KR20100038088A - Electrostatic chuck having multi-electrode pattern - Google Patents

Electrostatic chuck having multi-electrode pattern Download PDF

Info

Publication number
KR20100038088A
KR20100038088A KR1020100022195A KR20100022195A KR20100038088A KR 20100038088 A KR20100038088 A KR 20100038088A KR 1020100022195 A KR1020100022195 A KR 1020100022195A KR 20100022195 A KR20100022195 A KR 20100022195A KR 20100038088 A KR20100038088 A KR 20100038088A
Authority
KR
South Korea
Prior art keywords
electrode
pattern
electrostatic chuck
stepped
electrode pattern
Prior art date
Application number
KR1020100022195A
Other languages
Korean (ko)
Other versions
KR100965416B1 (en
Inventor
하수철
박우종
Original Assignee
주식회사 에이디피엔지니어링
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by 주식회사 에이디피엔지니어링 filed Critical 주식회사 에이디피엔지니어링
Priority to KR1020100022195A priority Critical patent/KR100965416B1/en
Publication of KR20100038088A publication Critical patent/KR20100038088A/en
Application granted granted Critical
Publication of KR100965416B1 publication Critical patent/KR100965416B1/en

Links

Images

Classifications

    • H—ELECTRICITY
    • H01—ELECTRIC ELEMENTS
    • H01L—SEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
    • H01L21/00—Processes or apparatus adapted for the manufacture or treatment of semiconductor or solid state devices or of parts thereof
    • H01L21/67—Apparatus specially adapted for handling semiconductor or electric solid state devices during manufacture or treatment thereof; Apparatus specially adapted for handling wafers during manufacture or treatment of semiconductor or electric solid state devices or components ; Apparatus not specifically provided for elsewhere
    • H01L21/683—Apparatus specially adapted for handling semiconductor or electric solid state devices during manufacture or treatment thereof; Apparatus specially adapted for handling wafers during manufacture or treatment of semiconductor or electric solid state devices or components ; Apparatus not specifically provided for elsewhere for supporting or gripping
    • H01L21/6831—Apparatus specially adapted for handling semiconductor or electric solid state devices during manufacture or treatment thereof; Apparatus specially adapted for handling wafers during manufacture or treatment of semiconductor or electric solid state devices or components ; Apparatus not specifically provided for elsewhere for supporting or gripping using electrostatic chucks
    • H01L21/6833—Details of electrostatic chucks
    • H—ELECTRICITY
    • H02—GENERATION; CONVERSION OR DISTRIBUTION OF ELECTRIC POWER
    • H02N—ELECTRIC MACHINES NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
    • H02N13/00—Clutches or holding devices using electrostatic attraction, e.g. using Johnson-Rahbek effect

Abstract

PURPOSE: An electrostatic chuck including a multiple electrode pattern is provided to improve the usage of the electrostatic chuck by forming a plurality of electrode patterns with different poles. CONSTITUTION: A descent step type electrode and an ascent step type electrode(333) are repeatedly formed on an insulation layer. The descent step type electrode and the ascent step type electrode are spaced apart from each other. A first electrode(350) is formed between the descent step type electrode and the ascent step type electrode and is the same pole as the descent step type electrode and the ascent step type electrode. A second electrode(370) is formed between the first electrode, the descent step type electrode and the ascent step type electrode and is the opposite pole to the first electrode.

Description

다중 전극 패턴을 가지는 정전척{Electrostatic Chuck having multi-electrode pattern}Electrostatic Chuck having multi-electrode pattern

본 발명은 정전척에 관한 것으로, 특히 전극을 다중으로 패턴화함으로써, 전극의 일부에 결함이 발생한 경우에도 정전기력을 발생할 수 있는 다중 전극 패턴을 가지는 정전척에 관한 것이다.
BACKGROUND OF THE INVENTION 1. Field of the Invention The present invention relates to an electrostatic chuck, and more particularly, to an electrostatic chuck having a multi-electrode pattern capable of generating an electrostatic force even when a defect occurs in a part of the electrode by patterning the electrodes multiplely.

도 1은 종래의 정전척 단면도이다.1 is a cross-sectional view of a conventional electrostatic chuck.

도 1에 도시된 바와 같이, 종래의 정전척(10)은 절연층(11) 상에 특정 극을 가지는 전극으로 구성되는 제1 전극층(13)과, 상기 제1 전극층(13) 상에 형성되는 별도의 절연층(15)과, 상기 별도의 절연층(15) 상에 패턴화되어 형성되되, 상기 제1 전극층(13)에 형성되는 전극과 반대되는 극을 가지는 전극으로 구성되는 제2 전극층(17)을 포함하여 이루어진다.As shown in FIG. 1, the conventional electrostatic chuck 10 is formed on the first electrode layer 13 and the first electrode layer 13, which are composed of electrodes having specific poles on the insulating layer 11. A second electrode layer formed of a separate insulating layer 15 and an electrode having a pattern formed on the separate insulating layer 15 and having an opposite pole to an electrode formed on the first electrode layer 13 ( 17).

도 1에서는 제1 전극층(13)이 양의 전극으로 구성되고, 제2 전극층(17)이 음의 전극으로 구성되는 것으로 예시하고 있다. 상기와 같은 구조에서 상기 제1 전극층(13)과 제2 전극층(17)을 구성하는 양의 전극과 음의 전극에 전원을 인가하면, 정전기력이 발생하여 정전척(10) 상면에 올려놓여지는 피흡착체(미도시)를 흡착할 수 있다.In FIG. 1, the first electrode layer 13 is configured as a positive electrode, and the second electrode layer 17 is illustrated as being a negative electrode. When the power is applied to the positive electrode and the negative electrode constituting the first electrode layer 13 and the second electrode layer 17 in the above structure, the electrostatic force is generated to be absorbed placed on the upper surface of the electrostatic chuck 10 The complex (not shown) can be adsorbed.

도 2는 종래의 다른 구조를 가지는 정전척의 단면도이다.2 is a cross-sectional view of an electrostatic chuck having another conventional structure.

도 2에 도시된 바와 같이, 다른 구조를 가지는 종래의 정전척(20)은 절연층(21) 상에 양의 전극(23)과 음의 전극(25)이 교대로 패턴화되는 전극층을 포함하여 이루어진다.As shown in FIG. 2, the conventional electrostatic chuck 20 having another structure includes an electrode layer on which the positive electrode 23 and the negative electrode 25 are alternately patterned on the insulating layer 21. Is done.

상기 도 1 및 도 2에 도시된 종래의 정전척을 이용하는 경우, 전극의 일부에 단락 등의 결함이 발생한 경우에는 더 이상 정전기력을 발생할 수 없어 피흡착체를 흡착할 수 없는 문제점이 발생한다. 즉, 전극의 일부에 결함이 발생하는 경우에는 정전척을 바로 교체해야 하는 문제점이 발생한다.
In the case of using the conventional electrostatic chuck shown in FIGS. 1 and 2, when a defect such as a short circuit occurs in a part of the electrode, electrostatic force can no longer be generated, and thus a problem in that the adsorbed body cannot be absorbed occurs. That is, when a defect occurs in a part of the electrode, a problem arises in that the electrostatic chuck needs to be replaced immediately.

본 발명은 상기와 같은 종래 기술의 문제점을 해결하기 위하여 창안된 것으로, 전극을 다중으로 패턴화함으로써, 전극의 일부에 결함이 발생한 경우에도 정전기력을 발생할 수 있는 다중 전극 패턴을 가지는 정전척을 제공하는 것을 그 목적으로 한다.
The present invention was devised to solve the above problems of the prior art, and by patterning the electrodes multiplely, to provide an electrostatic chuck having a multi-electrode pattern that can generate an electrostatic force even if a portion of the electrode is defective. For that purpose.

상기와 같은 기술적 과제를 해결하기 위하여 제안된 본 발명인 다중 전극 패턴을 가지는 정전척을 이루는 구성수단은, 특정 극의 전극으로 패턴화되는 제1 전극층과, 상기 제1 전극층 상부 및 하부면에 형성되는 상부 및 하부 절연층과, 상기 상부 절연층 및 하부 절연층 상에 형성되되, 상기 제1 전극층과 반대 극의 전극으로 패턴화되는 제2 전극층을 포함하여 이루어진 것을 특징으로 한다.In order to solve the above technical problem, a constituent means for forming an electrostatic chuck having a multi-electrode pattern according to the present invention is formed on a first electrode layer patterned by electrodes of a specific pole, and formed on upper and lower surfaces of the first electrode layer. And upper and lower insulating layers, and second electrode layers formed on the upper and lower insulating layers and patterned by electrodes opposite to the first electrode layer.

또한, 상기 제1 전극층에 패턴화되는 전극과 상기 상부 절연층 상에 형성되는 제2 전극층에 패턴화되는 전극이 제1 전극 패턴으로 구성되고, 상기 제1 전극층에 패턴화되는 전극과 상기 하부 절연층 상에 형성되는 제2 전극층에 패턴화되는 전극이 제2 전극 패턴으로 구성되는 것을 특징으로 한다.In addition, an electrode patterned on the first electrode layer and an electrode patterned on a second electrode layer formed on the upper insulating layer may include a first electrode pattern, and an electrode patterned on the first electrode layer and the lower insulation. The electrode patterned on the second electrode layer formed on the layer is characterized by consisting of a second electrode pattern.

또한, 상기 제1 전극 패턴과 상기 제2 전극 패턴은 선택적으로 사용되는 것이 바람직하다. 즉, 상기 제1 전극 패턴과 제2 전극 패턴 중 하나만을 사용하다가, 사용되는 전극 패턴에 결함이 발생한 경우에 다른 전극 패턴을 사용할 수 있다.In addition, the first electrode pattern and the second electrode pattern are preferably used selectively. That is, while only one of the first electrode pattern and the second electrode pattern is used, another electrode pattern may be used when a defect occurs in the electrode pattern used.

한편, 또 다른 실시예에 따른 본 발명의 구성수단은, 특정 극의 전극으로 패턴화되는 제1 전극층과, 상기 제1 전극층 상부면에 형성되는 절연층과, 상기 절연층 상에 형성되되, 양의 전극과 음의 전극이 교대로 패턴화되는 제2 전극층을 포함하여 이루어진 것을 특징으로 한다.On the other hand, the constituent means of the present invention according to another embodiment is formed on the first electrode layer, the insulating layer formed on the upper surface of the first electrode layer, and the insulating layer is patterned to the electrode of a specific pole, It characterized in that it comprises a second electrode layer in which the electrode of the negative electrode and the negative electrode is patterned alternately.

또한, 상기 절연층 상에 교대로 패턴화되는 양의 전극과 음의 전극이 제1 전극 패턴으로 구성되고, 상기 제1 전극층에 패턴화되는 전극과 상기 제2 전극층에 패턴화되는 전극 중 상기 제1 전극층에 패턴화되는 전극의 극과 반대되는 극을 가지는 전극이 제2 전극 패턴으로 구성되는 것을 특징으로 한다.Further, the positive electrode and the negative electrode which are alternately patterned on the insulating layer are composed of a first electrode pattern, and the first electrode among the electrodes patterned on the first electrode layer and the electrode patterned on the second electrode layer. The electrode having a pole opposite to the pole of the electrode patterned in the first electrode layer is characterized by being composed of a second electrode pattern.

또한, 상기 제1 전극 패턴과 상기 제2 전극 패턴은 선택적으로 사용되는 것이 바람직하다. 즉, 상기 제1 전극 패턴과 제2 전극 패턴 중 하나만을 사용하다가, 사용되는 전극 패턴에 결함이 발생한 경우에 다른 전극 패턴을 사용할 수 있다.In addition, the first electrode pattern and the second electrode pattern are preferably used selectively. That is, while only one of the first electrode pattern and the second electrode pattern is used, another electrode pattern may be used when a defect occurs in the electrode pattern used.

한편, 또 다른 실시예에 따른 본 발명의 구성수단은, 절연층 상에 소정 간격을 두고 연속적으로 반복 형성되되, 동일 극을 가지는 하강 계단형 전극 및 상승 계단형 전극, 상기 하강 계단형 전극과 상승 계단형 전극 사이에 형성되되, 상기 하강 계단형 전극 및 상승 계단형 전극과 동일한 극을 가지는 제1 전극, 상기 제1 전극과 상기 하강 계단형 전극 및 상승 계단형 전극 사이에 형성되되, 상기 제1 전극과 반대 극을 가지는 제2 전극을 포함하여 이루어진 것을 특징으로 한다.On the other hand, the constituent means of the present invention according to another embodiment, which is formed on the insulating layer continuously repeated at predetermined intervals, the falling stepped electrode and the rising stepped electrode having the same pole, the falling stepped electrode and the rising A first electrode having a same pole as the falling stepped electrode and the rising stepped electrode, and formed between the first electrode and the falling stepped electrode and the rising stepped electrode; And a second electrode having an opposite pole to the electrode.

또한, 상기 하강 계단형 전극 및 상승 계단형 전극과 상기 제2 전극이 제1 전극 패턴으로 구성되고, 상기 제1 전극과 제2 전극이 제2 전극 패턴으로 구성되는 것을 특징으로 한다.The falling stepped electrode and the rising stepped electrode and the second electrode may be configured as a first electrode pattern, and the first electrode and the second electrode may be configured as a second electrode pattern.

또한, 상기 제1 전극 패턴과 상기 제2 전극 패턴은 선택적으로 사용되는 것이 바람직하다. 즉, 상기 제1 전극 패턴과 제2 전극 패턴 중 하나만을 사용하다가, 사용되는 전극 패턴에 결함이 발생한 경우에 다른 전극 패턴을 사용할 수 있다.
In addition, the first electrode pattern and the second electrode pattern are preferably used selectively. That is, while only one of the first electrode pattern and the second electrode pattern is used, another electrode pattern may be used when a defect occurs in the electrode pattern used.

상기와 같은 구성 및 작용 그리고 바람직한 실시예를 가지는 본 발명인 다중 전극 패턴을 가지는 정전척에 의하면, 전극이 다중으로 패턴화되기 때문에 전극의 일부에 결함이 발생한 경우에도 정상적인 전극 패턴을 이용하여 계속적으로 정전기력을 발생할 수 있는 장점이 있다.According to the electrostatic chuck having a multi-electrode pattern according to the present invention having the above-described configuration and operation and preferred embodiments, since the electrodes are multi-patterned, even when a part of the electrode is defective, the electrostatic force is continuously used using the normal electrode pattern. There is an advantage that can occur.

또한, 전극의 일부에 결함이 발생한 경우에도 정상적인 전극 패턴을 이용하면 되기 때문에 정전척의 교체 없이 지속적으로 피흡착체를 흡착할 수 있고, 결과적으로 정전척 이용 효율이 증대되는 장점이 있다.
In addition, even when a defect occurs in a part of the electrode, since the normal electrode pattern may be used, the adsorbed substance can be continuously adsorbed without replacing the electrostatic chuck, and consequently, the efficiency of using the electrostatic chuck is increased.

도 1 및 도 2는 종래의 정전척 단면도이다.
도 3은 본 발명의 제1 실시예에 따른 다중 전극 패턴을 가지는 정전척의 단면도이다.
도 4는 본 발명의 제2 실시예에 따른 다중 전극 패턴을 가지는 정전척의 단면도이다.
도 5는 본 발명의 제3 실시예에 따른 다중 전극 패턴을 가지는 정전척의 단면도이다.1 and 2 are cross-sectional views of a conventional electrostatic chuck.
3 is a cross-sectional view of an electrostatic chuck having a multi-electrode pattern according to the first embodiment of the present invention.
4 is a cross-sectional view of an electrostatic chuck having a multi-electrode pattern according to a second embodiment of the present invention.
5 is a cross-sectional view of an electrostatic chuck having a multi-electrode pattern according to a third embodiment of the present invention.

이하, 첨부된 도면을 참조하여 상기와 같은 구성수단으로 이루어져 있는 본 발명인 다중 전극 패턴을 가지는 정전척에 관한 작용 및 바람직한 실시예를 상세하게 설명한다.Hereinafter, with reference to the accompanying drawings will be described in detail the operation and preferred embodiment of the electrostatic chuck having a multi-electrode pattern of the present invention made up of the above configuration means.

도 3은 본 발명의 제1 실시예에 따른 다중 전극 패턴을 가지는 정전척의 단면도이다.3 is a cross-sectional view of an electrostatic chuck having a multi-electrode pattern according to the first embodiment of the present invention.

도 3에 도시된 바와 같이, 본 발명의 제1 실시예에 따른 다중 전극 패턴을 가지는 정전척(100)은, 특정 극의 전극으로 패턴화되는 제1 전극층(110)과, 상기 제1 전극층(110) 상부 및 하부면에 형성되는 상부 및 하부 절연층(130, 150)과, 상기 상부 절연층(130) 및 하부 절연층(150) 상에 형성되되, 상기 제1 전극층(110)과 반대 극의 전극으로 패턴화되는 제2 전극층(170, 190)을 포함하여 이루어진다.As shown in FIG. 3, the electrostatic chuck 100 having the multi-electrode pattern according to the first embodiment of the present invention includes a first electrode layer 110 patterned with electrodes of a specific pole and the first electrode layer ( 110 and upper and lower insulating layers 130 and 150 formed on the upper and lower surfaces, and formed on the upper insulating layer 130 and the lower insulating layer 150, and are opposite to the first electrode layer 110. It comprises a second electrode layer (170, 190) patterned by the electrode of.

상기 제1 전극층(110)이 양의 전극으로 구성되는 경우에는 상기 제2 전극층(170, 190)은 음의 전극으로 구성되고, 상기 제1 전극층(110)이 음의 전극으로 구성되는 경우에는 상기 제2 전극층(170, 190)은 양의 전극으로 구성된다. 도 3에서는 전자의 경우가 예시되고 있다.When the first electrode layer 110 is composed of positive electrodes, the second electrode layers 170 and 190 are composed of negative electrodes, and when the first electrode layer 110 is composed of negative electrodes, The second electrode layers 170 and 190 are composed of positive electrodes. The former case is illustrated in FIG. 3.

상기와 같은 전극 패턴을 가지는 본 발명의 제1 실시예에 따른 다중 전극 패턴을 가지는 정전척은 두개의 전극 패턴을 포함하고 있는 것이 된다. 즉, 상기 제1 전극층(110)에 패턴화되는 전극과 상기 상부 절연층(130) 상에 형성되는 제2 전극층(170)에 패턴화되는 전극이 제1 전극 패턴으로 구성되고, 상기 제1 전극층(110)에 패턴화되는 전극과 상기 하부 절연층(150) 상에 형성되는 제2 전극층(190)에 패턴화되는 전극이 제2 전극 패턴으로 구성된다.The electrostatic chuck having the multi-electrode pattern according to the first embodiment of the present invention having the above electrode pattern includes two electrode patterns. That is, an electrode patterned on the first electrode layer 110 and an electrode patterned on the second electrode layer 170 formed on the upper insulating layer 130 are configured as a first electrode pattern, and the first electrode layer An electrode patterned on 110 and an electrode patterned on the second electrode layer 190 formed on the lower insulating layer 150 are configured as a second electrode pattern.

상기와 같은 제1 전극 패턴과 제2 전극 패턴은 경우에 따라서 선택적으로 사용되는 것이 바람직하다. 즉, 상기 제1 전극 패턴과 상기 제2 전극 패턴은 일정 기간동안 교대로 사용될 수도 있고, 둘 중 하나의 전극 패턴에 결함이 발생한 경우에는 정상적인 전극 패턴만을 지속적으로 사용할 수 있다.
As described above, the first electrode pattern and the second electrode pattern may be selectively used in some cases. That is, the first electrode pattern and the second electrode pattern may be used alternately for a predetermined period of time, or when a defect occurs in one of the electrode patterns, only the normal electrode pattern may be continuously used.

도 4는 본 발명의 제2 실시예에 따른 다중 전극 패턴을 가지는 정전척의 단면도이다.4 is a cross-sectional view of an electrostatic chuck having a multi-electrode pattern according to a second embodiment of the present invention.

도 4에 도시된 바와 같이, 본 발명의 제2 실시예에 따른 다중 전극 패턴을 가지는 정전척(200)은, 특정 극의 전극으로 패턴화되는 제1 전극층(230)과, 상기 제1 전극층(230) 상부면에 형성되는 절연층(210)과, 상기 절연층(210) 상에 형성되되, 양의 전극(250)과 음의 전극(270)이 교대로 패턴화되는 제2 전극층을 포함하여 이루어진다.As shown in FIG. 4, the electrostatic chuck 200 having the multi-electrode pattern according to the second embodiment of the present invention includes a first electrode layer 230 patterned with electrodes of a specific pole, and the first electrode layer ( 230, an insulating layer 210 formed on an upper surface thereof, and a second electrode layer formed on the insulating layer 210, wherein the positive electrode 250 and the negative electrode 270 are alternately patterned. Is done.

상기 제1 전극층(230)은 양의 전극 또는 음의 전극으로만 패턴화되고, 상기 제2 전극층은 양의 전극(250)과 음의 전극(270)이 교대로 패턴화되는 것이 본 발명의 제2 실시예에 따른 정전척에 포함되는 전극 패턴의 특징이다.According to an embodiment of the present invention, the first electrode layer 230 is patterned only with a positive electrode or a negative electrode, and the second electrode layer is alternately patterned with a positive electrode 250 and a negative electrode 270. Features of the electrode pattern included in the electrostatic chuck according to the second embodiment.

상기와 같은 전극 패턴을 가지는 본 발명의 제2 실시예에 따른 다중 전극 패턴을 가지는 정전척은 두개의 전극 패턴을 포함하고 있는 것이 된다. 즉, 상기 절연층(210) 상에 교대로 패턴화되는 양의 전극(250)과 음의 전극(270)이 제1 전극 패턴으로 구성되고, 상기 제1 전극층(230)에 패턴화되는 전극과 상기 제2 전극층에 패턴화되는 전극 중 상기 제1 전극층(230)에 패턴화되는 전극의 극과 반대되는 극을 가지는 전극이 제2 전극 패턴으로 구성된다.The electrostatic chuck having the multi-electrode pattern according to the second embodiment of the present invention having the above electrode pattern includes two electrode patterns. That is, the positive electrode 250 and the negative electrode 270 that are alternately patterned on the insulating layer 210 are composed of a first electrode pattern, and the electrode that is patterned on the first electrode layer 230; Among the electrodes patterned on the second electrode layer, an electrode having a pole opposite to that of the electrode patterned on the first electrode layer 230 is configured as a second electrode pattern.

상기와 같은 제1 전극 패턴과 제2 전극 패턴은 경우에 따라서 선택적으로 사용되는 것이 바람직하다. 즉, 상기 제1 전극 패턴과 상기 제2 전극 패턴은 일정 기간동안 교대로 사용될 수도 있고, 둘 중 하나의 전극 패턴에 결함이 발생한 경우에는 정상적인 전극 패턴만을 지속적으로 사용할 수 있다.
As described above, the first electrode pattern and the second electrode pattern may be selectively used in some cases. That is, the first electrode pattern and the second electrode pattern may be used alternately for a predetermined period of time, or when a defect occurs in one of the electrode patterns, only the normal electrode pattern may be continuously used.

도 5는 본 발명의 제3 실시예에 따른 다중 전극 패턴을 가지는 정전척의 단면도이다.5 is a cross-sectional view of an electrostatic chuck having a multi-electrode pattern according to a third embodiment of the present invention.

도 5에 도시된 바와 같이, 본 발명의 제3 실시예에 따른 다중 전극 패턴을 가지는 정전척(300)은, 절연층(310) 상에 소정 간격을 두고 연속적으로 반복 형성되되, 동일 극을 가지는 하강 계단형 전극(331) 및 상승 계단형 전극(333), 상기 하강 계단형 전극(331)과 상승 계단형 전극(333) 사이에 형성되되, 상기 하강 계단형 전극(331) 및 상승 계단형 전극(333)과 동일한 극을 가지는 제1 전극(350), 상기 제1 전극(350)과 상기 하강 계단형 전극(331) 및 상승 계단형 전극(333) 사이에 형성되되, 상기 제1 전극(350)과 반대 극을 가지는 제2 전극(370)을 포함하여 이루어진다.As shown in FIG. 5, the electrostatic chuck 300 having the multi-electrode pattern according to the third exemplary embodiment of the present invention is repeatedly formed at predetermined intervals on the insulating layer 310, but has the same pole. It is formed between the falling stepped electrode 331 and the rising stepped electrode 333, the falling stepped electrode 331 and the rising stepped electrode 333, the falling stepped electrode 331 and the rising stepped electrode A first electrode 350 having the same pole as 333, is formed between the first electrode 350 and the falling stepped electrode 331 and the rising stepped electrode 333, the first electrode 350 And a second electrode 370 having an opposite pole.

도 5에 도시된 바와 같이, 하강 계단형 전극(331)(오른쪽으로 갈 수록 낮아지는 형태의 전극)과 상승 계단형 전극(333)(오른쪽으로 갈 수록 높아지는 형태의 전극)이 교대로 순차적으로 패턴화되고, 상기 하강 계단형 전극(331)과 상승 계단형 전극(333) 사이의 빈 공간에 제1 전극(350)이 형성된다. 상기 제2 전극(350)은 상기 하강 계단형 전극(331) 및 상승 계단형 전극(330)과 동일한 극을 가지고, 동일한 높이를 가지는 것이 바람직하다.As shown in FIG. 5, the falling stepped electrode 331 (the electrode having a lower shape toward the right side) and the rising stepped electrode 333 (the electrode having a higher shape toward the right side) are alternately sequentially patterned. The first electrode 350 is formed in an empty space between the falling stepped electrode 331 and the rising stepped electrode 333. The second electrode 350 has the same pole as the falling stepped electrode 331 and the rising stepped electrode 330, and preferably has the same height.

상기와 같이 하강 계단형 전극(331) 및 상승 계단형 전극(333)과 제1 전극(350)이 패턴화되면, 상기 제1 전극(350)과 상기 하강 계단형 전극(331) 및 상승 계단형 전극(333) 사이에 빈 공간이 형성되는데, 이 빈 공간에 제2 전극(370)이 패턴화된다. 상기 제2 전극(370)은 상부 전극(371)과 하부 전극(373)으로 구분된다.When the falling stepped electrode 331, the rising stepped electrode 333, and the first electrode 350 are patterned as described above, the first electrode 350, the falling stepped electrode 331, and the rising stepped electrode An empty space is formed between the 333 and the second electrode 370 is patterned in the empty space. The second electrode 370 is divided into an upper electrode 371 and a lower electrode 373.

상기 하강 계단형 전극(331) 및 상승 계단형 전극(333)과 상기 제1 전극(35)은 동일 극을 가지는 전극이고, 상기 제2 전극(370)은 상기 하강 계단형 전극(331), 상승 계단형 전극(333) 및 상기 제1 전극(35)과는 반대 극을 가지는 전극이다. The falling stepped electrode 331 and the rising stepped electrode 333 and the first electrode 35 are electrodes having the same pole, and the second electrode 370 is the falling stepped electrode 331, rising The electrode has an opposite pole from the stepped electrode 333 and the first electrode 35.

따라서, 상기 하강 계단형 전극(331), 상승 계단형 전극(333) 및 상기 제1 전극(35)이 양의 전극이면, 상기 제2 전극(370)은 음의 전극으로 패턴화되고, 상기 하강 계단형 전극(331), 상승 계단형 전극(333) 및 상기 제1 전극(35)이 음의 전극이면, 상기 제2 전극(370)은 양의 전극으로 패턴화된다. 도 5에서는 후자를 예시하고 있다.Therefore, when the falling stepped electrode 331, the rising stepped electrode 333 and the first electrode 35 are positive electrodes, the second electrode 370 is patterned as a negative electrode, and the falling If the stepped electrode 331, the rising stepped electrode 333 and the first electrode 35 are negative electrodes, the second electrode 370 is patterned with a positive electrode. The latter is illustrated in FIG. 5.

상기와 같은 전극 패턴을 가지는 본 발명의 제3 실시예에 따른 다중 전극 패턴을 가지는 정전척은 두개의 전극 패턴을 포함하고 있는 것이 된다. 즉, 상기 하강 계단형 전극(331) 및 상승 계단형 전극(333)과 상기 제2 전극(370)이 제1 전극 패턴으로 구성되고, 상기 제1 전극(350)과 제2 전극(370)이 제2 전극 패턴으로 구성되는 것을 특징으로 한다.The electrostatic chuck having the multi-electrode pattern according to the third embodiment of the present invention having the above electrode pattern includes two electrode patterns. That is, the falling stepped electrode 331, the rising stepped electrode 333, and the second electrode 370 are configured with a first electrode pattern, and the first electrode 350 and the second electrode 370 are It is characterized by consisting of a second electrode pattern.

상기와 같은 제1 전극 패턴과 제2 전극 패턴은 경우에 따라서 선택적으로 사용되는 것이 바람직하다. 즉, 상기 제1 전극 패턴과 상기 제2 전극 패턴은 일정 기간동안 교대로 사용될 수도 있고, 둘 중 하나의 전극 패턴에 결함이 발생한 경우에는 정상적인 전극 패턴만을 지속적으로 사용할 수 있다.
As described above, the first electrode pattern and the second electrode pattern may be selectively used in some cases. That is, the first electrode pattern and the second electrode pattern may be used alternately for a predetermined period of time, or when a defect occurs in one of the electrode patterns, only the normal electrode pattern may be continuously used.

100...정전척
110...제 1전극층
130...상부 절연층
150...하부 절연층
170, 190...제 2전극층100 ... Electrostatic Chuck
110 first electrode layer
130 ... upper insulation layer
150 ... bottom insulation layer
170, 190 second electrode layer

Claims (2)

다중 전극 패턴을 가지는 정전척에 있어서,
절연층 상에 소정 간격을 두고 연속적으로 반복 형성되되, 동일 극을 가지는 하강 계단형 전극 및 상승 계단형 전극;
상기 하강 계단형 전극과 상승 계단형 전극 사이에 형성되되, 상기 하강 계단형 전극 및 상승 계단형 전극과 동일한 극을 가지는 제1 전극;
상기 제1 전극과 상기 하강 계단형 전극 및 상승 계단형 전극 사이에 형성되되, 상기 제1 전극과 반대 극을 가지는 제2 전극을 포함하여 이루어진 것을 특징으로 하는 다중 전극 패턴을 가지는 정전척.
In an electrostatic chuck having a multi-electrode pattern,
It is continuously formed on the insulating layer at a predetermined interval, the falling stepped electrode and the rising stepped electrode having the same pole;
A first electrode formed between the falling stepped electrode and the rising stepped electrode, the first electrode having the same pole as the falling stepped electrode and the rising stepped electrode;
And a second electrode formed between the first electrode, the falling stepped electrode and the rising stepped electrode, the second electrode having an opposite pole to the first electrode.
청구항 1에 있어서,
상기 하강 계단형 전극 및 상승 계단형 전극과 상기 제2 전극이 제1 전극 패턴으로 구성되고, 상기 제1 전극과 제2 전극이 제2 전극 패턴으로 구성되는 것을 특징으로 하는 다중 전극 패턴을 가지는 정전척.The method according to claim 1,
Electrostatic having a multi-electrode pattern, characterized in that the falling step electrode and the rising step electrode and the second electrode is composed of a first electrode pattern, the first electrode and the second electrode is composed of a second electrode pattern chuck.
KR1020100022195A 2010-03-12 2010-03-12 Electrostatic Chuck having multi-electrode pattern KR100965416B1 (en)

Priority Applications (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
KR1020100022195A KR100965416B1 (en) 2010-03-12 2010-03-12 Electrostatic Chuck having multi-electrode pattern

Applications Claiming Priority (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
KR1020100022195A KR100965416B1 (en) 2010-03-12 2010-03-12 Electrostatic Chuck having multi-electrode pattern

Related Parent Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
KR1020060020929A Division KR100965407B1 (en) 2006-03-06 2006-03-06 Electrostatic Chuck having multi-electrode pattern

Publications (2)

Publication Number Publication Date
KR20100038088A true KR20100038088A (en) 2010-04-12
KR100965416B1 KR100965416B1 (en) 2010-06-24

Family

ID=42215077

Family Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
KR1020100022195A KR100965416B1 (en) 2010-03-12 2010-03-12 Electrostatic Chuck having multi-electrode pattern

Country Status (1)

Country Link
KR (1) KR100965416B1 (en)

Cited By (29)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
KR20140048734A (en) * 2012-10-16 2014-04-24 삼성디스플레이 주식회사 Electrostatic chuck
US8852687B2 (en) 2010-12-13 2014-10-07 Samsung Display Co., Ltd. Organic layer deposition apparatus
US8859043B2 (en) 2011-05-25 2014-10-14 Samsung Display Co., Ltd. Organic layer deposition apparatus and method of manufacturing organic light-emitting display device by using the same
US8859325B2 (en) 2010-01-14 2014-10-14 Samsung Display Co., Ltd. Thin film deposition apparatus, method of manufacturing organic light-emitting display device by using the apparatus, and organic light-emitting display device manufactured by using the method
US8865252B2 (en) 2010-04-06 2014-10-21 Samsung Display Co., Ltd. Thin film deposition apparatus and method of manufacturing organic light-emitting display device by using the same
US8871542B2 (en) 2010-10-22 2014-10-28 Samsung Display Co., Ltd. Method of manufacturing organic light emitting display apparatus, and organic light emitting display apparatus manufactured by using the method
US8876975B2 (en) 2009-10-19 2014-11-04 Samsung Display Co., Ltd. Thin film deposition apparatus
US8882556B2 (en) 2010-02-01 2014-11-11 Samsung Display Co., Ltd. Thin film deposition apparatus, method of manufacturing organic light-emitting display device by using the apparatus, and organic light-emitting display device manufactured by using the method
US8882922B2 (en) 2010-11-01 2014-11-11 Samsung Display Co., Ltd. Organic layer deposition apparatus
US8894458B2 (en) 2010-04-28 2014-11-25 Samsung Display Co., Ltd. Thin film deposition apparatus, method of manufacturing organic light-emitting display device by using the apparatus, and organic light-emitting display device manufactured by using the method
US8906731B2 (en) 2011-05-27 2014-12-09 Samsung Display Co., Ltd. Patterning slit sheet assembly, organic layer deposition apparatus, method of manufacturing organic light-emitting display apparatus, and the organic light-emitting display apparatus
US8945974B2 (en) 2012-09-20 2015-02-03 Samsung Display Co., Ltd. Method of manufacturing organic light-emitting display device using an organic layer deposition apparatus
US8951610B2 (en) 2011-07-04 2015-02-10 Samsung Display Co., Ltd. Organic layer deposition apparatus
US8968829B2 (en) 2009-08-25 2015-03-03 Samsung Display Co., Ltd. Thin film deposition apparatus and method of manufacturing organic light-emitting display device by using the same
US8973525B2 (en) 2010-03-11 2015-03-10 Samsung Display Co., Ltd. Thin film deposition apparatus
US9018647B2 (en) 2010-09-16 2015-04-28 Samsung Display Co., Ltd. Thin film deposition apparatus, method of manufacturing organic light-emitting display device by using the apparatus, and organic light-emitting display device manufactured by using the method
US9051636B2 (en) 2011-12-16 2015-06-09 Samsung Display Co., Ltd. Organic layer deposition apparatus, method of manufacturing organic light-emitting display apparatus using the same, and organic light-emitting display apparatus
US9234270B2 (en) 2011-05-11 2016-01-12 Samsung Display Co., Ltd. Electrostatic chuck, thin film deposition apparatus including the electrostatic chuck, and method of manufacturing organic light emitting display apparatus by using the thin film deposition apparatus
US9249493B2 (en) 2011-05-25 2016-02-02 Samsung Display Co., Ltd. Organic layer deposition apparatus and method of manufacturing organic light-emitting display apparatus by using the same
US9257649B2 (en) 2012-07-10 2016-02-09 Samsung Display Co., Ltd. Method of manufacturing organic layer on a substrate while fixed to electrostatic chuck and charging carrier using contactless power supply module
US9279177B2 (en) 2010-07-07 2016-03-08 Samsung Display Co., Ltd. Thin film deposition apparatus, method of manufacturing organic light-emitting display device by using the apparatus, and organic light-emitting display device manufactured by using the method
US9347886B2 (en) 2013-06-24 2016-05-24 Samsung Display Co., Ltd. Apparatus for monitoring deposition rate, apparatus provided with the same for depositing organic layer, method of monitoring deposition rate, and method of manufacturing organic light emitting display apparatus using the same
US9388488B2 (en) 2010-10-22 2016-07-12 Samsung Display Co., Ltd. Organic film deposition apparatus and method of manufacturing organic light-emitting display device by using the same
US9450140B2 (en) 2009-08-27 2016-09-20 Samsung Display Co., Ltd. Thin film deposition apparatus and method of manufacturing organic light-emitting display apparatus using the same
US9496317B2 (en) 2013-12-23 2016-11-15 Samsung Display Co., Ltd. Method of manufacturing organic light emitting display apparatus
US9496524B2 (en) 2012-07-10 2016-11-15 Samsung Display Co., Ltd. Organic layer deposition apparatus, method of manufacturing organic light-emitting display apparatus using the same, and organic light-emitting display apparatus manufactured using the method
US9512515B2 (en) 2011-07-04 2016-12-06 Samsung Display Co., Ltd. Organic layer deposition apparatus and method of manufacturing organic light-emitting display device by using the same
US9748483B2 (en) 2011-01-12 2017-08-29 Samsung Display Co., Ltd. Deposition source and organic layer deposition apparatus including the same
US10246769B2 (en) 2010-01-11 2019-04-02 Samsung Display Co., Ltd. Thin film deposition apparatus

Families Citing this family (1)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
KR102318925B1 (en) * 2019-07-22 2021-10-27 김종명 Electrostatic chuck for adsorbing substrate

Family Cites Families (1)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
EP0692156A1 (en) * 1994-01-31 1996-01-17 Applied Materials, Inc. Electrostatic chuck with conformal insulator film

Cited By (35)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
US8968829B2 (en) 2009-08-25 2015-03-03 Samsung Display Co., Ltd. Thin film deposition apparatus and method of manufacturing organic light-emitting display device by using the same
US9450140B2 (en) 2009-08-27 2016-09-20 Samsung Display Co., Ltd. Thin film deposition apparatus and method of manufacturing organic light-emitting display apparatus using the same
US9224591B2 (en) 2009-10-19 2015-12-29 Samsung Display Co., Ltd. Method of depositing a thin film
US8876975B2 (en) 2009-10-19 2014-11-04 Samsung Display Co., Ltd. Thin film deposition apparatus
US10287671B2 (en) 2010-01-11 2019-05-14 Samsung Display Co., Ltd. Thin film deposition apparatus
US10246769B2 (en) 2010-01-11 2019-04-02 Samsung Display Co., Ltd. Thin film deposition apparatus
US8859325B2 (en) 2010-01-14 2014-10-14 Samsung Display Co., Ltd. Thin film deposition apparatus, method of manufacturing organic light-emitting display device by using the apparatus, and organic light-emitting display device manufactured by using the method
US8882556B2 (en) 2010-02-01 2014-11-11 Samsung Display Co., Ltd. Thin film deposition apparatus, method of manufacturing organic light-emitting display device by using the apparatus, and organic light-emitting display device manufactured by using the method
US8973525B2 (en) 2010-03-11 2015-03-10 Samsung Display Co., Ltd. Thin film deposition apparatus
US9453282B2 (en) 2010-03-11 2016-09-27 Samsung Display Co., Ltd. Thin film deposition apparatus
US8865252B2 (en) 2010-04-06 2014-10-21 Samsung Display Co., Ltd. Thin film deposition apparatus and method of manufacturing organic light-emitting display device by using the same
US8894458B2 (en) 2010-04-28 2014-11-25 Samsung Display Co., Ltd. Thin film deposition apparatus, method of manufacturing organic light-emitting display device by using the apparatus, and organic light-emitting display device manufactured by using the method
US9136310B2 (en) 2010-04-28 2015-09-15 Samsung Display Co., Ltd. Thin film deposition apparatus, method of manufacturing organic light-emitting display device by using the apparatus, and organic light-emitting display device manufactured by using the method
US9279177B2 (en) 2010-07-07 2016-03-08 Samsung Display Co., Ltd. Thin film deposition apparatus, method of manufacturing organic light-emitting display device by using the apparatus, and organic light-emitting display device manufactured by using the method
US9018647B2 (en) 2010-09-16 2015-04-28 Samsung Display Co., Ltd. Thin film deposition apparatus, method of manufacturing organic light-emitting display device by using the apparatus, and organic light-emitting display device manufactured by using the method
US9388488B2 (en) 2010-10-22 2016-07-12 Samsung Display Co., Ltd. Organic film deposition apparatus and method of manufacturing organic light-emitting display device by using the same
US8871542B2 (en) 2010-10-22 2014-10-28 Samsung Display Co., Ltd. Method of manufacturing organic light emitting display apparatus, and organic light emitting display apparatus manufactured by using the method
US8882922B2 (en) 2010-11-01 2014-11-11 Samsung Display Co., Ltd. Organic layer deposition apparatus
US8852687B2 (en) 2010-12-13 2014-10-07 Samsung Display Co., Ltd. Organic layer deposition apparatus
US9748483B2 (en) 2011-01-12 2017-08-29 Samsung Display Co., Ltd. Deposition source and organic layer deposition apparatus including the same
US9234270B2 (en) 2011-05-11 2016-01-12 Samsung Display Co., Ltd. Electrostatic chuck, thin film deposition apparatus including the electrostatic chuck, and method of manufacturing organic light emitting display apparatus by using the thin film deposition apparatus
US9249493B2 (en) 2011-05-25 2016-02-02 Samsung Display Co., Ltd. Organic layer deposition apparatus and method of manufacturing organic light-emitting display apparatus by using the same
US8859043B2 (en) 2011-05-25 2014-10-14 Samsung Display Co., Ltd. Organic layer deposition apparatus and method of manufacturing organic light-emitting display device by using the same
US8906731B2 (en) 2011-05-27 2014-12-09 Samsung Display Co., Ltd. Patterning slit sheet assembly, organic layer deposition apparatus, method of manufacturing organic light-emitting display apparatus, and the organic light-emitting display apparatus
US8951610B2 (en) 2011-07-04 2015-02-10 Samsung Display Co., Ltd. Organic layer deposition apparatus
US9512515B2 (en) 2011-07-04 2016-12-06 Samsung Display Co., Ltd. Organic layer deposition apparatus and method of manufacturing organic light-emitting display device by using the same
US9777364B2 (en) 2011-07-04 2017-10-03 Samsung Display Co., Ltd. Organic layer deposition apparatus and method of manufacturing organic light-emitting display device by using the same
US9051636B2 (en) 2011-12-16 2015-06-09 Samsung Display Co., Ltd. Organic layer deposition apparatus, method of manufacturing organic light-emitting display apparatus using the same, and organic light-emitting display apparatus
US9496524B2 (en) 2012-07-10 2016-11-15 Samsung Display Co., Ltd. Organic layer deposition apparatus, method of manufacturing organic light-emitting display apparatus using the same, and organic light-emitting display apparatus manufactured using the method
US9257649B2 (en) 2012-07-10 2016-02-09 Samsung Display Co., Ltd. Method of manufacturing organic layer on a substrate while fixed to electrostatic chuck and charging carrier using contactless power supply module
US10431779B2 (en) 2012-07-10 2019-10-01 Samsung Display Co., Ltd. Organic layer deposition apparatus, method of manufacturing organic light-emitting display apparatus using the same, and organic light-emitting display apparatus manufactured using the method
US8945974B2 (en) 2012-09-20 2015-02-03 Samsung Display Co., Ltd. Method of manufacturing organic light-emitting display device using an organic layer deposition apparatus
KR20140048734A (en) * 2012-10-16 2014-04-24 삼성디스플레이 주식회사 Electrostatic chuck
US9347886B2 (en) 2013-06-24 2016-05-24 Samsung Display Co., Ltd. Apparatus for monitoring deposition rate, apparatus provided with the same for depositing organic layer, method of monitoring deposition rate, and method of manufacturing organic light emitting display apparatus using the same
US9496317B2 (en) 2013-12-23 2016-11-15 Samsung Display Co., Ltd. Method of manufacturing organic light emitting display apparatus

Also Published As

Publication number Publication date
KR100965416B1 (en) 2010-06-24

Similar Documents

Publication Publication Date Title
KR100965416B1 (en) Electrostatic Chuck having multi-electrode pattern
CL2012001532S1 (en) Straight cylindrical electrical connector with a diameter equivalent to its height, with vertical groove; the upper face has a circular hole surrounded by seven smaller holes identical to each other; the basal face has a central perpendicular vertical cylindrical mantle and seven similar elements of smaller diameter and height.
WO2009023305A3 (en) Method and system for printing aligned nanowires and other electrical devices
WO2008089401A3 (en) Flexible transparent electrodes via nanowires and sacrificial conductive layer
WO2012143784A3 (en) Semiconductor device and manufacturing method thereof
EP2202783A3 (en) Capacitor and method for fabricating the same
EP2495643A3 (en) Method of manufacturing transparent circuit substrate for touch screen
RU2019134263A (en) Corona plasma generating device and plasma reactor
JP2011124160A5 (en)
ATE557406T1 (en) STRUCTURED ELECTRICAL STRUCTURES AND METHOD FOR PRODUCING STRUCTURED ELECTRICAL STRUCTURES
GB201204670D0 (en) Optoelectronic device
JP2001345179A5 (en)
KR100965407B1 (en) Electrostatic Chuck having multi-electrode pattern
JP2015505639A5 (en)
WO2020122698A3 (en) Display device and self-assembly method for semiconductor light-emitting device
MY140283A (en) Self-healing liquid contact switch
MY165848A (en) Parallel stacked symmetrical and differential inductor
WO2006080005A3 (en) Electronic device and a method of its fabrication
JP2015033566A5 (en)
JP2017054942A5 (en)
EP2768032A3 (en) Light emitting device
KR100965415B1 (en) Electrostatic Chuck having multi-electrode pattern
JP2014503124A5 (en)
TW200729517A (en) Passive electrically testable acceleration and voltage measurement devices
JP2009259435A (en) Organic el element

Legal Events

Date Code Title Description
A107 Divisional application of patent
A201 Request for examination
E701 Decision to grant or registration of patent right
GRNT Written decision to grant
FPAY Annual fee payment

Payment date: 20130617

Year of fee payment: 4

FPAY Annual fee payment

Payment date: 20140616

Year of fee payment: 5

FPAY Annual fee payment

Payment date: 20150611

Year of fee payment: 6

LAPS Lapse due to unpaid annual fee