KR20100074024A - Reflection preventing film - Google Patents
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Abstract
Description
본 발명은 플라즈마 디스플레이 패널(PDP), 액정 디스플레이 패널(LDP) 등에 적용되고, 투명기재 필름상의 반사 방지층이 단일층 구성으로 충분한 반사 방지 성능을 가지는 반사 방지 필름에 관한 것이다.BACKGROUND OF THE INVENTION 1. Field of the Invention The present invention is applied to a plasma display panel (PDP), a liquid crystal display panel (LDP), and the like, and relates to an antireflection film having an antireflection performance in a single layer configuration in which an antireflection layer on a transparent base film is provided.
최근, 플라즈마 디스플레이 패널, 액정 디스플레이 등의 전자 화상 표시장치(전자 디스플레이)는 텔레비전이나 모니터 등의 용도로서 현저한 진보를 이루어 널리 사용되고 있다. 이들 전자 화상 표시장치의 대형화에 동반하여, 외광의 반사에 의한 시인성 저하가 문제되고 있다. 시인성 저하의 문제점을 해결하기 위해, 투명기재 필름의 표면에 반사 방지층을 마련한 반사 방지 필름을 디스플레이 표면에 부착하여 시인성을 높이는 방법이 일반적으로 채용되고 있다.In recent years, electronic image display devices (electronic displays) such as plasma display panels and liquid crystal displays have made remarkable advances in applications such as televisions and monitors, and are widely used. Along with the enlargement of these electronic image display apparatuses, the visibility deterioration by reflection of external light is a problem. In order to solve the problem of visibility deterioration, the method of attaching the anti-reflective film which provided the anti-reflective layer on the surface of a transparent base film to the display surface is generally employ | adopted.
종래 반사 방지 필름에 구비되는 반사 방지층은 반사 방지 성능을 얻기 위하여, 고굴절률층과 저굴절률층을 복수층 적층시킨 다층 구성이 일반적이었다. 하지만, 상대적으로 저굴절률인 재료를 이용하면, 저굴절률층만의 단일층 구성이라도 넓은 가시광선 파장영역에 있어서 반사를 억제하는 것이 가능해진다. 또한, 단일층 구성의 반사 방지 필름은 다층 구성의 반사 방지 필름에 비해 층 구성이 간단하기 때문에, 생산성의 측면에서 우수하다.The antireflection layer provided in the conventional antireflection film has a general multilayer structure in which a high refractive index layer and a low refractive index layer are laminated in multiple layers in order to obtain antireflection performance. However, by using a material having a relatively low refractive index, it becomes possible to suppress reflection in a wide visible light wavelength region even in a single layer structure of only the low refractive index layer. In addition, since the antireflection film of the single layer structure is simple compared with the antireflection film of the multilayer structure, it is excellent in productivity.
예를 들면, 단일층 구성의 반사 방지 필름으로서는, 100~300nm의 실리카 입자와 상기 실리카 입자의 입경보다 작은 입경을 가지는 콜로이달 실리카와의 혼합물에 의해 형성된 세밀 충전 도막이 알려져 있다(특허 문헌 1을 참조). 상기 세밀 충전 도막에 의하면, 간단한 방법으로 초미립자를 기판 상에 한층만 고밀도로 그리고 규칙적으로 배열하여, 반사 방지막에 적절한 도막을 형성한다.For example, as a single layer antireflection film, the fine filling coating film formed by the mixture of the silica particle of 100-300 nm and the colloidal silica which has a particle size smaller than the particle diameter of the said silica particle is known (refer patent document 1). ). According to the fine-filled coating film, only one layer of the ultrafine particles is densely and regularly arranged on the substrate by a simple method to form a coating film suitable for the antireflection film.
그러나, 특허 문헌 1에 기재된 상기 세밀 충전 도막은 100nm 이상의 큰 실리카 입자를 포함하므로, 그 실리카 입자가 도막의 표면에 노출되고, 도막 표면의 내촬상성이 나쁘며, 기판에 대한 밀착성이 불충분한 문제점이 있었다.However, since the said fine-filled coating film of patent document 1 contains a large silica particle 100 nm or more, the silica particle is exposed to the surface of a coating film, the imaging resistance of a coating film surface is bad, and the adhesiveness with respect to a board | substrate is insufficient. there was.
또한, 반사 방지 필름의 구성으로서 투명기재 필름 상에 자외선 경화성 수지, 전자선 경화성 수지 등의 전리(電離) 방사선 경화성 수지를 이용한 투명(클리어)한 하드 코트층을 마련하는 것이 일반적이다. 그러나, 투명기재 필름으로서 주로 사용되고 있는 폴리에틸렌테레프탈레이트(PET) 필름의 굴절률은 1.65이고, 통상 사용되는 하드 코트층의 굴절률은 1.50~1.55이기 때문에, PET 필름과 하드 코트층과의 사이에는 0.10~0.15의 굴절률 차이가 생긴다. 이와 같이, 굴절률이 다른 층의 계면에서는 빛의 반사가 발생하기 때문에, 양자의 계면에서 발생하는 반사광의 간섭에 의해, 형광등 등의 아래에서 필름을 보면 무지개 색의 간섭 무늬가 관찰된다.Moreover, it is common to provide a transparent (clear) hard coat layer using ionizing radiation curable resins, such as an ultraviolet curable resin and an electron beam curable resin, on a transparent base film as a structure of an antireflection film. However, since the refractive index of the polyethylene terephthalate (PET) film mainly used as a transparent base film is 1.65, and the refractive index of the hard coat layer normally used is 1.50-1.55, it is 0.10-0.15 between a PET film and a hard coat layer. Difference in refractive index occurs. As described above, since light reflection occurs at the interface between the layers having different refractive indices, a rainbow-colored interference fringe is observed when the film is viewed under a fluorescent lamp or the like by interference of reflected light generated at both interfaces.
(특허 문헌 1) 일본 1995-198904호 공보(Patent Document 1) JP-A 1995-198904
본 발명의 목적은 우수한 반사 방지 성능을 가지고, 밀착성 및 내촬상성이 우수하며, 생산성이 높은 반사 방지 필름을 제공하는 것이다. An object of the present invention is to provide an antireflection film having excellent antireflection performance, excellent adhesion and image resistance, and high productivity.
본 발명의 일 실시례에 따른 반사 방지 필름은 투명기재 필름의 표면에 단일층 구성의 반사 방지층으로서의 저굴절률층이 직접 적층되어 구성된다. 그리고, 상기 저굴절률층의 굴절률은 1.20~1.50이다.The antireflection film according to an embodiment of the present invention is configured by directly laminating a low refractive index layer as an antireflection layer having a single layer structure on the surface of a transparent base film. The refractive index of the low refractive index layer is 1.20 to 1.50.
이러한 구성에 의하면, 저굴절률층에 의하여 반사 방지 작용이 발현되고, 또한 저굴절률층과 투명기재 필름 사이의 층에 의해 반사 방지 작용이 방해될 수 있는 것도 억제할 수 있다. 게다가, 저굴절률층과 투명기재 필름 사이의 층에 의한 반사 얼룩이 없기 때문에, 품질이 우수하다. 따라서, 본 발명의 일 실시예에 따른 반사 방지 필름은 투명기재 필름상의 반사 방지층이 단일층 구성으로 충분한 반사 방지 성능을 가지고, 또한 외관상 반사 얼룩이 없다.According to this structure, it can also suppress that the anti-reflective effect is expressed by the low refractive index layer, and the anti-reflective effect can be prevented by the layer between the low refractive index layer and the transparent base film. In addition, since there is no reflection unevenness by the layer between the low refractive index layer and the transparent base film, the quality is excellent. Accordingly, the antireflection film according to the embodiment of the present invention has a sufficient antireflection performance in a single layer configuration in which the antireflection layer on the transparent substrate film is present, and also does not have reflection stains in appearance.
이하, 본 발명의 실시 형태에 대하여 상세하게 설명한다.EMBODIMENT OF THE INVENTION Hereinafter, embodiment of this invention is described in detail.
본 발명의 실시예에 따른 반사 방지 필름은 투명기재 필름, 상기 투명기재 필름의 표면에 반사 방지층으로 기능하고, 단일층으로 적층된 저굴절률층을 포함한다. 상기 저굴절률층의 굴절률은 1.20~1.50이다. 이하, 이러한 반사 방지 필름의 구성 요소에 대하여 순서대로 설명한다.An antireflection film according to an embodiment of the present invention includes a transparent substrate film, a low refractive index layer that functions as an antireflection layer on the surface of the transparent substrate film and is laminated in a single layer. The refractive index of the low refractive index layer is 1.20 to 1.50. Hereinafter, the component of such an antireflection film is demonstrated in order.
＜투명기재 필름＞<Transparent base film>
반사 방지 필름에 이용되는 투명기재 필름은 투명성을 가지고 있는 한, 그 재료가 특별히 제한되는 것은 아니지만, 빛의 반사를 억제하기 위해, 굴절률(n)이 1.55~1.70의 범위 내인 재료로 형성되는 것이 바람직하다. 예를 들면, 투명기재 필름의 재료는 폴리에틸렌테레프탈레이트(PET, n=1.65) 등의 폴리에스테르, 폴리카보네이트(PC, n=1.59), 폴리아릴레이트(PAR, n=1.60) 및 폴리에테르 술폰(PES, n=1.65) 등이 바람직하다. 이들 중, 폴리에스테르 필름, 특히 폴리에틸렌테레프탈레이트 필름이 성형의 용이성, 입수의 용이성 및 코스트의 면에서 바람직하다.As long as the transparent base film used for the antireflection film has transparency, the material is not particularly limited. However, in order to suppress reflection of light, it is preferable that the transparent base film is formed of a material having a refractive index n in the range of 1.55 to 1.70. Do. For example, the material of the transparent substrate film is polyester such as polyethylene terephthalate (PET, n = 1.65), polycarbonate (PC, n = 1.59), polyarylate (PAR, n = 1.60), and polyether sulfone ( PES, n = 1.65), etc. are preferable. Among these, a polyester film, especially a polyethylene terephthalate film, is preferable in view of the ease of molding, the availability and the cost.
또한, 투명기재 필름의 두께는 바람직하게는 25~400μm, 더욱 바람직하게는 50~200μm이다. 투명기재 필름의 두께가 25μm보다 얇은 경우나 400μm보다 두꺼운 경우에는, 반사 방지 필름의 제조시 및 사용시에 있어서의 취급성이 저하되어 바람직하지 않다. 또한, 투명기재 필름에는 각종 첨가제가 함유될 수 있다. 예를 들면, 상기 첨가제는 자외선 흡수제, 대전 방지제, 안정제, 가소제, 윤활제, 난연제 등을 포함할 수 있다. In addition, the thickness of the transparent base film is preferably 25 to 400 μm, more preferably 50 to 200 μm. When the thickness of a transparent base film is thinner than 25 micrometers or thicker than 400 micrometers, the handleability at the time of manufacture and use of an antireflection film falls, and is unpreferable. In addition, the transparent substrate film may contain various additives. For example, the additive may include a ultraviolet absorber, an antistatic agent, a stabilizer, a plasticizer, a lubricant, a flame retardant, and the like.
＜저굴절률층＞<Low refractive index layer>
반사 방지 필름의 저굴절률층은 단일층 구성으로서, 반사를 억제하는 반사 방지층으로서 기능하는 층이다. 상기 저굴절률층은 예를 들면 평균 입자 지름이 10~100nm인 중공 실리카 미립자와 중합성 바인더를 함유하는 저굴절률층 도포액을 경화시켜서 형성될 수 있다.The low refractive index layer of the antireflection film has a single layer structure and functions as an antireflection layer that suppresses reflection. The low refractive index layer may be formed by curing, for example, a low refractive index layer coating liquid containing hollow silica fine particles having an average particle diameter of 10 to 100 nm and a polymerizable binder.
상기 저굴절률층의 굴절률은 1.20~1.50이며, 바람직하게는 1.25~1.45이다. 저굴절률층의 굴절률이 1.20 미만인 경우에는 중합성 바인더의 함유량이 적기 때문에, 저굴절률층은 충분한 도막 강도를 가지는 것이 어려워진다. 한편, 굴절률이 1.50을 넘는 경우에는 저굴절률층이 충분한 반사 방지 성능을 발현할 수 없게 된다. 중공 실리카 미립자의 입자 지름 및 중합성 바인더의 종류 등에 근거하여 반사 방지 성능을 조정할 수 있다.The refractive index of the said low refractive index layer is 1.20-1.50, Preferably it is 1.25-1.45. When the refractive index of the low refractive index layer is less than 1.20, since the content of the polymerizable binder is small, it is difficult for the low refractive index layer to have sufficient coating film strength. On the other hand, when the refractive index exceeds 1.50, the low refractive index layer cannot express sufficient antireflection performance. Antireflection performance can be adjusted based on the particle diameter of a hollow silica fine particle, the kind of polymeric binder, etc.
저굴절률층을 형성하는 성분인 상기 중공 실리카 미립자는 실리카(이산화 규소, SiO2)가 거의 구(球) 형상으로 형성되고, 그 외각(外殼) 내에 중공부를 가지는 미립자이다. 중공 실리카 미립자의 평균 입자 지름은 바람직하게는 10~100nm, 보다 바람직하게는 20~60nm이다. 중공 실리카 미립자의 평균 입자 지름이 10nm보다 작은 경우, 중공 실리카 미립자의 제조가 어려워져 바람직하지 않다. 한편, 평균 입자 지름이 100nm보다 큰 경우에는, 저굴절률층에 있어서 빛의 산란이 커지고, 박막에 있어서 반사가 커지므로, 반사 방지 기능이 저하한다.The hollow silica fine particles, which are components for forming the low refractive index layer, are fine particles having silica (silicon dioxide, SiO 2 ) almost spherical in shape and having hollow portions in their outer shells. The average particle diameter of the hollow silica fine particles is preferably 10 to 100 nm, more preferably 20 to 60 nm. When the average particle diameter of hollow silica fine particles is smaller than 10 nm, manufacture of hollow silica fine particles becomes difficult and it is unpreferable. On the other hand, when the average particle diameter is larger than 100 nm, light scattering becomes large in the low refractive index layer and reflection increases in the thin film, so that the antireflection function is lowered.
이 중공 실리카 미립자는 유기용제에 분산되어 시판되는 것을 그대로 사용할 수 있고, 또는 시판의 각종 실리카 분체를 유기용제에 분산하여 사용할 수도 있다. 상기 중공 실리카 미립자는 예를 들면, 일본 공개 특허 2006-21938호 공보에 개시된, 외각(外殼) 내부에 공동(空洞)을 가지는 중공으로 구 형상의 실리카계 미립자의 제조 방법에 의해 합성될 수도 있다. 즉, 실리카계 미립자는 아래와 같은 공정 (a), (b), (c) 및 (d)를 거쳐 제조될 수 있다.These hollow silica fine particles can be used as they are dispersed in an organic solvent and commercially available, or commercially available various silica powders can be dispersed and used in an organic solvent. The hollow silica fine particles may be synthesized by, for example, a method for producing hollow, spherical silica-based fine particles having a cavity inside an outer shell, disclosed in Japanese Patent Laid-Open No. 2006-21938. That is, the silica-based fine particles can be produced through the following steps (a), (b), (c) and (d).
공정 (a)：규산염의 수용액 또는 산성 규산액과 알칼리 가용성(可溶性)의 무기 화합물 수용액을 알칼리 수용액 중에 소정의 비율로 첨가하여 복합 산화물 미립자 분산액을 조제할 때에 전해질 염을 첨가하는 공정.Step (a): A step of adding an electrolyte salt when an aqueous solution of silicate or an acidic silicic acid solution and an aqueous solution of an alkali-soluble inorganic compound are added in an aqueous alkali solution to prepare a composite oxide fine particle dispersion.
공정 (b)：상기 복합 산화물 미립자 분산액에 산을 첨가하여 실리카계 미립자 분산액으로 하는 공정.Process (b): The process of adding an acid to the said composite oxide fine particle dispersion to make a silica type microparticle dispersion.
공정 (c)：상기 실리카계 미립자 분산액을 상온~300℃의 온도 범위에서 숙성하는 공정.Process (c): The process of ripening the said silica type fine particle dispersion in the temperature range of normal temperature-300 degreeC.
공정 (d)：50~300℃의 범위에서 수열처리 하는 공정.Process (d): The process of hydrothermal treatment in the range of 50-300 degreeC.
다음에, 저굴절률층을 형성하는 성분인 상기 중합성 바인더는 불소 함유 유기 화합물의 단체 또는 혼합물이다. 또한, 중합성 바인더로서 불소를 포함하지 않는 유기 화합물(이하, 비불소계 유기 화합물이라고 약기한다)의 단체 혹은 혼합물 또는 중합체를 이용할 수도 있다.Next, the said polymeric binder which is a component which forms a low refractive index layer is a single substance or a mixture of fluorine-containing organic compounds. As the polymerizable binder, a single substance, a mixture, or a polymer of an organic compound (hereinafter abbreviated as a non-fluorine-based organic compound) containing no fluorine may be used.
불소 함유 유기 화합물로서는, 예를 들면 1-(메타) 아크릴로일옥시 1-퍼플루오르 알킬메탄, 1-(메타) 아크릴로일옥시 2-퍼플루오르 알킬에탄, 1, 10-비스 아크릴로일옥시-1, 1, 10, 10-테트라히드로 퍼플루오르 데칸, 1, 10-비스 비스 아크릴로일옥시-2, 9-디히드록시-4, 4, 5, 5, 6, 6, 7, 7-옥타플르오르데칸, 1, 9-비스 비스 아크릴로일 옥시-2, 10-디히드록시-4, 4, 5, 5, 6, 6, 7, 7-옥타플르오르데칸, 2, 9-비스 비스 아크릴로일옥시-1, 10-디히드록시-4, 4, 5, 5, 6, 6, 7, 7-옥타플르오르데칸, 1, 2-디(메타) 아크릴로일옥시-3-퍼플루오르 알킬부탄, 2-히드록 시-1H, 1H, 2H, 3H, 3H-퍼플루오르 알킬-2＇, 2＇-비스｛(메타) 아크릴로일옥시 메틸｝프로피오나트, α, ω-디(메타) 아크릴로일옥시 메틸 퍼플루오르 알칸,α, β, ψ, ω-테트라키스｛(메타) 아크릴로일옥시｝-αH, αH, βH, γH, γH, χH, χH, ψH, ωH, ωH-퍼플루오르 알칸 등이 바람직하다.Examples of the fluorine-containing organic compound include 1- (meth) acryloyloxy 1-perfluoro alkylmethane, 1- (meth) acryloyloxy 2-perfluoro alkylethane, 1,10-bisacryloyloxy -1, 1, 10, 10-tetrahydro perfluorodecane, 1, 10-bisbisacryloyloxy-2, 9-dihydroxy-4, 4, 5, 5, 6, 6, 7, 7- Octafluordecane, 1, 9-bisbisacryloyl oxy-2, 10-dihydroxy-4, 4, 5, 5, 6, 6, 7, 7-octafloordecane, 2, 9-bis Bis acryloyloxy-1, 10-dihydroxy-4, 4, 5, 5, 6, 6, 7, 7-octafluordecane, 1, 2-di (meth) acryloyloxy-3- Perfluoroalkylbutane, 2-hydroxy-1H, 1H, 2H, 3H, 3H-perfluoro alkyl-2 ′, 2′-bis (meth) acryloyloxy methyl｝ propionat, α, ω- Di (meth) acryloyloxy methyl perfluoro alkane, α, β, ψ, ω-tetrakis (meth) acryloyloxy｝ -αH, αH, βH, γH, γH, χH, χH, ψH, ωH, ωH-perfluoro alkanes and the like are preferred.
비불소계 유기 화합물로서, 예를 들면 단관능(메타) 아크릴레이트〔여기서, 본 명세서에서는 (메타)아크릴레이트란, 아크릴레이트와 메타크릴레이트의 쌍방을 포함한 총칭을 의미한다.〕, 다관능(메타) 아크릴레이트 및 테트라에톡시시란 등의 반응성 규소 화합물 등을 출발 원료로 하는 것을 들 수 있다. 이들 중 생산성 및 경도를 양립시키는 관점에서, 자외선 경화성 유기 화합물 특히 자외선 경화성 다관능 아크릴레이트를 주성분으로서 포함하는 조성물이 바람직하다. 그러한 자외선 경화성 다관능 아크릴레이트를 포함하는 조성물로서는 특별히 제한되는 것은 아니고, 예를 들면 공지의 자외선 경화성 다관능 아크릴레이트를 2 종류 이상 혼합한 것, 자외선 경화성 하드 코트재로서 시판되고 있는 것 등을 들 수 있다. 상기 자외선 경화성 다관능 아크릴레이트로서는 특별히 제한되지 않고, 예를 들면 디펜타에리트리톨 헥사 아크릴레이트, 테트라 메틸올 메탄 테트라 아크릴레이트, 테트라 메틸올 메탄 트리 아크릴레이트, 트리메티롤프로판 트리 아크릴레이트, 1, 6-헥산디올 차아구리레이트, 1, 6-비스(3-아크릴로일옥시-2-히드록시 프로필 옥시) 헥산 등의 다관능 알코올의 아크릴 유도체나, 폴리에틸렌 글리콜 차아구리레이트 및 폴리우레탄 아크릴레이트 등이 바람직하다. 중합성 바인더가 자외선 경화성 유기 화합물인 경우, 자외선 조사에 의해 저굴절률층을 신속하게 형성할 수 있고, 반사 방지 필름의 생산성을 높일 수 있다.As the non-fluorine-based organic compound, for example, monofunctional (meth) acrylate [Herein, (meth) acrylate means generic term including both acrylate and methacrylate.), Polyfunctional (meth And a reactive silicon compound such as acrylate and tetraethoxysilane as starting materials. Among them, from the viewpoint of achieving both productivity and hardness, a composition containing an ultraviolet curable organic compound, in particular an ultraviolet curable polyfunctional acrylate, as a main component is preferable. There is no restriction | limiting in particular as a composition containing such an ultraviolet curable polyfunctional acrylate, For example, what mixes two or more types of well-known ultraviolet curable polyfunctional acrylate, what is marketed as an ultraviolet curable hard coat material, etc. are mentioned. Can be. There is no restriction | limiting in particular as said ultraviolet curable polyfunctional acrylate, For example, dipentaerythritol hexa acrylate, tetra methylol methane tetra acrylate, tetra methylol methane triacrylate, trimetholpropane triacrylate, 1, Acryl derivatives of polyfunctional alcohols, such as 6-hexanediol hypogurirate and 1, 6-bis (3-acryloyloxy-2-hydroxy propyl oxy) hexane, polyethyleneglycol hypogurirate, a polyurethane acrylate, etc. This is preferred. When a polymeric binder is an ultraviolet curable organic compound, a low refractive index layer can be formed quickly by ultraviolet irradiation, and productivity of an antireflection film can be improved.
투명기재 필름의 표면에 저굴절률층을 형성하는 방법은 특별히 제한되지 않지만, 저굴절률층 도포액을 롤 코팅법, 스핀 코팅법, 코일 바법, 딥 코팅법, 다이코팅법 등의 도포 방법에 의해 필름의 표면에 도포한 후, 자외선을 조사하는 방법을 들 수 있다. 저굴절률층 도포액의 도포 방법으로서는, 롤 코팅법 등과 같이 저굴절률층을 연속적으로 형성할 수 있는 방법이 생산성의 면에서 바람직하다.The method for forming the low refractive index layer on the surface of the transparent substrate film is not particularly limited, but the low refractive index layer coating liquid is applied by a coating method such as a roll coating method, a spin coating method, a coil bar method, a dip coating method, a die coating method, or the like. After apply | coating to the surface of the, the method of irradiating an ultraviolet-ray is mentioned. As a coating method of a low refractive index layer coating liquid, the method of continuously forming a low refractive index layer like the roll coating method etc. is preferable at the point of productivity.
또한, 저굴절률층 도포액을 롤 코팅법, 스핀 코팅법, 코일 바법, 딥 코팅법, 다이코팅법 등의 도포 방법에 의해 필름 표면에 도포하기 전에, 기재 필름 표면에 코로나 방전 처리를 실시하여도 좋다.In addition, before the low refractive index layer coating liquid is applied to the film surface by a coating method such as a roll coating method, a spin coating method, a coil bar method, a dip coating method, or a die coating method, a corona discharge treatment may be performed on the surface of the base film. good.
저굴절률층의 두께는 'kλ／4'로 하는 것이 빛의 간섭 작용에 의해 표면 반사가 감소하고, 투과율이 향상되기 때문에 바람직하다. 여기서, λ는 빛의 파장(400~650nm)을 나타내고, k는 1 또는 3이다. 이와 같이 저굴절률층의 두께를 'kλ／4'로 함으로써, 반사 방지의 효과를 보다 높일 수 있다. 이 경우, k가 1일 때에는 반사 방지 성능(시감반사율)이 향상되고, k가 3일 때에는 내촬상성이 향상된다.The thickness of the low refractive index layer is preferably set to 'kλ / 4' because the surface reflection decreases due to interference of light and the transmittance is improved. Is a wavelength of light (400 to 650 nm), and k is 1 or 3. Thus, by setting the thickness of the low refractive index layer to 'kλ / 4', the effect of antireflection can be further enhanced. In this case, when k is 1, the antireflection performance (visual reflectance) is improved, and when k is 3, the imaging resistance is improved.
＜역접착층(易接着層)＞<Reverse adhesive layer>
저굴절률층은 투명기재 필름에 직접 적층되는 것이 바람직하다. 왜냐하면, 저굴절률층과 투명기재 필름의 역접착층은 반사 방지 작용의 저하와 반사 얼룩을 발생시키는 요인이 될 수 있기 때문이다. 그러나, 소정 범위의 굴절률과 두께를 가 지는 역접착층이라면, 비록 저굴절률층과 투명기재 필름 사이에 배치되더라도, 반사 방지 작용의 저하와 반사 얼룩을 발생시키지 않는 것이 판명되었다. 상기 소정 범위의 굴절률과 두께를 갖는 역접착층을 채용한 경우, 반사 얼룩의 저감 및 충분히 실용적인 반사 방지 성능을 발휘할 수 있을 뿐만 아니라, 저굴절률층과 투명기재 필름의 밀착성을 향상시킬 수 있어 투명기재 필름에 대한 저굴절률층의 밀착이 용이하게 되고, 저굴절률층은 투명기재 필름에 안정적으로 결합되므로 고내구성을 달성할 수 있으며, 생산성이 향상된다. The low refractive index layer is preferably laminated directly on the transparent substrate film. This is because the low refractive index layer and the anti-adhesive layer of the transparent base film may be a factor of lowering the anti-reflection action and causing reflection unevenness. However, it has been found that if it is an anti-adhesive layer having a refractive index and a thickness in a predetermined range, even if disposed between the low refractive index layer and the transparent substrate film, the anti-reflection action is not lowered and reflection stain is not generated. In the case of employing the reverse adhesive layer having the refractive index and the thickness in the predetermined range, not only can the reflection stain be reduced and the practically effective anti-reflection performance can be exhibited, but also the adhesion between the low refractive index layer and the transparent substrate film can be improved. The low refractive index layer is easily adhered to, and the low refractive index layer is stably bonded to the transparent base film, thereby achieving high durability and improving productivity.
이하, 역접착층의 굴절률에 대하여 설명한다. 본 발명의 실시예에 따른 반사 방지 필름에 있어서, 역접착층의 굴절률은 저굴절률층의 굴절률 이상이 되도록 설정된다. 한편, 역접착층의 굴절률은 저굴절률층의 굴절률보다 크거나 같고, 투명기재 필름의 굴절률보다 작거나 같도록 설정될 수도 있다. 예를 들면, 역접착층의 굴절률은 1.50~1.65이며, 바람직하게는 1.55~1.60이다. 역접착층의 굴절률이 1.50보다 작은 경우 또는 1.65보다 큰 경우에는, 빛의 간섭 얼룩이 발생하는 결과를 초래하고, 반사율이 높아져 바람직하지 않다.Hereinafter, the refractive index of the reverse adhesion layer is demonstrated. In the antireflection film according to the embodiment of the present invention, the refractive index of the anti-adhesive layer is set to be equal to or higher than the refractive index of the low refractive index layer. On the other hand, the refractive index of the reverse adhesive layer may be set to be greater than or equal to the refractive index of the low refractive index layer, less than or equal to the refractive index of the transparent base film. For example, the refractive index of a reverse bonding layer is 1.50-1.65, Preferably it is 1.55-1.60. When the refractive index of the anti-adhesive layer is smaller than 1.50 or larger than 1.65, interference interference of light occurs, and the reflectance is high, which is not preferable.
또한, 역접착층의 두께는 1~50nm이며, 바람직하게는 1~30nm이며, 더욱 바람직하게는 5~25nm이다. 예를 들면, 역접착층의 두께가 1nm보다 얇은 경우, 투명기재 필름과 저굴절률층 사이의 밀착성 향상의 효과가 떨어져, 역접착층을 채용하는 이점이 감소되는 문제점이 있다. 한편, 역접착층의 두께가 50nm보다 두꺼운 경우에는, 반사 방지 필름은 광학 간섭을 받게 되기 때문에 반사율이 높아지는 문제점이 있다. In addition, the thickness of the reverse adhesion layer is 1-50 nm, Preferably it is 1-30 nm, More preferably, it is 5-25 nm. For example, when the thickness of the reverse adhesive layer is thinner than 1 nm, there is a problem that the effect of improving the adhesion between the transparent substrate film and the low refractive index layer is inferior, and the advantage of employing the reverse adhesive layer is reduced. On the other hand, when the thickness of the anti-adhesion layer is thicker than 50 nm, since the antireflection film is subjected to optical interference, there is a problem that the reflectance becomes high.
역접착층의 굴절률과 두께는 상기 범위 내에서 적절히 조정될 수 있다.The refractive index and the thickness of the antiadhesive layer can be appropriately adjusted within the above range.
상기 역접착층을 형성하는 재료는 특별히 제한되지 않고, 예를 들면 폴리에스테르 수지, 아크릴 수지, 우레탄 수지 등의 열경화성 수지가 이용된다. 역접착층은 도전성 역접착층일 수 있다. 또한, 역접착층은 투명기재 필름의 제조시에 공지의 방법으로 투명기재 필름 표면에 형성될 수 있다. 또는, 미리 역접착층이 형성된 투명기재 필름의 시판품을 사용할 수도 있다. 역접착층을 채용할 경우, 저굴절률층은 제 1 실시 형태에서 예시한 방법에 따라 투명기재 필름 표면의 역접착층 상에 형성될 수 있다.The material for forming the reverse adhesion layer is not particularly limited, and for example, thermosetting resins such as polyester resins, acrylic resins and urethane resins are used. The back adhesive layer may be a conductive back adhesive layer. In addition, the reverse adhesive layer may be formed on the surface of the transparent substrate film by a known method in the manufacture of the transparent substrate film. Or you may use the commercial item of the transparent base film in which the reverse adhesion layer was previously formed. When employing the reverse adhesive layer, the low refractive index layer can be formed on the reverse adhesive layer on the surface of the transparent base film according to the method exemplified in the first embodiment.
도전성 역접착층은 이물 부착 방지 효과를 가지므로, 도전성 역접착층 상에 저굴절률층을 정밀도가 양호하게 적층할 수 있게 할 뿐만 아니라, 취급성을 향상시킬 수 있다. 도전성 역접착층은 폴리티오펜 골격을 가지는 도전성 화합물, 폴리피놀, 4급 암모늄 염기, 유기 설폰산염, 계면활성제나 도전성 미립자 등을 바인더에 분산시킨 도전성 재료에 의해 형성된다. 도전성 미립자로서는, 예를 들면 인듐, 아연, 주석, 몰리브덴, 안티몬, 갈륨 등의 산화물 혹은 복합 산화물 미립자, 동, 은, 니켈, 저융점 합금(납땜 등)의 금속 미립자, 금속을 피복한 폴리머 미립자, 각종 카본 블랙, 폴리피놀, 폴리아닐린 등의 도전성 폴리머 입자, 금속 섬유, 탄소섬유 등의 도전제가 이용된다.Since the conductive anti-adhesion layer has a foreign matter adhesion prevention effect, not only can the low refractive index layer be accurately laminated on the conductive anti-adhesion layer, but also the handleability can be improved. The conductive anti-adhesion layer is formed of a conductive material having a polythiophene skeleton, a polypinol, a quaternary ammonium base, an organic sulfonate, a surfactant or conductive fine particles dispersed in a binder. Examples of the conductive fine particles include oxides or composite oxide fine particles such as indium, zinc, tin, molybdenum, antimony and gallium, metal fine particles of copper, silver, nickel, low melting point alloys (such as soldering), polymer fine particles coated with metal, Conductive polymer particles, such as various carbon black, polypinol, and polyaniline, electrically conductive agents, such as metal fiber and carbon fiber, are used.
이러한 도전성 재료를 포함한 도전성 역접착층의 표면 저항율(표면 고유 저항)은 바람직하게는 1×1012Ω／Square 이하, 보다 바람직하게는 1×1010Ω／Square 이하, 특히 바람직하게는 1×108Ω／Square 이하이다. 표면 고유 저항이 1×1012Ω／Square보다 높은 경우, 도포 면상에 저굴절률층을 적층할 때, 먼지 등의 이물 부착 방지성이나 핸들링성이 악화되어, 보다 정교한 적층을 행할 수 없는 경우가 있기 때문에 바람직하지 않다.The surface resistivity (surface resistivity) of the conductive reverse bonding layer containing such a conductive material is preferably 1 × 10 12 Ω / Square or less, more preferably 1 × 10 10 Ω / Square or less, particularly preferably 1 × 10 8 Ω / Square or less. When the surface resistivity is higher than 1 × 10 12 Ω / Square, when the low refractive index layer is laminated on the coated surface, foreign matter adhesion prevention and handling properties, such as dust, may deteriorate and more precise lamination may not be possible. Because it is not desirable.
＜반사 방지 필름＞<Reflection prevention film>
본 발명의 일 실시예에 따른 반사 방지 필름은 투명기재 필름의 표면에 단일층 구성의 반사 방지층으로서의 저굴절률층이 적층되어 구성되고, 해당 저굴절률층의 굴절률은 1.20~1.50이다. 이 때문에, 저굴절률층의 반사 방지 작용이 방해되지 않고 충분히 발현된다. 또한, 저굴절률층과 투명기재 필름 사이에 역접착층이 없는 경우는 물론, 소정 범위의 굴절률과 두께를 갖는 역접착층을 채용한 경우에도, 유효하게 반사 방지 작용을 행할 수 있어 반사 얼룩을 방지할 수 있다. 따라서, 본 발명의 실시예에 따른 반사 방지 필름은 투명기재 필름상의 반사 방지층을 단일층으로 구성하더라도 충분한 반사 방지 성능을 가지고, 또한 반사 얼룩이 없으며, 생산성이 우수하다. 또한, 투명기재 필름 표면의 하드 코트층도 불필요하다.In the antireflection film according to the embodiment of the present invention, the low refractive index layer as the antireflection layer having a single layer structure is laminated on the surface of the transparent base film, and the refractive index of the low refractive index layer is 1.20 to 1.50. For this reason, the antireflection effect of the low refractive index layer is sufficiently prevented without being hindered. In addition, when there is no reverse adhesive layer between the low refractive index layer and the transparent substrate film, as well as when a reverse adhesive layer having a refractive index and a thickness in a predetermined range is employed, it is possible to effectively perform antireflection to prevent reflection unevenness. have. Therefore, the anti-reflection film according to the embodiment of the present invention has sufficient anti-reflection performance even when the anti-reflection layer on the transparent base film is composed of a single layer, and there is no reflection unevenness, and the productivity is excellent. Moreover, the hard-coat layer of the transparent base film surface is also unnecessary.
본 발명의 실시예에 따른 반사 방지 필름은 플라즈마 디스플레이 패널, 액정 디스플레이 패널, 필드 에미션 디스플레이, 표면 전계 디스플레이 등의 평면 전자 디스플레이 혹은 액자나 미술관 등의 전시 커버, 진열장 등의 표면에 매우 적합하게 적용할 수 있다.The anti-reflection film according to the embodiment of the present invention is suitably applied to a surface of a flat panel electronic display such as a plasma display panel, a liquid crystal display panel, a field emission display, a surface electric field display, a display cover of a picture frame or an art gallery, a showcase, or the like. can do.
이하에서, 실시예 및 비교예를 들어 본 발명의 실시 형태를 더욱 구체적으로 설명한다.Hereinafter, the embodiment of the present invention will be described in more detail with reference to Examples and Comparative Examples.
실시예 1~3의 반사 방지 필름은 투명기재 필름의 표면에 단일층 구성의 반사 방지층으로서의 저굴절률층이 직접 적층되어 구성되어 있다. 따라서, 실시예 1~3의 반사 방지 필름은 투명기재 필름과 저굴절률층(최상층)으로 이루어지는 2층 적층체이다.The antireflection films of Examples 1 to 3 are formed by directly laminating a low refractive index layer as an antireflection layer having a single layer structure on the surface of a transparent base film. Therefore, the antireflection film of Examples 1-3 is a two-layer laminated body which consists of a transparent base film and a low refractive index layer (topmost layer).
(A) 광학적 특성(A) optical properties
(a-1) 시감반사율(a-1) Visual reflectance
측정면의 이면 반사를 제거하기 위해서, 이면을 사포로 거칠게 하고, 흑색 도료로 전부 칠한 것을 분광 광도계〔일본 분광(주)제, 상품명：U-best 560〕를 이용하여, 빛의 파장 380~780nm의 5°, -5° 정반사 스펙트럼을 측정하였다. 얻어진 380~780nm의 빛의 분광 반사율과 CIE 표준 광원 D65의 상대 분광 분포를 이용하여, JIS Z8701에 규정되어 있는 XYZ 색좌표계에 있어서의 반사에 의한 물체색의 삼자극치 Y를 시감반사율로 하였다.In order to remove the reflection of the back of the measurement surface, the back surface was roughened with sandpaper and painted with black paint, using a spectrophotometer (manufactured by Nippon Co., Ltd., brand name: U-best 560), with a wavelength of 380 to 780 nm. The 5 ° and -5 ° specular reflectance spectra were measured. Using the obtained spectral reflectance of 380-780 nm and the relative spectral distribution of CIE standard light source D65, tristimulus value Y of the object color by the reflection in the XYZ color coordinate system prescribed | regulated to JIS # Z8701 was made into the visual reflectance.
(a-2) 굴절률의 측정(a-2) Measurement of refractive index
다음의 (1)~(4)의 공정에 따라 굴절률을 산출하였다.The refractive index was computed according to the process of following (1)-(4).
(1) 굴절률 1.49의 아크릴 수지판〔상품명：「데라글래스 A」, 아사히 화성공업(주)제〕상에, 딥 코터〔스기야마 하지메(杉山元) 이화학 기기(주)제〕를 이용하여, 저굴절률층 도포액을 도포하였다. 저굴절률층 도포액의 도포는 건조 저굴절 률층이 550nm 정도의 λ에 대응하는 광학막 두께(λ／4)를 가지도록 행하여 졌다.(1) On the acrylic resin plate [brand name: "Deraglass A", Asahi Chemical Co., Ltd. product) of refractive index 1.49, it uses a dip coater (made by Sugiyama Hajime Chemical Co., Ltd. product), and is low. The refractive index layer coating liquid was apply | coated. Application of the low refractive index layer coating liquid was performed such that the dry low refractive index layer had an optical film thickness (λ / 4) corresponding to λ of about 550 nm.
(2) 저굴절률층 도포액 중의 용매 건조 후, 필요에 따라서 자외선 조사 장치〔이와사키(岩崎) 전기(주)제〕에 의해 질소 분위기하에서 120W 고압 수은등을 이용하여, 출력 400mJ의 자외선을 조사하여 저굴절률층 도포액을 경화시켰다.(2) After solvent drying in the low-refractive-index layer coating liquid, the ultraviolet-ray of 400mJ output was irradiated by using an ultraviolet irradiation device (manufactured by Iwasaki Electric Co., Ltd.) under a nitrogen atmosphere using a 120W high-pressure mercury lamp. The refractive index layer coating liquid was cured.
(3) 아크릴 수지판의 이면을 사포로 거칠게 하고, 흑색 도료로 전부 칠한 것을 분광 광도계〔「U-best 50」, 일본 분광(주)제〕를 이용하여, 빛의 파장 400~650nm에 있어서의 5°, -5° 정반사율을 측정하고, 그 반사율의 극소값 또는 극대값을 읽어내었다.(3) The back surface of the acrylic resin plate was roughened with sandpaper and filled with black paint, using a spectrophotometer ["U-best 50", manufactured by Nippon Co., Ltd.) at a wavelength of light of 400 to 650 nm. 5 ° and -5 ° specular reflectance were measured, and the local minimum or local maximum of the reflectance was read.
(4) 반사율의 극값에서 이하의 식을 이용하여 굴절률을 계산하였다.(4) The refractive index was calculated from the extreme value of the reflectance using the following formula.
"최소 반사율(%)=｛〔아크릴 수지판의 굴절률× 공기의 굴절률-(층의 굴절률)2〕/〔아크릴 수지판의 굴절률× 공기의 굴절률＋(층의 굴절률)2〕｝2× 100""Minimum reflectance (%) = ｛[refractive index of acrylic resin plate × air refractive index-(layer refractive index) 2 ] / [refractive index of acrylic resin plate x air refractive index + (layer refractive index) 2 ]｝ 2 × 100""
단, 아크릴 수지의 굴절률은 1.49이고, 공기의 굴절률은 1.00이다.However, the refractive index of acrylic resin is 1.49 and the refractive index of air is 1.00.
(a-3) 평균 입자 지름(a-3) average particle diameter
입자 지름 분포 측정 장치〔오오츠카(大塚) 전자(주)제, PAR-III〕를 사용하여, 레이저광을 이용한 동적 광산란법에 의해 평균 입자 지름을 측정하였다.Using a particle diameter distribution measuring apparatus (manufactured by Otsuka Electronics Co., Ltd., PAR-III), the average particle diameter was measured by a dynamic light scattering method using a laser beam.
(B) 반사 얼룩(B) reflective stain
삼파장 광원 하에 제작한 반사 방지 필름의 이면에 검은 점착층 필름을 부착하여 반사 얼룩(외관의 색 얼룩)을 눈으로 관찰하고, 이하의 3단계로 평가하였다. 반사 얼룩이 없는 경우를 "◎", 반사 얼룩이 약한 경우를 "○", 반사 얼룩이 강한 경우를 "× ", 반사 얼룩이 강하고 간섭 무늬가 보이는 경우를 "×× "로 하였다.A black adhesive layer film was affixed on the back surface of the antireflection film produced under the three wavelength light source, and the reflection unevenness (color unevenness of the appearance) was observed visually, and evaluated in the following three steps. "(Circle)" and the case where reflective stain is weak were "(circle)" and the case where a reflective stain was strong was "x" and the case where a reflective stain was strong and an interference fringe was seen was made into "xx".
(C) 변성 중공 실리카 미립자(졸)(C) modified hollow silica fine particles (sol)
중공 실리카 졸〔쇼쿠바이(觸媒) 화성공업(주)제, 상품명：ELCOM NY-1001 SIV, 이소프로필 알코올에 의한 중공 실리카 졸의 25 질량% 분산액, 평균 입자 지름：60nm〕2000 질량부, γ-아크릴로일옥시 프로필트리메톡시시란 〔신에츠(信越) 화학공업(주)제, KBM 5103〕 70 질량부 및 증류수 80 질량부를 혼합하여 변성 중공 실리카 미립자(졸)(평균 입자 지름：60nm)를 조제하였다.Hollow silica sol (manufactured by Shokubai Chemical Co., Ltd., product name: ELCOM NY-1001 SIV, 25 mass% dispersion of hollow silica sol with isopropyl alcohol, average particle diameter: 60 nm) 2000 parts by mass, γ -Acryloyloxy propyltrimethoxysilane [Shin-Etsu Chemical Co., Ltd., KBM 5103] 70 mass parts and 80 mass parts of distilled water are mixed and a modified hollow silica fine particle (sol) (average particle diameter: 60 nm) Was prepared.
(D) 저굴절률층 도포액(D) Low refractive index layer coating liquid
(d-1) 저굴절률층 도포액 A의 조제(d-1) Preparation of low refractive index layer coating liquid A
상기 변성 중공 실리카 미립자 60 질량부와 디펜타에리트리톨 헥사 아크릴레이트 40 질량부와 광중합 개시제〔치바 스페셜리티 케미컬즈(주)제, 이르가큐어(IRGACURE) 907〕2 질량부와 이소프로필 알코올 2000 질량부를 혼합하여 저굴절률층 도포액 A를 얻었다. 얻어진 저굴절률층 도포액 A로 형성된 도막(저굴절률층)의 굴절률은 1.41이었다.60 parts by mass of the modified hollow silica fine particles, 40 parts by mass of dipentaerythritol hexa acrylate, 2 parts by mass of a photopolymerization initiator (manufactured by Chiba Specialty Chemicals Co., Ltd., Irgacure 907) and 2000 parts by mass of isopropyl alcohol It mixed, and the low refractive index layer coating liquid A was obtained. The refractive index of the coating film (low refractive index layer) formed from the obtained low refractive index layer coating liquid A was 1.41.
(d-2) 저굴절률층 도포액 B의 조제(d-2) Preparation of low refractive index layer coating liquid B
퍼플루오르-(1, 1, 9, 9-테트라히드로-5, 8-비스 플루오르 메틸-4, 7-디옥사 1-노넨)-9-올 즉, 다음과 같은 화학식에 나타나는 화합물 "〔CH2=CFCF2OCF(CF3) CF2OCF(CF3) CH2OH〕" 104 질량부와, 비스(2, 2, 3, 3, 4, 4, 5, 5, 6, 6, 7, 7-도데카플르오르 헵타노일) 퍼옥사이드의 8 질량% 퍼플루오르 헥산 용액 11 질량부와의 중합 반응에 의해 히드록실기 함유 불소 함유 아릴에테르 중합체(수(數) 평균 분자량 72,000, 질량 평균 분자량 118,000)를 얻었다.Perfluoro- (1,1,9,9-tetrahydro-5,8-bisfluoromethyl-4,7-dioxa 1-nonene) -9-ol, i.e. a compound represented by the formula "[CH 2 = CFCF 2 OCF (CF 3 ) CF 2 OCF (CF 3 ) CH 2 OH] "104 parts by mass with bis (2, 2, 3, 3, 4, 4, 5, 5, 6, 6, 7, 7 Hydroxyl group-containing fluorine-containing arylether polymer (number average molecular weight 72,000, mass average molecular weight 118,000) by polymerization with 11 parts by mass of a 8% by weight perfluor hexane solution of dodecafluor heptanoyl) peroxide Got.
다음에, 히드록실기 함유 불소 함유 아릴 에테르 중합체 5 질량부, 메틸 에틸 케톤(MEK) 43 질량부, 피리딘 1 질량부 및α-플루오르 아크릴산 플루오라이드 1 질량부를 이용하여 중합성 이중 결합을 가지는 불소 함유 반응성 중합체 용액(고형분 13 질량%, α-플루오르 아크릴로일기의 수산기에의 도입율 40 몰%)을 조제하였다. 이 불소 함유 반응성 중합체 용액 40 질량부와, 변성 중공 실리카 미립자 60 질량부와, 광중합 개시제〔치바 스페셜리티 케미컬즈(주)제, 이르가큐어(IRGACURE) 907〕2 질량부와, 이소프로필 알코올 2000 질량부를 혼합하여, 저굴절률층 도포액 B를 얻었다. 상기 저굴절률층 도포액 B로 형성된 도막(저굴절률층)의 굴절률은 1.35였다.Next, 5 parts by mass of a hydroxyl group-containing fluorine-containing aryl ether polymer, 43 parts by mass of methyl ethyl ketone (MEK), 1 part by mass of pyridine and 1 part by mass of? -Fluoroacrylic acid fluoride are used to contain a fluorine having a polymerizable double bond. A reactive polymer solution (13 mass% of solid content and 40 mol% of introduction ratio of (alpha)-fluoro acryloyl group to the hydroxyl group) was prepared. 40 parts by mass of this fluorine-containing reactive polymer solution, 60 parts by mass of modified hollow silica fine particles, 2 parts by mass of a photopolymerization initiator (manufactured by Chiba Specialty Chemicals, Irgacure (907)), and 2000 parts by mass of isopropyl alcohol The part was mixed and the low refractive index layer coating liquid B was obtained. The refractive index of the coating film (low refractive index layer) formed from the said low refractive index layer coating liquid B was 1.35.
(실시예 1)(Example 1)
2축 연신 폴리에스테르 필름(폴리에틸렌 테레프탈레이트 필름, 두께 100μm, 굴절률 1.65)의 표면에 상기 저굴절률층 도포액 A를, 얻어지는 저굴절률층의 광학막 두께가 kλ／4(k：1, λ：550nm)가 되도록 그라비아 코팅법으로 도포하고, 이를 건조 후, 질소 분위기하에서 400 mJ/cm2의 출력으로 자외선을 조사하여 경화시키는 것에 의하여, 반사 방지 필름을 제작하였다. 얻어진 반사 방지 필름에 대한 평가 결과를 표 1에 나타내었다.The optical film thickness of the low refractive index layer which obtains the said low refractive index layer coating liquid A on the surface of a biaxially stretched polyester film (polyethylene terephthalate film, thickness 100 micrometers, refractive index 1.65) is kλ / 4 (k: 1, lambda: 550nm). ) Was applied by a gravure coating method, and after drying, antireflection film was produced by irradiating and curing ultraviolet rays at an output of 400 mJ / cm 2 under a nitrogen atmosphere. Table 1 shows the results of the evaluation of the obtained antireflective film.
(실시예 2)(Example 2)
실시예 1에 있어서, 저굴절률층 도포액 A의 도포 전에, 2축 연신 폴리에스테르 필름의 표면에 코로나 방전 처리(출력：0.5KW)를 실시한 것을 제외하고는 실시예 1과 마찬가지로 하여 반사 방지 필름을 제작하였다. 얻어진 반사 방지 필름에 대한 평가 결과를 표 1에 나타내었다.In Example 1, an antireflection film was prepared in the same manner as in Example 1 except that the corona discharge treatment (output: 0.5KW) was applied to the surface of the biaxially stretched polyester film before the application of the low refractive index layer coating liquid A. Produced. Table 1 shows the results of the evaluation of the obtained antireflective film.
(실시예 3)(Example 3)
실시예 1에 있어서, 저굴절률층 도포액 A에 대신하여 저굴절률층 도포액 B를 이용한 것을 제외하고는 실시예 1과 마찬가지로 하여 반사 방지 필름을 제작하였다. 얻어진 반사 방지 필름에 대한 평가 결과를 표 1에 나타내었다.In Example 1, the antireflection film was produced like Example 1 except having used the low refractive index layer coating liquid B instead of the low refractive index layer coating liquid A. Table 1 shows the results of the evaluation of the obtained antireflective film.
(비교예 1)(Comparative Example 1)
2축 연신 폴리에스테르 필름의 표면에 굴절률 1.58, 두께 100nm의 역접착층이 설치되어 있는 것을 제외하고는 실시예 1과 마찬가지로 하여 반사 방지 필름을 제작하였다. 얻어진 반사 방지 필름에 대한 평가 결과를 표 1에 나타내었다.An anti-reflection film was produced in the same manner as in Example 1 except that a reverse-adhesive layer having a refractive index of 1.58 and a thickness of 100 nm was provided on the surface of the biaxially stretched polyester film. Table 1 shows the results of the evaluation of the obtained antireflective film.
표 1을 참조하면, 투명기재 필름의 표면에 굴절률이 1.20~1.50의 저굴절률층이 직접 적층되어 구성되어 있는 실시예 1~3에 있어서는, 저굴절률층과 투명기재 필름 사이에 역접착층이 없으므로, 역접착층에 의한 광학 간섭을 받지 않고, 충분한 시감반사율을 얻을 수 있었다. 또한, 역접착층의 반사 얼룩이 없기 때문에, 품질이 우수한 반사 방지 필름을 얻을 수 있었다. 한편, 비교예 1에서는, 저굴절률층과 투명기재 필름 사이의 두께가 100nm인 역접착층이 배치되므로, 역접착층에 의한 광학 간섭을 받아 시감반사율이 악화되고, 역접착층의 반사 얼룩이 있기 때문에, 품질이 떨어지는 결과가 나왔다.Referring to Table 1, in Examples 1 to 3 in which a low refractive index layer having a refractive index of 1.20 to 1.50 is directly laminated on the surface of the transparent substrate film, there is no reverse adhesive layer between the low refractive index layer and the transparent substrate film. Sufficient visual reflectance was obtained without receiving optical interference by the anti-adhesive layer. Moreover, since there was no reflection unevenness of the reverse adhesion layer, the antireflection film excellent in quality was obtained. On the other hand, in Comparative Example 1, since the inverse adhesive layer having a thickness of 100 nm between the low refractive index layer and the transparent base film is disposed, the visual reflectance is deteriorated due to optical interference by the inverse adhesive layer, and the reflection unevenness of the inverse adhesive layer results in poor quality. The falling result came out.
(E) 물리적 특성(E) physical properties
실시예 4~36의 반사 방지 필름은 투명기재 필름 상에 순차적으로 형성된 역접착층 및 저굴절률층을 포함한다. 역접착층을 이용한 실시예 4~36의 투명기재 필름의 물리적 특성을 이하의 방법으로 평가하였다.The antireflection films of Examples 4 to 36 include a reverse adhesion layer and a low refractive index layer sequentially formed on the transparent substrate film. The physical properties of the transparent base film of Examples 4 to 36 using the reverse adhesive layer were evaluated by the following method.
(e-1) 밀착성(e-1) adhesion
저굴절률층이 형성된 면측에 대하여, JIS D0202-1998에 준거하여 바둑판눈금 박리 테이프 시험을 실시하였다. 셀로판 테이프〔니치반(주)제, CT 24〕를 이용하여 반사 방지 필름에 밀착시킨 후 박리하였다. 판정은 100 모눈 가운데, 박리하지 않은 모눈 수로 나타내고, 전혀 박리되지 않은 경우를 100/100, 완전하게 박리되는 경우를 0/100으로서 나타내었다.On the surface side on which the low refractive index layer was formed, the checkerboard peeling tape test was done based on JIS # D0202-1998. It peeled after contact | adhering to the antireflective film using the cellophane tape (The Nichiban Co., Ltd. product, CT24). Determination was represented by the number of grid | grids which did not peel among 100 grid | grids, and the case where it did not peel at all was shown as 100/100 and the case where it peeled completely as 0/100.
(e-2) 내촬상성의 평가(e-2) Evaluation of imaging resistance
(주) 혼꼬우(本光) 제작소제의 지우개 마모 시험기의 선단에, ＃0000의 스틸울을 고정하고, 2.5N의 하중(250gf의 하중) 및 1N의 하중(100gf의 하중)을 걸어, 반사 방지 필름 표면 상을 10회 왕복 마찰한 후의 표면 흠집을 눈으로 관찰하고, 이하의 A~E의 6 단계로 평가하였다.＃ 0000 steel wool is fixed to the tip of the eraser abrasion tester manufactured by Hon-Ko Co., Ltd., and a load of 2.5 N (250 gf) and 1 N (100 gf) are applied and reflected. Surface scratches after the reciprocating rubbing on the prevention film surface 10 times were visually observed and evaluated in the following six stages A to E. FIG.
A：상처 없음, A＇：상처 1~3개, B：상처 4~10개, C：상처 11~20개, D：상처 21~30개, E：상처 31개 이상A: There is no wound, A ': 1-3 wounds, B: 4-10 wounds, C: 11-20 wounds, D: 21-30 wounds, E: More than 31 wounds
(F) 도전성 역접착 PET 필름의 제작(F) Preparation of Conductive Back Adhesive PET Film
(f-1) 도전성 역접착 PET 필름 A의 제작(f-1) Preparation of Conductive Back Adhesive PET Film A
일본 공개특허 2003-157724호 공보에 기재되어 있는 실시예 1의 전자 도전층의 조성에 준하여 도전성 역접착 PET 필름 A를 제작하였다. 즉, 극한 점도가 0.65dl/g, 평균 입자 지름이 2.4μm의 실리카 입자를 0.006 질량% 함유하는 PET의 펠릿을 180℃로 가열 후, 압출 장치에 공급하였다. 계속하여, 280~300℃의 온도로 시트 형상으로 압출하고, 두께 720μm의 미연신 필름을 얻고, 이것을 85℃에서 세로 연신하여 1축 연신 PET 필름을 얻었다. 이 1축 연신 PET 필름 한쪽 면에 방전 처리를 실시한 후, 그 면에 폴리 티오펜 80 질량% 및 폴리에틸렌 글리콜 20 질량%의 수성 도포액을 6μm의 두께로 도포하였다. 그 후, 110℃에서 가로 연신하고, 게다가 230℃로 열처리하여, 두께 50μm의 2축 연신 PET 필름 상에 두께 0.016μm의 도전성 역접착층이 형성된 도전성 역접착 PET 필름 A를 얻었다. 얻어진 도전성 역접착 PET 필름 A의 굴절률은 1.52였다.According to the composition of the electronic conductive layer of Example 1 described in Unexamined-Japanese-Patent No. 2003-157724, the electroconductive reverse adhesion PET film A was produced. That is, pellets of PET containing 0.006 mass% of silica particles having an intrinsic viscosity of 0.65 dl / g and an average particle diameter of 2.4 μm were heated to 180 ° C., and then fed to an extrusion apparatus. Subsequently, it extruded into the sheet form at the temperature of 280-300 degreeC, the unstretched film of thickness 720micrometer was obtained, this was longitudinally stretched at 85 degreeC, and the uniaxially stretched PET film was obtained. After the discharge treatment was performed on one side of the uniaxially stretched PET film, an aqueous coating solution of 80% by mass of polythiophene and 20% by mass of polyethylene glycol was applied to the surface with a thickness of 6 µm. Then, it laterally stretched at 110 degreeC, and also heat-processed at 230 degreeC, and obtained the electroconductive reverse adhesion PET film A in which the electroconductive reverse adhesion layer of 0.016 micrometer in thickness was formed on the biaxially stretched PET film of 50 micrometers in thickness. The refractive index of the obtained electroconductive reverse adhesion PET film A was 1.52.
(f-2) 도전성 역접착 PET 필름 B의 제작(f-2) Preparation of Conductive Back Adhesive PET Film B
일본 공개특허 2008-255177호 공보의 실시예 1에 기재되어 있는 적층 2축 연신 필름의 제조 방법에 준하여 도전성 역접착 PET 필름 B를 제작하였다. 즉, 실질적으로 입자를 함유하지 않는 극한 점도 0.66의 PET와 평균 입자 지름 2.5μm의 비정질 실리카를 0.6 질량부 함유하는 극한 점도 0.66의 PET를 질량비 80/20의 비율로 혼합하였다. 이것을 280~300℃로 가열 용해하고, 시트 형상으로 압출하여 미연신 PET 필름을 제작하였다. 이 미연신 PET 필름을 길이 방향으로 연신하여 1축 연신 PET 필름으로 하고, 그 한쪽 면에 다음의 도포 조성물을 0.03g/m2 도포량으로 도포하였다. 도포 조성물은 소정의 피롤 단위와 소정의 아크릴 아미드 단위가 질량비 95/5의 비율로 공중합되고 수(數) 평균 분자량이 20000인 고분자 화합물, 메틸화 헥사 메틸올 멜라민의 가교성 수지, 아미노 수지계 가교제의 가교 촉매 및 계면활성제로서 폴리 옥시 에틸렌 라우릴 에테르(옥시 에틸렌의 평균 중합도가 4)를 고형분 질량비가 60/40/2/5가 되도록 혼합한 것이다.According to the manufacturing method of the laminated biaxially stretched film described in Example 1 of Unexamined-Japanese-Patent No. 2008-255177, the electroconductive reverse adhesion PET film B was produced. That is, PET having an intrinsic viscosity of 0.66 substantially free of particles and PET having an intrinsic viscosity of 0.66 containing 0.6 parts by mass of amorphous silica having an average particle diameter of 2.5 μm was mixed at a ratio of 80/20. This was melt | dissolved by heating at 280-300 degreeC, and it extruded in the sheet form, and produced the unstretched PET film. This unstretched PET film was stretched in the longitudinal direction to form a uniaxially stretched PET film, and the following coating composition was applied to one side thereof at an amount of 0.03 g / m 2 . Applied. The coating composition is a polymer compound having a predetermined pyrrole unit and a predetermined acrylamide unit copolymerized at a ratio of 95/5 by mass ratio, and having a number average molecular weight of 20000, crosslinkable resin of methylated hexamethylol melamine, and crosslinking of an amino resin crosslinking agent. As the catalyst and the surfactant, polyoxyethylene lauryl ether (average degree of polymerization of oxy ethylene 4) is mixed so that the solid content mass ratio is 60/40/2/5.
상기 도포 조성물이 도포된 필름을 가열하여 건조하고, 폭 방향으로 연신하며, 더욱이 가열 처리를 실시하여 필름의 두께가 38μm의 2축 배향 PET 필름 상에 0.03g/m2 양(量)의 도전성 역접착층을 형성한 도전성 역접착 PET 필름 B를 얻었다. 얻어진 도전성 역접착 PET 필름 B의 굴절률은 1.56이었다.The film coated with the coating composition was dried by heating, stretched in the width direction, and further subjected to heat treatment so that the film had a thickness of 0.03 g / m 2 on a biaxially oriented PET film having a thickness of 38 μm. The electroconductive reverse adhesion PET film B which formed the contact bonding layer was obtained. The refractive index of the obtained electrically conductive reverse adhesion PET film B was 1.56.
(실시예 4)(Example 4)
한쪽 면에 굴절률 1.58, 두께 5nm의 역접착층이 마련되어 있는 2축 연신 폴리에스테르 필름(PET 필름, 두께 100μm, 굴절률 1.65：이하 필름 C로 한다)의 역접착층면 상에 상기 저굴절률층 도포액 A를, 얻어지는 저굴절률층의 광학 막 두께가 'kλ／4(k：1, λ：550nm)'가 되도록 그라비아 코팅법으로 도포하고, 건조한 후, 질소 분위기하에서 400 mJ/cm2의 출력으로 자외선을 조사하여 경화시킴으로써 반사 방지 필름을 제작하였다. 얻어진 반사 방지 필름에 대한 평가 결과를 표 2에 나타내었다.The low-refractive-index layer coating liquid A was formed on the reverse-adhesive layer surface of the biaxially stretched polyester film (PET film, thickness of 100 μm, refractive index of 1.65: hereinafter referred to as film C) having a refractive index of 1.58 and a thickness of 5 nm on one side thereof. And apply | coated by the gravure coating method so that the optical film thickness of the low refractive index layer obtained may be "k (lambda) / 4 (k: 1, (lambda: 550nm))", and after drying, it irradiated with an ultraviolet-ray by the output of 400 mJ / cm <2> in nitrogen atmosphere. The antireflection film was produced by hardening. The evaluation result about the obtained antireflection film is shown in Table 2.
(실시예 5)(Example 5)
역접착층의 두께가 10nm인 것을 제외하고는 실시예 4와 실질적으로 동일한 방법으로 반사 방지 필름을 제작하였다. 얻어진 반사 방지 필름에 대한 평가 결과를 표 2에 나타내었다.An antireflection film was prepared in substantially the same manner as in Example 4 except that the thickness of the anti-adhesion layer was 10 nm. The evaluation result about the obtained antireflection film is shown in Table 2.
(실시예 6)(Example 6)
역접착층의 두께가 30nm인 것을 제외하고는 실시예 4와 실질적으로 동일한 방법으로 반사 방지 필름을 제작하였다. 얻어진 반사 방지 필름에 대한 평가 결과를 표 2에 나타내었다.An antireflection film was prepared in substantially the same manner as in Example 4 except that the thickness of the anti-adhesion layer was 30 nm. The evaluation result about the obtained antireflection film is shown in Table 2.
(실시예 7)(Example 7)
얻어지는 저굴절률층의 광학 막 두께가 'kλ／4(k：3, λ：550nm)'가 되도록 저굴절률층 도포액 A를 도포한 것을 제외하고는 실시예 5와 실질적으로 동일한 방법으로 반사 방지 필름을 제작하였다. 얻어진 반사 방지 필름에 대한 평가 결과를 표 2에 나타내었다.An antireflection film in substantially the same manner as in Example 5 except that the low refractive index layer coating liquid A was applied such that the optical film thickness of the resulting low refractive index layer was 'kλ / 4 (k: 3, λ: 550 nm)'. Was produced. The evaluation result about the obtained antireflection film is shown in Table 2.
(실시예 8)(Example 8)
저굴절률층 도포액 A에 대신하여 저굴절률층 도포액 B를 이용한 것을 제외하고는 실시예 4와 실질적으로 동일한 방법으로 반사 방지 필름을 제작하였다. 얻어진 반사 방지 필름에 대한 평가 결과를 표 2에 나타내었다.An antireflection film was produced in substantially the same manner as in Example 4 except that the low refractive index layer coating liquid B was used instead of the low refractive index layer coating liquid A. The evaluation result about the obtained antireflection film is shown in Table 2.
(실시예 9)(Example 9)
저굴절률층 도포액 A에 대신하여 저굴절률층 도포액 B를 이용한 것을 제외하고는 실시예 5와 실질적으로 동일한 방법으로 반사 방지 필름을 제작하였다. 얻어진 반사 방지 필름에 대한 평가 결과를 표 2에 나타내었다.An antireflection film was produced in substantially the same manner as in Example 5 except that the low refractive index layer coating liquid B was used instead of the low refractive index layer coating liquid A. The evaluation result about the obtained antireflection film is shown in Table 2.
(실시예 10)(Example 10)
저굴절률층 도포액 A에 대신하여 저굴절률층 도포액 B를 이용한 것을 제외하고는 실시예 6과 실질적으로 동일한 방법으로 반사 방지 필름을 제작하였다. 얻어진 반사 방지 필름에 대한 평가 결과를 표 2에 나타내었다.An antireflection film was produced in substantially the same manner as in Example 6 except that the low refractive index layer coating liquid B was used instead of the low refractive index layer coating liquid A. The evaluation result about the obtained antireflection film is shown in Table 2.
(실시예 11)(Example 11)
얻어진 저굴절률층의 광학 막 두께가 'kλ／4(k：3, λ：550nm)'가 되도록 저굴절률층 도포액 B를 도포한 것을 제외하고는 실시예 9와 실질적으로 동일한 방법으로 반사 방지 필름을 제작하였다. 얻어진 반사 방지 필름에 대한 평가 결과를 표 2에 나타내었다.An antireflection film in substantially the same manner as in Example 9 except that the low refractive index layer coating liquid B was applied such that the optical film thickness of the obtained low refractive index layer was 'kλ / 4 (k: 3, λ: 550 nm)'. Was produced. The evaluation result about the obtained antireflection film is shown in Table 2.
(실시예 12)(Example 12)
역접착층의 두께가 50nm인 것을 제외하고는 실시예 4와 실질적으로 동일한 방법으로 반사 방지 필름을 제작하였다. 얻어진 반사 방지 필름에 대한 평가 결과를 표 2에 나타내었다.An antireflection film was prepared in substantially the same manner as in Example 4 except that the thickness of the anti-adhesion layer was 50 nm. The evaluation result about the obtained antireflection film is shown in Table 2.
(실시예 13)(Example 13)
굴절률 1.58의 역접착층에 대신하여, 굴절률 1.50의 역접착층이 설치된 것을 제외하고는 실시예 4와 실질적으로 동일한 방법으로 반사 방지 필름을 제작하였다. 얻어진 반사 방지 필름에 대한 평가 결과를 표 2에 나타내었다.An anti-reflection film was prepared in substantially the same manner as in Example 4 except that a reverse adhesive layer having a refractive index of 1.50 was provided in place of the reverse adhesive layer having a refractive index of 1.58. The evaluation result about the obtained antireflection film is shown in Table 2.
(실시예 14)(Example 14)
2축 연신 폴리에스테르 필름의 양면에 굴절률 1.58, 두께 5nm의 역접착층이 설치된 것을 제외하고는 실시예 4와 실질적으로 동일한 방법으로 반사 방지 필름을 제작하였다. 얻어진 반사 방지 필름에 대한 평가 결과를 표 2에 나타내었다.An antireflection film was produced in substantially the same manner as in Example 4 except that a reverse-adhesive layer having a refractive index of 1.58 and a thickness of 5 nm was provided on both surfaces of the biaxially stretched polyester film. The evaluation result about the obtained antireflection film is shown in Table 2.
(실시예 15~25)(Examples 15-25)
필름 C를 도전성 역접착 PET 필름 A로 변경한 것을 제외하고는 실시예 4~14와 실질적으로 동일한 방법으로 반사 방지 필름을 제작하였다. 얻어진 반사 방지 필름에 대한 평가 결과를 표 3에 나타내었다.An antireflective film was produced in substantially the same manner as in Examples 4 to 14, except that Film C was changed to Conductive Anti-Adhesive PET Film A. Table 3 shows the results of the evaluation of the obtained antireflective film.
(실시예 26~36)(Examples 26 to 36)
필름 C를 도전성 역접착 PET 필름 B로 변경한 것을 제외하고는 실시예 4~14와 실질적으로 동일한 방법으로 반사 방지 필름을 제작하였다. 얻어진 반사 방지 필름에 대한 평가 결과를 표 4에 나타내었다.An antireflection film was prepared in substantially the same manner as in Examples 4 to 14, except that Film C was changed to Conductive Anti-Adhesive PET Film B. Table 4 shows the results of the evaluation of the obtained antireflective film.
(참고예 1)(Reference Example 1)
역접착층이 없는 실시예 1의 반사 방지 필름을 참고예 1로서 표 2에 나타내었다.The antireflection film of Example 1 without the back adhesive layer is shown in Table 2 as Reference Example 1.
(비교예 1)(Comparative Example 1)
표 1의 비교예 1의 반사 방지 필름의 평가 결과를 표 2에 나타내었다. 또한, 비교예 1의 반사 방지 필름은 역접착층의 두께가 100nm인 것을 제외하고는 실시예 4의 반사 방지 필름과 실질적으로 동일하다.Table 2 shows the evaluation results of the antireflection film of Comparative Example 1 in Table 1. In addition, the antireflection film of Comparative Example 1 is substantially the same as the antireflection film of Example 4 except that the thickness of the anti-adhesion layer is 100 nm.
(비교예 2)(Comparative Example 2)
한쪽 면에 굴절률 1.58, 두께 15nm의 역접착층이 설치되어 있는 2축 연신 폴리에스테르 필름(PET 필름, 두께 100μm, 굴절률 1.65)에, 굴절률 1.60, 두께 5μm의 하드 코트층을 도포하였다. 하드 코트층 상에 상기 저굴절률층 도포액 A를, 얻어지는 저굴절률층의 광학 막 두께가 'kλ／4(k：1, λ：550nm)'가 되도록 그라비아 코팅법으로 도포하고, 건조한 후, 질소 분위기하에서 400 mJ/cm2의 출력으로 자외선을 조사하여 경화시킴으로써 반사 방지 필름을 제작하였다. 얻어진 반사 방지 필름에 대한 평가 결과를 표 2에 나타내었다.A hard coat layer having a refractive index of 1.60 and a thickness of 5 μm was applied to a biaxially stretched polyester film (PET film, thickness of 100 μm, refractive index of 1.65) having a refractive index of 1.58 and a 15 nm thick reverse bonding layer on one side thereof. The low refractive index layer coating liquid A was applied onto the hard coat layer by a gravure coating method such that the optical film thickness of the obtained low refractive index layer was 'kλ / 4 (k: 1, λ: 550 nm)', and dried, followed by nitrogen. The antireflection film was produced by irradiating and hardening an ultraviolet-ray at the output of 400 mJ / cm <2> in atmosphere. The evaluation result about the obtained antireflection film is shown in Table 2.
표 2를 참조하면, 실시예 4~6에 있어서는 역접착층의 굴절률과 두께를 소정 범위로 제어함으로써, 역접착층에 의한 광학 간섭을 거의 받지 않고, 충분한 시감반사율을 얻을 수 있으며, 더욱이 반사 얼룩, 밀착성, 내촬상성이 우수한 반사 방지 필름을 얻을 수 있었다. 또한, 실시예 8~10에 있어서는 실시예 4~6과 비교하여 저굴절률층 도포액의 굴절률이 낮기 때문에, 더욱이 양호한 시감반사율을 얻을 수 있었다. 또한, 실시예 7 및 11은 저굴절률층의 광학막 두께를 3λ／4로 하는 것에 의하여, 광학막 두께 λ／4인 경우에 비해 내촬상성이 향상된 결과를 얻을 수 있었다.Referring to Table 2, in Examples 4 to 6, by controlling the refractive index and thickness of the anti-adhesive layer within a predetermined range, sufficient visual reflectance can be obtained without being substantially subjected to optical interference by the anti-adhesive layer, and furthermore, reflection unevenness and adhesion The antireflection film excellent in the imaging resistance was obtained. In addition, in Examples 8-10, since the refractive index of the low refractive index layer coating liquid was low compared with Examples 4-6, the favorable visual reflectance was able to be obtained further. Further, in Examples 7 and 11, the optical film thickness of the low refractive index layer was 3 lambda / 4, whereby the imaging resistance was improved as compared with the case of the optical film thickness lambda / 4.
또한, 실시예 12에서는 역접착층의 두께를 50nm로 함으로써, 역접착층의 광학 간섭을 받아 시감반사율이 상승하는 결과가 되었다. 게다가 실시예 13과 같이 역접착층의 굴절률이 다른 경우에도, 실시예 4와 동등한 성능을 달성할 수 있었다. 더욱이, 실시예 14와 같이 역접착층이 양면에 마련되어 있는 경우에도, 실시예 4와 동등한 성능을 얻을 수 있었다.In addition, in Example 12, when the thickness of the reverse adhesion layer was 50 nm, it resulted in the visual reflectance increase by receiving optical interference of the reverse adhesion layer. Moreover, even when the refractive index of the reverse adhesion layer was different like Example 13, the performance equivalent to Example 4 was able to be achieved. Moreover, even when the reverse bonding layer was provided on both surfaces as in Example 14, the same performance as in Example 4 was obtained.
참고예에서는 역접착층이 마련되어 있지 않기 때문에, 광학적 특성의 면에서 가장 우수하였지만, 투명기재 필름에 대한 저굴절률층의 밀착성 및 내촬상성의 면에서는 효과가 떨어지는 결과를 나타내었다. 비교예 1에서는 역접착층의 두께를 100nm로 함으로써, 역접착층에 의한 광학 간섭을 받아 시감반사율이 악화되는 결과가 되었다. 게다가 비교예 2에서는, 역접착층 상에 하드 코트층을 개재시켜 저굴절률층을 마련함으로써, 반사광의 간섭에 의한 반사 얼룩이 강하고, 간섭 무늬를 볼 수 있었다.In the reference example, since the anti-adhesive layer was not provided, it was the best in terms of optical properties, but the effect was inferior in terms of the adhesion and the imaging resistance of the low refractive index layer to the transparent substrate film. In Comparative Example 1, the thickness of the anti-adhesion layer was 100 nm, resulting in deterioration of the visual reflectance due to optical interference by the anti-adhesion layer. In addition, in Comparative Example 2, by providing a low refractive index layer on the reverse adhesive layer through a hard coat layer, reflection unevenness due to interference of reflected light was strong and an interference fringe could be seen.
표 3 및 표 4를 참조하면, 실시예 15~25 및 실시예 26~36에서는 역접착층이 도전성 역접착층이기 때문에, 표 2에 나타낸 실시예 4~14의 경우에 비해 표면 저항율을 현저하게 저하시키는 효과를 얻을 수 있었다.Referring to Tables 3 and 4, in Examples 15 to 25 and Examples 26 to 36, since the back bonding layer is a conductive back bonding layer, the surface resistivity is significantly reduced as compared with the cases of Examples 4 to 14 shown in Table 2. The effect could be obtained.
역접착층으로서 폴리에스텔 수지, 아크릴 수지, 우레탄 수지 등의 열경화성 수지에, 실리카, 알루미나, 산화 티탄 등의 금속 산화물의 미립자를 배합하여, 굴절률을 조정할 수 있도록 구성할 수도 있다.As the anti-adhesive layer, fine particles of metal oxides such as silica, alumina and titanium oxide may be blended with thermosetting resins such as polyester resins, acrylic resins and urethane resins, so that the refractive index can be adjusted.
저굴절률층을 형성하는 재료로서 콜로이달 산화 규소, 훅화 랜턴, 훅화 마그네슘 등의 무기 미립자나 유기 중합체 미립자를 이용할 수 있다. 이러한 미립자의 평균 입자 지름은 빛의 산란을 억제하기 때문에 저굴절률층의 두께를 크게 넘지 않는 것이 바람직하고, 예를 들면 0.1μm 이하로 설정하는 것이 바람직하다.As the material for forming the low refractive index layer, inorganic fine particles or organic polymer fine particles such as colloidal silicon oxide, hooked lantern, magnesium hooked, and the like can be used. Since the average particle diameter of such microparticles | fine-particles suppresses scattering of light, it is preferable not to exceed the thickness of a low refractive index layer much, for example, it is preferable to set to 0.1 micrometer or less.
저굴절률층에 예를 들면 무기 또는 유기안료, 중합체, 중합 개시제, 광중합 개시제, 중합 금지제, 산화 방지제, 분산제, 계면활성제, 광안정제, 레벨링제 등의 첨가제를 첨가할 수도 있다.Additives, such as an inorganic or organic pigment, a polymer, a polymerization initiator, a photoinitiator, a polymerization inhibitor, antioxidant, a dispersing agent, surfactant, a light stabilizer, a leveling agent, can also be added to a low refractive index layer.
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