KR20110017246A - Touch-screen - Google Patents

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KR20110017246A
KR20110017246A KR1020090074814A KR20090074814A KR20110017246A KR 20110017246 A KR20110017246 A KR 20110017246A KR 1020090074814 A KR1020090074814 A KR 1020090074814A KR 20090074814 A KR20090074814 A KR 20090074814A KR 20110017246 A KR20110017246 A KR 20110017246A
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Abstract

PURPOSE: A touch screen is provided to omit a bonding process by a transparent adhesive, thereby providing advantage of shortening a manufacturing time, reducing a manufacturing original cost and increasing yield. CONSTITUTION: An upper indium tin oxide layer(32) includes a plurality of upper ITO patterns arranged in the first direction and is formed in lower surface of an upper substrate(31). An upper electrode(33) is formed in the edger of a lower surface of the upper ITO layer. A lower ITO layer(35) includes a plurality of lower ITO patterns in the second direction and is formed on upper surface of a lower substrate(34). A lower electrode(36) is formed to upper surface of edge of the lower ITO layer. A spacer(37) is formed between the upper ITO layer and the lower ITO layer.

Description

터치스크린{TOUCH-SCREEN}Touchscreen {TOUCH-SCREEN}

본 발명은 터치스크린에 관한 것으로, 특히 멀티터치가 가능한 터치스크린에 관한 것이다.The present invention relates to a touch screen, and more particularly to a touch screen capable of multi-touch.

일반적으로, 터치스크린(touch-screen)은 키보드를 사용하지 않고 화면(screen)에 나타난 문자나 특정 위치에 사람의 손끝 또는 기타 물체가 닿으면, 그 위치를 파악하여 저장된 소프트웨어에 의해 특정 처리를 할 수 있도록, 화면에서 직접 입력자료를 받을 수 있게 한 화면을 말한다.In general, the touch-screen is used to detect the position of a person's fingertips or other objects on a screen or a specific position without using a keyboard, and to detect the position and perform specific processing by the stored software. This is a screen that allows you to receive input data directly from the screen.

터치스크린의 종류로는 저항막 방식(resistive overlay), 정전용량 방식(capacitive overlay), 표면 초음파 방식(surface acoustic wave) 및 적외선 방식(infrared beam) 등이 있다. Types of touch screens include resistive overlay, capacitive overlay, surface acoustic wave, and infrared beam.

저항막 방식은 유리나 투명한 플라스틱판 위에 저항성분의 물질을 코팅하고 그 위에 폴리에스틸렌 필름을 덮어씌운 형태로, 두 면이 서로 닿지 않도록 일정한 간격으로 스페이서(spacer)가 설치되어 있는데, 손으로 접촉 시 이 두 면이 서로 접촉하게 되고 이때 저항값이 변화하게 되며 이에 따라 전압도 변화하게 되는데 이러한 전압의 변화 정도로 터치포인트(touch point)를 인식하는 방식이다.The resistive film is formed by coating a resistive material on a glass or transparent plastic plate and covering a polyester film on it. Spacers are installed at regular intervals so that the two surfaces do not touch each other. These two surfaces come into contact with each other, and the resistance value changes, and accordingly, the voltage also changes. This method recognizes a touch point as much as the voltage changes.

정전용량 방식은 유리 양면에 투명한 특수 전도성 금속을 코팅하여 터치스크린의 네 모퉁이에 전압을 걸어주면 터치스크린 표면에 전자기장이 형성되고, 손가락 접촉시 변화된 전자기장 차이를 컨트롤러에서 분석하여 터치포인트를 인식하는 방식이다.In the capacitive method, a special conductive metal is coated on both sides of the glass to apply voltage to the four corners of the touch screen to form an electromagnetic field on the surface of the touch screen. to be.

터치스크린은 정밀도가 높지는 않지만, 키보드가 필요 없고 조작이 간단하기 때문에 대중들이 많이 이용하는 장소 즉, 지하철, 백화점, 은행 등의 장소에서 안내용 소프트웨어에 많이 이용되며, 각종 점포에서 판매용 단말기에도 많이 응용될 뿐만 아니라, 일반 업무용으로도 활용되고 있다.Although the touch screen is not highly accurate, it does not require a keyboard and is simple to operate, so it is widely used for guidance software in places commonly used by the masses, such as subways, department stores, banks, etc. It is also used for general business purposes.

한편, 멀티터치(multi-touch)란 사용자가 터치스크린을 사용할 때 여러 개의 손가락 끝을 통해서 여러 개의 터치포인트를 동시에 인식할 수 있도록 하는 기술로서, 종래의 한 개의 터치포인트만을 인식하는 터치스크린과 비교하여 다양한 멀티미디어 기기와 더욱 다양한 상호작용을 제공할 수 있도록 한다.On the other hand, multi-touch (multi-touch) is a technology that allows the user to recognize multiple touch points at the same time through the fingertips when using the touch screen, compared to the conventional touch screen that recognizes only one touch point To provide a wider variety of interactions with a variety of multimedia devices.

도 1은 종래의 저항막 방식 터치스크린의 측단면도이다.1 is a side cross-sectional view of a conventional resistive touch screen.

도 1에 도시된 바와 같이, 종래의 저항막 방식 터치스크린은 상부기판(101), 상기 상부기판(101)의 하면에 OCA(103, Optically Clear Adhesive, 투명접착제)를 이용해 접착된 상부 ITO 층(102, Indium Tin Oxide film), 상기 상부 ITO 층(102)의 하면 가장자리에 형성되는 상부 전극(104), 하부기판(105), 상기 하부기판(105) 의 상면에 OCA(107)를 이용해 접착된 하부 ITO 층(106), 상기 하부 ITO 층(106)의 상면 가장자리에 형성되는 하부 전극(108), 상기 상부 ITO 층(102) 및 상기 하부 ITO 층(106) 사이에 형성된 스페이서(109)를 포함하고, 상기 상부 전극(104)의 하면 및 상기 하부 전극(108)의 상면이 접착제(110)에 의해 서로 접착되어 형성된다.As shown in FIG. 1, the conventional resistive touch screen includes an upper substrate 101, an upper ITO layer adhered to the lower surface of the upper substrate 101 using an optically clear adhesive (OCA) 103 ( 102, an indium tin oxide film), and the upper electrode 104 formed on the bottom edge of the upper ITO layer 102, the lower substrate 105, and adhered to the upper surface of the lower substrate 105 using an OCA 107. A lower ITO layer 106, a lower electrode 108 formed at an upper edge of the lower ITO layer 106, and a spacer 109 formed between the upper ITO layer 102 and the lower ITO layer 106. The lower surface of the upper electrode 104 and the upper surface of the lower electrode 108 are formed by being bonded to each other by the adhesive 110.

그러나, 종래의 저항막 방식 터치스크린에서 OCA(103, 107) 접착 공정 시, 기포 발생 및 이물질 침투 등이 발생하여 공정 수율이 감소되는 문제가 있다. 또한 종래의 저항막 방식 터치스크린에서는 외부의 압력에 의해 상기 상부 ITO 층(102) 및 하부 ITO 층(106)의 전기적인 연결에 의한 저항값의 변화를 측정하여, 이를 토대로 터치포인트를 인식하기 때문에 단 하나의 터치포인트만을 인식할 수 있을 뿐, 둘 이상의 터치포인트를 인식하는 멀티터치 인식 기능을 갖지 못하는 문제가 있다.However, the OCA (103, 107) bonding process in the conventional resistive touch screen, there is a problem that the process yield is reduced due to the generation of bubbles and foreign matter penetration. In addition, in the conventional resistive touch screen, a change in resistance value due to electrical connection between the upper ITO layer 102 and the lower ITO layer 106 is measured by external pressure, and thus the touch point is recognized based on this. Only one touch point can be recognized, and there is a problem in that it does not have a multi-touch recognition function for recognizing two or more touch points.

도 2는 종래의 정전용량 방식 터치스크린의 측단면도이다.2 is a side cross-sectional view of a conventional capacitive touch screen.

도 2에 도시된 바와 같이, 종래의 정전용량 방식 터치스크린은 상부기판(21), 상기 상부기판(21)의 하면에 OCA(22)에 의해 접착되는 상부 ITO 층(23), 상기 상부 ITO 층(23)의 하면에 형성되는 글래스 센서(24, Glass sensor), 상기 글래스 센서(24)의 하면에 형성되는 하부 ITO 층(23), 상기 하부 ITO 층(25)의 하면에 OCA(26)에 의해 접착되는 하부기판(27)으로 형성된다.As shown in FIG. 2, the conventional capacitive touch screen includes an upper ITO layer 23 and an upper ITO layer 23 adhered to the lower surface of the upper substrate 21 by an OCA 22. The glass sensor 24 formed on the lower surface of the 23, the lower ITO layer 23 formed on the lower surface of the glass sensor 24, and the OCA 26 on the lower surface of the lower ITO layer 25. It is formed of a lower substrate 27 is bonded by.

그러나, 종래의 정전용량 방식 터치스크린에서도 ITO 층(23, 25)을 상부기판(21) 및 하부기판(27)과 OCA(22, 26)를 이용하여 접착해야 하기 때문에 공정 수율이 감소되는 문제가 있다. 또한, 상기 상부 및 하부 ITO 층(23, 25)에 전압을 인 가하기 위한 전극 형성시, 스크린 프린트 및 레이저를 사용하기 때문에 선폭 및 두께가 상대적으로 커서 데드스페이스(dead space)안에서 채널 수 제한이 생기고, 제품의 슬림(slim)화에 대한 방해요인이 되는 문제가 있다.However, even in the conventional capacitive touch screen, the process yield is reduced because the ITO layers 23 and 25 must be bonded using the upper substrate 21 and the lower substrate 27 and the OCAs 22 and 26. have. In addition, when forming electrodes for applying voltages to the upper and lower ITO layers 23 and 25, screen printing and lasers are used, so the line width and thickness are relatively large, resulting in a limited number of channels in dead space. There is a problem that becomes an obstacle to slimming of the product.

상기와 같은 문제점을 해결하기 위한 본 발명의 목적은, 투명 플레이트 상면에 증착용 지그(jig)를 이용하여 ITO 패턴 및 전극 패턴을 형성함으로써, 제조 시간 단축, 제조 원가 절감 및 수율을 증가시킬 수 있으며, 복수의 터치포인트를 동시에 인식할 수 있는 터치스크린을 제공함에 있다.An object of the present invention for solving the above problems, by forming the ITO pattern and the electrode pattern by using a jig for deposition on the upper surface of the transparent plate, it is possible to shorten the manufacturing time, reduce the manufacturing cost and increase the yield The present invention provides a touch screen capable of simultaneously recognizing a plurality of touch points.

상기 목적을 달성하기 위한 본 발명의 대표적인 일 실시 예에 따르면, 저항막 방식의 터치스크린은 상부기판, 상기 상부기판의 하면에 형성되며, 제 1방향으로 배열된 복수의 상부 ITO 패턴들을 갖는 상부 ITO 층, 상기 상부 ITO 층의 하면 가장자리에 형성되며, 상기 복수의 상부 ITO 패턴들의 일단에 각각 전기적으로 연결된 상부 전극 패턴들을 갖는 상부 전극, 하부기판, 상기 하부기판의 상면에 형성되며, 상기 제 1방향과 다른 제 2방향으로 배열된 복수의 하부 ITO 패턴들을 갖는 하부 ITO 층, 상기 하부 ITO 층의 상면 가장자리에 형성되며, 상기 복수의 하부 ITO 패턴들의 일단에 각각 전기적으로 연결된 하부 전극 패턴들을 갖는 하부 전극 및 상기 상부 ITO 층 및 상기 하부 ITO 층 사이에 형성된 스페이서를 포함하고, 상기 상부 전극의 하면 및 상기 하부 전극의 상면이 서로 접착되는 것을 특징으로 한다.According to an exemplary embodiment of the present invention for achieving the above object, a resistive touch screen is formed on an upper substrate, a lower surface of the upper substrate, and an upper ITO having a plurality of upper ITO patterns arranged in a first direction. And an upper electrode, a lower substrate, and an upper surface of the lower substrate, the upper electrode pattern being formed at an edge of a lower surface of the upper ITO layer and having upper electrode patterns electrically connected to one ends of the plurality of upper ITO patterns, respectively. A lower ITO layer having a plurality of lower ITO patterns arranged in a second direction different from the lower electrode; a lower electrode formed at an upper edge of the lower ITO layer, and having lower electrode patterns electrically connected to one ends of the lower ITO patterns, respectively; And a spacer formed between the upper ITO layer and the lower ITO layer, the lower surface of the upper electrode and the lower electrode. It characterized in that the upper surface is adhered to each other.

또한, 본 발명의 일 실시 예에 따르면, 저항막 방식의 터치스크린은 상기 상 부 ITO 패턴들은 상기 상부 기판의 하면에 증착용 지그(jig)를 사용하여 스퍼터링 공정에 의해 패터닝되고, 상기 상부 전극 패턴들은 상기 상부 ITO 층의 하면 가장자리에 증착용 지그를 사용하여 스퍼터링 공정에 의해 패터닝되며, 상기 하부 ITO 패턴들은 상기 하부 기판의 상면에 증착용 지그를 사용하여 스퍼터링 공정에 의해 패터닝되고, 상기 하부 전극 패턴들은 상기 하부 ITO 층의 상면 가장자리에 증착용 지그를 사용하여 스퍼터링 공정에 의해 패터닝되는 것을 특징으로 한다.In addition, according to an embodiment of the present invention, in the resistive touch screen, the upper ITO patterns are patterned by a sputtering process using a jig for deposition on the lower surface of the upper substrate, and the upper electrode pattern Are patterned by a sputtering process using a deposition jig at a bottom edge of the upper ITO layer, and the lower ITO patterns are patterned by a sputtering process using a deposition jig at an upper surface of the lower substrate, and the lower electrode pattern They are patterned by a sputtering process using a deposition jig at the top edge of the lower ITO layer.

또한, 본 발명의 다른 실시 예에 따르면, 정전용량 방식의 터치스크린은 상기 상부기판의 하면에 형성되며, 제 1방향으로 배열된 복수의 상부 ITO 패턴들을 갖는 상부 ITO 층, 상기 상부 ITO 층의 가장자리에 형성되며, 상기 복수의 상부 ITO 패턴들의 일단에 각각 전기적으로 연결된 상부 전극 패턴들을 갖는 상부 전극, 상기 상부 ITO 층 및 상기 상부 전극의 하면에 형성된 상부 SiO2 층, 상기 상부 SiO2 층의 하면에 형성되며, 상기 제 1방향과 다른 제 2방향으로 배열된 복수의 하부 ITO 패턴들을 갖는 하부 ITO 층, 상기 하부 ITO 층의 가장자리에 형성되며, 상기 복수의 하부 ITO 패턴들의 일단에 각각 전기적으로 연결된 하부 전극 패턴들을 갖는 하부 전극 및 상기 하부 ITO 층 및 상기 하부 전극의 하면에 접착되는 디스플레이 패널을 포함하는 것을 특징으로 한다.In addition, according to another embodiment of the present invention, the capacitive touch screen is formed on the lower surface of the upper substrate, the upper ITO layer having a plurality of upper ITO patterns arranged in the first direction, the edge of the upper ITO layer formed in, on the lower surface of the upper SiO 2 layer, and the upper SiO 2 layer formed on the upper electrode, wherein the top ITO layer and a lower surface of the upper electrode having each electrically connected to the upper electrode pattern on one of the plurality of upper ITO pattern A lower ITO layer having a plurality of lower ITO patterns arranged in a second direction different from the first direction, and formed at an edge of the lower ITO layer and electrically connected to one end of the plurality of lower ITO patterns, respectively; And a display panel adhered to a lower electrode having electrode patterns and a lower ITO layer and a lower surface of the lower electrode.

나아가, 본 발명의 일 실시 예에 따르면, 상기 하부 ITO 층 및 상기 하부 전극의 하면에 하부 SiO2 층이 형성되고, 상기 하부 SiO2 층의 하면과 상기 디스플레이 패널의 상면은 투명접착제 또는 자외선 레진으로 접착되는 것을 특징으로 한다.Furthermore, according to an embodiment of the present invention, a lower SiO 2 layer is formed on the lower ITO layer and the lower electrode, and the lower surface of the lower SiO 2 layer and the upper surface of the display panel are made of a transparent adhesive or an ultraviolet resin. It is characterized in that the adhesive.

또한, 본 발명의 일 실시 예에 따르면, 상기 상부 ITO 패턴들 및 상기 상부 전극 패턴들은 상기 상부 기판의 하면에 증착용 지그를 사용하여 스퍼터링 공정에 의해 패터닝되고, 상기 하부 ITO 패턴들 및 상기 하부 전극 패턴들은 상기 상부 SiO2 층의 하면에 증착용 지그를 사용하여 스퍼터링 공정에 의해 패터닝되는 것을 특징으로 한다.Further, according to an embodiment of the present disclosure, the upper ITO patterns and the upper electrode patterns are patterned by a sputtering process using a deposition jig on a lower surface of the upper substrate, and the lower ITO patterns and the lower electrode The patterns are patterned by a sputtering process using a deposition jig on the lower surface of the upper SiO 2 layer.

본 발명에 따르면, 저항막 방식 및 정전용량 방식의 터치스크린을 제조함에 있어, 투명 플레이트 상면에 증착용 지그(jig)를 이용하여 스퍼터링 공정에 의해 곧바로 ITO 층 및 전극을 패터닝하여 투명접착제에 의한 접착 공정을 생략함으로써, 제조 시간 단축, 제조 원가 절감 및 수율 증가의 이점이 있으며, 저항막 방식의 터치스크린 및 정전용량 방식의 터치스크린에서 모두 멀티 터치 기능이 가능하도록 하는 이점이 있다.According to the present invention, in manufacturing a resistive touch screen and a capacitive touch screen, an ITO layer and an electrode are patterned directly by a sputtering process using a deposition jig on an upper surface of a transparent plate to be bonded by a transparent adhesive. By omitting the process, there is an advantage of shortening the manufacturing time, reducing the manufacturing cost and increasing the yield, there is an advantage to enable the multi-touch function in both the resistive touch screen and capacitive touch screen.

하기에서 본 발명을 설명함에 있어 관련된 공지 기능 또는 구성에 대한 구체적인 설명이 본 발명의 요지를 불필요하게 흐릴 수 있다고 판단되는 경우에는 그 상세한 설명을 생략할 것이다.In the following description of the present invention, detailed descriptions of well-known functions or configurations will be omitted if it is determined that the detailed description of the present invention may unnecessarily obscure the subject matter of the present invention.

이하에서는 본 발명에 따른 터치스크린에 대하여 도면을 참조하여 상세히 설 명하도록 한다.Hereinafter, a touch screen according to the present invention will be described in detail with reference to the accompanying drawings.

도 3은 본 발명의 제 1 실시 예에 따른 저항막 방식(resistive layer) 터치스크린의 단면도이다.3 is a cross-sectional view of a resistive touch screen according to the first embodiment of the present invention.

도 3에 도시된 바와 같이, 저항막 방식의 터치스크린에서, 상부기판(31) 및 하부기판(34)의 일면에 ITO 층(32, 35) 및 전극(33, 36)을 형성하는 공정에 있어서, 종래의 OCA(Optically Clear Adhesive, 투명접착제) 접착공정을 이용하여 상부기판(31) 및 하부기판(34)의 일면과 ITO 층(32, 35) 및 전극(33, 36)을 접착하는 공정을 생략하는 대신, 상부 기판(31) 및 하부 기판(34)에 ITO(Indium Tin Oxide film) 패턴(pattern) 및 전극(electrode) 패턴을 직접 패터닝(patterning)하는 공정을 이용하여 형성된다.As shown in FIG. 3, in the resistive touch screen, in the process of forming the ITO layers 32 and 35 and the electrodes 33 and 36 on one surface of the upper substrate 31 and the lower substrate 34. The process of adhering the ITO layers 32 and 35 and the electrodes 33 and 36 to one surface of the upper substrate 31 and the lower substrate 34 using a conventional OCA (Optically Clear Adhesive) bonding process is performed. Instead, the upper substrate 31 and the lower substrate 34 are formed using a process of directly patterning an indium tin oxide film (ITO) pattern and an electrode pattern.

상부기판(31)은 폴리카보네이트(Polycarbonate), 글라스(glass) 또는 폴리에틸렌 테레프트레이트(Poly Ethylene Terephthalate)와 같은 재질의 투명 재질로 형성될 수 있다. 상기 상부기판(31)의 하면에 상부 ITO 패턴들을 패터닝하여 상부 ITO 층(32)을 형성하고, 패터닝된 상기 상부 ITO 패턴들에 전압을 인가하도록 전극(electrode) 패턴들을 패터닝하여 상부 전극(33)을 형성한다. The upper substrate 31 may be formed of a transparent material made of a material such as polycarbonate, glass, or polyethylene terephthalate. The upper ITO patterns 32 are patterned on the bottom surface of the upper substrate 31 to form the upper ITO layer 32, and the electrode patterns are patterned to apply voltage to the patterned upper ITO patterns. To form.

또한, 상기 하부기판(34)은 폴리카보네이트, 글라스 또는 폴리에틸렌 테레프트레이트와 같은 재질의 투명 플레이트로 형성될 수 있다. 상기 하부기판(34)의 상면에 ITO 패턴들을 패터닝하여 하부 ITO 층(35)을 형성하고, 상기 하부 ITO 패턴들에 전압이 인가되도록 하부 전극 패턴들을 패터닝하여 하부 전극(36)을 형성한다. In addition, the lower substrate 34 may be formed of a transparent plate made of a material such as polycarbonate, glass, or polyethylene tererate. The lower ITO layer 35 is formed by patterning ITO patterns on the upper surface of the lower substrate 34, and the lower electrode patterns are formed by patterning the lower electrode patterns so that voltage is applied to the lower ITO patterns.

또한, 본 발명의 일 실시 예에 따르면, 상기 상부 ITO 패턴들, 상기 하부 ITO 패턴들, 상기 상부 전극 패턴들 및 상기 하부 전극 패턴들을 패터닝하는 공정으로 스퍼터링(sputtering) 공정을 이용할 수 있다. 스퍼터링 공정을 이용하여 상기 상부 전극 패턴들 및 상기 하부 전극 패턴들을 패터닝함으로써, 선폭을 미세하게 구현할 수 있어서, 종래 기술에 비하여 데드스페이스(dead space)안에서 채널 수를 증가시킬 수 있어서, 보다 정밀하고 슬림한 터치스크린을 구현할 수 있다. 또한, 상기 상부 ITO 패턴들, 상기 하부 ITO 패턴들, 상기 상부 전극 패턴들 및 상기 하부 전극 패턴들을 패터닝하는 공정으로 리소그래피 공정을 이용할 수 있으며, 상기 ITO 패턴들에 전압을 인가하기 위한 상기 전극 패턴들로 은(silver)을 사용할 수 있다. In addition, according to an embodiment of the present invention, a sputtering process may be used as a process of patterning the upper ITO patterns, the lower ITO patterns, the upper electrode patterns, and the lower electrode patterns. By patterning the upper electrode patterns and the lower electrode patterns using a sputtering process, a line width can be realized finely, so that the number of channels can be increased in a dead space as compared to the prior art, thereby making it more precise and slim. One touch screen can be implemented. In addition, a lithography process may be used to pattern the upper ITO patterns, the lower ITO patterns, the upper electrode patterns, and the lower electrode patterns, and the electrode patterns for applying a voltage to the ITO patterns. Silver can be used.

또한, 터치스크린에 대한 외부의 압력이 가해지지 않을 때에는, 상기 상부 ITO 층의 상기 상부 ITO 패턴들 및 상기 하부 ITO 층의 상기 하부 ITO 패턴들이 전기적으로 서로 접촉되지 않도록 상기 하부 ITO 층의 상면에 스페이서(37, spacer)가 형성된다.In addition, when no external pressure is applied to the touch screen, the spacer is disposed on an upper surface of the lower ITO layer such that the upper ITO patterns of the upper ITO layer and the lower ITO patterns of the lower ITO layer are not electrically contacted with each other. (37, spacer) is formed.

최종적으로, 상기 상부 전극(33)의 하면 및 상기 하부 전극(36)의 상면이 접착제에 의해 접착됨으로써 상기 저항막 방식의 터치스크린이 형성된다. 상기한 바와 같이, 투명 접착제를 이용하지 않음으로써, 접착 공정 중 발생할 수 있는 기포 등의 이물질 침투로 인한 공정 수율 감소 문제 및 공정 비용 상승 문제를 회피할 수 있으며, 터치스크린의 슬림(slim)화에 기여할 수 있는 장점이 있다.Finally, the bottom surface of the upper electrode 33 and the top surface of the lower electrode 36 are bonded by an adhesive to form a resistive touch screen. As described above, by not using a transparent adhesive, it is possible to avoid a process yield reduction problem and a process cost increase problem due to the infiltration of foreign matter such as bubbles that may occur during the bonding process, and to reduce the slimness of the touch screen. There is an advantage to contribute.

도 4는 본 발명의 제 2 실시 예에 따른 정전용량 방식(capacitive layer) 터치스크린의 단면도이다.4 is a cross-sectional view of a capacitive layer touch screen according to a second embodiment of the present invention.

도 4에 도시된 바와 같이, 정전용량 방식의 터치스크린은 상부기판(41), 상기 상부기판(41)의 하면에 패터닝된 상부 ITO 패턴들을 갖는 상부 ITO 층(42), 상기 상부 ITO 층의 가장자리에 패터닝된 상부 전극 패턴들을 갖는 상부 전극(43), 상기 상부 ITO 층(42)과 상기 상부 전극(43)의 하면에 형성된 상부 SiO2 층(44), 상기 상부 SiO2 층(44)의 하면에 패터닝된 하부 ITO 패턴들을 갖는 하부 ITO 층(45), 상기 하부 ITO 층(45)의 가장자리에 패터닝된 하부 전극 패턴들을 갖는 하부 전극(46) 및 상기 하부 ITO 층(45)과 상기 하부 전극(46)의 하면에 접착된 디스플레이 패널(48)을 포함한다. As shown in FIG. 4, the capacitive touch screen includes an upper substrate 41, an upper ITO layer 42 having upper ITO patterns patterned on a lower surface of the upper substrate 41, and an edge of the upper ITO layer. An upper electrode 43 having upper electrode patterns patterned thereon, an upper SiO 2 layer 44 formed on the upper ITO layer 42 and a lower surface of the upper electrode 43, and a lower surface of the upper SiO 2 layer 44 A lower ITO layer 45 having lower ITO patterns patterned thereon, a lower electrode 46 having lower electrode patterns patterned at an edge of the lower ITO layer 45, and the lower ITO layer 45 and the lower electrode ( And a display panel 48 bonded to the bottom surface of the base 46.

상기 상부기판(41)은 폴리카보네이트, 글라스 또는 폴리에틸렌 테레프트레이트와 같은 투명 재질로 형성될 수 있다. 또한, 본 발명의 일 실시 예에 따르면, 상기 상부기판(41)의 하면에 상기 상부 ITO 패턴들과 상기 상부 전극 패턴들을 패터닝하는 공정 및 상기 상부 SiO2 절연층(44)의 하면에 상기 하부 ITO 패턴들과 상기 하부 전극 패턴들을 패터닝하는 공정으로 스퍼터링 공정을 이용할 수 있다. 스퍼터링 공정을 이용하여 상기 상부 전극 패턴들 및 상기 하부 전극 패턴들을 패터닝함으로써, 선폭을 미세하게 구현할 수 있어서, 종래 기술에 비하여 데드스페이스(dead space)안에서 채널 수를 증가시킬 수 있어서, 보다 정밀하고 슬림한 터치스크린을 구현할 수 있다. 또한, 상기 상부 ITO 패턴들, 상기 하부 ITO 패턴들, 상 기 상부 전극 패턴들 및 상기 하부 전극 패턴들을 패터닝하는 공정으로 리소그래피 공정을 이용할 수 있으며, 상기 ITO 패턴들에 전압을 인가하기 위한 상기 전극 패턴들로 은(silver)을 사용할 수 있다.The upper substrate 41 may be formed of a transparent material such as polycarbonate, glass or polyethylene tererate. In addition, according to an embodiment of the present invention, a process of patterning the upper ITO patterns and the upper electrode patterns on the lower surface of the upper substrate 41 and the lower ITO on the lower surface of the upper SiO 2 insulating layer 44 A sputtering process may be used as a process of patterning the patterns and the lower electrode patterns. By patterning the upper electrode patterns and the lower electrode patterns using a sputtering process, a line width can be realized finely, so that the number of channels can be increased in a dead space as compared to the prior art, thereby making it more precise and slim. One touch screen can be implemented. In addition, a lithography process may be used to pattern the upper ITO patterns, the lower ITO patterns, the upper electrode patterns, and the lower electrode patterns, and the electrode pattern for applying a voltage to the ITO patterns. You can use silver as a furnace.

또한, 본 발명의 다른 실시 예에 따르면, 상기 정전용량 방식의 터치스크린에서 상기 상부 SiO2 절연층(44)의 하면에 패터닝된 상기 하부 ITO 층(45) 및 상기 하부 전극(46)의 하면에 하부 SiO2 절연층(47)을 형성하고, 상기 하부 SiO2 절연층(47)을 상기 디스플레이 패널(48)과 투명접착제 또는 자외선 레진(UV resin)을 이용하여 접착함으로써 정전용량 방식의 터치스크린을 형성할 수 있다. 상기 디스플레이 패널(48)로는 LCD(Liquid Crystal Display) 또는 OLED(Organic Light Emitting Diodes)가 될 수 있다.According to another embodiment of the present invention, the lower ITO layer 45 and the lower electrode 46 patterned on the lower surface of the upper SiO 2 insulating layer 44 in the capacitive touch screen. The lower SiO 2 insulating layer 47 is formed, and the lower SiO 2 insulating layer 47 is bonded to the display panel 48 by using a transparent adhesive or an ultraviolet resin (UV resin) to form a capacitive touch screen. Can be formed. The display panel 48 may be a liquid crystal display (LCD) or organic light emitting diodes (OLED).

도 5는 ITO 패턴을 패터닝하기 위해 기판 상면에 증착 지그(51, jig)가 셋팅된 상태를 개략적으로 도시한 평면도이다. FIG. 5 is a plan view schematically illustrating a state in which deposition jig 51 and jig are set on an upper surface of a substrate to pattern an ITO pattern.

도 5에 도시된 바와 같이, 스퍼터링 공정에 의해 상기 증착 지그(51)의 패턴에 따라 빈 공간인 open 패턴(53)에 ITO 층이 패터닝된다. 또한, 상기 증착 지그(51)의 패턴은 다양하게 변형될 수 있다. 예를 들면, 도 5에 도시된 바와 같은 증착 지그(51)를 이용하여 기판의 수직방향으로 복수의 ITO 패턴들을 형성할 수 있다. 상기 ITO 패턴에 전압을 인가하는 전극 패턴을 패터닝하는 공정도 스퍼터링 공정에 의해 전극 패턴용 증착 지그를 이용하여 다양하게 패터닝할 수 있다.As shown in FIG. 5, an ITO layer is patterned in an open pattern 53 which is an empty space according to the pattern of the deposition jig 51 by a sputtering process. In addition, the pattern of the deposition jig 51 may be variously modified. For example, a plurality of ITO patterns may be formed in the vertical direction of the substrate using the deposition jig 51 as illustrated in FIG. 5. A process of patterning an electrode pattern applying a voltage to the ITO pattern may also be variously patterned by using a deposition jig for an electrode pattern by a sputtering process.

또한, 상기 ITO 패턴 및 전극 패턴들을 패터닝하기 위한 스퍼터링 공정으로 PVD(Physical Vapor Deposition), CVD(Chemical Vapor Deposition) 또는 PECVD(Plasma-Ehanced Chemical Vapor Deposition) 등의 공정을 이용할 수 있다. 즉, 패터닝할 패턴이 형성되어 있는 지그(mask)를 기판의 일면에 밀착시킨 후, 고진공 상태에서 ITO 또는 전극으로 사용할 물질을 증발시켜 지그의 패턴에 따라 상기 기판의 일면에 일정한 ITO 패턴 또는 전극 패턴을 형성할 수 있다. 선택적으로, 상기 상부기판의 하면에 상기 상부 ITO 패턴들을 패터닝하는 공정 및 상기 상부 ITO 층의 하면에 상기 상부 전극 패턴들을 패터닝하는 공정에는 리소그래피(lithography) 공정이 이용될 수 있다.In addition, a sputtering process for patterning the ITO pattern and the electrode patterns may use a process such as PVD (Physical Vapor Deposition), CVD (Chemical Vapor Deposition) or PECVD (Plasma-Ehanced Chemical Vapor Deposition). In other words, a jig (mask) having a pattern to be patterned is closely adhered to one surface of the substrate, and then a material for use as an ITO or an electrode is evaporated in a high vacuum state, and a uniform ITO pattern or electrode pattern is formed on one surface of the substrate according to the jig pattern. Can be formed. Optionally, a lithography process may be used to process the upper ITO patterns on the lower surface of the upper substrate and to pattern the upper electrode patterns on the lower surface of the upper ITO layer.

도 6은 기판 상면에 ITO 패턴을 패터닝하는 단계를 개략적으로 도시한 도면이다.6 is a view schematically illustrating a step of patterning an ITO pattern on an upper surface of a substrate.

도 6에 도시된 바와 같이, 기판(61, substrate)의 일면에 ITO 패턴을 패터닝하는 방법은 상기 기판(61)의 일면에 증착 지그(51)를 셋팅하는 단계(6a), ITO 증착타겟(63)으로 상기 증착 지그(51) 및 open 패턴(53) 영역에 스퍼터링하는 단계(6b) 및 상기 증착 지그(51)를 상기 기판(61)으로부터 제거하여 상기 ITO 패턴을 형성하는 단계(6c)를 포함한다. As shown in FIG. 6, a method of patterning an ITO pattern on one surface of a substrate 61 may include setting a deposition jig 51 on one surface of the substrate 61 and an ITO deposition target 63. Sputtering (6b) the deposition jig 51 and the open pattern 53 region with the (6b) and removing the deposition jig 51 from the substrate 61 to form the ITO pattern (6c) do.

또한, 상기 ITO 패턴에 전압을 인가하는 전극 패턴을 패터닝하는 방법도 상기 기판(61)의 일면에 전극 패턴용 증착 지그를 셋팅하는 단계, 전극 패턴용 증착타겟으로 상기 전극 패턴용 증착 지그 및 open 패턴 영역에 스퍼터링하는 단계 및 상기 전극 패턴용 증착 지그를 상기 기판으로부터 제거하여 상기 전극 패턴을 형성하는 단계를 포함한다.In addition, a method of patterning an electrode pattern for applying a voltage to the ITO pattern may also include setting a deposition jig for forming an electrode pattern on one surface of the substrate 61, a deposition jig for forming an electrode pattern, and an open pattern as a deposition target for an electrode pattern. Sputtering a region and removing the deposition jig for the electrode pattern from the substrate to form the electrode pattern.

도 7 내지 도 9는 저항막 방식의 터치스크린에서 패터닝된 ITO 패턴 및 전극 패턴을 도시한 도면이다.7 to 9 illustrate an ITO pattern and an electrode pattern patterned on a resistive touch screen.

도 7a는 본 발명의 일 실시 예에 따라, 상기 상부기판(31)의 하면에 패터닝된 상기 상부 ITO 패턴들 중 한 단위의 상부 ITO 패턴(71)을 도시하고 있다. 복수의 상기 한 단위의 상부 ITO 패턴(71)들이 제 1방향(예를 들어, 수평 방향)으로 배열되어 있으며, 패턴의 형상은 다양하게 변형될 수 있다.FIG. 7A illustrates an upper ITO pattern 71 of one unit of the upper ITO patterns patterned on a lower surface of the upper substrate 31, according to an exemplary embodiment. The upper ITO patterns 71 of the plurality of units are arranged in the first direction (eg, the horizontal direction), and the shape of the pattern may be variously modified.

도 7b는 본 발명의 일 실시 예에 따라, 상기 상부기판(31)의 하면에 패터닝된 상부 전극 패턴(75)들을 도시하고 있다. 각각의 상기 상부 전극 패턴(75)의 일단은 상기 한 단위의 상부 ITO 패턴(71)의 일단에 전기적으로 연결되어 있으며, 상기 상부 전극 패턴(75)의 타단은 터치패드의 외부로부터 전압을 인가받기 위해 전기적으로 연결되는 전극패드(73)와 연결된다. 또한, 상기 상부 전극 패턴(75)들의 형상은 다양하게 변형될 수 있다.FIG. 7B illustrates upper electrode patterns 75 patterned on a lower surface of the upper substrate 31, according to an exemplary embodiment. One end of each upper electrode pattern 75 is electrically connected to one end of the upper ITO pattern 71 of the unit, and the other end of the upper electrode pattern 75 receives a voltage from the outside of the touch pad. It is connected to the electrode pad 73 is electrically connected to. In addition, the shape of the upper electrode patterns 75 may be variously modified.

도 8a는 본 발명의 일 실시 예에 따라, 상기 하부기판(34)의 상면에 패터닝된 상기 하부 ITO 패턴들 중 한 단위의 하부 ITO 패턴(81)을 도시하고 있다. 복수의 상기 한 단위의 하부 ITO 패턴(81)들이 상기 상부 ITO 패턴들이 배열된 방향과 다른 방향인 제 2방향(예를 들어, 수직 방향)으로 배열되어 있으며, 패턴의 형상은 다양하게 변형될 수 있다.FIG. 8A illustrates a lower ITO pattern 81 of one unit of the lower ITO patterns patterned on an upper surface of the lower substrate 34, according to an exemplary embodiment. The plurality of lower unit ITO patterns 81 of the unit are arranged in a second direction (for example, a vertical direction) that is different from the direction in which the upper ITO patterns are arranged, and the shape of the pattern may be variously modified. have.

도 8b는 본 발명의 일 실시 예에 따라, 상기 하부기판(34)의 상면에 패터닝된 하부 전극 패턴(85)들을 도시하고 있다. 각각의 상기 하부 전극 패턴(85)의 일단은 상기 한 단위의 하부 ITO 패턴(81)의 일단에 전기적으로 연결되어 있으며, 상기 하부 전극 패턴(85)의 타단은 터치패드의 외부로부터 전압을 인가받기 위해 전기적으로 연결되는 전극패드(83)와 연결된다. 또한, 상기 하부 전극 패턴(85)들의 형상은 다양하게 변형될 수 있다.FIG. 8B illustrates lower electrode patterns 85 patterned on an upper surface of the lower substrate 34, according to an exemplary embodiment. One end of each lower electrode pattern 85 is electrically connected to one end of the lower ITO pattern 81 of the unit, and the other end of the lower electrode pattern 85 receives a voltage from the outside of the touch pad. It is connected to the electrode pad 83 is electrically connected to. In addition, the shape of the lower electrode patterns 85 may be variously modified.

도 9는 각각 ITO 패턴 및 전극 패턴들이 패터닝된 상기 상부기판(31) 및 상기 하부기판(34)을 상기 스페이서(37)를 사이에 두고, 패터닝된 면들이 대면하도록 상기 상부기판(31)의 하면의 가장자리와 상기 하부기판(34)의 상면의 가장자리를 접착한 형상을 도시하고 있다. 외부의 압력이 터치스크린에 작용하지 않을 때에는 상기 스페이서(37)에 의해 상기 상부 ITO 패턴 및 상기 하부 ITO 패턴이 전기적으로 연결되지 않지만, 손가락 또는 펜 등으로 터치스크린의 표면에 압력을 가하면 상기 스페이서(37)가 수축하게 되어 상기 상부 ITO 패턴 및 상기 하부 ITO 패턴이 전기적으로 연결된다. 따라서, 각각의 ITO 패턴의 좌표를 저장하고 있는 제어부에 의해 상기 외부의 압력에 의한 ITO 패턴의 전기적인 연결이 있는 터치포인트를 인식하게 된다.9 shows the upper substrate 31 and the lower substrate 34 on which the ITO pattern and the electrode patterns are patterned, respectively, with the spacer 37 interposed therebetween, and the lower surface of the upper substrate 31 so that the patterned surfaces face each other. The shape of the edge of the upper substrate and the edge of the upper surface of the lower substrate 34 is bonded. When the external pressure does not act on the touch screen, the upper ITO pattern and the lower ITO pattern are not electrically connected by the spacer 37. However, when pressure is applied to the surface of the touch screen with a finger or a pen, the spacer ( 37) is contracted to electrically connect the upper ITO pattern and the lower ITO pattern. Therefore, the control unit which stores the coordinates of each ITO pattern recognizes the touch point with the electrical connection of the ITO pattern by the external pressure.

또한, 저항막 방식의 터치스크린의 작동 원리에 있어서, 종래 방식은 외부의 접촉에 의한 저항값의 변화에 따라 단 하나의 터치포인트만을 인식할 수 있을 뿐, 둘 이상의 터치포인트를 인식하는 것은 불가능하였다. 그러나, 본 발명에 따른 저항막 방식의 터치스크린은 상기 한 단위의 상부 ITO 패턴(71) 및 상기 한 단위의 하부 ITO 패턴(81)들 각각에 독립적인 전극 패턴(73, 83)이 전기적으로 연결되어 있기 때문에, 외부 압력에 의해 상기 한 단위의 상부 ITO 패턴(71) 및 상기 한 단위의 하부 ITO 패턴(81)의 전기적인 연결이 복수의 위치에서 발생할 때, 이들의 좌표를 모두 저장하고 있는 제어부에 의해 각각의 터치포인트를 인식할 수 있기 때문에, 멀티터치가 가능하도록 구현될 수 있다. 또한, 상기의 제어부를 IC 칩으로 구현함으로써 터치스크린의 부피를 줄일 수 있다.In addition, in the operation principle of the resistive touch screen, the conventional method can recognize only one touch point according to the change of the resistance value due to external contact, and it is impossible to recognize two or more touch points. . However, in the resistive touch screen according to the present invention, independent electrode patterns 73 and 83 are electrically connected to each of the upper ITO pattern 71 and the lower ITO pattern 81 of one unit. Since the electrical connection between the upper unit ITO pattern 71 of the one unit and the lower unit ITO pattern 81 of the unit by the external pressure occurs in a plurality of positions, the control unit that stores all of these coordinates Since it is possible to recognize each touch point by, it can be implemented to enable multi-touch. In addition, the control unit may be implemented using an IC chip to reduce the volume of the touch screen.

한편, 본 발명의 다른 실시 예에 따라, 정전용량 방식의 터치스크린에 있어서도, 도 7a에 도시된 바와 대응하도록, 상기 상부기판(41)의 하면에 상기 상부 ITO 패턴을 패터닝하고, 도 7b에 도시된 바와 대응하도록, 상기 상부기판(41)의 하면의 상기 상부 ITO 층(42)의 가장자리에 상기 상부 전극(43)을 패터닝하며, 도 8a에 도시된 바와 대응하도록, 상기 상부 SiO2 층(44)의 하면에 상기 하부 ITO 패턴을 패터닝하고, 도 8b에 도시된 바와 대응하도록, 상기 상부 SiO2 층(44)의 하면의 상기 하부 ITO 층(45)의 가장자리에 상기 상부 전극(43)을 패터닝을 함으로써, 투명 접착제의 사용에 의해 투명도가 저하되는 문제를 개선할 수 있으며, 제조 시간 단축, 제조 원가 절감 및 수율 증가의 이점이 있다.Meanwhile, according to another embodiment of the present invention, the upper ITO pattern is patterned on the lower surface of the upper substrate 41 so as to correspond to that shown in FIG. 7A even in the capacitive touch screen, and shown in FIG. 7B. The upper electrode 43 is patterned at the edge of the upper ITO layer 42 on the lower surface of the upper substrate 41, and the upper SiO 2 layer 44 so as to correspond to that shown in FIG. 8A. Pattern the lower ITO pattern on the lower surface of the substrate and pattern the upper electrode 43 on the edge of the lower ITO layer 45 on the lower surface of the upper SiO 2 layer 44 so as to correspond to that shown in FIG. 8B. By doing so, it is possible to improve the problem that the transparency is lowered by the use of the transparent adhesive, there is an advantage of shortening the manufacturing time, manufacturing cost reduction and yield increase.

한편, 이상에서는 본 발명의 구체적인 실시 예에 관해 설명하였으나, 본 발명의 범위에서 벗어나지 않는 한도 내에서 여러 가지 변형이 가능함은 물론이다. 그러므로 본 발명의 범위는 설명된 실시 예에 국한되지 않으며, 후술하는 특허청구범위뿐만 아니라 이 특허청구범위와 균등한 것들에 의해 정해져야 한다.On the other hand, the above has been described with respect to specific embodiments of the present invention, of course, various modifications are possible without departing from the scope of the invention. Therefore, the scope of the present invention should not be limited to the described embodiments, but should be defined not only by the claims below, but also by those equivalent to the claims.

도 1은 종래의 저항막 방식 터치스크린의 단면도,1 is a cross-sectional view of a conventional resistive touch screen;

도 2는 종래의 정전용량 방식 터치스크린의 단면도,2 is a cross-sectional view of a conventional capacitive touch screen,

도 3은 본 발명의 제 1 실시 예에 따른 터치스크린의 단면도,3 is a cross-sectional view of a touch screen according to a first embodiment of the present invention;

도 4는 본 발명의 제 2 실시 예에 따른 터치스크린의 단면도,4 is a cross-sectional view of a touch screen according to a second embodiment of the present invention;

도 5는 ITO 패턴을 패터닝하기 위해 기판 상면에 증착 지그가 셋팅된 상태의 개략적인 평면도,5 is a schematic plan view of a deposition jig set on an upper surface of a substrate for patterning an ITO pattern;

도 6은 기판 상면에 ITO 패턴을 패터닝하는 단계를 개략적으로 도시한 도면,6 is a view schematically showing a step of patterning an ITO pattern on a top surface of a substrate,

도 7 내지 도 9는 패터닝된 ITO 및 전극의 패턴들을 도시한 도면.7-9 illustrate patterns of patterned ITO and electrodes.

Claims (5)

상부기판;Upper substrate; 상기 상부기판의 하면에 형성되며, 제 1방향으로 배열된 복수의 상부 ITO 패턴들을 갖는 상부 ITO 층;An upper ITO layer formed on a lower surface of the upper substrate and having a plurality of upper ITO patterns arranged in a first direction; 상기 상부 ITO 층의 하면 가장자리에 형성되며, 상기 복수의 상부 ITO 패턴들의 일단에 각각 전기적으로 연결된 상부 전극 패턴들을 갖는 상부 전극;An upper electrode formed at an edge of a lower surface of the upper ITO layer and having upper electrode patterns electrically connected to one ends of the plurality of upper ITO patterns; 하부기판;Lower substrate; 상기 하부기판의 상면에 형성되며, 상기 제 1방향과 다른 제 2방향으로 배열된 복수의 하부 ITO 패턴들을 갖는 하부 ITO 층;A lower ITO layer formed on an upper surface of the lower substrate and having a plurality of lower ITO patterns arranged in a second direction different from the first direction; 상기 하부 ITO 층의 상면 가장자리에 형성되며, 상기 복수의 하부 ITO 패턴들의 일단에 각각 전기적으로 연결된 하부 전극 패턴들을 갖는 하부 전극;및A lower electrode formed on an upper edge of the lower ITO layer and having lower electrode patterns electrically connected to one end of the plurality of lower ITO patterns; and 상기 상부 ITO 층 및 상기 하부 ITO 층 사이에 형성된 스페이서를 포함하고, 상기 상부 전극의 하면 및 상기 하부 전극의 상면이 서로 접착되는 것을 특징으로 하는 저항막 방식의 터치스크린. And a spacer formed between the upper ITO layer and the lower ITO layer, wherein a lower surface of the upper electrode and an upper surface of the lower electrode are adhered to each other. 제 1항에 있어서,The method of claim 1, 상기 상부 ITO 패턴들은 상기 상부 기판의 하면에 증착용 지그를 사용하여 스퍼터링 공정에 의해 패터닝되고, 상기 상부 전극 패턴들은 상기 상부 ITO 층의 하면 가장자리에 증착용 지그를 사용하여 스퍼터링 공정에 의해 패터닝되며, 상기 하부 ITO 패턴들은 상기 하부 기판의 상면에 증착용 지그를 사용하여 스퍼터링 공정에 의해 패터닝되고, 상기 하부 전극 패턴들은 상기 하부 ITO 층의 상면 가장자리에 증착용 지그를 사용하여 스퍼터링 공정에 의해 패터닝되는 것을 특징으로 하는 저항막 방식의 터치스크린.The upper ITO patterns are patterned by a sputtering process using a deposition jig on a lower surface of the upper substrate, and the upper electrode patterns are patterned by a sputtering process using a deposition jig at a lower edge of the upper ITO layer. The lower ITO patterns may be patterned by a sputtering process using a deposition jig on an upper surface of the lower substrate, and the lower electrode patterns may be patterned by a sputtering process using a deposition jig on an upper edge of the lower ITO layer. Resistive touch screen characterized in that. 상부기판;Upper substrate; 상기 상부기판의 하면에 형성되며, 제 1방향으로 배열된 복수의 상부 ITO 패턴들을 갖는 상부 ITO 층;An upper ITO layer formed on a lower surface of the upper substrate and having a plurality of upper ITO patterns arranged in a first direction; 상기 상부 ITO 층의 가장자리에 형성되며, 상기 복수의 상부 ITO 패턴들의 일단에 각각 전기적으로 연결된 상부 전극 패턴들을 갖는 상부 전극;An upper electrode formed at an edge of the upper ITO layer and having upper electrode patterns electrically connected to one end of the plurality of upper ITO patterns; 상기 상부 ITO 층 및 상기 상부 전극의 하면에 형성된 상부 SiO2 층;An upper SiO 2 layer formed on the lower surface of the upper ITO layer and the upper electrode; 상기 상부 SiO2 층의 하면에 형성되며, 상기 제 1방향과 다른 제 2방향으로 배열된 복수의 하부 ITO 패턴들을 갖는 하부 ITO 층;A lower ITO layer formed on a lower surface of the upper SiO 2 layer and having a plurality of lower ITO patterns arranged in a second direction different from the first direction; 상기 하부 ITO 층의 가장자리에 형성되며, 상기 복수의 하부 ITO 패턴들의 일단에 각각 전기적으로 연결된 하부 전극 패턴들을 갖는 하부 전극;및A lower electrode formed at an edge of the lower ITO layer and having lower electrode patterns electrically connected to one ends of the plurality of lower ITO patterns; and 상기 하부 ITO 층 및 상기 하부 전극의 하면에 접착되는 디스플레이 패널을 포함하는 것을 특징으로 하는 정전용량 방식의 터치스크린.And a display panel bonded to the lower ITO layer and the lower surface of the lower electrode. 제 3항에 있어서,The method of claim 3, wherein 상기 하부 ITO 층 및 상기 하부 전극의 하면에 하부 SiO2 층이 형성되고, 상기 하부 SiO2 층의 하면과 상기 디스플레이 패널의 상면은 투명접착제 또는 자외선 레진으로 접착되는 것을 특징으로 하는 정전용량 방식의 터치스크린.A lower SiO 2 layer is formed on a lower surface of the lower ITO layer and the lower electrode, and the lower surface of the lower SiO 2 layer and the upper surface of the display panel are bonded by a transparent adhesive or an ultraviolet resin. screen. 제 3항 또는 제 4항에 있어서,The method according to claim 3 or 4, 상기 상부 ITO 패턴들 및 상기 상부 전극 패턴들은 상기 상부 기판의 하면에 증착용 지그를 사용하여 스퍼터링 공정에 의해 패터닝되고, 상기 하부 ITO 패턴들 및 상기 하부 전극 패턴들은 상기 상부 SiO2 층의 하면에 증착용 지그를 사용하여 스퍼터링 공정에 의해 패터닝되는 것을 특징으로 하는 정전용량 방식의 터치스크린.The upper ITO patterns and the upper electrode patterns are patterned by a sputtering process using a deposition jig on the lower surface of the upper substrate, and the lower ITO patterns and the lower electrode patterns are formed on the lower surface of the upper SiO 2 layer. Capacitive touch screen, characterized in that patterned by a sputtering process using a wearing jig.
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KR100746269B1 (en) * 2007-02-02 2007-08-03 (주)에이엠피테크놀로지 Touch panel having closed loop electrode for equipotential bulid-up and manufacturing method thereof
KR100909265B1 (en) * 2009-02-23 2009-07-27 (주)이엔에이치테크 Manufacturing method of electrostatic capacity type touch screen panel

Cited By (1)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
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