KR20100075218A

KR20100075218A - 전극형성용 페이스트 조성물 및 이를 이용하여 제조된 플라즈마 디스플레이 패널용 전극

Info

Publication number: KR20100075218A
Application number: KR1020080133854A
Authority: KR
Inventors: 박민수; 김현돈; 이병철; 신동일; 이원희
Original assignee: 제일모직주식회사
Priority date: 2008-12-24
Filing date: 2008-12-24
Publication date: 2010-07-02

Abstract

본 발명은 플라즈마 디스플레이 패널의 하판 전극용 감광성 페이스트에 사용되는 솔트(salt)형상으로 하고 유리프릿의 함량을 조절함으로써 은 입자의 소결 특성을 향상시켜 전극 패턴의 소성막을 치밀하게 형성하며, 뛰어난 저항 특성과 아울러 미세패턴 형성이 가능한 전극형성용 페이스트 조성물, 이를 이용하여 제조한 플라즈마 디스플레이 패널용 전극 및 플라즈마 디스플레이 패널에 관한 것이다.

본 발명의 전극은 a) 유기 바인더; b) 판상(platy)이나 구상(spherical)이 아닌 다면체 형상으로서 적어도 4면체 이상의 면을 가지는 솔트(salt)형상의 은(Ag) 분말; c) 유리프릿; d) 광중합성 화합물; e) 광개시제; 및 f)용제를 포함하는 전극 페이스트(paste) 조성물로 형성된다.

전극 페이스트, 플라즈마 디스플레이 패널용 전극, 플라즈마 디스플레이 패널

Description

전극형성용 페이스트 조성물 및 이를 이용하여 제조된 플라즈마 디스플레이 패널용 전극{COMPOSITION OF PASTE FOR FABRICATING THE ELECTRODE AND PLASMA DISPLAY PANEL ELECTRODE FABRICATED USING THE SAME}

본 발명은 전극형성용 페이스트 조성물, 이를 이용한 플라즈마 디스플레이 패널용 전극, 그 제조 방법 및 이를 이용한 플라즈마 디스플레이 패널에 관한 것이다.

PDP는 플라즈마 방전에 의한 발광을 이용하여 영상이나 정보를 표시하는 평면 디스플레이로서 패널의 구동 방식에 따라 DC형과 AC형으로 분류한다. PDP의 표시는 격벽(LIB)으로 구분되는 전면유리 기판과 배면유리 기판에 형성되는 두 전극간의 셀(Cell) 공간안에서 플라즈마 방전이 발생되고, 각 셀 공간에서 봉입된 Ne 나 Xe 등의 가스의 방전에 의해 발생되는 자외선으로 배면 유리기판내의 형광체가 여기되고, R.G.B 3.색의 가시광선을 발생하는 것이다. PDP셀은 전면유리 기판상에 형성된 버스(BUS)전극, 상부유전층, 보호막으로 구성되는 상판과 배면유리 기판상에 형성된 어드레스(ADDRESS)전극, 하유전체, 격벽, 형광체층으로 구성된 하판으로 구성되어 있다.

이와 같이 PDP의 구조에 있어서, 화질향상을 위한 전극의 패턴가공에 있어서 고밀도화, 고정밀화의 고정세화가 요구되어 지고 있으며, 최근에는 FHD급에서 QFHD급으로 전극의 초고정세화가 요구되어지고 있다. 이러한 전극의 패터닝 형성방법은 포토리소그래피(Photo Lithography)법과 옵셋인쇄법(Off-set) 등이 사용되고 있으나 QFHD급의 초고정세화면은 포토리소그래피법이 적용되고 있다.

기존의 PDP용 전극 형성방법이 가지고 있는 문제점은 포토리소그래피법을 적용함에 있어 심부 노광을 위해 일정 이상의 크기를 갖는 구형 분말 타입의 은 분말을 사용할 수 밖에 없었기 때문에 패턴의 저항 특성은 물론 미세화를 실현하는데 있어 제약이 있다. 이에 어드레스 전극의 초고정세 패턴 형성에 있어서 문제시 되었던 은 분말의 크기 및 형태 조절이 가능하고, 심부노광 특성이 뛰어난 전극재료가 필요하다. 또한 PDP의 QFHD 실현을 위해 패턴의 저항 특성을 향상시켜 좁은 선폭에서도 충분한 저항 값을 갖는 전극재료가 필요하다.

최근 디스플레이화면의 대면적화, 초고정세화에 따라 전극재료의 균일한 품질 특성이 중요한 역할을 하고 있으며, 고생산성 향상을 통한 저가격화가 가능하여야 상업적 가치를 확보할 수 있다. 이점에서 본 발명에 적용된 어드레스 전극은 PDP패널 제조시 초고정세화가 가능한 미세패턴의 형성과 아울러 은 분말의 소결시 입자간의 접촉면을 증가함으로써 뛰어난 저항 특성을 갖는 감광성 페이스트 제조에 기여할 수 있다.

본 발명의 목적은 플라즈마 디스플레이 패널용 전극의 조성에 있어서 전도성 분말로서 솔트(salt)형상의 은(Ag) 분말, 유기 바인더, 광중합성 화합물, 광개시제 및 용제를 포함하는 유기 비이클(Organic Vehicle)과 UV투과도가 양호한 유리프릿 분말을 사용한 전극 페이스트를 제공함으로써 초고정세화 가능한 감광성 전극 및 이에 대한 제조 방법을 제공하는 데에 있다.

또한 본 발명의 다른 목적은 본 발명에 적용된 전극을 통해 PDP패널 제조시 초고정세화가 가능한 미세패턴의 형성과 아울러 은 분말의 소결시 입자간의 접촉면을 증가함으로써 뛰어난 저항 특성을 갖는 플라즈마 디스플레이 패널을 제공하는데에 있다.

본 발명이 이루고자 하는 기술적 과제들은 이상에서 언급한 기술적 과제들로 제한되지 않으며, 언급되지 않은 또 다른 기술적 과제들은 아래의 기재로부터 당업자에게 명확하게 이해될 수 있을 것이다.

본 발명의 하나의 목적을 달성하기 위한 일 실시예는 a) 유기 바인더; b) 판상(platy)이나 구상(spherical)이 아닌 다면체 형상으로서 적어도 4면체 이상의 면을 가지는 솔트(salt)형상의 은(Ag) 분말; c) 유리프릿; d) 광중합성 화합물; e) 광개시제; 및 f)용제 를 포함하는 전극 페이스트(paste) 조성물을 제공한다.

본 발명의 또 다른 목적을 달성하기 위한 일 실시예는 상기 조성물로 이루어 진 플라즈마 디스플레이 패널용 전극을 제공한다.

아울러, 본 발명의 또 다른 목적을 달성하기 위한 플라즈마 디스플레이 패널은 상기 조성물로 형성된 전극을 포함하는 것을 특징으로 한다.

본 발명에 따른 감광성 페이스트 조성물에 의한 플라즈마 디스플레이 패널용 전극은 기존의 인쇄법, 건조, 노광, 현상, 소성 공정을 거쳐 전극 형성시 은 입자간의 접촉면을 증가시켜 치밀한 소성막의 형성을 유도할 수 있다.

또한 뛰어난 저항 특성을 부여함은 물론 광개시제의 함량을 조절하여 UV 광중합을 향상시켜 심부까지 치밀한 광경화 반응이 도달되도록 하여 현상시 패턴의 탈막을 억제시켜 미세 패턴의 형성이 가능한 플라즈마 디스플레이 패널용 전극을 제공할 수 있다.

본 발명의 이점 및 특징, 그리고 그것들을 달성하는 방법은 첨부되는 도면과 함께 상세하게 후술되어 있는 실시예들을 참조하면 명확해질 것이다. 그러나, 본 발명은 이하에서 개시되는 실시예들에 한정되는 것이 아니라 서로 다른 다양한 형태로 구현될 것이며, 단지 본 실시예들은 본 발명의 개시가 완전하도록 하며, 본 발명이 속하는 기술분야에서 통상의 지식을 가진 자에게 발명의 범주를 완전하게 알려주기 위해 제공되는 것이며, 본 발명은 청구항의 범주에 의해 정의될 뿐이다.

본 발명의 실시예에 따른 전극 형성용 페이스트 조성물은 전도성 물질, 유리프릿, 유기바인더, 광중합성 화합물, 광개시제 및 용제를 포함한다.

상기 전도성 물질로는 구상(spherical)형상, 침상(flake)형상, 판상(platy)형상이 아닌 다면체 형상으로써 적어도 4면체 이상의 면을 가지는 솔트(salt)형상의 은 분말을 사용한다. 솔트형상에 대해서는 도 2에 도시된 바와 같다. 다만 필요에 따라서는 솔트(salt)형상 외에 구형, 침상형 또는 판상형의 은 분말을 일부 혼용하여 사용할 수도 있다. 상기와 같은 솔트형상의 은 분말은 구형 은 분말보다 우수한 전기전도도를 갖는다. 또한 솔트형상의 은 분말은 판형상의 은 분말보다 노광(광경화형)으로 사용하는데 유리한 특성을 갖는다.

상기 은 분말의 경우, 평균 입자 직경(D50)은 사용 막 두께를 고려하여 0.1~5㎛ 이하인 것이 좋다. 보다 바람직하게는 0.2~3㎛이하인 것이 좋다. 상기 전도성 물질의 함량은 조성물 전체 중량의 30~80중량% 보다 바람직하게는 40~75중량%이다. 전도성 물질의 함량이 30중량% 미만인 경우, 저항의 증가로 방전 전압이 높아지게 되고, 노광, 현상 공정시 핀홀이나 갈라짐, 전극 단락 등의 문제를 유발할 수 있다. 전도성 물질의 함량이 80중량%를 초과하면 유기 바인더의 양이 상대적으로 적어져 페이스트화가 어렵고 유리프릿의 함량이 적어져 유리기판과의 접착성이 떨어지고, 소결성이 나빠질 수 있다.

본 발명에서 사용되는 유리프릿의 함량은 조성물 전체 중량의 1~20중량%, 보다 바람직하게는 2~15중량%이다. 유리프릿의 함량이 1중량% 미만이면, 전도성 물질과 유리기판과의 부착력이 낮아져 전압 인가시 단자부위에 전도성 물질의 마이그레 이션이 발생하여 숏트불량으로 인한 PDP어드레스 전극에 수직줄 불량을 야기할 수 있다. 유리프릿의 함량이 20중량%를 초과하면 소성 후 남아 있는 유리프릿의 양이 과다하게 분포되어 저항을 상승시키는 문제가 있을 수 있다.

또한 유리프릿의 성분으로서 Bi₂O₃, B₂O₃, SiO₂, Al₂O₃, P₂O₅로부터 선택되는 금속산화물 또는 이들의 복합금속 산화물 중 하나 이상의 성분을 유리프릿 전체 조성에 대하여 1~20 중량% 포함하고 있다. 유리프릿의 연화온도는 300~600℃이다. 유리프릿의 UV투과도는 400nm에서 10%이상의 투과도를 가지는 것으로 하는 것이 바람직하다.

본 발명에서 유기 바인더는 전극을 형성하는 전도성 물질 및 유리프릿을 분산시켜 결합하는 역할과 인쇄, 건조 후 소성 전까지 유리기판과 접합성을 부여해주는 역할을 한다.

유기 바인더로는 알칼리 현상성을 부여하기 위한 카르복실기(Carboxyl Group) 등의 친수성을 가지는 아크릴 모노머로 공중합시킨 아크릴계 고분자 이외에 에틸 셀룰로오즈(Ethyl Cellulose), 히드록시에틸 셀룰로오즈(Hydroxyethyl Cellulose), 히드록시프로필 셀룰로오즈(Hydroxypropyl Cellulose) 또는 히드록시에틸히드록시프로필 셀룰로오즈(Hydroxyethylhydroxypropyl) 등의 셀룰로오즈계 고분자들을 각각 단독 또는 2종 이상 혼합하여 사용할 수 있다.

상기 유기 바인더의 함량은 조성물 전체 중량의 1~20중량%, 바람직하게는 5~15중량%이다. 유기 바인더의 함량이 1중량% 미만인 경우, 페이스트 제조 후 점도 가 너무 낮아지거나 인쇄, 건조 후에 유리 기판과의 접착력이 저하될 수 있고, 광경화반응에 의한 패턴 형성시 전도물질의 UV산란 또는 반사 또는 유리프릿의 UV흡수 또는 산란으로 인해 고해상도의 패턴형성이 불가능하게 된다. 유기 바인더의 함량이 20중량%를 초과하면, 유기 바인더가 과다하게 존재하여 소성 시 유기 바인더의 분해가 원활히 이뤄지지 않아 저항이 높아지고 소성공정시 전극의 갈라짐, 오픈, 핀홀 발생등의 문제점이 발생하며, 전극과 하유전체의 동시소성시 하유전체 표면의 기포발생 증가되는 단점이 발생될 수 있다.

본 발명에서 상기 광중합성 화합물은 감광성 수지 조성물에 사용되는 다관능성 모노머 또는 올리고머로서, 예를들면, 에틸렌글리콜디아크릴레이트, 트리에틸렌글리콜디아크릴레이트, 1,4-부탄디올디아크릴레이트, 1,6-헥산디올디아크릴레이트, 네오펜틸글리콜디아크릴레이트, 펜타에리트리톨디아크릴레이트, 펜타에리트리톨트리아크릴레이트, 디펜타에리트리톨디아크릴레이트, 디펜타에리트리톨트리아크릴레이트, 디펜타에리트리톨펜타아크릴레이트, 디펜타에리트리톨헥사아크릴레이트,비스페놀 A 디아크릴레이트, 트리메틸롤프로판트리아크릴레이트, 노블락에폭시아크릴레이트, 에틸렌글리콜디메타크릴레이트, 디에틸렌글리콜디메타크릴레이트, 트리에틸렌글리콜디메타크릴레이트, 프로필렌글리콜디메타크릴레이트, 1,4-부탄디올디메타크릴레이트, 및 1,6-헥산디올디메타크릴레이트로 이루어진 군으로부터 1종 이상 선택한 것을 사용할 수 있다.

상기 광중합성 화합물의 함량은 상기 전극 형성용 조성물 전체 중량의 1~20 중량%인 것이 바람직하다. 함량이 1중량% 미만인 경우, 광경화가 완벽히 이뤄지지 않아 현상 시 패턴 탈락의 문제가 발생 될 수 있고, 20중량%를 초과하면, 다관능성 모노머 혹은 올리고머의 양이 많아 소성 시 유기물의 분해의 문제가 발생될 수 있어 저항 상승 문제가 있을 수 있다.

또한, 본 발명에서 상기 광개시제는 200 내지 400nm의 자외선 파장대에서 우수한 광반응을 나타낼 수 있는 것이라면 어떤 것이나 사용될 수 있다.

상기에서 광중합 개시제의 첨가량은 상기 전극형성용 조성물 전체 중량의 0.1~15 중량%를 첨가하는 것이 바람직하다.

상기 광개시제의 함량이 0.1중량% 미만인 경우, 광경화가 완벽히 이뤄지지 않아 현상 시 패턴 탈락의 문제가 발생 될 수 있고, 15중량%를 초과하면, 다관능성 모노머 혹은 올리고머의 양이 많아 소성 시 유기물의 분해의 문제가 발생될 수 있어 저항 상승 문제가 있을 수 있다.

본 발명에서 사용되는 용제는 전극형성용 조성물에서 범용적으로 사용되는 100℃ 이상의 비점을 갖는 것으로, 메틸 셀로솔브(Methyl Cellosolve), 에틸 셀로솔브(Ethyl Cellosolve), 부틸 셀로솔브(Butyl Cellosolve), 지방족 알코올(Alcohol), α-터피네올(Terpineol), β-터피네올, 다이하이드로 터피네올(Dihydro-terpineol), 에틸렌 글리콜(Ethylene Grycol), 에틸렌 글리콜 모노 부틸 에테르(Ethylene glycol mono butyl ether), 부틸셀로솔브 아세테이트(Butyl Cellosolve acetate), 텍사놀(Texanol) 등이 있으며, 이들을 단독 또는 2종 이상 혼합하여 사용할 수 있다.

상기 용제의 함량은 특별히 한정되지 않고, 조성물 중 잔부의 양으로 포함될 수 있으며, 조성물의 점도조절에 있어, 바람직하게는 조성물 전체 중량의 3~20중량%의 범위로 사용한다.

또한, 본 발명에서는 전극조성물의 유동 특성 및 공정 특성, 안정성을 향상시키기 위하여 필요에 따라 자외선 안정제, 점도 안정제, 소포제, 분산제, Leveling제, 산화방지제, 열중합금지제 등으로부터 선택된 1종 이상의 첨가제를 추가로 더 포함할 수 있으며, 이들은 모두 당해 기술분야에서 통상의 지식을 가진 자라면 상용적으로 구입하여 사용할 수 있을 정도로 공지된 것이므로 구체적인 예와 이에 대한 설명은 생략하기로 한다.

도 1은 본 발명의 실시예에 따른 조성물을 사용해서 제조된 플라즈마 디스플레이 패널을 나타내는 분해사시도이다.

도 1에 도시된 바와 같이 본 발명의 실시예에 따른 조성물을 사용해서 제조된 플라즈마 디스플레이 패널(10)은 전면기판(100)과 배면기판(150)을 포함한다.

상기 전면기판(100)과 배면기판(150)이 서로 대향하는 면의 전면기판(100)상에는 횡방향으로 배열되어 있는 투명전극(110)과 투명전극(110) 상에 형성되는 버스전극(112)이 형성되고 상기 투명전극(110) 상에는 패널 내부에서 발생된 전하를 저장하기 위한 제1유전체층(114)과 제1 유전체층(114)을 보호하고 전자방출을 용이하게 하기 위한 MgO층(118)이 형성되어 있다.

상기 전면기판(100)과 배면기판(150)이 서로 대향하는 면의 배면기판(150) 상에는 종방향으로 어드레스전극(117)이 형성되어 있으며, 어드레스전극(117)이 형 성된 배면기판(150) 상에는 제2 유전층(115)과, 상기 제2 유전체층(115) 상에는 내부에 RGB에 각각 해당하는 형광물질(132)이 형성되어 있는 격벽(120)이 형성되어 화소영역을 정의하고 있다.

이러한 전면기판(100)과 배면기판(150)의 사이 공간에는 Ne+Ar, Ne+Xe 와 같은 불활성 가스가 주입되어 상기 전극에 임계전압 이상의 전압 인가시 방전에 의해 빛을 발생하게 된다.

상기의 PDP 구조에 있어서, 버스전극(112) 또는/및 어드레스 전극(117)은 본 발명의 실시예에 따른 조성물을 이용하여 형성되는데, 구체적으로 스크린 인쇄법, 오프셋 인쇄법, 포토리소그래피법 중 하나의 방법에 의해 형성된다.

대표적으로 포토리소그래피(photolithography)법에 의해 전극을 형성하는 방법은 (a) 상기 조성물을 유리기판 상에 도포하는 단계; (b) 도포된 상기 조성물을 건조하는 단계; (c) 건조된 상기 조성물에 의해 형성된 조성물막에 자외선 노광공정을 실시하는 단계; (d) 상기 조성물막의 노광된 영역(positive type) 또는 노광되지 않은 영역(negative type)을 현상공정을 통해 제거하는 단계; 및 (e) 상기 조성물막 중 잔류하는 부분을 전조 및 소성시키는 단계를 포함하는 것을 특징으로 한다. 보다 구체적으로는 인쇄 단계에서 10~30㎛ 두께로 도포하는 단계, 80~150℃의 온도에서 약 15~50분간 건조하는 단계, 건조된 조성물 막 위에 포토마스크(photomask)를 사용하여 자외선 노광공정을 실시하는 단계, 경화막을 알칼리 현상공정을 통해 패턴을 형상하는 단계, 전극의 패턴이 형성된 막을 450 ~ 650℃의 온도에서 소성 시켜주는 단계후 하유전체를 인쇄, 건조후 소성하는 단계로 전극과 하유전체 공정이 이루어 진다. 본 발명에서는 상기 전극의 현상공정후 소성공정을 진행하지 않고, 하유전체를 인쇄, 건조후 전극과 하유전체를 동시에 소성공정을 진행할 수 있다는 점이다. 이하 본 발명의 실시예 및 비교예를 통해서 더욱 자세한 설명을 하면 다음과 같다. 이하의 실시예들은 본 발명을 입증하기 위한 예로서 본 발명의 범위를 국한시키는 것으로 이해되어져서는 안될 것이다.

1. 실시예 및 비교예

<실시예 1>

전도성 물질로서 솔트형 분말 타입의 평균입경 2.0㎛인 Ag분말(#11000-04, Ferro社)을 65g, 파장 400nm에서 15%이상의 투과도를 가지는 평균입경 2.5㎛의 유리프릿(POF-0158, PDE社) 5g, 유기바인더로서 POLY(METHYL METHACRYLATE-CO-METHACRYLIC ACID(일본합성社, P-118)을 7g, 광중합성 화합물로 디펜타에리스리톨 헥사아크릴레이트(일본 동아합성社, M-402) 1.5g과 펜타에리트리올 트리아크릴레이트(일본 동아합성社, M-305) 2.2g, 셀룰로오스 유도체인 HPC(Hydro propyl cellulose, DOW社)를 1.5g, 광개시제로서 2-메틸-4'-(메틸티오)-2-모르폴리노-프로피오페논(Ciba社: 이가큐어 907) 1g과 티타노센계 광중합개시제(Ciba社: 이가큐어 784)를 0.6g, 용제로서 Texanol(Eastmann社)을 16g 사용하여 혼합, 교반 후. 3-Roll-Mill을 사용하여 충분히 분산시켜 페이스트 조성물을 제조하였다.

<비교예 1>

실시예 1과 동일하게 제조하되, 전도성 물질로서 구형분말 타입의 평균입경 2.0㎛인 Ag분말(12A, Ferro社)을 65g 사용하였고, 조성성분은 표1과 같이 제조하였다.

<비교예 2>

실시예 1과 동일하게 제조하되, 전도성 물질로서 판상형(flake) 분말 타입의 평균입경 1.5㎛인 Ag분말(#15ED, Ferro社)을 65g 사용하였고, 조성성분은 표1과 같이 제조하였다.

상기 실시예 및 비교예에서 제조한 조성물의 조성비를 하기 표1에 나타내었다.

2. 물성평가

상기 실시예 1및 비교예 1~2에서 제조한 조성물을 이용하여 스크린 메쉬타입의 마스크로 SUS재질의 #400으로 인쇄한 후, 130도 온도의 IR건조로를 이용하여 20분간 건조한다. 이어 포토리소그래피법(Photolithography)으로 20, 30, 40, 50, 60, 80, 100, 120um의 전극패턴을 각 20개씩 형성후 0.4% 알칼리 수용액으로 현상한 후 전극 현상체를 570도 1.5시간 소성 한 다음 비저항, 패턴 Resolution, 핀홀, 오픈을 평가하고 그 결과를 하기 표 2에 나타내었다.

(1) 비저항 측정

형성된 전극 패턴에 대해 선저항 측정기(2000 Multimeter, KEITHLEY)를 이용하여 저항을 측정 한 후, 프로파일러(Profiler, P-10, TENCOR)를 사용하여 선폭 및 두께를 측정한다.

데이터 평가가 완료되면 아래의 식을 통하여 비저항 측정을 완료한다.

비저항= 선저항 (Ω) × 두께( cm ) × 너비( cm ) / 길이( cm )

(2) 패턴 Resolutin의 측정

형성된 전극 패턴에 대해 광학현미경을 이용하여 노광 마스크 선폭 대비 -10~+10%범위 이내의 패턴이 90%이상 존재할 경우 양호하다고 판단하고, 선폭범위를 벗어나거나 90%이하로 존재할 경우 불량으로 판정한다.

(3) 핀홀의 측정

형성된 전극 패턴에 대해 AOI이물 분석기를 사용하여 10um이상에 대해 핀홀로 간주하며 개수를 판정한다.

(4) 오픈/함몰의 측정

형성된 전극 패턴에 대해 광학현미경을 이용하여 직선 패턴내에 전극의 단선이 있을경우 오픈으로 판정을하고, 유전체 도포된 상태의 표면을 AOI이물 분석기를 사용하여 10㎛이상의 패인 부분에 대해 함몰로 간주하며 개수를 판정한다.

상기 표 2를 참조하면, 솔트형 은분말을 사용한 실시예 1이 구형의 은분말을 사용한 비교예 1에 비하여 낮은 비저항을 가짐으로써 보다 우수한 전기전도도를 가짐을 알 수 있었다. 또한, 판상형의 은분말을 사용한 비교예 2의 경우는 비저항은 솔트형 은분말을 사용한 것과 유사한 값을 가졌으나, 패턴 자체가 제대로 형성되지않아 패턴 Resolution, 핀홀, 오픈값을 측정할 수 가 없었다.

이상 첨부된 도면 및 표를 참조하여 본 발명의 실시예들을 설명하였으나, 본 발명은 상기 실시예들에 한정되는 것이 아니라 서로 다른 다양한 형태로 제조될 수 있으며, 본 발명이 속하는 기술분야에서 통상의 지식을 가진 자는 본 발명의 기술적 사상이나 필수적인 특징을 변경하지 않고서 다른 구체적인 형태로 실시될 수 있다는 것을 이해할 수 있을 것이다. 그러므로 이상에서 기술한 실시예들은 모든 면에서 예시적인 것이며 한정적이 아닌 것으로 이해해야만 한다.

도 2는 본 발명에 사용된 솔트형 은입자의 SEM 사진이다.

도 3는 본 발명에 사용된 구형 은입자의 SEM 사진이다.

도 4는 본 발명에 사용된 판상형 은입자의 SEM 사진이다.

도 5는 본 발명에 사용된 솔트형 은입자의 소성 패턴의 표면 SEM 사진이다.

도 6는 본 발명에 사용된 구형 은입자의 소성 패턴의 표면 SEM 사진이다

도 7은 본 발명에 사용된 솔트형 은입자의 현상 패턴의 표면 OM 사진이다

Claims

전도성 물질, 유기 바인더, 유리프릿, 광중합성 화합물, 광개시제 및 용제를 포함하는 전극 형성용 페이스트(paste)조성물에 있어서, 상기 전도성 물질이 다면체 형상으로 적어도 4면체 이상의 면을 가지는 솔트(salt)형상의 은(Ag) 분말인 것을 특징으로 하는 전극 형성용 페이스트(paste) 조성물.
제1항에 있어서,

상기 조성물은

a) 유기 바인더 1 ~ 20 중량%;

b) 전도성 물질 30 ~ 80 중량%;

c) 유리프릿 1 ~ 20 중량%;

d) 광중합성 화합물 1 ~ 20 중량%;

e) 광개시제 0.1 ~ 10 중량%; 및

f) 용제를 잔부량으로 포함하는 것을 특징으로 하는 전극 형성용 페이스트(paste) 조성물.
제1항에 있어서,

상기 전도성 물질의 평균 입자 직경이 0.1 ~ 5㎛인 것을 특징으로 하는 전극 형성용 페이스트(paste) 조성물.
제1항에 있어서,

상기 유리 프릿의 연화온도는 300~600℃이며, UV투과도는 400nm에서 10%이상인 것을 특징으로 하는 전극 형성용 페이스트(paste) 조성물.
제1항에 있어서,

상기 유기 바인더는 카르복실기(Carboxyl Group)와 같이 친수성을 가지는 아크릴 모노머로 공중합시킨 아크릴계 고분자와 에틸 셀룰로오즈(Ethyl Cellulose), 히드록시에틸 셀룰로오즈(Hydroxyethyl Cellulose), 히드록시프로필 셀룰로오즈(Hydroxypropyl Cellulose), 히드록시에틸히드록시프로필 셀룰로오즈(Hydroxyethylhydroxypropyl) 와 같은 셀룰로오즈계 고분자들중 단독 또는 2종 이상을 혼합하여 사용하는 것을 특징으로 하는 전극 형성용 페이스트(paste) 조성물.
제1항에 있어서,

용제는 100℃ 이상의 비점을 갖는 것으로, 메틸 셀로솔브(Methyl Cellosolve), 에틸 셀로솔브(Ethyl Cellosolve), 부틸 셀로솔브(Butyl Cellosolve), 지방족 알코올(Alcohol), α-터피네올(Terpineol), β-터피네올, 다이하이드로 터피네올(Dihydro-terpineol), 에틸렌 글리콜(Ethylene Grycol), 에틸렌 글리콜 모노 부틸 에테르(Ethylene glycol mono butyl ether), 부틸셀로솔브 아 세테이트(Butyl Cellosolve acetate), 텍사놀(Texanol) 중 단독 또는 2종 이상을 혼합하여 사용 하는 것을 특징으로 하는 전극 형성용 페이스트(paste) 조성물.
제 1항에 있어서,

상기 광중합성 화합물은 에틸렌글리콜디아크릴레이트, 트리에틸렌글리콜디아크릴레이트, 1,4-부탄디올디아크릴레이트, 1,6-헥산디올디아크릴레이트, 네오펜틸글리콜디아크릴레이트, 펜타에리트리톨디아크릴레이트, 펜타에리트리톨트리아크릴레이트, 디펜타에리트리톨디아크릴레이트, 디펜타에리트리톨트리아크릴레이트, 디펜타에리트리톨펜타아크릴레이트, 디펜타에리트리톨헥사아크릴레이트,비스페놀 A 디아크릴레이트, 트리메틸롤프로판트리아크릴레이트, 노블락에폭시아크릴레이트, 에틸렌글리콜디메타크릴레이트, 디에틸렌글리콜디메타크릴레이트, 트리에틸렌글리콜디메타크릴레이트, 프로필렌글리콜디메타크릴레이트, 1,4-부탄디올디메타크릴레이트, 및 1,6-헥산디올디메타크릴레이트로 이루어진 군으로부터 1종 이상 선택하는 것을 특징으로 하는 전극 형성용 페이스트(paste) 조성물.
제1항에 있어서,

상기 광중합 개시제는 벤조페논계, 아세토페논계, 트리아진계 화합물로 이루어진 군으로부터 1종 이상 선택하는 것을 특징으로 하는 전극 형성용 페이스트(paste) 조성물.
제1항 내지 제9항의 전극 형성용 페이스트 조성물로 형성된 플라즈마 디스플레이 패널용 전극.