KR20110139111A - Substrate processing apparatus - Google Patents
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Abstract
Description
본 발명은 기판에 대하여 처리를 실시하기 위한 처리실을 진공 반송실에 복수개 접속한 기판 처리 장치에 관한 것이다.The present invention relates to a substrate processing apparatus in which a plurality of processing chambers for processing a substrate are connected to a vacuum transfer chamber.
플랫 패널 디스플레이(FPD; Flat Panel Display)에 사용되는 유리 기판이나 반도체 디바이스가 형성되는 반도체 기판(반도체 웨이퍼) 등의 피처리체에 대하여, 에칭 처리, 애싱 처리, CVD(Chemical Vapor Deposition) 등의 성막 처리를 실시하는 기판 처리 장치로서, 공통의 진공 반송실에 처리실을 복수개 접속한, 소위 멀티 챔버 방식의 기판 처리 장치가 알려져 있다.Film-forming treatments such as etching, ashing, and chemical vapor deposition (CVD) are performed on a target object such as a glass substrate used for a flat panel display (FPD) or a semiconductor substrate (semiconductor wafer) on which a semiconductor device is formed. As a substrate processing apparatus which implements, a so-called multi-chamber substrate processing apparatus in which a plurality of processing chambers are connected to a common vacuum transfer chamber is known.
이 처리실은, 내부에 기판이 수납되며 상방측이 개구된 용기 본체와, 그 용기 본체의 개구부를 기밀하게 막는 덮개로 구성되어 있고, 처리실의 내부 혹은 덮개에 설치된 가스 샤워 헤드를 메인터넌스할 때 등에는, 덮개가 용기 본체로부터 제거된다.The process chamber is composed of a container body in which a substrate is housed and opened on the upper side, and a cover which hermetically closes the opening of the container body, and when the gas shower head provided in the process chamber or the cover is maintained, etc. The lid is removed from the container body.
이와 같이 용기 본체에 대하여 덮개를 개폐(착탈)하는데 있어서, 특허문헌 1에 기재되어 있는 바와 같이, 용기 본체로부터 덮개를 상승시켜 그 용기 본체의 측방측으로 슬라이드시키며, 그 측방측에서 덮개를 반전시키는 개폐 기구를 처리실마다 설치하는 기술이 알려져 있다.As described in
그러나, 처리실마다 개폐 기구를 설치하기 위해서는, 개폐 기구에 더하여 덮개를 슬라이드시키는 공간도 각 처리실마다 확보해 둘 필요가 있기 때문에, 장치의 풋프린트(설치 면적)가 커져 버린다. 특히, FPD 기판은 한 변이 수m인 정사각형 정도의 크기이기 때문에, 처리실의 덮개를 슬라이드시키는 공간에 대해서도, 예컨대 각각 3.0 m×3.5 m 정도의 넓은 영역이 필요하게 된다. 또한, 이 장치에서는, 처리실의 개수만큼 개폐 기구를 설치할 필요가 있기 때문에, 비용 상승으로 이어져 버린다.However, in order to provide the opening / closing mechanism for each processing chamber, it is necessary to ensure the space for sliding the lid in addition to the opening / closing mechanism for each processing chamber, so that the footprint (installation area) of the apparatus becomes large. In particular, since the FPD substrate is about the size of a square of several meters on one side, a large area of, for example, about 3.0 m x 3.5 m is required also for a space for sliding the lid of the processing chamber. In addition, in this apparatus, it is necessary to provide the opening / closing mechanism as many as the number of processing chambers, leading to an increase in cost.
본 발명은 이러한 사정을 감안하여 이루어진 것으로, 그 목적은 기판에 대하여 처리를 실시하기 위한 처리실을 진공 반송실에 복수개 접속한 기판 처리 장치에 있어서, 처리실의 덮개의 착탈에 따른 장치의 대형화를 억제하여 풋프린트의 증대를 억제할 수 있는 기술을 제공하는 것이다.This invention is made | formed in view of such a situation, The objective is the substrate processing apparatus which connected the process chamber for processing with respect to a board | substrate to a vacuum conveyance chamber, WHEREIN: By suppressing the enlargement of the apparatus by attaching and detaching the cover of a process chamber, It is to provide a technology that can suppress the increase of the footprint.
본 발명의 기판 처리 장치는,The substrate processing apparatus of the present invention,
예비 진공실과, 각각 용기 본체 위에 덮개를 설치하여 구성되며, 기판에 대하여 처리를 실시하기 위한 복수의 처리실을, 내부에 기판 반송 기구가 설치된 진공 반송실의 주위에 접속한 기판 처리 장치에 있어서,In the substrate processing apparatus which provided the preliminary vacuum chamber and the cover on the container main body, respectively, and connected the several process chambers for processing with respect to a board | substrate around the vacuum conveyance chamber in which the board | substrate conveyance mechanism was provided,
상기 진공 반송실 위에 형성된 지지면 위에 상기 진공 반송실의 중심부를 회전 중심으로 하여 수직축 둘레로 회전 가능하게 설치된 회전 테이블과,A rotary table provided on a support surface formed on the vacuum transfer chamber so as to be rotatable about a vertical axis around the central portion of the vacuum transfer chamber;
이 회전 테이블에 설치된 선회 아암과,Pivoting arm installed on this turntable,
이 선회 아암의 선단부에 설치되고, 상기 용기 본체에 대하여 덮개를 착탈하기 위해 덮개를 유지해서 승강하며 덮개를 유지한 상태로 상기 처리실의 상방을 통과하도록 구성된 덮개 유지 기구를 구비한 것을 특징으로 한다.It is provided in the front-end | tip part of this turning arm, Comprising: It is equipped with the lid holding mechanism comprised so that it may pass through the upper part of the said process chamber in the state which hold | maintained and lifted the cover, and hold | maintained the lid, in order to attach and detach a lid with respect to the said container main body.
상기 기판 처리 장치의 구체적인 양태로서는, 이하와 같이 구성하여도 좋다.As a specific aspect of the said substrate processing apparatus, you may comprise as follows.
상기 회전 테이블을 회전시키기 위해, 상기 지지면 및 상기 회전 테이블 중 한쪽에 설치되며, 회전 테이블의 둘레 방향을 따라 설치된 랙 기어와,A rack gear installed on one of the support surface and the rotary table to rotate the rotary table, and installed along the circumferential direction of the rotary table;
상기 지지면 및 상기 회전 테이블 중 다른쪽에 설치되고, 상기 랙 기어와 기어 결합하면서 회전하는 피니언 기어와,A pinion gear installed at the other side of the support surface and the rotary table and rotating while gear-engaging with the rack gear;
상기 피니언 기어를 회전 구동하는 구동부를 구비하는 구성.And a drive unit for rotationally driving the pinion gear.
상기 예비 진공실은 용기 본체 위에 덮개를 설치하여 구성되며, 이 덮개는 상기 덮개 유지 기구에 의해 그 용기 본체에 대하여 착탈되는 구성.The preliminary vacuum chamber is configured by installing a cover on the container body, and the cover is detachable from the container body by the cover holding mechanism.
상기 덮개의 상면에는, 선단부가 그 상면으로부터 상방측으로 신장되며 가로 방향으로 굴곡되어 걸림부를 이루는 피유지부가 설치되고,On the upper surface of the lid, a to-be-held portion is provided which extends upward from the upper surface thereof and is bent in the horizontal direction to form a locking portion.
상기 덮개 유지 기구에는, 상기 선회 아암의 선회에 의해 수평 방향으로 이동하면서 상기 걸림부의 하방측으로 진입하며, 그 후 상승하여 상기 걸림부를 통해 상기 덮개를 들어올리는 유지부가 설치되는 구성.The lid holding mechanism is provided with a holding portion for moving downward in the locking portion while moving in the horizontal direction by swinging the swinging arm, and then rising to lift the lid through the locking portion.
상기 진공 반송실은 평면 형상이 다각형으로 형성되며,The vacuum conveyance chamber is formed in a polygonal planar shape,
상기 진공 반송실의 측면 중, 한 측면의 외방측에는 덮개를 메인터넌스하기 위한 메인터넌스 영역이 마련되고, 나머지 측면에는, 상기 예비 진공실과 처리실이 각각 접속되어 있는 구성.The maintenance area | region for maintaining a cover is provided in the outer side of one side among the side surfaces of the said vacuum conveyance chamber, The structure which the said preliminary vacuum chamber and the process chamber are respectively connected to the other side.
상기 메인터넌스 영역에는, 상기 덮개 유지 기구로부터 전달된 덮개를 유지하여 반전시키는 덮개 반전 기구가 설치되는 구성.And a lid inversion mechanism for holding and inverting the lid transmitted from the lid holding mechanism in the maintenance area.
상기 진공 반송실은 6개의 측면을 가지며, 그 측면에 하나의 상기 예비 진공실과 4개의 처리실이 접속되어 있는 구성.The vacuum conveyance chamber has six side surfaces, and one preliminary vacuum chamber and four processing chambers are connected to the side surfaces.
본 발명에 따르면, 진공 반송실의 주위를 따라 배치된 복수의 처리실에 있어서, 덮개를 유지하여 착탈(개폐)하기 위한 덮개 유지 기구를 공통화한다. 그리고, 진공 반송실 위의 회전 테이블로부터 신장되는 선회 아암의 선단측에 덮개 유지 기구를 설치하여, 처리실의 배열보다도 상방측에 있어서 처리실로부터 제거한 덮개를 통과할 수 있도록 구성하고 있다. 그 때문에, 처리실마다 덮개가 배치되는 공간을 확보해 둘 필요가 없기 때문에, 장치의 대형화가 억제되고, 설치 면적(풋프린트)의 증대를 억제할 수 있다.According to the present invention, in a plurality of processing chambers arranged along the periphery of the vacuum transfer chamber, a lid holding mechanism for holding and removing (opening and closing) a lid is common. And the lid holding mechanism is provided in the front-end | tip side of the turning arm extended from the rotating table on a vacuum conveyance chamber, and it is comprised so that the cover removed from the process chamber may be passed above the arrangement | positioning of a process chamber. Therefore, since it is not necessary to ensure the space where a cover is arrange | positioned for every processing chamber, enlargement of an apparatus can be suppressed and the increase of installation area (footprint) can be suppressed.
도 1은 실시형태에 따른 기판 처리 장치의 외관 구성을 나타내는 사시도이다.
도 2는 상기 기판 처리 장치의 평면도이다.
도 3은 상기 기판 처리 장치의 처리실의 일례를 나타내는 종단면이다.
도 4는 상기 처리실을 나타내는 사시도이다.
도 5는 상기 기판 처리 장치의 덮개 반송 지그의 일례를 나타내는 사시도이다.
도 6은 상기 기판 처리 장치의 덮개 반송 기구의 일례를 나타내는 사시도이다.
도 7은 상기 덮개 반송 기구를 나타내는 종단면이다.
도 8은 상기 덮개 반송 기구가 선회하는 양태를 나타내는 평면도이다.
도 9는 상기 덮개 반송 기구의 덮개 유지 기구의 일례를 나타내는 사시도이다.
도 10은 상기 처리실의 덮개가 덮개 유지 기구에 의해 지지되는 양태를 나타내는 사시도이다.
도 11은 상기 기판 처리 장치를 가로로 전개하여 복수의 처리실을 나타내는 전개도이다.
도 12는 상기 덮개 반송 기구에 의해 덮개를 제거하는 양태를 모식적으로 나타내는 측면도이다.
도 13은 상기 덮개 반송 기구에 의해 덮개를 제거하는 양태를 모식적으로 나타내는 측면도이다.
도 14는 상기 덮개 반송 기구에 의해 덮개를 덮개 반송 지그에 반송하는 양태를 모식적으로 나타내는 측면도이다.
도 15는 상기 덮개 반송 기구에 의해 덮개를 제거하는 양태를 모식적으로 나타내는 측면도이다.
도 16은 진공 반송실의 기판 반송 기구를 반출하는 양태를 모식적으로 나타내는 측면도이다.
도 17은 진공 반송실의 기판 반송 기구를 반출하는 양태를 모식적으로 나타내는 평면도이다.
도 18은 상기 기판 처리 장치의 다른 예를 나타내는 평면도이다.
도 19는 상기 기판 처리 장치의 다른 예를 나타내는 단면도이다.
도 20은 상기 기판 처리 장치의 다른 예를 나타내는 단면도이다.
도 21은 상기 기판 처리 장치의 다른 예를 나타내는 단면도이다.
도 22는 상기 기판 처리 장치의 다른 예를 나타내는 단면도이다.
도 23은 상기 기판 처리 장치의 다른 예를 나타내는 단면도이다.1 is a perspective view showing an appearance configuration of a substrate processing apparatus according to an embodiment.
2 is a plan view of the substrate processing apparatus.
3 is a longitudinal cross-sectional view showing an example of a processing chamber of the substrate processing apparatus.
4 is a perspective view showing the processing chamber.
It is a perspective view which shows an example of the cover conveyance jig of the said substrate processing apparatus.
It is a perspective view which shows an example of the cover conveyance mechanism of the said substrate processing apparatus.
It is a longitudinal cross-sectional view which shows the said lid | cover conveyance mechanism.
It is a top view which shows the aspect in which the said lid | cover conveyance mechanism turns.
It is a perspective view which shows an example of the lid holding mechanism of the said lid | cover conveyance mechanism.
It is a perspective view which shows the aspect in which the cover of the said process chamber is supported by the cover holding mechanism.
11 is a developed view showing a plurality of processing chambers by horizontally deploying the substrate processing apparatus.
It is a side view which shows typically the aspect which removes a cover by the said cover conveyance mechanism.
It is a side view which shows typically the aspect which removes a cover by the said cover conveyance mechanism.
It is a side view which shows typically the aspect which conveys a cover to a cover conveyance jig by the said cover conveyance mechanism.
It is a side view which shows typically the aspect which removes a cover by the said cover conveyance mechanism.
It is a side view which shows typically the aspect which carries out the board | substrate conveyance mechanism of a vacuum conveyance chamber.
It is a top view which shows typically the aspect which carries out the board | substrate conveyance mechanism of a vacuum conveyance chamber.
18 is a plan view illustrating another example of the substrate processing apparatus.
It is sectional drawing which shows the other example of the said substrate processing apparatus.
20 is a cross-sectional view illustrating another example of the substrate processing apparatus.
It is sectional drawing which shows the other example of the said substrate processing apparatus.
It is sectional drawing which shows the other example of the said substrate processing apparatus.
It is sectional drawing which shows the other example of the said substrate processing apparatus.
본 발명의 실시형태에 따른 멀티 챔버형의 기판 처리 장치의 일례로서, FPD(Flat Panel Display)용의 유리 기판(이하, 단순히 기판이라고 함)(S)에 대하여 처리(이 예에서는 에칭 처리)를 실시하는 장치의 전체 구성에 대해서, 도 1 및 도 2를 참조하여 설명한다. 도 1은 기판 처리 장치의 개관을 나타내는 사시도, 도 2는 그 내부를 나타내는 횡단 평면도이다. 도 1에 있어서 왼쪽 하측[후술하는 대기 로더부(2)측]을 앞측, 오른쪽 상측[메인터넌스 영역(6)측]을 안측이라고 부른다면, 이 기판 처리 장치에는, 앞측으로부터 안측을 향하여 대기 로더부(2), 로드록실(3), 진공 반송실(4) 및 메인터넌스 영역(6)이 이 순서로 설치되어 있다. 이 진공 반송실(4)의 주위에는, 복수 예컨대 4개의 처리실(5)이 각각 기밀하게 접속되어 있다.As an example of the multi-chamber type substrate processing apparatus according to the embodiment of the present invention, a processing (etching treatment in this example) is performed on a glass substrate (hereinafter simply referred to as a substrate) S for a flat panel display (FPD). The whole structure of the apparatus to implement is demonstrated with reference to FIG. 1 and FIG. 1 is a perspective view showing an overview of a substrate processing apparatus, and FIG. 2 is a cross-sectional plan view showing an interior thereof. In FIG. 1, if the lower left side (
대기 로더부(2)는 다수매의 기판(S)이 수용된 캐리어(C)와 로드록실(3) 사이에서, 대기 분위기에서 기판(S)을 반입반출하기 위한 영역이며, 캐리어(C)가 배치되는 캐리어 배치부(200)와, 이 캐리어 배치부(200)와 예비 진공실인 로드록실(3) 사이에서 기판(S)을 반송하는 대기측 기판 반송 기구(23)를 구비한다. 이 예에서는, 캐리어 배치부(200)는 앞측에서 보아 서로 좌우로 이격되도록 2부분에 설치되고, 이들 캐리어 배치부(200, 200) 사이에 대기측 기판 반송 기구(23)가 설치된다. 대기측 기판 반송 기구(23)는 상하 2단으로 연결 설치된 반송 아암(231)과, 이들 반송 아암(231)을 진퇴 가능, 승강 가능 및 수직축 둘레로 회전 가능하게 지지하는 베이스부(232)를 구비한다. 도 1에서 도면 부호 21은 캐리어(C)를 승강시키기 위해 각 캐리어 배치부(200)에 설치된 승강 기구이며, 도면 부호 22는 대기측 기판 반송 기구를 하방측으로부터 지지하는 지지대이다.The
대기 로더부(2)의 안측에 설치된 로드록실(3)은 기판(S)이 배치되는 분위기를 상압(대기) 분위기와 진공 분위기 사이에서 전환할 수 있도록 구성되고, 이 예에서는 상하 2단으로 적층된다. 이들 로드록실(3)은 도 2의 평면도에 나타내는 바와 같이 기판(S)을 하방측으로부터 지지하는 버퍼 랙(32)과, 기판(S)의 배치 위치를 가이드하는 포지셔너(31)를 각각 구비한다. 이 로드록실(3)은 상면측이 개구된 개략 박스형의 용기 본체[로드록실(3)의 밑 부분](51a)와, 이 용기 본체(51a)의 개구부를 기밀하게 막는 덮개(윗 부분)(52a)를 구비하고, 이 덮개(52a)의 상면에는 그 덮개(52a)를 승강(착탈)시키는 피유지부(53)가 설치된다. 이들 덮개(52a)나 피유지부(53)에 대해서는, 처리실(5)과 더불어 설명한다. 또한, 도 2에서는, 로드록실(3)의 덮개(52a) 및 진공 반송실(4)의 상부판을 제거하여 이들 로드록실(3) 및 진공 반송실(4)의 내부 영역을 나타내고 있다.The
도 2에 나타내는 바와 같이, 진공 반송실(4)은 평면 형상이 다각 형상, 예컨대 정육각 형상이 되도록 구성되어 있고, 이 진공 반송실(4)의 6개의 측면 중 로드록실(3) 및 메인터넌스 영역(6)이 마련된 측면 이외의 측면에는, 이들 로드록실(3) 및 메인터넌스 영역(6)에 대하여 둘레 방향으로 멀어지며 서로 둘레 방향으로 이격되도록, 복수의 처리실(5)이 기밀하게 접속되어 있다. 본 실시예에서는, 4개의 처리실(5)이 기밀하게 접속된다. 이 진공 반송실(4) 내에는, 로드록실(3)과 각 처리실(5) 사이에서 기판(S)을 반송하기 위해, 승강 가능 및 수직축 둘레로 회전 가능하게 구성된 기판 반송 기구(41)가 설치되어 있다. 이 기판 반송 기구(41)에는, 기판(S)을 하방측에서 유지하는 픽부(412)가 진퇴 가능하게 구성되어 있다.As shown in FIG. 2, the
처리실(5)은 내부에서 기판(S)에 대하여 진공 처리, 이 예에서는 에칭 처리를 하기 위한 직육면체 형상의 처리 용기이며, 한 변이 2.2 m, 다른 변이 2.5 m 정도의 크기인 각형의 기판(S)을 수납하기 위해, 예컨대 횡단 평면의 한 변이 3.0 m, 다른 변이 3.5 m 정도의 크기로 구성되어 있다.The
이 처리실(5)은 전술한 도 1에 나타내는 바와 같이, 상면측이 개구된 개략 박스형의 용기 본체[처리실(5)의 밑 부분](51b)와, 이 용기 본체(51b)의 개구부를 기밀하게 막는 덮개(윗 부분)(52b)를 구비한다. 그리고, 처리실(5)의 내부 영역이 감압되면, 도 3에 나타내는 바와 같이, 용기 본체(51b)의 상면의 주연부에 설치된 수지 등으로 이루어지는 시일 부재(501)를 통해 덮개(52b)가 용기 본체(51b)측에 기밀하게 당겨진다. 또한, 처리실(5)의 내부 영역이 대기 분위기로 복귀되면, 혹은 약간 양압이 되도록 가압되면, 덮개(52b)가 용기 본체(51b)로부터 착탈 가능해진다.As shown in FIG. 1 described above, the
이 덮개(52b)의 상면에 있어서의 중앙부에는, 그 덮개(52b)를 용기 본체(51b)에 대하여 승강(착탈)시키기 위해, 도 1∼도 4에 나타내는 바와 같이, 선단부가 상방측으로 신장되며 가로 방향을 향하여 수평으로 굴곡되어 걸림부(502)를 이루는 피유지부(53)가 2부분에 설치되어 있다. 이들 피유지부(53, 53)는 서로의 걸림부(502, 502)가 등을 돌리도록 배치되어 있다. 각각의 피유지부(53, 53)는 도 2에 일점 쇄선으로 나타내는 후술하는 선회 아암(7)[자세하게는 덮개 유지 기구(741, 741)]의 선회 라인(L1, L2)을 각각 따르도록 원호형으로 형성되어 있다. 이 걸림부(502)의 상단 위치로부터 덮개(52b)의 하단 위치까지의 높이 치수는 250∼350 ㎜ 정도이다. 전술한 로드록실(3)의 덮개(52a)에 대해서도, 이 처리실(5)과 동일한 구성의 피유지부(53, 53)가 설치되어 있다.In the center part on the upper surface of this
덮개(52b) 및 용기 본체(51b)의 외벽면에는, 도 3및 도 4에 나타내는 바와 같이, 용기 본체(51b)에 대하여 덮개(52b)를 부착할 때에 이용되는 위치 결정 기구(510, 510)가 각각 설치되어 있다. 이 예에서는, 위치 결정 기구(510)는 진공 반송실(4)에서 처리실(5)을 보았을 때의 좌우 양측에 있어서, 2조씩 전후 방향으로 서로 이격되도록 설치되어 있다. 용기 본체(51b)의 위치 결정 기구(510)에는, 덮개(52b)의 승강 동작을 가이드하기 위해 수직 방향으로 신장되는 가이드축(위치 결정 샤프트)(511)이 설치되어 있고, 덮개(52b)의 위치 결정 기구(510)에는, 이 가이드축(511)을 내부에 수납하여 수직으로 승강하기 위한 링 부재(위치 결정 블록)(512)가 설치어 있다. 그리고, 용기 본체(51b)의 상방측으로부터 덮개(52b)가 하강하여 상기 용기 본체(51b)에 부착될 때에는, 수평 방향에 있어서 링 부재(512)와 가이드축(511)이 서로 중합되도록 덮개(52b)가 위치 결정되며, 계속해서 가이드축(511)을 내부에 수납한 상태로 이 가이드축(511)을 따라 링 부재(512)가 하강하게 된다. 또한, 도 3의 우측의 위치 결정 기구(510, 510)에 대해서는, 가이드축(511)을 도시하기 위해 일부를 절결하여 나타내고 있다. 또한, 도 4에서는 시일 부재(501) 및 처리실(5) 내의 각 부재 등의 기재를 생략한다. 전술한 로드록실(3)의 덮개(52a) 및 용기 본체(51a)에 대해서도, 이들 위치 결정 기구(510, 510)가 설치되어 있다. 여기서, 이후의 설명에 있어서는, 이들 용기 본체(51a, 51b) 및 덮개(52a, 52b)를 합쳐 각각 「51」, 「52」의 부호를 붙여 설명하는 경우가 있다.
계속해서, 이 처리실(5)의 내부 구성에 대해서, 도 3을 참조하여 간단하게 설명한다. 처리실(5)은 평면 형상이 사각 형상이 되도록 형성되어 있고, 기판(S)을 배치하기 위해 용기 본체(51b)의 하방측에 설치된 하부 전극을 포함하는 배치대(81)와, 이 배치대(81) 위의 기판(S)에 대하여 처리 가스(에칭 가스)를 공급하기 위한 상부 전극을 포함하는 가스 샤워 헤드(82)를 구비한다. 배치대(81)에는, 기판(S)을 정전 흡착하기 위한 도시하지 않는 정전 척이 설치되어 있다. 가스 샤워 헤드(82)는 덮개(52b)의 내주벽에 절연 부재(83)를 통해 접속된다. 도 3에서, 도면 부호 85는 진공 배기관(84)을 통해 처리실(5)의 내부 분위기를 진공 배기하기 위한 진공 펌프(기압 양수기), 도면 부호 86은 가스 공급관(87)으로부터 가스 샤워 헤드(82)의 하면에 형성된 가스 토출 구멍(88)을 통해 처리실(5)의 내부에 처리 가스를 공급하기 위한 처리 가스원이다. 또한, 도면 부호 89는 고주파 전원, 도면 부호 90은 절연 부재이며, 도면 부호 91은 기판(S)의 반송구이다. 또한, 이 처리실(5)에는, 배치대(81)와 전술한 기판 반송 기구(41) 사이에서 반송구(91)를 통해 기판(S)을 전달하기 위해, 이 배치대(81) 위의 기판(S)에 대하여 이면측으로부터 승강 가능하게 돌몰하는 도시하지 않는 승강핀이 설치되어 있다.Subsequently, an internal configuration of the
그리고, 고주파 전원(89)으로부터 정합기(89a)를 통해 고주파 전압을 가스 샤워 헤드(82)에 인가하여 염소 가스 등의 처리 가스를 플라즈마화하고, 이 플라즈마에 의해, 그 기판(S) 위에 형성된 알루미늄막 등이 에칭 처리된다. 또한, 용기 본체(51b)의 내부 영역이나 가스 샤워 헤드(82)를 메인터넌스할 때에는, 덮개(52b)가 제거되게 된다. 또한, 도 1, 도 2에 있어서는 도시의 편의상, 처리실(5)을 모식적으로 나타내고 있다. 도 1에서 도면 부호 G는 대기 로더부(2)와 로드록실(3) 사이, 로드록실(3)과 진공 반송실(4) 사이, 및 진공 반송실(4)과 각 처리실(5) 사이에 기밀하게 설치된 개폐 가능한 게이트 밸브이다.Then, a high frequency voltage is applied from the high
진공 반송실(4)의 측면 중 로드록실(3)에 대향하는 측면에는, 처리실(5)이나 로드록실(3)로부터 제거한 전술한 덮개(52)를 메인터넌스하기 위한 메인터넌스 영역(6)이 배치되고, 이 메인터넌스 영역(6)은 4개의 처리실(5) 및 로드록실(3)에 공통 영역으로서 마련된다. 메인터넌스 영역(6)에는, 도 5에도 나타내는 바와 같이, 덮개(52)를 유지하여 반전시키기 위한 덮개 반송 지그(61)가 설치된다. 이 덮개 반송 지그(61)는 덮개(52)의 외주측 바닥면부를 유지하는 프레임부(611)와, 진공 반송실(4)측에서 보아 프레임부(611)의 좌우 양측의 2변의 각각에 있어서의 길이 방향의 중앙부를 수평축 둘레로 회전 가능하게 지지하는 회전 지지부(613)를 포함하는 덮개 반전 기구를 구비하고, 회전 지지부(613)를 통해 지주 부재(612)에 의해 지지된다. 덮개 반송 지그(61)는 지주 부재(612)의 하단에 설치된 후술하는 대차부(614)에 의해 주행 가능하도록 구성되어 있다.In the side surface of the
도 5에서 도면 부호 621은 회전 지지부를 수평축 둘레로 회전시키는 모터 등의 회전 기구, 도면 부호 622는 덮개(52)의 위치 결정 기구(510)에 있어서의 링 부재(512)의 내부 영역에 들어가 덮개(52)의 승강 동작을 가이드하는 가이드축이다. 이 가이드축(622)이 설치된 위치 결정 기구(623)에는, 덮개(52)의 위치 결정 기구(510)와의 사이에서 볼트 체결함으로써 프레임부(611)와 덮개(52)를 고정하기 위한 볼트 구멍(624)이 형성되어 있다. 또한, 덮개 반송 지그(61) 및 처리실(5)의 위치 결정 기구(510)에 대해서는, 도 3, 도 4 및 도 5 이외에서는 도시를 생략한다.In FIG. 5,
또한, 메인터넌스 영역(6)은 진공 반송실(4)로부터 기판 반송 기구(41)를 취출하기 위한 영역을 겸용하며, 이 메인터넌스 영역(6)측에 있어서의 진공 반송실(4)의 측벽에는, 그 진공 반송실(4)의 내부 영역인 반송 공간(401)으로부터 기판 반송 기구(41)를 취출하기 위한 개구부(431)가 형성되어 있다. 이 개구부(431)는 도시하지 않는 개폐 부재에 의해 개폐 가능하게 기밀하게 폐쇄되어 있다.The
이 예에서는, 로드록실(3), 4개의 처리실(5) 및 메인터넌스 영역(6)은 후술하는 선회 아암(7)에 의해 덮개(52)가 전달되는 각각의 위치가 진공 반송실(4)의 중앙부로부터 보아 하나의 원주 위에 배열되도록, 진공 반송실(4)로부터 방사형으로 배치되어 있다.In this example, the
또한, 도 6에 나타내는 바와 같이, 이 기판 처리 장치는 진공 반송실(4)의 상방에 설치된 회전 테이블(721)과, 기단측이 이 회전 테이블(721)에 고정되며, 타단측(선단부)이 진공 반송실(4)의 외방까지 신장되는 선회 아암(7)과, 이 선회 아암(7)의 선단부에 설치되고, 처리실(5)의 덮개(52)를 착탈하여 반송하기 위한 덮개 유지 기구(741)를 포함하는 덮개 반송 기구를 구비한다. 이들 각 부에 대해서 설명하면, 진공 반송실(4) 위에는 지지면이 형성되어 있다. 이 지지면은 진공 반송실(4)의 천장면의 상면을 겸용하여도 좋고, 혹은 바닥면으로부터 신장되는 지지 부재를 통해 진공 반송실(4)의 상방에 지지판을 설치하여, 이 지지판의 상면에 의해 구성되는 것이어도 좋다. 본 실시형태에서는, 진공 반송실(4)의 천장부의 상면[자세하게는, 진공 반송실(4) 위에 설치된 판형체]을 지지면으로 한 예로 하며, 상기 지지판을 이용한 예에 대해서는 후술한다.In addition, as shown in FIG. 6, this substrate processing apparatus has the rotary table 721 provided above the
진공 반송실(4)의 천장면을 구성하는 상부판(701)의 상면(지지면)에는, 진공 반송실(4)의 중심부를 중심으로 하는 원을 따라 링형으로 형성된 가이드 부재인 가이드 레일(702)이 설치되어 있다. 또한, 이 상부판(701)은 복수매의 플레이트를 적층한 것도 포함한다. 이 가이드 레일(702) 위에는, 상기 원과 동심원인 회전 테이블(721)이 설치되어 있다. 이 회전 테이블(721)은 도 7에 나타내는 바와 같이, 가이드 레일(702)에 감합된 상태로 그 가이드 레일(702)에 가이드되는 피가이드 부재(703)의 위에 나사(705)로 고정되어 있다. 피가이드 부재(703)는 가이드 레일(702)의 둘레 방향에 걸쳐 등간격으로 복수개 설치되고, 그 설치수는 한정되는 것은 아니지만, 예컨대 12개 이상인 것이 바람직하다.On the upper surface (supporting surface) of the
회전 테이블(721)의 외주측에 있어서의 상부판(701) 위에는, 상기 원과 동심원형으로서, 전체 둘레에 걸쳐 외측면에 기어부(723)가 형성된 링형의 랙부(722)가 설치되어 있다. 한편, 회전 테이블(721)에 있어서의 랙부(722)의 외방측 부위에는, 랙부(722)와 기어 결합하는, 수직축 둘레로 회전 가능한 피니언부(유성 기어)(733)가 회전 테이블(721)의 하방측으로 돌출해 설치된다. 이 피니언부(733)의 회전축(730)은 회전 테이블(721) 위의 구동부를 이루는 모터(736)에 의해 감속기(735)를 통해 회전하도록 구성되어 있다. 따라서, 모터(736)에 의해 피니언부(733)를 회전시키면, 회전 테이블(721)이 회전하게 된다. 모터(736)에는, 도시하지 않는 인코더가 부착되어 있고, 이 인코더의 인코더값에 따라, 진공 반송실(4) 위에서의 회전 테이블(721)의 회전 위치, 즉 덮개 유지 기구(741)의 위치를 제어할 수 있도록 구성되어 있다. 또한, 도 6에서는, 기판 처리 장치의 일부를 절취하여 도시하고 있다.On the
선회 아암(7)은 길이 방향을 따라 서로 이격된 2장의 대들보판(712, 712)과, 이들 대들보판(712, 712) 사이를 복수 개소에서 연결하는 연결 부재(711)를 구비한다. 또한, 이들 대들보판(712, 712)은 선단부에 유지되는 덮개(52)의 카운터 웨이트가 되도록, 기단측[진공 반송실(4)측]이 굵고 선단측이 가늘게 형성되어 있다.The turning
여기서, 도 6 및 도 8의 (a)에 나타내는 바와 같이, 진공 반송실(4)의 상부판(701)에는, 기판 반송 기구(41)를 반입반출하기 위한 개구부를 막는 직사각형의 덮개(710)가 설치되어 있다. 한편, 회전 테이블(721)에는, 덮개(710)보다도 큰 직사각형의 절취부(700)가 설치되며, 선회 아암(7)에 있어서의 대들보판(712, 712) 및 연결 부재(711)에 의해 둘러싸이는 바닥판의 영역에는, 덮개(710)보다 큰 직사각형의 절취부(720)가 상기 절취부(700)에 대응하여 설치되어 있다. 이와 같이 구성하면, 절취부(700, 720) 안에 덮개(710)가 수납되는 회전 위치에 회전 테이블(721)을 정지시킴으로써, 덮개(710)를 제거하여 기판 반송 기구(41)를 반입반출하는 등의 작업을 할 수 있다. 또한, 이 도 8의 (a)에서는, 2장의 대들보판(712, 712) 사이의 이격 치수에 대해서는 모식적으로 나타내고 있다.Here, as shown to FIG. 6 and FIG. 8A, the
덮개 유지 기구(741)는 도 1 및 도 9에 나타내는 바와 같이, 전술한 덮개(52)의 피유지부(53)를 유지하는 유지부(743)와, 이 유지부(743)를 승강 가능하게 지지하는 승강 기구(742)를 구비한다. 이 예에서는, 선회 아암(7)의 길이 방향으로 서로 대향하도록, 한쌍의 유지부(743, 743)가 설치되어 있다. 이들 유지부(743)는, 각각 하방측에 수직으로 신장되는 수직 부재(744)의 선단을 서로 마주보도록 굴곡되어 L자형으로 형성되어 있고, 진공 반송실(4)의 중심에서 보아 내측의 수직 부재(744) 및 외측의 수직 부재(744)는 도 2에 일점 쇄선으로 나타낸 라인(L1, L2)을 각각 따르도록 원호형으로 형성되어 있다. 그리고, 이들 수직 부재(744, 744)는, 덮개(52) 위의 걸림부(502, 502)와 걸리도록 위치 설정되며, 이들 걸림부(502, 502)의 선단부를 따르도록 그 수직 부재(744, 744)의 하단부가 원호형으로 형성되어 있다.As shown in FIGS. 1 and 9, the
유지부(743, 743)는 승강 기구(742)인 잭 기구(751)에 의해 승강 가능하게 설치되어 있다. 이 잭 기구(751)는 유지부(743)와 나사 결합하는 수직인 나사축(752)을 승강 모터(754)에 의해 회전시킴으로써, 유지부(743)가 가이드 부재(753)에 가이드되면서 승강할 수 있도록 구성되어 있다.The holding
따라서, 이 덮개 유지 기구(741)에 의해 덮개(52)를 들어올릴 때에는, 도 10의 (a)에 나타내는 바와 같이, 수직 부재(744)의 상단면이 걸림부(502)의 하단면보다도 밑이 되도록 잭 기구(751)를 구동시켜, 이 수직 부재(744)가 걸림부(502)의 하측 영역에 들어가도록 회전 테이블(721)을 회전시킨다. 계속해서, 도 10의 (b)에 나타내는 바와 같이, 잭 기구(751)를 구동하여 덮개 유지 기구(741)를 상승시킴으로써, 용기 본체(51)로부터 덮개(52)가 제거된다. 덮개(52)는 처리실(5)이나 로드록실(3)의 내부 분위기가 대기 분위기 또는 약간 가압 분위기로 설정되어 제거된다. 또한, 도 10에서는 덮개(52)를 절취하여 나타내고 있다.Therefore, when lifting the
한편, 용기 본체(51) 또는 덮개 반송 지그(61)에 덮개(52)를 부착할 때에는, 덮개(52)를 들어올릴 때와 반대의 순서로 덮개 유지 기구(741)를 동작시킨다. 즉, 덮개(52)를 유지한 덮개 유지 기구(741)가 용기 본체(51) 또는 덮개 반송 지그(61)의 상방 위치에 위치하도록 회전 테이블(721)을 회전시키고, 계속해서 잭 기구(751)를 구동하여 덮개(52)를 하강시킨다. 이때, 전술한 바와 같이 위치 결정 기구(510)에 의해, 덮개(52)가 부착 위치를 향하여 수직으로 하강하도록 가이드된다. 그리고, 용기 본체(51) 또는 덮개 반송 지그(61)에 덮개(52)를 배치한 후, 걸림부(502)와 수직 부재(744)와의 걸림이 빠지도록 덮개 유지 기구(741)를 더욱 하강시키고, 계속해서 회전 테이블(721)을 회전시켜 덮개 유지 기구(741)를 상기 덮개(52)로부터 측방측으로 벗어난 영역에 후퇴시킨다. 이렇게 해서 처리실(5)이나 로드록실(3)에서는, 내부의 분위기를 감압함으로써 덮개(52)가 용기 본체(51)에 대하여 기밀하게 접속된다. 또한, 덮개 반송 지그(61)에서는, 볼트 구멍(624)을 통해 프레임부(611)와 덮개(52)가 고정되고, 계속해서 덮개(52)가 반전된다.On the other hand, when attaching the
여기서, 잭 기구(751)에 의해 덮개 유지 기구(741)가 승강하는 승강 스트로크(Z)는 도 11에 나타내는 바와 같이, 유지부(743)가 하나의 처리실(5) 또는 로드록실(3)로부터 제거한 덮개(52)를, 다른 처리실(5) 또는 로드록실(3)의 덮개(52)와 간섭하지 않고 선회시킬 수 있는 치수, 예컨대 1000 ㎜ 정도로 설정되어 있다. 또한, 도 11은 회전 테이블(721)의 회전 방향을 따라 진공 반송실(4)을 절단하고, 이 절단면을 따라 로드록실(3), 4개의 처리실(5), 및 메인터넌스 영역(6)을 좌우로 전개시켜 모식적으로 나타낸 전개도이다. 이 도 11에 있어서는, 덮개 유지 기구(741) 및 피유지부(53)의 방향에 대해서는, 모식적으로 90°방향을 바꿔 도시하고 있다. 또한, 전술한 덮개 반송 지그(61)에 있어서 덮개(52)가 배치되는 높이 위치는 처리실(5)이나 로드록실(3)에 있어서 덮개(52)가 부착되는 높이 위치와 동일한 높이로 설정되어 있다.Here, as shown in FIG. 11, as for the lifting stroke Z which the
또한, 기판 처리 장치는 도 2에 나타내는 바와 같이, 제어부(8)를 구비한다. 이 제어부(8)는 도시하지 않는 CPU나 기억부 등을 구비하는 컴퓨터를 포함하며, 기억부에는 기판 처리 장치로써 기판(S)의 에칭 처리 등의 프로세스를 실시할 때의 동작, 및 전술한 덮개(52)를 반송하는 동작에 관한 제어를 실시하기 위한 단계(명령)군이 짜여진 프로그램이 기록되어 있다. 이 프로그램은 하드 디스크, 컴팩트 디스크, 마그넷 광디스크, 메모리 카드 등의 기억 매체에 저장되며, 이 기억 매체로부터 컴퓨터에 인스톨된다.Moreover, the substrate processing apparatus is equipped with the control part 8 as shown in FIG. The control unit 8 includes a computer including a CPU, a storage unit, and the like, which are not shown. The storage unit includes an operation at the time of performing a process such as an etching process of the substrate S with the substrate processing apparatus, and the above-described lid. A program in which a group of steps (commands) for performing control relating to the operation of conveying 52 is executed is recorded. This program is stored in a storage medium such as a hard disk, a compact disk, a magnet optical disk, a memory card, and is installed in a computer from the storage medium.
이하, 도 12∼도 16을 참조하여 본 실시형태의 기판 처리 장치의 작용에 대해서 설명한다. 우선, 이 기판 처리 장치에 있어서, 기판(S)에 대하여 통상의 에칭 처리를 실시하는 경우에 대해서 간단하게 설명한다. 처음에, 대기측 기판 반송 기구(23)를 이용하여 캐리어 배치부(200) 위의 캐리어(C)로부터 기판(S)을 취출하여, 로드록실(3)에 반입한다. 이 로드록실(3)로부터 대기측 기판 반송 기구(23)를 후퇴시킨 후, 로드록실(3) 안을 진공 배기한다. 계속해서, 기판 반송 기구(41)에 의해 기판(S)을 처리실(5)에 반입하고, 기판 반송 기구(41)를 처리실(5)로부터 후퇴시킨다. 그리고, 처리실(5)에서는, 전술한 바와 같이, 기판(S)의 상방 공간에 플라즈마를 형성함으로써, 그 기판(S)에 대하여 에칭 처리를 실시한다. 그 후, 이 기판(S)은 처리실(5)에 반입된 순서와는 반대의 순서로 캐리어(C)에 복귀된다. 이러한 일련의 처리를 실시하고 있을 때, 덮개 유지 기구(741)는 덮개(52)의 피유지부(53)와 간섭하지 않는 위치, 예컨대 메인터넌스 영역(6)의 상방 영역에 있어서, 덮개(52)의 걸림부(502)의 높이 레벨보다도 상방측에서 대기한다.Hereinafter, with reference to FIGS. 12-16, the effect | action of the substrate processing apparatus of this embodiment is demonstrated. First, the case where a normal etching process is performed with respect to the board | substrate S in this substrate processing apparatus is demonstrated easily. First, the board | substrate S is taken out from the carrier C on the
다음에, 로드록실(3)이나 처리실(5)의 내부 영역이나 덮개(52)를 메인터넌스하는 경우에 대해서 설명한다. 이 예에서는, 이들 로드록실(3) 및 4개의 처리실(5) 중, 로드록실(3)로부터 반시계 방향으로 인접한 처리실(5)을 메인터넌스하는 경우를 예로 들어 설명한다. 우선, 이 처리실(5)의 덮개(52b)에 접속된 배선[고주파 전원(89)으로부터의 급전선]이나 가스 공급관(87) 등의 용역선을 미리 제거해 둔다. 또한, 상기 처리실(5)과 진공 반송실(4)의 사이의 게이트 밸브(G)를 폐쇄하여, 이 처리실(5)의 내부 분위기를 대기 분위기 또는 약간 가압 분위기로 설정한다.Next, the case where maintenance of the inner area | region of the
그리고, 도 12의 (a)에 나타내는 바와 같이, 메인터넌스를 실시하는 처리실(5)의 피유지부(53)로부터 측방측으로 어긋난 영역의 상방측에 덮개 유지 기구(741)가 위치하도록, 회전 테이블(721)[자세하게는 모터(736)]을 회전시킨다. 도 12 및 후술하는 도 13에 있어서도, 전술한 도 11과 마찬가지로 덮개 유지 기구(741) 및 유지부(743)에 대해서는 방향을 90°바꿔 도시하고 있다.And as shown to Fig.12 (a), the rotary table (so that the lid holding |
계속해서, 도 12의 (b)에 나타내는 바와 같이, 잭 기구(751)를 구동하여 덮개 유지 기구(741)를 하강시킨다. 계속해서, 덮개 유지 기구(741)[수직 부재(744)]의 상면과 걸림부(502)의 하단면 사이에 간극이 형성되는 높이 위치에 있어서, 회전 테이블(721)을 회전시켜 덮개 유지 기구(741)를 수평 방향으로 선회시킨다. 그리고, 전술한 도 10 및 도 12의 (c)에 나타내는 바와 같이, 걸림부(502)의 하방측에 유지부(743)를 위치시키며 덮개 유지 기구(741)를 상승시켜, 이들 걸림부(502)와 유지부(743)를 결합시킨다. 계속해서, 도 13의 (a)와 같이 유지부(743)[덮개 유지 기구(741)]를 더욱 상승시키면, 덮개(52b)는 유지부(743)에 의해 걸림부(502)가 유지되기 때문에, 덮개 유지 기구(741)와 함께 상승해 간다.Subsequently, as shown in FIG. 12B, the
그리고, 덮개 유지 기구(741)에 의해 제거된 덮개(52b)가 다른 덮개(52)와 간섭(충돌)하지 않는 높이 위치에 있어서, 도 13의 (b)에 나타내는 바와 같이, 그 덮개(52b)를 다른 덮개(52)의 상방 영역을 통해 메인터넌스 영역(6)을 향하여 반송한다. 그 후, 도 13의 (c) 및 도 14의 (a)에 나타내는 바와 같이, 이 메인터넌스 영역(6)의 상방 위치로부터 덮개(52b)를 하강시키고, 이 덮개(52b)의 위치 결정 기구(510)와 덮개 반송 지그(61)의 위치 결정 기구(510)의 협동 작용에 의해, 그 덮개(52b)를 덮개 반송 지그(61) 위에 설치한다. 계속해서, 걸림부(502)와 수직 부재(744)의 걸림을 해제하기 위해 덮개 유지 기구(741)를 약간 하강시키며, 이 덮개 유지 기구(741)를 메인터넌스 영역(6)으로부터 측방측으로 후퇴시킨다. 그 후, 이 덮개 유지 기구(741)는 다른 덮개(52)를 제거하기 위해, 피유지부(53)와 간섭(충돌)하지 않는 높이 위치, 예컨대 덮개(52)의 상방측까지 상승한 후, 수평으로 선회해 간다.And at the height position which the
이 덮개 반송 지그(61)에서는, 전술한 바와 같이 볼트 구멍(624)을 통해 그 덮개 반송 지그(61)와 덮개(52b)가 고정되며, 도 14의 (b)에 나타내는 바와 같이 덮개(52b)를 반전시켜 전술한 가스 샤워 헤드(82)를 메인터넌스한다. 또한, 이 덮개(52b)가 제거된 용기 본체(51b)에 대해서도 메인터넌스를 실시한다. 이 덮개(52b)의 메인터넌스는 도 14의 (c)에 나타내는 바와 같이, 대차부(614)를 통해 덮개 반송 지그(61)를 메인터넌스 영역(6)으로부터 벗어난 영역에 반송하여 실시하도록 하여도 좋다. 메인터넌스 종료 후, 덮개(52b)가 원래의 방향으로 복귀되어, 덮개 반송 지그(61)에 반송된 순서와 반대의 순서로 용기 본체(51b)에 덮개(52b)가 반송된다.In this lid | cover
이때, 하나의 덮개(52)를 덮개 반송 지그(61)에 반송한 후, 다른 덮개(52)를 제거하며 그 다른 덮개(52)에 대해서는 덮개 유지 기구(741)로 유지한 채로, 그 하나 및 다른 용기 본체(51, 51)에 대해서 메인터넌스하도록 하여도 좋다. 이러한 경우의 구체적인 예로서, 도 15에는 로드록실(3)의 시계 방향으로 인접한 덮개(52b)를 메인터넌스 영역(6)에 반송한 후, 로드록실(3)의 덮개(52a)에 대해서도 제거하여, 이들 2개의 용기 본체(51a, 51b)를 메인터넌스하는 경우에 대해서 나타내고 있다.At this time, after conveying one
다음에, 기판 반송 기구(41)를 제거할 때의 동작에 대해서 설명한다. 이 경우에는, 덮개 반송 지그(61)를 메인터넌스 영역(6)으로부터 후퇴시키며, 진공 반송실(4)을 대기 분위기로 설정한 후, 전술한 개구부(431)를 기밀하게 막고 있는 개폐 부재(421)를 제거한다[도 16의 (a), 도 17의 (a)]. 그리고, 기판 반송 기구(41)와 이 기판 반송 기구(41)의 하방측에 설치된 구동 기구(411)를 분리하고, 기판 반송 기구(41)를 개구부(431)로부터 기판 처리 장치의 외부로 반출한다[도 16의 (b), 도 17의 (b)] 또한, 구동 기구(411)를 취출할 때도 마찬가지로, 구동 기구(411)가 설치된 기계실(402)의 측방측의 개구부(432)를 덮는 개폐 부재(422)를 제거하고, 상기 개구부(432)로부터 구동 기구(411)를 반출한다[도 16의 (c)]. 또한, 도 16에서 도면 부호 44는 반송 공간(401)과 기계실(402)을 기밀하게 구획하는 바닥면이며, 도면 부호 413은 바닥판(44)과 기판 반송 기구(41) 사이에 기밀하게 설치된 벨로우즈이다.Next, operation | movement at the time of removing the board |
전술한 실시형태에서는, 진공 반송실(4)의 주위를 따라 배치된 복수의 처리실(5)에 있어서, 덮개(52)를 유지하여 착탈(개폐)하기 위한 덮개 유지 기구(741)를 공통화한다. 그리고, 진공 반송실(4) 위의 회전 테이블(721)로부터 신장되는 선회 아암(7)에 덮개 유지 기구(741)를 설치하고, 처리실(5) 또는 로드록실(3)의 덮개(52)를 유지한 상태로 진공 반송실(4)의 둘레 방향을 따라 처리실(5)의 상방 영역을 덮개 유지 기구(741)가 통과하여 선회할 수 있도록 구성한다. 그 때문에, 처리실(5)이나 로드록실(3)마다 덮개(52)가 배치되는 공간을 확보해 둘 필요가 없기 때문에, 장치의 대형화가 억제되고, 설치 면적(풋프린트)의 증대를 억제할 수 있다. 또한, 처리실(5)이나 로드록실(3)마다 덮개(52)의 착탈 기구를 설치하는 구성에 비해서, 장치의 비용을 저감할 수 있다. 또한, 하나의 처리실(5)에 대해서 덮개(52b)를 제거한 상태여도, 다른 처리실(5)에서는 기판(S)의 처리를 계속할 수 있다. 그리고, 회전 테이블(721) 위에 선회 아암(7)을 설치하고, 랙부(722)와 피니언부(733)에 의해 회전 테이블(721)을 회전시키기 때문에, 기판(S)의 대형화에 기인하여 선회 아암(7), 덮개(52) 및 덮개 유지 기구(741)가 대중량화되어도 안정된 구동을 할 수 있다.In the above-mentioned embodiment, in the
또한, 덮개(52)를 착탈하는데 있어서, 걸림부(502)의 하방측으로 수직 부재(744)가 수평으로 이동해서, 이들 걸림부(502)와 수직 부재(744)를 결합시키기 때문에, 걸림부(502, 502)를 끼워 넣도록 대향하는 유지부(743)를 움직이는 기구가 불필요하며, 그 때문에 장치의 간략화 및 저비용화를 도모할 수 있다. 또한, 덮개(52), 용기 본체(51) 및 덮개 반송 지그(61)에 위치 결정 기구(510)를 설치하기 때문에, 덮개(52)를 간단하게 착탈할 수 있다.In addition, when attaching and detaching the
또한, 덮개(52)를 착탈하는 선회 아암(7)에 더하여, 덮개(52)를 메인터넌스하는 메인터넌스 영역(6)도 로드록실(3) 및 4개의 처리실(5)에서 공통화되기 때문에, 장치의 공간 절약화 및 저비용화를 더욱 도모할 수 있다. 또한, 메인터넌스 영역(6)측에 있어서의 진공 반송실(4)의 측벽으로부터 기판 반송 기구(41)를 취출할 수 있기 때문에, 크레인 등을 이용하여 진공 반송실(4)의 천장면을 통해 들어올리는 경우에 비해서, 크레인을 마련해 둘 필요가 없고, 또한 간단하게 기판 반송 기구(41)를 반출할 수 있다.In addition to the
또한, 진공 반송실(4)의 상면에 선회 아암(7)을 설치하는데 있어서, 대들보판(712, 712)을 이용하여 진공 반송실(4)의 천장면의 덮개(710)를 막지 않도록 하기 때문에, 기판 반송 기구(41)를 취출할 수 있다. 또한, 진공 반송실(4)과 처리실(5) 사이에 설치된 게이트 밸브(G)를 메인터넌스할 때에는, 그 처리실(5)로부터 떨어진 영역에 덮개 유지 기구(741)를 후퇴시키도록 선회 아암(7)을 선회시킴으로써, 이 선회 아암(7)에 의해 메인터넌스 작업이 방해되지 않는다.In addition, in installing the
선회 아암(7)의 구성은 도 1에 나타낸 편(片)지지 대들보식의 선회 아암(7)의 예에 한정되는 것이 아니며, 도 18에 나타내는 바와 같이, 진공 반송실(4)의 중앙부를 기점으로 하여 양측으로 선회 아암(7)을 신장시키고, 이들 선회 아암(7, 7)의 선단부에 덮개 유지 기구(741, 741)를 설치하여도 좋다.The structure of the
또한, 랙부(722) 및 피니언부(733)의 위치 관계에 관해서는, 앞의 실시형태의 구성에 한정되는 것이 아니며, 도 19에 나타내는 바와 같이, 내주측에 기어부(723)가 형성된 랙부(722)를 외주측에 배치하고, 피니언부(733)를 내측에 배치하는 구성이어도 좋다. 또한, 도 20에 나타내는 바와 같이, 랙부(722)의 상면에 기어부(723)를 형성하여, 이 랙부(722) 위에 수평축 둘레로 회전하도록 피니언부(733)를 설치하여도 좋다. 또한, 도 21에 나타내는 바와 같이, 랙부(722)를 회전 테이블(721)의 주연부에 형성하며, 피니언부(733)를 지지면 위에 설치하여도 좋다. 또한, 회전 테이블(721)을 원형상으로 하는 대신에, 도 22에 나타내는 바와 같이, 랙부(722)를 둘러싸도록 링형으로 형성하여도 좋다. 또한, 랙부(722)를 지지면에 배치하는 구성에 있어서는, 피니언부(733)를 선회 아암(7)에 설치하여도 좋다. 이 경우라도, 피니언부(733)를 회전 테이블(721)을 통해 선회 아암(7)에 설치한 구성이라고 할 수 있으며, 특허청구범위에 있어서의 「회전 테이블에 설치된」 구성에 상당한다.In addition, regarding the positional relationship of the
또한, 회전 테이블(721)이나 선회 아암(7)을 진공 반송실(4)의 천장면에 설치하지 않고, 바닥면으로부터 신장되는 지지 부재를 통해 진공 반송실(4)의 상방 영역에 설치하여도 좋은 것은 이미 설명하였지만, 이러한 구성에 대해서 도 23을 참조하여 설명한다. 이 도 23 중, 도면 부호 801은 진공 반송실(4) 주위에 있어서의 바닥면으로부터 진공 반송실(4)의 천장면의 높이 위치보다도 상방측으로 수직으로 신장되는 지지 부재이며, 이 지지 부재(801)는 그 진공 반송실(4)의 주위에 복수 개소에 등간격으로 설치되어 있다. 그리고, 이들 지지 부재(801)의 상단측에는, 진공 반송실(4)을 상방측으로부터 덮도록 지지판(802)이 수평으로 설치되어 있다. 이 지지판(802) 위에는, 전술한 회전 테이블(721), 가이드 레일(702) 및 선회 아암(7)이 설치되어 있다. 이와 같이 지지판(802)을 설치한 경우에는, 선회 아암(7)이나 덮개(52)의 하중이 진공 반송실(4)에 가해지지 않기 때문에, 기판 처리 장치에 대해 개조나 공사 등을 할 필요가 없다. 또한, 도 23에서는 기판 처리 장치의 기재를 간략화하여 나타내고 있다.Moreover, even if the rotary table 721 and the
이상에 있어서, 본 발명은 랙부(722) 및 지지면의 한쪽 및 다른쪽에 각각 핀치 롤러와 이 핀치 롤러에 압접되는 링형의 가이드를 설치하고, 핀치 롤러의 회전에 의해 회전 테이블(721)을 회전시켜도 좋다. 이 경우의 핀치 롤러 및 가이드는 각각 본 발명에서 말하는 피니언부(733) 및 랙부(722)에 상당하는 것으로 한다.In the above, the present invention is provided with a pinch roller and a ring-shaped guide which is pressed against the pinch roller, respectively, on one side and the other side of the
덮개(52)를 착탈하는 기구로서, 덮개 유지 기구(741)를 수평으로 슬라이드(선회)시킴으로써, 유지부(743)가 걸림부(502)의 하방측에 위치하도록 하였지만, 덮개 유지 기구(741)에 구동 기구를 설치하여, 피유지부(53, 53)를 사이에 두도록 유지부(743)를 구동시켜도 좋다. 또한, 수평 방향에 있어서의 진공 반송실(4)의 중앙부에 회전 테이블(721)의 회전 중심을 위치시켰지만, 이 진공 반송실(4)의 중앙부란, 그 진공 반송실(4)의 중심 위치만을 의미하는 것이 아니며, 로드록실(3), 4개의 처리실(5) 및 메인터넌스 영역(6)에 있어서의 각각의 중앙 위치를 연결하는 원에 대하여, 덮개 유지 기구(741)의 선회 라인(L)이 편심해 경우도 포함된다.As the mechanism for attaching and detaching the
잭 기구(751)로서는, 각각의 나사축(752)을 상하 2개로 분할하고, 그 잭 기구(751)의 높이 치수를 억제하도록 하여도 좋다. 또한, 덮개 반송 지그(61)를 설치하지 않고, 덮개 유지 기구(741)에 의해 들어올린 상태에서 가스 샤워 헤드(82)를 메인터넌스하도록 하여도 좋다. 또한, 덮개 반송 지그(61)와 덮개(52)를 고정하는 기구로서는, 덮개 반송 지그(61)에 덮개(52)를 배치하면 자동으로 고정되는 기구여도 좋다. 또한, 기판(S)에 대하여 에칭 처리를 하고 있을 때의 덮개 유지 기구(741)의 대기 위치로서는, 메인터넌스 영역(6)의 상방 위치 이외에도, 기판(S)의 처리나 반송에 간섭하지 않는 위치이면 처리실(5)이나 로드록실(3)의 상방 위치 등이어도 좋다. 또한, 이 덮개 유지 기구(741)가 대기할 때의 높이 위치로서는, 걸림부(502)의 하방측에 수직 부재(744)가 위치하도록 하여도 좋다. 또한, 선회 아암(7)을 신축시킴으로써, 하나의 처리실(5)로부터 진공 반송실(4)의 상방 영역을 통해 메인터넌스 영역(6)에 덮개(52)를 반송하도록 하여도 좋다. 이 경우에는, 선회 아암(7)은 전술한 바와 같이 피니언부(733) 및 랙부(722)에 의해 선회하며, 선회 아암(7)의 길이 방향을 따라 덮개 유지 기구(741)가 진퇴할 수 있도록, 대들보판(712, 712)의 길이 방향의 도중 부위에서 굴곡되는 다관절 아암으로서 구성되어도 좋다.As the
또한 처리실(5)로서는, 기판(S)의 에칭 처리에 한정되지 않고, CVD(Chemical Vapor Deposition) 등의 성막 처리나 애싱 처리 등의 진공 처리를 하기 위한 것이어도 좋다. 또한, 처리실(5)의 수는 2개∼3개 혹은 5개 이상이어도 좋다. 따라서, 상방측에서 진공 반송실(4)을 보았을 때의 형상은 다각형, 예컨대 삼각형이나 사각형 혹은 칠각형 등이어도 좋고, 원형이어도 좋다. 그리고, 기판 처리 장치에서 처리되는 기판(S)으로서는, 각형의 유리 기판(S) 이외에도 반도체 웨이퍼 등의 원형 기판이어도 좋다.In addition, the
S: 기판 4: 진공 반송실
5: 처리실 7: 선회 아암
51: 용기 본체 52: 덮개
53: 피유지부 721: 회전 테이블
722: 랙부 730: 회전축
733: 피니언부 741: 덮개 유지 기구S: Substrate 4: Vacuum Transfer Room
5: treatment room 7: swinging arm
51: container body 52: cover
53: holding part 721: rotating table
722: rack portion 730: rotating shaft
733: pinion portion 741: cover holding mechanism
Claims (7)
상기 진공 반송실 위에 형성된 지지면 위에 상기 진공 반송실의 중심부를 회전 중심으로 하여 수직축 둘레로 회전 가능하게 설치된 회전 테이블과,
이 회전 테이블에 설치된 선회 아암과,
이 선회 아암의 선단부에 설치되고, 상기 용기 본체에 대하여 덮개를 착탈하기 위해 덮개를 유지해서 승강하며 덮개를 유지한 상태로 상기 처리실의 상방을 통과하도록 구성된 덮개 유지 기구
를 구비한 것을 특징으로 하는 기판 처리 장치.In the substrate processing apparatus which provided the preliminary vacuum chamber and the cover on the container main body, respectively, and connected the several process chambers for processing with respect to a board | substrate around the vacuum conveyance chamber in which the board | substrate conveyance mechanism was provided,
A rotary table provided on a support surface formed on the vacuum transfer chamber so as to be rotatable about a vertical axis around the central portion of the vacuum transfer chamber;
Pivoting arm installed on this turntable,
A lid holding mechanism provided at the distal end of the swinging arm, the lid holding mechanism being configured to pass through the processing chamber while holding the lid up and down and holding the lid to attach and detach the lid from the container body.
The substrate processing apparatus characterized by the above-mentioned.
상기 지지면 및 상기 회전 테이블 중 다른쪽에 설치되고, 상기 랙 기어와 기어 결합하면서 회전하는 피니언 기어와,
상기 피니언 기어를 회전 구동하는 구동부
를 구비한 것을 특징으로 하는 기판 처리 장치.The rack gear according to claim 1, further comprising: a rack gear provided on one of the support surface and the rotary table to rotate the rotary table, and installed along the circumferential direction of the rotary table;
A pinion gear installed at the other side of the support surface and the rotary table and rotating while gear-engaging with the rack gear;
Drive unit for rotating the pinion gear
The substrate processing apparatus characterized by the above-mentioned.
상기 덮개 유지 기구에는, 상기 선회 아암의 선회에 의해 수평 방향으로 이동하면서 상기 걸림부의 하방측으로 진입하며, 그 후 상승하여 상기 걸림부를 통해 상기 덮개를 들어올리는 유지부가 설치되는 것을 특징으로 하는 기판 처리 장치.The holding part according to claim 1 or 2, wherein a top end portion of the lid is extended upward from the top surface thereof and is bent in a horizontal direction to form a holding portion for forming a locking portion.
The lid holding mechanism is provided with a holding portion for moving downward in the locking portion while moving in the horizontal direction by turning the swinging arm, and then holding the lid to lift the lid through the locking portion. .
상기 진공 반송실의 측면 중, 한 측면의 외방측에는 덮개를 메인터넌스하기 위한 메인터넌스 영역이 마련되며, 나머지 측면에는, 상기 예비 진공실과 처리실이 각각 접속되는 것을 특징으로 하는 기판 처리 장치.The said vacuum conveyance chamber is formed in polygonal shape of Claim 1 or 2,
A maintenance region for maintaining the lid is provided on the outer side of one side of the side surfaces of the vacuum transfer chamber, and the preliminary vacuum chamber and the processing chamber are connected to the other side.
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