KR20110001983A - Curable composition, conductive laminate and method for producing the same, and touch panel - Google Patents

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KR20110001983A
KR20110001983A KR1020100062865A KR20100062865A KR20110001983A KR 20110001983 A KR20110001983 A KR 20110001983A KR 1020100062865 A KR1020100062865 A KR 1020100062865A KR 20100062865 A KR20100062865 A KR 20100062865A KR 20110001983 A KR20110001983 A KR 20110001983A
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Abstract

PURPOSE: A curable composition, a conductive laminate, a producing method thereof, and a touch panel are provided to obtain the resin layer which has excellent transparency, newton ring protection, and no brightness non-uniformity. CONSTITUTION: A curable composition is the conductive lamination(100) formed in sequence of particle containing resin layer, and transparent conductive layer on one side of a transparent base layer. The particle containing resin layer contains the concentration of the inorganic particle. The arithmetic average illumination is between 0.05 and 0.5 μm.

Description

경화성 조성물, 도전성 적층체 및 그의 제조 방법, 및 터치 패널{CURABLE COMPOSITION, CONDUCTIVE LAMINATE AND METHOD FOR PRODUCING THE SAME, AND TOUCH PANEL}Curable composition, an electroconductive laminated body, and its manufacturing method, and a touch panel {CURABLE COMPOSITION, CONDUCTIVE LAMINATE AND METHOD FOR PRODUCING THE SAME, AND TOUCH PANEL}

본 발명은, 경화성 조성물, 상기 조성물을 경화시켜 이루어지는 입자 함유 수지층을 갖는 도전성 적층체 및 그의 제조 방법, 및 상기 도전성 적층체를 갖는 터치 패널에 관한 것이다.This invention relates to the electroconductive laminated body which has a curable composition, the particle-containing resin layer which hardens the said composition, its manufacturing method, and the touchscreen which has the said electroconductive laminated body.

최근, 텔레비전, 개인용 컴퓨터 등의 표시 장치나 전계 발광(유기 EL) 등의 표시 장치의 앞면에 터치 패널을 구비한 터치 패널식 표시 장치가 사용되고 있다. 터치 패널은 표시 소자 위에 각종 필름을 배치하기 때문에, 빛의 간섭에 의해 나타나는 밝은 원, 어두운 원의 줄무늬 모양(이하, "뉴턴링"이라고 함)이 발생한다는 문제점이 있었다. 이와 같은 문제점을 방지하는 것을 목적으로 하여, 표시 장치에 대하여 다양한 대책이 이루어지고 있다. Background Art In recent years, touch panel display devices having a touch panel on the front of display devices such as televisions and personal computers and display devices such as electroluminescence (organic EL) have been used. Since the touch panel arranges various films on the display element, there is a problem in that stripes of light circles and dark circles (hereinafter referred to as "newton rings") appear due to interference of light. In order to prevent such a problem, various measures are taken with respect to the display device.

이 대책 중 하나로서, 표시 장치에 사용되는 하드 코팅 필름에 대하여 그 표면을 조면화하는 방법을 들 수 있다. 예를 들면, 하드 코팅층 형성용의 하드 코팅제에 충전재를 혼입하고, 충전재의 입경 미만의 두께로 하드 코팅층을 형성함으로써 하드 코팅층의 표면으로부터 충전재가 돌출되어, 그 표면을 조면화하는 방법이 있다(예를 들면, 특허문헌 1 참조). As one of these measures, the method of roughening the surface with respect to the hard coat film used for a display apparatus is mentioned. For example, there is a method of incorporating a filler into a hard coating agent for forming a hard coating layer and forming a hard coating layer having a thickness less than the particle size of the filler to protrude the filler from the surface of the hard coating layer to roughen the surface thereof (eg For example, refer patent document 1).

일본 특허 공개 제2003-191393호 공보Japanese Patent Laid-Open No. 2003-191393

그러나, 특허문헌 1에 기재된 방법에서는 뉴턴링을 방지할 수는 있지만, 한편으로 헤이즈값이 증대된다는 문제점이 있었다. 이것은, 뉴턴링을 방지하기 위해 형성된 충전재의 돌출에 의한 하드 코팅층 표면의 요철 형상이 빛을 산란시킴으로써 발생하는 것이다. However, in the method described in Patent Literature 1, although the Newton ring can be prevented, there is a problem that the haze value increases. This is caused by unevenness of the surface of the hard coat layer due to protrusion of the filler formed to prevent the Newton ring from scattering light.

또한, 특허문헌 1에 기재된 방법에서는, 뉴턴링을 방지하기 위한 막 두께의 범위가 제한되어 있었다. 하드 코팅층의 표면에 요철 형상을 부여하기 위해서는, 막 두께를 충전재의 입경 미만으로 해야하기 때문이다. Moreover, in the method of patent document 1, the range of the film thickness for preventing a Newton ring was limited. This is because the film thickness must be less than the particle size of the filler in order to give the concave-convex shape to the surface of the hard coat layer.

따라서, 본 발명에 따른 몇 개의 양태는, 상기 과제를 해결함으로써 투명성 및 뉴턴링 방지성이 우수하고, 휘도 불균일이 없는 수지층을 형성할 수 있는 경화성 조성물, 또는 상기 수지층을 갖는 도전성 적층체를 제공하는 것이다.Accordingly, some embodiments according to the present invention provide a curable composition capable of forming a resin layer that is excellent in transparency and Newton ring prevention property and has no luminance unevenness by solving the above problems, or an electrically conductive laminate having the resin layer. To provide.

본 발명은 상술한 과제 중 적어도 일부를 해결하기 위해 이루어진 것이며, 이하의 양태 또는 적용예로서 실현할 수 있다. This invention is made | formed in order to solve at least one part of the subject mentioned above, and can be implement | achieved as the following aspects or application examples.

[적용예 1][Application Example 1]

본 발명에 따른 도전성 적층체의 한 양태는, One aspect of the conductive laminate according to the present invention,

투명 기재층의 한쪽면에 입자 함유 수지층, 투명 도전층의 순으로 형성되며, It is formed on one side of the transparent base layer in the order of particle-containing resin layer, transparent conductive layer,

상기 입자 함유 수지층은 무기 입자의 응집체를 함유하고, The particle-containing resin layer contains an aggregate of inorganic particles,

상기 입자 함유 수지층의 상기 투명 도전층이 형성된 면에서의 JIS B0601-2001에 의한 산술 평균 조도(Ra)가 0.05 내지 0.5 ㎛인 것을 특징으로 한다. Arithmetic mean roughness Ra by JIS B0601-2001 in the surface in which the said transparent conductive layer of the said particle containing resin layer was formed is characterized by being 0.05-0.5 micrometer.

[적용예 2][Application Example 2]

적용예 1에 있어서, In application example 1,

상기 무기 입자는 5 내지 200 ㎚의 평균 일차 입경을 가질 수 있다. The inorganic particles may have an average primary particle diameter of 5 to 200 nm.

[적용예 3][Application Example 3]

적용예 1 또는 적용예 2에 있어서, In Application Example 1 or Application Example 2,

상기 무기 입자는 실리카 입자일 수 있다. The inorganic particles may be silica particles.

[적용예 4][Application Example 4]

적용예 1 내지 적용예 3 중 어느 일례에 있어서, In any of Application Examples 1 to 3,

상기 입자 함유 수지층은 입자 응집제를 더 함유할 수 있다. The particle-containing resin layer may further contain a particle flocculant.

[적용예 5][Application Example 5]

적용예 1 내지 적용예 4 중 어느 일례에 있어서, In any of Application Examples 1 to 4,

상기 투명 기재층의 다른쪽면에 하드 코팅층이 추가로 형성될 수 있다.A hard coating layer may be further formed on the other side of the transparent substrate layer.

[적용예 6][Application Example 6]

본 발명에 따른 터치 패널의 한 양태는, One aspect of the touch panel according to the present invention,

적용예 1 내지 적용예 5 중 어느 하나에 기재된 도전성 적층체가 편광막에 적층되어 이루어지는 편광판을 구비한 것을 특징으로 한다. The electroconductive laminated body in any one of application examples 1-5 was provided with the polarizing plate laminated | stacked on the polarizing film. It is characterized by the above-mentioned.

[적용예 7][Application Example 7]

본 발명에 따른 경화성 조성물의 한 양태는, One aspect of the curable composition according to the invention,

(A) 다관능 중합성 불포화기 함유 화합물, (A) a polyfunctional polymerizable unsaturated group containing compound,

(B) 라디칼 중합 개시제, (B) radical polymerization initiator,

(C) 무기 입자, (C) inorganic particles,

(D) 입자 응집제, 및(D) particle flocculant, and

(E) 유기 용제(E) organic solvent

를 함유하는 것을 특징으로 한다. It is characterized by containing.

[적용예 8][Application Example 8]

적용예 7에 있어서, In application example 7,

상기 (D) 입자 응집제는 아민 화합물 또는 그의 염일 수 있다. The (D) particle flocculant may be an amine compound or a salt thereof.

[적용예 9][Application Example 9]

적용예 8에 있어서, In application example 8,

상기 (D) 입자 응집제는 3급 아민 화합물일 수 있다. The (D) particle flocculant may be a tertiary amine compound.

[적용예 10][Application Example 10]

적용예 7에 있어서, In application example 7,

상기 (D) 입자 응집제는 4급 암모늄염일 수 있다. The (D) particle flocculant may be a quaternary ammonium salt.

[적용예 11][Application Example 11]

본 발명에 따른 도전성 적층체의 제조 방법의 한 양태는, One aspect of the method for producing a conductive laminate according to the present invention,

투명 기재층의 한쪽면에, 적용예 7 내지 적용예 10 중 어느 일례에 기재된 경화성 조성물을 도포한 후, 자외선을 조사함으로써 입자 함유 수지층을 형성하는 공정, 및After apply | coating the curable composition in any one of Application Examples 7-10 to one surface of a transparent base material layer, the process of forming a particle-containing resin layer by irradiating an ultraviolet-ray, and

상기 입자 함유 수지층 위에 투명 도전층을 형성하는 공정을 포함하는 것을 특징으로 한다. It is characterized by including the process of forming a transparent conductive layer on the said particle containing resin layer.

본 발명에 따른 경화성 조성물에 의하면, 투명성 및 뉴턴링 방지성이 우수하고, 휘도 불균일이 없는 수지층을 얻을 수 있다. 또한, 본 발명에 따른 경화성 조성물에 의하면, 동일한 조성물을, 다른 막 두께의 뉴턴링 방지성을 갖는 수지층의 형성에 사용할 수 있어, 이용성이 향상된다.According to the curable composition which concerns on this invention, the resin layer which is excellent in transparency and Newton ring prevention property, and does not have luminance nonuniformity can be obtained. Moreover, according to the curable composition which concerns on this invention, the same composition can be used for formation of the resin layer which has Newton ring prevention property of a different film thickness, and usability improves.

[도 1] 제1 실시 형태에 따른 도전성 적층체를 모식적으로 나타낸 단면도이다.
[도 2] 제2 실시 형태에 따른 도전성 적층체를 모식적으로 나타낸 단면도이다.
[도 3] 실시예 1에서 제조한 적층체 1의 단면을 촬영한 전자 현미경 사진이다.1: is sectional drawing which showed typically the electroconductive laminated body which concerns on 1st Embodiment.
FIG. 2: is sectional drawing which showed typically the electroconductive laminated body which concerns on 2nd Embodiment. FIG.
FIG. 3 is an electron micrograph of the cross section of the laminate 1 manufactured in Example 1. FIG.

이하, 본 발명에 따른 바람직한 실시 형태에 대하여 상세히 설명한다. 또한, 본 발명은 하기의 실시 형태로 한정되지 않으며, 본 발명의 요지를 변경하지 않는 범위에서 실시되는 각종 변형예도 포함한다. EMBODIMENT OF THE INVENTION Hereinafter, preferred embodiment which concerns on this invention is described in detail. In addition, this invention is not limited to the following embodiment, Comprising: Various modified examples implemented in the range which does not change the summary of this invention are included.

1. 경화성 조성물1. Curable Composition

본 실시 형태에 따른 경화성 조성물은, 도전성 적층체에 포함되는 입자 함유 수지층을 형성하기 위해 이용할 수 있는 경화성 조성물이며, (C) 무기 입자를 함유하는 경화성 조성물이라면 특별히 한정되지 않지만, (A) 다관능 중합성 불포화기 함유 화합물, (B) 라디칼 중합 개시제, (C) 무기 입자, (D) 입자 응집제, 및 (E) 유기 용제를 함유하는 것이 바람직하다. 이하, 본 실시 형태에 따른 경화성 조성물의 각 성분에 대하여 상세히 설명한다. 또한, 상기 (A) 내지 (E)의 각 재료를 각각 (A) 성분 내지 (E) 성분으로 줄여서 기재하는 경우도 있다. Although the curable composition which concerns on this embodiment is a curable composition which can be used in order to form the particle containing resin layer contained in an electroconductive laminated body, if it is a curable composition containing (C) inorganic particle, it will not specifically limit, (A) It is preferable to contain a functional polymerizable unsaturated group containing compound, (B) radical polymerization initiator, (C) inorganic particle, (D) particle | grain aggregation agent, and (E) organic solvent. Hereinafter, each component of the curable composition which concerns on this embodiment is demonstrated in detail. In addition, each material of said (A)-(E) may be shortened and described as (A) component-(E) component, respectively.

1.1. (A) 다관능 중합성 불포화기 함유 화합물1.1. (A) Polyfunctional polymerizable unsaturated group containing compound

본 실시 형태에 따른 경화성 조성물은, (A) 다관능 중합성 불포화기 함유 화합물을 함유한다. (A) 성분의 기능 중 하나로서, 성막성을 높이는 것을 들 수 있다. (A) 성분으로서는, 분자 내에 2개 이상의 중합성 불포화기를 함유하는 것이면 특별히 제한은 없지만, 예를 들면 (메트)아크릴에스테르류, 비닐 화합물류 등을 들 수 있다. 이들 중에서도 (메트)아크릴에스테르류가 바람직하다. The curable composition which concerns on this embodiment contains the (A) polyfunctional polymerizable unsaturated group containing compound. As one of the functions of (A) component, what raises film-forming property is mentioned. The component (A) is not particularly limited as long as it contains two or more polymerizable unsaturated groups in the molecule, and examples thereof include (meth) acrylic esters and vinyl compounds. Among these, (meth) acrylic esters are preferable.

(메트)아크릴에스테르류로서는, 트리메틸올프로판트리(메트)아크릴레이트, 디트리메틸올프로판테트라(메트)아크릴레이트, 펜타에리트리톨트리(메트)아크릴레이트, 펜타에리트리톨테트라(메트)아크릴레이트, 디펜타에리트리톨펜타(메트)아크릴레이트, 디펜타에리트리톨헥사(메트)아크릴레이트, 글리세린트리(메트)아크릴레이트, 트리스(2-히드록시에틸)이소시아누레이트 트리(메트)아크릴레이트, 에틸렌글리콜디(메트)아크릴레이트, 1,3-부탄디올디(메트)아크릴레이트, 1,4-부탄디올디(메트)아크릴레이트, 1,6-헥산디올디(메트)아크릴레이트, 네오펜틸글리콜디(메트)아크릴레이트, 디에틸렌글리콜디(메트)아크릴레이트, 트리에틸렌글리콜디(메트)아크릴레이트, 디프로필렌글리콜디(메트)아크릴레이트, 트리펜타에리트리톨옥타(메트)아크릴레이트, 트리펜타에리트리톨헵타(메트)아크릴레이트, 비스(2-히드록시에틸)이소시아누레이트 디(메트)아크릴레이트 등의 수산기 함유 (메트)아크릴레이트류; 및 이들의 수산기에 대한 에틸렌옥시드 또는 프로필렌옥시드 부가물의 폴리(메트)아크릴레이트류; 분자 내에 2개 이상의 (메트)아크릴로일기를 갖는 올리고에스테르(메트)아크릴레이트류; 올리고에테르(메트)아크릴레이트류; 및 올리고에폭시(메트)아크릴레이트류 등을 들 수 있다. 이들 중에서도, 디펜타에리트리톨헥사(메트)아크릴레이트, 디펜타에리트리톨펜타(메트)아크릴레이트, 펜타에리트리톨트리(메트)아크릴레이트, 펜타에리트리톨테트라(메트)아크릴레이트, 디트리메틸올프로판테트라(메트)아크릴레이트 등이 바람직하다. As (meth) acrylic ester, trimethylol propane tri (meth) acrylate, ditrimethylol propane tetra (meth) acrylate, pentaerythritol tri (meth) acrylate, pentaerythritol tetra (meth) acrylate, and di Pentaerythritol penta (meth) acrylate, dipentaerythritol hexa (meth) acrylate, glycerin tri (meth) acrylate, tris (2-hydroxyethyl) isocyanurate tri (meth) acrylate, ethylene glycol Di (meth) acrylate, 1,3-butanedioldi (meth) acrylate, 1,4-butanedioldi (meth) acrylate, 1,6-hexanedioldi (meth) acrylate, neopentylglycoldi (meth ) Acrylate, diethylene glycol di (meth) acrylate, triethylene glycol di (meth) acrylate, dipropylene glycol di (meth) acrylate, tripentaerythritol octa (meth) acrylate, Pentaerythritol hepta (meth) acrylate, bis (2-hydroxyethyl) isocyanurate di (meth) acrylate a hydroxyl group containing (meth) acrylates and the like; And poly (meth) acrylates of ethylene oxide or propylene oxide adducts for these hydroxyl groups; Oligoester (meth) acrylates having two or more (meth) acryloyl groups in the molecule; Oligoether (meth) acrylates; And oligoepoxy (meth) acrylates. Among these, dipentaerythritol hexa (meth) acrylate, dipentaerythritol penta (meth) acrylate, pentaerythritol tri (meth) acrylate, pentaerythritol tetra (meth) acrylate, and ditrimethylolpropane tetra (Meth) acrylate etc. are preferable.

비닐 화합물류로서는, 디비닐벤젠, 에틸렌글리콜디비닐에테르, 디에틸렌글리콜디비닐에테르, 트리에틸렌글리콜디비닐에테르 등을 들 수 있다. 이상 예시한 (A) 성분은 1종 단독으로 사용할 수도 있고, 2종 이상을 조합하여 사용할 수도 있다.Examples of the vinyl compounds include divinylbenzene, ethylene glycol divinyl ether, diethylene glycol divinyl ether, triethylene glycol divinyl ether, and the like. (A) component illustrated above may be used individually by 1 type, and may be used in combination of 2 or more type.

이러한 (A) 다관능 중합성 불포화기 함유 화합물의 시판품으로서는, 예를 들면 도아 고세이(주) 제조의 아로닉스 M-400, M-404, M-408, M-450, M-305, M-309, M-310, M-315, M-320, M-350, M-360, M-208, M-210, M-215, M-220, M-225, M-233, M-240, M-245, M-260, M-270, M-1100, M-1200, M-1210, M-1310, M-1600, M-221, M-203, TO-924, TO-1270, TO-1231, TO-595, TO-756, TO-1343, TO-902, TO-904, TO-905, TO-1330, 닛본 가야꾸(주) 제조의 카야라드(KAYARAD) D-310, D-330, DPHA, DPCA-20, DPCA-30, DPCA-60, DPCA-120, DN-0075, DN-2475, SR-295, SR-355, SR-399E, SR-494, SR-9041, SR-368, SR-415, SR-444, SR-454, SR-492, SR-499, SR-502, SR-9020, SR-9035, SR-111, SR-212, SR-213, SR-230, SR-259, SR-268, SR-272, SR-344, SR-349, SR-601, SR-602, SR-610, SR-9003, PET-30, T-1420, GPO-303, TC-120 S, HDDA, NPGDA, TPGDA, PEG400DA, MANDA, HX-220, HX-620, R-551, R-712, R-167, R-526, R-551, R-712, R-604, R-684, TMPTA, THE-330, TPA-320, TPA-330, KS-HDDA, KS-TPGDA, KS-TMPTA, 교에샤 가가꾸(주) 제조의 라이트아크릴레이트 PE-4A, DPE-6A, DTMP-4A 등을 들 수 있다. As a commercial item of such a (A) polyfunctional polymerizable unsaturated group containing compound, Toagosei Co., Ltd. product Aronix M-400, M-404, M-408, M-450, M-305, M- 309, M-310, M-315, M-320, M-350, M-360, M-208, M-210, M-215, M-220, M-225, M-233, M-240, M-245, M-260, M-270, M-1100, M-1200, M-1210, M-1310, M-1600, M-221, M-203, TO-924, TO-1270, TO- 1231, TO-595, TO-756, TO-1343, TO-902, TO-904, TO-905, TO-1330, KAYARAD D-310, D-330 manufactured by Nippon Kayaku Co., Ltd. , DPHA, DPCA-20, DPCA-30, DPCA-60, DPCA-120, DN-0075, DN-2475, SR-295, SR-355, SR-399E, SR-494, SR-9041, SR-368 , SR-415, SR-444, SR-454, SR-492, SR-499, SR-502, SR-9020, SR-9035, SR-111, SR-212, SR-213, SR-230, SR -259, SR-268, SR-272, SR-344, SR-349, SR-601, SR-602, SR-610, SR-9003, PET-30, T-1420, GPO-303, TC-120 S, HDDA, NPGDA, TPGDA, PEG400DA, MANDA, HX-220, HX-620, R-551, R-712, R-167, R-526, R-551, R-712, R-604, R- 684, TMPTA, THE-330, TPA-320, TPA-330, KS-HDDA, KS-TPGDA, KS-TMPTA, Gyoesa Light acrylate PE-4A, DPE-6A, DTMP-4A, etc. by Kagaku Co., Ltd. are mentioned.

본 실시 형태에 따른 경화성 조성물에서의 (A) 성분의 함유량은, (E) 유기 용제를 제외한 성분의 합계를 100 질량％로 한 경우, 바람직하게는 40 내지 99 질량％의 범위 내이고, 보다 바람직하게는 50 내지 95 질량％의 범위 내이고, 특히 바람직하게는 60 내지 90 질량％의 범위 내이다. (A) 성분이 상기 범위에서 배합됨으로써, 성막성이 우수한 고경도를 갖는 입자 함유 수지층을 얻을 수 있다. When content of the (A) component in the curable composition which concerns on this embodiment makes the sum total of the component except (E) organic solvent 100 mass%, Preferably it exists in the range of 40-99 mass%, More preferably, Preferably it exists in the range of 50-95 mass%, Especially preferably, it exists in the range of 60-90 mass%. By mix | blending (A) component in the said range, the particle containing resin layer which has high hardness excellent in film-forming property can be obtained.

1.2. (B) 라디칼 중합 개시제1.2. (B) radical polymerization initiator

본 실시 형태에 따른 경화성 조성물은 (B) 라디칼 중합 개시제를 함유한다. (B) 라디칼 중합 개시제로서는, 예를 들면 열적으로 활성 라디칼종을 발생시키는 화합물(이하, "열 중합 개시제"라고도 함), 및 방사선(광) 조사에 의해 활성 라디칼종을 발생시키는 화합물(이하, "방사선(광) 중합 개시제"라고도 함) 등의 범용되고 있는 것을 들 수 있다. 이들 중에서도, 방사선(광) 중합 개시제가 바람직하다.The curable composition which concerns on this embodiment contains the (B) radical polymerization initiator. (B) As the radical polymerization initiator, for example, a compound that generates thermally active radical species (hereinafter also referred to as a "thermal polymerization initiator"), and a compound that generates active radical species by radiation (light) irradiation (hereinafter, General use such as "radiation (photo) polymerization initiator"). Among these, a radiation (photo) polymerization initiator is preferable.

방사선(광) 중합 개시제로서는, 광 조사에 의해 분해되어 라디칼을 발생하여 중합을 개시시키는 것이면 특별히 제한되지 않고, 예를 들면 아세토페논, 아세토페논벤질케탈, 1-히드록시시클로헥실페닐케톤, 2,2-디메톡시-1,2-디페닐에탄-1-온, 크산톤, 플루오레논, 벤즈알데히드, 플루오렌, 안트라퀴논, 트리페닐아민, 카르바졸, 3-메틸아세토페논, 4-클로로벤조페논, 4,4'-디메톡시벤조페논, 4,4'-디아미노벤조페논, 벤조인프로필에테르, 벤조인에틸에테르, 벤질디메틸케탈, 1-(4-이소프로필페닐)-2-히드록시-2-메틸프로판-1-온, 2-히드록시-2-메틸-1-페닐프로판-1-온, 티오크산톤, 디에틸티오크산톤, 2-이소프로필티오크산톤, 2-클로로티오크산톤, 2-메틸-1-[4-(메틸티오)페닐]-2-모르폴리노-프로판-1-온, 2-벤질-2-디메틸아미노-1-(4-모르폴리노페닐)-부타논-1,4-(2-히드록시에톡시)페닐-(2-히드록시-2-프로필)케톤, 2,4,6-트리메틸벤조일디페닐포스핀옥시드, 비스-(2,6-디메톡시벤조일)-2,4,4-트리메틸펜틸포스핀옥시드, 올리고(2-히드록시-2-메틸-1-(4-(1-메틸비닐)페닐)프로판온) 등을 들 수 있다. 이상 예시한 (B) 성분은 1종 단독으로 사용할 수도 있고, 2종 이상을 조합하여 사용할 수도 있다.The radiation (photo) polymerization initiator is not particularly limited as long as it is decomposed by light irradiation to generate radicals to initiate polymerization. For example, acetophenone, acetophenonebenzyl ketal, 1-hydroxycyclohexylphenyl ketone, 2, 2-dimethoxy-1,2-diphenylethan-1-one, xanthone, fluorenone, benzaldehyde, fluorene, anthraquinone, triphenylamine, carbazole, 3-methylacetophenone, 4-chlorobenzophenone, 4,4'-dimethoxybenzophenone, 4,4'-diaminobenzophenone, benzoinpropylether, benzoinethylether, benzyldimethyl ketal, 1- (4-isopropylphenyl) -2-hydroxy-2 -Methyl propane-1-one, 2-hydroxy-2-methyl-1-phenylpropane-1-one, thioxanthone, diethyl thioxanthone, 2-isopropyl thioxanthone, 2-chloro thioxanthone , 2-methyl-1- [4- (methylthio) phenyl] -2-morpholino-propane-1-one, 2-benzyl-2-dimethylamino-1- (4-morpholinophenyl) -buta Non-1,4- (2-hydroxy Methoxy) phenyl- (2-hydroxy-2-propyl) ketone, 2,4,6-trimethylbenzoyldiphenylphosphineoxide, bis- (2,6-dimethoxybenzoyl) -2,4,4-trimethylpentyl Phosphine oxide, oligo (2-hydroxy-2-methyl-1- (4- (1-methylvinyl) phenyl) propanone), and the like. (B) component illustrated above may be used individually by 1 type, and may be used in combination of 2 or more type.

방사선(광) 중합 개시제의 시판품으로서는, 예를 들면 BASF 제조의 이르가큐어 184, 369, 651, 500, 819, 907, 784, 2959, CGI1700, CGI1750, CGI1850, CG24-61, 다로큐어 1116, 1173, 바스프사 제조의 루시린 TPO, 8893 UCB사 제조의 유베크릴 P36, 람베르티사 제조의 에자큐어 KIP150, KIP65LT, KIP100F, KT37, KT55, KTO46, KIP75/B 등을 들 수 있다. As a commercial item of a radiation (photo) polymerization initiator, Irgacure 184, 369, 651, 500, 819, 907, 784, 2959, CGI1700, CGI1750, CGI1850, CG24-61, Darocure 1116, 1173 by BASF, for example is manufactured. And Lucirin TPO manufactured by BASF Corporation, Eubecryl P36 manufactured by 8893 UCB Corporation, Ezacure KIP150, KIP65LT, KIP100F manufactured by Lambertisa, KT37, KT55, KTO46, KIP75 / B and the like.

열 중합 개시제로서는, 가열에 의해 분해되어 라디칼을 발생하여 중합을 개시하는 것이면 특별히 제한되지 않으며, 예를 들면 과산화물, 아조 화합물을 들 수 있고, 구체예로서는 벤조일퍼옥시드, t-부틸-퍼옥시벤조에이트, 아조비스이소부티로니트릴 등을 들 수 있다.  The thermal polymerization initiator is not particularly limited as long as it is decomposed by heating to generate radicals to initiate polymerization, and examples thereof include peroxides and azo compounds. Specific examples thereof include benzoyl peroxide and t-butyl-peroxybenzoate. And azobisisobutyronitrile.

본 실시 형태에 따른 경화성 조성물에서의 (B) 성분의 함유량은, (E) 유기 용제를 제외한 성분의 합계를 100 질량％로 한 경우 바람직하게는 0.01 내지 20 질량％의 범위 내이고, 보다 바람직하게는 0.1 내지 10 질량％의 범위 내이다. (B) 성분의 함유량이 0.01 질량％ 미만이면, 입자 함유 수지층을 형성했을 때의 경도가 불충분해질 우려가 있다. 한편, 20 질량％를 초과하면, 입자 함유 수지층의 경도가 손상될 우려가 있다. Content of (B) component in curable composition concerning this embodiment becomes like this. When the sum total of the component except the (E) organic solvent is 100 mass%, Preferably it exists in the range of 0.01-20 mass%, More preferably, Is in the range of 0.1 to 10 mass%. When content of (B) component is less than 0.01 mass%, there exists a possibility that the hardness at the time of forming a particle containing resin layer may become inadequate. On the other hand, when it exceeds 20 mass%, there exists a possibility that the hardness of a particle containing resin layer may be damaged.

1.3. (C) 무기 입자1.3. (C) inorganic particles

본 실시 형태에 따른 경화성 조성물은 (C) 무기 입자를 함유한다. (C) 성분의 기능 중 하나로서, 입자 함유 수지층을 형성할 때 응집체를 생성하고, 그 표면에 요철 형상을 형성함으로써 화소의 휘도 불균일이나 뉴턴링을 방지하는 것을 들 수 있다. The curable composition which concerns on this embodiment contains the (C) inorganic particle. As one of the functions of the component (C), an aggregate is formed when the particle-containing resin layer is formed, and an irregular shape is formed on the surface thereof to prevent luminance unevenness or Newton ring of the pixel.

이러한 무기 입자로서는, 실리카 입자, 알루미나 입자, 지르코니아 입자 등을 사용할 수 있다. 무기 입자와, 입자 함유 수지층 중의 수지 성분의 굴절률 차가 크면 입자 함유 수지층의 헤이즈가 높아지기 때문에, 무기 입자와 상기 수지 성분의 589 ㎚에서의 굴절률 차가 0.3 이하, 바람직하게는 0.1 이하가 되는 입자를 사용하는 것이 바람직하다. 이러한 이유로부터, 무기 입자는 실리카 입자인 것이 바람직하다. As such inorganic particles, silica particles, alumina particles, zirconia particles and the like can be used. When the refractive index difference between the inorganic particles and the resin component in the particle-containing resin layer is large, the haze of the particle-containing resin layer increases, so that the particles whose refractive index difference at 589 nm between the inorganic particles and the resin component are 0.3 or less, preferably 0.1 or less It is preferable to use. For this reason, the inorganic particles are preferably silica particles.

실리카 입자는, 통상적으로 물 또는 알코올 등의 친수성 용매 중에 실리카 입자가 콜로이드상으로 균질하게 분산된 상태로 시판되고 있다. 그러나, 본원 발명에서는, 경화성 조성물의 제조에 있어서 물을 함유하는 것은 상용성의 관점에서 바람직하지 않기 때문에, 알코올 등의 친수성 유기 용매에 분산되어 있는 것이 바람직하다. Silica particles are usually marketed in a state in which silica particles are homogeneously dispersed in a colloidal form in a hydrophilic solvent such as water or alcohol. However, in the present invention, it is preferable to contain water in the production of the curable composition from the viewpoint of compatibility, so that it is dispersed in a hydrophilic organic solvent such as alcohol.

수분산성 콜로이드상 실리카 입자는, 통상적으로 물유리로부터 제조되고 있다. 이러한 콜로이드상 실리카 입자는 시판품으로부터 용이하게 입수할 수 있다. 또한, 친수성 유기 용매 분산성의 콜로이드상 실리카 입자는, 상기 수분산성 콜로이드상 실리카 입자의 물을 친수성 유기 용매로 치환함으로써 용이하게 제조할 수 있다. 또한, 이러한 친수성 유기 용매 분산성의 콜로이드상 실리카 입자는 시판품으로부터 용이하게 입수할 수 있다. Water-dispersible colloidal silica particles are usually manufactured from water glass. Such colloidal silica particles can be easily obtained from a commercial item. The hydrophilic organic solvent dispersible colloidal silica particles can be easily produced by substituting water of the water-dispersible colloidal silica particles with a hydrophilic organic solvent. In addition, such hydrophilic organic solvent dispersible colloidal silica particles can be easily obtained from a commercial item.

(C) 무기 입자의 평균 일차 입경은 바람직하게는 5 내지 200 ㎚이고, 보다 바람직하게는 5 내지 150 ㎚이다. (C) 무기 입자의 평균 일차 입경은, 예를 들면 투과형 전자 현미경으로 측정한 50개의 입경을 평균함으로써 구할 수 있다. 평균 일차 입경이 상기 범위 내이면, 입자 함유 수지층에서의 빛의 내부 산란을 작게 할 수 있기 때문에 헤이즈값을 감소시킬 수 있다. 평균 일차 입경이 5 ㎚ 미만이면 입자 함유 수지층의 표면에 요철 형상을 형성시키기 어려워지기 때문에, 화소의 휘도 불균일이나 뉴턴링을 방지하는 것이 곤란해진다. 한편, 평균 일차 입경이 200 ㎚를 초과하면, 입자 함유 수지층에서의 빛의 내부 산란이 커지기 때문에 투명성이 저하되는 경향이 있다. The average primary particle diameter of (C) inorganic particle becomes like this. Preferably it is 5-200 nm, More preferably, it is 5-150 nm. (C) The average primary particle diameter of an inorganic particle can be calculated | required by averaging 50 particle diameters measured with the transmission electron microscope, for example. When the average primary particle size is in the above range, the internal scattering of light in the particle-containing resin layer can be reduced, so that the haze value can be reduced. If the average primary particle size is less than 5 nm, it becomes difficult to form an uneven shape on the surface of the particle-containing resin layer, which makes it difficult to prevent luminance unevenness or Newton ring of the pixel. On the other hand, when an average primary particle diameter exceeds 200 nm, since internal scattering of the light in a particle containing resin layer becomes large, there exists a tendency for transparency to fall.

본 실시 형태에 따른 경화성 조성물에서의 (C) 성분의 함유량은, (E) 유기 용제를 제외한 성분의 합계를 100 질량％로 한 경우 바람직하게는 0.1 내지 20 질량％의 범위 내이고, 보다 바람직하게는 1 내지 15 질량％의 범위 내이다. (C) 성분의 함유량이 0.1 질량％ 미만이면 입자 함유 수지층의 투명성은 우수하지만, 화소의 휘도 불균일이나 뉴턴링을 방지하는 것이 곤란해진다. 한편, 20 질량％를 초과하면 입자 함유 수지층에서의 빛의 내부 산란이 커지기 때문에, 투명성이 저하되는 경향이 있다. Content of (C) component in the curable composition which concerns on this embodiment becomes like this. When the sum total of the component except the (E) organic solvent is 100 mass%, Preferably it exists in the range of 0.1-20 mass%, More preferably, Is in the range of 1 to 15 mass%. When the content of the component (C) is less than 0.1% by mass, the transparency of the particle-containing resin layer is excellent, but it is difficult to prevent luminance unevenness or Newton ring of the pixel. On the other hand, when it exceeds 20 mass%, since the internal scattering of light in a particle containing resin layer becomes large, there exists a tendency for transparency to fall.

1.4. (D) 입자 응집제1.4. (D) particle flocculant

본 실시 형태에 따른 경화성 조성물은 (D) 입자 응집제를 함유한다. (D) 성분의 기능 중 하나로서, 입자 함유 수지층을 형성할 때 상술한 (C) 무기 입자를 응집시켜 응집체를 생성시키는 것을 들 수 있다. (D) 입자 응집제로서는, 아민 화합물 또는 그의 염, 또는 4급 암모늄염인 것이 바람직하다. 아민 화합물로서는, 예를 들면 지방족 아민, 지환식 아민, 방향족 아민 및 복소환식 아민 중에서 적절하게 선택하여 사용할 수 있다. 또한, 아민 화합물 중의 질소 원자의 수에 대해서도 특별히 제한되지 않는다. 4급 암모늄염으로서는, 양이온 계면활성제, 양쪽성 계면활성제 중 어느쪽도 사용할 수 있지만, 양이온 계면활성제가 보다 바람직하다. 4급 암모늄염의 양이온 계면활성제로서는, 유기 용제에 용해되는 화합물로부터 적절하게 선택하여 사용할 수 있다. The curable composition which concerns on this embodiment contains the (D) particle | grain flocculant. As one of the functions of (D) component, when forming a particle | grain containing resin layer, what aggregates (C) inorganic particle mentioned above and produces an aggregate is mentioned. The (D) particle flocculant is preferably an amine compound or a salt thereof or a quaternary ammonium salt. As an amine compound, it can select suitably from aliphatic amine, alicyclic amine, aromatic amine, and heterocyclic amine, for example. The number of nitrogen atoms in the amine compound is not particularly limited either. As the quaternary ammonium salt, either a cationic surfactant or an amphoteric surfactant can be used, but a cationic surfactant is more preferable. As a cationic surfactant of a quaternary ammonium salt, it can select from the compound melt | dissolved in the organic solvent suitably, and can use.

상기 예시한 아민 화합물 중에서도 경화성 조성물의 보존 안정성을 손상시키지 않고, 콜로이드상 실리카 입자에 대해 적합한 응집성 및 응집 속도를 갖는 관점에서, 2급 아민 또는 3급 아민이 바람직하다. 이러한 2급 또는 3급 아민으로서는, 예를 들면 1,8-디아자비시클로[5.4.0]운데크-7-엔(DBU), 1,4-디아자비시클로[2.2.2]옥탄(DABCO), 1,5-디아자비시클로[4.3.0]논-5-엔(DBN), 7-메틸-1,5,7-트리아자비시클로[4.4.0]데크-5-엔(MTBD), N-히드록시에틸올레일이미다졸린, 피리딘, 4-디메틸아미노피리딘, 피롤리딘, 피페리딘, 피페라진, 피페콜린, 나아가서는 힌더드 아민계 화합물, 구체적으로는 비스(2,2,6,6-테트라메틸-4-피페리딜)세바케이트(산쿄(주) 제조, 상품명 "서놀 LS-770" 등), 4-벤조일옥시-2,2,6,6-테트라메틸피페리딘(산쿄(주) 제조, 상품명 "서놀 LS-744" 등), 비스(1,2,2,6,6-펜타메틸-4-피페리딜)세바케이트(시바 가이기사 제조, 상품명 "티누빈(Tinuvin) 292" 등), 테트라키스(2,2,6,6-테트라메틸-4-피페리딜)1,2,3,4-부탄테트라카르복실레이트(아사히 덴까(주) 제조, 상품명 "아데카스타브 LA-57"), 1,2,3,4-부탄테트라카르복실산과 1,2,2,6,6-펜타메틸-4-피페리디놀과 트리데실 알코올의 축합물(아사히 덴까(주) 제조, "상품명: 아데카스타브 LA-62"), 1,2,3,4-부탄테트라카르복실산과 2,2,6,6-테트라메틸-4-피페리디놀과 트리데실 알코올의 축합물(아사히 덴까(주) 제조, 상품명 "아데카스타브 LA-67"), 1,2,3,4-부탄테트라카르복실산과 1,2,2,6,6-펜타메틸-4-피페리디놀과 β,β,β',β'-테트라메틸-3,9-(2,4,8,10-테트라옥사스피로[5,5]운데칸)디에탄올의 축합물(아사히 덴까(주) 제조, 상품명 "아데카스타브 LA-63P"), 1,2,3,4-부탄테트라카르복실산과 2,2,6,6-테트라메틸-4-피페리디놀과 β,β,β',β'-테트라메틸-3,9-(2,4,8,10-테트라옥사스피로[5,5]운데칸)디에탄올의 축합물(아사히 덴까(주) 제조, 상품명 "아데카스타브 LA-68LD"), (1,2,2,6,6-펜타메틸-4-피페리딜)메타크릴레이트(아사히 덴까(주) 제조, 상품명 "아데카스타브 LA-82"), (2,2,6,6-테트라메틸-4-피페리딜)메타크릴레이트(아사히 덴까(주) 제조, 상품명 "아데카스타브 LA-87"), 그 이외에 상품명 Chimassorb944LD(시바 가이기사 제조), 티누빈 622LD(시바 가이기사 제조), 티누빈 144(시바 가이기사 제조), 굿라이트(Goodrite) UV-3034(굿 리치사 제조) 등의 힌더드 아민계 화합물을 들 수 있다.Among the amine compounds exemplified above, secondary or tertiary amines are preferred from the viewpoint of having a suitable cohesiveness and agglomeration rate with respect to the colloidal silica particles without impairing the storage stability of the curable composition. As such a secondary or tertiary amine, for example, 1,8-diazabicyclo [5.4.0] undec-7-ene (DBU), 1,4-diazabicyclo [2.2.2] octane (DABCO) , 1,5-diazabicyclo [4.3.0] non-5-ene (DBN), 7-methyl-1,5,7-triazabicyclo [4.4.0] dec-5-ene (MTBD), N Hydroxyethyloleylimidazoline, pyridine, 4-dimethylaminopyridine, pyrrolidine, piperidine, piperazine, pipecoline, and also hindered amine compounds, specifically bis (2,2,6 , 6-tetramethyl-4-piperidyl) sebacate (manufactured by Sankyo Corporation, trade name "Sanol LS-770", etc.), 4-benzoyloxy-2,2,6,6-tetramethylpiperidine ( Sankyo Co., Ltd., brand names "Sanol LS-744", etc., bis (1,2,2,6,6-pentamethyl-4-piperidyl) sebacate (Shiba Kaiki Co., Ltd. make, brand name "tinuvin ( Tinuvin) 292 "etc.), tetrakis (2,2,6,6-tetramethyl-4-piperidyl) 1,2,3,4-butane tetracarboxylate (made by Asahi Denka Co., Ltd., brand name" Adecastab LA-5 7 "), a condensate of 1,2,3,4-butanetetracarboxylic acid, 1,2,2,6,6-pentamethyl-4-piperidinol and tridecyl alcohol (manufactured by Asahi Denka Co., Ltd., "Trade name: Adecastab LA-62"), a condensate of 1,2,3,4-butanetetracarboxylic acid with 2,2,6,6-tetramethyl-4-piperidinol and tridecyl alcohol (Asahi DENKA Co., Ltd. make, brand names "adecastab LA-67"), 1,2,3,4-butanetetracarboxylic acid, and 1,2,2,6,6-pentamethyl-4-piperidinol and β Condensate of (beta), (beta), (beta)-tetramethyl-3, 9- (2, 4, 8, 10- tetraoxaspiro [5, 5] undecane) diethanol (Asahi Denka Co., Ltd. product, brand name) "Adecastab LA-63P"), 1,2,3,4-butanetetracarboxylic acid and 2,2,6,6-tetramethyl-4-piperidinol and β, β, β ', β'- Condensate of tetramethyl-3,9- (2,4,8,10-tetraoxaspiro [5,5] undecane) diethanol (manufactured by Asahi Denka Co., Ltd., trade name "adecastab LA-68LD") , (1,2,2,6,6-pentamethyl-4-piperidyl) methacrylate (Asahi Denka ( ), A brand name "adecastab LA-82"), (2,2,6,6-tetramethyl-4-piperidyl) methacrylate (manufactured by Asahi Denka Co., Ltd., a brand name "adecastab LA- 87 "), in addition to the brand names Chimassorb944LD (manufactured by Shiba Kaigi Co., Ltd.), Tinuvin 622LD (manufactured by Shiba Gaiji Co., Ltd.), Tinuvin 144 (manufactured by Shiba Gaiji Co., Ltd.), Goodrite UV-3034 (manufactured by Goodrich Co., Ltd.) The hindered amine compound can be mentioned.

또한, 상기 이외의 3급 아민 화합물로서, 예를 들면 트리메틸아민, 트리에틸아민, 트리프로필아민, 트리부틸아민, 트리펜틸아민, 트리헥실아민, 디메틸시클로헥실아민, 디메틸벤질아민, 트리페닐아민, 폴리옥시에틸렌 야자알킬아민(카오(주) 제조, 상품명 "아미트 102"), 폴리옥시에틸렌알킬아민(카오(주) 제조, 상품명 "아미트 105", "아미트 105A", "아미트 302", "아미트 320" 등) 등을, 알킬아민염으로서는, 코코넛아민아세테이트(카오(주) 제조, 상품명 "아세타민 24"), 스테아릴아민아세테이트(카오(주) 제조, 상품명 "아세타민 86") 등을 들 수 있다. 4급 암모늄염의 양이온 계면활성제로서는, 예를 들면 라우릴트리메틸암모늄클로라이드(카오(주) 제조, 상품명 "코타민 24P"), 스테아릴트리메틸암모늄클로라이드(카오(주) 제조, 상품명 "코타민 86P"), 세틸트리메틸암모늄클로라이드(카오(주) 제조, 상품명 "코타민 60W"), 디스테아릴디메틸암모늄클로라이드(카오(주) 제조, 상품명 "코타민 D86P"), 코코알킬디메틸벤질암모늄클로라이드(카오(주) 제조, 상품명 "사니졸 C"), 염화벤잘코늄(카오(주) 제조, 상품명 "사니졸 B-50") 등을 들 수 있다. 또한 4급 암모늄염의 양쪽성 계면활성제로서는, 예를 들면 라우릴베타인(카오(주) 제조, 상품명 "안히톨 20BS", "안히톨 24B"), 스테아릴베타인(카오(주) 제조, 상품명 "안히톨 86B"), 라우릴디메틸아민옥시드(카오(주) 제조, 상품명 "안히톨 20N") 등을 들 수 있다. Moreover, as a tertiary amine compound of that excepting the above, for example, trimethylamine, triethylamine, tripropylamine, tributylamine, tripentylamine, trihexylamine, dimethylcyclohexylamine, dimethylbenzylamine, triphenylamine, Polyoxyethylene palmalkylamine (manufactured by Kao Corporation, trade name "Amit 102"), polyoxyethylenealkylamine (manufactured by Kao Corporation, trade names "Amit 105", "Amit 105A", "Amit 302" "," Amit 320 ", etc.) As an alkylamine salt, coconut amine acetate (Kao Corporation make, brand name" acetamine 24 "), stearylamine acetate (Kao Corporation make, brand name" acetamine) 86 "), and the like. As a cationic surfactant of a quaternary ammonium salt, for example, lauryltrimethylammonium chloride (Kao Corporation make, brand name "cotamine 24P"), stearyl trimethylammonium chloride (Kao Corporation make, brand name "cotamine 86P" ), Cetyltrimethylammonium chloride (manufactured by Cao Corporation, trade name "Cotamine 60W"), distearyldimethylammonium chloride (manufactured by Cao Corporation, trade name "Cotamine D86P"), cocoalkyldimethylbenzylammonium chloride (Kao) Ltd. make, brand name "Sanazole C"), benzalkonium chloride (Kao Corporation make, brand name "Sanazole B-50"), etc. are mentioned. As the amphoteric surfactant of the quaternary ammonium salt, for example, lauryl betaine (manufactured by Cao), trade names "Anhitol 20BS", "Anhitol 24B"), stearyl betaine (manufactured by Cao), Trade names "Anthitol 86B"), lauryl dimethylamine oxide (manufactured by Kao Corporation, trade name "Anhitol 20N"), and the like.

또한, 1급 아민도 사용할 수 있지만, 경화성 조성물의 보존 안정성이 저하되는 경우가 있기 때문에 주의를 요한다. 상기 예시한 (D) 성분은 1종을 사용할 수도 있고, 2종 이상을 조합하여 사용할 수도 있다. Moreover, although primary amine can also be used, attention is required because the storage stability of a curable composition may fall. 1 type may be used for the above-mentioned (D) component, and may be used for it in combination of 2 or more type.

본 실시 형태에 따른 경화성 조성물에서의 (D) 성분의 함유량은, (E) 유기 용제를 제외한 성분의 합계를 100 질량％로 한 경우, 바람직하게는 0.1 내지 10 질량％의 범위 내이고, 보다 바람직하게는 0.5 내지 8 질량％의 범위 내이다. (D) 성분의 함유량이 0.1 질량％ 미만이면 무기 입자의 응집이 촉진되지 않고, 응집체가 생성되지 않을 우려가 있다. 한편, 10 질량％를 초과하면, 입자 함유 수지층의 경도가 손상될 우려가 있다. When content of (D) component in the curable composition which concerns on this embodiment makes the sum total of the component except (E) organic solvent 100 mass%, Preferably it exists in the range of 0.1-10 mass%, More preferably, Preferably it exists in the range of 0.5-8 mass%. When content of (D) component is less than 0.1 mass%, aggregation of an inorganic particle may not be accelerated | stimulated and there exists a possibility that an aggregate may not be produced. On the other hand, when it exceeds 10 mass%, there exists a possibility that the hardness of a particle containing resin layer may be damaged.

1.5. (E) 유기 용제1.5. (E) organic solvent

본 실시 형태에 따른 경화성 조성물은 (E) 유기 용제를 함유한다. (E) 성분의 기능 중 하나로서, (E) 유기 용제를 사용하여 희석함으로써 입자 함유 수지층의 두께를 적절하게 조절하는 것을 들 수 있다. The curable composition which concerns on this embodiment contains the (E) organic solvent. As one of the functions of (E) component, what adjusts the thickness of a particle | grain containing resin layer suitably by diluting using (E) organic solvent is mentioned.

(E) 유기 용제로서는, 예를 들면 메탄올, 에탄올, 이소프로판올, 부탄올, 옥탄올 등의 알코올류; 아세톤, 메틸에틸케톤, 메틸이소부틸케톤, 시클로헥사논 등의 케톤류; 아세트산에틸, 아세트산부틸, 락트산에틸, γ-부티로락톤, 프로필렌글리콜모노메틸에테르아세테이트, 프로필렌글리콜모노에틸에테르아세테이트 등의 에스테르류; 에틸렌글리콜모노메틸에테르, 디에틸렌글리콜모노부틸에테르 등의 에테르류; 벤젠, 톨루엔, 크실렌 등의 방향족 탄화수소류; 디메틸포름아미드, 디메틸아세트아미드, N-메틸피롤리돈 등의 아미드류 등을 들 수 있다. 이들 중에서도, 알코올류의 유기 용제가 바람직하다. 이상 예시한 (E) 성분은 1종 단독으로 사용할 수도 있고, 2종 이상을 조합하여 사용할 수도 있다.(E) As an organic solvent, For example, Alcohol, such as methanol, ethanol, isopropanol, butanol, an octanol; Ketones such as acetone, methyl ethyl ketone, methyl isobutyl ketone and cyclohexanone; Esters such as ethyl acetate, butyl acetate, ethyl lactate, γ-butyrolactone, propylene glycol monomethyl ether acetate, and propylene glycol monoethyl ether acetate; Ethers such as ethylene glycol monomethyl ether and diethylene glycol monobutyl ether; Aromatic hydrocarbons such as benzene, toluene and xylene; Amides such as dimethylformamide, dimethylacetamide, N-methylpyrrolidone and the like. Among these, the organic solvent of alcohols is preferable. (E) component illustrated above may be used individually by 1 type, and may be used in combination of 2 or more type.

본 실시 형태에 따른 경화성 조성물에서의 (E) 성분의 함유량은, (E) 성분을 제외한 다른 성분의 합계를 100 질량부로 한 경우 50 내지 10,000 질량부의 범위 내인 것이 바람직하다. (E) 성분의 함유량은 도포 막 두께, 경화성 조성물의 점도 등을 고려하여 적절하게 결정할 수 있다. It is preferable that content of (E) component in the curable composition which concerns on this embodiment exists in the range of 50-10,000 mass parts when the total of other components except (E) component is 100 mass parts. The content of the component (E) can be appropriately determined in consideration of the coating film thickness, the viscosity of the curable composition, and the like.

1.6. 경화성 조성물의 제조 방법1.6. Process for producing curable composition

본 실시 형태에 따른 경화성 조성물은, (E) 유기 용제 중에 (A) 다관능 중합성 불포화기 함유 화합물, (B) 라디칼 중합 개시제, (C) 무기 입자의 알코올 분산액, (D) 입자 응집제를 각각 소정의 비율로 균질하게 혼합 교반함으로써 얻을 수 있다. 교반 방법에 대해서는 특별히 제한되지 않지만, 예를 들면 각종 혼련기, 비드밀, 고압 균질기 등을 사용하여 교반할 수 있다. 이러한 경화성 조성물을 제조한 단계에서, 상기 무기 입자의 적어도 일부가 응집체를 형성하고 있을 수도 있다.The curable composition which concerns on this embodiment contains (A) polyfunctional polymerizable unsaturated group containing compound, (B) radical polymerization initiator, (C) alcohol dispersion liquid of inorganic particle, and (D) particle coagulant, respectively in (E) organic solvent. It can obtain by mixing and stirring homogeneously at a predetermined ratio. Although it does not restrict | limit especially about a stirring method, For example, it can stir using various kneading machine, bead mill, a high pressure homogenizer, etc. In the step of producing such a curable composition, at least part of the inorganic particles may form an aggregate.

2. 도전성 적층체2. Conductive laminate

2.1. 제1 실시 형태2.1. First embodiment

도 1에 제1 실시 형태에 따른 도전성 적층체 (100)을 모식적으로 나타낸 단면도를 나타낸다. 제1 실시 형태에 따른 도전성 적층체 (100)은, 도 1에 나타낸 바와 같이 투명 기재층 (10)의 한쪽면에 입자 함유 수지층 (20), 투명 도전층 (30)의 순으로 형성되며, 상기 입자 함유 수지층 (20)은 무기 입자의 응집체를 함유하는 것을 특징으로 한다. 제1 실시 형태에 따른 도전성 적층체 (100)은, 상기 입자 함유 수지층 (20)을 갖기 때문에 투명성 및 뉴턴링 방지성이 우수하고, 휘도 불균일이 없는 도전성 적층체가 된다. 이하, 투명 기재층 (10), 입자 함유 수지층 (20), 투명 도전층 (30)의 순으로 설명한다. 또한, 각 층에서의 물성값의 측정 방법은 "2.3. 도전성 적층체의 물성"의 항목에 기재되어 있는 방법을 준용한다.1 is a cross-sectional view schematically showing the conductive laminate 100 according to the first embodiment. As shown in FIG. 1, the conductive laminate 100 according to the first embodiment is formed on one surface of the transparent base layer 10 in the order of the particle-containing resin layer 20 and the transparent conductive layer 30. The particle-containing resin layer 20 is characterized by containing an aggregate of inorganic particles. Since the electroconductive laminated body 100 which concerns on 1st Embodiment has the said particle containing resin layer 20, it is excellent in transparency and Newton ring prevention property, and becomes an electroconductive laminated body without luminance nonuniformity. Hereinafter, it demonstrates in order of the transparent base material layer 10, the particle containing resin layer 20, and the transparent conductive layer 30. FIG. In addition, the method of measuring the physical-property value in each layer applies the method described in the item of "2.3. Physical property of an electroconductive laminated body".

2.1.1. 투명 기재층2.1.1. Transparent substrate layer

투명 기재층 (10)으로서는, 투명하고 박판으로 가공하기 쉽다는 점에서 유리, 플라스틱 등이 사용되며, 플라스틱 필름, 플라스틱판이 바람직하게 사용된다. 이러한 플라스틱으로서는, 예를 들면 폴리카르보네이트, 폴리메틸메타크릴레이트, 폴리스티렌/폴리메틸메타크릴레이트 공중합체, 폴리스티렌, 폴리에스테르, 폴리에틸렌테레프탈레이트, 폴리올레핀, 트리아세틸셀룰로오스 수지, 디에틸렌글리콜의 디알릴카르보네이트(CR-39), ABS 수지, AS 수지, 폴리아미드, 에폭시 수지, 멜라민 수지, 환상 올레핀계 수지(예를 들면, 노르보르넨계 수지) 등을 들 수 있다. 이들 중에서도, 폴리카르보네이트, 폴리스티렌/폴리메틸메타크릴레이트 공중합체, 폴리에틸렌테레프탈레이트, 트리아세틸셀룰로오스 수지, 환상 올레핀계 수지가 바람직하고, 투명성의 관점에서 노르보르넨계 수지 등의 환상 올레핀계 수지가 보다 바람직하다. 이러한 환상 올레핀계 수지로서는, 하기 화학식 1로 표시되는 화합물을 들 수 있다. As the transparent base material layer 10, glass, a plastic, etc. are used at the point which is transparent and it is easy to process into a thin plate, and a plastic film and a plastic plate are used preferably. As such plastics, for example, polycarbonate, polymethyl methacrylate, polystyrene / polymethyl methacrylate copolymer, polystyrene, polyester, polyethylene terephthalate, polyolefin, triacetyl cellulose resin, diallyl of diethylene glycol Carbonate (CR-39), ABS resin, AS resin, polyamide, epoxy resin, melamine resin, cyclic olefin resin (e.g., norbornene resin) and the like. Among these, polycarbonate, polystyrene / polymethyl methacrylate copolymer, polyethylene terephthalate, triacetyl cellulose resin, and cyclic olefin resin are preferable, and cyclic olefin resin such as norbornene resin is preferable from the viewpoint of transparency. More preferred. As such cyclic olefin resin, the compound represented by following General formula (1) is mentioned.

Figure pat00001
Figure pat00001

(상기 화학식 1 중, a 및 b는 독립적으로 0 또는 1을 나타내고, c 및 d는 독립적으로 0 내지 2의 정수를 나타내고, R4, R5, R6, R7, R8, R9, R10, R11, R12 및 R13은 각각 독립적으로 수소 원자; 할로겐 원자; 산소 원자, 황 원자, 질소 원자 또는 규소 원자를 포함하는 연결기를 가질 수도 있는 치환 또는 비치환된 탄소수 1 내지 40의 탄화수소기; 또는 극성기를 나타내고, R10과 R11, 또는 R12와 R13은 일체화되어 2가의 탄화수소기를 형성할 수도 있고, R10 또는 R11과 R12 또는 R13은 서로 결합하여 탄소환 또는 복소환(이들 탄소환 또는 복소환은 단환 구조일 수도 있고, 다른 환이 축합한 다환 구조일 수도 있음)을 형성할 수도 있음)(In Formula 1, a and b independently represent 0 or 1, c and d independently represent an integer of 0 to 2, and R 4 , R 5 , R 6 , R 7 , R 8 , R 9 , R 10 , R 11 , R 12 and R 13 each independently represent a hydrogen atom; a halogen atom; a substituted or unsubstituted carbon atom having 1 to 40 carbon atoms which may have a linking group including an oxygen atom, a sulfur atom, a nitrogen atom or a silicon atom Or a polar group, R 10 and R 11 , or R 12 and R 13 may be integrated to form a divalent hydrocarbon group, and R 10 or R 11 and R 12 or R 13 may be bonded to each other to form a carbocyclic ring or Heterocycles (these carbocycles or heterocycles may be monocyclic or may be polycyclic condensed with other rings)

이러한 환상 올레핀계 수지는 하기의 (a) 내지 (f) 중 어느 하나인 것이 바람직하고, 하기의 (b), (c), (e), (f) 중 어느 하나인 것이 보다 바람직하다. It is preferable that such cyclic olefin resin is any one of following (a)-(f), and it is more preferable that it is any one of following (b), (c), (e), (f).

(a) 상기 화학식 1로 표시되는 환상 올레핀계 단량체에서 유래하는 구조 단위를 갖는 개환 (공)중합체. (a) A ring-opening (co) polymer having a structural unit derived from the cyclic olefin monomer represented by the formula (1).

(b) 상기 화학식 1로 표시되는 환상 올레핀계 단량체에서 유래하는 구조 단위를 갖는 개환 (공)중합체를 수소 첨가하여 얻어지는 개환 (공)중합 수소 첨가체.(b) A ring-opening (co) polymerized hydrogenated substance obtained by hydrogenating a ring-opening (co) polymer having a structural unit derived from the cyclic olefin monomer represented by the formula (1).

(c) 상기 (a) 또는 (b)의 개환 (공)중합체 또는 개환 (공)중합 수소 첨가체를 프리델 크래프트 반응에 의해 고리화한 후, 수소 첨가하여 얻어지는 개환 (공) 중합 수소 첨가체. (c) The ring-opening (co) polymerization hydrogenated body obtained by hydrogenating the ring-opening (co) polymer or ring-opening (co) polymerization hydrogenated compound of said (a) or (b) by Friedel Craft reaction.

(d) 상기 화학식 1로 표시되는 환상 올레핀계 단량체의 부가 (공)중합체. (d) an addition (co) polymer of the cyclic olefin monomer represented by the formula (1).

(e) 상기 화학식 1로 표시되는 환상 올레핀계 단량체와 에틸렌 또는 1 치환에틸렌의 부가 공중합체. (e) an addition copolymer of a cyclic olefin monomer represented by the formula (1) and ethylene or monosubstituted ethylene.

(f) 상기 화학식 1로 표시되는 환상 올레핀계 단량체, 비닐계 환상 탄화수소계 단량체 및 시클로펜타디엔계 단량체로 이루어지는 군으로부터 선택되는 1종 이상의 단량체의 부가형 (공)중합체 또는 그의 수소 첨가체. (f) An addition type (co) polymer of one or more monomers selected from the group consisting of cyclic olefin monomers, vinyl cyclic hydrocarbon monomers and cyclopentadiene monomers represented by the formula (1), or a hydrogenated substance thereof.

투명 기재층 (10)으로서 환상 올레핀계 수지 필름을 사용하는 경우에는, 상기 환상 올레핀계 수지를 용융 성형법 또는 용액 유연법(용제 캐스팅법) 등의 공지된 방법에 의해 필름 또는 시트상으로 성형한 것을 사용할 수 있다. 이들 중에서, 막 두께의 균일성 및 표면 평활성이 양호해진다는 점에서 용제 캐스팅법이 바람직하다. 또한, 제조 비용면에서는 용융 성형법이 바람직하다. When using a cyclic olefin resin film as the transparent base material layer 10, what shape | molded the said cyclic olefin resin into a film or sheet form by well-known methods, such as a melt molding method or the solution casting method (solvent casting method). Can be used. Among these, the solvent casting method is preferable at the point that the uniformity and surface smoothness of a film thickness become favorable. In addition, in view of manufacturing cost, the melt molding method is preferable.

투명 기재층 (10)의 위상차는 콘트라스트가 높고, 시인성이 높은 편광판 일체형의 이너 터치 패널이 얻어진다는 점에서 바람직하게는 0 내지 50 ㎚, 보다 바람직하게는 0 내지 20 ㎚, 더욱 바람직하게는 0 내지 10 ㎚를 갖는다. The phase difference of the transparent base material layer 10 is preferably 0 to 50 nm, more preferably 0 to 20 nm, further preferably 0 to 0 in that the contrast is high and the inner touch panel of the polarizing plate integrated with high visibility is obtained. 10 nm.

투명 기재층 (10)의 전체 광선 투과율은, 터치 패널의 시인성이 양호해진다는 점에서 바람직하게는 85 ％ 이상, 보다 바람직하게는 88 ％ 이상, 특히 바람직하게는 90 ％ 이상이다. The total light transmittance of the transparent base material layer 10 is preferably 85% or more, more preferably 88% or more, and particularly preferably 90% or more, in that the visibility of the touch panel becomes good.

투명 기재층 (10)의 두께는, 양호한 취급성을 확보함과 동시에 롤상으로의 권취가 용이해진다는 점에서 통상적으로 1 내지 500 ㎛, 바람직하게는 1 내지 300 ㎛, 보다 바람직하게는 10 내지 250 ㎛, 특히 바람직하게는 50 내지 200 ㎛이다.The thickness of the transparent base material layer 10 is 1-500 micrometers normally, Preferably it is 1-300 micrometers, More preferably, it is 10-250 from the point which ensures favorable handleability and makes it easy to wind up in roll shape. Μm, particularly preferably 50 to 200 μm.

투명 기재층 (10)의 표준 편차는 통상적으로 20 ％ 이내, 바람직하게는 10 ％ 이내, 보다 바람직하게는 5 ％ 이내, 더욱 바람직하게는 3 ％ 이내이다. 또한, 투명 기재층의 평면 거리 1 cm당 두께의 표준 편차는 통상적으로 10 ％ 이하, 바람직하게는 5 ％ 이하, 보다 바람직하게는 1 ％ 이하, 더욱 바람직하게는 0.5 ％ 이하인 것이 바람직하다. 이러한 두께 제어를 실시함으로써, 도전성 적층 필름면 내에서의 불균일을 방지할 수 있다. The standard deviation of the transparent base layer 10 is usually within 20%, preferably within 10%, more preferably within 5%, and even more preferably within 3%. In addition, the standard deviation of the thickness per cm of the plane distance of the transparent base material layer is usually 10% or less, preferably 5% or less, more preferably 1% or less, and still more preferably 0.5% or less. By performing such thickness control, the nonuniformity in the electroconductive laminated film surface can be prevented.

투명 기재층 (10)은 터치 패널을 액정 표시 장치에 배치하는 경우 등 필요에 따라 연신 가공된 수지 필름일 수도 있다. 연신 가공된 수지 필름은 상술한 수지 필름을 공지된 일축 연신법 또는 이축 연신법에 의해 제조할 수 있다. 즉, 텐터법에 의한 횡일축 연신법, 롤간 압축 연신법, 원주가 상이한 롤을 이용하는 종일축 연신법 등, 또는 횡일축과 종일축을 조합한 이축 연신법, 인플레이션법에 의한 연신법 등을 이용할 수 있다. The transparent base material layer 10 may be the resin film extended | stretched as needed, for example, when arrange | positioning a touchscreen to a liquid crystal display device. The stretched resin film can manufacture the above-mentioned resin film by a well-known uniaxial stretching method or the biaxial stretching method. That is, the transverse stretching method by the tenter method, the compression stretching method between rolls, the longitudinal stretching method using the rolls with different circumferences, the biaxial stretching method which combined the transverse axis and the longitudinal axis, the stretching method by inflation method, etc. can be used. have.

환상 올레핀계 수지 필름을 사용하는 경우에 있어서 일축 연신법의 경우, 연신 속도는 통상적으로 1 내지 5,000 ％/분이고, 바람직하게는 50 내지 1,000 ％/분이고, 보다 바람직하게는 100 내지 1,000 ％/분이고, 더욱 바람직하게는 100 내지 500 ％/분이다. 또한, 이축 연신법의 경우, 동시에 2 방향으로 연신을 행하는 경우나 일축 연신 후에 최초의 연신 방향과 상이한 방향으로 연신 처리하는 경우가 있다. 이들 경우, 2개의 연신축의 교차 각도는, 통상적으로 120 내지 60도의 범위이다. 또한, 연신 속도는 각 연신 방향에서 동일하거나 상이할 수 있으며, 통상적으로 1 내지 5,000 ％/분이고, 바람직하게는 50 내지 1,000 ％/분이고, 보다 바람직하게는 100 내지 1,000 ％/분이고, 더욱 바람직하게는 100 내지 500 ％/분이다.In the case of using a cyclic olefin resin film, in the case of the uniaxial stretching method, the stretching rate is usually 1 to 5,000% / min, preferably 50 to 1,000% / min, more preferably 100 to 1,000% / min, More preferably, it is 100 to 500% / min. In the biaxial stretching method, stretching may be performed in two directions at the same time, or stretching may be performed in a direction different from the first stretching direction after uniaxial stretching. In these cases, the crossing angle of the two stretching axes is usually in the range of 120 to 60 degrees. In addition, the stretching speed may be the same or different in each stretching direction, usually 1 to 5,000% / min, preferably 50 to 1,000% / min, more preferably 100 to 1,000% / min, more preferably 100 to 500% / min.

연신 가공 온도는 특별히 한정되지 않지만, 투명 수지의 유리 전이 온도(Tg)를 기준으로 하여 통상적으로 Tg±30 ℃, 바람직하게는 Tg±10 ℃, 더욱 바람직하게는 Tg-5 ℃ 내지 Tg+10 ℃의 범위이다. 연신 가공 온도가 상기 범위 내이면 위상차 불균일의 발생을 억제하는 것이 가능해지며, 굴절률 타원체의 제어가 용이해진다는 점에서 비람직하다.The stretching processing temperature is not particularly limited, but is usually Tg ± 30 ° C, preferably Tg ± 10 ° C, more preferably Tg-5 ° C to Tg + 10 ° C based on the glass transition temperature (Tg) of the transparent resin. Range. When the stretching processing temperature is within the above range, it is possible to suppress the occurrence of phase difference unevenness, which is preferable in that the control of the refractive index ellipsoid becomes easy.

연신 배율은 수지의 종류와 원하는 특성에 따라 결정되기 때문에 특별히 한정되지는 않지만, 환상 올레핀계 중합체 필름을 사용하는 경우 통상적으로 1.01 내지 10배, 바람직하게는 1.1 내지 5배, 보다 바람직하게는 1.1 내지 3.5배이다. 연신 배율이 10배를 초과하는 경우, 위상차의 제어가 곤란해지는 경우가 있다. The draw ratio is not particularly limited because it is determined according to the type of resin and desired properties, but when using a cyclic olefin polymer film, it is usually 1.01 to 10 times, preferably 1.1 to 5 times, more preferably 1.1 to 3.5 times. When the draw ratio exceeds 10 times, it may be difficult to control the phase difference.

연신한 필름은 그대로 냉각할 수도 있지만, Tg-20 ℃ 내지 Tg의 온도 분위기하에 적어도 10초 이상, 바람직하게는 30초 내지 60분, 보다 바람직하게는 1분 내지 60분간 정치한다. 이에 따라, 위상차 특성의 시간 경과에 따른 변화가 적고, 안정적인 위상차 필름이 얻어진다. Although the stretched film can be cooled as it is, it is left to stand for at least 10 seconds or more, preferably 30 seconds to 60 minutes, more preferably 1 minute to 60 minutes under a temperature atmosphere of Tg-20 ° C to Tg. Thereby, there is little change with time lapse of retardation characteristic, and a stable retardation film is obtained.

또한, 투명 기재층 (10)의 선팽창 계수는 온도 20 ℃ 내지 100 ℃의 범위에서 바람직하게는 1×10-4(1/℃) 이하이고, 보다 바람직하게는 9×10-5(1/℃) 이하이고, 더욱 바람직하게는 8×10-5(1/℃) 이하이고, 특히 바람직하게는 7×10-5(1/℃) 이하이다. 또한, 위상차 필름의 경우에는, 연신 방향과 그에 수직인 방향의 선팽창 계수의 차가 바람직하게는 5×10-5(1/℃) 이하이고, 보다 바람직하게는 3×10-5(1/℃) 이하이고, 더욱 바람직하게는 1×10-5(1/℃) 이하이다. 선팽창 계수를 상기 범위 내로 함으로써 상기 위상차 필름을 본 발명의 도전성 적층체에 사용했을 때, 사용시의 온도 및 습도 등의 영향을 포함하는 응력 변화가 미치는 위상차의 변화나 투명 도전층의 저항값 변화가 억제되고, 본 발명의 도전성 적층체로서 사용했을 때 장기간 특성의 안정을 얻을 수 있다. The coefficient of linear expansion of the transparent base material layer 10 is preferably 1 × 10 −4 (1 / ° C.) or less, more preferably 9 × 10 −5 (1 / ° C.) in a temperature range of 20 ° C. to 100 ° C. Or less, More preferably, it is 8 * 10 <-5> (1 / degreeC) or less, Especially preferably, it is 7 * 10 <-5> (1 / degreeC) or less. In the case of the retardation film, the difference in the linear expansion coefficient in the stretching direction and in the direction perpendicular thereto is preferably 5 × 10 −5 (1 / ° C.) or less, and more preferably 3 × 10 −5 (1 / ° C.) It is below, More preferably, it is 1 * 10 <-5> (1 / degreeC) or less. By using the coefficient of linear expansion within the above range, when the retardation film is used for the conductive laminate of the present invention, the change in the phase difference or the change in the resistance value of the transparent conductive layer, which is affected by the stress change including effects such as temperature and humidity during use, is suppressed. When used as the electroconductive laminate of the present invention, stability of long-term characteristics can be obtained.

상술한 바와 같이 하여 연신한 필름은, 연신에 의해 분자가 배향되어 투과광에 위상차를 부여하게 되지만, 이 위상차는 연신 전의 필름의 위상차값과 연신 배율, 연신 온도, 연신 배향 후의 필름의 두께에 따라 제어할 수 있다. 여기서, 위상차는 복굴절광의 굴절률 차(△n)와 두께(d)의 곱(△nd)으로 정의된다. 이러한 연신 필름은 콘트라스트가 높고, 시인성이 높은 편광판 일체형의 이너 터치 패널이 얻어진다는 점에서 투과광 파장 λ의 1/4의 △nd를 갖는 것이 바람직하다. In the film stretched as described above, molecules are oriented by stretching to impart retardation to transmitted light, but the phase difference is controlled according to the retardation value of the film before stretching and the stretching ratio, the stretching temperature, and the thickness of the film after stretching orientation. can do. Here, the phase difference is defined as the product (Δnd) of the refractive index difference (Δn) of the birefringent light and the thickness (d). Such a stretched film preferably has Δnd of 1/4 of the transmitted light wavelength λ in that the contrast is high and the inner touch panel of the polarizing plate integrated with high visibility is obtained.

또한, 투명 기재층 (10)은 입자 함유 보호층 (20)과의 접착성을 높이는 목적에서 표면 처리를 실시한 것일 수도 있다. 상기 표면 처리로서는, 플라즈마 처리, 코로나 처리, 알칼리 처리, 코팅 처리 등을 들 수 있다. 특히 코로나 처리를 이용함으로써, 투명 수지 필름과 입자 함유 보호층의 밀착을 강고하게 할 수 있다.In addition, the transparent base material layer 10 may be surface-treated in order to improve the adhesiveness with the particle containing protective layer 20. FIG. Examples of the surface treatment include plasma treatment, corona treatment, alkali treatment, coating treatment, and the like. In particular, by using corona treatment, the adhesion between the transparent resin film and the particle-containing protective layer can be strengthened.

환상 올레핀계 수지 필름을 사용하는 경우 코로나 처리 조건으로서는, 코로나 방전 전자의 조사량으로서 1 내지 1,000 W/㎡/분인 것이 바람직하고, 10 내지 100 W/㎡/분으로 하는 것이 보다 바람직하다. 이것보다 조사량이 낮은 경우에는 충분한 표면 개질 효과가 얻어지지 않는 경우가 있으며, 이것보다 조사량이 높은 경우에는, 투명 기재층 (10)의 내부까지 처리 효과가 미쳐 필름 그 자체가 변질될 우려가 있다. 이 코로나 처리는 입자 함유 보호층 (20)과 접촉하는 면뿐만 아니라 그 반대측의 면에 실시할 수도 있다. When using a cyclic olefin resin film, as corona treatment conditions, it is preferable that it is 1-1,000 W / m <2> / min, and, as for the irradiation amount of a corona discharge electron, it is more preferable to set it as 10-100 W / m <2> / min. When the irradiation amount is lower than this, a sufficient surface modification effect may not be obtained. When the irradiation amount is higher than this, there exists a possibility that a processing effect may extend to the inside of the transparent base material layer 10, and the film itself may deteriorate. This corona treatment can be performed not only on the surface in contact with the particle-containing protective layer 20 but also on the surface on the opposite side thereof.

또한, 코로나 처리를 행한 직후에 도공할 수도 있고, 제전시킨 후 도공할 수도 있다. 입자 함유 보호층의 외관이 양호해진다는 점에서, 제전시킨 후 도공한 것이 바람직하다. In addition, coating may be performed immediately after the corona treatment, or may be applied after static elimination. Since the external appearance of a particle | grain containing protective layer becomes favorable, it is preferable to carry out coating after static elimination.

2.1.2. 입자 함유 수지층2.1.2. Particle-containing resin layer

입자 함유 수지층 (20)은 상술한 투명 기재층 (10)의 한쪽면에 형성되어 있다. 입자 함유 수지층 (20)은 무기 입자의 응집체를 함유하고 있다. 입자 함유 수지층 (20)은 무기 입자의 응집체를 함유함으로써, 그 표면에 요철 형상을 부여할 수 있다. 이에 따라, 뉴턴링 방지성이 우수하고, 화소의 휘도 불균일이 없는 입자 함유 수지층을 형성할 수 있다.The particle-containing resin layer 20 is formed on one surface of the transparent base layer 10 described above. The particle-containing resin layer 20 contains an aggregate of inorganic particles. The particle-containing resin layer 20 can impart an uneven shape to the surface by containing an aggregate of inorganic particles. Thereby, the particle containing resin layer which is excellent in Newton ring prevention property and does not have the luminance nonuniformity of a pixel can be formed.

무기 입자의 평균 일차 입경은 바람직하게는 5 내지 200 nm이며, 보다 바람직하게는 5 내지 150 nm이다. 평균 일차 입경은, 예를 들면 투과형 전자 현미경으로 측정한 50개의 입경을 평균하는 것으로 구해진다. 평균 일차 입경이 상기 범위내이면, 입자 함유 수지층에서의 빛의 내부 산란을 작게 할 수 있기 때문에, 도전성 적층체의 헤이즈 값을 감소시킬 수 있다. 평균 일차 입경이 5 nm 미만이면, 입자 함유 수지층의 표면에 요철 형상을 형성시키기 어려워지기 때문에, 화소의 휘도 불균일이나 뉴턴링을 방지하는 것이 곤란해진다. 한편, 평균 일차 입경이 200 nm를 초과하면, 입자 함유 수지층에서의 빛의 내부 산란이 커지기 때문에, 도전성 적층체의 투명성이 저하하는 경향이 있다. The average primary particle diameter of the inorganic particles is preferably 5 to 200 nm, more preferably 5 to 150 nm. The average primary particle diameter is calculated | required by averaging 50 particle diameters measured, for example by the transmission electron microscope. When the average primary particle size is in the above range, since the internal scattering of light in the particle-containing resin layer can be made small, the haze value of the conductive laminate can be reduced. If the average primary particle size is less than 5 nm, it becomes difficult to form irregularities on the surface of the particle-containing resin layer, and thus it becomes difficult to prevent luminance unevenness or Newton ring of the pixel. On the other hand, when an average primary particle diameter exceeds 200 nm, since the internal scattering of the light in a particle containing resin layer becomes large, there exists a tendency for transparency of an electroconductive laminated body to fall.

입자 함유 수지층 (20)에서의 무기 입자의 응집체의 함유량은 바람직하게는 0.1 내지 20 질량％의 범위 내이고, 보다 바람직하게는 1 내지 10 질량％의 범위 내이다. 무기 입자의 함유량이 0.1 질량％ 미만이면 수지층의 투명성은 우수하지만, 화소의 휘도 불균일이나 뉴턴링을 방지하는 것이 곤란해진다. 한편, 20 질량％를 초과하면, 수지층에서의 빛의 내부 산란이 커지기 때문에 투명성이 저하되는 경향이 있다. Content of the aggregate of the inorganic particle in the particle containing resin layer 20 becomes like this. Preferably it exists in the range of 0.1-20 mass%, More preferably, it exists in the range of 1-10 mass%. When the content of the inorganic particles is less than 0.1% by mass, the transparency of the resin layer is excellent, but it is difficult to prevent luminance unevenness or Newton ring of the pixel. On the other hand, when it exceeds 20 mass%, since the internal scattering of light in a resin layer becomes large, there exists a tendency for transparency to fall.

입자 함유 수지층 (20)은 무기 입자를 함유하는 경화성 조성물을 이용해서 형성할 수 있다. 이러한 경화성 조성물의 바람직한 구체예로서는, "1. 경화성 조성물"의 항목에서 설명한 경화성 조성물을 들 수 있다. The particle-containing resin layer 20 can be formed using a curable composition containing inorganic particles. As a preferable specific example of such a curable composition, the curable composition demonstrated by the item of "1. curable composition" is mentioned.

입자 함유 수지층 (20)의 두께는 바람직하게는 0.5 내지 20 ㎛, 보다 바람직하게는 1 내지 15 ㎛, 특히 바람직하게는 2 내지 10 ㎛이다. The thickness of the particle-containing resin layer 20 is preferably 0.5 to 20 m, more preferably 1 to 15 m, and particularly preferably 2 to 10 m.

입자 함유 수지층 (20)의 형성 방법에 대하여, 이하에 설명한다. The formation method of the particle containing resin layer 20 is demonstrated below.

우선, 상기 투명 기재층 (10)의 한쪽면에 무기 입자를 함유하는 경화성 조성물을 도공하여 도공층을 형성하고, 건조 처리한다. 도공 방법에 대해서는 특별히 제한은 없고, 예를 들면 바 코팅 도공, 에어 나이프 도공, 그라비아 도공, 그라비아 리버스 도공, 리버스 롤 도공, 립 도공, 다이 도공, 침지 도공, 오프셋 인쇄, 플렉소 인쇄, 스크린 인쇄 등의 공지된 방법을 이용할 수 있다. 이 도공층의 두께는, 경화성 조성물 중에 포함되는 고형분 농도 및 경화 후의 입자 함유 수지층 (20)의 밀도로부터, 필요한 경화성 조성물의 도공량을 산출함으로써 제어할 수 있다. 도공한 후, 건조 처리하여 경화성 조성물에 포함되는 유기 용제를 휘발시킨다. 이에 따라, 무기 입자의 응집을 더욱 촉진시킬 수 있다. 건조 처리는, 50 내지 120 ℃의 온도에서 0.5 내지 4.0분 정도 행하는 것이 바람직하다. 건조 시간이 길면 길수록, 무기 입자의 이동이 용이해져 그의 응집을 촉진시킬 수 있다. First, the curable composition containing an inorganic particle is coated on one surface of the said transparent base material layer 10, a coating layer is formed, and a drying process is carried out. There is no restriction | limiting in particular about the coating method, For example, bar coating coating, air knife coating, gravure coating, gravure reverse coating, reverse roll coating, lip coating, die coating, immersion coating, offset printing, flexographic printing, screen printing, etc. The known method of can be used. The thickness of this coating layer can be controlled by calculating the coating amount of a required curable composition from the solid content concentration contained in curable composition, and the density of the particle-containing resin layer 20 after hardening. After coating, it is dried to volatilize the organic solvent contained in the curable composition. This can further promote aggregation of the inorganic particles. It is preferable to perform a drying process about 0.5 to 4.0 minutes at the temperature of 50-120 degreeC. The longer the drying time, the easier the movement of the inorganic particles can promote their aggregation.

이어서, 건조 후의 도공층에 자외선을 조사하여 경화시켜, 무기 입자의 응집체를 입자 함유 수지층 (20)의 표면 또는 내부에 고정화할 수 있다. 자외선 조사 장치로서는 특별히 제한은 없고, 고압 수은 램프, 크세논 램프, 메탈 할라이드 램프, 퓨전 H 램프 등을 사용한 공지된 자외선 조사 장치를 사용할 수 있다. 자외선 조사량은, 통상적으로 300 내지 800 mJ/㎠ 정도이다. Subsequently, ultraviolet-ray is irradiated and hardened | cured by the coating layer after drying, and the aggregate of inorganic particle can be fixed to the surface or inside of the particle containing resin layer 20. FIG. There is no restriction | limiting in particular as an ultraviolet irradiation apparatus, The well-known ultraviolet irradiation apparatus using a high pressure mercury lamp, a xenon lamp, a metal halide lamp, a fusion H lamp, etc. can be used. The ultraviolet irradiation amount is about 300-800 mJ / cm <2> normally.

이상과 같이, 뉴턴링 방지성을 부여하는 방법으로서 무기 입자의 응집체를 형성하는 방법을 이용함으로써, 입자 함유 수지층의 형상, 막 두께, 간격 등을 정밀하게 제어하는 것이 가능해지고, 투명성 및 뉴턴링 방지성이 우수하고, 나아가서는 화소의 휘도 불균일이 없는 양호한 수지층을 얻을 수 있다. As mentioned above, by using the method of forming the aggregate of inorganic particle as a method of providing newton ring prevention property, it becomes possible to precisely control the shape, film thickness, space | interval, etc. of a particle containing resin layer, and transparency and a Newton ring It is possible to obtain a satisfactory resin layer which is excellent in the prevention property and further free from luminance unevenness of the pixel.

무기 입자의 응집체로부터 형성되는 입자 함유 수지층 표면의 요철 구조는, 박막인 투명 도전층의 외측 표면에도 요철 구조를 형성하기 때문에, 뉴턴링을 방지할 수 있다. 또한, 무기 입자의 응집체로부터 형성되는 입자 함유 수지층 표면의 요철 구조는 그의 막 두께에 따라 크게 변하지 않으므로, 종래의 방현성 필름에 비해 폭넓은 막 두께 범위에서 뉴턴링을 방지할 수 있다. The uneven structure on the surface of the particle-containing resin layer formed from the aggregate of the inorganic particles forms the uneven structure on the outer surface of the transparent conductive layer, which is a thin film, so that the Newton ring can be prevented. In addition, since the uneven structure of the surface of the particle-containing resin layer formed from the aggregate of the inorganic particles does not change greatly depending on the film thickness thereof, the Newton ring can be prevented in a wide film thickness range as compared with the conventional anti-glare film.

또한 도전성 적층체 (100)에는, 투명 기재층 (10)과 입자 함유 수지층 (20) 사이에 앵커 코팅층 및 반사 방지층 중 적어도 하나를 설치할 수 있다. 이에 따라, 가스 배리어성 및 접착성이 우수하고, 가시광 영역의 투과도가 향상된 도전성 적층체 (100)이 얻어진다. In the conductive laminate 100, at least one of an anchor coating layer and an antireflection layer can be provided between the transparent base layer 10 and the particle-containing resin layer 20. Thereby, the electroconductive laminated body 100 which is excellent in gas barrier property and adhesiveness and improved the transmittance | permeability of visible region is obtained.

2.1.3. 투명 도전층2.1.3. Transparent conductive layer

투명 도전층 (30)은, 상술한 투명 기재층 (10)의 한쪽면에 입자 함유 수지층 (20)이 형성된 필름 위에 추가로 형성되어 있다. The transparent conductive layer 30 is further formed on the film in which the particle containing resin layer 20 was formed in one surface of the transparent base material layer 10 mentioned above.

투명 도전층 (30)의 두께는 30 내지 3,000 Å으로 하는 것이 바람직하고, 50 내지 2,000 Å이 더욱 바람직하다. 30 Å보다 얇으면 표면 저항이 1,000 Ω/□ 이하가 되어 양호한 도전성을 갖는 연속 피막이 되기 어려운 경우가 있다. 한편, 3,000 Å을 초과하면 입자 함유 수지층의 표면 요철이 투명 도전층의 외측 표면의 요철 구조에 영향을 주기 어려워져, 뉴턴링을 효과적으로 방지하는 것이 곤란해지는 경우가 있을 뿐 아니라, 투명성의 저하 등을 초래하는 경우가 있다. It is preferable that the thickness of the transparent conductive layer 30 shall be 30-3,000 Pa, and 50-2,000 Pa is more preferable. When it is thinner than 30 mV, surface resistance may be 1,000 ohms / square or less, and it may be difficult to become the continuous film which has favorable electroconductivity. On the other hand, if it exceeds 3,000 Pa, the surface irregularities of the particle-containing resin layer are less likely to affect the uneven structure of the outer surface of the transparent conductive layer, which may make it difficult to effectively prevent the Newton ring, and also lower the transparency. It may cause.

투명 도전층 (30)은 산화주석을 함유하는 산화인듐, 산화티탄을 함유하는 산화인듐, 산화주석, 산화티탄, 폴리티오펜, 무기 나노 입자 등을 분산시킨 무기/유기 복합계 재료로부터 얻어지는 층이며, 가시광 영역에서 투과도를 갖고, 도전성을 갖는 층이다. The transparent conductive layer 30 is a layer obtained from an inorganic / organic composite material obtained by dispersing indium oxide containing tin oxide, indium oxide containing titanium oxide, tin oxide, titanium oxide, polythiophene, inorganic nanoparticles, and the like. It is a layer which has transparency in visible region, and has electroconductivity.

투명 도전막 (30)을 형성할 때의 타깃으로서, 종래 공지된 ITO 타깃이 사용된다. ITO막의 형성에 사용하는 타깃제로서, 산화인듐과 산화주석의 중량비는 바람직하게는 99.5:0.5 내지 80:20, 보다 바람직하게는 99:1 내지 85:15, 더욱 바람직하게는 99:1 내지 90:10인 것을 사용하는 것이 바람직하다. 중량비가 상기 범위 외이면 저항값의 상승이 발생한다. As a target at the time of forming the transparent conductive film 30, a conventionally well-known ITO target is used. As a target agent used for the formation of the ITO film, the weight ratio of indium oxide and tin oxide is preferably 99.5: 0.5 to 80:20, more preferably 99: 1 to 85:15, still more preferably 99: 1 to 90 It is preferable to use a thing of: 10. If the weight ratio is outside the above range, an increase in the resistance value occurs.

투명 기재층이 수지 필름인 경우의 ITO 성막 온도는 실온 내지 상기 수지 필름의 Tg의 범위인 것이 바람직하고, 실온 내지 상기 수지 필름의 Tg-20 ℃의 범위인 것이 보다 바람직하다. Tg 이상이면 수지 필름의 열화가 발생하는 경우가 있다. It is preferable that it is the range of Tg of room temperature-the said resin film, and, as for a transparent base material layer, it is more preferable that it is the range of Tg-20 degreeC of room temperature-the said resin film. If it is more than Tg, deterioration of a resin film may occur.

또한, ITO 성막시에 분위기 가스로서 아르곤 가스에 미량의 산소 가스, 바람직하게는 아르곤 가스와 산소 가스의 혼합 가스의 부피에 대하여 바람직하게는 0.05 내지 20 부피％, 보다 바람직하게는 0.01 내지 10 부피％, 더욱 바람직하게는 0.1 내지 3 부피％의 산소 가스를 도입하면, ITO 박막의 투명성과 도전성을 양호하게 할 수 있다. In addition, it is preferably 0.05 to 20% by volume, more preferably 0.01 to 10% by volume, with respect to the volume of a small amount of oxygen gas, preferably a mixture of argon gas and oxygen gas, to argon gas as an atmosphere gas during ITO film formation. More preferably, when 0.1 to 3% by volume of oxygen gas is introduced, the transparency and conductivity of the ITO thin film can be improved.

투명 도전층 (30)의 형성 방법으로서는, 진공 증착법, 스퍼터링법, 이온 플레이팅법 등의 종래 공지된 기술을 모두 이용할 수 있지만, 막의 균일성이나 투명 기재에 대한 박막의 밀착성의 관점에서 스퍼터링법으로의 박막 형성이 바람직하다. 또한, 사용하는 박막 재료도 상기 이외에, 예를 들면 안티몬을 함유하는 산화주석 등의 금속 산화물뿐만 아니라, 금, 은, 백금, 팔라듐, 구리, 알루미늄, 니켈, 크롬, 티탄, 코발트, 주석 또는 이들의 합금 등을 사용할 수도 있다.As the method for forming the transparent conductive layer 30, all conventionally known techniques such as vacuum deposition, sputtering, and ion plating can be used. However, in view of the uniformity of the film and the adhesion of the thin film to the transparent substrate, the sputtering method can be used. Thin film formation is preferred. In addition to the above-described thin film materials, not only metal oxides such as tin oxide containing antimony, but also gold, silver, platinum, palladium, copper, aluminum, nickel, chromium, titanium, cobalt, tin or these An alloy etc. can also be used.

2.2. 제2 실시 형태2.2. 2nd embodiment

도 2에 제2 실시 형태에 따른 도전성 적층체 (200)을 모식적으로 나타낸 단면도를 나타낸다. 제2 실시 형태에 따른 도전성 적층체 (200)은, 상술한 도전성 적층체 (100)에서 투명 기재층 (10)의 입자 함유 수지층 (20)이 형성되어 있는 면과는 반대의 면에 하드 코팅(이하, "CHC"라고도 함)층 (40)이 형성되어 있다. HC층 (40)을 설치함으로써, 도전성 적층체 (200)의 휘어짐을 방지할 수 있다. 또한, HC층 (40)은, 투명성, 내찰상성 및 방오성, 특히 지문 제거성 및 지문 시인성이 우수하고, 도전성 적층체 (200)을 보호하는 기능을 담당하고 있다. 2 is a cross-sectional view schematically showing the conductive laminate 200 according to the second embodiment. The conductive laminate 200 according to the second embodiment is hard-coated on the surface opposite to the surface on which the particle-containing resin layer 20 of the transparent base material layer 10 is formed in the conductive laminate 100 described above. A layer 40 (hereinafter also referred to as "CHC") is formed. By providing the HC layer 40, the warpage of the conductive laminate 200 can be prevented. In addition, the HC layer 40 is excellent in transparency, scratch resistance, and antifouling property, in particular, fingerprint removal property and fingerprint visibility, and are in charge of protecting the conductive laminate 200.

HC층 (40)의 막 두께는 특별히 한정되는 것이 아니고, 상술한 입자 함유 수지층 (20)과 같은 막 두께가 바람직하고, 예를 들면 입자 함유 수지층의 두께와 HC층 (40)의 막 두께의 차이는 ±10 ㎛이하인 것이 바람직하고, ±5 ㎛ 이하인 것이 더욱 바람직하다. The film thickness of HC layer 40 is not specifically limited, The film thickness similar to the particle containing resin layer 20 mentioned above is preferable, For example, the thickness of a particle containing resin layer and the film thickness of HC layer 40 are mentioned. It is preferable that the difference is ± 10 m or less, and more preferably ± 5 m or less.

HC층 (40)으로서는, 예를 들면 일본 특허 제4273362호 공보에 게재되어 있는 하드 코팅층을 들 수 있다. 구체적으로는, 퍼플루오로폴리에테르기의 양쪽 말단에 각각 1개 이상의 (메트)아크릴로일기를 갖는 화합물과, 퍼플루오로에테르기, 폴리실록산기 및 (메트)아크릴로일기를 갖는 화합물과, 분자 중에 2개 이상의 (메트)아크릴로일기를 갖는 화합물을 함유하는 경화성 조성물의 수지층을 들 수 있다.As HC layer 40, the hard-coat layer published by Unexamined-Japanese-Patent No. 4273362 is mentioned, for example. Specifically, the compound which has 1 or more (meth) acryloyl group in each terminal of a perfluoro polyether group, the compound which has a perfluoroether group, a polysiloxane group, and a (meth) acryloyl group, and a molecule | numerator The resin layer of the curable composition containing the compound which has two or more (meth) acryloyl groups in it is mentioned.

HC층 (40)의 전체 광선 투과율은 90 ％ 이상일 필요가 있다. 전체 광선 투과율이 90 ％에 미치지 않으면, 용도에 따라서는 시인성이 저하되는 경우가 있다. 또한, HC층 (40)의 헤이즈값은 1 ％ 이하인 것이 바람직하고, 0.5 ％ 이하인 것이 보다 바람직하다. HC층 (40)의 헤이즈값이 1 ％를 초과하면, 광학 용도에 사용하는 경우 상의 선명도가 저하되기 때문에 바람직하지 않다. The total light transmittance of the HC layer 40 needs to be 90% or more. If the total light transmittance is less than 90%, the visibility may decrease depending on the application. Moreover, it is preferable that it is 1% or less, and, as for the haze value of HC layer 40, it is more preferable that it is 0.5% or less. When the haze value of HC layer 40 exceeds 1%, since the sharpness of an image falls in the case of using for an optical use, it is unpreferable.

또한, 도전성 적층체 (200)에는, 투명 기재층 (10)과 HC층 (40) 사이에 앵커 코팅층 및 반사 방지층 중 적어도 하나를 설치할 수 있다. 이에 따라, 가스 배리어성 및 접착성이 우수하고, 가시광 영역의 투과도가 향상된 도전성 적층체 (200)이 얻어진다. In the conductive laminate 200, at least one of an anchor coating layer and an antireflection layer may be provided between the transparent base layer 10 and the HC layer 40. Thereby, the electroconductive laminated body 200 which is excellent in gas barrier property and adhesiveness and improved the transmittance | permeability of visible region is obtained.

또한, 투명 기재층 (10), 입자 함유 수지층 (20) 및 투명 도전층 (30)에 대해서는, 제1 실시 형태에서 기재한 바와 같기 때문에 설명을 생략한다. In addition, since it is as having described in 1st Embodiment about the transparent base material layer 10, the particle containing resin layer 20, and the transparent conductive layer 30, description is abbreviate | omitted.

2.3. 도전성 적층체의 물성2.3. Physical Properties of Conductive Laminates

본 실시 형태에 따른 도전성 적층체의 각 물성에 대하여, 이하에 바람직한 양태를 나타낸다.About each physical property of the electroconductive laminated body which concerns on this embodiment, a preferable aspect is shown below.

투명 도전층의 외측 표면에 있어서의 도전성 적층체의 산술 평균 조도(Ra)는 0.05 내지 0.5 ㎛의 범위인 것이 바람직하고, 0.07 내지 0.4 ㎛가 더욱 바람직하고, 0.09 내지 0.2 ㎛가 특히 바람직하다. Ra는 JIS B0601-2001(ISO4289:97과 동일함)에 따라, 3D 레이저 현미경을 이용해서 측정한다. 여기에서, 투명 도전층의 외측 표면이란, 투명 도전층의 표면 중, 입자 함유 수지층과 반대측의 표면, 다시 말해 도전성 적층체의 외면을 이루는 면이다. Arithmetic mean roughness Ra of the electroconductive laminate on the outer surface of the transparent conductive layer is preferably in the range of 0.05 to 0.5 µm, more preferably 0.07 to 0.4 µm, and particularly preferably 0.09 to 0.2 µm. Ra is measured using a 3D laser microscope according to JIS B0601-2001 (same as ISO4289: 97). Here, the outer surface of a transparent conductive layer is the surface which forms the surface on the opposite side to a particle containing resin layer, in other words, the outer surface of an electroconductive laminated body among the surfaces of a transparent conductive layer.

헤이즈값은, 예를 들면 스가 세이사꾸쇼(주) 제조의 컬러 헤이즈미터를 사용하여 "ASTM D1003"에 따라 헤이즈값(％)을 측정한 경우, 5 ％ 이하가 바람직하고, 4 ％ 이하가 보다 바람직하고, 2 ％ 이하가 특히 바람직하다. 헤이즈값이 상기 범위 내이면 백탁을 방지하고, 배경 화상을 보다 선명하게 투영할 수 있다. 또한, 헤이즈값은, 입자 함유 수지층에 함유되는 무기 입자 및 투명 도전층에 함유되는 도전성 입자의 평균 입경, 입도 분포, 함유 비율 등과 관련이 있다. When haze value measures haze value (%) according to "ASTM D1003" using the color haze meter of Suga Seisakusho Co., Ltd., for example, 5% or less is preferable, and 4% or less is more preferable. It is preferable and 2% or less is especially preferable. If haze value exists in the said range, cloudiness can be prevented and a background image can be projected more vividly. In addition, a haze value is related with the average particle diameter, particle size distribution, content rate, etc. of the inorganic particle contained in a particle-containing resin layer, and the electroconductive particle contained in a transparent conductive layer.

전체 광선 투과율은, 예를 들면 시판되어 있는 스가 시켕키(주)의 "HGM-2DP" 등을 사용하여 "JIS K-7361"에 준거하여 측정하는 경우, 터치 패널의 시인성이 향상된다는 점에서 80 ％ 이상이 바람직하고, 83 ％ 이상이 보다 바람직하고, 85 ％ 이상이 더욱 바람직하다. The total light transmittance is, for example, when measured in accordance with "JIS K-7361" using commercially available "HGM-2DP" by Suga Shikki Co., Ltd., in view of improving the visibility of the touch panel. % Or more is preferable, 83% or more is more preferable, and 85% or more is more preferable.

투과광 b*은, 예를 들면 시판되어 있는 오쯔까 덴시(주) 제조의 "색차계 RETS-1200VA" 등을 사용하여 "JIS Z-8722"에 준거하여 측정하는 경우, 터치 패널의 시인성이 향상된다는 점에서 0 내지 12가 바람직하고, 0 내지 7이 보다 바람직하고, 0 내지 4가 더욱 바람직하다. When the transmitted light b * is measured based on "JIS Z-8722" using the commercially available "Color difference meter RETS-1200VA" etc. by Otsuka Denshi Co., Ltd., the visibility of a touch panel improves. 0-12 are preferable at this point, 0-7 are more preferable, and 0-4 are more preferable.

연필 경도는, (주)도요 세이끼 제조 "NP"를 사용하여 "JIS K5600-5-4"에 준거하여 측정하는 경우, HB 이상이 바람직하다. 연필 경도가 HB 미만이면, ITO 성막시에 투명 도전막이 손상되는 경우가 있다. When pencil hardness is measured based on "JIS K5600-5-4" using Toyo Seiki Co., Ltd. product "NP", HB or more is preferable. When pencil hardness is less than HB, a transparent conductive film may be damaged at the time of ITO film-forming.

방현성은, 본 실시 형태에 따른 도전성 적층체에 형광등(전체 광속 3520 lm)을 비추고, 형광등의 윤곽 흐려짐의 정도를 육안에 의해 평가하는 경우, 형광등의 윤곽을 전혀 관찰할 수 없는 것이 바람직하다. When anti-glare property is a fluorescent lamp (3520 lm total luminous flux) shining on the electroconductive laminated body which concerns on this embodiment, and visually evaluates the degree of blur of the outline of a fluorescent lamp, it is preferable that the outline of a fluorescent lamp cannot be observed at all.

휘도 불균일은, 샤프 제조의 모바일 툴 "SL-6000N"의 화면을 녹색 표시로 한 후, 본 실시 형태에 따른 도전성 적층체를 올려 놓고 육안에 의해 평가하는 경우, 화소의 휘도 불균일을 거의 인식할 수 없는 것이 바람직하다. The luminance nonuniformity can almost recognize the luminance nonuniformity of a pixel, when the screen of the mobile tool "SL-6000N" by Sharp manufactures green display, and is evaluated by visual observation with the conductive laminated body which concerns on this embodiment. It is desirable that there is no.

뉴턴링 방지성은, 본 실시 형태에 따른 도전성 적층체를 평활한 유리판(두께 3 ㎜, 소재: 소다 유리) 위에 입자 함유 수지층이 밀착되도록 올려 놓고 손가락으로 압박하여, 뉴턴링이 발생하는지를 육안으로 평가하는 경우, 뉴턴링이 발생하지않는 것이 바람직하다. Newton ring prevention property places the electrically conductive laminated body which concerns on this embodiment on the smooth glass plate (thickness 3mm, material: soda glass) so that a particle-containing resin layer may stick, and presses it with a finger, and visually evaluates whether a Newton ring arises. In this case, it is preferable that a Newton ring does not occur.

열수축률은, 150 ℃로 가열한 강제 순환식 건조기 중에 본 실시 형태에 따른 도전성 적층체를 60분간 정치시키고, 미쯔토요 제조의 "치수 측정 현미경 176-812"을 사용하여 가열 전후의 필름의 치수 변화를 측정하여 열수축률을 산출하는 경우, 1.5 ％ 이하가 바람직하고, 1.3 ％ 이하가 보다 바람직하고, 1.0 ％ 이하가 더욱 바람직하다. 열수축률이 1.5 ％를 초과하면, 터치 패널의 변형이 발생하는 경우가 있다. The thermal contraction rate left the electroconductive laminate according to the present embodiment in a forced circulation dryer heated at 150 ° C. for 60 minutes, and changed the dimensions of the film before and after heating using Mitsutoyo's “Dimensional Measurement Microscope 176-812”. When measuring and calculating a thermal contraction rate, 1.5% or less is preferable, 1.3% or less is more preferable, 1.0% or less is still more preferable. When thermal contraction rate exceeds 1.5%, deformation of a touch panel may arise.

잔류 용매는, 160 ℃로 가열한 강제 순환식 건조기 중에 본 실시 형태에 따른 도전성 적층체를 30분간 정치시키고, 가열 전후의 질량 변화를 조사하여 질량 증가율(％)을 잔류 용제(％)로 하는 경우, 2 ％ 이하가 바람직하고, 1 ％ 이하가 보다 바람직하다. The residual solvent is allowed to stand for 30 minutes in the conductive laminate according to the present embodiment in a forced circulation dryer heated at 160 ° C, and the mass change rate before and after heating is set to make the mass increase rate (%) the residual solvent (%). , 2% or less is preferable, and 1% or less is more preferable.

위상차는, 오지 게이소꾸 기끼(주) 제조의 "KOBRA-21ADH/PR"을 사용하여 측정하는 경우 0 내지 50 ㎚가 바람직하고, 0 내지 20 ㎚가 보다 바람직하고, 0 ㎚ 내지 10 ㎚가 더욱 바람직하다. As for retardation, 0-50 nm is preferable, 0-20 nm is more preferable, 0 nm-10 nm is more preferable when measuring using "KOBRA-21ADH / PR" by Oji Keisukuki Co., Ltd. product. Do.

표면 저항(Ω/□)은, 예를 들면 시판되어 있는 미쯔비시 가가꾸(주) 제조의 저저항률계 "로레스타-GP"를 사용하여 측정하는 경우 200 내지 1500 Ω/□가 바람직하고, 250 내지 1000 Ω/□가 보다 바람직하고, 300 내지 500 Ω/□가 더욱 바람직하다. 표면 저항이 1500 Ω/□를 초과하면, 양호한 도전성을 갖는 연속 피막을 얻기 어려운 경우가 있다. 한편, 200 Ω/□ 미만이면, 투명성의 저하 및 터치 패널의 오작동이 발생하기 쉬워지는 경우가 있다. The surface resistance (Ω / □) is preferably 200 to 1500 Ω / □, for example, when measured using a commercially available low-resistance meter “Loresta-GP” manufactured by Mitsubishi Chemical Corporation. 1000 ohms / square is more preferable, and 300-500 ohms / square are more preferable. When surface resistance exceeds 1500 ohms / square, the continuous film which has favorable electroconductivity may be difficult to be obtained. On the other hand, when it is less than 200 ohms / square, the fall of transparency and malfunction of a touch panel may arise easily.

3. 터치 패널3. Touch panel

터치 패널을 액정 표시 장치에 배치하는 경우, 본 실시 형태에 따른 터치 패널은, 상술한 도전성 적층체가 편광막에 적층되어 이루어지는 편광판을 구비한 것이 바람직하다. 즉, 투명 도전층과 편광판이 일체가 되어 있어, 소위 편광판 일체 이너 터치 패널로 불리는 것이다.When arrange | positioning a touchscreen in a liquid crystal display device, it is preferable that the touchscreen which concerns on this embodiment is equipped with the polarizing plate which the above-mentioned electroconductive laminated body is laminated | stacked on the polarizing film. That is, a transparent conductive layer and a polarizing plate are united, and it is called what is called an inner touch panel integrating a polarizing plate.

3.1. 편광막3.1. Polarizer

상기 편광막으로서는, 편광막으로서의 기능(즉, 입사광을 서로 직교하는 2개의 편향 성분으로 나누어 그 중 하나만을 통과시키고, 다른 성분은 흡수 또는 분산시키는 기능)을 갖는 막이면 특별히 한정되지 않는다. 이러한 편광막으로서는, 예를 들면 폴리비닐 알코올(이하, "PVA"라고도 함)ㆍ요오드계 편광막; PVA 필름에 2색성 염료를 흡착 배향시킨 PVAㆍ염료계 편광막; PVA계 필름의 탈수 반응, 폴리염화비닐 필름의 탈염산 반응 등에 의해 폴리엔을 형성시킨 폴리엔계 편광막; 분자 내에 양이온성기를 함유하는 변성 PVA를 포함하는 PVA계 필름의 표면 및/또는 내부에 2색성 염료를 갖는 편광막 등을 들 수 있다. 이들 중에서도, PVAㆍ요오드계 편광막이 바람직하다. The polarizing film is not particularly limited as long as it is a film having a function as a polarizing film (that is, a function of dividing incident light into two deflection components orthogonal to each other and allowing only one of them to pass through and absorbing or dispersing other components). As such a polarizing film, For example, polyvinyl alcohol (henceforth "PVA") iodine type polarizing film; A PVA dye-based polarizing film obtained by adsorbing and aligning a dichroic dye to a PVA film; Polyene type polarizing film which formed polyene by dehydration reaction of a PVA system film, dehydrochloric acid reaction of a polyvinyl chloride film, etc .; The polarizing film etc. which have a dichroic dye in the surface and / or inside of the PVA system film containing modified PVA containing a cationic group in a molecule | numerator are mentioned. Among these, a PVA / iodine type polarizing film is preferable.

편광막의 제조 방법은 특별히 한정되지 않으며, 종래 공지된 방법을 적용할 수 있다. 예를 들면, PVA계 필름을 연신한 후, 요오드 이온을 흡착시키는 방법; PVA계 필름을 2색성 염료에 의해 염색한 후, 연신하는 방법; PVA계 필름을 연신한 후, 2색성 염료로 염색하는 방법; 2색성 염료를 PVA계 필름에 인쇄한 후, 연신하는 방법; PVA계 필름을 연신한 후, 2색성 염료를 인쇄하는 방법 등을 들 수 있다. 보다 구체적으로는, 요오드를 요오드화칼륨 용액에 용해하여 고차의 요오드 이온을 제조하고, 이 이온을 PVA 필름에 흡착시켜 연신하고, 이어서 1 내지 5 중량％ 붕산 수용액에 욕 온도 30 내지 40 ℃에서 침지하여 편광막을 제조하는 방법; 또는 PVA 필름을 상기와 마찬가지로 붕산 처리하여 일축 방향으로 3 내지 7배 정도 연신한 후, 0.05 내지 5 중량％의 2색성 염료 수용액에 욕 온도 30 내지 40 ℃에서 침지하여 염료를 흡착하고, 이어서 80 내지 100 ℃에서 건조하여 열 고정하여 편광막을 제조하는 방법 등을 들 수 있다. The manufacturing method of a polarizing film is not specifically limited, A conventionally well-known method is applicable. For example, a method of adsorbing iodine ions after stretching a PVA film; A method of dyeing a PVA film with a dichroic dye and then stretching the film; A method of dyeing with a dichroic dye after stretching the PVA film; A method of stretching the dichroic dye after printing the PVA film; After extending | stretching a PVA system film, the method of printing a dichroic dye, etc. are mentioned. More specifically, iodine is dissolved in a potassium iodide solution to prepare higher order iodine ions, which is adsorbed onto a PVA film and stretched, and then immersed in an aqueous solution of 1 to 5 wt% boric acid at a bath temperature of 30 to 40 ° C. A method of manufacturing a polarizing film; Alternatively, the PVA film is treated with boric acid in the same manner as described above, and stretched in the uniaxial direction by about 3 to 7 times, and then immersed in a 0.05 to 5% by weight aqueous solution of dichroic dye at bath temperature of 30 to 40 ° C to adsorb the dye, and then 80 to The method of drying at 100 degreeC, heat fixing, and manufacturing a polarizing film is mentioned.

편광막의 두께는 특별히 한정되지 않지만, 바람직하게는 10 내지 50 ㎛이고, 보다 바람직하게는 15 내지 45 ㎛이다. Although the thickness of a polarizing film is not specifically limited, Preferably it is 10-50 micrometers, More preferably, it is 15-45 micrometers.

이들 편광막은 그대로 상기한 편광판의 제조에 사용할 수도 있지만, 접착제층과 접하는 면에 미리 코로나 방전 처리, 플라즈마 처리를 행하여 사용할 수도 있다. Although these polarizing films can also be used for manufacture of the said polarizing plate as it is, they can also be used by giving a corona discharge process and a plasma process previously to the surface which contact | connects an adhesive bond layer.

3.2. 편광판3.2. Polarizer

상기 편광판은, 투명 기재층의 한쪽면에 입자 함유 수지층, 투명 도전층의 순으로 형성된 도전성 적층체 중, 투명 도전층의 다른쪽면에 감압성 접착제를 사용하여 편광막과 접착시킨 구성으로 하는 것이 바람직하다. The said polarizing plate is a thing which is made to adhere | attach with a polarizing film using the pressure-sensitive adhesive on the other surface of a transparent conductive layer among the electroconductive laminated bodies formed in order of a particle containing resin layer and a transparent conductive layer on one side of a transparent base material layer. desirable.

상기 감압성 접착제로서는, 폴리비닐 알코올계 감압성 접착제, 폴리우레탄계 감압성 접착제, 아크릴계 감압성 접착제, 고무계 감압성 접착제, 실리콘계 감압성 접착제 등이 바람직하다. 상기 감압성 접착제는, 투명 기재층과 편광막의 접착성을 높이는 관점에서 폴리비닐 알코올계 감압성 접착제, 폴리우레탄계 감압성 접착제 및 이들의 혼합 접착제인 것이 바람직하다. As said pressure sensitive adhesive, a polyvinyl alcohol type pressure sensitive adhesive, a polyurethane type pressure sensitive adhesive, an acrylic type pressure sensitive adhesive, a rubber type pressure sensitive adhesive, a silicone type pressure sensitive adhesive, etc. are preferable. It is preferable that the said pressure sensitive adhesive is a polyvinyl alcohol pressure sensitive adhesive, a polyurethane pressure sensitive adhesive, and these mixed adhesives from a viewpoint of improving the adhesiveness of a transparent base material layer and a polarizing film.

3.3.터치 패널의 구성3.3 Configuration of Touch Panel

본 실시 형태에 따른 터치 패널은, 도전성 적층체를 4선식 저항막 방식, 5선식 저항막 방식 등의 터치 패널의 상부 전극 및 하부 전극 중 적어도 하나로서 사용한 것이다. 상부 전극과 하부 전극은, 각각의 투명 도전층이 간극을 두고 대향 배치되도록 스페이서를 통해 접합한다. 상기 스페이서로서는, 예를 들면 균일한 크기를 갖는 진구상 입자나, 스크린 인쇄, 감광성 조성물의 패터닝 등으로 형성되는 수지 경화물의 도트 패턴 등이 바람직하다. 또한, 이 터치 패널을 표시 장치의 앞면에 배치함으로써 터치 패널 기능을 갖는 표시 장치가 얻어진다. The touch panel which concerns on this embodiment uses an electroconductive laminated body as at least one of the upper electrode and lower electrode of touch panels, such as a 4-wire resistive film system and a 5-wire resistive film system. The upper electrode and the lower electrode are joined through the spacers so that the respective transparent conductive layers are disposed to face each other with a gap therebetween. As the spacer, for example, a spherical spherical particle having a uniform size, a dot pattern of a cured resin product formed by screen printing, patterning of a photosensitive composition, or the like is preferable. Further, by arranging this touch panel on the front surface of the display device, a display device having a touch panel function is obtained.

이와 같이 하여 얻어지는 터치 패널의 표시 화면을 손으로 접촉했을 때의 시인성을 육안 평가하는 경우, 착색되거나 백탁되지 않고, 시인성이 양호한 것이 바람직하다. When visually evaluating the visibility at the time of touching the display screen of the touchscreen obtained by hand in this way, it is preferable that it is not colored or cloudy, and visibility is favorable.

4. 실시예4. Examples

이하, 본 발명을 실시예에 의해 더욱 상세히 설명하지만, 본 발명은 이들 예에 의해 한정되지 않는다. Hereinafter, although an Example demonstrates this invention still in detail, this invention is not limited by these examples.

4.1. 경화성 조성물의 제조4.1. Preparation of Curable Compositions

4.1.1. 경화성 조성물 1의 제조4.1.1. Preparation of Curable Composition 1

이소프로필 알코올 분산 100 ㎚ 실리카 입자 졸(닛산 가가꾸(주) 제조, "IPA-ST-ZL") 34.8 질량부(실리카 입자로서 10.8 질량부), 펜타에리트리톨트리아크릴레이트(닛본 가야꾸(주) 제조, "카야라드 PET-30") 80.9 질량부, 1-히드록시시클로헥실페닐케톤(BASF사 제조, "이르가큐어(Irgacure) 184") 4.0 질량부, N-히드록시에틸올레일이미다졸린(카오(주) 제조, "호모게놀 L95") 4.3 질량부, 이소프로필 알코올(IPA) 126.0 질량부를 플라스크에 넣고, 실온에서 30분간 교반함으로써 균일한 경화성 조성물 1(250 질량부)을 얻었다. Isopropyl alcohol dispersion 100 nm silica particle sol (Nissan Chemical Industries, Ltd. make, "IPA-ST-ZL") 34.8 mass parts (10.8 mass parts as silica particles), pentaerythritol triacrylate (Nippon Kayaku Co., Ltd.) ), "Cayarad PET-30") 80.9 parts by mass, 1-hydroxycyclohexylphenyl ketone (manufactured by BASF, "Irgacure 184") 4.0 parts by mass, N-hydroxyethyl oleyl 4.3 parts by mass of midazoline (manufactured by Cao Co., Ltd., " homogenol L95 ") and 126.0 parts by mass of isopropyl alcohol (IPA) were placed in a flask and stirred at room temperature for 30 minutes to obtain a uniform curable composition 1 (250 parts by mass). .

4.1.2. 경화성 조성물 2의 제조4.1.2. Preparation of Curable Composition 2

이소프로필 알코올 분산 100 ㎚ 실리카 입자 졸(닛산 가가꾸(주) 제조, "IPA-ST-ZL") 16.1 질량부(실리카 입자로서 5.0 질량부), 펜타에리트리톨트리아크릴레이트(닛본 가야꾸(주) 제조, "카야라드 PET-30") 88.6 질량부, 1-히드록시시클로헥실페닐케톤(BASF사 제조, "이르가큐어 184") 4.4 질량부, 폴리옥시에틸렌라우릴아민(카오(주) 제조, "아미트 102") 2.0 질량부, 이소프로필 알코올(IPA) 138.9 질량부를 플라스크에 넣고, 실온에서 30분간 교반함으로써 균일한 경화성 조성물 2(250 질량부)를 얻었다. Isopropyl alcohol dispersion 100 nm silica particle sol (manufactured by Nissan Chemical Industries, Ltd., "IPA-ST-ZL") 16.1 parts by mass (5.0 parts by mass as silica particles), pentaerythritol triacrylate (Nippon Kayaku Co., Ltd.) ), "Cayarad PET-30") 88.6 parts by mass, 1-hydroxycyclohexylphenyl ketone (manufactured by BASF, "irgacure 184") 4.4 parts by mass, polyoxyethylene laurylamine (Kao Co., Ltd.) 2.0 mass parts of manufacture, "Amit 102") and 138.9 mass parts of isopropyl alcohol (IPA) were put into the flask, and the uniform curable composition 2 (250 mass parts) was obtained by stirring at room temperature for 30 minutes.

4.1.3. 경화성 조성물 3의 제조4.1.3. Preparation of Curable Composition 3

"4.1.1. 경화성 조성물 1의 제조"에서, 이소프로필 알코올 분산 100 ㎚ 실리카 입자 졸 "IPA-ST-ZL" 대신에 이소프로필 알코올 분산 30 내지 40 ㎚ 실리카졸(닛산 가가꾸(주) 제조, "IPA-ST-MS")을 사용한 것 이외에는, 동일하게 하여 균일한 경화성 조성물 3(250 질량부)을 얻었다. In "4.1.1. Preparation of Curable Composition 1", isopropyl alcohol dispersion 30-40 nm silica sol (manufactured by Nissan Chemical Co., Ltd.) instead of isopropyl alcohol dispersion 100 nm silica particle sol "IPA-ST-ZL", A uniform curable composition 3 (250 parts by mass) was obtained in the same manner except that “IPA-ST-MS”) was used.

4.1.4. 경화성 조성물 4의 제조4.1.4. Preparation of Curable Composition 4

"4.1.1. 경화성 조성물 2의 제조"에서, 폴리옥시에틸렌라우릴아민(카오(주) 제조, "아미트 102") 2.0 질량부 대신에 라우릴트리메틸암모늄클로라이드(카오(주) 제조, 상품명 "코타민 24P") 2.0 질량부를 사용한 것 이외에는, 동일하게 하여 균일한 경화성 조성물 4(250 질량부)를 얻었다. In "4.1.1. Preparation of Curable Composition 2", lauryltrimethylammonium chloride (manufactured by Cao), instead of 2.0 parts by mass of polyoxyethylene laurylamine (manufactured by Kao Co., Ltd., "Amit 102") A homogeneous curable composition 4 (250 parts by mass) was obtained in the same manner except that 2.0 parts by mass of "cotamine 24P") was used.

4.1.5. 경화성 조성물 5의 제조4.1.5. Preparation of Curable Composition 5

이소프로필 알코올 분산 100 ㎚ 실리카 입자 졸(닛산 가가꾸(주) 제조, "IPA-ST-ZL") 36.5 질량부(실리카 입자로서 11.3 질량부), 펜타에리트리톨트리아크릴레이트(닛본 가야꾸(주) 제조, "카야라드 PET-30") 84.5 질량부, 1-히드록시시클로헥실페닐케톤(BASF사 제조, "이르가큐어 184") 4.2 질량부, 이소프로필 알코올(IPA) 124.8 질량부를 플라스크에 넣고, 실온에서 30분간 교반함으로써 균일한 경화성 조성물 5(250 질량부)를 얻었다. Isopropyl alcohol dispersion 100 nm silica particle sol (Nissan Chemical Industries, Ltd. make, "IPA-ST-ZL") 36.5 mass parts (11.3 mass parts as silica particles), pentaerythritol triacrylate (Nippon Kayaku Co., Ltd.) ), "Cayarad PET-30") 84.5 parts by mass, 1-hydroxycyclohexylphenyl ketone (manufactured by BASF, "Irgacure 184") 4.2 parts by mass, and 124.8 parts by mass of isopropyl alcohol (IPA) in the flask It put and stirred for 30 minutes at room temperature, and obtained the uniform curable composition 5 (250 mass parts).

4.1.6. 경화성 조성물 6의 제조4.1.6. Preparation of Curable Composition 6

펜타에리트리톨트리아크릴레이트(닛본 가야꾸(주) 제조, "카야라드 PET-30") 27.8 질량부, 트리메틸올프로판트리아크릴레이트(오사까 유키 가가꾸 고교(주) 제조, "비스코트 #295") 18.6 질량부, 트리펜타에리트리톨옥타아크릴레이트와 트리펜타에리트리톨헵타아크릴레이트의 혼합물(오사까 유키 가가꾸 고교(주) 제조, "비스코트 #802") 46.4 질량부, 1-히드록시시클로헥실페닐케톤(BASF사 제조, "이르가큐어 184") 7.2 질량부, 아크릴 입자(소켄 가가꾸사 제조, "MX-180", 평균 입경 1.9 ㎛) 1.0 질량부, 메틸에틸케톤(MEK) 149.0 질량부를 플라스크에 넣고, 실온에서 30분간 교반함으로써 균일한 경화성 조성물 6(250 질량부)을 얻었다. 27.8 parts by mass of pentaerythritol triacrylate (manufactured by Nippon Kayaku Co., Ltd., " Kayarad PET-30 "), trimethylolpropane triacrylate (manufactured by Osaka Yuki Chemical Co., Ltd.), " biscot # 295 " ) 18.6 parts by mass, a mixture of tripentaerythritol octaacrylate and tripentaerythritolheptaacrylate (manufactured by Osaka Yuki Chemical Co., Ltd., "biscoat # 802") 46.4 parts by mass, 1-hydroxycyclohexyl 7.2 parts by mass of phenyl ketone (manufactured by BASF, "Irgacure 184"), 1.0 parts by mass of acrylic particles (manufactured by Soken Chemical Co., Ltd., "MX-180", average particle diameter of 1.9 占 퐉), 149.0 mass of methyl ethyl ketone (MEK) The part was put into a flask and stirred for 30 minutes at room temperature to obtain a uniform curable composition 6 (250 parts by mass).

또한, 상기 경화성 조성물 1 내지 경화성 조성물 6의 조성에 대하여 표 1에 나타낸다. In addition, it shows in Table 1 about the composition of the said curable composition 1-the curable composition 6.

Figure pat00002
Figure pat00002

4.2. 도전성 적층체의 제조4.2. Preparation of Conductive Laminate

4.2.1. 적층체 1의 제조[실시예 1]4.2.1. Preparation of Laminate 1 [Example 1]

80 ㎛ 두께의 환상 올레핀계 중합체 필름(투명 기재층) 위에, 경화성 조성물 1을 6 밀(막 두께 150 ㎛)의 바코터를 사용하여 도포하였다. 이것을 80 ℃의 오븐에 3분간 투입하여 건조시키고, 고압 수은등으로 400 mJ/㎠ 자외선 조사함으로써 도막을 경화시켰다. 얻어진 입자 함유 수지층의 두께는 2.0 ㎛였다. 또한, 입자 함유 수지층의 두께는, 입자 함유 수지층을 형성한 후의 적층체의 두께와 환상 올레핀계 중합체 필름의 두께를 각각 미쓰도요사제 두께 게이지 No. 547-401로 측정하고, 그 차이로부터 구했다. 이어서, 수지막의 표면에 아르곤 가스 유량 200 sccm, 출력 1040 V/0.02 A로 플라즈마 처리를 실시한 후, 아르곤 가스 및 산소 가스 유입하에 타깃으로서 In2O3/SnO2=90/10(질량비)을 사용한 스퍼터링에 의해 ITO를 포함하는 투명 도전층을 두께 200 Å으로 적층하고, 투명 전극층이 형성된 적층체 1을 얻었다. 도 3은 실시예 1에서 제조한 적층체 1의 단면을 촬영한 SEM 사진이다. 도 3의 SEM 사진에 의하면, 투명 기재층과 투명 도전층 사이에 위치하는 입자함유 수지층에 있어서, 실리카 입자의 응집체가 생성되어 있는 것을 확인할 수 있었다. Curable composition 1 was applied onto a cyclic olefin polymer film (transparent base layer) having a thickness of 80 μm using a barometer of 6 mils (film thickness of 150 μm). This was put into 80 degreeC oven for 3 minutes, and it dried, and hardened the coating film by irradiating 400 mJ / cm <2> ultraviolet-rays with a high pressure mercury lamp. The thickness of the obtained particle containing resin layer was 2.0 micrometers. In addition, as for the thickness of a particle containing resin layer, the thickness gauge No. of Mitutoyo Co., Ltd. makes the thickness of the laminated body after forming a particle containing resin layer, and the thickness of a cyclic olefin type polymer film, respectively. It measured by 547-401 and calculated | required from the difference. Subsequently, plasma treatment was performed on the surface of the resin film at an argon gas flow rate of 200 sccm and an output of 1040 V / 0.02 A, and then using In 2 O 3 / SnO 2 = 90/10 (mass ratio) as a target under argon gas and oxygen gas inflow. By sputtering, the transparent conductive layer containing ITO was laminated | stacked to thickness 200 GPa, and the laminated body 1 with a transparent electrode layer was obtained. 3 is a SEM photograph of a cross section of the laminate 1 manufactured in Example 1. FIG. According to the SEM photograph of FIG. 3, it was confirmed that in the particle-containing resin layer located between the transparent base layer and the transparent conductive layer, aggregates of silica particles were formed.

4.2.2. 적층체 2의 제조[실시예 2]4.2.2. Preparation of Laminate 2 [Example 2]

"4.2.1. 적층체 1의 제조"에서 6 밀의 바코터 대신에 12 밀(막 두께 300 ㎛)의 바코터를 사용한 것 이외에는, 동일하게 하여 적층체 2를 제조하였다. 얻어진 입자 함유 수지층의 두께는 5.0 ㎛였다. A laminate 2 was produced in the same manner except that a 12 mil (film thickness of 300 μm) bar coater was used instead of a 6 mil bar coater in “4.2.1. Production of Laminate 1”. The thickness of the obtained particle containing resin layer was 5.0 micrometers.

4.2.3. 적층체 3의 제조[실시예 3]4.2.3. Preparation of Laminate 3 [Example 3]

"4.2.1. 적층체 1의 제조"에서 경화성 조성물 1 대신에 경화성 조성물 2를 사용한 것 이외에는, 동일하게 하여 적층체 3을 제조하였다. 얻어진 입자 함유 수지층의 두께는 2.0 ㎛였다. A laminate 3 was produced in the same manner except that the curable composition 2 was used instead of the curable composition 1 in “4.2.1. Preparation of the laminate 1”. The thickness of the obtained particle containing resin layer was 2.0 micrometers.

4.2.4. 적층체 4의 제조[실시예 4]4.2.4. Preparation of Laminate 4 [Example 4]

"4.2.1. 적층체 1의 제조"에서 경화성 조성물 1 대신에 경화성 조성물 3을 사용한 것 이외에는, 동일하게 하여 적층체 4를 제조하였다. 얻어진 입자 함유 수지층의 두께는 2.0 ㎛였다. A laminate 4 was produced in the same manner except that the curable composition 3 was used instead of the curable composition 1 in "4.2.1. Preparation of the laminate 1". The thickness of the obtained particle containing resin layer was 2.0 micrometers.

4.2.5. 적층체 5의 제조[실시예 5]4.2.5. Preparation of Laminate 5 [Example 5]

"4.2.1. 적층체 1의 제조"에서 경화성 조성물 1 대신에 경화성 조성물 4를 사용한 것 이외에는, 동일하게 하여 적층체 5를 제조하였다. 얻어진 입자 함유 수지층의 두께는 5.0 ㎛였다. A laminate 5 was produced in the same manner except that the curable composition 4 was used instead of the curable composition 1 in “4.2.1. Preparation of the laminate 1”. The thickness of the obtained particle containing resin layer was 5.0 micrometers.

4.2.6. 적층체 6의 제조[비교예 1]4.2.6. Preparation of Laminate 6 [Comparative Example 1]

"4.2.1. 적층체 1의 제조"에서 6 밀의 바코터 대신에 12 밀의 바코터를 사용하고, 경화성 조성물 1 대신에 경화성 조성물 5를 사용한 것 이외에는, 동일하게 하여 적층체 6을 제조하였다. 얻어진 입자 함유 수지층의 두께는 5.0 ㎛였다.A laminate 6 was produced in the same manner except that 12 mil bar coater was used instead of 6 mil bar coater and “curable composition 5 was used instead of curable composition 1” in “4.2.1. Preparation of Laminate 1”. The thickness of the obtained particle containing resin layer was 5.0 micrometers.

4.2.7. 적층체 7의 제조[비교예 2]4.2.7. Preparation of Laminate 7 [Comparative Example 2]

"4.2.1. 적층체 1의 제조"에서 6 밀의 바코터 대신에 12 밀의 바코터를 사용하고, 경화성 조성물 1 대신에 경화성 조성물 6을 사용한 것 이외에는, 동일하게 하여 적층체 7을 제조하였다. 얻어진 입자 함유 수지층의 두께는 5.0 ㎛였다.A laminate 7 was produced in the same manner except that 12 mil bar coater was used instead of 6 mil bar coater in “4.2.1. Preparation of Laminate 1” and curable composition 6 was used instead of curable composition 1. The thickness of the obtained particle containing resin layer was 5.0 micrometers.

4.2.8. 적층체 8의 제조[비교예 3]4.2.8. Preparation of Laminate 8 [Comparative Example 3]

"4.2.1. 적층체 1의 제조"에서 6 밀의 바코터 대신에 3 밀의 바코터를 사용하고, 경화성 조성물 1 대신에 경화성 조성물 6을 사용한 것 이외에는, 동일하게 하여 적층체 8을 제조하였다. 얻어진 입자 함유 수지층의 두께는 1.2 ㎛였다.A laminate 8 was produced in the same manner except that 3 mil bar coater was used instead of 6 mil bar coater in “4.2.1. Preparation of Laminate 1” and curable composition 6 was used instead of curable composition 1. The thickness of the obtained particle containing resin layer was 1.2 micrometers.

4.3. 평가 방법4.3. Assessment Methods

얻어진 적층체 1 내지 8에 대하여, 하기의 방법에 따라 평가하였다. The obtained laminates 1 to 8 were evaluated according to the following methods.

(1) 뉴턴링 방지성(1) Newton ring prevention

필름을 평활한 유리판(두께 3 ㎜, 소재: 소다 유리) 위에 도전성 적층체의 투명 도전층이 밀착되도록 올려 놓고 손가락으로 압박하여, 뉴턴링이 발생하는지의 여부를 육안으로 관찰하였다. 평가 기준은 이하와 같다. The film was placed on a smooth glass plate (thickness 3 mm, material: soda glass) so that the transparent conductive layer of the conductive laminate was in close contact with each other and pressed with a finger to visually observe whether a Newton ring was generated. Evaluation criteria are as follows.

○: 뉴턴링이 발생하지 않음. ○: No Newton ring occurs.

△: 뉴턴링이 다소 발생함. (Triangle | delta): A Newton ring generate | occur | produces a little.

×: 뉴턴링이 분명히 발생함. X: A Newton ring clearly occurs.

(2) 휘도 불균일(2) luminance unevenness

샤프 제조의 모바일툴 "SL-6000N"의 화면을 녹색 표시로 한 후, 각 적층체를 올려 놓고 육안에 의해 관찰하였다. 평가 기준은 이하와 같다. After making the screen of Sharp's mobile tool "SL-6000N" green, each stack was placed and observed by visual observation. Evaluation criteria are as follows.

○: 화면의 휘도 불균일을 거의 인식할 수 없음. ○: The brightness unevenness of the screen is hardly recognized.

△: 화면의 휘도 불균일을 인식할 수 있지만, 눈에 띄지 않음. (Triangle | delta): Although the luminance unevenness of a screen can be recognized, it is not outstanding.

×: 화면의 휘도 불균일을 분명히 인식할 수 있음. ×: The luminance unevenness of the screen can be clearly recognized.

(3) 헤이즈 (3) haze

스가 세이사꾸쇼(주) 제조의 컬러 헤이즈미터를 사용하고, ASTM D1003에 따라 각 적층체의 헤이즈값(％)을 측정하였다.The haze value (%) of each laminated body was measured according to ASTMD1003 using the color haze meter of the Suga Seisakusho Co., Ltd. product.

(4) 산술 평균 조도(Ra)(4) arithmetic mean roughness (Ra)

투명 도전층의 외측 표면에서의 도전성 적층체의 산술 평균 조도(Ra)는 (주)키엔스 제조의 컬러 3D 레이저 현미경을 사용하여, JIS B 0601-2001(ISO4289:97과 동일함)에 준거하여 측정하였다. Arithmetic mean roughness Ra of the electroconductive laminate on the outer surface of the transparent conductive layer is measured in accordance with JIS B 0601-2001 (same as ISO4289: 97) using a color 3D laser microscope manufactured by Keyence Co., Ltd. It was.

4.4. 평가 결과4.4. Evaluation results

상기 평가 방법 (1) 내지 (4)의 결과를 표 2에 나타낸다. Table 2 shows the results of the above evaluation methods (1) to (4).

Figure pat00003
Figure pat00003

표 2의 결과로부터, 본원 발명에 따른 경화성 조성물 1 내지 경화성 조성물 4를 사용하여 형성된 입자 함유 수지층을 갖는 적층체 1 내지 적층체 5는, 투명 도전층의 외측 표면에서의 도전성 적층체의 산술 평균 조도(Ra)가 0.05 내지 0.5 ㎛의 범위 내에 있고, 투명성 및 뉴턴링 방지성이 우수하고, 화소의 휘도 불균일도 양호하다는 것을 알 수 있었다.From the results of Table 2, the laminates 1 to 5 having the particle-containing resin layers formed by using the curable compositions 1 to 4 according to the present invention are the arithmetic mean of the conductive laminates on the outer surface of the transparent conductive layer. It was found that the roughness Ra is in the range of 0.05 to 0.5 µm, is excellent in transparency and anti-Newton ring resistance, and the luminance unevenness of the pixel is also good.

입자 응집제를 함유하지 않은 경화성 조성물 5를 사용하여 형성된 입자 함유 수지층을 갖는 적층체 6은 투명성이 우수하고, 화소의 휘도 불균일도 양호하지만, 뉴턴링 방지성은 양호하지 않았다. 이것은, 입자 응집제를 함유하지 않은 경화성 조성물 5를 사용하여 입자 함유 수지층을 형성하여도, 입자의 응집체가 생성되기 어려워, 뉴턴링을 방지하는 기능이 발휘되지 않았기 때문이다. Although the laminated body 6 which has the particle | grain containing resin layer formed using the curable composition 5 which does not contain a particle | grain flocculant was excellent in transparency and the brightness nonuniformity of a pixel was favorable, Newton ring prevention property was not good. This is because even when the particle-containing resin layer is formed using the curable composition 5 containing no particle flocculant, aggregates of particles are hardly generated, and the function of preventing Newton ring is not exhibited.

무기 입자 대신에 1.9 ㎛ 직경의 아크릴 입자를 함유하고, 입자 응집제를 함유하지 않는 경화성 조성물 6을 사용하여 형성된 하드 코팅층을 갖는 적층체 7은 투명성이 우수하고, 화소의 휘도 불균일도 양호하지만, 뉴턴링 방지성이 양호하지 않았다. 이 결과로부터, 아크릴 입자의 입경보다 입자 함유 수지층이 두껍기 때문에 입자 함유 수지층에 요철 형상을 부여할 수 없고, 뉴턴링 방지성이 얻어지지 않는다는 것을 알 수 있었다. The laminate 7 having the hard coating layer formed by using the curable composition 6 containing 1.9 μm diameter acrylic particles instead of the inorganic particles and containing no particle flocculant was excellent in transparency and good in luminance unevenness in pixels, but the Newton ring Preventability was not good. From this result, since a particle | grain containing resin layer is thicker than the particle diameter of an acryl particle, it turned out that an uneven | corrugated shape cannot be provided to a particle | grain containing resin layer, and Newton ring prevention property is not obtained.

무기 입자 대신에 1.9 ㎛ 직경의 아크릴 입자를 함유하고, 입자 응집제를 함유하지 않는 경화성 조성물 6을 사용하여 형성된 하드 코팅층을 갖는 적층체 8은 1.9 ㎛ 직경의 아크릴 입자를 첨가하였기 때문에, 막 두께를 1.2 ㎛로 얇게 함으로써 뉴턴링 방지성이 우수하고, 화소의 휘도 불균일도 양호하지만, 투명성이 양호하지 않았다. The laminate 8 having the hard coat layer formed using the curable composition 6 containing 1.9 μm diameter acrylic particles instead of the inorganic particles and containing no particle flocculant added 1.2 μm diameter acrylic particles, so that the film thickness was 1.2. By making it thin in micrometer, it is excellent in Newton ring prevention property, and the luminance nonuniformity of a pixel is also favorable, but transparency was not favorable.

10…투명 기재층, 20…입자 함유 수지층, 30…투명 도전층, 40…클리어 하드 코팅층, 100ㆍ200…도전성 적층체10... Transparent substrate layer, 20... Particle-containing resin layer, 30... Transparent conductive layer, 40... Clear hard coating layer, 100 · 200... Conductive laminate

Claims (11)

투명 기재층의 한쪽면에 입자 함유 수지층, 투명 도전층의 순으로 형성된 도전성 적층체이며,
상기 입자 함유 수지층은 무기 입자의 응집체를 함유하고,
상기 투명 도전층의 외측 표면에서의 JIS B0601-2001에 의한 산술 평균 조도(Ra)가 0.05 내지 0.5 ㎛인 도전성 적층체. It is an electroconductive laminated body formed in order of a particle containing resin layer and a transparent conductive layer in one side of a transparent base material layer,
The particle-containing resin layer contains an aggregate of inorganic particles,
The conductive laminated body whose arithmetic mean roughness Ra by JIS B0601-2001 in the outer surface of the said transparent conductive layer is 0.05-0.5 micrometer. 제1항에 있어서, 상기 무기 입자가 5 내지 200 ㎚의 평균 일차 입경을 갖는 것인 도전성 적층체.The conductive laminate according to claim 1, wherein the inorganic particles have an average primary particle diameter of 5 to 200 nm. 제1항에 있어서, 상기 무기 입자가 실리카 입자인 도전성 적층체. The conductive laminate according to claim 1, wherein the inorganic particles are silica particles. 제1항에 있어서, 상기 입자 함유 수지층이 입자 응집제를 함유하는 것인 도전성 적층체. The electroconductive laminate according to claim 1, wherein the particle-containing resin layer contains a particle flocculant. 제1항에 있어서, 상기 투명 기재층의 다른쪽면에 하드 코팅층이 추가로 형성된 것인 도전성 적층체. The conductive laminate according to claim 1, wherein a hard coat layer is further formed on the other side of the transparent substrate layer. 제1항 내지 제5항 중 어느 한 항에 기재된 도전성 적층체가 편광막에 적층되어 이루어지는 편광판을 구비한 터치 패널. The touch panel provided with the polarizing plate in which the electroconductive laminated body in any one of Claims 1-5 is laminated | stacked on a polarizing film. 제1항에 기재된 도전성 적층체에 포함되는 입자 함유 수지층을 형성하기 위해 이용되는 경화성 조성물이며,
(A) 다관능 중합성 불포화기 함유 화합물,
(B) 라디칼 중합 개시제,
(C) 무기 입자,
(D) 입자 응집제, 및
(E) 유기 용제
를 함유하는 경화성 조성물. It is a curable composition used in order to form the particle containing resin layer contained in the electroconductive laminated body of Claim 1,
(A) a polyfunctional polymerizable unsaturated group containing compound,
(B) radical polymerization initiator,
(C) inorganic particles,
(D) particle flocculant, and
(E) organic solvent
Curable composition containing. 제7항에 있어서, 상기 (D) 입자 응집제가 아민 화합물 또는 그의 염인 경화성 조성물. The curable composition according to claim 7, wherein the particle coagulant (D) is an amine compound or a salt thereof. 제8항에 있어서, 상기 (D) 입자 응집제가 3급 아민 화합물인 경화성 조성물.The curable composition according to claim 8, wherein the particle coagulant (D) is a tertiary amine compound. 제7항에 있어서, 상기 (D) 입자 응집제가 4급 암모늄염인 경화성 조성물.The curable composition according to claim 7, wherein the particle coagulant (D) is a quaternary ammonium salt. 투명 기재층의 한쪽면에,
(A) 다관능 중합성 불포화기 함유 화합물, (B) 라디칼 중합 개시제, (C) 무기 입자, (D) 입자 응집제 및 (E) 유기 용제를 함유하는 경화성 조성물을 도포한 후, 자외선 조사함으로써 입자 함유 수지층을 형성하는 공정, 및
상기 입자 함유 수지층 위에 투명 도전층을 형성하는 공정을 포함하는, 도전성 적층체의 제조 방법. On one side of the transparent base material layer,
After apply | coating the curable composition containing (A) polyfunctional polymerizable unsaturated group containing compound, (B) radical polymerization initiator, (C) inorganic particle, (D) particle flocculent, and (E) organic solvent, particle | grains are irradiated with ultraviolet-ray A step of forming a containing resin layer, and
The manufacturing method of the electroconductive laminated body containing the process of forming a transparent conductive layer on the said particle containing resin layer.
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