KR20100138377A - Grinder and method for manufacturing display device - Google Patents

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Abstract

PURPOSE: A polisher and a display device manufacturing method using the same are provided to perform polishing processes during long time, since the abrasion of each grinding wheel layer is dispersed. CONSTITUTION: A polisher for manufacturing a display device comprises two or more grinding wheel layers(210a,210b,210c,210d,210e), multiple supporting units(220), and a body portion(201). The multiple supporting units support the grinding wheel layer. The body portion is formed with the multiple supporting units.

Description

연마기 및 이를 이용한 표시장치 제조방법{GRINDER AND METHOD FOR MANUFACTURING DISPLAY DEVICE}Polishing machine and display device manufacturing method using the same {GRINDER AND METHOD FOR MANUFACTURING DISPLAY DEVICE}

본 발명은 표시장치 제조용 연마기와 이를 이용한 표시장치 제조방법에 관한 것이다.The present invention relates to a polishing device for manufacturing a display device and a display device manufacturing method using the same.

최근 표시장치는 CRT(Cathode Ray Tube), 액정표시장치(Liquid Crystal Display), 플라즈마 디스플레이 패널(Plasma Display Panel), EL(Eletro luminesence) 등으로 구분된다.Recently, display devices are classified into a cathode ray tube (CRT), a liquid crystal display, a plasma display panel, and an EL.

이러한 표시장치 중 액정표시장치는 영상신호에 대응하도록 광빔의 투과량을 조절함에 의해 화상을 표시하는 대표적인 평판형 표시장치이다. 특히, 박막트랜지스터(Thin Film Transistor :이하, "TFT"라 한다)를 이용하여 액정셀을 구동하는 액티브 매트릭스 타입의 액정표시장치는 화질이 우수하고 소비전력이 낮은 장점이 있으며, 최근의 양산기술 확보와 연구개발의 성과로 대형화와 고해상도화로 급속히 발전하고 있다.Among such display devices, a liquid crystal display device is a representative flat panel display device that displays an image by adjusting a transmission amount of a light beam to correspond to an image signal. In particular, an active matrix type liquid crystal display device that drives a liquid crystal cell using a thin film transistor (hereinafter referred to as "TFT") has the advantages of excellent image quality and low power consumption, and secures the latest mass production technology. As a result of research and development, it is rapidly developing into larger size and higher resolution.

액티브 매트릭스 타입의 액정표시장치를 제조하기 위한 제조공정은 기판 세 정 공정, 기판 패터닝 공정, 배향막형성/러빙공정, 기판합착/액정주입 공정, 스크라입 공정(Scribe), 연마공정, 검사 공정, 리페어(Repair) 공정, 실장 공정 등으로 나뉘어진다.Manufacturing process for manufacturing an active matrix type liquid crystal display device includes substrate cleaning process, substrate patterning process, alignment film formation / rubbing process, substrate bonding / liquid crystal injection process, scraping process, polishing process, inspection process, repair It is divided into a repair process and a mounting process.

기판세정 공정에서는 액정표시장치의 기판 표면에 오염된 이물질을 세정액으로 제거하게 된다.In the substrate cleaning process, foreign substances contaminated on the surface of the substrate of the liquid crystal display device are removed with a cleaning liquid.

기판 패터닝 공정에서는 상판(컬러필터기판)의 패터닝과 하판(TFT-어레이 기판)의 패터닝으로 나뉘어진다. 상판에는 칼라필터, 공통전극, 블랙 매트릭스 등이 형성된다. 하판에는 데이터라인과 게이트라인 등의 신호배선이 형성되고, 데이터라인과 게이트라인의 교차부에 TFT가 형성되며, TFT의 소오스전극에 접속되는 데이터라인과 게이트라인 사이의 화소영역에 화소전극이 형성된다.In the substrate patterning process, it is divided into the patterning of the upper plate (color filter substrate) and the patterning of the lower plate (TFT-array substrate). On the upper plate, a color filter, a common electrode, a black matrix, and the like are formed. Signal lines such as data lines and gate lines are formed on the lower plate, and TFTs are formed at intersections of the data lines and gate lines, and pixel electrodes are formed in the pixel region between the data lines and gate lines connected to the source electrodes of the TFTs. do.

배향막형성/러빙 공정에서는 상부기판과 하부기판 각각에 배향막을 도포하고 그 배향막을 러빙포 등으로 러빙하게 된다.In the alignment film forming / rubbing process, an alignment film is applied to each of the upper substrate and the lower substrate, and the alignment film is rubbed with a rubbing cloth or the like.

기판합착/액정주입 공정에서는 실재(Sealant)를 이용하여 상부기판과 하부기판을 합착하고 액정주입구를 통하여 액정과 스페이서를 주입한 다음, 그 액정주입구를 봉지하는 공정으로 진행된다.In the substrate bonding / liquid crystal injection process, the upper substrate and the lower substrate are bonded using a sealant, the liquid crystal and the spacer are injected through the liquid crystal inlet, and then the liquid crystal inlet is sealed.

스크라입 공정은 액정과 스페이서 등이 주입된 후, 봉지된 액정표시패널을 규격 크기에 따라 절단하는 공정이다.The scraping process is a process of cutting a sealed liquid crystal display panel according to a standard size after the liquid crystal and the spacer are injected.

연마 공정은 스크라입 공정에서 절단된 액정표시패널의 절단면을 연마하는 공정이다.The polishing step is a step of polishing the cut surface of the liquid crystal display panel cut in the scraping process.

검사 공정은 하부기판에 각종 신호배선과 화소전극이 형성된 후에 실시되는 전기적 검사와 기판 합착 및 액정주입 공정 후에 실시되는 전기적 검사 및 육안검사를 포함한다.The inspection process includes an electrical inspection performed after various signal wirings and pixel electrodes are formed on the lower substrate, and an electrical inspection and a visual inspection performed after a substrate bonding and liquid crystal injection process.

리페어 공정은 검사 공정에 의해 리페어가 가능한 것으로 판정된 기판에 대한 복원을 실시하는 한편, 검사 공정에서 리페어가 불가능한 불량기판들에 대하여는 폐기처분된다.The repair process restores the substrate determined to be repairable by the inspection process, while discarding defective substrates that cannot be repaired in the inspection process.

이와 같은 표시패널 제조 공정 중에서 연마 공정에 사용되는 연마기가 도 1에 도시되어 있다.The polishing machine used for the polishing process in the display panel manufacturing process is shown in FIG. 1.

도 1을 참조하면, 종래의 연마 공정에 사용되는 연마기(10)는 숄더(Shoulder)부(20)와, 숄더부(20)와 체결되어 회전 운동을 하는 스핀들 모터(Spindle Motor)(30)와, 스핀들 모터(30)와 체결됨과 아울러 액정표시패널을 연마하는 휠부(40)를 구비한다.Referring to FIG. 1, a grinder 10 used in a conventional polishing process includes a shoulder motor 20 and a spindle motor 30 engaged with the shoulder part 20 to rotate in rotation. The wheel unit 40 is coupled to the spindle motor 30 and polishes the liquid crystal display panel.

숄더부(20)는 스핀들 모터(30)에 전력을 공급함과 아울러 스핀들 모터(30)를 지지하는 역할을 한다. 이러한 숄더부(20)는 원통형 스핀들 모터(30)가 체결될 수 있도록 중앙이 원통으로 빈 형태로 성형 된다. 24는 연마기(10)의 숄더부(20)를 고정하는 고정홈이다.The shoulder unit 20 supplies power to the spindle motor 30 and supports the spindle motor 30. The shoulder portion 20 is formed in a hollow shape in the center of the cylinder so that the cylindrical spindle motor 30 can be fastened. 24 is a fixing groove for fixing the shoulder portion 20 of the grinder 10.

스핀들 모터(30)는 긴 원통형으로 형성되어 회전운동을 함으로써 스핀들 모터(30)와 휠부(40)를 체결하는 스핀들 축(25)에 그 힘을 전달하게 된다. 휠부(40)는 스핀들 축(25)으로부터 전달 받은 회전력에 의하여 회전함으로써 액정표시패널의 가장자리 절단 영역을 연마한다. 이러한 휠부(40)는 도 2에 도시된 바와 같이 연마지석층(42)과, 연마지석층(42)을 고정시키는 바디부(44)를 구비하며, 일측에는 스핀들 축(25)과 체결되는 홀(46)이 형성된다.The spindle motor 30 is formed in an elongated cylindrical shape and transmits the force to the spindle shaft 25 which engages the spindle motor 30 and the wheel part 40 by rotating. The wheel part 40 rotates by the rotational force transmitted from the spindle shaft 25 to polish the edge cut area of the liquid crystal display panel. The wheel part 40 has an abrasive grinding wheel layer 42 and a body 44 for fixing the abrasive grinding wheel layer 42 as shown in FIG. 2, and a hole which is coupled to the spindle shaft 25 on one side thereof. 46 is formed.

이러한 구조를 가지는 종래 연마기(40)의 구동방법에 대해서 살펴보기로 하자.A driving method of the conventional grinder 40 having such a structure will be described.

먼저, 액정표시패널을 사용자가 요구하는 크기로 절단하는 스크라입(Scribe) 공정이 완료되어 규격에 따라 절단된 액정표시패널이 마련된다. 여기서, 연마기(10)는 이러한 액정표시패널의 거칠게 형성된 절단된 부분을 휠부(40)의 가장자리에 본딩된 연마지석층(42)을 이용하여 연마하게 된다. 그러나 이러한 휠부(40)에 본딩된 연마지석층(42)은 그 양이 소량으로서 자주 교체되게 된다. 연마지석층(42)을 교체하기 위해서는 작업공정을 일시 중지시키게 되는데, 결과적으로 작업공정의 중지는 전체적인 생산공정시간을 연장시키는 원인이 된다.First, a stripe process for cutting a liquid crystal display panel to a size required by a user is completed, and a liquid crystal display panel cut according to a standard is provided. Here, the grinder 10 polishes the roughly cut portion of the liquid crystal display panel using the abrasive grindstone layer 42 bonded to the edge of the wheel part 40. However, the abrasive grindstone layer 42 bonded to the wheel part 40 is often replaced in small amounts. In order to replace the abrasive grindstone layer 42, the working process is paused. As a result, the stopping of the working process causes a prolonged production process time.

또한, 종래 연마기와 같이 휠부(40)에 본딩된 연마지석층(42)은 사용하는 다이아몬드 입자의 크기가 어느 하나의 크기로 고정되는데, 연마지석층(42)의 다이아몬드 입자가 큰 것을 사용하는 경우에는 작은 힘으로 액정표시패널을 연마할 수 있는 반면 표면이 거칠어지는 문제가 있다. 만약, 연마지석층(42)의 다이아몬드 입자를 작은 크기로 하여 사용하면 좋은 연마 표면을 얻을 수 있으나, 연마기의 작업시간이 길어지고 부하를 많이 받는 문제가 발생된다.In addition, the size of the abrasive grindstone layer 42 bonded to the wheel 40 as in the conventional polishing machine is fixed to any one size of the diamond particles used, when the diamond grains of the abrasive grindstone layer 42 are large While the liquid crystal display panel can be polished with a small force, the surface is rough. If the diamond grains of the abrasive grind layer 42 are used with a small size, a good polishing surface can be obtained, but the working time of the polishing machine becomes long and a lot of load is generated.

본 발명의 하나의 과제는 하나의 연마휠에 다수개의 연마지석층을 형성하고, 각각의 연마지석층에 서로 다른 입자 크기를 갖는 연마지석을 사용하여 넓은 면적을 연마할 수 있으면서 연마표면의 특성을 향상시킬 수 있는 연마기 및 이를 이용한 액정표시장치 제조방법을 제공함에 있다.One object of the present invention is to form a plurality of abrasive grind layers on one polishing wheel, and to polish a large area by using abrasive grindstones having different particle sizes in each abrasive grind layer. The present invention provides a polishing machine and a method of manufacturing a liquid crystal display using the same.

또한, 본 발명의 또 다른 과제는 하나의 연마휠에 서로 다른 입자크기를 갖는 연마지석층을 사용함으로써, 각각의 연마지석층의 마모도를 분산할 수 있어 장시간 연마 공정을 할 수 있는 연마기 및 이를 이용한 액정표시장치 제조방법을 제공함에 있다.In addition, another object of the present invention is to use a grinding wheel layer having a different particle size in one grinding wheel, it is possible to disperse the wear of each grinding wheel layer can be polished for a long time and using the same A liquid crystal display device manufacturing method is provided.

본 발명의 액정표시장치 제조용 연마기는, 적어도 두개 이상의 연마지석층;The polishing machine for manufacturing a liquid crystal display device of the present invention includes at least two abrasive grindstone layers;

상기 적어도 두개 이상의 연마지석층을 각각 지지하는 다수개의 지지부; 및A plurality of supports each supporting the at least two abrasive grind layers; And

상기 다수개의 지지부와 일체로 형성된 바디부를 포함한다.It includes a body portion formed integrally with the plurality of support.

여기서, 상기 적어도 두개 이상의 연마지석층은 적어도 하나 이상이 서로 다른 입자의 지석들로 형성되고, 상기 적어도 두개 이상의 연마지석층은 적어도 하나 이상이 서로 다른 높이를 갖는다.Here, the at least two or more abrasive grindstone layers are formed of at least one or more grindstones of different particles, and the at least two or more abrasive grindstone layers have different heights.

본 발명의 액정표시장치 제조방법은, 표시패널을 공급하는 단계; 및 상기 표시패널 절단면의 상하측에 각각 배치되는 적어도 두개 이상의 연마지석층과 상기 적어도 두개 이상의 연마지석층을 각각 지지하는 다수개의 지지부와 상기 다수개의 지지부와 일체로 형성된 바디부를 각각 구비하는 제 1, 2 연마기를 이용하여 표시패널을 연마하는 단계 포함한다.According to an aspect of the present invention, there is provided a method of manufacturing a liquid crystal display device, the method including: supplying a display panel; And at least two abrasive grind layers respectively disposed on upper and lower sides of the cut surface of the display panel, a plurality of support parts respectively supporting the at least two abrasive grind layers, and a body part integrally formed with the plurality of support parts. And polishing the display panel using a second polishing machine.

본 발명은 하나의 연마휠에 다수개의 연마지석층들을 형성하고, 이들 연마지석층에 사용되는 지석의 입자를 서로 다르게 하여 넓은 면적을 연마하면서도 연마 표면 조도를 향상시킬 수 있다.According to the present invention, a plurality of abrasive grind layers are formed on one polishing wheel, and the abrasive grindstones used in these abrasive grind layers are different from each other to polish a large area while improving the polishing surface roughness.

또한, 본 발명은 하나의 연마휠에 서로 다른 입자크기를 갖는 연마지석층들이 액정표시패널의 절단면을 분담하여 연마할 수 있기 때문에 연마지석층들의 마모 정도를 줄일 수 있어 장시간 연마 공정을 진행할 수 있는 효과가 있다.In addition, since the abrasive grind layers having different particle sizes can be polished by dividing the cutting surface of the liquid crystal display panel in one grinding wheel, the wear level of the abrasive grind layers can be reduced, and thus the grinding process can be performed for a long time. It works.

이하, 본 발명의 실시예들은 아래의 도면을 참고하여 상세하게 설명한다. 다음에 소개되는 실시예들은 당업자에게 본 발명의 사상이 충분히 전달될 수 있도록 하기 위해 예로서 제공되어지는 것이다. 따라서, 본 발명은 이하 설명되어지는 실시예들에 한정되지 않고 다른 형태로 구체화될 수도 있다. 그리고, 도면들에 있어서, 장치의 크기 및 두께 등은 편의를 위하여 과장되어 표현될 수도 있다. 명세서 전체에 걸쳐서 동일한 참조번호들은 동일한 구성요소들을 나타낸다.Hereinafter, embodiments of the present invention will be described in detail with reference to the drawings below. The following embodiments are provided by way of example so that those skilled in the art can fully understand the spirit of the present invention. Therefore, the present invention is not limited to the embodiments described below, but may be embodied in other forms. In the drawings, the size and thickness of the device may be exaggerated for convenience. Like numbers refer to like elements throughout.

도 3은 본 발명에 따른 액정표시장치 제조용 연마기에 사용되는 휠부를 도시한 도면이고, 도 4는 본 발명의 액정표시장치 제조용 연마기를 사용하여 액정표시패널을 연마하는 공정을 도시한 도면이다.3 is a view showing a wheel portion used in the polishing machine for manufacturing a liquid crystal display device according to the present invention, Figure 4 is a view showing a process of polishing a liquid crystal display panel using a polishing machine for manufacturing a liquid crystal display device of the present invention.

도 3 및 도 4를 참조하면, 본 발명의 연마기(150)는 숄더부(130)와, 숄더부(130)와 체결되어 회전운동을 하는 스핀들 모터(120)와, 스핀들 모터(120)와 체 결됨과 아울러 스핀들 모터(120)로부터 발생되는 회전력을 전달받아 회전운동을 함으로써 액정표시패널의 일측을 연마하는 휠부(100)를 구비한다.3 and 4, the grinding machine 150 of the present invention, the shoulder unit 130, the spindle motor 120 and the spindle motor 120 and the sieve coupled to the shoulder unit 130 to rotate the rotation In addition, the wheel unit 100 is provided to polish one side of the liquid crystal display panel by performing rotational motion by receiving the rotational force generated from the spindle motor 120.

상기 숄더부(130)는 중앙이 원통형으로 비어 있고 일측에는 원통형 공동에 삽입되는 스핀들 모터(120)를 견고하게 체결할 수 있도록 다수개의 조임쇠와 조임홀이(미도시) 구비된다. 또한, 스핀들 모터(120)가 회전 운동을 할 수 있도록 전력을 공급한다.The shoulder unit 130 is provided with a plurality of fasteners and fastening holes (not shown) so as to securely fasten the spindle motor 120 inserted into the cylindrical cavity at one side thereof with a hollow cylindrical shape. In addition, the spindle motor 120 supplies power to the rotary motion.

스핀들 모터(120)는 숄더부(130)와 체결됨과 아울러 그 내부에 형성된 스핀들 축(미도시)을 회전운동시키기 위하여 숄더부(130)로부터 전달받은 전력을 이용하여 회전력을 발생시킨다. 휠부(100)는 서로 다른 지석 입자들로 각각 형성된 연마지석층들을 구비한 연마지석부(110)와, 상기 연마지석부(110)가 체결되면서 스핀들모터(120)와 체결될 수 있는 바디부(103)를 포함한다. 상기 바디부(103)의 중심 영역에는 상기 스핀들모터(120)로부터 인출되는 샤프트(미도시)와 체결을 위한 체결홀(101)이 형성되어 있다.The spindle motor 120 is coupled to the shoulder 130 and generates a rotational force by using the power transmitted from the shoulder 130 to rotate the spindle shaft (not shown) formed therein. The wheel part 100 may include an abrasive grind part 110 having abrasive grind layers formed of different grindstone particles, and a body part which may be engaged with the spindle motor 120 while the abrasive grind part 110 is fastened. 103). A fastening hole 101 for fastening with a shaft (not shown) drawn out from the spindle motor 120 is formed in the central region of the body part 103.

따라서, 상기 스핀들 모터(120)의 회전력은 휠부(100)의 바디부(103)에 전달되어 바디부(103) 회전과 함께 연마지석부(110)가 회전한다.Accordingly, the rotational force of the spindle motor 120 is transmitted to the body portion 103 of the wheel portion 100 so that the abrasive grind portion 110 rotates together with the body portion 103 rotation.

상기와 같은 구조를 갖는 본 발명의 연마기를 이용하여 연마공정을 진행하는 모습을 도 4를 참조하여 보면 다음과 같다.Referring to Figure 4 shows the progress of the polishing process using the polishing machine of the present invention having the above structure as follows.

먼저, 액정표시장치 제조공정 중 스크라입 공정이 완료되면 액정표시패널(500)은 연마 공정 장비로 이동된다. 연마 공정 장비 내에서는 액정표시패널들을 순차적으로 이동시킬 수 있는 컨베이어가 설치되어 있고, 컨베이어의 양측에는 상 기 도 3에 도시된 연마기가 상하측에 각각 한 쌍씩 배치되어 있다.First, when the scraping process is completed during the manufacturing process of the liquid crystal display device, the liquid crystal display panel 500 is moved to the polishing process equipment. In the polishing process equipment, a conveyor is installed to sequentially move the liquid crystal display panels, and a pair of polishing machines shown in FIG. 3 are disposed on both sides of the conveyor, respectively.

도 4에 도시된 바와 같이, 연마기는 한쌍씩 액정표시패널(500)을 사이에 두고 대향하도록 배치되어 있고, 한쌍의 연마기는 액정표시패널(500)의 상측과 하측에 각각 배치된다. 도면에서는 그중 일측에 배치된 한쌍의 연마기를 도시한 것이다. 이들 한쌍의 연마기의 휠부들은 서로 맞대어 배치된다. 정확하게는 상측 휠부(200)의 제 1 연마지석부(210)와 하측 휠부(300)의 제 2 연마지석부(310)가 서로 맞대응되도록 배치되어 있다. 도면에 도시하였지만, 설명하지 않은 201은 상측 바디부(201)이고, 301은 하측 바디부(301)이다.As shown in FIG. 4, the pair of polishers are disposed to face each other with the liquid crystal display panel 500 interposed therebetween, and the pair of polishers are disposed above and below the liquid crystal display panel 500, respectively. The figure shows a pair of grinders arranged on one side thereof. The wheel parts of these pairs of grinders are arranged against each other. Precisely, the first abrasive grindstone 210 of the upper wheel part 200 and the second abrasive grindstone 310 of the lower wheel part 300 are disposed to correspond to each other. Although shown in the figure, 201, which is not described, is the upper body portion 201 and 301 is the lower body portion 301.

액정표시패널(500)은 컨베이어를 통해 이동하면서 회전하는 상측 휠부(200)와 하측 휠부(300) 사이에 공급되어 가장자리 절단면이 연마된다. 본 발명의 연마기가 상하측에 각각 배치되기 때문에 액정표시패널(500)을 절단면은 상하측 방향에서 동시에 연마 공정을 진행할 수 있다. 특히, 본 발명의 연마기는 다수개의 연마지석층이 형성되어 있어, 액정표시패널(500)의 절단면을 상하 방향에서 여러번 연마가 진행된다.The liquid crystal display panel 500 is supplied between the upper wheel part 200 and the lower wheel part 300 which rotate while moving through the conveyor, and the edge cut surface is polished. Since the polishing machines of the present invention are disposed on the upper and lower sides, the cutting surface of the liquid crystal display panel 500 can be simultaneously polished in the vertical direction. In particular, the polishing machine of the present invention is formed with a plurality of abrasive grind layers, and the polishing of the cut surface of the liquid crystal display panel 500 is performed several times in the vertical direction.

도 5는 도 4의 상측에 배치된 휠부를 상세히 도시한 도면이고, 도 6은 도 4의 하측에 배치된 휠부를 상세히 도시한 도면이다.5 is a view showing in detail the wheel portion disposed on the upper side of Figure 4, Figure 6 is a view showing in detail the wheel portion disposed on the lower side of FIG.

도 5 및 도 6을 참조하면, 상측 휠부(200)는 상측 바디부(201) 둘레를 따라 제 1 연마지석부(210)가 형성되어 있다. 상기 제 1 연마지석부(210)는 제 1, 2, 3, 4 및 5 연마지석층(210a, 210b, 210c, 210d, 210e)로 구성되어 있다. 이들은 각각 상측 바디부(201)와 일체로 형성된 다수개의 지지부(220) 상에 형성되어 있다. 또 한, 상기 상측 바디부(201)는 중심 영역에 스핀들 모터로부터 인출되는 샤프트가 체결될 수 있도록 오픈된 구조로 되어 있다. 또한, 내측에는 소정의 단차부가 형성되어 있어 볼트나 너트에 의해 휠부를 스핀들 모터와 체결할 수 있도록 되어 있다.5 and 6, the upper wheel part 200 has a first abrasive grind 210 formed around the upper body part 201. The first abrasive grindstone portion 210 is composed of first, second, third, fourth and fifth abrasive grindstone layers 210a, 210b, 210c, 210d and 210e. These are each formed on the plurality of support portions 220 formed integrally with the upper body portion 201. In addition, the upper body portion 201 has an open structure so that the shaft drawn out from the spindle motor can be fastened to the central region. In addition, a predetermined stepped portion is formed on the inner side, and the wheel portion can be fastened to the spindle motor by bolts or nuts.

제 1 연마지석부(210)의 제 1, 2, 3, 4 및 5 연마지석층(210a, 210b, 210c, 210d, 210e)은 강도가 높은 다이아몬드, 세라믹볼, 아루미나볼, 지르코니아 볼, 배럴지석, 연마용콤파운드, 아루미나볼밀, 포트밀와 같은 지석을 사용한다.The first, second, third, fourth, and fifth abrasive grind layers 210a, 210b, 210c, 210d, and 210e of the first abrasive grind portion 210 have high strength diamond, ceramic balls, alumina balls, zirconia balls, and barrels. Grindstones such as grindstones, abrasive compounds, alumina ball mills and pot mills are used.

또한, 제 1, 2, 3, 4 및 5 연마지석층(210a, 210b, 210c, 210d, 210e)에 사용되는 입자의 크기는 서로 다르게 형성한다. 예를 들어, 연마 공정을 진행할 때 연마에 사용되는 지석들의 입자에 따라 메쉬(mesh) 단위를 사용한다. 일반적으로 메쉬(mesh) 값이 작을 수 록 지석들의 입자가 크고, 메쉬(mesh) 값이 클 수록 지석들의 입자가 작다.In addition, the sizes of the particles used in the first, second, third, fourth and fifth abrasive grindstone layers 210a, 210b, 210c, 210d, and 210e are different from each other. For example, when performing the polishing process, a mesh unit is used depending on the particles of the grindstones used for polishing. In general, the smaller the mesh value, the larger the grains of the grindstones, and the larger the mesh value, the smaller the grains of the grindstones.

따라서, 메쉬 값이 작은 경우에는 거친 면을 연마 할 때 사용하고 메쉬 값이 큰 경우에는 고른 면을 연마하여 표면 조도를 높일 때 사용한다.Therefore, when the mesh value is small, it is used to polish the rough surface. When the mesh value is large, it is used to increase the surface roughness by polishing the even surface.

본 발명에서는 제 1 연마지석부(210)의 제 1, 2, 3, 4 및 5 연마지석층(210a, 210b, 210c, 210d, 210e)들 중 적어도 하나 이상에 대해 메쉬 값을 다르게 형성하였다. 하지만, 이것은 고정된 것이 아니고 경우에 따라서는 동일한 메쉬 값을 갖는 연마지석층을 사용할 수 있다. 또한, 적어도 둘 이상의 연마지석층의 메쉬 값을 동일하게 할 수도 있다.In the present invention, a mesh value is differently formed for at least one of the first, second, third, fourth and fifth abrasive grind layers 210a, 210b, 210c, 210d and 210e of the first abrasive grind portion 210. However, this is not fixed and in some cases, abrasive grindstone layers having the same mesh value can be used. Further, the mesh values of at least two abrasive grindstone layers may be the same.

도 6에 도시된 하부 휠부(300)의 구조도 하측 바디부(301)와 제 2 연마지석부(310)로 구성되어 있고, 그 구조는 도 5에서 설명한 상측 휠부(300)의 구조와 동 일하다.The structure of the lower wheel part 300 shown in FIG. 6 is also composed of the lower body part 301 and the second abrasive grindstone part 310, and the structure thereof is the same as that of the upper wheel part 300 described with reference to FIG. 5. .

특히, 하부 휠부(300)의 제 1, 2, 3 및 4 연마지석층(310a, 310b, 310c, 310d)은 상기 상부 휠부(200)의 연마 지석층들과 동일한 구조를 갖지만, 제 5 연마지석층(310e)은 하측 바디부(301)와 일체로 형성되면서 연마지석층들이 형성될 수 있는 지지부(320)들 중 최외곽 영역에 형성한다. 제 5 연마지석층(310e)는 액정표시패널과 최초로 접촉될 때 날카로운 절단면에 대해 먼저 연마가 될 수 있도록 하기 위함이다. 도면에서는 하측 휠부(300)에 제 5 연마지석층(310e)을 형성하였지만, 경우에 따라 상측 휠부(200)에 형성할 수도 있다.In particular, the first, second, third and fourth abrasive grindstone layers 310a, 310b, 310c, and 310d of the lower wheel part 300 have the same structure as the abrasive grindstone layers of the upper wheel part 200, but the fifth abrasive grindstone. The layer 310e is formed integrally with the lower body portion 301 and is formed in the outermost region of the support portions 320 in which the abrasive grind layers may be formed. The fifth abrasive grindstone layer 310e is intended to be polished first on a sharp cut surface when first contacting the liquid crystal display panel. Although the fifth abrasive grind layer 310e is formed in the lower wheel part 300 in the drawing, it may be formed in the upper wheel part 200 in some cases.

또한, 상기 도 5와 도 6과 같이 다수개의 연마지석층을 사용하면 연마지석층들 중 어느 하나의 연마지석층이 마모되면 해당 연마지석층만 교체하면 된다. 본 발명의 연마기는 휠부에 다수개의 연마지석층을 형성하고, 각각의 연마지석층이 액정표시패널의 절단면을 분할하여 연마를 하기 때문에 종래 단일 연마지석층을 사용하는 연마기보다 마모 속도가 현저히 줄어든다. 이로 인하여 연마지석층의 교체 주기가 길어져 제품생산 효율을 높일 수 있다.5 and 6, when a plurality of abrasive grind layers are used, only one abrasive grind layer needs to be replaced when one of the abrasive grind layers is worn out. The abrasive machine of the present invention forms a plurality of abrasive grind layers in the wheel portion, and each abrasive grind layer divides the cut surface of the liquid crystal display panel for polishing, thereby significantly reducing the wear rate than the conventional grinder using a single abrasive grind layer. As a result, the replacement cycle of the abrasive grind layer is lengthened, thereby increasing the product production efficiency.

아울러, 액정표시패널의 절단면 중 많은 연마가 필요하는 부분은 메쉬 값이 작은 연마지석층이 연마를 진행하고, 이후 메쉬 값이 큰 연마지석층이 세밀하게 연마를 진행하기 때문에 액정표시패널의 절단면의 조도가 높고, 매끄러운 표면을 구현할 수 있다.In addition, the part of the cut surface of the liquid crystal display panel that needs to be polished is polished by the abrasive grind layer having a small mesh value, and finely polished by the abrasive grind layer having a large mesh value. High roughness and smooth surface can be achieved.

도 7은 본 발명의 다른 실시예에 따른 액정표시장치 제조용 연마기의 상부 휠부를 도시한 상세도이고, 도 8은 본 발명의 다른 실시예에 따른 액정표시장치 제조 용 연마기의 하부 휠부를 도시한 상세도이다.FIG. 7 is a detailed view showing an upper wheel part of the polishing machine for manufacturing a liquid crystal display device according to another embodiment of the present invention, and FIG. 8 is a detail showing the lower wheel part of the polishing machine for manufacturing a liquid crystal display device according to another embodiment of the present invention. It is also.

도 7 및 도 8을 참조하면, 도 5와 도 6에 도시된 상측 휠부(200)와 하측 휠부(300)와 동일하게 제 1 연마지석부(610)와 제 2 연마지석부(710)는 각각 다수개의 연마지석층들을 갖는다. 연마지석층들의 메쉬 값은 서로 다른 값을 가질 수도 있고, 동일한 메쉬 값을 가질 수도 있다. 하지만, 도 7과 도 8에 도시된 상측 휠부(600)와 하측 휠부(700)의 제 1 연마지석부(610)와 제 2 연마지석부(710)의 제 1, 2, 3, 4, 5 연마지석층(610a, 610b, 610c, 610d, 610e, 710a, 710b, 710c, 710d, 710e)들은 서로 다른 높이를 갖도록 형성하였다.7 and 8, the first abrasive grind 610 and the second abrasive grind 710 are the same as the upper wheel part 200 and the lower wheel part 300 shown in FIGS. 5 and 6, respectively. It has a plurality of abrasive grindstone layers. The mesh values of the abrasive grindstone layers may have different values or may have the same mesh value. However, the first, second, third, fourth, and fifth grinding wheel parts 610 and 710 of the upper wheel part 600 and the lower wheel part 700 illustrated in FIGS. 7 and 8, respectively. The abrasive grindstone layers 610a, 610b, 610c, 610d, 610e, 710a, 710b, 710c, 710d, and 710e are formed to have different heights.

이하, 도 7의 상측 휠부(600)를 중심으로 설명하고, 도 8에서는 도 7과 구분되는 부분을 중심으로 설명한다.Hereinafter, a description will be given focusing on the upper wheel part 600 of FIG. 7, and a description of FIG. 8 focusing on a part distinguished from FIG. 7.

상측 휠부(600)는 상측 바디부(601) 둘레를 따라 제 1 연마지석부(610)가 형성되어 있고, 상기 제 1 연마지석부(610)는 제 1, 2, 3, 4 및 5 연마지석층(610a, 610b, 610c, 610d, 610e)로 구성되어 있다. 제 1, 2, 3, 4 및 5 연마지석층(610a, 610b, 610c, 610d, 610e)들은 상기 상측 바디부(601)와 일체로 형성된 다수개의 지지부(620)들 상에 각각 형성되어 있다. 제 1, 2, 3, 4 및 5 연마지석층(610a, 610b, 610c, 610d, 610e)의 높이를 다르게 하기 위하여 지지부(620)들의 높이를 서로 다르게 형성하였다. 순차적으로 높거나 낮도록 지지부(620)들이 형성되어 있지만, 이것은 일 실시예를 나타낸 것이다. 따라서, 적어도 하나 이상의 지지부(620) 높이를 동일하게 할 수 있다.The upper wheel part 600 has a first abrasive grind portion 610 formed around the upper body portion 601, the first abrasive grind portion 610 is a first, second, third, fourth and fifth abrasive grindstone It consists of layers 610a, 610b, 610c, 610d and 610e. The first, second, third, fourth, and fifth abrasive grindstone layers 610a, 610b, 610c, 610d, and 610e are formed on the plurality of support parts 620 formed integrally with the upper body part 601, respectively. The heights of the support parts 620 are different from each other in order to change the heights of the first, second, third, fourth, and fifth abrasive grindstone layers 610a, 610b, 610c, 610d, and 610e. Supports 620 are formed to be sequentially high or low, but this represents one embodiment. Thus, at least one support 620 may have the same height.

각 지지부의 높이는 서로 달라, 제 1, 2, 3, 4 및 5 연마지석층(610a, 610b, 610c, 610d, 610e)도 서로 다른 높이로 형성되어 있다. 동일한 높이의 지지부들을 형성하되 제 1, 2, 3, 4 및 5 연마지석층(610a, 610b, 610c, 610d, 610e)의 두께를 서로 다르게 하여 연마지석층들의 높이를 다르게 할 수도 있다.The height of each support part is different from each other, and the first, second, third, fourth and fifth abrasive grindstone layers 610a, 610b, 610c, 610d, and 610e are also formed at different heights. The heights of the abrasive grind layers may be different by forming the supporting parts having the same height but different thicknesses of the first, second, third, fourth, and fifth abrasive grind layers 610a, 610b, 610c, 610d, and 610e.

이와 같이, 제 1, 2, 3, 4 및 5 연마지석층(610a, 610b, 610c, 610d, 610e)의 높이를 서로 다르게 하는 이유는 액정표시패널의 절단면과 접촉되는 강도를 다르게 하여 절단면의 연마도를 조절하기 위함이다. 예를 들어 액정표시패널의 절단면이 거칠고 연마 면적이 넓은 경우에는 연마지석층과의 접촉을 강하게 하여 빠르게 연마를 할 수 있도록 하고 연마 면적이 좁고 작은 면적인 경우에는 접촉 강도를 줄여 세밀한 연마를 할 수 있다.As such, the reason why the heights of the first, second, third, fourth, and fifth abrasive grindstone layers 610a, 610b, 610c, 610d, and 610e are different from each other is to polish the cut surfaces by varying the strengths in contact with the cut surfaces of the liquid crystal display panel. To adjust the degree. For example, when the cutting surface of the liquid crystal display panel is rough and the polishing area is large, the contact with the abrasive grind layer is strong, so that the polishing can be performed quickly, and in the case where the polishing area is small and small, the contact strength can be reduced to allow fine polishing. have.

도 8에서도 하측 휠부(700)의 하측 바디부(701)와 일체로 형성된 지지부(720)들의 높이를 서로 다르게 형성하였다. 이로 인하여 제 1, 2, 3, 4 및 5 연마지석층(710a, 710b, 710c, 710d, 710e)들의 높이도 서로 다른 값을 갖는다. 그 기능과 목적은 도 7의 상측 휠부(600)에서 설명한 내용과 동일하다.In FIG. 8, the heights of the supporting parts 720 integrally formed with the lower body part 701 of the lower wheel part 700 are different from each other. As a result, the heights of the first, second, third, fourth, and fifth abrasive grindstone layers 710a, 710b, 710c, 710d, and 710e also have different values. Its function and purpose are the same as those described in the upper wheel unit 600 of FIG.

도 7과 도 8의 휠부에 형성된 연마지석층들(610a, 610b, 610c, 610d, 610e, 710a, 710b, 710c, 710d, 710e)의 높이는 순차적으로 낮아지거나 높아지는 구조를 하고 있다. 하지만, 이것은 일 실시예를 설명한 것으로서 적어도 두개 이상의 연마지석층들의 높이는 동일할 수 있다. 또한, 휠부의 바디부 중심 영역에 있는 연마지석층들을 중심으로 양측에 형성된 연마지석층들의 높이가 순차적으로 낮게 형성될 수도 있다. The heights of the abrasive grind layers 610a, 610b, 610c, 610d, 610e, 710a, 710b, 710c, 710d, and 710e formed in the wheels of FIGS. 7 and 8 are sequentially lowered or increased. However, this describes one embodiment and the height of at least two abrasive grindstone layers may be the same. In addition, the height of the abrasive grind layers formed on both sides with respect to the abrasive grind layers in the center portion of the body portion of the wheel may be sequentially lowered.

본 발명의 연마기에서와 같이 하나의 연마휠에 다수개의 서로 다른 입자 크기 를 갖는 연마지석층들을 형성함으로써, 액정표시패널의 넓은 절단면을 연마할 수 있다. 또한, 액정표시패널 절단면의 연마 특성을 개선할 수 있는 이점이 있다.As in the polishing machine of the present invention, by forming the abrasive grindstone layers having a plurality of different particle sizes in one polishing wheel, it is possible to polish a wide cut surface of the liquid crystal display panel. In addition, there is an advantage that can improve the polishing characteristics of the cut surface of the liquid crystal display panel.

또한, 본 발명은 연마기는 다수개의 연마지석층들이 액정표시패널의 절단면을 분담하여 연마할 수 있어 연마기의 부하를 줄일 수 있고, 연마지석층의 마모 기간을 늘릴 수 있다.In addition, according to the present invention, a plurality of abrasive grind layers share and polish the cut surface of the liquid crystal display panel, thereby reducing the load on the polisher and increasing the wear period of the abrasive grind layer.

도 1은 종래의 표시장치의 연마기를 나타내는 도면이다.1 is a view showing a polishing machine of a conventional display device.

도 2는 도 1의 휠부를 상세히 나타내는 도면이다.2 is a view showing in detail the wheel of FIG.

도 3은 본 발명에 따른 액정표시장치 제조용 연마기에 사용되는 휠부를 도시한 도면이다.3 is a view showing a wheel portion used in the polishing machine for manufacturing a liquid crystal display device according to the present invention.

도 4는 본 발명의 액정표시장치 제조용 연마기를 사용하여 액정표시패널을 연마하는 공정을 도시한 도면이다.4 is a view illustrating a process of polishing a liquid crystal display panel using a polishing machine for manufacturing a liquid crystal display device of the present invention.

도 5는 도 4의 상측에 배치된 휠부를 상세히 도시한 도면이다.FIG. 5 is a view illustrating in detail a wheel unit disposed at an upper side of FIG. 4.

도 6은 도 4의 하측에 배치된 휠부를 상세히 도시한 도면이다.FIG. 6 is a view illustrating in detail a wheel unit disposed at a lower side of FIG. 4.

도 7은 본 발명의 다른 실시예에 따른 액정표시장치 제조용 연마기의 상부 휠부를 도시한 상세도이다.7 is a detailed view illustrating an upper wheel part of the polishing machine for manufacturing a liquid crystal display device according to another exemplary embodiment of the present invention.

도 8은 본 발명의 다른 실시예에 따른 액정표시장치 제조용 연마기의 하부 휠부를 도시한 상세도이다.8 is a detailed view illustrating a lower wheel part of the polishing machine for manufacturing a liquid crystal display device according to another exemplary embodiment of the present invention.

(도면의 주요 부분에 대한 참조 부호의 설명) (Explanation of reference numerals for the main parts of the drawings)

150: 연마기 130: 숄더부150: grinding machine 130: shoulder portion

120: 스핀들 모터 100: 휠부120: spindle motor 100: wheel portion

110: 연마지석부 103: 바디부110: abrasive grinding unit 103: body

Claims (11)

적어도 두개 이상의 연마지석층;At least two abrasive grindstone layers; 상기 적어도 두개 이상의 연마지석층을 각각 지지하는 다수개의 지지부; 및A plurality of supports each supporting the at least two abrasive grind layers; And 상기 다수개의 지지부와 일체로 형성된 바디부를 포함하는 액정표시장치 제조용 연마기.And a body part integrally formed with the plurality of support parts. 제 1 항에 있어서,The method of claim 1, 상기 적어도 두개 이상의 연마지석층은 적어도 하나 이상이 서로 다른 입자의 지석들로 형성된 것을 특징으로 하는 액정표시장치 제조용 연마기.And the at least two abrasive grindstone layers are at least one formed of grindstones of different particles. 제 1 항에 있어서, The method of claim 1, 상기 적어도 두개 이상의 연마지석층은 적어도 하나 이상이 서로 다른 높이를 갖는 것을 특징으로 하는 액정표시장치 제조용 연마기.And the at least two abrasive grindstone layers have at least one different height from each other. 제 1 항에 있어서,The method of claim 1, 상기 다수개의 지지부는 적어도 하나 이상이 서로 다른 높이를 갖는 것을 특징 으로 하는 액정표시장치 제조용 연마기.And at least one of the plurality of support parts has a different height from each other. 제 1 항에 있어서,The method of claim 1, 상기 다수개의 지지부에 각각 형성된 연마지석층들의 두께는 서로 다른 두께를 갖는 것을 특징으로 하는 액정표시장치 제조용 연마기.And a polishing grind layer formed on each of the plurality of supporting parts having a different thickness. 제 1 항에 있어서,The method of claim 1, 상기 바디부와 지지부에 회전력을 전달하는 모터; 및A motor for transmitting rotational force to the body portion and the support portion; And 상기 모터를 지지하는 숄더를 더 포함하는 액정표시장치 제조용 연마기.And a shoulder for supporting the motor. 표시패널을 공급하는 단계; 및Supplying a display panel; And 상기 표시패널 절단면의 상하측에 각각 배치되는 적어도 두개 이상의 연마지석층과 상기 적어도 두개 이상의 연마지석층을 각각 지지하는 다수개의 지지부와 상기 다수개의 지지부와 일체로 형성된 바디부를 각각 구비하는 제 1, 2 연마기를 이용하여 표시패널을 연마하는 단계 포함하는 액정표시장치 제조방법.First and second, respectively, having at least two or more abrasive grind layers disposed on upper and lower sides of the cut surface of the display panel, a plurality of support parts supporting the at least two or more abrasive grind layers, respectively, and a body part integrally formed with the plurality of support parts. A method of manufacturing a liquid crystal display device comprising polishing a display panel using a polishing machine. 제 7 항에 있어서,The method of claim 7, wherein 상기 적어도 두개 이상의 연마지석층은 적어도 하나 이상이 서로 다른 입자의 지석들로 형성된 것을 특징으로 하는 액정표시장치 제조방법.And the at least two abrasive grindstone layers are formed of at least one grindstone of different particles. 제 7 항에 있어서, The method of claim 7, wherein 상기 적어도 두개 이상의 연마지석층은 적어도 하나 이상이 서로 다른 높이를 갖는 것을 특징으로 하는 액정표시장치 제조방법.And at least one or more abrasive grindstone layers have different heights. 제 7 항에 있어서,The method of claim 7, wherein 상기 다수개의 지지부는 적어도 하나 이상이 서로 다른 높이를 갖는 것을 특징으로 하는 액정표시장치 제조방법.And at least one of the plurality of support portions has different heights. 제 7 항에 있어서,The method of claim 7, wherein 상기 다수개의 지지부에 각각 형성된 연마지석층들의 두께는 서로 다른 두께를 갖는 것을 특징으로 하는 액정표시장치 제조방법.And a thickness of each of the abrasive grind layers formed on the plurality of supporting parts has a different thickness.
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CN107225515A (en) * 2017-07-11 2017-10-03 苏州精协机械制造有限公司 The multi-thread emery wheel of combined type of thread forming tap screw grinder

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