle diameter of the hollow silica particles can be determined from electron micrographs.

본 발명에 있어서, 중공 실리카 입자와 조합하여 캐비티가 없는 실리카 입자를 사용할 수도 있다. 캐비티가 없는 실리카의 입자크기는 5 내지 150nm가 바람직하고, 10 내지 80nm가 더욱 바람직하고, 15 내지 60nm가 가장 바람직하다.In the present invention, silica particles without cavities may be used in combination with hollow silica particles. The particle size of the silica without cavity is preferably 5 to 150 nm, more preferably 10 to 80 nm, and most preferably 15 to 60 nm.

또한, 저굴절율층의 두께의 25% 미만인 평균 입자직경을 갖는 적어도 1 종류의 실리카 미립자 ("소 입자크기 실리카 미립자"라고도 함)를, 상술한 입자직경을 갖는 실리카 미립자 ("대 입자크기 실리카 미립자"라고도 함) 와 조합하여 사용하는 것이 바람직하다. 상기 소 입자크기 실리카 미립자는, 대 입자크기 실리카 미립자들 사이의 간극에 존재할 수도 있으므로, 대 입자크기 실리카 미립자에 대한 유지제로서 기여할 수 있다. 소 입자크기 실리카 미립자의 평균 입자직경은 1 내지 20nm가 바람직하고, 5 내지 15nm가 더욱 바람직하고, 10내지 15nm가 더욱 더 바람직하다. 이러한 실리카 미립자의 사용은 원료 비용 및 유지제 효과의 관점에서 바람직하다. 분산액 또는 코팅 용액내의 분산을 안정화시키거나 또는 바인더 성분과의 친화성 또는 결합성을 향상시키기 위해, 중공 입자에 대해 플라즈마 방전 처리 및 코로나 방전 처리와 같은 물리적 표면 처리, 또는 계면활성제, 커플링제 등에 의한 화학적 표면 처리를 수행할 수도 있다. 커플링제의 사용이 특히 바람직하다. 커플링제로서는, 알콕시 금속 화합물 (예컨대, 티타늄 커플링제, 실란 커플링제) 을 사용하는 것이 바람직하다. 이 중에서도, 아크릴로일 또는 메타크릴로일기를 갖는 실란 커플링제에 의한 처리가 효과적이다. 중공 입자의 화학적 표면 처리제, 용매, 촉매 및 분산 안정제는 JP-A-2006-17870의 단락 [0058] 내지 [0083]에 기재되어 있다.Further, at least one kind of silica fine particles (also referred to as "small particle size silica fine particles") having an average particle diameter of less than 25% of the thickness of the low refractive index layer may be silica fine particles having the above-described particle diameters ("large particle size silica fine particles"). It is preferable to use in combination with "." The small particle sized silica fine particles may be present in the gap between the large particle sized silica fine particles, and thus may serve as a retainer for the large particle sized silica fine particles. The average particle diameter of the small particle size silica fine particles is preferably 1 to 20 nm, more preferably 5 to 15 nm, even more preferably 10 to 15 nm. The use of such silica fine particles is preferable from the viewpoint of raw material cost and oil retainer effect. In order to stabilize the dispersion in the dispersion or coating solution or to improve affinity or binding to the binder component, physical surface treatments such as plasma discharge treatment and corona discharge treatment for hollow particles, or by surfactants, coupling agents, etc. Chemical surface treatment may also be performed. The use of a coupling agent is particularly preferred. As a coupling agent, it is preferable to use an alkoxy metal compound (for example, a titanium coupling agent and a silane coupling agent). Among these, the treatment with a silane coupling agent having acryloyl or methacryloyl group is effective. Chemical surface treating agents, solvents, catalysts and dispersion stabilizers of hollow particles are described in paragraphs [0058] to [0083] of JP-A-2006-17870.

또한, 저굴절율층은, 필름-형성 용질 및 1 종류 이상의 용매를 함유하는 코팅 조성물을 도포하고, 용매를 건조하고, 가열 및 전리 방사선의 조사 중 어느 한 수단 또는 양 수단에 의해 코팅을 경화시킴으로써 형성되는 것이 바람직하다. 용질로는 열-경화성 또는 전리 방사선-경화성 불소 함유 경화성 수지를 함유하는 조성물, 유기실릴 화합물의 가수분해물, 또는 그 부분 축합물이 바람직하다. 또한 저굴절율층은 불소 함유 경화성 수지를 함유하는 조성물을 사용하는 것이 바람직하고, 유기실릴 화합물의 가수분해물 또는 그 부분 축합물을 보조적으로 사용하는 양태가 더욱 바람직하다. 보조적으로 사용되는 유기실릴 화합물의 가수분해물 또는 그 부분 축합물의 첨가량은 불소 함유 경화성 수지에 대하여 10 내지 40질량%이다.The low refractive index layer is also formed by applying a coating composition containing a film-forming solute and one or more solvents, drying the solvent, and curing the coating by either or both means of irradiation of heating and ionizing radiation. It is preferable to be. The solute is preferably a composition containing a heat-curable or ionizing radiation-curable fluorine-containing curable resin, a hydrolyzate of an organosilyl compound, or a partial condensate thereof. Moreover, it is preferable to use the composition containing a fluorine-containing curable resin, and, as for the low refractive index layer, the aspect which uses the hydrolyzate of organosilyl compound or its partial condensate adjuvant is more preferable. The addition amount of the hydrolyzate or partial condensate of the organosilyl compound used auxiliary is 10 to 40 mass% with respect to the fluorine-containing curable resin.

1.3 저굴절율층 형성용 코팅 조성물1.3 Coating Composition for Forming Low Refractive Index Layer

통상적으로, 저굴절율층 형성용 코팅 조성물은 액체 형태를 취하고, 적절한 용매에, 바람직하게 함유된 전술한 무기 미립자 및 불소 함유 경화성 수지를 용해시키고, 필요에 따라, 다양한 첨가제 및 라디칼 중합 개시제를 용해시킴으로써 제조된다. 여기서, 고형분의 농도는 용도에 따라서 적절하게 선택될 수도 있지만, 대략 0.01 내지 60질량%가 일반적이고, 0.5 내지 50질량%가 더욱 바람직하고, 대략 1 내지 20질량%가 더욱 더 바람직하다.Typically, the coating composition for forming the low refractive index layer is in liquid form, by dissolving the above-mentioned inorganic fine particles and fluorine-containing curable resin, preferably contained in a suitable solvent, and dissolving various additives and radical polymerization initiators as necessary. Are manufactured. Here, the concentration of the solid content may be appropriately selected depending on the use, but about 0.01 to 60% by mass is general, 0.5 to 50% by mass is more preferable, and about 1 to 20% by mass is even more preferable.

라디칼 중합 개시제는, 열 작용하에서 라디칼을 발생시키는 유형, 또는 광 작용하에서 라디칼을 발생시키는 유형 중 어느 것일 수도 있다. 열 작용하에서 라디칼 중합을 개시하는 화합물에 대해, 유기 또는 무기 과산화물, 유기 아조 또는 디아조 화합물 등이 이용될 수도 있다.The radical polymerization initiator may be either of a type generating radicals under thermal action or a type generating radicals under light action. For compounds which initiate radical polymerization under thermal action, organic or inorganic peroxides, organic azo or diazo compounds and the like may be used.

더욱 상세하게는, 유기 과산화물의 예로는 과산화벤조일, 과산화할로겐벤조일, 과산화라우로일, 과산화아세틸, 과산화디부틸, 쿠멘 히드로퍼옥사이드 및 부틸 히드로퍼옥사이드를 포함하고; 무기 과산화물의 예로는 과산화수소, 과황산암모늄 및 과황산칼륨을 포함하고; 아조 화합물의 예로는 2-아조-비스-이소부티로니트릴, 2-아조-비스-프로피오니트릴 및 2-아조-비스-시클로헥산디니트릴을 포함하고; 디아조 화합물의 예로는 디아조아미노벤젠및 p-니트로벤젠디아조늄을 포함한다. 광 작용하에서 라디칼 중합을 개시하는 화합물을 이용하는 경우, 전리 방사선의 조사에 의해 필름이 경화된다. 이러한 광라디칼 중합 개시제의 예로는 아세토페논류, 벤조인류, 벤조페논류, 포스핀 옥사이드류, 케탈류, 안트라퀴논류, 티옥산톤류, 아조 화합물류, 과산화물류, 2,3-디알킬디온 화합물류, 디술피드 화합물류, 플루오로아민 화합물류 및 방향족 술포늄류를 포함한다. 아세토페논류의 예로는 2,2-디에톡시아세토페논, p-디메틸아세토페논, 1-히드록시디메틸 페닐 케톤, 1-히드록시시클로헥실 페닐 케톤, 2-메틸-4-메틸티오-2-모르포리노프로피오페논 및 2-벤질-2-디메틸아미노-1-(4-모르포리노페닐)부타논을 포함한다. 벤조인류의 예로는 벤조인 벤젠술폰산 에스테르, 벤조인 톨루엔술폰산 에스테르, 벤조인 메틸 에테르, 벤조인 에틸 에테르 및 벤조인 이소프로필 에테르를 포함한다. 벤조페논류의 예로는 벤조페논, 2,4-디클로로벤조페논, 4,4-디클로로벤조페논 및p-클로로벤조페논을 포함한다. 포스핀 옥사이드류의 예로는 2,4,6-트리메틸벤조일디페닐포스핀 옥사이드를 포함한다. 또한, 이러한 광라디칼 중합 개시제와 조합하여 증감 염료를 바람직하게 이용할 수도 있다. 열 또는 광의 작용하에서 라디칼 중합을 개시하는 화합물의 첨가량은 탄소-탄소 이중 결합의 중합을 개시하기에 충분히 큰 양이라면 족하고, 그 첨가량은 저굴절율층 형성용 조성물의 전체 고형분에 대해 0.1 내지 15질량% 인것이 바람직하고, 0.5 내지 10질량% 인 것이 더욱 바람직하고, 2 내지 5질량% 인 것이 더욱 더 바람직하다.More specifically, examples of the organic peroxide include benzoyl peroxide, halogen perbenzoyl peroxide, lauroyl peroxide, acetyl peroxide, dibutyl peroxide, cumene hydroperoxide and butyl hydroperoxide; Examples of inorganic peroxides include hydrogen peroxide, ammonium persulfate and potassium persulfate; Examples of azo compounds include 2-azo-bis-isobutyronitrile, 2-azo-bis-propionitrile and 2-azo-bis-cyclohexanedinitrile; Examples of diazo compounds include diazoaminobenzenes and p-nitrobenzenediazonium. When using the compound which starts radical polymerization under light action, a film hardens by irradiation of ionizing radiation. Examples of such radical photopolymerization initiators include acetophenones, benzoins, benzophenones, phosphine oxides, ketals, anthraquinones, thioxanthones, azo compounds, peroxides, and 2,3-dialkyldione compounds. Logistics, disulfide compounds, fluoroamine compounds and aromatic sulfoniums. Examples of acetophenones are 2,2-diethoxyacetophenone, p-dimethylacetophenone, 1-hydroxydimethyl phenyl ketone, 1-hydroxycyclohexyl phenyl ketone, 2-methyl-4-methylthio-2-mo Leporinopropiophenone and 2-benzyl-2-dimethylamino-1- (4-morpholinophenyl) butanone. Examples of benzoins include benzoin benzenesulfonic acid ester, benzoin toluenesulfonic acid ester, benzoin methyl ether, benzoin ethyl ether and benzoin isopropyl ether. Examples of benzophenones include benzophenone, 2,4-dichlorobenzophenone, 4,4-dichlorobenzophenone and p-chlorobenzophenone. Examples of phosphine oxides include 2,4,6-trimethylbenzoyldiphenylphosphine oxide. In addition, a sensitizing dye can also be preferably used in combination with such an optical radical polymerization initiator. The amount of the compound that initiates radical polymerization under the action of heat or light is sufficient if the amount is large enough to initiate the polymerization of the carbon-carbon double bond, and the amount is 0.1 to 15% by mass based on the total solids of the composition for forming the low refractive index layer. It is preferable that it is, It is more preferable that it is 0.5-10 mass%, It is further more preferable that it is 2-5 mass%.

1.4 용매1.4 Solvent

저굴절율층용 코팅 조성물에 함유된 용매는, 경화성 수지가 침전을 유발하지 않고 균일하게 용해 또는 분산될 수 있는 한, 특별히 제한되지 않고, 2 종 이상 용매를 조합하여 이용할 수도 있다. 그 바람직한 예는 케톤류 (예를 들어, 아세톤, 메틸 에틸 케톤, 메틸 이소부틸 케톤), 에스테르류 (예를 들어, 에틸 아세테이트, 부틸 아세테이트), 에테르류 (예를 들어, 테트라히드로푸란, 1,4-디옥산), 알콜류 (예를 들어, 메탄올, 에탄올, 이소프로필 알콜, 부탄올, 에틸렌 글리콜), 방향족 탄화수소류 (예를 들어, 톨루엔, 크실렌) 및 물을 포함한다.The solvent contained in the coating composition for low refractive index layer is not particularly limited as long as the curable resin can be dissolved or dispersed uniformly without causing precipitation, and may be used in combination of two or more solvents. Preferred examples thereof are ketones (e.g. acetone, methyl ethyl ketone, methyl isobutyl ketone), esters (e.g. ethyl acetate, butyl acetate), ethers (e.g. tetrahydrofuran, 1,4 Dioxane), alcohols (eg methanol, ethanol, isopropyl alcohol, butanol, ethylene glycol), aromatic hydrocarbons (eg toluene, xylene) and water.

1.5 저굴절율층 형성용 코팅 조성물에 적절히 함유된 그 밖의 화합물1.5 Other compounds suitably contained in the coating composition for forming the low refractive index layer

지문방지 특성, 내수성, 내약품성 및 미끄럼성과 같은 특성을 부여하기 위해, 공지된 실리콘계 또는 불소계 지문방지제, 윤활제 등이 적절하게 첨가될 수도 있다. 이러한 첨가제를 첨가하는 경우, 첨가제의 첨가량은 저굴절율층의 전체 고형분에 기초하여 0 내지 20질량%가 바람직하고, 0 내지 10질량%가 더욱 바람직하고, 0 내지5질량% 가 더욱 더 바람직하다. 저굴절율층은 무기 필러, 실란 커플링제, 윤활제, 계면활성제 등을 함유할 수도 있다. 특히, 무기 미립자, 실란 커플링제 및 윤활제가 함유되는 것이 바람직하다. 상기 실란 커플링제에 대한 예로서, 히드록실기, 메르캅토기, 카르복시기, 에폭시기, 알킬기, 알콕시실릴기, 아실옥시기 또는 아실아미노기를 함유하는 실란 커플링제가 바람직하고, 에폭시기, 중합성 아실옥시기 (예를 들어, (메타)아크릴로일) 또는 중합성 아실아미노기 (예를 들어, 아크릴아미노, 메타크릴아미노) 를 함유하는 실란 커플링제가 더욱 바람직하다. 상기 윤활제는 디메틸실리콘과 같은 실리콘 화합물 또는 폴리실록산 부분이 도입된 불소 함유 화합물인 것이 바람직하다.In order to impart properties such as anti-fingerprint properties, water resistance, chemical resistance and slipperiness, a known silicone-based or fluorine-based fingerprint agent, lubricant, or the like may be appropriately added. In the case of adding such an additive, the amount of the additive added is preferably 0 to 20% by mass, more preferably 0 to 10% by mass, even more preferably 0 to 5% by mass, based on the total solids of the low refractive index layer. The low refractive index layer may contain an inorganic filler, a silane coupling agent, a lubricant, a surfactant, and the like. In particular, it is preferable that inorganic fine particles, a silane coupling agent, and a lubricant are contained. As an example of the said silane coupling agent, the silane coupling agent containing a hydroxyl group, a mercapto group, a carboxyl group, an epoxy group, an alkyl group, an alkoxysilyl group, an acyloxy group, or an acylamino group is preferable, and an epoxy group, a polymerizable acyloxy group More preferred is a silane coupling agent containing (eg, (meth) acryloyl) or a polymerizable acylamino group (eg, acrylamino, methacrylamino). The lubricant is preferably a fluorine-containing compound into which a silicone compound, such as dimethylsilicone, or a polysiloxane moiety is introduced.

1.6 유기실릴 화합물1.6 Organosilyl compounds

유기실릴 화합물은 저굴절율층 형성용 코팅 조성물에서 가수분해 및 축합에 의해 가수분해물 및 또는 부분 축합물이 되고, 조성물중에서 바인더로서 작용할 뿐만 아니라 필름 코팅의 유연화도 가능하게 하고 내알칼리성을 향상시킨다. 본 발명에서, 저굴절율층 형성용 코팅 조성물에 바람직하게 이용되는 유기실릴 화합물로는 이하의 화학식 1으로 표현된 화합물을 포함한다.The organosilyl compound becomes a hydrolyzate and / or a partial condensate by hydrolysis and condensation in the coating composition for forming the low refractive index layer, and not only acts as a binder in the composition, but also enables softening of the film coating and improves alkali resistance. In the present invention, the organosilyl compound which is preferably used in the coating composition for forming the low refractive index layer includes a compound represented by the following formula (1).

[화학식 1][Formula 1]

R11mSi(X11)nR 11 mSi (X 11 ) n

여기서, X11는 -OH, 할로겐 원자, -OR12기 또는 -OCOR12기를 나타내고, R11은 알킬기, 알케닐기 또는 아릴기를 나타내고, R12는 알킬기를 나타내고, m+n 은 4 이고, m 과 n 은 각각 양의 정수를 나타낸다) 더욱 상세하게는, R11는 1 내지 10 의 탄소수를 가지는 치환 또는 미치환 알킬기 (예를 들어, 메틸, 에틸, 프로필, i-프로필, 부틸, 헥실, 옥틸), 2 내지 10 의 탄소수를 가지는 치환 또는 미치환 알케닐기 (예를 들어, 비닐, 알릴 또는 2-부텐-1-일) 또는 6 내지 10 의 탄소수를 가지는 치환 또는 미치환 아릴기 (예를 들어, 페닐, 나프틸) 를 나타내고, R12는 R11으로 표현된 알킬기와 동일한 의미를 가지는 기를 나타낸다. R11또는 R12로 표현된 기가 치환기를 가지는 경우, 치환기의 바람직한 예로는 할로겐 (예를 들어, 불소, 염소, 브롬), 히드록실기, 메르캅토기, 카르복실기, 에폭시기, 알킬기 (예를 들어, 메틸, 에틸, i-프로필, 프로필, tert-부틸),아릴기 (예를 들어, 페닐, 나프틸), 방향족 복소환식기 (예를 들어, 퓨릴, 피라졸릴, 피리딜), 알콕시기 (예를 들어, 메톡시, 에톡시, i-프로폭시, 헥실옥시), 아릴옥시기 (예를 들어, 페녹시), 알킬티오기 (예를 들어, 메틸티오, 에틸티오), 아릴티오기 (예를 들어, 페닐티오), 알케닐기 (예를 들어, 비닐, 알릴), 아실옥시기 (예를 들어, 아세톡시, 아크릴로일옥시, 메타크릴로일옥시), 알콕시카르보닐기 (예를 들어, 메톡시카르보닐, 에톡시카르보닐), 아릴옥시카르보닐기 (예를 들어, 페녹시카르보닐), 카르바모일기 (예를 들어, 카르바모일, N-메틸카르바모일, N,N-디메틸카르바모일, N-메틸-N-옥틸카르바모일), 및 아실아미노기 (예를 들어, 아세틸아미노, 벤조일아미노, 아크릴아미노, 메타크릴아미노) 를 포함한다. X 11 represents an —OH, a halogen atom, an —OR 12 group or an —OCOR 12 group, R 11 represents an alkyl group, an alkenyl group or an aryl group, R 12 represents an alkyl group, m + n is 4, m and n each represents a positive integer. More specifically, R 11 represents a substituted or unsubstituted alkyl group having 1 to 10 carbon atoms (eg, methyl, ethyl, propyl, i-propyl, butyl, hexyl, octyl) A substituted or unsubstituted alkenyl group having 2 to 10 carbon atoms (eg, vinyl, allyl or 2-buten-1-yl) or a substituted or unsubstituted aryl group having 6 to 10 carbon atoms (eg, Phenyl, naphthyl), and R 12 represents a group having the same meaning as the alkyl group represented by R 11 . When the group represented by R 11 or R 12 has a substituent, preferred examples of the substituent include halogen (eg, fluorine, chlorine, bromine), hydroxyl group, mercapto group, carboxyl group, epoxy group, alkyl group (eg, Methyl, ethyl, i-propyl, propyl, tert-butyl), aryl groups (e.g. phenyl, naphthyl), aromatic heterocyclic groups (e.g. furyl, pyrazolyl, pyridyl), alkoxy groups (e.g. For example, methoxy, ethoxy, i-propoxy, hexyloxy), aryloxy group (e.g., phenoxy), alkylthio group (e.g., methylthio, ethylthio), arylthio group ( For example, phenylthio), alkenyl groups (eg, vinyl, allyl), acyloxy groups (eg, acetoxy, acryloyloxy, methacryloyloxy), alkoxycarbonyl groups (eg, Methoxycarbonyl, ethoxycarbonyl), aryloxycarbonyl groups (eg phenoxycarbonyl), carbamoyl groups (eg carba 1, N-methylcarbamoyl, N, N-dimethylcarbamoyl, N-methyl-N-octylcarbamoyl), and acylamino groups (eg, acetylamino, benzoylamino, acrylamino, methacrylamino ).

화학식 1의 화합물은 가수분해 및 상호 축합을 포함하는 소위 졸-겔법에 의해 매트릭스를 형성한다. 화학식 1의 화합물은 이하의 4개의 식으로 표현된다.The compound of formula 1 forms a matrix by the so-called sol-gel method which includes hydrolysis and mutual condensation. The compound of formula 1 is represented by the following four formulas.

[화학식 1a] Si(X11)4 [Formula 1a] Si (X 11 ) 4

[화학식 1b] R11Si(X11)3 Formula 1b] R 11 Si (X 11 ) 3

[화학식 1c] R11 2Si(X11)2 [Formula 1c] R 11 2 Si (X 11 ) 2

[화학식 1d] R11 3SiX11 Formula 1d R 11 3 SiX 11

화학식 1a의 성분에 대해 이하에 상세하게 설명한다. 화학식 1a로 표현된 화합물의 구체예로는 테트라메톡시실란, 테트라에톡시실란, 테트라-i-프로폭시실란, 테트라-n-프로폭시실란, 테트라-n-부톡시실란, 테트라-s-부톡시실란 및 테트라-tert-부톡시실란을 포함한다. 특히, 테트라메톡시실란 및 테트라에톡시실란이 바람직하다.The component of general formula (1a) is demonstrated in detail below. Specific examples of the compound represented by Formula 1a include tetramethoxysilane, tetraethoxysilane, tetra-i-propoxysilane, tetra-n-propoxysilane, tetra-n-butoxysilane, tetra-s-part Methoxysilane and tetra-tert-butoxysilane. In particular, tetramethoxysilane and tetraethoxysilane are preferable.

화학식 1b의 성분에 대해 이하에 설명한다. 화학식 1b의 성분에서, R11은 화학식 1의 R11과 동일한 의미를 가지는 기를 나타내고, 그 예로는 메틸기, 에틸기, n-프로필기 및 i-프로필기와 같은 알킬기, γ-클로로프로필기, 비닐기, CF3CH2CH2CH2-,C2F5CH2CH2CH2-,C3F7CH2CH2CH2-,C2F5CH2CH2-,CF3OCH2CH2CH2-,C2F5OCH2CH2CH2-,C3F7OCH2CH2CH2-,(CF3)2CHOCH2CH2CH2-,C4F9CH2OCH2CH2CH2-,3-(퍼플루오로시클로헥실옥시)프로필기, H(CF2)4CH2OCH2CH2CH2-,H(CF2)4CH2CH2CH2-,3-글리시독시프로필기, 3-아크릴옥시프로필기, 3-메타크릴옥시프로필기, 3-메르캅토프로필기, 페닐기 및 3,4-에폭시시클로헥실에틸기를 포함한다. X11는 -OH, 할로겐 원자, -OR12기 또는 -OCOR12기를 나타낸다. R12는 식 (2) 의 R12와 동일한 의미를 가지는 기를 나타내고, 1 내지 5 의 탄소수를 가지는 알콕시기 또는 1 내지 4 의 탄소수를 가지는 아실옥시기인 것이 바람직하고, 그 예로는 염소 원자, 메톡시기, 에톡시기, n-프로필옥시기, i-프로필옥시기, n-부틸옥시기, s-부틸옥시기, tert-부틸옥시기 및 아세틸옥시기를 포함한다. 화학식 1b의 성분의 구체예로는 메틸트리메톡시실란, 메틸트리에톡시실란, 에틸트리메톡시실란, 에틸트리에톡시실란, n-프로필트리메톡시실란, n-프로필트리에톡시실란, i-프로필트리메톡시실란, i-프로필트리에톡시실란, 클로로프로필트리메톡시실란, 3-클로로프로필트리에톡시실란, 비닐트리메톡시실란, 비닐트리에톡시실란, 3-글리시독시프로필트리메톡시실란, 3-글리시독시프로필트리에톡시실란, 3-아크릴옥시프로필트리메톡시실란, 3-아크릴옥시프로필트리에톡시실란, 3-메타크릴옥시프로필트리메톡시실란, 3-메타크릴옥시프로필트리에톡시실란, 3-메르캅토프로필트리메톡시실란, 3-메르캅토프로필트리에톡시실란, 페닐트리메톡시실란, 페닐트리에톡시실란, 3,4-에폭시시클로헥실에틸트리메톡시실란, 3,4-에폭시시클로헥실에틸트리에톡시실란, CF3CH2CH2CH2Si(OCH3)3-,C2H5CH2CH2CH2Si(OCH3)3-,C2F5CH2CH2Si(OCH3)3-,C3F7CH2CH2CH2Si(OCH3)3-,C2F5OCH2CH2CH2Si(OCH3)3-,C3F7OCH2CH2CH2Si(OC2H5)3-,(CF3)2CHOCH2CH2CH2Si(OCH3)3-,C4F9CH2OCH2CH2CH2Si(OCH3)3-,H(CF2)4CH2OCH2CH2CH2Si(OCH3)3-,및 3-(퍼플루오로시클로헥실옥시) 프로필실란을 포함한다.The component of General formula (1b) is demonstrated below. In the component of formula 1b, R 11 represents a group having the same meaning as that of R 11 of formula 1, and examples thereof include methyl, ethyl, n- propyl, and i- propyl groups such as alkyl group, γ- chloropropyl group, a vinyl group, CF 3 CH 2 CH 2 CH 2- , C 2 F 5 CH 2 CH 2 CH 2- , C 3 F 7 CH 2 CH 2 CH 2- , C 2 F 5 CH 2 CH 2- , CF 3 OCH 2 CH 2 CH 2- , C 2 F 5 OCH 2 CH 2 CH 2- , C 3 F 7 OCH 2 CH 2 CH 2- , (CF 3 ) 2 CHOCH 2 CH 2 CH 2- , C 4 F 9 CH 2 OCH 2 CH 2 CH 2- , 3- (perfluorocyclohexyloxy) propyl group, H (CF 2 ) 4 CH 2 OCH 2 CH 2 CH 2- , H (CF 2 ) 4 CH 2 CH 2 CH 2- , 3 -Glycidoxypropyl group, 3-acryloxypropyl group, 3-methacryloxypropyl group, 3-mercaptopropyl group, phenyl group and 3,4-epoxycyclohexylethyl group. X 11 represents a -OH, a halogen atom, an -OR 12 group, or an -OCOR 12 group. R 12 represents a group having the same meaning as R 12 in formula (2), preferably an acyloxy group having an alkoxy group or 1 to 4 carbon atoms, a has a range of 1 to 5 carbon atoms, and examples thereof include a chlorine atom, a methoxy group , Ethoxy group, n-propyloxy group, i-propyloxy group, n-butyloxy group, s-butyloxy group, tert-butyloxy group and acetyloxy group. Specific examples of the component of formula 1b include methyltrimethoxysilane, methyltriethoxysilane, ethyltrimethoxysilane, ethyltriethoxysilane, n-propyltrimethoxysilane, n-propyltriethoxysilane, i -Propyltrimethoxysilane, i-propyltriethoxysilane, chloropropyltrimethoxysilane, 3-chloropropyltriethoxysilane, vinyltrimethoxysilane, vinyltriethoxysilane, 3-glycidoxypropyltri Methoxysilane, 3-glycidoxypropyltriethoxysilane, 3-acryloxypropyltrimethoxysilane, 3-acryloxypropyltriethoxysilane, 3-methacryloxypropyltrimethoxysilane, 3-methacryl Oxypropyltriethoxysilane, 3-mercaptopropyltrimethoxysilane, 3-mercaptopropyltriethoxysilane, phenyltrimethoxysilane, phenyltriethoxysilane, 3,4-epoxycyclohexylethyltrimethoxy Silane, 3,4-epoxycyclohexylethyltriethoxysilane, CF 3 CH 2 CH 2 CH 2 Si (OCH 3 ) 3- , C 2 H 5 CH 2 CH 2 CH 2 Si (OCH 3 ) 3- , C 2 F 5 CH 2 CH 2 Si (OCH 3 ) 3- , C 3 F 7 CH 2 CH 2 CH 2 Si (OCH 3 ) 3- , C 2 F 5 OCH 2 CH 2 CH 2 Si (OCH 3 ) 3- , C 3 F 7 OCH 2 CH 2 CH 2 Si (OC 2 H 5 ) 3- , (CF 3 ) 2 CHOCH 2 CH 2 CH 2 Si (OCH 3 ) 3- , C 4 F 9 CH 2 OCH 2 CH 2 CH 2 Si (OCH 3 ) 3- , H (CF 2 ) It includes, and 3- (perfluoro-cyclohexyloxy) silane - 4 CH 2 OCH 2 CH 2 CH 2 Si (OCH 3) 3.

이들 중에서, 불소 원자를 가지는 유기실릴 화합물이 바람직하다. R로서 불소 원자를 가지지 않는 유기실 화합물을 이용하는 경우, 메틸트리메톡시실란 또는 메틸트리에톡시실란을 이용하는 것이 바람직하다. 이들 유기실릴 화합물들 중 1종을 단독으로 이용할 수도 있고, 또는, 2 종 이상을 조합하여 이용할 수도 있다.Among these, organosilyl compounds having a fluorine atom are preferable. When using the organosil compound which does not have a fluorine atom as R, it is preferable to use methyl trimethoxysilane or methyl triethoxysilane. One of these organosilyl compounds may be used alone, or two or more thereof may be used in combination.

화학식 1c의 성분에 대해 이하에 설명한다. 화학식 1c의 성분은 식 R11 2Si(X11)2로 표현된 유기실릴 화합물이다 {R11및 X11은 화학식 1b의 성분으로 이용된 유기실릴 화합물에 정의된 R11및 X11과 동일한 의미를 갖는다}. 여기서, 복수의 R11들은 동일한 기가 아닐 수도 있다. 이 유기실릴 화합물의 구체예로는 디메틸디메톡시실란, 디메틸디에톡시실란, 디에틸디메톡시실란, 디에틸디에톡시실란, 디-n-프로필디메톡시실란, 디-n-프로필디에톡시실란, 디-i-프로필디메톡시실란, 디-i-프로필디에톡시실란, 디페닐디메톡시실란, 디페닐디에톡시실란, (CF3CH2CH2)2Si(OCH3)2,(CF3CH2CH2CH2)2Si(OCH3)2,(C3F7OCH2CH2CH2)2Si(OCH3)2,[H(CF2)6CH2OCH2CH2CH2]2Si(OCH3)2및 (C2F5OCH2CH2)2Si(OCH3)2를 포함한다. 불소원자를 가지는 유기실릴 화합물이 바람직하다. R11로서 불소 원자를 가지지 않는 유기실릴 화합물을 이용하는 경우, 디메틸디메톡시실란 또는 디메틸디에톡시실란이 바람직하다. 화학식 1c의 성분으로 표현된 유기실릴 화합물들 중 1종을 단독으로 이용할 수도 있고, 또는 2 종 이상을 조합하여 이용할 수도 있다.The component of Formula (1c) is demonstrated below. The component of formula 1c is an organosilyl compound represented by the formula R 11 2 Si (X 11 ) 2 {R 11 and X 11 are the same meanings as R 11 and X 11 defined in the organosylyl compound used as component of formula 1b. Has}. Here, the plurality of R 11 may not be the same group. Specific examples of the organosilyl compound include dimethyldimethoxysilane, dimethyldiethoxysilane, diethyldimethoxysilane, diethyldiethoxysilane, di-n-propyldimethoxysilane, di-n-propyldiethoxysilane and di -i-propyldimethoxysilane, di-i-propyldiethoxysilane, diphenyldimethoxysilane, diphenyldiethoxysilane, (CF 3 CH 2 CH 2 ) 2 Si (OCH 3 ) 2 , (CF 3 CH 2 CH 2 CH 2 ) 2 Si (OCH 3 ) 2 , (C 3 F 7 OCH 2 CH 2 CH 2 ) 2 Si (OCH 3 ) 2 , [H (CF 2 ) 6 CH 2 OCH 2 CH 2 CH 2 ] 2 Si (OCH 3 ) 2 and (C 2 F 5 OCH 2 CH 2 ) 2 Si (OCH 3 ) 2 . Organosilyl compounds having fluorine atoms are preferred. When using the organosilyl compound which does not have a fluorine atom as R11, dimethyl dimethoxysilane or dimethyl diethoxysilane is preferable. One of the organosilyl compounds represented by the component of Formula 1c may be used alone or in combination of two or more thereof.

화학식 1d의 성분에 대해 이하에 설명한다. 화학식 1d의 성분은 식 R11 3SiX11으로 표현된 유기실릴 화합물이다{여기서, R11및 X11은 화학식 1b 의 성분으로 이용되는 유기실릴 화합물에 정의된 R11및 X11과 동일한 의미를 갖는다}. 여기서, 복수의 R11는 동일하지 않을 수도 있다. 이 유기실릴 화합물의 구체예로는 트리메틸메톡시실란, 트리메틸에톡시실란, 트리에틸메톡시실란, 트리에틸에톡시실란, 트리-n-프로필메톡시실란, 트리-n-프로필에톡시실란, 트리-i-프로필메톡시실란, 트리-i-프로필에톡시실란, 트리페닐메톡시실란 및 트리페닐에톡시실란을 포함한다.The component of Formula (1d) is demonstrated below. The component of formula 1d is an organosilyl compound represented by the formula R 11 3 SiX 11 (wherein R 11 and X 11 have the same meaning as R 11 and X 11 defined in the organosylyl compound used as component of formula 1b). }. Here, the plurality of R 11 may not be the same. Specific examples of this organosilyl compound include trimethylmethoxysilane, trimethylethoxysilane, triethylmethoxysilane, triethylethoxysilane, tri-n-propylmethoxysilane, tri-n-propylethoxysilane and tri -i-propylmethoxysilane, tri-i-propylethoxysilane, triphenylmethoxysilane and triphenylethoxysilane.

본 발명에서, 화학식 1a 내지 화학식 1d 의 성분 각각은 단독으로 이용될 수도 있지만 혼합물로서 이용될 수도 있고, 이 경우, 혼합 비율은, 화학식 1b는 성분 화학식 1a의 100 질량부에 대해 0 내지 100 질량부이고, 바람직하게는 1내지 60 질량부이고, 더욱 바람직하게는 1 내지 40 질량부이고; 화학식 1c 성분은 화학식 1a성분의 100 질량부에 대해 바람직하게 0 내지 10 질량부이고, 더욱 바람직하게는 0.1 내지 5 질량부이고, 더욱 더 바람직하게는 0.5 내지3 질량부이며; 화학식 1d 성분 은 화학식 1a성분 100 질량부에 대해 바람직하게는 0 내지 10 질량부이고, 더욱 바람직하게는 0.1 내지 5 질량부이고, 더욱 더 바람직하게는 0.5 내지 3 질량부이다. 화학식 1a 성분 내지 화학식 1d 성분 중에서, 화학식 1a성분의 비율은 전체 유기실릴 화합물의 100질량% 중 30질량% 이상인 것이 바람직하다. 화학식 1a성분의 비율이 30질량% 이상인 경우, 획득되는 필름 코팅의 접착성 또는 경화성의 감소와 같은 문제가 발생하지 않아서 바람직하다. 화학식 1a 내지 화학식 1d 성분 이외에, JP-A-2006-30740호 단락 [0039] 및 [0052] 내지 [0067] 에 기재된 화합물을 바람직하게 첨가할 수도 있고, 또는 여기 기재된 저굴절율층 형성용 코팅 조성물을 바람직하게 제작할 수도 있다.In the present invention, each of the components of Formulas 1a to 1d may be used alone but may be used as a mixture, in which case the mixing ratio is 0 to 100 parts by mass based on 100 parts by mass of the component Formula 1a. It is preferably 1 to 60 parts by mass, more preferably 1 to 40 parts by mass; The component of Formula 1c is preferably 0 to 10 parts by mass, more preferably 0.1 to 5 parts by mass, even more preferably 0.5 to 3 parts by mass with respect to 100 parts by mass of the component of Formula 1a; The component of Formula 1d is preferably 0 to 10 parts by mass, more preferably 0.1 to 5 parts by mass, even more preferably 0.5 to 3 parts by mass with respect to 100 parts by mass of the formula 1a component. It is preferable that the ratio of the component (1a) is 30 mass% or more in 100 mass% of all the organosilyl compounds among the formula (1a)-(1d) component. When the ratio of the component of Formula 1a is 30% by mass or more, problems such as a decrease in adhesiveness or hardenability of the obtained film coating do not occur, which is preferable. In addition to the components of Formula 1a to Formula 1d, the compounds described in paragraphs [0039] and [0052] to [0067] of JP-A-2006-30740 may be preferably added, or the coating composition for forming a low refractive index layer described herein may be It is also possible to produce preferably.

1.7 저굴절율층의 형성1.7 Formation of Low Refractive Index Layer

저굴절율층은 중공 입자, 유기실릴 화합물, 및 필요에 따라 그 밖의 임의의 성분이 그 내부에 용해 또는 분산된 코팅 조성물을 도포하고, 코팅과 동시에 또는 코팅 및 건조 후에, 전리 방사선의 조사 (예를 들어, 광 조사 또는 전자 빔의 조사) 또는 가열 하에서 가교 또는 중합 반응을 통해서 그 코팅을 경화시킴으로써 형성되는 것이 바람직하다.The low refractive index layer applies a coating composition in which hollow particles, organosilyl compounds, and other optional ingredients are dissolved or dispersed therein, and simultaneously with or after coating and drying, irradiates with ionizing radiation (e.g., For example, by irradiation of an electron beam or irradiation of an electron beam) or by heating and curing the coating through a crosslinking or polymerization reaction.

특히, 저굴절율층이 전리 방사선-경화성 화합물의 가교 또는 중합 반응을 통해서 형성되는 경우, 그 가교 또는 중합 반응은 10체적% 이하의 산소 농도를 가지는 분위기에서 수행되는 것이 바람직하다. 10체적% 이하의 산소 농도를 가지는 분위기에서 저굴절율층을 형성함으로써, 물리적 강도 및 내약품성이 우수한 최외층이 획득될 수 있다. 산소 농도는 6체적% 이하인 것이 바람직하고, 4체적% 이하인 것이 더욱 바람직하고, 2체적% 이하인 것이 더욱 더 바람직하고, 1체적% 이하인 것이 가장 바람직하다. 10체적% 이하로 산소 농도를 감소시키기 위한 수단으로는, 대기 (질소 농도: 약 79체적%, 산소 농도: 약 21체적%) 를 다른 기체로 치환시키는 것이 바람직하고, 질소(질소 퍼지) 로의 치환이 더욱 바람직하다.In particular, when the low refractive index layer is formed through the crosslinking or polymerization reaction of the ionizing radiation-curable compound, the crosslinking or polymerization reaction is preferably performed in an atmosphere having an oxygen concentration of 10 vol% or less. By forming the low refractive index layer in an atmosphere having an oxygen concentration of 10 vol% or less, the outermost layer excellent in physical strength and chemical resistance can be obtained. It is preferable that oxygen concentration is 6 volume% or less, It is more preferable that it is 4 volume% or less, It is further more preferable that it is 2 volume% or less, It is most preferable that it is 1 volume% or less. As a means for reducing the oxygen concentration to 10% by volume or less, it is preferable to replace the atmosphere (nitrogen concentration: about 79% by volume, oxygen concentration: about 21% by volume) with another gas, and replace with nitrogen (nitrogen purge). This is more preferable.

2. 점착층2. Adhesive layer

본 발명에 따른 상기 아크릴계 점착제 조성물이 도포되는 코팅 기재는 폴리에틸렌테레프탈레이트(PET) 필름, 트리아세테이트셀룰로오스(TAC) 필름, 폴리프로필렌(PP) 필름 또는 폴리에틸렌(PE) 필름 중 어느 하나인 것이 바람직하다. The coating substrate to which the acrylic pressure-sensitive adhesive composition is applied according to the present invention is preferably any one of a polyethylene terephthalate (PET) film, a triacetate cellulose (TAC) film, a polypropylene (PP) film or a polyethylene (PE) film.

2.1 점착제2.1 Adhesive

본 발명에 따른 상기 점착제 조성물에서 상기 아크릴계 공중합체 수지의 중량평균분자량은 5000,000 ~ 1,200,000인 것이 바람직하며, 더욱 바람직하게는 600,000 ~ 900,000이다. 또한, 상기 점착제 조성물에서 상기 (다관능성) 경화제는 상기 고분자량 아크릴계 공중합체 수지 100 중량부에 대하여, 통상적으로는 0.1 내지 20 중량부, 바람직하게는 0.5 내지 5 중량부의 양으로 사용될 수 있다. 상기 범위의 함량으로 다관능성 경화제를 사용하는 것에 의해 상기 아크릴계 공중합체 수지와의 사이에서 바람직한 3 차원 가교구조가 형성된다. 또한, 이들 다관능성 경화제는 단독으로 또는 조합하여 사용할 수 있다. The weight average molecular weight of the acrylic copolymer resin in the pressure-sensitive adhesive composition according to the invention is preferably 5000,000 to 1,200,000, more preferably 600,000 to 900,000. In addition, in the pressure-sensitive adhesive composition, the (multifunctional) curing agent may be generally used in an amount of 0.1 to 20 parts by weight, preferably 0.5 to 5 parts by weight based on 100 parts by weight of the high molecular weight acrylic copolymer resin. By using a polyfunctional curing agent in the content of the above range, a preferable three-dimensional crosslinked structure is formed between the acrylic copolymer resin. In addition, these polyfunctional hardeners can be used individually or in combination.

또한, 상기 점착제 조성물에서 상기 아크릴 공중합체 수지의 분자량 분포는 3 내지 6의 값을 가지며, 바람직하게는 3.5 내지 5의 값을 나타낸다. 분자량 분포가 3 미만의 경우 제조상의 문제 및 제조비용이 많이 들므로 제조하고 사용하는데 문제점이 있으며, 분자량 분포 값이 6을 초과할 경우 잔존하는 올리고머 및 저분자량의 고분자가 내열 신뢰성 평가 시 오렌지필 현상 및 필-오프 문제를 일으키는 요인이 된다.In addition, the molecular weight distribution of the acrylic copolymer resin in the pressure-sensitive adhesive composition has a value of 3 to 6, preferably represents a value of 3.5 to 5. If the molecular weight distribution is less than 3, there is a problem in manufacturing and using because of high manufacturing problems and manufacturing costs, and if the molecular weight distribution value exceeds 6, the remaining oligomers and low molecular weight polymers have an orange peel phenomenon when evaluating heat resistance reliability. And a peel-off problem.

또한, 본 발명에 따른 상기 아크릴계 공중합체 수지의 유리전이온도는 -30℃ 내지 -10℃이며, 바람직하게는 -26℃ 내지 -20℃로 한다. 상기 유리전이온도가 -30℃ 미만일 경우 점착제 조성물이 경화되어 3차원 네트워크 구성을 가진다 해도 고분자 자체의 유리전이온도가 낮기 때문에 내열성 평가 시 변형이 일어나 신뢰성에 문제를 일으키게 되고, 유리전이 온도가 -10℃ 초과할 경우 점착제 조성물이 경화되면 낮은 유리전이온도를 가진 조성물보다 분자구조가 더 치밀하게 3차원 네트워크 구성을 가지게 된다. 점착제 자체는 점탄성을 가지는데 이 경우에는 탄성 쪽으로 더 치우치게 된다. 이렇게 되면 광학필름이 이물이나 외부충격에 대한 보호역할을 해야 되는데 탄성이 높고, 점성이 낮아지게 되면 외부충격을 흡수하지 못해 제품에 손상을 주게 된다.In addition, the glass transition temperature of the acrylic copolymer resin according to the present invention is -30 ℃ to -10 ℃, preferably -26 ℃ to -20 ℃. When the glass transition temperature is less than -30 ℃, even if the pressure-sensitive adhesive composition is cured to have a three-dimensional network configuration, because the glass transition temperature of the polymer itself is low, deformation occurs during heat resistance evaluation, causing a problem in reliability, the glass transition temperature is -10 When the pressure-sensitive adhesive composition is cured when it is higher than C, the molecular structure is more densely structured than the composition having a low glass transition temperature. The adhesive itself is viscoelastic, in which case it is more biased towards the elastic side. In this case, the optical film should act as a protection against foreign objects and external shocks. If the elasticity is high and the viscosity becomes low, the external film cannot absorb the external shocks and damage the product.

또한, 본 발명에 따른 상기 아크릴 공중합체 수지의 경화도(겔분율)는 60% 내지 99%이며, 바람직하게는 75% 내지 95%가 경화되도록 해야 한다. 경화가 진행되어 겔이 형성되는 정도가 60% 미만인 경우, 경화에 참여하지 못한 고분자들이 신뢰성시 필-오프 문제를 야기시키고, 또한 경화가 진행되어 겔이 형성되는 정도가 99% 초과되는 경우 대부분의 공중합체들이 경화에 참여하여 점착력이 저하된다.In addition, the degree of curing (gel fraction) of the acrylic copolymer resin according to the present invention is 60% to 99%, preferably 75% to 95% to be cured. When the curing is progressed and the degree of gel formation is less than 60%, the polymers that do not participate in the curing cause a peel-off problem in reliability, and in most cases when the degree of gel formation exceeds 99% when the curing proceeds. Copolymers participate in curing and the adhesion decreases.

또한, 본 발명에 따른 상기 아크릴계 공중합체 수지는 아크로니트릴, 알킬아크릴레이트, 부틸아크릴레이트, 2-에틸헥실아크릴레이트, t-부틸아크릴레이트, n-옥틸아크릴레이트, 아크릴산, 메타아크릴산, 이타콘산, 4-하이드록시부틸아크릴레이트, 2-하이드록시에틸(메타)아크릴레이트, 2-하이드록시에틸렌글리콜(메타)아크릴레이트 및 2-하이드록시프로필렌글리콜(메타)아크릴레이트 중에서 선택된 적어도 하나를 사용하여 제조된 것이 바람직하다. 바람직하게는, 본 발명에 따른 상기 아크릴계 공중합체 수지는 아크릴로니트릴 10 ~ 50 중량부, 탄소수가 2 ~ 12인 알킬기를 가진 알킬아크릴레이트 30 ~ 80 중량부, 아크릴산 또는 메타아크릴산 1 ~ 20 중량부 및 하이드록시에틸아크릴레이트 또는 하이드록시 에틸메타아크릴레이트 1 ~ 10 중량부로 이루어진 것이 바람직하다.In addition, the acrylic copolymer resin according to the present invention is acrylonitrile, alkyl acrylate, butyl acrylate, 2-ethylhexyl acrylate, t- butyl acrylate, n-octyl acrylate, acrylic acid, methacrylic acid, itaconic acid, Prepared using at least one selected from 4-hydroxybutyl acrylate, 2-hydroxyethyl (meth) acrylate, 2-hydroxyethylene glycol (meth) acrylate and 2-hydroxypropylene glycol (meth) acrylate Is preferred. Preferably, the acrylic copolymer resin according to the present invention is 10 to 50 parts by weight of acrylonitrile, 30 to 80 parts by weight of alkyl acrylate having an alkyl group having 2 to 12 carbon atoms, 1 to 20 parts by weight of acrylic acid or methacrylic acid And hydroxyethyl acrylate or hydroxy ethyl methacrylate is preferably composed of 1 to 10 parts by weight.

2.2 경화제2.2 Curing Agent

경화제로서 사용할 수 있는 폴리이소시아네이트 화합물로서는, 상기 폴리이소시아네이트 화합물 및 이들의 트리메틸올프로판 부가물형 변성체, 뷰렛형 변성체 또는 이소시아누레이트형 변성체 등의 다관능 폴리이소시아네이트가 이용된다. 그 중에서도 평균 관능기수 2 초과의 변성체인 것이 바람직하다. 예를 들면 듀라네이트 P301-75E(아사히 가세이사 제조, 트리메틸올프로판 부가물형 HDI, 이소시아네이트기 함유량: 12.9 질량％, 고형분: 75 질량％), 콜로네이트 L(닛본 폴리우레탄사 제조, 트리메틸올프로판 부가물형 TDI, 이소시아네이트기 함유량: 13.5 질량％, 고형분: 75 질량％) 등을 사용할 수 있다. 폴리이소시아네이트 화합물로서는, 이소시아네이트기 함유량(용액의 경우에는 용제를 제외함) 10 내지 30 질량％의 것을 우레탄 수지 100 질량부에 대하여 20 질량부 이하의 범위에서 반응시키는 것이 바람직하다. 보다 양호한 재박리성이 발휘되기 때문에 0.01 내지 10 질량부인 것이 보다 바람직하다. 이에 대하여, 폴리이소시아네이트 화합물을 사용하지 않는 경우에는 응집력이 저하되어 응집 파괴되기 쉬워지고, 20 질량부를 초과하면 응집이 너무 강하여 점착력이 저하되는 경향이 있다. 이 폴리이소시아네이트 화합물의 사용량의 조정에 의해 점착제의 강도를 조정하는 것이 가능하기 때문에, 점착성과 강도가 균형을 이룬 점착제를 용이하게 얻을 수 있다. 폴리이소시아네이트 화합물은 피착체에 상기 점착제를 도공하기 직전에 우레탄 수지에 첨가하여 반응시키는 것이 바람직하다. 가교제와 우레탄 수지에 잔존하는 2급 수산기를 반응시킬 때는, 우레탄화 촉매를 사용할 수 있다. 우레탄화 촉매로서는,예비 중합체 생성 반응시에 사용되는 우레탄화 촉매를 사용할 수 있다.As a polyisocyanate compound which can be used as a hardening | curing agent, polyfunctional polyisocyanate, such as the said polyisocyanate compound and these trimethylol propane adduct-type modified bodies, a biuret-type modified body, or an isocyanurate type modified body, is used. Especially, it is preferable that it is a modified body with an average number of functional groups more than two. For example, duranate P301-75E (made by Asahi Kasei Co., trimethylolpropane addition product type HDI, isocyanate group content: 12.9 mass%, solid content: 75 mass%), colonate L (made by Nippon Polyurethane company, trimethylol propane addition). Water type TDI, isocyanate group content: 13.5 mass%, solid content: 75 mass%), etc. can be used. As a polyisocyanate compound, what makes 10-30 mass% of isocyanate group content (except a solvent in the case of a solution) react with 20 mass parts or less with respect to 100 mass parts of urethane resins. Since better repeelability is exhibited, it is more preferable that it is 0.01-10 mass parts. On the other hand, when a polyisocyanate compound is not used, cohesion force falls and coagulation | rupture breaks easily, and when it exceeds 20 mass parts, there exists a tendency for cohesion to be too strong and adhesive force falls. Since the intensity | strength of an adhesive can be adjusted by adjustment of the usage-amount of this polyisocyanate compound, the adhesive which balanced adhesiveness and strength can be obtained easily. It is preferable that a polyisocyanate compound is added to a urethane resin and made to react just before coating the said adhesive to a to-be-adhered body. When making the secondary hydroxyl group which remain | survives in a crosslinking agent and a urethane resin, a urethanation catalyst can be used. As a urethanation catalyst, the urethanation catalyst used at the time of a prepolymer formation reaction can be used.

본 발명에서 폴리이소시아네이트 화합물을 반응시킴으로써, 아크릴 수지에 잔존하는 2급 수산기 또는 3급 수산기를 통해 가교한 아크릴 수지는 점착 성능과 강도의 균형이 우수하고, 점착 성능을 유지하면서 재박리성이 우수하다고 추정된다. 또한, 상술한 우레탄 수지를 이용한 것이기 때문에 저비용이다. 또한, 아크릴계 화합물을 포함하지 않기 때문에 피착체에의 이행성, 피부 자극성이 낮다고 생각된다. 또한, 이 가교된 우레탄 수지는 분자량이 크고, 저온시에 단단해지기 어렵기 때문에, 점착력의 온도 의존성이 낮다고 생각된다. 또한, 고무계 점착제와 같이 저분자량 화합물이 표면으로 이행하지 않는다고 생각된다.By reacting the polyisocyanate compound in the present invention, the acrylic resin crosslinked through the secondary hydroxyl or tertiary hydroxyl group remaining in the acrylic resin has excellent balance of adhesion performance and strength, and is excellent in re-peelability while maintaining adhesion performance. It is estimated. Moreover, since it uses the urethane resin mentioned above, it is low cost. Moreover, since it does not contain an acryl-type compound, it is thought that migration to a to-be-adhered body and skin irritation are low. Moreover, since this crosslinked urethane resin has a large molecular weight and it is hard to harden at low temperature, it is thought that the temperature dependency of adhesive force is low. Moreover, it is thought that a low molecular weight compound does not migrate to the surface like a rubber adhesive.

2.3 실란커플링제2.3 Silane Coupling Agent

실란커플링제는 ITO층 또는 기재와의 접합시 점착력을 보다 강화하기 위한 것으로서, 공지의 실란커플링제를 사용할 수 있다. 바람직하게는 에폭시기를 함유하는 실란커플링제로서, 예를 들면 3-글리시독시프로필트리메톡 시실란을 사용할 수 있다. 실란커플링제의 에폭시기는 상기 아크릴계 공중합체의 가교 가능한 관능기와 결합하고, 알콕시실란 부분은 ITO필름의 ITO층을 강하게 결합함으로써 점착안정성을 향상시켜 내열내습 특성을 보다 향상시키며, 특히 높은 온도 또는 습도 조건하에서 장시간 방치하였을 경우 점착 내구성을 향상시키는데 도움을 주는 역할을 한다.A silane coupling agent is for further strengthening the adhesive force at the time of joining with an ITO layer or a base material, A well-known silane coupling agent can be used. Preferably, 3-glycidoxy propyl trimethoxy silane can be used as a silane coupling agent containing an epoxy group. The epoxy group of the silane coupling agent is bonded to the crosslinkable functional group of the acrylic copolymer, and the alkoxysilane moiety strongly bonds the ITO layer of the ITO film to improve adhesive stability, thereby improving heat and moisture resistance characteristics, and especially at high temperature or humidity conditions. When left under a long time under the role of helping to improve the adhesion durability.

상기 실란커플링제는 아크릴계 공중합체 수지(고형분 함량 기준) 100중량부에 대하여 0.01 내지 1중량부로 포함되는 것이 바람직하다. 그 함량이 0.01중량부 미만인 경우에는 ITO필름의 ITO층과의 점착력이 취약할 수 있으며, 1중량부를 초과하는 경우에는 리워크성이 좋지 못하다.The silane coupling agent is preferably included in an amount of 0.01 to 1 part by weight based on 100 parts by weight of the acrylic copolymer resin (based on the solid content). If the content is less than 0.01 parts by weight, the adhesive force with the ITO layer of the ITO film may be weak, when the content exceeds 1 part by weight is not good rework.

이하, 실시예와 비교예를 통하여 본 발명의 구성 및 그에 따른 효과를 보다 상세히 설명하고자 한다. 그러나, 본 실시예는 본 발명을 보다 구체적으로 설명하기 위한 것이며, 본 발명의 범위가 이들 실시예에 한정되는 것은 아니다.Hereinafter, the configuration and effects of the present invention will be described in more detail with reference to Examples and Comparative Examples. However, this embodiment is intended to illustrate the present invention in more detail, and the scope of the present invention is not limited to these examples.

[실시예 1]Example 1

저굴절층용 코팅 조성물(불소첨가제 불 포함, 일본화약)을 50㎛ 두께의 폴리에스테르 기재(PET Film, 굴절율: 1.65, 도레이첨단소재(주))에 180메쉬의 그라비어 코팅기를 사용하여 적용하고, 100 ℃ 에서 2 분 동안 건조시키고, 자외선 조사에 의해 경화시켜 두께가 110nm 이고, 굴절율이 1.31인 저굴절층을 형성하였다.The coating composition for the low refractive index layer (without fluorine additive, Japanese gunpowder) was applied to a polyester substrate (PET film, refractive index: 1.65, Toray Advanced Materials Co., Ltd.) having a thickness of 50 μm using a 180 mesh gravure coater. It dried at 2 degreeC for 2 minutes, hardened | cured by ultraviolet irradiation, and formed the low refractive layer which is 110 nm in thickness, and 1.31 in refractive index.

[실시예 2][Example 2]

저굴절층용 코팅 조성물을 투명기재에 180메쉬의 그라비어 코팅기를 사용하여 적용하고, 100 ℃ 에서 2 분 동안 건조시키고, 자외선 조사에 의해 경화시켜 두께가 110nm 이고, 굴절율이 1.33인 저굴절층을 형성하였다. 이에 따라 본 발명의 화질향상필름을 수득하였다.The coating composition for the low refractive index layer was applied to a transparent substrate using a 180 mesh gravure coater, dried at 100 ° C. for 2 minutes, and cured by ultraviolet irradiation to form a low refractive layer having a thickness of 110 nm and a refractive index of 1.33. . Thus, the image quality improving film of the present invention was obtained.

[실시예 3][Example 3]

저굴절층용 코팅 조성물을 투명기재에 180메쉬의 그라비어 코팅기를 사용하여 적용하고, 100 ℃ 에서 2 분 동안 건조시키고, 자외선 조사에 의해 경화시켜 두께가 110nm 이고, 굴절율이 1.35인 저굴절층을 형성하였다. 이에 따라 본 발명의 화질향상필름을 수득하였다.The coating composition for the low refractive index layer was applied to a transparent substrate using a 180-mesh gravure coater, dried at 100 ° C. for 2 minutes, and cured by ultraviolet irradiation to form a low refractive layer having a thickness of 110 nm and a refractive index of 1.35. . Thus, the image quality improving film of the present invention was obtained.

[실시예 4]Example 4

저굴절층용 코팅 조성물을 투명기재에 180메쉬의 그라비어 코팅기를 사용하여 적용하고, 100 ℃ 에서 2 분 동안 건조시키고, 자외선 조사에 의해 경화시켜 두께가 110nm 이고, 굴절율이 1.37인 저굴절층을 형성하였다. 이에 따라 본 발명의 화질향상필름을 수득하였다.The coating composition for the low refractive index layer was applied to a transparent substrate using a 180 mesh gravure coater, dried at 100 ° C. for 2 minutes, and cured by ultraviolet irradiation to form a low refractive layer having a thickness of 110 nm and a refractive index of 1.37. . Thus, the image quality improving film of the present invention was obtained.

[실시예 5][Example 5]

저굴절층용 코팅 조성물을 투명기재에 180메쉬의 그라비어 코팅기를 사용하여 적용하고, 100 ℃ 에서 2 분 동안 건조시키고, 자외선 조사에 의해 경화시켜 두께가 110nm 이고, 굴절율이 1.39인 저굴절층을 형성하였다. 이에 따라 본 발명의 화질향상필름을 수득하였다.The coating composition for the low refractive index layer was applied to a transparent substrate using a 180-mesh gravure coater, dried at 100 ° C. for 2 minutes, and cured by UV irradiation to form a low refractive layer having a thickness of 110 nm and a refractive index of 1.39. . Thus, the image quality improving film of the present invention was obtained.

[비교예 1]Comparative Example 1

저굴절층용(불소수지 함유, 전 체고형분의 3wt% 불소함유, 일본화약) 코팅 조성물을 투명기재에 180메쉬의 그라비어 코팅기를 사용하여 적용하고, 100 ℃ 에서 2 분 동안 건조시키고, 자외선 조사에 의해 경화시켜 두께가 110nm 이고, 굴절율이 1.46인 중저굴절층을 형성하였다. 이에 따라 본 발명의 화질향상필름을 수득하였다.Coating composition for low refractive index (containing fluorine resin, containing 3wt% fluorine in total solids, Japanese gunpowder) was applied to a transparent substrate using a 180-mesh gravure coater, dried at 100 ° C. for 2 minutes, and then irradiated with ultraviolet radiation. It hardened | cured and formed the medium low refractive layer which is 110 nm in thickness, and whose refractive index is 1.46. Thus, the image quality improving film of the present invention was obtained.

[비교예 2]Comparative Example 2

저굴절층용(불소수지 함유, 전체고형분의 6wt% 불소함유, 일본화약) 코팅 조성물을 투명기재에 180메쉬의 그라비어 코팅기를 사용하여 적용하고, 100 ℃ 에서 2 분 동안 건조시키고, 자외선 조사에 의해 경화시켜 두께가 110nm 이고, 굴절율이 1.48인 중저굴절층을 형성하였다. 이에 따라 본 발명의 화질향상필름을 수득하였다.Coating composition for low refractive index (containing fluorine resin, containing 6wt% fluorine of total solids, Japanese gunpowder) was applied to a transparent substrate using a 180-mesh gravure coater, dried at 100 ° C. for 2 minutes, and cured by ultraviolet irradiation. A low and medium refractive index layer having a thickness of 110 nm and a refractive index of 1.48 was formed. Thus, the image quality improving film of the present invention was obtained.

[비교예 3][Comparative Example 3]

저굴절층용(불소수지 함유, 전체고형분의 9wt% 불소함유, 일본화약) 코팅 조성물을 투명기재에 180메쉬의 그라비어 코팅기를 사용하여 적용하고, 100 ℃ 에서 2 분 동안 건조시키고, 자외선 조사에 의해 경화시켜 두께가 110nm 이고, 굴절율이 1.50인 중저굴절층을 형성하였다. 이에 따라 본 발명의 화질향상필름을 수득하였다.Coating composition for low refractive index (containing fluorine resin, containing 9wt% fluorine of total solids, Nippon Gunpowder) was applied to a transparent substrate using a 180-mesh gravure coater, dried at 100 ° C. for 2 minutes, and cured by ultraviolet irradiation. A low and medium refractive index layer having a thickness of 110 nm and a refractive index of 1.50 was formed. Thus, the image quality improving film of the present invention was obtained.

[비교예 4][Comparative Example 4]

저굴절층용(불소수지 함유, 전체고형분의 12wt% 불소함유, 일본화약) 코팅 조성물을 투명기재에 180메쉬의 그라비어 코팅기를 사용하여 적용하고, 100 ℃ 에서 2 분 동안 건조시키고, 자외선 조사에 의해 경화시켜 두께가 110nm 이고, 굴절율이 1.52인 중저굴절층을 형성하였다. 이에 따라 본 발명의 화질향상필름을 수득하였다.The coating composition for the low refractive index layer (containing fluorine resin, containing 12wt% fluorine in total solids and Japanese powder) was applied to a transparent substrate using a 180 mesh gravure coater, dried at 100 ° C. for 2 minutes, and cured by ultraviolet irradiation. A low to medium refractive index layer having a thickness of 110 nm and a refractive index of 1.52 was formed. Thus, the image quality improving film of the present invention was obtained.

[비교예 5][Comparative Example 5]

저굴절층용(불소수지 함유, 전체고형분의 15wt% 불소함유, 일본화약) 코팅 조성물을 투명기재에 180메쉬의 그라비어 코팅기를 사용하여 적용하고, 100 ℃ 에서 2 분 동안 건조시키고, 자외선 조사에 의해 경화시켜 두께가 110nm 이고, 굴절율이 1.54인 중저굴절층을 형성하였다. 이에 따라 본 발명의 화질향상필름을 수득하였다.The coating composition for the low refractive index layer (containing fluorine resin, containing 15wt% fluorine in total solids and Japanese powder) was applied to a transparent substrate using a 180 mesh gravure coater, dried at 100 ° C. for 2 minutes, and cured by ultraviolet irradiation. A low and medium refractive index layer having a thickness of 110 nm and a refractive index of 1.54 was formed. Thus, the image quality improving film of the present invention was obtained.

상기 실시예 1 내지 5 및 비교예 1 내지 5에 따른 정전용량방식 터치패널용 화질향상필름을 사용하여 다음과 같은 실험예 1 및 2를 통해 반사방지 성능 및 박리력을 측정하고 그 결과를 다음 표 1에 나타내었다.The antireflection performance and the peeling force were measured through the following Experimental Examples 1 and 2 using the image quality improvement film for the capacitive touch panel according to Examples 1 to 5 and Comparative Examples 1 to 5, and the results are shown in the following table. 1 is shown.

[실험예 1][Experimental Example 1]

380 내지 780 nm 의 파장 영역 중 입사각 (=반사각) 5°에서 표면 반사율을 어댑터 장치된 UV Spectrophometer[Shimazu UV-PC3600]를 이용하여, 정전용량방식 터치패널용 복합필름의 반대 면에 검은색 무광택 테이프나 무광택 페인트를 사용하여, 검은색으로 배면처리 후 표면 반사율을 측정하였다. 이 후 480 내지 680 nm범위에서 평균 경면 반사율을 계산하여 반사방지 성능을 평가하였다.Black matte tape on the opposite side of the composite film for capacitive touch panels using a UV Spectrophometer [Shimazu UV-PC3600] equipped with an adapter for surface reflectance at an angle of incidence (= reflection angle) of 5 ° in the wavelength region of 380 to 780 nm. The surface reflectance was measured after the backside treatment was black by using a matte paint. After that, the average mirror reflectance was calculated in the range of 480 to 680 nm to evaluate the antireflection performance.

[실험예 2][Experimental Example 2]

양면 테이프 박리력 평가는 상기와 같이 제작된 저굴절 코팅층에 양면테이프[Nitto사. No.500]를 사용하여 2kg/inch 하중으로 합지 후, 1시간 상온 방치 후 박리력 측정기[ChemInstruments사, AR-1000] 사용하여, 300mm/min 속도로 180°박리를 하면서, 박리력을 측정하였다.Double-sided tape peel strength evaluation is a double-sided tape [Nitto company. No. 500], after lamination at 2 kg / inch load, and after 1 hour of standing at room temperature, using a peel force measuring instrument (Chem Instruments, AR-1000), peeling force was measured while peeling 180 ° at a speed of 300 mm / min. .

저굴절층의
굴절률Low refractive layer
Refractive index 480~680nm에서의
평균표면반사율(%)At 480 ~ 680nm
Average surface reflectance (%) 양면테이프 박리력
(gf/25mm)Double Sided Tape Peeling Force
(gf / 25mm) 수접촉각
(°)Water contact angle
(°) 실시예 1Example 1 1.311.31 0.690.69 689689 7272 실시예 2Example 2 1.331.33 0.940.94 689689 7272 실시예 3Example 3 1.351.35 1.011.01 689689 7272 실시예 4Example 4 1.371.37 1.241.24 689689 7272 실시예 5Example 5 1.391.39 1.501.50 689689 7272 비교예 1Comparative Example 1 1.411.41 1.891.89 454454 8787 비교예 2Comparative Example 2 1.431.43 2.152.15 299299 9696 비교예 3Comparative Example 3 1.451.45 2.352.35 214214 101101 비교예 4Comparative Example 4 1.471.47 2.652.65 145145 106106 비교예 5Comparative Example 5 1.491.49 2.982.98 123123 109109

[실시예 6][Example 6]

하이드록실기가 0.5wt% 포함된 점착제 조성물에 이소시아네이트계 경화제를 1.3wt% 포함한 아크릴계 공중합체(중량평균분자량: 780,000, 분자량 분포: 4.5, 유리전이온도: -25℃, 겔분율: 75%)를 이용하여, PET 이형 필름 기재에 코팅하여 반사방지필름에 건조 두께 25㎛의 점착제를 전사 합지 및 숙성하여 화질향상 필름을 제조하였다.An acrylic copolymer (weight average molecular weight: 780,000, molecular weight distribution: 4.5, glass transition temperature: -25 ° C, gel fraction: 75%) containing 1.3 wt% of an isocyanate curing agent in a pressure-sensitive adhesive composition containing 0.5 wt% of hydroxyl groups It was coated on a PET release film substrate, transfer-bonding and aging the pressure-sensitive adhesive having a dry thickness of 25㎛ on the antireflection film to prepare an image quality improvement film.

[실시예 7][Example 7]

하이드록실기가 1.0wt% 포함된 점착제 조성물에 이소시아네이트계 경화제를 1.3wt% 포함한 아크릴계 공중합체(중량평균분자량: 780,000, 분자량 분포: 4.5, 유리전이온도: -25℃, 겔분율: 75%)를 이용하여, PET 이형 필름 기재에 코팅하여 반사방지필름에 건조 두께 25㎛의 점착제를 전사 합지 및 숙성하여 화질향상 필름을 제조하였다.An acrylic copolymer (weight average molecular weight: 780,000, molecular weight distribution: 4.5, glass transition temperature: -25 ° C, gel fraction: 75%) containing 1.3 wt% of an isocyanate curing agent in the pressure-sensitive adhesive composition containing 1.0 wt% of hydroxyl groups It was coated on a PET release film substrate, transfer-bonding and aging the pressure-sensitive adhesive having a dry thickness of 25㎛ on the antireflection film to prepare an image quality improvement film.

[실시예 8][Example 8]

하이드록실기가 2.5wt% 포함된 점착제 조성물에 이소시아네이트계 경화제를 1.3wt% 포함한 아크릴계 공중합체(중량평균분자량: 780,000, 분자량 분포: 4.5, 유리전이온도: -25℃, 겔분율: 75%)를 이용하여, PET 이형 필름 기재에 코팅하여 반사방지필름에 건조 두께 25㎛의 점착제를 전사 합지 및 숙성하여 화질향상 필름을 제조하였다.An acrylic copolymer (weight average molecular weight: 780,000, molecular weight distribution: 4.5, glass transition temperature: -25 ° C, gel fraction: 75%) containing 1.3 wt% of isocyanate curing agent in the pressure-sensitive adhesive composition containing 2.5 wt% of hydroxyl groups It was coated on a PET release film substrate, transfer-bonding and aging the pressure-sensitive adhesive having a dry thickness of 25㎛ on the antireflection film to prepare an image quality improvement film.

[실시예 9][Example 9]

하이드록실기가 5.0wt% 포함된 점착제 조성물에 이소시아네이트계 경화제를 1.3wt% 포함한 아크릴계 공중합체(중량평균분자량: 780,000, 분자량 분포: 4.5, 유리전이온도: -25℃, 겔분율: 75%)를 이용하여, PET 이형 필름 기재에 코팅하여 반사방지필름에 건조 두께 25㎛의 점착제를 전사 합지 및 숙성하여 화질향상 필름을 제조하였다.An acrylic copolymer (weight average molecular weight: 780,000, molecular weight distribution: 4.5, glass transition temperature: -25 ° C, gel fraction: 75%) containing 1.3 wt% of an isocyanate curing agent in a pressure-sensitive adhesive composition containing 5.0 wt% of hydroxyl groups It was coated on a PET release film substrate, transfer-bonding and aging the pressure-sensitive adhesive having a dry thickness of 25㎛ on the antireflection film to prepare an image quality improvement film.

[실시예 10][Example 10]

하이드록실기가 10.0wt% 포함된 점착제 조성물에 이소시아네이트계 경화제를 1.3wt% 포함한 아크릴계 공중합체(중량평균분자량: 780,000, 분자량 분포: 4.5, 유리전이온도: -25℃, 겔분율: 75%)를 이용하여, PET 이형 필름 기재에 코팅하여 반사방지필름에 건조 두께 25㎛의 점착제를 전사 합지 및 숙성하여 화질향상 필름을 제조하였다.An acrylic copolymer (weight average molecular weight: 780,000, molecular weight distribution: 4.5, glass transition temperature: -25 ° C, gel fraction: 75%) containing 1.3 wt% of isocyanate-based curing agent in the pressure-sensitive adhesive composition containing 10.0 wt% of hydroxyl groups It was coated on a PET release film substrate, transfer-bonding and aging the pressure-sensitive adhesive having a dry thickness of 25㎛ on the antireflection film to prepare an image quality improvement film.

[비교예 6][Comparative Example 6]

카르복실기가 0.5wt% 포함된 점착제 조성물에 에폭시계 경화제를 1.3wt% 포함한 아크릴계 공중합체(중량평균분자량: 780,000, 분자량 분포: 4.5, 유리전이온도: -25℃, 겔분율: 75%)를 이용하여, PET 이형 필름 기재에 코팅하여 반사방지필름에 건조 두께 25㎛의 점착제를 전사 합지 및 숙성하여 화질향상 필름을 제조하였다.Using an acrylic copolymer (weight average molecular weight: 780,000, molecular weight distribution: 4.5, glass transition temperature: -25 ℃, gel fraction: 75%) containing 1.3wt% epoxy curing agent to the pressure-sensitive adhesive composition containing 0.5wt% carboxyl group The film was coated on a PET release film substrate to transfer-bond and mature the adhesive having a dry thickness of 25 μm on an antireflection film to prepare a film for improving image quality.

[비교예 7][Comparative Example 7]

카르복실기가 1.0wt% 포함된 점착제 조성물에 에폭시계 경화제를 1.3wt% 포함한 아크릴계 공중합체(중량평균분자량: 780,000, 분자량 분포: 4.5, 유리전이온도: -25℃, 겔분율: 75%)를 이용하여, PET 이형 필름 기재에 코팅하여 반사방지필름에 건조 두께 25㎛의 점착제를 전사 합지 및 숙성하여 화질향상 필름을 제조하였다.Using an acrylic copolymer (weight average molecular weight: 780,000, molecular weight distribution: 4.5, glass transition temperature: -25 ℃, gel fraction: 75%) containing 1.3wt% epoxy curing agent to the pressure-sensitive adhesive composition containing 1.0wt% carboxyl group The film was coated on a PET release film substrate to transfer-bond and mature the adhesive having a dry thickness of 25 μm on an antireflection film to prepare a film for improving image quality.

[비교예 8][Comparative Example 8]

카르복실기가 2.5wt% 포함된 점착제 조성물에 에폭시계 경화제를 1.3wt% 포함한 아크릴계 공중합체(중량평균분자량: 780,000, 분자량 분포: 4.5, 유리전이온도: -25℃, 겔분율: 75%)를 이용하여, PET 이형 필름 기재에 코팅하여 반사방지필름에 건조 두께 25㎛의 점착제를 전사 합지 및 숙성하여 화질향상 필름을 제조하였다.Using an acrylic copolymer containing 1.3wt% epoxy curing agent in the pressure-sensitive adhesive composition containing 2.5wt% carboxyl group (weight average molecular weight: 780,000, molecular weight distribution: 4.5, glass transition temperature: -25 ℃, gel fraction: 75%) The film was coated on a PET release film substrate to transfer-bond and mature the adhesive having a dry thickness of 25 μm on an antireflection film to prepare a film for improving image quality.

[비교예 9][Comparative Example 9]

카르복실기가 5.0wt% 포함된 점착제 조성물에 에폭시계 경화제를 1.3wt% 포함한 아크릴계 공중합체(중량평균분자량: 780,000, 분자량 분포: 4.5, 유리전이온도: -25℃, 겔분율: 75%)를 이용하여, PET 이형 필름 기재에 코팅하여 반사방지필름에 건조 두께 25㎛의 점착제를 전사 합지 및 숙성하여 화질향상 필름을 제조하였다.By using an acrylic copolymer containing 1.3wt% epoxy curing agent in the pressure-sensitive adhesive composition containing 5.0wt% carboxyl group (weight average molecular weight: 780,000, molecular weight distribution: 4.5, glass transition temperature: -25 ℃, gel fraction: 75%) The film was coated on a PET release film substrate to transfer-bond and mature the adhesive having a dry thickness of 25 μm on an antireflection film to prepare a film for improving image quality.

[비교예 10][Comparative Example 10]

카르복실기가 10.0wt% 포함된 점착제 조성물에 에폭시계 경화제를 1.3wt% 포함한 아크릴계 공중합체(중량평균분자량: 780,000, 분자량 분포: 4.5, 유리전이온도: -25℃, 겔분율: 75%)를 이용하여, PET 이형 필름 기재에 코팅하여 반사방지필름에 건조 두께 25㎛의 점착제를 전사 합지 및 숙성하여 화질향상 필름을 제조하였다.Using an acrylic copolymer containing 1.3 wt% of an epoxy curing agent in the pressure-sensitive adhesive composition containing 10.0 wt% of carboxyl groups (weight average molecular weight: 780,000, molecular weight distribution: 4.5, glass transition temperature: -25 ° C, gel fraction: 75%) The film was coated on a PET release film substrate to transfer-bond and mature the adhesive having a dry thickness of 25 μm on an antireflection film to prepare a film for improving image quality.

상기 실시예 6 내지 10 및 비교예 6 내지 10에 따른 정전용량방식 터치패널용 화질향상필름을 사용하여 다음과 같은 실험예 3을 통해 전류량 변화율을 측정하고 그 결과를 다음 표 2에 나타내었다.The change rate of the amount of current was measured through the following Experimental Example 3 using the capacitive touch panel image quality improvement film according to Examples 6 to 10 and Comparative Examples 6 to 10, and the results are shown in Table 2 below.

[실험예 3][Experimental Example 3]

도 3에 도시된 방식으로 합지한 후 85℃*95%*500hr 신뢰성 후 전류량 측정기(MCP-T600)를 이용하여 전류량을 측정하여, 전류 변화량을 확인하였다.After laminating in the manner shown in Figure 3 after 85 ℃ * 95% * 500hr reliability by measuring the amount of current using the amperage meter (MCP-T600), the amount of current change was confirmed.

점착제 조성물의 관능기 종류Functional group type of adhesive composition 점착제 조성물의
관능기 함량(wt%)Of pressure-sensitive adhesive composition
Functional group content (wt%) 전류 변화율(%)
[85℃*95%*500hr]Current rate of change (%)
[85 ℃ * 95% * 500hr] 실시예 6Example 6 하이드록실기(-OH)Hydroxyl group (-OH) 0.50.5 0.010.01 실시예 7Example 7 하이드록실기(-OH)Hydroxyl group (-OH) 1.01.0 0.010.01 실시예 8Example 8 하이드록실기(-OH)Hydroxyl group (-OH) 2.52.5 0.010.01 실시예 9Example 9 하이드록실기(-OH)Hydroxyl group (-OH) 55 0.010.01 실시예 10Example 10 하이드록실기(-OH)Hydroxyl group (-OH) 1010 0.010.01 비교예 6Comparative Example 6 카르복실기(-COOH)Carboxyl group (-COOH) 0.50.5 6161 비교예 7Comparative Example 7 카르복실기(-COOH)Carboxyl group (-COOH) 1.01.0 6969 비교예 8Comparative Example 8 카르복실기(-COOH)Carboxyl group (-COOH) 2.52.5 8787 비교예 9Comparative Example 9 카르복실기(-COOH)Carboxyl group (-COOH) 55 9292 비교예 10Comparative Example 10 카르복실기(-COOH)Carboxyl group (-COOH) 1010 114114

본 명세서에서는 본 발명자들이 수행한 다양한 실시예 가운데 몇 개의 예만을 들어 설명하는 것이나 본 발명의 기술적 사상은 이에 한정하거나 제한되지 않고, 당업자에 의해 변형되어 다양하게 실시될 수 있음은 물론이다. It is to be understood that the present invention is not limited to the above embodiments and various changes and modifications may be made by those skilled in the art without departing from the spirit and scope of the invention.

1: ITO막 2: 인쇄층
3: 인출선(Ag) 4: 점착층(Acid Free)
5: PET 필름 6: 고굴절수지층
7: 저굴절수지층 8: 양면테이프
9: 보호막 1: ITO film 2: printed layer
3: leader line (Ag) 4: adhesive layer (Acid Free)
5: PET film 6: high refractive resin layer
7: low refractive resin layer 8: double sided tape
9: shield

Claims (10)

정전용량방식 터치패널용 화질향상필름에 있어서,
투명한 기재필름과,
상기 기재필름 상에 형성된 저굴절층으로서, 굴절률이 1.31 ~ 1.40이고, 480 내지 680 nm의 파장 영역 중 5°입사각에서 1.5% 이하의 평균경면반사율(average specular reflectance)을 가지는 저굴절층과,
상기 저굴절층이 형성된 상기 기재필름의 반대면에 형성된 점착층으로서, 아크릴계 공중합체 수지, 경화제 및 실란커플링제를 포함하는 점착제 조성물로 코팅된 첨착층을 포함하는 것을 특징으로 하는, 정전용량방식 터치패널용 화질향상필름. In the image enhancement film for capacitive touch panel,
Transparent base film,
A low refractive index layer formed on the base film, the refractive index is 1.31 ~ 1.40, a low refractive index layer having an average specular reflectance (average specular reflectance) of 1.5% or less at a 5 ° incidence angle in the wavelength range of 480 to 680 nm,
An adhesive layer formed on the opposite side of the base film on which the low refractive index layer is formed, the capacitive touch characterized in that it comprises an adhesive layer coated with an adhesive composition comprising an acrylic copolymer resin, a curing agent and a silane coupling agent. Panel Enhancement Film. 제1항에 있어서,
상기 저굴절층은 양면테이프와의 박리력이 500gf/25mm 이상인 것을 특징으로 하는, 정전용량방식 터치패널용 화질향상필름. The method of claim 1,
The low refractive layer is characterized in that the peel force with the double-sided tape is 500gf / 25mm or more, the quality improvement film for capacitive touch panel. 제1항에 있어서,
상기 정전용량방식 터치패널용 화질향상필름의 투과율 및 탁도(HAZE)는 각각 93.0% 이상 및 1.5% 이하인 것을 특징으로 하는, 정전용량방식 터치패널용 화질향상필름. The method of claim 1,
The transmittance and haze of the capacitive touch panel enhancement film is 93.0% or more and 1.5% or less, respectively. 제1항에 있어서,
상기 저굴절층의 수접촉각은 85°이하인 것을 특징으로 하는, 정전용량방식 터치패널용 화질향상필름.The method of claim 1,
The water contact angle of the low refractive layer is 85 ° or less, characterized in that the quality improvement film for capacitive touch panel. 제1항에 있어서,
상기 아크릴계 공중합체 수지 및 상기 경화제는 산을 포함하지 않는(Acid free) 관능기를 가지고, 상기 점착층은 습식 코팅된 것을 특징으로 하는, 정전용량방식 터치패널용 화질향상필름.The method of claim 1,
The acrylic copolymer resin and the curing agent have an acid-free (Acid free) functional group, the adhesive layer is characterized in that the wet coating, capacitive touch panel image quality improvement film. 제1항에 있어서,
상기 아크릴계 공중합체 수지를 포함하는 상기 점착층을 형성한 후 상기 기재필름의 전류 변화율은 20% 이내인 것을 특징으로 하는, 정전용량방식 터치패널용 화질향상필름.The method of claim 1,
After forming the adhesive layer containing the acrylic copolymer resin, the current change rate of the base film is characterized in that less than 20%, capacitive touch panel image quality improvement film. 제1항에 있어서,
상기 실란커플링제는 상기 아크릴계 공중합체 수지(고형분 함량 기준) 100중량부에 대해 0.01 내지 1중량부를 포함하는 것을 특징으로 하는, 정전용량방식 터치패널용 화질향상필름.The method of claim 1,
The silane coupling agent comprises 0.01 to 1 part by weight based on 100 parts by weight of the acrylic copolymer resin (based on solids content). 제1항에 있어서,
상기 점착층의 코팅 두께는 10 내지 100㎛이고, 상기 점착층의 점착력은 200 내지 2500gf/25mm 인 것을 특징으로 하는, 정전용량방식 터치패널용 화질향상필름.The method of claim 1,
Coating thickness of the adhesive layer is 10 to 100㎛, characterized in that the adhesive force of the adhesive layer is 200 to 2500gf / 25mm, the quality improvement film for capacitive touch panel. 제1항에 있어서,
상기 저굴절층은 방오성분이 포함되어 있지 않는 기재필름인 것을 특징으로 하는, 정전용량방식 터치패널용 화질향상필름.The method of claim 1,
The low refractive index layer is a base film that does not contain an antifouling component, characterized in that the quality improvement film for capacitive touch panel. 제1항 내지 제9항 중 어느 한 항에 있어서,
상기 기재필름은 폴리에틸렌테레프탈레이트(PET) 필름, 트리아세테이트셀룰로오스(TAC) 필름, 폴리프로필렌(PP) 필름 또는 폴리에틸렌(PE) 필름 중 어느 하나인 것을 특징으로 하는, 정전용량방식 터치패널용 화질향상필름. 10. The method according to any one of claims 1 to 9,
The base film is any one of a polyethylene terephthalate (PET) film, a triacetate cellulose (TAC) film, a polypropylene (PP) film or a polyethylene (PE) film, the quality improvement film for capacitive touch panel .
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