KR20100066317A - Display device - Google Patents

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KR20100066317A
KR20100066317A KR1020090053493A KR20090053493A KR20100066317A KR 20100066317 A KR20100066317 A KR 20100066317A KR 1020090053493 A KR1020090053493 A KR 1020090053493A KR 20090053493 A KR20090053493 A KR 20090053493A KR 20100066317 A KR20100066317 A KR 20100066317A
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Abstract

PURPOSE: A display device is provided to display information by controlling a light reflecting rate of a thin film layer. CONSTITUTION: A thin film layer(10) is formed on a substrate(2). In the thin film layer, a light absorption rate changes according to an applied electric field. An electrode(6) applies the electric field to the thin film layer. The electrode changes the electric field applied on the thin film layer. The thin film layer includes grapheme or graphite layers.

Description

디스플레이 장치{Display device}Display device

전기장에 의해 광의 흡수율이 조절되는 박막층을 적용한 디스플레이 장치에 관한 것이다. The present invention relates to a display device employing a thin film layer whose light absorption is controlled by an electric field.

기존의 디스플레이 장치는 주로 광의 투과성을 이용한다. 이러한 광의 투과성을 이용하는 디스플레이 장치는, 광의 투과성을 조절하는 트랜지스터가 투명해야 하며, 이로 인해 디스플레이 장치를 구성하는데 재료의 제약을 크게 받고 있다. 또한, 이러한 디스플레이 장치를 옥외 사용시 백라이트(backlight)가 충분히 밝지 않은 경우 사용이 불편하다.Existing display devices mainly use the light transmittance. In the display device using such a light transmittance, the transistor for adjusting the light transmittance must be transparent, and thus, the material of the display device is greatly limited. In addition, it is inconvenient to use such a display device when the backlight is not sufficiently bright when used outdoors.

전기장에 의해 광의 흡수율이 조절되는 박막층을 적용한 디스플레이 장치를 제공한다. Provided is a display device employing a thin film layer in which light absorption is controlled by an electric field.

본 발명의 일 실시예에 따른 디스플레이 장치는, 기판; 상기 기판상에 형성되며 인가되는 전기장에 따라 광의 흡수율이 변하는 박막층; 및 상기 박막층에 전기장을 인가하도록 마련되어, 상기 박막층에 인가되는 전기장을 변화시키는 전극;을 포함한다.A display device according to an embodiment of the present invention, the substrate; A thin film layer formed on the substrate and having a light absorption rate changed according to an applied electric field; And an electrode provided to apply an electric field to the thin film layer to change an electric field applied to the thin film layer.

상기 박막층은 밴드갭 에너지가 1.7 eV 이하인 물질을 포함할 수 있다.The thin film layer may include a material having a bandgap energy of 1.7 eV or less.

상기 박막층은 그레핀(grapheme) 또는 그레파이트(graphite) 층을 포함할 수 있다.The thin film layer may include a graphene or graphite layer.

상기 박막층은 탄소 박막층을 포함할 수 있다. The thin film layer may include a carbon thin film layer.

상기 탄소 박막층은 그레핀(grapheme) 또는 그레파이트(graphite) 층을 포함할 수 있다.The carbon thin film layer may include a graphene or graphite layer.

상기 박막층과 상기 전극 사이에는 절연층이 더 구비될 수 있다.An insulating layer may be further provided between the thin film layer and the electrode.

상기 박막층 상에는 투명 보호층이 더 구비될 수 있다.The transparent protective layer may be further provided on the thin film layer.

상기 전극은 미러로서 역할을 하는 금속 전극일 수 있다.The electrode may be a metal electrode serving as a mirror.

본 발명의 실시예에 따른 디스플레이 장치는, 기판; 상기 기판상에 형성되며 인가되는 전기장에 따라 광의 흡수율이 변하는 박막층; 상기 박막층에 전기장을 인 가하도록 마련되어, 상기 박막층에 인가되는 전기장을 변화시키는 전극; 상기 박막층과 상기 전극 사이의 절연층; 및 상기 박막층 상의 투명 보호층;을 포함할 수 있다. A display device according to an embodiment of the present invention, the substrate; A thin film layer formed on the substrate and having a light absorption rate changed according to an applied electric field; An electrode provided to apply an electric field to the thin film layer to change an electric field applied to the thin film layer; An insulating layer between the thin film layer and the electrode; And a transparent protective layer on the thin film layer.

상기 전극은 미러로서 역할을 하는 금속 전극일 수 있다.The electrode may be a metal electrode serving as a mirror.

상기 박막층 상에 컬러 필터를 더 구비할 수 있다.A color filter may be further provided on the thin film layer.

상기 기판과 박막층 사이에 적어도 일부분이 불투명 물질로 된 구동 회로를 더 포함할 수 있다.At least a portion of the driving circuit may further include an opaque material between the substrate and the thin film layer.

상기 기판은 실리콘 기판이고, 상기 구동 회로는 적어도 일부분이 실리콘을 포함하는 불투명 물질로 형성될 수 있다.The substrate may be a silicon substrate, and the driving circuit may be formed of an opaque material including at least a portion of silicon.

전기장에 의해 광의 흡수율이 조절되는 박막층을 적용하여 광의 반사율을 조절하여 정보를 표시하므로 소자의 뒤쪽 편에 불투명한 소재를 사용하거나 불투명한 구성요소를 배치할 수 있다. 예를 들어 실리콘 기판을 사용할 수 있으며, 뒤쪽 편에 구동 회로를 배치할 수 있다. 이와 같이 구동 회로를 뒤쪽 편에 배치하면 디스플레이 장치의 테두리를 없앨 수 있어 디스플레이 장치를 간편하게 할 수 있다. 또한, 박막층으로 그레핀층이나 그레파이트층 등의 탄소 박막층을 적용하는 경우 저온 공정이 가능하므로 플렉시블 디스플레이(flexible display)에 적용이 용이하다. 또한, 광의 반사를 이용하기 때문에 옥외용 디스플레이 장치로 이용할 수 있다.Since the information is displayed by adjusting the reflectance of light by applying a thin film layer in which light absorption is controlled by an electric field, an opaque material or an opaque component may be disposed on the back side of the device. For example, a silicon substrate can be used, and the driving circuit can be arranged on the rear side. As such, when the driving circuit is disposed at the rear side, the edge of the display device may be removed, thereby simplifying the display device. In addition, when a carbon thin film layer such as a graphene layer or a graphite layer is used as the thin film layer, a low temperature process is possible, and thus it is easy to apply to a flexible display. Moreover, since light reflection is used, it can be used as an outdoor display apparatus.

이하, 본 발명의 실시예에 따른 전기장에 의해 광의 흡수율이 조절되는 박막 층을 적용한 디스플레이 장치를 첨부된 도면들을 참조하여 상세하게 설명한다. 이 과정에서 도면에 도시된 층이나 영역들의 두께는 명세서의 명확성을 위해 다소 과장되게 도시된 것이다. 상세한 설명 전체에 걸쳐 동일한 참조 번호는 동일한 구성요소들을 나타낸다. Hereinafter, a display device to which a thin film layer in which light absorption is controlled by an electric field according to an embodiment of the present invention will be described in detail with reference to the accompanying drawings. In this process, the thicknesses of the layers or regions illustrated in the drawings are somewhat exaggerated for clarity. Like numbers refer to like elements throughout.

도 1은 본 발명의 일 실시예에 따른 전기장에 의해 광의 흡수율이 조절되는 박막층을 적용한 디스플레이 장치를 보여준다. 1 illustrates a display apparatus using a thin film layer in which light absorption is controlled by an electric field according to an embodiment of the present invention.

도 1을 참조하면, 본 발명의 일 실시예에 따른 디스플레이 장치는, 기판(2), 기판(2) 상에 형성된 박막층(10) 및 상기 박막층(10)에 전기장을 인가하기 위해 마련된 전극(6)을 포함한다. 상기 박막층(10)과 전극(6) 사이에는 절연층(8)이 더 구비될 수 있다. 상기 박막층(10) 상에는 투명 보호층(12)이 더 구비될 수 있다.Referring to FIG. 1, a display device according to an exemplary embodiment of the present invention includes a substrate 2, a thin film layer 10 formed on the substrate 2, and an electrode 6 provided to apply an electric field to the thin film layer 10. ). An insulating layer 8 may be further provided between the thin film layer 10 and the electrode 6. The transparent protective layer 12 may be further provided on the thin film layer 10.

상기 박막층(10)은 인가되는 전기장에 따라 광의 흡수율이 변하도록 마련된다. 상기 박막층은 밴드갭 에너지(bandgap energy)가 1.7 eV이하인 물질을 포함하여 형성될 수 있다. 예를 들어 상기 박막층은 그레핀(graphene) 또는 그레파이트(graphite) 등과 같은 탄소 박막층을 포함할 수 있다. 밴드갭 에너지가 약 1.7 eV 이하이면, R,G,B 파장을 모두 흡수할 수 있다. 반면에, 밴드갭 에너지가 약 1.7 eV 이상이면, R 파장을 흡수할 수 없다. 따라서, 상기 박막층을 밴드갭 에너지가 1.7 eV이하인 물질을 포함하도록 형성하면, 인가되는 전기장에 따라 광의 흡수율을 변화시킬 수 있다.The thin film layer 10 is provided to change the absorbance of light according to the applied electric field. The thin film layer may include a material having a bandgap energy of 1.7 eV or less. For example, the thin film layer may include a carbon thin film layer such as graphene or graphite. If the bandgap energy is about 1.7 eV or less, all of the R, G, and B wavelengths can be absorbed. On the other hand, if the bandgap energy is about 1.7 eV or more, the R wavelength cannot be absorbed. Therefore, when the thin film layer is formed to include a material having a bandgap energy of 1.7 eV or less, the absorption rate of light may be changed according to an applied electric field.

상기 박막층(10)은 인가되는 전기장의 세기에 따라, 입사되는 광을 흡수하거나, 입사되는 광을 투과 또는 반사시킨다. The thin film layer 10 absorbs the incident light or transmits or reflects the incident light according to the intensity of the applied electric field.

따라서, 상기 전극(6)을 미러로서 역할을 하도록 마련하면, 박막층(10)을 투과한 광을 반사시킬 수 있으므로, 반사형 디스플레이 장치가 구현될 수 있다. 상기 전극(6)은 미러로서 역할을 하도록 금속 전극으로 이루어질 수 있다. 예를 들어, 상기 전극(6)은 알루미늄을 포함하는 물질로 이루어질 수 있다. Therefore, when the electrode 6 is provided to act as a mirror, the light transmitted through the thin film layer 10 may be reflected, and thus a reflective display device may be implemented. The electrode 6 may be made of a metal electrode to serve as a mirror. For example, the electrode 6 may be made of a material including aluminum.

상기 전극(6)은 게이트 전극으로서, 단위 전극당 하나의 픽셀을 구현하거나, 칼라 디스플레이시 단위 전극당 하나의 서브 픽셀을 구현하도록 2차원 어레이 구조로 형성될 수 있다. The electrode 6 may be formed as a gate electrode in a two-dimensional array structure to implement one pixel per unit electrode or one sub pixel per unit electrode in color display.

상기와 같이 전극(6)을 미러로서 역할을 하도록 마련하여 반사형 디스플레이 장치를 구현 경우, 전극(6)이후의 뒤편 쪽은 투명할 필요가 없다.When implementing the reflective display device by providing the electrode 6 as a mirror as described above, the rear side after the electrode 6 need not be transparent.

따라서, 상기 전극(6)과 기판 사이에 디스플레이 장치를 픽셀별로 제어하기 위한 구동 회로(4)를 배치할 수 있다. 이때, 구동 회로(4)는 투명할 필요가 없으므로, 적어도 일부분이 불투명 물질로 형성될 수 있다. 예를 들어, 상기 기판(2)은 실리콘 기판이고, 상기 구동 회로(4)는 적어도 일부분이 실리콘을 포함하는 불투명 물질로 형성될 수 있다.Accordingly, a driving circuit 4 for controlling the display device pixel by pixel may be disposed between the electrode 6 and the substrate. In this case, since the driving circuit 4 does not need to be transparent, at least a part thereof may be formed of an opaque material. For example, the substrate 2 may be a silicon substrate, and the driving circuit 4 may be formed of an opaque material including at least a portion of silicon.

한편, 상기 절연층(8)은 얇고 투명하게 형성될 수 있다. 예를 들어, 상기 절연층(8)은 산화 알루미늄을 포함하는 물질로 형성될 수 있다. 상기 투명 보호층(12)은 유리로 이루어질 수 있다. 예를 들어, 기판(2) 상에 박막층(10) 까지의 적층 구조를 형성한 다음, 투명한 유리를 붙이면 도 1의 디스플레이 장치가 얻어질 수 있다.On the other hand, the insulating layer 8 may be formed thin and transparent. For example, the insulating layer 8 may be formed of a material including aluminum oxide. The transparent protective layer 12 may be made of glass. For example, the display device of FIG. 1 may be obtained by forming a laminated structure up to the thin film layer 10 on the substrate 2 and then pasting transparent glass.

상기와 같은 본 발명의 일 실시예에 따른 디스플레이 장치는 예를 들어, 다 음 과정을 통해 얻어질 수 있다. The display apparatus according to the embodiment of the present invention as described above can be obtained through the following process, for example.

먼저 구동 회로(4)를 기판(2) 예컨대, 실리콘 기판과 같은 불투명한 기판에 형성한다. 본 발명의 실시예에 따른 디스플레이 장치는 광의 흡수성을 조절함에 의해 반사율을 조절하여 디스플레이하므로, 구동 회로(4)가 불투명한 기판에 구현될 수 있다. 다음으로 상기 구동 회로(4)의 위에 게이트 전극으로서 전극(6)을 금속 예컨대, 알루미늄으로 형성한다. 상기 전극(6) 재료는 알루미늄으로 한정되는 것은 아니며 다양한 금속 재료를 사용할 수 있다. 상기 전극(6)은 상기 박막층층(10)에 전기장 인가 역할 뿐 아니라 반사 거울 역할을 겸하게 된다. 상기 전극(6) 상에 예컨대, 산화 알루미늄으로 절연층(8) 을 형성한다. 다음으로 상기 절연층(8) 상에 그레핀이나 그레파이트를 포함하는 물질로 된 박막층(10)을 형성하고 최종적으로 예컨대, 투명한 유리를 이용하여 보호층(12)을 형성한다.First, the drive circuit 4 is formed on an opaque substrate such as a substrate 2, for example, a silicon substrate. Since the display device according to the embodiment of the present invention adjusts and displays the reflectance by adjusting the absorbance of the light, the driving circuit 4 can be implemented on an opaque substrate. Next, the electrode 6 is formed of a metal, for example, aluminum, as a gate electrode on the drive circuit 4. The material of the electrode 6 is not limited to aluminum, and various metal materials may be used. The electrode 6 serves as a reflection mirror as well as an electric field applied to the thin film layer 10. The insulating layer 8 is formed on the electrode 6 by, for example, aluminum oxide. Next, a thin film layer 10 made of a material containing grepin or graphite is formed on the insulating layer 8, and finally, the protective layer 12 is formed using, for example, transparent glass.

도 2는 본 발명의 실시예에 따른 디스플레이 장치의 동작원리를 설명하는 도면이다.2 is a view for explaining the principle of operation of the display device according to an embodiment of the present invention.

도 2를 참조하면, 왼쪽의 전극 부분(6a)에는 이 전극 부분(6a)에 대응하는 박막층 부분(10a)에 광을 투과 또는 반사하는 상태가 되도록 하는 전기장이 인가되는 전압을 걸어주고, 오른쪽 전극(6b)에는 이 전극(6b)에 대응하는 박막층 부분(10b)이 흡수 상태가 되는 전기장이 인가되도록 전압을 걸어준다. 도 2에서 볼 수 있는 바와 같이 흡수의 상태가 되면 반사되는 광이 사라져서 해당 박막층 부분(10b)은 검정색을 나타내게 되고, 투과 또는 반사 상태의 경우 광이 전극 부분(6a) 또는 박막층 부분(10a)을 통해서 반사되어서 밝은 색을 나타내게 된다.본 발명의 실시예에 따른 디스플레이 장치는 두 가지 동작 모드가 구현된다. 투과 또는 반사의 경우 밝게 표시되며, 보호층(12)에 따라서는 하얗게 표시된다. 반대로 흡수 상태의 경우 검정색으로 표시된다. 이러한 두 가지 상태로 원하는 정보(그림 또는 글자)를 표시 할 수 있다.Referring to FIG. 2, a voltage to which an electric field is applied is applied to the electrode portion 6a on the left side to transmit or reflect light to the thin film layer portion 10a corresponding to the electrode portion 6a. Voltage is applied to 6b so that an electric field in which the thin film layer portion 10b corresponding to this electrode 6b becomes an absorbed state is applied. As can be seen in FIG. 2, when the absorbed light is lost, the reflected light disappears, and the thin film layer portion 10b becomes black. In the transmissive or reflective state, the light is transferred to the electrode portion 6a or the thin film layer portion 10a. The light is reflected through the display to display a bright color. Two display modes are implemented in the display device according to the embodiment of the present invention. In the case of transmission or reflection, it is displayed brightly, and depending on the protective layer 12, it is displayed in white. On the contrary, in the case of absorption state, it is displayed in black. In these two states, you can display the desired information (picture or text).

도 3은 본 발명의 실시예에 따른 디스플레이 장치의 두 동작 모드를 설명하는 도면이다.3 is a diagram illustrating two operation modes of a display apparatus according to an exemplary embodiment of the present invention.

도 3을 참조하면, 상기 동작 원리에 따라 디스플레이 장치를 위에서 보면 전극(6) 어레이의 각 전극 부분들이 디스플레이 장치의 단위 픽셀을 나타내며 상기 구동 원리에 따라 밝은 영역(L)과 어두운 영역(B)을 나타낸다. 따라서 도 1에 도시된 바와 같은 구조의 디스플레이 장치를 이용하면 흑백 전자종이 등을 구현할 수 있다.Referring to FIG. 3, when the display device is viewed from above according to the operating principle, each electrode portion of the array of electrodes 6 represents a unit pixel of the display device, and the light region L and the dark region B are according to the driving principle. Indicates. Therefore, when the display device having the structure shown in FIG. 1 is used, a black and white electronic paper may be implemented.

도 4는 도 1의 디스플레이 장치에 칼라 필터가 더 부가되어 칼라 디스플레이를 구현하도록 된 실시예를 보여준다.4 illustrates an embodiment in which a color filter is further added to the display device of FIG. 1 to implement a color display.

도 4에서는 도 1의 구조와는 다르게, 박막층(10)과 보호층(12) 사이에 칼라 필터(11)를 구비하여, 칼라 전자 종이 등의 디스플레이 장치를 구현할 수 있는 구조를 보여준다. 각 픽셀은 3개의 칼라 요소 즉, R,G,B 칼라 요소를 표시하거나 4개의 칼라 요소 즉, C(cyan),M(magenta),Y(yellow),K(black) 칼라 요소를 표시하도록 전극(6), 구동 회로(4) 및 칼라 필터(11) 등이 마련될 수 있다. 도 4에서는 예시적으로, 각 픽셀이 3개의 칼라 요소 즉, R,G,B 칼라 요소를 표시하도록 마련된 예를 보여준다.In FIG. 4, unlike the structure of FIG. 1, a color filter 11 is provided between the thin film layer 10 and the protective layer 12 to show a structure in which a display device such as a color electronic paper may be implemented. Each pixel represents three color elements, that is, R, G, and B color elements, or four color elements, that is, C (cyan), M (magenta), Y (yellow), and K (black) color elements. (6), the drive circuit 4, the color filter 11, etc. can be provided. In FIG. 4, for example, each pixel is provided to display three color elements, that is, R, G, and B color elements.

한편, 도 1 및 도 4에서와 같은 디스플레이 장치를 실리콘 기판에 형성하면, 기존의 실리콘 공정을 활용할 수 있다. Meanwhile, when the display device as shown in FIGS. 1 and 4 is formed on a silicon substrate, an existing silicon process may be utilized.

도 5는 본 발명의 실시예에 따른 디스플레이 장치의 박막층에서의 흡수나 투과 또는 반사 동작을 설명하기 위한 도면이다.5 is a view for explaining the absorption, transmission or reflection operation in the thin film layer of the display device according to an embodiment of the present invention.

도 5의 왼쪽 부분에 보여진 바와 같이, 박막층(10)을 이루는 물질 예컨대, 그래핀의 페르미 레벨(Fermi-level)이 디락 포인트(Dirac point)에 있는 경우모든 파장대의 광을 흡수 할 수 있다. 반면에, 도 5의 오른쪽 부분에 보여진 바와 같이, 전극(6)에 전압을 인가함에 의해 그래핀에 페르미 레벨이 디락 포인트로 부터 충분히 멀어지도록 예컨대, 약 2eV 정도 위 또는 아래에 있도록 전기장이 인가되면 광을 흡수하기 위한 캐리어(carrier)가 더 이상 없어지게 되고, 박막층(10)은 광을 흡수할 수 없게 된다. 따라서, 이 경우, 박막층(10)은 광을 투과 또는 반사하게 된다.As shown in the left part of FIG. 5, when the Fermi-level of the material constituting the thin film layer 10, for example, the Fermi-level of the graphene is at the Dirac point, light of all wavelengths may be absorbed. On the other hand, as shown in the right part of FIG. 5, when the electric field is applied to the graphene by applying a voltage to the graphene so that the Fermi level is sufficiently far from the de-lock point, for example, about 2 eV above or below. Carriers for absorbing light no longer exist, and the thin film layer 10 may not absorb light. Therefore, in this case, the thin film layer 10 transmits or reflects light.

이상에서 본 발명에 따른 바람직한 실시예가 설명되었으나, 이는 예시적인 것에 불과하며, 당해 분야에서 통상적 지식을 가진 자라면 이로부터 다양한 변형 및 균등한 타 실시예가 가능하다는 점을 이해할 것이다. 따라서, 본 발명의 진정한 기술적 보호범위는 첨부된 특허청구범위에 의해서 정해져야 할 것이다.Although the preferred embodiment according to the present invention has been described above, this is merely illustrative, and those skilled in the art will understand that various modifications and equivalent other embodiments are possible therefrom. Therefore, the true technical protection scope of the present invention will be defined by the appended claims.

도 1은 본 발명의 일 실시예에 따른 전기장에 의해 광의 흡수율이 조절되는 박막층을 적용한 디스플레이 장치를 보여준다. 1 illustrates a display apparatus using a thin film layer in which light absorption is controlled by an electric field according to an embodiment of the present invention.

도 2는 본 발명의 실시예에 따른 디스플레이 장치의 동작원리를 설명하는 도면이다.2 is a view for explaining the principle of operation of the display device according to an embodiment of the present invention.

도 3은 본 발명의 실시예에 따른 디스플레이 장치의 두 동작 모드를 설명하는 도면이다.3 is a diagram illustrating two operation modes of a display apparatus according to an exemplary embodiment of the present invention.

도 4는 도 1의 디스플레이 장치에 칼라 필터가 더 부가되어 칼라 디스플레이를 구현하도록 된 실시예를 보여준다.4 illustrates an embodiment in which a color filter is further added to the display device of FIG. 1 to implement a color display.

도 5는 본 발명의 실시예에 따른 디스플레이 장치의 박막층에서의 흡수나 투과 또는 반사 동작을 설명하기 위한 도면이다.5 is a view for explaining the absorption, transmission or reflection operation in the thin film layer of the display device according to an embodiment of the present invention.

<도면의 주요 부분에 대한 부호의 설명><Explanation of symbols for the main parts of the drawings>

2: 기판 4: 구동 회로2: substrate 4: drive circuit

6: 전극 8: 절연층6: electrode 8: insulation layer

10: 박막층 12: 보호층10: thin film layer 12: protective layer

Claims (19)

기판;Board; 상기 기판상에 형성되며 인가되는 전기장에 따라 광의 흡수율이 변하는 박막층; 및A thin film layer formed on the substrate and having a light absorption rate changed according to an applied electric field; And 상기 박막층에 전기장을 인가하도록 마련되어, 상기 박막층에 인가되는 전기장을 변화시키는 전극;을 포함하는 디스플레이 장치. And an electrode provided to apply an electric field to the thin film layer to change an electric field applied to the thin film layer. 제 1 항에 있어서, 상기 박막층은 밴드갭 에너지가 1.7 eV 이하인 물질을 포함하는 디스플레이 장치.The display apparatus of claim 1, wherein the thin film layer comprises a material having a band gap energy of 1.7 eV or less. 제 2 항에 있어서, 상기 박막층은 그레핀(grapheme) 또는 그레파이트(graphite) 층을 포함하는 디스플레이 장치.The display apparatus of claim 2, wherein the thin film layer comprises a graphene or graphite layer. 제 1 항에 있어서,The method of claim 1, 상기 박막층은 탄소 박막층을 포함하는 디스플레이 장치. The thin film layer includes a carbon thin film layer. 제 4 항에 있어서,The method of claim 4, wherein 상기 탄소 박막층은 그레핀(grapheme) 또는 그레파이트(graphite) 층을 포함하는 디스플레이 장치.The carbon thin film layer includes a graphene or graphite layer. 제 1 항에 있어서,The method of claim 1, 상기 박막층과 상기 전극 사이에는 절연층이 더 구비되는 디스플레이 장치.The display device further comprises an insulating layer between the thin film layer and the electrode. 제 1 항에 있어서,The method of claim 1, 상기 박막층 상에는 투명 보호층이 더 구비되는 디스플레이 장치.The display device further comprises a transparent protective layer on the thin film layer. 제 1 항에 있어서,The method of claim 1, 상기 전극은 미러로서 역할을 하는 금속 전극인 디스플레이 장치.And the electrode is a metal electrode serving as a mirror. 기판;Board; 상기 기판상에 형성되며 인가되는 전기장에 따라 광의 흡수율이 변하는 박막층; A thin film layer formed on the substrate and having a light absorption rate changed according to an applied electric field; 상기 박막층에 전기장을 인가하도록 마련되어, 상기 박막층에 인가되는 전기장을 변화시키는 전극;An electrode provided to apply an electric field to the thin film layer to change an electric field applied to the thin film layer; 상기 박막층과 상기 전극 사이의 절연층; 및An insulating layer between the thin film layer and the electrode; And 상기 박막층 상의 투명 보호층;을 포함하는 디스플레이 장치. And a transparent protective layer on the thin film layer. 제 9 항에 있어서, 상기 전극은 미러로서 역할을 하는 금속 전극인 디스플레이 장치.The display apparatus of claim 9, wherein the electrode is a metal electrode serving as a mirror. 제 10 항에 있어서, 상기 박막층은 밴드갭 에너지가 1.7 eV 이하인 물질을 포함하는 디스플레이 장치.The display apparatus of claim 10, wherein the thin film layer comprises a material having a band gap energy of 1.7 eV or less. 제 11 항에 있어서, 상기 박막층은 그레핀(grapheme) 또는 그레파이트(graphite) 층을 포함하는 디스플레이 장치.The display device of claim 11, wherein the thin film layer comprises a graphene or graphite layer. 제 10 항에 있어서,The method of claim 10, 상기 박막층은 탄소 박막층을 포함하는 디스플레이 장치. The thin film layer includes a carbon thin film layer. 제 13 항에 있어서,The method of claim 13, 상기 탄소 박막층은 그레핀(grapheme) 또는 그레파이트(graphite) 층을 포함하는 디스플레이 장치.The carbon thin film layer includes a graphene or graphite layer. 제 1 항 내지 제 14 항 중 어느 한 항에 있어서,The method according to any one of claims 1 to 14, 상기 박막층 상에 컬러 필터를 더 구비하는 디스플레이 장치.The display device further comprises a color filter on the thin film layer. 제 15 항에 있어서,The method of claim 15, 상기 기판과 박막층 사이에 적어도 일부분이 불투명 물질로 된 구동 회로를 더 포함하는 디스플레이 장치.And a driving circuit at least partially formed of an opaque material between the substrate and the thin film layer. 제 16 항에 있어서,The method of claim 16, 상기 기판은 실리콘 기판이고,The substrate is a silicon substrate, 상기 구동 회로는 적어도 일부분이 실리콘을 포함하는 불투명 물질로 형성된 디스플레이 장치.And the driving circuit is formed of an opaque material at least partially comprising silicon. 제 1 항 내지 제 14 항 중 어느 한 항에 있어서,The method according to any one of claims 1 to 14, 상기 기판과 박막층 사이에 적어도 일부분이 불투명 물질로 된 구동 회로를 더 포함하는 디스플레이 장치.And a driving circuit at least partially formed of an opaque material between the substrate and the thin film layer. 제 18 항에 있어서,The method of claim 18, 상기 기판은 실리콘 기판이고,The substrate is a silicon substrate, 상기 구동 회로는 적어도 일부분이 실리콘을 포함하는 불투명 물질로 형성된 디스플레이 장치.And the driving circuit is formed of an opaque material at least partially comprising silicon.
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