KR20120041530A - 전도성 필름의 제조방법 - Google Patents

Abstract

본 발명의 바람직한 실시예에 따른 전도성 필름의 제조방법은 베이스부재의 활성영역에 제1 방향으로 연장된 복수의 전극패턴을 형성하는 단계, 브릿지로 연결되며 길이가 다른 복수의 전극배선을 형성하는 단계, 상기 복수의 전극배선의 일단이 상기 복수의 전극패턴의 일단에 각각 연결되도록 상기 베이스부재의 비활성영역에 상기 복수의 전극배선을 부착하는 단계, 및 상기 브릿지를 오픈시키는 단계를 포함한다.

Description

전도성 필름의 제조방법{Method for Manufacturing Conductive film}

본 발명은 전도성 필름의 제조방법에 관한 것이다.

디지털 기술을 이용하는 컴퓨터가 발달함에 따라 컴퓨터의 보조 장치들도 함께 개발되고 있으며, 개인용 컴퓨터, 휴대용 전송장치, 그 밖의 개인 전용 정보처리장치 등은 키보드, 마우스와 같은 다양한 입력장치(Input Device)를 이용하여 텍스트 및 그래픽 처리를 수행한다.

하지만, 정보화 사회의 급속한 진행에 따라 컴퓨터의 용도가 점점 확대되는 추세에 있는 바, 현재 입력장치 역할을 담당하는 키보드 및 마우스만으로는 효율적인 제품의 구동이 어려운 문제점이 있다. 따라서, 간단하고 오조작이 적을 뿐 아니라, 누구라도 쉽게 정보입력이 가능한 기기의 필요성이 높아지고 있다.

또한, 입력장치에 관한 기술은 일반적 기능을 충족시키는 수준을 넘어서 고신뢰성, 내구성, 혁신성, 설계 및 가공 관련기술 등으로 관심이 바뀌고 있으며, 이러한 목적을 달성하기 위해서 터치스크린(Touch Screen)이 개발되었다.

이러한 터치스크린은 전자수첩, 액정표시장치(LCD; Liquid Crystal Display Device), PDP(Plasma Display Panel), El(Electroluminescence) 등의 평판 디스플레이 장치 및 CRT(Cathode Ray Tube)와 같은 화상표시장치의 표시면에 설치되어, 사용자가 화상표시장치를 보면서 원하는 정보를 선택하도록 하는데 이용되는 입력수단이다.

터치스크린의 종류는 저항막방식(Resistive Type), 정전용량방식(Capacitive Type), 전기자기장방식(Electro-Magnetic Type), 소오방식(SAW type; Surface Acoustic Wave Type) 및 인프라레드방식(Infrared Type)으로 구분된다. 이러한 다양한 방식의 터치스크린은 신호 증폭의 문제, 해상도의 차이, 설계 및 가공 기술의 난이도, 광학적 특성, 전기적 특성, 기계적 특성, 내환경 특성, 입력 특성, 내구성 및 경제성을 고려하여 전자제품에 채용되는데, 현재 가장 광범위한 분야에서 사용하는 방식은 저항막방식 터치스크린과 정전용량방식 터치스크린이다.

저항막방식 터치스크린의 경우 상/하부 전극막이 스페이서에 의해 이격되고 눌림에 의해 서로 접촉될 수 있도록 배치된 형태이다. 상부 전극막이 형성되어 있는 상부기판이 손가락, 펜 등의 입력수단에 의해 눌릴 때 상/하부 전극막이 통전되고, 그 위치의 저항값 변화에 따른 전압변화를 제어부에서 인지하여 접촉좌표를 인식하는 방식으로 아날로그 저항막방식과 디지털 저항막방식이 있다.

정전용량방식 터치스크린의 경우 제1 전극패턴이 형성된 상부기판과 제2 전극패턴이 형성된 하부기판이 서로 이격되며, 제1 전극패턴과 제2 전극패턴이 접촉하지 못하게 절연재가 삽입된다. 또한, 상부기판과 하부기판에는 전극패턴과 연결된 전극배선이 형성된다. 전극배선은 입력수단이 터치스크린에 접촉함에 따라 제1 전극패턴과 제2 전극패턴에서 발생하는 정전용량의 변화를 제어부에 전달한다.

저항막방식 터치스크린과 정전용량방식 터치스크린은 기판에 전극막 또는 전극패턴이 형성된 전도성 필름이 채용된다. 그 중 디지털 저항막방식 터치스크린과 정전용량방식의 터치스크린은 일정한 형상을 갖는 복수의 전극패턴이 형성된 전도성 필름이 채용된다.

이러한 전도성 필름을 제조하기 위해 종래에는 베이스부재에 전극패턴을 형성하고, 전극패턴과 연결되도록 전극배선을 형성하였다.

전극패턴은 스퍼터링(Sputtering), 증착(Evaporation), 딥 코팅(Dip coating), 스핀 코팅(Spin coating), 롤코팅(Roll coating) 방식을 사용하여 전극막을 형성한 후 패터닝을 수행하는 방식으로 베이스부재에 형성하였다.

전극배선은 은(Ag) 페이스트를 잉크젯 인쇄방식에 의해 베이스부재에 직접 형성하거나, 전극배선용 도전막을 형성한 후 습식에칭공정을 통해 형성하였다.

그러나, 종래의 전도성 필름 제조공정은 전극배선을 형성할 때 전극패턴에 손상이 발생하거나 그 반대의 경우가 발생하였다. 특히, 전극패턴이 전도성 고분자로 구성되고, 전극배선을 형성할 때 습식에칭공정이나 열처리공정을 수행하면 전도성 고분자의 변성이 발생하여 전극패턴의 면저항이 변화되는 문제점이 발생하였다.

또한, 종래의 전도성 필름 제조공정은 습식에칭공정을 통해 달성할 수 있는 전극배선의 선폭이 제한되기 때문에 최근 전극배선의 수가 증가하는 동시에 전극배선이 형성되는 비활성영역의 폭은 좁히고자 하는 경향에 역행하는 면이 있었다.

본 발명은 상기와 같은 문제점을 해결하기 위해 창안된 것으로, 선폭이 좁고, 브릿지에 의해 연결된 복수의 전극배선을 별도로 형성한 후 전극패턴이 형성된 베이스부재에 결합함으로써 에칭공정이나 열처리 공정을 수행하지 않고, 비활성영역의 면적을 감소시킬 수 있는 전도성 필름의 제조방법을 제안한다.

본 발명의 바람직한 실시예에 따른 전도성 필름의 제조방법은 베이스부재의 활성영역에 제1 방향으로 연장된 복수의 전극패턴을 형성하는 단계, 브릿지로 연결되며 길이가 다른 복수의 전극배선을 형성하는 단계, 상기 복수의 전극배선의 일단이 상기 복수의 전극패턴의 일단에 각각 연결되도록 상기 베이스부재의 비활성영역에 상기 복수의 전극배선을 부착하는 단계, 및 상기 브릿지를 오픈시키는 단계를 포함한다.

또한, 본 발명의 상기 복수의 전극패턴을 형성하는 단계는 스크린 인쇄법, 잉크젯 인쇄법 또는 그라비아 인쇄법 중 어느 하나에 의해 수행되는 것을 특징으로 한다.

또한, 본 발명의 상기 전극패턴은 전도성 고분자로 구성된 것을 특징으로 한다.

또한, 본 발명의 상기 전도성 고분자는 폴리티오펜계, 폴리피롤계, 폴리아닐릴계, 폴리아세틸렌계 또는 폴리페닐렌계 중 어느 하나인 것을 특징으로 한다.

또한, 본 발명의 상기 복수의 전극배선을 형성하는 단계는, 금속시트에 레이저 빔을 조사하여 패터닝하는 레이저 식각을 통해 수행되는 것을 특징으로 한다.

또한, 본 발명의 상기 복수의 전극배선을 부착하는 단계는, 상기 비활성영역에 접착제를 도포하여 접착층을 형성한 후, 상기 복수의 전극배선을 상기 접착층에 접촉시켜 수행하는 것을 특징으로 한다.

또한, 본 발명의 상기 브릿지를 오픈시키는 단계는 상기 브릿지에 레이저를 조사하는 레이저 식각을 통해 수행되는 것을 특징으로 한다.

본 발명의 특징 및 이점들은 첨부도면에 의거한 다음의 상세한 설명으로부터 더욱 명백해질 것이다.

이에 앞서 본 명세서 및 청구범위에 사용된 용어나 단어는 통상적이고 사전적인 의미로 해석되어서는 아니되며, 발명자가 그 자신의 발명을 가장 최선의 방법으로 설명하기 위해 용어의 개념을 적절하게 정의할 수 있다는 원칙에 입각하여 본 발명의 기술적 사상에 부합되는 의미와 개념으로 해석되어야만 한다.

본 발명에 따른 전도성 필름의 제조방법은 전극패턴에 연결되는 전극배선을 베이스부재에 직접 형성하지 않아, 습식에칭공정 및 열처리공정을 생략할 수 있어 전극패턴의 변성을 방지할 수 있다.

또한, 전극배선을 형성함에 있어서, 레이저를 사용하여 패터닝함으로써 미세배선의 형성이 가능하다.

그리고, 브릿지를 통해 복수의 전극배선이 연결된 상태에서 베이스부재에 부착됨으로 제조공정이 단순해지고, 인접하는 전극배선 사이의 간격이 균일해진다.

도 1은 본 발명의 바람직한 실시예에 따른 제조방법에 따라 형성된 전도성 필름이 채용된 터치스크린을 도시한 분해사시도이다.
도 2 내지 도 6는 본 발명의 바람직한 실시예에 따른 전도성 필름의 제조방법을 공정순서대로 도시한 평면도이다.

본 발명의 목적, 특정한 장점들 및 신규한 특징들은 첨부된 도면들과 연관되어지는 이하의 상세한 설명과 바람직한 실시예들로부터 더욱 명백해질 것이다. 본 명세서에서 각 도면의 구성요소들에 참조번호를 부가함에 있어서, 동일한 구성 요소들에 한해서는 비록 다른 도면상에 표시되더라도 가능한 한 동일한 번호를 가지도록 하고 있음에 유의하여야 한다. 또한, 본 발명을 설명함에 있어서, 관련된 공지 기술에 대한 구체적인 설명이 본 발명의 요지를 불필요하게 흐릴 수 있다고 판단되는 경우 그 상세한 설명은 생략한다.

이하, 첨부된 도면을 참조하여 본 발명의 바람직한 실시예를 상세히 설명하기로 한다.

도 1은 본 발명의 바람직한 실시예에 따른 제조방법에 따라 형성된 전도성 필름이 채용된 터치스크린을 도시한 분해사시도이다. 이하, 이를 참조하여 본 발명의 바람직한 실시예에 따른 제조방법에 따라 형성된 전도성 필름이 채용된 터치스크린에 대해 검토한다. 한편, 도 1에는 정전용량방식 터치스크린을 도시하고 있으나, 복수의 전극패턴이 형성되는 경우라면 디지털저항막식 터치스크린에도 본 발명의 제조방법에 따라 형성된 전도성 필름이 채용될 수 있다.

도 1에 도시된 것과 같이 터치스크린(100)은 상부 전도성 필름(110)과 하부 전도성 필름(120)이 서로 대향되게 이격되며, 절연을 위해 상부 전도성 필름(110)과 하부 전도성 필름 사이(120)에 절연층(130)이 삽입된 구조를 갖는다.

그리고, 터치스크린(100)은 평면상으로 표시장치에서 생성된 영상이 통과하는 활성영역(R1)과 활성영역(R1)의 둘레를 감싸며 영상이 통과하지 않는 비활성영역(R2)으로 구분할 수 있다.

전도성 필름(110, 120)은 베이스부재(112, 122), 베이스부재(112, 122)에 형성된 전극패턴(114, 124) 및 전극배선(116, 126)으로 구성된다. 이때, 전극패턴(114, 124)은 활성영역(R1)에 형성되며, 전극패턴(114, 124)과 연결되는 전극배선(116, 126)은 비활성영역(R2)에 형성된다.

베이스부재(112, 122)는 투명한 부재로서 유리기판, 필름기판, 섬유기판, 종이기판이 사용될 수 있으며, 이 중에서 필름기판은 폴리에틸렌테레프탈레이트(PET), 폴리메틸메타아크릴레이트(PMMA), 폴리프로필렌(PP), 폴리에틸렌(PE), 폴리에틸렌나프탈렌디카르복실레이트(PEN), 폴리카보네이트(PC), 폴리에테르술폰(PES), 폴리이미드(PI), 폴리비닐알코올(PVA), 시클릭 올레핀 공중합체(COC), 스틸렌 중합체 등으로 구성될 수 있고 특별히 한정되지는 않는다.

또한, 전극패턴(114, 124)은 제1 방향으로 연장된 형상으로 제2 방향으로 배열된다. 다만, 상부 전극패턴(114)과 하부 전극패턴(124)은 교차하는 방향으로 형성되는 것이 바람직하다.

그리고, 도 1에는 전극패턴의 형상이 바 타입으로 도시되어 있으나, 변형되어 실시될 수 있다. 예를 들면, 정전용량식 터치스크린에 채용되는 전도성 필름은 다각형의 센싱부가 복수로 형성되고, 인접하는 센싱부를 접속하는 연결부를 포함하는 전극패턴을 포함할 수 있다. 이러한 변형된 형상은 공지된 구성인 바 상세한 설명은 생략한다.

투명 전도성 물질로서 일반적으로 가장 많이 사용되는 것으로 인듐-주석 산화물(Idium Tin Oxide; ITO) 및 안티몬-주석 산화물(Antimony Tin Oxide; ATO)등과 같은 투명 전도성 산화물(Transparent Conductive Oxide; TCO)이 있다.

이때, 투명 전도성 물질은 바람직하게는 전도성 고분자일 수 있다. 전도성 고분자는 유연성이 뛰어나고 코팅 공정이 단순한 장점이 있다. 전도성 고분자는 유기계 화합물로 폴리티오펜계, 폴리피롤계, 폴리아닐릴계, 폴리아세틸렌계, 폴리페닐렌계 등이 채용될 수 있으며, 특히 폴리티오펜계 중에서도 PEDOT/PSS 화합물의 경우가 가장 바람직하고, 상기 유기계 화합물 중 1종 이상을 혼합하여 사용할 수 있다.

또한, 투명 전도성 물질은 바람직하게는 카본계 전도성 물질일 수 있다. 카본계 전도성 물질은 전도성 및 기계적 물성이 우수하다는 장점이 있다. 카본계 전도성 물질은 카본나노튜브, 그라펜 등이 채용될 수 있으며, 상기 전도성 고분자에 카본계 전도성 물질을 1종 이상을 혼합하여 사용할 수도 있다.

전극배선(116, 126)은 전극패턴(114, 124)과 연결되게 형성되는데, 전극배선(116, 126)은 금속(예를 들면 은(Ag))으로 구성되며 베이스부재(112, 122)의 비활성영역(R2)으로 연장되어 그 말단이 베이스부재(112, 122)의 모서리 일측에 집결되도록 배치된다. 이렇게 전극배선(116, 126)의 말단이 집결된 모서리 영역을 접속부라고 하며, 접속부는 FPCB(미도시)와 연결되어 접촉점의 좌표정보를 제어부(미도시)에 전달한다.

그리고, 절연층(130)은 전도성 필름 사이에 배치되어 전극패턴(114, 124)을 이격시켜 전극패턴(114, 124)이 접촉되지 않도록 한다. 절연층(130)은 투명한 절연소재로 그 종류는 제한되지 아니한다.

절연층(130)은 상부 전도성 필름(110)과 하부 전도성 필름(120) 사이에 삽입되며, OCA와 같은 광학접착제가 사용되어 상부 전도성 필름(110)과 하부 전도성 필름(120)을 접합한다.

한편, 디지털저항막식 터치스크린은 상부 전도성 필름과 하부 전도성 필름이 외압에 의해 접촉할 수 있도록 절연층의 내측에 개구부가 형성된 형상을 갖는다.

본 발명은 터치스크린의 전도성 필름의 제조방법에 관한 것이며, 상기 예시로 든 정전용량방식의 터치스크린에 채용되는 전도성 필름의 제조방법에 한정되지 않고, 일정한 전극패턴을 갖는 디지털 저항막 방식의 전도성 필름의 제조방법에도 채용될 수 있다.

이하, 도 2 내지 도 6을 참조하여 본 발명에 따른 전도성 필름의 제조방법에 대해 설명한다. 도 2 내지 도 6에 표시된 부호는 도 1에 도시된 터치스크린(100)에 채용된 상부 전도성 필름(110)을 기준으로 설명된다.

먼저, 도 2에 도시된 바와 같이 베이스부재(112)에 복수의 전극패턴(114)을 형성한다. 전극패턴(114)은 스크린 인쇄법(Screen Printing), 잉크젯 인쇄법(Inkjet Printing), 그라비아 인쇄법 등에 의해 형성될 수 있다.

복수의 전극패턴(114)은 베이스부재(112)의 활성영역(R1)에 형성되며, 제1 방향성을 갖고 연장되게 형성된다. 도 2에는 이러한 형상을 갖는 전극패턴(114)을 예시적으로 도시하고 있다. 여기서 "제1 방향"이라고 함은 일정한 방향성을 갖음을 의미하는 것으로 정의되며, X축 방향, Y축 방향 또는 대각선 방향 중 어느 하나일 수 있다.

그리고, 복수의 전극패턴(114)은 제2 방향으로 배열된다. 여기서 제2 방향은 제1 방향과 평면상 수직한 방향을 의미하는 것으로 정의된다.

이때, 전극패턴(114)은 잉크젯 인쇄법에 의해 형성하는 것이 바람직하다. 잉크젯 인쇄법은 공정이 간단하고, 목적하는 위치에 투명 전도성 물질을 패턴화된 상태로 형성하여 재료의 손실이 적으며, 전극패턴의 두께를 용이하게 조절할 수 있다는 장점이 있다.

또한, 그라비아 인쇄법은 다수의 전극패턴을 동시에 형성할 수 있는 장점이 있어 생산성이 향상되는 장점이 있고, 전극패턴의 신뢰성이 향상되는 장점이 있다.

그리고, 복수의 전극패턴(114)은 인접하는 전극패턴의 간격이 동일하며, 전극패턴의 너비가 동일한 것이 더욱 바람직하다. 상기 조건을 만족시킴으로써 터치감도가 향상되는 장점이 있다. 특히, 정전용량식 터치스크린은 인접하는 전극패턴이 정전용량에 영향을 미치고, 전극패턴의 면적이 정전용량에 영향을 미치므로 상기 조건이 터치스크린의 성능향상에 필수적이라고 할 수 있다.

다음, 브릿지(117)로 연결되며 길이가 다른 복수의 전극배선(116)을 형성한다. 본 발명은 종래의 전도성 필름 제조방법과 달리 베이스부재(112)에 전극배선(116)을 직접형성하지 않는다. 종래에는 전극배선을 베이스부재에 형성함에 있어서, 습식에칭공정이나 열처리공정을 수행하게 되었는데, 이 과정에서 전극패턴의 변성이나 손상이 발생하는 문제점이 있었다.

특히, 열 또는 습기에 약한 전도성 고분자의 경우 전극배선을 형성하는 과정에서 면저항이 증가하거나 감소하는 문제점이 있었다. 이러한 문제점을 해결하기 위해 본 발명은 전극배선(116)을 별도로 형성한 후에 베이스부재(112)에 접착시킴으로써 전도성 필름(110)을 제조한다.

이때, 브릿지(117)로 연결된 복수의 전극배선(116)을 형성하기 때문에 복수의 전극배선(116)은 일체의 형상을 가져, 전극배선(116)을 베이스부재(112)에 접착하는 공정을 신속하게 수행할 수 있다.

또한, 복수의 전극배선(116)은 도 2에 도시된 것과 같이, 제1 방향으로 연장되게 형성되고, 제2 방향으로 배열된 복수의 전극패턴(114)에 각각 연결되기 위해 길이가 상이하다. 복수의 전극배선(116)은 그 길이가 점차적으로 증가하거나, 점차적으로 감소한다.

브릿지(117)로 연결된 복수의 전극배선(116)은 도 3에 도시된 것과 같은 금속시트(200)를 패터닝하여 형성한다.

금속시트(200)는 은(Ag), 구리(Cu), 및 이들의 합금을 포함하여 전도성이 높은 물질로 구성되는 것이 바람직하다.

도 4a에 도시된 것과 같이, 금속시트(200)를 레이저 식각을 통해 브릿지(117)로 연결된 복수의 전극배선(116)으로 패터닝한다.

레이저 식각은 금속시트(200)에 레이저 빔을 조사하여 금속시트(200)의 일부를 제거하는 방식으로 레이저 식각은 레이저 빔의 두께에 따라 인접하는 전극배선 사이의 간격을 조절할 수 있고, 미세선폭을 갖는 전극배선을 형성할 수 있어 비활성영역의 면적을 감소시킬수 있다.

레이저 식각에는 CO₂레이저, YAG레이저, 엑시머(Excimer)레이저, 파이버(fiber)레이저 등이 채용될 수 있지만, 반드시 이에 한정되는 것은 아니고 당업계에 공지된 가공용 레이저 중 전극배선의 재료에 따라 선택적으로 이용할 수 있음은 물론이다.

또한, 도 4b에 도시된 것과 같이, 금속시트(200)에 마스터 필름과 드라이 필름(M)을 부착한 후 노광, 현상, 에칭공정을 거침으로써 브릿지(117)로 연결된 복수의 전극배선(116)을 형성할 수도 있다.

브릿지(117)로 연결된 복수의 전극배선(116)이 형성되면, 도 5에 도시한 것과 같이 전극배선(116)의 일단이 복수의 전극패턴(114)의 일단에 각각 연결되도록 베이스부재(112)의 비활성영역(R2)에 브릿지(117)로 연결된 복수의 전극배선(116)을 부착한다.

비활성영역(R2)에 접착제를 도포하여 접착층을 형성한 후, 전극패턴(114)과 전극배선(116)의 일단이 통전되도록 복수의 전극배선(116)을 접착층에 접촉시켜 부착할 수 있다.

이때, 접착제는 일반적인 수지 접착제나 전도성 페이스트가 될 수 있다. 전도성 페이스트는 에폭시수지, 페놀수지, 아크릴수지, 우레탄수지 또는 실리콘수지 등의 열경화성 수지나 폴리아미드 또는 폴리에틸렌, 폴리스티렌, 폴리에스테르, 폴리우레탄, 에틸렌-초산비닐 공중합체 또는 에틸렌-아크릴산에틸 공중합체 등의 열가소성 수지 중에 도전성 필러를 함유시킨 것이다. 도전성 필러는, 은, 금, 동, 니켈, 백금 또는 팔라듐 등을 들 수 있다.

다음, 도 6에 도시된 것과 같이 브릿지(117)를 오픈시킨다. 브릿지(117)는 별도로 형성한 복수의 전극배선(116)을 베이스부재(112)에 부착시키기까지 이용되는 구성요소로 복수의 전극배선(116)을 일체로 베이스부재(112)에 부착한 후 제거된다. 복수의 전극배선(116)은 각각에 연결된 전극패턴(114)에서 발생하는 정전용량변화 또는 전압/저항변화를 제어부에 전달하는 역할을 수행하게 되므로 브릿지(117)를 제거하여 복수의 전극배선(116)이 서로 간섭되지 않도록 한다.

브릿지(117)는 연마방식에 의해 제거될 수도 있으나, 복수의 전극배선(116) 사이의 간격이 매우 조밀하기 때문에 전극배선(116)의 손상을 발생시키지 않고, 신뢰성 있는 전극배선(116)을 형성하기 위해서는 브릿지(117)에 레이저 빔을 조사하는 레이저 식각을 이용하는 것이 바람직하다.

이상 본 발명을 구체적인 실시예를 통하여 상세히 설명하였으나, 이는 본 발명을 구체적으로 설명하기 위한 것으로, 본 발명에 따른 전도성 필름의 제조방법은 이에 한정되지 않으며, 본 발명의 기술적 사상 내에서 당해 분야의 통상의 지식을 가진 자에 의해 그 변형이나 개량이 가능함은 명백하다고 할 것이다. 본 발명의 단순한 변형 내지 변경은 모두 본 발명의 영역에 속하는 것으로 본 발명의 구체적인 보호 범위는 첨부된 특허청구범위에 의해서 명확해질 것이다.

100 : 터치스크린 110, 120 : 전도성 필름
112, 122 : 베이스부재 114, 124 : 전극패턴
116, 126 : 전극배선 117 : 브릿지
130 : 절연층 R1 : 활성영역
R2 : 비활성영역 200 : 금속시트

Claims (7)

1. 베이스부재의 활성영역에 제1 방향으로 연장된 복수의 전극패턴을 형성하는 단계;
   브릿지로 연결되며 길이가 다른 복수의 전극배선을 형성하는 단계;
   상기 복수의 전극배선의 일단이 상기 복수의 전극패턴의 일단에 각각 연결되도록 상기 베이스부재의 비활성영역에 상기 복수의 전극배선을 부착하는 단계; 및
   상기 브릿지를 오픈시키는 단계;
   를 포함하는 전도성 필름의 제조방법.
   
2. 청구항 1에 있어서,
   상기 복수의 전극패턴을 형성하는 단계는 스크린 인쇄법, 잉크젯 인쇄법 또는 그라비아 인쇄법 중 어느 하나에 의해 수행되는 것을 특징으로 하는 전도성 필름의 제조방법.
   
3. 청구항 1에 있어서,
   상기 전극패턴은 전도성 고분자로 구성된 것을 특징으로 하는 전도성 필름의 제조방법.
   
4. 청구항 3에 있어서,
   상기 전도성 고분자는 폴리티오펜계, 폴리피롤계, 폴리아닐릴계, 폴리아세틸렌계 또는 폴리페닐렌계 중 어느 하나인 것을 특징으로 하는 전도성 필름의 제조방법.
   
5. 청구항 1에 있어서,
   상기 복수의 전극배선을 형성하는 단계는,
   금속시트에 레이저 빔을 조사하여 패터닝하는 레이저 식각을 통해 수행되는 것을 특징으로 하는 전도성 필름의 제조방법.
   
6. 청구항 1에 있어서,
   상기 복수의 전극배선을 부착하는 단계는,
   상기 비활성영역에 접착제를 도포하여 접착층을 형성한 후, 상기 복수의 전극배선을 상기 접착층에 접촉시켜 수행하는 것을 특징으로 하는 전도성 필름의 제조방법.
   
7. 청구항 1에 있어서,
   상기 브릿지를 오픈시키는 단계는;
   상기 브릿지에 레이저 빔을 조사하는 레이저 식각을 통해 수행되는 것을 특징으로 하는 전도성 필름의 제조방법.

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