KR20110017779A - Light-shielding layer for display device and forming method thereof - Google Patents

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Abstract

PURPOSE: A light-shielding layer for a display device is provided to improve the accuracy of a sub pixel pattern and prevent the color mixture of the sub pixels. CONSTITUTION: A base layer(16) is formed on a substrate, and divides sub-pixel regions. A first protrusion has the width of micro scale while being close with the base layer. A second protrusion has the width of nano scale while being close with the first protrusion. Therefore the accuracy of the sub pattern is improved by preventing ink spreading phenomenon.

Description

표시 장치용 차광층 및 이의 형성 방법 {LIGHT-SHIELDING LAYER FOR DISPLAY DEVICE AND FORMING METHOD THEREOF}Light blocking layer for display device and forming method thereof {LIGHT-SHIELDING LAYER FOR DISPLAY DEVICE AND FORMING METHOD THEREOF}

본 발명은 표시 장치에 관한 것으로서, 보다 상세하게는 적색(R), 녹색(G), 및 청색(B)의 서브 픽셀들 사이에 배치되어 서브 픽셀들을 구획하는 차광층 및 이의 형성 방법에 관한 것이다.The present invention relates to a display device, and more particularly, to a light shielding layer disposed between subpixels of red (R), green (G), and blue (B) to partition subpixels, and a method of forming the same. .

표시 장치는 기본적으로 하나의 화소마다 적색(R), 녹색(G), 및 청색(B)의 서브 픽셀들과, 서브 픽셀들 사이에 배치되어 서브 픽셀들을 구획함과 아울러 화면의 명암비를 높이는 차광층을 구비한다. 액정 표시 장치의 경우, 서브 픽셀들은 적색(R), 녹색(G), 및 청색(B)의 컬러 필터들로 구성되고, 유기 발광 표시 장치의 경우, 서브 픽셀들은 적색(R), 녹색(G), 및 청색(B)의 유기 발광층들로 구성된다.The display device basically divides red (R), green (G), and blue (B) subpixels for each pixel, and is arranged between the subpixels to partition the subpixels and increase the contrast ratio of the screen. With layers. In the case of a liquid crystal display, the subpixels are composed of color filters of red (R), green (G), and blue (B). In the case of an organic light emitting display, the subpixels are red (R) and green (G). ), And blue (B) organic light emitting layers.

표시 장치에서 기판 위에 서브 픽셀들을 형성하기 위한 여러 가지 방법이 공지되어 있다. 이 중 기판 위에 격자 모양의 차광층을 형성한 다음 잉크젯 분사 장치를 이용하여 차광층 사이로 적색, 녹색, 및 청색의 컬러 잉크를 분사하는 방법이 있다. 이러한 잉크젯 패터닝 방법은 재료의 손실이 적고 공정 속도가 빠른 장점이 있다.Various methods are known for forming subpixels on a substrate in a display device. Among these, there is a method of forming a lattice-shaped light shielding layer on a substrate, and then spraying red, green, and blue color inks between the light shielding layers using an inkjet ejection apparatus. The inkjet patterning method has advantages of low material loss and fast process speed.

그런데 잉크젯 패터닝 공정에서는 기판 위로 컬러 잉크를 분사할 때, 컬러 잉크가 지정된 영역에만 위치하지 않고 차광층 위로 넘치거나 심지어 다른 색상의 서브 픽셀 영역을 침범하는 등 잉크 번짐 현상이 발생할 수 있다. 이 경우, 서브 픽셀들의 패턴 정밀도가 낮아짐은 물론 서브 픽셀들이 서로 혼색되므로 정확한 화소 구현이 어려워진다.However, in the inkjet patterning process, when the color ink is sprayed onto the substrate, ink bleeding may occur such that the color ink is not located only in the designated area but overflows over the light shielding layer or even invades subpixel areas of different colors. In this case, not only the pattern precision of the subpixels is lowered, but also the subpixels are mixed with each other, making accurate pixel implementation difficult.

본 발명은 잉크 번짐 현상을 억제하여 서브 픽셀들의 패턴 정밀도를 높이고 서브 픽셀들의 혼색을 방지하여 표시 품질을 높일 수 있는 표시 장치용 차광층 및 이의 형성 방법을 제공하고자 한다.An object of the present invention is to provide a light blocking layer for a display device and a method of forming the same, which can suppress ink smears to increase pattern precision of subpixels and prevent display of mixed colors of subpixels to increase display quality.

본 발명의 일 실시예에 따른 표시 장치용 차광층은, ⅰ) 기판 위에 형성되며, 서브 픽셀 영역들을 구획하는 베이스층, 및 ⅱ) 베이스층의 표면에 형성되며, 소수성을 발현하는 미세 돌출부들을 포함한다.A light blocking layer for a display device according to an exemplary embodiment of the present invention includes: i) a base layer formed on a substrate and partitioning subpixel regions, and ii) a fine protrusion formed on a surface of the base layer and expressing hydrophobicity. do.

미세 돌출부들 각각은 50nm 내지 20㎛의 폭을 가질 수 있다. 미세 돌출부들은 기둥, 일자형 벽, 격자형 벽 중 어느 하나의 모양으로 형성될 수 있다.Each of the fine protrusions may have a width of 50 nm to 20 μm. The fine protrusions may be formed in the shape of any one of a pillar, a straight wall, and a grid wall.

미세 돌출부들 각각은, ⅰ) 베이스층과 접하며 마이크로 스케일의 폭을 가지는 제1 돌출부, 및 ⅱ) 제1 돌출부와 접하며 나노 스케일의 폭을 가지는 제2 돌출부들을 포함할 수 있다.Each of the fine protrusions may include iii) a first protrusion in contact with the base layer and having a microscale width, and ii) a second protrusion in contact with the first protrusion and having a nanoscale width.

제1 돌출부는 1㎛ 내지 20㎛의 폭을 가지며, 제2 돌출부들 각각은 50nm 내지 1㎛의 폭을 가질 수 있다. 제1 돌출부와 제2 돌출부들 각각은 기둥, 일자형 벽, 격자형 벽 중 어느 하나의 모양으로 형성될 수 있다.The first protrusions may have a width of 1 μm to 20 μm, and each of the second protrusions may have a width of 50 nm to 1 μm. Each of the first and second protrusions may be formed in the shape of any one of a pillar, a straight wall, and a grid wall.

본 발명의 일 실시예에 따른 액정 표시 장치는 전술한 차광층, 및 차광층에 의해 구획된 서브 픽셀 영역들에 위치하는 컬러 필터들을 포함한다.The liquid crystal display according to the exemplary embodiment of the present invention includes the aforementioned light blocking layer and color filters positioned in sub-pixel regions partitioned by the light blocking layer.

본 발명의 일 실시예에 따른 유기 발광 표시 장치는 전술한 차광층, 및 차광층에 의해 구획된 서브 픽셀 영역들에 위치하는 유기 발광층들을 포함한다.The organic light emitting diode display according to the exemplary embodiment of the present invention includes the above-described light blocking layer and organic light emitting layers positioned in sub-pixel regions defined by the light blocking layer.

본 발명의 일 실시예에 따른 표시 장치용 차광층의 형성 방법은, ⅰ) 기판 위에 서브 픽셀 영역들을 구획하는 베이스층을 형성하는 단계, ⅱ) 미세 오목부들이 형성된 임프린트 몰드를 준비하고, 미세 오목부들을 돌출부 형성 물질로 채우는 단계, 및 ⅲ) 임프린트 몰드로 베이스층을 가압 후 분리하여 베이스층 위로 돌출부 형성 물질을 전사시킴으로써 미세 돌출부들을 형성하는 단계를 포함한다.According to an embodiment of the present disclosure, a method of forming a light shielding layer for a display device may include: (i) forming a base layer partitioning subpixel regions on a substrate, ii) preparing an imprint mold having fine recesses, and fine recesses Filling the portions with the protrusion forming material, and iii) forming fine protrusions by pressing and separating the base layer with an imprint mold to transfer the protrusion forming material onto the base layer.

본 발명의 다른 일 실시예에 따른 표시 장치용 차광층의 형성 방법은, ⅰ) 서브 픽셀 영역들에 대응하는 양각부들 및 양각부들 사이로 미세 오목부들이 형성된 임프린트 몰드를 준비하는 단계, ⅱ) 차광층 형성 물질을 기판 위와 임프린트 몰드의 양각부들 사이 중 어느 한 곳에 도포하는 단계, 및 ⅲ) 임프린트 몰드로 기판을 가압 후 분리하여 베이스층과 미세 돌출부들을 동시에 형성하는 단계를 포함한다.According to another aspect of the present invention, there is provided a method of forming a light blocking layer for a display device, the method comprising: (i) preparing embossed portions corresponding to subpixel regions and an imprint mold having fine recesses formed between the embossed portions; Applying the forming material to one of the embossed portions of the imprint mold on the substrate and iii) simultaneously pressing and separating the substrate with the imprint mold to simultaneously form the base layer and the fine protrusions.

본 발명의 또 다른 일 실시예에 따른 표시 장치용 차광층의 형성 방법은, ⅰ) 미세 오목부들이 형성된 임프린트 몰드를 준비하는 단계, ⅱ) 자외선 경화형 차광층 형성 물질을 기판 위 전체와 미세 오목부들이 형성된 임프린트 몰드의 일면 중 어느 한 곳에 도포하는 단계, ⅲ) 임프린트 몰드로 기판을 가압 후 분리하여 기판 위 전체에 베이스층과 미세 돌출부들을 동시에 형성하는 단계, ⅳ) 베이스층 및 미세 돌출부들 중 서브 픽셀 영역들을 제외한 나머지 영역을 자외선으로 경화시키는 단계, 및 ⅴ) 베이스층 및 미세 돌출부들 중 미경화 영역을 제거하는 단계를 포함한다.According to another exemplary embodiment of the present disclosure, a method of forming a light blocking layer for a display device may include: i) preparing an imprint mold having fine concave portions; Applying to any one surface of the formed imprint mold, iii) pressing and separating the substrate with the imprint mold and simultaneously forming the base layer and the fine protrusions all over the substrate, iii) the sub-layer of the base layer and the fine protrusions Curing the remaining regions other than the pixel regions with ultraviolet rays, and iii) removing the uncured region of the base layer and the fine protrusions.

미세 오목부들 각각은 50nm 내지 20㎛의 폭을 가지며, 기둥, 일자형 벽, 격자형 벽 중 어느 하나의 모양으로 형성될 수 있다.Each of the fine recesses has a width of 50 nm to 20 μm, and may be formed in the shape of any one of a pillar, a straight wall, and a lattice wall.

미세 오목부들 각각은, ⅰ) 마이크로 스케일의 폭을 가지는 제1 오목부, 및 ⅱ) 제1 오목부에 형성되며, 나노 스케일의 폭을 가지는 제2 오목부들을 포함할 수 있다.Each of the fine recesses may include iii) a first recess having a microscale width, and ii) a second recess having a nanoscale width.

제1 오목부와 상기 제2 오목부들 각각은 기둥, 일자형 벽, 격자형 벽 중 어느 하나의 모양으로 형성될 수 있다. 제1 오목부는 1㎛ 내지 20㎛의 폭을 가지며, 제2 오목부들 각각은 50nm 내지 1㎛의 폭을 가질 수 있다.Each of the first concave portion and the second concave portion may be formed in the shape of any one of a pillar, a straight wall, and a grid wall. The first recesses may have a width of 1 μm to 20 μm, and each of the second recesses may have a width of 50 nm to 1 μm.

본 발명의 실시예에 따르면, 차광층이 접촉각 100° 이상의 우수한 소수성을 구현하므로, 잉크젯 분사 장치를 이용하여 컬러 잉크를 서브 픽셀 영역으로 분사할 때, 컬러 잉크가 차광층 위로 넘치거나 다른 색상의 서브 픽셀 영역을 침범하는 잉크 번짐 현상을 억제할 수 있다. 따라서 서브 픽셀들의 패턴 정밀도를 높이고, 서브 픽셀들의 혼색을 방지하여 표시 품질을 향상시킬 수 있다.According to an embodiment of the present invention, since the light shielding layer realizes excellent hydrophobicity of 100 ° or more in contact angle, when ink is ejected to the sub-pixel region using the inkjet ejection apparatus, the color ink overflows over the light shielding layer or is of a different color. The ink bleeding phenomenon which invades a pixel area can be suppressed. Therefore, the pattern precision of the subpixels can be improved, and the display quality can be improved by preventing the subpixels from being mixed.

이하, 첨부한 도면을 참고로 하여 본 발명의 실시예에 대하여 본 발명이 속하는 기술 분야에서 통상의 지식을 가진 자가 용이하게 실시할 수 있도록 상세히 설명한다. 본 발명은 여러 가지 상이한 형태로 구현될 수 있으며 여기에서 설명하는 실시예에 한정되지 않는다.Hereinafter, exemplary embodiments of the present invention will be described in detail with reference to the accompanying drawings so that those skilled in the art may easily implement the present invention. As those skilled in the art would realize, the described embodiments may be modified in various different ways, all without departing from the spirit or scope of the present invention.

도 1은 본 발명의 제1 실시예에 따른 표시 장치용 차광층을 나타낸 부분 단면도이고, 도 2는 도 1에 도시한 차광층 가운데 미세 돌출부를 나타낸 개략 사시도이다.1 is a partial cross-sectional view illustrating a light blocking layer for a display device according to a first exemplary embodiment of the present invention, and FIG. 2 is a schematic perspective view illustrating a fine protrusion of the light blocking layer illustrated in FIG. 1.

도 1과 도 2를 참고하면, 표시 장치에서 차광층(10)은 기판(12) 위에 형성되며, 스트라이프 또는 격자 모양으로 패터닝되어 서브 픽셀 영역들(14)을 구획한다. 차광층(10)은 빛을 흡수하는 흑색 물질로 형성되어 표시 장치 작용시 외광을 흡수한다. 따라서 차광층(10)은 화면의 명암비를 높이는 기능을 한다.1 and 2, in the display device, the light blocking layer 10 is formed on the substrate 12, and is patterned in a stripe or lattice shape to partition the sub pixel regions 14. The light blocking layer 10 is formed of a black material absorbing light to absorb external light when the display device is acting. Therefore, the light blocking layer 10 serves to increase the contrast ratio of the screen.

차광층(10)은 기판(12)과 접하며 기판 위에 직접 형성되거나, 다른 기능층들이 기판(12) 위에 먼저 형성된 후 차광층(10)이 이 기능층들 위에 형성될 수 있다. 액정 표시 장치의 경우, 차광층(10)은 투명한 기판(12) 위에 바로 형성될 수 있다. 유기 발광 표시 장치의 경우, 차광층(10)은 화소 정의막으로 표현될 수 있으며, 박막 트랜지스터와 평탄화막 위에 형성된다.The light blocking layer 10 may be formed directly on the substrate in contact with the substrate 12, or other functional layers may be first formed on the substrate 12, and then the light blocking layer 10 may be formed on the functional layers. In the case of the liquid crystal display, the light blocking layer 10 may be formed directly on the transparent substrate 12. In the OLED display, the light blocking layer 10 may be represented by a pixel defining layer, and is formed on the thin film transistor and the planarization layer.

도 1에서는 차광층(10)이 기판(12) 위에 바로 형성된 경우를 도시하였으나, 기판(12)과 차광층(10) 사이에 다른 기능층이 위치하는 경우도 가능하다. 즉, 본 실시예에서 차광층(10)이 기판(12) '위에' 형성되는 것은 기판(12) 위에 바로 형성되는 경우와, 다른 기능층들을 사이에 두고 기판(12) 위에 형성되는 경우를 모두 포함한다.In FIG. 1, the light blocking layer 10 is formed directly on the substrate 12, but another functional layer may be disposed between the substrate 12 and the light blocking layer 10. That is, in this embodiment, the light blocking layer 10 is formed 'on' the substrate 12 both in the case of being formed directly on the substrate 12 and in the case of being formed on the substrate 12 with other functional layers interposed therebetween. Include.

제1 실시예에서 차광층(10)은 서브 픽셀 영역들(14)을 구획하며 일정한 두께를 가지는 베이스층(16)과, 베이스층(16)의 표면에 형성되어 차광층(10)에 소수성을 부여하는 미세 돌출부들(18)을 포함한다. 미세 돌출부들(18)은 베이스층(16)과 다른 물질로 형성되거나 같은 물질로 형성될 수 있으며, 같은 물질로 형성되는 경우 차광층(10)에 불순물이 포함되지 않는 장점이 있다.In the first embodiment, the light blocking layer 10 partitions the subpixel regions 14 and is formed on the surface of the base layer 16 having a predetermined thickness and the base layer 16 so that the light blocking layer 10 has a hydrophobicity. Fine projections 18 to impart. The fine protrusions 18 may be formed of a different material from the base layer 16 or may be formed of the same material. When the minute protrusions 18 are formed of the same material, the fine light blocking layer 10 may have no impurities.

미세 돌출부들(18)은 도 2에 도시한 바와 같이 기둥, 일자형 벽, 격자형 벽 중 어느 하나의 모양으로 형성될 수 있고, 도시한 형상 이외에 다른 형상으로도 변형이 가능하다. 특히 미세 돌출부들(18)은 기둥 모양으로 형성될 때 가장 우수한 소수성을 나타낸다.As shown in FIG. 2, the fine protrusions 18 may be formed in any one of a pillar, a straight wall, and a lattice wall, and may be modified into other shapes in addition to the illustrated shape. In particular, the fine protrusions 18 exhibit the best hydrophobicity when formed in a columnar shape.

미세 돌출부들(18) 각각은 나노 스케일 또는 마이크로 스케일의 폭과 간격을 가진다. 여기서, 나노 스케일은 1nm 이상 1,000nm 미만의 범위에 속하는 크기를 의미하고, 마이크로 스케일은 1㎛ 이상 1,000㎛ 미만의 범위에 속하는 크기를 의미한다.Each of the fine protrusions 18 has a width and a spacing of nanoscale or microscale. Here, the nanoscale means a size belonging to the range of 1 nm or more and less than 1,000 nm, and the micro scale means a size belonging to the range of 1 μm or more and less than 1,000 μm.

차광층(10)은 나노 스케일 또는 마이크로 스케일의 미세 돌출부들(18)로 인해 극히 낮은 젖음성을 나타내며, 접촉각이 120° 이상인 초소수성(super-hydrophobicity)을 구현한다. 특히 차광층(10)은 미세 돌출부들(18)이 나노 스케일의 폭을 가질수록 더 낮은 젖음성과 더 높은 소수성을 구현할 수 있다.The light blocking layer 10 exhibits extremely low wettability due to the micro-projections 18 of the nano scale or the micro scale, and realizes super-hydrophobicity having a contact angle of 120 ° or more. In particular, the light blocking layer 10 may realize lower wettability and higher hydrophobicity as the fine protrusions 18 have a nanoscale width.

따라서 차광층(10) 형성 후 잉크젯 분사 장치(도시하지 않음)를 이용하여 서브 픽셀 영역들(14)에 적색(R), 녹색(G), 및 청색(B)의 컬러 잉크를 분사하면, 차 광층(10)의 초소수성에 의해 컬러 잉크는 차광층(10) 표면에 묻거나 다른 서브 픽셀 영역(14)을 침범하지 않고 해당 서브 픽셀 영역(14)에만 위치할 수 있다.Therefore, when the light blocking layer 10 is formed, the red (R), green (G), and blue (B) color inks are sprayed onto the subpixel regions 14 using an inkjet ejection apparatus (not shown). Due to the superhydrophobicity of the light layer 10, the color ink may be located only in the sub pixel region 14 without being buried on the surface of the light shielding layer 10 or invading other sub pixel regions 14.

제1 실시예에서 미세 돌출부들(18)은 단일 스케일로 형성된다. 즉, 미세 돌출부들(18)은 모두 동일한 폭과 간격을 갖도록 형성되며, 50nm 내지 20㎛의 폭을 갖도록 형성될 수 있다.In the first embodiment the fine protrusions 18 are formed on a single scale. That is, the fine protrusions 18 are all formed to have the same width and spacing, and may be formed to have a width of 50 nm to 20 μm.

미세 돌출부들(18)의 폭이 50nm 미만이면, 다음에 설명하는 임프린트 몰드를 이용한 차광층(10) 형성시 임프린트 몰드 제작 및 높은 종횡비 구현이 어려울 수 있다. 즉, 미세 돌출부들(18)의 폭이 50nm 미만이면 임프린트 몰드에 높은 종횡비의 오목부를 제작하기 어려울 뿐만 아니라 임프린트 공정시 전사가 제대로 이루어지지 않아 미세 돌출부들(18)의 패턴 품질이 저하될 수 있다.When the width of the fine protrusions 18 is less than 50 nm, it may be difficult to manufacture the imprint mold and implement a high aspect ratio when forming the light shielding layer 10 using the imprint mold described below. That is, when the width of the fine protrusions 18 is less than 50 nm, not only it is difficult to produce a high aspect ratio recess in the imprint mold, but also the transfer quality is not properly performed during the imprint process, so that the pattern quality of the fine protrusions 18 may be degraded. .

한편, 통상의 표시 장치에서 차광층(10)의 폭은 대략 30㎛ 이하이므로 미세 돌출부들(18)의 폭이 20㎛를 초과하면 베이스층(16) 대비 미세 돌출부(18)의 폭이 과도하게 커지며, 소수성을 발현하는 효과가 미비해진다.Meanwhile, since the width of the light blocking layer 10 is about 30 μm or less in a conventional display device, when the width of the fine protrusions 18 exceeds 20 μm, the width of the fine protrusions 18 is excessively greater than that of the base layer 16. It becomes large and the effect of expressing hydrophobicity is insufficient.

도 3은 본 발명의 제2 실시예에 따른 표시 장치용 차광층을 나타낸 부분 단면도이다.3 is a partial cross-sectional view illustrating a light blocking layer for a display device according to a second exemplary embodiment of the present invention.

도 3을 참고하면, 제2 실시예의 차광층(101)에서 미세 돌출부들(181)은 마이크로 스케일과 나노 스케일이 혼합된 듀얼 스케일의 돌출부들로 이루어진다. 즉, 미세 돌출부들(181)은 베이스층(16) 표면에 형성되는 마이크로 스케일의 제1 돌출부들(20)과, 제1 돌출부들(20) 표면에 형성되는 나노 스케일의 제2 돌출부들(22)로 이루어진다.Referring to FIG. 3, in the light blocking layer 101 of the second embodiment, the fine protrusions 181 may be formed of dual scale protrusions in which micro scales and nano scales are mixed. That is, the micro protrusions 181 may include micro scale first protrusions 20 formed on the surface of the base layer 16 and nano scale second protrusions 22 formed on the surface of the first protrusions 20. )

제1 돌출부들(20)은 마이크로 스케일의 폭과 간격을 가지며, 제2 돌출부들(22)은 나노 스케일의 폭과 간격을 가진다. 제1 돌출부들(20)은 전술한 1㎛ 내지 20㎛의 폭을 가질 수 있고, 제2 돌출부들(22)은 50nm 내지 1㎛의 폭을 가질 수 있다. 제1 돌출부들(20)의 폭이 20㎛ 이하인 이유와 제2 돌출부들(22)의 폭이 50nm 이상인 이유는 전술한 제1 실시예에 기재한 것과 동일하므로 자세한 설명은 생략한다.The first protrusions 20 have a width and a spacing of a micro scale, and the second protrusions 22 have a width and a spacing of a nano-scale. The first protrusions 20 may have a width of 1 μm to 20 μm, and the second protrusions 22 may have a width of 50 nm to 1 μm. The reason why the width of the first protrusions 20 is 20 μm or less and the reason that the width of the second protrusions 22 are 50 nm or more are the same as those described in the above-described first embodiment, and thus a detailed description thereof will be omitted.

제1 돌출부들(20)은 베이스층(16)의 표면에서 기둥, 일자형 벽, 격자형 벽 중 어느 하나의 모양으로 형성되며, 제2 돌출부들(22)은 제1 돌출부(20)의 표면에서 기둥, 일자형 벽, 격자형 벽 중 어느 하나의 모양으로 형성될 수 있다. 제1, 2 돌출부들(20, 22)의 형상은 전술한 예에 한정되지 않고 다양하게 변형 가능하다.The first protrusions 20 are formed in the shape of one of pillars, straight walls, and lattice walls on the surface of the base layer 16, and the second protrusions 22 are formed on the surface of the first protrusions 20. It may be formed in the shape of any one of a column, a straight wall, a grid wall. The shape of the first and second protrusions 20 and 22 is not limited to the above-described example and may be variously modified.

제2 실시예의 차광층(101)은 미세 돌출부들(181)의 듀얼 스케일 구조에 의해 제1 실시예보다 더 낮은 젖음성과 더 높은 소수성을 구현할 수 있다. 따라서 서브 픽셀 영역들(14)에 컬러 잉크를 분사할 때, 잉크 번짐 현상을 보다 효과적으로 억제할 수 있다.The light blocking layer 101 of the second embodiment can implement lower wettability and higher hydrophobicity than the first embodiment by the dual scale structure of the fine protrusions 181. Therefore, when the color ink is sprayed on the sub pixel regions 14, the ink bleeding phenomenon can be suppressed more effectively.

다음으로, 표시 장치용 차광층의 형성 방법에 대해 설명한다.Next, the formation method of the light shielding layer for display apparatuses is demonstrated.

도 4는 표시 장치용 차광층의 첫 번째 형성 방법을 나타낸 공정도이다.4 is a flowchart illustrating a first method of forming a light shielding layer for a display device.

도 4를 참고하면, 차광층의 첫 번째 형성 방법은 기판(12) 위에 베이스층(16)을 형성하는 제1 단계(a 참조)와, 미세 오목부들(24)이 형성된 임프린트 몰드(26)를 준비하고 돌출부 형성 물질(28)로 미세 오목부들(24)을 채우는 제2 단계(b 참조)와, 임프린트 몰드(26)로 베이스층(16)을 가압하여 베이스층(16) 위로 돌출부 형성 물질(28)을 전사시킴으로써 미세 돌출부들(18)을 형성하는 제3 단계(c와 d 참조)를 포함한다.Referring to FIG. 4, the first method of forming the light shielding layer includes a first step (see a) of forming the base layer 16 on the substrate 12 and an imprint mold 26 having fine recesses 24 formed therein. A second step (see b) of preparing and filling the fine recesses 24 with the protrusion forming material 28 and pressing the base layer 16 with the imprint mold 26 to form the protrusion forming material above the base layer 16 ( A third step (see c and d) of forming the fine protrusions 18 by transferring 28.

제1 단계에서, 베이스층(16)은 기판(12) 위 전체에 스크린 인쇄로 도포된 후 포토리소그래피 공정으로 패터닝되거나, 임프린트 공정 등의 기타 다른 방법에 의해 기판(12) 위에 서브 픽셀 영역들(14)을 구획하도록 패터닝될 수 있다.In the first step, the base layer 16 is applied to the entirety of the substrate 12 by screen printing and then patterned by a photolithography process or by other methods such as an imprint process or the like. Can be patterned to partition 14).

제2 단계에서, 미세 오목부들(24)은 나노 스케일 또는 마이크로 스케일의 폭을 가지며, 미세 돌출부들(18)의 형상에 대응하는 음각의 형상으로 이루어진다. 미세 돌출부들은 50nm 내지 20㎛의 폭으로 형성될 수 있다. 돌출부 형성 물질(28)은 고분자 물질로서 베이스층(16)과 같은 물질로 형성될 수 있다.In the second step, the fine recesses 24 have a width of nanoscale or microscale and are in the shape of an intaglio corresponding to the shape of the fine protrusions 18. Fine protrusions may be formed in a width of 50nm to 20㎛. The protrusion forming material 28 may be formed of the same material as the base layer 16 as the polymer material.

제3 단계에서, 임프린트 몰드(26)는 베이스층(16)과 접하도록 기판(12) 위에 배치되고, 외력에 의해 베이스층(16)을 가압한 다음 베이스층(16)으로부터 분리된다. 이로써 미세 오목부들(24)에 채워진 돌출부 형성 물질(28)이 베이스층(16) 표면으로 전사되어 미세 돌출부들(18)을 형성한다. 이러한 역 임프린트 공정을 이용하여 베이스층(16) 표면에 미세 돌출부들(18)을 용이하게 형성할 수 있다.In a third step, the imprint mold 26 is disposed on the substrate 12 in contact with the base layer 16, presses the base layer 16 by an external force, and then separates from the base layer 16. As a result, the protrusion forming material 28 filled in the fine recesses 24 is transferred to the surface of the base layer 16 to form the fine protrusions 18. By using the reverse imprint process, the minute protrusions 18 may be easily formed on the surface of the base layer 16.

도 5는 표시 장치용 차광층의 두 번째 형성 방법을 나타낸 공정도이다.5 is a flowchart illustrating a second method of forming a light blocking layer for a display device.

도 5를 참고하면, 차광층의 두 번째 형성 방법은 임프린트 몰드(261)에 듀얼 스케일의 미세 오목부들(241)이 형성되어 베이스층(16) 위로 듀얼 스케일의 미세 돌출부들(181)을 형성하는 것을 제외하고 전술한 첫 번째 형성 방법과 동일한 단계들을 포함한다.Referring to FIG. 5, in the second method of forming the light blocking layer, dual scale fine recesses 241 are formed in the imprint mold 261 to form dual scale fine protrusions 181 on the base layer 16. Except for the same steps as the first forming method described above.

임프린트 몰드(261)에 형성된 미세 오목부들(241)은 마이크로 스케일의 제1 오목부들(30)과, 제1 오목부들(30)에 형성되는 나노 스케일의 제2 오목부들(32)을 포함한다. 제1 오목부들(30)은 1㎛ 내지 20㎛의 폭으로 형성될 수 있으며, 제2 오목부들(32)은 50nm 내지 1㎛의 폭으로 형성될 수 있다.The fine recesses 241 formed in the imprint mold 261 include microscale first recesses 30 and nanoscale second recesses 32 formed in the first recesses 30. The first concave portions 30 may be formed to have a width of 1 μm to 20 μm, and the second concave portions 32 may be formed to have a width of 50 nm to 1 μm.

전술한 듀얼 스케일의 미세 오목부들(241) 형상에 의해 베이스층(16) 위로 마이크로 스케일의 제1 돌출부들(20)과 나노 스케일의 제2 돌출부들(22)로 이루어진 듀얼 스케일의 미세 돌출부들(181)을 용이하게 형성할 수 있다.The dual-scale micro protrusions constituting the micro-scale first protrusions 20 and the nano-scale second protrusions 22 on the base layer 16 by the above-described dual scale fine recesses 241 shape ( 181 can be easily formed.

도 6은 표시 장치용 차광층의 세 번째 형성 방법을 나타낸 공정도이다.6 is a flowchart illustrating a third method of forming a light blocking layer for a display device.

도 6을 참고하면, 차광층의 세 번째 형성 방법은 서브 픽셀 영역들(14)에 대응하는 양각부들(34) 및 양각부들(34) 사이로 미세 오목부들(24)을 형성한 임프린트 몰드(262)를 준비하는 제1 단계(a 참조)와, 양각부들(34) 사이 및 미세 오목부들(24)에 차광층 형성 물질(36)을 도포하는 제2 단계(a 참조)와, 임프린트 몰드(262)로 기판(12)을 가압하여 기판(12) 위로 차광층 형성 물질(36)을 전사시킴으로써 기판(12) 위에 베이스층(16)과 미세 돌출부들(18)을 동시에 형성하는 제3 단계(b와 c 참조)를 포함한다.Referring to FIG. 6, a third method of forming the light shielding layer is an imprint mold 262 in which fine recesses 24 are formed between the embossed portions 34 and the embossed portions 34 corresponding to the subpixel regions 14. The first step (see a) of preparing a, the second step (see a) of applying the light shielding layer forming material 36 between the embossed portions 34 and the fine recesses 24, and the imprint mold 262. A third step (b) of simultaneously forming the base layer 16 and the fine protrusions 18 on the substrate 12 by pressing the substrate 12 to transfer the light shielding layer forming material 36 onto the substrate 12. c).

임프린트 몰드(262)에 형성된 양각부들(34)에 의해 서브 픽셀 영역들(14)을 제외한 나머지 영역에 베이스층(16)을 형성할 수 있으므로 베이스층(16)의 패터닝 과정을 단순화할 수 있다. 또한, 베이스층(16)과 미세 돌출부들(18)을 한번의 임프린트 공정으로 동시에 형성할 수 있으므로 차광층(10)의 형성 과정을 단순화할 수 있다.Since the base layer 16 may be formed in the remaining regions other than the sub pixel regions 14 by the embossed portions 34 formed on the imprint mold 262, the patterning process of the base layer 16 may be simplified. In addition, since the base layer 16 and the fine protrusions 18 may be simultaneously formed in one imprint process, the process of forming the light blocking layer 10 may be simplified.

도 6에서는 임프린트 몰드(262)에 차광층 형성 물질(36)을 도포하는 역 임프 린트 공정을 도시하였으나, 기판(12) 위에 전체에 차광층 형성 물질(36)을 도포한 후 전술한 임프린트 몰드(262)로 차광층 형성 물질(36)을 가압하여 차광층(10)을 형성하는 일반 임프린트 공정도 적용 가능하다.In FIG. 6, an inverse imprint process of applying the light shielding layer forming material 36 to the imprint mold 262 is illustrated, but after the light shielding layer forming material 36 is applied to the entire substrate 12, the imprint mold ( A general imprint process may be applied to press the light blocking layer forming material 36 to form the light blocking layer 10 by using 262.

한편, 임프린트 몰드(262)의 양각부들(34) 사이로 듀얼 스케일의 미세 오목부들을 형성하여 베이스층(16)과 더불어 듀얼 스케일의 미세 돌출부들을 동시에 형성할 수 있다. 도 7에 양각부들(34) 사이로 듀얼 스케일의 미세 오목부들(241)을 구비한 임프린트 몰드(263)를 도시하였다. 도 7에서 미세 오목부들(241)은 마이크로 스케일의 제1 오목부들(30)과, 나노 스케일의 제2 오목부들(32)을 포함한다.Meanwhile, dual scale fine recesses may be formed between the embossed portions 34 of the imprint mold 262 to simultaneously form the dual scale fine protrusions together with the base layer 16. FIG. 7 shows an imprint mold 263 with dual scale micro recesses 241 between the reliefs 34. In FIG. 7, the micro recesses 241 include micro scale first recesses 30 and nano scale second recesses 32.

도 8은 표시 장치용 차광층의 네 번째 형성 방법을 나타낸 공정도이다.8 is a flowchart illustrating a fourth method of forming a light shielding layer for a display device.

도 8을 참고하면, 차광층의 네 번째 형성 방법은 미세 오목부들(24)이 형성된 임프린트 몰드(264)를 이용하여 기판(12) 위 전체에 베이스층(16)과 미세 돌출부들(18)을 형성하는 제1 단계(a와 b 참조)와, 서브 픽셀 영역들(14)에 대응하는 베이스층(16) 및 그 위의 미세 돌출부들(18)을 선택적으로 제거하는 제2 단계(c 참조)를 포함한다.Referring to FIG. 8, the fourth method of forming the light shielding layer may include the base layer 16 and the fine protrusions 18 over the substrate 12 using the imprint mold 264 having the fine recesses 24 formed therein. A first step of forming (see a and b), and a second step of selectively removing the base layer 16 corresponding to the sub pixel regions 14 and the fine protrusions 18 thereon (see c). It includes.

제1 단계에서, 미세 오목부들(24)이 형성된 임프린트 몰드(264)에 차광층 형성 물질(36)을 도포하고, 임프린트 몰드(264)로 기판(12)을 가압 후 분리시켜 차광층 형성 물질(36)을 전사시키는 역 임프린트 공정을 적용할 수 있다. 이때, 미세 오목부들(24)뿐만 아니라 기판(12)을 향한 임프린트 몰드(264)의 일면에도 일정 두께의 차광층 형성 물질(36)을 도포하여 기판(12) 위에 베이스층(16)과 미세 돌출부들(18)이 동시에 형성되도록 한다.In the first step, the light shielding layer forming material 36 is applied to the imprint mold 264 on which the fine recesses 24 are formed, and the substrate 12 is pressed and separated by the imprint mold 264 to separate the light shielding layer forming material ( A reverse imprint process that transfers 36) can be applied. At this time, the light shielding layer forming material 36 having a predetermined thickness is applied to one surface of the imprint mold 264 facing the substrate 12 as well as the fine concavities 24 to form the base layer 16 and the fine protrusions on the substrate 12. The fields 18 are formed at the same time.

한편, 기판(12) 위 전체에 차광층 형성 물질(36)을 도포하고, 임프린트 몰드(264)로 차광층 형성 물질(36)을 가압 후 분리시켜 베이스층(16)과 미세 돌출부들(18)을 형성하는 일반 임프린트 공정도 적용할 수 있다. 또한, 임프린트 몰드(264)의 미세 오목부들(24)을 듀얼 스케일 구조로 형성하여 기판(12) 위에 베이스층(16)과 듀얼 스케일의 미세 돌출부들이 함께 형성되도록 할 수 있다.Meanwhile, the light shielding layer forming material 36 is coated on the entire substrate 12, and the base layer 16 and the fine protrusions 18 are separated by pressing and separating the light shielding layer forming material 36 with the imprint mold 264. The general imprint process for forming a can also be applied. In addition, the fine concave portions 24 of the imprint mold 264 may be formed in a dual scale structure such that the base layer 16 and the dual scale fine protrusions are formed on the substrate 12 together.

제2 단계에서, 베이스층(16)의 패터닝 방법으로 포토리소그래피 공정을 적용할 수 있다. 이를 위해 베이스층(16)과 미세 돌출부들(18)을 감광성 물질로 형성하고, 노광 마스크(38)를 이용하여 서브 픽셀 영역들(14)을 제외한 나머지 영역의 베이스층(16)과 미세 돌출부들(18)에 자외선을 조사하여 경화시킨 후, 경화되지 않은 부위를 현상으로 제거할 수 있다. 이러한 패터닝 공정에 의해 베이스층(16) 가운데 서브 픽셀 영역들(14)을 제거하여 차광층(10)을 완성한다.In a second step, a photolithography process may be applied by the patterning method of the base layer 16. To this end, the base layer 16 and the fine protrusions 18 are formed of a photosensitive material, and the base layer 16 and the fine protrusions of the remaining areas except the sub pixel regions 14 are formed using the exposure mask 38. After irradiating (18) with ultraviolet light and hardening, the unhardened site | part can be removed by image development. The light blocking layer 10 is completed by removing the sub pixel regions 14 of the base layer 16 by the patterning process.

도 9a 내지 도 12b는 미세 돌출부들의 전자 현미경 사진 및 차광층의 표면에 물방울을 떨어뜨려 접촉각을 실험한 결과를 나타낸 사진이다. 도 9a 내지 도 12b의 사진에서 물방울 위에 있는 수직 막대는 물방울을 떨어뜨리는데 사용된 실험 도구이다.9A to 12B are electron micrographs of the fine protrusions and photographs showing the results of experiments on contact angles by dropping water droplets on the surface of the light shielding layer. In the photographs of FIGS. 9A-12B, the vertical bar over the water drop is the experimental tool used to drop the water drop.

도 9a에 나타낸 미세 돌출부들은 격자형 벽 모양으로 형성되며, 대략 100㎛의 폭을 가진다. 이러한 미세 돌출부들을 구비한 차광층은 도 9b에 도시한 바와 같이 대략 100°의 접촉각을 나타낸다.The fine protrusions shown in FIG. 9A are formed in the shape of a lattice wall and have a width of approximately 100 μm. The light shielding layer with such fine protrusions exhibits a contact angle of approximately 100 ° as shown in FIG. 9B.

도 10a에 나타낸 미세 돌출부들은 기둥 모양으로 형성되며, 대략 20㎛의 폭을 가진다. 이러한 미세 돌출부들을 구비한 차광층은 도 10b에 도시한 바와 같이 대략 130°의 접촉각을 나타낸다.The fine protrusions shown in FIG. 10A are formed in a columnar shape and have a width of approximately 20 μm. The light shielding layer having such fine protrusions exhibits a contact angle of approximately 130 ° as shown in FIG. 10B.

도 11a에 나타낸 미세 돌출부들은 기둥 모양으로 형성되며, 대략 250nm의 폭을 가진다. 이러한 미세 돌출부들을 구비한 차광층은 도 11b에 도시한 바와 같이 대략 165°의 접촉각을 나타낸다.The fine protrusions shown in FIG. 11A are formed in a columnar shape and have a width of approximately 250 nm. The light shielding layer with such fine protrusions exhibits a contact angle of approximately 165 ° as shown in FIG. 11B.

도 12a에 나타낸 미세 돌출부들은 듀얼 스케일 구조로서 대략 20㎛의 폭을 가지는 제1 돌출부들과, 제1 돌출부들 위에 형성되는 대략 265nm 폭의 제2 돌출부들로 이루어진다. 이러한 듀얼 스케일의 미세 돌출부들을 구비한 차광층은 도 12b에 도시한 바와 같이 대략 165°의 접촉각을 나타낸다.The fine protrusions shown in FIG. 12A have a dual scale structure and include first protrusions having a width of approximately 20 μm and second protrusions having a width of about 265 nm formed on the first protrusions. The light shielding layer having such dual scale fine protrusions exhibits a contact angle of approximately 165 ° as shown in FIG. 12B.

전술한 실험 결과를 통해 미세 돌출부들이 작은 폭을 가질수록 그리고 듀얼 스케일의 구조를 가질수록 높은 소수성을 구현하고 있음을 확인할 수 있다.Through the above experimental results, it can be seen that the micro-projections have high hydrophobicity as they have a smaller width and have a dual-scale structure.

이와 같이 본 실시예에 따른 차광층(10)은 초소수성을 구현함에 따라, 잉크젯 분사 장치를 이용하여 컬러 잉크를 서브 픽셀 영역(14)으로 분사할 때, 컬러 잉크가 차광층(10) 위로 넘치거나 다른 색상의 서브 픽셀 영역(14)을 침범하는 잉크 번짐 현상을 억제할 수 있다. 그 결과, 서브 픽셀들의 패턴 정밀도를 높이며, 서브 픽셀들의 혼색을 방지하여 표시 품질을 향상시킬 수 있다.As described above, since the light blocking layer 10 according to the present embodiment realizes superhydrophobicity, when the color ink is sprayed into the subpixel region 14 using the inkjet ejection apparatus, the color ink overflows over the light blocking layer 10. It is possible to suppress the ink bleeding phenomenon that affects the sub-pixel region 14 of a different color. As a result, the pattern precision of the subpixels can be improved, and the display quality can be improved by preventing the subpixels from being mixed.

전술한 차광층(10)은 잉크젯 패터닝 공정이 사용되는 모든 표시 장치에 적용될 수 있으며, 예를 들어 액정 표시 장치와 유기 발광 표시 장치에 유효하게 적용될 수 있다. 액정 표시 장치의 경우, 컬러 필터들이 차광층(10)에 의해 구획된 서브 픽셀 영역들에 위치한다. 유기 발광 표시 장치의 경우, 유기 발광층들이 차광층(10)에 의해 구획된 서브 픽셀 영역들에 위치한다.The light blocking layer 10 described above may be applied to all display devices using an inkjet patterning process, and may be effectively applied to, for example, a liquid crystal display and an organic light emitting display. In the case of a liquid crystal display, color filters are positioned in subpixel regions partitioned by the light blocking layer 10. In the case of the organic light emitting diode display, the organic light emitting layers are positioned in the subpixel regions partitioned by the light blocking layer 10.

상기에서는 본 발명의 바람직한 실시예에 대하여 설명하였지만, 본 발명은 이에 한정되는 것이 아니고 특허청구범위와 발명의 상세한 설명 및 첨부한 도면의 범위 안에서 여러 가지로 변형하여 실시하는 것이 가능하고 이 또한 본 발명의 범위에 속하는 것은 당연하다.While the present invention has been described in connection with what is presently considered to be practical exemplary embodiments, it is to be understood that the invention is not limited to the disclosed embodiments, but, on the contrary, Of course.

도 1은 본 발명의 제1 실시예에 따른 표시 장치용 차광층을 나타낸 부분 단면도이다.1 is a partial cross-sectional view illustrating a light blocking layer for a display device according to a first embodiment of the present invention.

도 2는 도 1에 도시한 차광층의 미세 돌출부를 나타낸 개략 사시도이다.FIG. 2 is a schematic perspective view illustrating a fine protrusion of the light blocking layer illustrated in FIG. 1.

도 3은 본 발명의 제2 실시예에 따른 표시 장치용 차광층을 나타낸 부분 단면도이다.3 is a partial cross-sectional view illustrating a light blocking layer for a display device according to a second exemplary embodiment of the present invention.

도 4는 표시 장치용 차광층의 첫 번째 형성 방법을 나타낸 공정도이다.4 is a flowchart illustrating a first method of forming a light shielding layer for a display device.

도 5는 표시 장치용 차광층의 두 번째 형성 방법을 나타낸 공정도이다.5 is a flowchart illustrating a second method of forming a light blocking layer for a display device.

도 6은 표시 장치용 차광층의 세 번째 형성 방법을 나타낸 공정도이다.6 is a flowchart illustrating a third method of forming a light blocking layer for a display device.

도 7은 도 6에 도시한 임프린트 몰드의 변형예를 나타낸 개략도이다.FIG. 7 is a schematic view showing a modification of the imprint mold shown in FIG. 6.

도 8은 표시 장치용 차광층의 네 번째 형성 방법을 나타낸 공정도이다.8 is a flowchart illustrating a fourth method of forming a light shielding layer for a display device.

도 9a 내지 도 12b는 미세 돌출부들의 전자 현미경 사진 및 차광층의 표면에 물방울을 떨어뜨려 접촉각을 실험한 결과를 나타낸 사진이다.9A to 12B are electron micrographs of the fine protrusions and photographs showing the results of experiments on contact angles by dropping water droplets on the surface of the light shielding layer.

Claims (15)

기판 위에 형성되며, 서브 픽셀 영역들을 구획하는 베이스층; 및A base layer formed on the substrate and partitioning the subpixel regions; And 상기 베이스층의 표면에 형성되며, 소수성을 발현하는 미세 돌출부들Fine protrusions formed on the surface of the base layer and expressing hydrophobicity 을 포함하는 표시 장치용 차광층.Light blocking layer for a display device comprising a. 제1항에 있어서,The method of claim 1, 상기 미세 돌출부들 각각은 50nm 내지 20㎛의 폭을 가지는 표시 장치용 차광층.Each of the minute protrusions has a width of about 50 nm to about 20 μm. 제2항에 있어서,The method of claim 2, 상기 미세 돌출부들은 기둥, 일자형 벽, 격자형 벽 중 어느 하나의 모양으로 형성되는 표시 장치용 차광층.The fine protrusions are formed in the shape of any one of a pillar, a straight wall, and a grid wall. 제1항에 있어서,The method of claim 1, 상기 미세 돌출부들 각각은,Each of the fine protrusions, 상기 베이스층과 접하며 마이크로 스케일의 폭을 가지는 제1 돌출부; 및A first protrusion contacting the base layer and having a width of a micro scale; And 상기 제1 돌출부와 접하며 나노 스케일의 폭을 가지는 제2 돌출부들Second protrusions having a nanoscale width in contact with the first protrusion 을 포함하는 표시 장치용 차광층.Light blocking layer for a display device comprising a. 제4항에 있어서,The method of claim 4, wherein 상기 제1 돌출부는 1㎛ 내지 20㎛의 폭을 가지며, 상기 제2 돌출부들 각각은 50nm 내지 1㎛의 폭을 가지는 표시 장치용 차광층.The first protrusion has a width of 1 μm to 20 μm, and each of the second protrusions has a width of 50 nm to 1 μm. 제5항에 있어서,The method of claim 5, 상기 제1 돌출부와 상기 제2 돌출부들 각각은 기둥, 일자형 벽, 격자형 벽 중 어느 하나의 모양으로 형성되는 표시 장치용 차광층.The light blocking layer for the display device, wherein each of the first protrusion and the second protrusion is formed in the shape of one of a pillar, a straight wall, and a lattice wall. 제1항 내지 제6항 중 어느 한 항에 따른 차광층; 및The light shielding layer according to any one of claims 1 to 6; And 상기 차광층에 의해 구획된 서브 픽셀 영역들에 위치하는 컬러 필터들Color filters positioned in subpixel regions defined by the light blocking layer 을 포함하는 액정 표시 장치.Liquid crystal display comprising a. 제1항 내지 제6항 중 어느 한 항에 따른 차광층; 및The light shielding layer according to any one of claims 1 to 6; And 상기 차광층에 의해 구획된 서브 픽셀 영역들에 위치하는 유기 발광층들Organic light emitting layers positioned in subpixel regions defined by the light blocking layer 을 포함하는 유기 발광 표시 장치.An organic light emitting display device comprising a. 기판 위에 서브 픽셀 영역들을 구획하는 베이스층을 형성하는 단계;Forming a base layer defining sub-pixel regions over the substrate; 미세 오목부들이 형성된 임프린트 몰드를 준비하고, 상기 미세 오목부들을 돌출부 형성 물질로 채우는 단계; 및Preparing an imprint mold having fine recesses and filling the fine recesses with a protrusion forming material; And 상기 임프린트 몰드로 상기 베이스층을 가압 후 분리하여 상기 베이스층 위 로 상기 돌출부 형성 물질을 전사시킴으로써 미세 돌출부들을 형성하는 단계Pressing and separating the base layer with the imprint mold to form fine protrusions by transferring the protrusion forming material onto the base layer. 를 포함하는 표시 장치용 차광층의 형성 방법.Method of forming a light shielding layer for a display device comprising a. 서브 픽셀 영역들에 대응하는 양각부들 및 상기 양각부들 사이로 미세 오목부들이 형성된 임프린트 몰드를 준비하는 단계;Preparing an imprint mold having relief portions corresponding to the sub pixel regions and fine recesses formed between the relief portions; 차광층 형성 물질을 기판 위와 상기 임프린트 몰드의 상기 양각부들 사이 중 어느 한 곳에 도포하는 단계; 및Applying a light-shielding layer forming material to any one of the embossed portions of the imprint mold and on a substrate; And 상기 임프린트 몰드로 상기 기판을 가압 후 분리하여 베이스층과 미세 돌출부들을 동시에 형성하는 단계Pressing and separating the substrate with the imprint mold to simultaneously form a base layer and fine protrusions 를 포함하는 표시 장치용 차광층의 형성 방법.Method of forming a light shielding layer for a display device comprising a. 미세 오목부들이 형성된 임프린트 몰드를 준비하는 단계;Preparing an imprint mold having fine recesses formed therein; 자외선 경화형 차광층 형성 물질을 기판 위 전체와 상기 미세 오목부들이 형성된 상기 임프린트 몰드의 일면 중 어느 한 곳에 도포하는 단계;Applying an ultraviolet curable light shielding layer forming material to any one of the entire surface of the substrate and the imprint mold having the fine recesses formed thereon; 상기 임프린트 몰드로 상기 기판을 가압 후 분리하여 상기 기판 위 전체에 베이스층과 미세 돌출부들을 동시에 형성하는 단계;Pressing and separating the substrate with the imprint mold to simultaneously form a base layer and minute protrusions on the substrate; 상기 베이스층 및 상기 미세 돌출부들 중 서브 픽셀 영역들을 제외한 나머지 영역을 자외선으로 경화시키는 단계; 및Curing the remaining portions of the base layer and the minute protrusions except for the subpixel regions with ultraviolet rays; And 상기 베이스층 및 상기 미세 돌출부들 중 미경화 영역을 제거하는 단계Removing an uncured region of the base layer and the fine protrusions 를 포함하는 표시 장치용 차광층의 형성 방법.Method of forming a light shielding layer for a display device comprising a. 제9항에 있어서,10. The method of claim 9, 상기 베이스층과 상기 미세 돌출부들은 같은 물질로 형성되는 표시 장치용 차광층의 형성 방법.The method of claim 1, wherein the base layer and the minute protrusions are formed of the same material. 제9항 내지 제11항 중 어느 한 항에 있어서,The method according to any one of claims 9 to 11, 상기 미세 오목부들 각각은 50nm 내지 20㎛의 폭을 가지며, 기둥, 일자형 벽, 격자형 벽 중 어느 하나의 모양으로 형성되는 표시 장치용 차광층의 형성 방법.Each of the fine recesses has a width of 50 nm to 20 μm, and is formed in the shape of any one of a pillar, a straight wall, and a lattice wall. 제9항 내지 제11항 중 어느 한 항에 있어서,The method according to any one of claims 9 to 11, 상기 미세 오목부들 각각은,Each of the fine recesses, 마이크로 스케일의 폭을 가지는 제1 오목부; 및A first recess having a microscale width; And 상기 제1 오목부에 형성되며, 나노 스케일의 폭을 가지는 제2 오목부들Second recesses formed on the first recesses and having a nanoscale width 을 포함하는 표시 장치용 차광층의 형성 방법.Method of forming a light shielding layer for a display device comprising a. 제13항에 있어서,The method of claim 13, 상기 제1 오목부와 상기 제2 오목부들 각각은 기둥, 일자형 벽, 격자형 벽 중 어느 하나의 모양으로 형성되고,Each of the first recess and the second recess is formed in the shape of any one of a pillar, a straight wall, and a grid wall. 상기 제1 오목부는 1㎛ 내지 20㎛의 폭을 가지며, 상기 제2 오목부들 각각은 50nm 내지 1㎛의 폭을 가지는 표시 장치용 차광층의 형성 방법.The first concave portion has a width of 1 μm to 20 μm, and each of the second concave portions has a width of 50 nm to 1 μm.
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