KR20100001852A - Apparatus for cleaning substrate - Google Patents

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Abstract

PURPOSE: An apparatus for cleaning substrate is provided to conveniently perform the cleaning work in the inside of frame. CONSTITUTION: The first horizontal transfer part(T1) comprises the loading unit loading substrate. The first horizontal transfer part transfers one side of the frame(2) to the other side. The transfer method for first carry in and out transfers substrate to the first horizontal transfer part from the side. The transfer method(T6) for second carry in and out transfers substrate from the loading unit of the first horizoental transfer part. The transfer method for second carry in and out is installed on frame. The loading unit of the first horizontal transfer part is carried according to the guide rail. The loading unit of the first horizontal transfer part transfers substrate in frame to the horizontal direction.

Description

기판세정장치{apparatus for cleaning substrate}Apparatus for cleaning substrate

본 발명은 평판표시소자용 기판을 세정 영역으로 이송 공급하면서 세정 작업을 간편하게 진행할 수 있으며, 특히 기판의 반입/반출시 발생하는 홀딩 시간을 대폭 줄일 수 있는 기판세정장치에 관한 것이다.The present invention relates to a substrate cleaning apparatus which can easily perform a cleaning operation while transferring and supplying a substrate for a flat panel display element to a cleaning region, and in particular, can greatly reduce the holding time that occurs during loading and unloading of a substrate.

일반적으로 평판표시소자용 기판을 세정하는 작업은 주로 롤 브러쉬(Roll Brush)를 구비한 기판세정장치를 이용하여 기판의 이송 중에 롤 브러싱 방식으로 세정하는 방법이 알려져 있다.In general, a method of cleaning a substrate for a flat panel display device is mainly known by a roll brushing method during transfer of a substrate by using a substrate cleaning device having a roll brush.

상기 기판세정장치는 소정의 이송 구간을 따라 수평 및 수직 방향으로 기판을 이송(인수/인계)하면서 세정 영역을 향하여 순차적으로 공급/배출하는 구조를 갖는다.The substrate cleaning apparatus has a structure of sequentially supplying / discharging toward the cleaning area while transferring (takeover / takeover) the substrate in a horizontal and vertical direction along a predetermined transfer section.

이러한 기판세정장치의 구조를 간략하게 설명하면, 프레임과, 기판을 로딩하는 로딩유닛을 구비하고 상기 프레임의 상부에 배치되는 상부 이송수단과, 이 상부 이송수단 하측에 배치되는 하부 이송수단과, 상기 상부 및 하부 이송수단의 양단 지점과 대응하도록 상기 프레임 상에 배치되는 수직 이송수단과, 상기 하부 이송수단의 이송 구간 내에 배치되어 기판을 세정하는 세정부를 포함하여 이루어진다.Briefly describing the structure of the substrate cleaning apparatus, a frame, an upper conveying means having a loading unit for loading the substrate and disposed above the frame, a lower conveying means disposed below the upper conveying means, and And vertical cleaning means disposed on the frame so as to correspond to both ends of the upper and lower conveying means, and a cleaning part disposed in the conveying section of the lower conveying means to clean the substrate.

즉, 상기 기판세정장치는, 상기 프레임 상에서 상기 이송수단들의 이송 구간을 따라 기판이 이동할 때 상기 세정부 영역을 통과하면서 롤 브러싱 방식으로 세정되도록 작동된다.That is, the substrate cleaning apparatus is operated to be cleaned in a roll brushing manner while passing through the cleaning region when the substrate moves along the transport section of the transport means on the frame.

이처럼, 상기 기판을 세정하는 작업을 진행할 때 상기 프레임 외부에서 상기 상부 이송수단 측에/으로부터 기판을 반입/반출하는 공정이 매우 중요하다.As such, when carrying out the cleaning of the substrate, a process of importing / exporting the substrate to / from the upper conveying means side from the outside of the frame is very important.

하지만, 종래의 기판세정장치들은 대부분 상기 프레임 외부에서 하나의 로봇 아암을 이용하여 상기 상부 이송수단의 로딩유닛 측에/으로부터 기판을 직접 로딩하거나 언로딩하는 방식으로 반입/반출이 이루어지므로 이와 같은 반입/반출 방식은 기판의 세정 작업시 다음과 같은 문제가 있다.However, most conventional substrate cleaning apparatuses carry in / out of the board by directly loading or unloading the substrate to / from the loading unit side of the upper transfer means using one robot arm outside the frame. The / export method has the following problems during the cleaning operation of the substrate.

예를들어, 세정 작업 중에 상기 로딩유닛 측에 기판을 로딩하려면, 상기 세정부 영역을 거치면서 세정된 기판을 상기 로딩유닛으로부터 먼저 언로딩하여 상기 프레임 외부로 반출한 상태에서만 로딩이 가능하므로 로딩 및 언로딩 택 타임이 길어져서 과다한 홀딩 시간이 발생할 수 있다.For example, in order to load the substrate on the loading unit side during the cleaning operation, since the cleaned substrate is unloaded from the loading unit first through the cleaning unit region and can only be loaded out of the frame, loading is performed. The long unloading tag time can lead to excessive holding time.

특히, 상기와 같이 기판의 반입/반출시 과다한 홀딩 시간이 발생하면, 기판을 연속으로 로딩 및 언로딩할 수 없으므로 반입/반출에 소요되는 시간이 그 만큼 길어져서 세정 작업의 전체 작업 능률을 저하시키는 한 요인이 될 수 있다.In particular, if excessive holding time occurs during the import / export of the substrate as described above, since the substrate cannot be loaded and unloaded continuously, the time required for the import / export becomes long, which reduces the overall work efficiency of the cleaning operation. It can be a factor.

본 발명은 상기한 바와 같은 종래의 문제점을 해결하기 위하여 안출된 것으로서,The present invention has been made to solve the conventional problems as described above,

본 발명의 목적은 평판표시소자용 기판의 세정을 위한 이송 구간으로/으로부터 반입/반출시 택 타임(tact time)을 대폭 줄여서 한층 향상된 기판 수율을 얻을 수 있는 기판세정장치를 제공하는데 있다.SUMMARY OF THE INVENTION An object of the present invention is to provide a substrate cleaning apparatus which can further improve substrate yield by greatly reducing the tact time in / out from / to a transfer section for cleaning a substrate for a flat panel display device.

상기한 바와 같은 본 발명의 목적을 실현하기 위하여,In order to realize the object of the present invention as described above,

프레임;frame;

기판을 로딩하는 로딩유닛을 구비하고 상기 프레임 일측에서 타측으로 기판을 이송하는 제1 수평 이송부;A first horizontal transfer unit having a loading unit for loading a substrate and transferring the substrate from one side of the frame to the other side;

상기 제1 수평 이송부 측에/로부터 기판을 로딩/언로딩하면서 반입/반출하는 제1 반출입용 이송수단;First transporting means for carrying in and out while loading / unloading a substrate to / from the first horizontal transfer unit;

상기 제1 수평 이송부의 로딩유닛으로부터 기판을 들어올려서 언로딩 상태로 거치할 수 있도록 상기 프레임 상에 설치되는 제2 반출입용 이송수단;A second carrying-in / out transport means installed on the frame to lift the substrate from the loading unit of the first horizontal transport unit and to mount the substrate in an unloading state;

을 포함하는 기판세정장치를 제공한다.It provides a substrate cleaning apparatus comprising a.

이와 같은 본 발명은, 상기 제1 및 제2 반출입용 이송수단을 이용하여 상기 제1 수평 이송부 측에/로부터 기판을 반입/반출하는 상태로 공급하면서 상기 프레임 내에서 세정 작업을 간편하게 진행할 수 있다.In the present invention, the cleaning operation can be easily performed in the frame while supplying the substrate into and out of the first horizontal transfer part by using the first and second carry-out transfer means.

특히, 상기 제2 반출입용 이송수단은, 상기 제1 수평 이송부의 로딩유닛으로부터 기판을 들어올려서 언로딩 상태로 거치할 수 있는 구조로 이루어지므로 예를들어, 상기 프레임 상에서 세정이 완료된 기판을 반출하지 않은 상태에서도 상기 제1 반출입용 이송수단을 이용하여 다른 기판을 상기 로딩유닛 측에 곧바로 로딩할 수 있다.Particularly, the second carrying-out and transporting means has a structure capable of lifting the substrate from the loading unit of the first horizontal transfer part and placing the substrate in an unloading state. Even if it is not in the state, it is possible to immediately load another substrate on the loading unit side by using the first transporting means for carrying in and out.

그러므로, 기판을 로딩 및 언로딩할 때 택 타임을 향상시킬 수 있을 뿐만 아니라, 연속으로 로딩 및 언로딩이 가능하여 기판의 반입/반출 작업에 소요되는 시간을 대폭 절감할 수 있다.Therefore, not only can the tack time be improved when loading and unloading the substrate, but also the loading and unloading can be performed continuously, thereby greatly reducing the time required for the loading / unloading operation of the substrate.

이하, 첨부된 도면에 의거하여 본 발명의 바람직한 실시예를 설명한다.Hereinafter, preferred embodiments of the present invention will be described with reference to the accompanying drawings.

본 발명의 실시예들은 당 업계에서 평균적인 지식을 가진 자들이 본 발명의 실시가 가능한 범위 내에서 설명된다.Embodiments of the present invention are described to the extent that those of ordinary skill in the art can practice the present invention.

따라서, 본 발명의 실시예들은 여러 가지 다른 형태로 변형될 수 있는 것이므로 본 발명의 특허청구범위는 아래에서 설명하는 실시예들로 인하여 한정되는 것은 아니다.Therefore, since the embodiments of the present invention may be modified in various other forms, the claims of the present invention are not limited to the embodiments described below.

도 1은 본 발명의 일실시예에 따른 기판세정장치의 전체 구조를 나타낸 도면으로서, 도면 부호 2는 프레임을 지칭한다.1 is a view showing the overall structure of a substrate cleaning apparatus according to an embodiment of the present invention, 2 denotes a frame.

상기 프레임(2)은 기판(G)을 세정하기 위한 일종의 작업대 역할을 하는 것으로서, 도 1을 기준으로 할 때 좌/우로 연장된 직사각형의 프레임체로 이루어질 수 있다.The frame 2 serves as a kind of work table for cleaning the substrate G. The frame 2 may be formed as a rectangular frame body extending left / right when referring to FIG. 1.

상기 프레임(2)은 예를들어, 금속바 또는 파이프 등을 통상의 방법(볼트 또는 용접)으로 연결 고정하여 형성할 수 있다.The frame 2 may be formed by, for example, connecting and fixing a metal bar or a pipe by a conventional method (bolt or welding).

그리고, 상기 프레임(2)은 기판(G)의 로딩/언로딩 지점을 제외한 나머지 부 분들이 외부와 차단된 상태가 되도록 형성하면 좋다. 예를들어, 도면에는 나타내지 않았지만 상기 프레임(2)의 외부면에 판넬을 부착하면, 외부의 각종 이물질(예: 먼지)들이 상기 프레임(2) 내부로 유입되는 것을 차단할 수 있다.In addition, the frame 2 may be formed so that the remaining parts are blocked from the outside except the loading / unloading point of the substrate G. For example, although not shown in the drawing, if a panel is attached to an outer surface of the frame 2, various foreign substances (eg, dust) from the outside may be prevented from entering the inside of the frame 2.

상기 프레임(2) 상에는 기판(G)을 이송하는 제1 수평 이송부(T1)가 설치된다.On the frame 2, a first horizontal transfer part T1 for transferring the substrate G is installed.

상기 제1 수평 이송부(T1)는, 기판(G)을 로딩하는 로딩유닛(4a)과, 레일(4b)로 구성되며, 상기 프레임(2) 상부에서 수평 방향의 이송 구간을 제공할 수 있도록 셋팅된다.The first horizontal transfer part T1 includes a loading unit 4a for loading the substrate G and a rail 4b, and is set to provide a horizontal transfer section from the upper part of the frame 2. do.

상기 로딩유닛(4a)은 예를들어, 도 1에서와 같이 복수 개의 지지 핀(4c)들이 세워진 상태로 고정 설치되어 이 지지 핀(4c)들의 끝단으로 기판(G) 저면을 지지한 상태로 로딩하는 구조로 이루어질 수 있다.For example, as shown in FIG. 1, the loading unit 4a is fixedly installed with the plurality of support pins 4c upright, and loaded with the bottom of the substrate G supported by the ends of the support pins 4c. It can be made of a structure.

상기 레일(4b)은 통상의 "LM 가이드"를 사용할 수 있으며, 도 1을 기준으로 할 때 상기 프레임(2) 상부의 좌/우측면 사이를 수평하게 연결하는 상태로 설치된다.The rail 4b may use a conventional " LM guide " and is installed in a state of horizontally connecting between the left and right sides of the upper part of the frame 2 when referring to FIG.

그리고, 상기 로딩유닛(4a)은 "LM 가이드"를 따라 이송될 수 있도록 상기 레일(4b) 상에 통상의 방법으로 고정 설치된다.In addition, the loading unit 4a is fixedly installed on the rail 4b in a conventional manner so as to be transported along the "LM guide".

즉, 상기한 제1 수평 이송부(T1)는 상기 로딩유닛(4a)이 상기 레일(4b)의 이송 구간을 따라 이동하면서 상기 프레임(2) 상에서 좌/우 방향으로 기판(G)을 수평 이송할 수 있다.That is, the first horizontal transfer unit T1 may horizontally transfer the substrate G in the left / right directions on the frame 2 while the loading unit 4a moves along the transfer section of the rail 4b. Can be.

상기 로딩유닛(4a)은 기판(G)의 처짐을 방지할 수 있는 로딩 구조를 갖도록 형성하면 좋다. 예를들어, 도면에는 나타내지 않았지만 상기 로딩유닛(4a)에 에어 홀들을 형성하여 이 에어 홀들로 기판(G) 저면을 향하여 일정 압력으로 에어를 분사하는 방식으로 기판(G)의 평탄도를 일정하게 유지할 수 있다.The loading unit 4a may be formed to have a loading structure that can prevent sagging of the substrate G. For example, although not shown in the drawing, the flatness of the substrate G may be uniformly formed by forming air holes in the loading unit 4a and injecting air at a predetermined pressure toward the bottom surface of the substrate G through the air holes. I can keep it.

또한, 도면에는 나타내지 않았지만 상기 로딩유닛(4a)에 대응하여 기판(G)의 로딩 위치를 감지하거나 위치를 정렬하기 위한 통상의 위치제어기를 설치할 수 있다. 이 위치제어기는 일반적으로 상기 로딩유닛(4a) 상에 로딩된 기판(G)의 위치를 감지하는 센서와, 엑츄에이터에 의해 전/후로 푸싱 동작하는 가이드 핀들을 포함하여 이루어진다.In addition, although not shown in the drawings, a conventional position controller may be installed to detect or align the loading position of the substrate G in response to the loading unit 4a. This position controller generally comprises a sensor for sensing the position of the substrate G loaded on the loading unit 4a and guide pins pushed back and forth by the actuator.

이러한 위치 제어 구조에 의하면, 상기 제1 수평 이송부(T1)의 이송 구간 내에서 기판(G)의 로딩 및 언로딩 상태를 간편하게 감지할 수 있으며, 특히 로딩된 기판(G)의 위치를 허용 범위 내로 보정할 수 있으므로 기판(G)이 비정상으로 이송되는 것을 방지할 수 있다.According to this position control structure, it is possible to easily detect the loading and unloading state of the substrate (G) in the transfer section of the first horizontal transfer unit (T1), in particular the position of the loaded substrate (G) within the allowable range Since it can correct, it can prevent that the board | substrate G is conveyed abnormally.

그리고, 상기 본 발명의 일실시예에 따른 기판세정장치는, 상기 제1 수평 이송부(T1)와 연결되어 상기 프레임(2) 상에서 기판(G)을 세정 영역으로 용이하게 이송할 수 있도록 제2 수평 이송부(T3)와, 제1 및 제2 수직 이송부(T2, T4)를 더 포함하여 이루어질 수 있다.In addition, the substrate cleaning apparatus according to the embodiment of the present invention may be connected to the first horizontal transfer part T1 so that the substrate G may be easily transferred to the cleaning area on the frame 2. The transfer unit T3 and the first and second vertical transfer units T2 and T4 may be further included.

상기 제2 수평 이송부(T3)는, 상기 프레임(2) 하부에서 상기 제1 수평 이송부(T1)와 평행한 상태로 이격 배치되며, 복수 개의 이송용 로울러(R)들로 구성되는 통상의 로울러 컨베이어 타입의 구조로 이루어질 수 있다.The second horizontal conveying part T3 is spaced apart from the frame 2 in parallel with the first horizontal conveying part T1 and is a conventional roller conveyor composed of a plurality of conveying rollers R. It may be of a type structure.

즉, 상기 복수 개의 이송용 로울러(R)들은 도 1에서와 같이 상기 프레임(2) 하부에서 일정 간격을 두고 좌/우로 배치되며, 도면에는 나타내지 않았지만 모터와 같은 구동원으로부터 통상적인 방법(예: 체인/스프라켓, 벨트/풀리)으로 동력을 전달받아서 축선을 중심으로 회전 가능하게 셋팅된다.That is, the plurality of transport rollers R are arranged left / right at a predetermined interval below the frame 2 as shown in FIG. 1, and although not shown in the drawings, a conventional method (eg, a chain) may be used. / Sprocket, belt / pulley) to receive power and set to rotate about the axis.

그리고, 상기 제1 수직 이송부(T2)와 제2 수직 이송부(T4)는, 상기 제1 수평 이송부(T1)와 제2 수평 이송부(T3)의 양쪽 단부 지점에 배치되어 기판(G)을 상/하 방향으로 이송하면서 인수/인계가 가능하게 이루어진다.The first vertical feeder T2 and the second vertical feeder T4 are disposed at both end points of the first horizontal feeder T1 and the second horizontal feeder T3 to form a substrate G. Takeover / takeover is possible while transporting in the downward direction.

상기 제1 수직 이송부(T2)는, 도 1에서와 같이 상기 프레임(2)의 좌측 지점에 배치되며, 상기 제1 수평 이송부(T1)로부터 기판(G)을 인수하여 상기 제2 수평 이송부(T3) 측에 인계할 수 있는 통상의 업/다운 버퍼유닛 구조를 갖는다.The first vertical transfer part T2 is disposed at the left point of the frame 2 as shown in FIG. 1, and takes the substrate G from the first horizontal transfer part T1 to the second horizontal transfer part T3. It has a normal up / down buffer unit structure that can be turned over to the side.

즉, 상기 제1 수직 이송부(T2)는, 도 2에서와 같은 상부핸드(6a, Upper Hand)와, 이 상부핸드(6a)로부터 기판(G)을 인수하는 하부핸드(6b, Lower Hand)로 구성된다.That is, the first vertical transfer part T2 is an upper hand 6a as shown in FIG. 2 and a lower hand 6b to take over the substrate G from the upper hand 6a. It is composed.

상기 상부핸드(6a)는 수평부와 수직부를 갖으며 두 개가 한 조로 구성되며, 도 2에서와 같이 모터 축에 의해 스크류가 정/역 회전하는 스크류 구동방식의 구동장치(M1, M2)로부터 동력을 전달받아서 업/다운 이동은 물론이거니와 두 개의 상부핸드(6a) 간격이 좁혀지거나 벌어질 수 있도록 작동된다.The upper hand 6a has a horizontal portion and a vertical portion, and is composed of two pairs. The up / down movement is received as well as the two upper hands 6a are operated so that the gap can be narrowed or widened.

그리고, 상기 하부핸드(6b)는 상기 제2 수평 이송부(T3)의 이송용 로울러(R)들 사이사이에 세워진 상태로 배치되며 모터 축에 의해 스크류가 정/역 회전하는 스크류 구동방식의 구동장치(M3)로부터 동력을 전달받아서 업/다운 이동이 가능하게 작동된다.(도 2참조)In addition, the lower hand 6b is disposed between the rollers R for conveyance of the second horizontal feeder T3, and is disposed in a screw driving method in which a screw is rotated forward / backward by a motor shaft. Received power from the M3 is enabled to move up / down (see Figure 2).

상기 구동장치(M1, M2, M3)들은 스크류 구동방식 이외에도 예를들어, 실린더나 공압 이송유니트로 구성되는 실린더 구동방식 또는 레일 구동방식으로 이루어질 수도 있다.The drive devices M1, M2, and M3 may be made of, for example, a cylinder drive method or a rail drive method composed of a cylinder or a pneumatic transfer unit, in addition to the screw drive method.

이러한 구동 방식들은 해당 분야에서 일반적인 지식을 가진 자라면 상기한 제1 수직 이송부(T2)의 작동 방식과 부합하도록 용이하게 실시할 수 있는 것이므로 더욱 상세한 설명은 생략한다.These driving methods can be easily carried out by those skilled in the art to match the operating method of the first vertical transfer unit (T2), a more detailed description thereof will be omitted.

상기한 제1 수직 이송부(T2)는 다음과 같은 작동에 의해 기판(G)을 인수/인계하면서 상기 제1 수평 이송부(T1) 측에서 상기 제2 수평 이송부(T3) 측으로 기판(G)을 공급할 수 있다.The first vertical transfer part T2 may supply the substrate G from the first horizontal transfer part T1 to the second horizontal transfer part T3 while taking over or taking over the substrate G by the following operation. Can be.

즉, 상기 로딩유닛(4a)에 기판(G)이 로딩된 상태로 상기 제1 수평 이송부(T1)의 일단(좌측)에 위치되면, 상기 상부핸드(6a)의 업 동작에 의해 수평부로 기판(G) 저면을 들어올려서 상기 로딩유닛(4a)으로부터 기판(G)을 인수한다.That is, when the substrate G is loaded in the loading unit 4a and positioned at one end (left side) of the first horizontal transfer part T1, the substrate is moved horizontally by the up operation of the upper hand 6a. G) The bottom surface is lifted up to take over the substrate G from the loading unit 4a.

상기 상부핸드(6a)는 상기 로딩유닛(4a)이 원래 위치(로딩 및 언로딩 지점)로 리턴되면, 도 3에서와 같이 상기 제2 수평 이송부(T3)의 일단(좌측) 위에 기판(G)이 위치되도록 다운 동작된다.When the loading unit 4a is returned to its original position (loading and unloading point), the upper hand 6a is disposed on the substrate G on one end (left side) of the second horizontal transfer part T3 as shown in FIG. 3. It is operated down so that it is positioned.

그러면, 상기 하부핸드(6b)가 도 4에서와 같이 위로 약간 업 동작되면서 상기 상부핸드(6a)로부터 기판(G)을 인수하고, 상기 상부핸드(6a)는 기판(G)과 접촉하지 않도록 좌/우로 간격이 벌어진 상태로 위쪽으로 리턴된다.Then, the lower hand 6b is operated up slightly as shown in FIG. 4 to take over the substrate G from the upper hand 6a, and the upper hand 6a does not come into contact with the substrate G. Returned upwards with a gap between / right.

그리고, 상기 하부핸드(6b)는 기판(G)을 인수한 상태로 도 5에서와 같이 다운 동작되면서 상기 제2 수평 이송부(T3) 일단 지점(좌측)의 이송용 로울러(R)에 기판(G)을 얹어 놓은 상태로 인계한다.The lower hand 6b is operated down as shown in FIG. 5 while the substrate G is taken over, and the substrate G is disposed at the transport roller R at one end of the second horizontal transfer part T3 (left). Take over with the) on.

그러므로, 상기와 같은 상부핸드(6a) 및 하부핸드(6b)의 업/다운 동작에 의해 상기 제1 수평 이송부(T1)로부터 기판(G)을 인수하여 상기 제2 수평 이송부(T3) 측에 인계하는 방식으로 기판(G)을 공급할 수 있다.Therefore, the substrate G is taken over from the first horizontal transfer part T1 by the up / down operation of the upper hand 6a and the lower hand 6b as described above, and is turned over to the second horizontal transfer part T3. The substrate G can be supplied in such a way as to.

상기 제2 수직 이송부(T4)는 상기한 제1 수직 이송부(T2)와 동일하게 통상의 업/다운 버퍼유닛 구조로 이루어지며, 구동장치(M1, M2, M3)들에 의해 작동된다.The second vertical transfer part T4 has the same up / down buffer unit structure as the first vertical transfer part T2, and is operated by the driving devices M1, M2, and M3.

즉, 상기 제2 수직 이송부(T4)는 도 1에서와 같이 상부핸드(6c)와 하부핸드(6d)를 구비하고, 상기 제1 및 제2 수평 이송부(T1, T3)를 사이에 두고 제1 수직 이송부(T2)와 대응하는 상태로 상기 프레임(2) 타측에 배치된다.That is, the second vertical transfer part T4 has an upper hand 6c and a lower hand 6d as shown in FIG. 1, and includes a first hand with the first and second horizontal transfer parts T1 and T3 interposed therebetween. It is disposed on the other side of the frame 2 in a state corresponding to the vertical transfer portion (T2).

상기한 제2 수직 이송부(T4)는 도면에는 나타내지 않았지만 상기한 제1 수직 이송부(T2)의 동작과 역순으로 작동하면서 상기 상부핸드(6c)와 하부핸드(6d)의 인수/인계 동작에 의해 상기 제2 수평 이송부(T3) 일단 지점(우측)에 위치된 기판(G)을 상기 제1 수평 이송부(T1)의 일단 지점(우측)으로 옮기면서 공급할 수 있다.Although not shown in the drawing, the second vertical transfer part T4 operates in the reverse order of the operation of the first vertical transfer part T2, and the second vertical transfer part T4 is operated by the takeover / takeover operation of the upper hand 6c and the lower hand 6d. The substrate G positioned at one end (right) of the second horizontal transfer part T3 may be supplied while being moved to one end (right) of the first horizontal transfer part T1.

이와 같은 기판(G)의 이송 구조에 의하면, 상기 프레임(2)의 상부 일측에 로딩(반입)된 기판(G)을 도 1을 기준으로 할 때 상기 프레임(2) 내부 둘레를 따라 반시계 방향으로 옮기면서 최초 로딩 지점에서 언로딩(반출)될 수 있도록 이송할 수 있다.According to the transfer structure of the substrate (G), when the substrate (G) loaded (loaded) on one side of the upper portion of the frame 2 with reference to Figure 1 in the counterclockwise direction along the inner circumference of the frame (2) Can be transported for unloading at the initial loading point.

그리고, 상기 본 발명의 일실시예에 따른 기판세정장치는, 도 1에서와 같은 세정부(8)를 포함하여 이루어질 수 있다.In addition, the substrate cleaning apparatus according to the embodiment of the present invention may include a cleaning unit 8 as shown in FIG. 1.

상기 세정부(8)는 상기 프레임(2)에서 기판(G)의 이송 구간 내에 배치되어 기판(G)의 이송 중에 세정 작업을 진행할 수 있도록 예를들어, 통상의 유기세정모듈(C1)과, 세정모듈(C2) 그리고, 건조모듈(C3)로 구성될 수 있다.For example, the cleaning unit 8 may be disposed in the transfer section of the substrate G in the frame 2 so that the cleaning operation may be performed during the transfer of the substrate G. For example, the organic cleaning module C1 may include: The cleaning module C2 and a drying module C3 may be configured.

즉, 상기 유기세정모듈(C1)과, 세정모듈(C2) 그리고, 건조모듈(C3)은 내부에 일정 크기의 공간을 갖는 챔버 케이스 형태로 제작되어 도 1에서와 같이 상기 제2 수평 이송부(T3)의 이송 구간 일측에 설치될 수 있다.That is, the organic cleaning module (C1), the cleaning module (C2) and the drying module (C3) is manufactured in the form of a chamber case having a predetermined size space therein, as shown in FIG. It may be installed on one side of the transport section.

특히, 상기 세정모듈(C2)은 도면에는 나타내지 않았지만 예를들어, 롤 브러쉬와, 에어 커튼, 에어 석션, 디아이 젯트, 에어 나이프 등의 세정용 유닛들을 구비하여 통상의 롤 브러싱 방식으로 기판(G)의 세정이 가능하게 이루어질 수 있다.In particular, although the cleaning module C2 is not shown in the drawings, for example, the substrate G may be provided with a roll brush and cleaning units such as an air curtain, an air suction, a die jet, an air knife, and the like in a conventional roll brushing manner. Can be made possible.

그리고, 상기 세정부(8)는 상기 유기세정모듈(C1)을 반드시 구비하여 이루어지는 것은 아니며, 요구되는 작업 여건에 따라 도 1에서와 같이 상기 세정모듈(C2) 및 건조모듈(C3)과 대응하도록 설치하거나 설치를 생략할 수도 있다.In addition, the cleaning unit 8 is not necessarily provided with the organic cleaning module (C1), so as to correspond to the cleaning module (C2) and drying module (C3) as shown in Figure 1 depending on the required working conditions. You can install or skip the installation.

따라서, 상기 본 발명의 일실시예에 따른 기판세정장치는, 상기 프레임(2) 상에 로딩(반입)된 기판(G)이 상기 세정부(8) 영역에서 롤 브러싱 방식으로 세정된 후, 최초 로딩 지점에서 언로딩(반출)될 수 있도록 상기 이송부(T1, T3, T2, T4)들로 이송(인수/인계)하면서 기판(G)을 간편하게 세정할 수 있다.Therefore, in the substrate cleaning apparatus according to the embodiment of the present invention, the substrate G loaded (loaded) onto the frame 2 is first cleaned after the roll brushing method in the cleaning part 8 region. The substrate G can be easily cleaned while being transferred (taken over) to the transfer parts T1, T3, T2, and T4 so that they can be unloaded (loaded) at the loading point.

한편, 상기 본 발명의 일실시예에 따른 기판세정장치는, 제1 반출입용 이송수단(T5)과, 제2 반출입용 이송수단(T6)을 포함하여 이루어진다.On the other hand, the substrate cleaning apparatus according to an embodiment of the present invention, the first carry-out transport means (T5) and the second carry-out transport means (T6) comprises.

상기 제1 반출입용 이송수단(T5)은 상기 프레임(2) 외측에서 상기 제1 수평 이송부(T1)의 로딩 및 언로딩 지점에 대응하여 반입/반출이 가능하게 기판(G)을 이송하기 위한 것이다.The first carry-out and transfer means T5 transfers the substrate G to be loaded and unloaded in correspondence with the loading and unloading points of the first horizontal transfer part T1 from the outside of the frame 2. .

즉, 상기 제1 반출입용 이송수단(T5)은, 도 6에서와 같은 로봇 아암(10a)을 사용할 수 있으며, 상기 프레임(2)과 일정 간격으로 떨어져서 바닥면에 세워진 상태로 배치된다.That is, the first carry-out and transfer means T5 may use the robot arm 10a as shown in FIG. 6, and is disposed in a state of standing on the bottom surface at a predetermined interval apart from the frame 2.

그리고, 상기 로봇 아암(10a)의 자유단에는 흡착 고정구(10b)가 설치된다. 이 흡착 고정구(10b)는 복수 개의 흡착홀을 구비하여 이 흡착홀에서 작용하는 흡착력으로 기판(G)의 일면을 분리 가능하게 고정할 수 있는 통상의 흡착 핸드 형태로 이루어질 수 있다.At the free end of the robot arm 10a, a suction fixture 10b is provided. The adsorption fixture 10b may have a plurality of adsorption holes and may have a conventional adsorption hand type capable of detachably fixing one surface of the substrate G by the adsorption force acting on the adsorption holes.

상기한 제1 반출입용 이송수단(T5)은 도면에는 나타내지 않았지만 예를들어, 세정을 위한 기판(G)들이 여러 장 적재된 카세트로부터 기판(G)을 한 개씩 인출하여 통상의 관절 운동에 의해 상기 제1 수평 이송부(T1)의 로딩유닛(4a) 측에 로딩(반입)하거나, 세정된 상태로 상기 로딩유닛(4a) 측에 위치된 기판(G)을 언로딩(반출)하여 다음 공정으로 공급하도록 셋팅할 수 있다.Although the first carrying-out transport means T5 is not shown in the drawing, for example, the substrate G is removed from the cassette in which several sheets of substrates G for cleaning are stacked one by one, and the above-mentioned by normal joint motion. Loading (loading) on the loading unit 4a side of the first horizontal transfer unit T1 or unloading (loading) the substrate G located on the loading unit 4a side in a cleaned state and supplying it to the next process. Can be set to

상기 기판(G)의 로딩 및 언로딩 작업은 예를들어, 도 1에서와 같이 상기 제1 수평 이송부(T1)에서 상기 레일(4b)의 이송 구간 중앙 부분에 상기 로딩유닛(4a)이 위치된 상태에서 진행할 수 있다.For example, as shown in FIG. 1, the loading and unloading operations of the substrate G may include the loading unit 4a positioned at the center of the transfer section of the rail 4b in the first horizontal transfer part T1. You can proceed from the state.

상기 제2 반출입용 이송수단(T6)은 세정이 완료된 기판(G)의 반출 작업 전에 상기 로딩유닛(4a)에서 일정 높이로 들어올린 상태로 거치하기 위한 것이다.The second carry-out and transfer means T6 is for mounting in a state in which the loading unit 4a is lifted up to a predetermined height before carrying out the cleaning operation of the substrate G.

도 7을 참조하면, 상기 제2 반출입용 이송수단(T6)은, 상기 프레임(2) 상에서 상기 로딩유닛(4a) 위쪽에 배치되는 거치대(12a)와, 상기 로딩유닛(4a)으로부터 기판(G)을 들어올릴 수 있도록 동력을 발생 및 전달하는 거치용 구동부(12b)와, 상 기 거치대(12a) 측에 기판(G)과 걸림 접촉이 가능한 상태로 배치되는 지지구(12c)와, 이 지지구(12c)를 기판(G)과 걸림 접촉 상태 또는 접촉 해제 상태로 구동하는 걸림용 구동부(12d)를 포함하여 이루어진다.Referring to FIG. 7, the second carry-out and transfer means T6 includes a holder 12a disposed above the loading unit 4a on the frame 2, and a substrate G from the loading unit 4a. ), A mounting drive unit 12b for generating and transmitting power so as to lift the support, a support 12c disposed in a state in which the engaging contact with the substrate G is possible on the side of the mount 12a, and It comprises a locking drive unit 12d for driving the earth 12c in a contacting state or a contact release state with the substrate G.

상기 거치대(12a)는 기판(G) 사이즈에 대응하는 크기를 갖는 프레임 형태로 이루어질 수 있으며, 도 1 및 도 7에서와 같이 상기 제1 수평 이송부(T1)의 이송 구간 내에서 로딩 및 언로딩 지점에 위치된 로딩유닛(4a) 위쪽에 배치된다.The cradle 12a may be formed in a frame shape having a size corresponding to the size of the substrate G, and the loading and unloading points within the transfer section of the first horizontal transfer part T1 as shown in FIGS. 1 and 7. It is disposed above the loading unit 4a.

상기 거치용 구동부(12b)는 통상의 실린더를 구동원으로 사용할 수 있으며, 상기 프레임(2)에 상부에 설치된 지지대(12e) 측에 실린더 본체를 도 7에서와 같이 고정하고, 피스톤 로드로 상기 거치대(12a)를 밀거나 당기면서 업/다운시킬 수 있도록 셋팅할 수 있다.The mounting drive unit 12b may use a normal cylinder as a driving source, and fix the cylinder body to the support 12e side installed on the frame 2 as shown in FIG. It can be set to up / down by pushing or pulling 12a).

상기 지지구(12c)는, 상기 로딩유닛(4a)에 위치된 기판(G)의 테두리 둘레부 중에서 적어도 두 군데 이상의 지점과 걸림 접촉이 가능하도록 도 7에서와 같이 상기 거치대(12a) 측에 배치될 수 있다.The support 12c is disposed at the side of the holder 12a as shown in FIG. 7 so as to be able to engage with at least two or more points around the edge of the substrate G positioned in the loading unit 4a. Can be.

그리고, 상기 걸림용 구동부(12d)는 통상의 실린더를 구동원으로 사용할 수 있으며, 상기 거치대(12a) 측에 실린더 본체를 고정하여 피스톤 로드로 상기 지지구(12c)를 밀거나 당기면서 도 7에서와 같은 방향으로 전/후진시킬 수 있도록 셋팅할 수 있다.In addition, the locking drive unit 12d may use a normal cylinder as a drive source, and the cylinder body is fixed to the holder 12a side to push or pull the support 12c with a piston rod as shown in FIG. 7. It can be set to move forward or backward in the same direction.

상기한 제2 반출입용 이송수단(T6)은 다음과 같은 동작에 의해 상기 로딩유닛(4a)으로부터 기판(G)을 일정 높이로 들어올려서 언로딩 상태로 거치할 수 있다.The second carry-out and transfer means T6 may be mounted in an unloading state by lifting the substrate G to a predetermined height from the loading unit 4a by the following operation.

즉, 도 8에서와 같이 상기 거치대(12a)를 아래로 이동시킨 상태에서 상기 걸 림용 구동부(12d)에 의해 상기 각 지지구(12c)를 전진 이동시킨다.That is, as shown in FIG. 8, the support 12c is moved forward by the locking driving unit 12d while the holder 12a is moved downward.

그러면, 상기 지지구(12c)들이 기판(G)의 저면을 걸림 접촉으로 지지할 수 있도록 위치되며, 이와 같은 상태에서 상기 거치대(12a)를 다시 위로 이동시키면 상기 지지구(12c) 측에 걸려진 상태로 상기 거치대(12a)를 따라 기판(G)이 위로 이동된다.Then, the supporters 12c are positioned to support the bottom surface of the substrate G by the latching contact, and when the holder 12a is moved upward again in this state, the supporters 12c are caught on the supporter 12c side. In the state, the substrate G is moved upward along the holder 12a.

이와 같은 동작에 의해 상기 로딩유닛(4a)으로부터 기판(G)을 일정 간격으로 들어올려서 언로딩된 상태로 거치할 수 있으며, 이처럼 일정 높이로 들어올려져서 거치된 기판(G)은 상기 제1 반출입용 이송수단(T5)을 이용하여 상기 거치대(12a)로부터 인수하여 상기 프레임(2) 외부로 반출하면 된다.(도 10참조)By the above operation, the substrate G may be lifted from the loading unit 4a at a predetermined interval and mounted in an unloaded state. What is necessary is just to take over from the holder 12a using the conveyance means T5, and to carry it out of the said frame 2 (refer FIG. 10).

상기한 제2 반출입용 이송수단(T6)의 작동에 의하면, 예를들어, 상기 프레임(2) 상에서 세정이 완료된 기판(G)을 반출하기 전에 상기 로딩유닛(4a)으로부터 일정 높이로 들어올려서 언로딩된 상태로 거치할 수 있다.According to the operation of the second carrying-out transport means T6 described above, for example, before lifting the cleaned substrate G on the frame 2, it is lifted up to a predetermined height from the loading unit 4a and frozen. Can be mounted in a loaded state.

이와 같은 거치 동작에 의하면, 도 10에서와 같이 세정이 완료된 기판(G)을 상기 프레임(2) 외부로 반출하지 않은 상태에서도 상기 로딩유닛(4a)의 로딩부가 비어 있는 상태가 되므로 상기 제1 반출입용 이송수단(T5)을 이용하여 세정을 위한 다른 기판(G)을 상기 로딩유닛(4a) 측에 즉시 로딩할 수 있다.According to the mounting operation as described above, the loading and unloading unit of the loading unit 4a becomes empty even when the substrate G, which has been cleaned as shown in FIG. 10, is not taken out of the frame 2. Another substrate G for cleaning may be immediately loaded on the loading unit 4a side using the transfer means T5.

그러므로, 상기한 제1 및 제2 반출입용 이송수단(T5, T6)을 이용하여 상기 제1 수평 이송부(T1)의 로딩유닛(4a) 측에/으로부터 기판(G)을 반입/반출하면, 기판(G)의 연속적인 로딩 및 언로딩 동작이 가능하므로 택 타임을 대폭 줄일 수 있고, 과다한 홀딩 시간이 발생하는 현상을 방지할 수 있다.Therefore, when the substrate G is brought in / out from the loading unit 4a side of the first horizontal transfer part T1 using the first and second carry-out transfer means T5 and T6, the substrate Since continuous loading and unloading operations of (G) can be performed, the tack time can be significantly reduced, and an excessive holding time can be prevented.

그리고, 상기에서는 거치용 구동부(12b)로 상기 거치대(12a)를 상/하 방향으로 구동하는 것을 일예로 설명 및 도면에 나타내고 있지만 본 발명이 상기한 구조에 한정되는 것은 아니다.In the above description, although the driving unit 12b is driven in the up / down direction by the mounting drive unit 12b in the description and drawings, the present invention is not limited to the above structure.

예를들어, 도 11에서와 같이 상기 거치대(12a)를 상기 프레임(2)의 지지대(12e) 측에 일체로 고정하고, 이 거치대(12a)를 향하여 기판(G)을 이동시키는 구조로 이루어질 수도 있다.For example, as shown in FIG. 11, the holder 12a may be integrally fixed to the support 12e side of the frame 2 and the substrate G may be moved toward the holder 12a. have.

즉, 상기 거치용 구동부(12b)를 상기 로딩유닛(4a)의 하부에 배치하여 실린더의 피스톤 로드로 기판(G)의 저면을 직접 밀어서 상기 거치대(12a)를 향하여 기판(G)이 이동하도록 구동할 수 있다.That is, the mounting drive unit 12b is disposed under the loading unit 4a to directly push the bottom surface of the substrate G with the piston rod of the cylinder to drive the substrate G to move toward the holder 12a. can do.

그리고, 상기 걸림용 구동부(12d)는 상기 지지구(12c)를 전/후진 구동하는 구조에 한정되는 것은 아니다.In addition, the locking driver 12d is not limited to a structure for driving the support tool 12c forward and backward.

예를들어, 도 11에서와 같이 상기 거치대(12a) 측에 상기 지지구(12c)들의 일측을 힌지 결합으로 각각 연결하여 이 지지구(12c)들을 회전시키는 구조로 이루어질 수도 있다.For example, as shown in FIG. 11, one side of the supports 12c may be hingedly coupled to the holder 12a to rotate the supports 12c.

즉, 상기 걸림용 구동부(12d)의 실린더 피스톤 로드로 상기 지지구(12c) 일단을 밀거나 당겨서 힌지 지점을 기준으로 회전하면서 기판(G) 저면과 걸림 접촉하도록 구동할 수 있다.That is, one end of the support 12c may be pushed or pulled by the cylinder piston rod of the locking driving unit 12d to be driven to engage with the bottom surface of the substrate G while rotating based on the hinge point.

따라서, 상기한 본 발명의 일실시예에 따른 기판세정장치는, 상기 제1 및 제2 반출입용 이송수단(T5, T6)을 이용하여 상기 프레임(2) 측에/으로부터 기판(G)을 반입/반출하면서 간편하게 세정 작업을 진행할 수 있다.Therefore, the substrate cleaning apparatus according to the embodiment of the present invention, the substrate (G) is carried in and out of the frame (2) side by using the first and second transfer means (T5, T6) Cleaning can be done easily while taking out / exporting.

특히, 상기 제2 반출입용 이송수단(T6)은 상기 로딩유닛(4a)에서 기판(G)을 일정 높이로 들어올려서 언로딩 상태로 거치할 수 있는 구조로 상기 프레임(2) 상에 제공되므로 이와 같은 구조에 의하면, 기판(G)을 상기 프레임(2) 측에/으로부터 반입/반출할 때 한층 향상된 작동 효율성을 확보할 수 있다.In particular, the second carrying-out transport means (T6) is provided on the frame (2) in a structure that can be mounted in an unloaded state by lifting the substrate (G) to a predetermined height in the loading unit (4a) According to the same structure, when the board | substrate G is carried in / out of the said frame 2 side, further improved operation efficiency can be ensured.

예를들어, 상기 로딩유닛(4a)에 로딩된 상태로 상기 프레임(2) 상부의 로딩/언로딩 지점에 세정된 기판(G)이 위치되면, 이 기판(G)은 상기 제2 반출입용 이송수단(T6)에 의해 도 10에서와 같이 들어올려져서 항상 언로딩된 상태로 거치된다.For example, when the cleaned substrate G is positioned at the loading / unloading point of the upper part of the frame 2 while being loaded in the loading unit 4a, the substrate G is transferred to the second loading and unloading. It is lifted up by means T6 as in FIG. 10 and mounted in an unloaded state at all times.

그러므로, 세정을 위한 기판(G)을 상기 제1 반출입용 이송수단(T5)으로 옮기면서 상기 로딩유닛(4a) 측에 로딩할 때 일체의 홀딩 시간이 발생하지 않을 뿐만 아니라, 기판(G)을 연속으로 로딩/언로딩할 수 있으므로 택 타임을 대폭 줄여서 반입/반출 작업에 소요되는 시간을 대폭 절감할 수 있다.Therefore, when holding the substrate G for cleaning to the first loading / unloading transfer means T5 while loading the loading unit 4a side, not only a holding time is generated, but also the substrate G is continuous. Can be loaded and unloaded, which greatly reduces the time required for import / export operations.

도 1은 본 발명의 일실시예에 따른 기판세정장치의 전체 구조를 나타낸 도면이다.1 is a view showing the overall structure of a substrate cleaning apparatus according to an embodiment of the present invention.

도 2는 본 발명의 일실시예에 따른 기판세정장치의 제1 수직 이송부(제2 수직 이송부) 세부 구조를 설명하기 위한 도면이다.2 is a view for explaining the detailed structure of the first vertical transfer unit (second vertical transfer unit) of the substrate cleaning apparatus according to an embodiment of the present invention.

도 3 내지 도 5는 본 발명의 일실시예에 따른 기판세정장치의 제1 수직 이송부(제2 수직 이송부) 작용을 설명하기 위한 도면이다.3 to 5 are views for explaining the action of the first vertical transfer unit (second vertical transfer unit) of the substrate cleaning apparatus according to an embodiment of the present invention.

도 6은 본 발명의 일실시예에 따른 기판세정장치의 제1 반출입용 이송수단 구조를 설명하기 위한 도면이다.6 is a view for explaining the structure of the first transporting means for carrying out the substrate cleaning apparatus according to an embodiment of the present invention.

도 7은 본 발명의 일실시예에 따른 기판세정장치의 제2 반출입용 이송수단의 세부 구조를 설명하기 위한 확대 도면이다.FIG. 7 is an enlarged view for explaining a detailed structure of a second carrying-out transport means of a substrate cleaning apparatus according to an embodiment of the present invention.

도 8 내지 도 10은 본 발명의 일실시예에 따른 기판세정장치의 제1 및 제2 반출입용 이송수단의 작용을 설명하기 위한 도면이다.8 to 10 are views for explaining the operation of the transfer means for the first and second carry-out of the substrate cleaning apparatus according to an embodiment of the present invention.

도 11은 본 발명의 일실시예에 따른 기판세정장치의 제2 반출입용 이송수단의 다른 구조를 설명하기 위한 도면이다.11 is a view for explaining another structure of the transfer means for carrying in and out of the substrate cleaning apparatus according to an embodiment of the present invention.

[도면의 주요 부분에 대한 부호의 설명][Description of Symbols for Main Parts of Drawing]

2: 프레임 T1: 제1 수평 이송부 T2: 제1 수직 이송부2: frame T1: first horizontal feeder T2: first vertical feeder

T3: 제2 수평 이송부 T4: 제2 수직 이송부 T5: 제1 반출입용 이송수단T3: second horizontal feeder T4: second vertical feeder T5: first carry-out and transfer means

T6: 제2 반출입용 이송수단 G: 기판T6: 2nd carrying-in / out means G: board | substrate

Claims (12)

프레임;frame; 기판을 로딩하는 로딩유닛을 구비하고 상기 프레임 일측에서 타측으로 기판을 이송하는 제1 수평 이송부;A first horizontal transfer unit having a loading unit for loading a substrate and transferring the substrate from one side of the frame to the other side; 상기 제1 수평 이송부 측에/로부터 기판을 로딩/언로딩하면서 반입/반출하는 제1 반출입용 이송수단;First transporting means for carrying in and out while loading / unloading a substrate to / from the first horizontal transfer unit; 상기 제1 수평 이송부의 로딩유닛으로부터 기판을 들어올려서 언로딩 상태로 거치할 수 있도록 상기 프레임 상에 설치되는 제2 반출입용 이송수단;A second carrying-in / out transport means installed on the frame to lift the substrate from the loading unit of the first horizontal transport unit and to mount the substrate in an unloading state; 을 포함하는 기판세정장치.Substrate cleaning device comprising a. 청구항 1에 있어서,The method according to claim 1, 상기 제1 수평 이송부는,The first horizontal transfer unit, 상기 로딩유닛이 가이드 레일을 따라 이동되면서 상기 프레임 상에서 기판을 수평 방향으로 이송할 수 있도록 셋팅되는 기판세정장치.The substrate cleaning apparatus is set to transfer the substrate in the horizontal direction on the frame while the loading unit is moved along the guide rail. 청구항 1에 있어서,The method according to claim 1, 상기 제2 반출입용 이송수단은,The second carrying in and out transport means, 상기 프레임 상에서 상기 로딩유닛 위쪽에 배치되는 거치대;A cradle disposed above the loading unit on the frame; 상기 로딩유닛으로부터 기판을 들어올릴 수 있도록 동력을 발생 및 전달하는 거치용 구동부;Mounting driving unit for generating and transmitting power to lift the substrate from the loading unit; 상기 거치대 측에 기판과 걸림 접촉이 가능한 상태로 배치되는 지지구;A supporter disposed on the cradle side in a state in which contact with the substrate is possible; 상기 지지구를 기판과 걸림 접촉 상태 또는 접촉 해제 상태로 구동하는 걸림용 구동부;A locking drive unit which drives the support in a contacting state or a contact release state with the substrate; 를 포함하여 이루어지는 기판세정장치.Substrate cleaning device comprising a. 청구항 3에 있어서,The method according to claim 3, 상기 거치용 구동부는,The mounting drive unit, 구동원으로 상기 거치대를 업/다운시켜서 상기 로딩유닛으로부터 기판을 들어올릴 수 있도록 셋팅되는 것을 특징으로 하는 기판세정장치.The apparatus for cleaning the substrate, characterized in that it is set to lift the substrate to the drive source to lift the substrate from the loading unit. 청구항 3에 있어서,The method according to claim 3, 상기 거치용 구동부는,The mounting drive unit, 구동원으로 상기 로딩유닛의 기판 저면을 밀어서 상기 거치대 측에 거치가 가능한 상태로 직접 들어올릴 수 있도록 셋팅되는 것을 특징으로 하는 기판세정장치.The substrate cleaning device, characterized in that the driving source is pushed to the bottom surface of the loading unit is set to be lifted directly in a state capable of mounting on the cradle side. 청구항 3에 있어서,The method according to claim 3, 상기 지지구는,The support is, 상기 기판의 테두리 둘레부 중에서 한 군데 이상의 지점과 걸림 접촉이 가능한 상태로 상기 거치대 측에 배치되는 기판세정장치.Substrate cleaning device disposed on the cradle side in a state capable of engaging contact with one or more points of the rim peripheral portion of the substrate. 청구항 3에 있어서,The method according to claim 3, 상기 걸림용 구동부는,The locking drive unit, 구동원으로 상기 지지구 일측을 밀거나 당겨서 직선 운동 또는 회전 운동에 의해 기판과 걸림 접촉 또는 접촉을 해제할 수 있도록 셋팅되는 것을 특징으로 하는 기판세정장치.Substrate cleaning device, characterized in that set to be able to release the engaging contact or contact with the substrate by a linear motion or a rotary motion by pushing or pulling one side of the support with a drive source. 청구항 3에 있어서,The method according to claim 3, 상기 거치용 구동부 및 지지용 구동부는,The mounting drive unit and the support drive unit, 실린더를 구동원으로 사용하고, 이 실린더의 피스톤 로드로 구동용 동력을 발생 및 전달하는 것을 특징으로 하는 기판세정장치.A substrate cleaning apparatus comprising a cylinder as a drive source and generating and transmitting driving power to a piston rod of the cylinder. 청구항 1 또는 청구항 3에 있어서,The method according to claim 1 or 3, 상기 제2 반출입용 이송수단은,The second carrying in and out transport means, 상기 제1 반출입용 이송수단으로 상기 로딩유닛 측에 기판을 로딩하기 전에 상기 로딩유닛에 위치된 기판을 들어올려서 언로딩 상태로 거치할 수 있도록 셋팅되는 것을 특징으로 하는 기판세정장치.The substrate cleaning apparatus is set so that the substrate placed on the loading unit can be lifted and placed in an unloading state before the substrate is loaded on the loading unit side by the first carrying-out transport means. 청구항 1에 있어서,The method according to claim 1, 상기 기판세정장치는,The substrate cleaning device, 제2 수평 이송부를 더 포함하며,Further comprising a second horizontal transfer unit, 상기 제2 수평 이송부는,The second horizontal transfer unit, 복수 개의 이송용 로울러들로 구성되며 상기 제1 수평 이송부 하측에서 기판을 수평 방향으로 이송할 수 있도록 상기 프레임 상에 셋팅되는 기판세정장치.And a plurality of transfer rollers, the substrate cleaning apparatus being set on the frame to transfer the substrate in the horizontal direction under the first horizontal transfer unit. 청구항 10에 있어서,The method according to claim 10, 상기 제2 수평 이송부의 이송 구간 내에는 세정부가 설치되며,The cleaning unit is installed in the transport section of the second horizontal transfer unit, 상기 세정부는,The cleaning unit, 세정모듈과 건조모듈을 포함하여 이루어지는 기판세정장치.Substrate cleaning device comprising a cleaning module and a drying module. 청구항 1에 있어서,The method according to claim 1, 상기 기판세정장치는,The substrate cleaning device, 제1 수직 이송부 또는 제2 수직 이송부를 더 포함하며,Further comprising a first vertical transfer portion or a second vertical transfer portion, 상기 제1 수직 이송부 또는 제2 수직 이송부는,The first vertical transfer unit or the second vertical transfer unit, 업/다운 이동이 가능한 상부핸드와 하부핸드로 구성되며,It consists of an upper hand and a lower hand that can move up and down, 상기 상부핸드 및 하부핸드는,The upper hand and the lower hand, 상기 제1 수평 이송부의 일단 또는 타단 지점에서 업/다운 동작에 의해 기판을 인수/인계하면서 수직 방향으로 이송할 수 있도록 셋팅되는 기판세정장치.The substrate cleaning device is set to be transferred in the vertical direction while taking over / taking over the substrate by the up / down operation at one end or the other end of the first horizontal transfer.
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