KR20110067405A - Flexible display and method of fabricating the same - Google Patents

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Abstract

PURPOSE: A flexible display and a method of fabricating the same are provided to prevent a crack and disconnection between a display unit and a pad unit due to stress by forming a protective film in front of a substrate to cover a display unit and a pad. CONSTITUTION: In a flexible display and a method of fabricating the same, a flexible printed circuit board(102) classified into a display unit and a pad is prepared on a glass substrates. A thin film transistor array having a thin film transistor(140), a gate pad(150), and a data pad(160) is formed on the flexible substrate. A transfer film(170) is attached to the pad of the flexible printed circuit board. A protection film(194) is formed in front side of the flexible printed circuit board to which the transmission film is attached. The glass substrate is separated form the flexible printed circuit board.

Description

플렉서블 표시 장치 및 그 제조 방법{FLEXIBLE DISPLAY AND METHOD OF FABRICATING THE SAME}Flexible display device and manufacturing method therefor {FLEXIBLE DISPLAY AND METHOD OF FABRICATING THE SAME}

본 발명은 플렉서블 기판으로부터 유리 기판 분리시 발생되는 물리적인 힘에 의한 크랙이나 단선을 방지할 수 있는 플렉서블 표시 장치의 제조 방법에 관한 것이다.The present invention relates to a method of manufacturing a flexible display device capable of preventing cracks or disconnection caused by physical force generated when a glass substrate is separated from a flexible substrate.

최근 표시 장치 시장은 대면적이 용이하고 경량화가 가능한 평판 디스플레이 위주로 급속히 변화하고 있다. 이러한 평판 디스플레이에는 액정 표시 장치(Liquid Crystal Display; LCD), 플라즈마 디스플레이 패널(Plasma Display Panel; PDP), 유기 발광 표시 장치(Organic Electro Luminescence Display; OLED) 등이 있다. 이 평판 디스플레이는 다수의 박막을 지지하는 지지체로 유리 기판을 이용한다. 유리기판은 그 두께를 박형화하는데 한계가 있고, 박형화하더라도 내구성 및 유연성이 없어 쉽게 깨지는 문제점이 있다.Recently, the display device market is rapidly changing, especially for flat panel displays, which can be easily and large in size. Such flat panel displays include a liquid crystal display (LCD), a plasma display panel (PDP), an organic electroluminescent display (OLED), and the like. This flat panel display uses a glass substrate as a support for supporting a plurality of thin films. Glass substrates have limitations in thinning the thickness thereof, and there is a problem in that the glass substrate is easily broken due to lack of durability and flexibility.

따라서, 최근에는 내구성 및 유연성이 없는 유리 기판 대신에 플라스틱 또는 금속 호일 등과 같이 얇으면서 내구성이 강한 재료를 기판으로 사용하는 플렉서블 표시장치가 대두되고 있다.Therefore, recently, a flexible display device using a thin and durable material such as plastic or metal foil as a substrate has emerged in place of a glass substrate having no durability and flexibility.

이러한 플렉서블 표시 장치의 기판의 제조 공정을 도 1a 및 도 1b를 결부하여 설명하기로 한다.A manufacturing process of the substrate of the flexible display device will be described with reference to FIGS. 1A and 1B.

도 1a에 도시된 바와 같이 스테인레스(STS)재질의 플렉서블 기판(2) 상에 오버코트층(4)이 도포된다. 오버코트층(4)은 표면이 거친 스테인레스 재질의 플렉서블 기판(2) 상에 형성되어 플렉서블 기판(2)을 평탄화시키는 역할을 한다. 그런 다음, 오버코트층(4) 상에 표시 장치용 박막 어레이(6)들이 형성된다. 그런 다음, 플렉서블 기판(2)의 배면은 도 1b에 도시된 바와 같이 제1 높이(h1)보다 낮은 제2 높이(h2)가 되도록 일부 식각됨으로써 플렉서블 표시 장치가 완성된다.As shown in FIG. 1A, an overcoat layer 4 is applied on a flexible substrate 2 made of stainless (STS) material. The overcoat layer 4 is formed on the flexible substrate 2 having a rough surface, and serves to planarize the flexible substrate 2. Then, the thin film arrays 6 for the display device are formed on the overcoat layer 4. Next, as shown in FIG. 1B, the rear surface of the flexible substrate 2 is partially etched to have a second height h2 lower than the first height h1, thereby completing the flexible display device.

그러나, 도 1a 및 도 1b에 도시된 제조 공정에 의해 형성된 플렉서블 표시 장치는 오버코트층(4) 형성 공정이 필요하므로 공정이 복잡한 문제점이 있다. However, the flexible display device formed by the manufacturing process illustrated in FIGS. 1A and 1B requires a process of forming the overcoat layer 4, which causes a complicated process.

이러한 문제점을 해결하기 위해 도 2a 및 도 2b에 도시된 제조 공정에 의해 형성된 플렉서블 표시 장치가 제안되었다.In order to solve this problem, a flexible display device formed by the manufacturing process illustrated in FIGS. 2A and 2B has been proposed.

도 2a에 도시된 바와 같이 유리 기판(12) 상에 점착제(14)를 도포한 후 그 점착제(14) 상에 스테인레스 호일 또는 플라스틱 필름 형태의 플렉서블 기판(16)이 형성된다. 그런 다음, 플렉서블 기판(16) 상에 표시 장치용 박막 어레이(18)들이 형성된다. 그런 다음, 플렉서블 기판(16) 배면에 위치하는 점착제(14)는 도 2b에 도시된 바와 같이 물리적으로 제거됨으로써 유리 기판(12) 및 점착제(14)가 제거된다. As shown in FIG. 2A, the adhesive 14 is applied onto the glass substrate 12, and then the flexible substrate 16 in the form of a stainless foil or a plastic film is formed on the adhesive 14. Then, the thin film arrays 18 for the display device are formed on the flexible substrate 16. Then, the pressure-sensitive adhesive 14 located on the back of the flexible substrate 16 is physically removed as shown in FIG. 2B to remove the glass substrate 12 and the pressure-sensitive adhesive 14.

그러나, 도 2a 및 도 2b에 도시된 제조 공정에 의해 형성된 플렉서블 표시 장치는 점착제(14)를 물리적으로 분리시 분리 방향을 따라서 플렉서블 기판(16)의 휨현상이 발생되는 문제점이 있다.However, the flexible display device formed by the manufacturing process illustrated in FIGS. 2A and 2B has a problem in that bending of the flexible substrate 16 occurs along the separation direction when the adhesive 14 is physically separated.

상기와 같은 문제점을 해결하기 위하여, 본 발명은 플렉서블 기판으로부터 유리 기판 분리시 발생되는 물리적인 힘에 의한 크랙이나 단선을 방지할 수 있는 플렉서블 표시 장치의 제조 방법을 제공하는 것이다.In order to solve the above problems, the present invention is to provide a method of manufacturing a flexible display device that can prevent cracks or disconnection caused by physical force generated when the glass substrate is separated from the flexible substrate.

상기 기술적 과제를 달성하기 위하여, 본 발명에 따른 플렉서블 표시 장치의 제조 방법은 유리 기판의 전면 상에 표시부와 패드부로 구분되는 플렉서블 기판을 마련하는 단계와; 상기 플렉서블 기판의 표시부 및 패드부 상에 다수의 박막을 형성하는 단계와; 상기 플렉서블 기판의 패드부에 구동 소자가 실장된 전송 필름을 부착하는 단계와; 상기 전송 필름이 부착된 플렉서블 기판 전면에 보호필름을 형성하는 단계와; 상기 유리 기판을 상기 플렉서블 기판으로부터 분리하는 단계를 포함하는 것을 특징으로 한다.In order to achieve the above technical problem, a method of manufacturing a flexible display device according to the present invention comprises the steps of providing a flexible substrate divided into a display portion and a pad portion on the front surface of the glass substrate; Forming a plurality of thin films on the display unit and the pad unit of the flexible substrate; Attaching a transfer film having a driving element mounted thereon to a pad portion of the flexible substrate; Forming a protective film on the entire surface of the flexible substrate to which the transfer film is attached; And separating the glass substrate from the flexible substrate.

상기 보호필름은 접착제와, 상기 접착제 상에 폴리에틸렌테레프탈레이트(Ployethylene Terephthalate; PET), 폴리카보네이트(polycarbonate; PC) 또는 폴리이미드(polyimide; PI)로 형성되는 플렉서블층으로 이루어지는 것을 특징으로 한다.The protective film is made of an adhesive and a flexible layer formed of polyethylene terephthalate (PET), polycarbonate (PC) or polyimide (PI) on the adhesive.

상기 플렉서블 표시 장치의 제조 방법은 상기 전송 필름을 부착하기 전에 상기 표시부의 다수의 박막을 보호하는 임시 보호 필름을 상기 표시부의 다수의 박막 상에 부착하는 단계와; 상기 전송 필름을 부착한 후 상기 임시 보호 필름을 제거하 는 단계를 추가로 포함하는 것을 특징으로 한다.The method of manufacturing the flexible display device may include attaching a temporary protective film on the plurality of thin films of the display unit to protect the plurality of thin films of the display unit before attaching the transfer film; After attaching the transfer film, characterized in that it further comprises the step of removing the temporary protective film.

상기 임시 보호필름은 점착제와, 상기 점착제 상에 폴리에틸렌테레프탈레이트(Ployethylene Terephthalate; PET), 폴리카보네이트(polycarbonate; PC) 또는 폴리이미드(polyimide; PI)로 형성되는 임시보호층으로 이루어지는 것을 특징으로 한다.The temporary protective film is made of an adhesive and a temporary protective layer formed of polyethylene terephthalate (PET), polycarbonate (PC) or polyimide (PI) on the adhesive.

상기 기술적 과제를 달성하기 위하여, 본 발명에 따른 플렉서블 표시 장치는 표시부와 패드부로 구분되는 플렉서블 기판과; 상기 플렉서블 기판의 표시부와 패드부 상에 형성되는 다수의 박막과; 상기 플렉서블 기판의 패드부에 부착되며 구동 소자가 실장된 전송 필름과; 상기 전송 필름이 부착된 플렉서블 기판 전면에 형성되는 보호필름을 구비하는 것을 특징으로 한다.In order to achieve the above technical problem, the flexible display device according to the present invention includes a flexible substrate divided into a display unit and a pad unit; A plurality of thin films formed on the display unit and the pad unit of the flexible substrate; A transfer film attached to a pad part of the flexible substrate and having a driving element mounted thereon; And a protective film formed on the front surface of the flexible substrate to which the transfer film is attached.

상기 플렉서블 표시 장치는 액정 표시 장치 또는 유기 발광 표시 장치인 것을 특징으로 한다. The flexible display may be a liquid crystal display or an organic light emitting display.

본 발명에 따른 플렉서블 표시 장치 및 그 제조 방법은 표시부 및 패드부를 덮도록 플렉서블 기판 전면에 보호 필름이 형성된다. 이에 따라, 본 발명에 따른 플렉서블 표시 장치 및 그 제조 방법은 플렉서블 기판 배면에 위치하는 유리 기판의 분리공정시 발생하는 스트레스와, 표시부와 패드부의 전체 두께 차이로 인해 표시부와 패드부 사이에서의 스트레스 차이로 인한 크랙이나 단선을 방지할 수 있다. 또한, 보호 필름은 플렉서블 기판의 강도를 보강하므로 견고함, 가요성 및 복원력을 향상시킬 수 있다. In the flexible display device and a method of manufacturing the same, a protective film is formed on the entire surface of the flexible substrate so as to cover the display unit and the pad unit. Accordingly, the flexible display device and the method of manufacturing the same according to the present invention are stress generated during the separation process of the glass substrate positioned on the back of the flexible substrate, and the stress difference between the display portion and the pad portion due to the difference in overall thickness of the display portion and the pad portion. Prevents cracks or disconnection caused by In addition, since the protective film reinforces the strength of the flexible substrate, it is possible to improve firmness, flexibility and restoring force.

이하, 첨부된 도면 및 실시 예를 통해 본 발명의 실시 예를 구체적으로 살펴보면 다음과 같다.Hereinafter, an embodiment of the present invention will be described in detail with reference to the accompanying drawings and embodiments.

도 3은 본 발명에 따른 플렉서블 표시 장치를 나타내는 단면도로서, 유기 발광 표시 장치를 예로 들어 설명하기로 한다.3 is a cross-sectional view illustrating a flexible display device according to an exemplary embodiment of the present invention.

도 3을 참조하면, 유기 발광 표시 장치는 플렉서블 기판(102)과, 박막트랜지스터 어레이와, 유기 발광 어레이와, 보호 필름(1942)를 구비한다.Referring to FIG. 3, the organic light emitting diode display includes a flexible substrate 102, a thin film transistor array, an organic light emitting array, and a protective film 1942.

플렉서블 기판(102)은 폴리머 용액이 수㎛, 예를 들어 3~4㎛의 두께로 스핀 코팅된 후 열경화됨으로써 형성된다. 이러한 플렉서블 기판(102)은 예를 들어 폴리에틸렌 나프탈레이트(Polyethylene Naphthalate; PEN), 폴리에틸렌테레프탈레이트(Ployethylene Terephthalate; PET), 폴리에틸렌에테르프탈레이트(polyethylene ether phthalate), 폴리카보네이트(polycarbonate), 폴리아릴레이트(polyarylate), 폴리에테르이미드(polyether imide), 폴리에테르술폰산(polyether sulfonate), 폴리이미드(polyimide) 또는 폴리아크릴레이트(polyacrylate)에서 선택된 적어도 하나의 유기 물질로 이루어진 플라스틱 필름으로 형성된다.The flexible substrate 102 is formed by spin-coating a polymer solution to a thickness of several μm, for example, 3 to 4 μm and then thermosetting. The flexible substrate 102 is, for example, polyethylene naphthalate (PEN), polyethylene terephthalate (PET), polyethylene ether phthalate, polycarbonate, polyarylate ), Polyether imide, polyether sulfonate, polyimide, or polyacrylate, and a plastic film made of at least one organic material selected from polyacrylates.

박막트랜지스터 어레이는 플렉서블 기판(102) 상에 형성되는 박막트랜지스터(140)와, 보호막(104), 컨택전극(126), 게이트 패드(150) 및 데이터 패드(160)를 구비한다.The thin film transistor array includes a thin film transistor 140 formed on the flexible substrate 102, a passivation layer 104, a contact electrode 126, a gate pad 150, and a data pad 160.

박막트랜지스터(140)는 탑 게이트형(Top Gate Type) 또는 버텀 게이트형(Bottom Gate Type)의 박막트랜지스터가 이용된다. 본 발명에서는 탑 게이트형 박막트랜지스터를 예로 들어 설명하기로 한다.The thin film transistor 140 uses a top gate type or a bottom gate type thin film transistor. In the present invention, a top gate type thin film transistor will be described as an example.

박막트랜지스터(140)는 플렉서블 기판(102) 위에 형성된 게이트 전극(106)과, 게이트 전극(106)을 덮는 게이트 절연막(112), 게이트 절연막(112)을 사이에 두고 게이트 전극(106)과 중첩되어 채널을 형성하는 활성층(114)과, 소스 전극(108) 및 드레인 전극(110)과의 오믹 접촉을 위하여 채널부를 제외한 활성층(114) 위에 형성된 오믹 접촉층(116)과, 채널부를 사이에 두고 대향하는 소스 전극(108) 및 드레인 전극(110)으로 이루어진다. The thin film transistor 140 overlaps the gate electrode 106 with the gate electrode 106 formed on the flexible substrate 102, the gate insulating layer 112 covering the gate electrode 106, and the gate insulating layer 112 interposed therebetween. The ohmic contact layer 116 formed on the active layer 114 except the channel portion for the ohmic contact between the active layer 114 forming the channel, the source electrode 108 and the drain electrode 110, and the channel portion are opposed to each other. And a source electrode 108 and a drain electrode 110.

보호막(104)은 박막트랜지스터(140)를 덮도록 무기 절연 물질 또는 유기 절연 물질로 형성된다. 이러한 보호막(104)에는 박막트랜지스터(140)의 드레인 전극(110)을 노출시키는 제1 화소 컨택홀(120)이 형성된다.The passivation layer 104 is formed of an inorganic insulating material or an organic insulating material to cover the thin film transistor 140. In the passivation layer 104, a first pixel contact hole 120 exposing the drain electrode 110 of the thin film transistor 140 is formed.

컨택 전극(126)은 제1 화소 컨택홀(120)을 통해 노출된 드레인 전극(110)과 캐소드 전극(122)을 연결시킨다. 컨택 전극(126)은 게이트 패드 상부 전극(156) 및 데이터 패드 상부 전극(166)과 동일 재질로 동시에 형성되므로 부식에 강한 재질로 혀엉된다.The contact electrode 126 connects the drain electrode 110 and the cathode electrode 122 exposed through the first pixel contact hole 120. Since the contact electrode 126 is simultaneously formed of the same material as the gate pad upper electrode 156 and the data pad upper electrode 166, the contact electrode 126 is tangled with a material resistant to corrosion.

게이트 패드(150)는 게이트 구동 집적 회로(도시하지 않음)와 접속되어 게이트 라인에 스캔 신호를 공급한다. 이를 위해, 게이트 패드(150)는 게이트 라인으로부터 연장되는 게이트 패드 하부 전극(152)과, 게이트 패드 하부 전극(152) 위에 접속된 게이트 패드 상부전극(156)으로 구성된다. 여기서, 게이트 패드 상부 전극(156)은 게이트 절연막(112) 및 보호막(104)을 관통하는 제1 게이트 컨택홀(156)을 통해 게이트 패드 하부 전극(152)과 접속된다. 또한, 게이트 패드 상부 전 극(156)은 평탄화층(118)을 관통하는 제2 게이트 컨택홀(158)을 통해 외부로 노출되어 게이트 구동 집적 회로가 실장된 게이트 전송 필름(170)(예를 들어, TCP)과 접속된다. 즉, 게이트 전송 필름(170)의 베이스 필름(172)에 형성된 출력 패드(174)는 도전볼(176)이 포함된 ACF(Anisotrophic Conductive Film)(178)를 통해 게이트 패드 상부 전극(156)과 전기적으로 접속된다. The gate pad 150 is connected to a gate driving integrated circuit (not shown) to supply a scan signal to the gate line. To this end, the gate pad 150 includes a gate pad lower electrode 152 extending from the gate line and a gate pad upper electrode 156 connected on the gate pad lower electrode 152. Here, the gate pad upper electrode 156 is connected to the gate pad lower electrode 152 through the first gate contact hole 156 penetrating the gate insulating layer 112 and the passivation layer 104. In addition, the gate pad upper electrode 156 is exposed to the outside through the second gate contact hole 158 penetrating the planarization layer 118 to mount the gate driving integrated circuit 170 (for example, the gate transfer film 170). , TCP). That is, the output pad 174 formed on the base film 172 of the gate transfer film 170 is electrically connected to the gate pad upper electrode 156 through an anisotrophic conductive film (ACF) 178 including the conductive balls 176. Is connected.

데이터 패드(160)는 데이터 구동 집적 회로(도시하지 않음)와 접속되어 데이터 라인에 데이터 신호를 공급한다. 이를 위해, 데이터 패드(160)는 데이터 라인으로부터 연장되는 데이터 패드 하부 전극(162)과, 데이터 패드 하부 전극(162)과 접속된 데이터 패드 상부 전극(166)으로 구성된다. 여기서, 데이터 패드 상부 전극(166)은 보호막(104)을 관통하는 제1 데이터 컨택홀(164)을 통해 노출된 데이터 패드 하부 전극(162)과 접속된다. 또한, 데이터 패드 상부 전극(166)은 평탄화층(118)을 관통하는 제2 데이터 컨택홀(168)을 통해 외부로 노출되어 데이터 구동 집적 회로가 실장된 데이터 전송 필름(180)과 접속된다. 즉, 데이터 전송 필름(180)의 베이스 필름(182)에 형성된 출력 패드(184)는 도전볼(176)이 포함된 ACF(Anisotrophic Conductive Film)(178)를 통해 데이터 패드 상부 전극(166)과 전기적으로 접속된다. The data pad 160 is connected to a data driving integrated circuit (not shown) to supply a data signal to the data line. To this end, the data pad 160 includes a data pad lower electrode 162 extending from the data line, and a data pad upper electrode 166 connected to the data pad lower electrode 162. Here, the data pad upper electrode 166 is connected to the data pad lower electrode 162 exposed through the first data contact hole 164 penetrating the passivation layer 104. In addition, the data pad upper electrode 166 is exposed to the outside through the second data contact hole 168 penetrating the planarization layer 118 and is connected to the data transfer film 180 on which the data driving integrated circuit is mounted. That is, the output pad 184 formed on the base film 182 of the data transfer film 180 is electrically connected to the data pad upper electrode 166 through an anisotrophic conductive film (ACF) 178 including a conductive ball 176. Is connected.

유기 발광 어레이는 캐소드 전극(122), 뱅크 절연막(124), 유기 발광층(130), 애노드 전극(132) 및 밀봉 부재(190)를 구비한다.The organic light emitting array includes a cathode electrode 122, a bank insulating film 124, an organic light emitting layer 130, an anode electrode 132, and a sealing member 190.

캐소드 전극(122)은 평탄화층(118)을 관통하는 제2 화소 컨택홀(134)을 통해 노출된 컨택 전극(126)과 접속되며, 알루미늄(Al) 등과 같은 불투명한 도전 물질로 형성된다. The cathode electrode 122 is connected to the contact electrode 126 exposed through the second pixel contact hole 134 penetrating the planarization layer 118 and is formed of an opaque conductive material such as aluminum (Al).

뱅크 절연막(124)은 화소홀(128)을 통해 캐소드 전극(122)이 노출되도록 형성된다. 이러한 뱅크 절연막(124)은 SiNx 또는 SiOx와 같은 무기 절연 물질 또는 BCB, 아크릴계 수지 또는 이미드계 수지와 같은 유기 절연 물질로 형성된다.The bank insulating layer 124 is formed to expose the cathode electrode 122 through the pixel hole 128. The bank insulating layer 124 is formed of an inorganic insulating material such as SiNx or SiOx or an organic insulating material such as BCB, acrylic resin, or imide resin.

유기발광층(130)은 캐소드 전극(122) 상에 전자 주입층(Electron Injection layer;EIL), 전자 수송층(Electron Transport Layer; ETL), 발광층, 정공 수송층(Hole Transport Layer;HTL), 정공 주입층(Hole Injection Layer;HIL)으로 순차적으로 적층되어 형성된다. 이러한 유기 발광층(130)은 캐소드 전극(122)으로부터의 전자와 애노드 전극(132)으로부터의 정공이 재결합되어 생성된 여기자가 바닥상태로 되돌아가면서 특정 파장의 빛을 애노드 전극(132) 방향으로 전면 발광하게 된다. The organic light emitting layer 130 may include an electron injection layer (EIL), an electron transport layer (ETL), an emission layer, a hole transport layer (HTL), and a hole injection layer on the cathode electrode 122. Hole Injection Layer (HIL) is formed by sequentially stacking. The organic light emitting layer 130 emits light of a predetermined wavelength toward the anode electrode 132 as the excitons generated by recombination of electrons from the cathode electrode 122 and holes from the anode electrode 132 return to the ground state. Done.

애노드 전극(132)은 유기 발광층(130)을 사이에 두고 캐소드 전극(122)과 대향하도록 형성된다. 이러한 애노드 전극(128)은 유기발광층(130) 상에 투명 도전성 물질로 형성된다. The anode electrode 132 is formed to face the cathode electrode 122 with the organic emission layer 130 therebetween. The anode electrode 128 is formed of a transparent conductive material on the organic light emitting layer 130.

밀봉 부재(190)는 애노드 전극(132)이 형성된 플렉서블 표시 장치의 전면과 측면을 덮도록 무기물, 유기물, 또는 유무기 복합 적층물로 형성된다. 여기서, 무기 절연막으로는 SiO2, SiNx, SiON, Al2O3, TiO2, Ta2O5, HfO2, ZrO2, BST, PZT 등이 포함되도록 할 수 있고, 유기 절연막으로는 PMMA, PS, phenol그룹을 갖는 고분자 유도체, 아크릴계 고분자, 이미드계 고분자, 아릴에테르계 고분자, 아마이드계 고분자, 불소계고분자, p-자일렌계 고분자, 비닐알콜계 고분자 및 이들의 블렌드 등이 이용된다.The sealing member 190 is formed of an inorganic, organic, or organic / inorganic composite stack to cover the front and side surfaces of the flexible display device on which the anode electrode 132 is formed. Here, the inorganic insulating film may include SiO 2, SiNx, SiON, Al 2 O 3, TiO 2, Ta 2 O 5, HfO 2, ZrO 2, BST, PZT, and the like. , Imide polymers, aryl ether polymers, amide polymers, fluorine polymers, p-xylene polymers, vinyl alcohol polymers and blends thereof.

보호 필름(194)은 게이트 전송 필름(170), 데이터 전송 필름(180) 및 밀봉 부재(190)가 형성된 플렉서블 기판(102) 전면에 형성된다. 이러한 보호 필름(194)은 접착제(194a)와, 그 접착제(194a) 상에 형성되는 플렉서블층(194b)으로 이루어진다. 여기서, 플렉서블층(194b)은 폴리에틸렌테레프탈레이트(Ployethylene Terephthalate; PET), 폴리카보네이트(polycarbonate; PC) 또는 폴리이미드(polyimide; PI)로 형성된다. 따라서, 보호필름(194)은 접착제(194a)가 부착된 플렉서블층(194b)을 플렉서블 기판(102) 전면에 코팅된 후 열과 압력을 이용한 라미네이팅 공정을 통해 형성된다. 이러한 보호 필름(194)은 플렉서블 기판(102) 배면에 위치하는 유리 기판(101)의 분리공정시 발생하는 스트레스와, 표시부와 패드부의 전체 두께 차이로 인해 발생되는 표시부와 패드부 사이에서의 스트레스 차이로 인한 크랙이나 단선을 방지할 수 있다. 또한, 보호 필름(194)은 플렉서블 기판(102)의 강도를 보강하므로 견고함, 가요성 및 복원력을 향상시킬 수 있다. The protective film 194 is formed on the entire surface of the flexible substrate 102 on which the gate transfer film 170, the data transfer film 180, and the sealing member 190 are formed. This protective film 194 consists of an adhesive 194a and a flexible layer 194b formed on the adhesive 194a. The flexible layer 194b may be formed of polyethylene terephthalate (PET), polycarbonate (PC), or polyimide (PI). Therefore, the protective film 194 is formed through a laminating process using heat and pressure after the flexible layer 194b to which the adhesive 194a is attached is coated on the entire surface of the flexible substrate 102. The protective film 194 may include a stress generated during the separation process of the glass substrate 101 disposed on the rear surface of the flexible substrate 102 and a stress difference between the display unit and the pad unit due to the difference in the overall thickness of the display unit and the pad unit. Prevents cracks or disconnection caused by In addition, since the protective film 194 reinforces the strength of the flexible substrate 102, the firmness, flexibility, and resilience may be improved.

한편, 본 발명에 따른 플렉서블 표시 장치로서 유기 발광 표시 장치를 예로 들어 설명하였지만 이외에도 액정 표시 장치 및 플라즈마 디스플레이 패널 등에도 적용가능하다.Meanwhile, although the organic light emitting display device has been described as an example of the flexible display device according to the present invention, the present invention is also applicable to a liquid crystal display device and a plasma display panel.

도 4a 내지 도 4h는 도 3에 도시된 플렉서블 표시 장치의 제조 방법을 설명하기 위한 단면도들이다.4A through 4H are cross-sectional views illustrating a method of manufacturing the flexible display device illustrated in FIG. 3.

도 4a에 도시된 바와 같이 유리 기판(101) 상에 플렉서블 기판(102)을 형성한다. 플렉서블 기판(102)은 유리 기판(101) 상에 스핀 코팅 방법으로 폴리머 용 액이 3~4㎛의 두께로 도포된 후 열경화됨으로써 형성된다.As shown in FIG. 4A, the flexible substrate 102 is formed on the glass substrate 101. The flexible substrate 102 is formed by applying a polymer solution on the glass substrate 101 by a spin coating method to a thickness of 3 to 4 μm and then thermosetting.

도 4b에 도시된 바와 같이 플렉서블 기판(102) 상에 다수의 마스크 공정으로 박막트랜지스터 어레이가 형성된다. 구체적으로, 플렉서블 기판(102) 상에 포토리소그래피 공정과 식각 공정을 포함하는 마스크 공정을 통해 게이트 전극(106) 및 게이트 패드 하부 전극(152)이 형성된다. 이 게이트 전극(106) 및 게이트 패드 하부 전극(152) 상에 무기 절연 물질로 게이트 절연막(112)이 형성된 후 회절 마스크 또는 반투과 마스크를 이용한 포토리소그래피 공정과 식각 공정을 포함하는 마스크 공정을 통해 활성층(114), 오믹접촉층(116), 소스 전극(108), 드레인 전극(110) 및 데이터 패드 하부 전극(162)이 형성된다. 이 소스 전극(108), 드레인 전극(110)및 데이터 패드 하부 전극(162) 상에 포토리소그래피 공정과 식각 공정을 포함하는 마스크 공정을 통해 제1 게이트 컨택홀(154), 제1 데이터 컨택홀(164) 및 제1 화소 컨택홀(120)을 가지는 보호막(104)이 형성된다. 보호막(104) 상에 포토리소그래피 공정과 식각 공정을 포함하는 마스크 공정을 통해 컨택 전극(126), 게이트 패드 상부 전극(156) 및 데이터 패드 상부 전극(166)이 형성된다. 컨택 전극(126), 게이트 패드 상부 전극(156) 및 데이터 패드 상부 전극(166)이 형성된 보호막(104) 상에 마스크 공정을 통해 제2 게이트 컨택홀(158), 제2 데이터 컨택홀(168) 및 제2 화소 컨택홀(134)을 가지는 평탄화층(118)이 형성된다.As shown in FIG. 4B, a thin film transistor array is formed on the flexible substrate 102 by a plurality of mask processes. In detail, the gate electrode 106 and the gate pad lower electrode 152 are formed on the flexible substrate 102 through a mask process including a photolithography process and an etching process. After the gate insulating layer 112 is formed of the inorganic insulating material on the gate electrode 106 and the gate pad lower electrode 152, an active layer is formed through a mask process including a photolithography process and an etching process using a diffraction mask or a transflective mask. 114, an ohmic contact layer 116, a source electrode 108, a drain electrode 110, and a data pad lower electrode 162 are formed. The first gate contact hole 154 and the first data contact hole may be formed on the source electrode 108, the drain electrode 110, and the data pad lower electrode 162 through a mask process including a photolithography process and an etching process. The passivation layer 104 having the 164 and the first pixel contact hole 120 is formed. The contact electrode 126, the gate pad upper electrode 156, and the data pad upper electrode 166 are formed on the passivation layer 104 through a mask process including a photolithography process and an etching process. The second gate contact hole 158 and the second data contact hole 168 through a mask process on the passivation layer 104 on which the contact electrode 126, the gate pad upper electrode 156, and the data pad upper electrode 166 are formed. And a planarization layer 118 having a second pixel contact hole 134.

도 4c에 도시된 바와 같이 박막트랜지스터 어레이가 형성된 후 평탄화층(118) 상에 캐소드 전극(122), 뱅크 절연막(124), 유기 발광층(130), 애노드 전극(132) 및 밀봉 부재(190)가 순차적으로 형성된다. 구체적으로, 컨택 전극(126) 을 통해 박막트랜지스터(152)와 접속되는 캐소드 전극(122)이 평탄화층(118) 상에 형성된다. 여기서, 캐소드 전극(122)은 알루미늄 등과 같은 저저항 금속으로 형성된다. 캐소드 전극(122)이 형성된 평탄화층(118) 상에 캐소드 전극(122)을 노출시키는 화소홀(128)을 가지는 뱅크 절연막(124)이 형성된다. 뱅크 절연막(124)은 SiNx 또는 SiOx와 같은 무기 절연 물질 또는 BCB, 아크릴계 수지 또는 이미드계 수지와 같은 유기 절연 물질로 형성된다. 뱅크 절연막(124)에 의해 노출된 캐소드 전극(122) 상에 유기 발광층(130)이 형성된다. 유기 발광층(130)은 전자 주입층, 전자 수송층, 발광층, 정공 수송층, 정공 주입층이 순차적으로 형성된다. 그런 다음, 유기발광층(130) 상에 인듐 틴 옥사이드(Indium Tin Oxide; ITO) 또는 인듐 징크 옥사이드(Induim Zinc Oxide; IZO) 등과 같은 투명 도전성 물질로 애노드 전극(132)이 형성된다. 애노드 전극(132)이 형성된 플렉서블 표시 장치의 전면 및 측면 상에 밀봉 부재(190)가 형성된다. 밀봉 부재(190)는 유기 발광 어레이 및 박막트랜지스터 어레이를 수분 및 산소로부터 보호한다.After the thin film transistor array is formed as shown in FIG. 4C, the cathode electrode 122, the bank insulating layer 124, the organic emission layer 130, the anode electrode 132, and the sealing member 190 are formed on the planarization layer 118. Are formed sequentially. In detail, the cathode electrode 122 connected to the thin film transistor 152 through the contact electrode 126 is formed on the planarization layer 118. Here, the cathode electrode 122 is formed of a low resistance metal such as aluminum. A bank insulating layer 124 having a pixel hole 128 exposing the cathode electrode 122 is formed on the planarization layer 118 on which the cathode electrode 122 is formed. The bank insulating film 124 is formed of an inorganic insulating material such as SiNx or SiOx or an organic insulating material such as BCB, acrylic resin, or imide resin. The organic emission layer 130 is formed on the cathode electrode 122 exposed by the bank insulating layer 124. In the organic light emitting layer 130, an electron injection layer, an electron transport layer, a light emitting layer, a hole transport layer, and a hole injection layer are sequentially formed. Then, the anode electrode 132 is formed of a transparent conductive material such as indium tin oxide (ITO) or indium zinc oxide (IZO) on the organic light emitting layer 130. The sealing member 190 is formed on the front and side surfaces of the flexible display device on which the anode electrode 132 is formed. The sealing member 190 protects the organic light emitting array and the thin film transistor array from moisture and oxygen.

도 4d에 도시된 바와 같이 게이트패드(150) 및 데이터 패드(160)를 제외한 나머지 영역인 플렉서블 기판(102)의 표시부에 임시 보호 필름(192)이 형성된다. 임시 보호 필름(192)은 점착제(192a)와, 점착제(192a) 상에 형성된 임시보호층(192b)으로 이루어진다. 여기서, 임시 보호층(192b)은 폴리에틸렌테레프탈레이트(Ployethylene Terephthalate; PET), 폴리카보네이트(polycarbonate; PC) 또는 폴리이미드(polyimide; PI)로 형성된다. 이러한 임시 보호 필름(192)은 점착제(192a)가 부착된 임시 보호층(194b)을 플렉서블 기판(102)의 표시부에 코팅한 후 열과 압력을 이용하여 라미네이팅함으로써 형성된다. 이 임시 보호 필름(192)은 구동 소자가 실장된 게이트 전송 필름(170) 및 데어터 전송 필름(180)의 부착 공정시 발생되는 표시부의 손상을 방지하는 역할을 한다.As illustrated in FIG. 4D, a temporary protective film 192 is formed on a display portion of the flexible substrate 102, which is a region except for the gate pad 150 and the data pad 160. The temporary protective film 192 consists of an adhesive 192a and a temporary protective layer 192b formed on the adhesive 192a. Here, the temporary protective layer 192b is formed of polyethylene terephthalate (PET), polycarbonate (PC) or polyimide (PI). The temporary protective film 192 is formed by coating the temporary protective layer 194b having the adhesive 192a attached thereto on the display unit of the flexible substrate 102 and then laminating using heat and pressure. The temporary protective film 192 serves to prevent damage to the display unit generated during the process of attaching the gate transfer film 170 and the data transfer film 180 on which the driving element is mounted.

도 4e에 도시된 바와 같이, 박막 트랜지스터 어레이 및 유기 발광 어레이를 구동하기 위한 구동 소자(도시하지 않음)가 플렉서블 기판(102) 상에 직접 실장되거나 구동 소자가 실장된 전송 필름이 플렉서블 기판(102)에 부착된다. As shown in FIG. 4E, a driving element (not shown) for driving the thin film transistor array and the organic light emitting array is directly mounted on the flexible substrate 102 or the transfer film on which the driving element is mounted is the flexible substrate 102. Is attached to.

구체적으로, 게이트 전송 필름(170)의 베이스 필름(172)에 형성된 출력 패드들(174)은 이방성 도전 필름(178)을 통해 게이트 패드 상부 전극(156)과 전기적으로 접속되며, 데이터 전송 필름(180)의 베이스 필름(182)에 형성된 출력 패드들(184)은 이방성 도전 필름(178)을 통해 데이터 패드 상부 전극(166)과 전기적으로 접속된다.Specifically, the output pads 174 formed on the base film 172 of the gate transfer film 170 are electrically connected to the gate pad upper electrode 156 through the anisotropic conductive film 178, and the data transfer film 180. The output pads 184 formed on the base film 182 of FIG. 9 are electrically connected to the data pad upper electrode 166 through the anisotropic conductive film 178.

도 4f에 도시된 바와 같이 구동 소자가 실장된 게이트 전송 필름(170) 및 데이터 전송 필름(180)이 플렉서블 기판(102)에 부착된 후 임시 보호 필름(192)을 제거한다.As illustrated in FIG. 4F, the temporary protective film 192 is removed after the gate transfer film 170 and the data transfer film 180 having the driving element mounted thereon are attached to the flexible substrate 102.

도 4g에 도시된 바와 같이 임시 보호 필름(192)이 제거된 후 보호 필름(194)이 플렉서블 기판(102) 전면에 부착된다. 보호 필름(194)은 게이트 전송 필름(170), 데이터 전송 필름(180) 및 밀봉 부재(190)가 형성된 플렉서블 기판(102) 전면에 형성된다. 이러한 보호 필름(194)은 접착제(194a)와, 그 접착제(194a) 상에 형성되는 플렉서블층(194b)으로 이루어진다. 여기서, 플렉서블층(194b)은 폴리에틸렌테레프탈레이트(Ployethylene Terephthalate; PET), 폴리카보네이 트(polycarbonate; PC) 또는 폴리이미드(polyimide; PI)로 형성된다. 따라서, 보호필름(194)은 접착제(194a)가 부착된 플렉서블층(194b)을 플렉서블 기판(102) 전면에 코팅된 후 열과 압력을 이용한 라미네이팅 공정을 통해 형성된다. As shown in FIG. 4G, after the temporary protective film 192 is removed, the protective film 194 is attached to the front of the flexible substrate 102. The protective film 194 is formed on the entire surface of the flexible substrate 102 on which the gate transfer film 170, the data transfer film 180, and the sealing member 190 are formed. This protective film 194 consists of an adhesive 194a and a flexible layer 194b formed on the adhesive 194a. Here, the flexible layer 194b is formed of polyethylene terephthalate (PET), polycarbonate (PC) or polyimide (PI). Therefore, the protective film 194 is formed through a laminating process using heat and pressure after the flexible layer 194b to which the adhesive 194a is attached is coated on the entire surface of the flexible substrate 102.

도 4h에 도시된 바와 같이 유리 기판(101)은 식각 공정, 레이저 공정 또는 물리적 힘을 이용한 공정을 통해 플렉서블 기판(102)으로부터 분리된다. 이 때, 분리 공정은 식각 공정 및 레이저 공정보다는 비용 절감 및 공정 단순화를 위해 물리적 힘을 이용한 분리 공정이 바람직하다.As shown in FIG. 4H, the glass substrate 101 is separated from the flexible substrate 102 through an etching process, a laser process, or a process using a physical force. At this time, the separation process is preferably a separation process using a physical force for cost reduction and process simplification rather than etching process and laser process.

도 5a 내지 도 5d는 본 발명의 플렉서블 표시 장치의 제조 방법의 제2 실시예를 설명하기 위한 단면도이다.5A to 5D are cross-sectional views for describing a second exemplary embodiment of the method for manufacturing the flexible display device of the present invention.

먼저, 도 5a에 도시된 바와 같이 도 4a 내지 도 4c에 도시된 제조 방법과 동일한 제조 방법에 의해 플렉서블 기판에 박막트랜지스터(140), 컨택 전극(126), 게이트 패드(150) 및 데이터 패드(160)를 가지는 박막트랜지스터 어레이와, 캐소드 전극(122), 유기 발광층(130), 애노드 전극(132), 밀봉층(190)을 가지는 유기 발광 어레이가 형성된다.First, as shown in FIG. 5A, the thin film transistor 140, the contact electrode 126, the gate pad 150, and the data pad 160 are formed on the flexible substrate by the same manufacturing method as the manufacturing method illustrated in FIGS. 4A to 4C. A thin film transistor array having a thin film transistor, and an organic light emitting array having a cathode electrode 122, an organic light emitting layer 130, an anode electrode 132, a sealing layer 190 is formed.

도 5b에 도시된 바와 같이, 박막 트랜지스터 어레이 및 유기 발광 어레이를 구동하기 위한 구동 소자(도시하지 않음)가 플렉서블 기판(102) 상에 직접 실장되거나 구동 소자가 실장된 게이트 전송 필름(170) 및 데이터 전송 필름(180)이 플렉서블 기판(102)에 부착된다. As shown in FIG. 5B, a driving element (not shown) for driving the thin film transistor array and the organic light emitting array is directly mounted on the flexible substrate 102 or the gate transfer film 170 and the data on which the driving element is mounted. The transfer film 180 is attached to the flexible substrate 102.

도 5c에 도시된 바와 같이 플렉서블 기판(102)의 패드부 및 표시부를 덮도록 보호 필름(194)이 플렉서블 기판(102) 전면에 부착된다. 즉, 보호 필름(194)은 게 이트 전송 필름(170), 데이터 전송 필름(180) 및 밀봉 부재(190)가 형성된 플렉서블 기판(102) 전면에 형성된다. 이러한 보호 필름(194)은 접착제(194a)와, 그 접착제(194a) 상에 형성되는 플렉서블층(194b)으로 이루어진다. 따라서, 보호필름(194)은 접착제(194a)가 부착된 플렉서블층(194b)을 플렉서블 기판(102) 전면에 코팅된 후 열과 압력을 이용한 라미네이팅 공정을 통해 형성된다. As illustrated in FIG. 5C, a protective film 194 is attached to the entire surface of the flexible substrate 102 to cover the pad portion and the display portion of the flexible substrate 102. That is, the protective film 194 is formed on the entire surface of the flexible substrate 102 on which the gate transfer film 170, the data transfer film 180, and the sealing member 190 are formed. This protective film 194 consists of an adhesive 194a and a flexible layer 194b formed on the adhesive 194a. Therefore, the protective film 194 is formed through a laminating process using heat and pressure after the flexible layer 194b to which the adhesive 194a is attached is coated on the entire surface of the flexible substrate 102.

도 5d에 도시된 바와 같이 유리 기판(101)은 식각 공정, 레이저 공정 또는 물리적 힘을 이용한 공정을 통해 플렉서블 기판(102)으로부터 분리된다. 이 때, 분리 공정은 식각 공정 및 레이저 공정보다는 비용 절감 및 공정 단순화를 위해 물리적 힘을 이용한 분리 공정이 바람직하다.As shown in FIG. 5D, the glass substrate 101 is separated from the flexible substrate 102 through an etching process, a laser process, or a process using a physical force. At this time, the separation process is preferably a separation process using a physical force for cost reduction and process simplification rather than etching process and laser process.

이상에서 설명한 본 발명은 상술한 실시 예 및 첨부된 도면에 한정되는 것이 아니고, 본 발명의 기술적 사상을 벗어나지 않는 범위 내에서 여러 가지 치환, 변형 및 변경이 가능하다는 것이 본 발명이 속하는 기술분야에서 종래의 지식을 가진 자에게 있어 명백할 것이다.It will be apparent to those skilled in the art that various modifications and variations can be made in the present invention without departing from the spirit or scope of the invention. Will be clear to those who have knowledge of.

도 1a 및 도 1b는 종래 플렉서블 기판의 제조 방법의 제1 실시 예를 설명하기 위한 단면도들이다.1A and 1B are cross-sectional views illustrating a first embodiment of a conventional method for manufacturing a flexible substrate.

도 2a 및 도 2b는 종래 플렉서블 기판의 제조 방법의 제2 실시 예를 설명하기 위한 단면도들이다.2A and 2B are cross-sectional views illustrating a second embodiment of a method of manufacturing a conventional flexible substrate.

도 3은 본 발명에 따른 플렉서블 기판을 가지는 유기 발광 표시 장치를 나타내는 단면도이다.3 is a cross-sectional view illustrating an organic light emitting display device having a flexible substrate according to the present invention.

도 4a 내지 도 4h는 도 3에 도시된 유기 발광 표시 장치의 제조 방법의 제1 실시 예를 설명하기 위한 단면도들이다.4A to 4H are cross-sectional views for describing a first exemplary embodiment of the method of manufacturing the OLED display illustrated in FIG. 3.

도 5a 내지 도 5d는 도 3에 도시된 유기 발광 표시 장치의 제조 방법의 제2 실시 예를 설명하기 위한 단면도들이다.5A through 5D are cross-sectional views illustrating a second exemplary embodiment of a method of manufacturing the OLED display illustrated in FIG. 3.

< 도면의 주요 부분에 대한 부호의 설명 ><Description of Symbols for Main Parts of Drawings>

102: 플렉서블 기판 192 : 임시 보호 필름102: flexible substrate 192: temporary protective film

194: 보호 필름194: protective film

Claims (8)

유리 기판의 전면 상에 표시부와 패드부로 구분되는 플렉서블 기판을 마련하는 단계와;Providing a flexible substrate divided into a display portion and a pad portion on a front surface of the glass substrate; 상기 플렉서블 기판의 표시부 및 패드부 상에 다수의 박막을 형성하는 단계와;Forming a plurality of thin films on the display unit and the pad unit of the flexible substrate; 상기 플렉서블 기판의 패드부에 구동 소자가 실장된 전송 필름을 부착하는 단계와;Attaching a transfer film having a driving element mounted thereon to a pad portion of the flexible substrate; 상기 전송 필름이 부착된 플렉서블 기판 전면에 보호필름을 형성하는 단계와; Forming a protective film on the entire surface of the flexible substrate to which the transfer film is attached; 상기 유리 기판을 상기 플렉서블 기판으로부터 분리하는 단계를 포함하는 것을 특징으로 하는 플렉서블 표시 장치의 제조 방법.And separating the glass substrate from the flexible substrate. 제 1 항에 있어서,The method of claim 1, 상기 보호필름은 접착제와, 상기 접착제 상에 폴리에틸렌테레프탈레이트(Ployethylene Terephthalate; PET), 폴리카보네이트(polycarbonate; PC) 또는 폴리이미드(polyimide; PI)로 형성되는 플렉서블층으로 이루어지는 것을 특징으로 하는 플렉서블 표시 장치의 제조 방법.The protective film includes an adhesive and a flexible layer formed of polyethylene terephthalate (PET), polycarbonate (PC), or polyimide (PI) on the adhesive. Method of preparation. 제 1 항에 있어서,The method of claim 1, 상기 전송 필름을 부착하기 전에 상기 표시부의 다수의 박막을 보호하는 임시 보호 필름을 상기 표시부의 다수의 박막 상에 부착하는 단계와;Attaching a temporary protective film on the plurality of thin films of the display unit to protect the plurality of thin films of the display unit before attaching the transfer film; 상기 전송 필름을 부착한 후 상기 임시 보호 필름을 제거하는 단계를 추가로 포함하는 것을 특징으로 하는 플렉서블 표시 장치의 제조 방법.And removing the temporary protective film after attaching the transfer film. 제 3 항에 있어서,The method of claim 3, wherein 상기 임시 보호필름은 점착제와, 상기 점착제 상에 폴리에틸렌테레프탈레이트(Ployethylene Terephthalate; PET), 폴리카보네이트(polycarbonate; PC) 또는 폴리이미드(polyimide; PI)로 형성되는 임시 보호층으로 이루어지는 것을 특징으로 하는 플렉서블 표시 장치의 제조 방법.The temporary protective film is a flexible adhesive, characterized in that consisting of a temporary protective layer formed of polyethylene terephthalate (PET), polycarbonate (PC) or polyimide (PI) on the adhesive Method for manufacturing a display device. 제 1 항에 있어서,The method of claim 1, 상기 플렉서블 표시 장치는 액정 표시 장치 또는 유기 발광 표시 장치인 것을 특징으로 하는 플렉서블 표시 장치의 제조 방법.The flexible display device is a liquid crystal display device or an organic light emitting display device, a method of manufacturing a flexible display device. 표시부와 패드부로 구분되는 플렉서블 기판과;A flexible substrate divided into a display unit and a pad unit; 상기 플렉서블 기판의 표시부와 패드부 상에 형성되는 다수의 박막과;A plurality of thin films formed on the display unit and the pad unit of the flexible substrate; 상기 플렉서블 기판의 패드부에 부착되며 구동 소자가 실장된 전송 필름과;A transfer film attached to a pad part of the flexible substrate and having a driving element mounted thereon; 상기 전송 필름이 부착된 플렉서블 기판 전면에 형성되는 보호필름을 구비하는 것을 특징으로 하는 플렉서블 표시 장치.And a protective film formed on an entire surface of the flexible substrate to which the transfer film is attached. 제 6 항에 있어서,The method of claim 6, 상기 보호필름은 접착제와, 상기 접착제 상에 폴리에틸렌테레프탈레이트(Ployethylene Terephthalate; PET), 폴리카보네이트(polycarbonate; PC) 또는 폴리이미드(polyimide; PI)로 형성되는 플렉서블층으로 이루어지는 것을 특징으로 하는 플렉서블 표시 장치.The protective film includes an adhesive and a flexible layer formed of polyethylene terephthalate (PET), polycarbonate (PC), or polyimide (PI) on the adhesive. . 제 6 항에 있어서,The method of claim 6, 상기 플렉서블 표시 장치는 액정 표시 장치 또는 유기 발광 표시 장치인 것을 특징으로 하는 플렉서블 표시 장치.The flexible display device is a liquid crystal display device or an organic light emitting display device.
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