KR20100137440A - Borosiloxane composition, borosiloxane adhesive, coated and laminated substrates - Google Patents

Abstract

본 발명은 분자당 평균 2개 이상의 알케닐 그룹을 갖는 보로실록산, 분자당 평균 2개 이상의 규소-결합된 수소 원자를 갖는 유기규소 화합물, 및 하이드로실릴화 촉매를 포함하는 보로실록산 조성물; 하나 이상의 보로실록산의 경화된 생성물을 포함하는 보로실록산 접착제; 및 각각 보로실록산 접착제를 포함하는, 코팅된 기판 및 적층 기판에 관한 것이다.The present invention relates to a borosiloxane composition comprising a bolosiloxane having an average of at least two alkenyl groups per molecule, an organosilicon compound having an average of at least two silicon-bonded hydrogen atoms per molecule, and a hydrosilylation catalyst; A bolosiloxane adhesive comprising a cured product of one or more bolosiloxanes; And a coated substrate and a laminated substrate, each comprising a borosiloxane adhesive.

Description

보로실록산 조성물, 보로실록산 접착제, 코팅된 기판 및 적층 기판 {Borosiloxane composition, borosiloxane adhesive, coated and laminated substrates}Borosiloxane composition, borosiloxane adhesive, coated and laminated substrates

관련 출원과의 상호참조Cross Reference to Related Applications

본 출원은 35 U.S.C. §119(e) 하에 2008년 3월 4일자로 출원된 미국 가특허원 제61/033444호의 이익을 주장한다. 미국 가특허원 제61/033444호는 본 명세서에 참조로 인용된다.This application claims 35 U.S.C. Claims benefit of U.S. Provisional Patent Application 61/033444, filed March 4, 2008, under §119 (e). United States Provisional Patent Application 61/033444 is incorporated herein by reference.

본 발명은 보로실록산 조성물에 관한 것이며, 더 상세하게는 분자당 평균 2개 이상의 알케닐 그룹을 갖는 보로실록산, 분자당 2개 이상의 규소-결합된 수소 원자를 갖는 유기규소 화합물, 및 하이드로실릴화 촉매를 포함하는 보로실록산 조성물에 관한 것이다. 본 발명은 또한 하나 이상의 보로실록산의 경화된 생성물을 포함하는 보로실록산 접착제 조성물에 관한 것이다. 본 발명은 추가로, 각각 보로실록산 접착제를 포함하는, 코팅된 기판 및 적층 기판에 관한 것이다.FIELD OF THE INVENTION The present invention relates to borosilicate compositions, and more particularly to borosilicates having an average of at least two alkenyl groups per molecule, organosilicon compounds having at least two silicon-bonded hydrogen atoms per molecule, and hydrosilylation catalysts It relates to a bolosiloxane composition comprising a. The present invention also relates to a borosiloxane adhesive composition comprising a cured product of one or more bolosiloxanes. The present invention further relates to coated and laminated substrates, each comprising a bolosiloxane adhesive.

실리콘 접착제는 높은 열 안정성, 양호한 내습성, 우수한 가요성, 높은 이온 순도, 낮은 알파 입자 방출율 및 각종 기판에의 양호한 접착성을 포함한 특성들의 독특한 조합으로 인해 각종 용도에 유용하다. 예를 들면, 실리콘 접착제는 자동차, 전자, 건축, 가전 및 항공우주 산업에 널리 사용된다.Silicone adhesives are useful for a variety of applications because of their unique combination of properties including high thermal stability, good moisture resistance, good flexibility, high ionic purity, low alpha particle release rate and good adhesion to various substrates. Silicone adhesives, for example, are widely used in the automotive, electronics, construction, consumer electronics, and aerospace industries.

그러나, 기존의 실리콘 접착제가 고온에, 예를 들면, 개방 화염(open flame)과의 직접 접촉시 겪게 되는 온도에 노출되는 경우, 상기 접착제는 분해되어 탄화물(char), 통상적으로는 비점착성 분말을 형성한다.However, when existing silicone adhesives are exposed to high temperatures, for example, to temperatures encountered in direct contact with an open flame, the adhesives decompose to form carbides, typically non-tacky powders. Form.

상기를 고려하여, 실리콘-함유 조성물은 경화하여, 탄화율(char yield)이 높으며 접착제의 분해 온도보다 높은 온도에 노출되는 동안 및 노출된 후에 높은 접착성을 갖는 접착제를 형성해야 할 필요성이 있다.In view of the above, there is a need to cure a silicone-containing composition to form an adhesive having high char yield and high adhesion during and after exposure to temperatures higher than the decomposition temperature of the adhesive.

본 발명은 The present invention

(A)(i) 하나 이상의 화학식 I의 폴리보로실록산, (ii) 하나 이상의 화학식 II의 보로실록산 화합물 및 (iii) 상기 성분(A)(i)과 성분(A)(ii)를 포함하는 혼합물로부터 선택되는 보로실록산(단, 상기 보로실록산은 분자당 평균 2개 이상의 알케닐 그룹을 갖는다);(A) (i) at least one polyborosiloxane of formula (I), (ii) at least one borosiloxane compound of formula (II) and (iii) said components (A) (i) and (A) (ii) Bolosiloxanes selected from mixtures, provided that the bolosiloxanes have an average of at least two alkenyl groups per molecule;

(B) 상기 보로실록산을 경화시키기에 충분한 양의, 분자당 평균 2개 이상의 규소-결합된 수소 원자를 갖는 유기규소 화합물; 및(B) an organosilicon compound having an average of at least two silicon-bonded hydrogen atoms per molecule in an amount sufficient to cure the bolosiloxane; And

(C) 하이드로실릴화 촉매를 포함하는 보로실록산 조성물에 관한 것이다.(C) relates to a bolosiloxane composition comprising a hydrosilylation catalyst.

화학식 IFormula I

(R¹ ₂BO_{1 /2})_l[(BO_(3-v)/2)(OH)_v]_m[(R¹BO_(2-w)/2)(OH)_w]_n(R¹ ₃SiO_{1 /2})_p[(R¹ ₂SiO_(2-x)/2)(OH)_x]_q[(R¹SiO_(3-y)/2)(OH)_y]_r[(SiO_(4-z)/2)(OH)_z]_{s ^{(R 1 2 BO 1/2}} ) l [(BO (3-v) / 2) (OH) v] m [(R 1 BO (2-w) / 2) (OH) w] n (R 1 3 _{SiO 1/2) p [(} r 1 2 SiO (2-x) / 2) (OH) x] q [(r 1 SiO (3-y) / 2) (OH) y] r [(SiO (4 _{-z) / 2} ) (OH) _z ] _s

화학식 IIFormula II

R¹ _aB(OSiR¹ ₃)_3-a R ¹ _a B (OSiR ¹ ₃ ) _3-a

위의 화학식 I 및 화학식 II에서,In Formula I and Formula II above,

각각의 R¹은 독립적으로 C₁ 내지 C₁₀ 하이드로카빌 또는 C₁ 내지 C₁₀ 할로겐-치환된 하이드로카빌이고,Each R ¹ is independently C ₁ to C ₁₀ hydrocarbyl or C ₁ to C ₁₀ halogen-substituted hydrocarbyl,

l은 0 내지 0.2이고, m은 0 내지 0.5이고, n은 0 내지 0.6이고, p는 0 내지 0.7이고, q는 0 내지 0.9이고, r은 0 내지 0.999이고, s는 0 내지 0.5이고, v는 0 내지 0.05이고, w는 0 내지 0.05이고, x는 0 내지 0.45이고, y는 0 내지 0.63이고, z는 0 내지 0.25이고, m+n은 0.001 내지 0.58이고, q+r+s는 0.42 내지 0.999이고, (p+2q+3r+4s)/(3m+2n)은 1.01 내지 1000이고, l+m+n+p+q+r+s

1이고, a는 0, 1 또는 2이다.l is 0 to 0.2, m is 0 to 0.5, n is 0 to 0.6, p is 0 to 0.7, q is 0 to 0.9, r is 0 to 0.999, s is 0 to 0.5, v Is 0 to 0.05, w is 0 to 0.05, x is 0 to 0.45, y is 0 to 0.63, z is 0 to 0.25, m + n is 0.001 to 0.58, q + r + s is 0.42 To 0.999, (p + 2q + 3r + 4s) / (3m + 2n) is 1.01 to 1000, and l + m + n + p + q + r + s

1 and a is 0, 1 or 2.

본 발명은 또한 보로실록산이 하나 이상의 화학식 I의 폴리보로실록산, 하나 이상의 화학식 II의 보로실록산 화합물(단, 상기 보로실록산 화합물은 분자당 평균 2개 이상의 알케닐 그룹을 갖는다), 및 하나 이상의 화학식 I의 폴리보로실록산과 하나 이상의 화학식 II의 보로실록산 화합물을 포함하는 혼합물(단, 상기 혼합물 중의 상기 폴리보로실록산과 상기 보로실록산 화합물은 각각 분자당 평균 2개 이상의 알케닐 그룹을 갖는다)로부터 선택되는, 보로실록산의 경화된 생성물을 포함하는 보로실록산 접착제에 관한 것이다.The invention also provides that the borosisiloxane is at least one polyborosiloxane of Formula (I), at least one borosiloxane compound of Formula (II), provided that the borosiloxane compound has an average of at least two alkenyl groups per molecule, and at least one formula From a mixture comprising a polyborosiloxane of I and at least one borosiloxane compound of formula II, provided that the polyborosiloxane and the bolosiloxane compound in the mixture each have an average of at least two alkenyl groups per molecule Selected is directed to a borosiloxane adhesive comprising a cured product of bolosiloxane.

화학식 IFormula I

(R¹ ₂BO_{1 /2})_l[(BO_(3-v)/2)(OH)_v]_m[(R¹BO_(2-w)/2)(OH)_w]_n(R¹ ₃SiO_{1 /2})_p[(R¹ ₂SiO_(2-x)/2)(OH)_x]_q[(R¹SiO_(3-y)/2)(OH)_y]_r[(SiO_(4-z)/2)(OH)_z]_{s ^{(R 1 2 BO 1/2}} ) l [(BO (3-v) / 2) (OH) v] m [(R 1 BO (2-w) / 2) (OH) w] n (R 1 3 _{SiO 1/2) p [(} r 1 2 SiO (2-x) / 2) (OH) x] q [(r 1 SiO (3-y) / 2) (OH) y] r [(SiO (4 _{-z) / 2} ) (OH) _z ] _s

화학식 IIFormula II

R¹ _aB(OSiR¹ ₃)_3-a R ¹ _a B (OSiR ¹ ₃ ) _3-a

위의 화학식 I 및 화학식 II에서,In Formula I and Formula II above,

각각의 R¹은 독립적으로 C₁ 내지 C₁₀ 하이드로카빌 또는 C₁ 내지 C₁₀ 할로겐-치환된 하이드로카빌이고,Each R ¹ is independently C ₁ to C ₁₀ hydrocarbyl or C ₁ to C ₁₀ halogen-substituted hydrocarbyl,

l은 0 내지 0.2이고, m은 0 내지 0.5이고, n은 0 내지 0.6이고, p는 0 내지 0.7이고, q는 0 내지 0.9이고, r은 0 내지 0.999이고, s는 0 내지 0.5이고, v는 0 내지 0.05이고, w는 0 내지 0.05이고, x는 0 내지 0.45이고, y는 0 내지 0.63이고, z는 0 내지 0.25이고, m+n은 0.001 내지 0.58이고, q+r+s는 0.42 내지 0.999이고, (p+2q+3r+4s)/(3m+2n)은 1.01 내지 1000이고, l+m+n+p+q+r+s

1이고, a는 0, 1 또는 2이다.l is 0 to 0.2, m is 0 to 0.5, n is 0 to 0.6, p is 0 to 0.7, q is 0 to 0.9, r is 0 to 0.999, s is 0 to 0.5, v Is 0 to 0.05, w is 0 to 0.05, x is 0 to 0.45, y is 0 to 0.63, z is 0 to 0.25, m + n is 0.001 to 0.58, q + r + s is 0.42 To 0.999, (p + 2q + 3r + 4s) / (3m + 2n) is 1.01 to 1000, and l + m + n + p + q + r + s

1 and a is 0, 1 or 2.

본 발명은 추가로 The present invention further

기판; 및Board; And

상기 기판 표면의 적어도 일부 위의 보로실록산 접착제 코팅을 포함하는 코팅된 기판에 관한 것으로, 여기서, 상기 접착제 코팅은 보로실록산의 경화된 생성물을 포함하며, 상기 경화된 생성물은 위에 기재된 바와 같다.A coated substrate comprising a borosiloxane adhesive coating on at least a portion of the substrate surface, wherein the adhesive coating comprises a cured product of borosiloxane, wherein the cured product is as described above.

본 발명은 또한 추가로The invention also further

제1 기판;A first substrate;

제1 기판을 오버라잉한(overlying) 하나 이상의 추가의 기판; 및One or more additional substrates overlying the first substrate; And

각 기판의 하나 이상의 표면의 적어도 일부 위의 보로실록산 접착제 코팅을 포함하는 적층 기판에 관한 것으로, 단, 접착제 코팅의 적어도 일부는 인접한 기판들의 대향 표면들 사이에 있고 대향 표면들과 직접 접촉되어 있으며, 상기 접착제 코팅은 보로실록산의 경화된 생성물을 포함하며, 상기 경화된 생성물은 위에 기재된 바와 같다.A laminate substrate comprising a borosilicate adhesive coating on at least a portion of one or more surfaces of each substrate, provided that at least a portion of the adhesive coating is between opposing surfaces of adjacent substrates and in direct contact with the opposing surfaces, The adhesive coating comprises a cured product of bolosiloxane, wherein the cured product is as described above.

본 발명의 보로실록산 접착제는 늪은 내습성, 높은 투명도 및 각종 기판에의 우수한 접착성을 갖는다. 더욱이, 상기 보로실록산 접착제는 접착제의 분해 온도보다 높은 온도에 노출되는 동안 및 노출된 후 높은 접착성을 가지며, (낮은 열 방출율에 의해 입증되는 바와 같이) 낮은 가연성 및 높은 탄화율을 갖는다.The borosilicate adhesive of the present invention has swamp resistance, high transparency and excellent adhesion to various substrates. Moreover, the borosiloxane adhesive has high adhesion during and after exposure to temperatures higher than the decomposition temperature of the adhesive, as well as low flammability and high carbonization rate (as evidenced by the low heat release rate).

본 발명의 보로실록산 접착제는 높은 내습성, 승온에서의 높은 접착성, 낮은 가연성 및 높은 투명도를 갖는 접착제가 요구되는 분야에 유용하다. 예를 들면, 당해 접착제는 내화 등급 창문(fire rated window) 및 유리 방화벽의 제조시 유리 패널들을 접합시키는 데 유용하다.The borosiloxane adhesives of the present invention are useful in applications where adhesives with high moisture resistance, high adhesion at elevated temperatures, low flammability and high transparency are required. For example, the adhesive is useful for bonding glass panels in the manufacture of fire rated windows and glass firewalls.

본 발명의 이들 및 다른 특징, 측면 및 이점은 하기의 설명, 첨부된 특허청구범위 및 첨부 도면을 참조하여 더욱 잘 이해될 것이다.These and other features, aspects, and advantages of the present invention will be better understood with reference to the following description, appended claims and accompanying drawings.

도 1은 본 발명에 따른 적층 기판의 한 양태의 단면도를 도시한다.
도 2는 제2 기판 상의 제2 보로실록산 접착제 코팅 및 제1 기판의 제2 반대 표면 상의 제3 보로실록산 접착제 코팅을 추가로 포함하는, 상기 적층 기판의 이전 양태의 단면도를 도시한다.1 shows a cross-sectional view of one embodiment of a laminated substrate according to the present invention.
FIG. 2 shows a cross-sectional view of a previous embodiment of the laminated substrate further comprising a second borosiloxane adhesive coating on a second substrate and a third borosiloxane adhesive coating on a second opposite surface of the first substrate.

본 명세서에 사용될 때, 표기 (BO_(3-v)/2)(OH)_v 및 (R¹BO_(2-w)/2)(OH)_w는 각각, 3개의 산소 원자 및 2개의 산소 원자에 결합된 붕소를 갖는 단위들의 평균식을 나타내며, 여기서, 각각의 산소 원자는 또한 또 다른 원자, 즉, Si 또는 H에 결합된다. 예를 들면, 화학식 (BO_(3-v)/2)(OH)_v(여기서, v는 0이다)를 갖는 단일 단위는 구조식

로 표시될 수 있다.As used herein, the notations (BO _{(3-v) / 2} ) (OH) _v and (R ¹ BO _{(2-w) / 2} ) (OH) _w are three oxygen atoms and two oxygen atoms, respectively An average formula of units having boron bonded to is shown, where each oxygen atom is also bonded to another atom, ie Si or H. For example, a single unit having the formula (BO _{(3-v) / 2} ) (OH) _v where v is 0 is a structural formula

It may be represented as.

유사하게, 화학식 (R¹BO_(2-w)/2)(OH)_w(여기서, R¹은 C₁ 내지 C₁₀ 하이드로카빌 또는 C₁ 내지 C₁₀ 할로겐-치환된 하이드로카빌이고, w는 0이다)를 갖는 단일 단위는 구조식

로 표시될 수 있다.Similarly, the formula (R ¹ BO _{(2-w) / 2} ) (OH) _w where R ¹ is C ₁ to C ₁₀ hydrocarbyl or C ₁ to C ₁₀ halogen-substituted hydrocarbyl, w is 0 A single unit having

It may be represented as.

더욱이, 화학식 R¹ ₂BO_{1 /2}(여기서, 각각의 R¹은 독립적으로 C₁ 내지 C₁₀ 하이드로카빌 또는 C₁ 내지 C₁₀ 할로겐-치환된 하이드로카빌이다)를 갖는 단위는 화학식

을 갖는다.Furthermore, the formula R _{¹ 2} BO ^_1/2 - units having (wherein, each R ¹ is independently C ₁ to C ₁₀ hydrocarbyl or C ₁ to C ₁₀ halogen-substituted hydrocarbyl is a) has the formula

Has

상기의 각 화학식에서, 산소 원자에 결합된 선분(line segment)은 자유 원자가, 즉, 다른 원자로의 결합점을 나타낸다.In each of the above formulas, a line segment bonded to an oxygen atom represents a free valence, that is, a point of attachment to another reactor.

본 발명에 따른 보로실록산 조성물은Borosiloxane composition according to the present invention

(A)(i) 하나 이상의 화학식 I의 폴리보로실록산, (ii) 하나 이상의 화학식 II의 보로실록산 화합물 및 (iii) 상기 성분(A)(i)과 성분(A)(ii)를 포함하는 혼합물로부터 선택되며, 단, 분자당 평균 2개 이상의 알케닐 그룹을 갖는 보로실록산;(A) (i) at least one polyborosiloxane of formula (I), (ii) at least one borosiloxane compound of formula (II) and (iii) said components (A) (i) and (A) (ii) Borosiloxanes selected from mixtures, provided that they have an average of at least two alkenyl groups per molecule;

(B) 상기 보로실록산을 경화시키기에 충분한 양의, 분자당 평균 2개 이상의 규소-결합된 수소 원자를 갖는 유기규소 화합물; 및(B) an organosilicon compound having an average of at least two silicon-bonded hydrogen atoms per molecule in an amount sufficient to cure the bolosiloxane; And

(C) 하이드로실릴화 촉매를 포함한다.(C) hydrosilylation catalyst.

화학식 IFormula I

(R¹ ₂BO_{1 /2})_l[(BO_(3-v)/2)(OH)_v]_m[(R¹BO_(2-w)/2)(OH)_w]_n(R¹ ₃SiO_{1 /2})_p[(R¹ ₂SiO_(2-x)/2)(OH)_x]_q[(R¹SiO_(3-y)/2)(OH)_y]_r[(SiO_(4-z)/2)(OH)_z]_{s ^{(R 1 2 BO 1/2}} ) l [(BO (3-v) / 2) (OH) v] m [(R 1 BO (2-w) / 2) (OH) w] n (R 1 3 _{SiO 1/2) p [(} r 1 2 SiO (2-x) / 2) (OH) x] q [(r 1 SiO (3-y) / 2) (OH) y] r [(SiO (4 _{-z) / 2} ) (OH) _z ] _s

화학식 IIFormula II

R¹ _aB(OSiR¹ ₃)_3-a R ¹ _a B (OSiR ¹ ₃ ) _3-a

위의 화학식 I 및 화학식 II에서,In Formula I and Formula II above,

각각의 R¹은 독립적으로 C₁ 내지 C₁₀ 하이드로카빌 또는 C₁ 내지 C₁₀ 할로겐-치환된 하이드로카빌이고,Each R ¹ is independently C ₁ to C ₁₀ hydrocarbyl or C ₁ to C ₁₀ halogen-substituted hydrocarbyl,

l은 0 내지 0.2이고, m은 0 내지 0.5이고, n은 0 내지 0.6이고, p는 0 내지 0.7이고, q는 0 내지 0.9이고, r은 0 내지 0.999이고, s는 0 내지 0.5이고, v는 0 내지 0.05이고, w는 0 내지 0.05이고, x는 0 내지 0.45이고, y는 0 내지 0.63이고, z는 0 내지 0.25이고, m+n은 0.001 내지 0.58이고, q+r+s는 0.42 내지 0.999이고, (p+2q+3r+4s)/(3m+2n)은 1.01 내지 1000이고, l+m+n+p+q+r+s

1이고, a는 0, 1 또는 2이다.l is 0 to 0.2, m is 0 to 0.5, n is 0 to 0.6, p is 0 to 0.7, q is 0 to 0.9, r is 0 to 0.999, s is 0 to 0.5, v Is 0 to 0.05, w is 0 to 0.05, x is 0 to 0.45, y is 0 to 0.63, z is 0 to 0.25, m + n is 0.001 to 0.58, q + r + s is 0.42 To 0.999, (p + 2q + 3r + 4s) / (3m + 2n) is 1.01 to 1000, and l + m + n + p + q + r + s

1 and a is 0, 1 or 2.

성분(A)는 (i) 하나 이상의 화학식 I의 폴리보로실록산, (ii) 하나 이상의 화학식 II의 보로실록산 화합물, 및 (iii) 상기 성분(A)(i)과 성분(A)(ii)를 포함하는 혼합물로부터 선택되며, 상기 분자당 평균 2개 이상의 알케닐 그룹을 갖는 보로실록산이다.Component (A) comprises (i) at least one polyborosiloxane of Formula (I), (ii) at least one Borosiloxane compound of Formula (II), and (iii) components (A) (i) and (A) (ii) It is selected from a mixture comprising, and is a bolosiloxane having an average of at least two alkenyl groups per molecule.

화학식 IFormula I

(R¹ ₂BO_{1 /2})_l[(BO_(3-v)/2)(OH)_v]_m[(R¹BO_(2-w)/2)(OH)_w]_n(R¹ ₃SiO_{1 /2})_p[(R¹ ₂SiO_(2-x)/2)(OH)_x]_q[(R¹SiO_(3-y)/2)(OH)_y]_r[(SiO_(4-z)/2)(OH)_z]_{s ^{(R 1 2 BO 1/2}} ) l [(BO (3-v) / 2) (OH) v] m [(R 1 BO (2-w) / 2) (OH) w] n (R 1 3 _{SiO 1/2) p [(} r 1 2 SiO (2-x) / 2) (OH) x] q [(r 1 SiO (3-y) / 2) (OH) y] r [(SiO (4 _{-z) / 2} ) (OH) _z ] _s

화학식 IIFormula II

R¹ _aB(OSiR¹ ₃)_3-a R ¹ _a B (OSiR ¹ ₃ ) _3-a

위의 화학식 I 및 화학식 II에서,In Formula I and Formula II above,

각각의 R¹은 독립적으로 C₁ 내지 C₁₀ 하이드로카빌 또는 C₁ 내지 C₁₀ 할로겐-치환된 하이드로카빌이고,Each R ¹ is independently C ₁ to C ₁₀ hydrocarbyl or C ₁ to C ₁₀ halogen-substituted hydrocarbyl,

l은 0 내지 0.2이고, m은 0 내지 0.5이고, n은 0 내지 0.6이고, p는 0 내지 0.7이고, q는 0 내지 0.9이고, r은 0 내지 0.999이고, s는 0 내지 0.5이고, v는 0 내지 0.05이고, w는 0 내지 0.05이고, x는 0 내지 0.45이고, y는 0 내지 0.63이고, z는 0 내지 0.25이고, m+n은 0.001 내지 0.58이고, q+r+s는 0.42 내지 0.999이고, (p+2q+3r+4s)/(3m+2n)은 1.01 내지 1000이고, l+m+n+p+q+r+s

1이고, a는 0, 1 또는 2이다.l is 0 to 0.2, m is 0 to 0.5, n is 0 to 0.6, p is 0 to 0.7, q is 0 to 0.9, r is 0 to 0.999, s is 0 to 0.5, v Is 0 to 0.05, w is 0 to 0.05, x is 0 to 0.45, y is 0 to 0.63, z is 0 to 0.25, m + n is 0.001 to 0.58, q + r + s is 0.42 To 0.999, (p + 2q + 3r + 4s) / (3m + 2n) is 1.01 to 1000, and l + m + n + p + q + r + s

1 and a is 0, 1 or 2.

보로실록산(A)(i)은 하나 이상의 화학식 I의 폴리보로실록산이며, 상기 폴리보로실록산은 분자당 평균 2개 이상의 알케닐 그룹을 갖는다.Borosiloxane (A) (i) is at least one polyborosiloxane of formula (I), said polyborosiloxane having an average of at least two alkenyl groups per molecule.

화학식 IFormula I

(R¹ ₂BO_{1 /2})_l[(BO_(3-v)/2)(OH)_v]_m[(R¹BO_(2-w)/2)(OH)_w]_n(R¹ ₃SiO_{1 /2})_p[(R¹ ₂SiO_(2-x)/2)(OH)_x]_q[(R¹SiO_(3-y)/2)(OH)_y]_r[(SiO_(4-z)/2)(OH)_z]_{s ^{(R 1 2 BO 1/2}} ) l [(BO (3-v) / 2) (OH) v] m [(R 1 BO (2-w) / 2) (OH) w] n (R 1 3 _{SiO 1/2) p [(} r 1 2 SiO (2-x) / 2) (OH) x] q [(r 1 SiO (3-y) / 2) (OH) y] r [(SiO (4 _{-z) / 2} ) (OH) _z ] _s

위의 화학식 I에서,In Formula I above,

각각의 R¹은 독립적으로 C₁ 내지 C₁₀ 하이드로카빌 또는 C₁ 내지 C₁₀ 할로겐-치환된 하이드로카빌이고,Each R ¹ is independently C ₁ to C ₁₀ hydrocarbyl or C ₁ to C ₁₀ halogen-substituted hydrocarbyl,

l은 0 내지 0.2이고, m은 0 내지 0.5이고, n은 0 내지 0.6이고, p는 0 내지 0.7이고, q는 0 내지 0.9이고, r은 0 내지 0.999이고, s는 0 내지 0.5이고, v는 0 내지 0.05이고, w는 0 내지 0.05이고, x는 0 내지 0.45이고, y는 0 내지 0.63이고, z는 0 내지 0.25이고, m+n은 0.001 내지 0.58이고, q+r+s는 0.42 내지 0.999이고, (p+2q+3r+4s)/(3m+2n)은 1.01 내지 1000이고, l+m+n+p+q+r+s

1이다.l is 0 to 0.2, m is 0 to 0.5, n is 0 to 0.6, p is 0 to 0.7, q is 0 to 0.9, r is 0 to 0.999, s is 0 to 0.5, v Is 0 to 0.05, w is 0 to 0.05, x is 0 to 0.45, y is 0 to 0.63, z is 0 to 0.25, m + n is 0.001 to 0.58, q + r + s is 0.42 To 0.999, (p + 2q + 3r + 4s) / (3m + 2n) is 1.01 to 1000, and l + m + n + p + q + r + s

1

상기 폴리보로실록산은 화학식 [(BO_(3-v)/2)(OH)_v]의 단위들 및/또는 화학식 [(R¹BO_(2-w)/2)(OH)_w]의 단위들을 하기의 것 중, 화학식 [(R¹ ₂SiO_(2-x)/2)(OH)_x]의 단위들, 화학식 [(R¹SiO_(3-y)/2)(OH)_y]의 단위들 및 화학식 [(SiO_(4-z)/2)(OH)_z]의 단위들(여기서, R¹, v, w, x, y 및 z는 정의된 바와 같으며 하기에 예시되어 있다).The polyborosiloxane is in units of formula [(BO _{(3-v) / 2} ) (OH) _v ] and / or in units of formula [(R ¹ BO _{(2-w) / 2} ) (OH) _w ] Among the following, the units of the formula [(R ¹ ₂ SiO _{(2-x) / 2} ) (OH) _x ], of the formula [(R ¹ SiO _{(3-y) / 2} ) (OH) _y ] Units and units of the formula [(SiO _{(4-z) / 2} ) (OH) _z ], wherein R ¹ , v, w, x, y and z are as defined and exemplified below .

R¹으로 표시되는 하이드로카빌 및 할로겐-치환된 하이드로카빌 그룹은 통상적으로 1 내지 10개의 탄소 원자, 또는 1 내지 6개의 탄소 원자, 또는 1 내지 4개의 탄소 원자를 갖는다. 3개 이상의 탄소 원자를 함유하는 어사이클릭 하이드로카빌 및 할로겐-치환된 하이드로카빌 그룹은 분지형 또는 비분지형 구조를 가질 수 있다. R¹로 표시되는 하이드로카빌 그룹의 예는 비제한적으로 알킬, 예를 들면, 메틸, 에틸, 프로필, 1-메틸에틸, 부틸, 1-메틸프로필, 2-메틸프로필, 1,1-디메틸에틸, 펜틸, 1-메틸부틸, 1-에틸프로필, 2-메틸부틸, 3-메틸부틸, 1,2-디메틸프로필, 2,2-디메틸프로필, 헥실, 헵틸, 옥틸, 노닐 및 데실; 사이클로알킬, 예를 들면, 사이클로펜틸, 사이클로헥실 및 메틸사이클로헥실; 아릴, 예를 들면, 페닐 및 나프틸; 알카릴, 예를 들면, 톨릴 및 자일릴; 아랄킬, 예를 들면, 벤질 및 페네틸; 알케닐, 예를 들면, 비닐, 알릴 및 프로페닐, 부테닐, 헥세닐 및 옥테닐; 아릴알케닐, 예를 들면, 스티릴 및 신나밀; 및 알키닐, 예를 들면, 에티닐 및 프로피닐을 포함한다. R¹로 표시되는 할로겐-치환된 하이드로카빌의 예는 비제한적으로 3,3,3-트리플루오로프로필, 3-클로로프로필, 클로로페닐, 디클로로페닐, 2,2,2-트리플루오로에틸, 2,2,3,3-테트라플루오로프로필 및 2,2,3,3,4,4,5,5-옥타플루오로펜틸을 포함한다.Hydrocarbyl and halogen-substituted hydrocarbyl groups represented by R ¹ typically have 1 to 10 carbon atoms, or 1 to 6 carbon atoms, or 1 to 4 carbon atoms. Acyclic hydrocarbyl and halogen-substituted hydrocarbyl groups containing three or more carbon atoms may have a branched or unbranched structure. Examples of hydrocarbyl groups represented by R ¹ include, but are not limited to, alkyl such as methyl, ethyl, propyl, 1-methylethyl, butyl, 1-methylpropyl, 2-methylpropyl, 1,1-dimethylethyl, Pentyl, 1-methylbutyl, 1-ethylpropyl, 2-methylbutyl, 3-methylbutyl, 1,2-dimethylpropyl, 2,2-dimethylpropyl, hexyl, heptyl, octyl, nonyl and decyl; Cycloalkyl such as cyclopentyl, cyclohexyl and methylcyclohexyl; Aryls such as phenyl and naphthyl; Alkalis such as tolyl and xylyl; Aralkyl such as benzyl and phenethyl; Alkenyl such as vinyl, allyl and propenyl, butenyl, hexenyl and octenyl; Arylalkenyls such as styryl and cinnamil; And alkynyl such as ethynyl and propynyl. Examples of halogen-substituted hydrocarbyl represented by R ¹ include, but are not limited to, 3,3,3-trifluoropropyl, 3-chloropropyl, chlorophenyl, dichlorophenyl, 2,2,2-trifluoroethyl, 2,2,3,3-tetrafluoropropyl and 2,2,3,3,4,4,5,5-octafluoropentyl.

한 양태에서, 폴리보로실록산의 화학식 I에서 R¹로 표시되는 하이드로카빌 그룹은 페닐이 아니다.In one embodiment, the hydrocarbyl group represented by R ¹ in formula (I) of the polyborosiloxane is not phenyl.

폴리보로실록산의 화학식 I에서, 하첨자 l, m, n, p, q, r 및 s는 몰분율이며, 하첨자 l, m, n, p, q, r 및 s는 몰분율이다. 하첨자 l은 통상적으로 0 내지 0.2, 또는 0 내지 0.1, 또는 0 내지 0.05의 값을 가지며, 하첨자 m은 통상적으로 0 내지 0.5, 또는 0.1 내지 0.4, 또는 0.15 내지 0.3의 값을 가지며; 하첨자 n은 통상적으로 0 내지 0.6, 또는 0 내지 0.4, 또는 0.1 내지 0.2의 값을 가지며; 하첨자 p는 통상적으로 0 내지 0.7, 또는 0 내지 0.5, 또는 0 내지 0.2의 값을 가지며; 하첨자 q는 통상적으로 0 내지 0.9, 또는 0 내지 0.7, 또는 0 내지 0.5의 값을 가지며; 하첨자 r은 통상적으로 0 내지 0.999, 또는 0 내지 0.8, 또는 0.1 내지 0.4의 값을 가지며; 하첨자 s는 통상적으로 0 내지 0.5, 또는 0 내지 0.35, 또는 0.05 내지 0.2의 값을 갖는다. 또한, 합계 m+n은 통상적으로 0.001 내지 0.58, 또는 0.01 내지 0.4, 또는 0.1 내지 0.3이며; 합계 q+r+s는 통상적으로 0.42 내지 0.999, 또는 0.45 내지 0.9, 또는 0.6 내지 0.8이며; 비 (p+2q+3r+4s)/(3m+2n)은 통상적으로 1.01 내지 1000, 또는 1.2 내지 100, 또는 1.5 내지 10이다.In the formula (I) of the polyborosiloxane, the subscripts l, m, n, p, q, r and s are mole fractions and the subscripts l, m, n, p, q, r and s are mole fractions. The subscript l typically has a value of 0 to 0.2, or 0 to 0.1, or 0 to 0.05, and the subscript m typically has a value of 0 to 0.5, or 0.1 to 0.4, or 0.15 to 0.3; The subscript n typically has a value of 0 to 0.6, or 0 to 0.4, or 0.1 to 0.2; The subscript p typically has a value of 0 to 0.7, or 0 to 0.5, or 0 to 0.2; The subscript q typically has a value of 0 to 0.9, or 0 to 0.7, or 0 to 0.5; The subscript r typically has a value of 0 to 0.999, or 0 to 0.8, or 0.1 to 0.4; The subscript s typically has a value of 0 to 0.5, or 0 to 0.35, or 0.05 to 0.2. In addition, the sum m + n is usually 0.001 to 0.58, or 0.01 to 0.4, or 0.1 to 0.3; The sum q + r + s is typically 0.42 to 0.999, or 0.45 to 0.9, or 0.6 to 0.8; The ratio (p + 2q + 3r + 4s) / (3m + 2n) is typically 1.01 to 1000, or 1.2 to 100, or 1.5 to 10.

또한, 폴리보로실록산의 화학식 I에서, 하첨자 v, w, x, y 및 z는 화학식 내의 각종 단위들과 관련된 하이드록시 그룹의 평균수를 나타낸다. 하첨자 v는 통상적으로 0 내지 0.05, 또는 0 내지 0.04, 또는 0 내지 0.03의 값을 가지며; 하첨자 w는 통상적으로 0 내지 0.05, 또는 0.01 내지 0.04, 또는 0.01 내지 0.02의 값을 가지며; 하첨자 x는 통상적으로 0 내지 0.45, 또는 0.01 내지 0.35, 또는 0.05 내지 0.25의 값을 가지며; 하첨자 y는 통상적으로 0 내지 0.63, 또는 0.01 내지 0.4, 또는 0.05 내지 0.25의 값을 가지며; 하첨자 z는 통상적으로 0 내지 0.25, 또는 0.01 내지 0.15, 또는 0.01 내지 0.05의 값을 갖는다.In addition, in the formula (I) of the polyborosiloxane, the subscripts v, w, x, y and z represent the average number of hydroxy groups associated with the various units in the formula. The subscript v typically has a value of 0 to 0.05, or 0 to 0.04, or 0 to 0.03; The subscript w typically has a value between 0 and 0.05, or 0.01 and 0.04, or 0.01 and 0.02; The subscript x typically has a value of 0 to 0.45, or 0.01 to 0.35, or 0.05 to 0.25; The subscript y typically has a value between 0 and 0.63, or between 0.01 and 0.4, or between 0.05 and 0.25; The subscript z typically has a value of 0 to 0.25, or 0.01 to 0.15, or 0.01 to 0.05.

더욱이, 폴리보로실록산의 화학식 I에서, 합계 l+m+n+p+q+r+s

1이다(근사적으로 1과 동일하다). 이는 위의 화학식 I에 보여지는 평균식들을 갖는 단위들에 더하여, 폴리보로실록산은 하기의 평균식을 갖는 하나 이상의 단위들의 잔류량(예를 들면, 5mol% 이하)을 함유할 수 있음을 의미한다: (BO_{(3- v' )/2})(OR²)_v', (R¹BO_(2-w')/2)(OR²)_w', (R¹ ₂SiO_{(2- x' )/2})(X)_X', (R¹SiO_{(3- y' )/2})(X)_y' 및 (SiO_{(4- z' )/2})(X)_Z'(여기서, R¹은 위에 정의되고 예시된 바와 같으며, R²는 C₁ 내지 C₈ 알킬이고, X는 -Cl 또는 -Br이고, v'는 평균값이 0 내지 0.04이고; w'는 평균값이 0 내지 0.02이고; x'는 평균값이 0 내지 0.03이고; y'는 평균값이 0 내지 0.03이고; z'는 평균값이 0 내지 0.03이다.Furthermore, in formula (I) of polyborosiloxane, the sum l + m + n + p + q + r + s

1 (approximately equal to 1). This means that in addition to the units having the average formulas shown in Formula I above, the polyborosiloxane may contain a residual amount (eg, 5 mol% or less) of one or more units having the following formula: : (BO _{(3- v ' ) / 2} ) (OR ² ) _v' , (R ¹ BO _{(2-w ') / 2} ) (OR ² ) _w' , (R ¹ ₂ SiO _{(2- x ' ) / 2} ) (X) _{X '} , (R ¹ SiO _{(3- y' ) / 2} ) (X) _{y '} And (SiO _{(4- z ' ) / 2} ) (X) _Z' wherein R ¹ is as defined and exemplified above, R ² is C ₁ to C ₈ alkyl, and X is -Cl or -Br V 'has an average value of 0 to 0.04; w' has an average value of 0 to 0.02; x 'has an average value of 0 to 0.03; y' has an average value of 0 to 0.03; z 'has an average value of 0 to 0.03. to be.

R²로 표시되는 알킬 그룹은 통상적으로 1 내지 8개의 탄소 원자, 또는 1 내지 6개의 탄소 원자, 또는 1 내지 4개의 탄소 원자를 갖는다. 3개 이상의 탄소 원자를 함유하는 어사이클릭 알킬 그룹은 분지형 또는 비분지형 구조를 가질 수 있다. R²로 표시되는 알킬 그룹의 예는 비제한적으로 메틸, 에틸, 프로필, 1-메틸에틸, 부틸, 1-메틸프로필, 2-메틸프로필, 1,1-디메틸에틸, 펜틸, 1-메틸부틸, 1-에틸프로필, 2-메틸부틸, 3-메틸부틸, 1,2-디메틸프로필, 2,2-디메틸프로필, 헥실, 헵틸 및 옥틸; 및 사이클로알킬, 예를 들면, 사이클로펜틸, 사이클로헥실 및 메틸사이클로헥실을 포함한다.The alkyl group represented by R ² usually has 1 to 8 carbon atoms, or 1 to 6 carbon atoms, or 1 to 4 carbon atoms. Acyclic alkyl groups containing three or more carbon atoms may have a branched or unbranched structure. Examples of alkyl groups represented by R ² include, but are not limited to, methyl, ethyl, propyl, 1-methylethyl, butyl, 1-methylpropyl, 2-methylpropyl, 1,1-dimethylethyl, pentyl, 1-methylbutyl, 1-ethylpropyl, 2-methylbutyl, 3-methylbutyl, 1,2-dimethylpropyl, 2,2-dimethylpropyl, hexyl, heptyl and octyl; And cycloalkyls such as cyclopentyl, cyclohexyl and methylcyclohexyl.

폴리보로실록산은 분자당 평균 2개 이상의 알케닐 그룹을 갖는다. R¹로 표시되는 이들 알케닐 그룹은 붕소 원자, 규소 원자 또는 붕소 및 규소 원자 둘 모두에 결합될 수 있다. 폴리보로실록산 내의 그룹 R1의 통상적으로 10mol% 이상, 또는 25mol% 이상, 또는 50mol% 이상이 알케닐이다. 본 명세서에서, 용어 "폴리보로실록산 내의 그룹 R¹의 mol% 알케닐이다"는 폴리보로실록산 내의 규소-결합된 알케닐 그룹과 붕소-결합된 알케닐 그룹의 몰 수 대 폴리보로실록산 내의 그룹 R¹의 총 몰 수의 비에 100을 곱한 값으로 정의된다.Polyborosiloxanes have an average of at least two alkenyl groups per molecule. These alkenyl groups represented by R ¹ may be bonded to boron atoms, silicon atoms or both boron and silicon atoms. Typically at least 10 mol%, or at least 25 mol%, or at least 50 mol% of the groups R 1 in the polyborosiloxane are alkenyl. As used herein, the term “mol% alkenyl of group R ¹ in polyborosiloxane” refers to the number of moles of silicon-bonded alkenyl and boron-bonded alkenyl groups in the polyborosiloxane versus polyborosiloxane. Is defined as the ratio of the total moles of groups R ^{1 in} the product multiplied by 100.

폴리보로실록산은 통상적으로 수 평균 분자량(Mn)이 500 내지 1,000,000, 또는 500 내지 500,000, 또는 10,000 내지 500,000, 또는 10,000 내지 50,000이며, 여기서, 수 평균 분자량은 굴절률 검출기 및 실리콘 수지(MQ) 표준물질을 이용하는 겔 투과 크로마토그래피에 의해 측정된다.Polyborosiloxanes typically have a number average molecular weight (Mn) of 500 to 1,000,000, or 500 to 500,000, or 10,000 to 500,000, or 10,000 to 50,000, wherein the number average molecular weight is a refractive index detector and a silicone resin (MQ) standard. It is measured by gel permeation chromatography using.

폴리보로실록산은 통상적으로 25℃에서의 점도가 0.5 내지 10,000Pa·s, 또는 1 내지 1,000Pa·s, 또는 2 내지 100Pa·s이다.Polyborosiloxanes typically have a viscosity at 25 ° C. of 0.5 to 10,000 Pa · s, or 1 to 1,000 Pa · s, or 2 to 100 Pa · s.

폴리보로실록산은 ²⁹Si NMR에 의해 측정될 때, 통상적으로 20%(w/w) 미만, 또는 15%(w/w) 미만, 또는 10%(w/w) 미만의 규소-결합된 하이드록시 그룹을 함유한다.Polyborosiloxane is typically less than 20% (w / w), or less than 15% (w / w), or less than 10% (w / w) silicon-bonded hydrogen as measured by ²⁹ Si NMR It contains a hydroxy group.

또한, 폴리보로실록산은 통상적으로 5mol% 미만, 또는 4mol% 미만, 또는 3mol% 미만의 붕소-결합된 하이드록시 그룹을 함유하며, 여기서, 붕소-결합된 하이드록시 그룹의 mol%는 폴리보로실록산 내의 붕소-결합된 하이드록시 그룹의 몰 수 대 폴리보로실록산 내의 Si 원자와 B 원자의 몰 수의 합계의 비에 100을 곱한 값으로 정의된다. 더욱이, 붕소-결합된 하이드록시 그룹의 mol%는 관계식: D = υBC/A(여기서, D는 붕소-결합된 하이드록시 그룹의 mol%이고; υ는 비례 상수로 이는 1의 값을 가질 것으로 가정되고; A는 폴리보로실록산의 FTIR 스펙트럼에서 근사적으로 약 3400cm^-1에 중심이 있는 Si-OH 흡수의 면적이고; B는 폴리보로실록산의 FTIR 스펙트럼에서 근사적으로 약 3230cm^-1에 중심이 있는 B-OH 흡수의 면적이고; C는 ²⁹Si NMR에 의해 측정될 때, 폴리보로실록산 내의 규소-결합된 하이드록시 그룹의 mol%이다)로부터 개산될 수 있다.In addition, polyborosiloxanes typically contain less than 5 mol%, or less than 4 mol%, or less than 3 mol% boron-bonded hydroxy groups, where mol% of the boron-bonded hydroxy groups are polyboro The ratio of the sum of the number of moles of boron-bonded hydroxy groups in the siloxane to the number of moles of Si and B atoms in the polyborosiloxane is multiplied by 100. Moreover, mol% of the boron-bonded hydroxy group is the relationship: D = υBC / A, where D is mol% of the boron-bonded hydroxy group; υ is a proportional constant, which assumes that it will have a value of 1. A is the area of Si-OH absorption centered approximately 3400 cm ⁻¹ in the FTIR spectrum of the polyborosiloxane and B is approximately 3230 cm ⁻¹ approximately in the FTIR spectrum of the polyborosiloxane Having The area of B-OH absorption; C can be estimated from mol% of silicon-bonded hydroxy groups in polyborosiloxane, as measured by ²⁹ Si NMR.

화학식 I의 폴리보로실록산의 예는 비제한적으로 하기의 화학식을 갖는 폴리보로실록산을 포함한다(여기서, Me는 메틸이고, Vi는 비닐이고, Ph는 페닐이고, 괄호 밖의 하첨자는 몰분율을 나타낸다). 또한, 상기 화학식에서, 이들 단위의 순서는 특정되어 있지 않다. Examples of polyborosiloxanes of formula (I) include, but are not limited to, polyborosiloxanes having the formula: wherein Me is methyl, Vi is vinyl, Ph is phenyl, and subscripts in parentheses represent mole fractions. ). In the above formula, the order of these units is not specified.

(ViMe₂SiO_{1 /2})_0.7(BO_{3 /2})_0.25(SiO_{4 /2})_0.05, _{(ViMe 2 SiO 1/2)} 0.7 (BO 3/2) 0.25 (SiO 4/2) 0.05,

(BO_{3 /2})_0.15(Me₂SiO_{2 /2})_0.55(PhSiO_{3 /2})_0.30, _{(BO 3/2) 0.15 (} Me 2 SiO 2/2) 0.55 (PhSiO 3/2) 0.30,

(BO_{3 /2})_O.1(PhBO_{2 /2})_0.25(ViMe₂SiO_{1 /2})_0.25(MeSiO_{3 /2})_0.4, _{(BO 3/2) O.1 (} PhBO 2/2) 0.25 (ViMe 2 SiO 1/2) 0.25 (MeSiO 3/2) 0.4,

(BO_{3 /2})_0.25(BO_{2 /2}(OH))_0.05(Me₂SiO_{2 /2})_0.6(Me₂SiO_{1 /2}(OH))_0.1, _{(BO 3/2) 0.25 (} BO 2/2 (OH)) 0.05 (Me 2 SiO 2/2) 0.6 (Me 2 SiO 1/2 (OH)) 0.1,

(PhBO_{2 /2})_0.15(PhBO_{1 /2}(OH))_0.03(PhSiO_{3 /2})_0.31(PhSiO_{2 /2}(OH))_0.51, _{(PhBO 2/2) 0.15 (} PhBO 1/2 (OH)) 0.03 (PhSiO 3/2) 0.31 (PhSiO 2/2 (OH)) 0.51,

(ViMeBO_{1 /2})_0.05(BO_{3 /2})_O.2(ViMe₂SiO_{1 /2})_O.1(MeSiO_{3 /2})_O.65, _{(ViMeBO 1/2) 0.05 (} BO 3/2) O.2 (ViMe 2 SiO 1/2) O.1 (MeSiO 3/2) O.65,

(B0_3/2)_{0. O1}(Me₂Si0_{2 /2})_0.4(Me₂Si0_{1 /2}(OH))_0.05(PhSi0_{2 /2}(OH))_0.54 및 _{(B0 3/2) 0. O1 (Me} 2 Si0 2/2) 0.4 (Me 2 Si0 1/2 (OH)) 0.05 (PhSi0 2/2 (OH)) 0.54 and

(PhBO_{2 /2})_0.3(MeSiO_{3 /2})_0.6(ViMe₂SiO_{1 /2})_{0.1 (PhBO 2/2) 0.3 (} MeSiO 3/2) 0.6 (ViMe 2 SiO 1/2) 0.1

보로실록산(A)(i)은 단일 폴리보로실록산이거나 2개 이상의 상이한 폴리보로실록산들의 혼합물일 수 있으며, 이들 각각은 위의 화학식 I을 가지며, 상기 분자당 평균 2개 이상의 알케닐 그룹을 갖는다.Borosiloxane (A) (i) may be a single polyborosiloxane or a mixture of two or more different polyborosiloxanes, each of which has Formula I above, having an average of at least two alkenyl groups per molecule Have

화학식 I의 폴리보로실록산은 Polyborosiloxane of Formula (I)

(I) (A)(i) 하나 이상의 화학식 B(OR²)₃의 트리알콕시보란, (ii) 하나 이상의 화학식 R¹B(OR²)₂의 디알콕시보란, (iii) 성분(a)(i)과 성분(a)(ii)를 포함하는 혼합물 및 (iv) 성분(a)(i)과 성분(a)(ii) 중의 하나 이상과 화학식 R¹ ₂BOR²의 모노알콕시보란을 포함하는 혼합물로부터 선택되는 알콕시보란을, 루이스 산 촉매의 존재하에, (b)(i) 하나 이상의 화학식 R¹SiX₃의 트리할로실란, (ii) 하나 이상의 화학식 R¹ ₂SiX₂의 디할로실란, (iii) 하나 이상의 화학식 SiX₄의 테트라할로실란, (iv) 성분(b)(i), 성분(b)(ii) 및 성분(b)(iii) 중 2개 이상을 포함하는 혼합물, 및 (v) 성분(b)(i), 성분(b)(ii) 및 성분(b)(iii) 중의 하나 이상과 화학식 R¹ ₃SiX의 모노할로실란을 포함하는 혼합물로부터 선택되는 할로실란과 반응시켜 폴리보로실록산 중간체를 형성하는 단계(위의 화학식들에서, 각각의 R¹은 독립적으로 C₁ 내지 C₁₀ 하이드로카빌 또는 C₁ 내지 C₁₀ 할로겐-치환된 하이드로카빌이고, R²는 C₁ 내지 C₈ 알킬이고, X는 -Cl 또는 -Br이고, 성분(a)(i)과 성분(a)(ii)의 몰 수의 합계 대 알콜시보란(a) 및 할로실란(b)의 몰 수의 합계의 비는 0.001 내지 0.58이고, 성분(b)(i), 성분(b)(ii) 및 성분(b)(iii)의 몰 수의 합계 대 알콜시보란(a) 및 할로실란(b)의 몰 수의 합계의 비는 0.42 내지 0.999이고, 할로실란(b)의 몰 수 대 알콕시보란(a)의 몰 수의 비는 0.724 내지 999이고, 할로실란(b) 내의 그룹 -X의 몰 수 대 알콕시보란(a) 내의 그룹 -OR²의 몰 수의 비는 1.01 이상이다); (I) (A) (i) at least one trialkoxyborane of formula B (OR ² ) ₃ , (ii) at least one dialkoxyborane of formula R ¹ B (OR ² ) ₂ , (iii) component (a) ( a mixture comprising i) and component (a) (ii) and (iv) at least one of component (a) (i) and component (a) (ii) and a monoalkoxyborane of formula R ¹ ₂ BOR ² The alkoxyborane selected from the mixture is selected from the group consisting of (b) (i) at least ^one trihalosilane of formula R ¹ SiX ₃ , (ii) at least one dihalosilane of formula R ¹ ₂ SiX ₂ , (iii) at least one tetrahalosilane of formula SiX ₄ , (iv) a mixture comprising at least two of component (b) (i), component (b) (ii) and component (b) (iii), and (v) a halosilane selected from a mixture comprising at least one of components (b) (i), (b) (ii) and (b) (iii) and a monohalosilane of formula R ¹ ₃ SiX; Reacting to form the polyborosiloxane intermediate (in the formulas above, Each R ¹ is independently C ₁ to C ₁₀ hydrocarbyl or C ₁ to C ₁₀ halogen-substituted hydrocarbyl, R ² is C ₁ to C ₈ alkyl, X is -Cl or -Br, and a) The ratio of the sum of the number of moles of (i) and component (a) (ii) to the sum of the moles of alcoholic borane (a) and halosilanes (b) is 0.001 to 0.58 and component (b) (i ), The ratio of the sum of the moles of components (b) (ii) and (b) (iii) to the sum of the moles of alcoholic boranes (a) and halosilanes (b) is 0.42 to 0.999, with halosilane The ratio of the number of moles of (b) to the number of moles of alkoxyborane (a) is 0.724 to 999, and the number of moles of group -X in halosilanes (b) to the number of moles of group -OR ² in alkoxyboranes (a) The ratio is at least 1.01);

(II) 폴리보로실록산 중간체 및, 임의로, 화학식 R¹ _nSiX_{4 -n}을 갖는 하나 이상의 할로실란을 물과 반응시켜 수-불용성 가수분해 생성물을 형성하는 단계(위의 화학식에서, R¹ 및 X는 위에 정의된 바와 같으며, n은 0, 1, 2 또는 3이며, 단, 과량의 물이 사용될 경우, 상기 방법은 당해 가수분해 생성물을 물로부터 분리하는 단계를 추가로 포함한다), 및 (II) reacting the polyborosiloxane intermediate and, optionally, one or more halosilanes having the formula R ¹ _n SiX _{4- n} with water to form a water-insoluble hydrolysis product (wherein R ¹ and X is as defined above and n is 0, 1, 2 or 3, provided that excess water is used, the method further comprises separating the hydrolysis product from water), and

(III) 가수분해 생성물을 증류시켜 축합에 의해 형성된 물(water of condensation)를 제거하는 단계에 의해 제조될 수 있으며, 단, 폴리보로실록산은 분자당 평균 2개 이상의 알케닐 그룹을 함유한다.(III) can be prepared by distilling the hydrolysis product to remove water of condensation formed by condensation, provided that polyborosiloxane contains an average of at least two alkenyl groups per molecule.

폴리보로실록산을 제조하는 방법의 단계 (I)에서는, (a)(i) 하나 이상의 화학식 B(OR²)₃의 트리알콕시보란, (ii) 하나 이상의 화학식 R¹B(OR²)₂의 디알콕시보란, (iii) 성분(a)(i)과 성분(a)(ii)를 포함하는 혼합물 및 (iv) 성분(a)(i)과 성분(a)(ii) 중의 하나 이상과 화학식 R¹ ₂BOR²의 모노알콕시보란을 포함하는 혼합물로부터 선택되는 알콕시보란이, 루이스 산 촉매의 존재하에, (b)(i) 하나 이상의 화학식 R¹SiX₃의 트리할로실란, (ii) 하나 이상의 화학식 R¹ ₂SiX₂의 디할로실란, (iii) 하나 이상의 화학식 SiX₄의 테트라할로실란, (iv) 성분(b)(i), 성분(b)(ii) 및 성분(b)(iii) 중 2개 이상을 포함하는 혼합물, 및 (v) 성분(b)(i), 성분(b)(ii) 및 성분(b)(iii) 중의 하나 이상과 화학식 R¹ ₃SiX의 모노할로실란을 포함하는 혼합물로부터 선택되는 할로실란과 반응하여 폴리보로실록산 중간체를 형성하며, 위의 화학식들에서, 각각의 R¹은 독립적으로 C₁ 내지 C₁₀ 하이드로카빌 또는 C₁ 내지 C₁₀ 할로겐-치환된 하이드로카빌이고, R²는 C₁ 내지 C₈ 알킬이고, X는 -Cl 또는 -Br이고, 성분(a)(i)과 성분(a)(ii)의 몰 수의 합계 대 알콜시보란(a) 및 할로실란(b)의 몰 수의 합계의 비는 0.001 내지 0.58이고, 성분(b)(i), 성분(b)(ii) 및 성분(b)(iii)의 몰 수의 합계 대 알콜시보란(a) 및 할로실란(b)의 몰 수의 합계의 비는 0.42 내지 0.999이고, 할로실란(b)의 몰 수 대 알콕시보란(a)의 몰 수의 비는 0.724 내지 999이고, 할로실란(b) 내의 그룹 -X의 몰 수 대 알콕시보란(a) 내의 그룹 -OR²의 몰 수의 비는 1.01 이상이다.In step (I) of the process for preparing the polyborosiloxane, (a) (i) at least one trialkoxyborane of formula B (OR ² ) ₃ , (ii) at least one of formula R ¹ B (OR ² ) ₂ Dialkoxyborane is (iii) a mixture comprising component (a) (i) and component (a) (ii) and (iv) one or more of components (a) (i) and component (a) (ii) An alkoxyborane selected from a mixture comprising a monoalkoxyborane of R ¹ ₂ BOR ² is selected from (b) (i) one or more trihalosilanes of formula R ¹ SiX ₃ , in the presence of a Lewis acid catalyst, (ii) one Dihalosilanes of formula R ¹ ₂ SiX ₂ , (iii) at least one tetrahalosilane of formula SiX ₄ , (iv) component (b) (i), component (b) (ii) and component (b) ( a mixture comprising at least two of iii) and (v) at least one of component (b) (i), component (b) (ii) and component (b) (iii) with a monohalo of formula R ¹ ₃ SiX Polyborosyl by reaction with halosilanes selected from mixtures comprising rosilane To form an acid intermediate, in the above formula, each R ¹ is independently C ₁ to C ₁₀ hydrocarbyl or C ₁ to C ₁₀ halogen-substituted with hydrocarbyl, R ² is a C ₁ to C ₈ alkyl , X is -Cl or -Br, and the ratio of the sum of the moles of components (a) (i) and (a) (ii) to the sum of the moles of alcoholic boranes (a) and halosilanes (b) Is 0.001 to 0.58 and the sum of the moles of components (b) (i), (b) (ii) and (b) (iii) versus the moles of alcoholic boranes (a) and halosilanes (b) The ratio of the sum of is 0.42 to 0.999, the ratio of the number of moles of halosilanes (b) to the number of moles of alkoxyboranes (a) is 0.724 to 999, and the number of moles of group -X in halosilanes (b) to alkoxyborane. The ratio of the number of moles of the group -OR ² in (a) is at least 1.01.

알콕시보란(a)은 (i) 하나 이상의 화학식 B(OR²)₃의 트리알콕시보란, (ii) 하나 이상의 화학식 R¹B(OR²)₂의 디알콕시보란, (iii) 성분(a)(i)과 성분(a)(ii)를 포함하는 혼합물 및 (iv) 성분(a)(i)과 성분(a)(ii) 중의 하나 이상과 화학식 R¹ ₂BOR²의 모노알콕시보란을 포함하는 혼합물로부터 선택되며, 위의 화학식들에서, R¹ 및 R²는 위에 정의되고 예시된 바와 같다.Alkoxyborane (a) comprises (i) at least one trialkoxyborane of formula B (OR ² ) ₃ , (ii) at least one dialkoxyborane of formula R ¹ B (OR ² ) ₂ , (iii) component (a) ( a mixture comprising i) and component (a) (ii) and (iv) at least one of component (a) (i) and component (a) (ii) and a monoalkoxyborane of formula R ¹ ₂ BOR ² Selected from the mixture, and in the above formulas, R ¹ and R ² are as defined and exemplified above.

알콕시보란(a)(i)은 하나 이상의 화학식 B(OR²)₃의 트리알콕시보란이며, 여기서, R²는 위에 기재되고 예시된 바와 같다. 트리알콕시보란의 예는 비제한적으로 트리메틸 보레이트, 트리에틸 보레이트, 트리프로필 보레이트, 트리펜틸 보레이트, 트리헥실 보레이트 및 트리옥틸 보레이트를 포함한다.Alkoxyborane (a) (i) is one or more trialkoxyboranes of the formula B (OR ² ) ₃ , wherein R ² is as described and exemplified above. Examples of trialkoxyboranes include, but are not limited to, trimethyl borate, triethyl borate, tripropyl borate, tripentyl borate, trihexyl borate and trioctyl borate.

알콕시보란(a)(i)은 단일 트리알콕시보란이거나 2개 이상의 상이한 트리알콕시보란을 포함하는 혼합물일 수 있으며, 이들 각각은 화학식 B(OR²)₃을 가지며, 여기서, R²는 위에 정의되고 예시된 바와 같다. 트리알콕시보란의 제조 방법이 당업계에 익히 공지되어 있으며, 이들 화합물의 다수는 구매가능하다.The alkoxyborane (a) (i) may be a single trialkoxyborane or a mixture comprising two or more different trialkoxyboranes, each of which has the formula B (OR ² ) ₃ , wherein R ² is defined above and As illustrated. Methods of making trialkoxyborane are well known in the art and many of these compounds are commercially available.

알콕시보란(a)(ii)은 하나 이상의 화학식 R¹B(OR²)₂의 디알콕시보란이며, 여기서, R¹ 및 R²는 위에 정의되고 예시된 바와 같다. 디알콕시보란의 예는 비제한적으로 페닐디메톡시보란, 메틸디메톡시보란, 페닐디에톡시보란, 메틸디에톡시보란 및 n-부틸디메톡시보란을 포함한다.Alkoxyborane (a) (ii) is one or more dialkoxyboranes of the formula R ¹ B (OR ² ) ₂ , wherein R ¹ and R ² are as defined and exemplified above. Examples of dialkoxyboranes include, but are not limited to, phenyldimethoxyborane, methyldimethoxyborane, phenyldiethoxyborane, methyldiethoxyborane and n-butyldimethoxyborane.

알콕시보란(a)(ii)은 단일 디알콕시보란이거나 2개 이상의 상이한 디알콕시보란을 포함하는 혼합물일 수 있으며, 이들 각각은 화학식 R¹B(OR²)₂를 가지며, 여기서, R¹ 및 R²는 위에 정의되고 예시된 바와 같다. 디알콕시보란의 제조 방법은 당업계에 익히 공지되어 있으며, 이들 화합물의 다수는 구매가능하다.Alkoxyborane (a) (ii) may be a single dialkoxyborane or a mixture comprising two or more different dialkoxyboranes, each of which has the formula R ¹ B (OR ² ) ₂ , wherein R ¹ and R ² is as defined and exemplified above. Methods of making dialkoxyborane are well known in the art and many of these compounds are commercially available.

알콕시보란(a)(iii)은 성분(a)(i)과 성분(a)(ii)를 포함하는 혼합물이며, 이들 각각은 위에 기재된 바와 같다.Alkoxyborane (a) (iii) is a mixture comprising component (a) (i) and component (a) (ii), each of which is as described above.

알콕시보란(a)(iv)은 성분(a)(i)과 성분(a)(ii) 중의 하나 이상과 화학식 R¹ ₂BOR²를 갖는 모노알콕시보란을 포함하는 혼합물이며, 여기서, R¹ 및 R²는 위에 정의되고 예시된 바와 같다. 모노알콕시보란의 예는 비제한적으로 메틸페닐메톡시보란 및 디메틸메톡시보란을 포함한다.Alkoxyboranes (a) (iv) are mixtures comprising at least one of component (a) (i) and component (a) (ii) and monoalkoxyborane having the formula R ¹ ₂ BOR ² , wherein R ¹ and R ² is as defined and exemplified above. Examples of monoalkoxyboranes include, but are not limited to, methylphenylmethoxyborane and dimethylmethoxyborane.

모노알콕시보란은 단일 모노알콕시보란이거나 2개 이상의 상이한 모노알콕시보란을 포함하는 혼합물일 수 있으며, 이들 각각은 화학식 R¹ ₂BOR²를 가지며, 여기서, R¹ 및 R²는 위에 정의되고 예시된 바와 같다. 모노알콕시보란의 제조 방법은 당업계에 익히 공지되어 있으며, 이들 화합물의 다수는 구매가능하다.The monoalkoxyborane can be a single monoalkoxyborane or a mixture comprising two or more different monoalkoxyboranes, each of which has the formula R ¹ ₂ BOR ² , wherein R ¹ and R ² are as defined and exemplified above. same. Methods of making monoalkoxyborane are well known in the art and many of these compounds are commercially available.

할로실란(b)은 (i) 하나 이상의 화학식 R¹SiX₃의 트리할로실란, (ii) 하나 이상의 화학식 R¹ ₂SiX₂의 디할로실란, (iii) 하나 이상의 화학식 SiX₄의 테트라할로실란, (iv) 성분(b)(i), 성분(b)(ii) 및 성분(b)(iii) 중 2개 이상을 포함하는 혼합물, 및 (v) 성분(b)(i), 성분(b)(ii) 및 성분(b)(iii) 중의 하나 이상과 화학식 R¹ ₃SiX의 모노할로실란을 포함하는 혼합물로부터 선택되며, 위의 화학식들에서 R¹은 C₁ 내지 C₁₀ 하이드로카빌 또는 C₁ 내지 C₁₀ 할로겐-치환된 하이드로카빌이고, X는 -Cl 또는 -Br이다.Halosilanes (b) comprise (i) at least ^one trihalosilane of formula R ¹ SiX ₃ , (ii) at least one dihalosilane of formula R ¹ ₂ SiX ₂ , (iii) at least one tetrahalo of formula SiX ₄ Silane, (iv) a mixture comprising at least two of component (b) (i), component (b) (ii) and component (b) (iii), and (v) component (b) (i), component (b) at least one of (ii) and (b) (iii) and a monohalosilane of formula R ¹ ₃ SiX, wherein R ¹ is C ₁ to C ₁₀ hydro; Carbyl or C ₁ to C ₁₀ halogen-substituted hydrocarbyl and X is -Cl or -Br.

할로실란(b)(i)은 하나 이상의 화학식 R¹SiX₃의 트리할로실란이며, 여기서, R¹ 및 X는 위에 기재되고 예시된 바와 같다. 트리할로실란의 예는 비제한적으로 화학식 MeSiCl₃, EtSiCl₃, MeSiBr₃, EtSiBr₃, PhSiCl₃, n-BuSiCl₃ 및 i-PrSiCl₃을 갖는 실란을 포함하며, 여기서, Me는 메틸이고, Et는 에틸이고, Ph는 페닐이고, n-Bu는 노르말 부틸이고, i-Pr은 이소프로필이다.Halosilane (b) (i) is one or more trihalosilanes of the formula R ¹ SiX ₃ , wherein R ¹ and X are as described and exemplified above. Examples of trihalosilanes include, but are not limited to, silanes having the formulas MeSiCl ₃ , EtSiCl ₃ , MeSiBr ₃ , EtSiBr ₃ , PhSiCl ₃ , n-BuSiCl ₃ and i-PrSiCl ₃ , where Me is methyl and Et Is ethyl, Ph is phenyl, n-Bu is normal butyl and i-Pr is isopropyl.

할로실란(b)(i)은 단일 트리할로실란이거나 2개 이상의 상이한 트리할로실란의 혼합물일 수 있으며, 이들 각각은 화학식 R¹SiX₃을 가지며, 여기서, R¹ 및 X는 위에 정의되고 예시된 바와 같다. 트리할로실란의 제조 방법은 당업계에 익히 공지되어 있으며, 이들 화합물의 다수는 구매가능하다.Halosilane (b) (i) may be a single trihalosilane or a mixture of two or more different trihalosilanes, each of which has the formula R ¹ SiX ₃ , wherein R ¹ and X are defined above As illustrated. Methods of making trihalosilanes are well known in the art and many of these compounds are commercially available.

할로실란(b)(ii)은 화학식 R¹ ₂SiX₂를 갖는 하나 이상의 디할로실란이며, 여기서, R¹ 및 X는 위에 정의되고 예시된 바와 같다. 디할로실란의 예는 비제한적으로 화학식 Me₂SiCl₂, Et₂SiCl₂, Me₂SiBr₂, Et₂SiBr₂, PhMeSiCl₂, ViMeSiCl₂ 및 Ph₂SiCl₂를 갖는 실란을 포함하며, 여기서, Me는 메틸이고, Et는 에틸이고, Ph는 페닐이고, Vi는 비닐이다.Halosilane (b) (ii) is one or more dihalosilanes having the formula R ¹ ₂ SiX ₂ , wherein R ¹ and X are as defined and exemplified above. Examples of dihalosilanes include, but are not limited to, silanes having the formulas Me ₂ SiCl ₂ , Et ₂ SiCl ₂ , Me ₂ SiBr ₂ , Et ₂ SiBr ₂ , PhMeSiCl ₂ , ViMeSiCl _2, and Ph ₂ SiCl ₂ , wherein Me Is methyl, Et is ethyl, Ph is phenyl and Vi is vinyl.

할로실란(b)(ii)은 단일 디할로실란이거나 2개 이상의 상이한 디할로실란을 포함하는 혼합물일 수 있으며, 이들 각각은 화학식 R¹ ₂SiX₂를 가지며, 여기서, R¹ 및 X는 위에 정의되고 예시된 바와 같다. 디할로실란의 제조 방법은 당업계에 익히 공지되어 있으며, 이들 화합물의 다수는 구매가능하다.Halosilane (b) (ii) may be a single dihalosilane or a mixture comprising two or more different dihalosilanes, each of which has the formula R ¹ ₂ SiX ₂ , wherein R ¹ and X are defined above And as exemplified. Methods of making dihalosilanes are well known in the art and many of these compounds are commercially available.

할로실란(b)(iii)은 화학식 SiX₄를 갖는 하나 이상의 테트라할로실란이며, 여기서, X는 -Cl 또는 -Br이다. 테트라할로실란의 예는 SiCl₄ 및 SiBr₄를 포함한다.Halosilane (b) (iii) is one or more tetrahalosilanes having the formula SiX ₄ , wherein X is —Cl or —Br. Examples of tetrahalosilanes include SiCl ₄ and SiBr ₄ .

할로실란(b)(iii)은 단일 테트라할로실란이거나 2개 이상의 상이한 테트라할로실란을 포함하는 혼합물일 수 있으며, 이들 각각은 화학식 SiX₄를 가지며, 여기서, X는 위에 정의되고 예시된 바와 같다. 테트라할로실란의 제조 방법은 당업계에 익히 공지되어 있으며, 이들 화합물의 다수는 구매가능하다.Halosilane (b) (iii) may be a single tetrahalosilane or a mixture comprising two or more different tetrahalosilanes, each of which has the formula SiX ₄ , where X is as defined and exemplified above same. Methods of making tetrahalosilanes are well known in the art and many of these compounds are commercially available.

할로실란(b)(iv)은 성분(b)(i), 성분(b)(ii) 및 성분(b)(iii) 중 2개 이상을 포함하는 혼합물이며, 이들 각각은 위에 기재된 바와 같다.Halosilanes (b) (iv) are mixtures comprising two or more of components (b) (i), components (b) (ii) and components (b) (iii), each of which is as described above.

할로실란(b)(v)은 화학식 R¹ ₃SiX의 모노할로실란과, 성분(b)(i), 성분(b)(ii) 및 성분(b)(iii) 중의 하나 이상의 혼합물이며, 여기서, R¹ 및 X는 위에 정의되고 예시된 바와 같다. 모노할로실란의 예는 비제한적으로 화학식 ViMe₂SiCl, ViPhMeSiCl, Me₃SiBr, PhMe₂SiCl, Vi₂MeSiBr 및 Ph₂MeSiCl을 갖는 실란을 포함하며, 여기서, Me는 메틸이고, Vi는 비닐이고, Ph는 페닐이다.Halosilane (b) (v) is a mixture of monohalosilanes of formula R ¹ ₃ SiX and at least one of component (b) (i), component (b) (ii) and component (b) (iii), Wherein R ¹ and X are as defined and exemplified above. Examples of monohalosilanes include, but are not limited to, silanes having the formulas ViMe ₂ SiCl, ViPhMeSiCl, Me ₃ SiBr, PhMe ₂ SiCl, Vi ₂ MeSiBr and Ph ₂ MeSiCl, where Me is methyl and Vi is vinyl , Ph is phenyl.

모노할로실란은 단일 모노할로실란이거나 2개 이상의 상이한 모노할로실란을 포함하는 혼합물일 수 있으며, 이들 각각은 화학식 R¹ ₃SiX를 가지며, 여기서, R¹ 및 X는 위에 정의되고 예시된 바와 같다. 모노할로실란의 제조 방법은 당업계에 익히 공지되어 있으며, 이들 화합물의 다수는 구매가능하다.The monohalosilane may be a single monohalosilane or a mixture comprising two or more different monohalosilanes, each of which has the formula R ¹ ₃ SiX, wherein R ¹ and X are defined and exemplified above As shown. Methods of making monohalosilanes are well known in the art and many of these compounds are commercially available.

루이스 산 촉매는 알콕시보란(a) 내의 붕소-결합된 그룹 -OR²와 할로실란(b) 내의 규소-결합된 그룹 -X 사이의 축합 반응을 촉진시킬 수 있는 하나 이상의 루이스 산 촉매이다. 루이스 산 촉매의 예는 비제한적으로 화학식 AlCl₃, FeCl₃, BCl₃ 및 ZnCl₂를 갖는 촉매를 포함한다. 루이스 산 촉매는 단일 루이스 산 촉매이거나 2개 이상의 상이한 루이스 산 촉매를 포함하는 혼합물일 수 있다.The Lewis acid catalyst is at least one Lewis acid catalyst capable of catalyzing the condensation reaction between boron-bonded group -OR ² in alkoxyborane (a) and silicon-bonded group -X in halosilane (b). Examples of Lewis acid catalysts include, but are not limited to, catalysts having the formulas AlCl ₃ , FeCl ₃ , BCl ₃ and ZnCl ₂ . The Lewis acid catalyst may be a single Lewis acid catalyst or a mixture comprising two or more different Lewis acid catalysts.

폴리보로실록산 중간체를 생성하기 위한 알콕시보란과 할로실란의 반응은, 예를 들면, 할로실란을 알콕시보란과 접촉시키기에 적합한 임의의 표준 반응기 내에서 수행될 수 있다. 적합한 반응기는 유리 및 테플론-내벽(Teflon-lined) 유리 반응기를 포함한다. 바람직하게는, 상기 반응기는 진탕(agitation)(예를 들면, 교반(stirring)) 수단이 구비되어 있다. 또한, 바람직하게는, 반응은 수분의 부재하에 질소 또는 아르곤과 같은 불활성 분위기하에 수행된다.The reaction of the alkoxyborane and halosilanes to produce the polyborosiloxane intermediate can be carried out, for example, in any standard reactor suitable for contacting the halosilane with the alkoxyborane. Suitable reactors include glass and Teflon-lined glass reactors. Preferably, the reactor is equipped with agitation (eg, stirring) means. Also preferably, the reaction is carried out in an inert atmosphere such as nitrogen or argon in the absence of moisture.

통상적으로, 알콕시보란(a)이 할로실란(b)과 루이스 산 촉매의 혼합물에 첨가된다. 역첨가, 즉, 루이스 산 촉매의 존재하에 할로실란을 알콕시보란에 첨가하는 것도 가능하다. 그러나, 역첨가는 더 높은 다분산도를 갖는 폴리보로실록산으로 이어질 수 있으며, 몇몇 경우에는 겔 형성을 야기할 수 있다. Typically, alkoxyborane (a) is added to the mixture of halosilane (b) and Lewis acid catalyst. It is also possible to add halosilanes to the alkoxyborane in the reverse addition, ie in the presence of a Lewis acid catalyst. However, reverse addition can lead to polyborosiloxanes with higher polydispersities and in some cases can lead to gel formation.

알콕시보란(a)의 할로실란(b)과 루이스 산 촉매의 혼합물로의 첨가 속도는 통상적으로, 효율적인 교반 수단을 구비한 1000mL 반응 용기의 경우 0.1 내지 2mL/min이다. 첨가 속도가 너무 낮을 경우, 반응 시간이 불필요하게 연장된다. 첨가 속도가 너무 빠를 경우, 반응 혼합물이 겔을 형성할 수 있다.The rate of addition of the alkoxyborane (a) to the mixture of halosilane (b) and Lewis acid catalyst is typically 0.1 to 2 mL / min for a 1000 mL reaction vessel with efficient stirring means. If the addition rate is too low, the reaction time is unnecessarily extended. If the rate of addition is too fast, the reaction mixture may form a gel.

알콕시보란(a)과 할로실란(b)의 반응은 통상적으로 25 내지 150℃, 또는 30 내지 90℃, 또는 40 내지 80℃의 온도에서 수행된다. 온도가 25℃ 미만인 경우, 반응 속도는 통상적으로 매우 느리다. 온도가 150℃보다 클 경우, 반응물의 과도한 휘발이 일어난다.The reaction of the alkoxyborane (a) and halosilane (b) is usually carried out at a temperature of 25 to 150 ° C, or 30 to 90 ° C, or 40 to 80 ° C. If the temperature is below 25 ° C., the reaction rate is usually very slow. If the temperature is greater than 150 ° C., excessive volatilization of the reactants occurs.

반응 시간은 알콕시보란(a)과 할로실란(b)의 구조, 및 온도를 포함한 여러 인자에 달려 있다. 상기 반응은 통상적으로 알콕시보란에 원래 존재하는 그룹 -OR²의 95mol% 이상을 -O-Si 결합으로 변환시키기에 충분한 시간의 양 동안 수행된다. 예를 들어, 반응 시간은 통상적으로 40 내지 80℃의 온도에서 1 내지 24시간, 또는 1 내지 8시간, 또는 2 내지 5시간이다. 최적 반응 시간은 하기의 실시예 부분에서 기재될 방법들을 사용하여 정규 실험에 의해 결정될 수 있다.The reaction time depends on several factors including the structure of the alkoxyborane (a) and halosilane (b), and the temperature. The reaction is typically carried out for an amount of time sufficient to convert at least 95 mol% of the group -OR ² originally present in the alkoxyborane to -O-Si bonds. For example, the reaction time is typically 1 to 24 hours, or 1 to 8 hours, or 2 to 5 hours at a temperature of 40 to 80 ° C. The optimal reaction time can be determined by regular experiments using the methods described in the Examples section below.

(a)(i)과 (a)(ii)의 몰 수의 합계 대 알콕시보란(a) 및 할로실란(b)의 몰 수의 합계의 비는 통상적으로 0.001 내지 0.58, 또는 0.01 내지 0.4, 또는 0.1 내지 0.35이다.(a) The ratio of the sum of the moles of (i) and (a) (ii) to the sum of the moles of alkoxyboranes (a) and halosilanes (b) is typically 0.001 to 0.58, or 0.01 to 0.4, or 0.1 to 0.35.

성분(b)(i), 성분(b)(ii) 및 성분(b)(iii)의 몰 수의 합계 대 알콕시보란(a) 및 할로실란(b)의 몰 수의 합계의 비는 통상적으로 0.42 내지 0.999, 또는 0.5 내지 0.9, 또는 0.6 내지 0.8이다.The ratio of the sum of the moles of components (b) (i), (b) (ii) and (b) (iii) to the sum of the moles of alkoxyboranes (a) and halosilanes (b) is typically 0.42 to 0.999, or 0.5 to 0.9, or 0.6 to 0.8.

할로실란(b)의 몰 수 대 알콕시보란(a)의 몰 수의 비는 통상적으로 0.724 내지 999, 또는 1.2 내지 99, 또는 1.5 내지 9이다.The ratio of the number of moles of halosilanes (b) to the number of moles of alkoxyboranes (a) is typically 0.724 to 999, or 1.2 to 99, or 1.5 to 9.

할로실란(b) 내의 그룹 -X의 몰 수 대 알콕시보란 내의 그룹 -OR²의 몰 수의 비는 통상적으로 1.01 이상이다. 예를 들면, 할로실란(b) 내의 그룹 -X의 몰 수 대 알콕시보란(a) 내의 그룹 -OR²의 몰 수의 비는 통상적으로 1.01 내지 1,000, 또는 1.2 내지 100, 또는 1.5 내지 10이다.The ratio of the number of moles of group -X in halosilane (b) to the number of moles of group -OR ² in alkoxyborane is usually at least 1.01. For example, the ratio of the number of moles of group -X in halosilane (b) to the number of moles of group -OR ² in alkoxyborane (a) is typically 1.01 to 1,000, or 1.2 to 100, or 1.5 to 10.

루이스 산 촉매의 농도는 알콕시보란(a)과 할로실란(b)의 반응을 촉매하기에 충분하다. 통상적으로, 루이스 산 촉매의 농도는, 알콕시보란 및 할로실란의 합계 중량을 기준으로, 0.1 내지 3%(w/w), 또는 0.5 내지 1%(w/w)이다.The concentration of the Lewis acid catalyst is sufficient to catalyze the reaction of the alkoxyborane (a) and halosilane (b). Typically, the concentration of Lewis acid catalyst is 0.1 to 3% (w / w), or 0.5 to 1% (w / w), based on the total weight of the alkoxyborane and halosilane.

폴리보로실록산을 제조하는 방법의 단계 (II)에서는, 폴리보로실록산 중간체 및, 임의로, 하나 이상의 화학식 R¹ _nSiX_{4 -n}의 할로실란이 물과 반응하여 수-불용성 가수분해 생성물을 형성하며, 위의 화학식에서, R¹ 및 X는 위에 정의된 바와 같으며, n은 0, 1, 2 또는 3이며, 단, 과량의 물이 사용될 경우, 본 방법은 물로부터 당해 가수분해 생성물을 분리하는 단계를 추가로 포함한다. In step (II) of the process for preparing the polyborosiloxane, the polyborosiloxane intermediate and optionally one or more halosilanes of the formula R ¹ _n SiX _{4- n} are reacted with water to form a water-insoluble hydrolysis product. Wherein, R ¹ and X are as defined above, and n is 0, 1, 2 or 3, provided that excess water is used, the method separates the hydrolysis product from water. It further comprises the step of.

단계 (II)의 임의의 할로실란은 하나 이상의 화학식 R¹ _nSiX_{4 -n}의 할로실란이며, 여기서, R¹ 및 X는 위에 정의되고 예시된 바와 같으며, n은 0, 1, 2 또는 3이다. 따라서, 당해 할로실란은 화학식 R¹ ₃SiX의 모노할로실란, 화학식 R¹ ₂SiX₂를 갖는 디할로실란, 화학식 R¹SiX₃을 갖는 트리할로실란 또는 화학식 SiX₄를 갖는 테트라할로실란일 수 있으며, 위의 화학식들에서, R¹ 및 X는 위에 정의되고 예시된 바와 같다. 모노할로실란, 디할로실란, 트리할로실란 및 테트라할로실란의 예는 본 방법의 단계 (I)에 대하여 위에 기재된 바와 같다. 더욱이, 임의의 할로실란은 단일 할로실란이거나 2개 이상의 상이한 할로실란의 혼합물일 수 있으며, 이들 각각은 화학식 R¹ _nSiX_{4 -n}을 가지며, 여기서, R¹ 및 X는 위에 정의되고 예시된 바와 같다.Any halosilane of step (II) is one or more halosilanes of formula R ¹ _n SiX _{4- n} , wherein R ¹ and X are as defined and exemplified above, n is 0, 1, 2 or 3 to be. Thus, the halosilanes are monohalosilanes of formula R ¹ ₃ SiX, dihalosilanes of formula R ¹ ₂ SiX ₂ , trihalosilanes of formula R ¹ SiX ₃ or tetrahalosilanes of formula SiX ₄ . In the above formulas, R ¹ and X are as defined and exemplified above. Examples of monohalosilanes, dihalosilanes, trihalosilanes and tetrahalosilanes are as described above for step (I) of the process. Moreover, any halosilane may be a single halosilane or a mixture of two or more different halosilanes, each of which has the formula R ¹ _n SiX _{4- n} , wherein R ¹ and X are as defined and exemplified above. same.

폴리실록산 중간체 및 임의의 할로실란은 통상적으로 당해 중간체를 물에 첨가함으로써 물과 조합된다. 역첨가, 즉, 물의 폴리보로실록산 중간체로의 첨가가 또한 가능하다.Polysiloxane intermediates and optional halosilanes are typically combined with water by adding the intermediates to water. Reverse addition, ie addition of water to the polyborosiloxane intermediate, is also possible.

폴리보로실록산 중간체 및 임의의 할로실란의 물에의 첨가 속도는 통상적으로, 바람직하게는 효율적인 교반 수단을 구비한 1000mL 반응 용기의 경우 2mL/min 내지 1,000mL/min이다. 첨가 속도가 지나치게 느린 경우, 반응 시간이 불필요하게 연장된다. 첨가 속도가 지나치게 빠른 경우, 반응 혼합물이 겔을 형성할 수 있다.The rate of addition of the polyborosiloxane intermediate and any halosilanes to water is typically from 2 mL / min to 1,000 mL / min for a 1000 mL reaction vessel equipped with efficient stirring means. If the addition rate is too slow, the reaction time is unnecessarily extended. If the rate of addition is too fast, the reaction mixture may form a gel.

보로실록산 중간체와 물의 반응은 통상적으로 0 내지 50℃, 또는 0 내지 30℃, 또는 2 내지 10℃의 온도에서 수행된다. 온도가 0℃ 미만인 경우, 반응 속도가 통상적으로 매우 느리다. 온도가 50℃ 초과인 경우, 반응 혼합물이 겔을 형성할 수 있다.The reaction of the bolosiloxane intermediate with water is usually carried out at a temperature of 0 to 50 ° C, or 0 to 30 ° C, or 2 to 10 ° C. If the temperature is below 0 ° C., the reaction rate is usually very slow. If the temperature is above 50 ° C., the reaction mixture may form a gel.

반응 시간은 폴리보로실록산 중간체의 구조 및 온도를 포함한 여러 인자에 달려 있다. 반응은 통상적으로 폴리보로실록산 중간체 및 임의의 할로실란의 가수분해를 달성하기에 충분한 시간의 양 동안 수행된다. 본 명세서에서, 용어 "가수분해"는 폴리보로실록산 중간체 및 임의의 할로실란에 원래 존재하는 규소-결합된 그룹 -X의 95mol% 이상이 규소-결합된 하이드록시 그룹으로 변환되는 것을 의미한다. 예를 들어, 통상적으로 2 내지 10℃의 온도에서 15 내지 300분, 또는 15 내지 100분, 또는 30 내지 50분이다. 최적 반응 시간은 하기의 실시예 부분에서 기재될 방법들을 사용하여 정규 실험에 의해 결정될 수 있다.The reaction time depends on several factors, including the structure and temperature of the polyborosiloxane intermediate. The reaction is typically carried out for an amount of time sufficient to achieve hydrolysis of the polyborosiloxane intermediate and any halosilanes. As used herein, the term "hydrolysis" means that at least 95 mol% of the silicon-bonded group -X originally present in the polyborosiloxane intermediate and any halosilane is converted to a silicon-bonded hydroxy group. For example, it is usually 15 to 300 minutes, or 15 to 100 minutes, or 30 to 50 minutes at a temperature of 2 to 10 ° C. The optimal reaction time can be determined by regular experiments using the methods described in the Examples section below.

반응 혼합물 중의 물의 농도는 통상적으로, 폴리보로실록산 중간체 및 임의의 할로실란의 가수분해를 달성하기에 충분하다. 예를 들면, 물의 농도는 통상적으로 물의 몰 수 대 폴리보로실록산 중간체 및 임의의 할로실란 내의 규소-결합된 그룹 -X의 몰 수의 합계가 0.5 내지 10, 또는 1 내지 8, 또는 4 내지 6이 되도록 하는 농도이다.The concentration of water in the reaction mixture is usually sufficient to achieve hydrolysis of the polyborosiloxane intermediate and any halosilanes. For example, the concentration of water is typically 0.5 to 10, or 1 to 8, or 4 to 6, where the sum of the moles of water to the moles of silicon-bonded group -X in the polyborosiloxane intermediate and any halosilanes. The concentration is such that

폴리보로실록산 중간체 및 임의의 할로실란과 물의 반응은 또한 유기 용매의 존재하에 수행될 수 있다. 유기 용매는 본 방법의 조건 하에 폴리보로실록산 중간체 및 임의의 할로실란과 반응하지 않으며, 폴리보로실록산 중간체 및 가수분해 생성물과 혼화성인 임의의 비양성자성 또는 쌍극성 비양성자성 유기 용매일 수 있다. 유기 용매는 통상적으로 물과 불혼화성이다. 본 명세서에서, 용어 "불혼화성"은 용매 중의 물의 용해도가 25℃에서 용매 100g당 약 0.1g 미만임을 의미한다.The reaction of the polyborosiloxane intermediate and any halosilanes with water can also be carried out in the presence of an organic solvent. The organic solvent may be any aprotic or bipolar aprotic organic solvent that does not react with the polyborosiloxane intermediate and any halosilanes under the conditions of the process and is miscible with the polyborosiloxane intermediate and the hydrolysis product. have. Organic solvents are typically immiscible with water. As used herein, the term “immiscible” means that the solubility of water in the solvent is less than about 0.1 g per 100 g of solvent at 25 ° C.

유기 용매의 예는 비제한적으로 포화 지방족 탄화수소, 예를 들면, n-펜탄, 헥산, n-헵탄, 이소옥탄 및 도데칸; 지환족 탄화수소, 예를 들면, 사이클로펜탄 및 사이클로헥산; 방향족 탄화수소, 예를 들면, 벤젠, 톨루엔, 자일렌 및 메시틸렌; 사이클릭 에테르, 예를 들면, 테트라하이드로푸란(THF) 및 디옥산; 케톤, 예를 들면, 메틸 이소부틸 케톤(MIBK); 할로겐화 알칸, 예를 들면, 트리클로로에탄; 및 할로겐화 방향족 탄화수소, 예를 들면, 브로모벤젠 및 클로로벤젠을 포함한다.Examples of organic solvents include, but are not limited to, saturated aliphatic hydrocarbons such as n-pentane, hexane, n-heptane, isooctane and dodecane; Alicyclic hydrocarbons such as cyclopentane and cyclohexane; Aromatic hydrocarbons such as benzene, toluene, xylene and mesitylene; Cyclic ethers such as tetrahydrofuran (THF) and dioxane; Ketones such as methyl isobutyl ketone (MIBK); Halogenated alkanes such as trichloroethane; And halogenated aromatic hydrocarbons such as bromobenzene and chlorobenzene.

유기 용매는 단일 유기 용매이거나 2개 이상의 상이한 유기 용매를 포함하는 혼합물일 수 있으며, 이들 각각은 위에 기재되고 예시된 바와 같다.The organic solvent may be a single organic solvent or a mixture comprising two or more different organic solvents, each of which is as described and exemplified above.

존재하는 경우, 유기 용매의 농도는 반응 혼합물의 총 중량을 기준으로, 통상적으로 1 내지 80%(w/w), 또는 5 내지 60%(w/w), 또는 30 내지 50%(w/w)이다.If present, the concentration of organic solvent is typically 1 to 80% (w / w), or 5 to 60% (w / w), or 30 to 50% (w / w), based on the total weight of the reaction mixture. )to be.

폴리보로실록산 중간체 및, 임의로, 할로실란이 과량의 물과 반응하는 경우, 당해 방법은 통상적으로 아래에 기재되는 단계 (III)에 앞서, 가수분해 생성물을 물로부터 분리하는 단계를 추가로 포함한다. 본 명세서에서, 용어 "과량의 물"은 물의 농도가 물의 몰 수 대 폴리보로실록산 중간체 및 임의의 할로실란 내의 규소-결합된 그룹 -X의 몰 수의 합계의 비가 통상적으로 1 초과, 예를 들면, 1 내지 8, 또는 4 내지 6이 되도록 하는 농도를 의미한다.When the polyborosiloxane intermediate and, optionally, halosilanes are reacted with excess water, the process further comprises the step of separating the hydrolysis product from the water, typically prior to step (III) described below. . As used herein, the term “excess water” refers to the ratio of the sum of the moles of water to the sum of the moles of water to the polyborosiloxane intermediate and the moles of silicon-bonded group —X in any halosilane, typically greater than one, for example For example, the concentration means 1 to 8 or 4 to 6.

상기 가수분해 생성물은, 혼합물의 진탕을 중단하여 혼합물이 유기상 및 수성상의 두 층으로 분리되게 하고, 상기 가수분해 생성물을 함유하는 유기상을 제거함으로써, 물로부터 분리될 수 있다. 상기 유기상은 통상적으로 물로 세척된다. 물은 천연 무기 염, 예를 들면, 염화나트륨을 추가로 포함하여, 세척 동안 물과 유기상 사이의 에멀젼의 형성을 최소화할 수 있다. 물 중의 천연 무기 염의 농도는 포화될 때까지일 수 있다. 유기상을 물과 혼합하여 혼합물이 두 층으로 분리되게 하고 수성층을 제거함으로써, 유기상이 세척될 수 있다. 유기상은 통상적으로 별도의 분액들의 물을 사용하여 1 내지 5회 세척된다. 세척 1회당 물의 부피는 통상적으로 유기상의 부피의 0.5 내지 2배이다. 혼합은 교반 또는 쉐이킹(shaking)과 같은 통상의 방법에 의해 수행될 수 있다. The hydrolysis product can be separated from water by stopping the shaking of the mixture to cause the mixture to separate into two layers, the organic phase and the aqueous phase, and removing the organic phase containing the hydrolysis product. The organic phase is typically washed with water. The water may further comprise natural inorganic salts, such as sodium chloride, to minimize the formation of an emulsion between the water and the organic phase during washing. The concentration of natural inorganic salts in water may be until saturated. The organic phase can be washed by mixing the organic phase with water to separate the mixture into two layers and removing the aqueous layer. The organic phase is typically washed 1 to 5 times using separate aliquots of water. The volume of water per wash is typically between 0.5 and 2 times the volume of the organic phase. Mixing can be performed by conventional methods such as stirring or shaking.

폴리보로실록산을 제조하는 방법의 단계 (III)에서는, 가수분해 생성물이 증류되어 축합에 의해 형성된 물, 즉, 가열 동안 가수분해 생성물 내의 규소-결합된 하이드록시 그룹들의 축합에 의해 형성된 물을 제거한다. 증류는 대기압 또는 대기압 미만에서 수행될 수 있다. 증류는 통상적으로 100kPa에서 80 내지 150℃, 또는 90 내지 110℃의 온도에서 수행된다. 증류는 통상적으로 수 평균 분자량이 500 내지 1000,000인 폴리보로실록산을 생성하기에 충분한 시간의 양 동안 계속된다. 예를 들면, 가수분해 생성물은 통상적으로 80 내지 149℃의 온도에서 0.5 내지 24시간 동안, 또는 90 내지 120℃의 온도에서 1 내지 12시간 동안, 또는 100 내지 115℃의 온도에서 3 내지 8시간 동안 가열된다. 증류가 하기에 기재된 축합 촉매의 존재하에 수행될 경우, 폴리보로실록산은 통상적으로 더 낮은 온도에서 및/또는 더 적은 시간 내에 형성된다.In step (III) of the process for producing the polyborosiloxane, the hydrolysis product is distilled to remove water formed by condensation, ie water formed by condensation of silicon-bonded hydroxy groups in the hydrolysis product during heating. do. Distillation can be carried out at atmospheric pressure or below atmospheric pressure. Distillation is usually carried out at a temperature of 80 to 150 ° C, or 90 to 110 ° C at 100 kPa. Distillation typically continues for an amount of time sufficient to produce a polyborosiloxane having a number average molecular weight of 500 to 1000,000. For example, the hydrolysis product is typically 0.5 to 24 hours at a temperature of 80 to 149 ° C., or 1 to 12 hours at a temperature of 90 to 120 ° C., or 3 to 8 hours at a temperature of 100 to 115 ° C. Heated. When distillation is carried out in the presence of a condensation catalyst described below, polyborosiloxanes are typically formed at lower temperatures and / or in less time.

폴리보로실록산이 25℃에서, 예를 들면, 100Pa·s 초과의 상대적으로 높은 점도를 가질 경우, 물과 최소 비점 공비혼합물을 형성하는 수-불혼화성 유기 용매의 존재하에 가수분해 생성물의 증류를 수행함으로써 물의 제거가 용이해진다. 이 경우, 증류는, 물을 수집하고 용매를 증류 용기로 되돌리는 딘-스타크 트랩을 사용하여 편리하게 수행될 수 있다.If the polyborosiloxane has a relatively high viscosity at 25 ° C., for example greater than 100 Pa · s, distillation of the hydrolysis product in the presence of a water-immiscible organic solvent which forms a minimum boiling point azeotrope with water By doing this, the removal of water becomes easy. In this case, distillation can be conveniently carried out using a Dean-Stark trap which collects water and returns the solvent to the distillation vessel.

가수분해 생성물은 또한 축합 촉매의 존재하에 증류될 수 있다. 축합 촉매는 규소-결합된 하이드록시(실란올) 그룹들의 축합을 촉진시켜 Si-O-Si 결합을 형성하는 데 통상적으로 사용되는 임의의 축합 촉매일 수 있다. 축합 촉매의 예는 비제한적으로 주석(II) 및 주석(IV) 화합물, 예를 들면, 주석 디라우레이트, 주석 디옥토에이트 및 테트라부틸 주석; 아연 화합물, 예를 들면, 아연 옥토에이트; 및 티타늄 화합물, 예를 들면, 티타늄 테트라부톡사이드를 포함한다. 축합 촉매는 단일 축합 촉매이거나 2개 이상의 상이한 축합 촉매를 포함하는 혼합물일 수 있다.The hydrolysis product can also be distilled in the presence of a condensation catalyst. The condensation catalyst can be any condensation catalyst commonly used to promote condensation of silicon-bonded hydroxy (silanol) groups to form Si-O-Si bonds. Examples of condensation catalysts include, but are not limited to, tin (II) and tin (IV) compounds such as tin dilaurate, tin dioctoate and tetrabutyl tin; Zinc compounds such as zinc octoate; And titanium compounds such as titanium tetrabutoxide. The condensation catalyst can be a single condensation catalyst or a mixture comprising two or more different condensation catalysts.

존재하는 경우, 축합 촉매의 농도는 당해 방법의 단계 (I)에서 사용되는 알콕시보란 및 할로실란의 합계 중량을 기준으로, 전형적으로 0.1 내지 10%(w/w), 또는 0.5 내지 5%(w/w), 또는 1 내지 3%(w/w)이다.If present, the concentration of the condensation catalyst is typically from 0.1 to 10% (w / w), or from 0.5 to 5% (w), based on the total weight of the alkoxyborane and halosilane used in step (I) of the process. / w), or 1 to 3% (w / w).

축합 촉매는 가수분해 생성물의 증류 후 폴리보로실록산 및 축합 촉매의 혼합물을 여과함으로써 용이하게 제거될 수 있다.The condensation catalyst can be easily removed by filtration of the mixture of polyborosiloxane and condensation catalyst after distillation of the hydrolysis product.

폴리보로실록산을 제조하는 방법의 한 양태에 따르면, 알콕시보란(a), 할로실란(b) 및 임의의 할로실란(단계 (II))은 페닐 그룹을 함유하지 않는다.According to one embodiment of the process for producing the polyborosiloxane, the alkoxyborane (a), halosilane (b) and any halosilane (step (II)) do not contain phenyl groups.

당해 방법의 또 다른 양태에 따르면, 알콕시보란(a), 할로실란(b) 및 임의의 할로실란(단계 (II)) 내의 R¹로 표시되는 그룹의 합계의 10mol% 이상, 또는 25mol% 이상, 또는 50mol% 이상이 알케닐이다.According to another embodiment of the process, at least 10 mol%, or at least 25 mol% of the sum of the groups represented by R ¹ in the alkoxyborane (a), halosilane (b) and any halosilane (step (II)), Or at least 50 mol% is alkenyl.

보로실록산(A)(ii)은 하나 이상의 화학식 II의 보로실록산 화합물이며, 단, 상기 보로실록산 화합물은 분자당 평균 2개 이상의 알케닐 그룹을 갖는다.Borosiloxane (A) (ii) is at least one borosilicate compound of formula (II), provided that the borosiloxane compound has an average of at least two alkenyl groups per molecule.

화학식 IIFormula II

R¹ _aB(OSiR¹ ₃)_3-a R ¹ _a B (OSiR ¹ ₃ ) _3-a

위의 화학식 II에서,In the above formula (II)

R¹ 및 a는 위에 정의되고 예시된 바와 같다.R ¹ and a are as defined and exemplified above.

화학식 II를 갖는 보로실록산 화합물의 예는 (ViMe₂SiO)₃B, (ViMe₂SiO)₂BMe, (ViMe₂SiO)₂BPh, (ViPhMeSiO)₃B, ((CH₂=CHCH₂)PhMeSiO)₃B 및 Vi₂MeSiOBPh₂를 비제한적으로 포함하며, 여기서, Me는 메틸이고, Vi는 비닐이고, Ph는 페닐이다.Examples of bolosiloxane compounds having Formula II include (ViMe ₂ SiO) ₃ B, (ViMe ₂ SiO) ₂ BMe, (ViMe ₂ SiO) ₂ BPh, (ViPhMeSiO) ₃ B, ((CH ₂ = CHCH ₂ ) PhMeSiO) ₃ B and Vi ₂ MeSiOBPh ₂ , including, where Me is methyl, Vi is vinyl, and Ph is phenyl.

보로실록산(A)(ii)은 단일 보로실록산 화합물이거나 2개 이상의 상이한 보로실록산 화합물을 포함하는 혼합물일 수 있으며, 이들 각각은 화학식 II를 갖는다.Borosiloxane (A) (ii) may be a single bolosiloxane compound or a mixture comprising two or more different bolosiloxane compounds, each of which has formula II.

화학식 II를 갖는 보로실록산 화합물은 화학식 B(OR²)₃을 갖는 트리알콕시보란, 화학식 R¹B(OR²)₂를 갖는 디알콕시보란, 화학식 R¹ ₂BOR²를 갖는 모노알콕시보란을, 루이스 산 촉매의 존재하에, 화학식 R¹ ₃SiX의 모노할로실란과 반응시켜 보로실란 화합물을 생성함으로써 제조되며, 위의 화학식들에서, 각각의 R¹은 독립적으로 C₁ 내지 C₁₀ 하이드로카빌 또는 C₁ 내지 C₁₀ 할로겐-치환된 하이드로카빌이고, R²는 C₁ 내지 C₈ 알킬이고, X는 -Cl 또는 -Br이고, 모노할로실란 내의 그룹 -X의 몰 수 대 알콜시보란 내의 그룹 -OR²의 몰 수의 비는 1 이상이며, 단, 상기 보로실록산 화합물이 분자당 평균 2개 이상의 알케닐 그룹을 갖는다.The bolosiloxane compound having the formula (II) comprises a trialkoxyborane having the formula B (OR ² ) ₃ , a dialkoxyborane having the formula R ¹ B (OR ² ) ₂ , a monoalkoxyborane having the formula R ¹ ₂ BOR ² , and Lewis Prepared by reacting with a monohalosilane of formula R ¹ ₃ SiX in the presence of an acid catalyst to produce a bolosilane compound, wherein each R ¹ is independently C ₁ to C ₁₀ hydrocarbyl or C ₁ to C ₁₀ halogen-substituted hydrocarbyl, R ² is C ₁ to C ₈ alkyl, X is -Cl or -Br and the number of moles of group -X in the monohalosilane versus the group in the alcoholsiborane- The ratio of the number of moles of OR ² is 1 or more, provided that the bolosiloxane compound has an average of at least two alkenyl groups per molecule.

화학식 II를 갖는 보로실록산 화합물을 제조하는 상기의 방법에서, 트리알콕시보란, 디알콕시보란, 모노알콕시보란, 모노할로실란 및 루이스 산 촉매는 화학식 I의 폴리보로실록산을 제조하는 방법의 단계 (I)에서 위에 기재되고 예시된 바와 같다.In the above process for preparing a bolosiloxane compound having formula (II), the trialkoxyborane, dialkoxyborane, monoalkoxyborane, monohalosilane and Lewis acid catalyst are prepared by the steps of the process for preparing the polyborosiloxane of formula (I) As described and exemplified above in I).

보로실록산 화합물을 제조하는 반응은, 모노할로실란 내의 그룹 -X의 몰 수 대 알콕시보란 내의 그룹 -OR²의 몰 수의 비가 1 이상인 것을 제외하고는, 폴리보로실록산을 제조하는 방법의 단계 (I)에서 위에 기재된 방법으로 수행될 수 있다. 예를 들면, 모노할로실란 내의 그룹 -X의 몰 수 대 알콕시보란 내의 그룹 -OR²의 몰 수의 비는 통상적으로 1 내지 3, 또는 1.05 내지 2, 또는 1.1 내지 1.5이다. 더욱이, 보로실록산 화합물은 진공 증류에 의해 반응 혼합물로부터 회수될 수 있다.The reaction for preparing the borosiloxane compound is carried out in a step of the method for producing a polyborosiloxane, except that the ratio of the number of moles of the group -X in the monohalosilane to the number of moles of the group -OR ^{2 in} the alkoxyborane is at least one. In (I) can be carried out by the method described above. For example, the ratio of the number of moles of group -X in monohalosilane to the number of moles of group -OR ² in alkoxyborane is typically 1 to 3, or 1.05 to 2, or 1.1 to 1.5. Moreover, the bolosiloxane compound can be recovered from the reaction mixture by vacuum distillation.

보로실록산(A)(iii)은 (A)(i)과 (A)(ii)를 포함하는 혼합물이며, 이들 각각은 위에 기재되고 예시된 바와 같다.Borosiloxane (A) (iii) is a mixture comprising (A) (i) and (A) (ii), each of which is as described and exemplified above.

성분(B)은 성분(A)의 보로실록산을 경화시키기에 충분한 양의, 분자당 평균 2개 이상의 규소-결합된 수소 원자를 갖는 하나 이상의 유기규소 화합물이다.Component (B) is at least one organosilicon compound having an average of at least two silicon-bonded hydrogen atoms per molecule in an amount sufficient to cure the bolosiloxane of component (A).

유기규소 화합물은 분자당 평균 2개 이상의 규소-결합된 수소 원자, 또는 분자당 3개 이상의 규소-결합된 수소 원자를 갖는다. 일반적으로, 성분(A) 내의 분자당 알케닐 그룹의 평균수 및 성분(B) 내의 분자당 규소-결합된 수소 원자의 평균수의 합계가 4 초과일 때, 가교-결합이 일어남이 이해된다.Organosilicon compounds have an average of at least two silicon-bonded hydrogen atoms per molecule, or at least three silicon-bonded hydrogen atoms per molecule. In general, it is understood that cross-linking occurs when the sum of the average number of alkenyl groups per molecule in component (A) and the average number of silicon-bonded hydrogen atoms per molecule in component (B) is greater than four.

유기규소 화합물은 유기수소실란 또는 유기수소실록산일 수 있다. 유기수소실란은 모노실란, 디실란, 트리실란 또는 폴리실란일 수 있다. 유사하게, 유기수소실록산은 디실록산, 트리실록산 또는 폴리실록산일 수 있다. 유기규소 화합물의 구조는 선형, 분지형, 사이클릭 또는 수지상(resinous)일 수 있다. 사이클로실란 및 사이클로실록산은 통상적으로 3 내지 12개의 규소 원자, 또는 3 내지 10개의 규소 원자, 또는 3 내지 4개의 규소 원자를 갖는다. 어사이클릭 폴리실란 및 폴리실록산에서, 규소-결합된 수소 원자는 종단, 펜던트 또는 종단 및 펜던트 위치 둘 모두에 위치될 수 있다.The organosilicon compound may be an organohydrogensilane or an organohydrogensiloxane. The organohydrogensilane may be monosilane, disilane, trisilane or polysilane. Similarly, the organohydrogensiloxane can be disiloxane, trisiloxane or polysiloxane. The structure of the organosilicon compound can be linear, branched, cyclic or resinous. Cyclosilanes and cyclosiloxanes typically have 3 to 12 silicon atoms, or 3 to 10 silicon atoms, or 3 to 4 silicon atoms. In acyclic polysilanes and polysiloxanes, the silicon-bonded hydrogen atoms can be located at terminal, pendant or both terminal and pendant positions.

유기수소실란의 예는 비제한적으로 디페닐실란, 2-클로로에틸실란, 비스[(p-디메틸실릴)페닐]에테르, 1,4-디메틸디실릴에탄, 1,3,5-트리스(디메틸실릴)벤젠, 1,3,5-트리메틸-1,3,5-트리실란, 폴리(메틸실릴렌)페닐렌 및 폴리(메틸실릴렌)메틸렌을 포함한다.Examples of organohydrogensilanes include, but are not limited to, diphenylsilane, 2-chloroethylsilane, bis [(p-dimethylsilyl) phenyl] ether, 1,4-dimethyldisilylethane, 1,3,5-tris (dimethylsilyl ) Benzene, 1,3,5-trimethyl-1,3,5-trisilane, poly (methylsilylene) phenylene and poly (methylsilylene) methylene.

유기수소실란은 또한 화학식 HR¹ ₂Si-R³-SiR¹ ₂H를 가질 수 있으며, 여기서, R¹은 C₁ 내지 C₁₀ 하이드로카빌 또는 C₁ 내지 C₁₀ 할로겐-치환된 하이드로카빌이고, 이들 둘 모두 지방족 불포화가 없으며, R³은 하기로부터 선택되는 화학식을 갖는 지방족 불포화가 없는 하이드로카빌렌 그룹이다:The organohydrogensilanes may also have the formula HR ¹ ₂ Si—R ³ -SiR ¹ ₂ H, wherein R ¹ is C ₁ to C ₁₀ hydrocarbyl or C ₁ to C ₁₀ halogen-substituted hydrocarbyl, these Both are free from aliphatic unsaturations and R ³ is a free aliphatic unsaturated group having the formula selected from:

위의 화학식들에서, g는 1 내지 6이다. R¹로 표시되는 하이드로카빌 및 할로겐-치환된 하이드로카빌 그룹은 성분(A)의 실리콘 수지에 대하여 위에 정의되고 예시된 바와 같다.In the above formulas, g is 1-6. Hydrocarbyl and halogen-substituted hydrocarbyl groups represented by R ¹ are as defined and exemplified above for the silicone resin of component (A).

화학식 HR¹ ₂Si-R³-SiR¹ ₂H(여기서, R¹ 및 R²는 위에 기재되고 예시된 바와 같다)를 갖는 유기수소실란의 예는 비제한적으로 하기의 화학식을 갖는 실란을 포함한다:Examples of organohydrogensilanes having the formula HR ¹ ₂ Si-R ³ -SiR ¹ ₂ H, wherein R ¹ and R ² are as described and exemplified above include, but are not limited to, silanes having the formula :

유기수소실록산의 예는 비제한적으로 1,1,3,3-테트라메틸디실록산, 1,1,3,3-테트라페닐디실록산, 페닐트리스(디메틸실록시)실란, 1,3,5-트리메틸사이클로트리실록산, 트리메틸실록시-말단화된 폴리(메틸수소실록산), 트리메틸실록시-말단화된 폴리(디메틸실록산/메틸수소실록산), 디메틸수소실록시-말단화된 폴리(메틸수소실록산) 및 HMe₂SiO_{1 /2} 단위, Me₃SiO_{1 /2} 단위 및 SiO_{4 /2} 단위로 본질적으로 이루어진 수지를 포함하며, 여기서, Me는 메틸이다.Examples of organohydrogensiloxanes include, but are not limited to, 1,1,3,3-tetramethyldisiloxane, 1,1,3,3-tetraphenyldisiloxane, phenyltris (dimethylsiloxy) silane, 1,3,5- Trimethylcyclotrisiloxane, trimethylsiloxy-terminated poly (methylhydrogensiloxane), trimethylsiloxy-terminated poly (dimethylsiloxane / methylhydrogensiloxane), dimethylhydrogensiloxy-terminated poly (methylhydrogensiloxane) and HMe ₂ SiO _1/2 units, Me ₃ SiO _1/2, and a resin consisting essentially of the units and SiO _4/2 units, wherein, Me is methyl.

성분(B)은 단일 유기규소 화합물이거나 2개 이상의 상이한 유기규소 화합물을 포함하는 혼합물일 수 있으며, 이들 각각은 위에 기재된 바와 같다. 예를 들면, 성분(B)는 단일 유기수소실란, 2개의 상이한 유기수소실란의 혼합물, 단일 유기수소실록산, 2개의 상이한 유기수소실록산의 혼합물 또는 유기수소실란 및 유기수소실록산의 혼합물일 수 있다.Component (B) may be a single organosilicon compound or a mixture comprising two or more different organosilicon compounds, each of which is as described above. For example, component (B) can be a single organohydrogensilane, a mixture of two different organohydrogensilanes, a single organohydrogensiloxane, a mixture of two different organohydrogensiloxanes or a mixture of organohydrogensilanes and organohydrogensiloxanes.

성분(B)의 농도는 성분(A)의 보로실록산을 경화(가교-결합)시키기에 충분하다. 성분(B)의 정확한 양은 원하는 경화의 정도에 달려 있으며, 이는 일반적으로, 성분(B) 내의 규소-결합된 수소 원자의 몰 수 대 성분(A) 내의 알케닐 그룹의 몰 수의 비가 증가함에 따라 증가한다. 성분(B)의 농도는 성분(A) 내의 알케닐 그룹 1mol당, 통상적으로 0.5 내지 100mol의 규소-결합된 수소 원자, 또는 1 내지 10mol의 규소-결합된 수소 원자, 또는 1.1 내지 6mol의 규소-결합된 수소 원자를 제공하기에 충분하다.The concentration of component (B) is sufficient to cure (cross-link) the bolosiloxane of component (A). The exact amount of component (B) depends on the degree of curing desired, which is generally as the ratio of the number of moles of silicon-bonded hydrogen atoms in component (B) to the number of moles of alkenyl groups in component (A) increases. Increases. The concentration of component (B) is typically from 0.5 to 100 mol of silicon-bonded hydrogen atoms, or from 1 to 10 mol of silicon-bonded hydrogen atoms, or from 1.1 to 6 mol of silicon- per mol of alkenyl groups in component (A). It is sufficient to provide a bonded hydrogen atom.

규소-결합된 수소 원자를 함유하는 유기규소 화합물의 제조 방법은 당업계에 익히 공지되어 있다. 예를 들면, 유기수소실란은 그리냐르 시약과 알킬 또는 아릴 할라이드의 반응에 의해 제조될 수 있다. 특히, 화학식 HR¹ ₂Si-R³-SiR¹ ₂H의 유기수소실란은, 화학식 R³X₂의 아릴 디할라이드를 에테르 중에서 마그네슘으로 처리하여 상응하는 그리냐르 시약을 생성하고, 이어서, 그리냐르 시약을 화학식 HR¹ ₂SiCl의 클로로실란으로 처리함으로써 제조될 수 있으며, 상기 화학식들에서, R¹ 및 R³은 위에 기재되고 예시된 바와 같다.Methods of preparing organosilicon compounds containing silicon-bonded hydrogen atoms are well known in the art. For example, organohydrogensilanes can be prepared by the reaction of Grignard reagents with alkyl or aryl halides. In particular, organohydrogensilanes of the formula HR ¹ ₂ Si-R ³ -SiR ¹ ₂ H treat the aryl dihalide of formula R ³ X ₂ with magnesium in ether to produce the corresponding Grignard reagent, followed by Grignard The reagents can be prepared by treating with chlorosilanes of the formula HR ¹ ₂ SiCl, in which R ¹ and R ³ are as described and exemplified above.

유기수소실록산의 제조 방법, 예를 들면, 유기할로실란의 가수분해 및 축합이 또한 당업계에 익히 공지되어 있다.Methods of preparing organohydrogensiloxanes, such as hydrolysis and condensation of organohalosilanes, are also well known in the art.

하이드로실릴화-경화성 실리콘 조성물의 성분(C)은 성분(A)과 성분(B)의 부가 반응을 촉진시키는 하나 이상의 하이드로실릴화 촉매이다. 하이드로실릴화 촉매는 백금족 금속, 백금족 금속을 함유하는 화합물 또는 마이크로캡슐화된 백금족 금속-함유 촉매를 포함하는 익히 공지된 하이드로실릴화 촉매 중 임의의 것일 수 있다. 백금족 금속은 백금, 로듐, 루테늄, 팔라듐, 오스뮴 및 이리듐을 포함한다. 바람직하게는, 백금족 금속은 백금으로, 하이드로실릴화 반응에서의 이의 높은 활성에 기초한다.Component (C) of the hydrosilylation-curable silicone composition is at least one hydrosilylation catalyst that catalyzes the addition reaction of component (A) with component (B). The hydrosilylation catalyst may be any of the well known hydrosilylation catalysts including platinum group metals, compounds containing platinum group metals or microencapsulated platinum group metal-containing catalysts. Platinum group metals include platinum, rhodium, ruthenium, palladium, osmium and iridium. Preferably, the platinum group metal is platinum, based on its high activity in hydrosilylation reactions.

바람직한 하이드로실릴화 촉매는 미국 특허 제3,419,593호(이는 본 명세서에 참조로 포함된다)에서 Willing에 의해 개시된 클로로백금산과 특정 비닐-함유 유기실록산의 착물을 포함한다. 이러한 유형의 바람직한 촉매는 클로로백금산과 1,3-디에테닐-1,1,3,3-테트라메틸디실록산의 반응 생성물이다.Preferred hydrosilylation catalysts include complexes of chloroplatinic acid and certain vinyl-containing organosiloxanes disclosed by Willing in US Pat. No. 3,419,593, which is incorporated herein by reference. Preferred catalysts of this type are the reaction products of chloroplatinic acid with 1,3-diethenyl-1,1,3,3-tetramethyldisiloxane.

하이드로실릴화 촉매는 또한 열가소성 수지 내에 캡슐화된 백금족 금속을 포함하는 마이크로캡슐화된 백금족 금속-함유 촉매일 수 있다. 마이크로캡슐화된 하이드로실릴화 촉매를 함유하는 조성물은 주위 조건 하에 연장된 기간 동안, 통상적으로 수 개월 이상 동안 안정하면서도 여전히 열가소성 수지(들)의 융점 또는 연화점보다 높은 온도에서 상대적으로 빠르게 경화된다. 마이크로캡슐화된 하이드로실릴화 촉매 및 이의 제조 방법은 당업계에 익히 공지되어 있으며, 미국 특허 제4,766,176호 및 이 특허에 인용된 참고문헌 및 미국 특허 제5,017,654호에 예시된 바와 같다.The hydrosilylation catalyst may also be a microencapsulated platinum group metal-containing catalyst comprising a platinum group metal encapsulated in a thermoplastic resin. Compositions containing microencapsulated hydrosilylation catalysts are stable for extended periods of time under ambient conditions, typically for months or more, but still cure relatively quickly at temperatures above the melting or softening point of the thermoplastic resin (s). Microencapsulated hydrosilylation catalysts and methods for their preparation are well known in the art and are as exemplified in US Pat. No. 4,766,176 and references cited therein and US Pat. No. 5,017,654.

성분(C)는 단일 하이드로실릴화 촉매이거나, 구조, 형태, 백금족 금속, 착화 리간드 및 열가소성 수지와 같은 하나 이상의 특성이 상이한 2개 이상의 상이한 촉매를 포함하는 혼합물일 수 있다.Component (C) may be a single hydrosilylation catalyst or a mixture comprising two or more different catalysts that differ in one or more properties, such as structure, form, platinum group metal, complexing ligand and thermoplastic resin.

성분(C)의 농도는 성분(A)와 성분(B)의 부가 반응을 촉매하기에 충분하다. 통상적으로, 성분(C)의 농도는 성분(A)와 성분(B)의 합계 중량을 기준으로, 0.1 내지 1000ppm의 백금족 금속, 바람직하게는 1 내지 500ppm의 백금족 금속, 그리고 더 바람직하게는 5 내지 150ppm의 백금족 금속을 제공하기에 충분하다. 경화 속도는 0.1ppm 미만의 백금족 금속으로 매우 느리다. 1000ppm 초과의 백금족 금속의 사용은 경화 속도의 적절한 증가를 가져오지 않으므로 비경제적이다. The concentration of component (C) is sufficient to catalyze the addition reaction of component (A) with component (B). Typically, the concentration of component (C) is based on the total weight of components (A) and (B), from 0.1 to 1000 ppm of the platinum group metal, preferably from 1 to 500 ppm of the platinum group metal, and more preferably from 5 to It is sufficient to provide 150 ppm of platinum group metal. The rate of cure is very slow with platinum group metals of less than 0.1 ppm. The use of platinum group metals above 1000 ppm is uneconomical as it does not lead to a moderate increase in cure rate.

상기 보로실록산 조성물은 추가의 성분들을 포함할 수 있는데, 단, 이러한 성분은 보로실록산 조성물의 보로실록산이 경화되어, 하기에 기재되는 본 발명의 보로실록산 접착제를 형성하는 것을 방해하지 않는다는 조건에서이다. 추가의 성분들의 예는 비제한적으로 하이드로실릴화 촉매 억제제, 예를 들면, 3-메틸-3-펜텐-1-인, 3,5-디메틸-3-헥센-1-인, 3,5-디메틸-1-헥신-3-올, 1-에티닐-1-사이클로헥산올, 2-페닐-3-부틴-2-올, 비닐사이클로실록산 및 트리페닐포스핀; 접착 촉진제, 예를 들면, 미국 특허 제4,087,585호 및 제5,194,649호에 교시된 접착 촉진제; 염료; 얀료; 산화방지제; 열 안정제; UV 안정제; 난연제; 유동 제어 첨가제; 충전제, 예를 들면, 보강 충전제 및 증량 충전제; 및 희석제, 예를 들면, 유기 용매 및 반응성 희석제를 포함한다.The bolosiloxane composition may comprise additional components provided that such components do not interfere with the borosiloxane of the bolosiloxane composition being cured to form the borosiloxane adhesive of the present invention described below. Examples of additional components include, but are not limited to, hydrosilylation catalyst inhibitors such as 3-methyl-3-penten-1-yne, 3,5-dimethyl-3-hexene-1-yne, 3,5-dimethyl -1-hexyn-3-ol, 1-ethynyl-1-cyclohexanol, 2-phenyl-3-butyn-2-ol, vinylcyclosiloxane and triphenylphosphine; Adhesion promoters, such as those taught in US Pat. Nos. 4,087,585 and 5,194,649; dyes; Yarn; Antioxidants; Heat stabilizers; UV stabilizers; Flame retardant; Flow control additives; Fillers such as reinforcing fillers and extender fillers; And diluents such as organic solvents and reactive diluents.

상기 보로실록산 조성물은 통상적으로 유기 용매를 함유하지 않는다. 그러나, 당해 조성물은 조성물의 점도를 감소시키거나 기판 상에의 조성물의 도포를 용이하게 하기 위해서 유기 용매를 추가로 포함할 수 있다.The bolosiloxane composition typically does not contain an organic solvent. However, the composition may further comprise an organic solvent to reduce the viscosity of the composition or to facilitate the application of the composition on the substrate.

보로실록산 조성물은 통상적으로 유기 용매를 사용하거나 사용하지 않고서, 주위 온도에서 언급된 비율로 주요 성분들 및 임의의 성분들을 조합함으로써 제조된다. 각종 성분들의 첨가 순서가 중요하지 않더라도, 보로실록산 조성물이 즉시 사용될 것이라면, 바람직하게는 하이드로실릴화 촉매가 약 30℃ 미만의 온도에서 맨 마지막에 첨가되어 조성물의 조기 경화를 방지한다.Borosiloxane compositions are typically prepared by combining the main ingredients and optional ingredients in the proportions mentioned at ambient temperature, with or without organic solvents. Although the order of addition of the various components is not critical, if the bolosiloxane composition will be used immediately, the hydrosilylation catalyst is preferably added last at a temperature below about 30 ° C. to prevent premature curing of the composition.

혼합은 배치식 또는 연속식 공정으로 밀링, 블렌딩 및 교반과 같은 당업계에 공지된 기술 중 임의의 것에 의해 수행될 수 있다. 특수 장치는 성분들의 점도 및 최종 보로실록산 조성물의 점도에 의해 결정된다.Mixing can be performed by any of the techniques known in the art such as milling, blending and stirring in a batch or continuous process. Special apparatus is determined by the viscosity of the components and the viscosity of the final bolosiloxane composition.

본 발명에 따른 보로실록산 접착제는 보로실록산의 경화된 생성물을 포함하며, 여기서, 상기 보로실록산은 하나 이상의 화학식 I의 폴리보로실록산, 하나 이상의 화학식 II의 보로실록산 화합물(단, 상기 보로실록산 화합물은 분자당 평균 2개 이상의 알케닐 그룹을 갖는다), 및 하나 이상의 화학식 I의 폴리보로실록산과 하나 이상의 화학식 II의 보로실록산 화합물을 포함하는 혼합물(단, 상기 혼합물 중의 상기 폴리보로실록산과 상기 보로실록산 화합물은 각각 분자당 평균 2개 이상의 알케닐 그룹을 갖는다)로부터 선택된다.The bolosiloxane adhesive according to the invention comprises a cured product of borosisiloxane, wherein the bolosiloxane is at least one polyborosiloxane of formula (I), at least one borosiloxane compound of formula (II) Having an average of at least two alkenyl groups per molecule), and a mixture comprising at least one polyborosiloxane of formula (I) and at least one borosiloxane compound of formula (II), provided that the polyborosiloxane and boro in the mixture Siloxane compounds each having an average of at least two alkenyl groups per molecule).

화학식 IFormula I

(R¹ ₂BO_{1 /2})_l[(BO_(3-v)/2)(OH)_v]_m[(R¹BO_(2-w)/2)(OH)_w]_n(R¹ ₃SiO_{1 /2})_p[(R¹ ₂SiO_(2-x)/2)(OH)_x]_q[(R¹SiO_(3-y)/2)(OH)_y]_r[(SiO_(4-z)/2)(OH)_z]_{s ^{(R 1 2 BO 1/2}} ) l [(BO (3-v) / 2) (OH) v] m [(R 1 BO (2-w) / 2) (OH) w] n (R 1 3 _{SiO 1/2) p [(} R 1 2 SiO (2-x) / 2) (OH) x] q [(R 1 SiO (3-y) / 2) (OH) y] r [(SiO (4 _{-z) / 2} ) (OH) _z ] _s

화학식 IIFormula II

R¹ _aB(OSiR¹ ₃)_3-a R ¹ _a B (OSiR ¹ ₃ ) _3-a

위의 화학식 I 및 화학식 II에서,In Formula I and Formula II above,

각각의 R¹은 독립적으로 C₁ 내지 C₁₀ 하이드로카빌 또는 C₁ 내지 C₁₀ 할로겐-치환된 하이드로카빌이고,Each R ¹ is independently C ₁ to C ₁₀ hydrocarbyl or C ₁ to C ₁₀ halogen-substituted hydrocarbyl,

l은 0 내지 0.2이고, m은 0 내지 0.5이고, n은 0 내지 0.6이고, p는 0 내지 0.7이고, q는 0 내지 0.9이고, r은 0 내지 0.999이고, s는 0 내지 0.5이고, v는 0 내지 0.05이고, w는 0 내지 0.05이고, x는 0 내지 0.45이고, y는 0 내지 0.63이고, z는 0 내지 0.25이고, m+n은 0.001 내지 0.58이고, q+r+s는 0.42 내지 0.999이고, (p+2q+3r+4s)/(3m+2n)은 1.01 내지 1000이고, l+m+n+p+q+r+s

1이고, a는 0, 1 또는 2인, l is 0 to 0.2, m is 0 to 0.5, n is 0 to 0.6, p is 0 to 0.7, q is 0 to 0.9, r is 0 to 0.999, s is 0 to 0.5, v Is 0 to 0.05, w is 0 to 0.05, x is 0 to 0.45, y is 0 to 0.63, z is 0 to 0.25, m + n is 0.001 to 0.58, q + r + s is 0.42 To 0.999, (p + 2q + 3r + 4s) / (3m + 2n) is 1.01 to 1000, and l + m + n + p + q + r + s

1 and a is 0, 1 or 2,

보로실록산 접착제는, 보로실록산이, 하나 이상의 화학식 I의 폴리보로실록산(이는 알케닐 그룹을 함유하거나 함유할 수 없다), 하나 이상의 화학식 II의 보로실록산 화합물(단, 상기 보로실록산 화합물은 분자당 평균 2개 이상의 알케닐 그룹을 갖는다), 및 하나 이상의 화학식 I의 폴리보로실록산과 하나 이상의 화학식 II의 보로실록산 화합물을 포함하는 혼합물(단, 상기 혼합물 중의 상기 폴리보로실록산과 상기 보로실록산 화합물은 각각 분자당 평균 2개 이상의 알케일 그룹을 갖는다)로부터 선택되는, 보로실록산의 경화된 생성물을 포함한다. 폴리보로실록산 및 보로실록산 화합물은 보로실록산 조성물에 대하여 위에 기재되고 예시된 바와 같다. 본 명세서에서, 용어 "보로실록산의 경화된 생성물"은 3차원 네트워크 구조를 갖는 가교-결합된 보조실록산을 지칭한다.The bolosiloxane adhesive may be selected from the group consisting of one or more polyborosiloxanes of formula I, which may or may not contain alkenyl groups, wherein one or more borosiloxane compounds of formula II are used per molecule An average of at least two alkenyl groups), and a mixture comprising at least one polyborosiloxane of formula (I) and at least one borosiloxane compound of formula (II), provided that said polyborosiloxane and said borosiloxane compound in said mixture Comprises a cured product of bolosiloxane, each of which has an average of at least two alkale groups per molecule. The polybolosiloxane and bolosiloxane compound are as described and exemplified above for the borosiloxane composition. As used herein, the term "cured product of bolosiloxane" refers to a cross-linked cosiloxane having a three-dimensional network structure.

보로실록산 접착제는 통상적으로 높은 투명도를 갖는다. 접착제의 투명도는 접착제의 조성 및 두께와 같은 다수의 인자에 달려 있다. 예를 들면, 두께가 50㎛인 보로실록산 접착제 필름은 통상적으로 전자기 스펙트럼의 가시 영역(약 400 내지 약 700nm)의 광에 대하여 투과율(%)이 80% 이상, 또는 90% 이상이다.Borosiloxane adhesives typically have high transparency. The transparency of the adhesive depends on a number of factors such as the composition and thickness of the adhesive. For example, a 50 micrometer thick borosiloxane adhesive film typically has a transmittance (%) of at least 80%, or at least 90%, to light in the visible region (about 400 to about 700 nm) of the electromagnetic spectrum.

보로실록산 접착제가 분자당 평균 2개 이상의 알케닐 그룹을 갖는 보로실록산의 경화된 생성물을 포함하는 경우, 당해 접착제는 위에 기재된 보로실록산 조성물의 보로실록산을 경화시킴으로써 제조될 수 있다. 예를 들면, 보로실록산은 보로실록산 조성물을 대기압에서 50 내지 200℃, 또는 80 내지 200℃, 또는 100 내지 150℃의 온도에 노출시킴으로써 경화될 수 있다. 보로실록산 조성물은 일반적으로 보로실록산을 경화(가교-결합)시키기에 충분한 시간의 길이 동안 가열된다. 예를 들면, 당해 조성물은 통상적으로 0.15 내지 1시간 동안 100 내지 150℃의 온도에서 가열된다.If the bolosiloxane adhesive comprises a cured product of bolosiloxane having an average of at least two alkenyl groups per molecule, the adhesive can be prepared by curing the bolosiloxane of the bolosiloxane composition described above. For example, bolosiloxane can be cured by exposing the borosiloxane composition to a temperature of 50 to 200 ° C., or 80 to 200 ° C., or 100 to 150 ° C. at atmospheric pressure. The bolosiloxane composition is generally heated for a length of time sufficient to cure (cross-link) the bolosiloxane. For example, the composition is typically heated at a temperature of 100 to 150 ° C. for 0.15 to 1 hour.

또는, 보로실록산 접착제는 폴리보로실록산이 알케닐 그룹을 함유하든지 함유하지 않든지 간에, 위의 화학식 I의 폴리보로실록산을 경화시킴으로써 제조될 수 있다. 예를 들면, 폴리보로실록산은 0.5 내지 24시간 동안 50 내지 300℃의 온도에서 폴리보로실록산을 가열함으로써 경화될 수 있다.Alternatively, the borosiloxane adhesive may be prepared by curing the polyborosiloxane of Formula (I) above, whether or not the polyborosiloxane contains alkenyl groups. For example, the polyborosiloxane can be cured by heating the polyborosiloxane at a temperature of 50 to 300 ° C. for 0.5 to 24 hours.

본 발명은 추가로,The present invention further provides

기판; 및Board; And

상기 기판 표면의 적어도 일부 위의 보로실록산 접착제 코팅을 포함하는 코팅된 기판에 관한 것으로, 여기서, 상기 접착제 코팅은 보로실록산의 경화된 생성물을 포함하며, 여기서, 상기 보로실록산은 하나 이상의 화학식 I의 폴리보로실록산, 하나 이상의 화학식 II의 보로실록산 화합물(단, 상기 보로실록산 화합물은 분자당 평균 2개 이상의 알케닐 그룹을 갖는다), 및 하나 이상의 화학식 I의 폴리보로실록산과 하나 이상의 화학식 II의 보로실록산 화합물을 포함하는 혼합물(단, 상기 혼합물 중의 상기 폴리보로실록산과 상기 보로실록산 화합물은 각각 분자당 평균 2개 이상의 알케닐 그룹을 갖는다)로부터 선택된다.A coated substrate comprising a borosiloxane adhesive coating on at least a portion of the substrate surface, wherein the adhesive coating comprises a cured product of borosiloxane, wherein the bolosiloxane is one or more poly of formula (I) Borosiloxane, at least one borosiloxane compound of formula (II), provided that the bolosiloxane compound has an average of at least two alkenyl groups per molecule, and at least one polyborosiloxane of formula (I) and at least one boro And a mixture comprising a siloxane compound, provided that the polyborosiloxane and the bolosiloxane compound in the mixture each have an average of at least two alkenyl groups per molecule.

화학식 IFormula I

(R¹ ₂BO_{1 /2})_l[(BO_(3-v)/2)(OH)_v]_m[(R¹BO_(2-w)/2)(OH)_w]_n(R¹ ₃SiO_{1 /2})_p[(R¹ ₂SiO_(2-x)/2)(OH)_x]_q[(R¹SiO_(3-y)/2)(OH)_y]_r[(SiO_(4-z)/2)(OH)_z]_{s ^{(R 1 2 BO 1/2}} ) l [(BO (3-v) / 2) (OH) v] m [(R 1 BO (2-w) / 2) (OH) w] n (R 1 3 _{SiO 1/2) p [(} r 1 2 SiO (2-x) / 2) (OH) x] q [(r 1 SiO (3-y) / 2) (OH) y] r [(SiO (4 _{-z) / 2} ) (OH) _z ] _s

화학식 IIFormula II

R¹ _aB(OSiR¹ ₃)_3-a R ¹ _a B (OSiR ¹ ₃ ) _3-a

위의 화학식 I 및 화학식 II에서,In Formula I and Formula II above,

각각의 R¹은 독립적으로 C₁ 내지 C₁₀ 하이드로카빌 또는 C₁ 내지 C₁₀ 할로겐-치환된 하이드로카빌이고,Each R ¹ is independently C ₁ to C ₁₀ hydrocarbyl or C ₁ to C ₁₀ halogen-substituted hydrocarbyl,

l은 0 내지 0.2이고, m은 0 내지 0.5이고, n은 0 내지 0.6이고, p는 0 내지 0.7이고, q는 0 내지 0.9이고, r은 0 내지 0.999이고, s는 0 내지 0.5이고, v는 0 내지 0.05이고, w는 0 내지 0.05이고, x는 0 내지 0.45이고, y는 0 내지 0.63이고, z는 0 내지 0.25이고, m+n은 0.001 내지 0.58이고, q+r+s는 0.42 내지 0.999이고, (p+2q+3r+4s)/(3m+2n)은 1.01 내지 1000이고, l+m+n+p+q+r+s

1이고, a는 0, 1 또는 2이다.l is 0 to 0.2, m is 0 to 0.5, n is 0 to 0.6, p is 0 to 0.7, q is 0 to 0.9, r is 0 to 0.999, s is 0 to 0.5, v Is 0 to 0.05, w is 0 to 0.05, x is 0 to 0.45, y is 0 to 0.63, z is 0 to 0.25, m + n is 0.001 to 0.58, q + r + s is 0.42 To 0.999, (p + 2q + 3r + 4s) / (3m + 2n) is 1.01 to 1000, and l + m + n + p + q + r + s

1 and a is 0, 1 or 2.

상기 기판은 평면 윤곽, 복잡한 윤곽 또는 불규칙적인 윤곽을 갖는 임의의 경질 또는 가요성 재료일 수 있다. 상기 기판은 전자기 스펙트럼의 가시 영역(약 400 내지 약 700nm) 내의 광에 투명하거나 불투명할 수 있다. 또한, 상기 기판은 전도체, 반도체 또는 부도체일 수 있다. 상기 기판의 예는 반도체, 예를 들면, 규소, 또는 이산화규소, 탄화규소, 인화인듐 및 비소화갈륨의 표면층을 갖는 규소; 석영; 용융 석영; 산화알루미늄; 세라믹; 유리, 예를 들면, 소다석회 유리, 붕규산염 유리, 납-알칼리 유리, 붕산염 유리, 실리카 유리, 알루미노-규산염 유리, 납-붕산염 유리, 붕규산나트륨 유리, 알루미노규산리튬 유리, 칼코게나이드 유리, 인산염 유리 및 규산 알칼리-바륨 유리; 금속 호일; 폴리올레핀, 예를 들면, 폴리에틸렌, 폴리프로필렌, 폴리스티렌, 폴리에틸렌 테레프탈레이트(PET) 및 폴리에틸렌 나프탈레이트; 플루오로카본 중합체, 예를 들면, 폴리테트라플루오로에틸렌 및 폴리비닐플루오라이드; 폴리아미드, 예를 들면, 나일론; 폴리이미드; 폴리에스테르, 예를 들면, 폴리(메틸 메타크릴레이트); 에폭시 수지; 폴리에테르; 폴리카보네이트; 폴리설폰; 및 폴리에테르 설폰을 비제한적으로 포함한다.The substrate may be any rigid or flexible material having a planar contour, a complex contour or an irregular contour. The substrate may be transparent or opaque to light in the visible region (about 400 to about 700 nm) of the electromagnetic spectrum. In addition, the substrate may be a conductor, a semiconductor, or an insulator. Examples of the substrate include semiconductors such as silicon or silicon having a surface layer of silicon dioxide, silicon carbide, indium phosphide and gallium arsenide; quartz; Fused quartz; Aluminum oxide; ceramic; Glass, for example, soda lime glass, borosilicate glass, lead-alkali glass, borate glass, silica glass, alumino-silicate glass, lead-borate glass, sodium borosilicate glass, aluminosilicate glass, chalcogenide glass Phosphate glass and alkali-barium silicate glass; Metal foil; Polyolefins such as polyethylene, polypropylene, polystyrene, polyethylene terephthalate (PET) and polyethylene naphthalate; Fluorocarbon polymers such as polytetrafluoroethylene and polyvinylfluoride; Polyamides such as nylon; Polyimide; Polyesters such as poly (methyl methacrylate); Epoxy resins; Polyethers; Polycarbonate; Polysulfones; And polyether sulfones.

추가로, 상기 기판은 실리콘 수지를 포함하는 경화성 실리콘 조성물 중에 섬유 보강재를 함침시키고, 함침된 섬유 보강재를 가열하여 실리콘 수지를 경화시킴으로써 제조된 보강된 실리콘 수지 필름일 수 있다. 경화성 실리콘 조성물의 각종 유형으로부터 제조된 보강된 실리콘 수지 필름은 당업계에 공지되어 있으며, 국제 특허 출원 공개 제WO2006/088645호, 제WO2006088646호, 제WO2007/092032호 및 제WO2007/018756호에 예시된 바와 같다.Additionally, the substrate may be a reinforced silicone resin film prepared by impregnating a fiber reinforcement in a curable silicone composition comprising a silicone resin, and heating the impregnated fiber reinforcement to cure the silicone resin. Reinforced silicone resin films made from various types of curable silicone compositions are known in the art and are exemplified in WO2006 / 088645, WO2006088646, WO2007 / 092032, and WO2007 / 018756. As shown.

상기 코팅된 기판은 기판 표면의 적어도 일부 위에 보로실록산 접착제 코팅을 포함한다. 상기 보로실록산 접착제 코팅은 기판의 하나 이상의 표면의 일부 위에 또는 하나 이상의 표면 모두 위에 존재할 수 있다. 예를 들면, 상기 기판이 평판인 경우, 보로실록산 접착제 코팅은 기판의 한면 위에, 양면 위에, 또는 양면 및 가장자리 위에 존재할 수 있다.The coated substrate includes a borosiloxane adhesive coating over at least a portion of the substrate surface. The bolosiloxane adhesive coating may be present on a portion of one or more surfaces of the substrate or on all of one or more surfaces. For example, when the substrate is a flat plate, the borosiloxane adhesive coating may be present on one side, on both sides, or on both sides and the edge of the substrate.

상기 보로실록산 접착제 코팅은 보로실록산의 경화된 생성물을 포함하며, 경화된 생성물은 본 발명의 보로실록산 접착제에 대하여 위에 기재되고 예시된 바와 같다.The bolosiloxane adhesive coating comprises a cured product of bolosiloxane, wherein the cured product is as described and exemplified above for the borosiloxane adhesive of the present invention.

상기 보로실록산 접착제 코팅은 보로실록산 접착제의 한 층을 포함하는 단층 코팅이거나, 2개 이상의 상이한 보로실록산 접착제의 2개 이상의 층들을 포함하는 다층 코팅일 수 있는데, 다층 코팅에서, 직접 인접한 층들은 상이한 경화된 생성물(즉, 경화된 생성물은 상이한 조성물 및/또는 특성을 갖는다)을 포함한다. 다층 코팅은 통상적으로 2 내지 7개의 층, 또는 2 내지 5개의 층, 또는 2 내지 3개의 층을 포함한다.The bolosiloxane adhesive coating may be a single layer coating comprising one layer of borosilicate adhesive or a multilayer coating comprising two or more layers of two or more different bolosiloxane adhesives, in which the directly adjacent layers are different curing Products (ie, cured products have different compositions and / or properties). Multilayer coatings typically comprise 2 to 7 layers, or 2 to 5 layers, or 2 to 3 layers.

상기 단층 보로실록산 접착제 코팅은 통상적으로 두께가 0.03 내지 300㎛, 또는 0.1 내지 100㎛, 또는 0.1 내지 50㎛이다. 상기 다층 코팅은 통상적으로 두께가 0.06 내지 300㎛, 또는 0.2 내지 100㎛, 또는 0.2 내지 50㎛이다. 보로실록산 접착제 코팅의 두께가 0.03㎛ 미만인 경우, 코팅은 불연속적이 될 수 있다. 보로실록산 접착제 코팅의 두께가 300㎛ 초과인 경우, 코팅은 감소된 접착성 및/또는 균열을 나타낼 수 있다.The single layer borosilicate adhesive coating typically has a thickness of 0.03 to 300 μm, or 0.1 to 100 μm, or 0.1 to 50 μm. The multilayer coating typically has a thickness of 0.06 to 300 μm, or 0.2 to 100 μm, or 0.2 to 50 μm. If the thickness of the borosiloxane adhesive coating is less than 0.03 μm, the coating may be discontinuous. If the thickness of the bolosiloxane adhesive coating is greater than 300 μm, the coating may exhibit reduced adhesion and / or cracking.

상기 코팅된 기판은 기판 위에 보로실록산 접착제 코팅을 형성함으로써 제조될 수 있으며, 접착제 코팅 및 기판은 위에 정의되고 예시된 바와 같다. 예를 들어, 단층 보로실록산 접착제 코팅을 포함하는 코팅된 기판은 (i) 위에 기재된 보로실록산 조성물을 기판 위에 도포하여 필름을 형성하는 단계 및 (ii) 필름의 보로실록산을 경화시키는 단계에 의해 제조될 수 있다. 보로실록산 조성물은 스핀 코팅, 딥 코팅, 분무 코팅, 유동 코팅, 스크린 인쇄 및 롤 코팅과 같은 통상의 방법을 사용하여 기판 위에 도포될 수 있다. 존재하는 경우, 용매는 통상적으로, 필름을 가열하기 전에 코팅된 기판으로부터 증발시킨다. 간단한 공기 건조, 진공 인가 또는 가열(50℃ 이하)과 같은 임의의 적합한 증발 수단이 사용될 수 있다.The coated substrate can be prepared by forming a bolosiloxane adhesive coating on the substrate, wherein the adhesive coating and the substrate are as defined and illustrated above. For example, a coated substrate comprising a monolayer borosiloxane adhesive coating may be prepared by (i) applying the borosiloxane composition described above on a substrate to form a film and (ii) curing the borosisiloxane of the film. Can be. The bolosiloxane composition may be applied onto the substrate using conventional methods such as spin coating, dip coating, spray coating, flow coating, screen printing and roll coating. If present, the solvent is typically evaporated from the coated substrate before heating the film. Any suitable evaporation means such as simple air drying, vacuum application or heating (up to 50 ° C.) can be used.

필름의 보로실록산은 본 발명의 보로실록산 접착제를 제조하는 방법에서 위에 기재된 조건 하에 경화될 수 있다. The bolosiloxane of the film can be cured under the conditions described above in the method of making the bolosiloxane adhesive of the present invention.

코팅이 단층 접착제 코팅을 포함하는, 코팅된 기판의 제조 방법은, 보로실록산 조성물이 기판이라기보다는 경화된 접착제 필름 위에 도포되는 것을 제외하고는, 코팅의 두께를 증가시키기 위해 단계(i)과 단계(ii)를 반복하는 단계를 추가로 포함할 수 있으며, 동일한 보로실록산 조성물이 각각의 도포에 사용된다.The method of making a coated substrate, wherein the coating comprises a monolayer adhesive coating, comprises steps (i) and (i) to increase the thickness of the coating, except that the borosiloxane composition is applied over the cured adhesive film rather than the substrate. It may further comprise repeating ii), wherein the same bolosiloxane composition is used for each application.

다층 보로실록산 접착제 코팅을 포함하는 코팅된 기판은 단층 코팅을 제조하는 데 사용된 것과 유사한 방법으로 제조될 수 있으며, 단지 코팅의 인접한 층들이 상이한 조성물을 갖는 보로실록산 조성물을 사용하여 제조되며, 통상적으로 각 필름은 다음 층의 보로실록산 조성물을 도포하기 전에 적어도 일부 경화된다. 예를 들면, 2개 층을 갖는 보로실록산 접착제 코팅을 포함하는 코팅된 기판은 (i) 위에 기재된 보로실록산 조성물을 기판에 도포하여 제1 필름을 형성하는 단계, (ii) 제1 필름의 보로실록산을 적어도 일부 경화시키는 단계, (iii)(i)에서의 조성물과 상이한 보로실록산 조성물을 일부 경화된 제1 필름에 도포하여 제2 필름을 형성하는 단계, 및 (iv) 제2 필름의 보로실록산을 경화시키는 단계에 의해 제조될 수 있다.Coated substrates comprising a multilayer bolosiloxane adhesive coating can be prepared in a similar manner to that used to make monolayer coatings, with only adjacent layers of the coating being made using a bolosiloxane composition having a different composition, typically Each film is at least partially cured before applying the next layer of the bolosiloxane composition. For example, a coated substrate comprising a two layer borosiloxane adhesive coating may comprise (i) applying the borosiloxane composition described above to the substrate to form a first film, (ii) the borosiloxane of the first film (Iii) applying a borosiloxane composition different from the composition in (i) to the partially cured first film to form a second film, and (iv) the borosiloxane of the second film It can be prepared by the step of curing.

본 발명에 따른 적층 기판은 Laminated substrate according to the present invention

제1 기판;A first substrate;

제1 기판을 오버라잉하는 하나 이상의 추가의 기판; 및One or more additional substrates overlying the first substrate; And

각 기판의 하나 이상의 표면의 적어도 일부 위의 보로실록산 접착제 코팅을 포함하며, 단, 접착제 코팅의 적어도 일부는 인접한 기판들의 대향 표면들 사이에 있고 대향 표면들과 직접 접촉되어 있으며, 여기서, 상기 접착제 코팅은 보로실록산의 경화된 생성물을 포함하고, 여기서, 상기 보로실록산은 하나 이상의 화학식 I의 폴리보로실록산, 하나 이상의 화학식 II의 보로실록산 화합물(단, 상기 보로실록산 화합물은 분자당 평균 2개 이상의 알케닐 그룹을 갖는다), 및 하나 이상의 화학식 I의 폴리보로실록산과 하나 이상의 화학식 II의 보로실록산 화합물을 포함하는 혼합물(단, 상기 혼합물 중의 상기 폴리보로실록산과 상기 보로실록산 화합물은 각각 분자당 평균 2개 이상의 알케닐 그룹을 갖는다)로부터 선택된다.A borosiloxane adhesive coating on at least a portion of at least one surface of each substrate, provided that at least a portion of the adhesive coating is between opposing surfaces of the adjacent substrates and in direct contact with the opposing surfaces, wherein the adhesive coating Is a cured product of bolosiloxane, wherein the borosiloxane is at least one polyborosiloxane of formula (I), at least one borosiloxane compound of formula (II), provided that the borosiloxane compound has an average of at least two eggs per molecule And a mixture comprising at least one polyborosiloxane of Formula (I) and at least one borosiloxane compound of Formula (II), provided that the polyborosiloxane and the bolosiloxane compound in the mixture are each averaged per molecule Having at least two alkenyl groups).

화학식 IFormula I

(R¹ ₂BO_{1 /2})_l[(BO_(3-v)/2)(OH)_v]_m[(R¹BO_(2-w)/2)(OH)_w]_n(R¹ ₃SiO_{1 /2})_p[(R¹ ₂SiO_(2-x)/2)(OH)_x]_q[(R¹SiO_(3-y)/2)(OH)_y]_r[(SiO_(4-z)/2)(OH)_z]_{s ^{(R 1 2 BO 1/2}} ) l [(BO (3-v) / 2) (OH) v] m [(R 1 BO (2-w) / 2) (OH) w] n (R 1 3 _{SiO 1/2) p [(} R 1 2 SiO (2-x) / 2) (OH) x] q [(R 1 SiO (3-y) / 2) (OH) y] r [(SiO (4 _{-z) / 2} ) (OH) _z ] _s

화학식 IIFormula II

R¹ _aB(OSiR¹ ₃)_3-a R ¹ _a B (OSiR ¹ ₃ ) _3-a

위의 화학식 I 및 화학식 II에서,In Formula I and Formula II above,

각각의 R¹은 독립적으로 C₁ 내지 C₁₀ 하이드로카빌 또는 C₁ 내지 C₁₀ 할로겐-치환된 하이드로카빌이고,Each R ¹ is independently C ₁ to C ₁₀ hydrocarbyl or C ₁ to C ₁₀ halogen-substituted hydrocarbyl,

l은 0 내지 0.2이고, m은 0 내지 0.5이고, n은 0 내지 0.6이고, p는 0 내지 0.7이고, q는 0 내지 0.9이고, r은 0 내지 0.999이고, s는 0 내지 0.5이고, v는 0 내지 0.05이고, w는 0 내지 0.05이고, x는 0 내지 0.45이고, y는 0 내지 0.63이고, z는 0 내지 0.25이고, m+n은 0.001 내지 0.58이고, q+r+s는 0.42 내지 0.999이고, (p+2q+3r+4s)/(3m+2n)은 1.01 내지 1000이고, l+m+n+p+q+r+s

1이고, a는 0, 1 또는 2이다.l is 0 to 0.2, m is 0 to 0.5, n is 0 to 0.6, p is 0 to 0.7, q is 0 to 0.9, r is 0 to 0.999, s is 0 to 0.5, v Is 0 to 0.05, w is 0 to 0.05, x is 0 to 0.45, y is 0 to 0.63, z is 0 to 0.25, m + n is 0.001 to 0.58, q + r + s is 0.42 To 0.999, (p + 2q + 3r + 4s) / (3m + 2n) is 1.01 to 1000, and l + m + n + p + q + r + s

1 and a is 0, 1 or 2.

본 명세서에서 추가의 기판에 관련되어 사용되는 용어 "오버라잉(overlying)"은 각각의 추가의 기판이 위에 놓인 위치를 차지하지만, 제1 기판 및 임의의 개재 기판(들)과 직접 접촉되지 않음을 의미한다.The term "overlying", as used herein in connection with additional substrates, assumes that each additional substrate occupies an overlying position, but is not in direct contact with the first substrate and any intervening substrate (s). it means.

적층 기판의 기판 및 보로실록산 접착제 코팅은 본 발명의 코팅된 기판에 대하여 위에 기재되고 예시된 바와 같다. 상기 적층 기판은 제1 기판 및 하나 이상의 추가의 기판을 포함한다. 상기 적층 기판은 통상적으로 1 내지 20개의 추가의 기판, 또는 1 내지 10개의 추가의 기판, 또는 1 내지 4개의 추가의 기판을 함유한다. 적층 기판이 적층된 유리 기판인 경우, 기판들 중의 하나 이상이 유리이고, 임의로, 기판들 중의 하나 이상이 위에 기재된 보강된 실리콘 수지 필름이다.Substrates and borosiloxane adhesive coatings of laminated substrates are as described and exemplified above for the coated substrates of the present invention. The laminated substrate includes a first substrate and one or more additional substrates. The laminated substrate typically contains 1 to 20 additional substrates, or 1 to 10 additional substrates, or 1 to 4 additional substrates. When the laminated substrate is a laminated glass substrate, at least one of the substrates is glass, and optionally, at least one of the substrates is the reinforced silicone resin film described above.

상기 적층 기판은 각 기판의 하나 이상의 표면의 적어도 일부 위에 보로실록산 접착제 코팅을 포함한다. 상기 접착제 코팅은 각 기판의 하나 이상의 표면의 일부 위에 또는 각 기판의 하나 이상의 표면 모두 위에 존재할 수 있다. 예를 들면, 적층 기판이 판유리(glass pane)들을 포함하는 적층된 유리인 경우, 보로실록산 접착제 코팅은 각각의 판유리의 한면 위에, 양면 위에, 또는 양면 및 가장자리 위에 있을 수 있다.The laminated substrate includes a borosiloxane adhesive coating on at least a portion of one or more surfaces of each substrate. The adhesive coating may be present on a portion of one or more surfaces of each substrate or on all of one or more surfaces of each substrate. For example, where the laminated substrate is laminated glass comprising glass panes, the bolosiloxane adhesive coating may be on one side, on both sides, or on both sides and the edge of each pane.

도 1에 도시된 바와 같이, 본 발명에 따른 적층 기판의 한 양태는 제1 반대 표면(100A) 및 제2 반대 표면(100B)을 갖는 제1 기판(100); 제1 기판(100)의 제1 반대 표면(100A) 상의 제1 보로실록산 접착제 코팅(102)(여기서, 제1 보로실록산 접착제 코팅(102)은 보로실록산의 경화된 생성물을 포함한다); 및 제1 보로실록산 접착제 코팅(102) 상의 제2 기판(104)을 포함한다.As shown in FIG. 1, one aspect of a laminated substrate according to the present invention includes a first substrate 100 having a first opposite surface 100A and a second opposite surface 100B; A first borosiloxane adhesive coating 102 on the first opposing surface 100A of the first substrate 100, wherein the first borosiloxane adhesive coating 102 comprises a cured product of bolosiloxane; And a second substrate 104 on the first bolosiloxane adhesive coating 102.

도 2에 도시된 바와 같이, 상기 적층 기판의 이전 양태는 제2 기판(104) 상의 제2 보로실록산 접착제 코팅(106) 및 제1 기판(100)의 제2 반대 표면(100B) 상의 제3 보로실록산 접착제 코팅(108)을 추가로 포함할 수 있으며, 여기서, 제2 접착제 코팅 및 제3 접착제 코팅은 각각 보로실록산의 경화된 생성물을 포함한다.As shown in FIG. 2, the previous aspect of the laminated substrate is a second borosilicate adhesive coating 106 on the second substrate 104 and a third bore on the second opposite surface 100B of the first substrate 100. It may further comprise a siloxane adhesive coating 108, wherein the second adhesive coating and the third adhesive coating each comprise a cured product of borosiloxane.

적층 기판을 제조하는 적합한 방법이 도 1에 도시된 적층 기판에 대하여 본 명세서에서 예시된다. 적층 기판은 (i) 위에 기재된 보로실록산 조성물을 기판의 제1 표면에 도포하여 제1 접착제 필름을 형성하는 단계; (ii) 제2 기판을 제1 접착제 필름에 도포하는 단계; 및 (iii) 제1 접착제 필름의 보로실록산을 경화시키는 단계에 의해 제조될 수 있다. 추가의 보로실록산 접착제 코팅 및 기판을 포함하는 적층 기판은 유사한 방법으로 제조될 수 있다. 적층 기판이 하나 이상의 다층 보로실록산 접착제 코팅을 포함하는 경우, 통상적으로 코팅의 각 층은 다음 층이 형성되기 전에 적어도 일부 경화된다.Suitable methods of making the laminated substrates are illustrated herein with respect to the laminated substrates shown in FIG. 1. The laminated substrate comprises the steps of (i) applying the borosiloxane composition described above to a first surface of the substrate to form a first adhesive film; (ii) applying a second substrate to the first adhesive film; And (iii) curing the bolosiloxane of the first adhesive film. Laminated substrates, including additional borosiloxane adhesive coatings and substrates, can be made in a similar manner. If the laminated substrate comprises one or more multilayered borosiloxane adhesive coatings, typically each layer of the coating is at least partially cured before the next layer is formed.

본 발명의 보로실록산 접착제는 높은 내습성, 높은 투명도 및 각종 기판에의 우수한 접착성을 갖는다. 더욱이, 상기 보로실록산 접착제는 접착제의 분해 온도보다 높은 온도에 노출되는 동안 및 노출된 후 높은 접착성을 가지며, (낮은 열 방출율에 의해 입증되는 바와 같이) 낮은 가연성 및 높은 탄화율을 갖는다.The bolosiloxane adhesive of the present invention has high moisture resistance, high transparency and excellent adhesion to various substrates. Moreover, the borosiloxane adhesive has high adhesion during and after exposure to temperatures higher than the decomposition temperature of the adhesive, as well as low flammability and high carbonization rate (as evidenced by the low heat release rate).

본 발명의 보로실록산 접착제는 높은 내습성, 승온에서의 높은 접착성, 낮은 가연성 및 높은 투명도를 갖는 접착제가 요구되는 분야에 유용하다. 예를 들면, 보로실록산 접착제는 내화 등급 창문 및 유리 방화벽의 제조시 유리 패널들을 접합시키는 데 유용하다.The borosiloxane adhesives of the present invention are useful in applications where adhesives with high moisture resistance, high adhesion at elevated temperatures, low flammability and high transparency are required. For example, bolosiloxane adhesives are useful for bonding glass panels in the manufacture of fire rated windows and glass firewalls.

실시예Example

하기의 실시예는 본 발명의 보로실록산 조성물 및 적층 기판을 더욱 잘 예시하기 위해서 제공되지만, 첨부된 특허청구범위에 기술된 본 발명을 제한하는 것으로 여겨지지 않는다. 달리 기재되지 않는 한, 이들 실시예에 보고된 모든 부 및 백분율은 중량 기준이다. 하기의 재료가 이들 실시예에 채용되었다:The following examples are provided to better illustrate the borosiloxane compositions and laminated substrates of the present invention, but are not intended to limit the invention described in the appended claims. Unless otherwise stated, all parts and percentages reported in these examples are by weight. The following materials were employed in these examples:

Dupont Teijin Films(미국 버지니아주 호프웰 소재)에 의해 판매되는 Melinex® 516은 한쪽 면에 대하여 슬립용 이형제로 사전처리되고 두께가 125㎛인 폴리에틸렌-테레프탈레이트(PET) 필름이다.Melinex® 516, sold by Dupont Teijin Films, Hopewell, Va., Is a polyethylene-terephthalate (PET) film that is pretreated with a release agent for slip on one side and is 125 µm thick.

유리 직물은 평직이고 두께가 37.5㎛인 스타일 106 전기 유리 천을 575℃에서 6시간 동안 가열함으로써 제조되는 열-처리된 유리 천이다. 미처리된 유리 천은 JPS Glass(미국 사우쓰 캐롤라이나주 슬레이터 소재)로부터 획득하였다.The glass fabric is a heat-treated glass cloth produced by heating a Style 106 electric glass cloth of plain weave and 37.5 μm thick at 575 ° C. for 6 hours. Untreated glass cloth was obtained from JPS Glass (Slater, SC, USA).

실리콘 기재: 화학식 (PhSiO_{3 /2})_O.75(ViMe₂SiO_{1 /2})_O.25의 실리콘 수지를 82% 함유하는 혼합물이며, 여기서, 당해 수지는 중량평균 분자량이 약 1700이고, 수 평균 분자량이 약 1440이며, 약 1mol%의 규소-결합된 하이드록시 그룹; 및 18%의 1,4-비스(디메틸실릴)벤젠을 함유한다. 1,4-비스(디메틸실릴)벤젠 내의 규소-결합된 수소 원자 대 실리콘 수지 내의 규소-결합된 비닐 그룹의 몰 비는 ²⁹Si NMR 및 ¹³C NMR에 의해 측정될 때, 1.1:1이다.Silicone-based: a mixture containing the formula _{(PhSiO 3/2) O.75 (} ViMe 2 SiO 1/2) 82% of a silicone resin of _O.25, wherein the resin is from about 1700, a weight average molecular weight, number average A molecular weight of about 1440 and about 1 mol% of silicon-bonded hydroxy groups; And 18% of 1,4-bis (dimethylsilyl) benzene. The molar ratio of silicon-bonded hydrogen atoms in 1,4-bis (dimethylsilyl) benzene to silicon-bonded vinyl groups in the silicone resin is 1.1: 1, as measured by ²⁹ Si NMR and ¹³ C NMR.

백금 촉매는 톨루엔 중에 1,3-디비닐-1,1,3,3,-테트라메틸디실록산의 백금(0) 착물을 함유하고, 백금 농도가 1000ppm인 혼합물이다.
The platinum catalyst is a mixture containing a platinum (0) complex of 1,3-divinyl-1,1,3,3, -tetramethyldisiloxane in toluene and having a platinum concentration of 1000 ppm.

실시예 1Example 1

염화철(III)을 밤새 소량의 염화티오닐에서 건조시켰다. 트리메틸 보레이트를 50℃에서 질소하에 0.4g의 FeCl₃ 및 60g의 디메틸디클로로실란의 교반 혼합물에 적가하였다. 첨가 동안, 휘발성 생성물을 증류에 의해 제거하였다. 트리메틸 보레이트의 첨가 완료 후, 혼합물을 추가 1시간 동안 50℃에서 교반하였다. 이어서, 온도를 80℃로 상승시키고, 이 온도에서 1시간 동안 유지하였다. 가열을 중단하였으며, 혼합물을 실온으로 냉각시켜 폴리보로실록산 중간체를 수득하였다.Iron (III) chloride was dried in a small amount of thionyl chloride overnight. Trimethyl borate was added dropwise to a stirred mixture of 0.4 g FeCl ₃ and 60 g dimethyldichlorosilane at 50 ° C. under nitrogen. During the addition, volatile products were removed by distillation. After complete addition of trimethyl borate, the mixture was stirred at 50 ° C. for an additional hour. The temperature was then raised to 80 ° C. and maintained at this temperature for 1 hour. The heating was stopped and the mixture was cooled to room temperature to give a polyborosiloxane intermediate.

실시예 2 Example 2

실시예 1의 폴리보로실록산 중간체(5g)를 5g의 디메틸디클로로실란 및 10g의 톨루엔과 조합하였다. 상기 혼합물을 50g의 탈이온수에 붓고, 수득한 2상 혼합물을 격렬하게 쉐이킹하였다. 진탕을 중단하고 유기상 및 수성상이 분리되게 하였다. 상부의 유기상을 수집하고 20g 분액들의 탈이온수로 여러 번 세척하였다. 상기 혼합물을 딘-스타크 트랩 및 온도계를 구비한 플라스크로 옮기고, 89 내지 115℃에서 증류시켜 물을 제거하였다. 수집된 물의 부피가 일정하게 유지되었을 때, 혼합물을 실온으로 냉각시켜 폴리보로실록산을 수득하였다. 폴리보로실록산의 샘플을 알루미늄 디쉬 안에 넣고 200℃에서 1시간 동안 공기-순환식 오븐 내에서 가열하였으며, 실온으로 냉각시, 경화된 폴리보로실록산이 투명한 고체로서 수득되었다. 주위 조건 하에 4시간 동안 보관 후, 경화된 폴리보로실록산은 투명한 채로 유지되었다. 밤새 보관 후, 경화된 폴리보로실록산은 약간 탁해졌다. 추가의 보관은 투명도에 있어서 더 이상의 변화를 일으키지 않았다.The polyborosiloxane intermediate (5 g) of Example 1 was combined with 5 g of dimethyldichlorosilane and 10 g of toluene. The mixture was poured into 50 g of deionized water and the resulting biphasic mixture was shaken vigorously. Shaking was stopped and the organic and aqueous phases were allowed to separate. The upper organic phase was collected and washed several times with 20 g aliquots of deionized water. The mixture was transferred to a flask with Dean-Stark trap and thermometer and distilled at 89-115 ° C. to remove water. When the volume of water collected was kept constant, the mixture was cooled to room temperature to give polyborosiloxane. A sample of polyborosiloxane was placed in an aluminum dish and heated in an air-circulated oven at 200 ° C. for 1 hour, and upon cooling to room temperature, the cured polyborosiloxane was obtained as a clear solid. After storage for 4 hours under ambient conditions, the cured polyborosiloxane remained transparent. After overnight storage, the cured polyborosiloxane became slightly cloudy. Further storage did not cause any further changes in transparency.

실시예 3Example 3

실시예 1의 폴리보로실록산 중간체(15g)를 30g의 디메틸디클로로실란, 8g의 비닐디메틸클로로실란 및 40g의 p-자일렌과 조합하였다. 상기 혼합물을 40g의 탈이온수에 붓고, 수득한 2상 혼합물을 격렬하게 쉐이킹하였다. 진탕을 중단하고 유기상 및 수성상이 분리되게 하였다. 상부의 유기상을 수집하고 40g 분액들의 탈이온수로 여러 번 세척하고, 5g의 황산마그네슘에서 건조시키고 여과하였다. 여과액을 0.2%(w/w)의 아연 옥토에이트(폴리보로실록산의 이론상 수율을 기준으로 함)로 처리하였으며, 혼합물을 딘-스타크 트랩 및 온도계를 구비한 플라스크 내에서 가열하고 120℃에서 2시간 동안 증류시켜 물을 제거하였다. 상기 혼합물을 실온으로 냉각시키고 여과하였다. 회전 증발기를 사용하여 80℃에서 감압(5mmHg, 667Pa) 하에 여과액을 농축시켜 점성 액체로서 폴리보로실록산을 수득하였다. The polyborosiloxane intermediate (15 g) of Example 1 was combined with 30 g of dimethyldichlorosilane, 8 g of vinyldimethylchlorosilane and 40 g of p-xylene. The mixture was poured into 40 g of deionized water and the resulting biphasic mixture was shaken vigorously. Shaking was stopped and the organic and aqueous phases were allowed to separate. The upper organic phase was collected and washed several times with 40 g aliquots of deionized water, dried over 5 g magnesium sulfate and filtered. The filtrate was treated with 0.2% (w / w) zinc octoate (based on the theoretical yield of polyborosiloxane) and the mixture was heated in a flask equipped with a Dean-Stark trap and thermometer and at 120 ° C. The water was removed by distillation for 2 hours. The mixture was cooled to rt and filtered. The filtrate was concentrated under reduced pressure (5 mmHg, 667 Pa) at 80 ° C. using a rotary evaporator to afford polyborosiloxane as a viscous liquid.

실시예 4Example 4

실시예 3의 폴리보로실록산(5g)을 화학식 Me₃SiO(HMeSiO)_nSiMe₃(여기서, Me는 메틸이고, n은 평균값이 67이다)의 폴리(메틸수소)실록산 2g 및 백금 촉매 0.035g과 조합하였다. 상기 혼합물을 알루미늄 디쉬 안에 넣고 150℃에서 1시간 동안 가열하였다. 실온으로 냉각시, 경화된 폴리보로실록산이 투명한 고체로서 수득되었다.2 g of poly (methylhydrogen) siloxane of formula Me ₃ SiO (HMeSiO) _n SiMe ₃ (where Me is methyl and n has an average value of 67) of the polyborosiloxane (5 g) of Example ₃ and 0.035 g of platinum catalyst Combined with. The mixture was placed in an aluminum dish and heated at 150 ° C. for 1 hour. Upon cooling to room temperature, cured polyborosiloxane was obtained as a clear solid.

실시예 5Example 5

트리메틸 보레이트(230.8g), 50g의 클로로디메틸비닐실란 및 1.4g의 염화철(III)(염화티오닐에서 미리 건조됨)을 교반기, 응축기, 딘-스타크 트랩, 온도계, 가열 맨틀 및 온도 제어기를 구비한 500mL 3구 플라스크 내에서 질소하에 조합하였다. 상기 혼합물을 50℃로 가열하고, 휘발성 생성물을 증류에 의해 제거하였다. 응축된 MeCl의 수집이 멈추었을 때, 혼합물을 82℃보다 높게 가열하여 과잉의 클로로디메틸비닐실란을 제거하였다. 온도가 100℃에 도달하고, 클로로디메틸비닐실란의 수집이 중단되었을 때, 혼합물을 40℃ 미만으로 냉각시키고, 이어서, 100g의 톨루엔 및 50g의 냉수로 처리하였다. 상기 혼합물을 2분 동안 교반하고, 수성상 및 유기상의 분리가 관찰될 때까지 그대로 두었다. 상부의 유기상을 회수하고, 이어서, 80℃ 및 2mmHg의 최종 압력에서 회전 증발기를 사용하여 톨루엔 및 잔류 수분을 제거하여, 액체로서 화학식 (ViMe₂SiO)₃B(여기서, Me는 메틸이다)의 보로실록산 화합물을 수득하였다.Trimethyl borate (230.8 g), 50 g chlorodimethylvinylsilane and 1.4 g iron (III) chloride (pre-dried in thionyl chloride) were prepared with a stirrer, condenser, Dean-Stark trap, thermometer, heating mantle and temperature controller. Combine under nitrogen in a 500 mL three neck flask. The mixture was heated to 50 ° C. and volatile products were removed by distillation. When the collection of condensed MeCl stopped, the mixture was heated above 82 ° C. to remove excess chlorodimethylvinylsilane. When the temperature reached 100 ° C. and the collection of chlorodimethylvinylsilane was stopped, the mixture was cooled below 40 ° C. and then treated with 100 g of toluene and 50 g of cold water. The mixture was stirred for 2 minutes and left until separation of the aqueous and organic phases was observed. The upper organic phase was recovered, and then toluene and residual water were removed using a rotary evaporator at 80 ° C. and a final pressure of 2 mmHg to form a borohydride of formula (ViMe ₂ SiO) ₃ B (where Me is methyl) as a liquid. The siloxane compound was obtained.

상기의 보로실록산 화합물(5g)을 8g의 1,1,5,5-테트라메틸-3,3-디페닐트리실록산, 2g의 건식 실리카(표면적(BET) 200±25㎡/g), 0.15g의 비닐트리메톡시실란 및 0.075g의 백금 촉매와 조합하였다. 상기 혼합물을 150℃에서 1시간 동안 공기-순환식 오븐 내에서 가열하였다. 실온으로 냉각시, 경화된 보로실록산이 투명한 고체로서 수득되었다. 주위 조건 하에 3개월 동안 보관 후, 경화된 보로실록산은 약간 탁해졌다.8 g of 1,1,5,5-tetramethyl-3,3-diphenyltrisiloxane, 2 g of dry silica (surface area (BET) 200 ± 25 m 2 / g), 0.15 g of the above-mentioned bolosiloxane compound (5 g) And vinyltrimethoxysilane and 0.075 g of platinum catalyst. The mixture was heated at 150 ° C. for 1 hour in an air-circulated oven. Upon cooling to room temperature, cured bolosiloxane was obtained as a clear solid. After storage for 3 months under ambient conditions, the cured bolosiloxane became slightly cloudy.

실시예 6Example 6

실리콘 기재를 0.5%(w/w)(실리콘 기재의 중량을 기준으로 함)의 백금 촉매와 혼합하였다. 수득한 조성물을 Melinex® 516 PET 필름(8인치×11인치)의 이형제-처리된 표면에 도포하여 실리콘 필름을 형성하였다. PET 필름과 동일한 치수를 갖는 유리 천을 조심스럽게 실리콘 필름 위에 내려놓고, 조성물이 철저하게 천을 습윤시키기에 충분한 시간 동안 그대로 두었다. 이어서, 위에 언급된 실리콘 조성물을 매봉된(embedded) 천에 균일하게 도포하였다. 이형제-처리된 면이 실리콘 조성물과 접촉된 상태로, 동일한 PET 필름을 코팅의 상부에 올려놓았다. 이어서, 이 적층체(stack)를 300㎛의 거리로 분리된 2개의 스테인리스 스틸 바 사이로 통과시켰다. 이 적층물을 150℃에서 10분 동안 오븐 내에서 가열하였다. 오븐을 끄고 적층물을 오븐 내부에서 실온으로 냉각시켰다. 상부 PET 필름을 보강된 실리콘 수지 필름으로부터 분리(박리)하고, 이어서, 실리콘 수지 필름을 하부 PET 필름으로부터 분리하였다. 투명한 보강된 실리콘 수지 필름은 두께가 약 125㎛였다.The silicone substrate was mixed with 0.5% (w / w) (based on the weight of the silicone substrate) platinum catalyst. The resulting composition was applied to a release agent-treated surface of Melinex® 516 PET film (8 inches x 11 inches) to form a silicone film. The glass cloth having the same dimensions as the PET film was carefully laid down on the silicone film and left alone for a time sufficient for the composition to wet the fabric thoroughly. The silicone composition mentioned above was then evenly applied to the embedded fabric. The same PET film was placed on top of the coating with the release agent-treated side in contact with the silicone composition. This stack was then passed between two stainless steel bars separated at a distance of 300 μm. This stack was heated in an oven at 150 ° C. for 10 minutes. The oven was turned off and the stack was cooled to room temperature inside the oven. The upper PET film was separated (peeled) from the reinforced silicone resin film, and then the silicone resin film was separated from the lower PET film. The transparent reinforced silicone resin film was about 125 μm thick.

실시예 7Example 7

2개의 편평한 플로트 유리판(6인치×6인치×1/8인치)을 수 중의 세제의 따뜻한 용액으로 세척하고, 탈이온수로 철저하게 헹구고, 공기 중에서 건조시켰다. 실시예 5의 실리콘 조성물 약 2g을 각 유리판의 한면에 도포하였다. 이들 유리판과 동일한 치수를 갖는 실시예 6의 보강된 실리콘 수지 필름을 유리판들 중 하나의 코팅된 표면 위에 올려놓고, 이어서, 나머지 하나의 유리판의 코팅된 표면을 보강된 실리콘 수지 필름의 노출된 표면 위에 올려놓았다. 적층물을 진공(2500Pa) 하에 실온에서 2시간 동안 유지하였다. 상기 조성물을 오븐에서 3℃/min의 속도로 150℃까지 가열하였으며, 이 온도에서 적층물을 2시간 동안 유지하였다. 오븐을 끄고, 적층된 유리를 오븐 내부에서 실온으로 냉각시켰다.Two flat float glass plates (6 inches × 6 inches × 1/8 inches) were washed with a warm solution of detergent in water, thoroughly rinsed with deionized water and dried in air. About 2 g of the silicone composition of Example 5 was applied to one side of each glass plate. The reinforced silicone resin film of Example 6 having the same dimensions as these glass plates was placed on the coated surface of one of the glass plates, and then the coated surface of the other glass plate was placed on the exposed surface of the reinforced silicone resin film. Put it up. The stack was kept at room temperature under vacuum (2500 Pa) for 2 hours. The composition was heated in an oven to 150 ° C. at a rate of 3 ° C./min, at which temperature the stack was held for 2 hours. The oven was turned off and the laminated glass was cooled to room temperature inside the oven.

이어서, 적층된 유리를 오븐 안에 넣고, 3℃/min의 속도로 500℃까지 가열하고, 500℃에서 0.5시간 동안 유지하고, 3℃/min의 속도로 60℃까지 가열하고, 이어서, 실온으로 냉각시켰다. 열 처리 후, 적층물 내의 유리판들은 보강된 실리콘 수지 필름에 접합된 채로 유지되었다.The laminated glass is then placed in an oven, heated to 500 ° C. at a rate of 3 ° C./min, held at 500 ° C. for 0.5 hours, heated to 60 ° C. at a rate of 3 ° C./min, and then cooled to room temperature I was. After heat treatment, the glass plates in the laminate remained bonded to the reinforced silicone resin film.

비교예 1Comparative Example 1

당업계에 익히 공지된 방법(예를 들면, 미국 특허 제5,112,779호 참조)에 따라 폴리보로실록산을 제조하였다. 1,1,3,3-테트라메틸-1,3-디비닐디실록산(0.125mol), 1.5mol의 탈이온수 및 0.1g의 트리플루오로메탄설폰산을 온도계, 응축기, 기계식 교반기 및 가열 맨틀을 구비한 3구 플라스크 내에서 조합하였다. 0.25mol의 트리메톡시페닐실란, 0.25mol의 디메틸디메톡시실란 및 0.25mol의 트리메틸 보레이트를 교반하면서 실온에서 플라스크에 적가하였다. 첨가 완료 후, 혼합물을 60℃로 가열하고, 이 온도에서 1시간 동안 유지하였다. 이어서, 혼합물의 온도를 서서히 증가시켜 메탄올 부산물을 증류시켰다. 혼합물의 온도가 85℃에 도달했을 때, 가열을 중단하고 혼합물을 실온으로 냉각시켰다. 이어서, 혼합물을 1g의 탄산칼슘으로 처리하고, 1시간 동안 교반하였다. 상기 혼합물을 여과지(5㎛의 기공 크기)를 통해 여과하였다. 여과액을 톨루엔 중에 용해시키고, 이어서 0.03%(w/w)(폴리보로실록산의 이론상 수율을 기준으로 함)의 수산화칼륨으로 처리하였다. 상기 혼합물을 딘-스타크 트랩 및 온도계를 구비한 플라스크에 옮기고, 110℃에서 증류시켜 물을 제거하였다. 수집된 물의 부피가 일정하게 유지되었을 때, 혼합물을 실온으로 냉각시켰다. 혼합물의 샘플을 알루미늄 디쉬 안에 넣고 1시간 동안 150℃에서 공기-순환식 오븐 내에서 가열하여, 실온으로 냉각시, 고도로 점성인 투명한 액체를 수득하였다.Polyborosiloxanes were prepared according to methods well known in the art (see, eg, US Pat. No. 5,112,779). 1,1,3,3-tetramethyl-1,3-divinyldisiloxane (0.125 mol), 1.5 mol deionized water and 0.1 g trifluoromethanesulfonic acid were added to a thermometer, condenser, mechanical stirrer and heating mantle. Combined in a three necked flask. 0.25 mol trimethoxyphenylsilane, 0.25 mol dimethyldimethoxysilane and 0.25 mol trimethyl borate were added dropwise to the flask at room temperature with stirring. After the addition was completed, the mixture was heated to 60 ° C. and maintained at this temperature for 1 hour. The temperature of the mixture was then slowly increased to distill the methanol byproduct. When the temperature of the mixture reached 85 ° C., the heating was stopped and the mixture was cooled to room temperature. The mixture was then treated with 1 g of calcium carbonate and stirred for 1 hour. The mixture was filtered through filter paper (pore size of 5 μm). The filtrate was dissolved in toluene and then treated with 0.03% (w / w) potassium hydroxide (based on the theoretical yield of polyborosiloxane). The mixture was transferred to a flask with Dean-Stark trap and thermometer and distilled at 110 ° C. to remove water. When the volume of collected water remained constant, the mixture was cooled to room temperature. Samples of the mixture were placed in an aluminum dish and heated in an air-circulated oven at 150 ° C. for 1 hour to give a highly viscous clear liquid upon cooling to room temperature.

액체 생성물(50g)을 8.5g의 1,1,5,5-테트라메틸-3,3-디페닐트리실록산 및 0.293g의 백금 촉매와 조합하였다. 상기 혼합물을 질소하에 150℃에서 1시간 동안 가열하였다. 실온으로 냉각시, 경화된 폴리보로실록산이 투명한 무색 고체로서 수득되었다. 이 고체는 주위 조건에서 2일 동안 보관 후 백색이며 불투명하게 되었다.The liquid product (50 g) was combined with 8.5 g 1,1,5,5-tetramethyl-3,3-diphenyltrisiloxane and 0.293 g platinum catalyst. The mixture was heated at 150 ° C. for 1 h under nitrogen. Upon cooling to room temperature, cured polyborosiloxane was obtained as a clear colorless solid. This solid became white and opaque after 2 days storage at ambient conditions.

Claims (15)

(A)(i) 하나 이상의 화학식 I의 폴리보로실록산, (ii) 하나 이상의 화학식 II의 보로실록산 화합물, 및 (iii) 상기 성분(A)(i)과 성분(A)(ii)를 포함하는 혼합물로부터 선택되는 보로실록산으로서, 단, 분자당 평균 2개 이상의 알케닐 그룹을 갖는 보로실록산;
(B) 상기 보로실록산을 경화시키기에 충분한 양의, 분자당 평균 2개 이상의 규소-결합된 수소 원자를 갖는 유기규소 화합물; 및
(C) 하이드로실릴화 촉매를 포함하는 보로실록산 조성물.
화학식 I
(R¹ ₂BO_{1 /2})_l[(BO_(3-v)/2)(OH)_v]_m[(R¹BO_(2-w)/2)(OH)_w]_n(R¹ ₃SiO_{1 /2})_p[(R¹ ₂SiO_(2-x)/2)(OH)_x]_q[(R¹SiO_(3-y)/2)(OH)_y]_r[(SiO_(4-z)/2)(OH)_z]_s
화학식 II
R¹ _aB(OSiR¹ ₃)_3-a
위의 화학식 I 및 화학식 II에서,
각각의 R¹은 독립적으로 C₁ 내지 C₁₀ 하이드로카빌 또는 C₁ 내지 C₁₀ 할로겐-치환된 하이드로카빌이고,
l은 0 내지 0.2이고, m은 0 내지 0.5이고, n은 0 내지 0.6이고, p는 0 내지 0.7이고, q는 0 내지 0.9이고, r은 0 내지 0.999이고, s는 0 내지 0.5이고, v는 0 내지 0.05이고, w는 0 내지 0.05이고, x는 0 내지 0.45이고, y는 0 내지 0.63이고, z는 0 내지 0.25이고, m+n은 0.001 내지 0.58이고, q+r+s는 0.42 내지 0.999이고, (p+2q+3r+4s)/(3m+2n)은 1.01 내지 1000이고, l+m+n+p+q+r+s

1이고, a는 0, 1 또는 2이다.(A) (i) at least one polyborosiloxane of formula (I), (ii) at least one borosiloxane compound of formula (II), and (iii) said components (A) (i) and (A) (ii) Borosiloxanes selected from mixtures, provided that they include, on average, borosisiloxanes having an average of at least two alkenyl groups per molecule;
(B) an organosilicon compound having an average of at least two silicon-bonded hydrogen atoms per molecule in an amount sufficient to cure the bolosiloxane; And
(C) A borosilicate composition comprising a hydrosilylation catalyst.
Formula I
^{_{(R 1 2 BO 1/2}} ) l [(BO (3-v) / 2) (OH) v] m [(R 1 BO (2-w) / 2) (OH) w] n (R 1 3 _{SiO 1/2) p [(} r 1 2 SiO (2-x) / 2) (OH) x] q [(r 1 SiO (3-y) / 2) (OH) y] r [(SiO (4 _{-z) / 2} ) (OH) _z ] _s
Formula II
R ¹ _a B (OSiR ¹ ₃ ) _3-a
In Formula I and Formula II above,
Each R ¹ is independently C ₁ to C ₁₀ hydrocarbyl or C ₁ to C ₁₀ halogen-substituted hydrocarbyl,
l is 0 to 0.2, m is 0 to 0.5, n is 0 to 0.6, p is 0 to 0.7, q is 0 to 0.9, r is 0 to 0.999, s is 0 to 0.5, v Is 0 to 0.05, w is 0 to 0.05, x is 0 to 0.45, y is 0 to 0.63, z is 0 to 0.25, m + n is 0.001 to 0.58, q + r + s is 0.42 To 0.999, (p + 2q + 3r + 4s) / (3m + 2n) is 1.01 to 1000, and l + m + n + p + q + r + s

1 and a is 0, 1 or 2. 제1항에 있어서, 성분(A)가 성분(A)(i)인, 보로실록산 조성물. The bolosiloxane composition of claim 1 wherein component (A) is component (A) (i). 제1항에 있어서, 성분(A)가 성분(A)(ii)인, 보로실록산 조성물. The bolosiloxane composition of claim 1 wherein component (A) is component (A) (ii). 보로실록산의 경화된 생성물을 포함하는 보로실록산 접착제로서,
상기 보로실록산이 하나 이상의 화학식 I의 폴리보로실록산, 하나 이상의 화학식 II의 보로실록산 화합물(단, 상기 보로실록산 화합물은 분자당 평균 2개 이상의 알케닐 그룹을 갖는다), 및 하나 이상의 화학식 I의 폴리보로실록산과 하나 이상의 화학식 II의 보로실록산 화합물을 포함하는 혼합물(단, 상기 혼합물 중의 상기 폴리보로실록산과 상기 보로실록산 화합물은 각각 분자당 평균 2개 이상의 알케닐 그룹을 갖는다)로부터 선택되는, 보로실록산의 경화된 생성물을 포함하는 보로실록산 접착제.
화학식 I
(R¹ ₂BO_{1 /2})_l[(BO_(3-v)/2)(OH)_v]_m[(R¹BO_(2-w)/2)(OH)_w]_n(R¹ ₃SiO_{1 /2})_p[(R¹ ₂SiO_(2-x)/2)(OH)_x]_q[(R¹SiO_(3-y)/2)(OH)_y]_r[(SiO_(4-z)/2)(OH)_z]_s
화학식 II
R¹ _aB(OSiR¹ ₃)_3-a
위의 화학식 I 및 화학식 II에서,
각각의 R¹은 독립적으로 C₁ 내지 C₁₀ 하이드로카빌 또는 C₁ 내지 C₁₀ 할로겐-치환된 하이드로카빌이고,
l은 0 내지 0.2이고, m은 0 내지 0.5이고, n은 0 내지 0.6이고, p는 0 내지 0.7이고, q는 0 내지 0.9이고, r은 0 내지 0.999이고, s는 0 내지 0.5이고, v는 0 내지 0.05이고, w는 0 내지 0.05이고, x는 0 내지 0.45이고, y는 0 내지 0.63이고, z는 0 내지 0.25이고, m+n은 0.001 내지 0.58이고, q+r+s는 0.42 내지 0.999이고, (p+2q+3r+4s)/(3m+2n)은 1.01 내지 1000이고, l+m+n+p+q+r+s

1이고, a는 0, 1 또는 2이다.A borosiloxane adhesive comprising a cured product of bolosiloxane,
Wherein the bolosiloxane is at least one polyborosiloxane of Formula (I), at least one borosiloxane compound of Formula (II), provided that the borosiloxane compound has an average of at least two alkenyl groups per molecule, and at least one poly of Formula (I) Is selected from a mixture comprising bolosiloxane and at least one bolosiloxane compound of formula (II), provided that the polyborosiloxane and the bolosiloxane compound in the mixture each have an average of at least two alkenyl groups per molecule A bolosiloxane adhesive comprising a cured product of bolosiloxane.
Formula I
^{_{(R 1 2 BO 1/2}} ) l [(BO (3-v) / 2) (OH) v] m [(R 1 BO (2-w) / 2) (OH) w] n (R 1 3 _{SiO 1/2) p [(} R 1 2 SiO (2-x) / 2) (OH) x] q [(R 1 SiO (3-y) / 2) (OH) y] r [(SiO (4 _{-z) / 2} ) (OH) _z ] _s
Formula II
R ¹ _a B (OSiR ¹ ₃ ) _3-a
In Formula I and Formula II above,
Each R ¹ is independently C ₁ to C ₁₀ hydrocarbyl or C ₁ to C ₁₀ halogen-substituted hydrocarbyl,
l is 0 to 0.2, m is 0 to 0.5, n is 0 to 0.6, p is 0 to 0.7, q is 0 to 0.9, r is 0 to 0.999, s is 0 to 0.5, v Is 0 to 0.05, w is 0 to 0.05, x is 0 to 0.45, y is 0 to 0.63, z is 0 to 0.25, m + n is 0.001 to 0.58, q + r + s is 0.42 To 0.999, (p + 2q + 3r + 4s) / (3m + 2n) is 1.01 to 1000, and l + m + n + p + q + r + s

1 and a is 0, 1 or 2. 제4항에 있어서, 상기 보로실록산이 하나 이상의 화학식 I의 폴리보로실록산인, 보로실록산 접착제.The borosiloxane adhesive of claim 4, wherein the borosiloxane is at least one polyborosiloxane of Formula (I). 제4항에 있어서, 상기 보로실록산이 하나 이상의 화학식 II의 보로실록산 화합물이며, 단, 상기 보로실록산 화합물이 분자당 평균 2개 이상의 알케닐 그룹을 갖는, 보로실록산 접착제.The borosiloxane adhesive according to claim 4, wherein the bolosiloxane is at least one borosiloxane compound of formula (II), provided that the borosiloxane compound has an average of at least two alkenyl groups per molecule. 기판, 및 상기 기판 표면의 적어도 일부 위의 보로실록산 접착제 코팅을 포함하는 코팅된 기판으로서,
상기 접착제 코팅이 보로실록산의 경화된 생성물을 포함하며, 상기 보로실록산이 하나 이상의 화학식 I의 폴리보로실록산, 하나 이상의 화학식 II의 보로실록산 화합물(단, 상기 보로실록산 화합물은 분자당 평균 2개 이상의 알케닐 그룹을 갖는다), 및 하나 이상의 화학식 I의 폴리보로실록산과 하나 이상의 화학식 II의 보로실록산 화합물을 포함하는 혼합물(단, 상기 혼합물 중의 상기 폴리보로실록산과 상기 보로실록산 화합물은 각각 분자당 평균 2개 이상의 알케닐 그룹을 갖는다)로부터 선택되는, 코팅된 기판.
화학식 I
(R¹ ₂BO_{1 /2})_l[(BO_(3-v)/2)(OH)_v]_m[(R¹BO_(2-w)/2)(OH)_w]_n(R¹ ₃SiO_{1 /2})_p[(R¹ ₂SiO_(2-x)/2)(OH)_x]_q[(R¹SiO_(3-y)/2)(OH)_y]_r[(SiO_(4-z)/2)(OH)_z]_s
화학식 II
R¹ _aB(OSiR¹ ₃)_3-a
위의 화학식 I 및 화학식 II에서,
각각의 R¹은 독립적으로 C₁ 내지 C₁₀ 하이드로카빌 또는 C₁ 내지 C₁₀ 할로겐-치환된 하이드로카빌이고,
l은 0 내지 0.2이고, m은 0 내지 0.5이고, n은 0 내지 0.6이고, p는 0 내지 0.7이고, q는 0 내지 0.9이고, r은 0 내지 0.999이고, s는 0 내지 0.5이고, v는 0 내지 0.05이고, w는 0 내지 0.05이고, x는 0 내지 0.45이고, y는 0 내지 0.63이고, z는 0 내지 0.25이고, m+n은 0.001 내지 0.58이고, q+r+s는 0.42 내지 0.999이고, (p+2q+3r+4s)/(3m+2n)은 1.01 내지 1000이고, l+m+n+p+q+r+s

1이고, a는 0, 1 또는 2이다.A coated substrate comprising a substrate, and a bolosiloxane adhesive coating on at least a portion of the substrate surface, the substrate comprising:
Wherein the adhesive coating comprises a cured product of borosilicate, wherein the borosisiloxane is at least one polyborosiloxane of formula (I), at least one borosilicate compound of formula (II), provided that the borosiloxane compound has an average of at least two per molecule An alkenyl group), and a mixture comprising at least one polyborosiloxane of Formula (I) and at least one borosiloxane compound of Formula (II), provided that the polyborosiloxane and the bolosiloxane compound in the mixture are each Coated substrate) having an average of at least two alkenyl groups.
Formula I
^{_{(R 1 2 BO 1/2}} ) l [(BO (3-v) / 2) (OH) v] m [(R 1 BO (2-w) / 2) (OH) w] n (R 1 3 _{SiO 1/2) p [(} R 1 2 SiO (2-x) / 2) (OH) x] q [(R 1 SiO (3-y) / 2) (OH) y] r [(SiO (4 _{-z) / 2} ) (OH) _z ] _s
Formula II
R ¹ _a B (OSiR ¹ ₃ ) _3-a
In Formula I and Formula II above,
Each R ¹ is independently C ₁ to C ₁₀ hydrocarbyl or C ₁ to C ₁₀ halogen-substituted hydrocarbyl,
l is 0 to 0.2, m is 0 to 0.5, n is 0 to 0.6, p is 0 to 0.7, q is 0 to 0.9, r is 0 to 0.999, s is 0 to 0.5, v Is 0 to 0.05, w is 0 to 0.05, x is 0 to 0.45, y is 0 to 0.63, z is 0 to 0.25, m + n is 0.001 to 0.58, q + r + s is 0.42 To 0.999, (p + 2q + 3r + 4s) / (3m + 2n) is 1.01 to 1000, and l + m + n + p + q + r + s

1 and a is 0, 1 or 2. 제7항에 있어서, 상기 보로실록산이 하나 이상의 화학식 I의 폴리보로실록산인, 코팅된 기판.The coated substrate of claim 7, wherein the borosiloxane is at least one polyborosiloxane of formula (I). 제7항에 있어서, 상기 보로실록산이 하나 이상의 화학식 II의 보로실록산 화합물이며, 단, 상기 보로실록산 화합물이 분자당 평균 2개 이상의 알케닐 그룹을 갖는, 코팅된 기판.The coated substrate of claim 7, wherein the bolosiloxane is at least one borosisiloxane compound of formula II, provided that the bolosiloxane compound has an average of at least two alkenyl groups per molecule. 제7항에 있어서, 상기 기판이 유리 및 보강된 실리콘 수지 필름으로부터 선택되는, 코팅된 기판.The coated substrate of claim 7, wherein the substrate is selected from glass and reinforced silicone resin film. 제1 기판;
상기 제1 기판을 오버라잉한(overlying) 하나 이상의 추가의 기판; 및
각각의 기판의 하나 이상의 표면의 적어도 일부 위의 보로실록산 접착제 코팅을 포함하는 적층 기판으로서,
단, 상기 접착제 코팅의 적어도 일부는 인접한 기판들의 대향 표면들 사이에 있고 대향 표면들과 직접 접촉되어 있으며, 상기 접착제 코팅이 보로실록산의 경화된 생성물을 포함하며, 상기 보로실록산이 하나 이상의 화학식 I의 폴리보로실록산, 하나 이상의 화학식 II의 보로실록산 화합물(단, 상기 보로실록산 화합물은 분자당 평균 2개 이상의 알케닐 그룹을 갖는다), 및 하나 이상의 화학식 I의 폴리보로실록산과 하나 이상의 화학식 II의 보로실록산 화합물을 포함하는 혼합물(단, 상기 혼합물 중의 상기 폴리보로실록산과 상기 보로실록산 화합물은 각각 분자당 평균 2개 이상의 알케닐 그룹을 갖는다)로부터 선택되는, 적층 기판.
화학식 I
(R¹ ₂BO_{1 /2})_l[(BO_(3-v)/2)(OH)_v]_m[(R¹BO_(2-w)/2)(OH)_w]_n(R¹ ₃SiO_{1 /2})_p[(R¹ ₂SiO_(2-x)/2)(OH)_x]_q[(R¹SiO_(3-y)/2)(OH)_y]_r[(SiO_(4-z)/2)(OH)_z]_s
화학식 II
R¹ _aB(OSiR¹ ₃)_3-a
위의 화학식 I 및 화학식 II에서,
각각의 R¹은 독립적으로 C₁ 내지 C₁₀ 하이드로카빌 또는 C₁ 내지 C₁₀ 할로겐-치환된 하이드로카빌이고,
l은 0 내지 0.2이고, m은 0 내지 0.5이고, n은 0 내지 0.6이고, p는 0 내지 0.7이고, q는 0 내지 0.9이고, r은 0 내지 0.999이고, s는 0 내지 0.5이고, v는 0 내지 0.05이고, w는 0 내지 0.05이고, x는 0 내지 0.45이고, y는 0 내지 0.63이고, z는 0 내지 0.25이고, m+n은 0.001 내지 0.58이고, q+r+s는 0.42 내지 0.999이고, (p+2q+3r+4s)/(3m+2n)은 1.01 내지 1000이고, l+m+n+p+q+r+s

1이고, a는 0, 1 또는 2이다.A first substrate;
One or more additional substrates overlying the first substrate; And
A laminated substrate comprising a bolosiloxane adhesive coating on at least a portion of one or more surfaces of each substrate,
Provided that at least a portion of the adhesive coating is between opposing surfaces of the adjacent substrates and is in direct contact with the opposing surfaces, wherein the adhesive coating comprises a cured product of borosilicate, wherein the bolosiloxane is of at least one Polyborosiloxane, at least one borosiloxane compound of formula (II), provided that the borosiloxane compound has an average of at least two alkenyl groups per molecule, and at least one polyborosiloxane of formula (I) and at least one Wherein the polyborosiloxane and the bolosiloxane compound in the mixture each have an average of at least two alkenyl groups per molecule).
Formula I
^{_{(R 1 2 BO 1/2}} ) l [(BO (3-v) / 2) (OH) v] m [(R 1 BO (2-w) / 2) (OH) w] n (R 1 3 _{SiO 1/2) p [(} r 1 2 SiO (2-x) / 2) (OH) x] q [(r 1 SiO (3-y) / 2) (OH) y] r [(SiO (4 _{-z) / 2} ) (OH) _z ] _s
Formula II
R ¹ _a B (OSiR ¹ ₃ ) _3-a
In Formula I and Formula II above,
Each R ¹ is independently C ₁ to C ₁₀ hydrocarbyl or C ₁ to C ₁₀ halogen-substituted hydrocarbyl,
l is 0 to 0.2, m is 0 to 0.5, n is 0 to 0.6, p is 0 to 0.7, q is 0 to 0.9, r is 0 to 0.999, s is 0 to 0.5, v Is 0 to 0.05, w is 0 to 0.05, x is 0 to 0.45, y is 0 to 0.63, z is 0 to 0.25, m + n is 0.001 to 0.58, q + r + s is 0.42 To 0.999, (p + 2q + 3r + 4s) / (3m + 2n) is 1.01 to 1000, and l + m + n + p + q + r + s

1 and a is 0, 1 or 2. 제11항에 있어서, 상기 보로실록산이 하나 이상의 화학식 I의 폴리보로실록산인, 적층 기판.The laminated substrate of claim 11, wherein the borosiloxane is at least one polyborosiloxane of formula (I). 제11항에 있어서, 상기 보로실록산이 하나 이상의 화학식 II의 보로실록산 화합물이며, 단, 상기 보로실록산 화합물이 분자당 평균 2개 이상의 알케닐 그룹을 갖는, 적층 기판.12. The laminated substrate of claim 11, wherein said bolosiloxane is at least one borosiloxane compound of formula (II), provided that said bolosiloxane compound has an average of at least two alkenyl groups per molecule. 제11항에 있어서, 상기 기판들 중의 하나 이상이 유리인, 적층 기판.The laminated substrate of claim 11, wherein at least one of the substrates is glass. 제11항에 있어서, 상기 기판들 중의 하나 이상이 보강된 실리콘 수지 필름인, 적층 기판.The laminated substrate according to claim 11, wherein at least one of the substrates is a reinforced silicone resin film.

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