KR20100063521A - Casting roll surface treatment method for strip casting and manufactured casting roll thereby - Google Patents

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Abstract

PURPOSE: A casting roll surface treatment method for strip casting and a casting roll manufactured by the same are provided to reduce the processing time by employing both etching and laser machining. CONSTITUTION: A casting roll surface treatment method for strip casting comprises the steps of: pre-treating the surface of a casting roll(100) with water washing, forming a masking film(110) on the surface of the casting roll, irradiating a laser in order to remove the masking film from the part of the casting roll surface to be etched, etching the surface of the casting roll into a pattern(120), and removing the masking film remaining in the etched surface of the casting roll.

Description

박판주조용 주조롤의 표면 처리방법 및 그 방법에 의해 제조된 주조롤{CASTING ROLL SURFACE TREATMENT METHOD FOR STRIP CASTING AND MANUFACTURED CASTING ROLL THEREBY}CASTING ROLL SURFACE TREATMENT METHOD FOR STRIP CASTING AND MANUFACTURED CASTING ROLL THEREBY}

본 발명은 박판주조용 주조롤의 표면 처리방법 및 그 방법에 의해 제조된 주조롤에 관한 것으로, 보다 상세하게는 쌍롤식, 단롤식, 벨트식 등으로 박판을 제조할 때에 주조용 주조롤 또는 몰드의 표면에 일정 깊이의 무늬를 용이하면서 효율적으로 가공할 수 있도록 개선된 박판주조용 주조롤의 표면 처리방법 및 그 방법에 의해 제조된 주조롤에 관한 것이다.The present invention relates to a method for treating a surface of a casting roll for sheet casting and a casting roll manufactured by the method. More particularly, the present invention relates to a casting roll or a mold for casting a sheet when the sheet is manufactured by a twin roll, a single roll, a belt, or the like. The present invention relates to a method for treating a surface of a casting roll for thin plate casting, and a casting roll manufactured by the method.

일반적으로, 박판주조법은 최종 제품 두께에 가까운 박판을 급속 응고시켜 주조하기 때문에 주조된 박판의 표면품질이 매우 중요하다.In general, the sheet casting method is very important because the surface quality of the cast thin plate is cast by rapid solidification of the thin plate close to the final product thickness.

즉, 주조롤과 용강이 접촉되는 시간이 매우 짧기 때문에 응고불균일로 인한 표면 균열이 발생된다거나 혹은 응고시 표면이 미소한 오목부가 생성되면 후속되는 압연공정 등에서 제거가 불가능하게 되고, 응고조직의 불균일이 발생되면 최종 제품에서 표면 광택 불균일이 발생되어 제품으로서의 가치가 떨어지게 된다.That is, because the time between the casting roll and the molten steel is very short, if surface cracks are generated due to uneven solidification or if recesses having a small surface are formed during solidification, it is impossible to remove them in a subsequent rolling process, resulting in uneven solidification structure. This can cause surface gloss non-uniformity in the final product, degrading its value as a product.

이를 해결하기 위해, 주조롤 표면에 여러가지 방법으로 딤플(Dimple)을 부여하거나 혹은 요철을 부여하는 방법들이 개시된 바 있다.In order to solve this problem, a method of imparting dimples or irregularities to the casting roll surface in various ways has been disclosed.

그러한 대표적인 방법으로, 숏블라스팅, 포토에칭, 레이저 가공 등을 들 수 있으며, 이들 방법에 의해 가공된 딤플(요철)들은 치수와 형상에 있어 차이가 있고, 그로 인한 효과도 차별화되기 때문에 이들을 혼용하여 사용하기도 한다.Such representative methods include shot blasting, photoetching, laser processing, and the like. Dimples processed by these methods have irregularities in dimensions and shapes, and the effects thereof are also differentiated, so they are used in combination. Sometimes.

예컨대, 숏블라스팅에 의해 형성된 딤플에 추가로 레이저 가공하여 미소 딤플로 변형시킨다거나 혹은 포토에칭에 의해 형상이 식각된 주조롤 표면에 숏블라스팅을 통해 재가공을 한다든지와 같은 것들이 그것이다.For example, the dimples formed by shot blasting may be further laser processed to deform into small dimples, or may be reprocessed through shot blasting on the surface of the cast roll etched by photoetching.

그러나, 딤플의 형상과 깊이, 크기 등의 조절이 용이한 포토에칭 방식이 주로 선호되고 있는 바, 이는 주조롤 표면에 마스킹 수지를 도포하고, 그 위에 패턴이 인쇄된 필름을 감아 밀착시킨 다음, 자외선을 조사하여 선택적으로 마스킹 수지를 경화시켜 식각 부위의 수지를 제거하고 에칭하는 방식을 말한다.However, the photoetching method, which is easy to control the shape, depth, size, etc. of the dimple is mainly preferred. The masking resin is applied to the surface of the casting roll, and the pattern-printed film is wound thereon to closely adhere to the ultraviolet ray. It is a method of removing and etching the resin of the etching site by selectively curing the masking resin by irradiation.

이러한 예로, 일본특개 평02-295647이 있으나 포토에칭 방식의 특성상 감광을 위해 암실작업이 필수적으로 동반되고, 필름 밀착시 빛이 새어들어가지 않도록 하기 위해 주조롤의 표면이 매끈해야한다는 기술적 제약이 따른다.For example, Japanese Patent Application Laid-Open No. 02-295647, but due to the nature of the photoetching method, darkroom work is necessarily accompanied for photosensitization, and technical constraints that the surface of the casting roll must be smooth in order to prevent light from leaking when the film adheres to the film. .

한편, 한국공개특허 제2002-26539호와 국제특허공개 WO2001/85369에는 이산화탄소 레이저를 이용하여 숏블라스팅 등으로 가공된 0.5-3mm 직경과, 40-200㎛의 깊이를 갖는 딤플이 가공된 주조롤 표면에 50㎛ 이상인 미세 딤플이나 요철을 직접 용융 가공하는 방법이 개시되어 있다.On the other hand, Korean Patent Publication No. 2002-26539 and International Patent Publication No. WO2001 / 85369 use a carbon dioxide laser to process a casting roll surface having a 0.5-3 mm diameter processed by shot blasting and a dimple having a depth of 40-200 μm. A method of directly melt processing fine dimples and irregularities having a thickness of 50 µm or more is disclosed.

그러나, 이와 같은 이산화탄소 레이저 이용법의 경우 집광에 의한 에너지 집중에 의해 주조롤 표면을 용융시키기 때문에 촛점거리가 맞지 않으면 용융깊이가 얕아지 는 문제를 유발시킨다.However, in the case of using the carbon dioxide laser method, since the surface of the casting roll is melted by concentrating energy due to condensing, if the focal length is not correct, the melting depth becomes shallow.

그러한 예로, 깊이 40-200㎛ 깊이로 숏블라스팅된 딤플을 다시 레이저를 통해 미세 딤플로 가공할 경우 미세 딤플이 숏블라스팅 딤플의 기저부 중앙에 있느냐 모서리에 있느냐에 따라 20-100㎛ 가량의 촛점거리 차이를 유발시켜 가공된 미세 딤플의 깊이 편차를 발생시키고 이는 표면 품질을 떨어뜨리는 주된 요인이 되게 된다.For example, when the shot blasted dimples with a depth of 40-200 μm are fine dimpled by laser again, the focal length difference of about 20-100 μm depends on whether the fine dimples are at the center or the corner of the base of the shot blasting dimple. This results in a depth variation of the processed fine dimples, which is a major factor in deteriorating the surface quality.

특히, 상기 조건으로 실험해 보면, 상기와 같은 촛점거리 차이로 인해 최소 15%에서 최대 25%까지 목표 깊이 미달이 발생되었고, 또한 레이저에 의해 용융 휘발되고 남은 용융 금속찌꺼기(Spatter)들이 딤플 주위에 재부착되어 제거가 용이치 않아 결국 왜곡된 크레이터를 형성시키는 문제도 있었다.In particular, experiments under the above conditions showed that the difference in focal length resulted in a target depth shortage of at least 15% and up to 25%, and also molten volatilized by the laser and the remaining molten metals were re-circulated around the dimple. There was also a problem in that it was not easy to remove and attached, resulting in a distorted crater.

본 발명은 상기와 같은 종래의 문제점을 해결하기 위하여 제안한 것으로, 박판주조용 주조롤의 표면에 초기 가공된 딤플이 있을 경우 이를 재가공하여 미세 딤플로 만들 때 원하는 형상과 깊이로 왜곡없이 균일하게 가공할 수 있도록 한 박판주조용 주조롤의 표면 처리방법 및 그 방법에 의해 제조된 주조롤을 제공함에 그 주된 해결 과제가 있다.The present invention has been proposed to solve the above conventional problems, when there is an initial processed dimple on the surface of the casting roll for sheet casting, it can be processed uniformly without distortion to the desired shape and depth when making a fine dimple by reworking it. The main problem is to provide a surface treatment method of a thin cast steel roll for casting and a casting roll manufactured by the method.

본 발명은 상기한 해결 과제를 달성하기 위한 수단으로, 박판주조용 주조롤의 표면 처리방법에 있어서; 주조롤 표면에 마스킹 막을 부여하기 위한 마스킹 막 형성단계와; 상기 단계를 통해 마스킹 막이 형성된 주조롤 표면에 레이저를 조사하 여 식각할 부위의 마스킹 막을 제거하는 레이저 패터닝 단계와; 상기 단계를 통해 패터닝된 무늬를 갖는 주조롤 표면에 에칭액을 처리하여 패터닝 무늬를 식각하는 에칭단계와; 상기 단계를 통해 에칭된 주조롤 표면에 남은 마스킹 막을 제거하는 탈막 및 마무리 단계를 포함하는 것을 특징으로 한다. The present invention as a means for achieving the above object, in the surface treatment method of the casting roll for sheet casting; A masking film forming step for applying a masking film to the casting roll surface; A laser patterning step of removing a masking film of a portion to be etched by irradiating a laser onto a casting roll surface on which a masking film is formed through the step; An etching step of etching the patterned pattern by treating the surface of the casting roll having the patterned pattern through the step; And removing and finishing the masking film remaining on the surface of the cast roll etched through the above step.

또한, 상기 마스킹 막 형성단계 전에 탈지, 수세를 통한 주조롤 표면 전처리 단계가 더 수행되는 것을 특징으로 하며, 상기 마스킹 막 형성단계는 마스킹 막을 주조롤 표면에 직접 접착하는 방법 또는 액상의 마스킹재를 붓이나 분무장치등을 이용 주조롤 표면에 도포하여 건조후 막을 형성하는 방법으로 수행되는 것을 특징으로 한다.In addition, before the masking film forming step is characterized in that the casting roll surface pretreatment step is further performed by degreasing, washing with water, wherein the masking film forming step is a method of directly attaching the masking film to the surface of the casting roll or brushing liquid masking material It is characterized in that it is carried out by a method for forming a film after drying by applying to the surface of the casting roll using a spray device or the like.

또한 상기에서 형성되는 마스킹 막은 광경화성 액상 포토레지스트 수지인 것을 특징으로 하며, 상기 마스킹 막 형성 단계에서, 상기 마스킹 막이 형성되는 상기 주조롤 표면은 딤플 가공이 되지 않은 것 또는 숏블라스팅에 의해 딤플 가공이 되어 있는 것 모두를 포함하는 것을 특징으로 한다.In addition, the masking film formed in the above is characterized in that the photocurable liquid photoresist resin, wherein in the masking film forming step, the surface of the casting roll on which the masking film is formed is not dimple processing or dimple processing by shot blasting It is characterized by including all that is done.

또한, 상기 레이저 패터닝 단계에서 사용되는 레이저는 NdYVO4 레이저인 것을 특징으로 하며, 상기 청구항 1 내지 청구항 6 중 어느 한 항의 방법에 의해 제조된, 주조롤 표면 에칭에 의해 형성된 홈 에칭 깊이의 표준편차가 5.0%이하인 박판주조용 주조롤 자체를 제공하는 것에도 그 특징이 있다. In addition, the laser used in the laser patterning step is characterized in that the NdYVO 4 laser, the standard deviation of the groove etching depth formed by the casting roll surface etching, produced by the method of any one of claims 1 to 6 is 5.0 It is also a feature to provide the casting roll itself for sheet casting which is less than%.

본 발명에 따르면, 에칭과 레이저 가공을 병행하되 에칭시 공정 일부를 레이저 가공을 통해 이루어지도록 하여 공정단축이 가능하고, 표면처리 대상면의 요철 유무에 상관없이 균일한 깊이로 가공할 수 있게 되며, 그로 인해 최종 제품의 품질도 향상시키는 효과를 얻을 수 있다.According to the present invention, etching and laser processing are performed in parallel, but the process can be shortened by performing laser processing during etching, and the processing can be performed at a uniform depth regardless of the presence or absence of irregularities on the surface to be treated. As a result, the quality of the final product can be improved.

이하에서는, 첨부도면을 참고하여 본 발명에 따른 바람직한 실시예를 보다 상세하게 설명하기로 한다.Hereinafter, with reference to the accompanying drawings will be described in detail a preferred embodiment according to the present invention.

도 1은 본 발명에 따른 주조롤 표면 처리방법을 설명하는 공정도이고, 도 2는 본 발명에 따른 주조롤 표면 처리중 레이저 패터닝 후의 주조롤 표면 사진이며, 도 3은 본 발명에 따른 표면 처리완료된 주조롤 표면의 3차원 측정된 사진이고, 도 4는 도 3의 깊이 프로파일이며, 도 5는 본 발명에 따른 표면 처리중 육각 패턴의 예시도이고, 도 6은 도 5에 대한 에칭후 사진이며, 도 7은 숏블라스팅된 요철면을 본 발명 방법으로 처리한 주조롤의 표면 사진이다.1 is a process chart illustrating a casting roll surface treatment method according to the present invention, Figure 2 is a photograph of the casting roll surface after laser patterning during the casting roll surface treatment according to the present invention, Figure 3 is a surface-treated casting according to the present invention 3 is a three-dimensional measured photograph of the surface of the roll, FIG. 4 is a depth profile of FIG. 3, FIG. 5 is an exemplary view of a hexagonal pattern during surface treatment according to the present invention, and FIG. 6 is a post-etch photograph of FIG. 5, FIG. 7 is a photograph of the surface of the casting roll treated the shot blasted uneven surface by the method of the present invention.

도 1에 도시된 바와 같이, 본 발명에 따른 주조롤 표면 처리방법은 일반적인 에칭 설비와, 주조롤(100)을 회전시키면서 레이저 가공할 수 있는 설비에 의해 이루어진다.As shown in Figure 1, the casting roll surface treatment method according to the present invention is made by a general etching equipment, a facility capable of laser processing while rotating the casting roll (100).

즉, 본 발명은 주조롤(100) 표면에 마스킹 막을 도포한 후 주조롤(100) 회전설비를 통해 주조롤(100)을 회전시키면서 레이저로 주조롤(100) 표면의 식각하고 싶은 부위의 마스킹 막 만을 선택적으로 용융 휘발시킨 후 에칭설비를 통해 화학적 에칭함 으로써 원하는 깊이로 균일한 식각이 이루어지도록 한 것이다.That is, the present invention after applying the masking film on the surface of the casting roll 100, the masking film of the portion to be etched on the surface of the casting roll 100 by laser while rotating the casting roll 100 through the casting roll 100 rotating equipment By selectively melting the volatilization and then chemically etching through the etching equipment to uniform etching to the desired depth.

이때, 사용되는 마스킹 막은 액상의 광경화성 포토레지스트 수지(LPR)로서, 숏블라스팅에 의해 미리 생성된 딤플(요철)에도 균일한 두께로 도포되며, 마스킹 막의 선택적 제거수단으로 레이저를 사용함으로써 종래 에칭공정에서 필수적으로 요구되던 필름부착, 감광후 현상, 암실 작업 등이 생략될 수 있어 공정의 간소화도 꾀할 수 있고, 또한 딤플(요철)의 형상과 무관하게 균일한 에칭이 가능하게 된다. 특히, 레이저 광에 의한 패터닝 후 후처리없이 주조롤(100)을 바로 에칭할 수 있으므로 원하는 깊이로 균일한 딤플을 형성할 수 있게 된다.At this time, the masking film to be used is a liquid photocurable photoresist resin (LPR), which is also applied to dimples (unevenness) generated by shot blasting at a uniform thickness, and a conventional etching process by using a laser as a selective removal means of the masking film. The film adhesion, post-photosensitive development, darkroom work, etc., which were essentially required in the above, may be omitted, thereby simplifying the process, and uniform etching may be performed regardless of the shape of the dimple (unevenness). In particular, since the casting roll 100 can be directly etched without post-processing after patterning by laser light, a uniform dimple can be formed at a desired depth.

이러한 본 발명은 다음과 같은 과정을 통해 이루어진다.This invention is achieved through the following process.

예컨대, 도 1과 같이, 먼저 주조롤(100)의 표면 전처리가 수행된다.For example, as shown in FIG. 1, first, surface pretreatment of the casting roll 100 is performed.

상기 표면 전처리는 주조롤(100)의 표면에 부착된 이물질을 제거하여 표면의 균일화를 이루기 위한 것으로, 탈지, 수세 등을 들 수 있다.The surface pretreatment is for achieving uniformity of the surface by removing foreign matters adhered to the surface of the casting roll 100, and may include degreasing, washing with water, and the like.

이어, 표면 전처리된 주조롤(100)의 표면에 감광액인 마스킹 막(110)이 도포된다. Subsequently, a masking film 110, which is a photoresist, is applied to the surface of the surface precast casting roll 100.

마스킹 막의 형성방법은 마스킹 막을 주조롤 표면에 직접 접착하는 방법으로 하거나 또는 액상의 마스킹재를 붓이나 분무장치 등을 이용하여 주조롤 표면에 도포하여 건조후 막을 형성하는 방법으로 수행된다.  The method of forming the masking film is performed by directly attaching the masking film to the surface of the casting roll, or by applying a liquid masking material to the surface of the casting roll using a brush or a spray device, and then drying the film.

상기에서 도포되는 마스킹 막은 광경화성 액상 포토레지스트 수지를 사용하며, 상기 마스킹 막이 형성되는 주조롤 표면은 딤플 가공이 되지 않은 것, 또는 숏블라스팅에 의해 딤플 가공이 되어 있는 것 모두를 포함한다.The masking film applied in the above uses a photocurable liquid photoresist resin, and the cast roll surface on which the masking film is formed includes not dimpled or dimpled by shot blasting.

마스킹 막 (110)이 형성된 후 건조되고, 건조가 완료되면 광노출 상태로 이동하여 다음 공정인 레이저 패터닝을 수행하게 된다.After the masking film 110 is formed, the mask is dried, and when the drying is completed, the masking film 110 is moved to a light exposure state to perform laser patterning, which is a next process.

여기에서, 상기 레이저 패터닝은 NdYVO4 레이저를 이용함이 바람직하고, 도시된 패터닝 완료시의 모습처럼 주조롤(100)의 표면에 도포된 마스킹 막(110)의 일부에 패터닝 무늬(120)가 형성된다.Here, the laser patterning is preferably using a NdYVO4 laser, the patterning pattern 120 is formed on a portion of the masking film 110 applied to the surface of the casting roll 100, as shown in the completed patterning.

상기 패터닝 무늬(120)는 도 2의 예시와 같이, 레이저에 의해 마스킹 막 (110)이 제거된 마스킹막제거부(122)와, 마스킹 막(110)이 제거되지 않고 잔류된 마스킹막잔류부(124)로 이루어진다.As shown in FIG. 2, the patterning pattern 120 includes a masking film removing unit 122 from which the masking film 110 has been removed by a laser, and a masking film remaining unit 124 remaining without the masking film 110 being removed. )

이 상태에서 화학적 에칭을 하게 되면 광경화된 마스킹막잔류부(124)는 남고, 마스킹막제거부(122)는 에칭되어 원하는 깊이로 딤플을 형성할 수 있게 되는데, 도 3과 같이 에칭부(132)와 미에칭부(134)로 구분된다.When the chemical etching is performed in this state, the photocured masking film remaining part 124 remains, and the masking film removing part 122 is etched to form a dimple with a desired depth, as shown in FIG. 3. And the non-etching part 134.

이때, 상기 레이저 패터닝 및 에칭시 작업의 용이성과 균일성을 확보하기 위해 상기 주조롤(100)을 균일한 속도로 회전시키면서 레이저광 및 에칭액을 균일한 양 혹은 균일한 속도로 조사 또는 분사하여 실시함이 바람직하다.In this case, the laser beam and the etching solution are irradiated or sprayed at a uniform amount or at a uniform speed while rotating the casting roll 100 at a uniform speed to ensure ease and uniformity of the work during the laser patterning and etching. This is preferred.

이렇게 하여, 에칭에 의한 식각이 완료되면 탈막을 통해 미에칭부(134)인 잔류된 경화수지를 제거하고, 이어 후처리로 마무리하게 되면 본 발명에 따른 주조롤 표면 처리방법이 완료되게 되어 본 발명에 따른 주조롤(100)을 얻을 수 있게 된다.In this way, when the etching is completed by etching is completed by removing the remaining cured resin of the non-etched portion 134 through the film removal, and then finishing the post-treatment of the casting roll surface treatment method according to the present invention is completed It is possible to obtain a casting roll 100 according to.

상술한 바와 같은 방법으로 주조롤 표면을 처리하면 제조된 주조롤 표면은 에칭에 의해 형성된 홈 깊이의 표준편차는 5%이하인 것이 바람직한데, 만일 홈 깊이의 표준편차가 5%가 넘는 경우 박판 주조시 균일한 응고가 이루어질 수 없어 박판의 품 질이 떨어지는 문제점을 가지게 된다.When the surface of the casting roll is treated by the method as described above, it is preferable that the manufactured roll surface has a standard deviation of 5% or less of the groove depth formed by etching. Since uniform solidification cannot be made, there is a problem in that the quality of the sheet is degraded.

이하, 실시예에 대하여 설명한다.Hereinafter, an Example is described.

[실시예]EXAMPLE

본 발명에 따른 표면 처리방법을 통해 균일한 딤플(요철)을 얻을 수 있는지를 확인하게 위하여 주조롤(100) 표면에 기존과 같은 마스킹 막(110)을 도포한 후 NdYVO4 레이저를 이용하여 폭 0.5mm, 피치 0.8mm의 라인으로 마스킹 막(110)을 제거하였다.In order to confirm whether a uniform dimple (unevenness) can be obtained through the surface treatment method according to the present invention, after applying the masking film 110 as before on the surface of the casting roll 100 using NdYVO4 laser 0.5mm in width The masking film 110 was removed by a line having a pitch of 0.8 mm.

이후, 주조롤(100)을 일정속도로 회전시키면서 2.2kg/㎡으로 가압한 에칭액을 600초간 주조롤(100) 표면에 분사하였다.Thereafter, the etching solution pressurized at 2.2 kg / m 2 while rotating the casting roll 100 at a constant speed was sprayed onto the surface of the casting roll 100 for 600 seconds.

그 결과, 앞서 설명한 도 3과 같은 주조롤 표면을 얻을 수 있었고, 이때의 딤플 프로파일은 도 4와 같았다.As a result, it was possible to obtain a casting roll surface as shown in Figure 3 described above, the dimple profile at this time was as shown in FIG.

도 4에서와 같이, 에칭 깊이는 평균 129.4㎛, 표준편차 1.5%로서 거의 균일한 깊이로 에칭되었음을 확인할 수 있었다.As shown in Figure 4, the etching depth was 129.4 ㎛ average, 1.5% standard deviation was confirmed that the etching was almost uniform depth.

아울러, 패터닝 무늬(120)를 제어하기 위한 실험으로 육각 무늬를 패터닝 한 후 이를 에칭하였고, 그것에 대하여는 도 5와 도 6에 나타내었다.In addition, the hexagonal pattern is patterned and then etched as an experiment for controlling the patterning pattern 120, which is shown in FIGS. 5 and 6.

도 5,6에서와 같이, 육각 무늬의 경우에도 에칭을 통해 에칭부(132)와 미에칭부(134)가 명확하게 구분되었으며, 육각 무늬를 분명하게 나타내었고, 균일한 에칭 깊이를 보였다.5 and 6, in the case of the hexagonal pattern, the etching part 132 and the non-etching part 134 are clearly distinguished through etching, and the hexagonal pattern is clearly shown, and the uniform etching depth is shown.

이에 따라, 패터닝 무늬(120)도 원하는 형상대로 자유롭게 형성할 수 있음을 확인하였다.Accordingly, it was confirmed that the patterning pattern 120 can also be freely formed in a desired shape.

또한, 도 7에서와 같이, 숏블라스팅에 의해 이미 주조롤(100) 표면에 딤플이 가공되어 있는 경우의 것을 다시 미세가공하여 균일한 딤플을 이룰 수 있는지도 확인하였다.In addition, as shown in FIG. 7, it was also confirmed whether or not a dimple was already processed on the surface of the casting roll 100 by shot blasting again to achieve a uniform dimple.

이 경우는 Ra 15㎛로 숏블라스팅 처리된 주조롤(100) 표면에 라인형태로 레이저 패터닝을 행한 후 에칭하여 기 가공된 딤플의 경우에도 균일한 형상과 깊이를 가질 수 있는지를 확인한 것이다.In this case, laser patterning was performed on the surface of the cast roll 100 shot blasted at Ra at 15 μm in a line form, and then etching was performed to confirm whether the machined dimple had a uniform shape and depth.

확인 결과, 도 7에서와 같이, 가공된 딤플(142)가 에칭된 라인(144)의 확인을 통해 기 가공된 딤플의 경우에도 균일한 형상과 깊이를 갖는 딤플을 충분히 형성할 수 있음을 확인하였다.As a result, as shown in FIG. 7, the processed dimples 142 confirmed that the dimples having a uniform shape and depth could be sufficiently formed even in the case of the machined dimples by checking the etched line 144. .

뿐만 아니라, 에칭에 의해 식각되는 것이므로 레이저 가공시 발생되던 용융 금속찌꺼기(Spatter)들이 남아 있지도 않게 되어 표면 가공 품위도 향상되었다.In addition, since it is etched by etching, the molten metal residues (Spatter) generated during the laser processing is not left, so the surface processing quality is improved.

도 1은 본 발명에 따른 주조롤 표면 처리방법을 설명하는 공정도,1 is a process chart illustrating a casting roll surface treatment method according to the present invention;

도 2는 본 발명에 따른 주조롤 표면 처리중 레이저 패터닝 후의 주조롤 표면 사진,Figure 2 is a cast roll surface photograph after laser patterning during casting roll surface treatment according to the present invention,

도 3은 본 발명에 따른 표면 처리완료된 주조롤 표면의 3차원 측정된 사진,Figure 3 is a three-dimensional measured photograph of the surface of the cast roll surface treatment according to the present invention,

도 4는 도 3의 깊이 프로파일,4 is a depth profile of FIG. 3,

도 5는 본 발명에 따른 표면 처리중 육각 패턴의 예시도,5 is an exemplary view of a hexagonal pattern during surface treatment according to the present invention;

도 6은 도 5에 대한 에칭후 사진,6 is a photograph after etching for FIG. 5, FIG.

도 7은 숏블라스팅된 요철면을 본 발명 방법으로 처리한 주조롤의 표면 사진.Figure 7 is a photograph of the surface of the cast roll treated with the shot blasted uneven surface of the present invention method.

? 도면의 주요 부분에 대한 부호의 설명 ?? Explanation of symbols for the main parts of the drawing?

100....주조롤 110....마스킹 막100 .... casting roll 110 .... masking membrane

120....패터닝 무늬120 ... patterning pattern

Claims (7)

박판주조용 주조롤의 표면 처리방법에 있어서,In the surface treatment method of the casting roll for sheet casting, 주조롤 표면에 마스킹 막을 부여하기 위한 마스킹 막 형성단계와;A masking film forming step for applying a masking film to the casting roll surface; 상기 단계를 통해 마스킹 막이 형성된 주조롤 표면에 레이저를 조사하여 식각할 부위의 마스킹 막을 제거하는 레이저 패터닝 단계와;A laser patterning step of removing a masking film of a portion to be etched by irradiating a laser to the surface of the casting roll on which the masking film is formed through the step; 상기 단계를 통해 패터닝된 무늬를 갖는 주조롤 표면에 에칭액을 처리하여 패터닝 무늬를 식각하는 에칭단계와;An etching step of etching the patterned pattern by treating the surface of the casting roll having the patterned pattern through the step; 상기 단계를 통해 에칭된 주조롤 표면에 남은 마스킹 막을 제거하는 탈막 및 마무리 단계를 포함하는 것을 특징으로 하는 박판주조용 주조롤의 표면 처리방법.And a stripping and finishing step of removing the masking film remaining on the surface of the casting roll etched through the step. 청구항 1에 있어서,The method according to claim 1, 상기 마스킹 막 형성단계 전에 탈지, 수세를 통한 주조롤 표면 전처리 단계가 더 수행되는 것을 특징으로 하는 박판주조용 주조롤의 표면 처리방법.The surface treatment method of the casting roll for thin sheet casting, characterized in that before the masking film forming step, the casting roll surface pretreatment step through degreasing, washing with water. 청구항 1에 있어서,The method according to claim 1, 상기 마스킹 막 형성단계는 마스킹 막을 주조롤 표면에 직접 접착하는 방법 또는 액상의 마스킹재를 붓이나 분무장치등을 이용 주조롤 표면에 도포하여 건조후 막을 형성하는 방법으로 수행되는 것을 특징으로 하는 박판주조용 주조롤의 표면 처리방법.The masking film forming step may be performed by a method of directly attaching the masking film to the surface of the casting roll or by applying a liquid masking material to the surface of the casting roll using a brush or a spray device to form a film after drying. Surface treatment method of casting roll. 청구항 3에 있어서,The method according to claim 3, 상기 도포되는 상기 마스킹 막은 광경화성 액상 포토레지스트 수지인 것을 특징으로 하는 박판주조용 주조롤의 표면 처리방법.The masking film to be applied is a surface treatment method of the casting roll for thin plate casting, characterized in that the photocurable liquid photoresist resin. 청구항 1에 있어서;The method according to claim 1; 상기 마스킹 막 형성 단계에서, 상기 마스킹 막이 형성되는 상기 주조롤 표면은 딤플 가공이 되지 않은 것 또는 숏블라스팅에 의해 딤플 가공이 되어 있는 것 모두를 포함하는 것을 특징으로 하는 박판주조용 주조롤의 표면 처리방법.In the masking film forming step, the surface of the casting roll on which the masking film is formed includes a surface that is not dimpled or dimpled by shot blasting. . 청구항 1에 있어서;The method according to claim 1; 상기 레이저 패터닝 단계에서 사용되는 레이저는 NdYVO4 레이저인 것을 특징으로 하는 박판주조용 주조롤의 표면 처리방법.The laser used in the laser patterning step is a surface treatment method of the casting roll for sheet casting, characterized in that the NdYVO4 laser. 청구항 1 내지 청구항 6 중 어느 한 항의 방법에 의해 제조된, 주조롤 표면 에칭에 의해 형성된 홈 에칭 깊이의 표준편차가 5.0%이하인 것을 특징으로 하는 박판주조용 주조롤.The casting roll for sheet casting produced by the method of any one of claims 1 to 6, wherein the standard deviation of the groove etching depth formed by the casting roll surface etching is 5.0% or less.
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